JP2000149775A - Manufacture of aperture grille - Google Patents

Manufacture of aperture grille

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JP2000149775A
JP2000149775A JP32577698A JP32577698A JP2000149775A JP 2000149775 A JP2000149775 A JP 2000149775A JP 32577698 A JP32577698 A JP 32577698A JP 32577698 A JP32577698 A JP 32577698A JP 2000149775 A JP2000149775 A JP 2000149775A
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JP
Japan
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etching
iron
aperture grill
thickness
nickel
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JP32577698A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Ogasawara
修一 小笠原
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an aperture grille, enabling minute slits with intervals of the order of 200 μm to be formed with satisfactory accuracy, enhancing the rupture strength of a tape part, and preventing the tape part from being ruptured if tension is exerted on the grille after welded to a frame. SOLUTION: Metallic foil is manufactured by providing an iron coating on both surfaces of a middle layer made of nickel, cobalt, or an alloy of them, and a multiplicity of slits are formed by etching the metallic foil. Then, the iron coating is oxidized by heat treatment into a black iron coating. Preferably, the middle layer made of nickel, cobalt, or an alloy of them, is formed by an electroplating method.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、テレビジョン等の
カラー受像機に使用されるアパチャーグリルの製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an aperture grill used in a color receiver such as a television.

【0002】[0002]

【従来の技術】テレビジョンのブラウン管のようなカラ
ー受像機に色選別装置として用いられているアパチャー
グリルは、厚さ100μm程度の鉄箔に電子ビーム通過
孔として多数の縦方向のスリットを形成したものであ
る。
2. Description of the Related Art An aperture grill used as a color selection device in a color receiver such as a CRT of a television has a large number of longitudinal slits formed as electron beam passage holes in an iron foil having a thickness of about 100 μm. Things.

【0003】このアパチャーグリルは、一般的にエッチ
ング法によって製造されている。具体的には、鉄箔の両
面にフォトレジスト層を設け、所望の形状にバターニン
グした後、塩化第二鉄溶液で鉄箔をエッチングして多数
のスリットを形成し、フォトレジスト層を除去して製造
される。
This aperture grill is generally manufactured by an etching method. Specifically, a photoresist layer is provided on both sides of the iron foil, and after patterning in a desired shape, the iron foil is etched with a ferric chloride solution to form a number of slits, and the photoresist layer is removed. Manufactured.

【0004】また、アパチャーグリルは、その表面に照
射される電子ビームの反射を防止して、熱として発散さ
せるために、表面を黒色に形成する必要がある。アパチ
ャーグリルの表面を黒色に形成する手段としては、従来
から、エッチングにより多数のスリットを形成した後の
鉄箔に熱処理を施し、その表面を黒色の四三酸化鉄に変
化させる方法がとられている。
[0004] In addition, the aperture grill must have a black surface in order to prevent reflection of an electron beam applied to the surface and radiate the heat as heat. As a means for forming the surface of the aperture grill to be black, conventionally, a method has been used in which a heat treatment is applied to the iron foil after forming a large number of slits by etching, and the surface is changed to black triiron tetroxide. I have.

【0005】最近では、ディスプレイ用のカラー受像管
等において、高精密且つ高精細の画面が要求されるよう
になり、これに伴ってアパチャーグリルについても、電
子ビーム通過孔孔であるスリットのピッチを更に微細に
することが検討されている。具体的には、従来のスリッ
トピッチが250μm程度であるのに対して、200μ
m程度の狭いピッチのアパチャーグリルが要望されてい
る。
[0005] Recently, a color picture tube for a display, etc., requires a high-precision and high-definition screen, and accordingly, the aperture grille is also required to reduce the pitch of slits, which are holes for passing electron beams. Further refinement is being considered. Specifically, while the conventional slit pitch is about 250 μm,
There is a demand for an aperture grill having a pitch as narrow as about m.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような微細なスリ
ットを有するアパチャーグリルの場合、通常のエッチン
グ法では寸法精度の点で不良の発生が多く、製品歩留り
が極端に低下する。この原因は、鉄箔の厚さが厚いほど
エッチング法に特有なサイドエッチングが大きくなるた
め、従来用いている厚さ100μm程度の鉄箔では十分
な寸法精度が得られないことにある。
In the case of an aperture grill having such fine slits, a normal etching method often causes defects in terms of dimensional accuracy, resulting in an extremely low product yield. The reason for this is that, as the thickness of the iron foil is larger, the side etching peculiar to the etching method becomes larger, so that sufficient dimensional accuracy cannot be obtained with a conventionally used iron foil having a thickness of about 100 μm.

