JP2000193959A - Liquid crystal display element - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表示電極より下層
に表示電極とは電気的に絶縁された導電膜層を有する基
板を一方の基板とする液晶表示素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device in which a substrate having a conductive layer below a display electrode and electrically insulated from the display electrode is one of the substrates.
【0002】[0002]
【従来の技術】カラー表示が可能な液晶表示素子として
は、種々の方式のものが知られているが、カラーフィル
タを用いる方式のものがもっとも一般的である。このカ
ラーフィルタの形成方法も、顔料分散法、電着法、印刷
法、染色法等、種々知られているが、電着法によれば、
単純な工程で精度の高い膜厚制御ができ、色再現性に優
れ、液晶表示素子の製造工程の自由度が高い製膜ができ
る等のメリットが享受できる。2. Description of the Related Art Various types of liquid crystal display devices capable of color display are known, but a liquid crystal display device using a color filter is the most common. Various methods of forming this color filter are also known, such as a pigment dispersion method, an electrodeposition method, a printing method, and a dyeing method.
Advantages such as high-precision film thickness control with a simple process, excellent color reproducibility, and film formation with a high degree of freedom in the process of manufacturing a liquid crystal display element can be enjoyed.
【0003】しかし、この方法においては、基板上に導
電膜層を形成し、これを電極として色材を定着させるこ
とによりカラーフィルタ層を形成し、その上に平坦化膜
および表示電極を形成しているために、でき上がった液
晶表示素子において、表示電極が絶縁性のカラーフィル
タ層および平坦化層を挿んで導電膜層と対向する構造と
なり、表示方式によっては、この構造に起因する表示不
良が顕著になる問題があった。However, in this method, a color filter layer is formed by forming a conductive film layer on a substrate, fixing a color material using the conductive film layer as an electrode, and forming a flattening film and a display electrode thereon. Therefore, in the completed liquid crystal display element, the display electrode has a structure in which the display electrode faces the conductive film layer by inserting the insulating color filter layer and the flattening layer. Depending on the display method, display defects due to this structure may be caused. There was a problem that became noticeable.
【0004】例えば、このような構造の液晶表示素子
を、複数の行電極(選択電極)を同時に選択し、かつ、
列方向の表示パターンを独立に制御することにより、選
択幅を一定に保ったままフレーム周期を短くして、フレ
ーム応答を抑制し、高コントラスト表示を可能としたい
わゆるMLA方式で駆動すると、特定のラインに沿った
横方向の輝度むらおよびゴーストと呼ばれる特殊なクロ
ストークが目立つようになる。For example, in a liquid crystal display device having such a structure, a plurality of row electrodes (selection electrodes) are simultaneously selected, and
By independently controlling the display pattern in the column direction, the frame period is shortened while the selection width is kept constant, the frame response is suppressed, and the display is driven by the so-called MLA method that enables high contrast display. Lateral luminance unevenness along the line and special crosstalk called ghost become noticeable.
【0005】ここでいうゴーストとは、ある画像がその
近傍の場所にうっすらと表示されてしまう現象であり、
テレビジョンの電波障害によるゴーストと同様に二重像
となって見える表示不良である。特に、パソコン等のウ
インドウ表示を行うとき等にこの現象が強く生じ、ウイ
ンドウ表示の外枠の上部の背景部に表示むらが出現す
る。[0005] The ghost referred to here is a phenomenon in which a certain image is displayed faintly in the vicinity thereof.
This is a display defect that appears as a double image like a ghost due to a radio wave interference of a television. In particular, this phenomenon strongly occurs when a window is displayed on a personal computer or the like, and display unevenness appears in a background portion above an outer frame of the window display.
【0006】液晶の誘電率、カラーフィルタの下面から
その上に設けられる被覆層までの厚み、行電極もしくは
列電極の内の導電膜層に近設された一方と導電膜層との
重なり合う面積の画素面積に対する比等のセルパラメー
タを特定の範囲にすることによって、前記ゴーストを抑
制する手法が提案されている(特開平10−13316
5)。しかし、この方法は前記横方向の輝度むらの抑制
には効果がなかった。[0006] The dielectric constant of the liquid crystal, the thickness from the lower surface of the color filter to the coating layer provided thereon, and the area of one of the row electrodes or column electrodes which is close to the conductive film layer and the area where the conductive film layer overlaps. A method of suppressing the ghost by setting a cell parameter such as a ratio to a pixel area in a specific range has been proposed (JP-A-10-13316).
