JP2000155996A - 光磁気記録装置の記録再生ヘッド並びにその支持機構及び位置決め機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ニアフィールド技術を用いた光磁気記録装置
の光学ヘッドにおいて、SILのレンズ面の損傷や、レン
ズ面のダスト汚れによるSNRの劣化を抑制する。 【解決手段】 本発明は、ニアフィールド技術を応用し
た光磁気記録装置の記録再生ヘッドであって、光学ヘッ
ド部が、屈折率の大きな透明物質で加工された半球状ま
たは超球状のSIL６と、空気膜潤滑により記録媒体７の
表面上を微小隙間を介して浮揚する浮上スライダ１と、
光磁気記録用の光源モジュールとから構成され、SIL６
が、浮上スライダ１の重心よりリーディング・エッジ側
に配置されていることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、書換可能な光ディ
スク装置における光磁気信号の記録再生ヘッドに関し、
特に、光学ヘッド部に浮上スライダを用い、その一端に
SILを搭載し、ニアフィールド記録技術を用いて高密度
の記録再生を行う記録再生ヘッド及びその支持機構と、
小型VCMまたは圧電素子を用いた２ステージアクチュエ
ータ技術を用いて入射光を高精度に位置決めする、上記
記録再生ヘッドの位置決め機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクは１９８０年代以降、大容量
の可換媒体として普及し、１９８０年代後半には光磁気
型（レーザ光の熱により磁化方向を反転させ、記録／光
の偏波面の回転を検出して再生を行う。）や相変化型
（結晶／非結晶の相変化による反射率の違いを利用して
記録／再生を行う。）の書換可能な光ディスクが開発さ
れ、現在に至っている。書換型の光ディスクは、直径１
３０mmの光磁気ディスクを例にとると容量２GB（両
面）、記録密度にして０．９Gbit／in²を達成し、大容
量化しつつある文書・図面・画像ファイル等の記録媒体
として利用されている。

【０００３】しかしながら、動画像を扱う記録装置に
は、更なる大容量を記録し得る記録媒体が必要とされ、
例えば２時間の動画像を記録するためには、MPEG2を応
用した画像圧縮技術を用いても、４GB（現行のテレビ画
像）から３０GB（将来のハイ・ディフィニション・テレ
ビ画像）の超大容量メモリが要求される。近年、大容量
記録装置として登場したディジタル・ビデオ・ディスク
（DVD）では、波長６３０〜６５０nmの短波長半導体レ
ーザや様々な信号処理技術を用いることにより高密度化
を実現するとともに、厚さ０．６mmの光ディスクを2枚
貼り合わせて容量を増大させたことにより、飛躍的な大
容量化（９GB）を可能にした。しかしながら、将来のビ
デオオンディマンド等の双方向動画像通信への応用を考
えた場合には、１００Gbit／in²以上の超高記録密度を
有する記録装置が必要となる。

【０００４】書換可能な光ディスクの場合、光磁気型に
しろ、相変化型にしろ、高密度化を実現するためには、
（１）ピット径を小さくする、（２）ピット間隔を小さ
くする、（３）トラック間隔を小さくする、（４）多値
／多層（多重記録）を利用する、等の方法が考えられ
る。特に、上記（１）〜（３）を実現するためには、レ
ーザ・スポットの小径化が不可欠となる。

【０００５】ここで、ビームウエスト径ωは、

【数１】 で示すように、光の波長λに比例し、レンズの開口数
（NA）に反比例する。したがって、光ディスク装置を高
密度化する１つの方向としては、光源である半導体レー
ザの短波長化と使用レンズの高NA化を進めることにあ
る。最近の実用的な動向としては、青紫色半導体レーザ
の開発による短波長化などが精力的に進められている。
しかしながら、これらの技術では現在の記録密度を数倍
程度しか向上させることができない。

【０００６】一方で、光の近接場（ニアフィールド）現
象を用いた光記録技術も開発されつつある。この研究は
大きく２つの方向に分けられ、１つは光の回折限界を越
えることを目指した、近接場光学顕微鏡（Scanning Nea
rfield Optical Microscope：SNOM）を用いた方法であ
り、もう１つは、レンズの高NA化を目指した、固浸レン
ズ（Solid Immersion Lens：SIL）を用いた方法であ
る。特に後者は、光磁気ディスク装置の既存の光源モジ
ュールに組み込むことで,容易に１０Gbit／in²を越える
面記録密度を達成できるため、実現性の高い技術として
注目されている。

