JP2000138151A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JP2000138151A JP2000138151A JP10309677A JP30967798A JP2000138151A JP 2000138151 A JP2000138151 A JP 2000138151A JP 10309677 A JP10309677 A JP 10309677A JP 30967798 A JP30967798 A JP 30967798A JP 2000138151 A JP2000138151 A JP 2000138151A
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- optical axis
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
Abstract
(57)【要約】
【課題】反射屈折光学系を投影光学系として用いる投影
露光装置において、投影光学系の光学調整を容易に行う
ことが出来る技術を提供する。 【解決手段】第１面Ｒの像を投影光学系を介して第２面
Ｗ上に形成する投影露光装置において、投影光学系は、
１個以上の光路偏向部材Ｍ1、Ｍ2と２個以上の光軸ｚ1
〜ｚ3を有し、各光軸上に配置される光学部材は、各光
軸に対応して設けられる各バレル１〜３によって保持さ
れ、バレル１〜３のうち少なくとも１個のバレル２は、
対応する光軸ｚ2を傾斜できるように、又は対応する光
軸ｚ2方向に並進できるように、調整装置７、８を備え
ていることを特徴とする。
露光装置において、投影光学系の光学調整を容易に行う
ことが出来る技術を提供する。 【解決手段】第１面Ｒの像を投影光学系を介して第２面
Ｗ上に形成する投影露光装置において、投影光学系は、
１個以上の光路偏向部材Ｍ1、Ｍ2と２個以上の光軸ｚ1
〜ｚ3を有し、各光軸上に配置される光学部材は、各光
軸に対応して設けられる各バレル１〜３によって保持さ
れ、バレル１〜３のうち少なくとも１個のバレル２は、
対応する光軸ｚ2を傾斜できるように、又は対応する光
軸ｚ2方向に並進できるように、調整装置７、８を備え
ていることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体素
子、または液晶表示装置等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影露光装置の光学系に関し、
特に光学系の一要素として反射系を用いることにより、
クオーターミクロン単位の解像度を有する反射屈折光学
系の調整技術に関する。
子、または液晶表示装置等をフォトリソグラフィ工程で
製造する際に使用される投影露光装置の光学系に関し、
特に光学系の一要素として反射系を用いることにより、
クオーターミクロン単位の解像度を有する反射屈折光学
系の調整技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子等を製造するためのフォトリ
ソグラフィ工程においては、フォトマスクまたはレチク
ル（以下、レチクルと総称する。）上のパターンの像
を、投影光学系を介して、フォトレジスト等が塗布され
たウエハまたはガラスプレート等（以下、ウエハと総称
する。）上に露光する投影露光装置が使用されている。
半導体素子等の集積度が向上するにつれて、投影露光装
置に使用されている投影光学系に要求される解像力は益
々高まっている。この要求を満足するために、照明光の
波長を短くし、且つ投影光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を
大きくする必要が生じた。
ソグラフィ工程においては、フォトマスクまたはレチク
ル（以下、レチクルと総称する。）上のパターンの像
を、投影光学系を介して、フォトレジスト等が塗布され
たウエハまたはガラスプレート等（以下、ウエハと総称
する。）上に露光する投影露光装置が使用されている。
半導体素子等の集積度が向上するにつれて、投影露光装
置に使用されている投影光学系に要求される解像力は益
々高まっている。この要求を満足するために、照明光の
波長を短くし、且つ投影光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を
大きくする必要が生じた。
【０００３】しかし、照明光の波長が短くなると、光の
吸収によって実用に耐える硝材の種類は限られ、波長が
３００ｎｍ以下になると、現在のところ実用上使える硝
材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のアッベ数は、色
収差を補正するのに十分な程は離れていないので、色収
差の補正が困難となる。また求められる光学性能は極め
て高いため、各収差をほぼ無収差にすることが必要とな
る。これをレンズ群のみで構成される屈折光学系で達成
するためには、多数のレンズが必要となり、透過率の低
減や光学系を製造するためのコストの増大を避けること
はできない。
吸収によって実用に耐える硝材の種類は限られ、波長が
３００ｎｍ以下になると、現在のところ実用上使える硝
材は合成石英と蛍石だけとなる。両者のアッベ数は、色
収差を補正するのに十分な程は離れていないので、色収
差の補正が困難となる。また求められる光学性能は極め
て高いため、各収差をほぼ無収差にすることが必要とな
る。これをレンズ群のみで構成される屈折光学系で達成
するためには、多数のレンズが必要となり、透過率の低
減や光学系を製造するためのコストの増大を避けること
はできない。
【０００４】これに対して凹面鏡等のパワーを用いた反
射光学系は色収差がなく、しかもレンズとは逆のペッツ
バール和への寄与を示すため、反射光学系と屈折光学系
とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によれば、レ
ンズ枚数の増加を招くことなく、色収差をはじめとする
各種の収差をほぼ無収差にすることができる。こうした
反射屈折光学系により投影光学系を構成した種々の技術
が提案されてきている。それらの代表的なものとして、
特開昭６３−１６３３１９号公報、特公平７−１１１５
１２号公報、特公平５−２５１７０号公報、ＵＳＰ−
４，７７９，９６６等が開示されている。
射光学系は色収差がなく、しかもレンズとは逆のペッツ
バール和への寄与を示すため、反射光学系と屈折光学系
とを組み合わせたいわゆる反射屈折光学系によれば、レ
ンズ枚数の増加を招くことなく、色収差をはじめとする
各種の収差をほぼ無収差にすることができる。こうした
反射屈折光学系により投影光学系を構成した種々の技術
が提案されてきている。それらの代表的なものとして、
特開昭６３−１６３３１９号公報、特公平７−１１１５
１２号公報、特公平５−２５１７０号公報、ＵＳＰ−
４，７７９，９６６等が開示されている。
【０００５】一方、実際に製品を製造する際には、様々
な光学調整が必要となり、屈折光学系の光学調整につい
ては、特公平７−５４７９４号や特開平１０−５４９３
２号に開示されており、反射屈折光学系の光学調整につ
いては、特開平７−８６１５２号に開示されている。し
かしながら、反射屈折光学系を組み立てながら、すべて
の範囲について光学調整を行う方法は、あまり良く分か
っていないのが現状である。
な光学調整が必要となり、屈折光学系の光学調整につい
ては、特公平７−５４７９４号や特開平１０−５４９３
２号に開示されており、反射屈折光学系の光学調整につ
