JP2000122070A - Device for producing liquid crystal display element and method for production - Google Patents

Device for producing liquid crystal display element and method for production

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JP2000122070A
JP2000122070A JP10298847A JP29884798A JP2000122070A JP 2000122070 A JP2000122070 A JP 2000122070A JP 10298847 A JP10298847 A JP 10298847A JP 29884798 A JP29884798 A JP 29884798A JP 2000122070 A JP2000122070 A JP 2000122070A
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JP
Japan
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powder
liquid crystal
crystal display
display element
spacer
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JP10298847A
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Japanese (ja)
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Takahiro Horiuchi
貴洋 堀内
Shiro Narukawa
志郎 成川
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To disperse spacers with certainty in a desired area of a liq. crystal display element by a highly versatile method. SOLUTION: A read-out member 2 successively read out the array pattern of the black matrix of a liq. crystal display element L brought into a production device 1. When the liq. crystal display element L passes under a counter electrode 5, voltage is applied to electrodes 4a... of a powder control member 4 selected on the basis of information relating to the array pattern fed back from the read-out member 2, and spacers supplied from a powder electrifier 3 fly toward the liq. crystal display element L and are adsorbed there. By controlling the flight of the spacers on the basis of the read-out information on the array pattern synchronously with the transit of a certain array pattern under the counter electrode 5, the spacers can be exactly dispersed on the black matrix.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の製
造装置および製造方法に係り、特にスペーサーとしての
粉体粒子(微粒子)の散布装置および散布方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a liquid crystal display device, and more particularly to an apparatus and a method for dispersing powder particles (fine particles) as spacers.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、液晶表示素子においては液晶層
の厚みを制御するためにスペーサーが挿入される。スペ
ーサーは液晶層全域にランダムに挿入されるため、画像
表示領域に存在するものは画像品質に影響を与える。従
って、画像品質を損なわないような散布方法が提案され
ている。
2. Description of the Related Art Generally, in a liquid crystal display device, a spacer is inserted to control the thickness of a liquid crystal layer. Since the spacers are inserted randomly over the entire liquid crystal layer, those present in the image display area affect the image quality. Therefore, a dispersing method that does not impair the image quality has been proposed.

【0003】その一例として、特開平6−67184号
公報に開示されたスペーサーの散布方法を図78および
図79を用いて説明する。図78は、スペーサーを画像
表示領域外に相当する箇所に設けた電極に電気的に吸着
させることにより上記散布方法を実現しようとするもの
である。まず同図(a)に示すようなストライプ状の電
極202が設けられた基板201に対し、同図(b)に
示すように電極202と基板201との間に電位差を与
えて帯電領域を形成する。次いで、イオンフローなどに
より基板201側と逆極性に帯電させたスペーサー20
3を基板201上に散布し、同図(c)に示すように静
電引力を利用して電極202にのみ選択吸着させる。そ
して、同図(d)に示すように対向基板204を基板2
01に重ね合わせ、シール材205で互いを接着する。
As an example, a method of distributing spacers disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-67184 will be described with reference to FIGS. 78 and 79. FIG. FIG. 78 is intended to realize the above-described spraying method by electrically adsorbing the spacer to an electrode provided at a position outside the image display area. First, a charged region is formed by applying a potential difference between the electrode 202 and the substrate 201 on the substrate 201 provided with the stripe-shaped electrodes 202 as shown in FIG. I do. Next, the spacer 20 charged to the opposite polarity to the substrate 201 side by ion flow or the like.
3 is sprayed on the substrate 201 and selectively attracted only to the electrode 202 using electrostatic attraction as shown in FIG. Then, as shown in FIG.
01, and are adhered to each other with a sealing material 205.

【0004】また、図79は、感光体原盤の画像表示領
域外に相当する箇所に静電潜像を形成し、その領域にス
ペーサーを電気的に吸着させることにより上記散布方法
を実現しようとするものである。まず同図(a)に示す
ような感光体原盤206に選択的に光照射を行って、同
図(b)に示すようなストライプ状の帯電パターン20
7を形成する。次に、同図(c)に示すように感光体原
盤上206にガラスなどからなる基板201を積層す
る。そして、イオンフローなどにより感光体原盤206
側と逆極性に帯電させたスペーサー203を基板上に散
布すると、同図(d)に示すように帯電パターン207
に対応してガラス上に形成された帯電領域にスペーサー
203が選択吸着する。最後に、同図(e)に示すよう
に対向基板204を基板201に重ね合わせ、シール材
205で互いを接着する。
In FIG. 79, an electrostatic latent image is formed at a position corresponding to the area outside the image display area of the photoreceptor master, and the spacer is electrically attracted to the area to realize the above-described spraying method. Things. First, light is selectively irradiated to the photoreceptor master 206 as shown in FIG. 6A to form a stripe-shaped charging pattern 20 as shown in FIG.
7 is formed. Next, as shown in FIG. 4C, a substrate 201 made of glass or the like is laminated on the photoreceptor master 206. Then, the photoreceptor master 206
When the spacer 203 charged to the opposite polarity to the side is sprayed on the substrate, as shown in FIG.
The spacer 203 selectively adheres to the charged region formed on the glass in response to the above. Finally, the opposing substrate 204 is overlaid on the substrate 201 as shown in FIG.

【0005】また、散布に際してスペーサーを安定に帯
電および供給することが要求されるが、これを実現しよ
うとしたものとして特開平6−34982号公報に開示
された方法がある。この方法について、図80を用いて
説明する。ガスタンク211から直流高電圧が印加され
たイオン化装置212にガスを通して帯電させ、これを
絶縁体圧送ホース213に送り出す。同時に、秤量部2
14で所定量に秤量したスペーサーをマニホールド21
5に供給する。マニホールド215に送られたスペーサ
ー218は、帯電したガスと合流して同一極性に帯電し
た後ノズル216に至り、ここでさらに絶縁体撹拌ホー
ス217を通して送られた帯電したガスと合流する。そ
して、ノズル216で撹拌されて分散したスペーサー2
18はチャンバ219内に噴出し、底部に置かれた液晶
表示素子基板220上に散布される。
[0005] In addition, it is required to stably charge and supply the spacer at the time of spraying. To achieve this, there is a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-34982. This method will be described with reference to FIG. The gas is charged from the gas tank 211 to the ionizer 212 to which the DC high voltage is applied, and is charged to the insulator pressure feeding hose 213. At the same time, weighing section 2
The spacer weighed to a predetermined amount in the manifold 21
5 The spacer 218 sent to the manifold 215 joins the charged gas and is charged to the same polarity, and then reaches the nozzle 216, where it joins the charged gas sent through the insulator stirring hose 217. Then, the spacer 2 dispersed by being stirred by the nozzle 216
18 is sprayed into the chamber 219 and is sprayed on the liquid crystal display element substrate 220 placed on the bottom.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
6−67184号公報のように基板201上に電極20
2を形成し、電界によりスペーサー203を飛翔させる
方法では、実際は電極202以外にもスペーサー203
が付着してしまい、不完全な選択吸着となる。
However, as disclosed in JP-A-6-67184, the electrode 20
2 is formed and the spacer 203 is caused to fly by an electric field.
Adheres, resulting in incomplete selective adsorption.

【0007】加えて、この方法では、基板201上にカ
ラーフィルターおよびブラックマトリックスを配し、そ
の上に透明電極を全面に形成した構成の液晶表示素子に
対しては、ブラックマトリックスに電圧を印加した際に
その上にある透明電極の電位がフローティングとなり、
スペーサーを飛翔させる電界の制御ができない。また、
感光体原盤206を用いて静電潜像を形成し、基板20
1と重ね合わせる方式では、基板201が薄いものに限
定され汎用性がない。
In addition, in this method, a voltage is applied to the black matrix for a liquid crystal display device having a structure in which a color filter and a black matrix are arranged on the substrate 201 and a transparent electrode is formed on the entire surface. At that time, the potential of the transparent electrode on it becomes floating,
Inability to control the electric field that causes the spacer to fly. Also,
An electrostatic latent image is formed using the photoreceptor master 206 and the substrate 20
In the method of superimposing on the substrate 1, the substrate 201 is limited to a thin one and has no versatility.

【0008】このように、従来の散布方法では、スペー
サーの正確な散布位置制御を行うことができず、散布対
象の素子構造が限定されて汎用性に欠けるという問題が
ある。
As described above, in the conventional spraying method, it is not possible to accurately control the spraying position of the spacer, and there is a problem in that the element structure to be sprayed is limited and lacks versatility.

【0009】また、特開平6−34982号公報のよう
にスペーサー218をイオン化した気体と混合して帯電
させようとしても、気体との混合によって全てのスペー
サー218を帯電させることは困難である。その上、ス
ペーサー218の供給量を決定するのに、スペーサー2
18の1ショットごとにmg単位で正確な秤量が必要と
なるので、プロセスに精密さが要求され、実用的でな
い。
Further, even if it is attempted to charge the spacer 218 by mixing it with an ionized gas as disclosed in JP-A-6-34982, it is difficult to charge all the spacers 218 by mixing with the gas. In addition, the spacer 2 is used to determine the supply amount.
Since accurate weighing in mg units is required for every 18 shots, the process requires precision and is not practical.

【0010】このように、従来の散布方法では、前述の
問題に加え、安定かつ容易なスペーサーの帯電および供
給を行うことができないという問題がある。
As described above, the conventional spraying method has a problem that, in addition to the above-mentioned problems, stable and easy charging and supply of the spacer cannot be performed.

【0011】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、汎用性の高い方法でスペ
ーサーを液晶表示素子上の所望の領域に確実に散布する
ことのできる液晶表示素子の製造装置および製造方法を
提供することにある。また、他の目的は、上記のように
散布するスペーサーの安定かつ容易な帯電および供給を
可能にする液晶表示素子の製造装置および製造方法を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to provide a liquid crystal capable of reliably dispersing spacers to a desired region on a liquid crystal display element by a highly versatile method. An object of the present invention is to provide an apparatus and a method for manufacturing a display element. Another object of the present invention is to provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a liquid crystal display element which enable stable and easy charging and supply of the spacers to be dispersed as described above.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の液
晶表示素子の製造装置は、上記課題を解決するために、
液晶層のスペーサーとなる粉体を帯電させる粉体帯電手
段と、上記粉体帯電手段によって帯電した上記粉体を飛
翔させて、上記液晶層が形成される液晶表示素子上に散
布する粉体飛翔手段とを有する液晶表示素子の製造装置
において、上記液晶表示素子の素子パターンを判別する
パターン判別手段を有し、上記粉体飛翔手段は、上記パ
ターン判別手段による上記素子パターンの判別結果に基
づいて上記粉体を上記液晶表示素子上の選択した領域に
散布することを特徴としている。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element,
A powder charging means for charging a powder serving as a spacer of the liquid crystal layer; and a powder flying on the liquid crystal display element on which the liquid crystal layer is formed by flying the powder charged by the powder charging means. Means for manufacturing a liquid crystal display element having means for determining the element pattern of the liquid crystal display element, wherein the powder flying means is based on a result of the element pattern determination by the pattern determination means. The method is characterized in that the powder is sprayed on a selected area on the liquid crystal display element.

【0013】上記の発明によれば、搬入される液晶表示
素子に対して、パターン判別手段が素子パターンを読み
取って画像処理したり、外部から素子パターンの情報を
受け取ったりするなどして素子パターンを判別する。そ
して、その判別結果に基づき、粉体飛翔手段が粉体を液
晶表示素子上の選択した領域、すなわち素子パターンの
中の目標となる領域に散布する。
According to the above invention, the pattern determining means reads the element pattern and performs image processing on the incoming liquid crystal display element, or receives information on the element pattern from the outside to change the element pattern. Determine. Then, based on the determination result, the powder flying means scatters the powder to a selected area on the liquid crystal display element, that is, a target area in the element pattern.

【0014】従って、個々の液晶表示素子に対し、その
素子パターンに応じて粉体の飛翔が制御されるので、汎
用性の高い方法でスペーサーを液晶表示素子上の所望の
領域に確実に散布することのできる液晶表示素子の製造
装置を提供することができる。
Therefore, the flying of the powder is controlled for each liquid crystal display element in accordance with the element pattern, so that the spacers are surely sprayed to a desired area on the liquid crystal display element by a highly versatile method. And a manufacturing apparatus for a liquid crystal display device that can perform the method.

【0015】請求項2に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項1に記載の
液晶表示素子の製造装置において、上記パターン判別手
段は上記液晶表示素子に設けられたブラックマトリック
スの配列パターンを読み取る読み取り手段を有するとと
もに上記読み取り手段による読み取り結果に基づいて上
記素子パターンを判別し、上記粉体飛翔手段は上記ブラ
ックマトリックスの上方の領域に上記粉体を散布するこ
とを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention, wherein the pattern determining means is provided on the liquid crystal display element. A reading means for reading an array pattern of the provided black matrix is provided, and the element pattern is determined based on a result of reading by the reading means. The powder flying means sprays the powder on an area above the black matrix. It is characterized by doing.

【0016】上記の発明によれば、パターン判別手段
は、例えば光学的な読み取り装置などの読み取り手段を
有しており、それにより液晶表示素子のブラックマトリ
ックスの配列パターンを読み取って判別する。粉体飛翔
手段は、判別したブラックマトリックスの配列パターン
に基づいてそのブラックマトリックスの上方に位置する
液晶層形成領域に粉体を散布する。
According to the above invention, the pattern determining means has a reading means such as an optical reading device, and reads and determines the arrangement pattern of the black matrix of the liquid crystal display element. The powder flying means scatters the powder to a liquid crystal layer forming region located above the black matrix based on the determined arrangement pattern of the black matrix.

【0017】従って、ブラックマトリックスの上方の領
域にスペーサーを正確に散布することができ、高品質の
表示画像が得られる。
Therefore, the spacers can be accurately spread over the area above the black matrix, and a high quality display image can be obtained.

【0018】請求項3に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項1または2
に記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体飛
翔手段は上記判別結果に基づいた電圧が各々に印加され
ることにより上記粉体を選択的に飛翔させる複数の電極
を有し、所定の電圧が印加されることにより上記粉体飛
翔手段との間に電界を形成して上記粉体を上記液晶表示
素子上へ導く対向電極が上記粉体飛翔手段に対向するよ
うに設けられていることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the first or second aspect.
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the above, the powder flying means has a plurality of electrodes for selectively flying the powder by applying a voltage based on the determination result to each, a predetermined An opposing electrode for forming an electric field between the powder flying means by applying a voltage to guide the powder onto the liquid crystal display element is provided so as to face the powder flying means. It is characterized by.

【0019】上記の発明によれば、粉体飛翔手段におけ
る複数の電極の各々に液晶表示素子の素子パターンに応
じた電圧が印加され、また対向電極に所定の電圧が印加
されることにより、粉体飛翔手段の電極と対向電極との
間に電界が形成される。粉体は粉体飛翔手段の電極に印
加された電圧により選択的に飛翔し、粉体飛翔手段を通
過した粉体は粉体飛翔手段の電極と対向電極との間に形
成された電界により液晶表示素子上の所定の領域に散布
される。
According to the invention, a voltage corresponding to the element pattern of the liquid crystal display element is applied to each of the plurality of electrodes in the powder flying means, and a predetermined voltage is applied to the opposing electrode, so that the powder is dispersed. An electric field is formed between the electrode of the body flying means and the counter electrode. The powder selectively flies by the voltage applied to the electrode of the powder flying means, and the powder that has passed through the powder flying means changes the liquid crystal by the electric field formed between the electrode of the powder flying means and the counter electrode. It is spread over a predetermined area on the display element.

【0020】従って、粉体帯電手段によって帯電した粉
体を効率よく液晶表示素子上の目的の領域に散布するこ
とができる。
Therefore, the powder charged by the powder charging means can be efficiently scattered to the target area on the liquid crystal display device.

【0021】請求項4に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項3に記載の
液晶表示素子の製造装置において、上記対向電極は、上
記液晶表示素子に設けられた透明電極および上記ブラッ
クマトリックスのうち上記粉体飛翔手段に近い方である
ことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the third aspect, wherein the counter electrode is provided on the liquid crystal display element. The transparent electrode and the black matrix provided are characterized by being closer to the powder flying means.

【0022】上記の発明によれば、液晶表示素子に設け
られた透明電極およびブラックマトリックスのうち粉体
飛翔手段の電極に近い方を対向電極とする。これによ
り、粉体飛翔手段の電極と対向電極との間に導体が介在
することがないので、粉体を飛翔させる電界を確実に形
成することができる。
According to the above invention, of the transparent electrode and the black matrix provided on the liquid crystal display element, the one closer to the electrode of the powder flying means is the counter electrode. Thus, since no conductor is interposed between the electrode of the powder flying means and the counter electrode, an electric field for flying the powder can be reliably formed.

【0023】請求項5に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項3または4
に記載の液晶表示素子の製造装置において、上記パター
ン判別手段は、上記液晶表示素子上の上記粉体の散布状
態を読み取る散布状態読み取り手段をさらに有し、上記
散布状態読み取り手段による読み取り結果に基づいて以
降の散布に際し上記粉体飛翔手段の各々の電極への印加
電圧を変更することを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the third or fourth aspect of the present invention.
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the above, the pattern determining means further includes a scattered state reading means for reading a scattered state of the powder on the liquid crystal display element, and based on a result of reading by the scattered state reading means. In the subsequent spraying, the voltage applied to each electrode of the powder flying means is changed.

【0024】上記の発明によれば、粉体飛翔手段の電極
および対向電極によって液晶表示素子上に散布された粉
体の散布状態が、散布状態読み取り手段によって読み取
られる。そして、散布状態を読み取った結果、粉体が所
定の位置からずれているような場合には、以降の液晶表
示素子に粉体を散布するにあたり、適切に散布されるよ
う上記読み取り結果に基づいて粉体飛翔手段の各々の電
極に印加する電圧を変更する。
According to the invention, the scattered state of the powder scattered on the liquid crystal display element by the electrode of the powder flying means and the counter electrode is read by the scattered state reading means. Then, as a result of reading the scattered state, if the powder is deviated from a predetermined position, when the powder is scattered to the subsequent liquid crystal display element, based on the read result, the powder is appropriately scattered. The voltage applied to each electrode of the powder flying means is changed.

【0025】このように、粉体の散布状態を電極にフィ
ードバックすることで、散布状態が所望の状態からずれ
たとしても適切に補正することができる。
As described above, by feeding back the state of dispersion of powder to the electrodes, even if the state of dispersion is deviated from a desired state, it is possible to appropriately correct the state.

【0026】請求項6に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項1ないし5
のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置において、
上記粉体帯電手段は、イオンを発生するイオン発生部
と、内部に保有した上記粉体に上記イオン発生部によっ
て発生したイオンを照射することにより、上記粉体を帯
電させて上記粉体飛翔手段に供給する粉体供給部とを有
することを特徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the first to fifth aspects.
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of
The powder charging means is an ion generating section for generating ions, and the powder held inside is irradiated with ions generated by the ion generating section, thereby charging the powder and the powder flying means. And a powder supply unit for supplying the powder to the apparatus.

【0027】上記の発明によれば、イオン発生部によっ
て発生したイオンが粉体供給部内に保有した粉体に照射
され、粉体は照射の際にイオンの電荷が付与されること
により帯電する。帯電した粉体はイオン照射の反跳で運
動エネルギーを得るなどしてクラウド状になり、粉体供
給部から粉体飛翔手段へ向かって供給される。
According to the above invention, the ions generated by the ion generating section are irradiated on the powder held in the powder supply section, and the powder is charged by the charge of the ions during the irradiation. The charged powder becomes cloud-like by obtaining kinetic energy by recoil of ion irradiation, and is supplied from the powder supply unit to the powder flying means.

【0028】このように、イオン照射によって粉体を帯
電して粉体飛翔手段に供給するため、粉体が確実に帯電
して供給形態に適したクラウド状になるとともに、イオ
ン照射が粉体に対して均一に行われるようにすることに
より、粉体の均一な帯電と供給とが得られる。
As described above, since the powder is charged by the ion irradiation and supplied to the powder flying means, the powder is reliably charged to form a cloud shape suitable for the supply form, and the ion irradiation is applied to the powder. In this case, uniform charging and supply of the powder can be obtained.

【0029】この結果、粉体を安定して帯電および供給
することのできる液晶表示素子の製造装置を提供するこ
とができる。
As a result, it is possible to provide an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element capable of stably charging and supplying powder.

【0030】請求項7に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項6に記載の
液晶表示素子の製造装置において、上記粉体供給部は導
電性材料からなる底部に上記粉体の集合体である粉体溜
まりを保有した容器であり、上記イオン発生部は上記粉
体供給部の上記底部以外の側壁に設けられ、上記粉体供
給部は上記イオン発生部によって発生したイオンを上記
イオン発生部と上記底部との間に形成した電界によって
上記粉体溜まりに照射することにより、上記粉体を帯電
させて上記粉体溜まりから上記粉体飛翔手段に向けて放
出することを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the sixth aspect, wherein the powder supply section is made of a conductive material. A powder reservoir which is an aggregate of the powder at a bottom portion, wherein the ion generating portion is provided on a side wall other than the bottom portion of the powder supply portion, and the powder supply portion is the ion generating portion. By irradiating the ions generated by the portion with the electric field formed between the ion generating portion and the bottom portion to the powder reservoir, the powder is charged and directed from the powder reservoir toward the powder flying means. It is characterized by being released.

【0031】上記の発明によれば、粉体供給部は導電性
材料からなる底部を有した容器であり、イオン発生部は
粉体供給部の底部以外の側壁に設けられる。イオン発生
部によって発生したイオンは、底部との間に形成される
電界によって加速され、底部に保有した粉体溜まりに照
射される。このイオン照射により、帯電した粉体が粉体
溜まりから放出され、クラウド状になって粉体飛翔手段
に供給される。
According to the above invention, the powder supply unit is a container having a bottom made of a conductive material, and the ion generation unit is provided on a side wall other than the bottom of the powder supply unit. The ions generated by the ion generating unit are accelerated by an electric field formed between the ion generating unit and the bottom, and are irradiated to the powder pool held at the bottom. By this ion irradiation, the charged powder is released from the powder pool, and is supplied to the powder flying means in the form of a cloud.

【0032】このように、イオン発生部によって発生し
たイオンの加速軌道上に粉体溜まりが位置するので、イ
オンが効率よく粉体に照射され、それだけ粉体を効率よ
く帯電させてクラウド状にすることができる。
As described above, since the powder pool is located on the acceleration trajectory of the ions generated by the ion generating section, the ions are efficiently irradiated onto the powder, and the powder is charged efficiently to form a cloud. be able to.

【0033】請求項8に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項6または7
に記載の液晶表示素子の製造装置において、上記イオン
発生部に、上記粉体供給部の上記粉体溜まりから放出さ
れ上記イオン発生部内に侵入しようとする上記粉体を上
記粉体供給部内へ押し戻す粉体侵入阻止部材が設けられ
ていることを特徴としている。
An eighth aspect of the present invention is directed to an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the sixth or seventh aspect.
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the above, the powder emitted from the powder reservoir of the powder supply unit and about to enter the ion generation unit is pushed back into the powder supply unit. A powder intrusion prevention member is provided.

【0034】上記の発明によれば、イオン照射によって
粉体溜まりから向けて放出された粉体は、粉体飛翔手段
に向かう途中で一部イオン発生部内に侵入する可能性が
あるので、侵入しようとする粉体を粉体侵入阻止部材に
よって粉体供給部内へ押し戻すようにする。
According to the above invention, the powder discharged from the powder reservoir by ion irradiation may partially enter the ion generating section on the way to the powder flying means. Is pressed back into the powder supply unit by the powder intrusion prevention member.

【0035】これにより、イオン発生部材内に粉体が付
着して汚染が発生するのを防止することができる。
Thus, it is possible to prevent the powder from adhering to the inside of the ion generating member and causing contamination.

【0036】請求項9に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、上記課題を解決するために、請求項6ないし8
のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置において、
上記粉体供給部に、上記粉体溜まりを撹拌する撹拌部材
が設けられていることを特徴としている。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the sixth to eighth aspects.
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of
The powder supply section is provided with a stirring member for stirring the powder reservoir.

【0037】上記の発明によれば、粉体溜まりを撹拌部
材で撹拌することにより、粉体溜まりの中の粉体を均等
に使用して古い粉体がいつまでも残らないようにするこ
とができるので、安定した粉体散布プロセスを行うこと
ができる。
According to the above invention, since the powder pool is agitated by the agitating member, the powder in the powder pool can be used evenly and the old powder can be prevented from remaining forever. A stable powder spraying process can be performed.

【0038】請求項10に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項6ないし
9のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置におい
て、上記粉体供給部に、上記粉体溜まりに振動を与える
振動部材が設けられていることを特徴としている。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the sixth to ninth aspects, wherein the powder supply unit is provided. In addition, a vibration member for providing vibration to the powder reservoir is provided.

【0039】上記の発明によれば、粉体溜まりに振動を
与えることにより、粉体溜まりの上面を平坦にして粉体
を均一に分散させることができるので、安定した粉体散
布プロセスを行うことができる。
According to the above-mentioned invention, by applying vibration to the powder reservoir, the upper surface of the powder reservoir can be flattened and the powder can be uniformly dispersed. Can be.

【0040】請求項11に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項6ないし
10のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置におい
て、上記粉体供給部に、上記粉体飛翔手段に供給する上
記粉体の粒子径を検知する粒子径検知部材が設けられて
いることを特徴としている。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the sixth to tenth aspects, wherein the powder supply unit is provided. A particle size detecting member for detecting a particle size of the powder supplied to the powder flying means.

【0041】上記の発明によれば、飛翔制御手段に供給
する前に粉体の粒子径を検知するので、検知結果に基づ
いて所望の粒子径になるように制御したり、所望の粒子
径が得られた場合のみ粉体を粉体飛翔手段に供給したり
することで、安定した粉体散布プロセスを行うことがで
きる。
According to the above invention, the particle diameter of the powder is detected before the powder is supplied to the flight control means, so that the particle diameter of the powder is controlled based on the detection result, or the desired particle diameter is controlled. By supplying the powder to the powder flying means only when it is obtained, a stable powder spraying process can be performed.

【0042】請求項12に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項6ないし
11のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置におい
て、上記粉体供給部に、上記粉体飛翔手段に供給する上
記粉体の粒子濃度を検知する粒子濃度検知部材が設けら
れていることを特徴としている。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the sixth to eleventh aspects. And a particle concentration detecting member for detecting the particle concentration of the powder supplied to the powder flying means.

【0043】上記の発明によれば、粉体飛翔手段に供給
する前に粉体の粒子濃度を検知するので、検知結果に基
づいて所望の粒子濃度になるように制御したり、所望の
粒子濃度が得られた場合のみ粉体を粉体飛翔手段に供給
したりすることで、安定した粉体散布プロセスを行うこ
とができる。
According to the above-mentioned invention, the particle concentration of the powder is detected before the powder is supplied to the powder flying means. By supplying the powder to the powder flying means only when is obtained, a stable powder dispersion process can be performed.

【0044】請求項13に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項6ないし
12のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置におい
て、上記粉体供給部に、上記粉体溜まりの残量を検知す
る残量検知部材が設けられていることを特徴としてい
る。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element manufacturing apparatus according to any one of the sixth to twelfth aspects, wherein the powder supply unit is provided. And a remaining amount detecting member for detecting the remaining amount of the powder reservoir.

【0045】上記の発明によれば、粉体溜まりの残量を
常に把握することができるので、残量の検知結果に基づ
いて粉体を外部から適宜補充することにより、安定した
粉体散布プロセスを行うことができる。
According to the above-mentioned invention, since the remaining amount of the powder pool can always be grasped, the powder is appropriately replenished from the outside based on the detection result of the remaining amount, so that the stable powder dispersion process can be performed. It can be performed.

【0046】請求項14に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項13に記
載の液晶表示素子の製造装置において、上記残量検知部
材の検知結果に基づいて上記粉体を上記粉体供給部に補
充する粉体補充部材が設けられていることを特徴として
いる。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the thirteenth aspect, wherein the liquid crystal display element manufacturing apparatus is provided based on a detection result of the remaining amount detecting member. And a powder replenishing member for replenishing the powder into the powder supply unit.

【0047】上記の発明によれば、残量検知部材により
粉体溜まりの残量が検知されると、粉体が所定量になる
よう粉体補充部材が粉体を粉体供給部に補充する。この
ように、粉体供給部への粉体の補充が自動的に行われる
ので、粉体散布プロセスを高効率化させることができ
る。
According to the above invention, when the remaining amount of the powder pool is detected by the remaining amount detecting member, the powder replenishing member replenishes the powder to the powder supply unit so that the amount of the powder becomes a predetermined amount. . As described above, the powder supply to the powder supply unit is automatically performed, so that the efficiency of the powder dispersion process can be increased.

【0048】請求項15に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項14に記
載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体補充部
材は、上記粉体を貯蔵する貯蔵部と、上記貯蔵部の上記
粉体を上記粉体供給部まで搬送する搬送部とを有してい
ることを特徴としている。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the fourteenth aspect, wherein the powder replenishing member comprises And a transport unit that transports the powder in the storage unit to the powder supply unit.

【0049】上記の発明によれば、貯蔵部に例えば大量
の粉体を貯蔵しておき、そこから搬送部により搬送量を
制御するなどして粉体を粉体供給部まで搬送することに
より、長期間にわたって安定した粉体散布プロセスを行
うことができる。
According to the above invention, for example, a large amount of powder is stored in the storage unit, and the powder is conveyed from there to the powder supply unit by controlling the conveyance amount by the conveying unit. A stable powder spraying process can be performed over a long period of time.

【0050】請求項16に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項15に記
載の液晶表示素子の製造装置において、上記搬送部は、
上記粉体を搬送するベルトまたはスクリューを有してい
ることを特徴としている。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the fifteenth aspect.
It has a belt or a screw for conveying the powder.

【0051】上記の発明によれば、搬送部がベルトを有
する場合には粉体を一度に大量に搬送することができ、
搬送部がスクリューを有する場合には粉体を周囲に飛散
させることなく定量的に搬送することができる。
According to the above-mentioned invention, when the carrying section has a belt, a large amount of powder can be carried at one time.
When the conveying section has a screw, the powder can be conveyed quantitatively without being scattered around.

【0052】請求項17に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、上記課題を解決するために、請求項15に記
載の液晶表示素子の製造装置において、上記搬送部は、
気体を供給する気体供給源と、上記気体供給源から上記
粉体供給部まで上記気体が流れる配管とを有し、上記気
体を上記配管の途中に設けた上記貯蔵部に通すことによ
り上記粉体を搬送することを特徴としている。
According to a seventeenth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to the fifteenth aspect, wherein the transport unit comprises:
A gas supply source for supplying a gas, and a pipe through which the gas flows from the gas supply source to the powder supply unit, wherein the gas is passed through the storage unit provided in the middle of the pipe to form the powder. Is transported.

【0053】上記の発明によれば、気体供給源から配管
に供給された気体は、途中で貯蔵部を通って粉体を保持
した状態になり、その後粉体供給部まで搬送する。この
ように気体を利用することにより、粉体を定量的にかつ
迅速に搬送することができる。
According to the above-described invention, the gas supplied from the gas supply source to the pipe passes through the storage section to hold the powder on the way, and is then conveyed to the powder supply section. By using the gas in this way, the powder can be transported quantitatively and quickly.

【0054】請求項18に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、液晶層のスペー
サーとなる粉体を帯電させ、帯電した上記粉体を飛翔さ
せて、上記液晶層が形成される液晶表示素子上に散布す
る液晶表示素子の製造方法において、上記液晶表示素子
の素子パターンを判別し、上記素子パターンの判別結果
に基づいて上記粉体を上記液晶表示素子上の選択した領
域に散布することを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the eighteenth aspect is to charge a powder to be a spacer of a liquid crystal layer, to fly the charged powder, In a method of manufacturing a liquid crystal display element that is sprayed on a liquid crystal display element on which a layer is formed, the element pattern of the liquid crystal display element is determined, and the powder is applied to the liquid crystal display element based on the determination result of the element pattern. It is characterized by being sprayed on a selected area.

【0055】上記の発明によれば、搬入される液晶表示
素子に対して、素子パターンを読み取って画像処理した
り、外部から素子パターンの情報を受け取ったりするな
どして素子パターンを判別する。そして、その判別結果
に基づき、液晶表示素子上の選択した領域、すなわち素
子パターンの中の目標となる領域に粉体を散布する。
According to the above invention, the element pattern is determined by reading the element pattern and performing image processing on the incoming liquid crystal display element, or receiving information on the element pattern from the outside. Then, based on the determination result, the powder is sprayed on a selected area on the liquid crystal display element, that is, a target area in the element pattern.

【0056】従って、個々の液晶表示素子に対し、その
素子パターンに応じて粉体の飛翔が制御されるので、汎
用性の高い方法でスペーサーを液晶表示素子上の所望の
領域に確実に散布することのできる液晶表示素子の製造
方法を提供することができる。
Therefore, the flying of the powder is controlled for each liquid crystal display element in accordance with the element pattern, so that the spacers are surely sprayed to a desired area on the liquid crystal display element by a highly versatile method. And a method of manufacturing a liquid crystal display element that can be used.

【0057】請求項19に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項18に記
載の液晶表示素子の製造方法において、上記液晶表示素
子に設けられたブラックマトリックスの配列パターンを
読み取り、読み取り結果に基づいて上記素子パターンを
判別し、上記ブラックマトリックスの上方の領域に上記
粉体を散布することを特徴としている。
According to a nineteenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the eighteenth aspect, wherein the black matrix is provided on the liquid crystal display device. , The element pattern is determined based on the read result, and the powder is sprayed on a region above the black matrix.

【0058】上記の発明によれば、例えば光学的な読み
取り方法によって液晶表示素子のブラックマトリックス
の配列パターンを読み取って判別する。そして、判別し
たブラックマトリックスの配列パターンに基づいてその
ブラックマトリックスの上方に位置する液晶層形成領域
に粉体を散布する。
According to the above invention, the arrangement pattern of the black matrix of the liquid crystal display element is read and determined by, for example, an optical reading method. Then, based on the determined arrangement pattern of the black matrix, the powder is sprayed on the liquid crystal layer forming region located above the black matrix.

【0059】従って、ブラックマトリックスの上方の領
域にスペーサーを正確に散布することができ、高品質の
表示画像が得られる。
Therefore, the spacers can be accurately spread over the region above the black matrix, and a high quality display image can be obtained.