【０００７】SILの原理を図１８、１９に示す。図１８
のSIL（符号２７）は、屈折率nが大きな透明物質（例え
ばn＞１．９）からなる半球面レンズである。このSIL２
７に入射するレーザ光１０の焦点を、フォーカスレンズ
１５を用い、記録媒体７の研磨面に合わせる。このと
き、SIL２７を記録媒体７の表面に接近させて、近接場
領域内（記録媒体７との距離が２００nm以内）で記録媒
体７に光を入射すると、入射光の波長λに対し波長がλ
／nのまま、光が記録媒体７に伝搬される。これは、SIL
２７の透明物質内で短波長化（λ／n）された光が、SIL
２７を出た後も、近接場領域内であれば短波長（λ／
n）を保つことを意味している。従って、nの大きな材料
でSIL２７を作製すれば、通常の光学レンズを用いたも
のよりも小さいスポット径（ω／n）を形成する光学系
が得られる。

【０００８】図１９に示す光学系は、図１８に示す方法
に更なる高NA効果を持たせたものである。このSIL２８
は超球（Supersphere）と呼ばれる形状に加工されてお
り、その底面に焦点を合わせると無収差の焦点を持つ。
これにより対物レンズによる絞り込み角が増大し、NAも
増大する。この効果と近接場による短波長化（λ／n）
とにより、絞り込まれるビームのスポット径は通常の光
学系の１／n²となり、スポット径の微小化が実現でき
る。

【０００９】これらのSIL技術を光磁気記録の分野に応
用した例を図２０、２１に示す。この例は、磁気記録技
術で用いられる浮上スライダにSILを搭載し、浮上スラ
イダ１の浮上量を近接場領域内に収めることにより、記
録／再生用のレーザ・スポット径の微小化を図り、光磁
気記録の高密度化を図ったものである。半導体レーザ等
からなる光源モジュール２１から照射されたレーザ光１
０はフォーカスレンズ１５に入射されて絞られ、補正レ
ンズ２９を経て、浮上スライダ１に搭載されたSIL６に
入射される。

【００１０】フォーカスレンズ１５はフォーカスアクチ
ュエータ３０に支持され、フォーカスアクチュエータ３
０を集光方向に微小駆動することにより焦点距離が制御
され、浮上スライダ１のうち、記録媒体7と対向する浮
上面上に位置するSIL６の底面において、通常の光学系
の１／nのスポット径で焦点を結ぶ。このとき、浮上ス
ライダ１と記録媒体７との間の浮上隙間が近接場領域
（数百nm）内であれば、SIＬ６の底面から出射されたレ
ーザ光が、１／nのスポット径を保ったまま記録媒体７
に照射され、光磁気ディスクの記録／再生が行われる。
この場合、SIL６の光量利用効率は、通常のレンズ光学
系と同程度である。

【００１１】更に、図２２、２３に示す従来例は、浮上
スライダ３１自体を屈折率nの大きな透明物質で加工
し、半球形状のSIL６と組み合わることにより、前述し
た超球状としたものである。これにより、絞り込むビー
ム・スポット径が更に微小化（１／n²）するため、より
高密度の記録／再生を行うことができる。これらのSIL
搭載浮上スライダ１，３１型の光学ヘッドには、図２２
に示すように、光源モジュール２１を別に用意してレー
ザ光１０を浮上スライダ３１上のSIL６に照射するタイ
プと、図２３に示すように、光源モジュール２１ごと浮
上スライダ３１に搭載するタイプとがある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
にニアフィールド技術を応用した光磁気記録装置におい
ては、SIL６を浮上スライダ１，３１に搭載し光学ヘッ
ドとして用いる場合、CSS（Contact Start Stop）によ
り浮上スライダ１，３１と記録媒体７の表面とが摺動
し、SIL６が損傷したり、ダストがSIL６の底面に付着し
て、SN比を低下させるという問題が生じる。

【００１３】また、記録媒体７の表面には、図２４に示
すようにランド３２とグルーブ３３とが設けられている
ため、トラック毎にレーザ光の焦点距離が変化する。以
前の光学ヘッドでは、磁界変調コイル等からなるフォー
カスアクチュエータ３０により焦点距離を制御し、各ト
ラックのピット位置に対応していたが、SIL搭載型の浮
上スライダ１，３１では、近接場領域内で同一スポット
径を維持するために焦点距離が固定されるので、グルー
ブ３３の高さが近接場領域を越えると、レーザ・スポッ
ト径が急速に拡大し、記録／再生信号のSN比が著しく低
化するという問題が生じる。

