JP2000143631A - Production 7-bromo-quinolonecarboxylic acid derivative - Google Patents

Production 7-bromo-quinolonecarboxylic acid derivative

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JP2000143631A
JP2000143631A JP11242494A JP24249499A JP2000143631A JP 2000143631 A JP2000143631 A JP 2000143631A JP 11242494 A JP11242494 A JP 11242494A JP 24249499 A JP24249499 A JP 24249499A JP 2000143631 A JP2000143631 A JP 2000143631A
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保 高松
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To industrially and advantageously obtain the subject compound useful as an intermediate for producing a quinolone carboxylic acid being an antimicrobial agent by reacting a specific dibromohydroxybenzoic ester with a specific halide and subjecting a carboxyl-protecting group to an elimination reaction, etc. SOLUTION: A compound of formula I (R1a is a carboxyl-protecting group) (e.g. 2,4-dibromo-3-hydroxybenzoic ester, etc.), is reacted with a compound of the formula R2-X [R2 is a (substituted) alkyl; X is a halogen] to give a compound of formula II. Then the carboxyl-protecting group is subjected to an elimination reaction to give a compound, which is subjected to a keto esterification reaction to give a compound of formula III (R1b is a carboxyl- protecting group), which is reacted with an orthoester or an acetal and then with a compound of the formula R3-NH2 [R3 is a (substituted) alkyl or the like] to give a compound of formula IV, which is subjected to a ring closure reaction to give the objective compound of formula V.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明に属する技術分野】本発明は、抗菌剤として有用
な一般式[1]
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a compound represented by the general formula [1] useful as an antibacterial agent:

【化7】 「式中、Rは、水素原子またはアルキル基を;R
は、置換されていてもよいアルキル基を;Rは、置
換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、アリー
ルまたは複素環式基を;Rは、水素原子、ハロゲン原
子、置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シク
ロアルキル、アリール、アルコキシまたはアルキルチオ
基、ニトロ基、シアノ基、アシル基、保護されていても
よいヒドロキシル基、保護または置換されていてもよい
アミノ基から選ばれる1つ以上の基を;Rは、水素原
子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル、ア
ルケニル、シクロアルキル、アルアルキル、アリール、
アルコキシまたはアルキルチオ基、ニトロ基、シアノ
基、アシル基、保護されていてもよいヒドロキシル基、
保護または置換されていてもよいアミノ基、Rが結合
する炭素原子と共にシクロアルカン環を形成する基から
選ばれる1つ以上の基を;Dは、5員もしくは6員の複
素環または炭化水素環を、それぞれ示す。」で表される
キノロンカルボン酸またはその塩を製造するための有用
な中間体の製造法に関するものである。
Embedded image Wherein R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group;
2 represents an optionally substituted alkyl group; R 3 represents an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; R 4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, One or more selected from an alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aryl, alkoxy or alkylthio group, a nitro group, a cyano group, an acyl group, an optionally protected hydroxyl group, and an optionally protected or substituted amino group R 5 is a hydrogen atom, a halogen atom, an optionally substituted alkyl, alkenyl, cycloalkyl, aralkyl, aryl,
An alkoxy or alkylthio group, a nitro group, a cyano group, an acyl group, an optionally protected hydroxyl group,
D is one or more groups selected from an amino group which may be protected or substituted, a group forming a cycloalkane ring together with a carbon atom to which R 5 is bonded; D is a 5- or 6-membered heterocyclic ring or hydrocarbon The rings are respectively shown. And a method for producing a useful intermediate for producing the quinolonecarboxylic acid or a salt thereof represented by the formula:

【0002】[0002]

【従来の技術】一般式[1]の化合物の製造法として、
WO97/29102に記載の方法が知られている。
2. Description of the Related Art As a method for producing a compound of the general formula [1],
The method described in WO 97/29102 is known.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】一般式[1]の化合物
の中で、(R)−1−シクロプロピル−8−ジフルオロ
メトキシ−7−(1−メチル−2,3−ジヒドロ−1H
−5−イソインドリル)−4−オキソ−1,4−ジヒド
ロ−3−キノリンカルボン酸は、抗菌剤としてとりわけ
優れた化合物であり、このものをはじめとして一般式
[1]の化合物を製造するための有用な中間体であるつ
ぎの一般式[2]
Among the compounds of the general formula [1], (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- (1-methyl-2,3-dihydro-1H
-5-isoindolyl) -4-oxo-1,4-dihydro-3-quinolinecarboxylic acid is a particularly excellent compound as an antibacterial agent, and is useful for producing a compound of the general formula [1]. The following general formula [2] which is a useful intermediate

【化8】 「式中、R1bは、カルボキシル保護基を;Rは、置
換されていてもよいアルキル基を;Rは、置換されて
いてもよいアルキル、シクロアルキル、アリールまたは
複素環式基を、それぞれ示す。」で表される7−ブロモ
−キノロンカルボン酸誘導体の工業的に有用な製造法の
開発が求められていた。
Embedded image Wherein R 1b is a carboxyl protecting group; R 2 is an optionally substituted alkyl group; R 3 is an optionally substituted alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group; The development of an industrially useful method for producing a 7-bromo-quinolone carboxylic acid derivative represented by the formula:

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者らは鋭意研究を行った結果、2,4−ジブ
ロモ−3−ヒドロキシ安息香酸エステルを原料とした後
述する各種中間体を経由する方法が、一般式[2]の7
−ブロモ−キノロンカルボン酸誘導体の工業的製造法と
して優れた方法であることを見出し、本発明を完成し
た。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have conducted intensive studies. As a result, the following intermediates using 2,4-dibromo-3-hydroxybenzoic acid ester as a raw material were obtained. The method of passing is represented by 7 in the general formula [2].
The present inventors have found that this is an excellent method as an industrial production method of a -bromo-quinolonecarboxylic acid derivative, and have completed the present invention.

【0005】以下、本発明を詳細に説明する。本明細書
において特にことわらない限り、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を;ア
ルキル基とは、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、
イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、sec-ブチル、te
rt-ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルおよびオク
チルなどの直鎖状または分枝鎖状C1−10アルキル基
を;アルケニル基とは、例えば、ビニル、アリル、イソ
プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプ
テニルおよびオクテニルなどの直鎖状または分枝鎖状C
2−10アルケニル基を;シクロアルキル基とは、例え
ば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルお
よびシクロヘキシルなどのC3−6シクロアルキル基
を;
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, unless otherwise specified, a halogen atom means a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an alkyl group means, for example, methyl, ethyl, n-propyl,
Isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, te
a linear or branched C 1-10 alkyl group such as rt-butyl, pentyl, hexyl, heptyl and octyl; an alkenyl group is, for example, vinyl, allyl, isopropenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl And branched C such as octenyl and
2-10 alkenyl group; the cycloalkyl group, for example, cyclopropyl, cyclobutyl, C 3-6 cycloalkyl groups such as cyclopentyl and cyclohexyl;

【0006】アルコキシ基とは、例えば、メトキシ、エ
トキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、
イソブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、ペンチ
ルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシおよびオク
チルオキシなどの直鎖状または分枝鎖状C1−10アル
コキシ基を;アルコキシカルボニル基とは、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、n-プロポキシ
カルボニル、イソプロポキシカルボニル、n-ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシカル
ボニル、tert-ブトキシカルボニルおよびペンチルオキ
シカルボニルなどのアルコキシ−CO−基を;アルキル
アミノ基とは、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、
プロピルアミノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキ
シルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチル
エチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノおよ
びジペンチルアミノなどの直鎖状または分枝鎖状C
1−10アルキル基で置換されたアミノ基を;
The alkoxy group includes, for example, methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy,
A linear or branched C 1-10 alkoxy group such as isobutoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy and octyloxy; an alkoxycarbonyl group is, for example, methoxycarbonyl, An alkoxy-CO- group such as ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, n-butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl and pentyloxycarbonyl; an alkylamino group is, for example, , Methylamino, ethylamino,
Linear or branched C such as propylamino, butylamino, pentylamino, hexylamino, dimethylamino, diethylamino, methylethylamino, dipropylamino, dibutylamino and dipentylamino;
An amino group substituted with a 1-10 alkyl group;