【0007】そこで、エッチング法でも十分な寸法精度
が得られるように、アパチャーグリルの素材である鉄箔
の厚みを薄くすることが検討された。その結果、厚さ5
0μm程度の薄い鉄箔を使用した場合には、スリットピ
ッチ200μm程度の微細なスリットであっても、通常
のエッチング法によって精度良く形成し得ることが分か
った。
Therefore, it has been studied to reduce the thickness of the iron foil, which is the material of the aperture grill, so that sufficient dimensional accuracy can be obtained even by the etching method. As a result, the thickness 5
It was found that when a thin iron foil having a thickness of about 0 μm was used, even a fine slit having a slit pitch of about 200 μm could be accurately formed by a normal etching method.

【0008】しかし、このようにして形成されたアパチ
ャーグリルは、従来より鉄箔の厚みが薄くなり、且つス
リットの間に残るテープ部の幅も狭くなっているため、
テープ部自体の破断強度が減少するという欠点があっ
た。そのため、このアパチャーグリルをフレームに溶接
し、所定の張力を加えたとき、テープ部が破断するとい
う問題が生じていた。
However, in the aperture grill formed in this way, the thickness of the iron foil is smaller than before, and the width of the tape portion remaining between the slits is also smaller.
There is a disadvantage that the breaking strength of the tape portion itself is reduced. Therefore, when the aperture grill is welded to the frame and a predetermined tension is applied, there has been a problem that the tape portion is broken.

【0009】本発明は、このような従来の事情に鑑み、
ピッチが200μm程度の微細なスリットであっても精
度良く形成でき、テープ部の破断強度を高め、フレーム
に溶接した後に張力を加えてもテープ部が破断すること
がない、高精度且つ高強度のアパチャーグリルの製造方
法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such conventional circumstances,
Even if the pitch is a fine slit of about 200 μm, it can be formed with high precision, enhance the breaking strength of the tape part, and the tape part does not break even if tension is applied after welding to the frame, high precision and high strength An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an aperture grill.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明が提供するアパチャーグリルの製造方法は、
ニッケル又はコバルト若しくはこれらの合金からなる中
央層の両面に鉄皮膜を設けた金属箔を作製し、該金属箔
をエッチングして多数のスリットを形成することを特徴
とする。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an aperture grill provided by the present invention comprises:
A metal foil having an iron film provided on both surfaces of a central layer made of nickel or cobalt or an alloy thereof is produced, and the metal foil is etched to form a large number of slits.

【0011】また、上記本発明のアパチャーグリルの製
造方法において、前記ニッケル又はコバルト若しくはこ
れらの合金からなる中央層は電気めっき法で形成するこ
とが望ましい。
In the method for manufacturing an aperture grill according to the present invention, it is preferable that the central layer made of nickel, cobalt or an alloy thereof is formed by electroplating.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明者の検討によれば、従来の
アパチャーグリルの素材である圧延法で製造された鉄箔
は70kg/mm2程度の破断強度を有し、厚さ100
μmの鉄箔にピッチ250μmのスリットを形成する
と、テープ部は厚さ100μm×幅195μmとなるた
め、テープ部1本当たりの破断強度は1.36kg程度
となる。ところが、鉄箔の厚さを50μmと薄くしてス
リットのピッチを200μmに狭めると、テープ部は厚
さ50μm×幅156μmとなるため、テープ部1本当
たりの破断強度は0.55kg程度にまで減少する。こ
の結果、一定の張力を与えてフレームに溶接した場合、
狭いピッチのアパチャーグリルではテープ部に破断が生
じやすくなることが分かった。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION According to the study of the present inventors, the iron foil manufactured by the rolling method, which is the material of the conventional aperture grill, has a breaking strength of about 70 kg / mm 2 and a thickness of 100 kg / mm 2.
When slits having a pitch of 250 μm are formed in a μm iron foil, the tape portion has a thickness of 100 μm and a width of 195 μm, so that the breaking strength per tape portion is about 1.36 kg. However, when the thickness of the iron foil is reduced to 50 μm and the pitch of the slit is reduced to 200 μm, the tape part becomes 50 μm thick × 156 μm wide, so the breaking strength per tape part is about 0.55 kg. Decrease. As a result, when welding to the frame with a certain tension,
It has been found that the tape is likely to break when the aperture grill has a narrow pitch.