【0060】請求項20に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項18また
は19に記載の液晶表示素子の製造方法において、上記
判別結果に基づいた電圧の印加により上記粉体を選択的
に飛翔させ、さらに上記液晶表示素子側の所定の箇所に
電圧が印加されることにより形成される電界により上記
粉体を上記液晶表示素子上へ導くことを特徴としてい
る。
According to a twentieth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the eighteenth or nineteenth aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problem. The method is characterized in that the powder is selectively fly by application, and the powder is guided onto the liquid crystal display element by an electric field formed by applying a voltage to a predetermined portion on the liquid crystal display element side. I have.

【0061】上記の発明によれば、液晶表示素子の素子
パターンに応じた電圧が印加され、粉体はこの電圧によ
り選択的に飛翔する。さらに、液晶表示素子側のの所定
の位置に電圧が印加されることにより電界が形成され、
飛翔した粉体はこの電界により液晶表示素子上の所定の
領域に導かれて散布される。
According to the invention, a voltage corresponding to the element pattern of the liquid crystal display element is applied, and the powder selectively flies by this voltage. Further, an electric field is formed by applying a voltage to a predetermined position on the liquid crystal display element side,
The flying powder is guided to a predetermined area on the liquid crystal display element by this electric field and is dispersed.

【0062】従って、帯電した粉体を効率よく液晶表示
素子上の目的の領域に散布することができる。
Accordingly, the charged powder can be efficiently scattered to the target area on the liquid crystal display device.

【0063】請求項21に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項20に記
載の液晶表示素子の製造方法において、上記液晶表示素
子上の上記粉体の散布状態を読み取り、読み取り結果に
基づいて以降の散布に際し上記粉体を選択的に飛翔させ
るための印加電圧を変更することを特徴としている。
According to a twenty-first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display element according to the twentieth aspect of the present invention, wherein the powder on the liquid crystal display element is provided. The spraying state is read, and the applied voltage for selectively flying the powder in the subsequent spraying is changed based on the read result.

【0064】上記の発明によれば、液晶表示素子上に散
布された粉体の散布状態が読み取られる。そして、散布
状態を読み取った結果、粉体が所定の位置からずれてい
るような場合には、以降の液晶表示素子に粉体を散布す
るにあたり、適切に散布されるよう、上記読み取り結果
に基づいて、粉体を飛翔させるために印加する電圧を変
更する。
According to the above-described invention, the scattered state of the powder scattered on the liquid crystal display element is read. When the powder is displaced from a predetermined position as a result of reading the spraying state, the powder is dispersed on the liquid crystal display element based on the above reading result so that the powder is properly sprayed in subsequent spraying. Then, the voltage applied to fly the powder is changed.

【0065】このように、粉体の散布状態をフィードバ
ックすることで、散布状態が所望の状態からずれたとし
ても適切に補正することができる。
As described above, by feeding back the scattered state of the powder, even if the scattered state deviates from a desired state, it can be properly corrected.

【0066】請求項22に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項18ない
し21のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法にお
いて、イオンを発生させて上記粉体に照射することによ
り、上記粉体を帯電させて供給することを特徴としてい
る。
According to a twenty-second aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the eighteenth to twenty-first aspects, wherein ions are generated. By irradiating the powder, the powder is charged and supplied.

【0067】上記の発明によれば、発生したイオンが粉
体に照射され、粉体は照射の際にイオンの電荷が付与さ
れることにより帯電する。帯電した粉体はイオン照射の
反跳で運動エネルギーを得るなどしてクラウド状になっ
て供給される。
According to the above-mentioned invention, the generated ions are irradiated on the powder, and the powder is charged by applying the charge of the ions during the irradiation. The charged powder is supplied in the form of a cloud by obtaining kinetic energy by recoil of ion irradiation.

【0068】このように、イオン照射によって粉体を帯
電して供給するため、粉体が確実に帯電して供給形態に
適したクラウド状になるとともに、イオン照射が粉体に
対して均一に行われるようにすることにより、粉体の均
一な帯電と供給とが得られる。
As described above, since the powder is charged and supplied by the ion irradiation, the powder is reliably charged and formed into a cloud shape suitable for the supply mode, and the ion irradiation is uniformly performed on the powder. By doing so, uniform charging and supply of the powder can be obtained.

【0069】この結果、粉体を安定して帯電および供給
することのできる液晶表示素子の製造方法を提供するこ
とができる。
As a result, it is possible to provide a method of manufacturing a liquid crystal display element capable of stably charging and supplying powder.

【0070】請求項23に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項22に記
載の液晶表示素子の製造方法において、帯電させて供給
する上記粉体の粒子径を検知することを特徴としてい
る。
According to a twenty-third aspect of the present invention, a method of manufacturing a liquid crystal display element according to the twenty-second aspect is to provide the method of manufacturing a liquid crystal display element according to the twenty-second aspect, wherein the powder particles are charged and supplied. It is characterized by detecting the diameter.

【0071】上記の発明によれば、供給する前に粉体の
粒子径を検知するので、検知結果に基づいて所望の粒子
径になるように制御したり、所望の粒子径が得られた場
合のみ粉体を供給したりすることで、安定した粉体散布
プロセスを行うことができる。
According to the above invention, the particle size of the powder is detected before the powder is supplied. Therefore, control is performed so as to obtain a desired particle size based on the detection result, or when the desired particle size is obtained. By supplying only powder, a stable powder spraying process can be performed.

【0072】請求項24に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項22また
は23に記載の液晶表示素子の製造方法において、帯電
させて供給する上記粉体の粒子濃度を検知することを特
徴としている。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display element manufacturing method according to the twenty-second or twenty-third aspect, wherein the powder is charged and supplied. It is characterized by detecting the particle concentration of the particles.

【0073】上記の発明によれば、供給する前に粉体の
粒子濃度を検知するので、検知結果に基づいて所望の粒
子濃度になるように制御したり、所望の粒子濃度が得ら
れた場合のみ粉体を供給したりすることで、安定した粉
体散布プロセスを行うことができる。
According to the above-mentioned invention, the particle concentration of the powder is detected before the powder is supplied. Therefore, the control is performed based on the detection result so that the desired particle concentration is obtained, or when the desired particle concentration is obtained. By supplying only powder, a stable powder spraying process can be performed.

【0074】請求項25に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、上記課題を解決するために、請求項22ない
し24のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法にお
いて、帯電させて供給する上記粉体の残量を検知するこ
とを特徴としている。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of the twenty-second to twenty-fourth aspects of the invention. It is characterized in that the remaining amount of the powder is detected.

【0075】上記の発明によれば、粉体の残量を常に把
握することができるので、残量の検知結果に基づいて粉
体を外部から適宜補充することにより、安定した粉体散
布プロセスを行うことができる。
According to the above-mentioned invention, since the remaining amount of powder can always be grasped, the powder is appropriately replenished from the outside based on the detection result of the remaining amount, so that a stable powder spraying process can be performed. It can be carried out.

【0076】[0076]

【発明の実施の形態】〔実施の形態1〕本発明の液晶表
示素子の製造装置および製造方法の実施の一形態につい
て図1ないし図34に基づいて説明すれば、以下の通り
である。
[Embodiment 1] One embodiment of an apparatus and a method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0077】図1に、液晶表示素子の製造装置(以下製
造装置と称する)1の断面構成を示す。製造装置1は、
読み取り部材2、粉体帯電器3、粉体制御部材4、およ
び対向電極5から構成されており、これに製造途中の液
晶表示素子Lが搬入される。
FIG. 1 shows a cross-sectional structure of an apparatus 1 for manufacturing a liquid crystal display element (hereinafter referred to as a manufacturing apparatus). The manufacturing apparatus 1
It comprises a reading member 2, a powder charger 3, a powder control member 4, and a counter electrode 5, into which the liquid crystal display element L being manufactured is carried.

【0078】まず、製造装置1に搬入される液晶表示素
子Lについて図2を参照しながら説明する。液晶表示素
子Lは、同図(a)に示すように、ガラス基板6上にR
GBのカラーフィルター7…、ブラックマトリックス
8、透明電極9、および配向膜10が形成されたもの
や、同図(b)に示すように、ガラス基板6上に透明電
極9…、絶縁層11、RGBのカラーフィルター7…、
ブラックマトリックス8、および配向膜10が形成され
たものである。両図において、その上下方向は図1中の
液晶表示素子Lと同一である。液晶表示素子Lを下方か
ら見ると、同図(c)のように、画素の遮蔽部分である
ブラックマトリックス8によって、カラーフィルター7
…が設けられた画像表示領域が区切られた構成となって
いる。製造装置1によって、同図(d)に示すように、
スペーサーをブラックマトリックス8上に位置する配向
膜10上に正確に散布するように制御するのが本実施の
形態の特徴である。
First, the liquid crystal display element L carried into the manufacturing apparatus 1 will be described with reference to FIG. The liquid crystal display element L is provided on a glass substrate 6 as shown in FIG.
, A black matrix 8, a transparent electrode 9, and an alignment film 10 are formed on the glass substrate 6, as shown in FIG. RGB color filter 7 ...
The black matrix 8 and the alignment film 10 are formed. In both figures, the vertical direction is the same as the liquid crystal display element L in FIG. When the liquid crystal display element L is viewed from below, a color filter 7 is formed by a black matrix 8 which is a shielding portion of a pixel as shown in FIG.
Are divided into image display areas provided with... By the manufacturing apparatus 1, as shown in FIG.
It is a feature of the present embodiment that the spacers are controlled so as to be accurately spread on the alignment film 10 located on the black matrix 8.

【0079】図1において、読み取り部材2は、液晶表
示素子Lが製造装置1に投入された初期の段階で液晶表
示素子Lのブラックマトリックス8の配列パターン(素
子パターン)を読み取り、その情報を粉体制御部材4に
与えるものである。粉体帯電器(粉体帯電手段)3は、
少なくとも一種類のスペーサーを所定の極性に帯電させ
て粉体制御部材4に供給する。スペーサーは、得ようと
する液晶層の厚みに相当する径(1μm〜20μm程
度)を有する粉体(微粒子)である。
In FIG. 1, the reading member 2 reads an array pattern (element pattern) of the black matrix 8 of the liquid crystal display element L at the initial stage when the liquid crystal display element L is put into the manufacturing apparatus 1 and reads the information. This is given to the body control member 4. The powder charger (powder charging means) 3
At least one type of spacer is charged to a predetermined polarity and supplied to the powder control member 4. The spacer is a powder (fine particles) having a diameter (about 1 μm to 20 μm) corresponding to the thickness of the liquid crystal layer to be obtained.

【0080】粉体制御部材(粉体飛翔手段)4は、読み
取り部材(パターン判別手段、読み取り手段)2から与
えられた情報に基づき、粉体帯電器3から供給されたス
ペーサーをそのブラックマトリックス8上の配向膜10
に向けて選択的に電界で飛翔させるものである。粉体制
御部材4には、電圧が印加される複数の電極4a…が備
えられており、それぞれの中心にスペーサーが通過する
ゲート4bが設けられている。対向電極5は、粉体制御
部材4を介して粉体帯電器3と対向するよう配置されて
おり、粉体制御部材4との間にスペーサーを吸引する電
界を形成するようになっている。
The powder control member (powder flying means) 4 applies the spacer supplied from the powder charger 3 to the black matrix 8 based on the information given from the reading member (pattern discriminating means, reading means) 2. Upper alignment film 10
Is selectively caused to fly by an electric field. The powder control member 4 includes a plurality of electrodes 4a to which a voltage is applied, and a gate 4b through which a spacer passes at the center of each of the electrodes 4a. The counter electrode 5 is arranged so as to face the powder charger 3 via the powder control member 4, and forms an electric field for attracting the spacer between the counter electrode 5 and the powder control member 4.

【0081】このような構成の製造装置1において、液
晶表示素子Lは図1の矢印方向に搬送されるが、その初
期段階で、読み取り部材2は、通過する液晶表示素子L
のブラックマトリックス8の配列パターンを順に読み取
る。次いで、液晶表示素子Lが対向電極5を通過する際
に、読み取り部材2で読み取られた上記配列パターンに
関する情報に基づいて選択した粉体制御部材4の電極4
a…に電圧を印加し、粉体帯電器3から供給されたスペ
ーサーを、粉体帯電器3、粉体制御部材4、および対向
電極5間に形成される電界により飛翔させて液晶表示素
子L上に吸着させる。ある配列パターンが対向電極5を
通過する際に、その配列パターンの読み取り情報に基づ
いたスペーサーの飛翔が行われるので、スペーサーは正
確にブラックマトリックス8の上方の配向膜10上に散
布される。
In the manufacturing apparatus 1 having such a configuration, the liquid crystal display element L is transported in the direction of the arrow in FIG. 1, but at the initial stage, the reading member 2
Are sequentially read out. Next, when the liquid crystal display element L passes through the counter electrode 5, the electrode 4 of the powder control member 4 selected based on the information on the arrangement pattern read by the reading member 2.
a) is applied, and the spacer supplied from the powder charger 3 is caused to fly by an electric field formed between the powder charger 3, the powder control member 4, and the counter electrode 5, and the liquid crystal display element L Absorb on top. When a certain arrangement pattern passes through the counter electrode 5, the spacer flies based on the read information of the arrangement pattern, so that the spacer is accurately spread on the alignment film 10 above the black matrix 8.

【0082】読み取り部材2は、図3に示すように、ハ
ロゲンランプや蛍光灯などの光源12から液晶表示素子
Lに光を照射して、その反射光をロッドレンズアレイ1
3などの光学系で集光し、CCDやフォトダイオードな
どのセンサー14で検知するような構成とすることがで
きる。このような読み取り部材2によるブラックマトリ
ックス8の配列パターンの読み取り結果を粉体制御部材
4に与える情報伝達経路の構成の一例を図4に示す。情
報伝達経路上には、読み取り部材2の後段に画像処理部
材(パターン判別手段)15、情報源(パターン判別手
段)17、および電圧印加部材(パターン判別手段)1
8が配されており、またこれらとは別に入力部材(パタ
ーン判別手段)16が設けられている。
The reading member 2 irradiates the liquid crystal display element L with light from a light source 12 such as a halogen lamp or a fluorescent lamp as shown in FIG.
The light can be condensed by an optical system such as 3 and detected by a sensor 14 such as a CCD or a photodiode. FIG. 4 shows an example of the configuration of an information transmission path for providing the powder control member 4 with the result of reading the arrangement pattern of the black matrix 8 by the reading member 2. On the information transmission path, an image processing member (pattern determining means) 15, an information source (pattern determining means) 17, and a voltage applying member (pattern determining means) 1 are provided downstream of the reading member 2.
In addition, an input member (pattern discriminating means) 16 is provided.

【0083】読み取り部材2によって読み取られたブラ
ックマトリックス8の配列パターン情報は、画像処理部
材15によって画像処理された後、情報源17に入力さ
れて粉体制御部材4にて電圧が印加される電極4a…の
選択を行う。そして、電圧印加部材18は、情報源17
からの出力信号に基づいて選択した粉体制御部材4の各
電極4aに電圧を印加する。また、ブラックマトリック
ス8の配列パターンが初めから分かっている場合には、
上述のように読み取り部材2を用いないで、配列パター
ン情報を入力部材16から情報源17に入力するように
してもよい。
The array pattern information of the black matrix 8 read by the reading member 2 is subjected to image processing by the image processing member 15 and then input to the information source 17 where the voltage is applied by the powder control member 4. 4a ... is selected. The voltage applying member 18 is connected to the information source 17.
A voltage is applied to each electrode 4a of the powder control member 4 selected based on the output signal from. When the arrangement pattern of the black matrix 8 is known from the beginning,
As described above, the arrangement pattern information may be input from the input member 16 to the information source 17 without using the reading member 2.

【0084】ここで、電圧印加部材18による粉体制御
部材4の電極4a…への電圧印加方法について説明す
る。電圧を連続的に印加すれば、スペーサーはブラック
マトリックス8上に連続して散布され、ブラックマトリ
ックス8上に隙間なく配列することになる。しかし、液
晶層の厚みを保持するというスペーサー本来の機能を果
たすためには、スペーサーがブラックマトリックス8全
面に渡って稠密に並んでいる必要はなく、ある程度の間
隔を置いて分散していれば充分である。
Here, a method of applying a voltage to the electrodes 4a of the powder control member 4 by the voltage applying member 18 will be described. If a voltage is continuously applied, the spacers are continuously scattered on the black matrix 8 and are arranged on the black matrix 8 without gaps. However, in order to fulfill the spacer's original function of maintaining the thickness of the liquid crystal layer, it is not necessary for the spacers to be densely arranged over the entire surface of the black matrix 8, and it is sufficient if the spacers are dispersed at a certain interval. It is.

【0085】従って、粉体制御部材4の電極4a…に
は、例えば図5(a)に示すように、ある周期を持った
規則性のあるパルス状の電圧を印加するとよい。すなわ
ち、パルスが立ち上がっている間はスペーサーが粉体制
御部材4によって飛翔してブラックマトリックス8上の
決められた位置に散布され、パルスが立ち下がっている
間はスペーサーの飛翔が阻止される。次のパルスの立ち
上がりまでには、液晶表示素子Lが次の所定位置まで移
動しており、この位置で再びスペーサーが飛翔し、ブラ
ックマトリックス8上に散布される。これにより、スペ
ーサーは、図2(d)に示すようにある程度の間隔を置
いて配列する。
Therefore, as shown in FIG. 5 (a), it is preferable to apply a regular pulse-like voltage having a certain period to the electrodes 4a of the powder control member 4. That is, while the pulse is rising, the spacer flies by the powder control member 4 and is scattered at a predetermined position on the black matrix 8, and while the pulse is falling, the spacer is prevented from flying. By the rise of the next pulse, the liquid crystal display element L has moved to the next predetermined position. At this position, the spacer flies again and is scattered on the black matrix 8. Thus, the spacers are arranged at a certain interval as shown in FIG.

【0086】また、スペーサーの飛翔量は、図5(b)
に示すように粉体制御部材4と粉体帯電器3との間に形
成される電界の大きさによって変化するとともに、同図
(c)に示すように粉体制御部材4の電極4a…に印加
する電圧のパルス幅によって変化する。特に好ましい飛
翔量となる条件は、両図においてスペーサーが飛翔を開
始するしきい値Eth付近の領域およびしきい値Wth付近
の範囲である。従って、電圧印加部材18は、電界がし
きい値Eth付近に、またパルス幅がしきい値Wth付近に
なるように同図(a)の電圧波形を調整することができ
るようになっている。これによって、必要十分な量のス
ペーサーをブラックマトリックス8上に配列させること
ができる。
The flying amount of the spacer is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, the voltage varies depending on the magnitude of the electric field formed between the powder control member 4 and the powder charger 3, and the electrodes 4a of the powder control member 4 as shown in FIG. It changes according to the pulse width of the applied voltage. Particularly preferable conditions for the flying amount are a region near the threshold value Eth and a range near the threshold value Wth where the spacer starts flying in both figures. Accordingly, the voltage applying member 18 can adjust the voltage waveform of FIG. 3A so that the electric field is near the threshold value Eth and the pulse width is near the threshold value Wth. Thereby, a necessary and sufficient amount of spacers can be arranged on the black matrix 8.

【0087】次に、粉体制御部材4の構成について種々
の形態を挙げて詳述する。
Next, the structure of the powder control member 4 will be described in detail with various forms.

【0088】図6に粉体制御部材4の第1の形態の構成
を示す。同図に示すように、液晶表示素子Lの搬送方向
に対して直交する方向(以下液晶表示素子Lの幅方向と
称する)に複数のリング状の電極4a…が一列に配され
ている。各電極4aには、粉体制御部材4の端部側から
液晶表示素子Lの搬送方向と平行に引き回された給電部
4cがそれぞれ接続されており、各電極4aが個別の給
電部4cから給電されることによって駆動するシングル
駆動方式の構成となっている。また、隣り合う給電部4
c…は交互に粉体制御部材4の反対側の端部から電極4
a…に向かって延びている。
FIG. 6 shows the configuration of the first embodiment of the powder control member 4. As shown in the figure, a plurality of ring-shaped electrodes 4a are arranged in a row in a direction orthogonal to the transport direction of the liquid crystal display element L (hereinafter referred to as the width direction of the liquid crystal display element L). Each electrode 4a is connected to a power supply unit 4c that is routed from the end of the powder control member 4 in parallel with the transport direction of the liquid crystal display element L. Each electrode 4a is connected to an individual power supply unit 4c. It is configured as a single drive system driven by power supply. In addition, the adjacent power supply unit 4
... alternately from the opposite end of the powder control member 4 to the electrode 4
a.

【0089】上記電極の液晶表示素子Lの搬送方向に沿
った断面構成の一例を図7に示す。ポリイミドなどの樹
脂からなる基材4e上にリング状の電極4aがパターニ
ングされており、その上下には絶縁層としてのカバーレ
イヤー4f・4fが設けられている。液晶表示素子L側
のカバーレイヤー4fには、スペーサーの付着や粉体制
御部材4の帯電を防止するための帯電防止層4g、粉体
帯電器3側のカバーレイヤー4fには、スペーサーの付
着を防止するためのシールド電極4hがそれぞれ設けら
れている。これら帯電防止層4gおよびシールド電極4
hは必要に応じて設ければよい。電極4aの中心部に
は、スペーサーが通過するゲート4bが、粉体帯電器3
側が液晶表示素子L側よりも開口径が大きくなるよう形
成されている。ゲート4bをこのような形状にすること
により、スペーサーの通過がスムーズになる。
FIG. 7 shows an example of a cross-sectional configuration of the above-mentioned electrodes along the transport direction of the liquid crystal display element L. A ring-shaped electrode 4a is patterned on a base material 4e made of a resin such as polyimide, and cover layers 4f, 4f as insulating layers are provided above and below the electrode 4a. The cover layer 4f on the liquid crystal display element L side has an antistatic layer 4g for preventing the adhesion of the spacer and the charging of the powder control member 4, and the cover layer 4f on the powder charger 3 side has the adhesion of the spacer. Shield electrodes 4h for prevention are provided. These antistatic layer 4g and shield electrode 4
h may be provided as needed. In the center of the electrode 4a, a gate 4b through which a spacer passes is provided with a powder charger 3
The side is formed so that the opening diameter is larger than the liquid crystal display element L side. By forming the gate 4b in such a shape, the passage of the spacer becomes smooth.

【0090】しかし、粉体制御部材4がこのままの構造
であると、電極4a…や給電部4c…はポリイミドなど
の基材4e…にミクロンから数十ミクロンオーダーの厚
みの配線パターンが施されたものであるために、粉体制
御部材4全体が応力によって反りやすい。そこで、応力
のかかり方が均一になるよう、図6に示すように、各電
極4aに対して給電部4cと反対側にダミー電極4dを
設ける。ダミー電極4dは給電部4cと同等の構造であ
り、給電には寄与しない。このようにすることで、粉体
制御部材4は電極4a…の中心を結んでできる中心線に
対してほぼ対称な構造となり、応力のかかり方が均一に
なる。
However, if the powder control member 4 has the structure as it is, the electrodes 4a... And the power supply portions 4c... Therefore, the entire powder control member 4 is easily warped by the stress. Therefore, as shown in FIG. 6, a dummy electrode 4d is provided on the side opposite to the power supply section 4c with respect to each electrode 4a so that the manner of applying stress is uniform. The dummy electrode 4d has the same structure as the power supply unit 4c and does not contribute to power supply. In this manner, the powder control member 4 has a substantially symmetric structure with respect to a center line formed by connecting the centers of the electrodes 4a, and the stress is applied uniformly.

【0091】また、より効率的にスペーサーを散布する
ために、液晶表示素子Lの搬送方向に直交する方向に複
数列の電極4a…を並べてもよく、2列並べた場合の構
成を図8に示す。この場合、2列間で向かいあう電極4
a…同士は液晶表示素子Lの搬送方向に向かって一直線
上にはなく、その直交方向に互いに少しずれた位置に設
けられる。従って、粉体制御部材4は中心線に対して完
全に対称とはならないが、隣接する給電部4c…間の中
央にダミー電極4dを設けることによって応力が不均一
にかかるのを大幅に抑制することができる。
In order to more efficiently disperse the spacers, a plurality of rows of electrodes 4a... May be arranged in a direction perpendicular to the direction of transport of the liquid crystal display element L. FIG. Show. In this case, electrodes 4 facing each other between two rows
are not arranged on a straight line in the transport direction of the liquid crystal display element L, but are provided at positions slightly shifted from each other in the orthogonal direction. Therefore, the powder control member 4 is not completely symmetrical with respect to the center line, but the provision of the dummy electrode 4d at the center between the adjacent power supply portions 4c... be able to.

【0092】図9に粉体制御部材の第2の形態の構成を
示す。これは、縦給電線および横給電線の各交差箇所に
ゲートを設け、ゲートを一括して駆動するマトリックス
駆動方式の構成である。液晶表示素子Lの搬送方向に平
行な方向に隣接する縦給電線4i…同士は、互いに粉体
制御部4の反対の端部からスペーサーの飛翔箇所まで延
びるように設けられている。そして、これら縦給電線4
i…の全てに対して直交する横給電線4j…が設けられ
ており、交差箇所にゲート4b…が設けられている。ま
た、粉体制御部材4に不均一な応力がかからぬよう、図
10に示すように、縦給電線4i…を粉体制御部材4の
両端部に達するように設けるとともに、スペーサーの飛
翔箇所以外の領域に、横給電線4j…と同等の構造のダ
ミー電極4d…(同図では一つ)を横給電線4j…に対
して平行に、かつ横給電線4j…同士の間隔と同じ間隔
で設けるとよい。
FIG. 9 shows the configuration of the second embodiment of the powder control member. This is a matrix drive system configuration in which a gate is provided at each intersection of a vertical power supply line and a horizontal power supply line, and the gates are driven collectively. The vertical power supply lines 4i adjacent to each other in a direction parallel to the transport direction of the liquid crystal display element L are provided so as to extend from the opposite ends of the powder control unit 4 to the flying spot of the spacer. And these vertical feeders 4
The horizontal power supply lines 4j which are orthogonal to all of i are provided, and gates 4b are provided at intersections. Further, as shown in FIG. 10, the vertical power supply lines 4i are provided so as to reach both ends of the powder control member 4 so as to prevent uneven stress from being applied to the powder control member 4, In other regions, dummy electrodes 4d (one in the figure) having the same structure as the horizontal power supply lines 4j are arranged in parallel with the horizontal power supply lines 4j and at the same interval as the distance between the horizontal power supply lines 4j. It is good to provide in.

【0093】図11に粉体制御部材4の第3の形態の構
成を示す。これは、液晶表示素子Lの搬送方向に電極4
a…の列を複数設け、スペーサーを容易にブラックマト
リックス8上に散布することができるようにしたもので
ある。同図は電極4a…の列が4つの場合を示す。各列
の電極4a…は、隣接する列の電極4a…に対してゲー
ト4b…が液晶表示素子Lの幅方向にd/3の間隔で順
次ずれるように配置されている。ここで、dはブラック
マトリックス8の配列パターン幅である。すなわち、ず
れ方向に見た場合、4つの電極4a…におけるゲート4
b…の両端間の距離がdであり、ブラックマトリックス
8の配列パターン幅に等しい。
FIG. 11 shows the configuration of the third embodiment of the powder control member 4. This is because the electrodes 4 move in the transport direction of the liquid crystal display element L.
A plurality of rows a are provided so that the spacers can be easily spread on the black matrix 8. The figure shows a case where there are four rows of electrodes 4a. The electrodes 4a in each column are arranged such that the gates 4b are sequentially shifted at intervals of d / 3 in the width direction of the liquid crystal display element L with respect to the electrodes 4a in the adjacent column. Here, d is the arrangement pattern width of the black matrix 8. That is, when viewed in the shift direction, the gates 4 of the four electrodes 4a.
The distance between both ends of b ... is d, which is equal to the arrangement pattern width of the black matrix 8.

【0094】そして、上記配置がずれ方向に周期的に繰
り返され、ブラックマトリックス8の配列パターンのう
ち液晶表示素子Lの搬送方向に沿った配列パターン上に
は必ず4つの電極4a…が位置するようになっている。
このようにすれば、ブラックマトリックス8に対向して
位置する4つの電極4a…のうちから任意のものを選択
して電圧を印加することにより、容易にブラックマトリ
ックス8上にスペーサーを散布することができる。な
お、上記の例はシングル駆動方式の場合であったが、マ
トリックス駆動方式の場合においてもゲート4b…を同
様に配置することにより上述の効果が得られる。
The above arrangement is repeated periodically in the shift direction, so that four electrodes 4a... Are always located on the arrangement pattern of the black matrix 8 along the transport direction of the liquid crystal display element L. It has become.
In this manner, the spacers can be easily dispersed on the black matrix 8 by selecting an arbitrary one of the four electrodes 4a located opposite to the black matrix 8 and applying a voltage. it can. Although the above example is of the case of the single drive system, the above effects can be obtained also in the case of the matrix drive system by arranging the gates 4b in the same manner.

【0095】図12に粉体制御部材4の第4の形態の構
成を示す。これは、ゲート4b…におけるスペーサーの
飛翔方向を可変にして、電極4a…数の削減を可能にし
たものである。同図に示すように、各電極4aと同一面
上に、あるいは基材4eの反対側の面上に、半円状に分
割された偏向電極4kが設けられている。これまでのよ
うに、選択した電極4a…直上のブラックマトリックス
8に向けてスペーサーを飛翔させるときには上記電極4
a…のみに電圧を印加してやればよい。ブラックマトリ
ックス8が電極4a…直上からずれた位置にある場合に
は、電極4a…と偏向電極4k…との両方に電圧を印加
してスペーサーの飛翔方向を偏向させることにより、目
的の位置にスペーサーを飛翔させることができる。この
とき、偏向電極4k…の分割片のそれぞれに偏向角度に
応じた電圧を個別に印加するようにする。このように、
一つのゲート4bから様々な方向へスペーサーを飛翔さ
せることができるので、それだけ電極4a…の数が少な
くて済む。
FIG. 12 shows the configuration of the fourth embodiment of the powder control member 4. This makes it possible to reduce the number of electrodes 4a by making the flight direction of the spacers in the gates 4b variable. As shown in the figure, a deflection electrode 4k divided in a semicircle is provided on the same surface as each electrode 4a or on the surface opposite to the base material 4e. As described above, when the spacer is caused to fly toward the black matrix 8 immediately above the selected electrode 4a.
A voltage may be applied only to a. When the black matrix 8 is at a position deviated from directly above the electrodes 4a, a voltage is applied to both the electrodes 4a and the deflection electrodes 4k to deflect the flying direction of the spacers, whereby the spacers are moved to target positions. Can fly. At this time, a voltage corresponding to the deflection angle is individually applied to each of the divided pieces of the deflection electrodes 4k. in this way,
Since the spacers can be made to fly from one gate 4b in various directions, the number of electrodes 4a can be reduced accordingly.

【0096】図13に粉体制御部材の第5の形態の構成
を示す。これは、電極4a…の構成を簡素化するととも
に、スペーサーを効率的に散布することができるように
したものである。同図に示すように、ゲート4bが、液
晶表示素子Lの幅方向に長手方向を有する一つの長方形
状の開口部として形成されている。そして、端部からゲ
ート4bの2つの長辺に向かって延設された複数の給電
線4c…の先端に平板状の電極4a…が設けられてい
る。従って、このような粉体制御部材4を用いれば、液
晶表示素子Lの幅方向を向くブラックマトリックス8の
配列パターンにスペーサーを一括して散布することがで
きるので効率がよい。また、ゲート4bが一つで済むた
め、電極4a…の構成が単純である。
FIG. 13 shows the configuration of the fifth embodiment of the powder control member. This simplifies the configuration of the electrodes 4a and allows the spacers to be efficiently sprayed. As shown in the figure, the gate 4b is formed as one rectangular opening having a longitudinal direction in the width direction of the liquid crystal display element L. Further, flat electrodes 4a are provided at the tips of a plurality of power supply lines 4c extending from the ends to the two long sides of the gate 4b. Therefore, if such a powder control member 4 is used, the spacers can be collectively scattered in the arrangement pattern of the black matrix 8 facing the width direction of the liquid crystal display element L, so that the efficiency is high. Further, since only one gate 4b is required, the configuration of the electrodes 4a is simple.

【0097】図14に粉体制御部材4の第6の形態の構
成を示す。これは、図9に示したマトリックス駆動方式
の粉体制御部材4をワイヤーを用いて構成したものであ
る。同図に示すように、縦横に張りめぐらしたワイヤー
で電極4a…を構成し、ワイヤーで囲まれたマトリック
ス状の領域をゲート4b…とする。ワイヤーは、図中X
軸方向のゲート列のそれぞれ、およびY軸方向のゲート
列のそれぞれを一つのループで囲むように粉体制御部材
4の端部でつながっている。例えば、同図中の領域pの
ゲート4bを駆動するには、ループMおよびループNを
ONにして電圧を印加すればよい。
FIG. 14 shows the configuration of the sixth embodiment of the powder control member 4. This is one in which the powder control member 4 of the matrix drive system shown in FIG. 9 is configured using wires. As shown in the figure, the electrodes 4a are composed of wires stretched vertically and horizontally, and the matrix-like regions surrounded by the wires are gates 4b. Wire is X in the figure
Each of the gate rows in the axial direction and each of the gate rows in the Y-axis direction are connected at an end of the powder control member 4 so as to be surrounded by one loop. For example, in order to drive the gate 4b in the region p in the same drawing, the loop M and the loop N may be turned on and a voltage may be applied.

【0098】図6、図8および図11に示したシングル
駆動方式の粉体制御部材4では、一つのゲート4bに一
つの駆動素子を設ける必要があり、X軸方向にm列、Y
軸方向にn列のゲートが存在するとすれば、合計m×n
個の駆動素子が必要であった。ところが、上記のマトリ
ックス駆動方式の粉体制御部材4によれば、m+n個の
駆動素子があれば全てのゲート4b…の駆動・非駆動を
制御することができるので、それだけ駆動素子の数を削
減することができる。
In the single drive type powder control member 4 shown in FIGS. 6, 8 and 11, it is necessary to provide one drive element for one gate 4b, and m rows and Y rows in the X-axis direction.
If there are n columns of gates in the axial direction, a total of m × n
This required two driving elements. However, according to the matrix drive type powder control member 4 described above, if there are m + n drive elements, it is possible to control the drive / non-drive of all the gates 4b... can do.

