JP2000171956A - Method for deciding and correcting processing state of photosensitive material - Google Patents
Method for deciding and correcting processing state of photosensitive materialInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感光材料の処理状
態の判定方法及び補正方法に係り、特にハロゲン化銀写
真感光材料等の感光材料の処理液及び処理条件の状態を
判定する感光材料の処理状態の判定方法、及び判定方法
の判定結果に基づいて処理液及び処理条件を補正する感
光材料の処理状態の補正方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for determining and correcting a processing state of a light-sensitive material, and more particularly to a method for determining a processing solution and a processing condition of a light-sensitive material such as a silver halide photographic light-sensitive material. The present invention relates to a method for determining a processing state, and a method for correcting a processing state of a photosensitive material, which corrects a processing solution and processing conditions based on a determination result of the determination method.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理は、通常、潜像を持つ露光粒
子を現像液によって選択的に還元(現像)する現像処
理、未露光粒子を定着液によって溶解除去する定着処
理、及び定着処理に続く水洗と乾燥との処理で構成され
る。現像液を例にとると、現像液成分は現像主薬、保恒
剤、現像抑制剤等多岐に渡っており、これらが処理条件
によって相互に関連しながら複雑に変化するので、ハロ
ゲン化銀写真感光材料の処理液及び処理条件の状態を把
握するための分析項目、すなわち特性値は、多岐に渡っ
ている。2. Description of the Related Art Generally, a silver halide photographic light-sensitive material is processed by selectively reducing (developing) exposed particles having a latent image with a developing solution, and removing unexposed particles. It comprises a fixing process for dissolving and removing with a fixing solution, and a process of washing and drying following the fixing process. Taking a developer as an example, the components of the developer are diverse, such as a developing agent, a preservative, and a development inhibitor, and these vary in a complicated manner in relation to each other depending on processing conditions. The analysis items for grasping the state of the processing solution and the processing conditions of the material, that is, the characteristic values, are various.
【0003】従来、市場の処理液の状態が写真品質上問
題がないか否かを判定するためには主に液成分分析値に
より、感光材料処理液の新液における組成との差から経
験的に判断していた。その際、液成分相互の関係だけで
なく、処理機の種類や処理条件との相関も含めて判断す
べきであるが、分析値を基本にして定性的に判断するケ
ースが多く、処理液の診断のように多次元の分析値から
1つの判定結果を導き出すのは困難であった。Heretofore, in order to determine whether or not the state of a processing solution in the market has a problem in photographic quality, it is necessary to empirically determine the condition of a processing solution of a photosensitive material from a difference between the composition of a new processing solution and a processing solution of a photosensitive material mainly based on an analysis of the liquid component. Was determined to. At this time, the determination should be made not only by the relationship between the liquid components but also by the correlation with the type of processing equipment and processing conditions.However, in many cases, the determination is made qualitatively based on the analysis value. It is difficult to derive one judgment result from a multidimensional analysis value as in diagnosis.
【0004】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたもので、マハラノビスの距離を利用することによっ
て多次元の分析値から感光材料の処理液及び処理条件の
少なくとも一方の状態を容易に判定することができる感
光材料の処理状態の判定方法、及びこの判定方法で判定
された判定結果に基づいて、処理液及び処理条件の少な
くとも一方の状態を補正する感光材料の処理状態の補正
方法を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and at least one of the processing solution and processing conditions of a photosensitive material can be easily determined from a multidimensional analysis value by using the Mahalanobis distance. A method for determining the processing state of a photosensitive material, and a method for correcting the processing state of a photosensitive material that corrects at least one of the processing solution and the processing condition based on the determination result determined by the determination method The purpose is to do.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1の発明は、写真品質上問題のない正常状態の
ハロゲン化銀感光材料の処理液の特性値、または正常状
態のハロゲン化銀感光材料の処理液及び処理条件各々の
特性値に基づいて基準空間を作成し、前記基準空間に基
づいてマハラノビスの距離を演算し、演算したマハラノ
ビスの距離に基づいて前記処理液及び前記処理条件の少
なくとも一方の状態を判定するものである。In order to achieve the above object, the present invention is directed to a method of processing a silver halide light-sensitive material in a normal state, which has no problem in photographic quality, or a halogen in a normal state. A reference space is created based on the characteristic values of the processing solution and the processing conditions of the silver photosensitive material, a Mahalanobis distance is calculated based on the reference space, and the processing solution and the processing conditions are calculated based on the calculated Mahalanobis distance. At least one of the states is determined.
【0006】請求項2の発明は、感光材料を処理する処
理液、または感光材料を処理する処理液及び感光材料の
処理条件各々について、k(ただし、kはk≧2の整
数)種類の特性値をn(ただし、aを1以上の正の数と
すると、nはn≧ak)組検出し、状態判定を行う時点
で検出したk種類の特性値Yi,j (ただし、iは特性値
の数でi=1,2,3,・・・,k、jは特性値の組数
でj=1,2,3,・・・,n)の組み合わせについ
て、以下の式で表されるマハラノビスの距離を演算し、
演算したマハラノビスの距離の大きさに基づいて前記処
理液及び前記処理条件の少なくとも一方の状態を判定す
るものである。According to a second aspect of the present invention, for each of the processing solution for processing the photosensitive material, or the processing solution for processing the photosensitive material and the processing conditions of the photosensitive material, k (where k is an integer of k ≧ 2) kinds of characteristics are provided. If the value is n (where a is a positive number of 1 or more, n is n ≧ ak), k kinds of characteristic values Y i, j (where i is the characteristic) The number of values is i = 1, 2, 3,..., K, j is the number of sets of characteristic values, and j = 1, 2, 3,. Calculate the distance of Mahalanobis
The state of at least one of the processing liquid and the processing conditions is determined based on the calculated magnitude of the Mahalanobis distance.
【0007】[0007]
【数3】 (Equation 3)
【0008】ただし、apqは、番号jの組のk個の基準
化特性値yi 間のp番目の基準化特性値yp とq番目の
基準化特性値yq との相関係数rp,q (ただし、p、q
=1,2,3,・・・,k)を成分とする相関行列Rの
逆行列R-1の成分で、かつ正常状態のk種n組の前記処
理液及び前記処理条件の特性値に基づいて作成された基
準空間を示す値であり、前記番号jの組の規格化特性値
yi,j は番号iの特性値の平均値mi 及び番号iの特性
値の標準偏差σi を用いて以下の式で表される。[0008] However, a pq is the correlation coefficient between the p-th standardized characteristic value y p and q th normalized characteristic value y q among the set of k scaled characteristic values y i of number j r p, q (however, p, q
= 1, 2, 3,..., K) as the components of the inverse matrix R −1 of the correlation matrix R, and the characteristic values of the n types of the processing liquids and the processing conditions in the normal state. is a value indicating a reference space created based, the number j of the set of standardized characteristic value y i, j is the standard deviation sigma i characteristic value of the average value m i and the number i of the characteristic value of number i And is represented by the following equation.
【0009】[0009]
【数4】 yi,j =(Yi,j −mi )/σi ただし、mi =(Yi,1 +Yi,2 +・・・+Yi,n )/n σi 2 =[(Yi,1 −mi )2 +(Yi,2 −mi )2 + ・・・+Yi,n −mi )2 ]/(n−1) なお、相関行列R及び相関行列Rの逆行列R-1は、以下
のように表され、上記(1)式で表されるマハラノビス
の距離は、相関行列R、または相関行列Rの逆行列
R-1、またはこれらの行列の成分を用いて演算すること
ができる。Y i, j = (Y i, j −m i ) / σ i where m i = (Y i, 1 + Y i, 2 +... + Y i, n ) / n σ i 2 = [(Y i, 1 -m i ) 2 + (Y i, 2 -m i) 2 + ··· + Y i, n -m i) 2] / (n-1) Here, the correlation matrix R and the correlation matrix The inverse matrix R −1 of R is expressed as follows, and the Mahalanobis distance represented by the above equation (1) is the correlation matrix R, or the inverse matrix R −1 of the correlation matrix R, or the matrix of these matrices. It can be calculated using the components.
【0010】[0010]
【数5】 (Equation 5)
【0011】請求項2の発明は、請求項1の発明の基準
空間として正常状態のk種n組の記処理液及び処理条件
の特性値に基づいて演算された相関行列、または相関行
列の逆行列、またはこれらの行列の成分を用いるもので
あり、相関行列、または相関行列の逆行列、またはこれ
らの行列の成分を用いて上記(1)式で表されるマハラ
ノビスの距離を演算し、演算したマハラノビスの距離の
大きさから処理液及び処理条件の少なくとも一方の状態
を判定するものである。According to a second aspect of the present invention, as a reference space of the first aspect of the present invention, a correlation matrix or an inverse of the correlation matrix calculated based on the characteristic values of k kinds and n sets of processing solutions and processing conditions in a normal state. Matrix or the components of these matrices are used, and the Mahalanobis distance represented by the above equation (1) is calculated using the correlation matrix, the inverse matrix of the correlation matrix, or the components of these matrices, and the calculation is performed. The state of at least one of the processing liquid and the processing conditions is determined from the magnitude of the Mahalanobis distance.
【0012】ここで、上記各発明において、正常状態と
は、写真性他で問題のない処理液及び処理条件の状態を
いう。Here, in each of the above-mentioned inventions, the normal state refers to a state of a processing solution and processing conditions having no problem in photographic properties and the like.
【0013】マハラノビスの距離は、多次元解析の手法
の1つであり、多くの変数(項目または特性値)が複雑
に相互作用している場合の評価に有効であると言われて
おり、本発明者等の研究によれば、ハロゲン化銀感光材
料処理液等の感光材料を処理する処理液及び処理条件の
少なくとも一方の状態判定にも有効であることが確認さ
れた。The Mahalanobis distance is one of the techniques for multidimensional analysis, and is said to be effective for evaluation when many variables (items or characteristic values) interact in a complex manner. According to the study by the inventors, it has been confirmed that the method is also effective for judging the state of at least one of a processing solution for processing a photosensitive material such as a silver halide photosensitive material processing solution and processing conditions.
