JP2000122297A - Planographic printing plate material and method for developing the same - Google Patents

Planographic printing plate material and method for developing the same

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JP2000122297A
JP2000122297A JP29356198A JP29356198A JP2000122297A JP 2000122297 A JP2000122297 A JP 2000122297A JP 29356198 A JP29356198 A JP 29356198A JP 29356198 A JP29356198 A JP 29356198A JP 2000122297 A JP2000122297 A JP 2000122297A
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JP
Japan
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group
printing plate
lithographic printing
nucleus
plate material
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JP29356198A
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Japanese (ja)
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Takeshi Sanpei
武司 三瓶
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve surface staining in printing and fine halftone dot reproducibility in printing when a material spectrally sensitized so as to ensure the sensitization maximum is the range of 610-710 nm and forming a planographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process is preserved at a high humidity and a high temperature or when the material is subjected to running processing under a reduced replenishing amount. SOLUTION: The planographic printing plate material has its sensitization maximum in the range of 610-710 nm, contains ascorbic acid or a hydrazine derivative in a constituent layer and forms a planographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process. A planographic printing plate material having its sensitization maximum in the range of 610-710 nm and forming a planographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process is developed in the presence of ascorbic acid or a hydrazine derivative.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は銀錯塩拡散転写法を
利用して平版印刷版を形成する平版印刷版材料及びその
現像処理方法に関する。更に詳しくはイメージセッター
の様なレーザーやLEDによる露光向けに分光増感され
た平版印刷版材料及びその現像処理方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate material for forming a lithographic printing plate by utilizing a silver complex salt diffusion transfer method, and a developing method thereof. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate material spectrally sensitized for exposure by a laser or an LED such as an image setter, and a development processing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】銀錯塩拡散転写法(DTR法)によって
得られる転写銀画像を直ちにインキ受理性として利用す
ることができる平版印刷版材料は既に知られている。例
えば、支持体上に下塗層、ハロゲン化銀乳剤層及び物理
現像核層を有する平版印刷版材料が、米国特許第3,7
21,559号、同第3,490,905号、同第3,
385,701号、同第3,814,603号、同第
3,454,398号、同第3,764,323号、同
第3,099,209号、特公昭44−27242号、
同48−30562号、特開昭53−9603号、同5
3−21602号、同54−103104号、同56−
9750号公報等に記載されている。
2. Description of the Related Art A lithographic printing plate material capable of immediately utilizing a transferred silver image obtained by a silver complex salt diffusion transfer method (DTR method) as ink receptivity is already known. For example, a lithographic printing plate material having a subbing layer, a silver halide emulsion layer and a physical development nucleus layer on a support is disclosed in US Pat.
No. 21,559, No. 3,490,905, No. 3,
385,701, 3,814,603, 3,454,398, 3,764,323, 3,099,209, JP-B-44-27242,
48-30562, JP-A-53-9603, 5
No. 3-21602, No. 54-103104, No. 56-
No. 9750, and the like.

【0003】係る平版印刷版の製版法に適した銀錯塩拡
散転写法の代表的な実施法によれば、支持体及びその上
にハレーション防止を兼ねた下塗層、ハロゲン化銀乳剤
層、物理現像核層からなる感光材料を画像露光し、現像
処理を行うと潜像が形成されているハロゲン化銀は乳剤
中で黒化銀となる。同時に潜像が形成されていないハロ
ゲン化銀は現像処理液中に含まれるハロゲン化銀溶剤の
作用で溶解し、感光材料の表面に拡散してくる。溶解し
拡散してきた銀錯塩が表面層の物理現像核の上に現像主
薬の還元作用によって、画像銀として析出する。
According to a typical silver complex salt diffusion transfer method suitable for the method of making a lithographic printing plate, a support and an undercoat layer which also serves as an antihalation layer, a silver halide emulsion layer, When a photosensitive material comprising a development nucleus layer is subjected to image exposure and development processing, silver halide on which a latent image is formed becomes blackened silver in the emulsion. At the same time, the silver halide having no latent image formed thereon is dissolved by the action of the silver halide solvent contained in the developing solution and diffuses to the surface of the photosensitive material. The dissolved and diffused silver complex is deposited as image silver on the physical development nuclei of the surface layer by the reducing action of the developing agent.

【0004】近年、印刷製版分野では、He−Neレー
ザー、赤色半導体レーザー、赤色LED等を光源として
デジタル露光するイメージセッターという装置を用いる
製版が増えている。これらの光源で露光するためには6
10nmから710nmに感光極大を有することが必要
である。そのためには元々短波長にしか感光域を持たな
いハロゲン化銀乳剤を増感色素で所望の波長に分光増感
することが必要である。特開昭60−151643号に
は、上記の銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版材料
に特定の増感色素を適用することで前記の波長に感度を
持たせることが記載されている。しかしながら銀錯塩拡
散転写法を利用した平版印刷版材料では、610nmか
ら710nmに感光極大を有するように分光増感を行っ
た場合、高湿高温下での保存で未露光部のカブリが上昇
して印刷時に地汚れを起こしたり、微細な網点が印刷時
に再現されないなどの欠点があった。
In recent years, in the field of printing plate making, plate making using an apparatus called an image setter for performing digital exposure using a He-Ne laser, a red semiconductor laser, a red LED or the like as a light source is increasing. To expose with these light sources, 6
It is necessary to have a photosensitive maximum between 10 nm and 710 nm. For this purpose, it is necessary to spectrally sensitize a silver halide emulsion, which originally has a photosensitive region only at a short wavelength, to a desired wavelength with a sensitizing dye. JP-A-60-151643 describes that a specific sensitizing dye is applied to a lithographic printing plate material utilizing the above-described silver complex salt diffusion transfer method so as to have sensitivity to the above wavelength. However, in a lithographic printing plate material using a silver complex salt diffusion transfer method, when spectral sensitization is performed so as to have a photosensitive maximum from 610 nm to 710 nm, fog of an unexposed portion increases due to storage under high humidity and high temperature. There have been drawbacks such as the occurrence of background stains during printing and the inability to reproduce fine halftone dots during printing.

【0005】また、近年、環境に対する関心の高まりか
ら写真用の処理廃液を低減する要望が出されている。そ
のためには現像処理において補充量を低減することが好
ましい。しかしながら上記の銀塩拡散転写法を利用した
610nmから710nmに感光極大を有する平版印刷
版材料では、補充量を低減した状態でランニング処理を
した場合、階調が変化したり未露光部のカブリが上昇し
て印刷時に地汚れを起こしたり、微細な網点が印刷時に
再現されないなどの欠点があった。
[0005] In recent years, there has been a demand for reducing photographic processing waste liquid due to increasing concern about the environment. For that purpose, it is preferable to reduce the replenishment amount in the development processing. However, in the case of a lithographic printing plate material having a photosensitive maximum from 610 nm to 710 nm using the above-mentioned silver salt diffusion transfer method, when the running process is performed in a state where the replenishment amount is reduced, the gradation changes and fog of the unexposed portion is reduced. There are drawbacks, such as rising, causing soiling at the time of printing, and fine halftone dots not being reproduced at the time of printing.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、610nmか
ら710nmに感光極大を有するように分光増感を行っ
た銀錯塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成する材
料の、高湿高温下での保存における印刷時の地汚れや印
刷時の微細な網点の再現性の改良を行うことである。本
発明のもう一つの目的は、該平版印刷版材料の現像処理
において、補充量を低減した状態でランニング処理をし
た時の、印刷時の地汚れや印刷時の微細な網点の再現性
の改良を行うことである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a silver complex salt diffusion transfer method in which spectral sensitization is performed so as to have a photosensitive maximum from 610 nm to 710 nm. It is an object of the present invention to improve the reproducibility of background stains during printing and fine halftone dots during printing when a material for forming a lithographic printing plate is stored under high humidity and high temperature. Another object of the present invention is to improve the reproducibility of background stains during printing and fine halftone dots during printing when a running process is performed with the replenishment amount reduced in the developing process of the lithographic printing plate material. To make improvements.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、 610nmから710nmに感光極大を有し、構成
層中にアスコルビン酸類を含有し、銀錯塩拡散転写法を
利用して平版印刷版を形成する平版印刷版材料、 610nmから710nmに感光極大を有し、銀錯
塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成する平版印刷
版材料の現像処理を、アスコルビン酸類の存在下で行う
平版印刷版材料の現像処理方法、アスコルビン酸類を含
有する処理液で現像処理すること、現像処理を更にヒド
ラジン誘導体の存在下で行うこと、 610nmから710nmに感光極大を有し、構成
層中にヒドラジン誘導体を含有し、銀錯塩拡散転写法を
利用して平版印刷版を形成する平版印刷版材料、 610nmから710nmに感光極大を有し、銀錯
塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成する平版印刷
版材料の現像処理を、ヒドラジン誘導体の存在下で行う
平版印刷版材料の現像処理方法、 、において現像処理液が0.1モル/L以上の
炭酸塩を含有すること、実質的にハイドロキノンを含有
しない処理液を用いること、 によって達成される。
The object of the present invention is to form a lithographic printing plate having a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm, containing ascorbic acids in a constituent layer, and utilizing a silver complex salt diffusion transfer method. A lithographic printing plate material which has a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm and forms a lithographic printing plate using a silver complex diffusion transfer method in the presence of ascorbic acids. Material development processing method, development processing with a processing solution containing ascorbic acids, development processing is further performed in the presence of a hydrazine derivative, having a photosensitive maximum from 610 nm to 710 nm, and containing a hydrazine derivative in a constituent layer A lithographic printing plate material for forming a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method, having a photosensitive maximum from 610 nm to 710 nm, The method of developing a lithographic printing plate material in which a lithographic printing plate material is formed in the presence of a hydrazine derivative by using a lithographic printing plate, wherein the developing solution is 0.1 mol / L or more of carbonic acid It is achieved by containing a salt and using a treatment liquid substantially free of hydroquinone.

【0008】なお特開平8−234435号には銀錯塩
拡散転写法を利用した平版印刷版材料にアスコルビン酸
を含有させることが記載されているが、これにはイメー
ジセッターの様なレーザーやLEDによる露光向けに分
光増感された平版印刷版材料での問題点を改良するとい
う思想は見られず、その記載からは全く予想できなかっ
たことであり、本発明とは全く異なるものである。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-234435 discloses that a lithographic printing plate material utilizing a silver complex salt diffusion transfer method contains ascorbic acid. There is no idea to improve the problem in the lithographic printing plate material spectrally sensitized for exposure, and it was completely unexpected from the description, which is completely different from the present invention.

【0009】特開平9−304934号には、銀錯塩拡
散転写法を利用した平版印刷版材料をヒドラジン誘導体
の存在下で現像処理することが記載されているが、これ
にはイメージセッターの様なレーザーやLEDによる露
光向けに分光増感された平版印刷版材料での問題点を改
良するという思想はもちろんのこと、本発明にかかる波
長に分光増感をすることすら記載はなく、本発明とは全
く異なる技術である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-304934 describes that a lithographic printing plate material using a silver complex salt diffusion transfer method is developed in the presence of a hydrazine derivative. Not only the idea of improving the problem in the lithographic printing plate material spectrally sensitized for exposure by laser or LED, but also the spectral sensitization to the wavelength according to the present invention is not described. Is a completely different technology.

【0010】以下に、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0011】本発明において、610nmから710n
mに感光極大を有する平版印刷版材料は、610nmか
ら710nmに感光極大を有するように分光増感された
ハロゲン化銀乳剤を含有することが好ましい。ハロゲン
化銀乳剤を前記波長に分光増感するには、増感色素を用
いる。使用できる分光増感としては、以下の構造を有す
るものが挙げられる。
In the present invention, 610 nm to 710 n
The lithographic printing plate material having a photosensitive maximum at m preferably contains a silver halide emulsion spectrally sensitized to have a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm. To spectrally sensitize the silver halide emulsion to the above wavelength, a sensitizing dye is used. Spectral sensitization that can be used includes those having the following structure.

【0012】[0012]

【化1】 Embedded image

【0013】式中、Z1、Z2は各々独立にヘテロ環を完
成するに必要な原子群を表し、R1及びR2は各々独立に
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基
でR3はアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アル
コキシ基及びヘテロ環基を表す。各々は置換されていて
もよく、炭素数は好ましくは0〜20である。mは0又
は1を表す。Xは対イオンを表す。
In the formula, Z 1 and Z 2 each independently represent a group of atoms necessary for completing a heterocyclic ring, and R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or an aryl group. 3 represents an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an alkoxy group and a heterocyclic group. Each may be substituted, and preferably has 0 to 20 carbon atoms. m represents 0 or 1. X represents a counter ion.

【0014】[0014]

【化2】 Embedded image

【0015】式中、Z21、Z22は各々独立にヘテロ環を
完成するに必要な原子群を表し、R21及びR22は各々独
立にアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリー
ル基でR23は置換アミノ基、アミド基、イミノ基、アル
コキシ基及びヘテロ環基を表す。L1〜L9はメチン基を
表し、m及びnは0,1又は2で、l及びpは0又は1
を表す。Xは対イオンを表す。
In the formula, Z 21 and Z 22 each independently represent a group of atoms necessary for completing a heterocyclic ring, and R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group or an aryl group. 23 represents a substituted amino group, an amide group, an imino group, an alkoxy group, and a heterocyclic group. L 1 to L 9 represent a methine group, m and n are 0, 1 or 2, and 1 and p are 0 or 1
Represents X represents a counter ion.

【0016】[0016]

【化3】 Embedded image

【0017】式中、Z31及びZ32は各々独立にヘテロ環
を完成するに必要な原子群を表し、R31,R32及びR33
は各々独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基を表す。但し、R31,R32及びR33のう
ち少なくとも一つの基はアルケニル基、アルキニル基の
うちどれかを表すものとする。L1〜L9はメチン基を表
し、m及びnは0,1又は2を表し、l及びpは0又は
1を表し、Xは対イオンを表す。
In the formula, Z 31 and Z 32 each independently represent a group of atoms necessary for completing a heterocyclic ring, and R 31 , R 32 and R 33
Each independently represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group. Here, at least one of R 31 , R 32 and R 33 represents any one of an alkenyl group and an alkynyl group. L 1 to L 9 represent a methine group, m and n represent 0, 1 or 2, l and p represent 0 or 1, and X represents a counter ion.

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】式中、Z41はチアゾリン核、チアゾリジン
核、セレナゾリン核、セレナゾリジン核、ピロリジン
核、ジヒドロピリジン核、オキサゾリン核、オキサゾリ
ジン核、イミダゾリン核、インドリン核、テトラゾリン
核、ベンゾチアゾリン核、ベンゾセレナゾリン核、ベン
ズイミダゾリン核、ベンズオキサゾリン核、ナフトチア
ゾリン核、ナフトセレナゾリン核、ナフトオキサゾリン
核、ナフトイミダゾリン核又はジヒドロキノリン核を完
成するのに必要な非金属原子群を表す。Qはローダニン
核、2−チオオキサゾリン−2,4−ジオン核、2−チ
オセレナゾリン−2,4−ジオン核、バルビツール酸核
又は2−チオバルビツール酸核を完成するのに必要な非
金属原子群を表す。R41及びR42は各々独立に水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す。Y1及びY2は各
々独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
pは0又は1を表す。
In the formula, Z 41 is a thiazoline nucleus, a thiazolidine nucleus, a selenazoline nucleus, a selenazolidine nucleus, a pyrrolidine nucleus, a dihydropyridine nucleus, an oxazoline nucleus, an oxazolidine nucleus, an imidazoline nucleus, an indoline nucleus, a tetrazoline nucleus, a benzothiazoline nucleus, and a benzoselenazoline nucleus. , A benzimidazoline nucleus, a benzoxazoline nucleus, a naphthothiazoline nucleus, a naphthoselenazoline nucleus, a naphthooxazoline nucleus, a naphthoimidazoline nucleus or a dihydroquinoline nucleus. Q is a nonmetallic atom necessary for completing a rhodanine nucleus, a 2-thiooxazoline-2,4-dione nucleus, a 2-thioselenazoline-2,4-dione nucleus, a barbituric acid nucleus or a 2-thiobarbituric acid nucleus. Represents a group. R 41 and R 42 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
p represents 0 or 1.

【0020】一般式〔1〕において、Z1、Z2は同じで
も異なってもよく、ベンゾチアゾール環、ベンゾセレナ
ゾール環、ナフトチアゾール環、ナフトセレナゾール環
のようなヘテロ環を形成するに必要な原子群を表し、こ
れらの複素環にはハロゲン原子(例えばクロライド、ブ
ロマイドなど)、アルキル基(例えば炭素数1〜4のア
ルキル基でメチル、エチル、プロピル、ブチル基な
ど)、アルコキシ基(例えば炭素数1〜4のアルコキシ
基でメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ基な
ど)、アルコキシカルボニル基(例えば炭素数1〜4の
アルコキシカルボニル基でメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基など)、ヒド
ロキシル基、フェニル基などの置換基を有していてもよ
い。
In the general formula [1], Z 1 and Z 2 may be the same or different and are necessary for forming a heterocyclic ring such as a benzothiazole ring, a benzoselenazole ring, a naphthothiazole ring or a naphthoselenazole ring. These heterocyclic rings include a halogen atom (for example, chloride, bromide, etc.), an alkyl group (for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methyl, ethyl, propyl, butyl group, etc.) and an alkoxy group (for example, An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, propoxy and butoxy groups; an alkoxycarbonyl group (for example, a alkoxycarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and butoxycarbonyl group); And a substituent such as a phenyl group.

【0021】上記一般式〔1〕のR1、R2が表すアルキ
ル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、直鎖、分
岐、環状の何れでもよい。アルキル基は置換基を有して
いてもよく、例えばメチル、エチル、iso−プロピ
ル、シクロヘキシル、アリル、トリフルオロメチル、β
−ヒドロキシエチル、アセトキシメチル、カルボキシメ
チル、エトキシカルボニルメチル、β−メトキシエチ
ル、γ−メトキシプロピル、β−ベンゾイルオキシエチ
ル、γ−スルホプロピル、δ−スルホブチルなどが挙げ
られる。
The alkyl group represented by R 1 and R 2 in the general formula [1] is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and may be any of linear, branched or cyclic. The alkyl group may have a substituent, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, cyclohexyl, allyl, trifluoromethyl, β
-Hydroxyethyl, acetoxymethyl, carboxymethyl, ethoxycarbonylmethyl, β-methoxyethyl, γ-methoxypropyl, β-benzoyloxyethyl, γ-sulfopropyl, δ-sulfobutyl and the like.

【0022】アルケニル基としては例えばアリル基、ア
ラルキル基としては例えばベンジル、フェネチル、スル
ホベンジルなど、アリール基としては例えばフェニル、
トリル、クロロフェニル、スルホフェニルなどが挙げら
れる。
Examples of the alkenyl group include allyl group, examples of the aralkyl group include benzyl, phenethyl and sulfobenzyl, and examples of the aryl group include phenyl and
Tolyl, chlorophenyl, sulfophenyl and the like can be mentioned.

【0023】R3はアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、ヘテロ環、ハロゲン原子等を表す。各々は置換さ
れていてもよく、炭素数は好ましくは0〜20である。
R 3 represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a hetero ring, a halogen atom or the like. Each may be substituted, and preferably has 0 to 20 carbon atoms.

【0024】Xで表される対イオンとしては、シアニン
色素に通常用いられるアニオンで例えばクロルイオン、
ブロムイオン、沃素イオン、チオシアン酸イオン、硫酸
イオン、過塩素酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオ
ン、四フッ化ホウ素イオン、メチル硫酸イオン、エチル
硫酸イオンなどである。
The counter ion represented by X is an anion commonly used for cyanine dyes, for example, a chloride ion,
Bromine ion, iodine ion, thiocyanate ion, sulfate ion, perchlorate ion, p-toluenesulfonic acid ion, boron tetrafluoride ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion and the like.

【0025】又、分子内塩を形成することができる場合
にはXは存在せず、分子内に2個の酸性基(スルホ、サ
ルフェイト、カルボキシル等)が存在しているときには
アルカリ金属原子、有機アンモニウム等のカチオンを表
す。
When an inner salt can be formed, X is not present. When two acidic groups (sulfo, sulfate, carboxyl, etc.) are present in the molecule, an alkali metal atom, Represents a cation such as organic ammonium.

【0026】mは0又は1で色素が分子内塩を形成する
ときはmは0である。
M is 0 or 1 and m is 0 when the dye forms an inner salt.

【0027】以下に一般式〔1〕で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
Specific examples of the compound represented by the general formula [1] are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0028】[0028]

【化5】 Embedded image

【0029】[0029]

【化6】 Embedded image

【0030】[0030]

【化7】 Embedded image

【0031】[0031]

【化8】 Embedded image

【0032】次に一般式〔2〕において、Z21、Z22
構成される複素環としては、例えばオキサゾリン、オキ
サゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾー
ル、ナフトオキサゾール、チアゾリン、チアゾール、ベ
ンゾチアゾール、ナフトチアゾール、セレナゾリン、セ
レナゾール、ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾー
ル、テトラゾール、ベンゾテトラゾール、ピリジン、キ
ノリン、ベンゾキノリン、インドレニン、ベンゾインド
レニン、ベンゾイミダゾール、ピロリン環などが挙げら
れる。これらの複素環には公知の置換基が置換されてい
てもよく、例えばアルキル、アルコキシ、アリール、ヒ
ドロキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ハロゲ
ンなどが挙げられる。
Next, in the general formula [2], examples of the heterocyclic ring composed of Z 21 and Z 22 include oxazoline, oxazole, benzoxazole, benzoisoxazole, naphthooxazole, thiazoline, thiazole, benzothiazole, naphthothiazole , Selenazoline, selenazole, benzoselenazole, naphthoselenazole, tetrazole, benzotetrazole, pyridine, quinoline, benzoquinoline, indolenine, benzoindolenine, benzimidazole, pyrroline ring and the like. Known substituents may be substituted on these heterocycles, and examples thereof include alkyl, alkoxy, aryl, hydroxy, carboxy, alkoxycarbonyl, and halogen.

【0033】上記一般式〔2〕のR21、R22が表すアル
キル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、直鎖、
分岐、環状の何れでもよい。アルキル基は置換基を有し
ていてもよく、例えばメチル、エチル、iso−プロピ
ル、シクロヘキシル、アリル、トリフルオロメチル、β
−ヒドロキシエチル、アセトキシメチル、カルボキシメ
チル、エトキシカルボニルメチル、β−メトキシエチ
ル、γ−メトキシプロピル、β−ベンゾイルオキシエチ
ル、γ−スルホプロピル、δ−スルホブチルなどが挙げ
られる。
The alkyl group represented by R 21 and R 22 in the general formula [2] is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
It may be branched or annular. The alkyl group may have a substituent, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, cyclohexyl, allyl, trifluoromethyl, β
-Hydroxyethyl, acetoxymethyl, carboxymethyl, ethoxycarbonylmethyl, β-methoxyethyl, γ-methoxypropyl, β-benzoyloxyethyl, γ-sulfopropyl, δ-sulfobutyl and the like.

【0034】アルケニル基としては例えばアリル基、ア
ラルキル基としては例えばベンジル、フェネチル、スル
ホベンジルなど、アリール基としては例えばフェニル、
トリル、クロロフェニル、スルホフェニルなどが挙げら
れる。
The alkenyl group includes, for example, an allyl group, the aralkyl group includes, for example, benzyl, phenethyl and sulfobenzyl, and the aryl group includes, for example, phenyl,
Tolyl, chlorophenyl, sulfophenyl and the like can be mentioned.

【0035】R23で表されるうちの窒素原子或は酸素原
子に結合する基としては、例えばアルキル、アルケニ
ル、アラルキル、アリール、アシル、アルキルスルホニ
ル、ヘテロ環などが挙げられ、二重結合で接続していて
もよく、環を形成していてもよい。
Examples of the group bonded to the nitrogen atom or oxygen atom represented by R 23 include, for example, alkyl, alkenyl, aralkyl, aryl, acyl, alkylsulfonyl, heterocycle and the like. And may form a ring.

【0036】これらR23としては例えばジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、N−メチルアニリノ、1−ピペリ
ジノ、1−モルホリノ、N−メチル−2−ピリジノアミ
ノ、ベンジリデンイミノ、ジベンジルアミノ、N−アセ
チルメチルアミノ、ベンジルアミノ、アセトアミノ、N
−メチルスルホニルアミノ、N−メチルウレイド、3−
メチルベンゾチアゾリデンイミノなど、アルコキシ基と
しては例えばメトキシ、エトキシ基などである。
[0036] for example dimethylamino As these R 23, diethylamino, N- methylanilino, 1-piperidino, 1-morpholino, N- methyl-2-Pirijinoamino, benzylidene imino, dibenzylamino, N- acetyl methylamino, benzylamino, Acetamino, N
-Methylsulfonylamino, N-methylureido, 3-
Examples of the alkoxy group such as methylbenzothiazolideneimino include methoxy and ethoxy groups.

【0037】Xで表される対イオンとしては、シアニン
色素に通常用いられるアニオンで例えばクロルイオン、
ブロムイオン、沃素イオン、チオシアン酸イオン、硫酸
イオン、過塩素酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオ
ン、四フッ化ホウ素イオン、メチル硫酸イオン、エチル
硫酸イオンなどである。
The counter ion represented by X is an anion usually used for a cyanine dye, for example, a chloride ion,
Bromine ion, iodine ion, thiocyanate ion, sulfate ion, perchlorate ion, p-toluenesulfonic acid ion, boron tetrafluoride ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion and the like.

【0038】又、分子内塩を形成することができる場合
にはXは存在せず、分子内に2個の酸性基(スルホ、サ
ルフェイト、カルボキシル等)が存在しているときには
アルカリ金属原子、有機アンモニウム等のカチオンを表
す。
When an inner salt can be formed, X is not present, and when two acidic groups (sulfo, sulfate, carboxyl, etc.) are present in the molecule, an alkali metal atom, Represents a cation such as organic ammonium.

【0039】L1〜L9はメチン基を表し、アルキル、ア
リール、アルコキシなどが置換されていてもよい。
L 1 to L 9 represent a methine group, which may be substituted with alkyl, aryl, alkoxy and the like.

【0040】以下、一般式〔2〕で表される具体的化合
物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by the general formula [2] will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0041】[0041]

【化9】 Embedded image

【0042】[0042]

【化10】 Embedded image

【0043】[0043]

【化11】 Embedded image

【0044】一般式〔3〕において、Z31、Z32で構成
される複素環としては、例えばオキサゾリン、オキサゾ
ール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、
ナフトオキサゾール、チアゾリン、チアゾール、ベンゾ
チアゾール、ナフトチアゾール、セレナゾリン、セレナ
ゾール、ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾール、テ
トラゾール、ベンゾテトラゾール、ピリジン、キノリ
ン、ベンゾキノリン、インドレニン、ベンゾインドレニ
ン、ベンゾイミダゾール、ピロリン環などが挙げられ
る。これらの複素環には公知の置換基が置換されていて
もよく、例えばアルキル、アルコキシ、アリール、ヒド
ロキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ハロゲン
などが挙げられる。
In the general formula [3], examples of the heterocyclic ring composed of Z 31 and Z 32 include oxazoline, oxazole, benzoxazole, benzoisoxazole,
Naphthoxazole, thiazoline, thiazole, benzothiazole, naphthothiazole, selenazoline, selenazole, benzoselenazole, naphthoselenazole, tetrazole, benzotetrazole, pyridine, quinoline, benzoquinoline, indolenine, benzoindolenine, benzimidazole, pyrroline ring, etc. Is mentioned. Known substituents may be substituted on these heterocycles, and examples thereof include alkyl, alkoxy, aryl, hydroxy, carboxy, alkoxycarbonyl, and halogen.

【0045】一般式〔3〕のR31,R32及びR33が表す
アルキル基としては炭素数1〜6のものが好ましく、直
鎖、分岐、環状の何れでもよい。また更に置換基を有し
ていてもよく、例えばメチル、エチル、iso−プロピ
ル、シクロヘキシル、アリル、トリフルオロメチル、β
−ヒドロキシエチル、アセトキシメチル、カルボキシメ
チル、エトキシカルボニルメチル、β−メトキシエチ
ル、γ−メトキシプロピル、β−ベンゾイルオキシエチ
ル、γ−スルホプロピル、δ−スルホブチルなどが挙げ
られる。
The alkyl group represented by R 31 , R 32 and R 33 in the general formula [3] is preferably one having 1 to 6 carbon atoms, and may be any of linear, branched or cyclic. It may further have a substituent, for example, methyl, ethyl, iso-propyl, cyclohexyl, allyl, trifluoromethyl, β
-Hydroxyethyl, acetoxymethyl, carboxymethyl, ethoxycarbonylmethyl, β-methoxyethyl, γ-methoxypropyl, β-benzoyloxyethyl, γ-sulfopropyl, δ-sulfobutyl and the like.