5). However, this method was not effective in suppressing the luminance unevenness in the horizontal direction.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、表示電極よ
り下層に表示電極とは電気的に絶縁された導電膜層を有
する基板を一方の基板とする液晶表示素子に特有の上記
のような表示不良のうち、横方向の輝度むらを解消し、
表示品位の優れた液晶表示素子を提供することを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a liquid crystal display device having a substrate having a conductive film layer below a display electrode and electrically insulated from the display electrode. Eliminates horizontal brightness unevenness among display defects,
It is an object to provide a liquid crystal display element having excellent display quality.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1の発明は、表示電極より下層に表示電極と
は電気的に絶縁された導電膜層を有する基板を一方の基
板として構成される液晶表示素子において、その導電膜
層の一部が少なくとも一つの辺側の非表示領域下で直線
的に除去され導電膜層に電気的絶縁部が形成されてお
り、その電気的絶縁部の表示領域寄りの外縁がシールの
中心よりも表示領域側にあることを特徴とする。According to one aspect of the present invention, a substrate having a conductive film layer below a display electrode and electrically insulated from the display electrode is provided as one of the substrates. In the liquid crystal display element configured, a part of the conductive film layer is linearly removed under the non-display region on at least one side to form an electrical insulating portion in the conductive film layer. The outer edge of the portion near the display area is closer to the display area than the center of the seal.
【0009】請求項2の発明は、上記導電膜層が電着方
式でカラーフィルタを形成するための導電膜層であるこ
とを特徴とする。請求項3の発明は、上記導電膜層の一
部をレーザトリミングにより除去することで導電膜層の
電気的絶縁が達成されていることを特徴とする。請求項
4の発明は、上記導電膜層の電気的絶縁の位置がシール
の少なくとも一部が形成される位置と重なっており、両
者が重なった部分でシール内基板間導電接続が行われて
おり、かつ両者が重なった部分の幅がシール幅の75%
以上であることを特徴とする。The invention according to claim 2 is characterized in that the conductive film layer is a conductive film layer for forming a color filter by an electrodeposition method. The invention according to claim 3 is characterized in that electrical insulation of the conductive film layer is achieved by removing a part of the conductive film layer by laser trimming. According to a fourth aspect of the present invention, the position of the electrical insulation of the conductive film layer overlaps the position where at least a part of the seal is formed, and the conductive connection between the substrates in the seal is performed at the overlapping portion. And the width of the overlapping portion is 75% of the seal width
It is characterized by the above.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明においては、液晶表示素子
を構成する一方の基板の表示電極より下層に表示電極と
は電気的に絶縁されて導電膜層が設けられている。そし
て、この導電膜層の一部が少なくとも一つの辺側の非表
示領域下で直線的に除去され導電膜層に電気的絶縁部が
形成されており、その電気的絶縁部の表示領域寄りの外
縁がシールの中心よりも表示領域側にあることが重要で
ある。表示電極より下層の導電膜層の存在に起因する表
示不良のうち、前記横方向の輝度むらが顕著になる典型
的な例は、次のような場合である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a conductive film layer is provided below a display electrode of one of the substrates constituting a liquid crystal display element so as to be electrically insulated from the display electrode. Then, a part of the conductive film layer is linearly removed under the non-display region on at least one side to form an electrical insulating portion in the conductive film layer. It is important that the outer edge is closer to the display area than the center of the seal. Among the display defects caused by the presence of the conductive film layer below the display electrode, a typical example in which the lateral luminance unevenness is remarkable is as follows.
【0011】有効表示面積の拡大、端子接続の簡素化等
の目的で、基板間に導電接続部を設け、外部回路との接
続端子を一方の基板に集中させた構造が多用されてい
る。その一例として、図2に示すようにシール1内に導
電ビーズ2を配合し、これを介して、基板間の導電接続
を行っている構造の液晶表示素子が知られている。For the purpose of enlarging the effective display area and simplifying the terminal connection, a structure in which a conductive connection portion is provided between substrates and connection terminals for external circuits are concentrated on one substrate is often used. As one example, there is known a liquid crystal display element having a structure in which conductive beads 2 are compounded in a seal 1 as shown in FIG.