【0014】上記各発明によれば、マハラノビスの距離
を利用しているため、多次元の分析値から感光材料の処
理液及び処理条件の少なくとも一方の状態を容易に判定
することできる。従って、処理液及び処理条件の少なく
とも一方の状態の悪化度合いを定量化することができ、
処理液及び処理条件の少なくとも一方の状態を悪化させ
ている要因を抽出して、最適な対応策に絞り込んで速や
かな対策を行うことができる。According to each of the above-mentioned inventions, since the Mahalanobis distance is used, at least one of the processing solution and the processing condition of the photosensitive material can be easily determined from the multidimensional analysis values. Therefore, the degree of deterioration of at least one of the processing solution and the processing conditions can be quantified,
It is possible to extract a factor that deteriorates at least one of the processing liquid and the processing condition, narrow down to an optimal countermeasure, and take a quick countermeasure.
【0015】なお、請求項2の発明において、k及びn
の少なくとも一方の値を可変にし、任意の値を設定でき
るようにするのが好ましい。In the invention of claim 2, k and n
It is preferable that at least one of the values is made variable so that an arbitrary value can be set.
【0016】また、請求項2の発明のnは、処理状態判
定対象のユーザの数とすることができ、これによってユ
ーザ毎の処理液及び処理条件の少なくとも一方の状態を
判定するとができる。また、nは、時系列でサンプリン
グしたときのサンプリング回数とすることができ、これ
によって少なくとも1つのユーザの処理液及び処理条件
の少なくとも一方の状態を時系列で判定することができ
ると共に、処理液及び処理条件の少なくとも一方の状態
の悪化度合いを時系列データから予測して処理液及び処
理条件を正常状態に保持し、写真の仕上がりを安定化す
ることができる。Further, n in the second aspect of the present invention can be the number of users whose processing state is to be determined, whereby the state of at least one of the processing liquid and the processing condition for each user can be determined. Further, n can be the number of times of sampling in time series, whereby the state of at least one of the processing liquid and the processing condition of at least one user can be determined in time series, and the processing liquid can be determined. Further, the degree of deterioration of at least one of the processing conditions is predicted from the time-series data, and the processing liquid and the processing conditions are maintained in a normal state, so that the finish of the photograph can be stabilized.
【0017】また、予め検出したn組の特性値に、新た
に検出したm(ただし、mはm≧1の整数)組の特性値
を加えてマハラノビスの距離を演算することにより、相
関行列R、または相関行列Rの逆行列R-1、またはこれ
らの行列の成分で表される基準空間が更新されるため、
新液状態から疲労によって組成及び物性が変化した正常
状態の処理液についても、適正な基準空間を設定するこ
とができ、処理液状態の判定を正確に行うことができ
る。Further, by adding the newly detected m (where m is an integer greater than or equal to 1) characteristic value set to the previously detected n characteristic values and calculating the Mahalanobis distance, the correlation matrix R , Or the inverse matrix R −1 of the correlation matrix R, or the reference space represented by the components of these matrices is updated,
An appropriate reference space can also be set for a processing liquid in a normal state in which the composition and physical properties have changed due to fatigue from the new liquid state, and the state of the processing liquid can be accurately determined.
【0018】基準空間を更新する際に、新たに検出した
特性値の組を加えることにより、特性値の組が(n+
m)組に達した場合には少なくとの1つの特性値、例え
ば、時系列で最も古い特性値の組を削除してマハラノビ
スの距離を演算すれば、特性値を記憶する記憶手段の記
憶容量を小さくすることができる。なお、削除する特性
値の組は任意の組でよい。When updating the reference space, by adding a newly detected set of characteristic values, the set of characteristic values becomes (n +
m) When the set is reached, at least one characteristic value, for example, by deleting the oldest set of characteristic values in the time series and calculating the Mahalanobis distance, the storage capacity of the storage means for storing the characteristic values Can be reduced. Note that the set of characteristic values to be deleted may be any set.
【0019】請求項7の発明は、上記各発明において、
前記基準空間を作成するための正常状態の特性値に、前
記処理液の初期状態の特性値を含ませたものである。According to a seventh aspect of the present invention, in each of the above inventions,
The characteristic values in the normal state for creating the reference space include the characteristic values in the initial state of the treatment liquid.
【0020】処理液は調液時(新液時)においては全て
同じ組成及び物性であるが、小規模現像所及び大規模現
像所等の市場の処理液は、感光材料の処理によりある程
度劣化しており、製版感光材料の場合は新液状態での処
理液そのものでの存在確率は低くなっている。このた
め、市場の正常状態の処理液の特性値、すなわち新液状
態での処理液の存在確率が低くなっている処理液の特性
値に基づいて新液のマハラノビスの距離を算出すると、
正常状態であるにもかかわらず新液のマハラノビスの距
離が非常に大きくなってしまうことがある。Processing solutions have the same composition and physical properties at the time of preparation (when a new solution is used). However, processing solutions on the market such as small-scale developing laboratories and large-scale developing laboratories deteriorate to some extent due to the processing of photosensitive materials. Therefore, in the case of a plate-making photosensitive material, the existence probability of the processing liquid itself in a new liquid state is low. For this reason, when calculating the Mahalanobis distance of the new liquid based on the characteristic value of the processing liquid in a normal state in the market, that is, the characteristic value of the processing liquid in which the existence probability of the processing liquid in the new liquid state is low,
The distance of Mahalanobis of the new liquid may be very large even in the normal state.
【0021】そこで、請求項7の発明は、実用状問題の
ない正常状態の感光材料の処理液の特性値と、感光材料
の処理液の新液の特性値、すなわち処理液の初期状態の
特性値と用いて基準空間を作成するものである。Accordingly, the invention of claim 7 provides a characteristic value of a processing solution of a photosensitive material in a normal state which has no practical problem, and a characteristic value of a new solution of a processing solution of a photosensitive material, that is, characteristics of an initial state of the processing solution. A reference space is created using the values.
【0022】請求項7の発明では、実用上問題のない正
常状態の感光材料の処理液の特性値に、感光材料処理液
の新液の特性値を加えて基準空間を作成するため、新液
のマハラノビスの距離は略1となり、マハラノビスの距
離は新液の状態も包含する新たな正常状態を基準として
疲労度に応じて変化するようになる。このため、新液を
含めて全ての処理液の状態を判定することができる。According to the seventh aspect of the present invention, the reference space is created by adding the characteristic value of the new processing solution of the photosensitive material to the characteristic value of the processing solution of the photosensitive material in a normal state where there is no practical problem. The distance of Mahalanobis becomes substantially 1, and the distance of Mahalanobis changes according to the degree of fatigue based on a new normal state including the state of the new liquid. Therefore, the states of all the processing liquids including the new liquid can be determined.
【0023】感光材料処理液が製版用感材の現像液の場
合には、特性値として、少なくとも、現像液のpH、現
像液の比重、現像液中の現像主薬の量、現像液中の亜硫
酸塩の量、及び製版用感材の処理量を用いるのが好まし
い。When the processing solution of the photosensitive material is a developer for a photographic material for plate making, the characteristic values include at least the pH of the developer, the specific gravity of the developer, the amount of the developing agent in the developer, and the sulfurous acid in the developer. It is preferable to use the amount of salt and the processing amount of the photosensitive material for plate making.
【0024】感光材料の処理液が製版用感材の定着液の
場合には、特性値として、少なくとも定着液のpH、定
着液中のチオ硫酸塩の量、及び定着液中の亜硫酸塩の量
を用いるのが好ましい。When the processing solution for the photographic material is a fixer for a photographic material for plate making, the characteristic values include at least the pH of the fixer, the amount of thiosulfate in the fixer, and the amount of sulfite in the fixer. It is preferable to use
【0025】上記の感光材料の処理状態の判定方法で
は、各々の特性値について、各特性値が存在する場合の
マハラノビスの距離と各特性値が存在しない場合のマハ
ラノビスの距離との比較結果に基づいて前記処理液及び
前記処理条件の少なくとも一方の状態を判定することが
できる。具体的には、特性値が存在する場合のマハラノ
ビスの距離とこの特性値が存在しない場合のマハラノビ
スの距離とを各特性値毎にプロットした要因効果図を用
いることにより、目視により処理液及び処理条件の少な
くとも一方の状態を判定すると効果的である。In the above-described method for determining the processing state of the photosensitive material, the distance between the Mahalanobis when each characteristic value exists and the Mahalanobis distance when each characteristic value does not exist is determined for each characteristic value. Thus, the state of at least one of the processing liquid and the processing conditions can be determined. Specifically, by using a factorial effect diagram in which the Mahalanobis distance when the characteristic value is present and the Mahalanobis distance when the characteristic value is not present are plotted for each characteristic value, the processing liquid and the processing liquid are visually observed. It is effective to determine at least one of the conditions.
【0026】要因効果図は、ユーザ毎に作成することに
より、ユーザに適した対応策を絞り込むことができる。By creating a factor-effect diagram for each user, it is possible to narrow down countermeasures suitable for the user.
【0027】また、請求項11の発明は、上記の感光材
料の処理状態の判定方法によって判定された判定結果に
基づいて、処理液及び処理条件の少なくとも一方の状態
を補正するものである。本発明によれば、上記のように
正確に判定された状態を悪化させている要因に基づいて
補正を行うため、的確な補正を行うことができる。The invention according to claim 11 corrects at least one of the processing liquid and the processing conditions based on the determination result determined by the above-described method for determining the processing state of the photosensitive material. According to the present invention, since the correction is performed based on the factors that deteriorate the state accurately determined as described above, accurate correction can be performed.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail.