【0013】本発明においては、アパチャーグリルの素
材の改良によって、エッチング法による微細なスリット
の形成を可能にすると同時に、従来用いられていた鉄箔
よりも破断強度を改善向上させることができた。即ち、
鉄より高い破断強度を有する金属からなる中央層の両面
に、表面を熱処理により黒色とするための鉄皮膜を設け
た金属箔を素材とし、この金属箔をエッチングしてアパ
チャーグリルを製造する。金属箔の中央層を構成する金
属としては、ニッケル又はコバルトの単体、あるいはニ
ッケル(Ni)及びコバルト(Co)のうちの少なくと
も1種を含む合金が最も好ましい。
In the present invention, by improving the material of the aperture grill, it was possible to form fine slits by an etching method, and at the same time, it was possible to improve and improve the breaking strength as compared with a conventionally used iron foil. That is,
An aperture grille is manufactured by using a metal foil provided with an iron coating on both surfaces of a central layer made of a metal having a higher breaking strength than iron to make the surface black by heat treatment, and etching the metal foil. The metal constituting the central layer of the metal foil is most preferably a simple substance of nickel or cobalt, or an alloy containing at least one of nickel (Ni) and cobalt (Co).

【0014】アパチャーグリルの破断強度を比較する
と、圧延法で製造された従来の鉄箔は70kg/mm2
程度の破断強度であるのに対して、本発明の金属箔にお
けるニッケル又はコバルト若しくはこれらの合金からな
る中央層は100〜200kg/mm2程度という、鉄
箔よりもはるかに高い破断強度を有している。また、高
い破断強度を得るためには、少なくとも金属箔の中央層
を電気めっき法で形成することが好ましい。
When the breaking strength of the aperture grill is compared, the conventional iron foil manufactured by the rolling method is 70 kg / mm 2.
On the other hand, the central layer made of nickel or cobalt or an alloy thereof in the metal foil of the present invention has a breaking strength of about 100 to 200 kg / mm 2 , which is much higher than that of iron foil. ing. Further, in order to obtain high breaking strength, it is preferable to form at least the central layer of the metal foil by an electroplating method.

【0015】また、本発明の金属箔を素材とするアパチ
ャーグリルでは、例えば中央層の厚さ50μmの金属箔
(薄い鉄皮膜の厚さは無視)にピッチ200μmのスリ
ットを形成すると、テープ部は厚さ50μm×幅156
μmで、テープ部1本当たりの破断強度は1kg程度と
なる。このテープ部1本当たりの破断強度は、従来の厚
さ100μmの鉄箔にピッチ250μmでスリットを形
成した場合と同等又はそれ以上であり、このため一定の
張力を与えてテレビフレームに溶接したときのテープ部
の破断を防ぐことができる。
In the aperture grill of the present invention using a metal foil as a material, for example, if a slit having a pitch of 200 μm is formed in a metal foil having a thickness of 50 μm in the center layer (thickness of a thin iron film is ignored), the tape portion becomes Thickness 50μm x width 156
With μm, the breaking strength per tape part is about 1 kg. The breaking strength per tape part is equal to or greater than that of a conventional iron foil having a thickness of 100 μm and slits formed at a pitch of 250 μm. Of the tape portion can be prevented.

