JP2000182397A - Semiconductor memory and method for checking the same - Google Patents

Semiconductor memory and method for checking the same

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JP2000182397A
JP2000182397A JP10357183A JP35718398A JP2000182397A JP 2000182397 A JP2000182397 A JP 2000182397A JP 10357183 A JP10357183 A JP 10357183A JP 35718398 A JP35718398 A JP 35718398A JP 2000182397 A JP2000182397 A JP 2000182397A
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JP
Japan
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bit line
word lines
test
signal
word
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Application number
JP10357183A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Yamazaki
裕之 山崎
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a screening time, and to sufficiently operate memory cell screening, inter-adjacent word line screening and bit line screening, and peripheral circuit screening. SOLUTION: A row decoder 18 for receiving a row address pre-decode signal, and for generating a row address decode signal is connected with a word line driver 15 for driving plural word lines WL. A control circuit 19 for raising plural word lines to which the row address pre-decode signal and plural word line rise test mode switching signal AWL are inputted is connected with the row decoder 18. A word line driving signal generating circuit 22 to which a word line driving timing control signal WD and the row address pre-decode signal are inputted is connected between a row pre-decoder 20 and the word line driver 15.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、DRAM(ダイナ
ミックランダムアクセスメモリ)からなる半導体記憶装
置に関し、特に、初期不良のスクリーニングを効率的に
行なえる半導体記憶装置及びその検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device comprising a dynamic random access memory (DRAM), and more particularly to a semiconductor memory device capable of efficiently screening for initial failures and a method of inspecting the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体記憶装置は、高密度化及び
高集積化に伴い、装置のテスト時間やバーンイン等の初
期不良のスクリーニングに要する時間がますます増加し
ている。一方、システムLSIが普及し、高機能化及び
機能の複雑化も進むなかで、これらのスクリーニング時
間をどのようにして短縮又は削減し、製造コストを低減
するかが大きな課題となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in density and integration of semiconductor memory devices, the time required for testing the devices and the time required for screening for initial failures such as burn-in have been increasing. On the other hand, with the spread of system LSIs and the advancement of functions and the complexity of functions, how to reduce or reduce the screening time and reduce the manufacturing cost has become a major issue.

【0003】なかでもバーンインスクリーニングにおい
ては、製品の品質を落とさずに工数を短縮又は削減する
ためにいくつかの検討がなされている。
[0003] Among others, in burn-in screening, some studies have been made to shorten or reduce the number of steps without reducing the quality of products.

【0004】DRAM等の半導体記憶装置におけるバー
ンインスクリーニングは、高温且つ高電圧の条件下で、
デバイスに対して通常の読み出し動作及び書き込み動作
を行なって、デバイス、とりわけメモリセルにストレス
を与えることにより、初期不良をスクリーニングする方
法が一般的である。この方法においては、外部からアド
レス信号、データ信号、クロック信号等の各信号を入力
すると共に、複数のワード線を1本ずつ選択し、選択し
たワード線に順次ストレスを与えている。
[0004] Burn-in screening in a semiconductor memory device such as a DRAM is performed under high temperature and high voltage conditions.
In general, a method of performing an ordinary read operation and a write operation on a device to stress a device, particularly a memory cell, to screen for an initial failure. In this method, signals such as an address signal, a data signal, and a clock signal are input from the outside, a plurality of word lines are selected one by one, and stress is sequentially applied to the selected word lines.

【0005】また、ストレス印加の効率化及び時間の短
縮化を図るために検討又は採用されている方法の一つ
に、装置内のすべてのワード線を同時に立ち上げて、メ
モリセルのすべてに一括してストレスを印加する方法が
ある。
[0005] One of the methods studied or adopted to improve the efficiency of stress application and shorten the time is to start up all the word lines in the device at the same time and collectively collect all the memory cells. And applying stress.

【0006】この方法によると、1本のワード線に順次
ストレスを与えていく前述の方法に対して、外部アドレ
スに関係なくすべてのワード線を1サイクル内で同時に
立ち上げ、すべてのメモリセルアレイに対し同時にスト
レスを与えるようにしている。この方法は、スクリーニ
ング時間を削減する方法として注目されており、これま
でのパッケージ状態でのバーンイン検査だけでなく、ウ
ェハーレベルでのバーンイン又はウェハー検査時等にお
ける高電圧ストレス試験等においても検討がなされてい
る。
According to this method, all the word lines are simultaneously activated within one cycle regardless of the external address, and the same is applied to all the memory cell arrays. At the same time, stress is applied. This method has attracted attention as a method for reducing the screening time, and has been studied not only for the burn-in inspection in the conventional package state but also for the high-voltage stress test and the like at the time of burn-in or wafer inspection at the wafer level. ing.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の半導体記憶装置及びその検査方法は、以下のような
問題を有している。
However, the above-described conventional semiconductor memory device and its inspection method have the following problems.

【0008】すなわち、通常動作と同様にアドレスを変
化させつつワード線を順次選択することにより各ワード
線に対してストレスを順次印加していく第1の方法は、
スクリーニング時間が膨大になるという問題を有するこ
とは言うまでもない。
That is, a first method for sequentially applying a stress to each word line by sequentially selecting a word line while changing an address as in the normal operation is as follows.
Needless to say, there is a problem that the screening time becomes enormous.

【0009】一方、すべてのワード線を一括に駆動して
ストレスを印加する第2の方法は、スクリーニング時間
は短縮されるものの、 (1)通常動作時には、多数のワード線のうちの一のワ
ード線のみが駆動されることにより、駆動された一のワ
ード線と該一のワード線と隣接する駆動されない他のワ
ード線との間にストレスが印加されるにもかかわらず、
第2の方法においては、すべてのワード線を駆動する結
果、互いに隣接するワード線同士にストレスが印加され
ないため、スクリーニングの効果が低下する。
On the other hand, the second method of applying the stress by driving all the word lines collectively reduces the screening time, but (1) at the time of normal operation, one word of many word lines By driving only the lines, stress is applied between one driven word line and the other non-driven word line adjacent to the one word line.
In the second method, as a result of driving all the word lines, no stress is applied to the adjacent word lines, so that the screening effect is reduced.

【0010】(2)すべてのワード線を一括に駆動する
方法は、通常動作と同様の読み出し動作及び書き込み動
作が行なわれないため、互いに隣接するビット線同士、
さらにはセンスアンプ回路に対するストレスが十分では
なく、この点においてもスクリーニングが不完全とな
る。
(2) In the method of driving all the word lines at once, the same read operation and write operation as in the normal operation are not performed.
Furthermore, the stress on the sense amplifier circuit is not sufficient, and the screening is incomplete in this respect as well.

【0011】このように、ワード線を一括して立ち上げ
る第2の方法は、十分な品質を確保することは困難であ
る。
As described above, it is difficult to secure sufficient quality in the second method of starting up the word lines all at once.

【0012】本発明は前記従来の問題を解決し、スクリ
ーニング時間を大幅に短縮しつつ、メモリセル並びに互
いに隣接するワード線同士、ビット線同士及び周辺回路
のスクリーニングを十分に行なえるようにすることを目
的とする。
It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems and to sufficiently perform screening of memory cells and word lines adjacent to each other, bit lines and peripheral circuits while greatly reducing the screening time. With the goal.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明は、ストレステスト等の検査時に、多数のワ
ード線のうちの所定本数おきの複数のワード線を同時に
選択して駆動すると共に、センス動作又は書き込み動作
を行なう構成とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a method of simultaneously selecting and driving a predetermined number of word lines out of a large number of word lines during a test such as a stress test. At the same time, it is configured to perform a sensing operation or a writing operation.

【0014】具体的に、本発明に係る半導体記憶装置
は、互いに交差する多数のワード線及び多数のビット線
対と、多数のワード線と多数のビット線対との各交差部
に行列状に設けられた多数のメモリセルからなるメモリ
セルアレイと、行アドレス信号を受け、受けた行アドレ
ス信号に基づいて多数のワード線を選択的に駆動するワ
ード線駆動回路と、多数のビット線対ごとに設けられ、
各ビット線対の電位差を増幅するセンスアンプ回路と、
列アドレス信号を受け、受けた列アドレス信号に基づい
て多数のビット線対のうちのいずれかを選択し、外部と
のデータの入出力を行なう列選択回路と、検査モード制
御信号を受け、ワード線駆動回路が多数のワード線に対
して所定本数おきに且つ一の動作サイクルで複数のワー
ド線を駆動できるように選択する検査用ワード線選択手
段と、検査モード制御信号を受け、多数のビット線対の
うちの複数のビット線対を一の動作サイクルで選択し、
選択した複数のビット線対に対してデータの入出力を行
なう検査用ビット線選択手段とを備えている。
More specifically, the semiconductor memory device according to the present invention has a number of word lines and a number of bit line pairs crossing each other, and a matrix at each intersection of a number of word lines and a number of bit line pairs. A memory cell array comprising a large number of memory cells provided; a word line driving circuit for receiving a row address signal and selectively driving a large number of word lines based on the received row address signal; Provided,
A sense amplifier circuit for amplifying the potential difference between each bit line pair,
A column selection circuit that receives a column address signal, selects one of a number of bit line pairs based on the received column address signal, and inputs / outputs data to / from an external device; A test word line selecting means for selecting a line drive circuit so as to drive a plurality of word lines at predetermined intervals and in one operation cycle for a large number of word lines; Selecting a plurality of bit line pairs of the line pairs in one operation cycle;
Test bit line selecting means for inputting / outputting data to / from a plurality of selected bit line pairs.

【0015】本発明の半導体記憶装置によると、検査モ
ード制御信号を受け、ワード線駆動回路が多数のワード
線に対して所定本数おきに且つ一の動作サイクルで複数
のワード線を駆動できるように選択するワード線選択手
段を備えているため、検査モード時に駆動される複数の
ワード線のそれぞれに隣接するワード線は駆動されな
い。従って、選択されたワード線と選択されないワード
線との間には、通常動作時と同様のストレスが作用す
る。また、書き込みサイクル又は読み出しサイクルの1
サイクルで複数のワード線を選択するため、全ワード線
に対してスクリーニングを行なう時間を短縮できる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, in response to the inspection mode control signal, the word line drive circuit can drive a plurality of word lines at predetermined intervals and in one operation cycle for a large number of word lines. Since the word line selecting means for selecting is provided, a word line adjacent to each of the plurality of word lines driven in the test mode is not driven. Therefore, the same stress as in the normal operation acts between the selected word line and the unselected word line. In addition, one of the write cycle or the read cycle
Since a plurality of word lines are selected in a cycle, the time for performing screening for all word lines can be reduced.

【0016】本発明の半導体記憶装置は、検査用ワード
線選択手段により選択されたワード線が活性化されるタ
イミングと検査用ビット線選択手段により選択されたビ
ット線対が活性化されるタイミングとの間に遅延を設け
るための検査用遅延時間を生成する検査用遅延時間生成
手段をさらに備え、検査用遅延時間生成手段は、検査用
遅延時間を、ワード線駆動回路により選択されたワード
線が活性化されるタイミングと列選択回路により選択さ
れたビット線対が活性化されるタイミングとの間に遅延
を設けるための通常用遅延時間よりも長くなるように設
定することが好ましい。このようにすると、検査モード
時には、ワード線が活性化されるタイミングとビット線
対が活性化されるタイミングとの間に通常用遅延時間よ
りも長い検査用遅延時間を生成する検査用遅延時間生成
手段を備えているため、通常動作と比べてより多くの時
間を要する複数のワード線の立ち上がり動作とセンスア
ンプ及びメモリセルからビット線対へのデータ読み出し
動作との間に十分な動作マージンを確保できる。
According to the semiconductor memory device of the present invention, the timing for activating the word line selected by the test word line selecting means and the timing for activating the bit line pair selected by the test bit line selecting means are determined. And a test delay time generating means for generating a test delay time for providing a delay between the test time and the test delay time generating means. It is preferable that the setting is made longer than a normal delay time for providing a delay between the activation timing and the timing at which the bit line pair selected by the column selection circuit is activated. With this configuration, in the test mode, a test delay time generation that generates a test delay time longer than the normal delay time between the timing when the word line is activated and the timing when the bit line pair is activated is performed. Means, a sufficient operation margin is secured between the rising operation of multiple word lines, which requires more time than the normal operation, and the data reading operation from the sense amplifier and memory cell to the bit line pair. it can.