【0046】アルケニル基としてはアリル、スルホプロ
ペニル、スルホブテニル等、アルキニル基としては例え
ばプロピニル、スルホブチニル等が挙げられる。
Examples of the alkenyl group include allyl, sulfopropenyl and sulfobutenyl, and examples of the alkynyl group include propynyl and sulfobutynyl.

【0047】アリール基としては例えばフェニル、トリ
クロロフェニル、スルホフェニル等が挙げられる。
Examples of the aryl group include phenyl, trichlorophenyl, sulfophenyl and the like.

【0048】Xで表される対イオンとしてはシアニン色
素に通常用いられるアニオンで、例えばクロルイオン、
ブロムイオン、沃素イオン、チオシアン酸イオン、硫酸
イオン、過塩素酸イオン、p−トルエンスルホン酸イオ
ン、四フッ化ホウ素イオン、メチル硫酸イオン、エチル
硫酸イオンなどである。
The counter ion represented by X is an anion usually used for a cyanine dye, for example, a chloride ion,
Bromine ion, iodine ion, thiocyanate ion, sulfate ion, perchlorate ion, p-toluenesulfonic acid ion, boron tetrafluoride ion, methyl sulfate ion, ethyl sulfate ion and the like.

【0049】又、分子内塩を形成することができる場合
にはXは存在せず、分子内に2個の酸性基(スルホ、サ
ルフェイト、カルボキシル基等)が存在しているときに
はアルカリ金属原子、有機アンモニウム等のカチオンを
表す。
When an inner salt can be formed, X is not present, and when two acidic groups (sulfo, sulfate, carboxyl group, etc.) are present in the molecule, an alkali metal atom is present. And cations such as organic ammonium.

【0050】L1〜L9はメチン基を表し、アルキル、ア
リール、アルコキシ等が置換されていてもよい。
L 1 to L 9 represent a methine group, which may be substituted by alkyl, aryl, alkoxy and the like.

【0051】以下、一般式〔3〕で表される具体的化合
物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by the general formula [3] will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0052】[0052]

【化12】 Embedded image

【0053】[0053]

【化13】 Embedded image

【0054】[0054]

【化14】 Embedded image

【0055】一般式〔4〕において、Z41で形成される
複素環は少なくとも一つの置換基で置換されていてもよ
く、その置換基としてはハロゲン原子(例えば弗素、塩
素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル基、トリ
フルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)、アリ
ール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜5のも
の、例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、シ
アノ基等を挙げる事ができる。
In the general formula [4], the heterocyclic ring formed by Z 41 may be substituted with at least one substituent, which may be a halogen atom (eg, fluorine, chlorine, bromine, iodine), Nitro group, alkyl group (preferably having 1 to 4 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, phenethyl group), aryl group (for example, phenyl group), alkoxy group (preferably having carbon number 1 to 4, such as methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy), carboxyl, alkoxycarbonyl (preferably having 2 to 5 carbon atoms, such as ethoxycarbonyl), hydroxy, cyano, etc. I can list them.

【0056】ここで、Z41は、チアゾリン核(例えば、
チアゾリン、4−メチルチアゾリン、4−フェニルチア
ゾリン、4,5−ジメチルチアゾリン、4,5−ジフェ
ニルチアゾリンなど)、ベンゾチアゾリン核(例えば、
ベンゾチアゾリン、4−クロロベンゾチアゾリン、5−
クロロベンゾチアゾリン、6−クロロベンゾチアゾリ
ン、7−クロロベンゾチアゾリン、5−ニトロベンゾチ
アゾリン、6−ニトロベンゾチアゾリン、4−メチルベ
ンゾチアゾリン、5−メチルベンゾチアゾリン、6−メ
チルベンゾチアゾリン、5−ブロモベンゾチアゾリン、
6−ブロモベンゾチアゾリン、5−ヨードベンゾチアゾ
リン、5−メトキシベンゾチアゾリン、6−メトキシベ
ンゾチアゾリン、5−エトキシベンゾチアゾリン、5−
プロポキシベンゾチアゾリン、5−ブトキシベンゾチア
ゾリン、5−カルボキシベンゾチアゾリン、5−エトキ
シカルボニルベンゾチアゾリン、5−フェネチルベンゾ
チアゾリン、5−フルオロベンゾチアゾリン、5−クロ
ロ−6−メチルベンゾチアゾリン、5−トリフルオロメ
チルベンゾチアゾリン、5,6−ジメチルベンゾチアゾ
リン、5−ヒドロキシ−6−メチルベンゾチアゾリン、
テトラヒドロベンゾチアゾリン、4−フェニルベンゾチ
アゾリン、5−フェニルベンゾチアゾリンなど)、ナフ
トチアゾリン核(例えば、ナフト〔2,1−d〕チアゾ
リン、ナフト〔1,2−d〕チアゾリン、ナフト〔2,
3−d〕チアゾリン、5−メトキシナフト〔1,2−
d〕チアゾリン、7−エトキシナフト〔2,1−d〕チ
アゾリン、8−メトキシナフト〔2,1−d〕チアゾリ
ン、5−メトキシナフト〔2,3−d〕チアゾリンな
ど)、チアゾリジン核(例えばチアゾリジン、4−メチ
ルチアゾリジン、4−ニトロチアゾリジンなど)、オキ
サゾリン核(例えば、オキサゾリン、4−メチルオキサ
ゾリン、4−ニトロオキサゾリン、5−メチルオキサゾ
リン、4−フェニルオキサゾリン、4,5−ジフェニル
オキサゾリン、4−エチルオキサゾリンなど)、ベンズ
オキサゾリン核(ベンズオキサゾリン、5−クロロベン
ズオキサゾリン、5−メチルベンズオキサゾリン、5−
ブロモベンズオキサゾリン、5−フルオロベンズオキサ
ゾリン、5−フェニルベンズオキサゾリン、5−メトキ
シベンズオキサゾリン、5−ニトロベンズオキサゾリ
ン、5−トリフルオロメチルベンズオキサゾリン、5−
ヒドロキシベンズオキサゾリン、5−カルボキシベンズ
オキサゾリン、6−メチルベンズオキサゾリン、6−ク
ロロベンズオキサゾリン、6−ニトロベンズオキサゾリ
ン、6−メトキシベンズオキサゾリン、6−ヒドロキシ
ベンズオキサゾリン、5,6−ジメチルベンズオキサゾ
リン、5−エトキシベンズオキサゾリンなど)、ナフト
オキサゾリン核(例えば、ナフト〔2,1−d〕オキサ
ゾリン、ナフト〔1,2−d〕オキサゾリン、ナフト
〔2,3−d〕オキサゾリン、5−ニトロナフト〔2,
1−d〕オキサゾリンなど)、オキサゾリジン核(例え
ば4,4−ジメチルオキサゾリジンなど)、セレナゾリ
ン核(例えば、4−メチルセレナゾリン、4−ニトロセ
レナゾリン、4−フェニルセレナゾリンなど)、セレナ
ゾリジン核(例えばセレナゾリジン、4−メチルセレナ
ゾリジン、4−フェニルセレナゾリジンなど)、ベンゾ
セレナゾリン核(例えば、ベンゾセレナゾリン、5−ク
ロルベンゾセレナゾリン、5−ニトロベンゾセレナゾリ
ン、5−メトキシベンゾセレナゾリン、5−ヒドロキシ
ベンゾセレナゾリン、6−ニトロベンゾセレナゾリン、
5−クロル−6−ニトロベンゾセレナゾリンなど)、ナ
フトセレナゾリン核(例えば、ナフト〔2,1−d〕セ
レナゾリン、ナフト〔1,2−d〕セレナゾリンな
ど)、3,3−ジアルキルインドリン核(例えば3,3
−ジメチルインドリン、3,3−ジエチルインドリン、
3,3−ジメチル−5−シアノインドリン、3,3−ジ
メチル−6−ニトロインドリン、3,3−ジメチル−5
−ニトロインドリン、3,3−ジメチル−5−メトキシ
インドリン、3,3−ジメチル−5−メチルインドリ
ン、3,3−ジメチル−5−クロルインドリンなど)、
イミダゾリン核(例えば、1−アルキルイミダゾリン、
1−アルキル−4−フェニルイミダゾリン、1−アリー
ルイミダゾリンなど)、ベンズイミダゾリン核(例えば
1−アルキルベンズイミダゾリン、1−アルキル−5−
クロロベンズイミダゾリン、1−アルキル−5,6−ジ
クロロ−ベンズイミダゾリン、1−アルキル−5−メト
キシベンズイミダゾリン、1−アルキル−5−シアノベ
ンズイミダゾリン、1−アルキル−5−フルオロベンズ
イミダゾリン、1−アルキル−5−トリフルオロメチル
ベンズイミダゾリン、1−アリル−5,6−ジクロロベ
ンズイミダゾリン、1−アリル−5−クロロベンズイミ
ダゾリン、1−アリールベンズイミダゾリン、1−アリ
ール−5−クロロベンズイミダゾリン、1−アリール−
5,6−ジクロロベンズイミダゾリン、1−アリール−
5−メトキシベンズイミダゾリン、1−アリール−5−
シアノベンズイミダゾリンなど)、ナフトイミダゾリン
核(例えば、1−アルキルナフト〔1,2−d〕イミダ
ゾリン、1−アリールナフト〔1,2−d〕イミダゾリ
ンなど)、前述のアルキルは特に炭素原子1〜8のも
の、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル等の無置換アルキル基やヒドロキシアルキル
基(例えば、2−ヒドロキシアルキル、3−ヒドロキシ
プロピル等)等が望ましい。
Here, Z 41 is a thiazoline nucleus (for example,
Thiazoline, 4-methylthiazoline, 4-phenylthiazoline, 4,5-dimethylthiazoline, 4,5-diphenylthiazoline and the like, benzothiazoline nucleus (for example,
Benzothiazoline, 4-chlorobenzothiazoline, 5-
Chlorobenzothiazoline, 6-chlorobenzothiazoline, 7-chlorobenzothiazoline, 5-nitrobenzothiazoline, 6-nitrobenzothiazoline, 4-methylbenzothiazoline, 5-methylbenzothiazoline, 6-methylbenzothiazoline, 5-bromobenzo Thiazoline,
6-bromobenzothiazoline, 5-iodobenzothiazoline, 5-methoxybenzothiazoline, 6-methoxybenzothiazoline, 5-ethoxybenzothiazoline, 5-
Propoxybenzothiazoline, 5-butoxybenzothiazoline, 5-carboxybenzothiazoline, 5-ethoxycarbonylbenzothiazoline, 5-phenethylbenzothiazoline, 5-fluorobenzothiazoline, 5-chloro-6-methylbenzothiazoline, 5-trifluoromethyl Benzothiazoline, 5,6-dimethylbenzothiazoline, 5-hydroxy-6-methylbenzothiazoline,
Tetrahydrobenzothiazoline, 4-phenylbenzothiazoline, 5-phenylbenzothiazoline, etc.), naphthothiazoline nucleus (for example, naphtho [2,1-d] thiazoline, naphtho [1,2-d] thiazoline, naphtho [2,
3-d] thiazoline, 5-methoxynaphtho [1,2-
d] thiazoline, 7-ethoxynaphtho [2,1-d] thiazoline, 8-methoxynaphtho [2,1-d] thiazoline, 5-methoxynaphtho [2,3-d] thiazoline and the like, thiazolidine nucleus (for example, thiazolidine) , 4-methylthiazolidine, 4-nitrothiazolidine, etc.), an oxazoline nucleus (for example, oxazoline, 4-methyloxazoline, 4-nitrooxazoline, 5-methyloxazoline, 4-phenyloxazoline, 4,5-diphenyloxazoline, 4-ethyl) Oxazoline, etc.), benzoxazoline nucleus (benzoxazoline, 5-chlorobenzoxazoline, 5-methylbenzoxazoline, 5-
Bromobenzoxazoline, 5-fluorobenzoxazoline, 5-phenylbenzoxazoline, 5-methoxybenzoxazoline, 5-nitrobenzoxazoline, 5-trifluoromethylbenzoxazoline, 5-
Hydroxybenzoxazoline, 5-carboxybenzoxazoline, 6-methylbenzoxazoline, 6-chlorobenzoxazoline, 6-nitrobenzoxazoline, 6-methoxybenzoxazoline, 6-hydroxybenzoxazoline, 5,6-dimethylbenzoxazoline, 5- Ethoxybenzoxazoline, etc.), naphthooxazoline nucleus (for example, naphtho [2,1-d] oxazoline, naphtho [1,2-d] oxazoline, naphtho [2,3-d] oxazoline, 5-nitronaphtho [2
1-d] oxazoline, etc.), oxazolidine nucleus (eg, 4,4-dimethyloxazolidine), selenazoline nucleus (eg, 4-methyl selenazoline, 4-nitro selenazoline, 4-phenyl selenazoline, etc.), selenazolidine nucleus (eg, Selenazolidine, 4-methylselenazolidine, 4-phenylselenazolidine, etc.), benzoselenazoline nucleus (e.g., benzoselenazoline, 5-chlorobenzoselenazoline, 5-nitrobenzoselenazoline, 5-methoxybenzoselenazoline, 5-hydroxybenzoselenazoline, 6-nitrobenzoselenazoline,
5-chloro-6-nitrobenzoselenazoline, etc.), naphtho selenazoline nucleus (for example, naphtho [2,1-d] selenazoline, naphtho [1,2-d] selenazoline etc.), 3,3-dialkylindoline nucleus ( For example, 3,3
-Dimethylindoline, 3,3-diethylindoline,
3,3-dimethyl-5-cyanoindoline, 3,3-dimethyl-6-nitroindoline, 3,3-dimethyl-5
-Nitroindoline, 3,3-dimethyl-5-methoxyindoline, 3,3-dimethyl-5-methylindoline, 3,3-dimethyl-5-chloroindoline, etc.),
Imidazoline nucleus (eg, 1-alkyl imidazoline,
1-alkyl-4-phenylimidazoline, 1-arylimidazoline, etc.), benzimidazoline nucleus (for example, 1-alkylbenzimidazoline, 1-alkyl-5-
Chlorobenzimidazoline, 1-alkyl-5,6-dichloro-benzimidazoline, 1-alkyl-5-methoxybenzimidazoline, 1-alkyl-5-cyanobenzimidazoline, 1-alkyl-5-fluorobenzimidazoline, 1-alkyl -5-trifluoromethylbenzimidazoline, 1-allyl-5,6-dichlorobenzimidazoline, 1-allyl-5-chlorobenzimidazoline, 1-arylbenzimidazoline, 1-aryl-5-chlorobenzimidazoline, 1-aryl −
5,6-dichlorobenzimidazoline, 1-aryl-
5-methoxybenzimidazoline, 1-aryl-5-
Cyanobenzimidazoline, etc.), naphthoimidazoline nucleus (for example, 1-alkylnaphtho [1,2-d] imidazoline, 1-arylnaphtho [1,2-d] imidazoline, etc.), and the above-mentioned alkyl is particularly preferably a carbon atom having 1 to 8 carbon atoms. For example, an unsubstituted alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, and butyl, and a hydroxyalkyl group (eg, 2-hydroxyalkyl, 3-hydroxypropyl, etc.) are desirable.

【0057】前述のアリール基は、フェニル、ハロゲン
(例えばクロル)置換フェニル、アルキル(例えばメチ
ル)置換フェニル、アルコキシ(例えばメトキシ)置換
フェニルなどを表す。ピロリジン核(例えば2−ピロリ
ジンなど)、ジヒドロピリジン核(例えば1,4−ジヒ
ドロピリジン、5−メチル−1,2−ジヒドロピリジ
ン、3−メチル−1,4−ジヒドロピリジンなど)、ジ
ヒドロキノリン核(例えば、1,4−ジヒドロキノリ
ン、3−メチル−1,2−ジヒドロキノリン、5−エチ
ル−1,2−ジヒドロキノリン、6−メチル−1,2−
ジヒドロキノリン、6−ニトロ−1,2−ジヒドロキノ
リン、8−フルオロ−1,2−ジヒドロキノリン、6−
メトキシ−1,2−ジヒドロキノリン、6−ヒドロキシ
−1,2−ジヒドロキノリン、8−クロロ−1,2−ジ
ヒドロキノリン、6−エトキシ−1,4−ジヒドロキノ
リン、6−ニトロ−1,4−ジヒドロキノリン、8−ク
ロロ−1,4−ジヒドロキノリン、8−フルオロ−1,
4−ジヒドロキノリン、8−メチル−1,4−ジヒドロ
キノリン、8−メトキシ−1,4−ジヒドロキノリン、
ジヒドロイソキノリン、6−ニトロ−1,2−イソキノ
リン、6−ニトロ−2,3−ジヒドロイソキノリンな
ど)、テトラゾリン核をそれぞれ完成するのに必要な非
金属原子群を表す。
The aforementioned aryl groups include phenyl, halogen (eg, chloro) substituted phenyl, alkyl (eg, methyl) substituted phenyl, alkoxy (eg, methoxy) substituted phenyl, and the like. A pyrrolidine nucleus (e.g., 2-pyrrolidine, etc.), a dihydropyridine nucleus (e.g., 1,4-dihydropyridine, 5-methyl-1,2-dihydropyridine, 3-methyl-1,4-dihydropyridine, etc.), a dihydroquinoline nucleus (e.g., 1, 4-dihydroquinoline, 3-methyl-1,2-dihydroquinoline, 5-ethyl-1,2-dihydroquinoline, 6-methyl-1,2-
Dihydroquinoline, 6-nitro-1,2-dihydroquinoline, 8-fluoro-1,2-dihydroquinoline, 6-
Methoxy-1,2-dihydroquinoline, 6-hydroxy-1,2-dihydroquinoline, 8-chloro-1,2-dihydroquinoline, 6-ethoxy-1,4-dihydroquinoline, 6-nitro-1,4- Dihydroquinoline, 8-chloro-1,4-dihydroquinoline, 8-fluoro-1,
4-dihydroquinoline, 8-methyl-1,4-dihydroquinoline, 8-methoxy-1,4-dihydroquinoline,
Dihydroisoquinoline, 6-nitro-1,2-isoquinoline, 6-nitro-2,3-dihydroisoquinoline, etc.) and a non-metallic atomic group required to complete the tetrazoline nucleus.

【0058】これらのうち好ましいZ41としては、チア
ゾリン核、ベンゾチアゾリン核、チアゾリジン核、ベン
ズオキサゾリン核、ナフトオキサゾリン核、セレナゾリ
ン核、セレナゾリジン核、ベンゾセレナゾリン核、ベン
ズイミダゾリン核、ピロリジン核、ジヒドロピリジン
核、テトラゾリン核の場合である。Z41の特に好ましい
ものはチアゾリン核、チアゾリジン核、セレナゾリン
核、セレナゾリジン核、ベンズイミダゾリン核、ピロリ
ジン核、ジヒドロピリジン核である。Z41として更に好
ましいものは、チアゾリン核、チアゾリジン核、ベンズ
イミダゾリン核、ピロリジン核である。
Among them, preferred Z 41 include thiazoline nucleus, benzothiazoline nucleus, thiazolidine nucleus, benzoxazoline nucleus, naphthooxazoline nucleus, selenazoline nucleus, selenazolidine nucleus, benzoselenazoline nucleus, benzimidazoline nucleus, pyrrolidine nucleus, dihydropyridine nucleus. , Tetrazoline nucleus. Particularly preferred examples of Z 41 are a thiazoline nucleus, a thiazolidine nucleus, a selenazoline nucleus, a selenazolidine nucleus, a benzimidazoline nucleus, a pyrrolidine nucleus, and a dihydropyridine nucleus. More preferred as Z 41 are a thiazoline nucleus, a thiazolidine nucleus, a benzimidazoline nucleus and a pyrrolidine nucleus.

【0059】R41及びR42は各々独立に水素原子、無置
換アルキル基(炭素原子数1〜18、好ましくは1〜8
のアルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、ブチル、ヘキシル、ドデシルオクタデシル
など)、置換アルキル基、〔アラルキル基(例えば、ベ
ンジル、β−フェニルエチルなど)、ヒドロキシアルキ
ル基(例えば、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシ
プロピル、2−ヒドロキシエトキシエチルなど)、カル
ボキシアルキル基(例えば、カルボキシメチル、2−カ
ルボキシエチル、3−カルボキシプロピル、4−カルボ
キシブチルなど)、スルホ基で置換されたアルキル基
(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介してアル
キル基に結合していてもよい。例えば、2−スルホエチ
ル、3−スルホプロピル、3−スルホブチル、4−スル
ホブチル、2−〔3−スルホプロポキシ〕エチル、2−
ヒドロキシ−3−スルホプロピル、2−〔2−(3−ス
ルホプロポキシ)エトキシ〕エチル、p−スルホフェネ
チルなど)、サルフェートアルキル基(例えば、3−サ
ルフェートプロピル、4−サルフェートブチルなど)、
メルカプト基、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル
基)、アシロキシアルキル基(例えば、2−アセトキシ
エチル基、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキ
シアルキル基(例えば、2−メトキシエチル基、3−メ
トキシプロピル基など)、アルコキシカルボニルアルキ
ル基(例えば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−
メトキシカルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニ
ルブチル基など)、シアノアルキル基(例えば、2−シ
アノエチル基など)、カルバモイルアルキル基(例え
ば、2−カルバモイルエチル基など)、アリーロキシア
ルキル基(例えば、2−フェノキシエチル基、3−フェ
ノキシプロピル基など)、メルカプトアルキル基(例え
ば、2−メルカプトエチル基、3−メルカプトプロピル
基など)、アルキルチオアルキル基(例えば、2−メチ
ルチオエチル基など)、又はアリール基(例えばフェニ
ル基、トリル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基など)を表す。R42として好ましくは水
素原子又はアリール基である。
R 41 and R 42 are each independently a hydrogen atom or an unsubstituted alkyl group (C 1-18, preferably 1-8
An alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, hexyl, dodecyloctadecyl, etc., a substituted alkyl group, an aralkyl group (eg, benzyl, β-phenylethyl, etc.), a hydroxyalkyl group (eg, 2- Hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2-hydroxyethoxyethyl, etc.), carboxyalkyl group (for example, carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 3-carboxypropyl, 4-carboxybutyl, etc.), alkyl group substituted by sulfo group (The sulfo group may be bonded to the alkyl group via an alkoxy group, an aryl group, or the like. For example, 2-sulfoethyl, 3-sulfopropyl, 3-sulfobutyl, 4-sulfobutyl, 2- [3-sulfopropoxy] Ethyl, 2-
Hydroxy-3-sulfopropyl, 2- [2- (3-sulfopropoxy) ethoxy] ethyl, p-sulfophenethyl and the like, sulfate alkyl group (for example, 3-sulfopropylpropyl and 4-sulfobutyl),
Mercapto group, vinyl-substituted alkyl group (for example, allyl group), acyloxyalkyl group (for example, 2-acetoxyethyl group, 3-acetoxypropyl group, etc.), alkoxyalkyl group (for example, 2-methoxyethyl group, 3-methoxy Propyl group, etc.), alkoxycarbonylalkyl group (for example, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-
A methoxycarbonylpropyl group, a 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc., a cyanoalkyl group (eg, a 2-cyanoethyl group), a carbamoylalkyl group (eg, a 2-carbamoylethyl group), an aryloxyalkyl group (eg, 2- A phenoxyethyl group, a 3-phenoxypropyl group, a mercaptoalkyl group (eg, a 2-mercaptoethyl group, a 3-mercaptopropyl group, etc.), an alkylthioalkyl group (eg, a 2-methylthioethyl group, etc.), or an aryl group ( For example, a phenyl group, a tolyl group, a naphthyl group, a methoxyphenyl group, a chlorophenyl group, etc.). R 42 is preferably a hydrogen atom or an aryl group.

【0060】Qはローダニン核、2−チオオキサゾリン
−2,4−ジオン核、2−チオセレナゾリン−2,4−
ジオン核、バルビツール酸核又はチオバルビツール酸核
〔例えば1−アルキル基(例えば1−メチル、1−エチ
ル、1−プロピル、1−ヘブチルなど)、1,3−ジア
ルキル基(例えば1,3−ジメチル、1,3−ジエチ
ル、1,3−ジプロピル、1,3−ジイソプロピル、
1,3−ジシクルヘキシル、1,3−ジ(β−メトキシ
エチル)など)、1,3−ジアリール基(例えば、1,
3−ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)、
1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)な
ど)、1−スルホアルキル基(例えば1−(2−スルホ
エチル)、1−(3−スルホプロピル)、1−(4−ス
ルホヘブチル)など)、1,3−ジスルホアルキル基
(例えば1,3−ジ(2−スルホエチル)、1,3−ジ
(3−スルホプロピル)、1,3−ジ−(4−スルホシ
クロヘキシルなど)、1,3−ジ−(スルホアリール基
(例えば、1,3−ジ−(4−スルホフェニル)な
ど)、又は1−スルホアリール基(例えば1−(4−ス
ルホフェニル)など)を含有するバルビツール核又はチ
オバルビツール酸核〕、又はチオヒダントイン核(但し
1位の置換基は3位(R42)と同義であるが両者は同一
でも異っていてもよい)を完成するに必要な非金属原子
群を表す。
Q represents a rhodanine nucleus, a 2-thiooxazoline-2,4-dione nucleus, and 2-thioselenazoline-2,4-
A dione nucleus, a barbituric acid nucleus or a thiobarbituric acid nucleus [eg, a 1-alkyl group (eg, 1-methyl, 1-ethyl, 1-propyl, 1-heptyl, etc.), a 1,3-dialkyl group (eg, 1,3 -Dimethyl, 1,3-diethyl, 1,3-dipropyl, 1,3-diisopropyl,
1,3-dicyclhexyl, 1,3-di (β-methoxyethyl) and the like, 1,3-diaryl group (for example, 1,
3-diphenyl, 1,3-di (p-chlorophenyl),
1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl), etc.), 1-sulfoalkyl group (for example, 1- (2-sulfoethyl), 1- (3-sulfopropyl), 1- (4-sulfobutyl)), 1 , 3-disulfoalkyl group (for example, 1,3-di (2-sulfoethyl), 1,3-di (3-sulfopropyl), 1,3-di- (4-sulfocyclohexyl, etc.), 1,3- Barbitur nucleus or thio containing di- (sulfoaryl group (eg, 1,3-di- (4-sulfophenyl) etc.) or 1-sulfoaryl group (eg, 1- (4-sulfophenyl) etc.) Barbituric acid nucleus] or thiohydantoin nucleus (provided that the substituent at the 1-position is the same as that at the 3-position (R 42 ), but both may be the same or different) Represents

【0061】Qによって形成される複素環は好ましくは
ローダニン核、又はチオヒダントイン核であり、更に好
ましくはローダニン核である。
The heterocycle formed by Q is preferably a rhodanine nucleus or a thiohydantoin nucleus, more preferably a rhodanine nucleus.

【0062】Y1及びY2は水素原子、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基な
ど)、アリール基(例えばフェニル基、o−カルボキシ
フェニル基、p−カルボキシフェニル基など)を表す。
Y 1 and Y 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a benzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group, an o-carboxyphenyl group, a p-carboxyphenyl group). Represents

【0063】mは0、1又は2を表し、pは0又は1を
表す。
M represents 0, 1 or 2, and p represents 0 or 1.

【0064】次に一般式〔4〕の具体例を挙げるが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
Next, specific examples of the general formula [4] will be given, but the present invention is not limited to these.

【0065】[0065]

【化15】 Embedded image

【0066】一般式〔1〕〜〔4〕で示される化合物
は、ハロゲン化銀乳剤中に銀1モル当り10-5〜10-1
モル(好ましくは10-4〜10-2モル)添加するのが適
当である。
The compounds represented by the general formulas [1] to [4] are contained in the silver halide emulsion in an amount of 10 -5 to 10 -1 per mol of silver.
It is appropriate to add them in moles (preferably 10 -4 to 10 -2 moles).