【0099】以上、第1から第6の形態までの粉体制御
部材4の構成について述べたが、これら全ての形態の粉
体制御部材4を以下に示すような構成に適用することも
できる。図15は、粉体制御部材4の電極形成領域4m
について、液晶表示素子Lの幅方向に沿った寸法W1
を、液晶表示素子Lの表示領域Lm全体の幅W2以上と
なるように設定した場合の構成を示したものである。こ
のような構成とすることにより、液晶表示素子Lごとに
多少のばらつきがあったとしても、ブラックマトリック
ス8の全領域が必ず電極形成領域4mの上方を通過する
ようになるので、液晶表示素子L全面にわたって確実に
スペーサーを散布することができる。
Although the structure of the powder control member 4 in the first to sixth embodiments has been described above, the powder control member 4 in all of these embodiments can be applied to the following structures. FIG. 15 shows the electrode forming area 4 m of the powder control member 4.
For the dimension W1 along the width direction of the liquid crystal display element L
Is set to be equal to or more than the width W2 of the entire display area Lm of the liquid crystal display element L. With such a configuration, even if there is a slight variation between the liquid crystal display elements L, the entire area of the black matrix 8 always passes above the electrode forming area 4m. The spacers can be reliably spread over the entire surface.

【0100】また、図16は、図15の粉体制御部材4
を発展させ、粉体制御部材4の電極形成領域4mを、液
晶表示素子Lの全領域と同等以上の大きさを有するもの
とした場合の断面構成を示したものである。このような
構成とすることにより、液晶表示素子Lを電極形成領域
4mに対して停止させておいて、選択した電極4a…か
らスペーサーを液晶表示素子L全面にわたって一括して
散布することができる。
FIG. 16 shows the powder control member 4 of FIG.
This is a cross-sectional configuration in which the electrode forming region 4m of the powder control member 4 has a size equal to or larger than the entire region of the liquid crystal display element L. With this configuration, the liquid crystal display element L is stopped with respect to the electrode forming region 4m, and the spacers can be collectively sprayed from the selected electrodes 4a over the entire surface of the liquid crystal display element L.

【0101】次に、前述の図4に示した情報伝達経路
を、第1から第6の形態などで代表される様々な構成の
粉体制御部材4に対応できるように変更した場合につい
て説明する。図17は、図4の情報伝達経路に、認識部
材19、比較部材20、および偏向電極用電圧印加部材
21を追加したものである。認識部材(パターン判別手
段)19はCCDなどからなり、粉体制御部材4のゲー
ト4b…あるいは電極4a…の配列パターンを認識し、
認識結果を画像処理部材15に入力する。比較部材(パ
ターン判別手段)20は、読み取り部材2の読み取り結
果および認識部材19の認識結果を、画像処理部材15
で画像処理した後に比較し、比較結果を情報源17ある
いは入力部材16に入力する。
Next, a case will be described in which the information transmission path shown in FIG. 4 is changed so as to be compatible with the powder control members 4 having various structures represented by the first to sixth embodiments. . FIG. 17 shows a configuration in which a recognition member 19, a comparison member 20, and a deflection electrode voltage applying member 21 are added to the information transmission path of FIG. The recognition member (pattern discriminating means) 19 is composed of a CCD or the like, and recognizes an arrangement pattern of the gates 4b... Or the electrodes 4a.
The recognition result is input to the image processing member 15. The comparison member (pattern discriminating means) 20 compares the reading result of the reading member 2 and the recognition result of the recognition member 19 with the image processing member 15.
After the image processing is performed, the comparison is performed, and the comparison result is input to the information source 17 or the input member 16.

【0102】偏向電極用電圧印加部材(パターン判別手
段)21は、粉体制御部材4が第4の形態のように偏向
電極4k…を有する場合に、情報源17からの信号に基
づいて偏向電極4k…に電圧を印加するものである。こ
のような構成とすることにより、ブラックマトリックス
8の配列パターンと、粉体制御部材4のゲート4b…あ
るいは電極4a…の配列パターンとの比較に基づいて、
粉体制御部材4の電極4a…のうち所望の位置にあるも
のを正確に選択することができる。
When the powder control member 4 has the deflecting electrodes 4k as in the fourth embodiment, the deflecting electrode voltage applying member (pattern discriminating means) 21 receives the deflecting electrode based on a signal from the information source 17. 4k... Are applied. With such a configuration, based on a comparison between the arrangement pattern of the black matrix 8 and the arrangement pattern of the gates 4b or the electrodes 4a of the powder control member 4,
The electrode at a desired position among the electrodes 4a of the powder control member 4 can be accurately selected.

【0103】この場合における処理の流れの一例を以下
に説明する。図18のフローチャートに示すように、ま
ず、S1で認識部材19によって粉体制御部材4のゲー
ト4b…あるいは電極4a…の配列パターンを認識し、
その結果をS2で画像処理部材15により画像処理する
一方、S3で読み取り部材2によってブラックマトリッ
クス8の配列パターンを読み取り、その結果をS4で画
像処理部材15により画像処理する。次いで、S5で比
較部材20によりS2・S4の画像処理結果を比較し、
S6で比較結果を情報源17に入力して電圧印加指示信
号を生成する。
An example of the processing flow in this case will be described below. As shown in the flowchart of FIG. 18, first, in S1, the arrangement pattern of the gates 4b... Or the electrodes 4a.
While the result is image-processed by the image processing member 15 in S2, the arrangement pattern of the black matrix 8 is read by the reading member 2 in S3, and the result is image-processed by the image processing member 15 in S4. Next, in S5, the comparison member 20 compares the image processing results of S2 and S4,
In S6, the comparison result is input to the information source 17 to generate a voltage application instruction signal.

【0104】そして、情報源17からの電圧印加指示信
号に基づいて選択した電極4a…に対し、S7で電圧印
加部材18により電圧を印加し、さらに偏向電極4k…
を有する場合には、情報源17からの電圧印加指示信号
に基づいて選択した偏向電極4k…に対し、S8で偏向
電極用電圧印加部材21により電圧を印加する。またこ
のとき、比較部材20の比較結果に基づいて、電圧印加
部材18または偏向電極用電圧印加部材21から電極4
a…あるいは偏向電極4k…に印加する電圧値や電圧の
パルス幅を変更するようにしてもよい。
Then, a voltage is applied by the voltage applying member 18 to the electrodes 4a... Selected based on the voltage application instruction signal from the information source 17 in S7, and the deflection electrodes 4k.
In step S8, a voltage is applied by the deflection electrode voltage applying member 21 to the deflection electrodes 4k... Selected based on the voltage application instruction signal from the information source 17. At this time, based on the comparison result of the comparison member 20, the voltage application member 18 or the deflection electrode voltage application member 21
or the voltage value or the pulse width of the voltage applied to the deflection electrodes 4k may be changed.

【0105】また、入力部材16から予め所定のブラッ
クマトリックス8の配列パターンを入力する場合の処理
を、図19のフローチャートに示す。S11からS15
までは、図18のフローチャートのS1からS5までと
同一であるが、S16ではS15の比較結果を入力部材
16に入力し、所定のブラックマトリックス8の配列パ
ターンを上記比較結果に基づいて正しい配列パターンに
補正する。次いで、S17で補正結果を情報源17に入
力して電圧印加指示信号を生成し、その後S18・S1
9で図18のフローチャートのS7・S8と同一の処理
を行う。
FIG. 19 is a flowchart showing a process for inputting a predetermined arrangement pattern of the black matrix 8 from the input member 16 in advance. S11 to S15
18 are the same as S1 to S5 in the flowchart of FIG. 18, but in S16, the comparison result of S15 is input to the input member 16, and the arrangement pattern of the predetermined black matrix 8 is corrected based on the comparison result. To be corrected. Next, in step S17, the correction result is input to the information source 17 to generate a voltage application instruction signal.
In S9, the same processing as S7 and S8 in the flowchart of FIG.

【0106】次に、粉体制御部材4と対向電極5との間
に確実に電界が形成されるようにした場合の構成につい
て述べる。具体的には、対向電極5を図2(a)(b)
における液晶表示素子Lの透明電極9あるいはブラック
マトリックス8とする。対向電極5が液晶表示素子Lの
ガラス基板6の外側に位置すると、導体である透明電極
9あるいはブラックマトリックス8が粉体制御部材4と
対向電極5との間に介在することになり、粉体制御部材
4と対向電極5とに電圧を印加した際に透明電極9ある
いはブラックマトリックス8の電位がフローティングと
なって電界の制御が不可能になる。従って、対向電極5
として、間に導体が介在しないよう、透明電極9あるい
はブラックマトリックス8のうち粉体制御部材4に近い
方を利用することとする。
Next, a configuration in a case where an electric field is reliably formed between the powder control member 4 and the counter electrode 5 will be described. Specifically, the opposing electrode 5 is connected to each of FIGS.
, The transparent electrode 9 or the black matrix 8 of the liquid crystal display element L. When the counter electrode 5 is located outside the glass substrate 6 of the liquid crystal display element L, the transparent electrode 9 or the black matrix 8 which is a conductor is interposed between the powder control member 4 and the counter electrode 5, and When a voltage is applied to the control member 4 and the counter electrode 5, the potential of the transparent electrode 9 or the black matrix 8 becomes floating, and it becomes impossible to control the electric field. Therefore, the counter electrode 5
In this case, the transparent electrode 9 or the black matrix 8 which is closer to the powder control member 4 is used so that no conductor is interposed therebetween.

【0107】そして、図20(a)に示すように、透明
電極9あるいはブラックマトリックス8に外部から電圧
を印加する端子部分Lnをそれらの外周に形成するため
に、それらの領域を液晶表示素子Lの表示領域Lmより
も大きくしてある。同図(b)は、対向電極5に透明電
極9を利用した場合の断面構成を示したものである。上
記端子部分Lnの少なくとも一部は、同図に示すよう
に、液晶表示素子Lを搬送する搬送部材22に保持され
ている。搬送部材22は、透明電極9と導通を取るため
の導体22a、導電性材料あるいは半導電性材料からな
り静電気を逃がすよう接地された外周部分22b、およ
び導体22aを透明電極9以外の部分から絶縁する絶縁
物22cから構成される。導体22aの端部には電圧印
加部材23が接続されており、これから透明電極9に電
圧を印加するようになっている。これにより、粉体制御
部材4と透明電極9との間には、スペーサーの飛翔電界
が確実に形成される。
Then, as shown in FIG. 20A, in order to form a terminal portion Ln for applying a voltage from the outside to the transparent electrode 9 or the black matrix 8, these regions are formed on the liquid crystal display element L. Is larger than the display area Lm. FIG. 2B shows a cross-sectional configuration in the case where a transparent electrode 9 is used as the counter electrode 5. At least a part of the terminal portion Ln is held by a transport member 22 that transports the liquid crystal display element L, as shown in FIG. The transport member 22 includes a conductor 22a for establishing conduction with the transparent electrode 9, an outer peripheral portion 22b made of a conductive material or a semiconductive material and grounded to release static electricity, and insulates the conductor 22a from portions other than the transparent electrode 9. Composed of an insulator 22c. A voltage applying member 23 is connected to an end of the conductor 22a, and a voltage is applied to the transparent electrode 9 from this. Thereby, the flying electric field of the spacer is reliably formed between the powder control member 4 and the transparent electrode 9.

【0108】次に、これまで説明してきた方法で液晶表
示素子Lにスペーサーを散布した際に、スペーサーがブ
ラックマトリックス8上に確実に付着するようにした場
合の構成について述べる。スペーサーを単に液晶表示素
子Lに向けて飛翔させただけでは、スペーサーが液晶表
示素子Lの表面で跳ね返って飛散してしまう虞がある。
これを防止するために、図21(a)に示すように、粉
体制御部材4よりも上流の搬送路上に噴霧部材24を設
けて液体を噴霧し、マスク25を通して液晶表示素子L
のブラックマトリックス8上に塗布することによってス
ペーサーを捕獲しやすいようにする。
Next, a configuration will be described in which the spacers are surely adhered to the black matrix 8 when the spacers are scattered on the liquid crystal display element L by the method described above. Simply flying the spacer toward the liquid crystal display element L may cause the spacer to rebound and scatter on the surface of the liquid crystal display element L.
In order to prevent this, as shown in FIG. 21A, a spray member 24 is provided on a transport path upstream of the powder control member 4 to spray the liquid, and the liquid crystal display element L
Is applied on the black matrix 8 to make it easier to capture the spacer.

【0109】噴霧状液体には、クロロフルオロカーボン
や液体窒素などの速乾性液体が適当である。特にクロロ
フルオロカーボンよりなる液体は、液晶表示素子Lに損
傷を与えにくく、使用する空間におけるクリーン度の要
求が低いので使いやすい。このような速乾性液体は、ス
ペーサーを捕獲した後に即座に乾くので、液晶表示素子
Lの後のプロセスや、動作・表示に悪影響を与えること
がない。
As the spray liquid, a quick-drying liquid such as chlorofluorocarbon or liquid nitrogen is suitable. In particular, a liquid made of chlorofluorocarbon is easy to use because it hardly damages the liquid crystal display element L and requires low cleanliness in the space where it is used. Since such a quick-drying liquid dries immediately after capturing the spacer, it does not adversely affect processes subsequent to the liquid crystal display element L, operation and display.

【0110】マスク25は、同図(b)のように、ブラ
ックマトリックス8の配列パターンに対応した形状の開
口部25b…を有する平板状の基材25aと、基材25
a全体を裏側から支持する支持部材25cとから構成さ
れている。このようなマスク25を用いれば、開口部2
5b…を通してブラックマトリックス8上にのみ噴霧状
液体を塗布することができ、ブラックマトリックス8以
外の箇所にダストなどの異物が付着するのを防止するこ
とができる。
The mask 25 includes a flat base material 25a having openings 25b... Corresponding to the arrangement pattern of the black matrix 8 as shown in FIG.
a supporting member 25c for supporting the entirety from the back side. If such a mask 25 is used, the opening 2
The spray liquid can be applied only to the black matrix 8 through 5b..., And foreign substances such as dust can be prevented from adhering to places other than the black matrix 8.

【0111】次に、スペーサーの散布状態を読み取って
粉体制御部材4にフィードバックし、スペーサーの散布
条件を調整することができるように構成した場合につい
て説明する。図22に示すように、液晶表示素子Lの搬
送路の下流側に、スペーサー散布後の液晶表示素子Lの
表面状態(スペーサー配列状態)を読み取る散布状態読
み取り部材(パターン判別手段、散布状態読み取り手
段)26を設ける。散布状態読み取り部材26は、読み
取り部材2と同一の構成とすることができる。散布状態
読み取り部材26によって読み取られた情報は、情報伝
達経路の画像処理部材15に入力されて各処理が施され
た後、電圧印加部材18や偏向電極用電圧印加部材21
にフィードバックされ、スペーサーが所望の配列状態に
ない場合は以降の電圧印加条件が変更される。
Next, a case will be described in which the state of application of the spacers is read and fed back to the powder control member 4 to adjust the application conditions of the spacers. As shown in FIG. 22, on the downstream side of the transport path of the liquid crystal display element L, a scattered state reading member (pattern determining means, scattered state reading means) for reading the surface state (spacer arrangement state) of the liquid crystal display element L after the spacers are scattered. ) 26 is provided. The scattering state reading member 26 can have the same configuration as the reading member 2. The information read by the scattered state reading member 26 is input to the image processing member 15 on the information transmission path and subjected to each processing, and then the voltage application member 18 and the voltage application member 21 for the deflection electrode are applied.
When the spacers are not in the desired arrangement state, the subsequent voltage application conditions are changed.

【0112】この場合の処理の流れを以下に説明する。
まず、スペーサーの散布位置を補正する処理について図
23のフローチャートを用いて説明する。S21で散布
状態読み取り部材26によりブラックマトリックス8の
配列パターンと散布されたスペーサーの位置とが読み取
られる。読み取られた情報はS22で画像処理部材15
に入力されて画像処理された後、比較部材20に入力さ
れる。S23で、比較部材20によりブラックマトリッ
クス8の配列パターンに対するスペーサーの位置ずれが
予め定められた規定値以上ではないと判断された場合は
処理を終了する一方、規定値以上であると判断された場
合はS24ないし26の3通りのいずれかの処理を行う
こととする。
The processing flow in this case will be described below.
First, the process of correcting the scatter position of the spacer will be described with reference to the flowchart of FIG. In S21, the arrangement pattern of the black matrix 8 and the positions of the scattered spacers are read by the scatter state reading member 26. The read information is stored in the image processing member 15 at S22.
Is input to the comparison member 20 after image processing. In S23, when the comparison member 20 determines that the displacement of the spacer with respect to the arrangement pattern of the black matrix 8 is not equal to or more than the predetermined value, the process ends, and when it is determined that it is equal to or more than the predetermined value. Performs one of the three processes of S24 to S26.

【0113】S24は、粉体制御部材4において選択し
た電極4a…が適切でなかったとして、電圧を印加する
電極4a…をよりふさわしいものに変更する信号を情報
源から電圧印加部材18に入力する処理である。S25
は、偏向電極4k…によるスペーサーの偏向角度を補正
すればスペーサーを正しい位置に散布することができる
として、偏向電極4k…に印加する電圧を変更する信号
を情報源17から偏向電極用電圧印加部材21に入力す
る処理である。S26は、予め入力部材16から情報源
17に入力しておいたブラックマトリックス8の配列パ
ターンが適切でなかったとして、入力部材16の所定の
配列パターンを補正して情報源17から電圧印加部材1
8または偏向電極用電圧印加部材21に入力する処理で
ある。
In S24, it is determined that the electrodes 4a... Selected in the powder control member 4 are not appropriate, and a signal for changing the electrodes 4a. Processing. S25
Corrects the deflection angle of the spacer by the deflecting electrodes 4k so that the spacers can be spread to the correct position. A signal for changing the voltage applied to the deflecting electrodes 4k. 21. In S26, it is determined that the arrangement pattern of the black matrix 8 previously input from the input member 16 to the information source 17 is not appropriate, and the predetermined arrangement pattern of the input member 16 is corrected and the information source 17
8 or a process of inputting to the deflection electrode voltage applying member 21.

【0114】次に、スペーサーの分散状態を補正する処
理について図24のフローチャートを用いて説明する。
S31で散布状態読み取り部材26によりブラックマト
リックス8上のスペーサーの分散状態が読み取られる。
読み取られた情報はS32で画像処理部材15に入力さ
れて画像処理された後、比較部材20に入力される。S
33で、比較部材20によりスペーサーの分散状態が予
め定められた規定値以上ではないと判断された場合は処
理を終了する一方、規定値以上であると判断された場合
はS34へ進み、粉体制御部材4の電極4a…に印加す
る電圧波形(電圧値あるいはパルス幅)を変更する信号
を情報源17に入力し、最終的にスペーサーの飛翔量を
調節する。
Next, the processing for correcting the dispersion state of the spacer will be described with reference to the flowchart of FIG.
In S31, the dispersion state of the spacers on the black matrix 8 is read by the scatter state reading member 26.
The read information is input to the image processing member 15 in S32 and subjected to image processing, and then input to the comparison member 20. S
At 33, when the comparison member 20 determines that the dispersion state of the spacers is not equal to or greater than the predetermined specified value, the process ends. A signal for changing the voltage waveform (voltage value or pulse width) to be applied to the electrodes 4a of the control member 4 is input to the information source 17, and finally the flying amount of the spacer is adjusted.

【0115】以上のような処理を行えば、スペーサーの
散布状態がずれたとしても、これを適切に補正すること
ができる。
By performing the above-described processing, even if the dispersal state of the spacer is shifted, it can be corrected appropriately.

【0116】次に、スペーサーが液晶表示素子Lの所定
位置に散布できなかった場合に、スペーサーを除去して
再度散布する工程に流すことを可能にするように構成し
た場合について説明する。図25に示すように、製造装
置1の搬出側から搬入側へ通じる回収ライン27を設
け、この回収ライン27上にスペーサーを除去するクリ
ーニング部材28を配置する。粉体帯電器3、粉体制御
部材4および対向電極5から構成される散布部29でス
ペーサーが散布された液晶表示素子Lに対し、前述した
散布状態読み取り部材26によって、スペーサーが所定
位置からずれた箇所に散布されていることが確認される
と、液晶表示素子Lは回収ライン27に送られ、クリー
ニング部材28によってスペーサーが除去された後、再
度製造装置1に搬入されてスペーサーが散布される。
Next, a case will be described in which, when the spacers cannot be sprayed at the predetermined position of the liquid crystal display element L, the spacers can be removed and the process can be re-sprayed. As shown in FIG. 25, a collection line 27 is provided from the carry-out side to the carry-in side of the manufacturing apparatus 1, and a cleaning member 28 for removing a spacer is disposed on the collection line 27. With respect to the liquid crystal display element L on which the spacers are scattered by the scatter portion 29 composed of the powder charger 3, the powder control member 4, and the counter electrode 5, the spacer is displaced from a predetermined position by the scatter state reading member 26 described above. When it is confirmed that the liquid crystal display element L has been sprayed on the place, the liquid crystal display element L is sent to the collection line 27, and after the spacer is removed by the cleaning member 28, the liquid crystal display element L is again carried into the manufacturing apparatus 1 and the spacer is sprayed. .

【0117】クリーニング部材28には種々の形態のも
のを適用することができる。まず、図26(a)に示す
ように、中心に設けられた吹き付け部28aによって気
体を液晶表示素子Lに吹き付けてスペーサーを舞い上が
らせ、その周囲に設けられ真空ポンプなどに接続された
吸引部28bによって吸引するものが挙げられる。この
クリーニング部材28を用いる場合、気体の吹き付けは
連続的に行うよりも、ある時間間隔を置いてパルス状に
行う方がスペーサーの収集効率が高い。
Various forms can be applied to the cleaning member 28. First, as shown in FIG. 26 (a), a gas is blown onto the liquid crystal display element L by a blowing portion 28a provided at the center to cause the spacer to fly up, and a suction portion 28b provided around the space and connected to a vacuum pump or the like. For suction. In the case of using the cleaning member 28, the efficiency of collecting the spacer is higher when the gas is blown in a pulsed manner at a certain time interval than when the gas is blown continuously.

【0118】また、液晶表示素子Lに対するスペーサー
の付着力を予め弱めておいて容易にスペーサーを除去す
るために、同図(b)に示すように、液体塗布部材30
を設け、前もって液晶表示素子Lの全面にクロロフルオ
ロカーボンや液体窒素などの速乾性液体を塗布してもよ
い。液体は速乾性なので、クリーニング工程の後に、液
晶表示素子Lのプロセスや、動作・表示に悪影響を及ぼ
すことはない。
In order to easily remove the spacer by weakening the adhesive force of the spacer to the liquid crystal display element L in advance, as shown in FIG.
And a quick-drying liquid such as chlorofluorocarbon or liquid nitrogen may be applied to the entire surface of the liquid crystal display element L in advance. Since the liquid is quick-drying, there is no adverse effect on the process, operation, and display of the liquid crystal display element L after the cleaning step.

【0119】また、スペーサーの除去の際に静電気が発
生しないよう、同図(c)に示すように、導電性ブラシ
28cでスペーサーを掻き取って吸引部28bで吸引す
るようにしてもよい。さらに、同図(d)に示すよう
に、導電性ブラシ28cに電源28dから交流または直
流電圧を印加してこれにより発生する電界でスペーサー
を吸引除去するようにしてもよい。以上のようなクリー
ニング部材28を設けることによって、スペーサーを容
易にかつ確実に液晶表示素子Lから除去することができ
る。
Further, in order to prevent static electricity from being generated when the spacer is removed, the spacer may be scraped by the conductive brush 28c and sucked by the suction portion 28b as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 5D, an AC or DC voltage may be applied to the conductive brush 28c from the power supply 28d, and the spacer may be sucked and removed by an electric field generated thereby. By providing the cleaning member 28 as described above, the spacer can be easily and reliably removed from the liquid crystal display element L.

【0120】次に、静電気によって液晶表示素子Lおよ
び粉体制御部材4に不良が発生することを防止するよう
に構成した場合について説明する。図27に示すよう
に、液晶表示素子Lの搬入口付近に液晶表示素子Lの除
電を行う第1除電部材31、液晶表示素子Lの搬出口付
近にスペーサーを散布した後の液晶表示素子Lの除電を
行う第2除電部材32、および粉体制御部材4の除電を
行う第3除電部材33を設ける。そして、液晶表示素子
Lを所定枚数、例えば一枚処理するごとに除電を行うよ
うにする。
Next, a description will be given of a case in which a defect is prevented from occurring in the liquid crystal display element L and the powder control member 4 due to static electricity. As shown in FIG. 27, a first static elimination member 31 that removes electricity from the liquid crystal display element L near the carry-in entrance of the liquid crystal display element L, and a liquid crystal display element L after the spacer is sprayed around the carry-out exit of the liquid crystal display element L. A second charge removing member 32 for removing charge and a third charge removing member 33 for removing charge of the powder control member 4 are provided. Then, each time a predetermined number of the liquid crystal display elements L are processed, for example, one by one, the charge is removed.

【0121】各除電部材には、軟X線除電装置、紫外線
照射式除電装置、あるいはコロナ放電除電装置を適用す
ることができる。軟X線除電装置の場合は、X線の漏洩
防止のために、装置全体を例えば厚さ2mm程度の塩化
ビニル板で覆うのが望ましい。紫外線照射式除電装置の
場合は、Ce(セリウム)含有ガラスや、非晶質シリコ
ン酸化膜(a−SiOx )、非晶質シリコン窒化膜(a
−SiNx)などの薄膜を形成した樹脂などで形成され
る紫外線吸収部材で装置周辺を覆うのが望ましい。コロ
ナ放電除電装置の場合は、イオンの発生部に不活性ガス
などを供給してオゾンの発生を低減させるのが望まし
い。
A soft X-ray static eliminator, an ultraviolet irradiation type neutralizer, or a corona discharge neutralizer can be applied to each neutralization member. In the case of a soft X-ray static eliminator, it is desirable to cover the entire apparatus with, for example, a vinyl chloride plate having a thickness of about 2 mm in order to prevent leakage of X-rays. In the case of an ultraviolet irradiation type static eliminator, Ce (cerium) -containing glass, an amorphous silicon oxide film (a-SiOx), an amorphous silicon nitride film (a
It is desirable to cover the periphery of the device with an ultraviolet absorbing member formed of a resin or the like on which a thin film such as -SiNx) is formed. In the case of a corona discharge static eliminator, it is desirable to supply an inert gas or the like to the ion generating section to reduce the generation of ozone.

【0122】また、図28に示すように、粉体制御部材
4の表面電位を検知する表面電位検知部材34を設け、
これによる検知結果に基づいて第3除電部材33により
粉体制御部材4の除電を行うようにしてもよい。表面電
位検知部材34は、同図中の矢印方向に可動であり、移
動しながら電極形成領域4mの全面にわたって表面電位
を検知する。この場合、必要なときにのみ粉体制御部材
4を除電することが可能であるので、プロセスを簡素化
することができる。この場合の処理の流れを図29のフ
ローチャートに示す。S41で表面電位検知部材34に
より粉体制御部材4の表面電位を検知する。S42で表
面電位が基準値以上でない場合には処理を終了する一
方、基準値以上である場合にはS43へ進み、第3除電
部材33で粉体制御部材4を除電する。
As shown in FIG. 28, a surface potential detecting member 34 for detecting the surface potential of the powder control member 4 is provided.
The third control member 33 may remove the charge of the powder control member 4 based on the detection result. The surface potential detecting member 34 is movable in the direction of the arrow in the figure, and detects the surface potential over the entire surface of the electrode forming region 4m while moving. In this case, the process can be simplified because the powder control member 4 can be neutralized only when necessary. The flow of the process in this case is shown in the flowchart of FIG. In S41, the surface potential of the powder control member 4 is detected by the surface potential detection member 34. If the surface potential is not equal to or greater than the reference value in S42, the process is terminated. If the surface potential is equal to or greater than the reference value, the process proceeds to S43, where the third charge removing member 33 removes the charge from the powder control member 4.

【0123】さらに、一つの除電部材を可動に構成し、
移動させることによって第1除電部材31、第2除電部
材32、および第3除電部材33を兼用するようにすれ
ば、製造装置1の構成を簡素化することができる。図3
0はこのように構成した製造装置1を上方から見た図で
あり、この構成では除電部材35が移動可能なレール3
6…が設けられている。例えば、A・B・Cの各点から
は、除電部材35がレール36…上を液晶表示素子Lの
搬送方向に対して垂直方向に移動可能であり、A〜B〜
C間では液晶表示素子Lの搬送方向に対して平行に移動
可能である。特に、Bでは昇降部材(図示せず)によっ
て上下方向(紙面に垂直な方向)にも移動可能であり、
散布部29の粉体制御部材4に近接・離反するようにな
っている。
Further, one static elimination member is configured to be movable,
If the first static eliminator 31, the second static eliminator 32, and the third static eliminator 33 are shared by being moved, the configuration of the manufacturing apparatus 1 can be simplified. FIG.
0 is a view of the manufacturing apparatus 1 configured as described above as viewed from above.
6 are provided. For example, from each of the points A, B, and C, the charge removing member 35 can move on the rails 36... In the direction perpendicular to the transport direction of the liquid crystal display element L.
Between the positions C, the liquid crystal display element L can be moved in parallel to the transport direction. In particular, B can be moved in the vertical direction (perpendicular to the paper) by a lifting member (not shown),
It is designed to approach and separate from the powder control member 4 of the spraying unit 29.

【0124】また、除電部材35は、図31(a)に示
すように、ヘッド35a…、ヘッド支持部材35b、及
び除電部材支持部材35cから構成されている。複数の
ヘッド35a…はヘッド支持部材35bに取り付けられ
ており、ヘッド支持部材35bを支点として回転可能に
なっている。また、除電部材支持部材35cには同図
(b)に示すように長方形の開口部35dが設けられて
おり、この開口部35dを通して除電が行われるように
なっている。
As shown in FIG. 31A, the static elimination member 35 includes heads 35a,..., A head support member 35b, and a static elimination member support member 35c. The plurality of heads 35a are attached to the head support member 35b, and are rotatable around the head support member 35b. As shown in FIG. 3B, the charge removing member supporting member 35c is provided with a rectangular opening 35d, and the charge is removed through the opening 35d.

【0125】次に、粉体制御部材4へのスペーサーの付
着状況を検知し、必要ならばこのスペーサーを除去する
ことができるように構成した場合について説明する。図
32に示すように、前述の認識部材19を、粉体制御部
材4に付着したスペーサーの状況をモニターするモニタ
ー部材として機能させる。また、認識部材19のモニタ
ー結果に基づいて、粉体制御部材4に付着したスペーサ
ーを除去する粉体制御部材用クリーニング部材37を設
ける。粉体制御部材用クリーニング部材37は、前述し
たクリーニング部材28と同等の構成とすることができ
る。
Next, a case will be described in which the state of attachment of the spacer to the powder control member 4 is detected, and the spacer can be removed if necessary. As shown in FIG. 32, the above-described recognition member 19 functions as a monitor member that monitors the state of the spacer attached to the powder control member 4. Further, based on the monitoring result of the recognition member 19, a cleaning member 37 for a powder control member for removing the spacer attached to the powder control member 4 is provided. The cleaning member 37 for the powder control member can have the same configuration as the cleaning member 28 described above.

【0126】また、同図に示すように、クリーニングの
際に、粉体制御部材用クリーニング部材37が粉体帯電
器3内のスペーサーを吸い込んだり、後述する液体が粉
体帯電器3内に入り込んだりするのを防止するために、
粉体制御部材4と粉体帯電器3との間に、シャッターな
どの遮蔽部材38を設ける。クリーニング時には遮蔽部
材38を矢印の右側方向にスライドさせて閉状態とす
る。なお、クリーニングは、第3除電部材33により粉
体制御部材4の除電を行った後に行う方が、スペーサー
の付着力が弱まるので効果的である。認識部材19、粉
体制御部材用クリーニング部材37、および第3除電部
材33は、それぞれ必要に応じて矢印方向に移動させる
ことができる。
Further, as shown in the figure, at the time of cleaning, the cleaning member 37 for the powder control member sucks the spacer in the powder charger 3 or the liquid described later enters the powder charger 3. In order to prevent
A shielding member 38 such as a shutter is provided between the powder control member 4 and the powder charger 3. At the time of cleaning, the shielding member 38 is slid to the right side of the arrow to bring it into the closed state. In addition, it is more effective to perform the cleaning after removing the charge of the powder control member 4 by the third charge removing member 33 because the adhesion of the spacer is weakened. The recognition member 19, the powder control member cleaning member 37, and the third charge removing member 33 can be moved in the direction of the arrow as needed.

【0127】また、遮蔽部材38を設けない場合は、粉
体帯電器3からのスペーサーの吸引が起こる可能性があ
るので、クリーニング終了後に粉体帯電器3を安定した
状態に戻すよう所定時間駆動させるとよい。
If the shielding member 38 is not provided, there is a possibility that suction of the spacer from the powder charger 3 may occur. Therefore, after the cleaning is completed, the powder charger 3 is driven for a predetermined time so as to return to a stable state. It is good to let.

【0128】以上のクリーニングの処理の流れを図33
のフローチャートに示す。S51で認識部材19により
粉体制御部材4に付着したスペーサーの量をモニター
し、S52でモニター結果を画像処理部材15により画
像処理して比較部材20に入力する。S53で比較部材
20によりスペーサーの付着量が規定値以上でないと判
断された場合には処理を終了する一方、規定値以上であ
ると判断された場合にはS54へ進み、第3除電部材3
3によって粉体制御部材4の除電を行う。
The flow of the above cleaning process is shown in FIG.
Is shown in the flowchart of FIG. In S51, the amount of the spacer attached to the powder control member 4 is monitored by the recognition member 19, and in S52, the monitoring result is image-processed by the image processing member 15 and input to the comparison member 20. If the comparison member 20 determines in step S53 that the attached amount of the spacer is not equal to or larger than the specified value, the process ends. If it is determined that the spacer attachment amount is equal to or larger than the specified value, the process proceeds to step S54, and the third charge removing member 3
By 3, static elimination of the powder control member 4 is performed.