【００１４】本発明は、これらの事情に鑑みてなされた
もので、その目的は、ニアフィールド技術を応用した光
磁気記録装置における光学ヘッドとして、耐摺動性及び
耐ダスト性能に優れた信頼性の高いSIL搭載型浮上スラ
イダを提供するとともに、記録媒体のランド／グルーブ
による高低差を伴うピットの記録／再生に適応したSIL
搭載型浮上スライダを提供することである。

【００１５】また、本発明は、光学ヘッド支持部を軽量
化してアクセス速度の高速化を図るとともに、高トラッ
ク密度に対応した高精度な入射光位置決め機構を提供す
ることをも目的としている。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は、ニアフィール
ド技術を応用した光磁気記録装置の記録再生ヘッドであ
って、光学ヘッド部が、屈折率の大きな透明物質で加工
された半球状または超球状のSILと、空気膜潤滑により
記録媒体の表面上を微小隙間を介して浮揚する浮上スラ
イダと、光磁気記録用の光源モジュールとから構成さ
れ、前記SILが、前記浮上スライダの重心よりリーディ
ング・エッジ側に配置されていることを特徴としてい
る。

【００１７】ここで、前記光学ヘッド部が一対の前記SI
Lを備え、これら一対のSILが、前記浮上スライダの重心
を挟んでトレーリング・エッジ側とリーディング・エッ
ジ側に各々配置されていてもよい。

【００１８】更に、前記一対のSILが配置された前記浮
上スライダの、トレーリング・エッジ側の浮上量とリー
ディング・エッジ側の浮上量の差が、前記記録媒体のラ
ンドとグルーブの高低差と等しくなるように設定されて
いてもよい。

【００１９】また、本発明は、前記光磁気記録装置の記
録再生ヘッドの支持機構にも係り、特に、前記記録再生
ヘッドの支持部が、前記浮上スライダを支持するジンバ
ルスプリング部と、前記浮上スライダに押圧荷重を負荷
するロードビーム部とから構成され、前記ロードビーム
部の前記SILと重なる部位には、レーザ光通過用の穴が
設けられ、その上方にプリズムとフォーカスレンズとを
備える光学系が配置されていることを特徴としている。

【００２０】更に、本発明は、前記磁気記録装置の記録
再生ヘッドの位置決め機構にも係り、特に、前記記録再
生ヘッドの支持部が、前記浮上スライダを支持するジン
バルスプリング部と、前記浮上スライダに押圧荷重を負
荷するロードビーム部とから構成され、前記ロードビー
ム部の前記SILと重なる部位には、レーザ光通過用の穴
が設けられるとともに、ホルダアームを挟んで前記支持
部と対向する側には、小型VCMもしくは圧電素子により
微小駆動するファインアクチュエータが配置され、かつ
ファインアクチュエータの前記SILと重なる部位には、
プリズムとフォーカスレンズとを備える光学系が配置さ
れ、前記浮上スライダに搭載されたSILに入射するレー
ザ光の微小位置決め動作を行うことを特徴としている。

【００２１】本発明では、SILをスライダの重心位置か
らリーディング・エッジ側に配置している。従って、CS
Sによりスライダと記録媒体表面とが摺動しても、リー
ディング・エッジ側は比較的起動初期に浮き上がるた
め、SILが損傷したり摩耗したりしにくい。また、浮上
中、ダストはリーディング・エッジ側からトレーリング
・エッジ側へ流れ、浮上量の低いトレーリング・エッジ
側に堆積する傾向があるため、リーディング・エッジ側
に配置したSILの底面（レンズ面）にはダストが付着し
にくい。その結果、耐摺動性及び耐ダスト性能に優れた
信頼性の高いSIL搭載型浮上スライダが得られる。

【００２２】また、本発明では、一対のSILをスライダ
の重心位置を挟んでトレーリング・エッジ側とリーディ
ング・エッジ側に配置し、スライダのピッチ量（トレー
リング・エッジ側とリーディング・エッジ側の浮上量
差）を、記録媒体のランドとグルーブの高低差に対応さ
せているため、グルーブの高さが近接場領域を越えるよ
うな場合でも、１つの光学ヘッドで対応することができ
る。

【００２３】また、本発明では、光学ヘッド支持部にお
いて、プリズムとフォーカスレンズからなる光学系を光
学ヘッドと分離して配置しているため、光学ヘッドの軽
量化が実現でき、アクセス速度が高速化される。