【0067】一般式〔1〕〜〔4〕で示される化合物は
直接乳剤に添加してもよく、適当な溶媒、例えばメタノ
ール、エタノール、ジメチルホルムアミドなどの単用又
は混合溶媒に溶解してから添加してもよい。添加の時期
はハロゲン化銀写真感光材料製造工程中の任意の時期で
よいが、好ましくは物理熟成から化学熟成終了までの任
意の時期でよい。
The compounds represented by the general formulas [1] to [4] may be added directly to the emulsion, or dissolved in an appropriate solvent such as methanol, ethanol, dimethylformamide, etc., alone or in a mixed solvent, and then added. May be. The timing of addition may be at any time during the production process of the silver halide photographic light-sensitive material, but is preferably at any time from physical ripening to completion of chemical ripening.

【0068】一般に増感色素は単独に用いてもよいが、
それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特
に強色増感の目的でもしばしば用いられる。
In general, the sensitizing dye may be used alone,
Combinations of these may be used, and combinations of sensitizing dyes are often used particularly for supersensitization.

【0069】また下記一般式(1)、一般式(2−
a)、一般式(2−b)、一般式(3)、一般式(4−
a)、一般式(4−b)又は一般式(5)で表される分
光増感色素も好ましく用いられる。
The following general formulas (1) and (2-
a), general formula (2-b), general formula (3), general formula (4-
a), a spectral sensitizing dye represented by the general formula (4-b) or the general formula (5) is also preferably used.

【0070】[0070]

【化16】 Embedded image

【0071】式中、R11、R12、R13及びR14は、各
々、置換又は無置換の脂肪族基を表し、R12及びR14
少なくとも一方は水可溶化基を置換基として有する、V
11、V 12、V13、V14、V15、V16、V17及びV18は各
々、水素原子又は置換基を表し、V11とV12、V12とV
13、V13とV14、V15とV16、V16とV17及びV17とV
18の間で各々、縮合環を形成してもよく、但し、V11
14並びにV15〜V18は各々、加算したハメットσp値
の総和が0.12より大きくなる置換基であり、L11
12、L13、L14及びL15は各々、メチン基を表し、M
11は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンを表
し、l11は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオン
の数を表す。
Where R11, R12, R13And R14Is each
Each represents a substituted or unsubstituted aliphatic group;12And R14of
At least one of which has a water-solubilizing group as a substituent,
11, V 12, V13, V14, VFifteen, V16, V17And V18Is each
Each represents a hydrogen atom or a substituent;11And V12, V12And V
13, V13And V14, VFifteenAnd V16, V16And V17And V17And V
18And each may form a fused ring, provided that V11~
V14And VFifteen~ V18Is the added Hammett σp value
Is a substituent whose sum is greater than 0.12.11,
L12, L13, L14And LFifteenEach represents a methine group;
11Represents the ions required to offset the total charge in the molecule.
Then l11Is the ion required to offset the total charge in the molecule
Represents the number of

【0072】[0072]

【化17】 Embedded image

【0073】式中、Y21、Y22、Y23及びY24は、各
々、独立に−N(R24)−基、酸素原子、硫黄原子、セ
レン原子、テルル原子を表し、Y23とY24の何れか一方
は−N(R24)−基であり、Y21、Y22及びY23或いは
21、Y22及びY24は同時に硫黄原子とはならない、R
21は水可溶化基を置換した炭素数8以下の脂肪族基を表
し、R24、R22及びR23は各々、脂肪族基、アリール基
又は複素環基を表し、かつR24、R22及びR23の少なく
とも二つの基は水可溶化基を置換基として有する、Z21
は縮合されてもよい5員又は6員の含窒素複素環基を形
成するに必要な非金属原子群を表し、W21は酸素原子、
硫黄原子、=N(AR)基、=C<(E21)(E22)基
を表し、ARは芳香族環又は複素環基を表し、L21、L
22は各々独立に置換、無置換のメチン炭素を表し、E21
及びE22は各々、独立に電子吸引性の基を表し、互いに
結合してケト環又は酸性の複素環を形成してもよい、l
21は0又は1を表し、M21は分子内の総電荷を相殺させ
るに必要なイオンを表し、n 21は分子内の総電荷を相殺
させるに必要なイオンの数を表す。
Where Ytwenty one, Ytwenty two, Ytwenty threeAnd Ytwenty fourIs each
Each independently -N (Rtwenty four) -Group, oxygen atom, sulfur atom,
Represents a ren atom or tellurium atom,twenty threeAnd Ytwenty fourOne of
Is -N (Rtwenty four)-Group;twenty one, Ytwenty twoAnd Ytwenty threeOr
Ytwenty one, Ytwenty twoAnd Ytwenty fourIs not simultaneously a sulfur atom, R
twenty oneRepresents an aliphatic group having 8 or less carbon atoms substituted with a water solubilizing group.
Then Rtwenty four, Rtwenty twoAnd Rtwenty threeRepresents an aliphatic group and an aryl group, respectively.
Or a heterocyclic group, and Rtwenty four, Rtwenty twoAnd Rtwenty threeLess of
Both groups have a water solubilizing group as a substituent, Ztwenty one
Represents a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group which may be condensed
Represents the group of non-metallic atoms required to formtwenty oneIs an oxygen atom,
Sulfur atom, = N (AR) group, = C <(Etwenty one) (Etwenty two) Group
And AR represents an aromatic ring or a heterocyclic group;twenty one, L
twenty twoEach independently represents a substituted or unsubstituted methine carbon;twenty one
And Etwenty twoEach independently represents an electron-withdrawing group,
L may combine to form a keto ring or an acidic heterocycle,
twenty oneRepresents 0 or 1, and Mtwenty oneOffsets the total charge in the molecule
Represents the ions necessary for twenty oneOffsets the total charge in the molecule
Indicates the number of ions required for

【0074】[0074]

【化18】 Embedded image

【0075】式中、Y25、Y26及びY27は、各々、独立
に−N(R29)−基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子
を表し、R25は水可溶化基を置換した炭素数8以下の脂
肪族基を表し、R29、R26、R27及びR28は各々、脂肪
族基、アリール基又は複素環基を表し、かつR29
26、R27及びR28の少なくとも三つの基は水可溶化基
を置換基として有し、Z22は縮合されてもよい含窒素複
素環基を形成するに必要な非金属原子群を表し、L23
24は各々に置換、無置換のメチン炭素を表し、M22
分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンを表し、n
22は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンの数を
表す。
In the formula, Y 25 , Y 26 and Y 27 each independently represent an —N (R 29 ) — group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom, and R 25 is substituted with a water solubilizing group. It represents an aliphatic group having 8 or less carbon atoms, R 29, R 26, R 27 and R 28 each represent an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 29,
At least three groups of R 26 , R 27 and R 28 have a water-solubilizing group as a substituent, and Z 22 represents a nonmetallic atom group necessary for forming a nitrogen-containing heterocyclic group which may be condensed. , L 23 ,
L 24 represents a substituted or unsubstituted methine carbon, M 22 represents an ion required to offset the total charge in the molecule, and n represents
22 represents the number of ions required to offset the total charge in the molecule.

【0076】[0076]

【化19】 Embedded image

【0077】式中、Y31、Y32及びY33は、各々、独立
に−N(R34)−基、酸素原子、硫黄原子又はセレン原
子を表し、R31は水可溶化基を置換した炭素数10以下
の脂肪族基を表し、R34、R32及びR33は各々、脂肪族
基、アリール基又は複素環基を表し、かつR34、R32
びR33の少なくとも二つの基は水可溶化基を置換する、
31、V32は、各々、水素原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリール基或いはV31、V32と結合してアゾール
環と共に縮合環を形成する基を表し、L31、L32は各
々、独立に置換、無置換のメチレン炭素を表し、M31
分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンを表し、n
31は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンの数を
表す。
In the formula, Y 31 , Y 32 and Y 33 each independently represent a —N (R 34 ) — group, an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom, and R 31 is substituted with a water solubilizing group. Represents an aliphatic group having 10 or less carbon atoms, R 34 , R 32 and R 33 each represent an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and at least two groups of R 34 , R 32 and R 33 are Substituting a water solubilizing group,
V 31 and V 32 each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or a group bonded to V 31 or V 32 to form a condensed ring with an azole ring, and L 31 and L 32 each represent M 31 independently represents a substituted or unsubstituted methylene carbon; M 31 represents an ion required to offset the total charge in the molecule;
31 represents the number of ions required to offset the total charge in the molecule.

【0078】[0078]

【化20】 Embedded image

【0079】式中、Z41は縮合されていてもよい5員又
は6員の含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子を
表し、Y41及びY42は、各々、独立に−N(R44)−
基、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子を表
し、W41は=N(AR)基、酸素原子、硫黄原子、=C
<(E41)(E42)基を表し、R41は水可溶化基を置換
した炭素数8以下の脂肪族基を表し、R44、R42及びR
43は各々脂肪族基、アリール基又は複素環基を表し、か
つR44、R42及びR43の少なくとも二つの基は水可溶化
基を置換基として有し、E41及びE42は各々、独立に電
子吸引性基或いはE41とE42が互いに結合して酸性の複
素環を形成する非金属原子群を表し、ARは芳香族環又
は複素環基を表し、L41、L42、L43、L44は各々、独
立に置換或いは無置換のメチン炭素を表し、l41は0又
は1の整数を表し、M41は分子の総電荷を相殺させるに
必要なイオンを表し、n41は分子内の総電荷を相殺させ
るに必要なイオンの数を表す。
In the formula, Z 41 represents a nonmetal atom necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may be condensed, and Y 41 and Y 42 each independently represent -N ( R44 )-
W 41 represents a NN (AR) group, an oxygen atom, a sulfur atom, = C
<(E 41 ) represents a (E 42 ) group, R 41 represents an aliphatic group having a carbon number of 8 or less substituted with a water solubilizing group, and R 44 , R 42 and R
43 represents an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and at least two groups of R 44 , R 42 and R 43 each have a water-solubilizing group as a substituent, and E 41 and E 42 each represent Independently represents an electron-withdrawing group or a group of nonmetallic atoms in which E 41 and E 42 are bonded to each other to form an acidic heterocyclic ring, and AR represents an aromatic ring or a heterocyclic group, and L 41 , L 42 , L 42 43, L 44 each represents a substituted or unsubstituted methine carbon independently, l 41 is an integer of 0 or 1, M 41 represents an ion required to offset the total charge of the molecule, n 41 is Indicates the number of ions required to offset the total charge in the molecule.

【0080】[0080]

【化21】 Embedded image

【0081】式中、Z42は縮合されていてもよい5員又
は6員の含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子を
表し、Y43及びY44は各々、独立に−N(R48)−基、
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子を表し、
45は水可溶化基を置換した炭素数8以下の脂肪族基を
表し、R48、R46及びR47は各々脂肪族基、アリール基
又は複素環基を表し、かつR48、R46及びR47の少なく
とも二つの基は水可溶化基を置換基として有し、W42
酸素原子、硫黄原子を表し、L45、L46、L47、L48
各々、メチン炭素を表し、L45、L46、L47及びL48
少なくとも一つは置換されたメチン炭素で、M42は分子
内の総電荷を相殺させるに必要なイオンを表し、n42
分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンの数を表
す。
In the formula, Z 42 represents a nonmetal atom necessary for forming a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring which may be condensed, and Y 43 and Y 44 each independently represent —N ( R48 )-group,
Oxygen, sulfur, selenium, tellurium,
R 45 represents a substituted aliphatic group having 8 or less carbon water-solubilizing group, a R 48, R 46 and R 47 are each an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group, and R 48, R 46 And at least two groups of R 47 have a water-solubilizing group as a substituent, W 42 represents an oxygen atom or a sulfur atom, L 45 , L 46 , L 47 and L 48 each represent a methine carbon; At least one of L 45 , L 46 , L 47 and L 48 is a substituted methine carbon, M 42 represents an ion necessary to offset the total charge in the molecule, and n 42 represents the total charge in the molecule. Indicates the number of ions required to cancel each other.

【0082】[0082]

【化22】 Embedded image

【0083】式中、R51は水可溶化基を置換した炭素数
10以下の脂肪族基を表し、R52、R53及びR54は各々
脂肪族基、アリール基又は複素環基を表し、かつR52
53及びR54の少なくとも二つの基は水可溶化基を置換
する、V51、V52は各々、水素原子、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基或いはV51、V52と結合してアゾ
ール環と共に縮合環を形成する基を表し、L51、L52
各々、置換、無置換のメチン炭素を表し、W51は=N
(AR)基、酸素原子、硫黄原子、=C<(E51)(E
52)基を表し、ARは芳香族環又は複素環基を表し、E
51、E52は各々独立に電子吸引性基を表し、或いは互い
に結合してケト環又は酸性の複素環を形成してもよく、
51は分子内の総電荷を相殺させるに必要なイオンを表
し、n51は分子の総電荷を相殺させるに必要なイオンの
数を表す。
In the formula, R 51 represents an aliphatic group having 10 or less carbon atoms substituted with a water solubilizing group, and R 52 , R 53 and R 54 each represent an aliphatic group, an aryl group or a heterocyclic group; And R 52 ,
At least two groups of R 53 and R 54 substitute a water solubilizing group. V 51 and V 52 are each bonded to a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group or V 51 and V 52 to form an azole ring. And L 51 and L 52 each represent a substituted or unsubstituted methine carbon, and W 51 represents NN
(AR) group, oxygen atom, sulfur atom, = C <(E 51 ) (E
52 ) represents a group, AR represents an aromatic ring or a heterocyclic group,
51 and E 52 each independently represent an electron-withdrawing group, or may combine with each other to form a keto ring or an acidic heterocyclic ring,
M 51 represents an ion required to offset the total charge in the molecule, and n 51 represents the number of ions required to offset the total charge of the molecule.

【0084】一般式(1)において、R11、R12、R13
及びR14が各々表す脂肪族基としては、例えば、炭素原
子数1〜10の分岐或いは直鎖のアルキル基(例えば、
メチル、エチル、n−プロピル、n−ペンチル、イソブ
チル等の各基)、ビニル基、原子数2〜10のアルケニ
ル基(例えば、3−ブテニル、2−プロペニル等の各
基)或いは炭素原子数3〜10のアラルキル基(例え
ば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げられる。R
12及びR14の少なくとも一方の基に置換する水可溶化基
としては、スルホ基、カルボキシ基、ホスフォノ基、ス
ルファート基、スルフィノ基等が挙げられる。
In the general formula (1), R 11 , R 12 and R 13
And an aliphatic group represented by R 14 , for example, a branched or linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example,
Each group such as methyl, ethyl, n-propyl, n-pentyl and isobutyl), a vinyl group, an alkenyl group having 2 to 10 atoms (for example, each group such as 3-butenyl and 2-propenyl) or 3 carbon atoms; To 10 aralkyl groups (for example, benzyl, phenethyl, etc.). R
The 12 and water-solubilizing group substituting at least one of groups R 14, a sulfo group, a carboxy group, a phosphono group, a sulfate group, a sulfino group, and the like.

【0085】R11、R12、R13及びR14が各々表す各脂
肪族基は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基
(メトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(フ
ェノキシ基、p−スルホフェノキシ基等)、シアノ基、
カルバモイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモ
イル基、N,N−テトラメチレンカルバモイル基等)、
スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−3−オ
キサペンタメチレンアミノスルホニル基等)、メタンス
ルホニル基、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリール基(フェ
ニル基、カルボキシフェニル基等)、アシル基(アセチ
ル基、ベンゾイル基等)、アシルアミノ基(アセチルア
ミノ基等)等の置換基で置換されていても良く、水可溶
化基を置換した脂肪族基の具体的例としては、カルボキ
シメチル、スルホエチル、スルホプロピル、スルホブチ
ル、スルホペンチル、3−スルホブチル、6−スルホ−
3−オキサヘキシル、ω−スルホプロポキシカルボニル
メチル、ω−スルホプロピルアミノカルボニルメチル、
3−スルフィノブチル、3−ホスフォノプロピル、4−
スルホ−3−ブテニル、2−カルボキシ−2−プロペニ
ル、O−スルホベンジル、P−スルホフェネチル、P−
カルボキシベンジル等の各基が挙げられる。
Each of the aliphatic groups represented by R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is a hydroxy group, a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group or an ethoxy group), an aryloxy group (a phenoxy group, a p-sulfo group). Phenoxy group), cyano group,
A carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.),
Sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), aryl group (phenyl group, carboxyphenyl group, etc.) May be substituted with a substituent such as an acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.), an acylamino group (acetylamino group, etc.), and specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include carboxy. Methyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-
3-oxahexyl, ω-sulfopropoxycarbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl,
3-sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl, 4-
Sulfo-3-butenyl, 2-carboxy-2-propenyl, O-sulfobenzyl, P-sulfophenethyl, P-
Each group such as carboxybenzyl is exemplified.

【0086】V11、V12、V13、V14、V15、V16、V
17及びV18が各々表す置換基としては、加算したハメッ
トσp値の総和が0.12より大きくなる様に選ばれた
電子供与性の基や電子吸引性の任意の基が挙げられる。
具体的には、シアノ基、カルボキシ基、直鎖或いは分岐
のアルキル基(例えばメチル、エチル、iso−プロピ
ル、t−ブチル、iso−ブチル、t−ペンチル、ヘキ
シル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ等の各基)、アルキルチオ基(例え
ば、メチルチオ基)、ハロゲン原子、カルバモイル基
(例えば、カルバモイル、N−メチルカルバモイル、
N,N−ペンタメチレンカルバモイル等の各基)、スル
ファモイル基(例えば、N−メチルスルファモイル、モ
ルフォリノスルホニル、ピペリジノスルホニル等の各
基)、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロ
ピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ等の各基)、スルホ
ニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ、ベン
ゼンスルホニルアミノ、m−クルルベンゼンスルホニル
アミノ、ペルフルオロメタンスルホニルアミノ等の各
基)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル等の
各基)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスルホ
ニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニ
ル等の各基)、アリールスルホニル基(例えば、ベンゼ
ンスルホニル等の基)、アシル基(例えば、アセチル、
ベンゾイル等の各基)、ペルフルオロアルキル基(例え
ば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル等の各
基)、ペルフルオロアルコキシ基(例えば、トリフルオ
ロメトキシ、ペンタフルオロエトキシ等の各基)、ペル
フルオロアルキルチオ基(例えば、トリフルオロメチル
チオ、ペンタフルオロエチルチオ等の各基)、アリール
基(例えば、フェニル、m−クロロフェニル等の各
基)、複素環基(例えば、ピロリル、ピリジル、イミダ
ゾリル、フリル、チフェニル等の各基がある。
[0086] V 11, V 12, V 13 , V 14, V 15, V 16, V
Examples of the substituent 17 and V 18 represent each include any groups sum of the electron donating property chosen as larger than 0.12 group or electron withdrawing Hammett σp value obtained by adding.
Specifically, a cyano group, a carboxy group, a linear or branched alkyl group (for example, each group such as methyl, ethyl, iso-propyl, t-butyl, iso-butyl, t-pentyl, hexyl, etc.), an alkoxy group ( For example, each group such as methoxy, ethoxy, propoxy, etc.), an alkylthio group (eg, methylthio group), a halogen atom, a carbamoyl group (eg, carbamoyl, N-methylcarbamoyl,
Groups such as N, N-pentamethylenecarbamoyl), sulfamoyl groups (eg, groups such as N-methylsulfamoyl, morpholinosulfonyl, piperidinosulfonyl), acylamino groups (eg, acetylamino, propionylamino, Benzoylamino, etc.), sulfonylamino group (for example, methanesulfonylamino, benzenesulfonylamino, m-chlorobenzenesulfonylamino, perfluoromethanesulfonylamino, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, butoxycarbonyl, etc.), alkylsulfonyl group (eg, methanesulfonyl, ethanesulfonyl, trifluoromethanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl group (eg, benzenesulfonyl, etc.) An acyl group (e.g., acetyl,
Each group such as benzoyl), perfluoroalkyl group (for example, each group such as trifluoromethyl and pentafluoroethyl), perfluoroalkoxy group (for example, each group such as trifluoromethoxy and pentafluoroethoxy), and perfluoroalkylthio group (for example) , Trifluoromethylthio, pentafluoroethylthio, etc.), aryl groups (eg, phenyl, m-chlorophenyl, etc.), heterocyclic groups (eg, pyrrolyl, pyridyl, imidazolyl, furyl, thiphenyl, etc.) There is.

【0087】ハメットのσp値はHammett等によ
り安息香酸エチルエステルの加水分解速度に及ぼす値環
基の電子効果から求められた置換基定数であり、各基の
値は例えば、ケミカル・レヴュー(Chemical
Rewies)17,125−136(1935)、ジ
ャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(Jou
rnal of Organic Chemistr
y)23巻、420−427(1958)、実験化学講
座14巻(丸善出版社)、フィジカル・オーガニック・
ケミストリー(Physical Organic C
hemistry;Mc Graw Hill Boo
k:1940)、ドラッグデザインVII巻(Drug
design VII Academic Press;
New York:1970)、薬物の構造活性相関
(南江堂:1979年)、サブスティテューアント・コ
ンスタンツ・フォー・コリレイション・アナリシス・イ
ン・ケミストリー・アンド・バイオロジー(Subst
ituent Constants for Corr
elation Analysis in Chemi
stry and Biology;John Wil
ey and Sons:1979)等に詳しく記載さ
れている。
The Hammett's σp value is a substituent constant determined from the electronic effect of the ring group on the hydrolysis rate of benzoic acid ethyl ester by Hammett et al. The value of each group is, for example, Chemical Review (Chemical Review).
Reviews, 17, 125-136 (1935), Journal of Organic Chemistry (Jou)
rnal of Organic Chemistr
y) Volume 23, 420-427 (1958), Experimental Chemistry Course 14 (Maruzen Publishing Co., Ltd.), Physical Organic
Chemistry (Physical Organic C
hemistry; McGraw Hill Boo
k: 1940), Drug Design Volume VII (Drug)
design VII Academic Press;
New York: 1970), Structure-activity relationship of drugs (Nankodo: 1979), Substitute Constants for Correlation Analysis in Chemistry and Biology (Subst)
title Constants for Corr
elation Analysis in Chemi
try and Biology; John Wil
eye and Sons: 1979).

【0088】V11、V12、V13、V14、V15、V16、V
17及びV18が各々表すアリール基、複素環基並びにアル
キル基は、任意の位置に前述した任意の置換基を有して
いても良い。V11とV12、V12とV13、V13とV14、V
15とV16、V16とV17及びV17とV18の間で各々、形成
される縮合環としては5〜7員の飽和炭素環、芳香性炭
素環、複素環等の環基が挙げられ、任意の位置に前述し
た任意の置換基を有していても良い。
[0088] V 11, V 12, V 13 , V 14, V 15, V 16, V
The aryl group, the heterocyclic group, and the alkyl group represented by 17 and V 18 may have any of the above-described substituents at any positions. V 11 and V 12, V 12 and V 13, V 13 and V 14, V
Each between 15 and V 16, V 16 and V 17 and V 17 and V 18, 5 to 7-membered saturated carbocycle as fused ring formed, aromatic carbon ring, ring groups heterocycles mentioned And may have any of the aforementioned substituents at any position.

【0089】L11、L12、L13、L14及びL15で表され
るメチン炭素に置換される基としては、例えば、低級ア
ルキル基(例えば、メチル、エチル等の各基)環状アル
キル基(例えば、シクロプロピル、シクロペンチル等の
各基)、置換アルキル基(例えば、2−メトキシエチ
ル、2−チエニルメチル等の各基)、アラルキル基(例
えば、ベンジル、フェネチル等の各基)、フェニル基
(例えば、フェニル、カルボキシフェニル等の各基)、
複素環基(例えば、チエニル、フリル、イミダゾリル、
等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキ
シ等の各基)フッ素原子等の基がある。L11はR11又は
12と、L12はR13又はR14と各々、縮合環を形成する
ことができる。M11はカチオン或いは酸アニオンを表
し、カチオンの具体例としては、プロトン、有機ユンモ
ニウムイオン(例えば、トリエチルアンモニウム、トリ
エタノールアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン
(例えば、リチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カ
チオン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例え
ば、ハロゲンイオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、
沃素イオン等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。
Examples of the group substituted by the methine carbon represented by L 11 , L 12 , L 13 , L 14 and L 15 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a cyclic alkyl group (For example, each group such as cyclopropyl and cyclopentyl), a substituted alkyl group (for example, each group such as 2-methoxyethyl and 2-thienylmethyl), an aralkyl group (for example, each group such as benzyl and phenethyl), and a phenyl group (E.g., phenyl, carboxyphenyl, etc.),
Heterocyclic groups (eg, thienyl, furyl, imidazolyl,
And alkoxy groups (for example, methoxy, ethoxy and the like) and fluorine atoms. L 11 can form a condensed ring with R 11 or R 12 , and L 12 can form a condensed ring with R 13 or R 14 , respectively. M 11 represents a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include a proton, an organic yunmonium ion (for example, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (for example, lithium, sodium, calcium and the like). Specific examples of the acid anion include, for example, a halogen ion (for example, chloride ion, bromine ion,
Iodine ion), p-toluenesulfonic acid ion, perchlorate ion, boron tetrafluoride ion and the like.

【0090】l11は、分子内塩を形成して総電荷が相殺
される場合は0となる。
L 11 is 0 when an internal salt is formed and the total charge is offset.

【0091】一般式(1)で表される増感色素の具体例
を以下に示す。
Specific examples of the sensitizing dye represented by formula (1) are shown below.

【0092】[0092]

【化23】 Embedded image

【0093】[0093]

【化24】 Embedded image

【0094】[0094]

【化25】 Embedded image

【0095】[0095]

【化26】 Embedded image

【0096】[0096]

【化27】 Embedded image

【0097】[0097]

【化28】 Embedded image

【0098】[0098]

【化29】 Embedded image

【0099】[0099]

【化30】 Embedded image

【0100】[0100]

【化31】 Embedded image

【0101】[0101]

【化32】 Embedded image

【0102】[0102]

【化33】 Embedded image

【0103】[0103]

【化34】 Embedded image

【0104】[0104]

【化35】 Embedded image

【0105】[0105]

【化36】 Embedded image

【0106】[0106]

【化37】 Embedded image

【0107】[0107]

【化38】 Embedded image

【0108】[0108]

【化39】 Embedded image

【0109】[0109]

【化40】 Embedded image

【0110】[0110]

【化41】 Embedded image

【0111】[0111]

【化42】 Embedded image

【0112】これらの化合物は、例えば、エフ・エム・
ハーマ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・
コンパウンズ」(1964,インター・サイエンス・パ
ブリッシャーズ発刊)英国特許第980,234号、米
国特許第3,684,517号、特開昭61−2034
46号明細書等、Ukr.Khim.Zh.,197
7,43(4)381−4に記載された従来公知の方法
を参考にして容易に合成することができる。
These compounds are described, for example, in FM
Hama, "Cyanine Soybeans and Related
Compounds "(1964, published by Inter Science Publishers), UK Patent No. 980,234, U.S. Patent No. 3,684,517, JP-A-61-2034.
No. 46, Ukr. Khim. Zh. , 197
The compound can be easily synthesized with reference to a conventionally known method described in 7, 43 (4) 381-4.

【0113】一般式(2−a)、(2−b)で表される
化合物において、Y21、Y22、Y23、Y24、Y25、Y26
及びY27は各々独立に−NR24、−NR29基、酸素原
子、硫黄原子、セレン原子を表す。
In the compounds represented by formulas (2-a) and (2-b), Y 21 , Y 22 , Y 23 , Y 24 , Y 25 , and Y 26
And Y 27 each independently represent a —NR 24 or —NR 29 group, an oxygen atom, a sulfur atom, or a selenium atom.

【0114】R21、R22、R23、R24、R25、R26、R
27、R28及びR29に置換する水可溶化基としては、スル
ホ基、カルボキシ基、ホスフォノ基、スルファート基、
スルフィノ基等が挙げられる。
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R
27, as the water-solubilizing group substituting on R 28 and R 29, a sulfo group, a carboxy group, a phosphono group, a sulfate group,
And a sulfino group.

