JP2000121823A - Color filter and its production - Google Patents

Color filter and its production

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JP2000121823A
JP2000121823A JP29116398A JP29116398A JP2000121823A JP 2000121823 A JP2000121823 A JP 2000121823A JP 29116398 A JP29116398 A JP 29116398A JP 29116398 A JP29116398 A JP 29116398A JP 2000121823 A JP2000121823 A JP 2000121823A
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JP
Japan
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layer
color filter
transparent substrate
substrate
transfer
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JP29116398A
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Japanese (ja)
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Takeshi Itoi
健 糸井
Hironobu Suda
廣伸 須田
Mizuhito Tani
瑞仁 谷
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide color filters to be efficiently produced at a good yield by transferring a color filter layer formed on a transfer sheet onto a transparent substrate and a process for producing the same. SOLUTION: The color filter layer of the transfer sheet composed of a transfer base material, a release layer, the color filter layer 3, a light shielding layer 7, etc., is a dye resin layer, a resin 1 containing dyestuffs, a printing ink layer containing the dyestuffs, an electrodeposition coat layer contg. dyestuffs or an ink layer containing dyestuffs. The peeling strength of the release layer from the color filter layer, the light shielding layer and an adhesive layer 5 is <=15 g and the peeling strength of the adhesive layer from the color filter layer, the light shielding layer and the transparent substrate is >=20 g.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に使
用されるカラーフィルタ及びその製造方法に関わり、さ
らに詳細には各種製法にて形成したカラーフィルタ層を
転写法により透明基板に形成するカラーフィルタ及びそ
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter used in a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a color filter in which a color filter layer formed by various methods is formed on a transparent substrate by a transfer method. The present invention relates to a filter and a method for manufacturing the filter.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、液晶表示装置のカラー化に
は、例えば、赤(R)、緑(G)、青(B)の光の三原
色を、ガラス基板上にストライプ状やマトリックス状に
配列したカラーフィルタが用いられてきた。このカラー
フィルタの製造方法は、例えば、染色法においては、所
定の分光特性を有する染料で可染性の樹脂膜などを染色
してカラーフィルタとするもので、この工程を赤
(R)、緑(G)、青(B)の色数を繰り返し形成する
ものであった。しかし、このような染色によるカラーフ
ィルタは、可染性の樹脂膜のパターン化工程と染色工程
が別工程であり、染色後に防染処理も必要ということ
で、工程が煩瑣となり、自動化しにくいという欠点があ
った。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to color a liquid crystal display device, for example, three primary colors of red (R), green (G) and blue (B) are arranged in a stripe or matrix on a glass substrate. Color filters have been used. The method of manufacturing this color filter is, for example, in a dyeing method, a dyeable resin film or the like is dyed with a dye having a predetermined spectral characteristic to obtain a color filter. (G) and blue (B) were repeatedly formed. However, such a color filter by dyeing is a process in which a patterning process of a dyeable resin film and a dyeing process are separate processes, and since an anti-staining process is also required after dyeing, the process becomes complicated and difficult to automate. There were drawbacks.

【0003】これに対して、近年になって、フィルタ層
となる非感光性樹脂に顔料等の色素を混入分散し、或い
はまた、その樹脂自体に感光性をもたせて、カラーフィ
ルタの作成工程を簡略化することが行われてきた。この
方法は、色素を混合分散した、例えば、感光性樹脂をガ
ラス等の透明基板に均一厚に塗布し、露光装置にてパタ
ーン露光し、光が照射された部分と非照射部分とで溶媒
に対する溶解性に差異をもたせ、次いで、現像による選
択的溶解にて、所望パターン状のカラーフィルタを形成
するものである。この方法によれば、染色による方法に
比べて工程が簡便であり、自動化した生産ラインでカラ
ーフィルタを作成できる利点がある。しかし、この方法
も、ガラス基板上に赤(R)、緑(G)、青(B)等の
所定色数を繰り返し形成することに変わりはなく、工程
が煩瑣である。
On the other hand, in recent years, a non-photosensitive resin serving as a filter layer has been mixed and dispersed with a dye such as a pigment, or the resin itself has photosensitivity, so that a color filter forming process is performed. Simplifications have been made. This method is a method in which a dye is mixed and dispersed, for example, a photosensitive resin is uniformly applied to a transparent substrate such as glass, and is subjected to pattern exposure with an exposure device. A difference is made in solubility, and then a color filter having a desired pattern is formed by selective dissolution by development. According to this method, the process is simpler than the method by dyeing, and there is an advantage that a color filter can be created on an automated production line. However, this method is still the same as repeatedly forming a predetermined number of colors such as red (R), green (G), and blue (B) on a glass substrate, and the process is complicated.