【0016】金属箔中の中央層の厚さは、所望のスリッ
トピッチ及び必要とする破断強度に応じて適宜定めるこ
とができる。鉄皮膜の厚さは、熱処理によって表面に黒
色の四三酸化鉄を形成し得る厚さであれば良く、具体的
には0.1μm以上が好ましい。また、鉄皮膜の厚さの
上限は特に限定されないが、テープ部自体の破断強度を
改良するためには破断強度の高い中間層の厚さに比べて
相対的に薄くすべきであり、また全体が厚くなるほどサ
イドエッチが大きくなるので、通常は片面で20μm以
下とすることが望ましい。尚、アパチャーグリルの全体
の厚さは、高画質を得るためには、50μm程度とする
ことが望ましい。
The thickness of the central layer in the metal foil can be appropriately determined according to the desired slit pitch and the required breaking strength. The thickness of the iron film may be any thickness that can form black ferric oxide on the surface by heat treatment, and specifically, is preferably 0.1 μm or more. The upper limit of the thickness of the iron film is not particularly limited, but in order to improve the breaking strength of the tape portion itself, it should be relatively thinner than the thickness of the intermediate layer having a higher breaking strength. Since the side etch increases as the thickness increases, it is usually desirable that the thickness be 20 μm or less on one side. The overall thickness of the aperture grill is desirably about 50 μm in order to obtain high image quality.

【0017】また、本発明における金属箔は、電気めっ
き法等を用いて作製することができる。例えば、表面に
不動体膜を形成しやすいチタンやステンレス等の金属板
を支持体とし、その表面に電気めっき法により順に、鉄
皮膜、ニッケル又はコバルト若しくはこれらの合金から
なる中央層、及び鉄皮膜を形成し、最終的に支持体から
剥離することによって、金属箔を作製することができ
る。また、鉄箔の片面に、ニッケル又はコバルト若しく
はこれらの合金の中央層を電気めっき法によって形成し
た後、その上に電気めっき法によって更に鉄皮膜を形成
して、金属箔とすることもできる。
Further, the metal foil in the present invention can be produced by using an electroplating method or the like. For example, a metal plate, such as titanium or stainless steel, on which a passive body film is easily formed on the surface is used as a support, and the surface thereof is successively subjected to electroplating using an iron film, a central layer made of nickel or cobalt or an alloy thereof, and an iron film. Is formed and finally peeled off from the support to produce a metal foil. Alternatively, a metal layer may be formed by forming a central layer of nickel or cobalt or an alloy thereof on one side of an iron foil by an electroplating method, and further forming an iron film thereon by an electroplating method.

【0018】このようにして作製した金属箔を素材と
し、エッチング法によって本発明のアパチャーグリルを
製造する。鉄皮膜のエッチングは従来と同様に塩化第二
鉄溶液を用いて行うことができ、中央層はその構成成分
であるニッケル又はコバルト等を溶解する能力を有する
エッチング液を用いてエッチングする。尚、アパチャー
グリルは、エッチングによるスリット形成後に、熱処理
により鉄皮膜の表面を酸化させ、四三酸化鉄に変えるこ
とにより黒化させる。
The aperture grill of the present invention is manufactured by using the thus prepared metal foil as a raw material by an etching method. The iron film can be etched using a ferric chloride solution as in the prior art, and the central layer is etched using an etching solution having the ability to dissolve its constituent components such as nickel and cobalt. In the aperture grill, after the slit is formed by etching, the surface of the iron film is oxidized by heat treatment, and is turned black by changing it to ferric oxide.

【0019】[0019]