【0129】次いで、遮蔽部材38が設けられていない
場合にはS55へ進み、粉体制御部材用クリーニング部
材37による粉体制御部材4のクリーニングを行う。遮
蔽部材38が設けられている場合にはS56へ進み、遮
蔽部材38が閉じられるまで待ち、閉じられるとS57
で粉体制御部材用クリーニング部材37による粉体制御
部材4のクリーニングを行う。このような処理を行うこ
とにより、粉体制御部材4を常に安定して駆動すること
ができる。
Next, when the shielding member 38 is not provided, the process proceeds to S55, where the powder control member 4 is cleaned by the powder control member cleaning member 37. When the shielding member 38 is provided, the process proceeds to S56, and waits until the shielding member 38 is closed.
Then, the powder control member 4 is cleaned by the powder control member cleaning member 37. By performing such processing, the powder control member 4 can always be driven stably.

【0130】なお、これまで述べた製造装置1の各部材
は、図34に示すように制御部39と接続されており、
上述した各部材の全ての動作はこの制御部39によって
制御されるようになっている。
The components of the manufacturing apparatus 1 described above are connected to the control unit 39 as shown in FIG.
All the operations of the above-described members are controlled by the control unit 39.

【0131】以上に述べたように、本実施の形態の液晶
表示素子の製造装置および製造方法によれば、液晶表示
素子Lのブラックマトリックス8の配列パターンを読み
取り、その情報に基づいてスペーサーを飛翔させるよう
にしたので、スペーサーを所望の位置に確実に散布する
ことができる。
As described above, according to the apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display element of the present embodiment, the arrangement pattern of the black matrix 8 of the liquid crystal display element L is read, and the spacer flies based on the information. As a result, the spacers can be surely sprayed at desired positions.

【0132】〔実施の形態2〕本発明の液晶表示素子の
製造装置および製造方法の他の実施の形態について図3
5ないし図50に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。
[Embodiment 2] Another embodiment of the apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display element of the present invention is shown in FIG.
The following is a description based on FIGS.

【0133】本実施の形態の製造装置は、実施の形態1
で述べた製造装置1において、粉体帯電器3がスペーサ
ーを安定かつ容易に帯電させて粉体制御部材4に供給す
るように構成されていることに特徴がある。粉体帯電器
3はいくつかの形態を取ることが可能であり、それらに
ついて以下に説明する。
The manufacturing apparatus of the present embodiment is similar to that of the first embodiment.
Is characterized in that the powder charger 3 is configured to stably and easily charge the spacer and supply it to the powder control member 4. The powder charger 3 can take several forms, which will be described below.

【0134】粉体帯電器3の第1の形態の断面構成を図
35(a)に示す。同図において、粉体帯電器3は、撹
拌室51および帯電室52から構成される。撹拌室51
には所定量のスペーサーが貯蔵されており、また、この
スペーサーを撹拌する撹拌ローラ53が設けられてい
る。帯電室52は撹拌室51と仕切り部54によって仕
切られており、スペーサーを摩擦帯電させて粉体制御部
材4に供給する粉体担持体55、撹拌室51から送出さ
れたスペーサーを粉体担持体55に供給する供給ローラ
56、および支持体57によって支持されるとともに粉
体担持体55上のスペーサーの層厚規制を行うブレード
58が設けられている。撹拌室51内で撹拌ローラ53
によって撹拌されたスペーサーは帯電室52に供給さ
れ、供給ローラ56によって粉体担持体55に供給され
る。粉体担持体55に担持されたスペーサーは、粉体担
持体55の回転に伴ってブレード58により層厚規制さ
れるとともに、摩擦帯電により所定量の電荷が付与され
る。帯電したスペーサーは、粉体担持体55の回転によ
り粉体担持体55の最上部まで運ばれると、そこで粉体
制御部材4に供給される。このようにすると、スペーサ
ーを安定して均一に帯電させることができるとともに、
粉体制御部材4に一定の割合で安定して供給することが
できる。
FIG. 35A shows a sectional configuration of the first embodiment of the powder charger 3. In the figure, the powder charger 3 includes a stirring chamber 51 and a charging chamber 52. Stir chamber 51
Has a predetermined amount of spacers stored therein, and a stirring roller 53 for stirring the spacers. The charging chamber 52 is partitioned by a stirring chamber 51 and a partitioning section 54, and a powder carrier 55 that frictionally charges the spacer and supplies the powder to the powder control member 4, and a spacer delivered from the stirring chamber 51 is a powder carrier. There are provided a supply roller 56 for supplying to the 55, and a blade 58 supported by the support 57 and for regulating the layer thickness of the spacer on the powder carrier 55. The stirring roller 53 in the stirring chamber 51
The spacer stirred by this is supplied to the charging chamber 52, and is supplied to the powder carrier 55 by the supply roller 56. The thickness of the spacer carried on the powder carrier 55 is regulated by the blade 58 with the rotation of the powder carrier 55, and a predetermined amount of electric charge is applied by frictional charging. When the charged spacer is carried to the uppermost part of the powder carrier 55 by the rotation of the powder carrier 55, it is supplied to the powder control member 4 there. In this way, the spacer can be stably and uniformly charged, and
The powder can be stably supplied to the powder control member 4 at a constant rate.

【0135】また、同図(b)に示すように、粉体担持
体55の最上部に接触するようにブレード59を設け、
これによって、帯電したスペーサーのクラウドを形成す
るよにするとなお好ましい。スペーサーのクラウドを形
成すると、スペーサー粒子間の付着力が弱くなるので、
粉体制御部材4はスペーサーを低電界で飛翔させること
ができる。
As shown in FIG. 13B, a blade 59 is provided so as to be in contact with the uppermost portion of the powder carrier 55.
It is even more preferred that a cloud of charged spacers be thereby formed. Forming a cloud of spacers weakens the adhesion between the spacer particles,
The powder control member 4 can fly the spacer with a low electric field.

【0136】さらに、図36に示すように、粉体担持体
55の代りに、ローラ60・60に張架されたベルト状
担持体62を設けるようにしてもよい。ベルト状担持体
62へのスペーサーの供給過程および帯電過程は、粉体
担持体55の場合と同様である。ベルト状担持体62を
用いると、粉体担持体55の場合の効果に加えて大面積
でスペーサーを供給することができる。
Further, as shown in FIG. 36, instead of the powder carrier 55, a belt-shaped carrier 62 stretched around rollers 60 may be provided. The process of supplying the spacer to the belt-shaped carrier 62 and the process of charging are the same as in the case of the powder carrier 55. When the belt-shaped carrier 62 is used, the spacer can be supplied over a large area in addition to the effect of the powder carrier 55.

【0137】また、粉体担持体55の場合は、粉体制御
部材4と対向する部分が曲率を有しているため、この部
分から粉体制御部材4までの距離に分布が生じる。従っ
て、スペーサーを均一に飛翔させようとすると、粉体制
御部材4はその距離に応じて印加電圧の大きさやパルス
幅を補正しなければならない。これに対して、ベルト状
担持体62の場合は、ベルトが平坦になっている箇所を
粉体制御部材4との対向部分にすれば距離に分布が生じ
ないので、上記で述べた複雑な制御が不要である。な
お、ベルト状担持体62には補助部材61が設けられて
おり、粉体制御部材4に形成されている電極形成領域4
mに対向する位置に配置される。上述した粉体担持体5
5および補助部材61は、アース電位に保たれるか、必
要に応じて適切なバイアス電圧が印加されるよう構成さ
れている。
In the case of the powder carrier 55, since the portion facing the powder control member 4 has a curvature, a distribution occurs in the distance from this portion to the powder control member 4. Therefore, in order to make the spacer fly uniformly, the powder control member 4 must correct the magnitude of the applied voltage and the pulse width according to the distance. On the other hand, in the case of the belt-shaped carrier 62, if the portion where the belt is flat is made to be the portion facing the powder control member 4, the distribution does not occur in the distance. Is unnecessary. An auxiliary member 61 is provided on the belt-shaped carrier 62, and the electrode forming region 4 formed on the powder control member 4 is provided.
m. Powder carrier 5 described above
5 and the auxiliary member 61 are configured to be maintained at the ground potential or to be applied with an appropriate bias voltage as needed.

【0138】次に、粉体帯電器3の第2の形態の断面構
成を図37に示す。同図は、粉体帯電器3を液晶表示素
子Lの搬送方向に沿って切断した場合の断面図である。
粉体帯電器3は、大別してイオン発生部63…および粉
体供給部64から構成される。粉体供給部64は同断面
が紙面に対して垂直に(液晶表示素子Lの幅方向に)長
く延びた形状の容器である。その長手方向は、液晶表示
素子L上の全領域にスペーサーを飛翔させることができ
るよう、少なくとも液晶表示素子Lを幅方向に横切るよ
うな寸法に設定されている。
Next, FIG. 37 shows a sectional configuration of the second embodiment of the powder charger 3. FIG. 3 is a cross-sectional view when the powder charger 3 is cut along the transport direction of the liquid crystal display element L.
The powder charger 3 is roughly composed of an ion generator 63 and a powder supplier 64. The powder supply section 64 is a container having the same cross-section extending vertically to the paper surface (in the width direction of the liquid crystal display element L). The longitudinal direction is set to at least the width across the liquid crystal display element L in the width direction so that the spacer can fly over the entire area on the liquid crystal display element L.

【0139】同図に示すように、粉体制御部材4に対向
する上面64aにはスペーサーが放出される開口部64
bが設けられている一方、底部64cはスペーサーの集
合体であるスペーサー溜まり(粉体溜まり)65を保有
していて、最下部から所定の高さまでは円筒面をなして
いる。また、底部64cは、Al・Niなどの金属や、
透明電極として使用される酸化スズ(SnO2 )、アイ
・ティー・オー(ITO:Indium Tin Oxide)などの導
電性材料からなり、接地されている。
As shown in the figure, an opening 64 from which a spacer is released is provided on an upper surface 64a facing the powder control member 4.
While b is provided, the bottom 64c has a spacer pool (powder pool) 65, which is an aggregate of spacers, and has a cylindrical surface at a predetermined height from the bottom. The bottom 64c is made of a metal such as Al
It is made of a conductive material such as tin oxide (SnO 2 ) or ITO (Indium Tin Oxide) used as a transparent electrode, and is grounded.

【0140】イオン発生部63…は、粉体供給部64の
底部64cより上方の側壁に、粉体供給部64の最下部
から所定の高さにおいて複数が対面するよう配置されて
いる。イオン発生部63…は、それぞれ電源E1から印
加された電圧によって、ハウス63a内の放電電極63
bでコロナ放電などを起こすことによりイオンを発生さ
せる。発生したイオンは、放電電極63bと粉体供給部
64の底部64cとの間に形成される電界によって加速
され、イオン流Fとなってスペーサー溜まり65に照射
される。
A plurality of ion generators 63 are arranged on the side wall above the bottom 64c of the powder supply unit 64 so as to face each other at a predetermined height from the lowermost part of the powder supply unit 64. The ion generators 63... Are driven by the voltages applied from the power source E1 to discharge electrodes 63 in the house 63a.
The ions are generated by causing corona discharge or the like in b. The generated ions are accelerated by an electric field formed between the discharge electrode 63b and the bottom 64c of the powder supply unit 64, and are irradiated as ion flows F to the spacer pool 65.

【0141】この結果、スペーサー溜まり65からはイ
オンの電荷が付与されることによって帯電したスペーサ
ーがイオン照射の反跳によって運動エネルギーを得て舞
い上がり、供給形態に適したクラウドとなって粉体供給
部64の開口部64bから粉体制御部材4へ運ばれるよ
うになっている。このように、イオン発生部63…によ
って発生したイオンの加速軌道上にスペーサー溜まり6
5が位置するので、イオンが効率よくスペーサーに照射
され、それだけスペーサーを効率よく帯電させてクラウ
ド状にすることができる。
As a result, the charged spacers are charged with ions from the spacer pool 65 to gain kinetic energy by the recoil of the ion irradiation and fly up, forming a cloud suitable for the supply mode and forming a powder supply unit. The material is conveyed to the powder control member 4 from the opening 64b. As described above, the spacer pool 6 on the acceleration trajectory of the ions generated by the ion generators 63.
Since 5 is located, ions are efficiently irradiated to the spacers, and the spacers can be efficiently charged to that extent to form a cloud.

【0142】また、前述したように複数のイオン発生部
63…が側壁上で対面するように配置されていることに
よって、照射されるイオン流Fが粉体供給部64内で均
一になる。さらに、粉体供給部64の底部64cが円筒
面を有していることによって、イオン発生部63…と底
部64cとの間に形成される電界が粉体供給部64内で
均一になる。従って、スペーサーの帯電の均一性を向上
させることができる。
Further, as described above, since the plurality of ion generators 63 are arranged so as to face each other on the side wall, the ion flow F to be irradiated becomes uniform in the powder supply unit 64. Further, since the bottom 64c of the powder supply unit 64 has a cylindrical surface, the electric field formed between the ion generating units 63 and the bottom 64c becomes uniform in the powder supply unit 64. Therefore, the uniformity of the charging of the spacer can be improved.

【0143】なお、粉体供給部64の形状には上記以外
のものに様々なものが考えられるので、複数のイオン発
生部63…はそれぞれの形状に応じてイオンを均一に供
給することができるよう、粉体供給部64の最下部から
所定の高さの側壁上で均一に分散するように配置すると
よい。また、粉体供給部64の底部64cが最下部から
所定の高さまで円筒面であるとしたがこれに限らず、球
面であるとしてもよい。
Since the powder supply section 64 may have various shapes other than those described above, the plurality of ion generation sections 63 can uniformly supply ions in accordance with the respective shapes. As described above, the powder supply unit 64 may be disposed so as to be uniformly dispersed on the side wall having a predetermined height from the lowermost portion. In addition, the bottom portion 64c of the powder supply unit 64 has a cylindrical surface from the lowermost portion to a predetermined height, but is not limited thereto, and may have a spherical surface.

【0144】なお、上記の構成の粉体帯電器3におい
て、条件によってはクラウド状になったスペーサーが粉
体供給部64内からイオン発生部63…内に侵入して付
着することによって汚染が発生し、これが進行してイオ
ン発生部63…の機能が低下する虞がある。そこで、こ
のような弊害を防止するために、図38に示すように、
イオン発生部63の粉体供給部64との境界にメッシュ
状部材(粉体侵入阻止部材)63cを設ける。
In the powder charger 3 having the above-described structure, depending on the conditions, the cloud-shaped spacer enters the ion generators 63... From the powder supply unit 64 and adheres thereto, thereby causing contamination. However, there is a possibility that the function of the ion generators 63 may be reduced due to the progress. Therefore, in order to prevent such adverse effects, as shown in FIG.
A mesh-like member (powder intrusion prevention member) 63c is provided at a boundary between the ion generation unit 63 and the powder supply unit 64.

【0145】メッシュ状部材63cには電源E2からバ
イアス電圧が印加されるようになっており、これにより
形成する電界によって、帯電したスペーサーを粉体供給
部64内に押し戻してイオン発生部63内に侵入しない
ようにする。バイアス電圧の極性は、スペーサーの帯電
極性に応じて適宜変更される。メッシュ状をなしている
ので、イオン発生部63…と粉体供給部64の底部64
cとの間に発生する電界を遮ることがない上、イオン発
生部63…内で発生したイオンが通り抜けて粉体供給部
64内に達することができる。また、このとき、メッシ
ュ状部材63cと、接地したハウス63aとの間に絶縁
部材63dを介在させて両者を絶縁するようにする。
A bias voltage is applied to the mesh member 63c from the power source E2, and the charged spacer is pushed back into the powder supply section 64 by the electric field generated by the power supply E2, so that the ion generation section 63 is charged. Avoid intrusion. The polarity of the bias voltage is appropriately changed according to the charging polarity of the spacer. Because of the mesh shape, the ion generator 63 and the bottom 64 of the powder supply 64
c, and the ions generated in the ion generators 63 can pass through and reach the powder supply unit 64. At this time, an insulating member 63d is interposed between the mesh member 63c and the grounded house 63a to insulate both members.

【0146】あるいは、上記問題を回避するために以下
のような方法を採用することもできる。すなわち、図3
9(a)に示すように、イオン発生部63の外側に送風
部材(粉体侵入阻止部材)66を設け、これからイオン
発生部63に気体を吹き付けてスペーサーをイオン発生
部63内に寄せ付けないようにする。吹き付ける気体と
しては空気でもよいが、オゾンが発生しないようにAr
(アルゴン)、Ne(ネオン)、He(ヘリウム)、N
2 (窒素)、Kr(クリプトン)などの不活性ガスを用
いるのが望ましい。
Alternatively, the following method can be adopted to avoid the above problem. That is, FIG.
As shown in FIG. 9A, a blowing member (a powder intrusion preventing member) 66 is provided outside the ion generating section 63, and a gas is blown to the ion generating section 63 so that the spacer is not brought into the ion generating section 63. To The gas to be blown may be air, but Ar gas is used so that ozone is not generated.
(Argon), Ne (neon), He (helium), N
It is desirable to use an inert gas such as 2 (nitrogen) or Kr (krypton).

【0147】図示しない気体供給源から供給された気体
は配管66aを通って緩衝部材66bに入るようになっ
ている。緩衝部材66bは圧力バッファの役割を果た
し、供給する気体の圧力変動を抑える。緩衝部材66b
の下流側先端には、気体をイオン発生部63に向けて吹
き出す吹き出し部材66cが設けられている。吹き出し
部材66cは多数の開口部66d…が設けられたノズル
である。
The gas supplied from a gas supply source (not shown) passes through the pipe 66a and enters the buffer member 66b. The buffer member 66b plays a role of a pressure buffer, and suppresses pressure fluctuation of the supplied gas. Buffer member 66b
A blowing member 66c that blows gas toward the ion generating section 63 is provided at the downstream end of the gas generating section. The blowing member 66c is a nozzle provided with a large number of openings 66d.

【0148】同図(b)は吹き出し部材66cを吹き出
し方向から見た図であるが、開口部66d…は両端に向
かうほど開口径が大きくなり、また開口部66d…間の
間隔が小さくなるよう形成されている。このような構成
とすることによって、吹き出し部材66cの中央部にお
ける吹き出し圧力が両端部に比べて大きくなるのを防
ぎ、均一な吹き出しを可能にする。こうして吹き出し部
材66cから吹き出した気体は、ハウス63aに設けら
れた窓63eからイオン発生部63内へ達し、イオン発
生部63内に侵入しようとするスペーサーを吹き飛ば
す。
FIG. 17B is a view of the blowing member 66c viewed from the blowing direction. The opening diameters of the openings 66d become larger toward both ends, and the distance between the openings 66d becomes smaller. Is formed. With such a configuration, it is possible to prevent the blowing pressure at the central portion of the blowing member 66c from becoming larger than that at both ends, thereby enabling uniform blowing. The gas blown out from the blowing member 66c in this way reaches the inside of the ion generating section 63 from the window 63e provided in the house 63a, and blows off the spacer which is going to enter the ion generating section 63.

【0149】また、粉体帯電器3においては、粉体供給
部64のスペーサー溜まり65のスペーサーを均等に使
用するために、図40(a)に示すように、粉体供給部
64の底部64c側にスペーサー溜まり65を撹拌する
プロペラ状の撹拌部材67を設けることもできる。撹拌
部材67は、底部64cに近接して回転可能に形成され
ている。撹拌部材67による撹拌によって、スペーサー
溜まり65の上層・下層に係わらずスペーサーを均等に
使用し、いつまでも使用されないスペーサーが残らない
ようにすることができる。
In the powder charger 3, as shown in FIG. 40A, in order to use the spacers of the spacer pool 65 of the powder supply unit 64 uniformly, as shown in FIG. A propeller-like stirring member 67 for stirring the spacer pool 65 may be provided on the side. The stirring member 67 is formed to be rotatable in proximity to the bottom 64c. By the stirring by the stirring member 67, the spacers can be used evenly regardless of the upper layer and the lower layer of the spacer pool 65, and the spacers that are not used forever can be prevented from remaining.

【0150】また、撹拌部材67は、同図(b)に示す
ように、羽根の部分に多数の開口部67a…を有してお
り、スペーサーを撹拌する際にある程度のスペーサーが
開口部67a…をすり抜けるようにして抵抗力を減らし
ている。このように構成することによって、スペーサー
溜まり65を穏やかに撹拌し、帯電しない不要なスペー
サーの舞い上がりを防止することができる。
The stirring member 67 has a large number of openings 67a in the blade portion as shown in FIG. 13B, and when the spacers are stirred, a certain amount of the spacers are opened. To reduce the resistance. With such a configuration, the spacer pool 65 can be gently agitated, and unnecessary uncharged spacers can be prevented from rising.

【0151】さらに、粉体帯電器3においては、スペー
サー溜まり65が粉体供給部64内で偏在しないよう、
図41に示すように超音波振動などを発生する振動部材
68…を粉体供給部64の底部64cの外側に設けるこ
ともできる。これにより、粉体供給部64内ではスペー
サー溜まり65の上面が振動によってならされて平坦に
なり、スペーサーが均一に分散するようになる。
Further, in the powder charger 3, the spacer pool 65 is not unevenly distributed in the powder supply unit 64.
As shown in FIG. 41, a vibration member 68 that generates ultrasonic vibration or the like may be provided outside the bottom 64c of the powder supply unit 64. As a result, the upper surface of the spacer pool 65 is flattened by the vibration in the powder supply unit 64, and the spacers are uniformly dispersed.

【0152】次に、粉体帯電器3の第3の形態の断面構
成を図42に示す。この粉体帯電器3は、粉体供給部6
4内の上方の空間64dを挟むように粒子径検知部材7
1、粒子濃度検知部材72、および校正部材73を設け
たものである。飛翔させるスペーサーには最適な粒子径
および粒子濃度があるが、この粉体帯電器3ではスペー
サーの状態を検知してイオン発生部63…にフィードバ
ックし、粒子径および粒子濃度の値を制御することがで
きるようになっている。
Next, FIG. 42 shows a sectional configuration of the third embodiment of the powder charger 3. As shown in FIG. The powder charger 3 includes a powder supply unit 6
4 so as to sandwich the upper space 64d in the particle size detecting member 7.
1. A particle concentration detecting member 72 and a calibration member 73 are provided. The flying spacer has an optimum particle diameter and particle concentration. However, the powder charger 3 detects the state of the spacer and feeds it back to the ion generator 63 to control the particle diameter and particle concentration. Is available.

【0153】粒子径検知部材71には光散乱法や光回折
法を用いた装置を適用することができ、例えば図43に
示すような構成となっている。同図では、レーザ発振器
74から出力されたレーザ光をポリゴンミラー77で水
平方向にスキャンし、入射領域71aに入射させる。一
方、レーザ光の一部をビームスプリッター75で分割
し、その強度を参照光用検知器76でモニターする。
An apparatus using a light scattering method or a light diffraction method can be applied to the particle diameter detecting member 71, and has a structure as shown in FIG. 43, for example. In the figure, a laser beam output from a laser oscillator 74 is scanned in a horizontal direction by a polygon mirror 77 and is incident on an incident area 71a. On the other hand, a part of the laser light is split by the beam splitter 75 and the intensity is monitored by the reference light detector 76.

【0154】入射領域71aにはコリメータレンズ78
が設けられており、これによって平行光線となったレー
ザ光はモニター窓81を通過して空間64d内に入射
し、浮遊するスペーサーに散乱あるいは回折された後、
モニター窓82を通って受光領域71bに達する。受光
領域71bにはフォトダイオード・アレイなどの受光素
子からなる検知器79が設けられているので、レーザ光
のスキャンに応じて、各受光素子は散乱または回折パタ
ーンに応じた強度でレーザ光を受光する。
A collimator lens 78 is provided in the incident area 71a.
Is provided, and the laser light that has become a parallel light beam passes through the monitor window 81, enters the space 64d, and is scattered or diffracted by the floating spacer.
The light reaches the light receiving area 71b through the monitor window 82. Since the light receiving area 71b is provided with a detector 79 including a light receiving element such as a photodiode array, each light receiving element receives laser light with an intensity corresponding to a scattering or diffraction pattern in accordance with scanning of the laser light. I do.

【0155】従って、この結果からスペーサーの平均粒
子径を求めてイオン発生部63…にフィードバックし、
規定範囲からずれている場合には規定範囲内の粒子径に
なるよう電源E1…の電圧を変化させてイオン発生部6
3…の出力を調整すればよい。なお、レーザ光を変調し
てON/OFF制御し、検知器79側でレーザ光のON
/OFFに同期して検知を行うことも可能である。ま
た、連続光を照射するならば、検知器79を複数の領域
に分割することにより、領域ごとの粒子径を検知して分
散状態を知ることができる。
Therefore, the average particle diameter of the spacer is determined from the result and fed back to the ion generator 63.
If it is out of the specified range, the voltage of the power supplies E1 is changed so that the particle diameter falls within the specified range, and the ion generator 6
The output of 3 ... may be adjusted. The laser light is modulated to perform ON / OFF control, and the detector 79 turns ON the laser light.
It is also possible to perform detection in synchronization with / OFF. If continuous light is applied, the detector 79 is divided into a plurality of regions, whereby the particle size of each region can be detected and the dispersion state can be known.

【0156】上記の処理の流れを図44のフローチャー
トに示す。まずS61でスペーサーによるレーザ光の散
乱または回折パターンを検知器79で検知し、粒子径を
モニターする。次にS62で粒子径のモニター結果の平
均値を計算し、S63で平均値が規定範囲外か否かを判
定する。規定範囲内であれば望ましい粒子径が得られて
いるので、S61に戻って粒子径モニターを継続する。
一方、規定範囲外であれば粒子径を規定範囲内の値にす
る必要があるので、S64へ進んで電源E1…の電圧を
変化させてイオン発生部63…の出力を調整する。
The flow of the above processing is shown in the flowchart of FIG. First, in step S61, the scattering or the diffraction pattern of the laser beam by the spacer is detected by the detector 79, and the particle diameter is monitored. Next, in S62, the average value of the particle diameter monitoring results is calculated, and in S63, it is determined whether the average value is outside the specified range. If it is within the specified range, a desirable particle diameter has been obtained, so the flow returns to S61 to continue the particle diameter monitoring.
On the other hand, if it is outside the specified range, it is necessary to set the particle diameter to a value within the specified range, so the process proceeds to S64, in which the voltage of the power supplies E1 is changed to adjust the output of the ion generators 63.

【0157】次に、粒子濃度検知部材72には光透過法
を用いて濃度を計測する装置を適用することができ、例
えば上述した粒子径検知部材71と同様に、図43に示
したものを使用することができる。この場合は、検知器
79側でスペーサーによるレーザ光の回折強度を検知
し、この結果を基にスペーサーの粒子濃度を算出してイ
オン発生部63…にフィードバックすることになる。
Next, a device for measuring the concentration using the light transmission method can be applied to the particle concentration detecting member 72. For example, similarly to the above-described particle diameter detecting member 71, the one shown in FIG. Can be used. In this case, the detector 79 detects the diffraction intensity of the laser beam by the spacer, calculates the particle concentration of the spacer based on the result, and feeds it back to the ion generator 63.

【0158】この処理の流れを図45のフローチャート
に示す。まずS71でスペーサーによるレーザ光の回折
の強度を検知器39で検知し、粒子濃度をモニターす
る。次にS72で粒子濃度のモニター結果の平均値を計
算し、S73で平均値が規定範囲外か否かを判定する。
規定範囲内であれば望ましい粒子濃度が得られているの
で、S71に戻って粒子濃度モニターを継続する。一
方、規定範囲外であれば粒子濃度を規定範囲内の値にす
る必要があるので、S74へ進んで電源E1の電圧を変
化させてイオン発生部63…の出力を調整する。
The flow of this process is shown in the flowchart of FIG. First, in step S71, the intensity of the diffraction of the laser beam by the spacer is detected by the detector 39, and the particle concentration is monitored. Next, in S72, the average value of the particle concentration monitoring results is calculated, and in S73, it is determined whether the average value is outside the specified range.
If it is within the specified range, a desirable particle concentration has been obtained, so the flow returns to S71 to continue the particle concentration monitoring. On the other hand, if it is outside the specified range, it is necessary to set the particle concentration to a value within the specified range. Therefore, the process proceeds to S74, in which the voltage of the power source E1 is changed to adjust the output of the ion generating units 63.

【0159】また、粒子径検知部材71と粒子濃度検知
部材72とが同じ構成であるならば、両部材を一つにま
とめ、レーザ光の散乱または回折パターンから粒子径を
求め、回折強度から粒子濃度を求めてもよい。
If the particle diameter detecting member 71 and the particle concentration detecting member 72 have the same structure, the two members are combined into one, the particle diameter is obtained from the scattering or diffraction pattern of the laser light, and the particle diameter is obtained from the diffraction intensity. The concentration may be determined.

【0160】次に校正部材73について説明する。これ
は粒子径検知部材71や粒子濃度検知部材72の校正を
行うためにスペーサーの状態を光学的に検知するもので
あり、光照射部と検知部とにより構成される。光照射部
としてはハロゲンランプなどの白色光源を用いることが
でき、粒子径検知部材71と同様にスキャンして光を照
射する構成としてもよい。今の場合、光照射部と検知部
とは同一方向に配置される。検知部としては、例えば水
平方向にアレイ状に配列されたCCDなどを用いる。そ
して、粒子径検知部材71で検知した領域と同じ領域の
スペーサーに光を照射し、その反射光を測定して画像処
理を行い、粒子径検知部材71によって得られた結果と
比較して校正を行う。これにより、粒子径検知部材71
の校正を正確に行うことができる。
Next, the calibration member 73 will be described. This optically detects the state of the spacer in order to calibrate the particle diameter detection member 71 and the particle concentration detection member 72, and includes a light irradiation unit and a detection unit. A white light source such as a halogen lamp can be used as the light irradiating unit, and a configuration in which scanning and light irradiation are performed similarly to the particle diameter detecting member 71 may be employed. In this case, the light irradiation unit and the detection unit are arranged in the same direction. As the detection unit, for example, CCDs or the like arranged in an array in the horizontal direction are used. Then, light is applied to the spacer in the same area as the area detected by the particle diameter detecting member 71, the reflected light is measured, image processing is performed, and calibration is performed by comparing with the result obtained by the particle diameter detecting member 71. Do. Thereby, the particle diameter detecting member 71
Can be accurately calibrated.

【0161】なお、スペーサーを介して、光照射部と対
向する側にAlなどの高反射率の材料を配した反射部、
あるいは前記の白色光源を配置して、観測されるスペー
サーの像の明るさを調整するようにしても構わない。
A reflecting section in which a high-reflectance material such as Al is disposed on the side facing the light irradiating section via a spacer,
Alternatively, the white light source may be arranged to adjust the brightness of the observed spacer image.

【0162】次に、粒子濃度検知部材72の校正につい
て説明する。粒子濃度検知部材72の校正方法として
は、事前に粒子濃度を変えたときの透過光、あるいは回
折強度の変化と、校正部材73での画像処理結果との相
関を求めておき、粒子を供給して測定した結果と、前記
相関関係とを比較して校正を行う方法が挙げられる。あ
るいは、実際に粒子を供給する代りに標準の粒子を用
い、種々の濃度で記録した写真フィルムを用いて行って
もよい。
Next, the calibration of the particle concentration detecting member 72 will be described. As a method of calibrating the particle concentration detecting member 72, a correlation between transmitted light or a change in diffraction intensity when the particle concentration is changed in advance and an image processing result in the calibration member 73 is obtained, and particles are supplied. And a method of performing calibration by comparing the measurement result with the correlation. Alternatively, instead of actually supplying the particles, standard particles may be used and photographic films recorded at various densities may be used.

【0163】また、粉体帯電器3には粉体供給部64の
開口部64bを開閉する遮蔽部材80が設けられてい
る。粒子径検知部材71または粒子濃度検知部材72の
検知結果が規定範囲外のときには、スペーサーの粒子径
または粒子濃度が所望の値ではないので、このままでは
スペーサーの飛翔が不安定になり、均一に散布されない
虞がある。従って、このような場合には遮蔽部材80で
開口部64bを閉じておいてスペーサーを粉体制御部材
4に供給しないようにする。
The powder charger 3 is provided with a shielding member 80 for opening and closing the opening 64b of the powder supply section 64. When the detection result of the particle diameter detecting member 71 or the particle concentration detecting member 72 is out of the specified range, the particle diameter or the particle concentration of the spacer is not a desired value. It may not be done. Therefore, in such a case, the opening 64b is closed by the shielding member 80 so that the spacer is not supplied to the powder control member 4.

【0164】一方、粒子径検知部材71および粒子濃度
検知部材72の検知結果がイオン発生部63…にフィー
ドバックされて、スペーサーの粒子径および粒子濃度が
規定範囲内に達した後は、スペーサーを飛翔することが
できる状態となるので遮蔽部材80を移動させて開口部
64bを開くようにする。そして、ブラックマトリック
ス8の配列パターンに応じて所定の電圧を粉体制御部材
4に印加する。これにより、スペーサーを常に安定して
飛翔制御することができる。
On the other hand, the detection results of the particle diameter detecting member 71 and the particle concentration detecting member 72 are fed back to the ion generating sections 63..., And after the particle diameter and the particle concentration of the spacer have reached the specified ranges, they fly over the spacer. Then, the shielding member 80 is moved to open the opening 64b. Then, a predetermined voltage is applied to the powder control member 4 according to the arrangement pattern of the black matrix 8. This makes it possible to always stably fly the spacer.

【0165】上記の処理の流れを図46および図47の
フローチャートに示す。図46は、粒子径および粒子濃
度の検知を時系列的に処理する場合を示したものであ
る。この処理において、遮蔽部材80は予め閉じている
ものとする。まずS81で粒子径モニターを行ってS8
2でその検知結果の平均値を計算する。S83で平均値
が規定範囲外ならば、S84へ進んでイオン発生部63
…の出力を調整した後、S81へ戻る。こうして粒子径
の平均値が規定範囲内になるまでイオン発生部63…の
出力調整を行い、規定範囲内になったらS85へ進んで
粒子濃度モニターを行う。
The flow of the above processing is shown in the flowcharts of FIGS. 46 and 47. FIG. 46 shows a case where the detection of the particle diameter and the particle concentration is processed in chronological order. In this process, it is assumed that the shielding member 80 is closed in advance. First, the particle size is monitored in S81, and S8
In step 2, the average of the detection results is calculated. If the average value is out of the specified range in S83, the process proceeds to S84, and the ion generation unit 63
After adjusting the output of ..., the process returns to S81. The output of the ion generators 63 is adjusted until the average value of the particle diameters falls within the specified range. When the average value of the particle diameters falls within the specified range, the process proceeds to S85 to monitor the particle concentration.