【0007】アルキルチオ基とは、例えば、メチルチ
オ、エチルチオ、n-プロピルチオ、イソプロピルチオ、
n-ブチルチオ、イソブチルチオ、sec-ブチルチオ、tert
-ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチル
チオおよびオクチルチオなどの直鎖状または分枝鎖状C
1−10アルキルチオ基を;アシル基とは、例えば、ホ
ルミル基、アセチルおよびエチルカルボニルなどの直鎖
状または分枝鎖状C2−5アルカノイル基並びにベンゾ
イルおよびナフチルカルボニルなどのアロイル基を;ア
リール基とは、例えば、フェニルおよびナフチル基を;
アルアルキル基とは、例えば、ベンジル、フェネチル、
ジフェニルメチルおよびトリフェニルメチル基を;複素
環式基とは、該環を形成する異項原子として酸素原子、
窒素原子および硫黄原子から選ばれる1つ以上の異項原
子を含む4員、5員もしくは6員環またはそれらの縮合
環、例えば、オキセタニル、チエタニル、アゼチジニ
ル、フリル、ピロリル、チエニル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、イミダゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、ピロリジニル、ベンゾフラニル、ベンゾチアゾリ
ル、ピリジル、キノリル、ピリミジニルおよびモルホリ
ニル基を、それぞれ意味する。Rにおけるシクロアル
カン環としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタ
ン、シクロペンタン、シクロヘキサンなどのシクロアル
カン環を、Dにおける5員または6員環の複素環として
は、該環を形成する異項原子として酸素原子、窒素原子
および硫黄原子から選ばれる1つ以上の異項原子を含む
複素環、例えば、トリアジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、ピラジン、ピリジン、フラン、チオフェン、ピロー
ル、オキサゾール、チアゾール、イミダゾール、イソオ
キサゾール、イソチアゾール、ピラゾール、ピラン、フ
ラザンなどの5員または6員の芳香族複素環;テトラヒ
ドロ−2H−ピラン、テトラヒドロ−2H−チオピラ
ン、ピペリジン、ジオキサン、オキサチアン、モルフォ
リン、チオモルフォリン、ジチアン、ピペラジン、ピロ
リジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロフラ
ン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、テトラヒドロイソ
チアゾール、1,3−チアゾラン、テトラヒドロイソオ
キサゾール、1,3−オキサゾラン、ジチオラン、オキ
サチオラン、ジオキソランなどの5員もしくは6員環の
脂肪族複素環が挙げられる。Dにおける5員または6員
環の炭化水素環としては、ベンゼン、シクロヘキセン、
シクロペンテンなどの5員または6員環不飽和炭化水素
環;シクロヘキサンおよびシクロペンタンといった飽和
炭化水素環が挙げられる。また、本明細書において、低
級とは炭素数1〜5を意味する。ただし、低級アルケニ
ル基における低級とは、炭素数2〜5を意味する。
The alkylthio group includes, for example, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio,
n-butylthio, isobutylthio, sec-butylthio, tert
Linear or branched C such as -butylthio, pentylthio, hexylthio, heptylthio and octylthio;
An acyl group includes, for example, a linear or branched C 2-5 alkanoyl group such as formyl group, acetyl and ethylcarbonyl and an aroyl group such as benzoyl and naphthylcarbonyl; an aryl group; Is, for example, a phenyl and naphthyl group;
Aralkyl groups include, for example, benzyl, phenethyl,
A diphenylmethyl and triphenylmethyl group; a heterocyclic group is an oxygen atom as a hetero atom forming the ring,
A 4-, 5- or 6-membered ring containing one or more heteroatoms selected from a nitrogen atom and a sulfur atom or a fused ring thereof, for example, oxetanyl, thietanyl, azetidinyl, furyl, pyrrolyl, thienyl, oxazolyl, isoxazolyl, Imidazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, pyrrolidinyl, benzofuranyl, benzothiazolyl, pyridyl, quinolyl, pyrimidinyl and morpholinyl groups are respectively meant. As the cycloalkane ring for R 5 , for example, a cycloalkane ring such as cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, etc., and as a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring for D, as a heteroatom forming the ring A heterocycle containing one or more heteroatoms selected from an oxygen atom, a nitrogen atom and a sulfur atom, for example, triazine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine, pyridine, furan, thiophene, pyrrole, oxazole, thiazole, imidazole, isoxazole, 5- or 6-membered aromatic heterocycle such as isothiazole, pyrazole, pyran, furazane; tetrahydro-2H-pyran, tetrahydro-2H-thiopyran, piperidine, dioxane, oxathiane, morpholine, thiomorpholine, dithiane, piperazine, Pi 5- or 6-membered aliphatic heterocycle such as loridine, tetrahydrothiophene, tetrahydrofuran, pyrazolidine, imidazolidine, tetrahydroisothiazole, 1,3-thiazolan, tetrahydroisoxazole, 1,3-oxazolan, dithiolan, oxathiolan, dioxolan, etc. Is mentioned. As the 5- or 6-membered hydrocarbon ring for D, benzene, cyclohexene,
5- or 6-membered unsaturated hydrocarbon rings such as cyclopentene; and saturated hydrocarbon rings such as cyclohexane and cyclopentane. In addition, in this specification, lower means C1-5. However, lower in the lower alkenyl group means having 2 to 5 carbon atoms.

【0008】アミノ基および低級アルキルアミノ基の保
護基としては、通常のアミノ基の保護基として使用し得
るすべての基を含み、例えば、トリクロロエトキシカル
ボニル、トリブロモエトキシカルボニル、ベンジルオキ
シカルボニル、p-ニトロベンジルカルボニル、o-ブロモ
ベンジルオキシカルボニル、(モノ−、ジ−、トリ−)ク
ロロアセチル、トリフルオロアセチル、フェニルアセチ
ル、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、tert-アミルオ
キシカルボニル、tert-ブトキシカルボニル、p-メトキ
シベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベン
ジルオキシカルボニル、4−(フェニルアゾ)ベンジル
オキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボニル、
ジフェニルメトキシカルボニル、1,1−ジメチルプロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、フタロ
イル、スクシニル、アラニル、ロイシル、1−アダマン
チルオキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボニル
およびピバロイルなどのアシル基;ベンジル、ジフェニ
ルメチルおよびトリチルなどのアルアルキル基;2−ニ
トロフェニルチオおよび2,4−ジニトロフェニルチオ
などのアリールチオ基;メタンスルホニルおよびp-トル
エンスルホニルなどのアルキル−もしくはアリール−ス
ルホニル基;N,N−ジメチルアミノメチレンなどのジ
−アルキルアミノ−低級アルキリデン基;ベンジリデ
ン、2−ヒドロキシベンジリデン、2−ヒドロキシ−5
−クロロベンジリデンおよび2−ヒドロキシ−1−ナフ
チルメチレンなどのアル−低級アルキリデン基;3−ヒ
ドロキシ−4−ピリジルメチレンなどの含窒素複素環式
アルキリデン基;シクロヘキシリデン、2−エトキシカ
ルボニルシクロヘキシリデン、2−エトキシカルボニル
シクロペンチリデン、2−アセチルシクロヘキシリデン
および3,3−ジメチル−5−オキシシクロヘキシリデ
ンなどのシクロアルキリデン基;ジフェニルホスホリル
およびジベンジルホスホリルなどのジアリール−もしく
はジアル−アルキルホスホリル基;5−メチル−2−オ
キソ−2H−1,3−ジオキソール−4−イル−メチル
などの含酸素複素環式アルキル基;並びにトリメチルシ
リルなどの置換シリル基などが挙げられる。
The protecting group for the amino group and the lower alkylamino group includes all groups which can be used as ordinary protecting groups for the amino group, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, p- Nitrobenzylcarbonyl, o-bromobenzyloxycarbonyl, (mono-, di-, tri-) chloroacetyl, trifluoroacetyl, phenylacetyl, formyl, acetyl, benzoyl, tert-amyloxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, p- Methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4- (phenylazo) benzyloxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl,
Acyl groups such as diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, alanyl, leucyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl and pivaloyl; benzyl, diphenylmethyl and trityl Aryl groups such as 2-nitrophenylthio and 2,4-dinitrophenylthio; alkyl- or aryl-sulfonyl groups such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl; dialkyl groups such as N, N-dimethylaminomethylene -Alkylamino-lower alkylidene group; benzylidene, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5
Al-lower alkylidene groups such as -chlorobenzylidene and 2-hydroxy-1-naphthylmethylene; nitrogen-containing heterocyclic alkylidene groups such as 3-hydroxy-4-pyridylmethylene; cyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclohexylidene; Cycloalkylidene groups such as 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene and 3,3-dimethyl-5-oxycyclohexylidene; diaryl- or dial-alkylphosphoryl groups such as diphenylphosphoryl and dibenzylphosphoryl; Oxygen-containing heterocyclic alkyl groups such as 5-methyl-2-oxo-2H-1,3-dioxol-4-yl-methyl; and substituted silyl groups such as trimethylsilyl.

【0009】カルボキシル保護基としては、通常のカル
ボキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、1,1−ジメチルプロピル、ブチルおよびtert-ブチ
ルなどのアルキル基;フェニルおよびナフチルなどのア
リール基;ベンジル、ジフェニルメチル、トリチル、p-
ニトロベンジル、p-メトキシベンジルおよびビス(p-メ
トキシフェニル)メチルなどのアルアルキル基;アセチ
ルメチル、ベンゾイルメチル、p-ニトロベンゾイルメチ
ル、p-ブロモベンゾイルメチルおよびp-メタンスルホニ
ルベンゾイルメチルなどのアシル−低級アルキル基;2
−テトラヒドロピラニルおよび2−テトラヒドロフラニ
ルなどの含酸素複素環式基;2,2,2−トリクロロエチ
ルなどのハロゲノ−低級アルキル基;2−(トリメチル
シリル)エチルなどの低級アルキルシリル−低級アルキ
ル基;アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチルお
よびピバロイルオキシメチルなどのアシルオキシ−低級
アルキル基;フタルイミドメチルおよびスクシンイミド
メチルなどの含窒素複素環式−低級アルキル基;シクロ
ヘキシルなどのシクロアルキル基;メトキシメチル、メ
トキシエトキシメチルおよび2−(トリメチルシリル)エ
トキシメチルなどの低級アルコキシ−低級アルキル基;
ベンジルオキシメチルなどのアル−低級アルコキシ−低
級アルキル基;メチルチオメチルおよび2−メチルチオ
エチルなどの低級アルキルチオ−低級アルキル基;フェ
ニルチオメチルなどのアリールチオ−低級アルキル基;
1,1−ジメチル−2−プロペニル、3−メチル−3−
ブテニルおよびアリルなどの低級アルケニル基;並びに
トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピ
ルシリル、ジエチルイソプロピルシリル、tert-ブチル
ジメチルシリル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフ
ェニルメチルシリルおよびtert-ブチルメトキシフェニ
ルシリルなどの置換シリル基などが挙げられる。
The carboxyl protecting group includes all groups that can be used as a usual carboxyl protecting group, and includes, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, 1,1-dimethylpropyl, butyl and tert-butyl. Alkyl groups; aryl groups such as phenyl and naphthyl; benzyl, diphenylmethyl, trityl, p-
Aralkyl groups such as nitrobenzyl, p-methoxybenzyl and bis (p-methoxyphenyl) methyl; acyl- groups such as acetylmethyl, benzoylmethyl, p-nitrobenzoylmethyl, p-bromobenzoylmethyl and p-methanesulfonylbenzoylmethyl Lower alkyl group; 2
Oxygen-containing heterocyclic groups such as tetrahydropyranyl and 2-tetrahydrofuranyl; halogeno-lower alkyl groups such as 2,2,2-trichloroethyl; lower alkylsilyl-lower alkyl groups such as 2- (trimethylsilyl) ethyl; Acyloxy-lower alkyl groups such as acetoxymethyl, propionyloxymethyl and pivaloyloxymethyl; nitrogen-containing heterocyclic-lower alkyl groups such as phthalimidomethyl and succinimidomethyl; cycloalkyl groups such as cyclohexyl; methoxymethyl, methoxyethoxymethyl And lower alkoxy-lower alkyl groups such as 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl;
Al-lower alkoxy-lower alkyl groups such as benzyloxymethyl; lower alkylthio-lower alkyl groups such as methylthiomethyl and 2-methylthioethyl; arylthio-lower alkyl groups such as phenylthiomethyl;
1,1-dimethyl-2-propenyl, 3-methyl-3-
Lower alkenyl groups such as butenyl and allyl; and substituted silyl groups such as trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, diethylisopropylsilyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl, diphenylmethylsilyl and tert-butylmethoxyphenylsilyl And the like.