【0115】R21、R22、R23、R24、R25、R26、R
27、R28及びR29で表される脂肪族基としては例えば、
炭素原子数1〜8の分岐或は直鎖のアルキル基(例え
ば、メチル、エチル、n−プロピル、n−ペンチル、イ
ソブチル等の各基)、原子数3〜8のアルケニル基(例
えば、3−ブテニル、2−プロペニル等の各基)或は炭
素原子数3〜8のアラルキル基(例えば、ベンジル、フ
ェネチル等の各基)が挙げられる。
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R
Examples of the aliphatic group represented by 27 , R 28 and R 29 include:
A branched or straight-chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, each group such as methyl, ethyl, n-propyl, n-pentyl, and isobutyl), and an alkenyl group having 3 to 8 carbon atoms (for example, 3- Examples include groups such as butenyl and 2-propenyl) and aralkyl groups having 3 to 8 carbon atoms (eg, groups such as benzyl and phenethyl).

【0116】R21、R22、R23、R24、R25、R26、R
27、R28及びR29で表されるアリール基としては例え
ば、フェニル基が挙げられ、複素環基としては例えば、
ピリジル基(2−、4−)、ピラジル基、フリル基(2
−)、チエニル基(2−)、スルホラニル基、テトラヒ
ドロフリル基、ピペリジニル基、ピロール基、イミダゾ
リル基等が挙げられる。
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R
27, examples of the aryl group represented by R 28 and R 29 for example, include a phenyl group, a heterocyclic group for example,
Pyridyl group (2-, 4-), pyrazyl group, furyl group (2
-), Thienyl group (2-), sulfolanyl group, tetrahydrofuryl group, piperidinyl group, pyrrole group, imidazolyl group and the like.

【0117】R21、R22、R23、R24、R25、R26、R
27、R28及びR29の各基は、ハロゲン原子、アルコキシ
基(メトキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基
(フェノキシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ基、
カルバモイル基(カルバモイル基、N−メチルカルバモ
イル基、N,N−テトラメチレンカルバモイル基等)、
スルファモイル基(スルファモイル基、N,N−3−オ
キサペンタメチレンアミノスルホニル基等)、メタンス
ルホニル基、アルコキシカルボニル基(エトキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリール基(フェ
ニル基、カルボキシフェニル基等)、アシル基(アセチ
ル基、ベンゾイル基等)等の置換基で置換されていても
良い。
R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R
27 , R 28 and R 29 each represent a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group or an ethoxy group), an aryloxy group (such as a phenoxy group or a p-tolyloxy group), a cyano group,
A carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.),
Sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), aryl group (phenyl group, carboxyphenyl group, etc.) And an acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.).

【0118】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
として、カルボキシメチル、スルホエチル、スルホプロ
ピル、スルホブチル、スルホペンチル、3−スルホブチ
ル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−スルホプロ
ポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピルアミノ
カルボニルメチル、、N−エチル−N−スルホプロピ
ル、3−スルフィノブチル、3−ホスフォノプロピル、
4−スルホ−3−ブテニル、2−カルボキシ−2−プロ
ペニル、o−スルホベンジル、p−スルホフェネチル、
p−カルボキシベンジル等の各基があり、水可溶化基を
置換したアリール基の具体的例として、p−スルホフェ
ニル基、p−カルボキシフェニル基等があり、水可溶化
基を置換した複素環基の具体的例として、4−スルホチ
エニル基、3−カルボキシピリジル基等がある。
Specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-oxahexyl, and ω-sulfopropoxy. Carbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, N-ethyl-N-sulfopropyl, 3-sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl,
4-sulfo-3-butenyl, 2-carboxy-2-propenyl, o-sulfobenzyl, p-sulfophenethyl,
Specific examples of the aryl group having each group such as p-carboxybenzyl and substituted with a water-solubilizing group include a p-sulfophenyl group and a p-carboxyphenyl group, and a heterocyclic ring substituted with a water-solubilizing group. Specific examples of the group include a 4-sulfothienyl group and a 3-carboxypyridyl group.

【0119】これらにおいて、R21及びR25はスルホ基
で置換されたアルキル基であり、R22、R23、R24、R
26、R27、R28及びR29のいづれか少なくとも二つの基
が各々、カルボキシメチル基であるものが好ましい。
In these, R 21 and R 25 are alkyl groups substituted with a sulfo group, and R 22 , R 23 , R 24 , R 24
26, Izure or at least two groups of R 27, R 28 and R 29 are each a is preferable carboxymethyl group.

【0120】Z21、Z22で表される5員又は6員の含窒
素複素環基としてはシアニン色素を形成する塩基性の複
素環が挙げられ、例えば、オキサゾール環(オキサゾー
ル、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール等)、チ
アゾール環(チアゾリジン、チアゾール、ベンゾチアゾ
ール、ナフトチアゾール等)、イミダゾール環(イミダ
ゾール、ベンゾイミダゾール、ナフトイミダゾール
等)、セレナゾール環(セレナゾール、ベンゾセレナゾ
ール、ナフトセレナゾール等)、テトラゾール環(テト
ラゾール、ベンゾテトラゾール、ナフトテトラゾール
等)、ピリジン環(ピリジン、キノリン等)、ピロール
環(ピロール、インドール、インドレニン等)等の環が
挙げられる。
Examples of the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by Z 21 and Z 22 include a basic heterocyclic ring forming a cyanine dye, and include, for example, an oxazole ring (oxazole, benzoxazole, naphtho Oxazole, etc.), thiazole ring (thiazolidine, thiazole, benzothiazole, naphthothiazole, etc.), imidazole ring (imidazole, benzimidazole, naphthimidazole, etc.), selenazole ring (selenazole, benzoselenazole, naphthoselenazole, etc.), tetrazole ring ( And rings such as tetrazole, benzotetrazole, naphthotetrazole, pyridine ring (pyridine, quinoline, etc.), pyrrole ring (pyrrole, indole, indolenine, etc.).

【0121】Z21で表される含窒素複素5員環として
は、Z21で示した上記の複素環のうち5員のものが挙げ
られる。
As the nitrogen-containing 5-membered heterocyclic ring represented by Z 21 , 5-membered heterocyclic rings described above for Z 21 can be mentioned.

【0122】Z21及びZ22で表した前述の複素環上には
任意の位置に置換基を有していても良く、例えば、ハロ
ゲン原子、トリフルオロメチル基、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の非置換アルコキ
シ各基、2−メトキシエトキシ、ベンジルオキシ等の置
換アルコキシ各基)、ヒドロキシ基、シアノ基、アリー
ルオキシ基(例えば、フェノキシ、トリルオキシ等の置
換、非置換の各基)、又はアリール基(例えば、フェニ
ル、p−クロロフェニル、p−トリル、p−メトキシフ
ェニル等の置換、非置換の各基)、スチリル基、複素環
基(例えば、フリル、チエニル等の各基)、カルバモイ
ル基(例えば、カルバモイル、N−エチルカルバモイル
等の各基)、スルファモイル基(例えば、スルファモイ
ル、N,N−ジメチルスルファモイル等の各基)、アシ
ルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等の各基)、アシル基(例えば
アセチル、ベンゾイル等の各基)、アルコキシカルボニ
ル基(例えば、エトキシカルボニル等の基)、スルホン
アミド基(例えば、メタンスルホニルアミド、ベンゼン
スルホンアミド等の各基)、スルホニル基(例えば、メ
タンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の各基)カ
ルボキシ基、アルキル基(例えば、メチル、エチル、イ
ソプロピル等の各基)等の任意の基が挙げられる。
The above-mentioned heterocyclic ring represented by Z 21 and Z 22 may have a substituent at any position, for example, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, etc.) , Butoxy and other unsubstituted alkoxy groups, 2-methoxyethoxy and benzyloxy and other substituted alkoxy groups), hydroxy group, cyano group and aryloxy group (for example, substituted and unsubstituted groups such as phenoxy and tolyloxy) Or an aryl group (for example, a substituted or unsubstituted group such as phenyl, p-chlorophenyl, p-tolyl, or p-methoxyphenyl), a styryl group, or a heterocyclic group (for example, each group such as furyl or thienyl); A carbamoyl group (for example, each group such as carbamoyl and N-ethylcarbamoyl) and a sulfamoyl group (for example, sulfamoyl, N, N-dimethyl); Rusulfamoyl, etc.), acylamino group (eg, acetylamino, propionylamino, benzoylamino, etc.), acyl group (eg, acetyl, benzoyl, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl, etc.) ), A sulfonamide group (for example, each group such as methanesulfonylamide and benzenesulfonamide), a sulfonyl group (for example, each group such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl), a carboxy group, and an alkyl group (for example, methyl, ethyl, Arbitrary groups such as isopropyl and the like).

【0123】L21、L22、L23及びL24で表されるメチ
ン炭素に置換される基としては、例えば、低級アルキル
基(例えば、メチル、エチル等の各基)、フェニル基
(例えば、フェニル、カルボキシフェニル等の各基)、
アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ等の各
基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、カルボ
キシフェノキシ等の各基)、アラルキル(例えば、ベン
ジル等の基)、フッソ原子等の基がある。
Examples of the group substituted on the methine carbon represented by L 21 , L 22 , L 23 and L 24 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a phenyl group (for example, Phenyl, carboxyphenyl, etc.),
There are groups such as an alkoxy group (for example, each group such as methoxy and ethoxy), an aryloxy group (for example, each group such as phenoxy and carboxyphenoxy), an aralkyl (for example, a group such as benzyl), and a fluorine atom.

【0124】これらの色素は、L21及びL22で示される
メチン炭素のいずれか一方が置換されている場合に、概
して高い分光感度が得られ、色素が処理浴中で漂泊され
易い特性を与えることが分かり、好ましい。
These dyes generally have a high spectral sensitivity when one of the methine carbons represented by L 21 and L 22 is substituted, and provide a property that the dye is easily drifted in a processing bath. It is understood and preferred.

【0125】E21及びE22で表される電子吸引性の基と
してはハメットσp値が0.3より大きな基から選択さ
れ、具体的にはシアノ基、カルバモイル基(カルバモイ
ル基、モルホリノカルボニル基、N−メチルカルバモイ
ル基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基等)、スルファモイル基
(スルファモイル基、モルフォリノスルホニル基、N,
N−ジメチルスルファモイル基等)、アシル基(アセチ
ル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、
トルエンスルホニル基等)等が挙げられる。
The electron-withdrawing groups represented by E 21 and E 22 are selected from groups having a Hammett σ p value of more than 0.3, and specifically include a cyano group, a carbamoyl group (carbamoyl group, morpholinocarbonyl group). , N-methylcarbamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, N,
N-dimethylsulfamoyl group, etc.), acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, benzenesulfonyl group,
Toluenesulfonyl group, etc.).

【0126】E21及びE22で形成されるケト環、並びに
酸性の複素環としては例えば以下に示す化合物群が挙げ
られる。
The keto ring formed by E 21 and E 22 and the acidic heterocyclic ring include, for example, the following compounds.

【0127】[0127]

【化43】 Embedded image

【0128】〔式中、Ra及びRbは各々、低級アルキル
基、アリール基、複素環基を表し、低級アルキル基の具
体例としてはメチル、エチル、プロピル、2−ヒドロキ
シエチル、2−メトキシエチル、トリフルオロエチル、
アリル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、2−ス
ルホエチル、ベンジル等の置換・非置換の各基が挙げら
れる。Ra及びRbで表されるアリール基、複素環基とし
ては、前記R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27
及びR28で示した内容のものが挙げられる。
[Wherein, R a and R b each represent a lower alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and specific examples of the lower alkyl group include methyl, ethyl, propyl, 2-hydroxyethyl, and 2-methoxyethyl. Ethyl, trifluoroethyl,
Examples include substituted and unsubstituted groups such as allyl, carboxymethyl, carboxyethyl, 2-sulfoethyl, and benzyl. The aryl group and heterocyclic group represented by R a and R b include R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , and R 27.
And those of the content shown in R 28.

【0129】M21及びM22は各々、カチオン或いは酸ア
ニオンを表し、カチオンの具体例としてはプロトン、有
機アンモニウムイオン(トリエチルアンモニウム、トリ
エタノールアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン
(リチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カチオン)
が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例えばハロゲ
ンイオン(塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン等)、
p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、4−
フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。n21及びn22は分
子内塩を形成して分子内の総電荷が相殺される場合は0
となる。〕 一般式〔2−a〕又は〔2−b〕で表される増感色素の
具体例を以下に示す。
M 21 and M 22 each represent a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include a proton, an organic ammonium ion (each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (lithium, sodium, calcium). Etc.)
Specific examples of the acid anion include, for example, a halogen ion (chlorine ion, bromine ion, iodine ion, etc.),
p-toluenesulfonic acid ion, perchlorate ion, 4-
And boron fluoride ions. n 21 and n 22 form an internal salt and are 0 when the total charge in the molecule is offset.
Becomes Specific examples of the sensitizing dye represented by the general formula [2-a] or [2-b] are shown below.

【0130】[0130]

【化44】 Embedded image

【0131】[0131]

【化45】 Embedded image

【0132】[0132]

【化46】 Embedded image

【0133】[0133]

【化47】 Embedded image

【0134】[0134]

【化48】 Embedded image

【0135】[0135]

【化49】 Embedded image

【0136】[0136]

【化50】 Embedded image

【0137】上記の化合物は、例えばエフ・エム・ハー
マ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・コン
パウンズ」(1964,インター・サイエンス・パブリ
ッシャーズ発刊)、米国特許第2,454,629号、
同2,493,748号、英国特許第489335号、
欧州特許第730008号等に記載された従来公知の方
法を参考にして容易に合成することができる。
The above-mentioned compounds are described in, for example, "Cyanine Soybeans and Related Compounds" by F.M.Hama (1964, published by Inter Science Publishers), US Pat. No. 2,454,629,
No. 2,493,748, British Patent No. 489335,
The compound can be easily synthesized with reference to a conventionally known method described in European Patent No. 730008 or the like.

【0138】一般式(3)において、Y31、Y32及びY
33は、各々−N(R34)−基、酸素原子、硫黄原子又は
セレン原子を表す。
In the general formula (3), Y 31 , Y 32 and Y
33 represents a —N (R 34 ) — group, an oxygen atom, a sulfur atom or a selenium atom.

【0139】R31、R32及びR33に置換する水可溶化基
としては例えば、スルホ基、カルボキシ基、ホスフォノ
基、スルファート基、スルフィノ基等が挙げられる。
Examples of the water-solubilizing group substituted for R 31 , R 32 and R 33 include a sulfo group, a carboxy group, a phosphono group, a sulfate group, a sulfino group and the like.

【0140】R31、R32及びR33で表される脂肪族基と
しては例えば、炭素原子数1〜10の分岐或は直鎖のア
ルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n
−ペンチル、イソブチル等の各基)、炭素原子数3〜1
0のアルケニル基(例えば、3−ブテニル、2−プロペ
ニル等の各基)或は炭素原子数3〜10のアラルキル基
(例えば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げられ
る。
As the aliphatic group represented by R 31 , R 32 and R 33 , for example, a branched or linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, n-
-Each group such as pentyl and isobutyl), having 3 to 1 carbon atoms
Examples thereof include an alkenyl group of 0 (for example, each group such as 3-butenyl and 2-propenyl) and an aralkyl group having 3 to 10 carbon atoms (for example, each group of benzyl and phenethyl).

【0141】R32、R33及びR34で表されるアリール基
としては例えば、フェニル基が挙げられ、複素環基とし
ては例えば、ピリジル基(2−、4−)、フリル基(2
−)、チエニル基(2−)、スルホラニル基、テトラヒ
ドロフリル基、ピペリジニル基が挙げられる。
Examples of the aryl group represented by R 32 , R 33 and R 34 include a phenyl group, and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group (2-, 4-) and a furyl group (2
-), A thienyl group (2-), a sulfolanyl group, a tetrahydrofuryl group, and a piperidinyl group.

【0142】R31、R32及びR33の各基は、ハロゲン原
子、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基等)、アリ
ールオキシ基(フェノキシ基、p−トリルオキシ基
等)、シアノ基、カルバモイル基(カルバモイル基、N
−メチルカルバモイル基、N,N−テトラメチレンカル
バモイル基等)、スルファモイル基(スルファモイル
基、N,N−3−オキサペンタメチレンアミノスルホニ
ル基等)、メタンスルホニル基、アルコキシカルボニル
基(エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基
等)、アリール基(フェニル基、カルボキシフェニル基
等)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基等)等の置
換基で置換されていてもよい。
Each of R 31 , R 32 and R 33 represents a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group or an ethoxy group), an aryloxy group (such as a phenoxy group or a p-tolyloxy group), a cyano group, or a carbamoyl group. Carbamoyl group, N
-Methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group, butoxy It may be substituted with a substituent such as a carbonyl group, an aryl group (phenyl group, carboxyphenyl group, etc.), an acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.).

【0143】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
として、カルボキシメチル、スルホエチル、スルホプロ
ピル、スルホブチル、スルホペンチル、3−スルホブチ
ル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−スルホプロ
ポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピルアミノ
カルボニルメチル、3−スルフィノブチル、3−ホスフ
ォノプロピル、4−スルホ−3−ブテニル、2−カルボ
キシ−2−プロペニル、O−スルホベンジル、P−スル
ホフェネチル、P−カルボキシベンジル等の各基があ
り、水可溶化基を置換したアリール基の具体的例とし
て、p−スルホフェニル基、p−カルボキシフェニル基
等があり、水可溶化基を置換した複素環基の具体的例と
して、4−スルホチエニル基、5−カルボキシピリジル
基等がある。
Specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-oxahexyl, and ω-sulfopropoxy. Carbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, 3-sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl, 4-sulfo-3-butenyl, 2-carboxy-2-propenyl, O-sulfobenzyl, P-sulfophenethyl, P A specific example of an aryl group substituted with a water-solubilizing group, such as a p-sulfophenyl group or a p-carboxyphenyl group, and a heterocyclic group substituted with a water-solubilizing group. Specific examples include a 4-sulfothienyl group and a 5-carboxypyridyl group.

【0144】V31及びV32で表されるアルキル基として
は、直鎖或は分岐の基(例えばメチル、エチル、iso
−プロピル、t−ブチル、iso−ブチル、t−ペンチ
ル、ヘキシル等の各基)が挙げられる。V31及びV32
表されるアルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ等の各基)が挙げられる。
As the alkyl group represented by V 31 and V 32 , a linear or branched group (eg, methyl, ethyl, iso
-Propyl, t-butyl, iso-butyl, t-pentyl, hexyl, etc.). Alkoxy groups represented by V 31 and V 32 (for example, methoxy, ethoxy,
Groups such as propoxy).

【0145】V31及びV32で表されるアリール基として
は、任意の位置に置換基を有していても良く、例えばフ
ェニル、p−トリル、p−ヒドロキシフェニル、p−メ
トキシフェニル等の各基が挙げられる。V31とV32が互
いに結合してアゾール環と共に形成する縮合環としては
例えば、ベンゾオキサゾール、4,5,6,7−テトラ
ヒドロベンゾオキサゾール、ナフト[1,2−d]オキ
サゾール、ナフト[2,3−d]オキサゾール、ベンゾ
チアゾール、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチア
ゾール、ナフト[1,2−d]チアゾール、ナフト
[2,3−d]チアゾール、ベンゾセレナゾール、ナフ
ト[1,2−d]セレナゾール等の縮合環が挙げられ
る。
The aryl group represented by V 31 and V 32 may have a substituent at any position, and examples thereof include phenyl, p-tolyl, p-hydroxyphenyl and p-methoxyphenyl. Groups. Examples of the condensed ring formed by V 31 and V 32 bonded together with an azole ring include benzoxazole, 4,5,6,7-tetrahydrobenzoxazole, naphtho [1,2-d] oxazole, naphtho [2, 3-d] oxazole, benzothiazole, 4,5,6,7-tetrahydrobenzothiazole, naphtho [1,2-d] thiazole, naphtho [2,3-d] thiazole, benzoselenazole, naphtho [1,2 -D] condensed rings such as selenazole;

【0146】V31及びV32で表した前述の置換基、並び
に形成される縮合環上には任意の位置に置換基を有して
いても良く、例えばハロゲン原子、トリフルオロメチル
基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブト
キシ等の非置換アルキル各基、2−メトキシエトキシ、
ベンジルオキシ等の置換アルコキシ各基)、ヒドロキシ
基、シアノ基、アリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ、トリルオキシ等の置換、非置換の各基)、又はアリ
ール基(例えば、フェニル、p−クロロフェニル等の置
換、非置換の各基)、スチリル基、複素環基(例えば、
フリル、チエニル等の各基)、カルバモイル基(例え
ば、カルバモイル、N−エチルカルバモイル等の各
基)、スルファモイル基(例えば、スルファモイル、
N,N−ジメチルスルファモイル等の各基)、アシルア
ミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピオニルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ等の各基)、アシル基(例えばア
セチル、ベンゾイル等の各基)、アルコキシカルボニル
基(例えば、エトキシカルボニル等の基)、スルホンア
ミド基(例えば、メタンスルホニルアミド、ベンゼンス
ルホンアミド等の各基)、スルホニル基(例えば、メタ
ンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の各基)カル
ボキシ基等の任意の基が挙げられる。
The aforementioned substituents represented by V 31 and V 32 and the condensed ring formed may have a substituent at any position, for example, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkoxy group (E.g., unsubstituted alkyl groups such as methoxy, ethoxy, butoxy, 2-methoxyethoxy,
Substituted alkoxy groups such as benzyloxy, etc., hydroxy groups, cyano groups, aryloxy groups (eg, substituted and unsubstituted groups such as phenoxy and tolyloxy), or aryl groups (eg, substituted with phenyl, p-chlorophenyl, etc.) , Unsubstituted groups), styryl groups, heterocyclic groups (for example,
Each group such as furyl and thienyl), carbamoyl group (for example, each group such as carbamoyl and N-ethylcarbamoyl), and sulfamoyl group (for example, sulfamoyl,
N, N-dimethylsulfamoyl, etc.), acylamino group (eg, acetylamino, propionylamino, benzoylamino, etc.), acyl group (eg, acetyl, benzoyl, etc.), alkoxycarbonyl group ( For example, a group such as ethoxycarbonyl), a sulfonamide group (for example, each group such as methanesulfonylamide, benzenesulfonamide), a sulfonyl group (for example, each group such as methanesulfonyl, p-toluenesulfonyl) and a carboxy group. The group of is mentioned.

【0147】L31及びL32で表されるメチン炭素に置換
される基としては、例えば低級アルキル基(例えば、メ
チル、エチル等の各基)、フェニル基(例えば、フェニ
ル、カルボキシフェニル等の各基)、アルコキシ基(例
えば、メトキシ、エトキシ等の各基)アラルキル(例え
ば、ベンジル等の基)等の基がある。
Examples of the group substituted on the methine carbon represented by L 31 and L 32 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a phenyl group (for example, each group such as phenyl and carboxyphenyl). Groups), alkoxy groups (for example, groups such as methoxy and ethoxy), and aralkyl (for example, groups such as benzyl).

【0148】M31はカチオン或いは酸アニオンを表し、
カチオンの具体例としてはプロトン、有機アンモニウム
イオン(例えばトリエチルアンモニウム、トリエタノー
ルアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン(例えば
リチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カチオン)が
挙げられ、酸アニオンの具体例としては例えばハロゲン
イオン(例えば塩素イオン、臭素イオン、沃素イオン
等)、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオ
ン、4−フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。n31は分
子内塩を形成して分子内の総電荷が相殺される場合は0
となる。
M 31 represents a cation or an acid anion;
Specific examples of the cation include a proton, an organic ammonium ion (for example, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (for example, each cation such as lithium, sodium, and calcium). Specific examples of the acid anion include For example, halogen ions (for example, chloride ion, bromine ion, iodine ion, etc.), p-toluenesulfonic acid ion, perchlorate ion, 4-boron fluoride ion and the like can be mentioned. n 31 is 0 when an internal salt is formed and the total charge in the molecule is offset.
Becomes

【0149】上記一般式(3)において、R31がスルホ
基で置換されたアルキル基であり、R32、R33及びR34
の何れか少なくとも二つの基がカルボキシメチルである
ものが好ましい。
In the above formula (3), R 31 is an alkyl group substituted by a sulfo group, and R 32 , R 33 and R 34
Wherein at least two of the groups are carboxymethyl.

【0150】一般式(3)で表される増感色素の具体例
を以下に示す。
Specific examples of the sensitizing dye represented by the general formula (3) are shown below.

【0151】[0151]

【化51】 Embedded image

【0152】[0152]

【化52】 Embedded image

【0153】[0153]

【化53】 Embedded image

【0154】[0154]

【化54】 Embedded image

【0155】[0155]

【化55】 Embedded image

【0156】上記の化合物は、例えばエフ・エム・ハー
マ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・コン
パウンズ」(1964,インター・サイエンス・パブリ
ッシャーズ発刊)、米国特許第2,454,629号、
同2,493,748号等に記載された従来公知の方法
を参考にして容易に合成することができる。
The above compounds are described, for example, in "Cyanine Soybeans and Related Compounds" by F.M.Hama (1964, published by Inter Science Publishers), US Pat. No. 2,454,629,
The compound can be easily synthesized with reference to a conventionally known method described in JP-A-2,493,748 and the like.

【0157】一般式(4−a)、(4−b)において、
41、R42、R43、R44、R45、R46、R47及びR48
表される脂肪族基としては例えば、炭素数1〜8の分岐
或は直鎖のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−
プロピル、n−ペンチル、イソブチル等の各基)、原子
数3〜8のアルケニル基(例えば、3−ブテニル、2−
プロペニル等の各基)或は炭素原子数3〜8のアラルキ
ル基(例えば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げ
られる。
In the general formulas (4-a) and (4-b),
Examples of the aliphatic group represented by R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 and R 48 include, for example, a branched or straight-chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, , Methyl, ethyl, n-
Propyl, n-pentyl, each group such as isobutyl), an alkenyl group having 3 to 8 atoms (for example, 3-butenyl, 2-
Each group such as propenyl) or an aralkyl group having 3 to 8 carbon atoms (eg each group such as benzyl and phenethyl).

【0158】R42、R43、R44、R46、R47及びR48
表されるアリール基としては例えば、フェニル基が挙げ
られ、複素環基としては例えば、ピリジル基(2−、4
−)、ピラジル基、フリル基(2−)、チエニル基(2
−)、スルホラニル基、テトラヒドロフリル基、ピペリ
ジニル基、ピロール基、イミダゾリル基等が挙げられ
る。
The aryl group represented by R 42 , R 43 , R 44 , R 46 , R 47 and R 48 includes, for example, a phenyl group, and the heterocyclic group includes, for example, a pyridyl group (2-, 4)
-), Pyrazyl group, furyl group (2-), thienyl group (2
-), Sulfolanyl group, tetrahydrofuryl group, piperidinyl group, pyrrole group, imidazolyl group and the like.

【0159】R41、R42、R43、R44、R45、R46、R
47及びR48の各基は、ハロゲン原子、アルコキシ基(メ
トキシ基、エトキシ基等)、アリールオキシ基(フェノ
キシ基、p−トリルオキシ基等)、シアノ基、ヒドロキ
シル基、カルバモイル基(カルバモイル基、N−メチル
カルバモイル基、N,N−テトラメチレンカルバモイル
基等)、スルファモイル基(スルファモイル基、N,N
−3−オキサペンタメチレンアミノスルホニル基等)、
メタンスルホニル基、アルコキシカルボニル基(エトキ
シカルボニル基、ブトキシカルボニル基等)、アリール
基(フェニル基、カルボキシフェニル基等)、アシル基
(アセチル基、ベンゾイル基等)、アミド基(アセトア
ミド基、メタンスルホンアミド基、ベンゾイルアミド
基)等の置換基で置換されていてもよい。
R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R
Each of 47 and R 48 is a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group or an ethoxy group), an aryloxy group (such as a phenoxy group or a p-tolyloxy group), a cyano group, a hydroxyl group, or a carbamoyl group (such as a carbamoyl group or N -Methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N
-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.),
Methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl group (ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), aryl group (phenyl group, carboxyphenyl group, etc.), acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.), amide group (acetamide group, methanesulfonamide) Group, benzoylamide group).