【0166】次に、S86でその検知結果の平均値を求
め、S87で平均値が規定範囲外ならばS88へ進んで
イオン発生部63…の出力を調整する。イオン発生部6
3…の出力を調整したことによって粒子径の平均値が規
定範囲外になる可能性もあるのでS81へ戻り、粒子径
および粒子濃度の平均値が規定範囲内になるまでイオン
発生部63…の出力調整を行い、両方とも規定範囲内に
なったらS89へ進んで遮蔽部材80を開く。そして、
S90で粉体制御部材4に信号を入力する。
Next, the average value of the detection results is obtained in S86, and if the average value is out of the specified range in S87, the process proceeds to S88 to adjust the output of the ion generators 63. Ion generator 6
Since the average value of the particle diameter may be out of the specified range due to the adjustment of the output of No. 3, the process returns to S81, and the ion generating units 63 are controlled until the average values of the particle diameter and the particle concentration are within the specified range. Output adjustment is performed, and when both are within the specified ranges, the process proceeds to S89 and the shielding member 80 is opened. And
In S90, a signal is input to the powder control member 4.

【0167】また、図47に示すように、粒子径および
粒子濃度の検知を同時に行い、検知結果の処理を並列し
て行っても構わない。この処理においても予め遮蔽部材
80は閉じているものとする。S91からS97まで
は、粒子径または粒子濃度が規定範囲外にある場合の処
理であって、それぞれ図44・図45のフローチャート
におけるものと同様である。S93において粒子径の平
均値が規定範囲内のときは、S96において粒子濃度の
平均値が規定範囲内にあるか否かの判断を行い、規定範
囲内のとき、すなわち粒子径および粒子濃度の平均値が
ともに規定範囲内にあるときはS98へ進み、遮蔽部材
80を開く。そして、S99で粉体制御部材4に信号を
入力する。上記では、まず粒子径の検知結果の判断を行
った後、粒子濃度の検知結果を参照する処理方法を示し
ているが、両者の順序を逆にしても構わない。
As shown in FIG. 47, the detection of the particle diameter and the particle concentration may be performed simultaneously, and the processing of the detection result may be performed in parallel. Also in this processing, it is assumed that the shielding member 80 is closed in advance. Steps S91 to S97 are processing when the particle diameter or particle concentration is out of the specified range, and are the same as those in the flowcharts of FIGS. 44 and 45, respectively. If the average value of the particle diameters is within the specified range in S93, it is determined in S96 whether the average value of the particle concentration is within the specified range. If the values are both within the specified range, the process proceeds to S98, and the shielding member 80 is opened. Then, a signal is input to the powder control member 4 in S99. In the above description, the processing method in which the detection result of the particle diameter is first determined, and then the detection result of the particle concentration is referred to, but the order of the two may be reversed.

【0168】ところで、上述の粉体帯電器3において、
粒子径検知部材71、粒子濃度検知部材72、および校
正部材73の空間64d側に露出しているモニター窓8
1…・82…はスペーサーが付着することによって汚染
される虞があるので、このような問題を回避するような
構成とすることもできる。例えば、図48(a)に示す
ように、粒子径検知部材71、粒子濃度検知部材72、
および校正部材73のモニター窓81…・82…にそれ
ぞれ開閉部材83を設ける。
By the way, in the above-mentioned powder charger 3,
The monitor window 8 exposed on the space 64d side of the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, and the calibration member 73.
.. 82 may be contaminated by the attachment of the spacers, so that a configuration that avoids such a problem may be adopted. For example, as shown in FIG. 48A, a particle diameter detecting member 71, a particle concentration detecting member 72,
, 82... Of the calibration member 73 are provided with opening and closing members 83 respectively.

【0169】各開閉部材83は粉体供給部64の長手方
向に垂直な方向(図48(a)の矢印方向)に可動であ
って、クリーニング機能を有している。モニター窓81
…・82…に付着したスペーサーを除去しようとする際
に、所定位置に待機させて開状態としておいた開閉部材
83…を、モニター窓81…・82…まで移動させて閉
状態とし、クリーニングを行うようになっている。ま
た、それぞれの開閉部材83が連動してクリーニングを
行ったり、個別にクリーニングを行ったりすることが可
能である。
Each opening / closing member 83 is movable in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the powder supply section 64 (the direction of the arrow in FIG. 48A) and has a cleaning function. Monitor window 81
When the spacers adhered to... 82 are to be removed, the open / close members 83 that have been opened at the predetermined position and moved to the monitor windows 81. It is supposed to do. Further, the respective opening / closing members 83 can perform cleaning in conjunction with each other, or can perform cleaning individually.

【0170】このような開閉部材83として、例えば同
図(b)に示すようなものが挙げられる。この図は、開
閉部材83を粉体供給部64の長手方向から見た場合を
示す。開閉部材83はクリーニング部材83aと、これ
を保持する保持部材83bとから構成される。クリーニ
ング部材83aは、導電性あるいは半導電性のブラシ材
料・弾性ゴム材料・発泡ゴム材料などからなり、モニタ
ー窓81…・82…に接触することでクリーニングを行
う。このとき、静電気で帯電しないよう、クリーニング
部材83aはアースラインに接続されている。
As such an opening / closing member 83, for example, the one shown in FIG. This figure shows a case where the opening and closing member 83 is viewed from the longitudinal direction of the powder supply unit 64. The opening and closing member 83 includes a cleaning member 83a and a holding member 83b that holds the cleaning member 83a. The cleaning member 83a is made of a conductive or semiconductive brush material, an elastic rubber material, a foamed rubber material, or the like, and performs cleaning by contacting the monitor windows 81 ... 82. At this time, the cleaning member 83a is connected to an earth line so as not to be charged by static electricity.

【0171】また、開閉部材83は、図49(a)
(b)に示すような構成とすることもできる。この開閉
部材83は、縦横に延びる中空路83eが内部に設けら
れるとともに中空路83eから表面に通じる多数の放出
孔83f…を備えた気体吹き出し部83cと、気体吹き
出し部83cに気体を導入する配管83dとから構成さ
れる。同図(a)は、開閉部材83を気体の吹き出し方
向から見た平面図であり、同図(b)は、開閉部材83
を粉体供給部64の長手方向から見た側面図である。
The opening / closing member 83 is shown in FIG.
A configuration as shown in FIG. The opening / closing member 83 has a hollow passage 83e extending in the vertical and horizontal directions therein, a gas blowing portion 83c having a plurality of discharge holes 83f... Communicating from the hollow passage 83e to the surface, and a pipe for introducing gas into the gas blowing portion 83c. 83d. FIG. 7A is a plan view of the opening / closing member 83 as viewed from the gas blowing direction, and FIG.
FIG. 3 is a side view of the powder supply unit 64 viewed from the longitudinal direction.

【0172】配管83dから導入された気体は気体吹き
出し部83cの中空路83eを通り、放出孔83f…か
ら吹き出してモニター窓81…・82…に付着したスペ
ーサーを吹き飛ばすようになっている。なお、吹き出す
気体の圧力が全放出孔83f…についてなるべく均一に
なるよう、放出孔83f…の開口径は配管83dの中心
軸延長上から遠ざかるものほど大きくなっている。
The gas introduced from the pipe 83d passes through the hollow passage 83e of the gas blowing portion 83c, blows out from the discharge holes 83f, and blows off the spacers attached to the monitor windows 81,. Note that the opening diameter of the discharge holes 83f becomes larger as the distance from the center axis extension of the pipe 83d increases so that the pressure of the blown gas becomes as uniform as possible for all the discharge holes 83f.

【0173】上記の構成の開閉部材83を用いてクリー
ニングを行うタイミングとしては、スペーサーを飛翔さ
せるプロセスを行わない時期が適当である。例えば、粒
子径検知部材71や粒子濃度検知部材72の校正の直前
にクリーニングを行えばよい。
As a timing for performing cleaning using the opening / closing member 83 having the above-described structure, a time when the process of flying the spacer is not performed is appropriate. For example, cleaning may be performed immediately before calibration of the particle diameter detection member 71 and the particle concentration detection member 72.

【0174】粒子径検知部材71、粒子濃度検知部材7
2および校正部材73は、前述したように光学的手法を
用いて検知や校正を行うので、モニター窓81…・82
…の汚染は検知や校正結果に直接影響する。従って、製
造装置1の電源投入時、製造装置1により所定枚数の液
晶表示素子Lを処理した時点、あるいは製造装置1が液
晶表示素子Lの処理を開始してから所定時間だけ経過し
た時点など定期的に校正する際に、モニター窓81…・
82…の汚れ具合を検査するのがよい。その方法として
は、スペーサーの供給を行わない状態(イオン発生部6
3…を駆動しない状態)で空間64dにおけるレーザ光
の透過光量や白色光源の反射光量などをモニターし、そ
の検知結果を初期値と比較する方法を採用することがで
きる。このときに、開閉部材83…を稼働させて粒子径
検知部材71、粒子濃度検知部材72および校正部材7
3のクリーニングを行えばよい。
Particle Diameter Detector 71, Particle Concentration Detector 7
2 and the calibration member 73 perform detection and calibration using the optical method as described above, so that the monitor windows 81.
... directly affects the detection and calibration results. Therefore, when the manufacturing apparatus 1 is turned on, when the manufacturing apparatus 1 processes a predetermined number of liquid crystal display elements L, or when the manufacturing apparatus 1 starts processing the liquid crystal display elements L, a predetermined time has elapsed. Window 81 ...
It is preferable to inspect the degree of contamination of 82. As a method for this, a state in which the spacer is not supplied (the ion generator 6
3 is not driven), the transmitted light amount of the laser beam in the space 64d, the reflected light amount of the white light source, and the like are monitored, and the detection result can be compared with an initial value. At this time, the opening / closing members 83 are operated to operate the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, and the calibration member 7.
Cleaning 3 may be performed.

【0175】また、クリーニングの後、モニター窓81
…・82…の検査を複数回行い、検査結果の平均値を初
期値と比較して、両者の差が規定範囲外のときは粒子径
検知部材71、粒子濃度検知部材72および校正部材7
3と、前記各部材の開閉部材83・83との少なくとも
一方を点検すべき旨を表示したり警告したりするように
なっている。これにより、粒子径検知部材71、粒子濃
度検知部材72および校正部材73、あるいはそれらの
開閉部材83・83の異常を早期にかつ容易に把握して
修正することができるので、スペーサー散布プロセスを
安定化させることができる。
After cleaning, the monitor window 81
.. 82 are performed a plurality of times, and the average value of the test results is compared with the initial value. If the difference between the two is outside the specified range, the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, and the calibrating member 7
3 and at least one of the opening / closing members 83 of the respective members is displayed or warned that inspection should be performed. Thus, the abnormality of the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, the calibration member 73, or the opening / closing members 83 thereof can be quickly and easily grasped and corrected, so that the spacer dispersing process is stabilized. Can be changed.

【0176】この場合の処理の流れを図50のフローチ
ャートに示す。同図は粒子濃度検知部材72の場合につ
いて示しているが、粒子径検知部材71および校正部材
73の場合についても同様の処理を行えばよい。まずS
101で開閉部材83・83によって粒子濃度検知部材
72のクリーニングを行い、S102でモニター窓81
・82の検査を複数回行う。次に、S103で検査結果
の平均値を初期値と比較して、両者の差が規定範囲外か
否かを判定する。規定範囲内にあるときには直ちに処理
を終了し、規定範囲外のときにはS104へ進み、粒子
濃度検知部材72と粒子濃度検知部材72の開閉部材8
3・83との少なくとも一方を点検すべき旨を表示した
り警告したりして処理を終了する。
The flow of the process in this case is shown in the flowchart of FIG. Although the drawing shows the case of the particle concentration detecting member 72, the same processing may be performed for the case of the particle diameter detecting member 71 and the calibration member 73. First S
At 101, the particle concentration detecting member 72 is cleaned by the opening / closing members 83, and at S102, the monitor window 81 is opened.
Perform the inspection of 82 multiple times. Next, in S103, the average value of the inspection results is compared with the initial value, and it is determined whether or not the difference between the two is outside the specified range. If it is within the specified range, the process is immediately terminated. If it is out of the specified range, the process proceeds to S104, where the particle concentration detecting member 72 and the opening / closing member 8 of the particle concentration detecting member 72 are opened.
The processing is terminated after displaying or warning that at least one of 3.83 should be checked.

【0177】このように、第3の形態の粉体帯電器3に
よれば、粒子径検知部材71、粒子濃度検知部材72お
よび校正部材73を設けているので、スペーサーの粒子
径および粒子濃度を所定の値に制御することができる。
また、粒子径検知部材71、粒子濃度検知部材72およ
び校正部材73のそれぞれにクリーニング機構を設けて
いるので、安定して適切な検知を行うことができる。
As described above, according to the powder charger 3 of the third embodiment, since the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, and the calibration member 73 are provided, the particle diameter and the particle concentration of the spacer can be reduced. It can be controlled to a predetermined value.
Further, since a cleaning mechanism is provided for each of the particle diameter detecting member 71, the particle concentration detecting member 72, and the calibration member 73, it is possible to stably perform appropriate detection.

【0178】以上に述べたように、本実施の形態の液晶
表示素子の製造装置および製造方法によれば、担持体あ
るいはイオン照射によりスペーサーを帯電および供給す
るように粉体帯電器を構成したので、スペーサーを安定
かつ容易に帯電させて供給することができる。
As described above, according to the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the liquid crystal display element of the present embodiment, the powder charger is configured to charge and supply the spacer by the carrier or the ion irradiation. The spacer can be supplied stably and easily charged.

【0179】〔実施の形態3〕本発明の液晶表示素子L
の製造装置および製造方法の他の実施の形態について図
51ないし図77を用いて説明すれば、以下の通りであ
る。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1および2
の図面に示した構成要素と同一の機能を有する構成要素
については、同一の符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 3] The liquid crystal display element L of the present invention
Another embodiment of the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present invention will be described below with reference to FIGS. 51 to 77. For convenience of explanation, the first and second embodiments are described.
Components having the same functions as those shown in the drawings are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0180】本実施の形態の製造装置は、実施の形態1
または2で述べた製造装置1に、粉体帯電器3内にある
スペーサーの残量を検知し、必要量を補充することによ
ってスペーサー量を一定に保つことができるような構成
を付加したものである。以下では、実施の形態2で述べ
た第2または第3の形態の粉体帯電器3に対する構成を
例に挙げて説明するが、第1の形態の粉体帯電器3につ
いても構成を適宜変更することにより適用可能である。
The manufacturing apparatus of the present embodiment is similar to that of the first embodiment.
Alternatively, a configuration is added to the manufacturing apparatus 1 described in 2 in which the remaining amount of the spacer in the powder charger 3 is detected and the amount of the spacer can be kept constant by supplementing the necessary amount. is there. In the following, the configuration of the powder charger 3 of the second or third embodiment described in the second embodiment will be described as an example, but the configuration of the powder charger 3 of the first embodiment is also appropriately changed. It is applicable by doing.

【0181】この製造装置1は、例えば図51に示すよ
うに、粉体帯電器3の粉体供給部64の外側に、残量検
知部材91および粉体収容部92を付加した構成であ
る。残量検知部材91は、粉体供給部64内のスペーサ
ー溜まり65の残量を検知する。粉体収容部(粉体補充
部材)92は、残量検知部材91からフィードバックさ
れた検知結果に基づいて、粉体供給部64にスペーサー
を基準量に達するまで補充する。また、粉体収容部92
によってスペーサーを補充しなくとも、残量の検知結果
をイオン発生部63…にフィードバックし、電源E1の
電圧を変化させてイオン発生部63…の出力をそのとき
の残量に応じた値に制御することで、粉体制御部材4へ
のスペーサーの安定した供給を継続することができる。
As shown in FIG. 51, for example, the manufacturing apparatus 1 has a configuration in which a remaining amount detecting member 91 and a powder container 92 are added to the outside of the powder supply section 64 of the powder charger 3. The remaining amount detection member 91 detects the remaining amount of the spacer pool 65 in the powder supply unit 64. The powder storage unit (powder replenishing member) 92 replenishes the powder supply unit 64 with the spacer based on the detection result fed back from the remaining amount detection member 91 until the spacer reaches the reference amount. The powder container 92
Even if the spacers are not refilled, the detection result of the remaining amount is fed back to the ion generators 63, and the voltage of the power source E1 is changed to control the output of the ion generators 63 to a value corresponding to the remaining amount at that time. By doing so, stable supply of the spacer to the powder control member 4 can be continued.

【0182】さらに、粉体収容部92に収容したスペー
サーだけでは不足するような場合は、図52に示すよう
に大量のスペーサーを蓄えた粉体供給源(粉体補充部
材)93を設けて、これから粉体収容部92にスペーサ
ーを供給することもできる。さらにこの場合は、図53
に示すように、粉体収容部92を省略して粉体供給源9
3から粉体供給部64に直接スペーサーを供給すること
もできる。この場合、スペーサー溜まり65のスペーサ
ー量を制御するには、残量検知部材91の検知結果を粉
体供給源93にフィードバックするようにする。
Further, in the case where only the spacers accommodated in the powder accommodating section 92 are insufficient, a powder supply source (powder replenishing member) 93 storing a large amount of spacers is provided as shown in FIG. From this, a spacer can be supplied to the powder container 92. Further, in this case, FIG.
As shown in FIG.
The spacer can also be supplied directly from 3 to the powder supply section 64. In this case, in order to control the spacer amount of the spacer pool 65, the detection result of the remaining amount detection member 91 is fed back to the powder supply source 93.

【0183】特に、図52の構成においては、粉体収容
部92が、粉体供給源93から供給されるスペーサーの
勢いを吸収して粉体供給部64内の状態を乱すのを防止
するバッファの役割をする。
In particular, in the configuration of FIG. 52, the powder container 92 absorbs the force of the spacer supplied from the powder supply source 93 to prevent the state inside the powder supply unit 64 from being disturbed. Of the role.

【0184】残量検知部材91は、例えば図54(a)
に示すように、粉体供給部64内にレーザ光を通過させ
ることによって、スペーサー溜まり65の上面を検知す
るようになっている。レーザ発振器94から放射された
レーザ光は、ビームエキスパンダー97によってビーム
径が拡大されてポリゴンミラー98に照射される。な
お、レーザ光の強度は、ビームスプリッター95によっ
て分割されたレーザ光を参照光用検知器96で受光して
測定している。
The remaining amount detecting member 91 is, for example, as shown in FIG.
As shown in FIG. 7, the upper surface of the spacer pool 65 is detected by passing a laser beam through the powder supply section 64. The laser beam emitted from the laser oscillator 94 has its beam diameter expanded by a beam expander 97 and is applied to a polygon mirror 98. Note that the intensity of the laser light is measured by receiving the laser light split by the beam splitter 95 by the reference light detector 96.

【0185】水平方向に幅を持ったレーザ光は、ポリゴ
ンミラー98の回転に伴って鉛直方向にスキャンされ、
コリメータレンズ99で平行光となって粉体供給部64
の側壁に設けられた窓102を鉛直に走査する。窓10
2を鉛直に走査する間、スペーサー溜まり65の上面よ
り上方を通過したレーザ光は、窓102に対向したもう
一つの窓103を通過し、集光レンズ100を経て検知
器101で受光される。一方、スペーサー溜まり65中
に入射したレーザ光はここで遮られて減衰する。従っ
て、窓102を鉛直に走査する時間中、レーザ光が遮ら
れた時間あるいは透過する時間を測定すれば、例えば窓
102・103に設けられた基準点104・104から
スペーサー溜まり65の上面までの距離を算出すること
ができるので、スペーサー溜まり65の残量を検知する
ことができる。
The laser beam having a width in the horizontal direction is scanned in the vertical direction with the rotation of the polygon mirror 98.
The collimator lens 99 converts the light into collimated light,
The window 102 provided on the side wall is vertically scanned. Window 10
During scanning vertically 2, the laser light passing above the upper surface of the spacer pool 65 passes through another window 103 facing the window 102, and is received by the detector 101 via the condenser lens 100. On the other hand, the laser light incident on the spacer pool 65 is blocked and attenuated here. Therefore, if the time during which the laser beam is blocked or transmitted during the time when the window 102 is scanned vertically is measured, for example, the distance from the reference points 104 and 104 provided on the windows 102 and 103 to the upper surface of the spacer pool 65 is measured. Since the distance can be calculated, the remaining amount of the spacer pool 65 can be detected.

【0186】ここで、窓102には、同図(b)に示す
ように、クリーニング部材105が取り付けられたシャ
ッター106が設けられている。このシャッター106
は、残量検知部材91によって上述のように残量を検知
する場合には開けられ、それ以外のときには閉じられ
て、クリーニング部材105が窓102の内面に接触す
ることでクリーニングを行うようになっている。窓10
3も窓102と同様の構成である。
Here, a shutter 106 to which a cleaning member 105 is attached is provided in the window 102 as shown in FIG. This shutter 106
Is opened when the remaining amount is detected by the remaining amount detecting member 91 as described above, and is closed at other times, and the cleaning is performed by the cleaning member 105 contacting the inner surface of the window 102. ing. Window 10
3 has the same configuration as the window 102.

【0187】このような構成の残量検知部材91によっ
てスペーサーの残量を検知した場合、検知結果をスペー
サー量の基準値と比較し、規定範囲外のときに粉体収容
部92または粉体供給源93の出力を調整するようにす
れば、スペーサーの供給を安定化させることができる。
また、粉体収容部92または粉体供給源93の出力を調
整した後、さらに複数回残量検知を行ってもその検知結
果が規定範囲外となるようなときには、粉体収容部92
または粉体供給源93の点検を行うべき旨を表示したり
警報したりすることによって、粉体収容部92内または
粉体供給源93内のスペーサーの枯渇や異常を迅速に検
知することができる。
When the remaining amount of the spacer is detected by the remaining amount detecting member 91 having such a structure, the detection result is compared with a reference value of the amount of the spacer. If the output of the source 93 is adjusted, the supply of the spacer can be stabilized.
After adjusting the output of the powder container 92 or the powder supply source 93, if the detection result is out of the specified range even if the remaining amount is detected a plurality of times, the powder container 92 may be used.
Alternatively, it is possible to quickly detect the depletion or abnormality of the spacer in the powder container 92 or the powder supply source 93 by displaying or alarming that the inspection of the powder supply source 93 should be performed. .

【0188】この場合の処理を図55のフローチャート
に示す。まずS111で残量検知部材91によるスペー
サーの残量検知を行う。次に、S112で検知結果を基
準値と比較したときに規定範囲内となる場合には、S1
11へ戻って残量検知を継続する一方、規定範囲外とな
る場合にはS113へ進んで粉体収容部92または粉体
供給源93の出力を調整する。その後S114へ進み、
出力調整回数Nが規定回数Kに達するまでS111から
S113までの処理を繰り返す。規定回数Kに達した場
合には異常が発生していると判断し、S115で粉体収
容部92または粉体供給源93の点検を行うべき旨を表
示したり警報したりする。
The process in this case is shown in the flowchart of FIG. First, in S111, the remaining amount of the spacer is detected by the remaining amount detecting member 91. Next, when the detection result is within the specified range when the detection result is compared with the reference value in S112, S1
Returning to step S11, the remaining amount detection is continued. If the remaining amount is out of the specified range, the process proceeds to step S113 to adjust the output of the powder container 92 or the powder supply source 93. Then proceed to S114,
The processes from S111 to S113 are repeated until the number N of output adjustments reaches the specified number K. If the predetermined number K has been reached, it is determined that an abnormality has occurred, and in S115, a message indicating that the powder container 92 or the powder supply source 93 should be checked is displayed or an alarm is issued.

【0189】また、残量検知部材91を校正する校正部
材を設けてもよい。校正部材には、図56(a)に示す
ように、所定の間隔で開口部107a…が設けられた板
状の基準部材107を使用することができる。基準部材
107は粉体帯電器3の粉体供給部64の側壁に取り付
けられ、使用時にスライドさせることによって、前述の
窓102・103の位置まで移動させることができるよ
うになっている。基準部材107を窓102・103に
セットした状態で残量検知部材91のレーザ光を開口部
107a…を通して受光し、レーザ光が遮られる時間よ
り算出される間隔を、上記窓102と窓103の遮光部
との間隔と比較することにより校正を行う。
A calibration member for calibrating the remaining amount detecting member 91 may be provided. As shown in FIG. 56A, a plate-like reference member 107 having openings 107a at predetermined intervals can be used as the calibration member. The reference member 107 is attached to the side wall of the powder supply unit 64 of the powder charger 3 and can be moved to the positions of the windows 102 and 103 by sliding during use. With the reference member 107 set in the windows 102 and 103, the laser beam of the remaining amount detecting member 91 is received through the openings 107a and the interval calculated from the time when the laser beam is blocked is determined by the interval between the windows 102 and 103. Calibration is performed by comparing the distance with the light shielding part.

【0190】あるいは、同図(b)に示すように、ガラ
ス基板間に液晶を注入した液晶セル108で窓102・
103を構成し、校正部材を兼ねるようにしてもよい。
この場合、通常時には液晶層109を透過状態としてお
き、校正時には所要の電圧を印加することによって所定
の領域を遮光状態(散乱状態)として、例えば同図のよ
うに遮光領域109a…と透過領域109bとからなる
パターンを形成するようにする。この場合は、レーザ光
を受光している時間より算出される間隔と透過領域10
9bの間隔とを比較すればよい。パターンは適宜変更可
能である。液晶には例えばネマティック液晶を用い、そ
の動的散乱モードを利用することができる。
Alternatively, as shown in FIG. 17B, a window 102 is formed by a liquid crystal cell 108 in which liquid crystal is injected between glass substrates.
103 may be configured to serve also as a calibration member.
In this case, the liquid crystal layer 109 is normally in a transmissive state, and a predetermined voltage is applied during calibration so that a predetermined area is in a light-shielded state (scattered state). For example, as shown in FIG. Is formed. In this case, the interval calculated from the laser light receiving time and the transmission area 10
9b may be compared. The pattern can be changed as appropriate. For example, a nematic liquid crystal is used as the liquid crystal, and its dynamic scattering mode can be used.

【0191】上記のような校正は、製造装置1の電源投
入時、製造装置1により所定量の液晶表示素子Lを処理
した時点、あるいは製造装置1が液晶表示素子Lの処理
を開始してから所定時間だけ経過した時点などに行えば
よい。校正結果は上述したように基準値と比較され、そ
の差が規定範囲外の場合は残量検知部材91を点検ある
いは交換すべき旨を表示したり警告したりすることもで
きる。このようにすれば、残量検知部材91の検知感度
の変動や異常を早期に発見して修正することができるの
で、スペーサー散布プロセスを安定化することができ
る。
The above calibration is performed when the power of the manufacturing apparatus 1 is turned on, when the manufacturing apparatus 1 processes a predetermined amount of the liquid crystal display elements L, or after the manufacturing apparatus 1 starts processing the liquid crystal display elements L. This may be performed at a point in time when a predetermined time has elapsed. The calibration result is compared with the reference value as described above, and when the difference is out of the specified range, it is possible to display or warn that the remaining amount detecting member 91 should be inspected or replaced. In this manner, a change or abnormality in the detection sensitivity of the remaining amount detection member 91 can be detected and corrected at an early stage, so that the spacer dispersing process can be stabilized.

【0192】このときの処理の流れを図57のフローチ
ャートに示す。まずS121で上述のように残量検知部
材91の校正を行い、S122で校正結果が規定範囲外
にあるかどうか判断する。規定範囲内である場合には、
残量検知部材91は正常であるので直ちに処理を終了す
る。規定範囲外である場合には、S123へ進み、残量
検知部材91の点検あるいは交換を促す表示や警告を行
って処理を終了する。
The flow of the process at this time is shown in the flowchart of FIG. First, in step S121, the remaining amount detection member 91 is calibrated as described above, and in step S122, it is determined whether the calibration result is out of the specified range. If it is within the specified range,
Since the remaining amount detecting member 91 is normal, the process ends immediately. If it is out of the specified range, the process proceeds to S123, and a display or warning prompting the inspection or replacement of the remaining amount detecting member 91 is performed, and the process ends.

【0193】粉体収容部92は、例えば図58に示すよ
うに収容室92aおよび撹拌室92bからなる。収容室
92aに収容されたスペーサーは、収容室92aと撹拌
室92bとの境界にある供給ローラ110によって必要
量が撹拌室92bに送られるようになっている。供給ロ
ーラ110の駆動源には、前述の残量検知部材91から
残量の検知結果がフィードバックされており、供給ロー
ラ110がこれに基づいて駆動されることにより、撹拌
室92bへ送るスペーサー量が制御される。撹拌室92
bでは、収容室92aから送られたスペーサーが撹拌ロ
ーラ111によって均一に撹拌され、粉体供給部64へ
供給される。
The powder container 92 comprises, for example, a container 92a and a stirring chamber 92b as shown in FIG. A necessary amount of the spacer housed in the housing chamber 92a is sent to the stirring chamber 92b by the supply roller 110 at the boundary between the housing chamber 92a and the stirring chamber 92b. The detection result of the remaining amount is fed back to the driving source of the supply roller 110 from the above-described remaining amount detection member 91. When the supply roller 110 is driven based on this, the amount of the spacer to be sent to the stirring chamber 92b is reduced. Controlled. Stir chamber 92
In b, the spacer sent from the storage chamber 92 a is uniformly stirred by the stirring roller 111 and is supplied to the powder supply unit 64.

【0194】また、前述の図52に示すように粉体収容
部92に長期間にわたってスペーサーを供給し続ける粉
体供給源93をさらに備える場合には、図58の粉体収
容部92の収容室92aに粉体供給源93からスペーサ
ーが供給されるように構成する。
When a powder supply source 93 for continuously supplying a spacer to the powder container 92 for a long time is further provided as shown in FIG. 52, the storage chamber of the powder container 92 in FIG. The spacer is supplied to the powder supply source 92a from the powder supply source 93.

【0195】粉体供給源93は、例えば図59に示すよ
うに、主として貯蔵部121およびベルト(搬送部)1
22から構成したものとすることができる。貯蔵部12
1には大量のスペーサーが貯蔵されており、これから下
方に落下するスペーサーをローラ123・123に張架
されたベルト122に乗せて粉体供給部64まで搬送す
る。ベルト122を用いるので、一度に多量のスペーサ
ーを搬送することができる。
As shown in FIG. 59, for example, the powder supply source 93 mainly includes a storage section 121 and a belt (transport section) 1.
22. Storage unit 12
A large number of spacers are stored in 1, and the spacers that fall downward are transported to the powder supply unit 64 by being placed on a belt 122 stretched over rollers 123. Since the belt 122 is used, a large amount of spacers can be transported at one time.

【0196】また、ベルト122の搬送開始位置付近の
上方にはベルト122と所定の間隔を置いて規制部材1
24が設けられており、搬送されるスペーサーの層厚を
規制している。搬送途中には、超音波振動などを発生す
る振動部材125をベルト122に接触するよう設ける
ことによってベルト122およびスペーサーに振動を与
え、スペーサーをベルト122上で均一に分散させるよ
うになっている。ベルト122の搬送終了位置の上方に
は吹き付け部材126が設けられており、気体を吹き付
けることによってスペーサーをベルト122から容易に
離脱させることができるようになっている。
In addition, above the belt 122 at a position near the conveyance start position, the regulating member 1 is spaced apart from the belt 122 by a predetermined distance.
24 are provided to regulate the thickness of the spacer to be conveyed. During the conveyance, a vibration member 125 that generates ultrasonic vibration or the like is provided so as to be in contact with the belt 122 so as to vibrate the belt 122 and the spacer, and the spacer is uniformly dispersed on the belt 122. A blowing member 126 is provided above the conveyance end position of the belt 122 so that the spacer can be easily separated from the belt 122 by blowing gas.

【0197】同図は、粉体供給源93から直接粉体供給
部64にスペーサーを供給する場合を示したものである
が、このような構成においては前述の残量検知部材91
の検知結果を、例えばローラ123・123の駆動源に
フィードバックすればよい。なお、粉体供給源93から
前述の粉体収容部92にスペーサーを供給するようにし
てもよいことはもちろんである。
This figure shows a case where the spacer is supplied directly from the powder supply source 93 to the powder supply section 64. In such a configuration, the above-described remaining amount detection member 91 is provided.
May be fed back to, for example, the driving source of the rollers 123. The spacer may be supplied from the powder supply source 93 to the above-described powder container 92.

【0198】また、粉体供給源93を、図60(a)に
示すように、主として貯蔵部121およびスクリュー
(搬送部)127から構成したものとすることもでき
る。この場合、貯蔵部121から落下したスペーサー
は、スクリュー127の回転によって螺旋を描きながら
粉体供給部64まで搬送される。スクリュー127を用
いるので、スペーサーが粉体供給源93内で飛散する虞
が少なく、信頼性の高い搬送を行うことができる。
As shown in FIG. 60A, the powder supply source 93 may be mainly composed of a storage section 121 and a screw (conveyance section) 127. In this case, the spacer dropped from the storage unit 121 is conveyed to the powder supply unit 64 while drawing a spiral by the rotation of the screw 127. Since the screw 127 is used, the spacer is less likely to be scattered in the powder supply source 93, and highly reliable transport can be performed.

【0199】スクリュー127の搬送終了位置下方に
は、搬送されてきたスペーサーを受ける補助部材128
が設けられており、さらに補助部材128の裏面に振動
部材125が取り付けられている。振動部材125によ
って振動が与えられた補助部材128上のスペーサーに
対し、吹き付け部材126により気体を吹き付けて粉体
供給部64内へと落下させる。また、搬送するスペーサ
ーの量に応じて、同図(b)に示すように複数のスクリ
ュー127…を併設するようにしてもよい。
An auxiliary member 128 for receiving the transported spacer is located below the transport end position of the screw 127.
Are provided, and a vibration member 125 is attached to the back surface of the auxiliary member 128. A gas is blown by the blowing member 126 onto the spacer on the auxiliary member 128 to which the vibration is given by the vibration member 125, and is dropped into the powder supply unit 64. Further, a plurality of screws 127 may be provided in parallel according to the amount of the spacer to be conveyed, as shown in FIG.