【００２４】また、本発明では、光学ヘッド支持部のホ
ルダアームを挟んで対向する側に光学系と光源モジュー
ルを具備したファインアクチュエータ機構を設け、小型
VCMもしくは圧電素子によって前記光学系と光源モジュ
ールを微小駆動してSILに入射するレーザ光を制御する
ため、高トラック密度に対応できる高速・高精度位置決
め機構を提供できる。

【００２５】

【発明の実施の形態】まず、本発明の第１の実施形態に
ついて、図１、２、４及び図６を参照して説明する。こ
の例では、図１に示すように、開口数（NA）の大きな高
屈折率ガラス等の透明物質で形成された半球状のSIL６
を、既存の磁気ディスク装置に用いられている浮上スラ
イダ１に、浮上スライダ１の重心よりリーディング・エ
ッジ側に位置するよう埋め込み固定する。

【００２６】ここで、半球状のSIL６は、その平面部
（底面）が、浮上スライダ１の、記録媒体７と対向する
側に設けられた空気膜潤滑面（ABS面：Air Bearing Sur
face）２と一致するよう配置する。半球状のSIL６の代
わりに、超球状のSILを組み込むことにより、ビーム・
スポット径を更に絞り込んでもよい。この場合、加工難
度は高くなるが、より高密度の光磁気記録が可能にな
る。

【００２７】浮上スライダ１には、７０％（L×W×H=
２．８×２．２４×０．６mm)、５０％（２×１．６×
０．４３mm）、３０％（１．２５×１×０．３mm）等の
規格寸法があるが、搭載するSIL６の大きさに合わせて
選択される。また、浮上スライダ１のABS面２にはリセ
ス５によりレール面３が形成され、その結果、記録媒体
７の回転により生じる空気粘性流を受けて正圧が発生
し、浮上スライダ１が、記録媒体７上を微小隙間を介し
て浮上する。この際の浮上スライダ１の浮上量は、磁気
ディスク装置において要求されるほど厳密ではないが、
トラックの内周から外周まで、可能な限り均一であるこ
とが望ましい。そのため、ABS面２に負圧を発生させて
浮上均一性を向上させた、例えば特開平８-２７９１３
３号公報に開示の負圧スライダ等を利用してもよい。

【００２８】このようにして構成された浮上スライダ
（SIL搭載浮上スライダ）１は、（後述する図７、８に
示すように、）ジンバルスプリング１３とロードビーム
１２とからなる光学ヘッド支持機構１１により保持され
る。装置の停止中、浮上スライダ１は、ロードビーム１
２のバネ力により一定の押圧力で記録媒体７の表面に押
し付けられているが、装置の動作時には、記録媒体7の
高速回転に伴う空気粘性流が浮上スライダ１のリーディ
ング・エッジ側に設けられたチャンファ部４に流入し、
ABS面２において空気潤滑膜を形成して、記録媒体７の
表面上を、微小隙間を介して浮上する。このとき、浮上
スライダ１の設計浮上量は、SIL６が配置されたリーデ
ィング・エッジ側の浮上量が近接場領域内(＜約１００
〜２００nm）に納まるように調整する。

【００２９】また、一般に浮上のスライダは空気流速が
大きくなるトラック外周側でピッチ量（トレーリング・
エッジ側とリーディング・エッジ側の浮上量差）が大き
くなる傾向がある。この傾向に対応するためには、特開
平９−３３０５１０号公報等に開示された、ピッチ角変
動が小さくなるように設計されたスライダ等を利用する
とよい。

【００３０】一方、停止時から動作時までの過渡時間
（起動時間）中、浮上スライダ１はトレーリング・エッ
ジを引きずり、あるいはバウンドさせながらリーディン
グ・エッジを持ち上げた姿勢で記録媒体７の表面上を摺
動し、空気流速の増大とともに安定浮上姿勢へと遷移す
る（図３、４参照）。

【００３１】従って、トレーリング・エッジ側にSIL６
を配置した従来の浮上スライダ１では、起動時の浮上ス
ライダ１の摺動によりSIL６の底面が損耗し、あるいは
潤滑剤や保護膜によって汚れるため、SN比が悪化する恐
れがある（図３参照）。これに対し、本実施形態の浮上
スライダ１の場合、SIL６をリーディング・エッジ側に
配置しているため、起動時の浮上スライダ１の摺動によ
る損傷を小さく抑えることができる（図４参照）。