いては、特開平７−８６１５２号に開示されている。し
かしながら、反射屈折光学系を組み立てながら、すべて
の範囲について光学調整を行う方法は、あまり良く分か
っていないのが現状である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】一般に反射屈折光学系
を調整する場合、光軸が複数個あるために、屈折光学系
に比べて、光軸間相互の調整に誤差が生じやすく、その
ため、調整開始時点での初期収差が屈折光学系に比べて
はるかに大きくなり易い。また、光軸間相互の調整を首
尾よく完了できたとしても、製品が設計値と同程度の性
能を持つには、さらに個々のレンズエレメントを傾斜・
移動させるような微細な調整が必要となり、それは、反
射屈折光学系のように複雑な構成を持つ場合には、屈折
光学系に比べて困難さがはるかに増すことになる。この
ため、設計上では反射屈折光学系が屈折光学系よりも優
れているものの、実際には必ずしも反射屈折光学系の実
用化が進まない原因となっていた。本発明はかかる点に
鑑み、主として反射屈折光学系を投影光学系として用い
る投影露光装置において、投影光学系の光学調整を容易
に行うことが出来る技術を提供することを課題とする。
を調整する場合、光軸が複数個あるために、屈折光学系
に比べて、光軸間相互の調整に誤差が生じやすく、その
ため、調整開始時点での初期収差が屈折光学系に比べて
はるかに大きくなり易い。また、光軸間相互の調整を首
尾よく完了できたとしても、製品が設計値と同程度の性
能を持つには、さらに個々のレンズエレメントを傾斜・
移動させるような微細な調整が必要となり、それは、反
射屈折光学系のように複雑な構成を持つ場合には、屈折
光学系に比べて困難さがはるかに増すことになる。この
ため、設計上では反射屈折光学系が屈折光学系よりも優
れているものの、実際には必ずしも反射屈折光学系の実
用化が進まない原因となっていた。本発明はかかる点に
鑑み、主として反射屈折光学系を投影光学系として用い
る投影露光装置において、投影光学系の光学調整を容易
に行うことが出来る技術を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明においては、反射屈折型の投影光学系の光学
調整を何段階かにわけ、それぞれの段階にふさわしい光
学調整手段を持たせることで、最終的に設計値とほぼ等
しい光学性能を持つ反射屈折投影露光装置を提供するこ
とを可能としている。すなわち本発明は、第１面の像を
投影光学系を介して第２面上に形成する投影露光装置に
おいて、前記投影光学系は、１個以上の光路偏向部材と
２個以上の光軸を有し、前記各光軸上に配置される光学
部材は、各光軸に対応して設けられる各バレルによって
保持され、前記バレルのうち少なくとも１個は、対応す
る前記光軸を傾斜できるように、又は対応する前記光軸
方向に並進できるように、調整装置を備えていることを
特徴とする投影露光装置である。
め、本発明においては、反射屈折型の投影光学系の光学
調整を何段階かにわけ、それぞれの段階にふさわしい光
学調整手段を持たせることで、最終的に設計値とほぼ等
しい光学性能を持つ反射屈折投影露光装置を提供するこ
とを可能としている。すなわち本発明は、第１面の像を
投影光学系を介して第２面上に形成する投影露光装置に
おいて、前記投影光学系は、１個以上の光路偏向部材と
２個以上の光軸を有し、前記各光軸上に配置される光学
部材は、各光軸に対応して設けられる各バレルによって
保持され、前記バレルのうち少なくとも１個は、対応す
る前記光軸を傾斜できるように、又は対応する前記光軸
方向に並進できるように、調整装置を備えていることを
特徴とする投影露光装置である。
【０００８】本発明はまた、第１面の像を投影光学系を
介して第２面上に形成する投影露光装置において、前記
投影光学系は、レンズと凹面鏡を含み、前記レンズのう
ちの少なくとも５組のレンズ単体又はレンズ集合体は、
光軸に対して傾斜可能に配置されていることを特徴とす
る投影露光装置である。
介して第２面上に形成する投影露光装置において、前記
投影光学系は、レンズと凹面鏡を含み、前記レンズのう
ちの少なくとも５組のレンズ単体又はレンズ集合体は、
光軸に対して傾斜可能に配置されていることを特徴とす
る投影露光装置である。
【０００９】本発明はまた、第１面の像を第２面上に形
成する投影光学系を備え、該投影光学系はレンズと凹面
鏡と光路偏向部材と２個以上の光軸を有し、各光軸上に
配置される光学部材は各光軸に対応して設けられる各バ
レルによって保持され、各バレルは１又は複数の鏡筒ユ
ニットからなり、前記レンズのうちの複数組のレンズ単
体又はレンズ集合体は、光軸に対して傾斜可能に配置さ
れ、又は光軸方向に並進可能に配置されており、前記バ
レルのうち少なくとも１個は、対応する前記光軸を傾斜
できるように、又は対応する前記光軸方向に並進できる
ように、調整装置を備えている投影露光装置の調整方法
であって、前記調整装置によって前記各バレル毎の光軸
同士の関係を調整する工程と、前記各鏡筒ユニットの位
置決めを行う工程と、前記レンズ単体又はレンズ集合体
の位置決めを行う工程を有することを特徴とする投影露
光装置の調整方法である。
成する投影光学系を備え、該投影光学系はレンズと凹面
鏡と光路偏向部材と２個以上の光軸を有し、各光軸上に
配置される光学部材は各光軸に対応して設けられる各バ
レルによって保持され、各バレルは１又は複数の鏡筒ユ
ニットからなり、前記レンズのうちの複数組のレンズ単
体又はレンズ集合体は、光軸に対して傾斜可能に配置さ
れ、又は光軸方向に並進可能に配置されており、前記バ
レルのうち少なくとも１個は、対応する前記光軸を傾斜
できるように、又は対応する前記光軸方向に並進できる
ように、調整装置を備えている投影露光装置の調整方法
であって、前記調整装置によって前記各バレル毎の光軸
同士の関係を調整する工程と、前記各鏡筒ユニットの位
置決めを行う工程と、前記レンズ単体又はレンズ集合体
の位置決めを行う工程を有することを特徴とする投影露
光装置の調整方法である。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例に
よる投影露光装置に用いる投影光学系の光路図を示す。
この投影光学系は、第１結像光学系Ａによってレチクル
Ｒ上のパターンの中間像Ｓを形成し、第２結像光学系Ｂ
によって中間像Ｓの再結像をウエハＷの感光面上に形成
するものである。第１結像光学系Ａの光軸（第１光軸ｚ
1）は、鉛直Ｚ方向に配置されている。また、第１結像
光学系Ａは前群Ａ1と後群Ａ2とからなり、後群Ａ2には
凹面鏡ＭCが配置されており、したがって後群Ａ2は往復
光学系となっている。そして第１結像光学系Ａによるパ
ターンの中間像Ｓは、前群Ａ1と後群Ａ2との中間に形成
される。その中間像Ｓの位置の近傍に第１平面鏡Ｍ1が
配置されており、同平面鏡Ｍ1によって、第１結像光学
系Ａの第１光軸ｚ1は９０°折り曲げられて、左右Ｙ方
向に延びる第２光軸ｚ2となっている。第２光軸ｚ2には
第２平面鏡Ｍ 2が配置されており、同平面鏡Ｍ2によって
第２光軸ｚ2は更に９０°折り曲げられて、鉛直Ｚ方向
に延びる第３光軸ｚ3となっている。したがって２つの
平面鏡Ｍ1、Ｍ2は互いに直交し、且つ第２光軸ｚ2に対
して共に４５°の角度をなしている。そして第３光軸ｚ
3に、第２結像光学系Ｂが配置されており、この第２結
像光学系Ｂの内部に開口絞りＡＳが配置されている。
を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例に
