【特許請求の範囲】
【請求項１】 スパッタリング法を用いて基板の上に、屈折率が相対的に小さい第１物質の層（第１物質層）と屈折率が相対的に大きい第２物質の層（第２物質層）とを交互に複数回積層することにより多層膜反射鏡を製造する方法において、
前記第１物質層を形成した後、前記第２物質層を形成する前に、形成した前記第１物質層の表面にイオンビームを照射して表面を平滑化する工程を設けるか、
前記第２物質層を形成した後、前記第１物質層を形成する前に、形成した前記第２物質層の表面にイオンビームを照射して表面を平滑化する工程を設けるか、
或いは、前記両工程を設けることを特徴とする多層膜反射鏡の製造方法。
【請求項２】 前記イオンビームのイオン種は、不活性ガスであることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
【請求項３】 前記イオンビームのエネルギーは、50eV以上1000eV以下であることを特徴とする請求項１または２記載の製造方法。
【請求項４】 前記基板は接地電位にあるか、或いは前記基板には直流バイアス電圧が印加されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】 スパッタリング法を用いて基板の上に、屈折率が相対的に小さい第１物質の層（第１物質層）と屈折率が相対的に大きい第２物質の層（第２物質層）とが交互に積層された多層膜反射鏡において、
イオンビームが照射され、平滑化された前記第１物質層と前記第２の物質層との界面を有することを特徴とする多層膜反射鏡。
【請求項６】 前記第１物質層の膜厚と前記第２物質層の膜厚の和である周期長をｄとし、前記基板の表面粗さＲＭＳ値をσsubとした場合、前記界面の粗さＲＭＳ値であるσintは、本請求項の後述の式１又は式２に示す範囲まで平滑化された界面を有することを特徴とする請求項５に記載の多層膜反射鏡。
式１：ｄ≧５ｎｍの多層膜では、σint−σsub＜０．２ｎｍ
式２：ｄ＜５ｎｍの多層膜では、σint−σsub＜０．５ｎｍ
【請求項７】 前記第１物質層を形成する物質と前記第２物質層を形成する物質とが互いに拡散する領域が１ｎｍ以下になるように平滑された前記界面を有することを特徴とする請求項５に記載の多層膜反射鏡。
【請求項８】 基板の上に、屈折率が相対的に小さい第１物質の層（第１物質層）と屈折率が相対的に大きい第２物質の層（第２物質層）とが交互に積層された多層膜反射鏡において、
前記多層膜の周期長をｄとし、前記基板の表面粗さＲＭＳ値をσsubとした場合、前記界面の粗さＲＭＳ値であるσintは、本請求項の後述の式３又は式４に示す範囲であることを特徴とする請求項５に記載の多層膜反射鏡。
式３：ｄ≧５ｎｍの多層膜では、σint−σsub＜０．２ｎｍ
式４：ｄ＜５ｎｍの多層膜では、σint−σsub＜０．５ｎｍ
【請求項９】 基板の上に、屈折率が相対的に小さい第１物質の層（第１物質層）と屈折率が相対的に大きい第２物質の層（第２物質層）とが交互に積層された多層膜反射鏡において、
前記第１物質層を形成する物質と前記第２物質層を形成する物質とが界面で互いに拡散する領域が１ｎｍ以下である前記第１物質層と前記第２の物質層との界面を有することを特徴とする多層膜反射鏡。
【請求項１０】 請求項５〜９のいずれかに記載の多層膜反射鏡を有することを特徴とする露光装置。
[Claims]
1. A layer of a first substance having a relatively small refractive index (first substance layer) and a layer of a second substance having a relatively large refractive index (second substance) are placed on a substrate by a sputtering method. In a method of manufacturing a multilayer film reflector by alternately stacking layers) a plurality of times,
After forming the first substance layer and before forming the second substance layer, a step of irradiating the surface of the formed first substance layer with an ion beam to smooth the surface is provided.
After forming the second substance layer and before forming the first substance layer, a step of irradiating the surface of the formed second substance layer with an ion beam to smooth the surface is provided.
Alternatively, a method for manufacturing a multilayer film reflector, which comprises providing both of the above steps.
2. The production method according to claim 1, wherein the ion species of the ion beam is an inert gas.
3. The manufacturing method according to claim 1, wherein the energy of the ion beam is 50 eV or more and 1000 eV or less.
4. The manufacturing method according to claim 1, wherein the substrate is at a ground potential, or a DC bias voltage is applied to the substrate.
5. A layer of a first substance having a relatively small refractive index (first substance layer) and a layer of a second substance having a relatively large refractive index (second substance) are placed on a substrate by a sputtering method. In a multilayer film reflector in which layers) are alternately laminated,
A multilayer film reflector characterized by having an interface between the first material layer and the second material layer that has been irradiated with an ion beam and smoothed.
6. When the period length, which is the sum of the film thickness of the first substance layer and the film thickness of the second substance layer, is d, and the surface roughness RMS value of the substrate is σsub, the roughness of the interface is defined. The multilayer film reflector according to claim 5, wherein the RMS value σint has an interface smoothed to the range shown in the formula 1 or formula 2 described later in the present claim.
Equation 1: For a multilayer film with d ≧ 5 nm, σint−σsub <0.2 nm
Equation 2: For multilayer films with d <5 nm, σint-σsub <0.5 nm
7. The invention is characterized by having the interface smoothed so that a region in which the substance forming the first substance layer and the substance forming the second substance layer diffuse each other is 1 nm or less. Item 5. The multilayer film reflecting mirror according to Item 5.
8. A layer of a first substance having a relatively small refractive index (first substance layer) and a layer of a second substance having a relatively large refractive index (second substance layer) alternate on the substrate. In the multilayer film reflector laminated on the
When the period length of the multilayer film is d and the surface roughness RMS value of the substrate is σsub, the roughness RMS value of the interface, σint, is in the range shown in Equation 3 or Equation 4 described later in this claim. The multilayer film reflector according to claim 5.
Equation 3: For a multilayer film with d ≧ 5 nm, σint−σsub <0.2 nm
Equation 4: For multilayer films with d <5 nm, σint-σsub <0.5 nm
9. A layer of a first substance having a relatively small refractive index (first substance layer) and a layer of a second substance having a relatively large refractive index (second substance layer) alternate on the substrate. In the multilayer film reflector laminated on the
Having an interface between the first substance layer and the second substance layer in which the region where the substance forming the first substance layer and the substance forming the second substance layer diffuse each other at the interface is 1 nm or less. A multi-layer film reflector characterized by.
10. An exposure apparatus comprising the multilayer film reflector according to any one of claims 5 to 9.