【0017】本発明の半導体記憶装置は、書き込み動作
時にセンスアンプ回路の増幅動作を禁止するセンスアン
プ増幅禁止手段をさらに備えていることが好ましい。こ
のようにすると、書き込み動作時に、センスアンプの増
幅動作が禁止(ディセーブル)されるため、例えば、セ
ンスアンプを活性化させながら、データ書き込み用のラ
イトアンプを動作させる場合と比べて、該ライトアンプ
の駆動能力を小さくできる。
Preferably, the semiconductor memory device of the present invention further comprises sense amplifier amplification inhibiting means for inhibiting the amplification operation of the sense amplifier circuit during the write operation. By doing so, the amplification operation of the sense amplifier is inhibited (disabled) during the write operation. Therefore, for example, the write amplifier for writing data is operated while the sense amplifier is activated, as compared with the case where the write amplifier for writing data is operated. The drive capability of the amplifier can be reduced.

【0018】本発明の半導体記憶装置は、列選択回路に
書き込み用のデータを入力させるか否かを制御する書き
込み制御パルスを出力する書き込み制御手段をさらに備
え、書き込み制御手段は、検査モード時における書き込
み制御パルスのパルス幅が通常モード時における書き込
み制御パルスのパルス幅よりも大きくなるように書き込
み制御パルスのパルス幅を設定することが好ましい。こ
のようにすると、検査モード時の書き込み制御パルスの
活性期間が通常動作時よりも長くなるため、複数のビッ
ト線対への書き込み動作がより一層安定する。
The semiconductor memory device according to the present invention further comprises a write control means for outputting a write control pulse for controlling whether or not to input write data to the column selection circuit, wherein the write control means is provided in the test mode. It is preferable to set the pulse width of the write control pulse so that the pulse width of the write control pulse is larger than the pulse width of the write control pulse in the normal mode. By doing so, the active period of the write control pulse in the test mode is longer than in the normal operation, and the write operation on the plurality of bit line pairs is further stabilized.

【0019】本発明の半導体記憶装置は、検査モード制
御信号を受け、行アドレス信号を内部で生成する内部ア
ドレス生成手段(アドレスカウンタ)をさらに備えてい
ることが好ましい。このようにすると、検査モード時
に、外部アドレス信号が不要となるため、外部制御端子
を削減でき、その結果、測定の容易化及び装置の簡略化
を図ることができる。
Preferably, the semiconductor memory device of the present invention further includes an internal address generating means (address counter) for receiving a test mode control signal and internally generating a row address signal. This eliminates the need for an external address signal in the test mode, so that the number of external control terminals can be reduced. As a result, measurement can be simplified and the device can be simplified.

【0020】本発明の半導体記憶装置において、内部ア
ドレス生成手段が、検査モード時に、外部からの行アド
レス信号に代えて内部で生成された行アドレス信号を、
多数のワード線のうち、所定本数おきに選択されるワー
ド線が順次交替するように出力することが好ましい。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the internal address generating means outputs the internally generated row address signal in place of the externally applied row address signal in the test mode.
It is preferable to output the word lines so that word lines selected every predetermined number out of a large number of word lines are sequentially replaced.

【0021】本発明の半導体記憶装置は、検査モード制
御信号を受ける外部端子をさらに備えていることが好ま
しい。
It is preferable that the semiconductor memory device of the present invention further includes an external terminal for receiving a test mode control signal.

【0022】本発明に係る第1の半導体記憶装置の検査
方法は、互いに交差する多数のワード線及び多数のビッ
ト線対と、多数のワード線と多数のビット線対との各交
差部に行列状に設けられた多数のメモリセルからなるメ
モリセルアレイとを備えた半導体記憶装置の検査方法を
対象とし、検査モード時に、多数のワード線のうち所定
本数おきに且つ一の動作サイクルで選択される複数のワ
ード線が順次交替するようにワード線を駆動する。
According to the first method for testing a semiconductor memory device of the present invention, a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs intersecting with each other and a matrix at each intersection of the many word lines and a plurality of bit line pairs are provided. A method for testing a semiconductor memory device having a memory cell array composed of a large number of memory cells arranged in a shape, and is selected in a predetermined number of word lines and in one operation cycle among a large number of word lines in a test mode. The word lines are driven so that a plurality of word lines are sequentially replaced.

【0023】第1の半導体記憶装置の検査方法による
と、検査モード時には、多数のワード線のうち所定本数
おきに且つ一の動作サイクルで選択される複数のワード
線が順次交替するようにワード線を駆動するため、検査
モード時に駆動される複数のワード線のそれぞれに隣接
するワード線は駆動されない。従って、選択されたワー
ド線と選択されないワード線との間には、通常動作時と
同様のストレスが作用する。さらに、書き込みサイクル
又は読み出しサイクルの1サイクルで多数のワード線を
選択するため、全ワード線に対してスクリーニングを行
なう時間を短縮できる。
According to the first semiconductor memory device inspection method, in the inspection mode, the word lines are selected such that a plurality of word lines selected in a predetermined number out of a large number of word lines in one operation cycle are sequentially replaced. , The word line adjacent to each of the plurality of word lines driven in the test mode is not driven. Therefore, the same stress as in the normal operation acts between the selected word line and the unselected word line. Further, since a large number of word lines are selected in one cycle of a write cycle or a read cycle, the time required for screening all the word lines can be reduced.

【0024】本発明に係る第2の半導体記憶装置の検査
方法は、互いに交差する多数のワード線及び多数のビッ
ト線対と、多数のワード線と多数のビット線対との各交
差部に行列状に設けられた多数のメモリセルからなるメ
モリセルアレイと、行アドレス信号を受け、受けた行ア
ドレス信号に基づいて多数のワード線を選択的に駆動す
るワード線駆動回路と、多数のビット線対ごとに設けら
れ、各ビット線対の電位差を増幅するセンスアンプ回路
と、列アドレス信号を受け、受けた列アドレス信号に基
づいて多数のビット線対のうちのいずれかを選択し、外
部とのデータの入出力を行なう列選択回路と、検査モー
ド制御信号を受け、ワード線駆動回路が多数のワード線
に対して所定本数おきに且つ一の動作サイクルで複数の
ワード線を駆動できるように選択する検査用ワード線選
択手段と、検査モード制御信号を受け、多数のビット線
対のうちの複数のビット線対を一の動作サイクルで選択
し、選択した複数のビット線対に対してデータの入出力
を行なう検査用ビット線選択手段とを備えた半導体記憶
装置の検査方法を対象とし、検査モード制御信号が第1
の状態の場合に、検査用ワード線選択手段を用いて多数
のワード線に対して所定本数おきに且つ一の動作サイク
ルで複数のワード線を選択する第1の工程と、第1の状
態の場合に、検査用ビット線選択手段を用いて多数のビ
ット線対のうちの複数のビット線対を一の動作サイクル
で選択し、選択した複数のビット線対を通じてメモリセ
ルにデータを書き込む第2の工程と、検査モード制御信
号が第2の状態の場合に、列選択回路を用いて多数のビ
ット線対のうちのいずれかを選択する第3の工程と、第
2の状態の場合に、選択されたビット線対の電位差をセ
ンスアンプ回路を用いて増幅することにより書き込まれ
たデータを読み出す第4の工程とを備えている。
According to a second method for testing a semiconductor memory device according to the present invention, a plurality of word lines and a number of bit line pairs intersecting each other, and a matrix at each intersection of a number of word lines and a number of bit line pairs. A memory cell array composed of a large number of memory cells provided in a shape, a word line driving circuit for receiving a row address signal and selectively driving a large number of word lines based on the received row address signal, and a large number of bit line pairs A sense amplifier circuit that amplifies the potential difference between each bit line pair, receives a column address signal, selects one of a number of bit line pairs based on the received column address signal, and In response to a column selection circuit for inputting / outputting data and a test mode control signal, a word line drive circuit can drive a plurality of word lines at predetermined intervals and in one operation cycle for a large number of word lines. Receiving a test mode control signal, selecting a plurality of bit line pairs among a number of bit line pairs in one operation cycle, and selecting the selected plurality of bit line pairs. The present invention is directed to a semiconductor memory device inspection method including an inspection bit line selecting means for inputting / outputting data, wherein an inspection mode control signal is a first bit.
In the case of the state, the first step of selecting a plurality of word lines at predetermined intervals for a large number of word lines and in one operation cycle by using the inspection word line selecting means; In this case, a plurality of bit line pairs among a large number of bit line pairs are selected in one operation cycle by using the inspection bit line selecting means, and data is written to the memory cell through the selected plurality of bit line pairs. And a third step of selecting one of the plurality of bit line pairs using the column selection circuit when the test mode control signal is in the second state, and in a second state, And a fourth step of reading written data by amplifying the potential difference between the selected bit line pair using a sense amplifier circuit.

【0025】第2の半導体記憶装置の検査方法による
と、本発明に係る第1の半導体記憶装置に対して、例え
ば、第1の状態である検査モードでデータの書き込み動
作を行なった後、第2の状態である通常モードでデータ
の読み出しを行なうため、センスアンプ回路等の周辺回
路をも同時にスクリーニングできる。
According to the second method for testing a semiconductor memory device, for example, after performing a data write operation on the first semiconductor memory device according to the present invention in the first mode of the test mode, Since data is read in the normal mode, which is the state 2, the peripheral circuits such as the sense amplifier circuit can be simultaneously screened.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の一実施形態について図面
を参照しながら説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0027】図1は本発明の一実施形態に係る半導体記
憶装置のブロック構成を示している。図1に示すよう
に、例えば、半導体基板上に、それぞれが互いに交差す
る256本のワード線WLm(但し、m=0,1,2,
…,255とする。)及び256対のビット線対BL
m,/BLmと、各ワード線WLm及び各ビット線対B
Lm,/BLmの交差部であって行列状に設けられ、記
憶容量が64kビットのメモリセル13からなるメモリ
セルアレイ14が配設されている。
FIG. 1 shows a block configuration of a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, for example, 256 word lines WLm (where m = 0, 1, 2, 2,
..., 255. ) And 256 bit line pairs BL
m, / BLm, each word line WLm and each bit line pair B
At the intersection of Lm and / BLm, a memory cell array 14 including memory cells 13 provided in a matrix and having a storage capacity of 64 kbits is provided.

【0028】なお、本明細書において信号名の前に付加
される記号”/”は、該信号の相補値又はロウレベル時
に有意(アクティブ)となる信号を表わしている。
In this specification, a symbol "/" added before a signal name indicates a complementary value of the signal or a signal which becomes significant (active) at a low level.

【0029】各ワード線WLmの一端部には、ロウ
(行)アドレスデコード信号/RD0〜/RD63及び
ワード線駆動信号WD0〜WD3を受け、入力されたロ
ウアドレスデコード信号/RD0〜/RD63に基づい
て256本のワード線WLmを選択的に駆動するワード
線ドライバ15が接続されている。
One end of each word line WLm receives row (row) address decode signals / RD0 to / RD63 and word line drive signals WD0 to WD3, and receives the row address decode signals / RD0 to / RD63. A word line driver 15 for selectively driving 256 word lines WLm is connected.

【0030】各ビット線対BLm,/BLmの一端部に
は、ビット線対BLm,/BLmごとに設けられ、各ビ
ット線対BLm,/BLmごとに読み出された電位の電
位差を増幅してデータの値をそれぞれ確定するセンスア
ンプ列16が接続されている。
One end of each bit line pair BLm, / BLm is provided for each bit line pair BLm, / BLm, and amplifies the potential difference between the potentials read out for each bit line pair BLm, / BLm. A sense amplifier array 16 for determining each data value is connected.