【0010】ヒドロキシル保護基としては、通常のヒド
ロキシル基の保護基として使用し得るすべての基を含
み、例えば、ベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル、4−ブロモベンジルオキシカ
ルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、tert-ブトキシカ
ルボニル、1,1−ジメチルプロポキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニ
ル、ジフェニルメトキシカルボニル、2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル、2,2,2−トリブロモエトキ
シカルボニル、2−(トリメチルシリル)エトキシカルボ
ニル、2−(フェニルスルホニル)エトキシカルボニル、
2−(トリフェニルホスホニオ)エトキシカルボニル、2
−フルフリルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキ
シカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシ
カルボニル、S−ベンジルチオカルボニル、4−エトキ
シ−1−ナフチルオキシカルボニル、8−キノリルオキ
シカルボニル、アセチル、ホルミル、クロロアセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロ
アセチル、メトキシアセチル、フェノキシアセチル、ピ
バロイルおよびベンゾイルなどのアシル基;メチル、エ
チルおよびtert-ブチルなどの低級アルキル基;2,2,
2−トリクロロエチル、2−トリメチルシリルエチル、
メトキシメチル、メチルチオメチル、ベンジルオキシメ
チル、2−メトキシエトキシメチル、2,2,2−トリク
ロロエトキシメチル、2−(トリメチルシリル)エトキシ
メチル、1−エトキシエチルおよび1−メチル−1−メ
トキシエチルなどの置換低級アルキル基;アリルなどの
低級アルケニル基;ベンジル、p-メトキシベンジル、
3,4−ジメトキシベンジル、ジフェニルメチルおよび
トリチルなどのアルアルキル基;テトラヒドロフリル、
テトラヒドロピラニルおよびテトラヒドロチオピラニル
などの含酸素および含硫黄複素環式基;メタンスルホニ
ルおよびp-トルエンスルホニルなどの低級アルキル−お
よびアリール−スルホニル基;並びにトリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジエ
チルイソプロピルシリル、tert-ブチルジメチルシリ
ル、tert-ブチルジフェニルシリル、ジフェニルメチル
シリルおよびtert-ブチルメトキシフェニルシリルなど
の置換シリル基などが挙げられる
The hydroxyl-protecting group includes all groups that can be used as ordinary hydroxyl-protecting groups, for example, benzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-bromobenzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyl Oxycarbonyl,
3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, isobutyloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tribromoethoxycarbonyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxycarbonyl, 2- (phenylsulfonyl) ethoxycarbonyl,
2- (triphenylphosphonio) ethoxycarbonyl, 2
-Furfuryloxycarbonyl, 1-adamantyloxycarbonyl, vinyloxycarbonyl, allyloxycarbonyl, S-benzylthiocarbonyl, 4-ethoxy-1-naphthyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl, acetyl, formyl, chloroacetyl,
Acyl groups such as dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, methoxyacetyl, phenoxyacetyl, pivaloyl and benzoyl; lower alkyl groups such as methyl, ethyl and tert-butyl; 2,2,
2-trichloroethyl, 2-trimethylsilylethyl,
Substitution such as methoxymethyl, methylthiomethyl, benzyloxymethyl, 2-methoxyethoxymethyl, 2,2,2-trichloroethoxymethyl, 2- (trimethylsilyl) ethoxymethyl, 1-ethoxyethyl and 1-methyl-1-methoxyethyl Lower alkyl groups; lower alkenyl groups such as allyl; benzyl, p-methoxybenzyl,
Aralkyl groups such as 3,4-dimethoxybenzyl, diphenylmethyl and trityl; tetrahydrofuryl,
Oxygen- and sulfur-containing heterocyclic groups such as tetrahydropyranyl and tetrahydrothiopyranyl; lower alkyl- and aryl-sulfonyl groups such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl; and trimethylsilyl, triethylsilyl, triisopropylsilyl, diethylisopropyl Substituted silyl groups such as silyl, tert-butyldimethylsilyl, tert-butyldiphenylsilyl, diphenylmethylsilyl and tert-butylmethoxyphenylsilyl, and the like.

【0011】Rのアルキル基;Rのアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基または複素環式基;R
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルキルチオ基またはアミノ基;
のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アルアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキル
チオ基またはアミノ基は、ハロゲン原子、シアノ基、保
護されていてもよいカルボキシル基、保護されていても
よいヒドロキシル基、保護されていてもよいアミノ基、
保護されていてもよい低級アルキルアミノ基、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカルボニル
基、アリール基、シクロアルキル基、低級アルケニル
基、ハロゲン原子で置換された低級アルキル基などの一
つ以上の基で置換されていてもよい。つぎに、本発明の
製造方法について説明する。
R 2 alkyl group; R 3 alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or heterocyclic group; R 4 alkyl group, alkenyl group, cycloalkyl group, aryl group, alkoxy group, alkylthio group or amino group Group;
An alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group for R 5 ,
An aralkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group or an amino group is a halogen atom, a cyano group, an optionally protected carboxyl group, an optionally protected hydroxyl group, an optionally protected amino group,
One or more of a lower alkylamino group which may be protected, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group, an aryl group, a cycloalkyl group, a lower alkenyl group, and a lower alkyl group substituted with a halogen atom. May be substituted with a group. Next, the manufacturing method of the present invention will be described.

【0012】[0012]

【式1】 (Equation 1)

【0013】[式中、R1a、R1b、R、Rおよ
びXは、上記と同じ意味を有する。] 一般式[2]、[3]、[4]、[5]、[6]、
[7]、[8]および[9]の化合物は、塩とすること
もでき、それらの塩としては、通常知られているアミノ
基などの塩基性基またはヒドロキシルもしくはカルボキ
シル基などの酸性基における塩を挙げることができる。
塩基性基における塩としては、例えば、塩酸、臭化水素
酸および硫酸などの鉱酸との塩;酒石酸、ギ酸、乳酸、
クエン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸など
の有機カルボン酸との塩;並びにメタンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、メシチレン
スルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン
酸との塩を、また、酸性基における塩としては、例え
ば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との
塩;カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類
金属との塩;アンモニウム塩;並びにトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、N
−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシ
ルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、N−ベンジ
ル−β−フェネチルアミン、1−エフェナミンおよび
N,N'−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機
塩基との塩などを挙げることができる。
Wherein R 1a , R 1b , R 2 , R 3 and X have the same meaning as described above. General formulas [2], [3], [4], [5], [6],
The compounds of [7], [8] and [9] can also be in the form of salts, which are usually known as basic groups such as amino groups or acidic groups such as hydroxyl or carboxyl groups. Salts may be mentioned.
Salts in the basic group include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid; tartaric acid, formic acid, lactic acid,
Salts with organic carboxylic acids such as citric acid, trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid; and salts with sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid; Examples of the salt in the acidic group include salts with alkali metals such as sodium and potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium and magnesium; ammonium salts; and trimethylamine, triethylamine, tributylamine, pyridine,
N, N-dimethylaniline, N-methylpiperidine, N
-Methylmorpholine, diethylamine, dicyclohexylamine, procaine, dibenzylamine, N-benzyl-β-phenethylamine, 1-ephenamine and salts with nitrogen-containing organic bases such as N, N′-dibenzylethylenediamine, and the like. .