【００３２】また、装置の動作中、浮上スライダ１はリ
ーディング・エッジ側を高く、トレーリング・エッジ側
を低くした姿勢で記録媒体７上を浮揚するが、装置内に
発生したダスト９は空気粘性流に混じってリーディング
・エッジ側からスライダのABS面２に流入し、トレーリ
ング・エッジ側へと流下するため、浮上量の低いトレー
リング・エッジ側のレール面に堆積する傾向がある（図
５、６参照）。

【００３３】従って、トレーリング・エッジ側にSIL６
を配置した従来の浮上スライダ１では、SIL６の底面に
徐々にダスト９が堆積し（図５参照）、SN比が低化する
危険がある。これに対し、本実施形態の浮上スライダ１
の場合、SIL６をリーディング・エッジ側に配置してい
るため、ダスト９によるレンズ面（SIL６の底面）の汚
れを回避することができる（図６参照）。

【００３４】次に、本発明の第２の実施形態について、
図７、８を参照して説明する。前記第１の実施形態にお
いて示した浮上スライダ1は、図７に示すように、ジン
バルスプリング１３に支持され、ジンバルスプリング１
３はロードビーム１２の先端に保持され、併せて光学ヘ
ッド支持機構１１を構成している。

【００３５】このとき、浮上スライダ１は、ジンバルス
プリング１３もしくはロードビーム１２に設けられたピ
ボット１７により点支持され、ピボット１７を介して、
ロードビーム１２の押圧力が浮上スライダ１に付与され
ている。また、ピボット１７の高さは、浮上スライダ１
に搭載されたSIL６がロードビーム１２と干渉しないよ
う調節されている。また、ジンバルスプリング１３に
は、浮上スライダ１に搭載されたSIL６を避け、浮上ス
ライダ１が接着されている。

【００３６】ロードビーム１２の、SIL６と重なる部位
には、貫通穴（レーザ光通過用の穴）１６が設けられて
いる。この貫通穴１６の直径は、およそSIL６の球径と
同程度とする。更に、ロードビーム１２上には、フォー
カスレンズ１５とプリズム（もしくは反射ミラー）１４
とからなる光学系が、レーザ光通過穴１６と重なるよう
に固定されている。その結果、光源モジュール２１から
出力されたレーザ光１０は、上記光学系を介して浮上ス
ライダ１に搭載されたSIL６に導かれ、（ABS面２と一致
した）SIL６の底面において焦点を結ぶ（図８参照）。

【００３７】このとき、SIL６の底面の浮上量が近接場
領域内(＜１００〜２００nm）であれば、レーザ光１０
は回折の影響を受けない。従って、レーザ光１０はSIL
６の内部での波長（λ／n：SIL６の屈折率をnとしたと
き）を維持したまま記録媒体７の表面に到達し、その結
果、記録媒体７の表面に形成されるスポット径も、通常
の光学系を用いたときのスポット径の1／n（超球レンズ
を用いた場合には、1／n ²）となる。

【００３８】通常、浮上スライダ１を保持するジンバル
スプリング１３の支持剛性は、浮上スライダ１の媒体追
従性能を確保するために低く設定されており、他方、ロ
ードビーム１２は、高周波数帯域まで良好な振動特性を
維持できるように、左右端にフランジ部を設定するなど
して高剛性に設計されている。従って、この例のよう
に、質量の大きな光学系（フォーカスレンズ１５とプリ
ズム１４）を、フレキシブルなジンバルスプリング１３
に保持された浮上スライダ１から分離して、剛性の高い
ロードビーム１２上に配置することにより、振動特性の
低化を小さく抑えることができる。

【００３９】また、ロードビーム１２上に配置された光
学系と浮上スライダ１に搭載されたSIL６とは、ピボッ
ト１７により至近距離で固定されているため、SIL６に
向けレーザ光１０を高精度で照射可能となる。

【００４０】次に、本発明の第３の実施形態について、
図９〜１１を参照して説明する。図９、１０に示すよう
に、一対の半球状のSIL６を、浮上スライダ１の重心も
しくはピボット１７による支持位置を挟んで、トレーリ
ング・エッジ側とリーディング・エッジ側に各々配置し
固定する。このとき、これら一対のSIL６は、浮上スラ
イダ１の長手方向に沿った中心軸上に並ぶように配置す
る。あるいは（浮上スライダ１の浮上特性上、ピボット
１７による支持位置を幅方向にずらしてロール姿勢を調
整した結果、）浮上スライダ１が光学ヘッド支持機構１
１の長手方向に沿った中心軸からずらして支持されてい
る場合には、一対のSIL６は前記光学ヘッド支持機構１
１の長手方向に沿った中心軸上に並ぶように配置する。
また、一対の半球状SIL６の平面部（底面）は、いずれ
も浮上スライダ１の記録媒体7に対向する側に設けられ
たABS面２と一致させる。