【0029】まず、製版用感材用の現像液について、市
場の現像所の処理液の中で写真特性等で問題のない処理
液を正常と考え、基準空間作成用データとしては、市場
の現像所の液分析値データ(約100件)を特性値とし
て採用して検討した結果について説明する。正常な処理
液の中には、新液も含まれている。First, regarding the developing solution for the photographic material for plate making, a processing solution having no problem in photographic characteristics among processing solutions in a market development laboratory is considered to be normal. A description will be given of the result of an examination using the liquid analysis value data (approximately 100 cases) as a characteristic value. A new processing liquid is also included in the normal processing liquid.
【0030】特性値としては、製版用感材種、プロセッ
サの機種、1ケ月の処理量、1日の稼働時間、1週間の
稼働時間、補充液の希釈比率、補充液の補充量、現像液
のpH、現像液の比重、現像液中の現像主薬の量、現像
液中の亜硫酸塩の量、現像液中のハロゲンの量等を用い
た。The characteristic values include the type of photosensitive material for plate making, the type of processor, the processing amount per month, the operating time per day, the operating time per week, the dilution ratio of the replenisher, the replenishment amount of the replenisher, the developer , The specific gravity of the developer, the amount of the developing agent in the developer, the amount of the sulfite in the developer, the amount of the halogen in the developer, and the like.
【0031】現像液の異常で最も多いのは、最高濃度が
低下する故障であったので、マハラノビスの距離と従来
評価法による見解との関係を表1に、マハラノビスの距
離と実際の写真性(濃度)との対応を調べた結果を表2
に各々示す。The most frequent abnormality in the developing solution was a failure in which the maximum density decreased. Table 1 shows the relationship between the Mahalanobis distance and the opinion obtained by the conventional evaluation method. Table 2 shows the result of examining the correspondence with
Are shown below.
【0032】[0032]
【表1】 [Table 1]
【0033】[0033]
【表2】 [Table 2]
【0034】上記の表2の濃度の急勾配が見られるあた
り(最高濃度5前後)のマハラノビスの距離(約2.
5)と、表1の実際にクレームが出始めるマハラノビス
の距離(約2.5)とがよく一致することが確認でき、
マハラノビスの距離のしきい値としては2.5が最適で
あることが確認できた。The Mahalanobis distance (approximately 2.
It can be confirmed that 5) and Mahalanobis distance (about 2.5) at which a claim actually starts appearing in Table 1 match well,
It was confirmed that the optimum threshold value for the Mahalanobis distance was 2.5.
【0035】次に、上記の知見に基づいて、本発明を具
体的な処理装置に適用した実施の形態について説明す
る。第1の実施の形態は、製版用感材を現像処理するフ
ィルムプロセッサに使用されている現像液、定着液、及
び水洗水の各処理液の状態を判定し、処理液の状態に応
じて処理液を補正する場合に本発明を適用したものであ
る。Next, an embodiment in which the present invention is applied to a specific processing apparatus based on the above findings will be described. In the first embodiment, the state of each of a developing solution, a fixing solution, and washing water used in a film processor for developing a sensitizing material for plate making is determined, and the processing is performed according to the state of the processing solution. The present invention is applied to the case where the liquid is corrected.
【0036】図1に示すように、フィルムプロセッサ1
1は、製版用感材Nを装填する装填部11N0を備えて
いる。この装填部11N0には、画像が露光された製版
用感材Nが装填され、装填された感材Nはプロセッサ部
11N内へ搬送される。As shown in FIG. 1, the film processor 1
1 is provided with a loading section 11N0 for loading the sensitizing material N for plate making. In the loading section 11N0, a plate-making photosensitive material N having an image exposed is loaded, and the loaded photosensitive material N is transported into the processor section 11N.
【0037】プロセッサ部11Nには、現像処理槽11
N1、定着処理槽11N2、水洗槽11N3の各々の処
理槽が順に配置されており、各処理槽内にはそれぞれ順
に現像処理液、定着液、水洗水が貯留されている。ま
た、各処理槽にはローラが設けられ、これらのローラは
各処理槽間及び処理槽内の搬送経路を構成しており、感
材Nは、ローラにより各処理槽を通過するように搬送さ
れ、各処理槽を通過する際に各処理液に浸漬されて処理
される。The processor section 11N includes a developing tank 11
N1, a fixing processing tank 11N2, and a washing tank 11N3 are arranged in this order, and a developing solution, a fixing solution, and washing water are respectively stored in each processing tank in order. Also, rollers are provided in each processing tank, and these rollers constitute a transport path between and within the processing tanks, and the photosensitive material N is transported by the rollers so as to pass through each processing tank. When passing through each processing tank, it is immersed in each processing liquid to be processed.
【0038】また、プロセッサ部11Nに隣接して乾燥
部11N8が配置されている。乾燥部11N8は、感材
Nを鉛直方向に往復搬送して感材Nを乾燥する。そし
て、感材Nは、収容ボックス22N内に収容される。A drying section 11N8 is arranged adjacent to the processor section 11N. The drying unit 11N8 dries the photosensitive material N by reciprocating the photosensitive material N in the vertical direction. Then, the photosensitive material N is stored in the storage box 22N.
【0039】装填部11N0には、環境温度を検出する
環境温度計54、環境湿度を検出する環境湿度計56、
及び赤外線放射部32Nと赤外線検出部34Nとで構成
された感材検出センサが設けられている。赤外線放射部
32Nは複数個の赤外線放射素子を感材Nの搬送方向と
交差する方向(感材Nの幅方向)に配置して構成され、
また、赤外線検出部34Nは各々の赤外線放射素子から
放射された赤外線を各々検出する複数の検出素子を感材
Nの搬送方向Xと交差する方向に配置して構成されてい
る。また、赤外線放射部32Nと赤外線検出部34Nと
の間には、感材Nが通過可能な間隙が設けられている。
感材が通過すると、感材によって赤外線が遮断されるた
め、遮断時間を後述する制御部26によってカウントす
ることにより、感材の処理量、すなわち単位時間(例え
ば、1日)当たりに処理した感材量を検出することがで
きる。The loading section 11N0 includes an environmental thermometer 54 for detecting an environmental temperature, an environmental hygrometer 56 for detecting an environmental humidity,
And a light-sensitive material detection sensor constituted by an infrared radiation section 32N and an infrared detection section 34N. The infrared radiating section 32N is configured by arranging a plurality of infrared radiating elements in a direction (width direction of the light sensitive material N) intersecting with the conveying direction of the light sensitive material N,
The infrared detecting section 34N is configured by arranging a plurality of detecting elements for detecting infrared rays radiated from the respective infrared radiating elements in a direction intersecting the transport direction X of the photosensitive material N. In addition, a gap through which the photosensitive material N can pass is provided between the infrared radiation section 32N and the infrared detection section 34N.
When the light-sensitive material passes, the infrared light is blocked by the light-sensitive material. Therefore, the cutoff time is counted by the control unit 26 described later, so that the processing amount of the light-sensitive material, that is, the light processed per unit time (for example, one day). The amount of material can be detected.
【0040】装填部11N0の上部には液晶表示装置で
構成された表示パネル24が設けられ、乾燥後感材が通
過する通過部11N9内には感材Nに残留する銀量を検
出する赤外線センサユニット120が設けられている。A display panel 24 composed of a liquid crystal display device is provided above the loading section 11N0. An infrared sensor for detecting the amount of silver remaining in the photosensitive material N is provided in a passage section 11N9 through which the photosensitive material passes after drying. A unit 120 is provided.
【0041】赤外線センサユニット120は、赤外線放
射ダイオードと赤外線放射ダイオードに対向して配置さ
れたホトダイオードとで構成され、残留する銀量によっ
て感材Nを透過した赤外線の透過量が異なることを利用
して、ホトダイオード出力から感材に残留する銀量に応
じた信号を出力する。後述する制御部26は、赤外線セ
ンサユニット120の出力に基づいて感材の残留銀量を
検出し、感材に塗布された既知の銀量から残留銀量を減
算することにより、定着液中に溶解された銀量を検出す
る。The infrared sensor unit 120 is composed of an infrared emitting diode and a photodiode arranged opposite to the infrared emitting diode. The infrared sensor unit 120 utilizes the fact that the amount of infrared light transmitted through the photosensitive material N differs depending on the amount of residual silver. Thus, a signal corresponding to the amount of silver remaining on the photosensitive material is output from the photodiode output. The control unit 26, which will be described later, detects the amount of residual silver of the photosensitive material based on the output of the infrared sensor unit 120, and subtracts the amount of residual silver from the known amount of silver applied to the photosensitive material, thereby obtaining the residual silver in the fixing solution. The amount of dissolved silver is detected.
【0042】上記各処理槽11N1〜11N3は略同一
の構成であるため、現像処理槽11N1について説明
し、他の処理槽11N2,11N3についてはその説明
を省略する。Since each of the processing tanks 11N1 to 11N3 has substantially the same configuration, only the developing tank 11N1 will be described, and the description of the other processing tanks 11N2 and 11N3 will be omitted.
【0043】現像処理槽11N1は、図2に示すよう
に、現像液を貯留する処理タンク11M、処理タンク1
1Mと連通されたサブタンク11MS、サブタンク11
MS内に補充する補充液を貯留する補充タンク44M、
及びサブタンク11MS内に補充する水を貯留する水補
充タンク45Mを備えている。As shown in FIG. 2, the developing tank 11N1 includes a processing tank 11M for storing a developing solution and a processing tank 1N.
Subtank 11MS, subtank 11 communicated with 1M
A replenishment tank 44M for storing a replenisher to be replenished in the MS,
And a water replenishment tank 45M for storing water to be replenished in the sub tank 11MS.
【0044】サブタンク11MSは、補充ノズル42及
び補充ポンプ44Nを介して、補充液が補充されるよう
に補充タンク44Mに接続されると共に、補充ノズル4
2及び補充ポンプ48Lを介して水が補充されるように
水補充タンク45Mに接続されている。The sub-tank 11MS is connected to a replenishing tank 44M via a replenishing nozzle 42 and a replenishing pump 44N so that the replenishing solution is replenished.
2 and is connected to a water replenishing tank 45M so that water is replenished via the replenishing pump 48L.