【0014】(1)一般式[5]の化合物またはその塩
の製法 一般式[3]の化合物またはその塩に、塩基の存在下ま
たは不存在下、一般式[4]の化合物を反応させること
により、一般式[5]の化合物またはその塩を製造する
ことができる。この反応に使用される溶媒としては、反
応に悪影響を及ぼさないものであればよく、例えば、n-
ヘキサンおよびシクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素
類;ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭
化水素類;ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフランおよびジオキサンなどのエーテ
ル類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジクロロエタ
ンなどのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホル
ムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類;アセトニトリルなどのニトリル類;ジメチルス
ルホキシドなどのスルホキシド類;並びに水などが挙げ
られ、これらの溶媒は、混合して使用してもよい。ま
た、反応溶媒として水を使用する場合は、通常知られて
いる相間移動触媒を用いると効果的である。 使用する
相間移動触媒としては、例えば、臭化テトラメチルアン
モニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、塩化テトラ
ブチルアンモニウムおよびテトラブチルアンモニウム硫
酸水素塩などの第4級アンモニウム塩が挙げられる。相
間移動触媒を用いる場合、その使用量は、一般式[3]
の化合物またはその塩に対して、0.1倍モル以上であれ
ばよく、好ましくは、0.3〜1.0倍モルであればよい。所
望に応じて用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
カリウム、カリウムtert-ブトキシドおよび水素化ナト
リウムなどが挙げられる。塩基および一般式[4]の化
合物の使用量は、一般式[3]の化合物またはその塩に
対して、それぞれ、等モル以上であればよく、好ましく
は、1〜10倍モルであればよい。この反応は、通常、0〜
180℃で、5分〜30時間実施すればよい。得られた一般式
[5]の化合物またはその塩は、単離せずにそのままつ
ぎの反応に用いてもよい。
(1) Method for producing a compound of the general formula [5] or a salt thereof A compound of the general formula [4] is reacted with a compound of the general formula [3] or a salt thereof in the presence or absence of a base. Thus, the compound of the general formula [5] or a salt thereof can be produced. The solvent used in this reaction may be any solvent that does not adversely affect the reaction, for example, n-
Aliphatic hydrocarbons such as hexane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as diethyl ether, 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; methylene chloride, chloroform and dichloroethane Halogenated hydrocarbons; amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; nitriles such as acetonitrile; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; and water. You may use it. When water is used as the reaction solvent, it is effective to use a generally known phase transfer catalyst. Examples of the phase transfer catalyst to be used include quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium chloride and tetrabutylammonium hydrogensulfate. When the phase transfer catalyst is used, the amount of the phase transfer catalyst is determined by the general formula [3]
The amount may be 0.1 mole or more, and preferably 0.3 to 1.0 mole, based on the compound or a salt thereof. Bases used as desired include, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium tert-butoxide, sodium hydride and the like. The amounts of the base and the compound of the general formula [4] to be used may be at least equimolar to the compound of the general formula [3] or a salt thereof, preferably 1 to 10 times. . This reaction is usually 0-
It may be carried out at 180 ° C. for 5 minutes to 30 hours. The obtained compound of the general formula [5] or a salt thereof may be used for the next reaction without isolation.

【0015】(2)一般式[6]の化合物またはその塩
の製法 一般式[5]の化合物またはその塩を、通常のカルボキ
シル保護基の脱離反応に付すことにより、一般式[6]
の化合物またはその塩を得ることができる。
(2) Preparation of the compound of the general formula [6] or a salt thereof The compound of the general formula [5] or a salt thereof is subjected to an ordinary elimination reaction of a carboxyl protecting group to give a compound of the general formula [6]
Or a salt thereof.

【0016】(3)一般式[7]の化合物またはその塩
の製法 一般式[7]の化合物またはその塩は、一般式[6]の
化合物またはその塩を通常、当該分野で知られているケ
トエステル化反応に付すことによって得ることができ
る。 (a)アンゲバンテ・ヘミ・インターナショナル・エデ
ィション・イン・イングリッシュ(Angew. Chem. Int.
Ed. Engl.)第18巻、第72頁(1979年)に記載の方法に
準じて、一般式[6]の化合物またはその塩のカルボキ
シル基を活性化、例えば、N,N'−カルボニルジイミダ
ゾールで活性酸アミド体などに誘導した後、マロン酸モ
ノエステルのマグネシウム塩と反応させ、一般式[7]
の化合物またはその塩を得ることができる。この反応で
使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないも
のであれば特に限定されないが、例えば、ベンゼン、ト
ルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキ
サン、テトラヒドロフランおよびジエチルエーテルなど
のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルムおよびジク
ロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;並びにN,N
−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類が挙げられ、また、これらの溶媒
は、混合して使用してもよい。マロン酸モノエステルの
マグネシウム塩の使用量は、一般式[6]の化合物また
はその塩に対して、等モル以上であればよく、好ましく
は、1〜2倍モルであればよい。この反応は、通常、0
〜100℃、好ましくは、10〜80℃で、5分〜30時間実施す
ればよい。 (b)別法として、例えば、一般式[6]の化合物また
はその塩のカルボキシル基を塩化チオニルなどのハロゲ
ン化剤で酸ハライドに誘導した後、マロン酸ジエステル
のナトリウムまたはエトキシマグネシウムなどの金属塩
と反応させ、含水溶媒中、p-トルエンスルホン酸または
トリフルオロ酢酸を用いて部分的にカルボキシル保護基
を脱離および脱炭酸反応に付すことによって、一般式
[7]の化合物またはその塩を得ることができる。酸ハ
ライドおよびマロン酸ジエステルの金属塩との反応で使
用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないもの
であれば特に限定されないが、具体的には、前述の
(3)(a)と同様の溶媒が挙げられる。マロン酸ジエ
ステルの金属塩の使用量は、一般式[6]の化合物また
はその塩に対して、等モル以上あればよく、好ましく
は、1〜3倍モルであればよい。この反応は、通常、−50
〜100℃で、5分〜30時間実施すればよい。
(3) Method for preparing compound of general formula [7] or a salt thereof The compound of general formula [7] or a salt thereof is generally known from the compound of the general formula [6] or a salt thereof. It can be obtained by subjecting to a ketoesterification reaction. (A) Angew. Chem. Int.
Ed. Engl.) Vol. 18, p. 72 (1979), activating the carboxyl group of the compound of the general formula [6] or a salt thereof, for example, N, N'-carbonyldiene. After derivatization to an active acid amide or the like with imidazole, it is reacted with a magnesium salt of malonic acid monoester to give a compound of the general formula [7]
Or a salt thereof. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran and diethyl ether. Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane; and N, N
Amides such as -dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, and these solvents may be used as a mixture. The amount of the magnesium salt of malonic acid monoester to be used may be at least equimolar to the compound of the general formula [6] or a salt thereof, and preferably 1 to 2 moles. This reaction is usually 0
It may be carried out at 〜100 ° C., preferably 10-80 ° C., for 5 minutes to 30 hours. (B) Alternatively, for example, a carboxyl group of a compound of the general formula [6] or a salt thereof is converted to an acid halide with a halogenating agent such as thionyl chloride, and then a metal salt such as sodium or ethoxymagnesium malonate diester is used. And partially subjecting the carboxyl-protecting group to elimination and decarboxylation using p-toluenesulfonic acid or trifluoroacetic acid in an aqueous solvent to obtain a compound of the general formula [7] or a salt thereof. be able to. The solvent used in the reaction with the acid halide and the metal salt of malonic acid diester is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and specifically, the same as (3) (a) described above. Solvents. The amount of the metal salt of malonic acid diester used may be at least equimolar to the compound of the general formula [6] or a salt thereof, and preferably 1 to 3 moles. This reaction is usually carried out at -50
It may be carried out at 〜100 ° C. for 5 minutes to 30 hours.