【0200】図60(a)も、粉体供給源93から直接
粉体供給部64にスペーサーを供給する場合を示したも
のであるが、このような構成においては、残量検知部材
91の検知結果を例えばスクリュー127の駆動源にフ
ィードバックすればよい。なお、粉体供給源93から前
述の粉体収容部92にスペーサーを供給するようにして
もよいことはもちろんである。
FIG. 60A also shows a case where the spacer is directly supplied from the powder supply source 93 to the powder supply section 64. In such a configuration, the detection of the remaining amount detection member 91 is performed. The result may be fed back to the drive source of the screw 127, for example. The spacer may be supplied from the powder supply source 93 to the above-described powder container 92.

【0201】また、図示しないが、図59および図60
(a)の粉体供給源93から粉体供給部64内に落下す
るスペーサーの分散状態をモニターする分散状態モニタ
ーを設けてもよい。この分散状態モニターには、実施の
形態2で述べた粒子径検知部材71あるいは校正部材7
3を適用することができる。これによってスペーサーの
分散状態が分かるので、粉体供給部64内に均一に分散
するようにスペーサーが供給されているか否かを把握す
ることができる。
Although not shown, FIGS. 59 and 60
(A) A dispersion state monitor for monitoring the dispersion state of the spacers falling from the powder supply source 93 into the powder supply section 64 may be provided. The dispersion state monitor includes the particle diameter detection member 71 or the calibration member 7 described in the second embodiment.
3 can be applied. Thus, the dispersion state of the spacers can be known, so that it can be determined whether or not the spacers are supplied so as to be uniformly dispersed in the powder supply unit 64.

【0202】加えて、分散状態モニターの検知結果を予
め用意した基準値と比較し、規定範囲外の場合に粉体供
給源93の出力を調整するようにすれば、スペーサーの
分散状態を補正することができる。出力の調整は、貯蔵
部121からのスペーサーの供給量調整、振動部材12
5の振動強度調整、あるいは吹き付け部材126の吹き
付け圧力調整などによって行う。
In addition, by comparing the detection result of the dispersion state monitor with a reference value prepared in advance, and adjusting the output of the powder supply source 93 when it is out of the specified range, the dispersion state of the spacer is corrected. be able to. The adjustment of the output is performed by adjusting the supply amount of the spacer from the storage unit 121,
The adjustment of the vibration intensity of 5 or the adjustment of the blowing pressure of the blowing member 126 is performed.

【0203】このときの処理を図61のフローチャート
に示す。まずS131で分散状態モニターによりスペー
サーの分散状態のモニターを行う。次いで、S132で
検知結果を基準値と比較し、規定範囲内にある場合には
S131へ戻ってモニターを継続する一方、規定範囲外
である場合にはS133へ進み、粉体供給源93の出力
を調整してS131へ戻る。
The processing at this time is shown in the flowchart of FIG. First, in step S131, the dispersion state of the spacer is monitored by the dispersion state monitor. Next, in step S132, the detection result is compared with the reference value. If the detection result is within the specified range, the process returns to step S131 to continue monitoring. If the detection result is out of the specified range, the process proceeds to step S133. Is adjusted and the process returns to S131.

【0204】さらに、粉体供給源93から粉体供給部6
4内に落下するスペーサーの供給量をモニターする供給
量モニターを設けてもよい。この供給量モニターには、
スペーサーの重量を測定するものでもよいし、実施の形
態2で述べた粒子濃度検知部材72を適用してもよい。
これによって、適切な量のスペーサーが供給されている
か否かを把握することができる。加えて、供給量モニタ
ーの検知結果を予め用意した基準値と比較し、規定範囲
外の場合に粉体供給源93の出力を調整するようにすれ
ば、スペーサーの供給量を常に一定にすることができ
る。
Further, the powder supply source 93 supplies
A supply amount monitor for monitoring the supply amount of the spacer falling into the inside 4 may be provided. This supply monitor includes:
The weight of the spacer may be measured, or the particle concentration detecting member 72 described in the second embodiment may be applied.
Thus, it is possible to determine whether an appropriate amount of the spacer is supplied. In addition, by comparing the detection result of the supply amount monitor with a reference value prepared in advance and adjusting the output of the powder supply source 93 when the supply amount is out of the specified range, the supply amount of the spacer can be kept constant. Can be.

【0205】なお、供給量モニターの検知結果に基づい
て粉体供給源93の出力を調整しても、再度両モニター
の検知結果をそれぞれの基準値と複数回比較したときに
検知結果が規定範囲外となる場合には、粉体供給源93
に異常が発生している可能性がある。従って、このよう
なときには、粉体供給源93を点検すべき旨を表示した
り警告したりすることによって、貯蔵部121の枯渇や
ベルト122、スクリュー127の異常を把握しやすい
ようにするとよい。
Even if the output of the powder supply source 93 is adjusted based on the detection result of the supply amount monitor, when the detection result of both monitors is compared again with the respective reference values a plurality of times, the detection result becomes within a specified range. If it is outside, the powder supply source 93
May have an error. Therefore, in such a case, it is preferable to display or warn that the powder supply source 93 should be checked so that it is easy to grasp the depletion of the storage unit 121 and the abnormality of the belt 122 and the screw 127.

【0206】このときの処理を図62のフローチャート
に示す。まずS141で供給量モニターによるスペーサ
ーの供給量のモニターを行う。次に、S142で検知結
果を基準値と比較し、規定範囲内となる場合にはS14
1へ戻ってモニターを継続する一方、規定範囲外となる
場合にはS143へ進んで粉体供給源93の出力を調整
する。その後S144へ進み、出力調整回数Nが規定回
数Kに達するまでS141からS143までの処理を繰
り返す。規定回数Kに達した場合には異常が発生してい
ると判断し、S145で粉体供給源93の点検を行うべ
き旨を表示したり警報したりする。
The processing at this time is shown in the flowchart of FIG. First, in S141, the supply amount of the spacer is monitored by the supply amount monitor. Next, in step S142, the detection result is compared with the reference value.
Returning to step 1 and continuing the monitoring, if it is out of the specified range, proceed to S143 to adjust the output of the powder supply source 93. Thereafter, the process proceeds to S144, and the processes from S141 to S143 are repeated until the number N of output adjustments reaches the specified number K. When the specified number K has been reached, it is determined that an abnormality has occurred, and in S145, a message indicating that the powder supply source 93 should be inspected is displayed or a warning is issued.

【0207】なお、同図のフローチャートは、前述の分
散状態モニターにも適用することができる。また、これ
ら両モニターの校正を、製造装置1の電源投入ごと、あ
るいは粉体供給源93の点検ごとに行うようにすれば、
スペーサー散布プロセスの安定化や効率化を図ることが
できる。
[0207] The flowchart shown in the figure can be applied to the above-mentioned distributed state monitor. If the calibration of these two monitors is performed each time the power of the manufacturing apparatus 1 is turned on or each time the powder supply source 93 is inspected,
The spacer dispersing process can be stabilized and made more efficient.

【0208】上述した粉体供給源93はベルト122や
スクリュー127でスペーサーを搬送する構成であった
が、この代りに、図63に示すように気体でスペーサー
を搬送する構成とすることもできる。同図の粉体供給源
93は、気体供給源131、貯蔵部132、配管13
3、およびヘッド部134からなる。貯蔵部132に貯
蔵されているスペーサーは、気体供給源(搬送部)13
1から供給される気体により配管(搬送部)133内を
運ばれる。気体をスペーサーのキャリヤガスとして用い
るので、スペーサーの迅速な供給が可能になる。
Although the above-described powder supply source 93 has a configuration in which the spacers are transported by the belt 122 and the screw 127, a configuration in which the spacers are transported by gas as shown in FIG. 63 may be used instead. The powder supply source 93 shown in the figure includes a gas supply source 131, a storage unit 132, a pipe 13
3 and a head section 134. The spacer stored in the storage section 132 is a gas supply source (transport section) 13.
The gas supplied from 1 is carried in the pipe (transport section) 133. Since the gas is used as the carrier gas for the spacer, the spacer can be quickly supplied.

【0209】ヘッド部134は配管133から粉体供給
部64内に向けて延設されたものであり、その先端に設
けられたノズル134aからスペーサーを吐出するよう
になっている。また、ヘッド部134は水平方向に可動
となっており、スペーサーの供給中に移動し続けること
によって粉体供給部64内に均一にスペーサーが供給さ
れるようになっている。この場合、残量検知部材91か
らの検知信号に基づいて、気体供給源131は気体の供
給のON・OFFや気体の供給量を、貯蔵部132はス
ペーサーの供給のON・OFFやスペーサーの供給量を
制御する。また、粉体供給源93をこのような構成とし
たことに応じて、粉体供給部64の側壁には、送り込ま
れた気体を外部へ放出するための排出口135が設けら
れている。
The head section 134 extends from the pipe 133 into the powder supply section 64, and discharges a spacer from a nozzle 134a provided at the tip thereof. Further, the head portion 134 is movable in the horizontal direction, and the spacer is uniformly supplied into the powder supply portion 64 by continuing to move during the supply of the spacer. In this case, based on a detection signal from the remaining amount detecting member 91, the gas supply source 131 turns ON / OFF the gas supply and the gas supply amount, and the storage unit 132 turns ON / OFF the spacer supply and the spacer supply. Control the amount. In addition, according to the powder supply source 93 having such a configuration, a discharge port 135 for discharging the supplied gas to the outside is provided on a side wall of the powder supply unit 64.

【0210】このように気体でスペーサーを搬送する方
法について、図64を用いてさらに詳しく説明する。同
図に示すように、気体供給源131はこの供給系の最上
流に配置され、例えばN2 やArなどの不活性ガスが充
填されたガスボンベや、圧縮空気を供給するコンプレッ
サーなどが適用される。気体供給源131と粉体供給部
64とは配管133で接続され、途中で本流から分岐す
るバイパス133aが設けられている。バイパス133
a上には貯蔵部132が設けられており、バイパス13
3aを流れる気体が貯蔵部132を通過する際にスペー
サーを含んで再び本流に合流するようになっている。
The method of transporting the spacer by gas in this way will be described in more detail with reference to FIG. As shown in the figure, a gas supply source 131 is disposed at the uppermost stream of the supply system, and a gas cylinder filled with an inert gas such as N 2 or Ar, a compressor for supplying compressed air, or the like is applied. . The gas supply source 131 and the powder supply unit 64 are connected by a pipe 133, and a bypass 133a that branches off from the mainstream on the way is provided. Bypass 133
a storage section 132 is provided on the
When the gas flowing through 3a passes through the storage section 132, the gas including the spacers again joins the main stream.

【0211】配管133の途中において、気体供給源1
31の供給口のすぐ下流側にはマスフローコントローラ
などの流量調整器136が設けられており、気体供給源
131から供給された気体の流量制御を行う。また、粉
体供給部64に入る手前側に、開閉制御されるバルブや
レギュレータなどの圧力調整器137が設けられ、スペ
ーサーを含んだ気体の圧力を所定値に調整する。また、
圧力調整器137の下流側に、上記圧力をモニターする
ための圧力計138が設けられている。
In the middle of the pipe 133, the gas supply source 1
A flow regulator 136 such as a mass flow controller is provided immediately downstream of the supply port of the gas supply 31, and controls the flow rate of the gas supplied from the gas supply source 131. In addition, a pressure regulator 137 such as a valve or a regulator that is controlled to open and close is provided on the front side before entering the powder supply unit 64, and regulates the pressure of the gas including the spacer to a predetermined value. Also,
Downstream of the pressure regulator 137, a pressure gauge 138 for monitoring the pressure is provided.

【0212】以上の構成によるスペーサーの搬送過程に
ついて説明すると、残量検知部材91からの検知結果に
基づいて気体供給源131から配管133内に供給され
た気体は、まず流量調整器136で流量制御されて下流
側へ送られる。そして、途中、気体の一部がバイパス1
33aを通って貯蔵部132を通過し、この際に残量検
知部材91からの検知結果に基づいた量のスペーサーを
含んだ状態となった後、本流の気体と合流する。合流し
た後、スペーサーを含んだ気体はさらに配管133内を
流れ、圧力調整器137で所定の圧力に調整されて粉体
供給部64に供給される。
The process of transporting the spacer having the above configuration will be described. The gas supplied from the gas supply source 131 into the pipe 133 based on the detection result from the remaining amount detection member 91 is first controlled by the flow controller 136 to control the flow rate. And sent downstream. On the way, part of the gas is bypass 1
After passing through the storage section 132 through the portion 33a, the space containing the amount of spacer based on the detection result from the remaining amount detection member 91 is included, and then merges with the mainstream gas. After the merging, the gas including the spacer further flows through the pipe 133, is adjusted to a predetermined pressure by the pressure adjuster 137, and is supplied to the powder supply unit 64.

【0213】また、圧力調整器137と粉体供給部64
との間には、スペーサーの粒子径をモニターする粒子径
モニター(粒子径検知部材)139が設けられている。
この粒子径モニター139によって、粉体供給部64内
に流入するスペーサーの粒子径の分散度を確認すること
ができる。粒子径モニター139としては、前述した光
散乱法や光回折法を用いた測定装置が使用される。モニ
ターした粒子径の分散度は例えば流量調整器136にフ
ィードバックされ、基準値と比較されて規定範囲外のと
き流量調整器136の設定値が調整される。すなわち、
粉体供給源93の出力が調整される。このように制御す
ることで、スペーサーを常に一定の分散度の粒子径で供
給することができる。
The pressure regulator 137 and the powder supply unit 64
A particle size monitor (particle size detection member) 139 for monitoring the particle size of the spacer is provided between the two.
The degree of dispersion of the particle diameter of the spacer flowing into the powder supply unit 64 can be confirmed by the particle diameter monitor 139. As the particle size monitor 139, a measuring device using the light scattering method or the light diffraction method described above is used. The monitored degree of dispersion of the particle diameter is fed back to, for example, the flow controller 136, and is compared with a reference value to adjust the set value of the flow controller 136 when out of the specified range. That is,
The output of the powder supply 93 is adjusted. By controlling in this manner, the spacer can always be supplied with a particle size having a constant degree of dispersion.

【0214】このときの処理を図65のフローチャート
に示す。まずS151で粒子径モニターによるスペーサ
ーの粒子径の分散度を検知する。S152で分散度を基
準値と比較し、規定範囲内にある場合にはS151へ戻
ってモニターを継続する一方、規定範囲外である場合に
はS153へ進み、粉体供給源93の出力を調整してS
151へ戻る。
The processing at this time is shown in the flowchart of FIG. First, in step S151, the degree of dispersion of the particle diameter of the spacer is detected by the particle diameter monitor. In step S152, the degree of dispersion is compared with the reference value. If the value is within the specified range, the process returns to step S151 to continue monitoring. If the value is outside the specified range, the process proceeds to step S153, and the output of the powder supply source 93 is adjusted. And S
Return to 151.

【0215】なお、粒子径モニター139を校正する粒
子径モニター校正部材(図示せず)を設けると、粒子径
の分散度を安定してモニターすることができるので好ま
しい。粒子径モニター校正部材としては、例えば、前述
と同様に顕微鏡などにより得られた情報を画像処理し、
粒子径モニターで得られた結果との比較を基に校正する
光学的検知部材が考えられる。これによって、粒子径モ
ニター139の校正を正確に行うことができる。また、
粒子径モニター校正部材による校正は、製造装置1の電
源投入ごと、粉体供給源93の点検ごと、製造装置1に
て液晶表示素子Lを所定量処理した後・所定時間経過後
などに行えばよい。
It is preferable to provide a particle diameter monitor calibrating member (not shown) for calibrating the particle diameter monitor 139 because the degree of dispersion of the particle diameter can be monitored stably. As a particle diameter monitor calibration member, for example, image processing of information obtained by a microscope or the like as described above,
An optical detection member that performs calibration based on a comparison with a result obtained by a particle size monitor can be considered. Thus, the particle size monitor 139 can be accurately calibrated. Also,
Calibration by the particle diameter monitor calibration member may be performed every time the power of the manufacturing apparatus 1 is turned on, each time the powder supply source 93 is inspected, after a predetermined amount of the liquid crystal display element L is processed in the manufacturing apparatus 1, or after a predetermined time has elapsed. Good.

【0216】また、必要に応じて図66に示すような構
成を付加することもできる。例えば、圧力調整器137
と粉体供給部64との間の配管133に第1濃度モニタ
ー(粒子濃度検知部材)140を設け、粉体供給部64
内に流入する気体中のスペーサーの粒子濃度を把握する
ことができるようにする。第1濃度モニター140に
は、例えばスペーサーの粒子濃度をモニターする部分の
配管133を透明にしておき、そこを流れるスペーサー
に外部から光を照射して透過率を測定することにより濃
度を測定する光透過法方式の装置が適用できる。モニタ
ーしたスペーサーの粒子濃度は予め設定された基準値と
比較されて例えば流量調整器136にフィードバックさ
れ、規定範囲外の場合に気体の流量が調整される。すな
わち、粉体供給源93の出力が調整される。
Further, a configuration as shown in FIG. 66 can be added as required. For example, the pressure regulator 137
A first concentration monitor (particle concentration detection member) 140 is provided in a pipe 133 between the powder supply unit 64 and the powder supply unit 64.
The particle concentration of the spacer in the gas flowing into the inside can be ascertained. The first concentration monitor 140 is, for example, a tube 133 for monitoring the particle concentration of the spacer, which is made transparent, and the spacer flowing therethrough is irradiated with light from the outside to measure the transmittance to measure the concentration. Apparatus of the transmission method can be applied. The monitored particle concentration of the spacer is compared with a preset reference value and fed back to, for example, the flow regulator 136, and when the concentration is outside the specified range, the gas flow is adjusted. That is, the output of the powder supply source 93 is adjusted.

【0217】このような構成は、残量検知部材91の検
知結果を、気体供給源131の気体の供給と、貯蔵部1
32のスペーサーの供給とのON・OFF制御に用い、
第1濃度モニター140の検知結果をそのときのスペー
サーの供給レート制御に用いる場合に適している。この
ような制御を行うことにより、スペーサーを常に一定の
粒子濃度で供給することができる。粉体供給源93の出
力を調整しても、その後複数回濃度モニターを行った結
果が基準値との比較で規定範囲外となるような場合に
は、気体供給源131や貯蔵部132の枯渇など粉体供
給源93に異常が発生している可能性があるので、粉体
供給源93を点検すべき旨を表示したり警告したりする
ように構成するとよい。これにより、粉体供給源93の
異常を早期にかつ容易に知ることができる。
In such a configuration, the detection result of the remaining amount detecting member 91 is supplied to the supply of gas from the gas supply source 131 and the storage unit 1.
Used for ON / OFF control with supply of 32 spacers,
This is suitable when the detection result of the first density monitor 140 is used for controlling the spacer supply rate at that time. By performing such control, the spacer can always be supplied at a constant particle concentration. Even if the output of the powder supply source 93 is adjusted, if the result of concentration monitoring performed a plurality of times after that is out of the specified range in comparison with the reference value, the gas supply source 131 and the storage unit 132 are depleted. For example, since there is a possibility that an abnormality has occurred in the powder supply source 93, it is preferable to display or warn that the powder supply source 93 should be checked. Thereby, the abnormality of the powder supply source 93 can be quickly and easily known.

【0218】この場合の処理を図67のフローチャート
に示す。まずS161で第1濃度モニターによるスペー
サーの粒子濃度のモニターを行う。次に、S162で検
知結果を基準値と比較し、規定範囲内となる場合にはS
161へ戻ってモニターを継続する一方、規定範囲外と
なる場合にはS163へ進んで粉体供給源93の出力を
調整する。その後S164へ進み、出力調整回数Nが規
定回数Kに達するまでS161からS163までの処理
を繰り返す。規定回数Kに達した場合には異常が発生し
ていると判断し、S165で粉体供給源93の点検を行
うべき旨を表示したり警報したりする。
The process in this case is shown in the flowchart of FIG. First, in step S161, the particle concentration of the spacer is monitored by the first concentration monitor. Next, in step S162, the detection result is compared with a reference value.
The process returns to step 161 to continue monitoring, while if the value is outside the specified range, the process proceeds to step S163 to adjust the output of the powder supply source 93. Thereafter, the process proceeds to S164, and the processes from S161 to S163 are repeated until the number N of output adjustments reaches the specified number K. When the specified number K has been reached, it is determined that an abnormality has occurred, and in S165, a message indicating that the powder supply source 93 should be inspected is displayed or a warning is issued.

【0219】また、圧力調整器137の手前の配管13
3がスペーサーで閉塞する虞もあるので、この部分に、
振動を与えて閉塞を防止する振動部材141を設けるこ
ともできる。振動部材141には、超音波の発生によっ
て配管133に振動を付与するものや、ハンマーで自動
的に配管133に衝撃を与えるものなどを適用すること
ができる。
Also, the piping 13 before the pressure regulator 137
3 may be blocked by the spacer.
A vibration member 141 that applies vibration to prevent blockage may be provided. As the vibration member 141, a member that applies vibration to the pipe 133 by generating ultrasonic waves, a member that automatically applies an impact to the pipe 133 with a hammer, or the like can be used.

【0220】この振動部材141は、配管133の閉塞
を常に防ぐためにスペーサー供給時に常時稼働させても
よいが、配管133へのスペーサーの付着がある程度進
行した段階で稼働させてもよい。後者の場合には、振動
部材141に隣接してスペーサーの濃度を測定する第2
濃度モニター142、および第2濃度モニター142に
よるモニター結果(第2モニター結果)を第1濃度モニ
ター140によるモニター結果(第1モニター結果)と
比較して振動部材141の稼働を制御するモニター結果
比較部材143を設けるとよい。
The vibrating member 141 may be always operated at the time of supplying the spacer in order to always prevent the pipe 133 from being blocked, or may be operated at a stage where the attachment of the spacer to the pipe 133 has progressed to some extent. In the latter case, the second step of measuring the spacer concentration adjacent to the vibration member 141 is performed.
A monitor result comparing member that controls the operation of the vibration member 141 by comparing the monitoring result (second monitoring result) of the density monitor 142 and the second density monitor 142 with the monitoring result (first monitoring result) of the first density monitor 140. 143 may be provided.

【0221】すなわち、第2モニター結果をモニター結
果比較部材143によって第1モニター結果と比較し、
第1モニター結果が第2モニター結果よりも規定範囲を
超えて低濃度であることを示した場合は、振動部材14
1の設けられた配管133にスペーサーが相当量付着し
たことによりスペーサーの供給能力が低下していると判
断し、振動部材141を稼働させるようにする。
That is, the second monitor result is compared with the first monitor result by the monitor result comparing member 143,
If the first monitor result indicates that the density is lower than the specified range and lower than the second monitor result, the vibration member 14
It is determined that the supply capacity of the spacers has decreased due to the considerable amount of the spacers adhering to the pipe 133 provided with 1, and the vibration member 141 is operated.

【0222】なお、第1濃度モニター140および第2
濃度モニター142を校正する校正部材を設けると、濃
度モニターの信頼性を高めることができる。校正方法と
しては、前述した粉体帯電器3に設けた粒子濃度検知部
材72を校正する際の手法と同じ方法を用いることがで
きる。例えば図68に示すように、光源としてのレーザ
発振器144から放射されたレーザ光を、レンズ147
を通した後、ビームエキスパンダー148によってビー
ム径の拡大およびコリメートを行って、スペーサーを供
給しない状態で粉体供給源93の透明な配管133内の
スペーサーに照射する。このとき、供給されるスペーサ
ーの量を予め定められた条件で変化させ、各条件での透
過光を受光レンズ149で集光して検知器150にて測
定する。このとき、種々の濃度のスペーサーを撮影した
写真フィルムを用いても構わない。レーザの発光強度は
ビームスプリッター145で分割したものを参照光用検
知器146で検知しているので、受光強度を規格化する
ことができる。
Note that the first density monitor 140 and the second
By providing a calibration member for calibrating the density monitor 142, the reliability of the density monitor can be improved. As the calibration method, the same method as the above-described method for calibrating the particle concentration detecting member 72 provided in the powder charger 3 can be used. For example, as shown in FIG. 68, a laser beam emitted from a laser oscillator 144 as a light source is
After passing through, the beam diameter is expanded and collimated by the beam expander 148 to irradiate the spacer in the transparent pipe 133 of the powder supply source 93 without supplying the spacer. At this time, the amount of the supplied spacer is changed under predetermined conditions, and the transmitted light under each condition is collected by the light receiving lens 149 and measured by the detector 150. At this time, photographic films obtained by photographing spacers having various densities may be used. Since the emission intensity of the laser is divided by the beam splitter 145 and detected by the reference light detector 146, the intensity of the received light can be standardized.

【0223】このようにして測定した結果と、事前に測
定しておいたスペーサーの供給量と透過率との校正曲線
との結果を比較することにより、第1濃度モニター14
0および第2濃度モニター142の校正を行うことがで
きる。また、上記の校正において、スペーサーを供給し
ない状態で透過率を測定し、初期値と比較することによ
り、配管133へのスペーサーの付着状況を知ることも
できる。上記校正部材による校正は、製造装置1の電源
投入時、粉体供給源93の点検時、製造装置1により所
定量の液晶表示素子Lを処理した後、あるいは製造装置
1による液晶表示素子Lの処理開始から所定時間経過し
た時点などに行うとよい。
By comparing the result of the measurement in this manner with the result of the previously measured calibration curve of the spacer supply amount and the transmittance, the first density monitor 14 is obtained.
Calibration of the zero and second density monitors 142 can be performed. In the above calibration, the state of adhesion of the spacer to the pipe 133 can be known by measuring the transmittance without supplying the spacer and comparing it with the initial value. The calibration by the calibration member is performed when the manufacturing apparatus 1 is powered on, when the powder supply source 93 is checked, after the manufacturing apparatus 1 processes a predetermined amount of the liquid crystal display elements L, or when the manufacturing apparatus 1 uses the liquid crystal display elements L. This may be performed when a predetermined time has elapsed from the start of the processing.

【0224】また、気体を用いてスペーサーを搬送する
粉体供給源93において、配管133内で気体の旋回流
を起こすことにより、スペーサーが配管133内に付着
しにくいようにした構成について説明する。旋回流を起
こすには、例えば図69に示すように、気体供給源13
1がスペーサーの搬送方向に対して斜め後ろから配管1
33内に気体を供給するようにする。また、図70に示
すように、配管の内壁に螺旋状の溝151を設けてもよ
い。
In the powder supply source 93 that transports the spacer by using gas, a configuration is described in which the gas is swirled in the pipe 133 so that the spacer does not easily adhere to the pipe 133. To generate a swirling flow, for example, as shown in FIG.
1 is a pipe 1 from behind obliquely to the direction of transport of the spacer.
Gas is supplied into 33. As shown in FIG. 70, a spiral groove 151 may be provided on the inner wall of the pipe.

【0225】あるいは、図71(a)に示すように、配
管133を軸方向に見て右上・左下を遮蔽するように平
板状部材152を設ける。このような平板状部材152
を配置して気体を配管133内に送り込むと、平板状部
材152に進行を阻止された気体は隣接する開空間へ回
り込み、同図の場合は反時計回りの方向に旋回流が生じ
る。また、配管133を鉛直方向の上方から見た状態が
同図(b)であるが、平板状部材152は、配管の内壁
から中央部に向かうにつれてスペーサーの搬送方向に傾
くように設けられている。このように角度を持たせて平
板状部材152を配置することにより、気体の圧力損失
を小さくすることが可能である。
Alternatively, as shown in FIG. 71 (a), a flat plate member 152 is provided so as to shield the upper right and lower left when the pipe 133 is viewed in the axial direction. Such a flat member 152
Is disposed and the gas is sent into the pipe 133, the gas, which is prevented from proceeding by the flat plate member 152, goes to the adjacent open space, and in the case of FIG. FIG. 2B shows a state in which the pipe 133 is viewed from above in the vertical direction, and the flat member 152 is provided so as to be inclined in the direction of transport of the spacer from the inner wall of the pipe toward the center. . The pressure loss of gas can be reduced by arranging the plate-like members 152 at an angle as described above.

【0226】なお、平板状部材152を通過した気体が
そのまま配管133内を進み続けると旋回が消失してし
まう虞があるので、平板状部材152は、例えば図64
のD・E・F・Gの各点など適当な間隔で複数個設ける
のがよい。また、図69ないし図71に示すそれぞれの
旋回流の形成方法を組み合わせてもよい。
If the gas that has passed through the plate member 152 continues to travel in the pipe 133 as it is, the swirl may be lost.
It is preferable to provide a plurality of such as D, E, F and G points at appropriate intervals. Further, the methods of forming the swirling flows shown in FIGS. 69 to 71 may be combined.

【0227】次に、粉体供給部64の側壁に設けられた
気体の排出口135の構成について説明する。具体的に
は、図72(a)に示すように、粉体帯電器3の排気口
135にバグフィルター・HEPAフィルター・ULP
Aフィルターのいずれか、あるいはそれらの組み合わせ
からなる粉体捕獲部材153を設ける。粉体帯電器3に
供給されたスペーサーは気体で搬送されるため、この気
体を排気口135から外部に排出しなければならない。
その際、スペーサーが一緒に排出されてしまわないよう
に、スペーサーを粉体捕獲部材153によって捕獲す
る。
Next, the structure of the gas outlet 135 provided on the side wall of the powder supply section 64 will be described. More specifically, as shown in FIG. 72 (a), a bag filter, a HEPA filter, a ULP
A powder capturing member 153 made of one of the A filters or a combination thereof is provided. Since the spacer supplied to the powder charger 3 is transported by gas, the gas must be discharged to the outside from the exhaust port 135.
At that time, the spacer is captured by the powder capturing member 153 so that the spacer is not discharged together.

【0228】粉体帯電器3には、バルブ154aを介し
て取り付けられた圧力計154bで内部の圧力を検知す
る圧力検知部材154が設けられており、バルブ154
aを開状態として圧力検知を行う。また、圧力計154
bにはバルブ154cを介して圧力校正用ポート154
dが設けられており、バルブ154aを閉状態、バルブ
154cを開状態として圧力校正用ポート154dから
標準圧力の気体を導入することによって圧力計154b
の校正が可能となっている。
The powder charger 3 is provided with a pressure detecting member 154 for detecting the internal pressure by a pressure gauge 154b attached via a valve 154a.
The pressure is detected by setting a to the open state. In addition, the pressure gauge 154
b, a pressure calibration port 154 via a valve 154c.
d is provided, the valve 154a is closed, the valve 154c is open, and a gas at a standard pressure is introduced from the pressure calibration port 154d to thereby obtain a pressure gauge 154b.
Can be calibrated.

【0229】粉体捕獲部材153を長期間使用すると、
スペーサーによって目詰まりを起こし、気体の通り抜け
が悪くなる。そこで、粉体捕獲部材153の状態を検知
する状態モニター部材を設ける。同図の場合は、粉体捕
獲部材153の後段にバルブ156を介し、状態モニタ
ー部材として流量検知部材155を設けている。流量検
知部材155は、粉体捕獲部材153を通過する気体の
流量を検知することによって、粉体捕獲部材153の目
詰まりが規定範囲外にあるかどうかを検知し、規定範囲
外にあるときには粉体捕獲部材153を交換すべき表示
や警報などに従って粉体捕獲部材153を交換する。
If the powder capturing member 153 is used for a long time,
The spacers cause clogging and poor gas passage. Therefore, a state monitor member for detecting the state of the powder capturing member 153 is provided. In the case of the figure, a flow rate detecting member 155 is provided as a state monitoring member via a valve 156 at the subsequent stage of the powder capturing member 153. The flow rate detecting member 155 detects whether the clogging of the powder capturing member 153 is out of the specified range by detecting the flow rate of the gas passing through the powder capturing member 153. The powder capturing member 153 is replaced according to a display, an alarm, or the like for replacing the body capturing member 153.

【0230】また、流量検知部材155には、バルブ1
55aを介して流量校正用ポート155bが設けられて
おり、バルブ156閉状態、バルブ155aを開状態と
して流量校正用ポート155bから標準流量の気体を導
入することにより流量検知部材155の校正が可能とな
っている。
The flow rate detecting member 155 includes a valve 1
A flow rate calibration port 155b is provided through 55a, and the flow rate detection member 155 can be calibrated by introducing a standard flow rate gas from the flow rate calibration port 155b with the valve 156 closed and the valve 155a opened. Has become.

【0231】また、同図(b)に示すように、粉体帯電
器3の排気口135と対向する側壁に光学的検知部材1
57を状態モニター部材として設け、粉体捕獲部材15
3へのスペーサーの付着状況をレンズ系とCCDとを組
み合わせた光学系などでモニターしてもよい。
As shown in FIG. 23B, the optical detecting member 1 is provided on the side wall of the powder charger 3 facing the exhaust port 135.
57 is provided as a state monitor member, and the powder capturing member 15
The state of attachment of the spacer to 3 may be monitored by an optical system combining a lens system and a CCD.

【0232】さらに、図73に示すように、この光学的
検知部材157を校正する状態モニター校正部材158
を設けると、状態モニターを安定して行うことができ
る。状態モニター校正部材158は、粉体供給部64の
側壁の窓64eの外側に、状態の基準となる基準濃度部
材158aを設けたものである。基準濃度部材158a
は白黒のパターンやスペーサーを分散したパターンであ
って、この周囲を囲む囲み壁158bの端部に設けられ
た開閉部材158cを開閉することによって、基準濃度
部材158aを交換できるように構成されている。
Further, as shown in FIG. 73, a state monitor calibration member 158 for calibrating the optical detection member 157.
Is provided, the state monitor can be stably performed. The state monitor calibration member 158 is provided with a reference density member 158a serving as a state reference outside the window 64e on the side wall of the powder supply unit 64. Reference density member 158a
Is a black and white pattern or a pattern in which spacers are dispersed. The reference density member 158a can be replaced by opening and closing an opening / closing member 158c provided at an end of a surrounding wall 158b surrounding the pattern. .

【0233】また、窓64eの内側にはシャッター15
8dが設けられており、校正しようとするときにシャッ
ター158dを開け、窓64eから光学的検知部材15
7によって基準濃度部材158aを観測し、所定の濃度
が検出されるか否かにより光学的検知部材157の校正
を行う。プロセスの効率化及び安定化を図るために、状
態モニター校正部材158による校正は、製造装置1の
電源投入ごと、あるいは粉体捕獲部材153の交換ごと
に行うとよい。
The shutter 15 is provided inside the window 64e.
8d, the shutter 158d is opened when calibration is to be performed, and the optical detection member 15 is opened through the window 64e.
7, the reference density member 158a is observed, and the optical detection member 157 is calibrated based on whether a predetermined density is detected. In order to improve the efficiency and stability of the process, the calibration by the state monitor calibration member 158 may be performed every time the power of the manufacturing apparatus 1 is turned on or every time the powder capturing member 153 is replaced.