【0045】補充タンク44Mには、補充タンク44M
の補充液のレベルを検出する超音波レベル計46Nが設
けられている。水補充タンク45Mに接続された水供給
配管には補充ポンプ48Lを介して供給した水の量を検
出する水流量計48Nが設けられている。The replenishment tank 44M includes a replenishment tank 44M.
An ultrasonic level meter 46N for detecting the level of the replenisher is provided. The water supply pipe connected to the water replenishment tank 45M is provided with a water flow meter 48N for detecting the amount of water supplied via the replenishment pump 48L.
【0046】また、サブタンク11MSには、サブタン
ク11MS内の現像液の温度を検出する温度センサ40
N、現像液のpHを検出するpHセンサ38N、現像液
の比重を検出する比重計36N、及び現像液のレベルを
検出するレベル検出器34が設けられている。なお、3
2は、不要な現像液を廃液としてオーバーフローさせる
ための搬出口である。この廃液は、図示しない廃液タン
クに貯留される。The sub-tank 11MS has a temperature sensor 40 for detecting the temperature of the developer in the sub-tank 11MS.
N, a pH sensor 38N for detecting the pH of the developer, a hydrometer 36N for detecting the specific gravity of the developer, and a level detector 34 for detecting the level of the developer. In addition, 3
Reference numeral 2 denotes a carry-out port for causing unnecessary developer to overflow as waste liquid. This waste liquid is stored in a waste liquid tank (not shown).
【0047】また、現像処理槽11N1には、処理タン
ク11M及びサブタンク11MS内に貯留された現像液
を破線で示した処理タンク11Mからサブタンク11M
S方向に循環する循環装置30が設けられている。この
循環装置30は、循環ポンプ30N1、冷却ファン30
N2、ヒーター30N3、循環流量計51、フィルター
取付棒30N5、及び循環フィルター30N4から構成
されている。この循環装置30により、現像液の温度が
設定温度(感材Nを適性に処理するための温度(例え
ば、35〔℃〕))となるようにフィードバック制御に
より温調される。The developing solution stored in the processing tank 11M and the sub-tank 11MS is supplied to the developing processing tank 11N1 from the processing tank 11M indicated by a broken line to the sub-tank 11M.
A circulation device 30 that circulates in the S direction is provided. The circulation device 30 includes a circulation pump 30N1, a cooling fan 30
N2, heater 30N3, circulating flow meter 51, filter mounting rod 30N5, and circulating filter 30N4. The temperature of the developer is controlled by the circulating device 30 by feedback control so that the temperature of the developer becomes a set temperature (a temperature (for example, 35 ° C.) for appropriately processing the photosensitive material N).
【0048】循環フィルター30N4から循環ポンプ3
0N1の入口までの配管には、コイル式の電気導電率計
50が設けられている。なお、電気導電率計としては、
複数の電極間に電圧を印加して電気伝導度を測定する電
気伝導度計を用いてもよい。From the circulation filter 30N4 to the circulation pump 3
A coil-type electric conductivity meter 50 is provided in the pipe to the inlet of 0N1. In addition, as an electric conductivity meter,
An electric conductivity meter that measures electric conductivity by applying a voltage between a plurality of electrodes may be used.
【0049】比重計36Nは、超音波が現像液中の所定
距離D2 を伝搬するのに要する時間を求め、求めた時間
及び距離D2 から現像液を超音波が伝搬する伝搬速度を
算出し、伝搬速度に比例した出力値〔mV〕を出力す
る。後述する制御部26には、感材Nの処理量に対応し
て定められた比重と出力値との関係を示すマップが記憶
されており、制御部26は、感材Nの処理量に応じてマ
ップを選択し、選択したマップと検出された伝搬速度に
比例した出力値〔mV〕とに基づいて比重を演算する。The hydrometer 36N determines the time required for the ultrasonic wave to propagate through a predetermined distance D 2 in the developer, and calculates the propagation speed of the ultrasonic wave through the developer from the determined time and the distance D 2. And outputs an output value [mV] proportional to the propagation speed. The control unit 26 described later stores a map indicating the relationship between the specific gravity and the output value determined corresponding to the processing amount of the photosensitive material N. Then, a specific gravity is calculated based on the selected map and an output value [mV] proportional to the detected propagation speed.
【0050】フィルムプロセッサ11には、制御部26
が設けられている。制御部26は、図3に示すように、
CPU26N1、RAM26N2、ROM26N3、及
びこれらを相互に接続するバスBを備えている。バスB
には、フィルムプロセッサ11の固有データファイルを
記憶したメモリ26N4、情報センサ群26N5、フィ
ルムプロセッサ11の運転状態等を各処理槽毎に記憶し
た記憶装置26N6、及び感材Nの現像処理に必要な各
種制御を行うフィルムプロセッサ11のプロセッサ部2
6N7が接続されている。The film processor 11 includes a control unit 26
Is provided. The control unit 26, as shown in FIG.
A CPU 26N1, a RAM 26N2, a ROM 26N3, and a bus B for interconnecting these are provided. Bus B
The memory 26N4 in which the unique data file of the film processor 11 is stored, the information sensor group 26N5, the storage device 26N6 in which the operation state of the film processor 11 is stored for each processing tank, and the necessary processing for developing the photosensitive material N Processor section 2 of film processor 11 for performing various controls
6N7 is connected.
【0051】固有データファイルとしては、処理機デー
タファイル、補充系データファイル、スクイズ系データ
ファイル、蒸発補正データファイル、処理感材データフ
ァイル、処理液諸性能データファイル、処理液熱特性デ
ータファイル、処理液空気酸化データファイル、部品故
障データファイル及び仕上がり特性データファイルがあ
る。なお、これらのデータファイルの各データを全て使
用してもよいが、必ずしも各データの全てを必要とする
ものではない。Specific data files include a processor data file, a replenishment data file, a squeeze data file, an evaporation correction data file, a processing sensitive material data file, a processing liquid performance data file, a processing liquid heat characteristic data file, and a processing liquid data file. There are a liquid air oxidation data file, a component failure data file, and a finish characteristic data file. Note that all of the data in these data files may be used, but not all of the data is required.
【0052】なお、プロセッサ部26N7は、処理液に
補充液及び水を補充する補充部(各処理槽の補充ポンプ
44Nや補充ポンプ48L)、処理液を温調制御する温
調部(各処理槽の循環装置30)、固有のデーファイル
のデータやフィルムプロセッサ11の運転状態のデータ
以外のデータを記憶する記憶部、及び処理液の状態等を
表示する表示部(表示パネル24)等である。The processor section 26N7 includes a replenishing section (a replenishing pump 44N and a replenishing pump 48L for each processing tank) for replenishing the processing liquid with a replenishing solution and water, and a temperature adjusting section (each processing tank) for controlling the temperature of the processing liquid. Circulating device 30), a storage unit for storing data other than the data of the unique data file and the data of the operating state of the film processor 11, and a display unit (display panel 24) for displaying the state of the processing liquid.
【0053】情報センサ群26N5には、図1、図2に
示した、環境温度を検出する環境温度計54、環境湿度
を検出する環境湿度計56、処理液の温度を検出する温
度センサ、pHを検出するpHセンサ、処理液の比重を
検出する比重計、及び処理液のレベルを検出するレベル
検出器、感材Nに残留する銀量を検出する赤外線センサ
ユニット120、赤外線放射部32N、各処理槽に設け
られている補充ポンプの回転量を検出する図示しないポ
ンプ回転センサ、各処理液の循環量を測定する循環流量
計51、各処理槽への加水量を測定する補充流量計48
N等がまれる。The information sensor group 26N5 includes an environmental thermometer 54 for detecting the environmental temperature, an environmental humidity meter 56 for detecting the environmental humidity, a temperature sensor for detecting the temperature of the processing solution, and a pH sensor as shown in FIGS. PH sensor, a specific gravity meter for detecting the specific gravity of the processing solution, a level detector for detecting the level of the processing solution, an infrared sensor unit 120 for detecting the amount of silver remaining in the photosensitive material N, and an infrared radiating section 32N. A pump rotation sensor (not shown) for detecting the amount of rotation of a replenishing pump provided in the processing tank, a circulating flow meter 51 for measuring the amount of circulation of each processing solution, and a replenishing flow meter 48 for measuring the amount of water added to each processing tank.
N and so on.
【0054】なお、これら全ての情報センサを使用して
もよいが、必ずしも全ての情報センサを必要とするもの
ではなく、必要に応じて1以上の情報センサを省略して
もよく、必要な処理槽へ必要な情報センサを更に取り付
けるようにしてもよい。また、後述する手動で計測する
特性値のデータを情報センサによって自動計測するよう
に構成してもよい。Although all of these information sensors may be used, not all of the information sensors are required, and one or more information sensors may be omitted as necessary. A necessary information sensor may be further attached to the tank. Further, a configuration may be adopted in which data of a characteristic value that is manually measured, which will be described later, is automatically measured by an information sensor.
【0055】記憶装置26N6には、各運転状態の時
間、及び運転状態における環境温度、湿度、処理液温度
等の情報が記憶される。ここで、運転状態には、停止状
態、スタンバイ状態、ドライブ状態がある。スタンバイ
状態は、フィルムプロセッサに電源が投入され、処理液
の温調制御が行われている状態で、感材Nが処理されて
いない状態である。この状態では、各循環ポンプが動作
し、温調されているため、各処理液の温度が高く熱劣化
や空気酸化が進行し易い状態になってる。ドライブ状態
は、スタンバイ状態に加えて、乾燥ヒーターと乾燥ファ
ンが動作し、感材Nが現像、定着、水洗処理されている
状態、及びこの状態に等しい状態である。この状態で
は、各処理液は乾燥風の影響を受けて蒸発し易い状態に
なっている。実際に感材Nが処理され、感材Nの処理量
が所定値に到達すると感材Nの種類に応じた量の補充液
が補充され、これにより、オーバーフローにより廃液が
排出されたり、感材Nの搬送により処理液のキャリーオ
ーバーが発生する。The storage device 26N6 stores information such as the time of each operation state and the environmental temperature, humidity, processing liquid temperature and the like in the operation state. Here, the operation state includes a stop state, a standby state, and a drive state. The standby state is a state in which power is supplied to the film processor, the temperature of the processing liquid is controlled, and the photosensitive material N is not processed. In this state, since each circulation pump is operated and the temperature is adjusted, the temperature of each processing liquid is high, so that thermal deterioration and air oxidation easily proceed. The drive state is, in addition to the standby state, a state in which the drying heater and the drying fan are operated, and the photosensitive material N is being developed, fixed, and washed, and a state equivalent to this state. In this state, each processing liquid is in a state where it is likely to evaporate under the influence of the drying air. When the photosensitive material N is actually processed and the processing amount of the photosensitive material N reaches a predetermined value, a replenisher of an amount corresponding to the type of the photosensitive material N is replenished. Carryover of the processing liquid occurs due to the transport of N.