【0017】(4)一般式[9]の化合物またはその塩
の製法 (a)一般式[9]の化合物またはその塩は、一般式
[7]の化合物またはその塩に、無水酢酸中、オルトギ
酸メチルまたはオルトギ酸エチルなどのオルトエステル
類を反応させた後、一般式[8]の化合物またはその塩
を反応させることによって得ることができる。この反応
で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない
ものであれば特に限定されないが、例えば、ベンゼン、
トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレン
グリコールジエチルエーテルおよびジメチルセロソルブ
などのエーテル類;メタノール、エタノールおよびプロ
パノールなどのアルコール類;塩化メチレン、クロロホ
ルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素
類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチ
ルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、また、こ
れらの溶媒は、混合して使用してもよい。オルトエステ
ル類の使用量は、一般式[7]の化合物またはその塩に
対して、等モル以上であればよく、好ましくは、1〜10
倍モルであればよい。これらの反応は、通常、0〜150
℃、好ましくは、50〜150℃で、20分〜50時間実施すれ
ばよい。ついで、一般式[8]の化合物またはその塩を
反応させるには、この一般式[8]の化合物またはその
塩を、一般式[7]の化合物またはその塩に対して、等
モル以上使用すればよく、通常、0〜100℃、好ましく
は、10〜60℃で、20分〜30時間実施すればよい。 (b)別法として、一般式[7]の化合物またはその塩
に、無水酢酸などの酸無水物の存在下または不存在下
に、N,N−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール
またはN,N−ジメチルホルムアミドジエチルアセター
ルなどのアセタール類を反応させた後、一般式[8]の
化合物またはその塩を反応させて、一般式[9]の化合
物またはその塩へ誘導することもできる。酸無水物を用
いる場合、その使用量は、一般式[7]の化合物または
その塩に対して、等モル以上であればよく、好ましく
は、1〜5倍モルであればよい。この反応で使用される
溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば
特に限定されないが、具体的には前述の(4)(a)と
同様の溶媒が挙げられる。アセタール類の使用量は、一
般式[7]の化合物またはその塩に対して、等モル以上
であればよく、好ましくは、約1〜5倍モルであればよ
い。これらの反応は、通常、0〜100℃、好ましくは、20
〜85℃で、20分〜50時間実施すればよい。次いで、一般
式[8]の化合物またはその塩を反応させるには、この
一般式[8]の化合物またはその塩を、一般式[7]の
化合物またはその塩に対して、等モル以上使用すればよ
く、通常、0〜100℃、好ましくは、10〜60℃で、20分〜
30時間実施すればよい。 (c)別法として、一般式[6]の化合物またはその塩
のカルボキシル基を塩化チオニルなどのハロゲン化剤で
酸ハライドに誘導した後、3−ジメチルアミノアクリル
酸エチルエステル及び3−シクロプロピルアミノアクリ
ル酸エチルエステルなどの3−アミノ−アクリル酸誘導
体を反応させ、場合によっては、一般式[8]の化合物
またはその塩を反応させて一般式[9]の化合物または
その塩に誘導することもできる。酸ハライド及び3−ア
ミノ−アクリル酸誘導体との反応で使用される溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定
されないが、具体的には前述の(3)(a)と同様の溶媒が挙
げられる。3−アミノアクリル酸類の使用量は、一般式
[6]の化合物またはその塩に対して等モル以上であれ
ばよく、好ましくは、1〜3倍モルであればよい。これ
らの反応は、通常0〜150℃、好ましくは、50〜110℃
で、30分〜50時間実施すればよい。ついで、一般式
[8]の化合物またはその塩を反応させるには、この一
般式[8]の化合物またはその塩を一般式[6]の化合
物またはその塩に対して等モル以上使用すればよく、通
常0〜100℃、好ましくは、10〜60℃で、20分〜30時間実
施すればよい。
(4) Method for producing the compound of the general formula [9] or a salt thereof (a) The compound of the general formula [9] or the salt thereof can be added to the compound of the general formula [7] or a salt thereof in orthoacetic acid in acetic anhydride. It can be obtained by reacting an orthoester such as methyl acid or ethyl orthoformate and then reacting the compound of the general formula [8] or a salt thereof. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, for example, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and dimethyl cellosolve; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. These solvents may be used as a mixture. The amount of the orthoester used may be at least equimolar to the compound of the general formula [7] or a salt thereof, and is preferably 1 to 10
What is necessary is just a double mole. These reactions are usually 0-150
C., preferably at 50 to 150.degree. C. for 20 minutes to 50 hours. Then, in order to react the compound of the general formula [8] or a salt thereof, the compound of the general formula [8] or the salt thereof is used in an amount of at least equimolar to the compound of the general formula [7] or the salt thereof. It may be carried out usually at 0 to 100 ° C., preferably at 10 to 60 ° C. for 20 minutes to 30 hours. (B) Alternatively, a compound of the general formula [7] or a salt thereof may be added to an N, N-dimethylformamide dimethyl acetal or N, N-dimethylformamide in the presence or absence of an acid anhydride such as acetic anhydride. After reacting an acetal such as diethyl acetal, the compound of the general formula [8] or a salt thereof can be reacted to obtain a compound of the general formula [9] or a salt thereof. When an acid anhydride is used, the amount of the acid anhydride to be used may be at least equimolar to the compound of the general formula [7] or a salt thereof, and preferably 1 to 5 times. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction, and specific examples thereof include the same solvents as in the above (4) (a). The amount of the acetal used may be at least equimolar to the compound of the general formula [7] or a salt thereof, and preferably about 1 to 5 moles. These reactions are usually carried out at 0 to 100 ° C., preferably at 20 ° C.
It may be carried out at ~ 85 ° C for 20 minutes to 50 hours. Next, in order to react the compound of the general formula [8] or a salt thereof, the compound of the general formula [8] or the salt thereof is used in an equimolar amount or more with respect to the compound of the general formula [7] or the salt thereof. Normally, it is usually 0 to 100 ° C., preferably 10 to 60 ° C. for 20 minutes to
It should be carried out for 30 hours. (C) Alternatively, the carboxyl group of the compound of the general formula [6] or a salt thereof is converted to an acid halide with a halogenating agent such as thionyl chloride, and then ethyl 3-dimethylaminoacrylate and 3-cyclopropylamino A 3-amino-acrylic acid derivative such as acrylic acid ethyl ester may be reacted, and in some cases, a compound of the general formula [8] or a salt thereof may be reacted to obtain a compound of the general formula [9] or a salt thereof. it can. The solvent used in the reaction with the acid halide and the 3-amino-acrylic acid derivative is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction.Specifically, the same as (3) (a) described above. Solvents. The amount of the 3-aminoacrylic acid to be used may be at least equimolar to the compound of the general formula [6] or a salt thereof, preferably 1 to 3 times. These reactions are usually performed at 0 to 150 ° C, preferably at 50 to 110 ° C.
Then, it may be carried out for 30 minutes to 50 hours. Then, in order to react the compound of the general formula [8] or the salt thereof, the compound of the general formula [8] or the salt thereof may be used in an equimolar amount or more with respect to the compound of the general formula [6] or the salt thereof. The reaction may be carried out usually at 0 to 100 ° C., preferably at 10 to 60 ° C. for 20 minutes to 30 hours.

【0018】(5)一般式[2]の化合物またはその塩
の製造 一般式[2]の化合物またはその塩は、一般式[9]の
化合物またはその塩を、フッ化塩もしくは塩基の存在下
または不存在下に閉環反応に付すことによって得ること
ができる。この反応で使用される溶媒としては、反応に
悪影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されないが、
例えば、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジ
メチルアセトアミドなどのアミド類;ジオキサン、アニ
ソール、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよび
ジメチルセロソルブなどのエーテル類;ジメチルスルホ
キシドなどのスルホキシド類;並びに水などが挙げら
れ、これらの溶媒は、混合して使用してもよい。この反
応で所望に応じて用いられるフッ化塩としては、例え
ば、フッ化ナトリウムおよびフッ化カリウムなどが挙げ
られ。この反応で所望に応じて用いられる塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、カリウムtert-ブトキ
シドおよび水素化ナトリウムなどが挙げられる。フッ化
塩および塩基の使用量は、一般式[9]の化合物または
その塩に対して、それぞれ、等モル以上であればよく、
好ましくは、1.0〜3.0倍モルであればよい。この反応
は、通常、0〜180℃で、5分〜30時間実施すればよい。
得られた一般式[2]の化合物またはその塩は、単離せ
ずにそのままつぎの反応に用いてもよい。
(5) Preparation of the compound of the general formula [2] or a salt thereof The compound of the general formula [2] or a salt thereof is prepared by converting the compound of the general formula [9] or a salt thereof in the presence of a fluoride salt or a base. Alternatively, it can be obtained by subjecting to a ring closure reaction in the absence. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction,
Examples include amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; ethers such as dioxane, anisole, diethylene glycol dimethyl ether and dimethyl cellosolve; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; and water. The solvents may be used as a mixture. As the fluoride salt used as desired in this reaction, for example, sodium fluoride, potassium fluoride and the like can be mentioned. Examples of the base optionally used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, potassium carbonate, potassium tert-butoxide, sodium hydride and the like. The amounts of the fluoride salt and the base used may be each equimolar or more with respect to the compound of the general formula [9] or a salt thereof.
Preferably, it may be 1.0 to 3.0 moles. This reaction may be usually performed at 0 to 180 ° C. for 5 minutes to 30 hours.
The obtained compound of the general formula [2] or a salt thereof may be used for the next reaction without isolation.

【0019】このようにして得られた一般式[2]の化
合物またはその塩を、例えば、保護反応または/および
脱保護反応に付すことによって、他の一般式[2]の化
合物またはその塩に誘導することができる。
The thus-obtained compound of the general formula [2] or a salt thereof is subjected to, for example, a protection reaction and / or a deprotection reaction to give another compound of the general formula [2] or a salt thereof. Can be guided.

【0020】上で述べた製造法における一般式[2]〜
[9]の化合物またはそれらの塩において、異性体(例
えば、光学異性体、幾何異性体および互変異性体など)
が存在する場合、これらの異性体を使用することがで
き、また、溶媒和物、水和物および種々の形状の結晶を
使用することができる。また、一般式[3]〜[9]の
化合物またはそれらの塩において、アミノ基、ヒドロキ
シル基またはカルボキシル基を有する化合物は、あらか
じめこれらの基を通常の保護基で保護しておき、反応
後、自体公知の方法でこれらの保護基を脱離することも
できる。
The general formulas [2] to
In the compound of [9] or a salt thereof, isomers (eg, optical isomers, geometric isomers, tautomers, and the like)
When these are present, these isomers can be used, and solvates, hydrates and various forms of crystals can be used. In the compounds of the general formulas [3] to [9] or salts thereof, the compound having an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group may be protected with a conventional protecting group in advance, and after the reaction, These protecting groups can be eliminated by a method known per se.

【0021】つぎに、一般式[2]の化合物またはその
塩を原料とした一般式[1]の化合物またはその塩の製
造法について説明する。一般式[1]の化合物またはそ
の塩は、例えば、式2に示すように製造することができ
る。
Next, a method for producing the compound of the general formula [1] or the salt thereof from the compound of the general formula [2] or the salt thereof will be described. The compound of general formula [1] or a salt thereof can be produced, for example, as shown in formula 2.

【0022】[0022]

【式2】 (Equation 2)

【0023】[式中、R、R1b、R、R
、RおよびDは、上記と同じ意味を有し、R
よびRは、水素原子もしくは低級アルキル基または一
緒になって形成される環を示す。] RおよびRが一緒になって形成される環としては、
該環を形成する異項原子として酸素原子および窒素原子
から選ばれる1つ以上の異項原子を含む5員〜8員環ま
たはそれらの縮合環、例えば、1,3,2−ジオキサボロ
ラン、1,3,2−ジオキサボリナン、1,3,5,2−ジ
オキサアザボリナン、1,3,5,2−トリオキサボリナ
ン、1,3,6,2−トリオキサボロカンおよび1,3,6,
2−ジオキサアザボロカンなどが挙げられる。
[Wherein R 1 , R 1b , R 2 , R 3 ,
R 4 , R 5 and D have the same meaning as described above, and R 6 and R 7 represent a hydrogen atom or a lower alkyl group or a ring formed together. As the ring formed by R 6 and R 7 together,
A 5- to 8-membered ring containing one or more hetero atoms selected from an oxygen atom and a nitrogen atom as a hetero atom forming the ring, or a fused ring thereof, for example, 1,3,2-dioxaborolan, 3,2-dioxaborinane, 1,3,5,2-dioxaazaborinane, 1,3,5,2-trioxaborinane, 1,3,6,2-trioxaborocan and 1,3, 6,
2-dioxaazaborocan and the like.