【0031】センスアンプ列16には、検査モード制御
信号としての複数ワード線立ち上げテストモード切り換
え信号AWL及び内部カラム(列)アドレス信号を受
け、該内部カラムアドレス信号をデコードし各ビット線
対BLm,/BLmを選択すると共に、外部とのデータ
I/Oを行なう列選択回路及び検査用ビット線選択手段
としてのカラムデコーダ及びセレクタ17とが接続され
ている。
The sense amplifier array 16 receives a plurality of word line rise test mode switching signals AWL as an inspection mode control signal and an internal column (column) address signal, decodes the internal column address signal, and decodes each bit line pair BLm. , / BLm, and a column selection circuit for performing data I / O with the outside, and a column decoder and selector 17 as a test bit line selection means are connected.

【0032】一方、ワード線ドライバ15には、ロウア
ドレスプリデコード信号XPA0〜XPA7,XPB0
〜XPB7を受け、ロウアドレスデコード信号/RD0
〜/RD63を生成するロウデコーダ18が接続されて
いる。
On the other hand, the word line driver 15 has row address predecode signals XPA0 to XPA7, XPB0.
XPB7 to row address decode signal / RD0
To / RD63 are connected.

【0033】ロウデコーダ18には、それぞれ、一方の
端子にロウアドレスプリデコード信号XPA0〜XPA
7,XPB0〜XPB7のいずれかが入力され、他方の
端子に複数ワード線立ち上げテストモード切り換え信号
AWLが入力される16個のOR回路からなる検査用ワ
ード線選択手段としての複数ワード線立ち上げ用制御回
路19が接続されている。
Each of the row decoders 18 has one terminal connected to a row address predecode signal XPA0 to XPA0.
7, one of XPB0 to XPB7 is input and the other terminal is supplied with a plurality of word line rising test mode switching signal AWL. Control circuit 19 is connected.

【0034】複数ワード線立ち上げ用制御回路19に
は、内部ロウアドレス信号AX0〜AX7を受け、ロウ
アドレスプリデコード信号XPA0〜XPA7,XPB
0〜XPB7を生成するロウプリデコーダ20が接続さ
れ、該ロウプリデコーダ20には、外部からのロウアド
レス信号A0〜A7を受け、内部ロウアドレス信号AX
0〜AX7を生成するアドレスバッファ21が接続され
ている。
The control circuit 19 for raising a plurality of word lines receives internal row address signals AX0 to AX7 and receives row address predecode signals XPA0 to XPA7, XPB.
0 to XPB7 are connected to the row predecoder 20. The row predecoder 20 receives external row address signals A0 to A7 and receives an internal row address signal AX.
An address buffer 21 for generating 0 to AX7 is connected.

【0035】ロウプリデコーダ20とワード線ドライバ
15との間には、それぞれ、一方の端子にワード線駆動
タイミング制御信号WDが入力され、他方の端子にロウ
アドレスプリデコード信号が入力される4個のAND回
路からなるワード線駆動信号生成回路22が接続されて
いる。
Between the row predecoder 20 and the word line driver 15, four terminals each having one terminal receiving the word line drive timing control signal WD and the other terminal receiving the row address predecode signal. Is connected to a word line drive signal generation circuit 22 composed of an AND circuit.

【0036】カラムデコーダ及びセレクタ17には、書
き込み制御パルスWRUNを受け、データの書き込み用
又は読み出し用のリード・ライトアンプ23が接続され
ると共に、外部からのカラムアドレス信号A0〜A7を
受け、内部カラムアドレス信号を生成するカラムアドレ
スバッファ及びカラムプリデコーダ24が接続されてい
る。
The column decoder / selector 17 receives a write control pulse WRUN, is connected to a read / write amplifier 23 for writing or reading data, and receives column address signals A0 to A7 from outside, and A column address buffer for generating a column address signal and a column predecoder 24 are connected.

【0037】タイミング発生回路25は、メモリ動作を
開始するトリガとなるロウアドレスストローブ信号RA
S、読み出し動作のトリガとなるカラムアドレスストロ
ーブ信号CAS、書き込み動作の許可状態又は禁止状態
を規制する書き込みイネーブル信号WE及び読み出しデ
ータの外部への出力動作を許可又は禁止する出力イネー
ブル信号OEを受け、ワード線駆動タイミング制御信号
WD又は内部書き込みイネーブル信号WENを出力す
る。
The timing generation circuit 25 generates a row address strobe signal RA as a trigger for starting a memory operation.
S, a column address strobe signal CAS serving as a trigger for a read operation, a write enable signal WE for restricting a write operation permission state or a prohibition state, and an output enable signal OE for permitting or prohibiting read data output operation to the outside It outputs a word line drive timing control signal WD or an internal write enable signal WEN.

【0038】遅延制御回路26は、ワード線駆動タイミ
ング制御信号WDを受け、第1の遅延時間(通常用遅延
時間)T1を生成する第1の遅延回路261と、第2の
遅延量時間(検査用遅延時間)T2を生成する検査用遅
延時間生成手段としての第2の遅延回路262と、第1
の遅延回路261及び第2の遅延回路262からの遅延
したワード線駆動タイミング制御信号WDを受け、これ
らの一方を複数ワード線立ち上げテストモード切り換え
信号AWLに基づいて選択し、選択した信号をセンスア
ンプ駆動信号SEとして出力する第1のセレクタ263
とから構成されている。
The delay control circuit 26 receives the word line drive timing control signal WD, generates a first delay time (normal delay time) T1, and a second delay time (inspection time). Delay circuit 262 as a test delay time generating means for generating a delay time
Receiving the delayed word line drive timing control signals WD from the delay circuit 261 and the second delay circuit 262, and selects one of them based on a plurality of word line start-up test mode switching signals AWL, and senses the selected signal. First selector 263 that outputs as amplifier drive signal SE
It is composed of

【0039】書き込み制御手段としての書き込み制御パ
ルス幅切り換え回路27は、内部書き込みイネーブル信
号WENを受け、第3の遅延量(時間)T3を生成する
第3の遅延回路271と、第4の遅延量(時間)T4を
生成する第4の遅延回路272と、第3の遅延回路27
1及び第4の遅延回路272からの遅延した内部書き込
みイネーブル信号WENを受け、これらの一方を複数ワ
ード線立ち上げテストモード切り換え信号AWLに基づ
いて選択し、選択した信号を書き込み制御パルスWRU
Nとして出力する第2のセレクタ273とから構成され
ている。
The write control pulse width switching circuit 27 as a write control means receives the internal write enable signal WEN and generates a third delay (time) T3, a third delay circuit 271 and a fourth delay (Time) Fourth delay circuit 272 for generating T4 and third delay circuit 27
Upon receiving the delayed internal write enable signal WEN from the first and fourth delay circuits 272, one of them is selected based on the multiple word line rise test mode switching signal AWL, and the selected signal is written into the write control pulse WRU.
And a second selector 273 for outputting N.

【0040】遅延制御回路26と該遅延制御回路26か
らのセンスアンプ駆動信号SEを受けるセンスアンプ列
16との間には、一方の入力端子にセンスアンプ駆動信
号SEを受け、他方の入力端子に反転された書き込み制
御パルスWRUNを受け、センスアンプ駆動信号SEを
出力するセンスアンプ増幅禁止手段としての書き込み動
作時センスアンプディセーブル制御回路28が接続され
ている。
Between the delay control circuit 26 and the sense amplifier array 16 receiving the sense amplifier drive signal SE from the delay control circuit 26, one input terminal receives the sense amplifier drive signal SE, and the other input terminal A sense amplifier disable control circuit 28 at the time of a write operation as sense amplifier amplification inhibiting means for receiving the inverted write control pulse WRUN and outputting a sense amplifier drive signal SE is connected.

【0041】図2は本実施形態に係る半導体記憶装置に
おけるワード線ドライバ15及びロウデコーダ18の回
路構成を示している。図2に示すように、ワード線ドラ
イバ15は各ワード線WLmごとに設けられた単位ワー
ド線ドライバ15aを有している。
FIG. 2 shows a circuit configuration of the word line driver 15 and the row decoder 18 in the semiconductor memory device according to the present embodiment. As shown in FIG. 2, the word line driver 15 has a unit word line driver 15a provided for each word line WLm.

【0042】各単位ワード線ドライバ15aは、入力端
子がロウアドレスデコード信号/RD0〜/RD63の
いずれか1本と接続され、出力端子がワード線WLmの
いずれか1本と接続されたp型トランジスタTP1と第
1のn型トランジスタTN1とからなる第1のインバー
タ151を有している。また、256個の単位ワード線
ドライバ15aの第1のインバータ151における駆動
用電圧の供給端子は、それぞれワード線駆動信号WD0
〜WD3のいずれか1つとこの順に繰り返されるように
接続されている。
Each unit word line driver 15a has a p-type transistor having an input terminal connected to any one of row address decode signals / RD0 to / RD63 and an output terminal connected to any one of word lines WLm. It has a first inverter 151 composed of TP1 and a first n-type transistor TN1. The drive voltage supply terminals of the first inverter 151 of the 256 unit word line drivers 15a are connected to the word line drive signal WD0, respectively.
To WD3 so as to be repeated in this order.

【0043】また、各単位ワード線ドライバ15aに
は、ドレインがワード線WLmに接続され、ソースが接
地され、ゲートが第2のインバータ152により反転さ
れたワード線駆動信号WD0〜WD 3のいずれか1つ
を受ける第2のn型トランジスタTN2を有している。
Each unit word line driver 15a has one of the word line drive signals WD0 to WD3 whose drain is connected to the word line WLm, whose source is grounded, and whose gate is inverted by the second inverter 152. It has a second n-type transistor TN2 that receives one.

【0044】ロウデコーダ18は64個の単位ロウデコ
ーダ18aからなり、各単位ロウデコーダ18aは、ロ
ウプリデコーダ20からのそれぞれ8通りずつのロウア
ドレスプリデコード信号XPA0〜XPA7,XPB0
〜XPB7からなるそれぞれ64通りの組み合わせのう
ちの1通りが入力され、ロウアドレスデコード信号/R
D0〜/RD63のいずれかを出力するNANDゲート
181を有している。例えば、ロウアドレスプリデコー
ド信号XPA0及びXPB0が入力され、ロウアドレス
デコード信号/RD0を出力する単位ロウデコーダ18
aは、該ロウアドレスデコード信号/RD0をワード線
WL0〜WL3と接続されている4つの単位ワード線ド
ライバ15aに出力し、ロウアドレスプリデコード信号
XPA1及びXPB0が入力され、ロウアドレスデコー
ド信号/RD1を出力する単位ロウデコーダ18aは、
該ロウアドレスデコード信号/RD1をワード線WL4
〜WL7と接続されている4つの単位ワード線ドライバ
15aに出力する。
The row decoder 18 is composed of 64 unit row decoders 18a, and each unit row decoder 18a has eight row address predecode signals XPA0 to XPA7, XPB0 from the row predecoder 20 respectively.
To XPB7, one of the 64 combinations is input, and the row address decode signal / R
It has a NAND gate 181 that outputs any one of D0 to / RD63. For example, a unit row decoder 18 that receives row address predecode signals XPA0 and XPB0 and outputs a row address decode signal / RD0
a outputs the row address decode signal / RD0 to four unit word line drivers 15a connected to the word lines WL0 to WL3, receives the row address predecode signals XPA1 and XPB0, and outputs the row address decode signal / RD1. Is output from the unit row decoder 18a.
The row address decode signal / RD1 is applied to the word line WL4
To the four unit word line drivers 15a connected to .about.WL7.