【0234】上記の2通りの状態モニター部材によるモ
ニター処理を図74のフローチャートに示す。まずS1
71で状態モニター部材により粉体捕獲部材153の状
態をモニターする。S172でモニター結果を基準値と
比較し、規定範囲内の場合にはS171へ戻ってモニタ
ーを継続する一方、規定範囲外の場合にはS173へ進
み、粉体捕獲部材153を交換する。
FIG. 74 is a flowchart showing the monitoring process performed by the two types of status monitor members. First, S1
At 71, the state of the powder capturing member 153 is monitored by the state monitoring member. In step S172, the monitoring result is compared with the reference value. If it is within the specified range, the process returns to step S171 to continue monitoring. If it is out of the specified range, the process proceeds to step S173, where the powder capturing member 153 is replaced.

【0235】以上は気体によってスペーサーを直接粉体
供給部64に供給する場合についての説明であった。こ
れに対し、気体によってスペーサーを例えば図75に示
すような粉体収容部92に一旦供給し、そこから供給ロ
ーラ157によって粉体供給部64内に供給する場合に
は、同図に示すように粉体収容部92に排気口158を
設けた上で、上述の粉体捕獲部材153、流量検知部材
155、光学的検知部材157などを設ければよい。
The above is the description of the case where the spacer is directly supplied to the powder supply section 64 by gas. On the other hand, when the spacers are once supplied by gas to the powder container 92 as shown in FIG. 75 and then supplied into the powder supply unit 64 by the supply roller 157, as shown in FIG. After the exhaust port 158 is provided in the powder container 92, the above-described powder capturing member 153, flow rate detecting member 155, optical detecting member 157, and the like may be provided.

【0236】次に、前述した粉体収容部92の収容室9
2aや、粉体供給源93の貯蔵部132のスペーサーを
容易に交換することのできる構成について述べる。図7
6(a)に、収容室92aに収容するスペーサーをカー
トリッジ161に収めて交換可能とした粉体収容部92
の構成を示す。
Next, the accommodating chamber 9 of the powder accommodating section 92 described above.
2a and a configuration in which the spacer of the storage section 132 of the powder supply source 93 can be easily replaced will be described. FIG.
6 (a), the powder accommodating portion 92 in which a spacer accommodated in the accommodating chamber 92a is housed in a cartridge 161 and is replaceable.
Is shown.

【0237】収容室92aの側壁を兼ねる枠体162
は、カートリッジ161が嵌合されるように形成されて
いる。図中、カートリッジ161の破線で囲まれた空間
161a内にスペーサーが充填されており、枠体162
への嵌合に伴ってカートリッジ161に設けられた供給
ローラ161bが、収容室92aの図示しない駆動軸に
係合するようになっている。スペーサーの供給口は閉止
部材161cで閉止されており、カートリッジ161の
使用開始前に取っ手161d・161dを掴んでこの閉
止部材161cを引き抜くことにより供給口を開くよう
になっている。
A frame 162 also serving as a side wall of the accommodation room 92a
Is formed so that the cartridge 161 is fitted. In the figure, a spacer 161 is filled in a space 161a surrounded by a broken line of the cartridge 161 and a frame 162 is formed.
The supply roller 161b provided on the cartridge 161 is engaged with a drive shaft (not shown) of the storage chamber 92a when the cartridge 161 is fitted. The supply port of the spacer is closed by a closing member 161c, and the supply port is opened by grasping the handles 161d and 161d and pulling out the closing member 161c before starting use of the cartridge 161.

【0238】カートリッジ161の使用時には、供給ロ
ーラ161bの回転によって供給口から撹拌室92bへ
スペーサーが供給される。また、カートリッジ161の
側面の中央部には、カートリッジ161の枠体162へ
の着脱を行う際にハンドリングが容易になるよう取っ手
161eが設けられている。
When the cartridge 161 is used, the spacer is supplied from the supply port to the stirring chamber 92b by the rotation of the supply roller 161b. A handle 161e is provided at the center of the side surface of the cartridge 161 to facilitate handling when the cartridge 161 is attached to or detached from the frame 162.

【0239】また、同図(b)に、カートリッジ161
が枠体162に強固に固定されるようにした例を示す。
この例では、枠体162の内周に設けられた複数の凹部
と、カートリッジ161の外周に設けられた複数の凸部
とが嵌合部161f…として互いに嵌合するようになっ
ている。この場合、カートリッジ161と枠体162と
の位置合わせを容易にするため、嵌合部161f…は収
容室92aの外側に向かうほど幅が広くなるよう形成さ
れている。
[0239] Also, FIG.
An example is shown in which is fixed firmly to the frame 162.
In this example, a plurality of concave portions provided on the inner periphery of the frame 162 and a plurality of convex portions provided on the outer periphery of the cartridge 161 are fitted to each other as fitting portions 161f. In this case, in order to facilitate the alignment between the cartridge 161 and the frame body 162, the fitting portions 161f are formed such that the width thereof increases toward the outside of the accommodation chamber 92a.

【0240】さらに、カートリッジ161を枠体162
に装着した後、枠体162の所定箇所に設けられた複数
のガイド孔162a…内で矢印の方向に移動可能とされ
た固定部材163…を、それらに対応してカートリッジ
161の外周に設けられた複数の嵌合孔161g…に嵌
合する。これにより、カートリッジ161は枠体162
に強固に固定される。
Further, the cartridge 161 is inserted into the frame 162
Are fixed to the outer periphery of the cartridge 161 corresponding to them in a plurality of guide holes 162a provided in predetermined positions of the frame body 162 in such a manner as to be movable in the direction of the arrow. Are fitted into the plurality of fitting holes 161g. As a result, the cartridge 161 is
Firmly fixed to

【0241】このように、スペーサーをカートリッジ1
61に収めて収容室92aに対して着脱可能となるよう
にすれば、スペーサーの交換を極めて容易に行うことが
でき、交換の際にスペーサーがこぼれて周囲を汚染する
といったトラブルも回避できる。
As described above, the spacer is used for the cartridge 1
If it is housed in the storage chamber 61 so that it can be attached to and detached from the accommodation room 92a, the replacement of the spacer can be performed extremely easily, and the trouble that the spacer spills and contaminates the surroundings at the time of replacement can be avoided.

【0242】また、図77に示すように、カートリッジ
161からのスペーサーの供給が均一になるよう、カー
トリッジ161内のスペーサーを撹拌する撹拌部材16
4、カートリッジ161に振動を与える振動部材16
5、あるいは、供給ローラ161bから供給されるスペ
ーサーに気体を吹き付けてこれを分散させる吹き付け部
材166を設けることもできる。
As shown in FIG. 77, the stirring member 16 for stirring the spacers in the cartridge 161 so that the supply of the spacers from the cartridge 161 becomes uniform.
4. Vibrating member 16 for applying vibration to cartridge 161
5, or a blowing member 166 that blows gas to the spacer supplied from the supply roller 161b to disperse the gas can also be provided.

【0243】同図において、さらにカートリッジ161
の供給口付近に、カートリッジ161から供給されるス
ペーサーの分散状態をモニターする分散状態モニターを
設けてもよい。この分散状態モニターには、実施の形態
2で述べた粒子径検知部材71あるいは校正部材73を
適用することができる。分散状態モニターの検知結果を
予め用意した基準値と比較し、規定範囲外のときにカー
トリッジ161の撹拌部材164の回転速度、振動部材
165の振動強度、あるいは供給ローラ161bの回転
速度などを変化させて出力を調整するようにすれば、ス
ペーサーの分散状態の異常を容易に検知してこれを補正
することができる。このときの処理は、図61のフロー
チャートにおいて、粉体供給源をカートリッジに置き換
えたものと同様である。
In the same drawing, the cartridge 161
A dispersion state monitor for monitoring the dispersion state of the spacer supplied from the cartridge 161 may be provided in the vicinity of the supply port. The particle size detection member 71 or the calibration member 73 described in the second embodiment can be applied to the dispersion state monitor. The detection result of the dispersion state monitor is compared with a reference value prepared in advance, and when it is out of the specified range, the rotation speed of the stirring member 164 of the cartridge 161, the vibration intensity of the vibration member 165, or the rotation speed of the supply roller 161 b is changed. If the output is adjusted in this way, it is possible to easily detect an abnormality in the dispersion state of the spacer and correct it. The processing at this time is the same as that in the flowchart in FIG. 61 except that the powder supply source is replaced with a cartridge.

【0244】さらに、同様の箇所にカートリッジ161
から供給されるスペーサーの供給量をモニターする供給
量モニターを設けてもよい。この供給量モニターには、
スペーサーの重量を測定するものや、実施の形態2で述
べた粒子濃度検知部材72を適用することができる。供
給量モニターの検知結果を予め用意した基準値と比較
し、規定範囲外のときにカートリッジ161の出力を調
整するようにする。これにより、スペーサーの供給量を
把握して常に一定量のスペーサーを供給することができ
る。
Further, the cartridge 161 is placed in the same location.
A supply amount monitor for monitoring the supply amount of the spacer supplied from the apparatus may be provided. This supply monitor includes:
A member for measuring the weight of the spacer or the particle concentration detecting member 72 described in Embodiment 2 can be applied. The detection result of the supply amount monitor is compared with a reference value prepared in advance, and the output of the cartridge 161 is adjusted when it is out of the specified range. This makes it possible to always supply a fixed amount of spacer by grasping the supply amount of the spacer.

【0245】出力調整を複数回繰り返しても供給量モニ
ターの検知結果が規定範囲外となるときには、カートリ
ッジ161に異常が発生している可能性があるので、カ
ートリッジ161を点検すべき旨を表示したり警告した
りするようにするとよい。このときの処理は、図62の
フローチャートにおいて、粉体供給源をカートリッジに
置き換えたものと同様である。
If the detection result of the supply amount monitor is out of the specified range even after the output adjustment is repeated a plurality of times, there is a possibility that an abnormality has occurred in the cartridge 161 and it is displayed that the cartridge 161 should be inspected. Or be warned. The processing at this time is the same as that in the flowchart in FIG. 62 except that the powder supply source is replaced with a cartridge.

【0246】また、分散状態モニターあるいは供給量モ
ニターの校正を、製造装置1の電源投入時や、カートリ
ッジ161の交換・点検時に行うようにすれば、スペー
サー供給プロセスの安定化や効率化を図ることができ
る。
If the dispersion state monitor or the supply amount monitor is calibrated when the power of the manufacturing apparatus 1 is turned on or when the cartridge 161 is replaced or inspected, the spacer supply process can be stabilized and the efficiency can be improved. Can be.

【0247】なお、上述のカートリッジ161は粉体収
容部92の収容室92aに適用されるものとして説明し
たが、これに限るものではなく、前述の粉体供給源93
の貯蔵部121・132にもその構造に適宜合わせたも
のとすることで適用可能である。
Although the above-described cartridge 161 has been described as being applied to the accommodating chamber 92a of the powder accommodating section 92, the present invention is not limited to this.
The storage sections 121 and 132 can also be applied by appropriately adjusting the structure.

【0248】以上、説明したように、本実施の形態の液
晶表示素子の製造装置および製造方法によれば、粉体帯
電器3の粉体供給部64内にあるスペーサーの残量を検
知し、この結果に基づいて必要量のスペーサーを外部か
ら補充するようにしたので、安定したスペーサー散布プ
ロセスを行うことができる。
As described above, according to the apparatus and method for manufacturing a liquid crystal display element of the present embodiment, the remaining amount of the spacer in the powder supply section 64 of the powder charger 3 is detected. Since the necessary amount of spacer is replenished from the outside based on this result, a stable spacer dispersing process can be performed.

【0249】[0249]

【発明の効果】請求項1に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、液晶層のスペーサーとなる粉
体を帯電させる粉体帯電手段と、上記粉体帯電手段によ
って帯電した上記粉体を飛翔させて、上記液晶層が形成
される液晶表示素子上に散布する粉体飛翔手段とを有す
る液晶表示素子の製造装置において、上記液晶表示素子
の素子パターンを判別するパターン判別手段を有し、上
記粉体飛翔手段は、上記パターン判別手段による上記素
子パターンの判別結果に基づいて上記粉体を上記液晶表
示素子上の選択した領域に散布する構成である。
As described above, the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the first aspect of the present invention comprises: a powder charging means for charging a powder serving as a spacer of a liquid crystal layer; A liquid crystal display element manufacturing apparatus having a powder flying means for flying the powder and spraying the liquid crystal display element on which the liquid crystal layer is formed, a pattern discriminating means for discriminating an element pattern of the liquid crystal display element. The powder flying means is configured to spray the powder to a selected area on the liquid crystal display element based on a result of the element pattern discrimination by the pattern discriminating means.

【0250】それゆえ、個々の液晶表示素子に対し、そ
の素子パターンに応じて粉体の飛翔が制御されるので、
汎用性の高い方法でスペーサーを液晶表示素子上の所望
の領域に確実に散布することのできる液晶表示素子の製
造装置を提供することができるという効果を奏する。
Therefore, the flying of the powder is controlled for each liquid crystal display element according to the element pattern.
There is an effect that it is possible to provide an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, which can reliably disperse spacers in a desired region on the liquid crystal display element by a highly versatile method.

【0251】請求項2に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項1に記載の液晶表示素子
の製造装置において、上記パターン判別手段は上記液晶
表示素子に設けられたブラックマトリックスの配列パタ
ーンを読み取る読み取り手段を有するとともに上記読み
取り手段による読み取り結果に基づいて上記素子パター
ンを判別し、上記粉体飛翔手段は上記ブラックマトリッ
クスの上方の領域に上記粉体を散布する構成である。
In the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the second aspect of the present invention, as described above, in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the first aspect, the pattern determining means is provided in the liquid crystal display element. It has a reading means for reading an array pattern of a black matrix and determines the element pattern based on a reading result by the reading means, and the powder flying means sprays the powder in a region above the black matrix. is there.

【0252】それゆえ、ブラックマトリックスの上方の
領域にスペーサーを正確に散布することができ、高品質
の表示画像が得られるという効果を奏する。
[0252] Therefore, the spacers can be accurately dispersed in the region above the black matrix, and an effect that a high quality display image is obtained can be obtained.

【0253】請求項3に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項1または2に記載の液晶
表示素子の製造装置において、上記粉体飛翔手段は上記
判別結果に基づいた電圧が各々に印加されることにより
上記粉体を選択的に飛翔させる複数の電極を有し、所定
の電圧が印加されることにより上記粉体飛翔手段との間
に電界を形成して上記粉体を上記液晶表示素子上へ導く
対向電極が上記粉体飛翔手段に対向するように設けられ
ている構成である。
According to a third aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the first or second aspect, the powder flying means is based on the determination result. A plurality of electrodes for selectively flying the powder by applying a voltage to each of them, and forming an electric field between the powder flying means by applying a predetermined voltage, A counter electrode for guiding powder onto the liquid crystal display element is provided so as to face the powder flying means.

【0254】それゆえ、粉体帯電手段によって帯電した
粉体を効率よく液晶表示素子上の目的の領域に散布する
ことができるという効果を奏する。
Therefore, there is an effect that the powder charged by the powder charging means can be efficiently scattered to the target area on the liquid crystal display element.

【0255】請求項4に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項3に記載の液晶表示素子
の製造装置において、上記対向電極は、上記液晶表示素
子に設けられた透明電極および上記ブラックマトリック
スのうち上記粉体飛翔手段に近い方である構成である。
According to the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 4, as described above, in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 3, the counter electrode is provided on the liquid crystal display element. The transparent electrode and the black matrix are arranged closer to the powder flying means.

【0256】それゆえ、粉体飛翔手段の電極と対向電極
との間に導体が介在することがないので、粉体を飛翔さ
せる電界を確実に形成することができるという効果を奏
する。
Therefore, since no conductor is interposed between the electrode of the powder flying means and the counter electrode, the electric field for flying the powder can be surely formed.

【0257】請求項5に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項3または4に記載の液晶
表示素子の製造装置において、上記パターン判別手段
は、上記液晶表示素子上の上記粉体の散布状態を読み取
る散布状態読み取り手段をさらに有し、上記散布状態読
み取り手段による読み取り結果に基づいて以降の散布に
際し上記粉体飛翔手段の各々の電極への印加電圧を変更
する構成である。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the third or fourth aspect, wherein the pattern determining means is provided on the liquid crystal display element. A configuration further comprising a scattered state reading means for reading the scattered state of the powder, and changing a voltage applied to each electrode of the powder flying means during the subsequent scattering based on a result of reading by the scattered state reading means. It is.

【0258】それゆえ、粉体の散布状態を電極にフィー
ドバックすることにより、散布状態が所望の状態からず
れたとしても適切に補正することができるという効果を
奏する。
Therefore, by feeding back the powder scatter state to the electrode, even if the scatter state deviates from a desired state, it is possible to appropriately correct the scatter state.

【0259】請求項6に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項1ないし5のいずれかに
記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体帯電
手段は、イオンを発生するイオン発生部と、内部に保有
した上記粉体に上記イオン発生部によって発生したイオ
ンを照射することにより、上記粉体を帯電させて上記粉
体飛翔手段に供給する粉体供給部とを有する構成であ
る。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to any one of the first to fifth aspects, wherein the powder charging means comprises an ion source. A powder supply unit for charging the powder and supplying the powder to the powder flying means by irradiating the powder held therein with ions generated by the ion generation unit; It is a structure which has.

【0260】それゆえ、イオン照射によって粉体を帯電
して粉体飛翔手段に供給するため、粉体が確実に帯電し
て供給形態に適したクラウド状になるとともに、イオン
照射が粉体に対して均一に行われるようにすることによ
り、粉体の均一な帯電と供給とが得られる。
Therefore, since the powder is charged by the ion irradiation and supplied to the powder flying means, the powder is reliably charged to form a cloud suitable for the supply form, and the ion irradiation is applied to the powder. In this case, the powder is uniformly charged and supplied.

【0261】この結果、粉体を安定して帯電および供給
することのできる液晶表示素子の製造装置を提供するこ
とができるという効果を奏する。
As a result, it is possible to provide an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element capable of stably charging and supplying powder.

【0262】請求項7に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項6に記載の液晶表示素子
の製造装置において、上記粉体供給部は導電性材料から
なる底部に上記粉体の集合体である粉体溜まりを保有し
た容器であり、上記イオン発生部は上記粉体供給部の上
記底部以外の側壁に設けられ、上記粉体供給部は上記イ
オン発生部によって発生したイオンを上記イオン発生部
と上記底部との間に形成した電界によって上記粉体溜ま
りに照射することにより、上記粉体を帯電させて上記粉
体溜まりから上記粉体飛翔手段に向けて放出する構成で
ある。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the sixth aspect, wherein the powder supply section is provided at a bottom portion made of a conductive material. A container that holds a powder reservoir that is an aggregate of the powder, wherein the ion generating unit is provided on a side wall other than the bottom of the powder supply unit, and the powder supply unit is generated by the ion generation unit; By irradiating the charged ions with the electric field formed between the ion generating portion and the bottom portion to the powder reservoir, the powder is charged and discharged from the powder reservoir toward the powder flying means. Configuration.

【0263】それゆえ、イオン発生部によって発生した
イオンの加速軌道上に粉体溜まりが位置するので、イオ
ンが効率よく粉体に照射され、それだけ粉体を効率よく
帯電させてクラウド状にすることができるという効果を
奏する。
Therefore, since the powder pool is located on the acceleration trajectory of the ions generated by the ion generating unit, the ions are efficiently irradiated on the powder, and the powder is charged efficiently and the cloud is formed. This has the effect that it can be performed.

【0264】請求項8に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項6または7に記載の液晶
表示素子の製造装置において、上記イオン発生部に、上
記粉体供給部の上記粉体溜まりから放出され上記イオン
発生部内に侵入しようとする上記粉体を上記粉体供給部
内へ押し戻す粉体侵入阻止部材が設けられている構成で
ある。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to the sixth or seventh aspect, wherein the ion generating section is provided with the powder supply section. And a powder intrusion preventing member that pushes the powder that is released from the powder reservoir and tries to enter the ion generating section back into the powder supply section.

【0265】それゆえ、イオン発生部材内に粉体が付着
して汚染が発生するのを防止することができるという効
果を奏する。
Therefore, it is possible to prevent the powder from adhering to the inside of the ion generating member, thereby preventing the occurrence of contamination.

【0266】請求項9に係る発明の液晶表示素子の製造
装置は、以上のように、請求項6ないし8のいずれかに
記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体供給
部に、上記粉体溜まりを撹拌する撹拌部材が設けられて
いる構成である。
According to a ninth aspect of the present invention, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to any one of the sixth to eighth aspects, the powder supply unit includes In this configuration, a stirring member for stirring the powder pool is provided.

【0267】それゆえ、粉体溜まりを撹拌することによ
り、粉体溜まりの中の粉体を均等に使用して古い粉体が
いつまでも残らないようにすることができるので、安定
した粉体散布プロセスを行うことができるという効果を
奏する。
Therefore, by stirring the powder pool, the powder in the powder pool can be used evenly and the old powder can be prevented from remaining forever. Is achieved.

【0268】請求項10に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項6ないし9のいずれか
に記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体供
給部に、上記粉体溜まりに振動を与える振動部材が設け
られている構成である。
According to a tenth aspect of the present invention, a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to any one of the sixth to ninth aspects, wherein This is a configuration in which a vibration member that applies vibration to the powder reservoir is provided.

【0269】それゆえ、粉体溜まりに振動を与えること
により、粉体溜まりの上面を平坦にして粉体を均一に分
散させることができるので、安定した粉体散布プロセス
を行うことができるという効果を奏する。
Therefore, by applying vibration to the powder reservoir, the upper surface of the powder reservoir can be flattened and the powder can be uniformly dispersed, so that a stable powder dispersion process can be performed. To play.

【0270】請求項11に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項6ないし10のいずれ
かに記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体
供給部に、上記粉体飛翔手段に供給する上記粉体の粒子
径を検知する粒子径検知部材が設けられている構成であ
る。
[0270] According to the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 11, as described above, in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to any one of claims 6 to 10, the powder supply unit may be provided with: In this configuration, a particle diameter detecting member for detecting the particle diameter of the powder supplied to the powder flying means is provided.

【0271】それゆえ、飛翔制御手段に供給する前に粉
体の粒子径を検知するので、検知結果に基づいて所望の
粒子径になるように制御したり、所望の粒子径が得られ
た場合のみ粉体を粉体飛翔手段に供給したりすること
で、安定した粉体散布プロセスを行うことができるとい
う効果を奏する。
Therefore, since the particle diameter of the powder is detected before the powder is supplied to the flight control means, it is controlled based on the detection result so as to obtain a desired particle diameter, or when the desired particle diameter is obtained. By supplying only the powder to the powder flying means, there is an effect that a stable powder spraying process can be performed.

【0272】請求項12に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項6ないし11のいずれ
かに記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体
供給部に、上記粉体飛翔手段に供給する上記粉体の粒子
濃度を検知する粒子濃度検知部材が設けられている構成
である。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to any one of the sixth to eleventh aspects, the powder supply section comprises In this configuration, a particle concentration detecting member for detecting the particle concentration of the powder supplied to the powder flying means is provided.

【0273】それゆえ、粉体飛翔手段に供給する前に粉
体の粒子濃度を検知するので、検知結果に基づいて所望
の粒子濃度になるように制御したり、所望の粒子濃度が
得られた場合のみ粉体を粉体飛翔手段に供給したりする
ことで、安定した粉体散布プロセスを行うことができる
という効果を奏する。
Therefore, the particle concentration of the powder is detected before the powder is supplied to the powder flying means, so that the desired particle concentration can be controlled or the desired particle concentration can be obtained based on the detection result. By supplying the powder to the powder flying means only in the case, there is an effect that a stable powder spraying process can be performed.

【0274】請求項13に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項6ないし12のいずれ
かに記載の液晶表示素子の製造装置において、上記粉体
供給部に、上記粉体溜まりの残量を検知する残量検知部
材が設けられている構成である。
According to a thirteenth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal display element manufacturing apparatus according to any one of the sixth to twelfth aspects, the powder supply unit includes In this configuration, a remaining amount detecting member for detecting the remaining amount of the powder pool is provided.

【0275】それゆえ、粉体溜まりの残量を常に把握す
ることができるので、残量の検知結果に基づいて粉体を
外部から適宜補充することにより、安定した粉体散布プ
ロセスを行うことができるという効果を奏する。
Therefore, it is possible to constantly grasp the remaining amount of the powder accumulation, so that the powder can be appropriately replenished from the outside based on the detection result of the remaining amount, so that a stable powder dispersion process can be performed. It has the effect of being able to.

【0276】請求項14に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項13に記載の液晶表示
素子の製造装置において、上記残量検知部材の検知結果
に基づいて上記粉体を上記粉体供給部に補充する粉体補
充部材が設けられている構成である。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to the thirteenth aspect, wherein the powder remaining amount detecting member detects the powder based on the detection result of the remaining amount detecting member. In this configuration, a powder replenishing member for replenishing the body to the powder supply unit is provided.

【0277】それゆえ、粉体供給部への粉体の補充が自
動的に行われるので、粉体散布プロセスを高効率化させ
ることができるという効果を奏する。
Therefore, the powder is automatically replenished to the powder supply section, so that the powder dispersing process can be more efficiently performed.

【0278】請求項15に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項14に記載の液晶表示
素子の製造装置において、上記粉体補充部材は、上記粉
体を貯蔵する貯蔵部と、上記貯蔵部の上記粉体を上記粉
体供給部まで搬送する搬送部とを有している構成であ
る。
According to a fifteenth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal display element producing apparatus according to the fourteenth aspect, the powder replenishing member stores the powder. It is a configuration having a storage unit and a transport unit that transports the powder in the storage unit to the powder supply unit.

【0279】それゆえ、貯蔵部に例えば大量の粉体を貯
蔵しておき、そこから搬送部により搬送量を制御するな
どして粉体を粉体供給部まで搬送すれば、長期間にわた
って安定した粉体散布プロセスを行うことができるとい
う効果を奏する。
[0279] Therefore, if a large amount of powder is stored in the storage unit and the powder is conveyed to the powder supply unit by controlling the amount of conveyance by the conveyance unit, for example, the powder is stable for a long time. There is an effect that a powder spraying process can be performed.

【0280】請求項16に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項15に記載の液晶表示
素子の製造装置において、上記搬送部は、上記粉体を搬
送するベルトまたはスクリューを有している構成であ
る。
[0280] According to the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 16, as described above, in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 15, the transporting section comprises a belt or a belt for transporting the powder. This is a configuration having a screw.

【0281】それゆえ、搬送部がベルトを有する場合に
は粉体を一度に大量に搬送することができ、搬送部がス
クリューを有する場合には粉体を周囲に飛散させること
なく定量的に搬送することができるという効果を奏す
る。
Therefore, when the transport section has a belt, a large amount of powder can be transported at once, and when the transport section has a screw, the powder can be transported quantitatively without being scattered around. It has the effect that it can be done.

【0282】請求項17に係る発明の液晶表示素子の製
造装置は、以上のように、請求項15に記載の液晶表示
素子の製造装置において、上記搬送部は、気体を供給す
る気体供給源と、上記気体供給源から上記粉体供給部ま
で上記気体が流れる配管とを有し、上記気体を上記配管
の途中に設けた上記貯蔵部に通すことにより上記粉体を
搬送する構成である。
According to a seventeenth aspect of the present invention, in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to the fifteenth aspect, the transport unit includes a gas supply source for supplying a gas. A pipe through which the gas flows from the gas supply source to the powder supply section, and the powder is conveyed by passing the gas through the storage section provided in the middle of the pipe.

【0283】それゆえ、気体を利用することにより、粉
体を定量的にかつ迅速に搬送することができるという効
果を奏する。
Therefore, the use of gas has an effect that the powder can be transported quantitatively and quickly.

【0284】請求項18に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、液晶層のスペーサーとなる粉
体を帯電させ、帯電した上記粉体を飛翔させて、上記液
晶層が形成される液晶表示素子上に散布する液晶表示素
子の製造方法において、上記液晶表示素子の素子パター
ンを判別し、上記素子パターンの判別結果に基づいて上
記粉体を上記液晶表示素子上の選択した領域に散布する
構成である。
In the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the eighteenth aspect of the present invention, as described above, the powder serving as the spacer of the liquid crystal layer is charged, and the charged powder is caused to fly to form the liquid crystal layer. In the method for manufacturing a liquid crystal display element to be sprayed on the liquid crystal display element, the element pattern of the liquid crystal display element is determined, and the powder is selected on the liquid crystal display element based on the determination result of the element pattern. It is a configuration to spray.

【0285】それゆえ、個々の液晶表示素子に対し、そ
の素子パターンに応じて粉体の飛翔が制御されるので、
汎用性の高い方法でスペーサーを液晶表示素子上の所望
の領域に確実に散布することのできる液晶表示素子の製
造方法を提供することができるという効果を奏する。
Therefore, the flying of the powder is controlled for each liquid crystal display element according to the element pattern.
There is an effect that it is possible to provide a method of manufacturing a liquid crystal display element in which spacers can be surely spread to a desired region on the liquid crystal display element by a highly versatile method.

【0286】請求項19に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項18に記載の液晶表示
素子の製造方法において、上記液晶表示素子に設けられ
たブラックマトリックスの配列パターンを読み取り、読
み取り結果に基づいて上記素子パターンを判別し、上記
ブラックマトリックスの上方の領域に上記粉体を散布す
る構成である。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 19, as described above, in the method of manufacturing a liquid crystal display element of claim 18, the arrangement pattern of the black matrix provided in the liquid crystal display element is changed. Is read, the element pattern is determined based on the read result, and the powder is sprayed on an area above the black matrix.

【0287】それゆえ、ブラックマトリックスの上方の
領域にスペーサーを正確に散布することができ、高品質
の表示画像が得られるという効果を奏する。
Therefore, it is possible to accurately disperse the spacers in the region above the black matrix, and it is possible to obtain a high quality display image.

【0288】請求項20に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項18または19に記載
の液晶表示素子の製造方法において、上記判別結果に基
づいた電圧の印加により上記粉体を選択的に飛翔させ、
さらに上記液晶表示素子側の所定の箇所に電圧が印加さ
れることにより形成される電界により上記粉体を上記液
晶表示素子上へ導く構成である。
According to a twentieth aspect of the present invention, as described above, in the method of manufacturing a liquid crystal display element according to the eighteenth or nineteenth aspect, by applying a voltage based on the result of the determination, Selectively fly powder,
Further, the structure is such that the powder is guided onto the liquid crystal display element by an electric field formed by applying a voltage to a predetermined portion on the liquid crystal display element side.

【0289】それゆえ、帯電した粉体を効率よく液晶表
示素子上の目的の領域に散布することができるという効
果を奏する。
Therefore, there is an effect that the charged powder can be efficiently sprayed to a target area on the liquid crystal display element.

【0290】請求項21に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項20に記載の液晶表示
素子の製造方法において、上記液晶表示素子上の上記粉
体の散布状態を読み取り、読み取り結果に基づいて以降
の散布に際し上記粉体を選択的に飛翔させるための印加
電圧を変更する構成である。
According to the method for manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 21, as described above, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 20, the dispersion state of the powder on the liquid crystal display element is changed. It is a configuration in which the applied voltage for selectively flying the powder in the subsequent spraying is changed based on the reading and the reading result.

【0291】それゆえ、粉体の散布状態をフィードバッ
クすることで、散布状態が所望の状態からずれたとして
も適切に補正することができるという効果を奏する。
[0291] Therefore, by feeding back the scattered state of the powder, even if the scattered state deviates from a desired state, it is possible to appropriately correct the scattered state.

【0292】請求項22に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項18ないし21のいず
れかに記載の液晶表示素子の製造方法において、イオン
を発生させて上記粉体に照射することにより、上記粉体
を帯電させて供給する構成である。
According to the method of manufacturing a liquid crystal display device of the invention according to claim 22, as described above, in the method of manufacturing a liquid crystal display device according to any one of claims 18 to 21, ions are generated to produce the powder. The powder is charged and supplied by irradiating the powder.

【0293】それゆえ、イオン照射によって粉体を帯電
して供給するため、粉体が確実に帯電して供給形態に適
したクラウド状になるとともに、イオン照射が粉体に対
して均一に行われるようにすることにより、粉体の均一
な帯電と供給とが得られる。
Therefore, since the powder is charged and supplied by the ion irradiation, the powder is surely charged to form a cloud suitable for the supply mode, and the ion irradiation is uniformly performed on the powder. By doing so, uniform charging and supply of the powder can be obtained.

【0294】この結果、粉体を安定して帯電および供給
することのできる液晶表示素子の製造方法を提供するこ
とができるという効果を奏する。
As a result, it is possible to provide a method of manufacturing a liquid crystal display element capable of stably charging and supplying powder.

【0295】請求項23に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項22に記載の液晶表示
素子の製造方法において、帯電させて供給する上記粉体
の粒子径を検知する構成である。
According to the method for manufacturing a liquid crystal display element of the invention according to claim 23, as described above, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 22, the particle diameter of the powder to be charged and supplied is detected. It is a configuration to do.

【0296】それゆえ、供給する前に粉体の粒子径を検
知するので、検知結果に基づいて所望の粒子径になるよ
うに制御したり、所望の粒子径が得られた場合のみ粉体
を供給したりすることで、安定した粉体散布プロセスを
行うことができるという効果を奏する。
Therefore, the particle diameter of the powder is detected before the supply, so that the particle diameter is controlled based on the detection result so that the desired particle diameter is obtained, or the powder is removed only when the desired particle diameter is obtained. By supplying the powder, there is an effect that a stable powder spraying process can be performed.

【0297】請求項24に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項22または23に記載
の液晶表示素子の製造方法において、帯電させて供給す
る上記粉体の粒子濃度を検知する構成である。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a liquid crystal display element according to the twenty-second or twenty-third aspect, the particle concentration of the powder supplied by charging is provided. Is detected.

【0298】それゆえ、供給する前に粉体の粒子濃度を
検知するので、検知結果に基づいて所望の粒子濃度にな
るように制御したり、所望の粒子濃度が得られた場合の
み粉体を供給したりすることで、安定した粉体散布プロ
セスを行うことができるという効果を奏する。
Therefore, since the particle concentration of the powder is detected before the supply, the control is performed so that the desired particle concentration is obtained based on the detection result, or the powder is only detected when the desired particle concentration is obtained. By supplying the powder, there is an effect that a stable powder spraying process can be performed.