【００４１】一方、一対のSIL６を搭載した浮上スライ
ダ１を保持する光学ヘッド支持機構１１には、一対のSI
L６と重なる部位に、前記第２の実施形態で示したもの
と同様の貫通穴１６と光学系とが、各々のSIL６に応じ
て配置されている。この場合、リーディング・エッジ側
のSIL６に対応する光学系は、ビームスプリッタ１８と
フォーカスレンズ１５とから構成され、他方、トレーリ
ング・エッジ側のSIL６に対応する光学系は、前記第２
の実施形態で用いたものと同様に、プリズム（または反
射ミラー）１４とフォーカスレンズ１５とから構成され
ている。

【００４２】光源モジュール２１から出力されたレーザ
光１０は、ロードビーム１２の前記リーディング・エッ
ジ側に位置するSIL６と重なる部位に設けられたビーム
スプリッタ１５によりレーザ光L１とレーザ光L２に分け
られる。このうち直角に屈曲されたレーザ光L１は、フ
ォーカスレンズ１５を経て浮上スライダ１のリーディン
グ・エッジ側に配置されたSIL６に入射され、ABS面２と
一致するレンズ底面上に焦点を結ぶ。他方、ビームスプ
リッタ１８を透過したレーザ光L２は、トレーリング・
エッジ側に位置するSIL６と重なる部位に設けられたプ
リズム１４により屈曲され、フォーカスレンズ１５に集
光されて同じくトレーリング・エッジ側に配置されたSI
L６に入射し、ABS面２と一致するレンズ底面上に焦点を
結ぶ（図９参照）。

【００４３】装置動作中、浮上スライダ１は、リーディ
ング・エッジ側で高く、トレーリング・エッジ側で低く
浮上量を保って浮揚する。本実施形態では、リーディン
グ・エッジ側に配置したSIL６の底面の浮上量と、トレ
ーリング・エッジ側に配置したSIL６の底面の浮上量と
の差（ピッチ量）が、記録媒体７の表面に設けられたグ
ルーブ３３の高さ（約５０〜１５０nm）に一致し、ま
た、どちらの浮上量も近接場領域（＜１００〜２００n
m）に納まるよう、浮上スライダ１の浮上量を設計して
おく。

【００４４】これにより、浮上量の高いリーディング・
エッジ側に配置されたSIL６の底面に集光されたレーザ
光１０でグルーブ３３に記録／再生を行い、浮上量の低
いトレーリング・エッジ側に配置されたSIL６の底面に
集光されたレーザ光１０でランド３２に記録／再生を行
う。このとき、図１１に示すように、光源に（例えばAr
⁺レーザのように）波長の異なるレーザの混合光を用
い、トレーリング・エッジ側の光学系にカラー・ビーム
スプリッタ１９を配置して各々の波長（λ１，λ２）に
分光し、グルーブ３３の記録再生とランド３２の記録再
生とで異なる波長のレーザ光λ１，λ２を用いるように
すれば、SN比の高い良好な記録再生信号が得られる。

【００４５】ニアフィールド技術を応用した従来の光学
ヘッドでは、近接場領域を越えると（回折の影響を受
け）急速にスポット径が拡大するため、ランドとグルー
ブの高低差が大きい媒体に対して記録／再生を行う場
合、高水準のSN比を維持することが困難であった。これ
に対し、本実施形態のような２ビーム方式の浮上スライ
ダ１と光学ヘッド支持機構１１とを用いることにより、
ランド３２とグルーブ３３の高低差の大きな記録媒体７
に対しても、良好な記録再生信号を得ることができる。

【００４６】最後に、本発明の第４の実施形態につい
て、図１２〜１７を参照して説明する。前記第１の実施
形態において示した浮上スライダ１を支持する光学ヘッ
ド支持機構１１は、前記第２の実施形態において示した
ように、ジンバルスプリング１３とロードビーム１２と
で構成してもよいが、図１２〜１４に示すように、ジン
バルスプリングとロードビームを一体成型した、いわゆ
る２ピース構造の光学ヘッド支持機構１１を用いてもよ
い。この場合も、SIL６と重なる部位には貫通穴１６を
設ける。