【0160】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
としては、例えばカルボキシメチル、スルホエチル、ス
ルホプロピル、スルホブチル、スルホペンチル、3−ス
ルホブチル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−ス
ルホプロポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピ
ルアミノカルボニルメチル、、N−エチル−N−スルホ
プロピル、N−エチル−N−スルホプロピル、3−スル
フィノブチル、3−ホスホノプロピル、4−スルホ−3
−ブテニル、2−カルボキシ−2−プロペニル、o−ス
ルホベンジル、p−スルホフェネチル、p−カルボキシ
ベンジル等の各基があり、水可溶化基を置換したアリー
ル基の具体的例としては、例えば、p−スルホフェニル
基、p−カルボキシフェニル基等があり、水可溶化基を
置換した複素環基の具体的例としては、例えば、4−ス
ルホチエニル基、3−カルボキシピリジル基等がある。
Specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include, for example, carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-oxahexyl, ω-sulfo Propoxycarbonylmethyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, N-ethyl-N-sulfopropyl, N-ethyl-N-sulfopropyl, 3-sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl, 4-sulfo-3
-Butenyl, 2-carboxy-2-propenyl, o-sulfobenzyl, p-sulfophenethyl, p-carboxybenzyl, etc., and specific examples of the aryl group substituted with a water-solubilizing group include: There are p-sulfophenyl group, p-carboxyphenyl group and the like, and specific examples of the heterocyclic group substituted with a water-solubilizing group include a 4-sulfothienyl group and a 3-carboxypyridyl group.

【0161】これらにおいて、R41及びR45はスルホ基
で置換されたアルキル基であり、R44、R42、R43、R
46、R47及びR48のいずれか少なくとも二つの基が各
々、カルボキシメチル基であるものが好ましい。
In these, R 41 and R 45 are alkyl groups substituted with a sulfo group, and R 44 , R 42 , R 43 , R
46, or at least two groups of R 47 and R 48 are each a is preferable carboxymethyl group.

【0162】Z41、Z42で表される5員又は6員の含窒
素複素環基としてはシアニン色素を形成する塩基性の複
素環が挙げられ、例えば、オキサゾール環(例えば、オ
キサゾール、ベンゾオキサゾール、ナフトオキサゾール
等の各環)、チアゾール環(例えば、チアゾリジン、チ
アゾール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール等の各
環)、イミダゾール環(例えば、イミダゾール、ベンゾ
イミダゾール、ナフトイミダゾール等の各環)、セレナ
ゾール環(例えば、セレナゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ナフトセレナゾール等の各環)、テルラゾール環
(例えば、テルラゾール、ベンゾテルラゾール、ナフト
テルラゾール等の各環)、ピリジン環(例えば、ピリジ
ン、キノリン等の各環)、ピロール環(例えば、ピロー
ル、インドール、インドレニン等の各環)等の環が挙げ
られる。
Examples of the 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic group represented by Z 41 and Z 42 include a basic heterocyclic ring forming a cyanine dye, and include, for example, an oxazole ring (eg, oxazole, benzoxazole) , A ring of naphthoxazole or the like), a thiazole ring (for example, a ring of thiazolidine, thiazole, benzothiazole, naphthothiazole or the like), an imidazole ring (for example, each ring of imidazole, benzimidazole, naphthoimidazole or the like), a selenazole ring ( For example, each ring such as selenazole, benzoselenazole, naphthoselenazole, etc., a tellurazole ring (eg, each ring such as tellurazole, benzotellurazole, naphthotellazole), a pyridine ring (eg, each ring such as pyridine, quinoline, etc.) , A pyrrole ring (e.g., pyrrole, indole, indole Each ring such as drainin).

【0163】Z41、Z42で表した前述の複素環上には任
意の位置に置換基を有していても良く、例えば、ハロゲ
ン原子、トリフルオロメチル基、アルコキシ基(例え
ば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の非置換アルコキ
シ各基、2−メトキシエトキシ、ベンジルオキシ等の置
換アルコキシ各基)、ヒドロキシ基、シアノ基、アリー
ルオキシ基(例えば、フェノキシ、トリルオキシ等の置
換、非置換の各基)、又はアリール基(例えば、フェニ
ル、p−クロロフェニル、p−トリル、p−メトキシフ
ェニル等の置換、非置換の各基)、スチリル基、複素環
基(例えば、フリル、チエニル等の各基)、カルバモイ
ル基(例えば、カルバモイル、N−エチルカルバモイル
等の各基)、スルファモイル基(例えば、スルファモイ
ル、N,N−ジメチルスルファモイル等の各基)、アシ
ルアミノ基(例えば、アセチルアミノ、プロピオニルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等の各基)、アシル基(例えば
アセチル、ベンゾイル等の各基)、アルコキシカルボニ
ル基(例えば、エトキシカルボニル等の基)、スルホン
アミド基(例えば、メタンスルホニルアミド、ベンゼン
スルホンアミド等の各基)、スルホニル基(例えば、メ
タンスルホニル、p−トルエンスルホニル等の各基)カ
ルボキシ基、アルキル基(例えば、メチル、エチル、イ
ソプロピル等の各基)等の任意の基が挙げられる。
The above-mentioned heterocyclic ring represented by Z 41 and Z 42 may have a substituent at any position, for example, a halogen atom, a trifluoromethyl group or an alkoxy group (for example, methoxy, ethoxy, etc.) , Butoxy and other unsubstituted alkoxy groups, 2-methoxyethoxy and benzyloxy and other substituted alkoxy groups), hydroxy group, cyano group and aryloxy group (for example, substituted and unsubstituted groups such as phenoxy and tolyloxy) Or an aryl group (for example, a substituted or unsubstituted group such as phenyl, p-chlorophenyl, p-tolyl, or p-methoxyphenyl), a styryl group, or a heterocyclic group (for example, each group such as furyl or thienyl); A carbamoyl group (for example, each group such as carbamoyl and N-ethylcarbamoyl) and a sulfamoyl group (for example, sulfamoyl and N, N-dimethyl) Rusulfamoyl, etc.), acylamino group (eg, acetylamino, propionylamino, benzoylamino, etc.), acyl group (eg, acetyl, benzoyl, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, ethoxycarbonyl, etc.) ), A sulfonamide group (for example, each group such as methanesulfonylamide and benzenesulfonamide), a sulfonyl group (for example, each group such as methanesulfonyl and p-toluenesulfonyl), a carboxy group, and an alkyl group (for example, methyl, ethyl, Arbitrary groups such as isopropyl and the like).

【0164】L41、L42、L43、L44、L45、L46、L
47及びL48で表されるメチン炭素に置換される基として
は、例えば、低級アルキル基(例えば、メチル、エチル
等の各基)、フェニル基(例えば、フェニル、カルボキ
シフェニル等の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ、エトキシ等の各基)、アリールオキシ基(例えば、
フェノキシ、カルボキシフェノキシ等の各基)、アラル
キル基(例えば、ベンジル等の基)等の各基、複素環基
(ピリジル基、ピロリル基、テトラヒドロフリル基、チ
エニル基、フリル基、ペンタヒドロオキサジニル基等)
及びフッソ原子等がある。
L 41 , L 42 , L 43 , L 44 , L 45 , L 46 , L
The group substituted methine carbon represented by 47 and L 48, e.g., a lower alkyl group (e.g., each group such as methyl, ethyl), phenyl group (e.g., phenyl, carboxymethyl each group such as phenyl), An alkoxy group (for example, each group such as methoxy and ethoxy), an aryloxy group (for example,
Phenoxy, carboxyphenoxy, etc.), aralkyl groups (eg, benzyl, etc.), heterocyclic groups (pyridyl, pyrrolyl, tetrahydrofuryl, thienyl, thienyl, furyl, pentahydrooxazinyl) Group)
And a fluorine atom.

【0165】これらの色素はL41、L42、L43、L44
びL45、L46、L47、L48で示されるメチン炭素の何れ
か一方が置換されている場合に、概して高い分光感度が
得られ、色素が処理浴中で漂泊され易い特性を与えるこ
とが分かり、好ましい。
These dyes generally have high spectral properties when any one of the methine carbons represented by L 41 , L 42 , L 43 , L 44 and L 45 , L 46 , L 47 , L 48 is substituted. It has been found that sensitivity is obtained, and that the dye gives characteristics that the dye is easily drifted in the processing bath.

【0166】W41、W42は酸素原子、硫黄原子、=C<
(E41)(E42)、又は=C<(E43)(E44)を表
し、E41及びE42又はE43及びE44は各々、独立に電子
吸引性の基を表し、互いに結合してケト環又は酸性の複
素環を形成してもよい、l41は0又は1の整数を表し、
41、M42はカチオン或いは酸アニオンを表し、カチオ
ンの具体例としてはプロトン、有機アンモニウムイオン
(例えばトリエチルアンモニウム、トリエタノールアン
モニウム等の各イオン)、無機カチオン(例えばリチウ
ム、ナトリウム、カルシウム等の各カチオン)が挙げら
れ、酸アニオンの具体例としては例えばハロゲンイオ
ン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩素酸イオン、
4−フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。n41、n42
分子内塩を形成して分子内の総電荷が相殺される場合は
0となる。
W 41 and W 42 are an oxygen atom, a sulfur atom, and = C <
(E 41 ) (E 42 ) or CC <(E 43 ) (E 44 ), and E 41 and E 42 or E 43 and E 44 each independently represent an electron-withdrawing group, and are bonded to each other To form a keto ring or an acidic heterocyclic ring, l 41 represents an integer of 0 or 1,
M 41 and M 42 each represent a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include a proton, an organic ammonium ion (for example, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (for example, lithium, sodium, calcium, and the like). Cation). Specific examples of the acid anion include, for example, a halogen ion, a p-toluenesulfonic acid ion, a perchlorate ion,
4-boron fluoride ion and the like. n 41 and n 42 become 0 when an internal salt is formed to cancel the total charge in the molecule.

【0167】E41、E42又はE43、E44で表される電子
吸引性の基としてはハメットσp値が0.3より大きな
基から選択され、具体的にはシアノ基、カルバモイル基
(カルバモイル基、モルホリノカルボニル基、N−メチ
ルカルバモイル基等)、アルコキシカルボニル基(メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、スルフ
ァモイル基(スルファモイル基、モルフォリノスルホニ
ル基、N,N−ジメチルスルファモイル基等)、アシル
基(アセチル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メ
タンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスル
ホニル基、トルエンスルホニル基等)等が挙げられる。
The electron-withdrawing group represented by E 41 , E 42 or E 43 , E 44 is selected from groups having a Hammett σp value of more than 0.3, and specifically includes a cyano group, a carbamoyl group (carbamoyl). Group, morpholinocarbonyl group, N-methylcarbamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, etc.) , An acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.), a sulfonyl group (methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, benzenesulfonyl group, toluenesulfonyl group, etc.).

【0168】E41、E42又はE43、E44で形成されるケ
ト環、並びに酸性の複素環としては、前記一般式(2−
a)のE21、E22で形成されるケト環並びに酸性の複素
環と同じである。
The keto ring formed by E 41 or E 42 or E 43 or E 44 and the acidic heterocyclic ring are represented by the aforementioned general formula (2-
The same as the keto ring and the acidic heterocyclic ring formed by E 21 and E 22 in a).

【0169】式中、Ra及びRbは各々、低級アルキル
基、アリール基、複素環基を表し、低級アルキル基の具
体例としてはメチル、エチル、プロピル、2−ヒドロキ
シエチル、2−メトキシエチル、トリフルオロエチル、
アリル、カルボキシメチル、カルボキシエチル、2−ス
ルホエチル、ベンジル等の置換・非置換の各基が挙げら
れる。Ra及びRbで表されるアリール基、複素環基とし
ては、前記R44、R42、R43、R48、R46及びR47で示
した内容のものが挙げられる。
In the formula, R a and R b each represent a lower alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and specific examples of the lower alkyl group include methyl, ethyl, propyl, 2-hydroxyethyl, and 2-methoxyethyl. , Trifluoroethyl,
Examples include substituted and unsubstituted groups such as allyl, carboxymethyl, carboxyethyl, 2-sulfoethyl, and benzyl. The aryl group and the heterocyclic group represented by R a and R b include those represented by R 44 , R 42 , R 43 , R 48 , R 46 and R 47 .

【0170】一般式(4−a)、(4−b)で表される
増感色素の具体例を以下に示す。
Specific examples of the sensitizing dyes represented by formulas (4-a) and (4-b) are shown below.

【0171】[0171]

【化56】 Embedded image

【0172】[0172]

【化57】 Embedded image

【0173】[0173]

【化58】 Embedded image

【0174】[0174]

【化59】 Embedded image

【0175】[0175]

【化60】 Embedded image

【0176】[0176]

【化61】 Embedded image

【0177】[0177]

【化62】 Embedded image

【0178】一般式(5)において、R51、R52、R53
及びR54に置換する水可溶化基としては、スルホ基、カ
ルボキシ基、ホスフォノ基、スルフェート基、スルフィ
ノ基等が挙げられる。
In the general formula (5), R 51 , R 52 , R 53
And the water-solubilizing group substituted for R 54 include a sulfo group, a carboxy group, a phosphono group, a sulfate group, and a sulfino group.

【0179】R51、R52、R53及びR54で表される脂肪
族基としては例えば、炭素数1〜8の分岐或は直鎖のア
ルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピル、n
−ペンチル、イソブチル等の各基)、炭素原子数3〜8
のアルケニル基(例えば、3−ブテニル、2−プロペニ
ル等の各基)或は炭素原子数3〜8のアラルキル基(例
えば、ベンジル、フェネチル等の各基)が挙げられる。
Examples of the aliphatic group represented by R 51 , R 52 , R 53 and R 54 include a branched or straight-chain alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methyl, ethyl, n-propyl, n
Each group such as pentyl and isobutyl), having 3 to 8 carbon atoms
(E.g., 3-butenyl, 2-propenyl, etc.) or an aralkyl group having 3 to 8 carbon atoms (e.g., benzyl, phenethyl, etc.).

【0180】R52、R53及びR54で表されるアリール基
としては例えば、フェニル基が挙げられ、複素環基とし
ては、ピリジル基(2−、4−)、ピラジル基、フリル
基(2−)、チエニル基(2−)、スルホラニル基、テ
トラヒドロフリル基、ピペリジニル基、ピロール基、イ
ミダゾリル基等が挙げられる。
Examples of the aryl group represented by R 52 , R 53 and R 54 include a phenyl group, and examples of the heterocyclic group include a pyridyl group (2-, 4-), a pyrazyl group and a furyl group (2 -), Thienyl group (2-), sulfolanyl group, tetrahydrofuryl group, piperidinyl group, pyrrole group, imidazolyl group and the like.

【0181】R51、R52、R53及びR54の各基は、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基
等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、p−トリルオ
キシ基等)、シアノ基、カルバモイル基(カルバモイル
基、N−メチルカルバモイル基、N,N−テトラメチレ
ンカルバモイル基等)、スルファモイル基(スルファモ
イル基、N,N−3−オキサペンタメチレンアミノスル
ホニル基等)、メタンスルホニル基、アルコキシカルボ
ニル基(エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基
等)、アリール基(フェニル基、カルボキシフェニル基
等)、アシル基(アセチル基、ベンゾイル基等)等の置
換基で置換されていても良い。
Each of R 51 , R 52 , R 53 and R 54 represents a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group or an ethoxy group), an aryloxy group (such as a phenoxy group or a p-tolyloxy group), a cyano group, Carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-tetramethylenecarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, N, N-3-oxapentamethyleneaminosulfonyl group, etc.), methanesulfonyl group, alkoxycarbonyl It may be substituted with a substituent such as a group (ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, etc.), an aryl group (phenyl group, carboxyphenyl group, etc.), an acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.).

【0182】水可溶化基を置換した脂肪族基の具体的例
としては、例えばカルボキシメチル、スルホエチル、ス
ルホプロピル、スルホブチル、スルホペンチル、3−ス
ルホブチル、6−スルホ−3−オキサヘキシル、ω−ス
ルホプロポキシキカルボニルメチル、ω−スルホプロピ
ルアミノカルボニルメチル、、N−エチル−N−スルホ
プロピル、3−スルフィノブチル、3−ホスフォノプロ
ピル、4−スルホ−3−ブテニル、2−カルボキシ−2
−プロペニル、o−スルホベンジル、p−スルホフェネ
チル、p−カルボキシベンジル等の各基があり、水可溶
化基を置換したアリール基の具体的例としては、p−ス
ルホフェニル基、p−カルボキシフェニル基等があり、
水可溶化基を置換した複素環基の具体的例としては、4
−スルホチエニル基、3−カルボキシピリジル基等があ
る。
Specific examples of the aliphatic group substituted with a water-solubilizing group include, for example, carboxymethyl, sulfoethyl, sulfopropyl, sulfobutyl, sulfopentyl, 3-sulfobutyl, 6-sulfo-3-oxahexyl, ω-sulfo Propoxycarbonylcarbonyl, ω-sulfopropylaminocarbonylmethyl, N-ethyl-N-sulfopropyl, 3-sulfinobutyl, 3-phosphonopropyl, 4-sulfo-3-butenyl, 2-carboxy-2
-Propenyl, o-sulfobenzyl, p-sulfophenethyl, p-carboxybenzyl and the like. Specific examples of the aryl group substituted with a water-solubilizing group include a p-sulfophenyl group and a p-carboxyphenyl. There are groups, etc.
Specific examples of the heterocyclic group substituted with a water solubilizing group include 4
-Sulfothienyl group, 3-carboxypyridyl group and the like.

【0183】これらにおいて、R52及びR53はスルホ基
で置換されたアルキル基であり、R51、R52、R53及び
54のいづれか少なくとも二つの基が各々、カルボキシ
メチル基であるものが好ましい。
In these, R 52 and R 53 are alkyl groups substituted with a sulfo group, and those in which at least two of R 51 , R 52 , R 53 and R 54 are each a carboxymethyl group. preferable.

【0184】L51、L52で表されるメチン炭素に置換さ
れる基としては、例えば、低級アルキル基(例えば、メ
チル、エチル等の各基)、フェニル基(例えば、フェニ
ル、カルボキシフェニル等の各基)、アルコキシ基(例
えば、メトキシ、エトキシ等の各基)、アリールオキシ
基(例えば、フェノキシ、カルボキシフェノキシ等の各
基)、アラルキル(例えば、ベンジル等の基)、フッソ
原子等の基がある。
Examples of the group substituted by the methine carbon represented by L 51 and L 52 include a lower alkyl group (for example, each group such as methyl and ethyl) and a phenyl group (for example, phenyl and carboxyphenyl). Each group), an alkoxy group (for example, each group such as methoxy and ethoxy), an aryloxy group (for example, each group such as phenoxy and carboxyphenoxy), an aralkyl (for example, a group such as benzyl), and a group such as a fluorine atom. is there.

【0185】これらの色素は、L51及びL52で示される
メチン炭素のいずれか一方が置換されている場合に、概
して高い分光感度が得られ、色素が処理浴中で漂泊され
易い特性を与えることが分かり、好ましい。
[0185] These dyes, when one of the methine carbon represented by L 51 and L 52 are substituted, generally high spectral sensitivity can be obtained, giving the likely characteristics dye is bleached by treatment bath It is understood and preferred.

【0186】W51は酸素原子、硫黄原子、=C<
(E51)(E52)基を表す、L51、L52は各々に置換、
無置換のメチレン炭素を表し、E51及びE52は各々、独
立に電子吸引性の基を表し、互いに結合してケト環又は
酸性の複素環を形成してもよい。
W 51 is an oxygen atom, a sulfur atom, = C <
L 51 and L 52 each represent a group represented by the formula (E 51 ) or (E 52 ),
Represents an unsubstituted methylene carbon; E 51 and E 52 each independently represent an electron-withdrawing group, which may be bonded to each other to form a keto ring or an acidic heterocyclic ring;

【0187】E51及びE52で表される電子吸引性の基と
してはハメットσp値が0.3より大きな基から選択さ
れ、具体的にはシアノ基、カルバモイル基(カルバモイ
ル基、モルホリノカルボニル基、N−メチルカルバモイ
ル基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基等)、スルファモイル基
(スルファモイル基、モルフォリノスルホニル基、N,
N−ジメチルスルファモイル基等)、アシル基(アセチ
ル基、ベンゾイル基等)、スルホニル基(メタンスルホ
ニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基、
トルエンスルホニル基等)等が挙げられる。
The electron-withdrawing groups represented by E 51 and E 52 are selected from groups having a Hammett σ p value of more than 0.3, and specifically include a cyano group, a carbamoyl group (carbamoyl group, morpholinocarbonyl group). , N-methylcarbamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, morpholinosulfonyl group, N,
N-dimethylsulfamoyl group, etc.), acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.), sulfonyl group (methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, benzenesulfonyl group,
Toluenesulfonyl group, etc.).

【0188】E51及びE52で形成されるケト環、並びに
酸性の複素環としては例えば前記一般式(2−a)にお
けるE21及びE22で形成されるケト環並びに酸性の複素
環と同じである。
The keto ring formed by E 51 and E 52 and the acidic heterocyclic ring are, for example, the same as the keto ring formed by E 21 and E 22 and the acidic hetero ring in the above formula (2-a). It is.

【0189】複素環基としては、前記R51、R52、R53
及びR54で示した内容のものが挙げられる。
Examples of the heterocyclic group include R 51 , R 52 and R 53.
And those of the content shown in R 54.

【0190】M51は各々、カチオン或いは酸アニオンを
表し、カチオンの具体例としてはプロトン、有機アンモ
ニウムイオン(例えばトリエチルアンモニウム、トリエ
タノールアンモニウム等の各イオン)、無機カチオン
(例えばリチウム、ナトリウム、カルシウム等の各カチ
オン)が挙げられ、酸アニオンの具体例としては例えば
ハロゲンイオン、p−トルエンスルホン酸イオン、過塩
素酸イオン、4−フッ化ホウ素イオン等が挙げられる。
51は分子内塩を形成して分子内の総電荷が相殺される
場合は0となる。
M 51 represents a cation or an acid anion. Specific examples of the cation include a proton, an organic ammonium ion (eg, each ion such as triethylammonium and triethanolammonium), and an inorganic cation (eg, lithium, sodium, calcium, etc.). And specific examples of the acid anion include a halogen ion, a p-toluenesulfonic acid ion, a perchlorate ion, and a 4-boron fluoride ion.
n 51 becomes 0 when an internal salt is formed and the total charge in the molecule is offset.

【0191】一般式(5)で表される増感色素の具体例
を以下に示す。
Specific examples of the sensitizing dye represented by the general formula (5) are shown below.

【0192】[0192]

【化63】 Embedded image

【0193】[0193]

【化64】 Embedded image

【0194】[0194]

【化65】 Embedded image

【0195】[0195]

【化66】 Embedded image

【0196】[0196]

【化67】 Embedded image

【0197】[0197]

【化68】 Embedded image

【0198】[0198]

【化69】 Embedded image

【0199】上記の化合物は、例えばエフ・エム・ハー
マ著「シアニン・ダイズ・アンド・リレーテッド・コン
パウンズ」(1964,インター・サイエンス・パブリ
ッシャーズ発刊)、米国特許第2,454,629号、
同2,493,748号、英国特許第489335号、
欧州特許第730008号等に記載された従来公知の方
法を参考にして容易に合成することができる。
The above compounds are described, for example, in "Cyanine Soybeans and Related Compounds" by F.M.Hama (1964, published by Inter Science Publishers), US Pat. No. 2,454,629,
No. 2,493,748, British Patent No. 489335,
The compound can be easily synthesized with reference to a conventionally known method described in European Patent No. 730008 or the like.

【0200】一般式(1)〜(5)で表される増感色素
の添加量は使用される条件や乳剤の種類に大きく依存し
て変化するが、好ましくはハロゲン化銀1モル当り1×
10-6〜5×10-3モル、より好ましくは2×10-6
2×10-3モルの範囲である。又、一般式(1)〜
(5)で表される増感色素は、従来公知の方法でハロゲ
ン化銀乳剤に添加することができる。例えば、特開昭5
0−80826号、同50−80827号に記載のプロ
トン化溶解添加方法、米国特許第3,822,135
号、特開昭50−11419号に記載の界面活性剤と共
に分散添加する方法、米国特許第3,676,147
号、同3,469,987号、同4,247,627
号、特開昭51−59942号、同53−16624
号、同53−102732号、同53−102733
号、同53−137131号に記載の親水性基質に分散
して添加する方法、東独特許第143324号に記載の
固溶体として添加する方法、或はリサーチ・ディスクロ
ージャー第21802号、特公昭50−40659号、
特開昭59−148053号に代表される色素を溶解す
る水溶性溶剤(水、メタノール、エタノール、プロピル
アルコール、アセトン、フッソ化アルコール等の低沸点
溶媒、ジメチルフォルムアミド、メチルセロソルブ、フ
ェニルセロソルブ等の高沸点溶媒)単独又はそれらの混
合溶媒に溶解して添加する方法等を任意に選択使用して
乳剤中に加えられる。
The amount of the sensitizing dyes represented by formulas (1) to (5) varies greatly depending on the conditions used and the type of emulsion, but is preferably 1 × per mole of silver halide.
10 -6 to 5 × 10 -3 mol, more preferably 2 × 10 -6 to
It is in the range of 2 × 10 -3 mol. In addition, general formulas (1) to
The sensitizing dye represented by (5) can be added to a silver halide emulsion by a conventionally known method. For example, JP
0-80826, 50-80827, U.S. Pat. No. 3,822,135.
And JP-A-50-11419, a method of dispersing and adding together with a surfactant, U.S. Pat. No. 3,676,147.
No. 3,469,987, No. 4,247,627
No., JP-A-51-59942, and JP-A-53-16624.
No. 53-102732, No. 53-102733
No. 53-137131, a method of dispersing in a hydrophilic substrate, a method of adding as a solid solution described in East German Patent No. 143324, or Research Disclosure No. 21802, Japanese Patent Publication No. 50-40659. ,
Water-soluble solvents for dissolving dyes represented by JP-A-59-148053 (low-boiling solvents such as water, methanol, ethanol, propyl alcohol, acetone and fluorinated alcohol; dimethylformamide, methyl cellosolve, phenyl cellosolve and the like) A solvent having a high boiling point) can be added to the emulsion by arbitrarily selecting or adding a method of dissolving in a single solvent or a mixed solvent thereof.

【0201】一般式(1)〜(5)で表される増感色素
の添加時期は、物理熟成から化学熟成及び塗布までの乳
剤製造工程中の何れの段階であっても良いが、物理熟成
から化学熟成終了までの間に添加されることが好まし
い。物理熟成中、或は化学熟成工程において化学増感剤
の添加に先立って、又は化学増感剤の添加直後での、本
発明に係る化合物の添加はより高い分光感度が得られる
効果を有し、好ましく用いられる。
The sensitizing dyes represented by the general formulas (1) to (5) may be added at any stage during the emulsion production process from physical ripening to chemical ripening and coating. It is preferably added during the period from to the end of chemical ripening. During the physical ripening, or before the chemical sensitizer is added in the chemical ripening step, or immediately after the addition of the chemical sensitizer, the addition of the compound according to the present invention has the effect of obtaining higher spectral sensitivity. Are preferably used.

【0202】また、一般式(1)〜(5)で表される増
感色素は、他の増感色素と組み合わせて用いることもで
きる。この場合には各々の増感色素を同時に又は異なる
時期に別々に乳剤に添加しても良く、その際の順序、時
間間隔は目的により任意に決められる。
The sensitizing dyes represented by formulas (1) to (5) can be used in combination with other sensitizing dyes. In this case, the respective sensitizing dyes may be added to the emulsion simultaneously or separately at different times, and the order and time interval at that time may be arbitrarily determined depending on the purpose.