【実施例】次に、実施例によって本発明を更に詳細に説
明する。縦440mm、横560mm、厚さ0.3mm
のチタン板を支持体とし、その表面に下記表1に示す鉄
めっき液組成及びめっき条件で電気めっきを行い、厚さ
0.1μmの鉄皮膜を形成した。次に、表2に示すめっ
き液組成及びめっき条件で電気めっきを行い、鉄皮膜の
表面に厚さ50μmのニッケル層を形成した。その後、
このニッケル層の表面に表1と同じ鉄液組成及びめっき
条件で電気めっきを実施し、厚さ0.1μmの鉄皮膜を
形成した。以上のめっき処理後、めっきにより得られた
金属箔をチタン板から剥離した。
Next, the present invention will be described in more detail by way of examples. Length 440mm, width 560mm, thickness 0.3mm
Using a titanium plate as a support, electroplating was performed on the surface thereof under the iron plating solution composition and plating conditions shown in Table 1 below to form an iron film having a thickness of 0.1 μm. Next, electroplating was performed under the plating solution composition and plating conditions shown in Table 2 to form a 50 μm thick nickel layer on the surface of the iron film. afterwards,
Electroplating was performed on the surface of the nickel layer under the same iron solution composition and plating conditions as in Table 1 to form an iron film having a thickness of 0.1 μm. After the above plating treatment, the metal foil obtained by plating was peeled from the titanium plate.

【0020】[0020]

【表1】《鉄めっき液組成及びめっき条件》めっき液組成 FeCl2・4H2O 2.01M CaCl2 1.62M サッカリン 9.13M ラウリル硫酸ナトリウム 0.30mMめっき条件 温度 90℃ 陰極電流密度 3A/dm2 陽極 Pt 時間 20sec.[Table 1] << Iron plating solution composition and plating conditions >> Plating solution composition FeCl 2 .4H 2 O 2.01 M CaCl 2 1.62 M Saccharin 9.13 M Sodium lauryl sulfate 0.30 mM Plating condition temperature 90 ° C. Cathode current density 3 A / dm 2 anode Pt time 20 sec.

【0021】[0021]

【表2】《ニッケルめっき液組成及びめっき条件》めっき液組成 NiSO4・6H2O 250g/l NiCl2・6H2O 60g/l ほう酸 40g/l 光沢剤 適量めっき条件 温度 60℃ 陰極電流密度 6A/dm2 陽極 Ni 時間 40min.TABLE 2 "nickel plating solution composition and plating conditions" plating solution composition NiSO 4 · 6H 2 O 250g / l NiCl 2 · 6H 2 O 60g / l boric acid 40 g / l brightener qs plating conditions Temperature 60 ° C. Cathode current density 6A / Dm 2 anode Ni time 40min.

【0022】その後、得られた金属箔(破断強度150
kg/mm2)の両面に厚さ5μmのフォトレジスト層
を形成し、所定のフォトマスクを用いて露光し、現像処
理を行った後、金属箔の両面からエッチング処理を行っ
た。エッチング処理は、まず下記表3に示すエッチング
液組成及びエッチング条件で両側表面の鉄皮膜をエッチ
ングした後、表4に示すエッチング液組成及びエッチン
グ条件で中央層であるニッケル層をエッチングした。エ
ッチング処理の終了後、フォトレジスト層を剥離するこ
とによってアパチャーグリルが得られた。
Thereafter, the obtained metal foil (with a breaking strength of 150
kg / mm 2) a photoresist layer having a thickness of 5μm was formed on both sides of, and exposed using a predetermined photomask, after the development processing was carried out etching from both sides of the metal foil. In the etching treatment, first, the iron film on both sides was etched with the etching solution composition and etching conditions shown in Table 3 below, and then the nickel layer as the central layer was etched with the etching solution composition and etching conditions shown in Table 4. After completion of the etching process, the aperture grill was obtained by removing the photoresist layer.

【0023】[0023]

【表3】 《鉄皮膜のエッチング液組成及びエッチング条件》エッチング液組成 FeCl3 300g/lエッチング条件 温度 40℃ スプレー圧 2kg/cm2 時間 5sec.Table 3 << Etch coating composition and etching conditions >> Etching composition 300 g / l FeCl 3 Etching conditions Temperature 40 ° C. Spray pressure 2 kg / cm 2 hours 5 sec.

【0024】[0024]

【表4】 《ニッケル層のエッチング液組成及びエッチング条件》エッチング液組成 「D−セーフリップ」(商品名:奥野製薬社製)エッチング条件 温度 50℃ スプレー圧 2kg/cm2 時間 5min.<< Etching solution composition and etching conditions of nickel layer >> Etching solution composition "D-Safe Lip" (trade name: manufactured by Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.) Etching conditions Temperature 50 ° C. Spray pressure 2 kg / cm 2 hours 5 min.