【0056】そして、停止状態は、運転休止日や夜間等
の状態で、温調が停止し、処理液温度が低下している状
態である。この状態では処理液は最も劣化しにくい状態
になっている。The stop state is a state in which the temperature control is stopped and the temperature of the processing liquid is lowered on a day when the operation is stopped or at night. In this state, the processing liquid is in a state that is hardly deteriorated.
【0057】また、記憶装置26N6には、感材Nの処
理量、処理時間、処理履歴、感材Nの露光量(画像濃度
データによりフィードバックさせる)、感材Nの種類、
補充液補充の動作履歴(補充量、補充時間)等の情報が
記憶されている。なお、記憶装置26N6のデータは、
各処理槽毎に記憶されている。記憶装置26N6には、
これらの情報の全てを記憶して使用してもよいが、これ
らの情報全ての記憶または使用を必要とするものではな
い。In the storage device 26N6, the processing amount of the photosensitive material N, the processing time, the processing history, the exposure amount of the photosensitive material N (feedback by image density data), the type of the photosensitive material N,
Information such as a replenisher replenishment operation history (replenishment amount and replenishment time) is stored. The data in the storage device 26N6 is
It is stored for each processing tank. In the storage device 26N6,
All of this information may be stored and used, but it is not necessary to store or use all of this information.
【0058】また、制御部26のバスBには、通信制御
装置26N9及び双方向通信回線を介して、処理液の状
態を診断すると共に処理液が異常の場合にはプロセッサ
部26N7を制御して処理液を補正するコンピュータで
構成された診断・補正装置HOが接続されている。The bus B of the control unit 26 diagnoses the state of the processing liquid via the communication control unit 26N9 and the bidirectional communication line, and controls the processor unit 26N7 when the processing liquid is abnormal. A diagnosis / correction device HO composed of a computer for correcting the processing liquid is connected.
【0059】この診断・補正装置HOは、フィルムプロ
セッサの外部に設けられているが、フィルムプロセッサ
内に組み込むようにしてもよい。The diagnosis / correction device HO is provided outside the film processor, but may be incorporated in the film processor.
【0060】この診断・補正装置HOには、現像液用基
準空間のデータベース、及び定着液用基準空間のデータ
ベースの2つのデータベースを記憶した基準空間データ
ベースHO1、及び情報センサ群26N5によっては検
出するこができない、現像主薬の量、亜硫酸塩の量、ハ
ロゲンの量等を手動で計測したデータを入力するための
データ入力装置HO2、及び正常度や異常度を表示する
表示装置HO3が接続されている。The diagnostic / correction device HO detects the data by a reference space database HO1 storing two databases, that is, a database of a developer reference space and a database of a fixer reference space, and the information sensor group 26N5. A data input device HO2 for inputting manually measured data of the amount of the developing agent, the amount of the sulfite, the amount of the halogen, and the like, and a display device HO3 for displaying the degree of normality or abnormality are connected. .
【0061】以下、本実施の形態の診断・補正装置にお
ける処理ルーチンを図4を参照して説明する。ステップ
100では、正常状態の特性値データを使用して、現像
液用基準空間のデータベース、及び定着液用基準空間の
データベースの2つのデータベースを別々に作成し、ス
テップ102においてデータベースを基準空間データベ
ースH01に設定する。なお、データベースは、現像
液、及び定着液について1つ作成し、基準空間データベ
ースH01に設定するようにしてもよい。Hereinafter, a processing routine in the diagnosis / correction apparatus according to the present embodiment will be described with reference to FIG. In step 100, the database of the developer reference space and the database of the fixer reference space are separately created using the characteristic value data in the normal state. In step 102, the databases are created as the reference space database H01. Set to. One database may be created for the developer and the fixer, and the database may be set in the reference space database H01.
【0062】ステップ104では、データ入力装置HO
2から指示されたデータに基づいて診断及び補正対象液
を判断し、診断及び補正対象液が現像液の場合にはステ
ップ106で現像液の診断及び補正処理を行い、診断及
び補正対象液が定着液の場合にはステップ108で定着
液の診断及び補正処理を行う。In step 104, the data input device HO
The liquid to be diagnosed and corrected is determined based on the data designated from step 2, and if the liquid to be diagnosed and corrected is a developer, the diagnosis and correction processing of the developer is performed in step 106, and the liquid to be diagnosed and corrected is fixed. In the case of the liquid, the fixing liquid is diagnosed and corrected in step 108.
【0063】上記の基準空間データベースの作成につい
て詳細に説明する。感材を処理する処理液(現像液、及
び定着液のいずれか)について、k(ただし、kはk≧
2の整数)種類の特性値をn組(ただし、nはn≧1の
整数)検出する。The creation of the reference space database will be described in detail. For a processing solution (either a developing solution or a fixing solution) for processing a photosensitive material, k (where k is k ≧ k)
N sets of (2 integers) types of characteristic values are detected (where n is an integer satisfying n ≧ 1).
【0064】現像液の特性値としては、月当たりの処理
量(m2 /月)、プロセッサの機種、1日当たりの稼働
時間(時間/日)、pH、比重、単位現像液中の現像主
薬(ハイドロキノン、アスコルビン酸等)の量(g/
l)、単位現像液中の亜硫酸塩(Na2 SO3 )の量
(g/l)、単位現像液中の化合物A(5−メチルベン
ゾトリアゾール)の量(g/l)、単位現像液中の化合
物B(エリソルビン酸ナトリウム)の量(g/l)、単
位現像液中のハロゲン(KBr)の量(g/l)、その
他の特性値を使用することができる。最低限必要な特性
値は、pH、比重、現像主薬の量、亜硫酸塩の量、及び
製版用感材の処理量であり、これらの特性値を使用する
ことにより、実用的に問題のない診断及び補正を行うこ
とができる。As the characteristic values of the developer, the processing amount per month (m 2 / month), the type of the processor, the operating time per day (hours / day), the pH, the specific gravity, the developer in the unit developer ( Hydroquinone, ascorbic acid, etc.) (g /
l), amount of sulfite (Na 2 SO 3 ) in unit developer (g / l), amount of compound A (5-methylbenzotriazole) in unit developer (g / l), unit developer The amount (g / l) of compound B (sodium erythorbate), the amount (g / l) of halogen (KBr) in a unit developer, and other characteristic values can be used. The minimum required characteristic values are pH, specific gravity, the amount of developing agent, the amount of sulfite, and the processing amount of the sensitizing material for plate making. And correction can be performed.
【0065】定着液の特性値データとしては、月当たり
の処理量(m2 /月)、プロセッサの機種、1日当たり
の稼働時間(時間/日)、pH、比重、単位定着液中の
亜硫酸塩(Na2 SO4 )の量(g/l)、単位定着液
中のチオ硫酸塩((NH4 ) 2 S2 O4 )の量(ml/
l)、単位定着液中のAgの量(g/l)、ハイドロキ
ノン(HQ)の量(g/l)、その他の特性値を使用す
ることができる。最低限必要な特性値は、pH、亜硫酸
塩の量、及びチオ硫酸塩の量である。As the characteristic value data of the fixing solution,
Processing amount (mTwo/ Month), processor model, per day
Operating time (hour / day), pH, specific gravity, unit fixer
Sulfite (NaTwoSOFour) Amount (g / l), unit fixer
Thiosulfate ((NHFour) TwoSTwoOFour) Volume (ml /
l), amount of Ag in unit fixing solution (g / l),
Use non-HQ amount (g / l) and other characteristic values
Can be The minimum required characteristic values are pH,
The amount of salt and the amount of thiosulfate.
【0066】なお、特性値を求める現像液及び定着液と
しては、液剤、固形剤のどちらから所定量水希釈して調
液したものでもよい。The developing solution and the fixing solution for obtaining the characteristic values may be prepared by diluting a predetermined amount of water from either a liquid agent or a solid agent.
【0067】検出した特性値Yi,j (ただし、iは特性
値の数でi=1,2,3,・・・,k、jは特性値の組
数でj=1,2,3,・・・,n)を以下のよう規格化
し、規格化特性値yi,j を演算する。The detected characteristic values Y i, j (where i is the number of characteristic values, i = 1, 2, 3,..., K, j is the number of pairs of characteristic values and j = 1, 2, 3, 3 ,..., N) are normalized as follows, and a normalized characteristic value y i, j is calculated.
【0068】yi,j =(Yi,j −mi )/σi ただし、mi は以下の式で表される1つの特性値につい
ての平均値、σi は1つの特性値についての標準偏差で
ある。[0068] y i, j = (Y i , j -m i) / σ i where the average value for one characteristic value m i is represented by the following formula, sigma i is for one characteristic value Standard deviation.