【0203】増感色素には、強色増感作用をもたらす化
合物を併用することによって一層の分光感度が得られ
る。この様な強色増感作用を有する化合物としては例え
ば米国特許第2,933,390号、同3,416,9
27号、同3,511,664号、同3,615,61
3号、同3,615,632号、同3,635,721
号、特開平3−15042号、同3−110545号、
同4−255841号等に記載のピリミジニルアミノ基
或はトリアジニルアミノ基を有する化合物、英国特許第
1137580号、特開昭61−169833号等に記
載の芳香族有機ホルムアルデヒド縮合物、特開平4−1
84332号に記載のカリックスアレーン誘導体、米国
特許第4,030,927号に記載のハロゲン化ベンゾ
トリアゾール誘導体、特開昭59−142541号、同
59−188641号に記載のビスピリジニウム化合
物、特開昭59−191032号に記載の芳香族複素環
4級塩化合物、特開昭60−79348号に記載の電子
供与性化合物、米国特許第4,307,183号に記載
のアミノアリリデンマロノニトリル単位を含む重合物、
特開昭4−149937号に記載のヒドロキシテトラザ
インデン誘導体、米国特許第3,615,633号に記
載の1,3−オキサジアゾール誘導体、米国特許第4,
780,404号に記載のアミノ−1,2,3,4−チ
アトリアゾール誘導体等が挙げられる。これら強色増感
剤の添加時期は特に制限なく、本発明に係る増感色素の
添加時期に準じて任意に添加できる。添加量はハロゲン
化銀1モル当り1×10-6〜1×10-1モルの範囲で選
択され、増感色素とは1/10〜10/1の添加モル比
で使用される。
Further spectral sensitivity can be obtained by using a compound having a supersensitizing effect in combination with the sensitizing dye. Compounds having such a supersensitizing effect include, for example, U.S. Pat. Nos. 2,933,390 and 3,416,9.
No. 27, No. 3,511,664, No. 3,615,61
No. 3, 3,615,632, 3,635,721
No., JP-A-3-15042, JP-A-3-110545,
Compounds having a pyrimidinylamino group or a triazinylamino group described in JP-A-4-2555841, an aromatic organic formaldehyde condensate described in British Patent No. 1137580, JP-A-61-169833 and the like, -1
No. 84332, calixarene derivatives described in U.S. Pat. No. 4,030,927, halogenated benzotriazole derivatives, bispyridinium compounds described in JP-A-59-142541 and JP-A-59-188641, An aromatic heterocyclic quaternary salt compound described in JP-A-59-190332, an electron-donating compound described in JP-A-60-79348, and an aminoallylidenemalononitrile unit described in U.S. Pat. No. 4,307,183. Containing polymer,
Hydroxytetrazaindene derivatives described in JP-A-4-149937; 1,3-oxadiazole derivatives described in U.S. Pat. No. 3,615,633; U.S. Pat.
No. 780,404, for example, amino-1,2,3,4-thiatriazole derivatives. The timing of adding these supersensitizers is not particularly limited, and they can be arbitrarily added according to the timing of adding the sensitizing dye according to the present invention. The addition amount is selected in the range of 1 × 10 -6 to 1 × 10 -1 mol per mol of silver halide, and the sensitizing dye is used in an addition molar ratio of 1/10 to 10/1.

【0204】本発明に用いられるアスコルビン酸は、下
記一般式(A)で表されるものが挙げられ、そのうち
(A−a)で表されるものが好ましく用いられる。
Ascorbic acid used in the present invention includes those represented by the following general formula (A), among which those represented by (Aa) are preferably used.

【0205】[0205]

【化70】 Embedded image

【0206】一般式(A)において、R1、R2は各々、
置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアミノ
基、置換又は無置換のアルキルチオ基を表し、R1、R2
は互いに結合して環を形成してもよい。kは0又は1を
表し、kが1のときXは−CO−又は−CS−を表す。
1、M2は各々水素原子又はアルカリ金属原子を表す。
In the general formula (A), R 1 and R 2 each represent
A substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, R 1, R 2
May combine with each other to form a ring. k represents 0 or 1, and when k is 1, X represents -CO- or -CS-.
M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom or an alkali metal atom.

【0207】一般式(A−a)において、R3は水素原
子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のア
リール基、置換又は無置換のアミノ基、置換又は非置換
のアルコキシ基、スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基を表し、Y1はO又はSを表し、
2はO、S又はNR4を表す。R4は置換又は無置換の
アルキル基、置換又は無置換のアリール基を表す。
1、M2は各々、水素原子又はアルカリ金属原子を表
す。
In the general formula (Aa), R 3 represents a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, Represents a sulfo group, a carboxyl group, an amide group, a sulfonamide group, Y 1 represents O or S,
Y 2 represents O, S or NR 4 . R 4 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
M 1 and M 2 each represent a hydrogen atom or an alkali metal atom.

【0208】上記アルキル基の置換基の例としては、ハ
ロゲン原子(Cl、Br等)、ヒドロキシル基、炭素数
6〜20のアリール基(フェニル、ナフチル基等)、複
素環基(2,2,6,6−テトラメチルピペリジル、キ
ノリジニル、N,N′−ジエチルピラゾリジニル、ピリ
ジル基等)、炭素数1〜20のアルコキシ基(メトキ
シ、エトキシ基等)、炭素数6〜20のアリールオキシ
基(フェノキシ基等)、炭素数1〜20のアルケニルオ
キシ基(アリルオキシ基等)、炭素数1〜20のアルキ
ニルオキシ基(プロパギルオキシ基等)、複素環オキシ
基(ピリジルオキシ基)、炭素数1〜26のアシルアミ
ノ基(アセチルアミノ、ヘプチルアミノ、プロピオニル
アミノ基等)、アミノ基(アミノ、メチルアミノ、ジメ
チルアミノ、ジベンジルアミノ基等)等が挙げられる。
Examples of the substituent of the alkyl group include a halogen atom (Cl, Br, etc.), a hydroxyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (phenyl, naphthyl group, etc.), a heterocyclic group (2, 2, 6,6-tetramethylpiperidyl, quinolidinyl, N, N'-diethylpyrazolidinyl, pyridyl group, etc.) C1-C20 alkoxy group (methoxy, ethoxy group, etc.), C6-C20 aryloxy Group (such as a phenoxy group), an alkenyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (such as an allyloxy group), an alkynyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (such as a propargyloxy group), a heterocyclic oxy group (a pyridyloxy group), Acylamino groups (acetylamino, heptylamino, propionylamino groups, etc.) and amino groups (amino, methylamino, dimethylamino, diben) Arylamino group).

【0209】上記アミノ基の置換基の例としては、ハロ
ゲン原子(同前)、ヒドロキシル基、炭素数6〜20の
アリール基(同前)、炭素数1〜20のアルキル基(メ
チル、エチル、ブチル、シクロヘキシル、イソプロピ
ル、ドデシル基等)、複素環基(同前)、炭素数1〜2
0のアルコキシ基(同前)、炭素数6〜20のアリール
オキシ基(同前)、炭素数1〜20のアルケニルオキシ
基(同前)、炭素数1〜20のアルキニルオキシ基(同
前)、複素環オキシ基(同前)、炭素数1〜20のアシ
ル基(アセチル、ヘプチル、プロピオニル基等)等が挙
げられる。
Examples of the substituent of the amino group include a halogen atom (as described above), a hydroxyl group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms (as described above), and an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (methyl, ethyl, Butyl, cyclohexyl, isopropyl, dodecyl group, etc.), heterocyclic group (same as above), carbon number 1-2
0 alkoxy group (same as above), aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (same as above), alkenyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (same as before), alkynyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (same as before) , A heterocyclic oxy group (the same as above), an acyl group having 1 to 20 carbon atoms (acetyl, heptyl, propionyl group and the like) and the like.

【0210】上記アルキルチオ基の置換基の例として
は、ハロゲン原子(同前)、ヒドロキシル基、炭素数6
〜20のアリール基(同前)、複素環基(同前)、炭素
数1〜20のアルコキシ基(同前)、炭素数6〜20の
アリールオキシ基(同前)、炭素数1〜20のアルケニ
ルオキシ基(同前)、炭素数1〜20のアルキニルオキ
シ基(同前)、複素環オキシ基(同前)、炭素数1〜2
6のアシルアミノ基(同前)、アミノ基(同前)等があ
げられる。
Examples of the substituent of the alkylthio group include a halogen atom (as described above), a hydroxyl group, and a
Aryl group (same as above), heterocyclic group (same as above), alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (same before), aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (same before), 1 to 20 carbon atoms Alkenyloxy group (same as above), alkynyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (same as above), heterocyclic oxy group (same before), and having 1 to 2 carbon atoms
And acyl group (same as above) and amino group (same as above).

【0211】上記アリール基の置換基の例としては、ハ
ロゲン原子(同前)、ヒドロキシル基、炭素数1〜20
のアルキル基(同前)、複素環基(同前)、炭素数1〜
20のアルコキシ基(同前)、炭素数6〜20のアリー
ルオキシ基(同前)、炭素数1〜20のアルケニルオキ
シ基(同前)、炭素数1〜20のアルキニルオキシ基
(同前)、複素環オキシ基(同前)、炭素数1〜26の
アシルアミノ基(同前)、アミノ基(同前)等があげら
れる。
Examples of the substituent of the aryl group include a halogen atom (as described above), a hydroxyl group, and a group having 1 to 20 carbon atoms.
Alkyl group (same as above), heterocyclic group (same as above), having 1 to 1 carbon atoms
20 alkoxy groups (same as above), C6-20 aryloxy groups (same as above), C1-20 alkenyloxy groups (same as before), C1-20 alkynyloxy groups (same as before) A heterocyclic oxy group (same as above), an acylamino group having 1 to 26 carbon atoms (same as above), an amino group (same as before), and the like.

【0212】上記アルコキシ基の置換基の例としては、
ハロゲン原子(同前)、ヒドロキシル基、炭素数6〜2
0のアリール基(同前)、炭素数1〜20のアルキル基
(同前)、複素環基(同前)、炭素数6〜20のアリー
ルオキシ基(同前)、炭素数1〜20のアルケニルオキ
シ基(同前)、炭素数1〜20のアルキニルオキシ基
(同前)、複素環オキシ基(同前)、炭素数1〜26の
アシルアミノ基(同前)、アミノ基(同前)等があげら
れる。
Examples of the substituent of the above alkoxy group include:
Halogen atom (same as above), hydroxyl group, 6 to 2 carbon atoms
0 aryl group (same as above), alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (same as above), heterocyclic group (same as above), aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (same as above), 1 to 20 carbon atoms Alkenyloxy group (same as above), alkynyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (same as above), heterocyclic oxy group (same as above), acylamino group having 1 to 26 carbon atoms (same as above), amino group (same as above) And the like.

【0213】上記スルホ基、カルボキシル基、アミド
基、スルホンアミド基の置換基の例としては、ハロゲン
原子(同前)、ヒドロキシル基、アルカリ金属基(ナト
リウム、カリウム等)、炭素数6〜20のアリール基
(同前)、炭素数1〜20のアルキル基(同前)、複素
環基(同前)、炭素数1〜20のアルコキシ基(同
前)、炭素数6〜20のアリールオキシ基(同前)、炭
素数1〜20のアルケニルオキシ基(同前)、炭素数1
〜20のアルキニルオキシ基(同前)、複素環オキシ基
(同前)、炭素数1〜26のアシルアミノ基(同前)、
アミノ基(同前)等が挙げられる。
Examples of the substituent of the sulfo group, carboxyl group, amide group and sulfonamide group include a halogen atom (as described above), a hydroxyl group, an alkali metal group (sodium, potassium, etc.), Aryl group (same as above), alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (same as above), heterocyclic group (same before), alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms (same before), aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms (Same as above), an alkenyloxy group having 1 to 20 carbon atoms (same as above), 1 carbon atom
-20 alkynyloxy group (same as above), heterocyclic oxy group (same as above), acylamino group having 1 to 26 carbon atoms (same as above),
And an amino group (same as above).

【0214】次に前記一般式(A)又は一般式(A−
a)で表される化合物の例を示すが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
Next, the formula (A) or the formula (A-
Examples of the compound represented by a) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0215】[0215]

【化71】 Embedded image

【0216】[0216]

【化72】 Embedded image

【0217】[0219]

【化73】 Embedded image

【0218】[0218]

【化74】 Embedded image

【0219】[0219]

【化75】 Embedded image

【0220】これらの化合物は、代表的にはアスコルビ
ン酸或いはエリソルビン酸又はそれらから誘導される誘
導体であり、市販品として入手できるか或いは容易に公
知の合成法により合成することができる。
These compounds are typically ascorbic acid or erythorbic acid or derivatives derived therefrom, and are commercially available or can be easily synthesized by a known synthesis method.

【0221】本発明で用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、下記一般式〔H〕で表される化合物が好ましい。
The hydrazine derivative used in the present invention is preferably a compound represented by the following formula [H].

【0222】[0222]

【化76】 Embedded image

【0223】式中、Aはアリール基、又は硫黄原子又は
酸素原子を少なくとも1個を含む複素環を表し、Gは−
(CO)n−、スルホニル基、スルホキシ基、−P(=
O)R2−、又はイミノメチレン基を表し、nは1又は
2の整数を表し、A1、A2はともに水素原子或いは一方
が水素原子で他方が置換若しくは無置換のアルキルスル
ホニル基、又は置換若しくは無置換のアシル基を表し、
Rは水素原子、各々置換若しくは無置換のアルキル基、
アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニル
オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アミ
ノ基、カルバモイル基、又はオキシカルボニル基を表
す。R2は各々置換若しくは無置換のアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、
アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基等を表す。
In the formula, A represents an aryl group or a heterocyclic ring containing at least one sulfur atom or oxygen atom, and G represents-
(CO) n-, sulfonyl group, sulfoxy group, -P (=
O) R 2 — or an iminomethylene group, n represents an integer of 1 or 2, A 1 and A 2 are both a hydrogen atom or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or Represents a substituted or unsubstituted acyl group,
R is a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group,
Represents an alkenyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkenyloxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an amino group, a carbamoyl group, or an oxycarbonyl group. R 2 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group,
Represents an alkenyloxy group, an alkynyloxy group, an aryloxy group, an amino group, or the like.

【0224】一般式〔H〕で表される化合物の具体例を
以下に示す。
Specific examples of the compound represented by the formula [H] are shown below.

【0225】[0225]

【化77】 Embedded image

【0226】[0226]

【化78】 Embedded image

【0227】[0227]

【化79】 Embedded image

【0228】[0228]

【化80】 Embedded image

【0229】[0229]

【化81】 Embedded image

【0230】[0230]

【化82】 Embedded image

【0231】[0231]

【化83】 Embedded image

【0232】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例は、米国特許第5,229,248号第4カラム〜第
60カラムに記載されている(1)〜(252)であ
る。
Specific examples of other preferred hydrazine derivatives are (1) to (252) described in US Pat. No. 5,229,248, columns 4 to 60.

【0233】本発明に係るヒドラジン誘導体は、公知の
方法により合成することができ、例えば米国特許第5,
229,248号第59カラム〜第80カラムに記載の
方法を参考にすることができる。
The hydrazine derivative according to the present invention can be synthesized by a known method. For example, US Pat.
229, 248, columns 59 to 80 can be referred to.

【0234】本発明において、ヒドラジン誘導体を写真
材料中に含有させる場合は、ハロゲン化銀乳剤層に含有
させるのが好ましいが、ハロゲン化銀乳剤層に隣接する
親水性コロイド層に含有させてもよい。その様な層は下
塗層、中間層、フィルター層、保護層、アンチハレーシ
ョン層など、ヒドラジン誘導体が、ハロゲン化銀粒子へ
拡散していくのを妨げない限り、どんな機能をもつ層で
あってもよい。層中でのヒドラジン誘導体の含有量は、
用いられるハロゲン化銀乳剤の特性、化合物の化学構造
及び現像条件によって異なるので、適当な含有量は、広
い範囲にわたって変化しうるが、ハロゲン化銀乳剤中の
銀1モル当り約1×10-6〜1×10-2モルの範囲が実
際上有用である。
In the present invention, when a hydrazine derivative is contained in a photographic material, it is preferably contained in a silver halide emulsion layer, but it may be contained in a hydrophilic colloid layer adjacent to the silver halide emulsion layer. . Such a layer is a layer having any function, such as an undercoat layer, an intermediate layer, a filter layer, a protective layer, and an antihalation layer, as long as it does not prevent the hydrazine derivative from diffusing into the silver halide grains. Is also good. The content of the hydrazine derivative in the layer is
The appropriate content can vary over a wide range, depending on the characteristics of the silver halide emulsion used, the chemical structure of the compound and the development conditions, but will vary from about 1 × 10 -6 per mole of silver in the silver halide emulsion. A range of 11 × 10 -2 moles is practically useful.

【0235】また、本発明に於いては、上記ヒドラジン
誘導体を現像液中に入れても良い。この場合、現像液中
に、1×10-6〜1×10-3モル/lが好ましく1×1
-5〜5×10-4モル/lがより好ましい。
In the present invention, the above-mentioned hydrazine derivative may be contained in a developer. In this case, 1 × 10 −6 to 1 × 10 −3 mol / l is preferable in the developer and 1 × 1 −6 mol / l
0 -5 to 5 × 10 -4 mol / l is more preferred.

【0236】又、特開昭60−179734号、同61
−267759号、米国特許第5,104,769号、
同4,798,780号、同4,994,365号、同
4,998,604号、特開平1−179939号、同
1−179940号、同6−313937号、同7−3
6139号、同10−48784号等に記載のアミノ化
合物、4級オニウム化合物を材料又は現像液中に含有さ
せることが好ましい。その中でも特開平10−4878
4号報のカラム[0082]〜[0109]に記載され
た化合物を好ましく用いることができる。
Also, JP-A-60-179834, JP-A-60-17934
-267759, U.S. Patent No. 5,104,769,
JP-A-4,798,780, JP-A-4,994,365, JP-A-4,998,604, JP-A-1-179939, JP-A-1-179940, JP-A-6-313937, and JP-A-7-3
It is preferable to include the amino compound described in Nos. 6139 and 10-48784 and the like in the material or the developer. Among them, JP-A-10-4878
The compounds described in Columns [0082] to [0109] of No. 4 can be preferably used.

【0237】本発明においては現像主薬は平版印刷版の
構成層中に含ませてもよく、現像処理液中に含ませても
よい。
In the present invention, the developing agent may be contained in the constituent layers of the lithographic printing plate or may be contained in the developing solution.

【0238】本発明に用いる現像主薬としては本発明に
かかるアスコルビン酸が用いられることが好ましい。従
来から銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版材料の現
像に用いられているハイドロキノンは実質的に含まない
ことが環境上の観点から好ましい。ここでいう実質的に
含まない量とは、平版印刷版材料中としては1m2あた
り0.05モル以下であり、好ましくは0.02モル/
2以下、更に好ましくは全く含まないことである。処
理液中では、1Lあたり0.05モル以下であり、好ま
しくは0.02モル/L以下、更に好ましくは全く含ま
ないことである。
As the developing agent used in the present invention, the ascorbic acid according to the present invention is preferably used. From the viewpoint of the environment, it is preferable that hydroquinone, which has been conventionally used for developing a lithographic printing plate material using a silver complex salt diffusion transfer method, is not substantially contained. Here, the amount substantially not contained means 0.05 mol or less, preferably 0.02 mol / m 2 per 1 m 2 in the lithographic printing plate material.
m 2 or less, more preferably not containing at all. In the treatment liquid, it is 0.05 mol or less per liter, preferably 0.02 mol / L or less, and more preferably it does not contain any.

【0239】本発明には上記現像主薬に加えて1−フェ
ニル−3−ピラゾリドン又はその誘導体又は、p−アミ
ノフェノール系等の現像主薬を加えることが好ましい。
具体例としては1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−
フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−
フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリ
ドン、1−p−アミノフェニル−4,4−ジメチル−3
−ピラゾリドン、1−p−トリル−4,4−ジメチル−
3−ピラゾリドンなどがある。本発明に用いるp−アミ
ノフェノール系現像主薬としてはN−メチル−p−アミ
ノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−ア
ミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリ
シン、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジ
ルアミノフェノール等がある。
In the present invention, it is preferable to add 1-phenyl-3-pyrazolidone or a derivative thereof, or a p-aminophenol-based developing agent in addition to the above-mentioned developing agent.
Specific examples include 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-
Phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-
Phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, 1-p-aminophenyl-4,4-dimethyl-3
-Pyrazolidone, 1-p-tolyl-4,4-dimethyl-
3-pyrazolidone and the like. Examples of the p-aminophenol-based developing agent used in the present invention include N-methyl-p-aminophenol, N- (β-hydroxyethyl) -p-aminophenol, N- (4-hydroxyphenyl) glycine, and 2-methyl- Examples include p-aminophenol and p-benzylaminophenol.

【0240】現像主薬は平版印刷版の構成層中には通常
0.06モル/m2〜1.5モル/m2の量で用いられる
のが好ましい。現像処理液中には通常0.06モル/L
〜0.8モル/Lの量で用いられるのが好ましい。
The developing agent is preferably used in an amount of usually from 0.06 mol / m 2 to 1.5 mol / m 2 in the constituent layers of the lithographic printing plate. Usually 0.06 mol / L in the developing solution
It is preferably used in an amount of .about.0.8 mol / L.

【0241】本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤として
は、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、重亜硫
酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒ
ド重亜硫酸ナトリウムなどがある。使用量は特に制限さ
れないが好ましくは0.05モル/L〜1.0モル/L
の範囲で用いられる。
Examples of the sulfite preservative used in the present invention include sodium sulfite, potassium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, and sodium formaldehyde bisulfite. The amount used is not particularly limited, but is preferably 0.05 mol / L to 1.0 mol / L.
Used in the range.

【0242】現像処理液にはアルカリ剤が含有される。
水酸化物、リン酸塩、炭酸塩などの公知のアルカリ剤が
用いられるが、本発明においては炭酸塩を0.1モル/
L以上含有することが好ましい。更に好ましくは0.3
モル/L〜1.0モル/Lの間である。
The developing solution contains an alkali agent.
Known alkali agents such as hydroxides, phosphates, and carbonates are used.
It is preferable to contain L or more. More preferably 0.3
Mol / L to 1.0 mol / L.

【0243】現像処理液には、緩衝剤、溶解助剤、pH
調整剤、現像促進剤、界面活性剤、硬膜剤などを含有さ
せることができる。
In the developing solution, a buffer, a solubilizing agent, pH
An adjusting agent, a development accelerator, a surfactant, a hardener and the like can be contained.

【0244】現像液には更にカブリ防止剤、キレート化
剤を含有させることができる。
The developer may further contain an antifoggant and a chelating agent.

【0245】上記成分以外に用いられる添加剤として
は、臭化ナトリウム、ヨウ化カリウムのような現像抑制
剤、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセ
ロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノ
ールのような有機溶剤を含んでもよく、更に必要に応じ
て色調剤、消泡剤、硬水軟化剤などを含んでもよい。
Additives other than the above components include development inhibitors such as sodium bromide and potassium iodide, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, dimethylformamide, methyl cellosolve, hexylene glycol, ethanol and methanol. And an organic solvent such as a color tone agent, an antifoaming agent, a water softener, and the like, if necessary.

【0246】この様にして調整された現像液のpH値は
所望の濃度と階調をあたえるに充分な程度に選択される
が、従来、ハイドロキノン類を用いた銀錯塩拡散転写法
利用の平版印刷版の現像処理においては、pH12.0
以上の高pHで使用されることが多かったが、安全性及
び取り扱い性から、本発明においてはpH11以下であ
ることが好ましく、本発明の構成ではこのような比較的
低いpH領域でも十分に使用することができることは驚
くべきことであった。更に好ましいpHは7〜10.5
である。
The pH value of the developer adjusted in this manner is selected to a degree sufficient to give a desired concentration and gradation. Conventionally, however, lithographic printing using a silver complex salt diffusion transfer method using hydroquinones is used. In the development process of the plate, pH 12.0
Although it is often used at the above-mentioned high pH, it is preferable that the pH is 11 or less in the present invention from the viewpoint of safety and handling properties. What we could do was surprising. More preferred pH is 7 to 10.5
It is.

【0247】本発明の処理においては市販の自動現像機
を用いることができ、自動現像機の種類は限定されな
い。また、銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版材料
の処理に用いられる自動現像機も用いることができる。
In the processing of the present invention, a commercially available automatic developing machine can be used, and the type of the automatic developing machine is not limited. Further, an automatic developing machine used for processing a lithographic printing plate material utilizing a silver complex salt diffusion transfer method can also be used.

【0248】感光材料の現像処理温度及び時間は相互に
関係し、且つ全処理時間との関係において決定され、一
般に約20〜50℃で10秒〜3分であるが、高速迅速
処理の場合には約30〜50℃で10秒から40秒であ
る。
The development processing temperature and time of the photographic material are interrelated and determined in relation to the total processing time, and are generally from about 20 to 50 ° C. for 10 seconds to 3 minutes. Is from 10 to 40 seconds at about 30-50 ° C.

【0249】本発明に用いられる感脂化処理液は、特公
昭57−3939号に詳述されるようにハロゲン化銀像
部の表面を親油化させる有機化合物及びハロゲン化銀溶
剤の組み合わせは広範囲に及ぶが、特に好ましいハロゲ
ン化銀溶剤としてはヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウ
ム、ヨウ化アンモニウム塩等のヨウ化物、チオ硫酸ナト
リウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等
の、チオ硫酸塩、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸
ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン
酸塩、亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素
ナトリウム、亜硫酸水素カリウム等の亜硫酸塩が用いら
れる。
As described in JP-B-57-3939, the combination of an organic compound for making the surface of the silver halide image area lipophilic and a silver halide solvent is used as described in JP-B-57-3939. Although a wide range, particularly preferred silver halide solvents are sodium iodide, potassium iodide, iodides such as ammonium iodide, sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, ammonium thiosulfate, and the like, thiosulfate, potassium thiocyanate And thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate; and sulfites such as potassium sulfite, sodium sulfite, sodium hydrogen sulfite and potassium hydrogen sulfite.

【0250】親油化させる有機化合物としては前記特公
昭57−3939号に記載のものが挙げられる。好まし
くは下記構造を有するものである。
As the organic compound to be made lipophilic, those described in JP-B-57-3939 can be used. Preferably, it has the following structure.

【0251】[0251]

【化84】 Embedded image

【0252】式中Rは水素、炭素数12以下のアルキル
機、アリール基、アラルキル基、Zは式中のN、Cとと
もに5ないし6員複素環を形成するのに必要な結合の残
りの原子団を表す。
In the formula, R is hydrogen, an alkyl group having 12 or less carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, and Z is the remaining atom of a bond necessary to form a 5- or 6-membered heterocyclic ring together with N and C in the formula. Represents a group.

【0253】5ないし6員環の具体的な例としてはイミ
ダゾール、イミダゾリン、チアゾール、チアゾリン、オ
キサゾリン、オキサゾール、ピラゾリン、トリアゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、テトラゾー
ル、ピリジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジン、ト
リアジン等があり、又これらの環は2個以上の縮合生成
した環であってもよい。上記構造を有する化合物の代表
的なものについて具体的に例示すると、2−メルカプト
−5−ヘプチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
メルカプト−5−フェニル1,3,4−オキサジアゾー
ル、2−メルカプト−4−フェニルイミダゾール、2−
メルカプト−1−ベンジルイミダゾール、2−メルカプ
トベンツイミダゾール、2−メルカプト−1−エチル−
ベンツイミダゾール、2−メルカプト−1−ブチル−ベ
ンツイミダゾール、1,3−ジエチル−ベンツイミダゾ
リン−2−チオン、2,2′−ジメチルカプト−1,
1′−デカメチレン−ジイミダゾリン、2−メルカプト
−4−フェニルチアゾール、2−メルカプトナフトチア
ゾール等がある。
Specific examples of the 5- or 6-membered ring include imidazole, imidazoline, thiazole, thiazoline, oxazoline, oxazole, pyrazoline, triazole, thiadiazole, oxadiazole, tetrazole, pyridine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, triazine and the like. And these rings may be two or more condensed rings. Specific examples of typical compounds having the above structure include 2-mercapto-5-heptyl-1,3,4-oxadiazole,
Mercapto-5-phenyl1,3,4-oxadiazole, 2-mercapto-4-phenylimidazole, 2-
Mercapto-1-benzylimidazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-1-ethyl-
Benzimidazole, 2-mercapto-1-butyl-benzimidazole, 1,3-diethyl-benzimidazoline-2-thione, 2,2′-dimethylcapto-1,
1'-Decamethylene-diimidazoline, 2-mercapto-4-phenylthiazole, 2-mercaptonaphthothiazole and the like.

【0254】本発明の目的に有効なハロゲン化銀溶剤の
使用量はハロゲン化銀乳剤の組成に依存して一律ではな
いが、10-2モル/L〜1モル/Lの範囲内である。該
親油化のための有機化合物の量は必ずしも各化合物につ
いて一律ではないが、10-3モル/L〜10-1モル/L
の濃度で使用される。
The amount of the silver halide solvent effective for the purpose of the present invention is not uniform depending on the composition of the silver halide emulsion, but is in the range of 10 -2 mol / L to 1 mol / L. The amount of the organic compound for lipophilization is not necessarily uniform for each compound, but is 10 -3 mol / L to 10 -1 mol / L.
Used at a concentration of

【0255】親油化のための有機化合物及びハロゲン化
銀溶剤を含有する感脂化処理液は、該有機化合物の溶解
性を良くするために、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール等
の水混和性有機溶媒を含有しうる。
The sensitizing solution containing an organic compound for lipophilicity and a silver halide solvent is used in order to improve the solubility of the organic compound, such as methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol and diethylene glycol. It may contain a water-miscible organic solvent.