【0045】図3は本実施形態に係る半導体記憶装置に
おけるメモリセルアレイ14、センスアンプ列16、カ
ラムデコーダ17及びリード・ライトアンプ23の回路
構成を示している。図3に示すように、メモリセルアレ
イ14には、メモリセルキャパシタMCとメモリセルア
クセストランジスタTWLとからなるメモリセル13が
行列状に配設されている。
FIG. 3 shows a circuit configuration of the memory cell array 14, the sense amplifier row 16, the column decoder 17, and the read / write amplifier 23 in the semiconductor memory device according to the present embodiment. As shown in FIG. 3, in the memory cell array 14, memory cells 13 each including a memory cell capacitor MC and a memory cell access transistor TWL are arranged in a matrix.

【0046】メモリセル13において、例えば、メモリ
セルアクセストランジスタTWLは、ドレインがビット
線BL0と接続され、ゲートがワード線WL1と接続さ
れ、ソースがメモリセルキャパシタMCの一方の電極と
接続されており、メモリセルキャパシタMCの他方の電
極は、電源電圧VDDの2分の1の電圧値を持つセルプ
レート電源VCPと接続されている。
In the memory cell 13, for example, the memory cell access transistor TWL has a drain connected to the bit line BL0, a gate connected to the word line WL1, and a source connected to one electrode of the memory cell capacitor MC. , The other electrode of the memory cell capacitor MC is connected to a cell plate power supply VCP having a voltage value that is a half of the power supply voltage VDD.

【0047】センスアンプ列16は、センスアンプ駆動
回路161、センスアンプ162及びビット線プリチャ
ージ回路163とから構成されている。
The sense amplifier array 16 includes a sense amplifier drive circuit 161, a sense amplifier 162, and a bit line precharge circuit 163.

【0048】センスアンプ駆動回路161は、ゲートが
センスアンプ駆動信号SEの反転信号を受け、ソースが
電源電圧VDDを受け、ドレインが各センスアンプ16
2と接続され、各センスアンプ162に対して電源電圧
VDDを供給するp型センスアンプドライバトランジス
タTPSEと、ゲートがセンスアンプ駆動信号SEを受
け、ソースが接地電圧VSSを受け、ドレインが各セン
スアンプ162と接続され、各センスアンプ162に対
して接地電圧VSSを供給するn型センスアンプドライ
バトランジスタTNSEとを有している。
In the sense amplifier drive circuit 161, the gate receives the inverted signal of the sense amplifier drive signal SE, the source receives the power supply voltage VDD, and the drain is each sense amplifier 16.
2, a p-type sense amplifier driver transistor TPSE that supplies a power supply voltage VDD to each sense amplifier 162, a gate receives the sense amplifier drive signal SE, a source receives the ground voltage VSS, and a drain is each sense amplifier driver TPSE. 162, and an n-type sense amplifier driver transistor TNSE that supplies the ground voltage VSS to each sense amplifier 162.

【0049】センスアンプ162は、第1のp型センス
アンプトランジスタTPSm及び第1のn型センスアン
プトランジスタTNSmからなる第1のインバータと、
第2のp型センスアンプトランジスタTPSmN及び第
2のn型センスアンプトランジスタTNSmNからなる
第2のインバータとがフリップフロップ接続されて構成
されている。
The sense amplifier 162 includes a first inverter including a first p-type sense amplifier transistor TPSm and a first n-type sense amplifier transistor TNSm;
A second inverter including a second p-type sense amplifier transistor TPSmN and a second n-type sense amplifier transistor TNSmN is configured to be flip-flop connected.

【0050】第1のインバータの出力端子はビット線B
Lと接続され、第2のインバータの出力端子はビット相
補線/BLと接続されており、センスアンプ駆動回路1
61からは、第1のインバータ及び第2のインバータの
各p型トランジスタTPSm,TPSmNに電源電圧V
DDが供給され、第1のインバータ及び第2のインバー
タの各n型トランジスタTNSm,TNSmNに接地電
圧VSSが供給される。
The output terminal of the first inverter is a bit line B
L, and the output terminal of the second inverter is connected to the bit complementary line / BL.
From 61, the power supply voltage V is applied to each of the p-type transistors TPSm and TPSmN of the first inverter and the second inverter.
DD is supplied, and the ground voltage VSS is supplied to each of the n-type transistors TNSm and TNSmN of the first inverter and the second inverter.

【0051】ビット線プリチャージ回路163は、ソー
ス及びドレインがビット線対BLm,/BLmと接続さ
れ、ゲートにビット線プリチャージ信号BPを受けるビ
ット線イコライズトランジスタTNEQmと、ビット線
対BLm,/BLmの間に直列接続されており、共通ド
レインが電源電圧VDDの2分の1の電圧値のビット線
プリチャージ電源VBPと接続され、各ゲートにビット
線プリチャージ信号BPを受ける第1のビット線プリチ
ャージトランジスタTNPRm及び第2のビット線プリ
チャージトランジスタTNPRmNとから構成されてい
る。
The bit line precharge circuit 163 has a source and a drain connected to the bit line pair BLm and / BLm, a gate receiving the bit line precharge signal BP at the gate, a bit line equalizing transistor TNEQm, and a bit line pair BLm and / BLm. , A common drain is connected to a bit line precharge power supply VBP having a voltage value of one half of the power supply voltage VDD, and a first bit line receiving a bit line precharge signal BP at each gate is provided. It comprises a precharge transistor TNPRm and a second bit line precharge transistor TNPRmN.

【0052】カラムデコーダ及びセレクタ17は、一方
のソースドレインがビット線BLmと接続され、他方の
ソースドレインがデータの読み出し又は書き込みに用い
るデータ線DLと接続され、ゲートがカラムプリデコー
ド信号を受けるANDゲート17aと接続された第1の
カラムスイッチトランジスタTNCmと、一方のソース
ドレインがビット相補線/BLmと接続され、他方のソ
ースドレインがデータの読み出し又は書き込みに用いる
データ相補線/DLと接続され、ゲートがカラムプリデ
コード信号を受けるANDゲート17aと接続された第
2のカラムスイッチトランジスタTNCmNとから構成
されている。
The column decoder / selector 17 has one source / drain connected to the bit line BLm, the other source / drain connected to the data line DL used for reading or writing data, and the gate receiving the column predecode signal. A first column switch transistor TNCm connected to the gate 17a, one source and drain are connected to the bit complementary line / BLm, and the other source and drain are connected to a data complementary line / DL used for reading or writing data; The gate comprises a second column switch transistor TNCmN connected to an AND gate 17a for receiving a column predecode signal.

【0053】リード・ライトアンプ23は、データ線対
DL,/DLと接続され、該データ線対DL,/DLに
読み出されたデータを増幅してI/Oバッファ回路29
に出力するリードアンプ23aと、I/Oバッファ回路
29と接続され、書き込み制御パルスWRUNにより制
御されるn型スイッチトランジスタを介して、増幅した
書き込みデータをデータ線対DL,/DLに出力するラ
イトアンプ23bとを有している。
The read / write amplifier 23 is connected to the data line pair DL, / DL, amplifies the data read to the data line pair DL, / DL, and amplifies the I / O buffer circuit 29.
Is connected to the I / O buffer circuit 29, and the amplified write data is output to the data line pair DL and / DL via an n-type switch transistor controlled by the write control pulse WRUN. And an amplifier 23b.

【0054】以下、前記のように構成された半導体記憶
装置の動作を図面に基づいて説明する。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device configured as described above will be described with reference to the drawings.

【0055】図4及び図5は本実施形態に係る半導体記
憶装置の動作タイミングチャートであって、図4は通常
の書き込み動作を示し、図5はテスト動作を示してい
る。
FIGS. 4 and 5 are operation timing charts of the semiconductor memory device according to the present embodiment. FIG. 4 shows a normal write operation, and FIG. 5 shows a test operation.

【0056】(通常書き込み動作)図1〜3及び図4を
参照しながら通常の書き込み動作を説明する。
(Normal Write Operation) A normal write operation will be described with reference to FIGS.

【0057】まず、図4に示すように、通常モード時
は、複数ワード線立ち上げテストモード切り換え信号A
WLが常にロウレベルの状態にある。ここで、図4に示
す信号名のうち、枠で囲まれた信号名は外部から入力さ
れる信号であることを表わしている。
First, as shown in FIG. 4, in the normal mode, a plurality of word line start-up test mode switching signals A
WL is always at a low level. Here, among the signal names shown in FIG. 4, the signal names surrounded by a frame indicate that the signals are input from the outside.

【0058】次に、ロウアドレスストローブ信号/RA
Sを立ち下げて活性化することにより、ロウアドレス信
号A0〜A7を取り込み、図1に示すアドレスバッファ
21からロウプリデコーダ20に対して内部ロウアドレ
ス信号AX0〜AX7が出力される。内部ロウアドレス
信号AX0〜AX7を受けたロウプリデコーダ20は、
それぞれ8種類ずつのロウプリデコード信号XPA0〜
XPA7、XPB0〜XPB7からそれぞれ1つずつの
信号を選択し、ロウデコーダ18に出力する。
Next, row address strobe signal / RA
When S is activated by falling, the row address signals A0 to A7 are fetched, and the internal row address signals AX0 to AX7 are output from the address buffer 21 to the row predecoder 20 shown in FIG. The row predecoder 20 receiving the internal row address signals AX0 to AX7
Each of eight types of row predecode signals XPA0 to XPA0
One signal is selected from each of XPA7 and XPB0 to XPB7 and output to row decoder 18.

【0059】図2に示すように、ロウデコーダ18は、
選択されたロウプリデコード信号を受け、64個の単位
ワード線ドライバ18aのうちの1つが選択されること
により、64通りのロウアドレスデコード信号/RD0
〜/RD63のうちの1つを選択し、信号値を活性状態
のローレベルとしてワード線ドライバ15に出力する。
As shown in FIG. 2, the row decoder 18
Upon receiving the selected row predecode signal and selecting one of the 64 unit word line drivers 18a, 64 row address decode signals / RD0 are provided.
To / RD63, and outputs the signal value to the word line driver 15 as an active low level.

【0060】一方、図1に示すタイミング発生回路25
からのワード線駆動タイミング制御信号WDとロウプリ
デコーダ20からの選択信号とを受けたワード線駆動信
号生成回路22により、4つのワード線駆動信号WD0
〜WD3の1つが選択されて活性化されることにより、
結果的にワード線WLmのうちの1本が選択されて活性
化される。これにより、図3に示すように、メモリセル
アレイ14における選択された一のワード線WLに接続
されている256個のメモリセル13から、該メモリセ
ル13のメモリセルキャパシタMCにそれぞれ保持され
ている微小電位のデータが、該メモリセル13に接続さ
れている各ビット線BLm及びビット相補線/BLmに
転送される。
On the other hand, the timing generation circuit 25 shown in FIG.
The word line drive signal generation circuit 22 which receives the word line drive timing control signal WD from the row and the selection signal from the row predecoder 20 outputs four word line drive signals WD0
~ WD3 is selected and activated,
As a result, one of the word lines WLm is selected and activated. As a result, as shown in FIG. 3, the 256 memory cells 13 connected to one selected word line WL in the memory cell array 14 are held in the memory cell capacitors MC of the memory cells 13 respectively. The data of the minute potential is transferred to each bit line BLm and bit complementary line / BLm connected to the memory cell 13.