【0012】このような構造の液晶表示素子において、
一方の基板3aの表示電極4aより下層に表示電極とは
電気的に絶縁されて設けられた導電膜層5が存在する
と、導電ビーズ2の先端が表示電極4aの表面で止まら
ずに絶縁層7を貫通してその下の導電膜層5に到達し、
表示電極4aと導電膜層5とを短絡させる場合が生じ
る。また、このような導電ビーズによる直接の短絡に到
らない場合でも、通電時に静電破壊が起こり、その部分
の絶縁層が炭化して短絡が生じる場合がある。In a liquid crystal display device having such a structure,
When the conductive film layer 5 is provided below the display electrode 4a of the one substrate 3a and is electrically insulated from the display electrode, the tip of the conductive bead 2 does not stop at the surface of the display electrode 4a and the insulating layer 7 does not stop. To reach the conductive film layer 5 thereunder,
There is a case where the display electrode 4a and the conductive film layer 5 are short-circuited. Even when a direct short circuit does not occur due to such conductive beads, electrostatic breakdown may occur during energization, and the insulating layer at that portion may be carbonized to cause a short circuit.
【0013】ここで、前記したような導電膜層の電気的
絶縁が形成されていないと、導電膜層5に短絡した表示
電極4aが、導電膜層全面積に対応する大きな容量成分
を負荷された形になり、この電極に加わる実効電圧が他
の短絡を生じていない表示電極に較べて極端に低下し
て、横方向の輝度むらとして観察されるようになる。If the electrical insulation of the conductive layer is not formed as described above, the display electrode 4a short-circuited to the conductive layer 5 is loaded with a large capacitance component corresponding to the entire area of the conductive layer. As a result, the effective voltage applied to this electrode is extremely lower than that of the other display electrodes in which no short circuit occurs, and is observed as luminance unevenness in the horizontal direction.
【0014】これに対して、図1に示すように導電膜層
内に前記の電気的絶縁部8を設けることにより、短絡の
発生確率自体が小さくなるうえ、仮に短絡が起こったと
しても、表示電極4aに負荷される容量成分が非表示領
域下の狭い面積に相当する小さな値に限定されるように
なり、前記輝度むらの発生が抑えられる。On the other hand, by providing the above-mentioned electrical insulating portion 8 in the conductive film layer as shown in FIG. 1, the probability of occurrence of a short-circuit itself is reduced, and even if a short-circuit occurs, the display can be performed. The capacitance component applied to the electrode 4a is limited to a small value corresponding to a small area below the non-display area, and the occurrence of the luminance unevenness is suppressed.
【0015】本発明において導電膜層としては、上で例
示した電着方式で形成したカラーフィルタの下地の透明
導電膜層がもっとも典型的であり、これを対象とした場
合に工業的に大きな効果が発揮されるが、これに限定さ
れず、クロム系の内面遮光膜や、内部ヒータ用電極とし
ての導電膜層等も同様に対象となる。In the present invention, the conductive film layer is most typically a transparent conductive film layer as a base of a color filter formed by the above-described electrodeposition method. However, the present invention is not limited to this, and a chromium-based inner light-shielding film, a conductive film layer as an electrode for an internal heater, and the like are also applicable.
【0016】導電膜層の一部を除去して電気的絶縁部を
形成する方法としては、精密な制御ができ、粉塵による
異物の発生がなく、他の部材に対する悪影響が問題にな
らず、また、生産性にも優れたレーザトリミング法が好
ましく例示される。電気的絶縁部を形成する時期として
は、導電膜層が電着方式で形成したカラーフィルタの下
地の透明導電膜層である場合には、カラーフィルタ形成
後、平坦化膜形成前が工程的に好ましい。As a method of forming an electrically insulating portion by removing a part of the conductive film layer, precise control can be performed, there is no generation of foreign matter due to dust, and there is no problem of adverse effects on other members. A preferred example is a laser trimming method excellent in productivity. When the electrically insulating portion is formed, when the conductive film layer is a transparent conductive film layer underlying a color filter formed by an electrodeposition method, the process after forming the color filter and before forming the flattening film is a process. preferable.
【0017】上記電気的絶縁部は、少なくとも一つの辺
側の非表示領域に形成される。シール内で基板間導電接
続が行われる構造の液晶表示素子については、図1に示
すように電気的絶縁部8の位置がシール1の少なくとも
一部が形成される位置と重なっており、両者の重なった
部分の幅wc がシール幅ws の75%以上であることが
好ましい。The electrical insulating portion is formed in a non-display area on at least one side. In a liquid crystal display element having a structure in which conductive connection between substrates is performed in a seal, as shown in FIG. 1, the position of the electrically insulating portion 8 overlaps with the position where at least a part of the seal 1 is formed. it is preferable that the width w c of the overlapping portion is at least 75% of the seal width w s.