【0069】[0069]
【数6】 mi =(Yi,1 +Yi,2 +・・・+Yi,n )/n σi 2 =[(Yi,1 −mi )2 +(Yi,2 −mi )2 + ・・・+Yi,n −mi )2 ]/(n−1) 次に、組毎のk個の基準化特性値yi 間のp番目の基準
化特性値yp とq番目の基準化特性値yq との相関係数
rp,q (ただし、p、q=1,2,3,・・・,k)を
成分とする相関行列Rのを求め、この相関行列Rから相
関行列の逆行列A(=R-1)を求める。相関行列R及び
相関行列の逆行列Aは以下のように表される。M i = (Y i, 1 + Y i, 2 +... + Y i, n ) / n σ i 2 = [(Y i, 1 −m i ) 2 + (Y i, 2 −m i) 2 + ··· + Y i , n -m i) 2] / (n-1) Next, a p-th standardized characteristic value y p between k number of scaled characteristic values y i of each set A correlation matrix R having a correlation coefficient r p, q (where p, q = 1, 2, 3,..., k) with the q-th normalized characteristic value y q is obtained, and this correlation is obtained. An inverse matrix A (= R −1 ) of the correlation matrix is obtained from the matrix R. The correlation matrix R and the inverse matrix A of the correlation matrix are expressed as follows.
【0070】[0070]
【数7】 (Equation 7)
【0071】この相関行列Rの逆行列Aの成分を基準空
間データベースに各処理液用の基準空間データベースと
して記憶する。また、状態判定を行う時点でのマハラノ
ビスの距離は、相関行列Rの逆行列Aの成分apqを用い
て以下の式によって演算することができる。The components of the inverse matrix A of the correlation matrix R are stored in the reference space database as a reference space database for each processing solution. Further, the Mahalanobis distance at the time of performing the state determination can be calculated by the following equation using the component a pq of the inverse matrix A of the correlation matrix R.
【0072】[0072]
【数8】 (Equation 8)
【0073】製版用感材の現像液について具体的に説明
すると、現像液の特性値データとしては、月当たりの処
理量(m2 /月)、プロセッサの機種、1日当たりの稼
働時間(時間/日)、現像液のpH、現像液の比重、単
位現像液中のHQ(ハイドロキノン)の量(g/l)、
単位現像液中の亜硫酸塩(Na2 SO3 )の量(g/
l)、単位現像液中の化合物A(5−メチルベンゾトリ
アゾール)の量(g/l)、単位現像液中の化合物B
(エリソルビン酸ナトリウム)の量(g/l)、単位現
像液中のKBrの量を特性値として採用した。The developer of the photosensitive material for plate making will be specifically described. As the characteristic value data of the developer, the processing amount per month (m 2 / month), the processor model, and the operating time per day (hour / hour) Days), pH of the developer, specific gravity of the developer, amount of HQ (hydroquinone) in the unit developer (g / l),
The amount of sulfite (Na 2 SO 3 ) (g /
l), the amount of compound A (5-methylbenzotriazole) in the unit developer (g / l), the compound B in the unit developer
The amount (g / l) of (sodium erythorbate) and the amount of KBr in the unit developer were used as characteristic values.
【0074】不必要な特性値を削除するための特性値の
選択を行ったところ、最低限現像液のpH、現像液の比
重、現像液中の現像主薬の量、現像液中の亜硫酸塩の
量、及び製版用感材の処理量が必要であった。しかしな
がら、今後発生し得るいかなるクレームにも対処するた
めに、全項目を対象とした基準空間を基本型にするのが
好ましい。When the characteristic values for eliminating unnecessary characteristic values were selected, at least the pH of the developer, the specific gravity of the developer, the amount of the developing agent in the developer, and the amount of sulfite in the developer were determined. And the amount of the photographic material used for plate making was required. However, in order to address any complaints that may arise in the future, it is preferable to make the reference space for all items a basic type.
【0075】現像液の診断及び補正を行う場合には、情
報センサ群によって自動的に検出できない特性値につい
ては、分析機器を使用して分析し、分析したデータをデ
ータ入力装置HO2から入力する。When diagnosing and correcting the developing solution, characteristic values that cannot be automatically detected by the information sensor group are analyzed using an analyzer, and the analyzed data is input from the data input device HO2.
【0076】図5に基づいて、図4のステップ106の
詳細について説明する。ステップ120では、プロセッ
サの機種、情報センサ群26N5によって検出された製
版用感材の月当たりの処理量、1日当たりの稼働時間、
pH、比重を取り込むと共に、データ入力装置HO2か
ら入力された単位現像液中の現像主薬の量、単位現像液
中の亜硫酸塩の量、単位現像液中の化合物Aの量、単位
現像液中の化合物Bの量、及び現像液中のKBrの量等
を取り込む。Referring to FIG. 5, the details of step 106 of FIG. 4 will be described. In step 120, the model of the processor, the monthly processing amount of the plate making photosensitive material detected by the information sensor group 26N5, the operating time per day,
In addition to taking in the pH and the specific gravity, the amount of the developing agent in the unit developer, the amount of the sulfite in the unit developer, the amount of the compound A in the unit developer, the amount of the compound A in the unit developer input from the data input device HO2, The amount of compound B, the amount of KBr in the developer, and the like are taken in.
【0077】次のステップ122において処理条件及び
液組成からなる特性値の調査及び分析を行う。In the next step 122, the investigation and analysis of the characteristic values composed of the processing conditions and the liquid composition are performed.
【0078】ステップ122では、上記式に従って、マ
ハラノビスの距離を演算しステップ126においてマハ
ラノビスの距離がしきい値(例えば、2.5)以上か否
かを判断する。しきい値未満の場合には、正常と判断し
てステップ128においてマハラノビスの距離を表示装
置HO3に表示し、ステップ130において正常値の組
数mが所定値m0 (例えば、基準空間のデータベースを
作成したときの組数より1大きい値)以上になったか否
かを判断する。m≧m0 の場合にはデータベースを更新
するために、ステップ132で時系列で最も古い組の特
性値のデータを削除し、ステップ134で新たに検出し
た特性値のデータの組を前回現像液用基準空間のデータ
ベース作成に使用した正常状態の特性値データに加え
て、現像液用基準空間のデータベースを更新し、データ
ベースを基準空間データベースH01に設定する。な
お、m<m0 の場合には、特性値のデータの削除及び現
像液用基準空間のデータベースの更新を行うことなく、
ルーチンを終了する。In step 122, the Mahalanobis distance is calculated according to the above equation, and in step 126, it is determined whether or not the Mahalanobis distance is equal to or larger than a threshold value (for example, 2.5). If the threshold value is less than the threshold value, it is determined to be normal, and the distance of Mahalanobis is displayed on the display device HO3 in step 128, and in step 130, the number m of normal values is set to the predetermined value m 0 (for example, the database of the reference space is read). It is determined whether or not the number is greater than the number of sets at the time of creation (one greater value). If m ≧ m 0 , in order to update the database, the data of the characteristic value of the oldest set in the time series is deleted in step 132, and the data set of the newly detected characteristic value is The database of the developer reference space is updated in addition to the characteristic value data in the normal state used to create the database of the reference space for development, and the database is set as the reference space database H01. In the case of m <m 0 , without deleting the data of the characteristic value and updating the database of the developer reference space,
End the routine.
【0079】一方、マハラノビスの距離が所定値以上の
場合には、現像液が異常になったと判断して、ステップ
136において演算したマハラノビスの距離を表示装置
HO3に表示することにより、異常度を表示し、ステッ
プ138において異常になった要因を判定する。On the other hand, if the Mahalanobis distance is equal to or greater than the predetermined value, it is determined that the developing solution has become abnormal, and the Mahalanobis distance calculated in step 136 is displayed on the display device HO3 to indicate the degree of abnormality. Then, in step 138, the cause of the abnormality is determined.
【0080】この要因判定は、各特性値についてマハラ
ノビスの距離を演算し、マハラノビスの距離が大きい特
性値を異常となった要因として判定する。In this factor determination, a Mahalanobis distance is calculated for each characteristic value, and a characteristic value having a large Mahalanobis distance is determined as a cause of abnormality.
【0081】この要因効果図は、横軸に特性値、縦軸に
マハラノビスの距離を採り、各特性値において特性値が
存在する場合のマハラノビスの距離(左側)とこの特性
値が存在しない場合のマハラノビスの距離(右側)とを
各特性値毎にプロットし、プロットした点を各特性値毎
に直線で結んで表示されている。そして、特性値の存在
する場合のマハラノビスの距離が、この特性値が存在し
ない場合のマハラノビスの距離よりも大きく、かつ直線
の長さが長い特性値を要因として判定する。This factor-effect diagram takes the characteristic value on the horizontal axis and the Mahalanobis distance on the vertical axis, and shows the Mahalanobis distance (left) when there is a characteristic value in each characteristic value and the Mahalanobis distance when there is no characteristic value. The Mahalanobis distance (right side) is plotted for each characteristic value, and the plotted points are displayed by connecting a straight line for each characteristic value. The Mahalanobis distance when the characteristic value exists is longer than the Mahalanobis distance when the characteristic value does not exist, and the characteristic value is determined based on the characteristic value having a long straight line.
【0082】次のステップ140では、異常の要因とし
て判定された特性値の要因の組み合わせパターンを判定
し、ステップ142で組み合わせパターンに応じた処理
を表示する。In the next step 140, the combination pattern of the factors of the characteristic value determined as the cause of the abnormality is determined, and in step 142, the processing corresponding to the combination pattern is displayed.
【0083】製版用感材の現像液の特性値のデータ及び
解析対象データの具体例は、表3に示す通りであり、ま
た、現像液の場合の異常要因の組み合わせパターンと処
置の例は以下に示す通りである。また、図6に、比重、
現像主薬の量、及び亜硫酸塩がマハラノビスの距離を大
きくしている要因として効いている場合の、図7に現像
主薬の量、亜硫酸塩の量、及び化合物Bの量がマハラノ
ビスの距離を大きくしている要因として効いている場合
の要因効果図を各々示す。Table 3 shows specific examples of the characteristic value data and the analysis target data of the developing solution of the sensitizing material for plate making. The combination patterns of abnormal factors and examples of treatment in the case of the developing solution are as follows. As shown in FIG. FIG. 6 shows specific gravity,
FIG. 7 shows that the amount of the developing agent, the amount of the sulfite, and the amount of the compound B increase the distance of the Mahalanobis when the amount of the developing agent and the sulfite are effective as factors that increase the distance of the Mahalanobis. Each of the factor-effect diagrams when the factor is effective is shown.