【0061】次に、図4に示すように、ワード線駆動タ
イミング制御信号WDから第1の遅延時間T1後、セン
スアンプ駆動信号SEが立ち上がる。この第1の遅延時
間T1は、図1に示す遅延制御回路26において、ロー
レベルの複数ワード線立ち上げテストモード切り換え信
号AWLを受ける第1のセレクタ263が第1の遅延回
路261の出力信号を選択することにより生成される。
センスアンプ駆動信号SEが活性化されると、図3に示
すように、センスアンプ駆動信号SEを受けるセンスア
ンプ列16のセンスアンプ駆動回路161が活性化され
て、各ビット線対BLm,/BLmにそれぞれ接続され
た各センスアンプ162が各ビット線対BLm,/BL
mごとに読み出されているデータを増幅して値を確定す
る。これにより、各メモリセル13のビット線対BL
m,/BLmへの読み出し動作が完了する。
Next, as shown in FIG. 4, the sense amplifier drive signal SE rises after a first delay time T1 from the word line drive timing control signal WD. In the delay control circuit 26 shown in FIG. 1, the first selector 263 that receives the low-level plural word line rise test mode switching signal AWL outputs the output signal of the first delay circuit 261. Generated by selection.
When the sense amplifier drive signal SE is activated, as shown in FIG. 3, the sense amplifier drive circuit 161 of the sense amplifier row 16 receiving the sense amplifier drive signal SE is activated, and each bit line pair BLm, / BLm is activated. Is connected to each bit line pair BLm, / BL
Data read every m is amplified to determine a value. Thereby, the bit line pair BL of each memory cell 13
The read operation to m, / BLm is completed.

【0062】次に、図4に示すように、書き込みイネー
ブル信号/WEを立ち下げて、書き込み許可状態とす
る。続いて、カラムアドレスストローブ信号/CASを
立ち下げて活性化することにより、カラムアドレス信号
A0〜A7を取り込み、図1に示すカラムアドレスバッ
ファ及びカラムプリデコーダ24が活性化する。続い
て、図3に示すカラムデコーダ及びセレクタ17によっ
て、アドレスにより指定された一のビット線対BL,/
BLが選択される。
Next, as shown in FIG. 4, the write enable signal / WE falls to bring the write enable state. Subsequently, the column address strobe signal / CAS falls and is activated to take in the column address signals A0 to A7, and the column address buffer and the column predecoder 24 shown in FIG. 1 are activated. Subsequently, one bit line pair BL, // designated by the address is designated by the column decoder and selector 17 shown in FIG.
BL is selected.

【0063】次に、図1及び図4に示すように、活性化
された書き込みイネーブル信号/WEを受けたタイミン
グ発生回路25からは内部書き込みイネーブル信号WE
Nが出力され、該内部書き込みイネーブル信号WENの
立ち上がりから第3の遅延時間T3の間だけ書き込み制
御パルスWRUNが発生する。この第3の遅延時間T3
は、図1に示す書き込み制御パルス幅切り換え回路27
において、ローレベルの複数ワード線立ち上げテストモ
ード切り換え信号AWLを受ける第3のセレクタ271
が第3の遅延回路271側の出力信号を選択することに
より生成される。続いて、図3に示すように、書き込み
制御パルスWRUNが生成されている間に選択されてい
るビット線対BLm,/BLmにライトアンプ23bを
通して所定の書き込みデータDinが入力される。
Next, as shown in FIGS. 1 and 4, the timing generation circuit 25 receiving the activated write enable signal / WE outputs the internal write enable signal WE.
N is output, and the write control pulse WRUN is generated only during the third delay time T3 from the rise of the internal write enable signal WEN. This third delay time T3
Is a write control pulse width switching circuit 27 shown in FIG.
, The third selector 271 receiving the low-level multiple word line rising test mode switching signal AWL
Is generated by selecting the output signal of the third delay circuit 271 side. Subsequently, as shown in FIG. 3, predetermined write data Din is input to the selected bit line pair BLm, / BLm through the write amplifier 23b while the write control pulse WRUN is being generated.

【0064】このとき、図1に示すように、書き込み制
御パルスWRUNが活性化されている間は書き込み動作
時センスアンプディセーブル制御回路28がセンスアン
プ駆動信号SEの出力を禁止するため、センスアンプ駆
動信号SEは書き込み制御パルスWRUNの発生中に非
活性となる。これにより、センスアンプ列16とライト
アンプ23bとが同時に活性化されることがなくなるの
で、特に、読み出されたデータの相補値を書き込むよう
な反転書き込みの場合であっても、データの書き込み動
作を短時間で行なうことができる。
At this time, as shown in FIG. 1, the sense amplifier disable control circuit 28 during the write operation prohibits the output of the sense amplifier drive signal SE while the write control pulse WRUN is activated. The drive signal SE becomes inactive during the generation of the write control pulse WRUN. As a result, the sense amplifier array 16 and the write amplifier 23b are not activated at the same time, so that the data write operation can be performed even in the case of the inversion write in which the complementary value of the read data is written. Can be performed in a short time.

【0065】(テスト動作)次に、複数のワード線を同
時に活性化して行なうテスト動作について図1〜3及び
図5を参照しながら説明する。
(Test Operation) Next, a test operation performed by simultaneously activating a plurality of word lines will be described with reference to FIGS.

【0066】まず、図5に示すように、複数ワード線立
ち上げテストモード切り換え信号AWLを立ち上げて活
性化することにより、装置の動作モードをテストモード
に遷移する。
First, as shown in FIG. 5, the operation mode of the device is transited to the test mode by raising and activating the multiple word line rise test mode switching signal AWL.

【0067】次に、ロウアドレスストローブ信号/RA
Sを活性化させて、ロウアドレス信号A0〜A7を取り
込み、図1に示すアドレスバッファ21からロウプリデ
コーダ20に対して内部ロウアドレス信号AX0〜AX
7が出力される。このとき、ハイレベルの複数ワード線
立ち上げテストモード切り換え信号AWLを受ける複数
ワード線立ち上げ用制御回路19により、各ロウプリデ
コード信号XPA0〜XPA7,XPB0〜XPB7の
それぞれが活性化される。これにより、図2に示すロウ
デコーダ18においてロウアドレスデコード信号/RD
0〜/RD63のすべてがロウレベルとなり活性化され
てワード線ドライバ15に入力される。
Next, row address strobe signal / RA
S is activated to take in the row address signals A0 to A7, and the internal address signals AX0 to AX are sent from the address buffer 21 to the row predecoder 20 shown in FIG.
7 is output. At this time, each of the row predecode signals XPA0 to XPA7 and XPB0 to XPB7 is activated by the multiple word line rise control circuit 19 which receives the high level multiple word line rise test mode switching signal AWL. Thereby, row address decode signal / RD in row decoder 18 shown in FIG.
All of 0 to / RD63 become low level and are activated and input to the word line driver 15.

【0068】このとき、内部ワード線駆動信号WD0〜
WD3のうちの一の信号が選択されることにより、25
6本のワード線WLmのうちの4分の1、すなわち64
本が同時に選択され、選択された64本のワード線WL
に属する64×256個のメモリセル13のデータが各
ビット線対BLm,/BLmに転送される。すなわち、
1対のビット線BL,/BLに64個分のメモリセル1
3のデータが同時に読み出されることになる。
At this time, internal word line drive signals WD0 to WD0
When one signal of WD3 is selected, 25
One quarter of the six word lines WLm, that is, 64
Are selected simultaneously, and the selected 64 word lines WL
Are transferred to each bit line pair BLm and / BLm. That is,
64 memory cells 1 are connected to a pair of bit lines BL and / BL.
3 will be read simultaneously.

【0069】この場合、ワード線駆動信号WD0〜WD
3のうちの1つで64本のワード線WLを駆動するた
め、ワード線WLの立ち上がり時間は通常モードと比べ
て長くなる。このテストモード時のワード線WLの立ち
上がり時間を確保するため、本実施形態は、図1に示す
センスアンプ駆動信号SEを生成する遅延制御回路26
において、テストモード時に第1の遅延時間T1よりも
長い第2の遅延時間を生成する第2の遅延回路262か
らの出力信号を選択することにより実現している。
In this case, the word line drive signals WD0 to WD
Since one of the three drives 64 word lines WL, the rise time of the word lines WL is longer than in the normal mode. In order to secure the rise time of the word line WL in the test mode, the present embodiment employs a delay control circuit 26 for generating the sense amplifier drive signal SE shown in FIG.
In the test mode, this is realized by selecting an output signal from the second delay circuit 262 that generates a second delay time longer than the first delay time T1 in the test mode.

【0070】次に、図5に示すように、書き込みイネー
ブル信号/WEを立ち下げて、書き込み許可状態とす
る。続いて、カラムアドレスストローブ信号/CAS信
号により、前述したのと同様のデータの読み出し及び書
き込み動作を行なう。
Next, as shown in FIG. 5, the write enable signal / WE falls to bring the write enable state. Subsequently, the same data read and write operations as described above are performed by the column address strobe signal / CAS signal.

【0071】ここで、複数ワード線立ち上げテストモー
ド切り換え信号AWLが活性状態であるため、外部から
のコラムアドレス信号A0〜A7の値に関わらず、図1
に示すカラムデコーダ及びセレクタ17を通じて256
対のビット線対BLm,/BLmのすべてを同時に選択
する。これを実現するための構成は、複数ワード線立ち
上げ用制御回路19と同様のORゲートを有する制御回
路(図示せず)をカラムアドレスバッファ及びカラムプ
リデコーダ24に組み込むことによって容易に実現でき
る。
Here, since the multiple word line rise test mode switching signal AWL is in an active state, regardless of the values of externally applied column address signals A0 to A7, FIG.
Through the column decoder and selector 17 shown in FIG.
All of the paired bit lines BLm and / BLm are simultaneously selected. A configuration for realizing this can be easily realized by incorporating a control circuit (not shown) having an OR gate similar to the control circuit 19 for raising a plurality of word lines into the column address buffer and the column predecoder 24.

【0072】このようにすると、書き込み動作時に一の
書き込みデータDinが展開され、同時に選択された2
56対のビット線対BLm,/BLmのすべてに書き込
み動作が行なわれる。さらに、本実施形態の特徴とし
て、図1に示す書き込み制御パルスWRUNを生成する
書き込み制御パルス幅切り換え回路27において、テス
トモード時に第3の遅延時間T3よりも長い第4の遅延
時間T4を生成する第4の遅延回路272側からの出力
信号を選択して、書き込み制御パルスWRUNのパルス
幅を通常モード時よりも長くすることにより、256対
のビット線対BLm,/BLmに対する書き込み動作の
マージンを確保して書き込みを容易にしている。
In this way, one write data Din is developed at the time of the write operation, and two write data Din selected at the same time are selected.
A write operation is performed on all 56 bit line pairs BLm and / BLm. Further, as a feature of the present embodiment, the write control pulse width switching circuit 27 for generating the write control pulse WRUN shown in FIG. 1 generates a fourth delay time T4 longer than the third delay time T3 in the test mode. By selecting the output signal from the fourth delay circuit 272 side and making the pulse width of the write control pulse WRUN longer than in the normal mode, the write operation margin for the 256 pairs of bit lines BLm and / BLm can be reduced. It secures and makes writing easy.

【0073】以上説明したように、本実施形態による
と、 (1)テストモード時にワード線WLが活性化される本
数が通常モード時と比べて64倍となり、バーンイン検
査等のストレステスト時には、通常モード時と同等のス
トレスを64分の1の時間で印加することができる。な
お、本実施形態においては、256本のワード線WLm
のうちの64本(64/256)を同時に選択している
が、一の動作サイクルで4本のワード線駆動信号WD0
〜WD3のうちの2本を同時に駆動することにより、ワ
ード線WLmの活性化本数が通常モード時と比べて12
8倍になり、通常モードと同等のストレス時間をさらに
半分に、すなわち128分の1の時間とすることも容易
に行なえる。
As described above, according to the present embodiment, (1) the number of word lines WL activated in the test mode is 64 times that in the normal mode, The same stress as in the mode can be applied in 1/64 time. In the present embodiment, 256 word lines WLm
64 (64/256) are selected at the same time, but four word line drive signals WD0
To WD3 at the same time, the number of activated word lines WLm becomes 12 compared to that in the normal mode.
As a result, the stress time equivalent to that in the normal mode can be further halved, that is, the time can be easily reduced to 1/128.