【0256】また、感脂化処理液はpH4〜8の間で緩
衝されていることが好ましい。pHの緩衝剤としては、
酢酸、クエン酸、リン酸等、pKa値が4〜8の酸と、
それらの塩類の中から選択できる。また、該変換液は各
種の他の成分を含んでもよい。例えばヒドロキシエチル
セルロースなどの水可溶性ポリマー類、コロイダルシリ
カなどの表面親水化剤等を含むことができる。更に、感
脂化処理のムラを防ぐ目的で、特開平4−12353号
記載の界面活性剤を用いることができる。
The sensitizing solution is preferably buffered between pH 4 and pH 8. As a pH buffer,
An acid having a pKa value of 4 to 8, such as acetic acid, citric acid, and phosphoric acid;
You can choose from those salts. Further, the conversion liquid may contain various other components. For example, water-soluble polymers such as hydroxyethylcellulose, surface hydrophilizing agents such as colloidal silica, and the like can be included. Further, for the purpose of preventing unevenness of the sensitization treatment, a surfactant described in JP-A-4-12353 can be used.

【0257】本発明に於いて、インキ受容性として利用
する部分は未現像のハロゲン化銀であり、又は現像され
た金属銀像部である。未現像のハロゲン化銀をインキ受
容部に変換する場合は、前記したごとく、現像後感脂化
処理を施すことによって得られる。また現像された金属
銀像部をインキ受容部に変換する場合、現像後定着する
か、又は一浴現像定着処理後、残存する銀像を酸化して
再ハロゲン化し、感脂化処理することによって得られ
る。
In the present invention, the portion used as ink receptivity is undeveloped silver halide or a developed metallic silver image portion. In the case where undeveloped silver halide is converted into an ink receiving portion, it can be obtained by performing a sensitization treatment after development as described above. When the developed metallic silver image area is converted to an ink receiving area, the silver image is fixed after development, or after a single-bath development and fixing treatment, the remaining silver image is oxidized and rehalogenated, and subjected to a sensitization treatment. can get.

【0258】未現像のハロゲン化銀をインキ受容部に変
換して印刷版を作成する場合、用いるハロゲン化銀材料
がネガタイプのときはポジタイプの印刷版、またポジタ
イプのハロゲン化銀感光材料のときはネガタイプの印刷
版が得られる。
When a printing plate is prepared by converting undeveloped silver halide into an ink receiving portion, a positive printing plate is used when the silver halide material to be used is a negative type, and a positive printing plate is used when the silver halide material to be used is a negative type. A negative printing plate is obtained.

【0259】本発明に用いられる印刷版材料のハロゲン
化銀は、ハロゲン組成としては、塩化銀、塩臭化銀、塩
沃臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀の何れかが用いら
れるが、好ましくは、塩化銀を50モル%以上含有する
塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀である。本発明に用いら
れる写真乳剤は、P.Glafkides著Chimi
e et Physique Photographi
que(Paul Montel社刊、1967年)、
G.F.Duffin著 Photographic
Emulsion Chemistry(The Fo
cal Press刊、1966年)、V.L.Zel
ikman et al著Makingand Coa
ting Photographic Emulsio
n(The Focal Press刊、1964年)
等に記載された方法を用いて調製することができる。即
ち、酸性法、中性法、アンモニア法等の何れでもよく、
又可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる形成とし
ては、片側混合法、同時混合法、それらの組合せ等の何
れを用いてもよい。
The silver halide of the printing plate material used in the present invention has a halogen composition of any of silver chloride, silver chlorobromide, silver chloroiodobromide, silver bromide, silver iodobromide and silver iodide. However, silver chloride, silver chlorobromide and silver chloroiodobromide containing silver chloride in an amount of 50 mol% or more are preferred. The photographic emulsion used in the present invention is P.I. Chimi by Glafkids
e et Physique Photographi
que (Paul Montel, 1967),
G. FIG. F. Photographic by Duffin
Emulsion Chemistry (The Fo
cal Press, 1966); L. Zel
Makingand Coa by ikman et al
ting Photographic Emulsio
n (published by The Focal Press, 1964)
Etc. can be prepared. That is, any of an acidic method, a neutral method, an ammonia method, etc. may be used,
The formation of the reaction between the soluble silver salt and the soluble halogen salt may be performed by any one of a one-side mixing method, a simultaneous mixing method, and a combination thereof.

【0260】本発明に用いられるハロゲン化銀には、照
度不軌改良や改良調整のために、元素周期律表の6族か
ら10族に属する金属のイオン又は錯体イオンを含有す
ることが好ましい。上記の金属としては、W,Fe、C
o、Ni、Cu、Ru、Rh、Pd、Re、Os、I
r、Pt、Auが好ましい。
The silver halide used in the present invention preferably contains an ion or a complex ion of a metal belonging to Group 6 to Group 10 of the Periodic Table of the Elements for the purpose of improving illuminance failure and adjusting the improvement. The above metals include W, Fe, C
o, Ni, Cu, Ru, Rh, Pd, Re, Os, I
r, Pt, and Au are preferred.

【0261】これらの金属は錯体の形でハロゲン化銀に
導入できる。本発明においては、遷移金属錯体は、下記
一般式で表される6配位錯体又は錯体イオンが好まし
い。
These metals can be introduced into the silver halide in the form of a complex. In the present invention, the transition metal complex is preferably a six-coordinate complex or a complex ion represented by the following general formula.

【0262】一般式 〔ML6m 式中、Mは元素周期表の6〜10族の元素から選ばれる
遷移金属、Lは架橋配位子、mは0、−、2−又は3−
を表す。Lで表される配位子の具体例としては、ハロゲ
ン化物(弗化物、塩化物、臭化物及び沃化物)、シアン
化物、シアナート、チオシアナート、セレノシアナー
ト、テルロシアナート、アジド及びアコの各配位子、ニ
トロシル、チオニトロシル等が挙げられ、好ましくはア
コ、ニトロシル及びチオニトロシル等である。アコ配位
子が存在する場合には、配位子の一つ又は二つを占める
ことが好ましい。Lは同一でもよく、また異なっていて
もよい。
In the formula [ML 6 ] m , M is a transition metal selected from the elements of Groups 6 to 10 of the periodic table, L is a bridging ligand, and m is 0,-, 2- or 3-.
Represents Specific examples of the ligand represented by L include halides (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide, cyanate, thiocyanate, selenocyanate, tellurocyanate, azide and aquo. Ligand, nitrosyl, thionitrosyl and the like, preferably aquo, nitrosyl and thionitrosyl. If an aquo ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. L may be the same or different.

【0263】Mとして特に好ましい具体例は、ロジウム
(Rh)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re),イ
リジウム(Ir)及びオスミウム(Os)である。
Particularly preferred examples of M are rhodium (Rh), ruthenium (Ru), rhenium (Re), iridium (Ir) and osmium (Os).

【0264】以下に遷移金属配位錯体の具体例を示す。Specific examples of the transition metal coordination complex are shown below.

【0265】1:〔RhCl63- 2:〔RuCl63- 3:〔ReCl63- 4:〔RuBr63- 5:〔OsCl63- 6:〔IrCl62- 7:〔Ru(NO)Cl52- 8:〔RuBr4(H2O)〕2- 9:〔Ru(NO)(H2O)Cl4- 10:〔RhCl5(H2O)〕2- 11:〔Re(NO)Cl52- 12:〔Re(NO)CN52- 13:〔Re(NO)ClCN42- 14:〔Rh(NO)2Cl4- 15:〔Rh(NO)(H2O)Cl4- 16:〔Ru(NO)CN52- 17:〔Fe(CN)63- 18:〔Rh(NS)Cl52- 19:〔Os(NO)Cl52- 20:〔Cr(NO)Cl52− 21:〔Re(NO)Cl- 22:〔Os(NS)Cl4(TeCN)〕2- 23:〔Ru(NS)Cl52- 24:〔Re(NS)Cl4(SeCN)〕2- 25:〔Os(NS)Cl(SCN)42- 26:〔Ir(NO)Cl52- 27:〔Ir(NS)Cl52- これらの金属又は錯体イオンは一種類でもよいし、同種
の金属及び異種の金属を二種以上併用してもよい。これ
らの金属のイオン又は錯体イオンの含有量としては、一
般的にはハロゲン化銀1モル当たり1×10-9〜1×1
-2モルが適当であり、好ましくは1×10-8〜1×1
-4モルである。これらの金属のイオン又は錯体イオン
を提供する化合物は、ハロゲン化銀粒子形成時に添加
し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好まし
く、ハロゲン化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物
理熟成、化学増感の前後のどの段階で添加してもよい
が、特に核形成、成長、物理熟成の段階で添加するのが
好ましく、更には核形成、成長の段階で添加するのが好
ましく、最も好ましくは核形成の段階で添加する。添加
に際しては、数回に渡って分割して添加してもよく、ハ
ロゲン化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、
特開昭63−29603号、特開平2−306236
号、同3−167545号、同4−76534号、同6
−110146号、同5−273683号等に記載され
ている様に粒子内に分布を持たせて含有させることもで
きる。好ましくは粒子内部に分布をもたせることができ
る。これらの金属化合物は、水或いは適当な有機溶媒
(例えば、アルコール類、エーテル類、グリコール類、
ケトン類、エステル類、アミド類)に溶解して添加する
ことができるが、例えば金属化合物の粉末の水溶液若し
くは金属化合物とNaCl、KClとを一緒に溶解した
水溶液を、粒子形成中の水溶性銀塩溶液又は水溶性ハラ
イド溶液中に添加しておく方法、或いは銀塩溶液とハラ
イド溶液が同時に混合されるとき第3の水溶液として添
加し、3液同時混合の方法でハロゲン化銀粒子を調製す
る方法、粒子形成中に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入する方法、或いはハロゲン化銀調製時に予
め金属のイオン又は錯体イオンをドープしてある別のハ
ロゲン化銀粒子を添加して溶解させる方法等がある。特
に、金属化合物の粉末の水溶液若しくは金属化合物とN
aCl、KClとを一緒に溶解した水溶液を水溶性ハラ
イド溶液に添加する方法が好ましい。粒子表面に添加す
る時には、粒子形成直後又は物理熟成時途中若しくは終
了時又は化学熟成時に必要量の金属化合物の水溶液を反
応容器に投入することもできる。
[0265] 1: [RhCl 6] 3- 2: [RuCl 6] 3- 3: [ReCl 6] 3- 4: [RuBr 6] 3- 5: [OsCl 6] 3- 6: [IrCl 6] 2 - 7: [Ru (NO) Cl 5] 2- 8: [RuBr 4 (H 2 O)] 2- 9: [Ru (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 10: [RhCl 5 (H 2 O)] 2- 11: [Re (NO) Cl 5] 2- 12: [Re (NO) CN 5] 2- 13: [Re (NO) ClCN 4] 2- 14: [Rh (NO) 2 Cl 4] - 15: [Rh (NO) (H 2 O ) Cl 4 ] - 16: [Ru (NO) CN 5] 2- 17: [Fe (CN) 6] 3- 18: [Rh (NS) Cl 5] 2- 19: [Os (NO) Cl 5] 2- 20: [Cr (NO) Cl 5] 2- 21: [Re (NO) Cl 5] - 22: [Os (NS) Cl 4 (TeCN )] 2- 23: Ru (NS) Cl 5] 2- 24: [Re (NS) Cl 4 (SeCN ) ] 2- 25: [Os (NS) Cl (SCN) 4 ] 2- 26: [Ir (NO) Cl 5] 2 - 27: [Ir (NS) Cl 5] 2- these metals or complex ions may be one type, the metal of the same kind of metal or different may be used alone or in combination. The content of these metal ions or complex ions is generally from 1 × 10 -9 to 1 × 1 per mol of silver halide.
0 -2 mol are suitable, preferably 1 × 10 -8 ~1 × 1
0-4 moles. The compound that provides the ion or complex ion of these metals is preferably added during silver halide grain formation and incorporated into the silver halide grains. Preparation of silver halide grains, that is, nucleation, growth, and physical ripening It may be added at any stage before and after chemical sensitization, but is particularly preferably added at the stage of nucleation, growth, and physical ripening, more preferably at the stage of nucleation and growth. Preferably, it is added at the stage of nucleation. Upon addition, it may be divided and added several times, may be uniformly contained in silver halide grains,
JP-A-63-29603, JP-A-2-306236
Nos. 3-167545, 4-76534, and 6
As described in, for example, JP-A-110146 and JP-A-5-273683, they can be contained in the particles with distribution. Preferably, a distribution can be provided inside the particles. These metal compounds can be prepared from water or a suitable organic solvent (eg, alcohols, ethers, glycols,
Ketones, esters, and amides). For example, an aqueous solution of a powder of a metal compound or an aqueous solution in which a metal compound and NaCl and KCl are dissolved together may be added to water-soluble silver during particle formation. A silver halide grain is prepared by a method in which the silver halide solution is added to a salt solution or a water-soluble halide solution, or as a third aqueous solution when a silver salt solution and a halide solution are simultaneously mixed, and a three-solution simultaneous mixing method. A method in which a required amount of an aqueous solution of a metal compound is charged into a reaction vessel during grain formation, or another silver halide grain doped with metal ions or complex ions in advance during silver halide preparation is added and dissolved. There is a method to make it. In particular, an aqueous solution of a powder of a metal compound or a metal compound and N
It is preferable to add an aqueous solution in which aCl and KCl are dissolved together to a water-soluble halide solution. When adding to the particle surface, a required amount of an aqueous solution of a metal compound can be charged into the reaction vessel immediately after the particle formation, during or at the end of physical ripening, or at the time of chemical ripening.

【0266】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができる。
The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method or a flocculation method.

【0267】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法、金化合物や白金、パ
ラジウム、イリジウム化合物等の貴金属増感法や還元増
感法を用いることができる。硫黄増感法、セレン増感
法、テルル増感法に好ましく用いられる化合物としては
公知の化合物を用いることができるが、特開平7−12
8768号等に記載の化合物を使用することができる。
貴金属増感法に好ましく用いられる化合物としては例え
ば塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオー
リチオシアネート、硫化金、金セレナイド、或いは米国
特許第2,448,060号、英国特許第618061
号などに記載されている化合物を好ましく用いることが
できる。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコル
ビン酸、二酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、
アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、
ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用
いることができる。また、乳剤のpHを7以上又はpA
gを8.3以下に保持して熟成することにより還元増感
することができる。また、粒子形成中に銀イオンのシン
グルアディション部分を導入することにより還元増感す
ることができる。
The photosensitive silver halide grains in the invention are preferably chemically sensitized. Preferred chemical sensitization methods are sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold compounds, platinum, palladium, and iridium compounds, and reduction sensitization as well known in the art. Sensitization can be used. Known compounds can be used as compounds preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method.
Compounds described in No. 8768 and the like can be used.
Compounds preferably used in the noble metal sensitization method include, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, US Pat. No. 2,448,060, and British Patent No. 618061.
And the like. Specific compounds of the reduction sensitization method include, as well as ascorbic acid, thiourea dioxide, for example, stannous chloride,
Aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives,
Borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. When the pH of the emulsion is 7 or more or pA
Reduction sensitization can be achieved by aging while keeping g at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be achieved by introducing a single addition portion of silver ion during grain formation.

【0268】平版印刷版材料の結合剤は水溶性の高分子
であり、その中でもゼラチンが好ましい。またその一部
又は全部を他のコロイド物質、例えば、アルブミン、カ
ゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール
−無水マレイン酸エステル、ポリビニルアルコール−ス
チレン無水マレイン酸エステル、アルギン酸塩、セルロ
ース誘導体などで置換してもよい。
The binder of the lithographic printing plate material is a water-soluble polymer, and among them, gelatin is preferred. A part or the whole thereof may be replaced with another colloidal substance, for example, albumin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol-maleic anhydride, polyvinyl alcohol-styrene maleic anhydride, alginate, a cellulose derivative and the like. .

【0269】ハロゲン化銀に対する結合剤、好ましくは
ゼラチンの重量比及び結合剤の絶対量は、本発明の印刷
版の製造において、その品質を決定する重要な要素であ
る。硝酸銀として表したハロゲン化銀の重量を1とした
時の結合剤の量は0.3〜3.0の間で好適である。結
合剤の比率が0.3以下では乳剤層としての皮膜強度が
低下しやすく、印刷特性として好ましくない結果を生じ
させやすい。一方、結合剤の比率が高くなると、インキ
受容性が低下することがある。
The weight ratio of binder, preferably gelatin, to silver halide and the absolute amount of binder are important factors in determining the quality of the printing plate of the present invention in the production thereof. The amount of binder is preferably between 0.3 and 3.0, where the weight of silver halide expressed as silver nitrate is one. When the ratio of the binder is 0.3 or less, the strength of the film as the emulsion layer is apt to be lowered, and unfavorable results are likely to be produced as the printing characteristics. On the other hand, when the ratio of the binder increases, the ink receptivity may decrease.

【0270】本発明の印刷版の製造において、他の重要
な要素は、感光性ハロゲン化銀乳剤層の硬膜にある。少
なくとも印刷前の段階で、十分に硬化されていなければ
ならない。硬化剤を通常の写真乳剤層の硬膜法と同様に
写真乳剤塗液中に添加してもよいし、また、現像、製版
処理の前若しくは後の段階で、例えば熱処理などの方法
で硬化されてもよい。安定した硬膜特性を得るためには
硬化剤を含むハロゲン化銀乳剤を塗布乾燥後、適度に加
温処理されることが好ましい。この加温処理は、良好な
硬化度を得るための処理であり、それは、例えば80〜
150℃で数分若しくは数十分間、或いは30〜50℃
で数日間(1〜20日間位)の処理であってもよい。
In the production of the printing plate of the present invention, another important factor lies in the hardening of the photosensitive silver halide emulsion layer. It must be sufficiently cured, at least before printing. A curing agent may be added to the photographic emulsion coating solution in the same manner as in the ordinary photographic emulsion layer hardening method, or it may be cured by a method such as heat treatment at a stage before or after development and plate making. You may. In order to obtain stable hardening characteristics, it is preferable to apply a silver halide emulsion containing a hardening agent, apply the coating and dry it, and then heat it appropriately. This heating treatment is a treatment for obtaining a good degree of curing, and is, for example, 80 to
150 ° C for several minutes or tens of minutes, or 30-50 ° C
For several days (about 1 to 20 days).

【0271】硬化剤としては、通常の写真乳剤層の硬化
剤として使用されている化合物が使用できる。例えばホ
ルマリン、グリオキザール、グルタールアルデヒド、ム
コクロム酸などのアルデヒド系硬化剤、更に、尿素−ホ
ルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物も有効で
あり、また、エポキシ系、アジリジン系化合物、活性オ
レフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬化
剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多
価金属塩類など、写真乳剤の硬化剤として公知の化合物
を単独若しくはいくつかを併用して使用できる。
As the curing agent, compounds used as ordinary curing agents for photographic emulsion layers can be used. For example, aldehyde-based curing agents such as formalin, glyoxal, glutaraldehyde, and mucochromic acid, and urea-formalin condensate and melanin-formalin condensate are also effective. Known compounds as hardeners for photographic emulsions, such as organic hardeners such as organic compounds and inorganic polyvalent metal salts such as chromium, aluminum and zirconium, can be used alone or in combination.

【0272】また、ハロゲン化銀写真乳剤層は、印刷中
のコロイドの磨耗を防ぐために、粒子の大きさで約2〜
10μmの径を有する微粒子を含有させるのが良く、シ
リカ、クレー、タルク、シークライト、米でんぷんなど
が使用できるが、特にシリカが好ましい。
The silver halide photographic emulsion layer has a grain size of about 2 to 2 to prevent abrasion of the colloid during printing.
Fine particles having a diameter of 10 μm are preferably contained, and silica, clay, talc, secretite, rice starch and the like can be used, but silica is particularly preferred.

【0273】シリカは1m2当たり0.01〜1gとな
るようにハロゲン化銀乳剤中に添加される。シリカ粒子
濃度が過度に高くなると印刷中にインキ濃度が上がりに
くくなったりスカミング現象を起こしたりする。
The silica is added to the silver halide emulsion in an amount of 0.01 to 1 g per 1 m 2 . If the silica particle concentration is excessively high, it becomes difficult to increase the ink concentration during printing, or a scumming phenomenon occurs.

【0274】写真鮮鋭度、最終的には印刷物の解像度及
び鮮鋭度を改良する目的で、いわゆる反射防止染料又は
顔料を適用することが好ましい。これらはハロゲン化銀
乳剤層中、或いは支持体とハロゲン化銀乳剤層との間の
いわゆる反射防止層中、或いは支持体をはさんでハロゲ
ン化銀乳剤層と反対側の層中に適用することによって目
的は達成される。
It is preferable to apply a so-called antireflection dye or pigment for the purpose of improving the photographic sharpness, and finally the resolution and sharpness of the printed matter. These may be applied in the silver halide emulsion layer, or in the so-called antireflection layer between the support and the silver halide emulsion layer, or in the layer opposite the silver halide emulsion layer across the support. The purpose is achieved by.

【0275】又、光反射性の顔料、例えば酸化チタン、
硫酸バリウム、酸化マグネシウムなどの白色顔料若しく
は黄色の有機顔料と光吸収性の染料又は顔料とを併用し
て使用することによっても目的は達成される。
Also, light-reflective pigments such as titanium oxide,
The object can also be achieved by using a white pigment such as barium sulfate or magnesium oxide or a yellow organic pigment in combination with a light-absorbing dye or pigment.

【0276】本発明の平版印刷版における最も好ましい
態様は、支持体上、反射防止染料若しくは顔料を有する
コロイド下塗層を有し、この下塗り層の上にハロゲン化
銀乳剤層を有するものである。
The most preferred embodiment of the lithographic printing plate of the present invention has a colloidal undercoat layer having an antireflection dye or pigment on a support, and a silver halide emulsion layer on the undercoat layer. .

【0277】この反射防止染料若しくは顔料を有するコ
ロイド下塗層は、好ましくはゼラチンよりなり、前述の
ような粒径2〜10μmの微粒子を含有させる。好適な
微粒子はシリカである。結合剤のゼラチンは、1m2
たり0.5g〜2.5gで、ハロゲン化銀乳剤層と同様
良好に硬化されるべきである。又、シリカは1m2当た
り0.1g〜20gの間で付与される。
The colloidal undercoating layer having the antireflection dye or pigment is preferably made of gelatin and contains the fine particles having a particle diameter of 2 to 10 μm as described above. A preferred microparticle is silica. The binder gelatin should harden as well as the silver halide emulsion layer at 0.5 g to 2.5 g per m 2 . Also, silica is applied at between 0.1 g and 20 g per m 2 .

【0278】このような、微粒子を含有する下塗層は、
印刷時におけるコロイドの磨耗性を改良し、耐刷性を改
良する効果をもつ。この場合においては乳剤層中、微粒
子シリカは必ずしも必要ではない。
The undercoat layer containing fine particles as described above is
It has the effect of improving the abrasion of the colloid during printing and improving the printing durability. In this case, fine-particle silica is not necessarily required in the emulsion layer.

【0279】ハロゲン化銀乳剤用の支持体は、当技術分
野で普通に使用されている例えば、両側をポリエチレン
で被覆した紙、プラスチックフィルム、金属シート等の
任意の支持体を用いることができるが、好ましくはプラ
スチックフィルムである。本発明で用いられるプラスチ
ックフイルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリカーボネート、ポリイミド、ナイロン、セ
ルローストリアセテート、ポリエチレンナフタレートな
どをあげることができる。
As the support for the silver halide emulsion, any support commonly used in the art such as paper coated with polyethylene on both sides, a plastic film, a metal sheet and the like can be used. , Preferably a plastic film. Examples of the plastic film used in the present invention include polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate, polyethylene naphthalate and the like.

【0280】その中でも好ましい支持体としては、ポリ
エチレンテレフタレート(以下PETと略す)、ポリエ
チレンナフタレート(以下PENと略す)及び特開平3
−131843号明細書に記載されているようなシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラ
スチック(以下SPSと略す)の支持体が挙げられる。
支持体の厚みとしては80〜400μm、好ましくは1
00〜250μmである。
Among them, preferred supports include polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET), polyethylene naphthalate (hereinafter abbreviated as PEN), and
Examples of the support include a plastic (hereinafter abbreviated as SPS) support containing a styrene-based polymer having a syndiotactic structure as described in Japanese Patent No. 131843.
The thickness of the support is 80 to 400 μm, preferably 1 to 400 μm.
It is 00 to 250 μm.

【0281】また寸法を安定化させるために熱処理した
プラスチック支持体を用いることもできる。採用するプ
ラスチックとしては、前記のプラスチックが挙げられ
る。支持体の熱処理とはこれらの支持体を製膜後、感光
性層が塗布されるまでの間に、支持体のガラス転移点よ
り30℃以上高い温度で、好ましくは35℃以上高い温
度で、更に好ましくは40℃以上高い温度で加熱するこ
とがよい。但し、支持体の融点を超えた温度で加熱して
は本発明の効果は得られない。
A plastic support which has been heat-treated to stabilize its dimensions can also be used. The plastics to be employed include the above-mentioned plastics. The heat treatment of the support means that after forming these supports and before the photosensitive layer is coated, at a temperature higher than the glass transition point of the support by 30 ° C. or more, preferably at a temperature higher by 35 ° C. or more, More preferably, heating is performed at a temperature higher than 40 ° C. However, the effect of the present invention cannot be obtained by heating at a temperature exceeding the melting point of the support.

【0282】本発明に係る支持体の製膜方法及び下引製
造方法は公知の方法を用いることができるが、好ましく
は、特開平9−50094号の段落[0030]〜[0
070]に記載された方法を用いることである。
The method of forming a support and the method of producing an undercoat according to the present invention can be a known method, and preferably are described in paragraphs [0030] to [0] of JP-A-9-50994.
070].

【0283】本発明においては帯電性を改良するために
金属酸化物及び/又は導電性ポリマーなどの導電性化合
物を構成層中に含ませることができる。これらは何れの
層に含有させてもよいが、好ましくは下引層、バッキン
グ層、感光性層と下引の間の層などに含まれる。本発明
においては米国特許第5,244,773号カラム14
〜20に記載された導電性化合物が好ましく用いられ
る。
In the present invention, a conductive compound such as a metal oxide and / or a conductive polymer can be contained in the constituent layer in order to improve the chargeability. These may be contained in any layer, but are preferably contained in an undercoat layer, a backing layer, a layer between the photosensitive layer and the undercoat, and the like. In the present invention, column 14 of U.S. Pat.
20 to 20 are preferably used.

【0284】本発明の平版印刷版材料においては、銀錯
塩拡散転写法を利用するには、構成層中に物理現像核を
含有する層を有することが好ましい。使用される物理現
像核は、この種の薬品の例は周知であって、アンチモ
ン、ビスマス、カドミウム、コバルト、パラジウム、ニ
ッケル、金、銀、白金、鉛、亜鉛等の金属及びこれらの
硫化物が使用できる。物理現像核層にも現像剤を含んで
もよく、水溶性バインダーを含んでもよい。
In the lithographic printing plate material of the present invention, in order to utilize the silver complex salt diffusion transfer method, it is preferable to have a layer containing a physical development nucleus in the constituent layer. The physical development nuclei used are well-known examples of this kind of chemicals, and include metals such as antimony, bismuth, cadmium, cobalt, palladium, nickel, gold, silver, platinum, lead, zinc, and sulfides thereof. Can be used. The physical development nucleus layer may also contain a developer and may contain a water-soluble binder.

【0285】本発明の平版印刷版材料に適した銀錯塩拡
散転写法の代表的な実施態様は、支持体上に、少なくと
も1層のハレーション防止を兼ねた下塗層、少なくとも
1層のハロゲン化銀乳剤層及び少なくとも1層の物理現
像核層からなる。好ましい実施態様としては、支持体上
に順に少なくとも1層のハレーション防止を兼ねた下塗
層、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層及び少なくと
も1層の物理現像核層を有することである。
A typical embodiment of the silver complex salt diffusion transfer method suitable for the lithographic printing plate material of the present invention is to form at least one undercoat layer which also serves as an antihalation layer and at least one halogenated layer on a support. It comprises a silver emulsion layer and at least one physical development nucleus layer. In a preferred embodiment, the support is provided with at least one undercoat layer which also serves as an antihalation layer, at least one silver halide emulsion layer, and at least one physical development nucleus layer.