【0084】[0084]
【表3】 [Table 3]
【0085】製版用感材の現像液の場合の要因の組み合
わせパターンと処置の例を以下に示す。 (1)比重が特に異常な場合 濃縮傾向にあると判断し、希釈率設定条件及び実際の希
釈化率を確認し、希釈率が実設定通りになるように或い
はやや大きくなるように希釈率を再設定する。An example of a combination pattern of factors in the case of a developer for a sensitizing material for plate making and an example of treatment are shown below. (1) When the specific gravity is particularly abnormal Judge that there is a tendency to concentrate, confirm the dilution ratio setting conditions and the actual dilution ratio, and adjust the dilution ratio so that the dilution ratio is as set or slightly larger. Reset.
【0086】なお、マハラノビスの距離が4.0を越え
ていれば、応急処置として水を所定量供給して現像液を
希釈する。 (2)現像主薬の量、亜硫酸塩の量、及び化合物Bの量
が異常の場合 空気酸化状態と判断し、補充条件及び実補充量を確認
し、補充量不足であれば、補充量がアップするように補
充量を再設定する。If the Mahalanobis distance exceeds 4.0, a predetermined amount of water is supplied as an emergency measure to dilute the developer. (2) When the amount of developing agent, the amount of sulfite, and the amount of compound B are abnormal Judgment of the air oxidation state, check the replenishment conditions and the actual replenishment amount. Reset the replenishment rate to
【0087】製版用感材の定着液の特性値としては、処
理機の種類、月当たりの処理量(m 2 /月)、1日の稼
働時間(時間/日)、1週間当たりの稼働日数(日/
週)、pH、単位定着液量当たりのチオ硫酸塩((NH
4 )2 S2 O4 )の量(ml/l)、亜硫酸塩(Na2
SO4 )の量(g/l)、Agの量(g/l)、及びH
Qの量(g/l)を用いた。The characteristic value of the fixing solution of the photographic material for plate making is as follows.
Type of science equipment, processing volume per month (m Two/ Month) 1 day earning
Working hours (hours / day), working days per week (days / day)
Week), pH, thiosulfate ((NH
Four)TwoSTwoOFour), Sulfite (Na)Two
SOFour), The amount of Ag (g / l), and H
The amount of Q (g / l) was used.
【0088】製版用感材の定着液の特性値のデータ及び
解析対象データの具体例は、表4に示す通りであり、ま
た、定着液の場合の異常要因の組み合わせパターンと処
置の例は以下に示す通りである。また、図8に、pH、
Ag量及びHQの量が異常になった場合の要因効果図を
示す。Table 4 shows specific examples of the characteristic value data and the data to be analyzed of the fixing solution of the photographic material for plate making. The combination patterns of abnormal factors and examples of the treatment in the case of the fixing solution are as follows. As shown in FIG. FIG. 8 shows the pH,
A factor-effect diagram when the Ag amount and the HQ amount become abnormal is shown.
【0089】[0089]
【表4】 [Table 4]
【0090】製版用感材の定着液の場合の要因の組み合
わせパターンと処置の例を以下に示す。 (1)pH、Ag量、及びHQ量が異常の場合 現像槽からの現像液のキャリーオーバ量が増大している
と判断し、補充量を確認し必要時補充量を再設定する。 (2)チオ硫酸塩の量及び亜硫酸塩の量が異常の場合 濃縮傾向にあると判断し、補充量及び希釈化率を確認
し、補正必要時に再設定する。An example of a combination pattern of factors and a treatment in the case of a fixing solution of a photographic material for plate making is shown below. (1) When the pH, Ag amount, and HQ amount are abnormal It is determined that the carry-over amount of the developer from the developing tank has increased, the replenishing amount is checked, and the replenishing amount is reset when necessary. (2) When the amount of thiosulfate and the amount of sulfite are abnormal Judge that there is a tendency to concentrate, check the replenishment amount and dilution ratio, and reset if necessary.
【0091】なお、上記では特性値として環境温度等を
用いない例について説明したが、環境温度、環境湿度、
処理液の電気導電率、及び処理液の温度等を特性値とし
て用いてもよい。In the above, an example in which the environmental temperature and the like are not used as the characteristic values has been described.
The electrical conductivity of the processing liquid, the temperature of the processing liquid, and the like may be used as the characteristic values.
【0092】また、通信制御装置に状態判定対象の機器
をオンラインで接続することにより、ネットワーク管理
を行うことができる。Further, network management can be performed by connecting a device whose status is to be determined to the communication control device online.
【0093】[0093]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1及び2の
発明によれば、マハラノビスの距離を利用しているた
め、多次元の分析値から感光材料の処理液及び処理条件
の状態が定量化できるため、状態を悪化させているレベ
ルを正確に判定することができる、という効果が得られ
る。As described above, according to the first and second aspects of the present invention, since the Mahalanobis distance is used, the state of the processing solution and processing conditions of the photosensitive material can be determined from the multidimensional analysis values. Therefore, it is possible to accurately determine the level of the deterioration of the state.
【0094】また、請求項7の発明によれば、実用上問
題のない正常状態のハロゲン化銀感光材料処理液の特性
値の分析値データと、ハロゲン化銀感光材料処理液の新
液の特性値の分析値データとを用いて基準空間を設定す
るため、新液を含めて全ての処理液の状態を判定するこ
とができる、という効果が得られる。According to the seventh aspect of the present invention, the analytical value data of the characteristic value of the processing solution of the silver halide photosensitive material in a normal state which has no practical problem, and the characteristics of the new solution of the processing solution of the silver halide photosensitive material. Since the reference space is set using the analysis value data of the values, the effect is obtained that the states of all the processing liquids including the new liquid can be determined.
【0095】請求項10の発明によれば、判定の対象と
なる感光材料の処理状態毎に、その状態を悪化させてい
る要因を正確に判定することができる。According to the tenth aspect of the present invention, for each processing state of the photosensitive material to be determined, it is possible to accurately determine the factor that deteriorates the state.
【0096】請求項11の発明によれば、正確に判定さ
れた状態を悪化させている要因に基づいて補正を行うた
め、的確な補正を迅速に行うことができる、という効果
が得られる。According to the eleventh aspect of the present invention, since the correction is performed based on the factor that deteriorates the state accurately determined, an effect that the accurate correction can be promptly performed can be obtained.
【図1】本発明の実施の形態におけるフィルムプロセッ
サの概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram of a film processor according to an embodiment of the present invention.
【図2】本実施の形態の現像補充装置の構成を示す断面
図である。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a developing replenishing apparatus according to the exemplary embodiment.
【図3】本実施の形態の制御部のブロック図である。FIG. 3 is a block diagram of a control unit according to the embodiment.
【図4】本実施の形態の診断・補正処理ルーチンを示す
流れ図である。FIG. 4 is a flowchart showing a diagnosis / correction processing routine according to the embodiment;
【図5】図4の各処理液毎の診断・補正処理ルーチンを
示す流れ図である。FIG. 5 is a flowchart showing a diagnosis / correction processing routine for each processing liquid in FIG. 4;
【図6】製版感材用現像液の要因効果図を示す線図であ
る。FIG. 6 is a diagram showing a factor and effect diagram of a developer for a plate-making photosensitive material.
【図7】製版感材用現像液の要因効果図を示す線図であ
る。FIG. 7 is a diagram showing a factor and effect diagram of a developer for a plate-making photosensitive material.
【図8】製版用感材用定着液の要因効果図を示す線図で
ある。FIG. 8 is a diagram showing a factor and effect diagram of a fixing solution for a photosensitive material for plate making.
11 フィルムプロセッサ(自動現像機) N 製版用感材 24 表示パネル 26 制御部 11 Film Processor (Automatic Developing Machine) N Plate Making Sensitive Material 24 Display Panel 26 Control Unit
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成11年2月23日(1999.2.2
3)[Submission date] February 23, 1999 (1999.2.2
3)
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】請求項6[Correction target item name] Claim 6
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0011】請求項2の発明は、請求項1の発明の基準
空間として正常状態のk種n組の前記処理液及び処理条
件の特性値に基づいて演算された相関行列、または相関
行列の逆行列、またはこれらの行列の成分を用いるもの
であり、相関行列、または相関行列の逆行列、またはこ
れらの行列の成分を用いて上記(1)式で表されるマハ
ラノビスの距離を演算し、演算したマハラノビスの距離
の大きさから処理液及び処理条件の少なくとも一方の状
態を判定するものである。[0011] According to a second aspect of the invention, the inverse of claims correlation matrix is calculated based on the characteristic value of the processing solution and the processing condition of k species n sets of normal state as reference space section 1 of the invention, or a correlation matrix Matrix or the components of these matrices are used, and the Mahalanobis distance represented by the above equation (1) is calculated using the correlation matrix, the inverse matrix of the correlation matrix, or the components of these matrices, and the calculation is performed. The state of at least one of the processing liquid and the processing conditions is determined from the magnitude of the Mahalanobis distance.
【手続補正3】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0065[Correction target item name] 0065
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0065】定着液の特性値データとしては、月当たり
の処理量(m2 /月)、プロセッサの機種、1日当たり
の稼働時間(時間/日)、pH、比重、単位定着液中の
亜硫酸塩(Na2 SO3 )の量(g/l)、単位定着液
中のチオ硫酸塩((NH4 ) 2 S2 O3 )の量(ml/
l)、単位定着液中のAgの量(g/l)、ハイドロキ
ノン(HQ)の量(g/l)、その他の特性値を使用す
ることができる。最低限必要な特性値は、pH、亜硫酸
塩の量、及びチオ硫酸塩の量である。As the characteristic value data of the fixing solution, the processing amount per month (m 2 / month), the type of the processor, the operating time per day (hours / day), the pH, the specific gravity, the sulfite in the unit fixing solution ( Na 2 SO 3 ) (g / l), thiosulfate ( (NH 4 ) 2 S 2 O 3 ) (ml /
1), the amount of Ag (g / l) in the unit fixing solution, the amount of hydroquinone (HQ) (g / l), and other characteristic values can be used. The minimum required property values are pH, amount of sulfite, and amount of thiosulfate.