【0018】この重なり幅wc が小さすぎる場合には、
短絡防止効果が低下するとともに、シール下に段差が生
じて、セルギャップを不均一する原因ともなるので不都
合である。一方、大きすぎることに対しては、工程負荷
の増大を除けば制約は少なく、電気的絶縁形成領域がシ
ール形成領域からはみ出してもよい。このはみ出しにつ
いては、内面遮光膜またはカラーフィルタの最外縁が内
側の限界であり、液晶表示素子完成時の基板外縁に相当
する位置が外側の限界である。If the overlapping width w c is too small,
This is inconvenient because the short-circuit prevention effect is reduced, and a step is formed under the seal, which causes a nonuniform cell gap. On the other hand, if it is too large, there are few restrictions except for an increase in process load, and the electrical insulation forming region may protrude from the seal forming region. Regarding the protrusion, the outermost edge of the inner light-shielding film or the color filter is the inner limit, and the position corresponding to the outer edge of the substrate when the liquid crystal display element is completed is the outer limit.
【0019】なお、ガラス基板を用いる場合には、基板
からのアルカリ金属イオンの溶出を抑えるために導電膜
層の下層に二酸化ケイ素等からなるアルカリバリア層を
形成するのが一般的であるが、導電膜層を一部除去し、
電気的絶縁を形成する際に、このアルカリバリア層も一
部損傷を受ける可能性があるので、アルカリ金属イオン
の溶出を特に嫌う用途向けでは、前記内側へのはみ出し
を、例えば0.3mm以下と、極力小さくすることが好
ましい。When a glass substrate is used, an alkali barrier layer made of silicon dioxide or the like is generally formed below the conductive film layer in order to suppress the elution of alkali metal ions from the substrate. Partially remove the conductive film layer,
When forming the electrical insulation, the alkali barrier layer may be partially damaged.For applications that particularly dislike elution of alkali metal ions, the protrusion to the inside may be, for example, 0.3 mm or less. However, it is preferable to make it as small as possible.
【0020】図1のような構造の液晶表示素子において
は、セルギャップを均一にするために、シール1内に配
合するスペーサ径を面内スペーサ9の径よりもカラーフ
ィルタ6の厚みに相当する分大きくしておくことが好ま
しく、また、電気的絶縁部8と重なる辺のシール内スペ
ーサ径を他の辺のそれよりも導電膜層5の厚みに相当す
る分大きくしておくことが好ましい。In the liquid crystal display device having the structure as shown in FIG. 1, the spacer diameter to be compounded in the seal 1 corresponds to the thickness of the color filter 6 more than the diameter of the in-plane spacer 9 in order to make the cell gap uniform. It is preferable that the diameter of the spacer in the seal on the side overlapping with the electrical insulating portion 8 be larger than that of the other sides by an amount corresponding to the thickness of the conductive film layer 5.
【0021】[0021]
【実施例】つぎに、本発明の実施例および比較例を説明
する。ガラス基板上にインジウム錫酸化物からなる厚さ
180nm、シート抵抗15Ω/□の透明導電膜層を形
成し、その上に電着方式で、遮光膜およびRGB3色の
カラーフィルタを640×3×480ドットの画素にス
トライプ状に形成した。Next, examples of the present invention and comparative examples will be described. A transparent conductive film layer made of indium tin oxide and having a thickness of 180 nm and a sheet resistance of 15 Ω / □ is formed on a glass substrate, and a light-shielding film and color filters of three colors of RGB are formed on the transparent conductive film layer by 640 × 3 × 480. A dot was formed in a stripe pattern on the pixel.
【0022】平坦化膜形成に先行して、この基板上の透
明導電膜層の一部をレーザトリミングにより除去し、導
電膜層を電気的に絶縁された二つのブロックに分断し
た。その位置は、シール内基板間導電接続が行われるシ
ールの一辺の直下に沿う直線を液晶表示素子完成時の基
板外縁に相当する位置まで延長した部分であり、その幅
は、シール下からはみ出さず、かつシール幅の80%に
なるように設定した。Prior to the formation of the flattening film, a part of the transparent conductive film layer on the substrate was removed by laser trimming, and the conductive film layer was divided into two electrically insulated blocks. The position is a portion of a straight line extending directly below one side of the seal in which the conductive connection between the substrates in the seal is performed, extending to a position corresponding to the outer edge of the substrate when the liquid crystal display element is completed, and the width thereof extends beyond the bottom of the seal. And the width was set to be 80% of the seal width.