【0286】その他、塗布性を改良するために界面活性
剤や、写真感光特性を維持するための安定剤、カブリ防
止剤、増感色素、現像剤や、現像促進剤及び写真乳剤層
を着色させる目的で染料、顔料等を、任意に含有でき
る。
In addition, a surfactant for improving coating properties, a stabilizer for maintaining photographic light-sensitive properties, an antifoggant, a sensitizing dye, a developer, a development accelerator, and coloring a photographic emulsion layer. Dyes, pigments and the like can be optionally contained for the purpose.

【0287】本発明の平版印刷版材料にはインキ受容性
を付与する有機チオール化合物若しくはチオン化合物、
或いはその他の有機複素環化合物の一部若しくは全部
を、あらかじめ添加することもできる。それは、感光性
ハロゲン化銀乳剤層以外の層であっても良い。又、これ
らの有機化合物は、油剤に溶解させ、微小油滴状に分散
させてから加えられても良い。
The lithographic printing plate material of the present invention may contain an organic thiol compound or a thione compound imparting ink receptivity,
Alternatively, some or all of the other organic heterocyclic compounds can be added in advance. It may be a layer other than the photosensitive silver halide emulsion layer. Further, these organic compounds may be added after being dissolved in an oil agent and dispersed in the form of fine oil droplets.

【0288】[0288]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
EXAMPLES The present invention will be described below in detail with reference to examples, but embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0289】実施例1 (下引済み写真用支持体の作製)市販の2軸延伸熱固定
済みの厚さ175μmのポリエチレンナフタレート(P
EN)フィルムの両面に8w/m2・分のコロナ放電処
理を施し、一方の面に下記下引塗布液a−1を乾燥膜厚
0.8μmになるように塗設し乾燥させて下引層A−1
とし、また反対側の面に下記帯電防止加工した下引塗布
液b−1を乾燥膜厚0.8μmになるように塗設し乾燥
させて帯電防止加工下引層B−1とした。
Example 1 (Preparation of Subbed Photographic Support) A commercially available biaxially stretched heat-fixed polyethylene naphthalate having a thickness of 175 μm (P
EN) Both surfaces of the film are subjected to a corona discharge treatment of 8 w / m 2 · min, and one surface is coated with the following undercoating coating solution a-1 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to undercoat. Layer A-1
On the other side, an undercoating coating solution b-1 subjected to the following antistatic treatment was applied so as to have a dry film thickness of 0.8 μm and dried to obtain an antistatic undercoat layer B-1.

【0290】 《下引塗布液a−1》 ブチルアクリレート(30重量%)、 t−ブチルアクリレート(20重量%)、スチレン(25重量%)、 2−ヒドロキシエチルアクリレート(25重量%)の共重合体 ラテックス液(固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g ポリスチレン微粒子(平均粒径3μm) 0.05g コロイダルシリカ(平均粒径90μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 《下引塗布液b−1》 SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.18μm) 200mg/m2になる量 ブチルアクリレート(30重量%)、スチレン(20重量%)、 グリシジルアクリレート(40重量%)の共重合体ラテックス液 (固形分30%) 270g (C−1) 0.6g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.8g 水で1lに仕上げる 引き続き、下引層A−1及び下引層B−1の上表面に、
8w/m2・分のコロナ放電を施し、下引層A−1の上
には、下記下引上層塗布液a−2を乾燥膜厚0.1μm
になる様に下引層A−2として、下引層B−1の上には
下記下引上層塗布液b−2を乾燥膜厚0.8μmになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層B−2として塗設し
た。
<< Undercoat Coating Solution a-1 >> Co-weight of butyl acrylate (30% by weight), t-butyl acrylate (20% by weight), styrene (25% by weight), and 2-hydroxyethyl acrylate (25% by weight) Combined latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 g Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.8 g Polystyrene fine particles (average particle size 3 μm) 0.05 g Colloidal silica (average particle size) (90 μm) 0.1 g Finish to 1 liter with water << Undercoat coating solution b-1 >> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.18 μm) Amount to become 200 mg / m 2 Butyl acrylate (30% by weight) ), Styrene (20% by weight), glycidyl acrylate (40% by weight) copolymer latex liquid (solid content 30%) 270 g (C-1) 0.6 Subsequently finish 1l hexamethylene-1,6-bis (ethyleneurea) 0.8 g Water, to the undercoat layer A-1 and the upper surface undercoat layer B-1,
A corona discharge of 8 w / m 2 · min. Was performed, and the following lower coating liquid a-2 was coated on the lower coating layer A-1 with a dry film thickness of 0.1 μm.
As the undercoat layer A-2, the undercoat layer B-1 is coated on the undercoat layer B-1 with the following undercoat layer coating solution b-2 so as to have a dry film thickness of 0.8 μm. Coated as B-2.

【0291】 《下引上層塗布液a−2》 ゼラチン 0.4g/m2になる重量 (C−1) 0.2g (C−2) 0.2g (C−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径3μm) 0.1g 水で1lに仕上げる 《下引上層塗布液b−2》 (C−4) 60g (C−5)を成分とするラテックス液(固形分20%) 80g 硫酸アンモニウム 0.5g (C−6) 12g ポリエチレングリコール(重量平均分子量600) 6g 水で1lに仕上げる<< Undercoating upper layer coating solution a-2 >> Gelatin 0.4 g / m 2 Weight (C-1) 0.2 g (C-2) 0.2 g (C-3) 0.1 g Silica particles ( (Average particle size: 3 μm) 0.1 g Finished to 1 liter with water << Lower upper layer coating solution b-2 >> (C-4) 60 g Latex solution containing (C-5) as a component (solid content: 20%) 80 g Ammonium sulfate 5 g (C-6) 12 g Polyethylene glycol (weight average molecular weight 600) 6 g Finish to 1 liter with water

【0292】[0292]

【化85】 Embedded image

【0293】[0293]

【化86】 Embedded image

【0294】(支持体の熱処理)上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程において、支持体を140℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。
(Heat Treatment of Support) In the undercoat drying step of the undercoated support, the support was heated at 140 ° C.
Thereafter, it was gradually cooled.

【0295】(乳剤Aの調製)同時混合法を用いて塩化
銀含有率が70モル%で残りは臭化銀からなる平均直径
0.09μmの塩臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子
混合時にK3Rh(N0)4(H2O)2を銀1モル当たり
粒子形成終了時の銀1モルに対して7×10-8モル、K
3OsCl6を8×10-6モル添加の存在下に、40℃で
pH3.0、銀電位(EAg)を165mVに保ちなが
ら硝酸銀水溶液と水溶性ハライド溶液を同時混合した。
このコア粒子に、EAgを食塩で125mVに下げて同
時混合法を用いてシェルを付けた。その際ハライド液に
2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7モル、K3
hCl6を9×10-8モル添加した。更に沃化銀微粒子
を用いてKIコンバージョンを行なった。
(Preparation of Emulsion A) Silver chlorobromide core particles having an average diameter of 0.09 μm and containing silver bromide and the remainder being silver bromide were prepared by the double-mixing method. At the time of mixing the core particles, K 3 Rh (N0) 4 (H 2 O) 2 was added in an amount of 7 × 10 −8 mol per mol of silver and 1 mol of silver at the end of grain formation.
A silver nitrate aqueous solution and a water-soluble halide solution were simultaneously mixed in the presence of 8 × 10 −6 mol of 3 OsCl 6 while maintaining the pH at 40 ° C. and the silver potential (EAg) at 165 mV.
The core particles were shelled using a double jet method with EAg reduced to 125 mV with saline. At this time, K 2 IrCl 6 was added to the halide solution in an amount of 3 × 10 −7 mol per mol of silver, and K 3 R
9 × 10 −8 mol of hCl 6 was added. Further, KI conversion was performed using silver iodide fine grains.

【0296】得られた乳剤は平均直径0.18μmのコ
ア/シェル型単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀
(塩化銀含有率70モル%、沃臭化銀含有率0.2モル
%、残りは臭化銀からなる)〔100〕面比率87%の
立方晶の乳剤であった。次いで特開平2−280139
号287(3)頁に記載の変性ゼラチンの例示化合物
(G−8)を使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で
190mVであった。
The resulting emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide having an average diameter of 0.18 μm (silver chloride content: 70 mol%, silver iodobromide content: 0.2 (Mole%, the remainder being silver bromide). A cubic emulsion having a [100] face ratio of 87%. Then, JP-A-2-280139
No. 287 (3), and the salt was desalted using the exemplified compound (G-8) of the modified gelatin. The EAg after desalting was 190 mV at 50 ° C.

【0297】更に塩化金酸、無機硫黄、二酸化チオ尿素
及び2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルフォ
スフィンセレニドで化学増感を行った後、本発明に係る
増感色素で610nm〜710nmに感光極大を有する
ように分光増感を施した。使用した増感色素の種類は表
1に示す。
Further, after chemical sensitization with chloroauric acid, inorganic sulfur, thiourea dioxide and 2,3,4,5,6-pentafluorophenylphosphine selenide, the sensitizing dye according to the present invention was used for 610 nm. Spectral sensitization was performed so as to have a photosensitive maximum at 7710 nm. Table 1 shows the types of sensitizing dyes used.

【0298】 (塗布液の調製) 1)ハレーション防止下塗り層塗布液A ゼラチン 2.5g/m2 カーボンブラック 0.5g/m2 平均粒径5μmのシリカ粉末 0.5g/m2 ホルムアルデヒド 0.2g/m2 本発明のアスコルビン酸類及び比較化合物 表1に示す量 クエン酸でpH4に調整する 2)乳剤層塗布液A 乳剤A 銀量が1.0g/m2、ゼラチン量が0.8g/m2になる量 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.05g/m2 2−メルカプト−5−エチル−1,3,4−オキサジアゾール 0.05g/m2 平均粒径1.5μmの単分散シリカ粉末 0.3g/m2 チオ硫酸ナトリウム 0.5g/m2 硬膜剤HA−1 0.1g/m2 クエン酸でpH4に調整する 3)バッキング層 ゼラチン 2.0g/m2 硬膜剤HA−1 0.2g/m2 平均粒径0.05μmのコロイダルシリカ 0.5g/m2 4)物理現像核層塗布液 PdS 0.1g/m2 カルボキシメチルセルロース 0.1g/m2 硬膜剤HA−2 0.1g/m2 (平版印刷版材料の製造)上記の下引き済みPEN支持
体の帯電防止下引き側に3)のバッキング層、その反対
側に支持体側から2)乳剤層塗布液と3)バッキング層
を、同時に塗布した。塗布後乾燥させ巻き取った。巻き
取った状態で40℃で5日間シーズニングを行った後
に、4)物理現像核層塗布液を塗布して乾燥させて製造
した。
(Preparation of Coating Solution) 1) Coating Solution A for Prevention of Halation Undercoat Layer Gelatin 2.5 g / m 2 Carbon black 0.5 g / m 2 Silica powder having an average particle diameter of 5 μm 0.5 g / m 2 Formaldehyde 0.2 g / m 2 this adjusted to pH4 with an amount of citric acid shown in ascorbic acids and Comparative compound table 1 invention 2) emulsion layer coating solution a emulsion a silver amount 1.0 g / m 2, the amount of gelatin 0.8 g / m monodisperse 2 to become the amount of 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.05 g / m 2 2-mercapto-5-ethyl-1,3,4-oxadiazole 0.05 g / m 2 average particle size 1.5μm Silica powder 0.3 g / m 2 Sodium thiosulfate 0.5 g / m 2 Hardener HA-1 Adjust to pH 4 with 0.1 g / m 2 citric acid 3) Backing layer Gelatin 2.0 g / m 2 Hardener HA-10 .2g / m 2 Average particle size 0.05μm colloidal silica 0.5 g / m 2 4) of the physical development nuclei layer coating solution PdS 0.1 g / m 2 carboxymethylcellulose 0.1 g / m 2 Hardener HA-2 0 1 g / m 2 (Preparation of lithographic printing plate material) 3) A backing layer on the antistatic undercoat side of the undercoated PEN support, and 2) an emulsion layer coating solution on the other side from the support side. A backing layer was applied at the same time. After the application, it was dried and wound up. After seasoning at 40 ° C. for 5 days in a wound state, 4) a physical development nucleus layer coating solution was applied and dried to produce a product.

【0299】(高温高湿下の保存のテスト)上記のよう
にして作成した平版印刷版材料を2つに分け、一方を高
温高湿下の保存テストとして、55℃80%RHで3日
間保管した。もう一方はノーマル条件として23℃48
%RHで3日間保管した。それぞれを露光して現像処理
後、下記に示す印刷性能評価を行った。
(Test of storage under high temperature and high humidity) The lithographic printing plate material prepared as described above was divided into two, and one of them was stored at 55 ° C. and 80% RH for 3 days as a storage test under high temperature and high humidity. did. The other is a normal condition of 23 ° C. 48
Stored at% RH for 3 days. After exposing and developing each, the following printing performance evaluation was performed.

【0300】(平版印刷版材料の露光)上記のようにし
て作成した平版印刷版材料は、650nmの半導体レー
ザーを搭載した日本サイテックス社製ドレブ800Vに
て300線の網点を5%の小点から5%刻みで95%ま
で露光を行い、CP−286S(三菱製紙(株)/大日
本スクリーン製造(株)社製)自動現像機で現像38
℃、15秒、中和処理38℃15秒処理した後、45℃
で乾燥した。
(Exposure of Lithographic Printing Plate Material) The lithographic printing plate material prepared as described above was obtained by using a Dreb 800V manufactured by Nippon Cytex equipped with a semiconductor laser of 650 nm to reduce halftone dots of 300 lines by 5%. Exposure to 95% in 5% increments from the point, and development using a CP-286S (Mitsubishi Paper Mills / Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd.) automatic developing machine 38
℃, 15 seconds, neutralization treatment 38 ℃ 15 seconds, then 45 ℃
And dried.

【0301】なお、現像液A、B及び中和液は下記のよ
うに調製したものを用いた。
The developing solutions A and B and the neutralizing solution were prepared as described below.

【0302】 〈現像液A〉 EDTA・2Na 1g 炭酸カリウム 10g 炭酸ナトリウム 15g 水酸化リチウム・1水塩 6g 無水亜硫酸ナトリウム 50g 2−アミノエチル−アミノエタノール 10g 1−フェニル−4−ヒドロキシメチル−4−メチル−3−ピラゾリドン (ジメゾンS) 2g 親油化剤:2−メルカプト−5−nヘプチルオキサジアゾール0.25g ヒドロキシフェニルステアリン酸(日本油脂(株)製、商標ノバアシッドP) 1g 水を加えて1Lとする。pHは9.8に調整。<Developer A> EDTA.2Na 1 g Potassium carbonate 10 g Sodium carbonate 15 g Lithium hydroxide monohydrate 6 g Anhydrous sodium sulfite 50 g 2-aminoethyl-aminoethanol 10 g 1-phenyl-4-hydroxymethyl-4-methyl -3-pyrazolidone (dimesone S) 2 g Lipophilic agent: 2-mercapto-5-n heptyl oxadiazole 0.25 g hydroxyphenylstearic acid (Nippon Oil & Fats Co., Ltd., trade name Novaacid P) 1 g Add water and add 1 L And pH adjusted to 9.8.

【0303】〈現像液B〉上記現像液Aにアスコルビン
酸A−40を6g添加した。
<Developer B> To the above developer A, 6 g of ascorbic acid A-40 was added.

【0304】 〈中和および感脂化液〉 リン酸 1.2g 第一リン酸ナトリウム 25g 無水亜硫酸ナトリウム 2.5g エチレングリコール 5g 親油化剤:2−メルカプト−5−nヘプチルオキサジアゾール 0.1g ジエタノールアミン 5g 水で1Lとする。pHは6に調整。<Neutralizing and sensitizing solution> Phosphoric acid 1.2 g Sodium monophosphate 25 g Anhydrous sodium sulfite 2.5 g Ethylene glycol 5 g Lipophilic agent: 2-mercapto-5-nheptyloxadiazole 1 g Diethanolamine 5 g Make up to 1 L with water. pH adjusted to 6.

【0305】(ランニングテスト)55℃、80%RH
で3日間保管した試料を用いて、前記の現像液を1m2
あたり180mlずつ補充しながら、全面露光した試料
100m2を前記の条件でランニング処理した。ランニ
ング開始時1枚目の試料と100m2ランニング終了時
の試料の性能を比較した。
(Running test) 55 ° C., 80% RH
In using a 3-day storage sample, the developer 1 m 2
A 100 m 2 sample that had been exposed on the entire surface was subjected to a running process under the above conditions while replenishing 180 ml per sample. The performance of the first sample at the start of running and the sample at the end of 100 m 2 running were compared.

【0306】(印刷性能の評価)現像処理して得られた
平版印刷版をオフセット印刷機に装着して下記の給湿液
を用いて、以下の条件で印刷を行った。
(Evaluation of Printing Performance) The planographic printing plate obtained by the development processing was mounted on an offset printing machine, and printing was performed under the following conditions using the following humidifying solution.

【0307】 〈給湿液〉 o−リン酸 10g 硝酸ニッケル 5g 亜硝酸ナトリウム 5g エチレングリコール 100g コロイダルシリカ(20%液) 28g 水を加えて1Lとする。<Humidifier> o-phosphoric acid 10 g nickel nitrate 5 g sodium nitrite 5 g ethylene glycol 100 g colloidal silica (20% solution) 28 g Water is added to make 1 L.

【0308】印刷機はエービーディック350CD
(A.B.Dick社製オフセット印刷機の商標)を使
用し、印刷をしていったときの非画線部の地汚れ及び5
%網点小点の欠落による画像飛びが生じて印刷物として
耐えられなくなったとき印刷枚数で、次の評価基準によ
り判定した。
The printing machine is AB Dick 350CD
(Trademark of offset printing machine manufactured by AB Dick Co., Ltd.).
When image skipping occurred due to lack of% dot and became unbearable as a printed matter, the number of printed sheets was judged according to the following evaluation criteria.

【0309】 A 30001枚以上 B 10001〜30000枚 C 5001〜10000枚 D 2001〜5000枚 E 2000枚以下 以上の結果を表1に示す。A 30001 or more B 10001 to 30000 C 5001 to 10,000 D 2001 to 5000 E 2000 or less The results are shown in Table 1.

【0310】[0310]

【表1】 [Table 1]

【0311】実施例2 実施例1で作成した試料101を用いて、現像液Aに本
発明に係るアスコルビン酸類及び比較化合物ハイドロキ
ノン(HQと略す)を添加した液を用いて、実施例と同
様にして評価した。結果を表2に示す。
Example 2 Using the sample 101 prepared in Example 1, a liquid obtained by adding the ascorbic acids according to the present invention and the comparative compound hydroquinone (abbreviated as HQ) to the developer A was used in the same manner as in Example. Was evaluated. Table 2 shows the results.

【0312】[0312]

【表2】 [Table 2]

【0313】実施例3 使用する乳剤を下記乳剤Bに、ハレーション防止下塗り
層塗布液を下記ハレーション防止下塗り層塗布液Bに、
乳剤層塗布液を下記乳剤層塗布液Bにする以外は実施例
1と同様にして評価を行った。結果を表3に示す。
Example 3 The emulsion to be used was used in the following emulsion B, and the antihalation undercoat layer coating solution was used in the following antihalation undercoat layer coating solution B.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the emulsion layer coating solution was changed to the following emulsion layer coating solution B. Table 3 shows the results.

【0314】(乳剤Bの調製)同時混合法を用いて塩化
銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残りは臭化銀から
なる平均厚み0.05μm、平均直径0.15μmの塩
沃臭化銀コア粒子を調製した。混合時にK3Rh(H
2O)Br5を銀1モル当たり2×10-8モル添加した。
このコア粒子に同時混合法を用いてシェルを付けた。そ
の際K2IrCl6を銀1モル当たり3×10-7モル添加
した。
(Preparation of Emulsion B) A salt composed of 60 mol% of silver chloride, 2.5 mol% of silver iodide, and the balance of silver bromide having an average thickness of 0.05 μm and an average diameter of 0.15 μm was obtained by a double jet method. Silver iodobromide core grains were prepared. When mixing, K 3 Rh (H
2 O) Br 5 was added 2 × 10 -8 mole per silver mole.
The core particles were shelled using a double jet method. At that time, 3 × 10 −7 mol of K 2 IrCl 6 was added per mol of silver.

【0315】得られた乳剤は平均厚み0.05μm、平
均直径0.25μmのコア/シェル型単分散(変動係数
10%)の塩沃臭化銀(塩化銀70モル%、沃化銀0.
5モル%、残りは臭化銀からなる)平板状粒子乳剤であ
った。次いで乳剤Aと同様に脱塩した。脱塩後のEAg
は50℃で180mVであった。
The resulting emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide (average thickness: 0.05 μm, average diameter: 0.25 μm).
(5 mol%, the balance consisting of silver bromide). Then, desalting was carried out in the same manner as in Emulsion A. EAg after desalination
Was 180 mV at 50 ° C.

【0316】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当
たり1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン
酸を添加してpH5.6、EAg123mVに調整し
て、塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,
N′−トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を
3×10-5モル添加して温度60℃で最高感度が出るま
で化学熟成を行った。
To the obtained emulsion, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene was added at 1 × 10 -3 mol per mol of silver, and potassium bromide and citric acid were further added. The pH was adjusted to 5.6 and the EAg to 123 mV, and 2 × 10 −5 mol of chloroauric acid was added.
N'-trimethyl-N'-heptafluoroselenourea was added in an amount of 3 × 10 -5 mol and chemically ripened at a temperature of 60 ° C. until the maximum sensitivity was obtained.

【0317】熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3a,7−テトラザインデンを銀1モル当たり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
After aging, 4-hydroxy-6-methyl-
1,3,3a, 7-Tetrazaindene was added in an amount of 2 × 10 −3 mol per mol of silver, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole was added in an amount of 3 × 10 −4 mol, and gelatin was added.

【0318】更に、本発明に係る増感色素で610nm
〜710nmに感光極大を有するように分光増感を施し
た。使用した増感色素の種類は表3に示す。
Further, the sensitizing dye according to the present invention was used at 610 nm.
Spectral sensitization was performed so as to have a photosensitive maximum at 7710 nm. Table 3 shows the types of sensitizing dyes used.

【0319】 〈ハレーション防止下塗り層塗布液B〉 ゼラチン 2.5g/m2 カーボンブラック 0.5g/m2 平均粒径5μmのシリカ粉末 0.5g/m2 ホルムアルデヒド 0.2g/m2 クエン酸でpH4に調整する ハレーション防止下塗り層塗布液Cはハレーション防止
下塗り層塗布液Bにアスコルビン酸類A−45 0.1
g/m2を添加した。
<Coating solution B for antihalation undercoat layer> Gelatin 2.5 g / m 2 Carbon black 0.5 g / m 2 Silica powder having an average particle size of 5 μm 0.5 g / m 2 Formaldehyde 0.2 g / m 2 Citric acid The antihalation undercoat layer coating liquid C adjusted to pH 4 is prepared by adding ascorbic acids A-45 0.1 to the antihalation undercoat layer coating liquid B.
g / m 2 were added.

【0320】 〈乳剤層塗布液B〉 乳剤B 銀量が0.9g/m2、ゼラチン量が0.7g/m2になる量 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 0.04g/m2 2−メルカプト−5−エチル−1,3,4−オキサジアゾール 0.05g/m2 平均粒径1.5μmの単分散シリカ粉末 0.3g/m2 チオ硫酸ナトリウム 0.5g/m2 ヒドラジン誘導体 表3に示す量 造核促進剤AP−1 0.05g/m2 造核促進剤AP−2 0.05g/m2 硬膜剤HA−1 0.1g/m2 クエン酸でpH4に調整する。<Emulsion Layer Coating Solution B> Emulsion B An amount in which the amount of silver is 0.9 g / m 2 and the amount of gelatin is 0.7 g / m 2 1-phenyl-5-mercaptotetrazole 0.04 g / m 2 2- monodisperse silica powder 0.3 g / m 2 sodium thiosulfate 0.5 g / m 2 hydrazine derivative sulfate mercapto-5-ethyl-1,3,4-oxadiazole 0.05 g / m 2 average particle size 1.5μm table in an amount nucleation accelerator AP-1 0.05g / m 2 nucleation accelerator AP-2 0.05g / m 2 hardener HA-1 0.1g / m 2 of citric acid shown in 3 is adjusted to pH 4.

【0321】なお、現像液は現像液Aを用いた。Incidentally, the developing solution A was used.

【0322】[0322]

【表3】 [Table 3]

【0323】実施例4 実施例3で作成した試料306を用いて、現像液Bで処
理したところ、実施例3の試料306の結果と同等に良
好な結果が得られた。更に本試料は刷り初めから安定し
た印刷画像が得られた。
Example 4 The sample 306 prepared in Example 3 was treated with the developing solution B. As a result, as good as the result of the sample 306 in Example 3 was obtained. Further, a stable printed image was obtained from the beginning of printing.

【0324】[0324]

【発明の効果】本発明によれば、銀錯塩拡散転写法を利
用して平版印刷版を形成する材料を、レーザーやLED
による露光向けに分光増感して、優れた平版印刷版を得
ることができる。
According to the present invention, a material for forming a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method is a laser or an LED.
Lithographic printing plate can be obtained by performing spectral sensitization for exposure by the above method.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 610nmから710nmに感光極大を
有し、構成層中にアスコルビン酸類を含有し、銀錯塩拡
散転写法を利用して平版印刷版を形成することを特徴と
する平版印刷版材料。
1. A lithographic printing plate material having a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm, containing ascorbic acids in a constituent layer, and forming a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method.
【請求項2】 610nmから710nmに感光極大を
有し、銀錯塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成す
る平版印刷版材料の現像処理を、アスコルビン酸類の存
在下で行うことを特徴とする平版印刷版材料の現像処理
方法。
2. A lithographic printing plate material having a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm and forming a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method is subjected to a developing treatment in the presence of ascorbic acids. Lithographic printing plate material developing method.
【請求項3】 610nmから710nmに感光極大を
有し、銀錯塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成す
る平版印刷版材料を、アスコルビン酸類を含有する処理
液で現像処理することを特徴とする平版印刷版材料の現
像処理方法。
3. A lithographic printing plate material which has a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm and forms a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method is developed with a processing solution containing ascorbic acids. Lithographic printing plate material.
【請求項4】 610nmから710nmに感光極大を
有し、構成層中にヒドラジン誘導体を含有し、銀錯塩拡
散転写法を利用して平版印刷版を形成することを特徴と
する平版印刷版材料。
4. A lithographic printing plate material having a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm, containing a hydrazine derivative in a constituent layer, and forming a lithographic printing plate by using a silver complex salt diffusion transfer method.
【請求項5】 610nmから710nmに感光極大を
有し、銀錯塩拡散転写法を利用して平版印刷版を形成す
る平版印刷版材料の現像処理を、ヒドラジン誘導体の存
在下で行うことを特徴とする平版印刷版材料の現像処理
方法。
5. A lithographic printing plate material which has a photosensitive maximum at 610 nm to 710 nm and forms a lithographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer method is subjected to a developing treatment in the presence of a hydrazine derivative. Lithographic printing plate material developing method.
【請求項6】 現像処理を更にヒドラジン誘導体の存在
下で行うことを特徴とする請求項2又は3に記載の平版
印刷版材料の現像処理方法。
6. The method for developing a lithographic printing plate material according to claim 2, wherein the developing treatment is further performed in the presence of a hydrazine derivative.
【請求項7】 現像処理液が0.1モル/L以上の炭酸
塩を含有することを特徴とする請求項2、3、5又は6
に記載の平版印刷版材料の現像処理方法。
7. The developing solution according to claim 2, wherein the developing solution contains 0.1 mol / L or more of a carbonate.
3. The method for developing a lithographic printing plate material according to item 1.
【請求項8】 実質的にハイドロキノンを含有しない処
理液を用いることを特徴とする請求項2、3、5、6又
は7に記載の平版印刷版材料の現像処理方法。
8. The method for developing a lithographic printing plate material according to claim 2, wherein a processing liquid containing substantially no hydroquinone is used.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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