【0299】請求項25に係る発明の液晶表示素子の製
造方法は、以上のように、請求項22ないし24のいず
れかに記載の液晶表示素子の製造方法において、帯電さ
せて供給する上記粉体の残量を検知する構成である。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display element according to any one of the twenty-second to twenty-fourth aspects, wherein the powder is charged and supplied. This is a configuration for detecting the remaining amount of the battery.

【0300】それゆえ、粉体の残量を常に把握すること
ができるので、残量の検知結果に基づいて粉体を外部か
ら適宜補充することにより、安定した粉体散布プロセス
を行うことができるという効果を奏する。
Therefore, since the remaining amount of the powder can be always grasped, a stable powder dispersing process can be performed by appropriately replenishing the powder from the outside based on the detection result of the remaining amount. This has the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の一形態における液晶表示素子の
製造装置の構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to an embodiment of the present invention.

【図2】(a)および(b)は、図1の液晶表示素子の
製造装置でスペーサーが散布される液晶表示素子の構成
を示す断面図、(c)は(a)および(b)のブラック
マトリックスおよびカラーフィルターの構成を示す平面
図、(d)は(c)のブラックマトリックスの配列パタ
ーンに対応してスペーサーが散布された状態を示す説明
図である。
2 (a) and 2 (b) are cross-sectional views showing a configuration of a liquid crystal display element on which spacers are scattered in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of FIG. 1, and FIG. 2 (c) is a sectional view of (a) and (b). FIG. 3D is a plan view showing the configuration of a black matrix and a color filter, and FIG. 4D is an explanatory view showing a state in which spacers are scattered in accordance with the arrangement pattern of the black matrix in FIG.

【図3】図1の液晶表示素子の製造装置における読み取
り部材の構成を示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a reading member in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of FIG.

【図4】図1の液晶表示素子の製造装置において、読み
取り部材から粉体制御部材までの情報伝達経路を示す説
明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an information transmission path from a reading member to a powder control member in the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element of FIG.

【図5】(a)は粉体制御部材の電極に印加される電圧
を示す波形図、(b)および(c)は(a)の電圧波形
とスペーサーの飛翔量との関係を表すグラフである。
5A is a waveform diagram showing a voltage applied to an electrode of the powder control member, and FIGS. 5B and 5C are graphs showing a relationship between the voltage waveform of FIG. is there.

【図6】粉体制御部材の第1の形態の構成を示す平面図
である。
FIG. 6 is a plan view showing a configuration of a first embodiment of the powder control member.

【図7】図6の粉体制御部材の電極付近の断面構成を示
す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a cross-sectional configuration near an electrode of the powder control member of FIG. 6;

【図8】図6の粉体制御部材の変形例の構成を示す平面
図である。
FIG. 8 is a plan view showing a configuration of a modification of the powder control member of FIG. 6;

【図9】粉体制御部材の第2の形態の構成を示す平面図
である。
FIG. 9 is a plan view showing a configuration of a second embodiment of the powder control member.

【図10】図9の粉体制御部材の変形例の構成を示す平
面図である。
FIG. 10 is a plan view showing a configuration of a modification of the powder control member of FIG. 9;

【図11】粉体制御部材の第3の形態の構成を示す平面
図である。
FIG. 11 is a plan view showing a configuration of a third embodiment of the powder control member.

【図12】粉体制御部材の第4の形態の構成を示す平面
図である。
FIG. 12 is a plan view showing a configuration of a fourth embodiment of the powder control member.

【図13】粉体制御部材の第5の形態の構成を示す平面
図である。
FIG. 13 is a plan view showing a configuration of a fifth embodiment of the powder control member.

【図14】粉体制御部材の第6の形態の構成を示す平面
図である。
FIG. 14 is a plan view showing a configuration of a sixth embodiment of the powder control member.

【図15】粉体制御部材の電極形成領域の幅が液晶表示
素子の表示領域の幅よりも大きくなるように構成した例
を示す説明図である。
FIG. 15 is an explanatory diagram showing an example in which the width of the electrode forming region of the powder control member is configured to be larger than the width of the display region of the liquid crystal display element.

【図16】粉体制御部材の電極形成領域の面積が液晶表
示素子の表示領域の面積よりも大きくなるように構成し
た例を示す説明図である。
FIG. 16 is an explanatory view showing an example in which the area of the electrode forming region of the powder control member is configured to be larger than the area of the display region of the liquid crystal display element.

【図17】図1の液晶表示素子の製造装置に認識部材を
付加した場合の粉体制御部材までの情報伝達経路を示す
説明図である。
FIG. 17 is an explanatory diagram showing an information transmission path to a powder control member when a recognition member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図18】図17の情報伝達経路によって情報が伝達さ
れる処理の一例を説明するフローチャートである。
18 is a flowchart illustrating an example of a process of transmitting information via the information transmission path in FIG.

【図19】図17の情報伝達経路によって情報が伝達さ
れる処理の他の例を説明するフローチャートである。
FIG. 19 is a flowchart illustrating another example of a process of transmitting information via the information transmission path in FIG. 17;

【図20】(a)および(b)は、対向電極に透明電極
を用いた例を示す説明図である。
FIGS. 20A and 20B are explanatory diagrams showing an example in which a transparent electrode is used as a counter electrode.

【図21】(a)は図1の液晶表示素子の製造装置に噴
霧部材を付加した場合の構成を示す説明図、(b)は
(a)の噴霧部材とともに用いられるマスクの構成を示
す平面図である。
21A is an explanatory view showing a configuration in which a spraying member is added to the apparatus for manufacturing a liquid crystal display element in FIG. 1, and FIG. 21B is a plan view showing a configuration of a mask used together with the spraying member in FIG. FIG.

【図22】図1の液晶表示素子の製造装置に散布状態読
み取り部材を付加した場合の粉体制御部材までの情報伝
達経路を示す説明図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram showing an information transmission path to a powder control member when a scattered state reading member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図23】図22の情報伝達経路によって情報が伝達さ
れる処理の一例を説明するフローチャートである。
FIG. 23 is a flowchart illustrating an example of a process of transmitting information via the information transmission path in FIG. 22.

【図24】図22の情報伝達経路によって情報が伝達さ
れる処理の他の例を説明するフローチャートである。
24 is a flowchart illustrating another example of a process of transmitting information via the information transmission path in FIG.

【図25】図1の液晶表示素子の製造装置にクリーニン
グ部材を付加した場合の構成を示す説明図である。
FIG. 25 is an explanatory view showing a configuration in a case where a cleaning member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図26】(a)ないし(d)は、図25のクリーニン
グ部材の具体例を示す断面図である。
26 (a) to (d) are cross-sectional views showing specific examples of the cleaning member of FIG. 25.

【図27】図1の液晶表示素子の製造装置に各除電部材
を付加した場合の構成を示す説明図である。
FIG. 27 is an explanatory diagram showing a configuration in a case where each static elimination member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図28】図27の液晶表示素子の製造装置に表面電位
検知部材を付加した場合の構成を示す説明図である。
FIG. 28 is an explanatory diagram showing a configuration in a case where a surface potential detecting member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 27;

【図29】図28の液晶表示素子の製造装置を用いて除
電を行う処理を説明するフローチャートである。
FIG. 29 is a flowchart illustrating a process of removing electricity using the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 28.

【図30】図27の液晶表示素子の製造装置において、
除電部材を可動に構成した例を示す説明図である。
FIG. 30 shows a liquid crystal display device manufacturing apparatus shown in FIG.
It is explanatory drawing which shows the example which comprised the static elimination member movable.

【図31】(a)は図30の除電部材の構成を示す断面
図、(b)は(a)の平面図である。
31A is a cross-sectional view showing the configuration of the charge removing member of FIG. 30, and FIG. 31B is a plan view of FIG.

【図32】図1の液晶表示素子の製造装置に粉体制御部
材のクリーニング機構を付加した場合の構成を示す説明
図である。
FIG. 32 is an explanatory view showing a configuration in a case where a cleaning mechanism for a powder control member is added to the liquid crystal display element manufacturing apparatus of FIG. 1;

【図33】図32のクリーニング機構を用いてクリーニ
ングを行う処理を説明するフローチャートである。
FIG. 33 is a flowchart illustrating a process of performing cleaning using the cleaning mechanism of FIG. 32;

【図34】上記全ての液晶表示素子の製造装置における
制御部と各部材との接続関係を示す説明図である。
FIG. 34 is an explanatory diagram showing a connection relationship between a control unit and each member in all the above-described liquid crystal display element manufacturing apparatuses.

【図35】(a)は粉体帯電器の第1の形態の構成を示
す断面図、(b)は(a)の粉体帯電器の変形例の構成
を示す断面図である。
35A is a cross-sectional view illustrating a configuration of a first embodiment of a powder charger, and FIG. 35B is a cross-sectional view illustrating a configuration of a modification of the powder charger of FIG.

【図36】図35(a)の粉体帯電器の変形例の構成を
示す断面図である。
FIG. 36 is a cross-sectional view showing a configuration of a modification of the powder charger of FIG. 35 (a).

【図37】粉体帯電器の第2の形態の構成を示す断面図
である。
FIG. 37 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a second embodiment of the powder charger.

【図38】図37の粉体帯電器におけるイオン発生部に
メッシュ状部材を設けた場合の構成を示す断面図であ
る。
FIG. 38 is a cross-sectional view showing a configuration in a case where a mesh-like member is provided in an ion generation section in the powder charger of FIG. 37.

【図39】(a)は図37の粉体帯電器におけるイオン
発生部に送風部材を設けた場合の構成を示す断面図、
(b)は送風部材の吹き出し部材の正面図である。
39 (a) is a cross-sectional view showing a configuration in which a blowing member is provided in an ion generation section in the powder charger of FIG. 37, FIG.
(B) is a front view of the blowing member of the blowing member.

【図40】(a)は図37の粉体帯電器における粉体供
給部に撹拌部材を設けた場合の構成を示す断面図、
(b)は撹拌部材の斜視図である。
40A is a cross-sectional view illustrating a configuration in which a stirring member is provided in a powder supply unit in the powder charger in FIG. 37;
(B) is a perspective view of the stirring member.

【図41】図37の粉体帯電器における粉体供給部に振
動部材を設けた場合の構成を示す断面図である。
41 is a cross-sectional view illustrating a configuration in which a vibration member is provided in a powder supply unit of the powder charger of FIG. 37.

【図42】粉体帯電器の第3の形態の構成を示す断面図
である。
FIG. 42 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a third embodiment of the powder charger.

【図43】図42の粉体帯電器における粒子径検知部材
の構成を示す断面図である。
43 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a particle diameter detection member in the powder charger of FIG.

【図44】図42の粉体帯電器における粒子径検知部材
を用いて粒子径を制御する処理を説明するフローチャー
トである。
FIG. 44 is a flowchart illustrating a process of controlling a particle size using a particle size detection member in the powder charger of FIG. 42;

【図45】図42の粉体帯電器における粒子濃度検知部
材を用いて粒子濃度を制御する処理を説明するフローチ
ャートである。
FIG. 45 is a flowchart illustrating a process of controlling a particle concentration using a particle concentration detection member in the powder charger of FIG. 42;

【図46】図42の粉体帯電器における遮蔽部材を粒子
径および粒子濃度の制御に併用する処理の一例を説明す
るフローチャートである。
FIG. 46 is a flowchart illustrating an example of a process in which the shielding member in the powder charger in FIG. 42 is used for controlling the particle diameter and the particle concentration.

【図47】図42の粉体帯電器における遮蔽部材を粒子
径および粒子濃度の制御に併用する処理の他の例を説明
するフローチャートである。
FIG. 47 is a flowchart illustrating another example of the process of using the shielding member in the powder charger of FIG. 42 for controlling the particle diameter and the particle concentration.

【図48】(a)は図42の粉体帯電器に開閉部材を設
けた構成を示す断面図、(b)は開閉部材の一例の構成
を示す断面図である。
48A is a cross-sectional view showing a configuration in which an opening / closing member is provided in the powder charger of FIG. 42, and FIG. 48B is a cross-sectional view showing a configuration of an example of the opening / closing member.

【図49】(a)は開閉部材の他の例の構成を示す平面
図、(b)は(a)の側面図である。
FIG. 49 (a) is a plan view showing the configuration of another example of the opening / closing member, and FIG. 49 (b) is a side view of FIG.

【図50】図42の粉体帯電器におけるモニター窓の検
査を行う処理を粒子濃度検知部材を例として説明するフ
ローチャートである。
50 is a flowchart illustrating a process of inspecting a monitor window in the powder charger of FIG. 42 by taking a particle concentration detection member as an example.

【図51】粉体帯電器の第3の形態の構成を示す断面図
である。
FIG. 51 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a third embodiment of the powder charger.

【図52】図51の粉体帯電器の変形例の構成を示す断
面図である。
FIG. 52 is a cross-sectional view showing a configuration of a modification of the powder charger of FIG. 51.

【図53】図53の粉体帯電器の他の変形例の構成を示
す断面図である。
FIG. 53 is a cross-sectional view showing a configuration of another modification of the powder charger of FIG. 53;

【図54】(a)は図51ないし図53の粉体帯電器に
おける残量検知部材の構成を示す断面図、(b)は
(a)の残量検知部材の一部を拡大して示す断面図であ
る。
54A is a cross-sectional view showing a configuration of a remaining amount detecting member in the powder charger of FIGS. 51 to 53, and FIG. 54B is an enlarged view of a part of the remaining amount detecting member of FIG. It is sectional drawing.

【図55】図54の残量検知部材による残量検知の処理
を説明するフローチャートである。
FIG. 55 is a flowchart illustrating a process of detecting the remaining amount by the remaining amount detecting member in FIG. 54;

【図56】(a)および(b)は、図54の残量検知部
材の校正部材の構成を示す平面図である。
56 (a) and (b) are plan views showing a configuration of a calibration member of the remaining amount detection member of FIG. 54.

【図57】図54の残量検知部材の校正する処理を説明
するフローチャートである。
FIG. 57 is a flowchart illustrating a process of calibrating the remaining amount detecting member in FIG. 54.

【図58】図51および図52の粉体収容部の構成を示
す断面図である。
FIG. 58 is a cross-sectional view showing a configuration of the powder container of FIGS. 51 and 52.

【図59】図52および図53の粉体供給源の構成の一
例を示す断面図である。
FIG. 59 is a sectional view showing an example of the configuration of the powder supply source of FIGS. 52 and 53.

【図60】(a)および(b)は、図52および図53
の粉体供給源の構成の他の例を示す断面図である。
60 (a) and (b) are FIGS. 52 and 53
FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating another example of the configuration of the powder supply source of FIG.

【図61】図59および図60の粉体供給源の状態をモ
ニターする処理の一例を示すフローチャートである。
FIG. 61 is a flowchart showing an example of a process of monitoring the state of the powder supply source in FIGS. 59 and 60.

【図62】図59および図60の粉体供給源の状態をモ
ニターする処理の他の例を示すフローチャートである。
FIG. 62 is a flowchart showing another example of the process of monitoring the state of the powder supply source in FIGS. 59 and 60.

【図63】図52および図53の粉体供給源の構成のさ
らに他の例を示す断面図である。
FIG. 63 is a sectional view showing still another example of the configuration of the powder supply source of FIGS. 52 and 53.

【図64】図63の粉体供給源の構成をさらに詳しく示
す断面図である。
FIG. 64 is a cross-sectional view showing the configuration of the powder supply source of FIG. 63 in further detail.

【図65】図64の粉体供給源を用いて粒子径モニター
を行う処理を説明するフローチャートである。
65 is a flowchart illustrating a process of monitoring a particle diameter using the powder supply source of FIG. 64.

【図66】図64の粉体供給源の変形例の構成を示す断
面図である。
FIG. 66 is a cross-sectional view showing a configuration of a variation of the powder supply source of FIG. 64.

【図67】図66の粉体供給源による粒子濃度モニター
を行う処理を説明するフローチャートである。
FIG. 67 is a flowchart illustrating a process of monitoring particle concentration by the powder supply source of FIG. 66.

【図68】図66の粉体供給源における各モニターの校
正部材の校正を示す断面図である。
FIG. 68 is a cross-sectional view showing calibration of a calibration member of each monitor in the powder supply source of FIG. 66.

【図69】配管内で気体の旋回流を起こす場合の粉体供
給源の構成を示す断面図である。
FIG. 69 is a cross-sectional view showing a configuration of a powder supply source when a swirling flow of gas occurs in a pipe.

【図70】図69の粉体供給源の変形例を示す断面図で
ある。
70 is a sectional view showing a modification of the powder supply source of FIG. 69.

【図71】(a)および(b)は、図69の粉体供給源
の他の変形例を示す断面図である。
71 (a) and (b) are cross-sectional views showing another modification of the powder supply source of FIG. 69.

【図72】(a)および(b)は、粉体帯電器に粉体捕
獲部材を付加した場合の構成を示す断面図である。
FIGS. 72 (a) and (b) are cross-sectional views showing a configuration when a powder capturing member is added to a powder charger.

【図73】図72の粉体帯電器に付加した光学的検知部
材を校正する状態モニター校正部材の構成を示す断面図
である。
73 is a sectional view showing a configuration of a state monitor calibration member for calibrating an optical detection member added to the powder charger of FIG. 72.

【図74】図72の粉体捕獲部材の状態をモニターする
処理を説明するフローチャートである。
FIG. 74 is a flowchart illustrating a process of monitoring the state of the powder capturing member of FIG. 72.

【図75】粉体収容部に排気口を設けた場合の構成を示
す断面図である。
FIG. 75 is a cross-sectional view showing a configuration when an exhaust port is provided in the powder container.

【図76】(a)は図58の粉体収容部に適用されるカ
ートリッジの構成を示す断面図、(b)は(a)のカー
トリッジの変形例の構成を示す断面図である。
76A is a cross-sectional view illustrating a configuration of a cartridge applied to the powder container of FIG. 58, and FIG. 76B is a cross-sectional view illustrating a configuration of a modified example of the cartridge of FIG.

【図77】図76のカートリッジに、撹拌部材・振動部
材・吹き付け部材を設けた構成を示す断面図である。
77 is a cross-sectional view showing a configuration in which a stirring member, a vibration member, and a blowing member are provided in the cartridge of FIG. 76.

【図78】(a)ないし(d)は、従来のスペーサー散
布方法を示す説明図である。
FIGS. 78A to 78D are explanatory views showing a conventional spacer dispersing method.

【図79】(a)ないし(e)は、従来の他のスペーサ
ー散布方法を示す説明図である。
FIGS. 79 (a) to (e) are explanatory views showing another conventional spacer dispersing method.

【図80】従来のスペーサー散布装置の構成を示す断面
図である。
FIG. 80 is a cross-sectional view showing a configuration of a conventional spacer spraying device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶表示素子の製造装置 2 読み取り部材(パターン判別手段、読み取り
手段) 3 粉体帯電器(粉体帯電手段) 4 粉体制御部材(粉体飛翔手段) 4a 電極 4b ゲート 4k 偏向電極 5 対向電極 7 カラーフィルター 8 ブラックマトリックス 9 透明電極 15 画像処理部材(パターン判別手段) 16 入力部材(パターン判別手段) 17 情報源(パターン判別手段) 18 電圧印加部材(パターン判別手段) 19 認識部材(パターン判別手段) 20 比較部材(パターン判別手段) 21 偏向電極用電圧印加部材(パターン判別手
段) 26 散布状態読み取り部材(パターン判別手段) 28 クリーニング部材 31 第1除電部材 32 第2除電部材 33 第3除電部材 35 除電部材 63 イオン発生部 63c メッシュ状部材(粉体侵入阻止部材) 64 粉体供給部 64c 底部 65 スペーサー溜まり(粉体溜まり) 66 送風部材(粉体侵入阻止部材) 67 撹拌部材 68 振動部材 71 粒子径検知部材 72 粒子濃度検知部材 83 開閉部材 91 残量検知部材 92 粉体収容部(粉体補充部材) 93 粉体供給源(粉体補充部材) 121 貯蔵部 122 ベルト 127 スクリュー 131 気体供給源 132 貯蔵部 133 配管 153 粉体捕獲部材 161 カートリッジ E1 電源 E2 電源 F イオン流 L 液晶表示素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Manufacturing apparatus of a liquid crystal display element 2 Reading member (pattern discrimination means, reading means) 3 Powder charger (powder charging means) 4 Powder control member (powder flying means) 4a electrode 4b gate 4k deflection electrode 5 counter electrode Reference Signs List 7 color filter 8 black matrix 9 transparent electrode 15 image processing member (pattern discriminating means) 16 input member (pattern discriminating means) 17 information source (pattern discriminating means) 18 voltage applying member (pattern discriminating means) 19 recognition member (pattern discriminating means) 20 comparison member (pattern discriminating means) 21 deflection electrode voltage applying member (pattern discriminating means) 26 scattering state reading member (pattern discriminating means) 28 cleaning member 31 first discharging member 32 second discharging member 33 third discharging member 35 Static eliminator 63 Ion generator 63c Mesh-like member (powder Blocking member) 64 Powder supply section 64c Bottom 65 Spacer pool (Powder pool) 66 Blowing member (Powder intrusion blocking member) 67 Stirring member 68 Vibrating member 71 Particle diameter detecting member 72 Particle concentration detecting member 83 Opening / closing member 91 Remaining amount Detecting member 92 Powder storage unit (powder replenishing member) 93 Powder supply source (powder replenishing member) 121 Storage unit 122 Belt 127 Screw 131 Gas supply source 132 Storage unit 133 Piping 153 Powder capturing member 161 Cartridge E1 Power supply E2 Power supply F Ion current L Liquid crystal display

Claims (25)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】液晶層のスペーサーとなる粉体を帯電させ
る粉体帯電手段と、上記粉体帯電手段によって帯電した
上記粉体を飛翔させて、上記液晶層が形成される液晶表
示素子上に散布する粉体飛翔手段とを有する液晶表示素
子の製造装置において、 上記液晶表示素子の素子パターンを判別するパターン判
別手段を有し、上記粉体飛翔手段は、上記パターン判別
手段による上記素子パターンの判別結果に基づいて上記
粉体を上記液晶表示素子上の選択した領域に散布するこ
とを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
1. A powder charging means for charging a powder serving as a spacer of a liquid crystal layer, and the powder charged by the powder charging means is caused to fly on a liquid crystal display element on which the liquid crystal layer is formed. In a manufacturing apparatus for a liquid crystal display element having a powder flying means to be scattered, there is provided a pattern discriminating means for discriminating an element pattern of the liquid crystal display element, wherein the powder flying means is an element pattern of the element pattern by the pattern discriminating means. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display element, wherein the powder is sprayed on a selected area on the liquid crystal display element based on a result of the determination.
【請求項2】上記パターン判別手段は上記液晶表示素子
に設けられたブラックマトリックスの配列パターンを読
み取る読み取り手段を有するとともに上記読み取り手段
による読み取り結果に基づいて上記素子パターンを判別
し、上記粉体飛翔手段は上記ブラックマトリックスの上
方の領域に上記粉体を散布することを特徴とする請求項
1に記載の液晶表示素子の製造装置。
2. The method according to claim 1, wherein said pattern discriminating means has a reading means for reading an array pattern of a black matrix provided on said liquid crystal display element, and discriminates said element pattern based on a reading result by said reading means. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the means sprays the powder on an area above the black matrix.
【請求項3】上記粉体飛翔手段は上記判別結果に基づい
た電圧が各々に印加されることにより上記粉体を選択的
に飛翔させる複数の電極を有し、所定の電圧が印加され
ることにより上記粉体飛翔手段との間に電界を形成して
上記粉体を上記液晶表示素子上へ導く対向電極が上記粉
体飛翔手段に対向するように設けられていることを特徴
とする請求項1または2に記載の液晶表示素子の製造装
置。
3. The powder flying means has a plurality of electrodes for selectively flying the powder by applying a voltage based on the discrimination result to each of the plurality of electrodes, and a predetermined voltage is applied. Wherein an opposing electrode for forming an electric field with the powder flying means to guide the powder onto the liquid crystal display element is provided so as to face the powder flying means. 3. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to 1 or 2.
【請求項4】上記対向電極は、上記液晶表示素子に設け
られた透明電極および上記ブラックマトリックスのうち
上記粉体飛翔手段に近い方であることを特徴とする請求
項3に記載の液晶表示素子の製造装置。
4. The liquid crystal display element according to claim 3, wherein the counter electrode is a transparent electrode provided on the liquid crystal display element and a side of the black matrix which is closer to the powder flying means. Manufacturing equipment.
【請求項5】上記パターン判別手段は、上記液晶表示素
子上の上記粉体の散布状態を読み取る散布状態読み取り
手段をさらに有し、上記散布状態読み取り手段による読
み取り結果に基づいて以降の散布に際し上記粉体飛翔手
段の各々の電極への印加電圧を変更することを特徴とす
る請求項3または4に記載の液晶表示素子の製造装置。
5. The apparatus according to claim 1, wherein said pattern determining means further includes a scattered state reading means for reading a scattered state of said powder on said liquid crystal display element. 5. The apparatus according to claim 3, wherein the voltage applied to each electrode of the powder flying means is changed.
【請求項6】上記粉体帯電手段は、イオンを発生するイ
オン発生部と、内部に保有した上記粉体に上記イオン発
生部によって発生したイオンを照射することにより、上
記粉体を帯電させて上記粉体飛翔手段に供給する粉体供
給部とを有することを特徴とする請求項1ないし5のい
ずれかに記載の液晶表示素子の製造装置。
6. The powder charging means charges the powder by irradiating the ion generation section for generating ions with the ions generated by the ion generation section to the powder held therein. 6. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a powder supply unit for supplying the powder flying means.
【請求項7】上記粉体供給部は導電性材料からなる底部
に上記粉体の集合体である粉体溜まりを保有した容器で
あり、上記イオン発生部は上記粉体供給部の上記底部以
外の側壁に設けられ、上記粉体供給部は上記イオン発生
部によって発生したイオンを上記イオン発生部と上記底
部との間に形成した電界によって上記粉体溜まりに照射
することにより、上記粉体を帯電させて上記粉体溜まり
から上記粉体飛翔手段に向けて放出することを特徴とす
る請求項6に記載の液晶表示素子の製造装置。
7. The powder supply unit is a container having a powder reservoir, which is an aggregate of the powder, at the bottom made of a conductive material, and the ion generation unit is other than the bottom of the powder supply unit. The powder supply unit is provided on the side wall of the powder, and the powder supply unit irradiates the powder pool with the ions generated by the ion generation unit by an electric field formed between the ion generation unit and the bottom portion, thereby powdering the powder. 7. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 6, wherein the device is charged and discharged from the powder reservoir toward the powder flying means.
【請求項8】上記イオン発生部に、上記粉体供給部の上
記粉体溜まりから放出され上記イオン発生部内に侵入し
ようとする上記粉体を上記粉体供給部内へ押し戻す粉体
侵入阻止部材が設けられていることを特徴とする請求項
6または7に記載の液晶表示素子の製造装置。
8. A powder intrusion preventing member for pushing back the powder, which is released from the powder reservoir of the powder supply unit and tries to enter the ion generation unit, into the powder supply unit, is provided in the ion generation unit. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 6, wherein the apparatus is provided.
【請求項9】上記粉体供給部に、上記粉体溜まりを撹拌
する撹拌部材が設けられていることを特徴とする請求項
6ないし8のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装
置。
9. The manufacturing apparatus for a liquid crystal display device according to claim 6, wherein a stirring member for stirring the powder pool is provided in the powder supply section.
【請求項10】上記粉体供給部に、上記粉体溜まりに振
動を与える振動部材が設けられていることを特徴とする
請求項6ないし9のいずれかに記載の液晶表示素子の製
造装置。
10. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 6, wherein said powder supply section is provided with a vibration member for applying vibration to said powder reservoir.
【請求項11】上記粉体供給部に、上記飛翔制御手段に
供給する上記粉体の粒子径を検知する粒子径検知部材が
設けられていることを特徴とする請求項6ないし10の
いずれかに記載の液晶表示素子の製造装置。
11. The powder supply section is provided with a particle diameter detection member for detecting a particle diameter of the powder supplied to the flight control means. 3. A manufacturing apparatus for a liquid crystal display element according to claim 1.
【請求項12】上記粉体供給部に、上記飛翔制御手段に
供給する上記粉体の粒子濃度を検知する粒子濃度検知部
材が設けられていることを特徴とする請求項6ないし1
1のいずれかに記載の液晶表示素子の製造装置。
12. The powder supply section is provided with a particle concentration detecting member for detecting a particle concentration of the powder supplied to the flight control means.
2. The apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1.
【請求項13】上記粉体供給部に、上記粉体溜まりの残
量を検知する残量検知部材が設けられていることを特徴
とする請求項6ないし12のいずれかに記載の液晶表示
素子の製造装置。
13. A liquid crystal display device according to claim 6, wherein said powder supply section is provided with a remaining amount detecting member for detecting a remaining amount of said powder pool. Manufacturing equipment.
【請求項14】上記残量検知部材の検知結果に基づいて
上記粉体を上記粉体供給部に補充する粉体補充部材が設
けられていることを特徴とする請求項13に記載の液晶
表示素子の製造装置。
14. A liquid crystal display according to claim 13, further comprising a powder replenishing member for replenishing said powder to said powder supply section based on a detection result of said remaining amount detecting member. Device manufacturing equipment.
【請求項15】上記粉体補充部材は、上記粉体を貯蔵す
る貯蔵部と、上記貯蔵部の上記粉体を上記粉体供給部ま
で搬送する搬送部とを有していることを特徴とする請求
項14に記載の液晶表示素子の製造装置。
15. The powder replenishing member has a storage unit for storing the powder, and a transport unit for transporting the powder in the storage unit to the powder supply unit. An apparatus for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 14.
【請求項16】上記搬送部は、上記粉体を搬送するベル
トまたはスクリューを有していることを特徴とする請求
項15に記載の液晶表示素子の製造装置。
16. The apparatus according to claim 15, wherein the transport section has a belt or a screw for transporting the powder.
【請求項17】上記搬送部は、気体を供給する気体供給
源と、上記気体供給源から上記粉体供給部まで上記気体
が流れる配管とを有し、上記気体を上記配管の途中に設
けた上記貯蔵部に通すことにより上記粉体を搬送するこ
とを特徴とする請求項15に記載の液晶表示素子の製造
装置。
17. The transfer section has a gas supply source for supplying gas, and a pipe through which the gas flows from the gas supply source to the powder supply section, wherein the gas is provided in the middle of the pipe. The liquid crystal display device manufacturing apparatus according to claim 15, wherein the powder is transported by passing the powder through the storage unit.
【請求項18】液晶層のスペーサーとなる粉体を帯電さ
せ、帯電した上記粉体を飛翔させて、上記液晶層が形成
される液晶表示素子上に散布する液晶表示素子の製造方
法において、 上記液晶表示素子の素子パターンを判別し、上記素子パ
ターンの判別結果に基づいて上記粉体を上記液晶表示素
子上の選択した領域に散布することを特徴とする液晶表
示素子の製造方法。
18. A method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising charging a powder serving as a spacer of a liquid crystal layer, flying the charged powder, and scattering the charged powder on a liquid crystal display element on which the liquid crystal layer is formed. A method for manufacturing a liquid crystal display element, comprising determining an element pattern of a liquid crystal display element, and spraying the powder on a selected area on the liquid crystal display element based on a result of the determination of the element pattern.
【請求項19】上記液晶表示素子に設けられたブラック
マトリックスの配列パターンを読み取り、読み取り結果
に基づいて上記素子パターンを判別し、上記ブラックマ
トリックスの上方の領域に上記粉体を散布することを特
徴とする請求項18に記載の液晶表示素子の製造方法。
19. An arrangement pattern of a black matrix provided in the liquid crystal display element, the element pattern is determined based on the read result, and the powder is sprayed on an area above the black matrix. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 18, wherein
【請求項20】上記判別結果に基づいた電圧の印加によ
り上記粉体を選択的に飛翔させ、さらに上記液晶表示素
子側の所定の箇所に電圧が印加されることにより形成さ
れる電界により上記粉体を上記液晶表示素子上へ導くこ
とを特徴とする請求項18または19に記載の液晶表示
素子の製造方法。
20. The powder is selectively fly by applying a voltage based on the result of the determination, and further by the electric field formed by applying a voltage to a predetermined portion on the liquid crystal display element side. 20. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 18, wherein a body is guided onto the liquid crystal display device.
【請求項21】上記液晶表示素子上の上記粉体の散布状
態を読み取り、読み取り結果に基づいて以降の散布に際
し上記粉体を選択的に飛翔させるための印加電圧を変更
することを特徴とする請求項20に記載の液晶表示素子
の製造方法。
21. The method according to claim 19, wherein a state of dispersion of the powder on the liquid crystal display element is read, and an applied voltage for selectively flying the powder in subsequent dispersion is changed based on the read result. A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 20.
【請求項22】イオンを発生させて上記粉体に照射する
ことにより、上記粉体を帯電させて供給することを特徴
とする請求項18ないし21のいずれかに記載の液晶表
示素子の製造方法。
22. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 18, wherein said powder is charged and supplied by generating ions and irradiating said powder. .
【請求項23】帯電させて供給する上記粉体の粒子径を
検知することを特徴とする請求項22に記載の液晶表示
素子の製造方法。
23. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 22, wherein the particle diameter of the powder supplied by charging is detected.
【請求項24】帯電させて供給する上記粉体の粒子濃度
を検知することを特徴とする請求項22または23に記
載の液晶表示素子の製造方法。
24. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 22, wherein a particle concentration of the powder to be charged and supplied is detected.
【請求項25】帯電させて供給する上記粉体の残量を検
知することを特徴とする請求項22ないし24のいずれ
かに記載の液晶表示素子の製造方法。
25. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 22, wherein the remaining amount of the powder supplied by charging is detected.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015079483A1 (en) * 2013-11-26 2015-06-04 住友化学株式会社 Device for manufacturing optical member bonded body
CN105765643A (en) * 2013-11-26 2016-07-13 住友化学株式会社 Device for manufacturing optical member bonded body
KR20160090813A (en) * 2013-11-26 2016-08-01 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Device for manufacturing optical member bonded body
KR102079849B1 (en) * 2013-11-26 2020-02-20 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Device for manufacturing optical member bonded body

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