よる投影露光装置に用いる投影光学系の光路図を示す。
この投影光学系は、第１結像光学系Ａによってレチクル
Ｒ上のパターンの中間像Ｓを形成し、第２結像光学系Ｂ
によって中間像Ｓの再結像をウエハＷの感光面上に形成
するものである。第１結像光学系Ａの光軸（第１光軸ｚ
1）は、鉛直Ｚ方向に配置されている。また、第１結像
光学系Ａは前群Ａ1と後群Ａ2とからなり、後群Ａ2には
凹面鏡ＭCが配置されており、したがって後群Ａ2は往復
光学系となっている。そして第１結像光学系Ａによるパ
ターンの中間像Ｓは、前群Ａ1と後群Ａ2との中間に形成
される。その中間像Ｓの位置の近傍に第１平面鏡Ｍ1が
配置されており、同平面鏡Ｍ1によって、第１結像光学
系Ａの第１光軸ｚ1は９０°折り曲げられて、左右Ｙ方
向に延びる第２光軸ｚ2となっている。第２光軸ｚ2には
第２平面鏡Ｍ 2が配置されており、同平面鏡Ｍ2によって
第２光軸ｚ2は更に９０°折り曲げられて、鉛直Ｚ方向
に延びる第３光軸ｚ3となっている。したがって２つの
平面鏡Ｍ1、Ｍ2は互いに直交し、且つ第２光軸ｚ2に対
して共に４５°の角度をなしている。そして第３光軸ｚ
3に、第２結像光学系Ｂが配置されており、この第２結
像光学系Ｂの内部に開口絞りＡＳが配置されている。
【００１１】この投影光学系は、第１結像光学系後群Ａ
2が往復光学系となっているために、レチクルパターン
面とウエハ感光面の光軸ｚ1、ｚ3上の位置は、使用領域
とはならない。すなわちレチクルパターンを照明する照
明光学系（不図示）の照明領域は、第１光軸ｚ1を外し
た前後Ｘ方向に長いスリット状となっており、この結
果、投影光学系の露光領域も第３光軸ｚ3を外した前後
Ｘ方向に長いスリット状となっている。そしてレチクル
ＲとウエハＷとを左右Ｙ方向に同期して走査することに
より、レチクルパターンの全域をウエハの感光面に転写
するものである。
2が往復光学系となっているために、レチクルパターン
面とウエハ感光面の光軸ｚ1、ｚ3上の位置は、使用領域
とはならない。すなわちレチクルパターンを照明する照
明光学系（不図示）の照明領域は、第１光軸ｚ1を外し
た前後Ｘ方向に長いスリット状となっており、この結
果、投影光学系の露光領域も第３光軸ｚ3を外した前後
Ｘ方向に長いスリット状となっている。そしてレチクル
ＲとウエハＷとを左右Ｙ方向に同期して走査することに
より、レチクルパターンの全域をウエハの感光面に転写
するものである。
【００１２】本実施例の投影光学系の主要諸元は、 ウエハ側Ｎ．Ａ．：０．７５ 倍率：０．２５倍 使用波長：１９３．３ｎｍ（ＡｒＦエキシマレーザー） である。露光領域としては、例えば前後Ｘ方向長さ×左
右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×６ｍｍの長方形領域とする
ことができる。以下の表１に投影光学系の光学部材の諸
元を掲げる。表１の［光学部材諸元］中、第１欄Ｎｏは
レチクルＲ側からの各光学面の番号、第２欄ｒは各光学
面の曲率半径、第３欄ｄは各光学面から次の光学面まで
の光軸上の距離、第４欄Ｒeffは各光学面の有効半径、
第５欄は各光学面から次の光学面までの硝材（空欄は空
気）、第６欄は各光学部材の記号又は光学部材の属する
群の記号を示す。曲率半径ｒと光軸上の間隔ｄは光の進
行方向を正とするが、１回反射するごとに正負を逆転し
て表示している。また、使用波長での石英と蛍石の屈折
率は次の通りである。 石英：１．５６０３２６ 蛍石：１．５０１４５５
右Ｙ方向長さが、２５ｍｍ×６ｍｍの長方形領域とする
ことができる。以下の表１に投影光学系の光学部材の諸
元を掲げる。表１の［光学部材諸元］中、第１欄Ｎｏは
レチクルＲ側からの各光学面の番号、第２欄ｒは各光学
面の曲率半径、第３欄ｄは各光学面から次の光学面まで
の光軸上の距離、第４欄Ｒeffは各光学面の有効半径、
第５欄は各光学面から次の光学面までの硝材（空欄は空
気）、第６欄は各光学部材の記号又は光学部材の属する
群の記号を示す。曲率半径ｒと光軸上の間隔ｄは光の進
行方向を正とするが、１回反射するごとに正負を逆転し
て表示している。また、使用波長での石英と蛍石の屈折
率は次の通りである。 石英：１．５６０３２６ 蛍石：１．５０１４５５
【００１３】また第３９面と５２面は非球面を用いてお
り、非球面についての第２欄ｒは、頂点曲率半径であ
る。非球面の形状は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ〜Ｆ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に、非球面係
数Ａ〜Ｆの値を示した。円錐係数については、各非球面
ともκ＝０である。また、図２にこの光学系の横収差図
を示す。図２中、（Ａ）はメリジオナル像面内での横収
差を示し、（Ｂ）はサジタル像面内での横収差を示す。
Ｙは像高を示す。
り、非球面についての第２欄ｒは、頂点曲率半径であ
る。非球面の形状は、 ｙ：光軸からの高さ ｚ：接平面から非球面までの光軸方向の距離 ｒ：頂点曲率半径 κ：円錐係数 Ａ〜Ｆ：非球面係数 によって表わしており、［非球面データ］に、非球面係
数Ａ〜Ｆの値を示した。円錐係数については、各非球面
ともκ＝０である。また、図２にこの光学系の横収差図
を示す。図２中、（Ａ）はメリジオナル像面内での横収
差を示し、（Ｂ）はサジタル像面内での横収差を示す。
Ｙは像高を示す。
【００１４】
【表１】 ［光学部材諸元］ Ｎｏ ｒ ｄ Ｒeff 0 ∞ 50.0980 Ｒ 1 ∞ 30.8769 77.96 石英 Ａ1 2 1358.1393 25.6596 82.00 3 -173.9366 29.5956 82.54 石英 Ａ1 4 -262.5027 3.954 9 93.62 5 -243.7585 32.1846 94.30 石英 Ａ1 6 -198.6141 79.250 8 102.23 7 705.6754 29.6916 128.29 石英 Ａ2 8 -853.6854 7.115 7 128.85 9 243.8837 35.0000 130.00 石英 Ａ210 393.9524 334.967 0 126.27 11 -228.4608 20.5261 87.25 石英 Ａ212 324.6767 7.356 1 90.62 13 359.7325 40.5663 92.51 蛍石 Ａ214 -554.2952 58.013 1 94.34 15 588.9791 33.3872 97.95 石英 Ａ216 3573.1266 113.195 5 97.48 17 -249.4612 25.0000 111.74 石英 Ａ218 -1326.9703 25.835 4 126.13 19 -367.4917 -25.8354 129.94 Ａ2 ＭC20 -1326.9703 -25 .0000 127.54 石英 Ａ221 -249.4612 -113.1955 117.01 22 3573.1266 -33.3872 112.48 石英 Ａ223 588.9791 -58.013 1 111.89 24 -554.2952 -40.5663 100.25 蛍石 Ａ225 359.7325 -7.356 1 97.36 26 324.6767 -20.5261 94.44 石英 Ａ227 -228.4608 -334.967 0 87.51 28 393.9524 -35.0000 93.84 石英 Ａ229 243.8837 -7.115 7 96.50 30 -853.6854 -29.6916 