【0024】一般式[1]の化合物またはその塩は、塩
基の存在下または不存在下、パラジウム触媒を用いて、
一般式[10]の化合物またはその塩と一般式[2]の
化合物またはその塩をカップリング反応に付すことによ
って得ることができる。この反応で使用される溶媒とし
ては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定
されないが、例えば、水;メタノール、エタノールおよ
びプロパノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエ
ンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレ
ン、クロロホルムおよびジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニ
ソール、ジエチレングリコールジエチルエーテルおよび
ジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸エチルおよ
び酢酸ブチルなどのエステル類;アセトンおよびメチル
エチルケトンなどのケトン類;アセトニトリルなどのニ
トリル類;N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−
ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチル
スルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ、こ
れらの溶媒は、混合して使用してもよい。この反応で所
望に応じて用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムおよびトリ
エチルアミンなどが挙げられる。この反応で用いられる
パラジウム触媒としては、例えば、パラジウム−活性炭
素およびパラジウム黒などの金属パラジウム;塩化パラ
ジウムなどの無機パラジウム塩;酢酸パラジウムなどの
有機パラジウム塩;テトラキス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィ
ン)パラジウム(II)クロリドおよび1,1'−ビス(ジ
フェニルホスフィノ)フェロセンパラジウム(II)クロ
リドなどの有機パラジウム錯体が挙げられる。パラジウ
ム触媒の使用量は、一般式[2]の化合物またはその塩
に対して、0.01%モル以上であればよく、好ましくは、
0.1〜1.0%モルであればよい。一般式[10]の化合物
またはその塩の使用量は、一般式[2]の化合物または
その塩に対して、等モル以上、好ましくは、1.0〜1.5倍
モルである。このカップリング反応は、通常、不活性気
体(例えば、アルゴン、窒素)雰囲気下、50〜170℃
で、1分〜24時間実施すればよい。一般式[1]の化合
物の塩としては、上記した一般式[2]〜[9]の化合
物の塩と同様の塩が挙げられる。一般式[10]の化合
物またはその塩は、例えば、WO97/29102に記
載の方法で製造することができる。一般式[10]の化
合物の塩としては、上記した一般式[2]〜[9]の化
合物の塩と同様の塩が挙げられる。
The compound of the general formula [1] or a salt thereof can be prepared by using a palladium catalyst in the presence or absence of a base.
It can be obtained by subjecting a compound of the general formula [10] or a salt thereof and a compound of the general formula [2] or a salt thereof to a coupling reaction. The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it does not adversely affect the reaction. Examples thereof include water; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane; ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, anisole, diethylene glycol diethyl ether and dimethyl cellosolve; esters such as ethyl acetate and butyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Nitriles such as acetonitrile; N, N-dimethylformamide and N, N-
Examples thereof include amides such as dimethylacetamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. These solvents may be used as a mixture. Bases used as desired in this reaction include, for example, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, triethylamine, and the like. Examples of the palladium catalyst used in this reaction include palladium-active carbon and metal palladium such as palladium black; inorganic palladium salts such as palladium chloride; organic palladium salts such as palladium acetate; tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) And organic palladium complexes such as bis (triphenylphosphine) palladium (II) chloride and 1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocenepalladium (II) chloride. The amount of the palladium catalyst used may be 0.01% mol or more based on the compound of the general formula [2] or a salt thereof, and is preferably
It may be 0.1 to 1.0% mol. The amount of the compound of the general formula [10] or a salt thereof to be used is equimolar or more, preferably 1.0 to 1.5 times, with respect to the compound of the general formula [2] or a salt thereof. This coupling reaction is usually performed under an inert gas (eg, argon, nitrogen) atmosphere at 50 to 170 ° C.
Then, it may be performed for 1 minute to 24 hours. Examples of the salt of the compound of the general formula [1] include salts similar to the salts of the compounds of the general formulas [2] to [9]. The compound of the general formula [10] or a salt thereof can be produced, for example, by the method described in WO 97/29102. Examples of the salt of the compound of the general formula [10] include salts similar to the salts of the compounds of the general formulas [2] to [9].

【0025】[0025]

【実施例】つぎに、本発明を参考例、実施例および製造
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
EXAMPLES Next, the present invention will be described with reference to Reference Examples, Examples and Production Examples, but the present invention is not limited to these.

【0026】なお、溶離液における混合比は、すべて用
量比であり、また、カラムクロマトグラフィーにおける
担体は、シリカゲル、100〜270メッシュ(富士シリシア
社製)を用いた。
The mixing ratios in the eluents were all dose ratios, and silica gel, 100-270 mesh (manufactured by Fuji Silysia) was used as the carrier in the column chromatography.

【0027】参考例1 臭素193.3gおよび塩化メチレン600mlの混合液を−20℃
で、tert-ブチルアミン176.1gを1時間を要して滴下す
る。同温度で1時間撹拌した後、m-ヒドロキシ安息香酸
エチルエステル100.0gを5回に分けて添加し、同温度で
2時間、0℃で1時間、更に室温で10時間撹拌する。析
出晶を濾取し、得られた混合物に酢酸エチル500mlおよ
び6mol/L塩酸300mlを加え、有機層を分取する。得られ
た有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物を
減圧蒸留(135〜142℃/0.5mmHg)で精製すれば、無色
油状物の2,4−ジブロモ−3−ヒドロキシ安息香酸エ
チルエステル121.0gを得る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1722 NMR(CDCl)δ値:1.40(3H,t,J=7.1Hz),4.40(2H,q,J=7.
1Hz),6.39(1H,brs),7.26(1H,d,J=8.3Hz),7.52(1H,d,J=
8.3Hz)
Reference Example 1 A mixture of 193.3 g of bromine and 600 ml of methylene chloride was subjected to -20 ° C.
Then, 176.1 g of tert-butylamine is added dropwise over 1 hour. After stirring at the same temperature for 1 hour, 100.0 g of m-hydroxybenzoic acid ethyl ester is added in 5 portions, and the mixture is stirred at the same temperature for 2 hours, at 0 ° C for 1 hour, and further at room temperature for 10 hours. The precipitated crystals are collected by filtration, and 500 ml of ethyl acetate and 300 ml of 6 mol / L hydrochloric acid are added to the obtained mixture, and the organic layer is separated. The obtained organic layer is washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue is purified by distillation under reduced pressure (135-142 ° C / 0.5 mmHg) to obtain 121.0 g of 2,4-dibromo-3-hydroxybenzoic acid ethyl ester as a colorless oil. IR (KBr) cm -1 : ν c = o 1722 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.40 (3H, t, J = 7.1 Hz), 4.40 (2H, q, J = 7.
1Hz), 6.39 (1H, brs), 7.26 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.52 (1H, d, J =
(8.3Hz)

【0028】実施例1 35%水酸化ナトリウム水溶液400mlおよび臭化テトラブ
チルアンモニウム49.8gの混合液に2,4−ジブロモ−3
−ヒドロキシ安息香酸エチルエステル100.0gのトルエン
400mlの混合溶液を加えた後、室温でクロロジフルオロ
メタン53.4gを1時間を要して吹き込む。反応混合物に
水400mlを加え、有機層を分取する。得られた有機層を
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラムクロ
マトグラフィー[溶離液;n-ヘキサン:酢酸エチル=1
0:1]で精製すれば、無色結晶の2,4−ジブロモ−3−
ジフルオロメトキシ安息香酸エチルエステル110.8gを得
る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1727 NMR(CDCl)δ値:1.41(3H,t,J=7.1Hz),4.41(2H,q,J=7.
1Hz),6.65(1H,t,J=74.0Hz),7.48(1H,d,J=8.3Hz),7.66(1
H,d,J=8.3Hz)
Example 1 2,4-Dibromo-3 was added to a mixture of 400 ml of 35% aqueous sodium hydroxide solution and 49.8 g of tetrabutylammonium bromide.
-Hydroxybenzoic acid ethyl ester 100.0 g of toluene
After adding 400 ml of the mixed solution, 53.4 g of chlorodifluoromethane is blown in at room temperature over 1 hour. 400 ml of water is added to the reaction mixture, and the organic layer is separated. The obtained organic layer was washed with a saturated saline solution and dried over anhydrous magnesium sulfate.
The solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue is subjected to column chromatography [eluent; n-hexane: ethyl acetate = 1]
0: 1], colorless crystals of 2,4-dibromo-3-
110.8 g of ethyl difluoromethoxybenzoate are obtained. IR (KBr) cm -1 : v c = o 1727 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.41 (3H, t, J = 7.1 Hz), 4.41 (2H, q, J = 7.
1Hz), 6.65 (1H, t, J = 74.0Hz), 7.48 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.66 (1
(H, d, J = 8.3Hz)