【0074】(2)すべてのワード線WLmを一括に活
性化するストレス印加方法と比べて、ワード線WL間の
ストレスの印加が容易に行なえる。例えば、各動作サイ
クルごとに、ワード線駆動信号WD0〜WD3を順次起
動し、1サイクルあたり256本のワード線WLmのう
ち3本おきに計64本のワード線WLを選択する。この
ようにすると、活性化されたワード線WLのそれぞれに
隣接する非選択のワード線WLを非活性とすることがで
きるので、互いに隣接するワード線WL同士に対してス
トレスを確実に印加できる。
(2) Stress can be easily applied between the word lines WL as compared with the stress applying method of activating all the word lines WLm at once. For example, the word line drive signals WD0 to WD3 are sequentially activated in each operation cycle, and a total of 64 word lines WL are selected out of 256 word lines WLm per cycle. By doing so, the unselected word lines WL adjacent to each of the activated word lines WL can be deactivated, so that stress can be reliably applied to the mutually adjacent word lines WL.

【0075】(3)複数のビット線対BLm,/BLm
のすべてを同時に選択して書き込み動作を行なうことに
より、各ビット線対BLm,/BLmや各メモリセル1
3、さらには各センスアンプ162に対してストレスの
印加が極めて短時間に行なえる。
(3) Plural bit line pairs BLm and / BLm
Of the bit lines BLm and / BLm and each memory cell 1
Third, stress can be applied to each sense amplifier 162 in a very short time.

【0076】なお、本実施形態に示したように、外部ア
ドレスに関係なく256対のビット線対BLm,/BL
mのすべてを一括して選択するのが好ましいが、書き込
み系回路の能力等を考慮して、必ずしも、すべてのビッ
ト線対BLm,/BLmを同時に選択しなくてもよい。
As shown in this embodiment, 256 pairs of bit lines BLm and / BL
It is preferable to select all m at once, but it is not always necessary to select all the bit line pairs BLm and / BLm at the same time in consideration of the capability of the write circuit and the like.

【0077】(4)遅延制御回路26、書き込み制御パ
ルス幅切り換え回路27及び書き込み動作時センスアン
プディセーブル制御回路28を設けることにより、テス
トモード時における複数のビット線対BLm,/BLm
に対する読み出し動作及び書き込み動作を安定して行な
うことができる。
(4) By providing the delay control circuit 26, the write control pulse width switching circuit 27, and the write operation sense amplifier disable control circuit 28, a plurality of bit line pairs BLm and / BLm in the test mode are provided.
Read operation and write operation can be performed stably.

【0078】まず、遅延制御回路26は、センスアンプ
駆動信号SEにおけるテスト動作時の第2の遅延量T2
を通常モード時の第1の遅延量T1よりも大きくするこ
とにより、通常モード時よりも多くの時間を要する複数
のワード線WLの立ち上がり動作と、これに続くセンス
アンプ162の活性動作及び各メモリセル13から各ビ
ット線対BLm,/BLmへのデータ読み出し動作とに
対してそれぞれの動作マージンを確保できるため、各セ
ンスアンプ162の増幅動作を安定させることができ
る。
First, the delay control circuit 26 sets the second delay amount T2 during the test operation for the sense amplifier drive signal SE.
Is made larger than the first delay amount T1 in the normal mode, the rising operation of the plurality of word lines WL, which requires more time than in the normal mode, the activation operation of the sense amplifier 162 and each memory Since an operation margin can be secured for the data read operation from the cell 13 to each bit line pair BLm, / BLm, the amplification operation of each sense amplifier 162 can be stabilized.

【0079】また、書き込みパルス幅切り換え制御回路
27は、テスト動作時の書き込み制御パルスWRUNの
活性期間T4を通常モード時の活性期間T2よりも長く
することによって、複数のビット線対BLm,/BLm
に対して安定な書き込み動作を保証できる。
The write pulse width switching control circuit 27 sets the active period T4 of the write control pulse WRUN during the test operation to be longer than the active period T2 during the normal mode, so that the plurality of bit line pairs BLm and / BLm
, A stable write operation can be guaranteed.

【0080】さらに、書き込み動作時センスアンプディ
セーブル制御回路28は、書き込み時にセンスアンプ1
62とライトアンプ23bとを同時に活性化させる従来
の方法、すなわち、反転書き込み時であってもセンスア
ンプ162により増幅されたビット線対BLm,/BL
mの読み出しデータをライトアンプ23bによって強制
的に書き換える方法と比べ、ライトアンプ23bのサイ
ズを小さくしたり能力を低減させたりしたとしても、短
時間で且つ安定した書き込み動作を行なえるので、高集
積化に有利となる。
Further, at the time of write operation, the sense amplifier disable control circuit 28 controls the sense amplifier 1 during write operation.
62 and the write amplifier 23b are simultaneously activated, that is, the pair of bit lines BLm and / BL amplified by the sense amplifier 162 even during inversion writing.
As compared with the method of forcibly rewriting the read data of m by the write amplifier 23b, even if the size of the write amplifier 23b is reduced or its capability is reduced, the writing operation can be performed in a short time and stably. It is advantageous for conversion.

【0081】このように、本実施形態によると、テスト
モード時には、通常モード時と比べてストレス印加の効
率が大幅に向上するため、バーンイン検査等のストレス
時間を大幅に短縮できる上に、従来の全ワード線一括活
性化等の方法では得られないワード線WL間のリーク系
のスクリーニング、及びセンスアンプ162及びビット
線BL系のスクリーニングが可能となるので、品質の低
下を抑えることができる。
As described above, according to the present embodiment, in the test mode, the efficiency of stress application is greatly improved as compared with that in the normal mode. Screening of a leak system between word lines WL and screening of a sense amplifier 162 and a bit line BL system, which cannot be obtained by a method such as batch activation of all word lines, can be performed, so that deterioration in quality can be suppressed.

【0082】さらに、本実施形態に係るテストモードの
書き込み動作と通常モードの読み出し動作とを組み合わ
せることにより、メモリセルアレイ14のテストを極め
て短時間に行なうこともでき、バーンイン検査等のモニ
ターに利用できるだけでなく、デバイスのウェハー検査
又はパッケージ封止後の検査においても検査時間の短縮
化を図ることができる。
Further, by combining the write operation in the test mode and the read operation in the normal mode according to the present embodiment, the test of the memory cell array 14 can be performed in a very short time, and can be used for monitoring such as burn-in inspection. In addition, the inspection time can be shortened also in the inspection of the device after the wafer inspection or the package sealing.

【0083】(実施形態の第1変形例)以下、本発明の
一実施形態に係る第1変形例について図面を参照しなが
ら説明する。
(First Modification of Embodiment) Hereinafter, a first modification of the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0084】図6は本発明の一実施形態の第1変形例に
係る半導体記憶装置のブロック構成を示している。図6
において、図1に示す構成要素と同一の構成要素には同
一の符号を付すことにより説明を省略し、図1との相違
点のみを説明する。
FIG. 6 shows a block configuration of a semiconductor memory device according to a first modification of the embodiment of the present invention. FIG.
In FIG. 7, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. Only differences from FIG. 1 will be described.

【0085】図1においては、ワード線駆動信号生成回
路22が4系統のワード線駆動信号WD0〜WD3を出
力する構成としたが、本変形例においては、図6に示す
ように、ワード線駆動信号を2系統のWD0,WD1と
している。また、ロウプリデコーダ20は、ロウアドレ
スプリデコード信号XPA0〜XPA7,XPB0〜X
PB7,XPC0,XPC1の18系統の信号を出力す
ることにより、ロウデコーダ18は128通りのロウア
ドレスデコード信号/RD0〜/RD127を生成す
る。
In FIG. 1, the word line drive signal generating circuit 22 outputs four systems of word line drive signals WD0 to WD3. However, in this modification, as shown in FIG. The signals are two systems WD0 and WD1. Further, the row predecoder 20 includes row address predecode signals XPA0 to XPA7, XPB0 to XB0.
By outputting signals of 18 systems of PB7, XPC0, and XPC1, the row decoder 18 generates 128 row address decode signals / RD0 to / RD127.

【0086】具体的には、図7に示すように、本変形例
に係るロウデコーダ18の各単位ロウデコーダ18a
は、3つの入力端子を持つ2つのNANDゲート182
をそれぞれ有している。例えば、複数の単位ロウデコー
ダ18aのうち、ロウアドレスプリデコード信号XPA
0,XPB0及びXPC0を受けるNANDゲート18
2は入力信号の演算結果であるロウアドレスデコード信
号/RD0をワード線ドライバ15における2つの単位
ワード線ドライバ15aに同時に出力する。
More specifically, as shown in FIG. 7, each unit row decoder 18a of the row decoder 18 according to the present modification example
Are two NAND gates 182 having three input terminals
Respectively. For example, among the plurality of unit row decoders 18a, the row address predecode signal XPA
NAND gate 18 receiving 0, XPB0 and XPC0
Numeral 2 outputs a row address decode signal / RD0, which is the result of the operation of the input signal, to two unit word line drivers 15a in the word line driver 15 at the same time.

【0087】このように、一の動作サイクルにおいて、
ワード線WLmが活性化される本数が128本となるの
で、バーンイン検査等のストレス印加時の検査効率がさ
らに向上する。
As described above, in one operation cycle,
Since the number of activated word lines WLm is 128, the inspection efficiency at the time of stress application such as burn-in inspection is further improved.

【0088】(実施形態の第2変形例)以下、本発明の
一実施形態に係る第2変形例について図面を参照しなが
ら説明する。
(Second Modification of Embodiment) Hereinafter, a second modification of the embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0089】図8は本発明の一実施形態の第2変形例に
係る半導体記憶装置のブロック構成を示している。図8
において、図1に示す構成要素と同一の構成要素には同
一の符号を付すことにより説明を省略し、図1との相違
点のみを説明する。図8に示すように、ロウプリデコー
ダ20に内部ロウアドレス信号AX0〜AX7のうちの
AX0,AX1の2ビットデータを出力する内部アドレ
ス生成手段としての2ビットカウンタ31と、複数ワー
ド線立ち上げテストモード切り換え信号AWLに基づい
て2ビットカウンタ31の出力信号とアドレスバッファ
21が出力する2ビットデータAX0及びAX1とを選
択して出力するセレクタ32とが設けられている。
FIG. 8 shows a block configuration of a semiconductor memory device according to a second modification of the embodiment of the present invention. FIG.
In FIG. 7, the same components as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted. Only differences from FIG. 1 will be described. As shown in FIG. 8, a 2-bit counter 31 as internal address generating means for outputting 2-bit data of AX0 and AX1 of the internal row address signals AX0 to AX7 to the row predecoder 20 and a multiple word line rise test A selector 32 is provided for selecting and outputting the output signal of the 2-bit counter 31 and the 2-bit data AX0 and AX1 output from the address buffer 21 based on the mode switching signal AWL.

【0090】ここで、2ビットカウンタ31は、複数の
ワード線WLを同時に活性化するテストモード時には、
2ビットカウンタ31の出力値が内部アドレスとして用
いられる。これにより、2ビットカウンタ31からの2
ビットデータAX0及びAX1を受けるワード線駆動信
号生成回路22は、ワード線駆動信号WD0〜WD3の
うちの1つのワード線駆動信号が選択され、256本の
ワード線WLmのうちの64本のワード線WLが同時に
活性化される。
Here, 2-bit counter 31 operates in a test mode in which a plurality of word lines WL are simultaneously activated.
The output value of the 2-bit counter 31 is used as an internal address. Thereby, 2 from the 2-bit counter 31
The word line drive signal generation circuit 22 receiving the bit data AX0 and AX1 selects one of the word line drive signals WD0 to WD3 and 64 word lines out of the 256 word lines WLm. WL is activated at the same time.