93.81 石英 Ａ231 705.6754 1.620 3 92.09 32 ∞ 530.0000 Ｍ133 ∞ -100.000 0 Ｍ234 -473.4614 -50.8662 130.00 石英 Ｂ35 1218.5628 -18.9785 128.42 36 357.1688 -31.0635 128.11 石英 Ｂ37 818.7536 -209.4034 129.93 38 -571.9096 -31.2079 123.89 石英 Ｂ39 -295.8211 -4.7127 119.48 40 -291.2028 -53.9868 119.84 蛍石 Ｂ41 858.6769 -19.1416 119.00 42 − -24.0577 115.27 ＡＳ43 719.7751 -25.00 00 113.83 石英 Ｂ44 6715.0030 -22.3498 117.19 45 -314.9647 -45.0000 124.79 石英 Ｂ46 -5036.3103 -16.5385 123.55 47 -265.1907 -45.0000 120.07 石英 Ｂ48 9375.9412 -1.1109 116.54 49 -177.9561 -50.1531 103.37 石英 Ｂ50 -18823.9455 -4.9217 94.91 51 1624.4653 -25.0000 93.03 石英 Ｂ52 -247.3912 -1.0000 74.54 53 -210.5206 -24.3364 73.99 石英 Ｂ54 -35247.2125 -1.0621 69.21 55 -293.7588 -65.0000 63.01 石英 Ｂ56 56893.1197 -12.3837 31.15 57 ∞ Ｗ［非球面データ］ Ｎｏ＝39 Ａ＝-1.3500×10-8 Ｂ＝-1.2494×10-13-13 Ｃ＝-1.3519×10-18 Ｄ＝-9.1832×10-23-23 Ｅ＝ 3.6355×10-27 Ｆ＝-1.6744×10-31-31 Ｎｏ＝52 Ａ＝-4.8402×10-8 Ｂ＝-1.1379×10-12-12 Ｃ＝-6.8704×10-17 Ｄ＝-2.8172×10-21-21 Ｅ＝ 0 Ｆ＝ 0
【００１５】本実施例の投影光学系は３個の光軸ｚ1、
ｚ2、ｚ3を持っている。第１光軸ｚ1は、第１平面鏡Ｍ1
によって第２光軸ｚ2に折り返されており、第２光軸ｚ2
は、第２平面鏡Ｍ2によって第３光軸ｚ3に折り返されて
いる。すなわち、第１平面鏡Ｍ1は、第１光軸ｚ1と第２
光軸ｚ2との交点を通るように配置されており、第２平
面鏡Ｍ2は、第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点を通る
ように配置されている。図３に示すように、第１光軸ｚ
1上に配置された光学部材は、第１バレル１によって保
持されており、第３光軸ｚ3上に配置された光学部材
は、第３バレル３によって保持されている。また、第１
平面鏡Ｍ1と第２平面鏡Ｍ2は、第２バレル２によって保
持されている。投影露光時、第１バレル１を通った光
は、第２バレル２を中継して、第３バレル３に伝えられ
て像面にいたっている。第２バレル２は、中央付近から
腕を出して第２光軸ｚ2が水平になるように、架台５に
直接固定されている。
ｚ2、ｚ3を持っている。第１光軸ｚ1は、第１平面鏡Ｍ1
によって第２光軸ｚ2に折り返されており、第２光軸ｚ2
は、第２平面鏡Ｍ2によって第３光軸ｚ3に折り返されて
いる。すなわち、第１平面鏡Ｍ1は、第１光軸ｚ1と第２
光軸ｚ2との交点を通るように配置されており、第２平
面鏡Ｍ2は、第２光軸ｚ2と第３光軸ｚ3との交点を通る
ように配置されている。図３に示すように、第１光軸ｚ
1上に配置された光学部材は、第１バレル１によって保
持されており、第３光軸ｚ3上に配置された光学部材
は、第３バレル３によって保持されている。また、第１
平面鏡Ｍ1と第２平面鏡Ｍ2は、第２バレル２によって保
持されている。投影露光時、第１バレル１を通った光
は、第２バレル２を中継して、第３バレル３に伝えられ
て像面にいたっている。第２バレル２は、中央付近から
腕を出して第２光軸ｚ2が水平になるように、架台５に
直接固定されている。
【００１６】以下、本投影光学系の組み立て調整方法に
ついて説明する。まず、第１〜第３バレル１〜３は独立
の構造物なので、それぞれ独立に組み立てることが可能
である。すなわち、第１バレル１と第３バレル３は、平
面鏡を含まず、レンズあるいは凹面鏡ＭCが１個の光軸
ｚ1、ｚ3に対して並べられているだけなので、従来の屈
折系と同様の手法で組み立てることができる。他方、第
２バレル２は、２個の平面鏡Ｍ1、Ｍ2を保持しており、
保持する部品数が少ないので、例えば３次元測定機を使
うことなどで組み立て調整することができる。
ついて説明する。まず、第１〜第３バレル１〜３は独立
の構造物なので、それぞれ独立に組み立てることが可能
である。すなわち、第１バレル１と第３バレル３は、平
面鏡を含まず、レンズあるいは凹面鏡ＭCが１個の光軸
ｚ1、ｚ3に対して並べられているだけなので、従来の屈
折系と同様の手法で組み立てることができる。他方、第
２バレル２は、２個の平面鏡Ｍ1、Ｍ2を保持しており、
保持する部品数が少ないので、例えば３次元測定機を使
うことなどで組み立て調整することができる。
【００１７】次に、３個のバレル１〜３を接続する。と
ころで、各バレル間の調整を行う場合、設計値からのず
れが生じる。これは、従来の屈折系レンズでは生じなか
った誤差である。この各バレル間のずれも、従来屈折系
で用いたような各種調整機構を用いれば、ある程度の量
であれば除去できる。しかし、各バレル間の相互のずれ
が、例えばミリメートルオーダーになれば、従来の調整
法では、調整ストロークが足りなくなったり、あるい
は、調整ストローク内であっても高次収差の残存量が大
きくなってしまうので、設計性能が実現できなくなって
しまう。そのため、各バレル間の調整は、あらかじめミ
クロンオーダーまで行う必要がある。以下にその手順を
示す。
ころで、各バレル間の調整を行う場合、設計値からのず
れが生じる。これは、従来の屈折系レンズでは生じなか
った誤差である。この各バレル間のずれも、従来屈折系
で用いたような各種調整機構を用いれば、ある程度の量
であれば除去できる。しかし、各バレル間の相互のずれ
が、例えばミリメートルオーダーになれば、従来の調整
法では、調整ストロークが足りなくなったり、あるい
は、調整ストローク内であっても高次収差の残存量が大
きくなってしまうので、設計性能が実現できなくなって
しまう。そのため、各バレル間の調整は、あらかじめミ
クロンオーダーまで行う必要がある。以下にその手順を
示す。
【００１８】まず、第１バレル１と第３バレル３を架台
５に組み込む。この際、第１バレル１と第３バレル３
は、互いにできるだけ平行になるように組み込む。架台
５の保持面に対して、光軸ｚ1、ｚ3が垂直であれば、そ
の後の調整がし易すくなるから好ましい。設計データか
ら分かるように、第１バレル１と第３バレル３との間に
は、所定の設計値の位置関係が存在していて、これをミ
クロンオーダーで満たす必要がある。しかし、第１、第
３バレル１、３の如く長大で高重量の物を、最初からミ
クロンオーダーで設置するのは非常に難しい。また、第
１、第３バレル１、３の傾きも、お互いに数秒オーダー
であることが必要だが、これも、最初に置いただけで実
現するのは難しい。
５に組み込む。この際、第１バレル１と第３バレル３
は、互いにできるだけ平行になるように組み込む。架台