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0084[Correction target item name]
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0084】[0084]
【表3】 [Table 3]
【手続補正5】[Procedure amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0087[Correction target item name] 0087
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0087】製版用感材の定着液の特性値としては、処
理機の種類、月当たりの処理量(m 2 /月)、1日の稼
働時間(時間/日)、1週間当たりの稼働日数(日/
週)、pH、単位定着液量当たりのチオ硫酸塩((NH
4 )2 S2 O3 )の量(ml/l)、亜硫酸塩(Na2
SO3 )の量(g/l)、Agの量(g/l)、及びH
Qの量(g/l)を用いた。The characteristic value of the fixing solution of the photographic material for plate making is as follows.
Type of science equipment, processing volume per month (m Two / Month) 1 day earning
Working hours (hours / day), working days per week (days / day)
Week), pH, thiosulfate per unit fixer volume ((NH
4 ) 2 S 2 O 3 ) (Ml / l), sulfite (Na 2
SO 3 ), The amount of Ag (g / l), and H
The amount of Q (g / l) was used.
【手続補正6】[Procedure amendment 6]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0089[Correction target item name] 0089
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0089】[0089]
【表4】 [Table 4]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡本 潤 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H016 AA01 BA01 BK02 BL03 CA04 2H098 AA01 AA02 AA05 AA07 BA15 BA18 BA34 BA37 CA02 DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA08 DA09 DA10 DA11 DA15 DA21 DA22 DA23 DA27 DA28 EA02 EA03 EA04 EA05 GA01 GA09 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Jun Okamoto 210 Nakanakanuma, Minamiashigara, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H016 AA01 BA01 BK02 BL03 CA04 2H098 AA01 AA02 AA05 AA07 BA15 BA18 BA34 BA37 CA02 DA01 DA02 DA03 DA05 DA06 DA08 DA09 DA10 DA11 DA15 DA21 DA22 DA23 DA27 DA28 EA02 EA03 EA04 EA05 GA01 GA09
Claims (11)
の特性値、または正常状態のハロゲン化銀感光材料の処
理液及び処理条件各々の特性値に基づいて基準空間を作
成し、前記基準空間に基づいてマハラノビスの距離を演
算し、演算したマハラノビスの距離に基づいて前記処理
液及び前記処理条件の少なくとも一方の状態を判定する
感光材料の処理状態の判定方法。A reference space is created based on characteristic values of a processing solution of a silver halide photosensitive material in a normal state, or characteristic values of processing solutions and processing conditions of a silver halide photosensitive material in a normal state. A method for determining a processing state of a photosensitive material, comprising calculating a Mahalanobis distance based on a space and determining at least one of the processing liquid and the processing conditions based on the calculated Mahalanobis distance.
料を処理する処理液及び処理条件各々について、k(た
だし、kはk≧2の整数)種類の特性値をn(ただし、
aを1以上の正の数とすると、nはn≧ak)組検出
し、 状態判定を行う時点で検出したk種類の特性値Y
i,j (ただし、iは特性値の数でi=1,2,3,・・
・,k、jは特性値の組数でj=1,2,3,・・・,
n)の組み合わせについて、以下の式で表されるマハラ
ノビスの距離( MD2)を演算し、 演算したマハラノビスの距離の大きさに基づいて前記処
理液及び前記処理条件の少なくとも一方の状態を判定す
る感光材料の処理状態の判定方法。 【数1】 ただし、apqは、番号jの組のk個の基準化特性値yi
間のp番目の基準化特性値yp とq番目の基準化特性値
yq との相関係数rp,q (ただし、p、q=1,2,
3,・・・,k)を成分とする相関行列Rの逆行列R-1
の成分で、かつ正常状態のk種n組の前記処理液及び前
記処理条件の特性値に基づいて予め作成された基準空間
を示す値であり、前記番号jの組の規格化特性値yi,j
は番号iの特性値の平均値mi 及び番号iの特性値の標
準偏差σi を用いて以下の式で表される。 【数2】 yi,j =(Yi,j −mi )/σi ただし、mi =(Yi,1 +Yi,2 +・・・+Yi,n )/n σi 2 =[(Yi,1 −mi )2 +(Yi,2 −mi )2 + ・・・+Yi,n −mi )2 ]/(n−1)2. A processing solution for processing a photosensitive material, or a processing solution and a processing condition for processing a photosensitive material, each having k (where k is an integer of k ≧ 2) characteristic values of n (where,
Assuming that a is a positive number equal to or greater than 1, n is n ≧ ak) sets are detected, and k types of characteristic values Y detected at the time of state determination are determined.
i, j (where i is the number of characteristic values, i = 1,2,3, ...
.., K, and j are the number of sets of characteristic values, j = 1, 2, 3,.
For the combination of n), the Mahalanobis distance (MD 2 ) represented by the following equation is calculated, and at least one of the processing liquid and the processing condition is determined based on the calculated magnitude of the Mahalanobis distance. A method for determining the processing state of a photosensitive material. (Equation 1) Here, a pq is a set of k standardized characteristic values y i of a set having a number j.
The correlation coefficient between the p-th standardized characteristic value y p and q th normalized characteristic value y q between r p, q (although, p, q = 1, 2,
3, ···, k) the inverse matrix of the correlation matrix R to component R -1
And a value indicating a reference space created in advance based on the characteristic values of the k types and n types of the processing liquids and the processing conditions in a normal state, and the normalized characteristic value y i of the set of the number j , j
Is expressed by the following equation using a standard deviation sigma i characteristic value of the average value m i and the number i of the characteristic value of number i. Y i, j = (Y i, j −m i ) / σ i where m i = (Y i, 1 + Y i, 2 +... + Y i, n ) / n σ i 2 = [(Y i, 1 -m i ) 2 + (Y i, 2 -m i) 2 + ··· + Y i, n -m i) 2] / (n-1)
可変にした請求項2記載の感光材料の処理状態の判定方
法。3. The method according to claim 2, wherein at least one of k and n is made variable.
でサンプリングしたときのサンプリング回数の一方を前
記nとした請求項2〜3のいずれか1項記載の感光材料
の処理状態の判定方法。4. The method for determining the processing state of a photosensitive material according to claim 2, wherein one of the number of users whose processing state is to be determined and the number of times of sampling in time series is n. .
したm(ただし、mはm≧1の整数)組の特性値を加え
てマハラノビスの距離を演算する請求項2〜4のいずれ
か1項記載の感光材料の処理状態の判定方法。5. The Mahalanobis distance is calculated by adding a newly detected m (where m is an integer of m ≧ 1) set of characteristic values to the previously detected n sets of characteristic values. The method for judging the processing state of a photosensitive material according to any one of the preceding claims.
より、特性値の組が(n+m)組に達した場合には少な
くとも1つの特性値の組を削除してマハラノビスの距離
を演算する請求項2〜5のいづれか1項記載の感光材料
の処理状態の判定方法。6. A distance of Mahalanobis is calculated by adding at least one set of characteristic values and adding at least one set of characteristic values when the set of characteristic values reaches (n + m) pairs. 6. A method according to claim 2, wherein the processing state of the photosensitive material is determined.
特性値は、前記処理液の初期状態の特性値を含む請求項
1〜6のいずれか1項記載の感光材料の処理状態の判定
方法。7. The determination of the processing state of the photosensitive material according to claim 1, wherein the characteristic value in a normal state for creating the reference space includes a characteristic value in an initial state of the processing liquid. Method.
場合には、特性値として、少なくとも現像液のpH、現
像液の比重、現像液中の現像主薬の量、現像液中の亜硫
酸塩の量、及び製版用感材の処理量を用いる請求項1〜
7のいずれか1項記載の感光材料の処理状態の判定方
法。8. When the processing solution for the photosensitive material is a developing solution for a photographic material for plate making, the characteristic values include at least the pH of the developing solution, the specific gravity of the developing solution, the amount of the developing agent in the developing solution, The amount of the sulfite, and the processing amount of the photosensitive material for plate making are used.
8. The method for judging the processing state of a photosensitive material according to any one of items 7 to 7.
場合には、特性値として、少なくとも定着液のpH、定
着液中のチオ硫酸塩の量、及び定着液中の亜硫酸塩の量
を用いる請求項1〜7のいずれか1項記載の感光材料の
処理状態の判定方法。9. When the processing solution for the photographic material is a fixing solution for a photographic material for plate making, at least the pH of the fixing solution, the amount of thiosulfate in the fixing solution, and the sulfite in the fixing solution. The method for determining the processing state of a photosensitive material according to any one of claims 1 to 7, wherein the amount of the photosensitive material is used.
する場合のマハラノビスの距離と各特性値が存在しない
場合のマハラノビスの距離との比較結果に基づいて前記
処理液及び前記処理条件の少なくとも一方の状態を判定
する請求項1〜9のいずれか1項記載の感光材料の処理
状態の判定方法。10. For each characteristic value, at least one of the processing liquid and the processing condition is determined based on a comparison result of the Mahalanobis distance when each characteristic value exists and the Mahalanobis distance when each characteristic value does not exist. The method according to claim 1, wherein one of the states is determined.
光材料の処理状態の判定方法によって判定された判定結
果に基づいて、前記処理液及び前記処理条件の少なくと
も一方の状態を補正する感光材料の処理状態の補正方
法。11. A method according to claim 1, wherein at least one of the processing liquid and the processing conditions is corrected based on a determination result determined by the method for determining a processing state of a photosensitive material. A method for correcting the processing state of a photosensitive material.
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