【0023】このようにして下層の導電膜層に電気的絶
縁を形成した基板を一方の基板とし、定法により対角1
0.4インチのSTNカラー液晶表示素子を作成した。
セルギャップは、面内スペーサとして直径6.15μ
m、固着層厚0.15μmのプラスチックビーズを用い
るとともに、直径8.0μmのプラスチックビーズと金
メッキ処理を施した同径のプラスチックビーズを各2重
量%配合した熱硬化性エポキシ系シール材用いて圧着す
ることにより、6.0μmに制御した。また、液晶のね
じれ角は240度に設定した。The substrate in which electrical insulation is formed on the lower conductive film layer in this manner is used as one substrate, and the diagonal of 1 is obtained by a conventional method.
A 0.4 inch STN color liquid crystal display device was prepared.
The cell gap has a diameter of 6.15 μ as an in-plane spacer.
pressure-resistant plastic beads having a thickness of 0.15 μm and a plastic bead having a diameter of 8.0 μm and plastic beads of the same diameter subjected to gold plating, each of which is 2% by weight. As a result, the thickness was controlled to 6.0 μm. The twist angle of the liquid crystal was set to 240 degrees.
【0024】こうして得られた液晶表示素子を、フレー
ム周波数120Hz、同時選択ライン数4の複数ライン
同時選択(MLA)方式で駆動したところ、50セル中
1セルも表示不良を起こさなかった。When the thus obtained liquid crystal display device was driven by a multiple line simultaneous selection (MLA) method with a frame frequency of 120 Hz and the number of simultaneously selected lines of 4, no display failure occurred in any one of 50 cells.
【0025】これに対して、上記導電膜層内に電気的絶
縁を形成せずに作成した液晶表示素子においては、50
セル中6セルで横方向の輝度むらが観察された。また、
電気的絶縁部8の幅をシール幅の40%とした場合に
は、横方向の輝度むらの発生は、50セル中2セルとな
った。On the other hand, in a liquid crystal display device formed without forming electrical insulation in the above-mentioned conductive film layer, 50
Brightness unevenness in the horizontal direction was observed in 6 of the cells. Also,
When the width of the electrical insulating portion 8 was set to 40% of the seal width, the occurrence of luminance unevenness in the horizontal direction was 2 out of 50 cells.
【0026】[0026]
【発明の効果】請求項1の発明によれば、表示電極より
下層にそれとは電気的に絶縁された導電膜層を有する基
板を一方の基板とする液晶表示素子に特有の横方向の輝
度むらが低減し、表示品位の優れた液晶表示素子を高歩
留で得ることができる。請求項2の発明によれば、表示
電極より下層のそれとは電気的に絶縁された導電膜層と
してもっとも典型的なカラーフィルタの下地の透明導電
膜層が対象となり、工業的に大きな効果が発揮される。According to the first aspect of the invention, the luminance unevenness in the horizontal direction peculiar to the liquid crystal display element in which one substrate is a substrate having a conductive film layer below the display electrode and electrically insulated therefrom. And a liquid crystal display element having excellent display quality can be obtained at a high yield. According to the second aspect of the present invention, a transparent conductive layer underlying a color filter, which is most typical as a conductive layer electrically insulated from that below the display electrode, is targeted, and a large industrial effect is exhibited. Is done.
【0027】請求項3の発明によれば、導電膜層内への
電気的絶縁の形成が、高精度、高生産性で達成され、こ
の工程での粉塵による異物の発生や、他の部材に対する
悪影響を生じないので、高品質の液晶表示素子を生産性
よく得ることができる。請求項4の発明によれば、シー
ル内導電接続部での表示電極と下層の導電膜層との短絡
が抑制され、横方向の輝度むらの防止がより完全にな
る。According to the third aspect of the present invention, the formation of electrical insulation in the conductive film layer is achieved with high accuracy and high productivity, and in this step, generation of foreign matter due to dust in this step and prevention of other members from occurring. Since there is no adverse effect, a high-quality liquid crystal display device can be obtained with high productivity. According to the invention of claim 4, a short circuit between the display electrode and the lower conductive film layer at the conductive connection portion in the seal is suppressed, and the prevention of luminance unevenness in the horizontal direction becomes more complete.