５の保持面に対して、光軸ｚ1、ｚ3が垂直であれば、そ
の後の調整がし易すくなるから好ましい。設計データか
ら分かるように、第１バレル１と第３バレル３との間に
は、所定の設計値の位置関係が存在していて、これをミ
クロンオーダーで満たす必要がある。しかし、第１、第
３バレル１、３の如く長大で高重量の物を、最初からミ
クロンオーダーで設置するのは非常に難しい。また、第
１、第３バレル１、３の傾きも、お互いに数秒オーダー
であることが必要だが、これも、最初に置いただけで実
現するのは難しい。
【００１９】そこで、第１バレル１あるいは第３バレル
３に、移動と傾斜調整機構を持たせてもよい。その場合
でも、第１、第３バレル１、３のような長大で高重量の
物を、架台５に載せたままで、ミクロンオーダーで調整
するのはかなり難しい。そのため、一度第１バレル１あ
るいは第３バレル３を架台５から外して、架台５等を調
整して、再度第１バレル１あるいは第３バレル３を取り
付ける、という作業手順が現実的である。そのため、実
施例では、図３に示すように、第１、第３バレル１、３
が、キネマチックジョイント６を用いて着脱可能になっ
ており、第１バレル１あるいは第３バレル３を取り外
し、フランジ位置の厚みを調整した後再度取り付けるこ
とが可能である。
３に、移動と傾斜調整機構を持たせてもよい。その場合
でも、第１、第３バレル１、３のような長大で高重量の
物を、架台５に載せたままで、ミクロンオーダーで調整
するのはかなり難しい。そのため、一度第１バレル１あ
るいは第３バレル３を架台５から外して、架台５等を調
整して、再度第１バレル１あるいは第３バレル３を取り
付ける、という作業手順が現実的である。そのため、実
施例では、図３に示すように、第１、第３バレル１、３
が、キネマチックジョイント６を用いて着脱可能になっ
ており、第１バレル１あるいは第３バレル３を取り外
し、フランジ位置の厚みを調整した後再度取り付けるこ
とが可能である。
【００２０】但し、本実施例では、第１、第３バレル
１、３の傾斜さえ数ミクロンオーダーで調整されていれ
ば、第１、第３バレル１、３の間隔の設計値からのずれ
や、上下方向の高さの設計値からのずれについては、第
２バレル２の調整範囲内であれば、第２バレル２を移動
させることで調整可能である。すなわち、第１、第３バ
レル１、３の間隔のずれや高さのずれは、第２バレル２
を上下左右に移動させることで、設計値と同等な光路長
位置に調整することが可能である。上記の如く、レチク
ルＲの直後あるいはウエハＷの直前の光学部材を含ま
ず、かつ１個以上の光路偏向部材を有する第２バレル２
に調整機構を持たせれば、他のバレル１、３に調整機構
が必要なくなる場合がある。そこで、本実施例では、第
２バレル２のみの調整機構を用いて調整を行う。
１、３の傾斜さえ数ミクロンオーダーで調整されていれ
ば、第１、第３バレル１、３の間隔の設計値からのずれ
や、上下方向の高さの設計値からのずれについては、第
２バレル２の調整範囲内であれば、第２バレル２を移動
させることで調整可能である。すなわち、第１、第３バ
レル１、３の間隔のずれや高さのずれは、第２バレル２
を上下左右に移動させることで、設計値と同等な光路長
位置に調整することが可能である。上記の如く、レチク
ルＲの直後あるいはウエハＷの直前の光学部材を含ま
ず、かつ１個以上の光路偏向部材を有する第２バレル２
に調整機構を持たせれば、他のバレル１、３に調整機構
が必要なくなる場合がある。そこで、本実施例では、第
２バレル２のみの調整機構を用いて調整を行う。
【００２１】次に、第２バレル２を、所定の位置に、や
はり架台５に対して設置する。但し、上述の如く第１、
第３バレル１、３の間隔のずれや高さのずれはあらかじ
め測定しておいて、そのずれ量を第２バレル２の設計値
にオフセットとして加えておく。上記の値が分かってい
たとしても、第２バレル２もかなりの大きさがあり、最
初の設置で理想位置からミクロン、秒オーダーの精度で
設置するのは難しい。このため、第１〜第３バレル１〜
３間の位置を測定し、これを修正するために、第２バレ
ル２に並進、及び傾斜機構を持たせておく。
はり架台５に対して設置する。但し、上述の如く第１、
第３バレル１、３の間隔のずれや高さのずれはあらかじ
め測定しておいて、そのずれ量を第２バレル２の設計値
にオフセットとして加えておく。上記の値が分かってい
たとしても、第２バレル２もかなりの大きさがあり、最
初の設置で理想位置からミクロン、秒オーダーの精度で
設置するのは難しい。このため、第１〜第３バレル１〜
３間の位置を測定し、これを修正するために、第２バレ
ル２に並進、及び傾斜機構を持たせておく。
【００２２】すなわち図４に示すように、第２バレル２
は、ワッシャー７とボール８とを介して架台５上に設置
する。ワッシャー７は調整機構として機能し、ボール８
は着脱機構として機能する。この場合も、第１、第３バ
レル１、３で示したように、第２バレル２を架台５に載
せたままミクロンオーダーで調整するのは難しい。その
ため、一度第２バレル２を外して、ワッシャー７を調整
して、再度第２バレル２を取り付けるという作業手順が
現実的である。このように、第２バレル２に着脱機構を
つけると有効である。また、図３に示す３つのバレル
１、２、３の中で、第２バレル２はもっとも軽量であ
る。よって、着脱や、調整がもっとも容易である。この
ように、最軽量のバレルに傾斜あるいは並進の調整を行
うための調整手段を備えていると、調整がもっとも容易
である。
は、ワッシャー７とボール８とを介して架台５上に設置
する。ワッシャー７は調整機構として機能し、ボール８
は着脱機構として機能する。この場合も、第１、第３バ
レル１、３で示したように、第２バレル２を架台５に載
せたままミクロンオーダーで調整するのは難しい。その
ため、一度第２バレル２を外して、ワッシャー７を調整
して、再度第２バレル２を取り付けるという作業手順が
現実的である。このように、第２バレル２に着脱機構を
つけると有効である。また、図３に示す３つのバレル
１、２、３の中で、第２バレル２はもっとも軽量であ
る。よって、着脱や、調整がもっとも容易である。この
ように、最軽量のバレルに傾斜あるいは並進の調整を行
うための調整手段を備えていると、調整がもっとも容易
である。
【００２３】次に、光学調整を行う。これには、細か
な、レンズ間隔の調整と、１個あるいは複数個のレンズ
の傾斜（チルト）、あるいは光軸に垂直な方向への移動
（シフト）によって行われる。これについては、例えば
特開平７−８６１５２号公報に反射屈折系の場合が示さ
れている。この公報に示されているように、反射屈折系
の光学調整を行う場合、できるだけ他の光学素子ユニッ
トに影響を及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットの
みを光学調整する機構が望ましい。
な、レンズ間隔の調整と、１個あるいは複数個のレンズ
の傾斜（チルト）、あるいは光軸に垂直な方向への移動
（シフト）によって行われる。これについては、例えば
特開平７−８６１５２号公報に反射屈折系の場合が示さ
れている。この公報に示されているように、反射屈折系
の光学調整を行う場合、できるだけ他の光学素子ユニッ
トに影響を及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットの
みを光学調整する機構が望ましい。
【００２４】この要請に従って、本実施例では図３に示
される如く、第１バレル１の光学素子をさらに複数個の
鏡筒ユニット１１〜１４にわけ、第３バレル３の光学素