【００４７】一方、本実施形態では、ホルダアーム２０
を挟んで光学ヘッド支持機構１１と反対側に、前記第２
の実施形態で示した光学系を具備したファインアクチュ
エータ２２を、光学ヘッド支持機構１１と対向して配置
する。このファインアクチュエータ２２は、光磁気記録
装置における２段制御のアクチュエータとは異なり、磁
気記録装置においてHGA（Head Gimbal Assembly）駆動
型の２ステージアクチュエータにおいて用いられるもの
で、従来は磁気ヘッド支持機構（HGA）を接続して磁気
ヘッドを微小駆動させるために使用されていたが、本実
施形態では、磁気ヘッド支持機構１１の代わりに光学系
（フォーカスレンズ１５及びプリズム１４）を微小駆動
するために用いられる。

【００４８】このファインアクチュエータ２２には、小
型VCM２４の電磁力によりアクチュエータスプリング２
５を撓ませて微小駆動させる高コンプライアンス型（図
１２〜１４に記載のもの。特開平９−２６０６８０号参
照。）と、圧電素子２６の歪みによりアクチュエータス
プリング２５を撓ませて微小駆動させる高スティフネス
型（図１５〜１７に記載のもの）とがある。いずれの場
合も、ファインアクチュエータ２２上に光源モジュール
２１と光学系とを搭載し、ホルダアーム２０に組み込ま
れたVCM２３による光学ヘッド８のトラッキング動作と
は別に、光源モジュール２１と光学系とを光学ヘッド上
で微小回転駆動することにより、浮上スライダ１に搭載
したSIL６に入射するレーザ光１０の位置を微小制御し
て、トラック追従動作（フォローイング）を行う。

【００４９】本実施形態によれば、ニアフィールド技術
を応用した光学ヘッドの高精度な位置決め動作が可能に
なるため、大容量光磁気記録装置の狭トラックピッチに
も対応することができるようになる。

【００５０】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、以
下の効果が得られる。第１の効果として、ニアフィール
ド技術を用いた光磁気記録装置の光学ヘッドにおいて、
SILのレンズ面の損傷を抑えることができる。その理由
は、SILを浮上スライダのリーディング・エッジ側に配
置することにより、装置起動時のスライダ摺動による影
響を回避することができるためである。

【００５１】第２の効果として、前記SILのレンズ面に
おけるダスト汚れによるSNRの劣化を抑えることができ
る。その理由は、同じくSILを浮上スライダのリーディ
ング・エッジ側に配置することにより、ダストの流出端
（トレーリング・エッジ）における堆積の影響を受けな
くなり、SILのレンズ面をクリーンに保つことができる
ためである。

【００５２】第３の効果として、ニアフィールド技術を
用いた光磁気記録装置において、高速アクセスが可能に
なる。その理由は、浮上スライダから質量の大きな光学
系を分離し、剛性の高いロードビーム部に配置すること
により、高周波数帯域まで良好な振動特性を維持可能な
光学ヘッド支持機構を提供することができるためであ
る。

【００５３】第４の効果として、ニアフィールド技術を
用いた光磁気記録装置において、ランドとグルーブの高
低差が大きな記録媒体に対しても良好な記録再生信号を
得ることができる。その理由は、浮上スライダのリーデ
ィング・エッジ側とトレーリング・エッジ側にそれぞれ
SILを搭載し、浮上ピッチ量をランドとグルーブの高低
差に対応させているためである。

【００５４】第５の効果として、ニアフィールド技術を
用いた光磁気記録装置の光学ヘッドの高精度な位置決め
動作を行うことができる。その理由は、光源モジュール
および光学系をファインアクチュエータに搭載し、光学
ヘッド支持機構とは別に、SILに入射するレーザ光を微
小駆動しているためである。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による第１の実施形態を示す斜視図で
ある。