【図1】本発明の一実施例の要部拡大断面図。FIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part of an embodiment of the present invention.
【図2】表示電極と導電膜層との短絡を説明するための
要部拡大断面図。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part for describing a short circuit between a display electrode and a conductive film layer.
1:シール 2:導電ビーズ 3a,3b:基板 4a,4b:表示電極 5:導電膜層 6:カラーフィルタ、遮光膜 7:平坦化膜(絶縁層) 8:電気的絶縁部 9:面内スペーサ 1: Seal 2: Conductive beads 3a, 3b: Substrate 4a, 4b: Display electrode 5: Conductive layer 6: Color filter, light shielding film 7: Flattening film (insulating layer) 8: Electrical insulating portion 9: In-plane spacer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒木 博 東京都荒川区東日暮里5丁目7番18号 オ プトレックス株式会社内 Fターム(参考) 2H048 BA62 BB02 BB43 2H089 LA07 LA15 LA19 NA09 NA24 PA04 QA16 RA10 SA07 TA03 TA06 2H091 FA02Y FC06 FD04 FD14 FD24 GA03 GA17 HA10 KA03 KA04 LA11 LA12 LA13 LA15 LA18 2H092 GA05 GA38 GA39 GA42 HA04 HA15 HA17 MA31 MA35 MA37 NA04 NA16 NA25 PA03 PA06 QA10 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Araki 5-7-18 Higashi-Nippori, Arakawa-ku, Tokyo Optrex Corporation F-term (reference) 2H048 BA62 BB02 BB43 2H089 LA07 LA15 LA19 NA09 NA24 PA04 QA16 RA10 SA07 TA03 TA06 2H091 FA02Y FC06 FD04 FD14 FD24 GA03 GA17 HA10 KA03 KA04 LA11 LA12 LA13 LA15 LA18 2H092 GA05 GA38 GA39 GA42 HA04 HA15 HA17 MA31 MA35 MA37 NA04 NA16 NA25 PA03 PA06 QA10
Claims (4)
絶縁された導電膜層を有する基板を一方の基板として構
成される液晶表示素子において、その導電膜層の一部が
少なくとも一つの辺側の非表示領域下で直線的に除去さ
れ導電膜層に電気的絶縁部が形成されており、その電気
的絶縁部の表示領域寄りの外縁がシールの中心よりも表
示領域側にあることを特徴とする液晶表示素子。In a liquid crystal display element in which a substrate having a conductive film layer electrically insulated from a display electrode below a display electrode is used as one of the substrates, at least one of the conductive film layers has at least one conductive film layer. The electrically insulating portion is formed in the conductive film layer by being removed linearly under the non-display region on the side, and the outer edge of the electrically insulating portion near the display region is closer to the display region than the center of the seal. A liquid crystal display device characterized by the above-mentioned.
成するための導電膜層である請求項1に記載の液晶表示
素子。2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the conductive film layer is a conductive film layer for forming a color filter by an electrodeposition method.
除去することで導電膜層の電気的絶縁が達成されている
請求項1または2に記載の液晶表示素子。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein electrical insulation of the conductive film layer is achieved by removing a part of the conductive film layer by laser trimming.
なくとも一部が形成される位置と重なっており、両者が
重なった部分でシール内基板間導電接続が行われてお
り、かつ両者が重なった部分の幅がシール幅の75%以
上である請求項1、2または3に記載の液晶表示素子。4. The electrically insulating position of the conductive film layer overlaps a position where at least a part of the seal is formed, and a conductive connection between the substrates in the seal is made at a portion where the both overlap. 4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the width of the portion where the overlaps are 75% or more of the seal width.
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---|---|---|---|
JP10367673A JP2000193959A (en) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | Liquid crystal display element |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6650395B2 (en) | 2000-08-28 | 2003-11-18 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic device and method of manufacturing the devices |
CN102169263A (en) * | 2010-12-23 | 2011-08-31 | 友达光电股份有限公司 | Array substrate, substrate module and display panel |
CN102169263B (en) * | 2010-12-23 | 2014-03-26 | 友达光电股份有限公司 | Array substrate, substrate module and display panel |
US8711310B2 (en) | 2011-02-17 | 2014-04-29 | Samsung Display Co., Ltd. | Liquid crystal display |
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