子をさらに複数個の鏡筒ユニット３１〜３３にわけ、そ
れぞれの鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３は１枚以
上の光学素子を収容している。鏡筒ユニットは、鏡筒ユ
ニット間を調整することで、鏡筒ユニットを光軸に沿っ
て、あるいは光軸に直交する向きに移動、あるいは傾斜
させる機構を持たせている。
される如く、第１バレル１の光学素子をさらに複数個の
鏡筒ユニット１１〜１４にわけ、第３バレル３の光学素
子をさらに複数個の鏡筒ユニット３１〜３３にわけ、そ
れぞれの鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３は１枚以
上の光学素子を収容している。鏡筒ユニットは、鏡筒ユ
ニット間を調整することで、鏡筒ユニットを光軸に沿っ
て、あるいは光軸に直交する向きに移動、あるいは傾斜
させる機構を持たせている。
【００２５】この場合の光学調整手順を示す。まず、焼
き付け検査等によりレンズの収差量を測定しこれをもと
に、鏡筒ユニットの移動あるいは、傾斜量を指示する。
これに基づいて、第１、第３バレル１、３の鏡筒ユニッ
ト１１〜１４、３１〜３３を動かす。ただし、図３から
わかるように第２バレル２を外さずに、第１、第３バレ
ル１、３の鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３を動か
すことは、殆ど不可能である。そこで、すでに説明した
通り、第２バレル２は着脱可能であるので、第２バレル
２を外して、第１、第３バレル１、３内の鏡筒ユニット
１１〜１４、３１〜３３を指示値に従って移動させる。
この場合第１、第３バレル１、３が着脱可能であれば、
第１、第３バレル１、３を外して、別の調整台上で調整
してもよい。この様子を、第３バレル３の場合につい
て、図５に示している。
き付け検査等によりレンズの収差量を測定しこれをもと
に、鏡筒ユニットの移動あるいは、傾斜量を指示する。
これに基づいて、第１、第３バレル１、３の鏡筒ユニッ
ト１１〜１４、３１〜３３を動かす。ただし、図３から
わかるように第２バレル２を外さずに、第１、第３バレ
ル１、３の鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３を動か
すことは、殆ど不可能である。そこで、すでに説明した
通り、第２バレル２は着脱可能であるので、第２バレル
２を外して、第１、第３バレル１、３内の鏡筒ユニット
１１〜１４、３１〜３３を指示値に従って移動させる。
この場合第１、第３バレル１、３が着脱可能であれば、
第１、第３バレル１、３を外して、別の調整台上で調整
してもよい。この様子を、第３バレル３の場合につい
て、図５に示している。
【００２６】図５では、第３バレル３をさらに光学素子
を含んだ３個の鏡筒ユニット３１〜３３に分割してい
る。図５では、最上部と最下部の鏡筒ユニット３１、３
３を固定して、真ん中の鏡筒ユニット３２を、ワッシャ
ー７を交換して光軸方向に移動させると共に、光軸と直
交する方向にも移動させている。調整が終わったら、第
１、第３バレル１、３を組み立てて、最後に第２バレル
２を元の位置に戻す。以上の光学調整を１回、あるいは
複数回行うことで、レンズ性能は設計値に近づく。
を含んだ３個の鏡筒ユニット３１〜３３に分割してい
る。図５では、最上部と最下部の鏡筒ユニット３１、３
３を固定して、真ん中の鏡筒ユニット３２を、ワッシャ
ー７を交換して光軸方向に移動させると共に、光軸と直
交する方向にも移動させている。調整が終わったら、第
１、第３バレル１、３を組み立てて、最後に第２バレル
２を元の位置に戻す。以上の光学調整を１回、あるいは
複数回行うことで、レンズ性能は設計値に近づく。
【００２７】しかしながら、以上の調整手順を繰り返し
たとしても、第１、第３バレル１、３の調整指示、ある
いは、第２バレル２を再現させる場合、どうしても、指
示値に対して微少な誤差が生じる。この誤差による収差
を調整する場合上記の調整手順だけではどうしても、第
２バレル２や第１、第３バレル１、３の着脱が必要にな
り非常に手間がかかる。そのため、この分の最終的な収
差調整はバレルを着脱せずに行えることが望ましい。さ
らに、例えレンズを完成した後でも、ステージに載せた
り、製品として使用する際の移動、設置環境などの変化
によってもレンズの収差は微妙に変化する。この分の収
差の調整は、いずれにせよバレルを着脱せず外部から行
う必要がある。
たとしても、第１、第３バレル１、３の調整指示、ある
いは、第２バレル２を再現させる場合、どうしても、指
示値に対して微少な誤差が生じる。この誤差による収差
を調整する場合上記の調整手順だけではどうしても、第
２バレル２や第１、第３バレル１、３の着脱が必要にな
り非常に手間がかかる。そのため、この分の最終的な収
差調整はバレルを着脱せずに行えることが望ましい。さ
らに、例えレンズを完成した後でも、ステージに載せた
り、製品として使用する際の移動、設置環境などの変化
によってもレンズの収差は微妙に変化する。この分の収
差の調整は、いずれにせよバレルを着脱せず外部から行
う必要がある。
【００２８】そのため、本実施例では、特開平１０−５
４９３２号公報のように、少なくとも５個所の光路長を
変更してザイデルの５収差を調整可能にすると共に、さ
らに、偏芯収差を直すために、少なくとも５組のレンズ
素子又はレンズ集合体Ｃ1〜Ｃ5を、外部から他の光学部
材に影響を与えることなく、傾斜させる機能をもたせる
ことにより、偏芯収差を調整可能にしている。レンズ素
子又はレンズ集合体をチルトさせるものとしては、特開
平１０−１３３１０５号公報に開示された技術があり、
この場合はレチクル近くのレンズ素子をチルトさせてい
る。しかし、この機構では、偏芯による歪曲収差を補正
するような場合は有効であるが、偏芯によるコマ収差を
修正する場合には十分でない。しかも、特開平１０−１
３３１０５号の技術は屈折系であり、本発明の如く主に
反射屈折系レンズに適用する場合とは本質的に異なる。
４９３２号公報のように、少なくとも５個所の光路長を
変更してザイデルの５収差を調整可能にすると共に、さ
らに、偏芯収差を直すために、少なくとも５組のレンズ
素子又はレンズ集合体Ｃ1〜Ｃ5を、外部から他の光学部
材に影響を与えることなく、傾斜させる機能をもたせる
ことにより、偏芯収差を調整可能にしている。レンズ素
子又はレンズ集合体をチルトさせるものとしては、特開
平１０−１３３１０５号公報に開示された技術があり、
この場合はレチクル近くのレンズ素子をチルトさせてい
る。しかし、この機構では、偏芯による歪曲収差を補正
するような場合は有効であるが、偏芯によるコマ収差を
修正する場合には十分でない。しかも、特開平１０−１
３３１０５号の技術は屈折系であり、本発明の如く主に
反射屈折系レンズに適用する場合とは本質的に異なる。
【００２９】なお、上記５組のレンズ素子又はレンズ集
合体は、上記光路長を変更するためのレンズ素子又はレ
ンズ集合体と一致させることが効率的であり、望まし
い。ここでいう５個のレンズ素子又はレンズ集合体と
は、５個の３次の偏芯収差の種類に対応している（松居
吉哉「偏芯の存在する光学系の３次の収差論」１９９０
年、日本オプトマカアトロニクス協会、Ｐ５）。すなわ
ち、２種類の偏芯歪曲、偏芯非点収差、像面傾斜、偏芯
コマ収差の５個である。この光路変更機構および、偏芯
調整機構を用いることで、最終的に設計値と同じ能力を
実現できる。この５組のレンズ素子又はレンズ集合体Ｃ
1〜Ｃ5が、図３に示されている。このように特に反射屈