【0091】このように、本変形例によると、テストモ
ード時には、2ビットカウンタ31から内部アドレスが
出力されると共に、ロウデコーダ18にすべてハイレベ
ルのロウアドレスプリプリデコード信号XPA0〜XP
A7,XPB0〜XPB7が入力されるため、外部から
のアドレス信号A0〜A7はロウアドレス及びカラムア
ドレスの両方が不要となる。その結果、バーンイン検査
等のストレステスト時における外部からの制御ピンを削
減できるため、測定系装置の簡略化を図ることができ
る。
As described above, according to the present modification, in the test mode, the internal address is output from the 2-bit counter 31 and the high-level row address pre-predecode signals XPA0 to XPA are all supplied to the row decoder 18.
Since A7 and XPB0 to XPB7 are input, the external address signals A0 to A7 do not need both the row address and the column address. As a result, the number of control pins from the outside during a stress test such as a burn-in test can be reduced, so that the measurement system can be simplified.

【0092】なお、2ビットカウンタ31は、通常のD
RAM装置におけるリフレッシュ動作等に用いるような
ロウアドレスのすべてを循環させる8ビットカウンタと
し、LSB側の2ビットをワード線駆動信号WD0〜W
D3の選択に割り当てる構成としてもよい。
Note that the 2-bit counter 31 has a normal D
An 8-bit counter for circulating all of the row addresses used for a refresh operation or the like in the RAM device, and the two bits on the LSB side are used as word line drive signals WD0 to WD0.
It is good also as a structure allocated to selection of D3.

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明に係る半導体記憶装置によると、
検査モード時にワード線駆動回路が多数のワード線に対
して所定本数おきに且つ一の動作サイクルで複数のワー
ド線を駆動できるように選択するワード線選択手段を備
えているため、該検査モード時に駆動される複数のワー
ド線のそれぞれに隣接するワード線は駆動されることが
ない。これにより、選択されたワード線と選択されない
ワード線との間には、通常動作時と同様のストレスが印
加されることになる。また、書き込みサイクル又は読み
出しサイクルの1サイクルで複数のワード線を選択する
ため、全ワード線に対してスクリーニングを行なう時間
を短縮できる。その上、検査用ビット線選択手段が、多
数のビット線対のうちの複数のビット線対を一の動作サ
イクルで選択するため、ビット線同士及びセンスアンプ
に対するストレス印加をも短時間で行なえるようにな
る。従って、バーンイン検査等のストレス時間を大幅に
短縮しながら通常動作時並みのストレスを印加できるた
め、半導体記憶装置の検査効率を向上できる。
According to the semiconductor memory device of the present invention,
In the test mode, the word line driving circuit includes word line selecting means for selecting a plurality of word lines at predetermined intervals and driving a plurality of word lines in one operation cycle. Word lines adjacent to each of the plurality of driven word lines are not driven. As a result, the same stress as in the normal operation is applied between the selected word line and the unselected word line. Further, since a plurality of word lines are selected in one cycle of a write cycle or a read cycle, the time required for screening all word lines can be reduced. In addition, since the inspection bit line selecting means selects a plurality of bit line pairs among a large number of bit line pairs in one operation cycle, it is possible to apply stress to the bit lines and to the sense amplifier in a short time. Become like Therefore, stress similar to that during normal operation can be applied while significantly shortening the stress time for the burn-in test and the like, so that the test efficiency of the semiconductor memory device can be improved.

【0094】本発明の半導体記憶装置が、検査用ワード
線選択手段により選択されたワード線が活性化されるタ
イミングと検査用ビット線選択手段により選択されたビ
ット線対が活性化されるタイミングとの間に遅延を設け
るための検査用遅延時間を生成する検査用遅延時間生成
手段をさらに備え、検査用遅延時間生成手段は、検査用
遅延時間を、ワード線駆動回路により選択されたワード
線が活性化されるタイミングと列選択回路により選択さ
れたビット線対が活性化されるタイミングとの間に遅延
を設けるための通常用遅延時間よりも長くなるように設
定すると、通常動作と比べて多くの時間を要する複数の
ワード線の立ち上がり動作とセンスアンプ及びメモリセ
ルからビット線対へのデータ読み出し動作との間に十分
な動作マージンを確保できるため、読み出し動作が安定
する。
In the semiconductor memory device of the present invention, the timing at which the word line selected by the test word line selecting means is activated and the timing at which the bit line pair selected by the test bit line selecting means is activated are determined. And a test delay time generating means for generating a test delay time for providing a delay between the test time and the test delay time generating means. If it is set to be longer than the normal delay time for providing a delay between the timing of activation and the timing of the activation of the bit line pair selected by the column selection circuit, the number of operations is increased as compared with the normal operation. Sufficient operation margin is required between the rising operation of multiple word lines, which requires time, and the operation of reading data from sense amplifiers and memory cells to bit line pairs. Since it coercive, the read operation stabilizes.

【0095】本発明の半導体記憶装置は、書き込み動作
時にセンスアンプ回路の増幅動作を禁止するセンスアン
プ増幅禁止手段をさらに備えていると、書き込み動作時
に、センスアンプの増幅動作が禁止されるため、例え
ば、センスアンプを活性化させながら、データ書き込み
用のライトアンプを動作させる場合と比べて、該ライト
アンプの駆動能力を小さくしても、書き込み時間が大き
く低下しないので、レイアウト上有利となる。
If the semiconductor memory device of the present invention further comprises sense amplifier amplification inhibiting means for inhibiting the amplification operation of the sense amplifier circuit during the write operation, the amplification operation of the sense amplifier is inhibited during the write operation. For example, as compared with a case where a write amplifier for data writing is operated while a sense amplifier is activated, even if the driving capability of the write amplifier is reduced, the writing time does not greatly decrease, which is advantageous in layout.

【0096】本発明の半導体記憶装置は、列選択回路に
書き込み用のデータを入力させるか否かを制御する書き
込み制御パルスを出力する書き込み制御手段をさらに備
え、書き込み制御手段は、検査モード時における書き込
み制御パルスのパルス幅が通常モード時における書き込
み制御パルスのパルス幅よりも大きくなるように書き込
み制御パルスのパルス幅を設定すると、検査モード時の
書き込み制御パルスの活性期間が通常動作時よりも長く
なるため、複数のビット線対に対する書き込み動作がさ
らに安定する。
The semiconductor memory device of the present invention further comprises write control means for outputting a write control pulse for controlling whether or not to input write data to the column selection circuit. When the pulse width of the write control pulse is set so that the pulse width of the write control pulse is larger than the pulse width of the write control pulse in the normal mode, the active period of the write control pulse in the test mode is longer than in the normal operation. Therefore, the write operation on the plurality of bit line pairs is further stabilized.

【0097】本発明の半導体記憶装置は、検査モード制
御信号を受け、行アドレス信号を内部で生成する内部ア
ドレス生成手段をさらに備えていると、検査モード時
に、外部アドレス信号が不要となるため、外部制御端子
を削減でき、その結果、測定の容易化及び装置の簡略化
を図ることができる。
If the semiconductor memory device of the present invention further comprises an internal address generating means for receiving a test mode control signal and internally generating a row address signal, no external address signal is required in the test mode. The number of external control terminals can be reduced, and as a result, measurement can be facilitated and the device can be simplified.

【0098】本発明の半導体記憶装置において、内部ア
ドレス生成手段が、検査モード時に、外部からの行アド
レス信号に代えて内部で生成された行アドレス信号を、
多数のワード線のうち、所定本数おきに選択されるワー
ド線が順次交替するように出力すると、ストレス印加テ
スト時における外部制御ピンを削減できるため、測定系
装置の簡略化を図ることができる。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the internal address generating means outputs the internally generated row address signal instead of the externally applied row address signal in the test mode.
When the word lines selected every predetermined number out of a large number of word lines are alternately output, the number of external control pins during the stress application test can be reduced, so that the measurement system can be simplified.

【0099】本発明に係る第1の半導体記憶装置の検査
方法によると、検査モード時には、検査モード時に駆動
される複数のワード線のそれぞれに隣接するワード線が
駆動されないため、選択されたワード線と選択されない
ワード線との間には、通常動作時と同様のストレスが印
加される。さらに、書き込みサイクル又は読み出しサイ
クルの1サイクルで複数のワード線を選択するため、全
ワード線に対してスクリーニングを行なう時間を短縮で
きるので、検査の効率を向上できる。
According to the first semiconductor memory device testing method of the present invention, in the test mode, the word lines adjacent to each of the plurality of word lines driven in the test mode are not driven. The same stress as in normal operation is applied between the word line and the unselected word line. Furthermore, since a plurality of word lines are selected in one cycle of a write cycle or a read cycle, the time for performing screening for all word lines can be reduced, so that the efficiency of inspection can be improved.

【0100】本発明に係る第2の半導体記憶装置の検査
方法によると、第1の半導体記憶装置の検査方法と同様
の効果を得られる上に、第1の状態の検査モードでデー
タの書き込み動作を行なった後、第2の状態の通常モー
ドでデータの読み出しを行なうため、センスアンプ回路
等の周辺回路をも同時にスクリーニングできる。
According to the second method for inspecting a semiconductor memory device of the present invention, the same effect as that of the first method for inspecting a semiconductor memory device can be obtained. After that, the data is read in the normal mode in the second state, so that peripheral circuits such as the sense amplifier circuit can be simultaneously screened.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置のワ
ード線ドライバ及びロウデコーダを示す回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a word line driver and a row decoder of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置のメ
モリセルアレイ、センスアンプ列、カラムデコーダ及び
リード・ライトアンプを示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a memory cell array, a sense amplifier array, a column decoder, and a read / write amplifier of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置の通
常の書き込み動作を示すタイミング図である。
FIG. 4 is a timing chart showing a normal write operation of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一実施形態に係る半導体記憶装置のテ
スト動作を示すタイミング図である。
FIG. 5 is a timing chart showing a test operation of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一実施形態の第1変形例に係る半導体
記憶装置を示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to a first modification of one embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一実施形態の第1変形例に係る半導体
記憶装置のワード線ドライバ及びロウデコーダを示す回
路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing a word line driver and a row decoder of a semiconductor memory device according to a first modification of the embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一実施形態の第2変形例に係る半導体
記憶装置を示すブロック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a semiconductor memory device according to a second modification of the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