【図２】 本発明による第１の実施形態を示す側面図で
ある。

【図３】 従来の浮上スライダにおける、装置起動時の
位置の遷移状況を示す図である。

【図４】 本発明による第１の実施形態の浮上スライダ
における、装置起動時の位置の遷移状況を示す図であ
る。

【図５】 従来の浮上スライダにおける、ダストの堆積
状況を示す図である。

【図６】 本発明による第１の実施形態の浮上スライダ
における、ダストの堆積状況を示す図である。

【図７】 本発明による第２の実施形態を示す斜視図で
ある。

【図８】 本発明による第２の実施形態を示す側面図で
ある。

【図９】 本発明による第３の実施形態の第１の例を示
す側面図である。

【図１０】 本発明による第３の実施形態の第１の例を
示す平面図である。

【図１１】 本発明による第３の実施形態の第２の例を
示す側面図である。

【図１２】 本発明による第４の実施形態の第１の例を
示す側面図である。

【図１３】 本発明による第４の実施形態の第１の例を
示す平面図である。

【図１４】 本発明による第４の実施形態の第１の例を
示す平面図である。

【図１５】 本発明による第４の実施形態の第２の例を
示す側面図である。

【図１６】 本発明による第４の実施形態の第２の例を
示す平面図である。

【図１７】 本発明による第４の実施形態の第２の例を
示す平面図である。

【図１８】 SILの原理を説明する図である。

【図１９】 SILの原理を説明する図である。

【図２０】 ニアフィールド技術を応用した半球SIL搭
載型の浮上スライダの従来例を示す図である。

【図２１】 ニアフィールド技術を応用した半球SIL搭
載型の浮上スライダの従来例を示す図２０中Ｘ−Ｘ線に
沿った断面図である。

【図２２】 ニアフィールド技術を応用した超球SIL搭
載型浮上スライダの従来例を示す図である。

【図２３】 ニアフィールド技術を応用した超球SIL搭
載型の浮上スライダの従来例を示す図である。

【図２４】 光磁気記録媒体のランド／グルーブ構造の
例を示す図である。

【符号の説明】

１ 浮上スライダ ６ SIL ７ 記録媒体 ８ 光学ヘッド（部） １２ ロードビーム（部） １３ ジンバルスプリング １４ プリズム １５ フォーカスレンズ １６ 貫通穴（レーザ光通過用の穴） ２１ 光源モジュール ２２ ファインアクチュエータ ３２ ランド ３３ グルーブ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ニアフィールド技術を応用した光磁気記
   録装置の記録再生ヘッドであって、 光学ヘッド部が、屈折率の大きな透明物質で加工された
   半球状または超球状のSILと、空気膜潤滑により記録媒
   体の表面上を微小隙間を介して浮揚する浮上スライダ
   と、光磁気記録用の光源モジュールとから構成され、 前記SILが、前記浮上スライダの重心よりリーディング
   ・エッジ側に配置されていることを特徴とする光磁気記
   録装置の記録再生ヘッド。
2. 【請求項２】 前記光学ヘッド部が一対の前記SILを備
   え、これら一対のSILが、前記浮上スライダの重心を挟
   んでトレーリング・エッジ側とリーディング・エッジ側
   に各々配置されることを特徴とする請求項１に記載の光
   磁気記録装置の記録再生ヘッド。
3. 【請求項３】 前記一対のSILが配置された前記浮上ス
   ライダの、トレーリング・エッジ側の浮上量とリーディ
   ング・エッジ側の浮上量の差が、前記記録媒体のランド
   とグルーブの高低差と等しくなるように設定されている
   ことを特徴とする請求項２に記載の光磁気記録装置の記
   録再生ヘッド。
4. 【請求項４】 請求項１，２、または３に記載の光磁気
   記録装置の記録再生ヘッドの支持機構であって、 前記記録再生ヘッドの支持部が、前記浮上スライダを支
   持するジンバルスプリング部と、前記浮上スライダに押
   圧荷重を負荷するロードビーム部とから構成され、前記
   ロードビーム部の前記SILと重なる部位には、レーザ光
   通過用の穴が設けられ、その上方にプリズムとフォーカ
   スレンズとを備える光学系が配置されていることを特徴
   とする光磁気記録装置の記録再生ヘッドの支持機構。
5. 【請求項５】 請求項１，２、または３に記載の光磁気
   記録装置の記録再生ヘッドの位置決め機構であって、 前記記録再生ヘッドの支持部が、前記浮上スライダを支
   持するジンバルスプリング部と、前記浮上スライダに押
   圧荷重を負荷するロードビーム部とから構成され、前記
   ロードビーム部の前記SILと重なる部位には、レーザ光
   通過用の穴が設けられるとともに、ホルダアームを挟ん
   で前記支持部と対向する側には、小型VCMもしくは圧電
   素子により微小駆動するファインアクチュエータが配置
   され、 このファインアクチュエータの前記SILと重なる部位に
   は、プリズムとフォーカスレンズとを備える光学系が配
   置され、前記浮上スライダに搭載されたSILに入射する
   レーザ光の微小位置決め動作を行うことを特徴とする光
   磁気記録装置の記録再生ヘッドの位置決め機構。