折系ではレンズ素子又はレンズ集合体をチルトさせる機
構が非常に有効である。
合体は、上記光路長を変更するためのレンズ素子又はレ
ンズ集合体と一致させることが効率的であり、望まし
い。ここでいう５個のレンズ素子又はレンズ集合体と
は、５個の３次の偏芯収差の種類に対応している（松居
吉哉「偏芯の存在する光学系の３次の収差論」１９９０
年、日本オプトマカアトロニクス協会、Ｐ５）。すなわ
ち、２種類の偏芯歪曲、偏芯非点収差、像面傾斜、偏芯
コマ収差の５個である。この光路変更機構および、偏芯
調整機構を用いることで、最終的に設計値と同じ能力を
実現できる。この５組のレンズ素子又はレンズ集合体Ｃ
1〜Ｃ5が、図３に示されている。このように特に反射屈
折系ではレンズ素子又はレンズ集合体をチルトさせる機
構が非常に有効である。
【００３０】この調整機構を図６に示す。この調整機構
については、色々なメカニカル機構が考えられる。図６
（Ａ）は、レンズ素子又はレンズ集合体を並進及びチル
トさせる機構を示し、レンズ保持具４０から、０°、１
２０°、及び２４０°の方向に３本の調整棒４１を張り
出し、鏡筒ユニット４２の側壁を貫通したこれら３本の
調整棒４１に、それぞれ昇降駆動機構４３を取り付けた
ものである。昇降駆動機構４３としては、圧電素子や超
音波モータを用いることが出来る。
については、色々なメカニカル機構が考えられる。図６
（Ａ）は、レンズ素子又はレンズ集合体を並進及びチル
トさせる機構を示し、レンズ保持具４０から、０°、１
２０°、及び２４０°の方向に３本の調整棒４１を張り
出し、鏡筒ユニット４２の側壁を貫通したこれら３本の
調整棒４１に、それぞれ昇降駆動機構４３を取り付けた
ものである。昇降駆動機構４３としては、圧電素子や超
音波モータを用いることが出来る。
【００３１】また図６（Ｂ）は、レンズ素子又はレンズ
集合体をチルトさせる機構を示し、レンズ保持具４０に
＋Ｘ方向と−Ｘ方向に延びるＸシャフト４５を設け、こ
のＸシャフトを中間筒４６で軸支し、中間筒４６に＋Ｙ
方向と−Ｙ方向に延びるＹシャフト４７を設け、このＹ
シャフト４７を鏡筒ユニット４２で軸支し、Ｘシャフト
４５とＹシャフト４７に回転駆動機構４８を取り付けた
ものである。
集合体をチルトさせる機構を示し、レンズ保持具４０に
＋Ｘ方向と−Ｘ方向に延びるＸシャフト４５を設け、こ
のＸシャフトを中間筒４６で軸支し、中間筒４６に＋Ｙ
方向と−Ｙ方向に延びるＹシャフト４７を設け、このＹ
シャフト４７を鏡筒ユニット４２で軸支し、Ｘシャフト
４５とＹシャフト４７に回転駆動機構４８を取り付けた
ものである。
【００３２】このように、複数の光軸を持つ反射屈折露
光装置では、上記のように、調整装置によって各バレル
１、２、３毎の光軸ｚ1、ｚ2、ｚ3同士の関係を調整す
る工程と、各鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３の位
置決めを行う工程と、レンズ単体又はレンズ集合体Ｃ1
〜Ｃ5の位置決めを行う工程をもたせることにより、最
終的に設計値通りの性能が期待できるので、上記の調整
工程を持つことが不可欠である。
光装置では、上記のように、調整装置によって各バレル
１、２、３毎の光軸ｚ1、ｚ2、ｚ3同士の関係を調整す
る工程と、各鏡筒ユニット１１〜１４、３１〜３３の位
置決めを行う工程と、レンズ単体又はレンズ集合体Ｃ1
〜Ｃ5の位置決めを行う工程をもたせることにより、最
終的に設計値通りの性能が期待できるので、上記の調整
工程を持つことが不可欠である。
【００３３】
【発明の効果】本発明のような調整機構と、調整工程に
より、最終的に設計値とほぼ等しい光学性能を持つ反射
屈折投影露光装置を提供することができた。
より、最終的に設計値とほぼ等しい光学性能を持つ反射
屈折投影露光装置を提供することができた。
【図１】本発明の一実施例による投影露光装置の投影光
学系を示す構成図である。
学系を示す構成図である。
【図２】一実施例の投影光学系の収差図である。
【図３】一実施例の投影光学系を示す（Ａ）平面図と、
（Ｂ）縦断面図である。
（Ｂ）縦断面図である。
【図４】第２バレルの着脱機構と調整機構を示す部分断
面正面図である。
面正面図である。
【図５】第３バレルを示す縦断面図である。
【図６】レンズ素子又はレンズ集合体を、（Ａ）並進及
びチルトさせる機構の一例を示す縦断面図と、（Ｂ）チ
ルトさせる機構の一例を示す平断面図である。
びチルトさせる機構の一例を示す縦断面図と、（Ｂ）チ
ルトさせる機構の一例を示す平断面図である。
Ｒ…レチクル Ｗ…ウエハ Ａ…第１結像光学系 Ａ1…前群 Ａ2…後群 Ｓ…中間像 ＭC…凹面鏡 Ｍ1、Ｍ2…平面鏡 Ｂ…第２結像光学系 ＡＳ…開口絞り ｚ1、ｚ2、ｚ3…光軸 １…第１バレル ２…第２バレル ３…第３バレル ５…架台 ６…キネマチックジョイント ７…ワッシャー ８…ボール １１〜３３…鏡筒ユニット ４０…レンズ保持具 ４１…調整棒 ４２…鏡筒ユニット ４３…昇降駆動機構 ４５…Ｘシャフト ４６…中間筒 ４７…Ｙシャフト ４８…回転駆動機構
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H044 AA19 AC01 AC03 AE10 2H087 KA06 KA21 NA11 PA15 PA18 PB16 QA01 QA05 QA13 QA22 QA31 QA42 QA45 RA41 5F046 AA07 BA05 CA04 CB02 CB10 CB12 CB15 DA12 9A001 KK16
Claims (11)
- 【請求項１】第１面の像を投影光学系を介して第２面上
に形成する投影露光装置において、 前記投影光学系は、１個以上の光路偏向部材と２個以上
の光軸を有し、 前記各光軸上に配置される光学部材は、各光軸に対応し
て設けられる各バレルによって保持され、 前記バレルのうち少なくとも１個は、対応する前記光軸
を傾斜できるように、又は対応する前記光軸方向に並進
できるように、調整装置を備えていることを特徴とする
投影露光装置。 - 【請求項２】前記投影露光装置は、前記各バレルを支持
する架台を有し、 前記バレルのうち少なくとも１個は、前記架台に対して
着脱可能であることを特徴とする、請求項１記載の投影
露光装置。 - 【請求項３】前記調整手段を備えたバレルは、前記第１
面の直後に配置された光学部材を保持せず、前記第２面
の直前に配置された光学部材を保持せず、かつ１個以上
の前記光路偏向部材を保持することを特徴とする、請求
項１又は２記載の投影露光装置。 - 【請求項４】個々のバレルと該バレルによって保持され
る光学部材の合計重量のうち、最軽量のものに係るバレ
ルは、前記調整装置を備えていることを特徴とする、請
求項１、２又は３記載の投影露光装置。 - 【請求項５】第１面の像を投影光学系を介して第２面上
に形成する投影露光装置において、 前記投影光学系は、レンズと凹面鏡を含み、 前記レンズのうちの少なくとも５組のレンズ単体又はレ
ンズ集合体は、光軸に対して傾斜可能に配置されている
ことを特徴とする投影露光装置。 - 【請求項６】前記投影光学系は２個以上の光軸を有し、
各光軸上に配置される光学部材は各光軸に対応して設け
られる各バレルによって保持され、各バレルは１又は複
数の鏡筒ユニットからなり、 光軸に対して傾斜可能に配置された前記レンズ単体又は
レンズ集合体は、それぞれ別の前記鏡筒ユニットに配置
されていることを特徴とする、請求項５記載の投影露光
装置。 - 【請求項７】光軸に対して傾斜可能に配置された前記レ