【0025】得られたアパチャーグリルは、スリットの
ピッチが200μm及びテーブ部の幅が156μmであ
った。このアパチャーグリルをターンバック量5mmに
設定したフレームに溶接した。溶接の終了後、フレーム
に加えられた外力を解放することによってアパチャーグ
リルに所定の張力を加えたが、テープ部には断線が全く
生じなかった。
The obtained aperture grill had a slit pitch of 200 μm and a width of the tape portion of 156 μm. This aperture grill was welded to a frame set with a turnback amount of 5 mm. After the welding was completed, a predetermined tension was applied to the aperture grill by releasing the external force applied to the frame, but no disconnection occurred in the tape portion.

【0026】[0026]

【比較例】厚さ50μm(破断強度70kg/mm2
の鉄箔を用い、上記実施例と同様にしてフォトレジスト
層を形成した後、下記表5に示すエッチング液組成及び
条件で鉄箔をエッチングすることによって、上記実施例
と同じくスリットのピッチ200μm及びテープ部の幅
156μmのアパチャーグリルを得た。
[Comparative example] 50 μm thick (breaking strength 70 kg / mm 2 )
After forming a photoresist layer in the same manner as in the above example using the iron foil of Example 1, the iron foil was etched with the etchant composition and conditions shown in Table 5 below, whereby the slit pitch was 200 μm and the same as in the above example. An aperture grill having a tape portion with a width of 156 μm was obtained.

【0027】[0027]

【表5】 《鉄皮膜のエッチング液組成及びエッチング条件》エッチング液組成 FeCl3 400g/lエッチング条件 温度 50℃ スプレー圧 2kg/cm2 時間 1min.Table 5 << Etch coating composition and etching conditions >> Etching composition 400 g / l FeCl 3 Etching conditions Temperature 50 ° C Spray pressure 2 kg / cm 2 hours 1 min.

【0028】得られたアパチャーグリルをターンバック
量5mmに設定したフレームに溶接した後、フレームに
加えられた外力を解放してアパチャーグリルに所定の張
力を加えたところ、一部のテープ部に破断が生じた。
After the obtained aperture grill was welded to a frame set to a turnback amount of 5 mm, the external force applied to the frame was released to apply a predetermined tension to the aperture grill. Occurred.

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば、微細なスリットピッチ
であっても、寸法精度が良く且つテープ部の破断強度が
高く、フレームに溶接した後に張力を加えてもテープ部
が破断することのない、高精度で高強度のアパチャーグ
リルを提供することができる。従って、本発明によるア
パチャーグリルは、従来のエッチング法では困難であっ
た200μm程度のスリットピッチが可能であり、テー
ブ部の破断なくフレームに取り付けることができるの
で、ブラウン管等のカラー受像機の高画質化にとって極
めて有用である。
According to the present invention, even if the slit pitch is fine, the dimensional accuracy is good and the breaking strength of the tape portion is high, so that the tape portion breaks even when tension is applied after welding to the frame. A high-precision, high-strength aperture grill can be provided. Therefore, the aperture grill according to the present invention can have a slit pitch of about 200 μm, which is difficult with the conventional etching method, and can be attached to the frame without breakage of the tape portion. It is extremely useful for conversion.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ニッケル又はコバルト若しくはこれらの
合金からなる中央層の両面に鉄皮膜を設けた金属箔を作
製し、該金属箔をエッチングして多数のスリットを形成
することを特徴とするアパチャーグリルの製造方法。
1. An aperture grill, comprising: preparing a metal foil provided with an iron film on both surfaces of a central layer made of nickel or cobalt or an alloy thereof; and etching the metal foil to form a large number of slits. Manufacturing method.
【請求項2】 前記ニッケル又はコバルト若しくはこれ
らの合金からなる中央層を電気めっき法で形成すること
を特徴とする、請求項1に記載のアパチャーグリルの製
造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the central layer made of nickel, cobalt, or an alloy thereof is formed by electroplating.
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