【0029】実施例2 2,4−ジブロモ−3−ヒドロキシ安息香酸エチルエス
テル10.0gをN,N−ジメチルホルムアミド10mlに溶解
し、これに炭酸カリウム4.5g、ついでクロロジフルオロ
メタンのN,N−ジメチルホルムアミド溶液(10モル溶
液)100mlを加え、封管中、120-130℃で3時間攪拌す
る。反応混合物を酢酸エチル100mlおよび水100mlの混合
溶媒に加え、6mol/L塩酸でpH2に調整した後、有機層
を分取する。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー[溶離
液;n-ヘキサン:酢酸エチル=4:1]で精製すれば、無色
結晶の2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメトキシ安息香
酸エチルエステル10.8gを得、常法に従って、エステル
を加水分解して、2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメト
キシ安息香酸を得る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1717 NMR(CDCl)δ値:6.68(1H,t,J=74.0Hz),7.60-7.90(2H,
m),8.83(1H,brs)
Example 2 10.0 g of ethyl 2,4-dibromo-3-hydroxybenzoate was dissolved in 10 ml of N, N-dimethylformamide, and 4.5 g of potassium carbonate was added thereto, followed by N, N-dimethyl of chlorodifluoromethane. 100 ml of a formamide solution (10 molar solution) is added and stirred in a sealed tube at 120-130 ° C. for 3 hours. The reaction mixture is added to a mixed solvent of 100 ml of ethyl acetate and 100 ml of water, adjusted to pH 2 with 6 mol / L hydrochloric acid, and then the organic layer is separated. The obtained organic layer is washed with brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by column chromatography [eluent; n-hexane: ethyl acetate = 4: 1] to obtain 10.8 g of 2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoic acid ethyl ester as colorless crystals. The ester is hydrolyzed according to a conventional method to give 2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoic acid. IR (KBr) cm -1 : ν c = o 1717 NMR (CDCl 3 ) δ value: 6.68 (1H, t, J = 74.0 Hz), 7.60-7.90 (2H,
m), 8.83 (1H, brs)

【0030】実施例3 2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメトキシ安息香酸10
0.0gを塩化メチレン600mlに溶解し、イミダゾール21.6g
およびトリエチルアミン96.5gを加えた後、氷冷下、塩
化チオニル37.8gを加え、同温度で30分撹拌し更に室温
で1時間撹拌する。ついで、塩化マグネシウム27.5g、
トリエチルアミン29.3g、マロン酸モノエチルエステル
カリウム塩98.4gおよびN,N−ジメチルホルムアミド10
0mlを順次加え、6時間加熱還流する。反応混合物に水6
00mlを加え、6mol/L塩酸でpH1に調整した後、有機層
を分取する。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液および飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー[溶離液;n-ヘキサ
ン:酢酸エチル=20:1]で精製すれば、無色結晶の2,
4−ジブロモ−3−ジフルオロメトキシベンゾイル酢酸
エチルエステル108.2gを得る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1670 NMR(CDCl)δ値:1.25(1.8H,t,J=7.1Hz),1.34(1.2H,t,
J=7.1Hz),3.98(1.2H,s),4.19(1.2H,q,J=7.1Hz),4.29(0.
8H,q,J=7.1Hz),5.40(0.4H,s),6.65(1H,t,J=73.7Hz),7.2
5(1H,d,J=8.3Hz),7.65(0.6H,d,J=8.3Hz),7.69(0.4H,d,J
=8.3Hz),12.41(0.4H,s)
Example 3 2,4-Dibromo-3-difluoromethoxybenzoic acid 10
Dissolve 0.0 g in methylene chloride 600 ml, imidazole 21.6 g
After addition of 96.5 g of triethylamine and 37.8 g of thionyl chloride under ice-cooling, the mixture is stirred at the same temperature for 30 minutes and further at room temperature for 1 hour. Then, 27.5 g of magnesium chloride,
29.3 g of triethylamine, 98.4 g of malonic acid monoethyl ester potassium salt and N, N-dimethylformamide 10
0 ml is added in sequence, and the mixture is refluxed for 6 hours. Water 6 to the reaction mixture
After adding 00 ml and adjusting the pH to 1 with 6 mol / L hydrochloric acid, the organic layer is separated. The obtained organic layer is washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and saturated saline, dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained residue was purified by column chromatography [eluent; n-hexane: ethyl acetate = 20: 1] to give colorless crystals of 2,2.
108.2 g of ethyl 4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoylacetate are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν c = o 1670 NMR (CDCl 3 ) δ value: 1.25 (1.8 H, t, J = 7.1 Hz), 1.34 (1.2 H, t,
J = 7.1Hz), 3.98 (1.2H, s), 4.19 (1.2H, q, J = 7.1Hz), 4.29 (0.
8H, q, J = 7.1Hz), 5.40 (0.4H, s), 6.65 (1H, t, J = 73.7Hz), 7.2
5 (1H, d, J = 8.3Hz), 7.65 (0.6H, d, J = 8.3Hz), 7.69 (0.4H, d, J
= 8.3Hz), 12.41 (0.4H, s)

【0031】実施例4 2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメトキシベンゾイル
酢酸エチルエステル100.0gを塩化メチレン600mlに溶解
し、無水酢酸31.9gおよびN,N−ジメチルホルムアミド
ジメチルアセタール37.2gを加え、室温で1時間撹拌
し、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をイソプ
ロパノール500mlに溶解し、シクロプロピルアミン14.8g
を加え、室温で1時間撹拌し、析出晶を濾取すれば、無
色結晶の2−(2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメト
キシベンゾイル)−3−シクロプロピルアミノアクリル
酸エチルエステル95.2gを得る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1675, 1621 NMR(CDCl)δ値:0.60-1.20(7H,m),2.80-3.20(1H,m),
3.96(2H,q,J=7.1Hz),6.61(1H,t,J=74.0Hz),6.92(1H,d,J
=8.3Hz),7.58(1H,d,J=8.3Hz),8.28(0.8H,d,J=13.9Hz),
8.37(0.2H,d,J=13.9Hz),9.60-9.90(0.2H,m),10.80-11.3
0(0.8H,m)
Example 4 100.0 g of ethyl 2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoylacetate was dissolved in 600 ml of methylene chloride, 31.9 g of acetic anhydride and 37.2 g of N, N-dimethylformamide dimethyl acetal were added, and the mixture was added at room temperature. Stir for 1 hour and evaporate the solvent under reduced pressure. The obtained residue was dissolved in 500 ml of isopropanol, and 14.8 g of cyclopropylamine was dissolved.
And stirred at room temperature for 1 hour, and the precipitated crystals are collected by filtration to obtain 95.2 g of colorless crystals of ethyl 2- (2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoyl) -3-cyclopropylaminoacrylate. . IR (KBr) cm -1 : ν c = o 1675, 1621 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.60-1.20 (7H, m), 2.80-3.20 (1H, m),
3.96 (2H, q, J = 7.1Hz), 6.61 (1H, t, J = 74.0Hz), 6.92 (1H, d, J
= 8.3Hz), 7.58 (1H, d, J = 8.3Hz), 8.28 (0.8H, d, J = 13.9Hz),
8.37 (0.2H, d, J = 13.9Hz), 9.60-9.90 (0.2H, m), 10.80-11.3
0 (0.8H, m)

【0032】実施例5 2−(2,4−ジブロモ−3−ジフルオロメトキシベン
ゾイル)−3−シクロプロピルアミノアクリル酸エチル
エステル100.0gをジメチルスルホキシド400mlに溶解
し、炭酸カリウム34.3gを加え、90℃で2時間撹拌す
る。反応混合物を室温まで冷却後、水800mlに加え、析
出晶を濾取すれば、無色結晶の7−ブロモ−1−シクロ
プロピル−8−ジフルオロメトキシ−1,4−ジヒドロ
−4−オキソキノリン−3−カルボン酸エチルエステル
78.3gを得る。 IR(KBr)cm−1:νc=o 1687, 1640 NMR(CDCl)δ値:0.70-1.70(7H,m),3.70-4.70(3H,m),
6.52(1H,t,J=74.5Hz),7.58(1H,d,J=8.5Hz),8.24(1H,d,J
=8.5Hz),8.59(1H,s)
Example 5 100.0 g of ethyl 2- (2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoyl) -3-cyclopropylaminoacrylate was dissolved in 400 ml of dimethyl sulfoxide, 34.3 g of potassium carbonate was added, and 90 ° C. And stir for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature, added to 800 ml of water, and the precipitated crystals were collected by filtration to give colorless crystals of 7-bromo-1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-1,4-dihydro-4-oxoquinoline-3. -Carboxylic acid ethyl ester
78.3 g are obtained. IR (KBr) cm -1 : ν c = o 1687, 1640 NMR (CDCl 3 ) δ value: 0.70-1.70 (7H, m), 3.70-4.70 (3H, m),
6.52 (1H, t, J = 74.5Hz), 7.58 (1H, d, J = 8.5Hz), 8.24 (1H, d, J
= 8.5Hz), 8.59 (1H, s)

【0033】実施例6 2,4−ジブロモー3−ジフルオロメトキシ安息香酸10.
0gをトルエン30mlに溶解し、N,N−ジメチルホルムア
ミド0.2gを加えた後、氷冷下塩化チオニル4.13gを加
え、2時間加熱還流する。ついで、室温まで冷却後、ト
リエチルアミン10.2g、3−ジメチルアミノアクリル酸
エチルエステル4.14gを室温で順次加え、60℃で5時間加
熱する。室温まで冷却後、シクロプロピルアミン1.65g
を加え室温で30分撹拌する。反応混合物に水20mlを加
え、有機層を分取する。得られた有機層を減圧下に溶媒
留去し、得られた結晶にイソプロピルアルコール35mlを
加え加熱再結晶すれば、無色結晶の2−(2,4−ジブ
ロモ−3−ジフルオロメトキシベンゾイル)−3−シク
ロプロピルアミノアクリル酸エチルエステル7.93gを得
る。
Example 6 2,4-Dibromo-3-difluoromethoxybenzoic acid 10.
0 g is dissolved in 30 ml of toluene, 0.2 g of N, N-dimethylformamide is added, then 4.13 g of thionyl chloride is added under ice cooling, and the mixture is heated under reflux for 2 hours. Then, after cooling to room temperature, 10.2 g of triethylamine and 4.14 g of ethyl 3-dimethylaminoacrylate are sequentially added at room temperature, and the mixture is heated at 60 ° C. for 5 hours. After cooling to room temperature, cyclopropylamine 1.65 g
And stirred at room temperature for 30 minutes. 20 ml of water is added to the reaction mixture, and the organic layer is separated. The solvent was distilled off from the obtained organic layer under reduced pressure, 35 ml of isopropyl alcohol was added to the obtained crystal, and the mixture was recrystallized by heating to give colorless crystals of 2- (2,4-dibromo-3-difluoromethoxybenzoyl) -3. 7.93 g of ethyl cyclopropylaminoacrylate are obtained.