ンズ単体又はレンズ集合体は、光軸に対して傾斜可能で
あると同時に、光軸方向に並進可能に配置されているこ
とを特徴とする、請求項５又は６記載の投影露光装置。 - 【請求項８】第１面の像を第２面上に形成する投影光学
系を備え、該投影光学系はレンズと凹面鏡と光路偏向部
材と２個以上の光軸を有し、各光軸上に配置される光学
部材は各光軸に対応して設けられる各バレルによって保
持され、各バレルは１又は複数の鏡筒ユニットからな
り、 前記レンズのうちの複数組のレンズ単体又はレンズ集合
体は、光軸に対して傾斜可能に配置され、又は光軸方向
に並進可能に配置されており、 前記バレルのうち少なくとも１個は、対応する前記光軸
を傾斜できるように、又は対応する前記光軸方向に並進
できるように、調整装置を備えている投影露光装置であ
って、 前記調整装置によって前記各バレル毎の光軸同士の関係
を調整する工程と、前記各鏡筒ユニットの位置決めを行
う工程と、前記レンズ単体又はレンズ集合体の位置決め
を行う工程とによって調整されたことを特徴とする投影
露光装置。 - 【請求項９】前記投影光学系は、前記第１面の中間像を
形成する第１結像光学系と、前記中間像の再結像を前記
第２面上に形成する第２結像光学系と、前記中間像の付
近に配置された第１の光路偏向部材と、前記第２結像光
学系の内部に配置された第２の光路偏向部材とを含むこ
とを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項記載の投
影露光装置。 - 【請求項１０】第１面の像を第２面上に形成する投影光
学系を備え、該投影光学系はレンズと凹面鏡と光路偏向
部材と２個以上の光軸を有し、各光軸上に配置される光
学部材は各光軸に対応して設けられる各バレルによって
保持され、各バレルは１又は複数の鏡筒ユニットからな
り、 前記レンズのうちの複数組のレンズ単体又はレンズ集合
体は、光軸に対して傾斜可能に配置され、又は光軸方向
に並進可能に配置されており、 前記バレルのうち少なくとも１個は、対応する前記光軸
を傾斜できるように、又は対応する前記光軸方向に並進
できるように、調整装置を備えている投影露光装置の調
整方法であって、 前記調整装置によって前記各バレル毎の光軸同士の関係
を調整する工程と、 前記各鏡筒ユニットの位置決めを行う工程と、 前記レンズ単体又はレンズ集合体の位置決めを行う工程
を有することを特徴とする投影露光装置の調整方法。 - 【請求項１１】前記投影光学系は、前記第１面の中間像
を形成する第１結像光学系と、前記中間像の再結像を前
記第２面上に形成する第２結像光学系と、前記中間像の
付近に配置された第１の光路偏向部材と、前記第２結像
光学系の内部に配置された第２の光路偏向部材とを含む
ことを特徴とする、請求項１０項記載の投影露光装置の
調整方法。
Priority Applications (10)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10309677A JP2000138151A (ja) | 1998-10-30 | 1998-10-30 | 投影露光装置 |
| EP02024575A EP1293831A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP99110891A EP0964307A3 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP02024576A EP1293832A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| EP02024574A EP1293830A1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-07 | Projection exposure apparatus and method |
| US09/328,198 US6195213B1 (en) | 1998-06-08 | 1999-06-08 | Projection exposure apparatus and method |
| US09/721,956 US6362926B1 (en) | 1998-06-08 | 2000-11-27 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/060,316 US6512641B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-02-01 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/310,780 US6639732B2 (en) | 1998-06-08 | 2002-12-06 | Projection exposure apparatus and method |
| US10/645,780 US20040070852A1 (en) | 1998-06-08 | 2003-08-22 | Projection eposure apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10309677A JP2000138151A (ja) | 1998-10-30 | 1998-10-30 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000138151A true JP2000138151A (ja) | 2000-05-16 |
Family
ID=17995954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10309677A Withdrawn JP2000138151A (ja) | 1998-06-08 | 1998-10-30 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000138151A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008181125A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Carl Zeiss Smt Ag | リソグラフィ用投影対物レンズ |
-
1998
- 1998-10-30 JP JP10309677A patent/JP2000138151A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008181125A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Carl Zeiss Smt Ag | リソグラフィ用投影対物レンズ |
| KR101421298B1 (ko) | 2007-01-23 | 2014-07-18 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 리소그라피를 위한 투영 대물 렌즈 |
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| RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20051003 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20061106 |