WL ワード線 BL ビット線 /BLm ビット相補線 13 メモリセル 14 メモリセルアレイ 15 ワード線ドライバ(ワード線駆動回路) 15a 単位ワード線ドライバ 151 第1のインバータ 152 第2のインバータ 16 センスアンプ列 161 センスアンプ駆動回路 162 センスアンプ 163 ビット線プリチャージ回路 17 カラムデコーダ及びセレクタ(検査用ビット
線選択手段) 17a ANDゲート 18 ロウデコーダ 18a 単位ロウデコーダ 181 NANDゲート 182 NANDゲート 19 複数ワード線立ち上げ用制御回路(検査用ワ
ード線選択手段) 20 ロウプリデコーダ 21 アドレスバッファ 22 ワード線駆動信号生成回路 23 リード・ライトアンプ 23a リードアンプ 23b ライトアンプ 24 カラムアドレスバッファ及びカラムプリデコ
ーダ 25 タイミング発生回路 26 遅延制御回路 261 第1の遅延回路 262 第2の遅延回路(検査用遅延時間生成手段) 263 第1のセレクタ 27 書き込み制御パルス幅切り換え回路(書き込
み制御手段) 271 第3の遅延回路 272 第4の遅延回路 273 第2のセレクタ 28 書き込み動作時センスアンプディセーブル制
御回路(センスアンプ増幅禁止手段) 29 I/Oバッファ回路 31 2ビットカウンタ(内部アドレス生成手段) 32 セレクタ AWL 複数ワード線立ち上げテストモード切り換え
信号(検査モード制御信号) /RAS ロウアドレスストローブ信号 /CAS カラムアドレスストローブ /WE 書き込みイネーブル信号 OE 出力イネーブル信号 A0〜A7 ロウアドレス信号 A0〜A7 カラムアドレス信号 AX0〜AX7 内部ロウアドレス信号 XPA0−7 ロウアドレスプリデコード信
号 XPB0−7 ロウアドレスプリデコード信
号 XPC0,1 ロウアドレスプリデコード信
号 /RD0〜/RD63 ロウアドレスデコード信号 /RD0〜/RD127 ロウアドレスデコード信号 WD ワード線駆動タイミング制御
信号 WEN 内部書き込みイネーブル信号 WRUN 書き込み制御パルス SE センスアンプ駆動信号
WL word line BL bit line / BLm complementary bit line 13 memory cell 14 memory cell array 15 word line driver (word line drive circuit) 15a unit word line driver 151 first inverter 152 second inverter 16 sense amplifier train 161 sense amplifier drive Circuit 162 Sense amplifier 163 Bit line precharge circuit 17 Column decoder and selector (inspection bit line selecting means) 17a AND gate 18 Row decoder 18a Unit row decoder 181 NAND gate 182 NAND gate 19 Control circuit for starting multiple word lines (inspection Word line selecting means) 20 row predecoder 21 address buffer 22 word line drive signal generation circuit 23 read / write amplifier 23a read amplifier 23b write amplifier 24 column Dress buffer and column predecoder 25 Timing generation circuit 26 Delay control circuit 261 First delay circuit 262 Second delay circuit (test delay time generation means) 263 First selector 27 Write control pulse width switching circuit (Write control means) 271 Third delay circuit 272 Fourth delay circuit 273 Second selector 28 Sense amplifier disable control circuit during write operation (Sense amplifier amplification inhibiting means) 29 I / O buffer circuit 31 2-bit counter (Internal address generating means) 32 selector AWL Multiple word line rise test mode switching signal (test mode control signal) / RAS row address strobe signal / CAS column address strobe / WE write enable signal OE output enable signal A0-A7 row address Signals A0 to A7 Column address signals AX0 to AX7 Internal row address signals XPA0-7 Row address predecode signals XPB0-7 Row address predecode signals XPC0,1 Row address predecode signals / RD0 / RD63 Row address decode signals / RD0 / RD127 Row address decode signal WD Word line drive timing control signal WEN Internal write enable signal WRUN Write control pulse SE Sense amplifier drive signal

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに交差する多数のワード線及び多数
のビット線対と、 前記多数のワード線と前記多数のビット線対との各交差
部に行列状に設けられた多数のメモリセルからなるメモ
リセルアレイと、 行アドレス信号を受け、受けた行アドレス信号に基づい
て前記多数のワード線を選択的に駆動するワード線駆動
回路と、 前記多数のビット線対ごとに設けられ、各ビット線対の
電位差を増幅するセンスアンプ回路と、 列アドレス信号を受け、受けた列アドレス信号に基づい
て前記多数のビット線対のうちのいずれかを選択し、外
部とのデータの入出力を行なう列選択回路と、 検査モード制御信号を受け、前記ワード線駆動回路が前
記多数のワード線に対して所定本数おきに且つ一の動作
サイクルで複数のワード線を駆動できるように選択する
検査用ワード線選択手段と、 前記検査モード制御信号を受け、前記多数のビット線対
のうちの複数のビット線対を一の動作サイクルで選択
し、選択した複数のビット線対に対してデータの入出力
を行なう検査用ビット線選択手段とを備えていることを
特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of pairs of word lines and a plurality of bit lines intersecting each other; and a plurality of memory cells provided in a matrix at each intersection of the plurality of word lines and the plurality of bit line pairs. A memory cell array, a word line driving circuit that receives a row address signal and selectively drives the plurality of word lines based on the received row address signal; and a bit line pair provided for each of the plurality of bit line pairs. A sense amplifier circuit for amplifying a potential difference between the plurality of bit line pairs, receiving a column address signal, selecting one of the plurality of bit line pairs based on the received column address signal, and inputting / outputting data to / from the outside. Receiving a test mode control signal and selecting the word line drive circuit so that the word line drive circuit can drive a plurality of word lines at predetermined intervals and in one operation cycle for the plurality of word lines. Receiving the inspection mode control signal, selecting a plurality of bit line pairs of the plurality of bit line pairs in one operation cycle, and selecting the selected plurality of bit line pairs. A semiconductor memory device comprising: a test bit line selecting means for inputting / outputting data.
【請求項2】 前記検査用ワード線選択手段により選択
されたワード線が活性化されるタイミングと前記検査用
ビット線選択手段により選択されたビット線対が活性化
されるタイミングとの間に遅延を設けるための検査用遅
延時間を生成する検査用遅延時間生成手段をさらに備
え、 前記検査用遅延時間生成手段は、前記検査用遅延時間
を、前記ワード線駆動回路により選択されたワード線が
活性化されるタイミングと前記列選択回路により選択さ
れたビット線対が活性化されるタイミングとの間に遅延
を設けるための通常用遅延時間よりも長くなるように設
定することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装
置。
2. A delay between a timing when a word line selected by the test word line selecting means is activated and a timing when a bit line pair selected by the test bit line selecting means is activated. And a test delay time generating means for generating a test delay time for providing the test delay time, wherein the test delay time generating means activates the test delay time by a word line selected by the word line drive circuit. A delay time between the activation timing and the activation timing of the bit line pair selected by the column selection circuit is set to be longer than a normal delay time for providing a delay. 2. The semiconductor memory device according to 1.
【請求項3】 書き込み動作時に前記センスアンプ回路
の増幅動作サイクルを禁止するセンスアンプ増幅禁止手
段をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載
の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising sense amplifier amplification inhibiting means for inhibiting an amplification operation cycle of said sense amplifier circuit during a write operation.
【請求項4】 前記列選択回路に書き込み用のデータを
入力させるか否かを制御する書き込み制御パルスを出力
する書き込み制御手段をさらに備え、 前記書き込み制御手段は、検査モード時における前記書
き込み制御パルスのパルス幅が通常モード時における前
記書き込み制御パルスのパルス幅よりも大きくなるよう
に前記書き込み制御パルスのパルス幅を設定することを
特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置。
4. A write control unit for outputting a write control pulse for controlling whether or not to input write data to the column selection circuit, wherein the write control unit is configured to perform the write control pulse in a test mode. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the pulse width of the write control pulse is set so that the pulse width of the write control pulse is larger than the pulse width of the write control pulse in the normal mode.
【請求項5】 前記検査モード制御信号を受け、行アド
レス信号を内部で生成する内部アドレス生成手段をさら
に備えていることを特徴とする請求項1に記載の半導体
記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an internal address generating means for receiving the test mode control signal and internally generating a row address signal.
【請求項6】 前記内部アドレス生成手段は、検査モー
ド時に、外部からの行アドレス信号に代えて内部で生成
された行アドレス信号を、前記多数のワード線のうち、
前記所定本数おきに選択されるワード線が順次交替する
ように出力することを特徴とする請求項5に記載の半導
体記憶装置。
6. The internal address generating means, in a test mode, outputs a row address signal generated internally instead of an external row address signal among the plurality of word lines.
6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the output is performed such that the word lines selected every predetermined number are sequentially changed.
【請求項7】 前記検査モード制御信号を受ける外部端
子をさらに備えていることを特徴とする請求項1〜6の
いずれか1項に記載の半導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an external terminal receiving said test mode control signal.
【請求項8】 互いに交差する多数のワード線及び多数
のビット線対と、前記多数のワード線と前記多数のビッ
ト線対との各交差部に行列状に設けられた多数のメモリ
セルからなるメモリセルアレイとを備えた半導体記憶装
置の検査方法であって、 検査モード時に、前記多数のワード線のうち所定本数お
きに且つ一の動作サイクルで選択される複数のワード線
が順次交替するように前記ワード線を駆動することを特
徴とする半導体記憶装置の検査方法。
8. A large number of word lines and a large number of bit line pairs intersecting each other, and a large number of memory cells provided in a matrix at each intersection of the large number of word lines and the large number of bit lines. A test method for a semiconductor memory device including a memory cell array, wherein in a test mode, a plurality of word lines selected in a predetermined number of ones of the plurality of word lines and in one operation cycle are sequentially replaced. A method for testing a semiconductor memory device, wherein the word line is driven.
【請求項9】 互いに交差する多数のワード線及び多数
のビット線対と、前記多数のワード線と前記多数のビッ
ト線対との各交差部に行列状に設けられた多数のメモリ
セルからなるメモリセルアレイと、行アドレス信号を受
け、受けた行アドレス信号に基づいて前記多数のワード
線を選択的に駆動するワード線駆動回路と、前記多数の
ビット線対ごとに設けられ、各ビット線対の電位差を増
幅するセンスアンプ回路と、列アドレス信号を受け、受
けた列アドレス信号に基づいて前記多数のビット線対の
うちのいずれかを選択し、外部とのデータの入出力を行
なう列選択回路と、検査モード制御信号を受け、前記ワ
ード線駆動回路が前記多数のワード線に対して所定本数
おきに且つ一の動作サイクルで複数のワード線を駆動で
きるように選択する検査用ワード線選択手段と、前記検
査モード制御信号を受け、前記多数のビット線対のうち
の複数のビット線対を一の動作サイクルで選択し、選択
した複数のビット線対に対してデータの入出力を行なう
検査用ビット線選択手段とを備えた半導体記憶装置の検
査方法であって、 前記検査モード制御信号が第1の状態の場合に、前記検
査用ワード線選択手段を用いて前記多数のワード線に対
して所定本数おきに且つ一の動作サイクルで複数のワー
ド線を選択する第1の工程と、 前記第1の状態の場合に、前記検査用ビット線選択手段
を用いて前記多数のビット線対のうちの複数のビット線
対を一の動作サイクルで選択し、選択した複数のビット
線対を通じて前記メモリセルにデータを書き込む第2の
工程と、 前記検査モード制御信号が第2の状態の場合に、前記列
選択回路を用いて前記多数のビット線対のうちのいずれ
かを選択する第3の工程と、 前記第2の状態の場合に、選択された前記ビット線対の
電位差を前記センスアンプ回路を用いて増幅することに
より書き込まれたデータを読み出す第4の工程とを備え
ていることを特徴とする半導体記憶装置の検査方法。
9. A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs crossing each other, and a plurality of memory cells provided in a matrix at each intersection of the plurality of word lines and the plurality of bit line pairs. A memory cell array, a word line driving circuit that receives a row address signal and selectively drives the plurality of word lines based on the received row address signal; and a plurality of bit line pairs provided for each of the plurality of bit line pairs. A sense amplifier circuit for amplifying the potential difference between the bit line pair and a column selecting signal receiving and receiving a column address signal, selecting one of the plurality of bit line pairs based on the received column address signal, and inputting / outputting data to / from the outside. Receiving a circuit and a test mode control signal, selecting the word line drive circuit so as to be able to drive a plurality of word lines at predetermined intervals and in one operation cycle for the plurality of word lines. Receiving a test word line selecting means, receiving the test mode control signal, selecting a plurality of bit line pairs among the plurality of bit line pairs in one operation cycle, and setting data to the selected plurality of bit line pairs. A test bit line selecting means for performing input / output of the semiconductor memory device, wherein when the test mode control signal is in a first state, the test word line selecting means is used. A first step of selecting a plurality of word lines at predetermined intervals for a large number of word lines and in one operation cycle; and in the case of the first state, using the inspection bit line selecting means. A second step of selecting a plurality of bit line pairs of the plurality of bit line pairs in one operation cycle and writing data to the memory cell through the selected plurality of bit line pairs; and Two A third step of selecting one of the plurality of bit line pairs using the column selection circuit in the state, and a potential difference of the selected bit line pair in the second state. Reading out the written data by amplifying the data by using the sense amplifier circuit.
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JP2002230998A (en) * 2001-02-01 2002-08-16 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
CN117592129A (en) * 2024-01-19 2024-02-23 湖北工业大学 High-reliability modeling-resistant double-layer APUF circuit structure based on feedforward circuit

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