【0034】製造例1 (R)−2−(2,2−ジメチルプロパノイル)−1−
メチル−5−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2
−ジオキサボロラン−2−イル)イソインドリン2.5gを
エタノール15mlに溶解させ、これに7−ブロモ−1−シ
クロプロピル−8−ジフルオロメトキシ−1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソキノリン−3−カルボン酸エチルエス
テル2.8gおよび炭酸ナトリウム1.1gを加える。ついで、
窒素雰囲気下、10%パラジウム−活性炭素150mgを加えた
後、同雰囲気下で3時間撹拌還流する。反応液を冷却
後、水15mlおよびアセトン30mlの混合溶媒に加え、得ら
れた析出晶を濾取すれば、(R)−1−シクロプロピル
−8−ジフルオロメトキシ−7−[2−(2,2−ジメ
チルプロパノイル)−1−メチル−2,3−ジヒドロ−
1H−5−イソインドリル]−4−オキソ−1,4−ジ
ヒドロ−3−キノリンカルボン酸エチルエステル3.6gを
得る。
Production Example 1 (R) -2- (2,2-dimethylpropanoyl) -1-
Methyl-5- (4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2
-Dioxaborolan-2-yl) isoindoline (2.5 g) was dissolved in ethanol (15 ml), and ethyl 7-bromo-1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-1,4-dihydro-4-oxoquinoline-3-carboxylate was added thereto. 2.8 g of ester and 1.1 g of sodium carbonate are added. Then
After adding 150 mg of 10% palladium-activated carbon under a nitrogen atmosphere, the mixture is stirred and refluxed for 3 hours under the same atmosphere. After cooling the reaction mixture, the reaction mixture was added to a mixed solvent of 15 ml of water and 30 ml of acetone, and the obtained precipitate was collected by filtration to give (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- [2- (2, 2-dimethylpropanoyl) -1-methyl-2,3-dihydro-
1H-5-isoindolyl] -4-oxo-1,4-dihydro-3-quinolinecarboxylic acid ethyl ester 3.6 g is obtained.

【0035】製造例2 (R)−1−シクロプロピル−8−ジフルオロメトキシ
−7−[2−(2,2−ジメチルプロパノイル)−1−
メチル−2,3−ジヒドロ−1H−5−イソインドリ
ル]−4−オキソ−1,4−ジヒドロ−3−キノリンカ
ルボン酸エチルエステル34gを濃塩酸68mlに懸濁し、3
時間撹拌還流した後、水340mlを加え、常圧下に溶媒170
mlを3時間を要して留去する。反応液を冷却後、エタノ
ール17mlを加え、得られた析出晶を濾取する。得られた
(R)−1−シクロプロピル−8−ジフルオロメトキシ
−7−(1−メチル−2,3−ジヒドロ−1H−5−イ
ソインドリル)−4−オキソ−1,4−ジヒドロ−3−
キノリンカルボン酸・塩酸塩を水340mlに懸濁させ、氷
冷下、2mol/L水酸化ナトリウムでpH7.5とし、得られた
析出晶を濾取すれば、(R)−1−シクロプロピル−8
−ジフルオロメトキシ−7−(1−メチル−2,3−ジ
ヒドロ−1H−5−イソインドリル)−4−オキソ−
1,4−ジヒドロ−3−キノリンカルボン酸・一水和物2
5.55gを得る。
Production Example 2 (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- [2- (2,2-dimethylpropanoyl) -1-
Methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl] -4-oxo-1,4-dihydro-3-quinolinecarboxylic acid ethyl ester (34 g) was suspended in concentrated hydrochloric acid (68 ml).
After stirring and refluxing for an hour, 340 ml of water was added, and the solvent 170 was added under normal pressure.
The ml is distilled off in 3 hours. After cooling the reaction solution, 17 ml of ethanol was added, and the resulting precipitated crystals were collected by filtration. The obtained (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- (1-methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl) -4-oxo-1,4-dihydro-3-
The quinoline carboxylic acid / hydrochloride was suspended in 340 ml of water, adjusted to pH 7.5 with 2 mol / L sodium hydroxide under ice-cooling, and the obtained precipitated crystals were collected by filtration to obtain (R) -1-cyclopropyl- 8
-Difluoromethoxy-7- (1-methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl) -4-oxo-
1,4-dihydro-3-quinolinecarboxylic acid monohydrate 2
5.55 g are obtained.

【0036】製造例3 (R)−1−シクロプロピル−8−ジフルオロメトキシ
−7−(1−メチル−2,3−ジヒドロ−1H−5−イ
ソインドリル)−4−オキソ−1,4−ジヒドロ−3−
キノリンカルボン酸・一水和物24gを50%エタノール192m
lに懸濁させ、40℃に加温した後、メタンスルホン酸5.7
1gを加え均一溶液とする。ついで、活性炭2.4gを加え、
同温度で10分間撹拌した後、不溶物を濾去する。濾液を
濃縮し、得られた析出晶を濾取すれば、(R)−1−シ
クロプロピル−8−ジフルオロメトキシ−7−(1−メ
チル−2,3−ジヒドロ−1H−5−イソインドリル)
−4−オキソ−1,4−ジヒドロ−3−キノリンカルボ
ン酸のメタンスルホン酸塩・一水和物26.64gを得る。
Production Example 3 (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- (1-methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl) -4-oxo-1,4-dihydro- 3-
Quinolinecarboxylic acid monohydrate 24g 50% ethanol 192m
l, warmed to 40 ° C, methanesulfonic acid 5.7
Add 1 g to make a homogeneous solution. Then add 2.4 g of activated carbon,
After stirring at the same temperature for 10 minutes, the insoluble matter is removed by filtration. The filtrate is concentrated, and the resulting precipitate is collected by filtration to give (R) -1-cyclopropyl-8-difluoromethoxy-7- (1-methyl-2,3-dihydro-1H-5-isoindolyl).
26.64 g of methanesulfonate monohydrate of -4-oxo-1,4-dihydro-3-quinolinecarboxylic acid are obtained.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の製造法は、抗菌剤として有用な
一般式[1]の化合物の中間体である一般式[2]の化
合物またはその塩を工業的に製造する方法として有用で
ある。
Industrial Applicability The production method of the present invention is useful as a method for industrially producing a compound of the general formula [2] or a salt thereof, which is an intermediate of the compound of the general formula [1] useful as an antibacterial agent. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 「式中、R1aは、カルボキシル保護基を示す。」で表
される2,4−ジブロモ−3−ヒドロキシ安息香酸エス
テルに、一般式 R−X 「式中、Rは、置換されていてもよいアルキル基を;
Xは、ハロゲン原子をそれぞれ示す。」で表される化合
物を反応させ、一般式 【化2】 「式中、R1aおよびRは、上記と同じ意味を有す
る。」で表される3−アルコキシ−2,4−ジブロモ安
息香酸エステルを得、ついで、カルボキシル保護基の脱
離反応に付し、一般式 【化3】 「式中、Rは、上記と同じ意味を有する。」で表され
る3−アルコキシ−2,4−ジブロモ安息香酸を得、つ
いで、ケトエステル化反応に付し、一般式 【化4】 「式中、R1bは、カルボキシル保護基を示し、R
は、上記と同じ意味を有する。」で表される3−アル
コキシ−2,4−ジブロモベンゾイル酢酸エステルを
得、ついで、オルトエステル類またはアセタールを反応
させた後、一般式 R−NH 「式中、Rは、置換されていてもよいアルキル、シク
ロアルキル、アリールまたは複素環式基を示す。」で表
される化合物を反応させ、一般式 【化5】 「式中、R1b、RおよびRは、上記と同じ意味を
有する。」で表される2−(3−アルコキシ−2,4−
ジブロモベンゾイル)−3−置換アミノアクリル酸エス
テルを得、ついで、閉環反応に付すことを特徴とする一
般式 【化6】 「式中、R1b、RおよびRは、上記と同じ意味を
有する。」で表される7−ブロモ−キノロンカルボン酸
誘導体の製造法。
1. A compound of the general formula In the formula, R 1a represents a carboxyl-protecting group. A 2,4-dibromo-3-hydroxybenzoic acid ester represented by the general formula R 2 -X wherein R 2 is substituted An alkyl group which may be
X represents a halogen atom. With a compound represented by the general formula: In the formula, R 1a and R 2 have the same meaning as described above, to give a 3-alkoxy-2,4-dibromobenzoate ester, which is then subjected to a elimination reaction of a carboxyl protecting group. , The general formula A 3-alkoxy-2,4-dibromobenzoic acid represented by "wherein R 2 has the same meaning as described above" is obtained, and then subjected to a ketoesterification reaction to obtain a compound of the general formula Wherein R 1b represents a carboxyl protecting group;
2 has the same meaning as above. Give represented 3-alkoxy-2,4-dibromo-benzoyl acetic ester ", then after reacting the ortho ester or acetal of the general formula R 3 -NH 2" wherein, R 3 is substituted Represents an alkyl, cycloalkyl, aryl or heterocyclic group which may be represented by the general formula: Wherein R 1b , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.
A dibromobenzoyl) -3-substituted aminoacrylate is obtained and then subjected to a ring closure reaction. A method for producing a 7-bromo-quinolone carboxylic acid derivative represented by the formula: wherein R 1b , R 2 and R 3 have the same meanings as described above.
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