【0004】印刷法は、オフセット印刷やスクリーン印
刷等の技術を利用し、透明基板上にカラーフィルタを製
造するものである。電着法は、透明基板上に透明導電体
層を設け、フォトリソグラフィ技術を利用して所望のパ
ターンを形成した後、着色するパターンのみに通電しな
がら、色素を含んだ高分子樹脂を分散させた電着塗料中
で電着して着色パターンを形成するものである。また、
インクジェット法は、プリンタで実用されてきた画像形
成法であり、インクをノズルより吐出させカラーフィル
タ層を形成するものである。
In the printing method, a color filter is manufactured on a transparent substrate by using techniques such as offset printing and screen printing. In the electrodeposition method, a transparent conductor layer is provided on a transparent substrate, a desired pattern is formed by using a photolithography technique, and a high-molecular resin containing a dye is dispersed while energizing only the pattern to be colored. To form a colored pattern by electrodeposition in the electrodeposited paint. Also,
The ink jet method is an image forming method that has been used in printers, and forms a color filter layer by discharging ink from nozzles.

【0005】しかしながら、上記いずれの方法において
も、カラーフィルタの製造方法として必ずしも満足のい
くものではなく、上記の煩瑣な工程から脱却すべく、カ
ラーフィルタに用いるガラス基板とほぼ同じ値の熱膨張
係数を有する金属薄板を転写基材とした転写シートを用
いて、製造工程の簡略化を計ったカラーフィルタの製造
方法が提案されている。
However, any of the above methods is not always satisfactory as a method of manufacturing a color filter, and the thermal expansion coefficient of the glass substrate used for the color filter is almost the same as that of the glass substrate used in the color filter in order to escape from the complicated steps described above. There has been proposed a method of manufacturing a color filter in which a manufacturing process is simplified by using a transfer sheet using a metal thin plate having a transfer base material.

【0006】この方法によれば、得られるカラーフィル
タの表面は高度に平滑であり、また、赤(R)、緑
(G)、青(B)等の所定色数を繰り返し形成する工程
は、ガラス基板に対してではなく、転写基材に対して別
途行われる。それ故に、ガラス基板のカラーフィルタ製
造ラインとは別工程で、煩瑣なカラーフィルタの製造工
程を行うことができ、生産効率上好ましいと言える。
According to this method, the surface of the obtained color filter is highly smooth, and the step of repeatedly forming a predetermined number of colors such as red (R), green (G), and blue (B) includes: It is performed separately on the transfer substrate, not on the glass substrate. Therefore, a complicated color filter manufacturing process can be performed in a separate process from the glass substrate color filter manufacturing line, which is preferable in terms of production efficiency.

【0007】上記のように、転写法を用いることによ
り、ガラス基板などの透明基板へのカラーフィルタ層の
製造とは別工程で、煩瑣なカラーフィルタ層の製造を行
うことができ、生産効率を向上することが可能となる
が、転写法においても解決すべき課題がある。すなわ
ち、転写法によるカラーフィルタの製造における不良と
しての、転写基材剥離時の剥離不良である。剥離不良と
は、透明基板側に転写されるべきカラーフィルタ層や遮
光層が転写シートに残留する不良、接着剤層が透明基板
より剥離して転写シート側に転移する不良、及び離型層
が転写基材より剥離して透明基板側に転写される不良な
どである。
As described above, by using the transfer method, a complicated color filter layer can be manufactured in a separate step from the manufacture of a color filter layer on a transparent substrate such as a glass substrate, and the production efficiency can be reduced. Although it can be improved, there is a problem to be solved also in the transfer method. That is, this is a peeling failure at the time of peeling the transfer substrate, which is a defect in the production of the color filter by the transfer method. The peeling failure means that the color filter layer or the light-shielding layer to be transferred to the transparent substrate side remains on the transfer sheet, the adhesive layer peels off from the transparent substrate and transfers to the transfer sheet side, and the release layer has This is a defect that is peeled off from the transfer substrate and transferred to the transparent substrate side.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、転写シート
上に形成されたカラーフィルタ層を、透明基板上に転写
して効率よく製造するカラーフィルタを提供するもので
ある。また、本発明は、転写シート上に形成されたカラ
ーフィルタ層を透明基板上に転写して効率よく製造する
カラーフィルタにおいて、転写法によるカラーフィルタ
の製造における不良としての、転写基材剥離時の剥離不
良、すなわち、透明基板側に転写されるべきカラーフィ
ルタ層や遮光層が転写シートに残留する不良、接着剤層
が透明基板より剥離して転写シート側に転移する不良、
及び離型層が転写基材より剥離して透明基板側に転写さ
れる不良などを発生させず、歩留りよく製造するカラー
フィルタを提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a color filter for efficiently manufacturing a color filter layer formed on a transfer sheet by transferring the color filter layer onto a transparent substrate. In addition, the present invention is a color filter that is efficiently manufactured by transferring a color filter layer formed on a transfer sheet onto a transparent substrate. Peeling failure, that is, a color filter layer or a light-shielding layer to be transferred to the transparent substrate side remains on the transfer sheet, an adhesive layer peels off from the transparent substrate and transfers to the transfer sheet side,
Another object of the present invention is to provide a color filter which can be manufactured with a good yield without causing a defect or the like in which a release layer is peeled off from a transfer substrate and transferred to a transparent substrate side.

【0009】また、本発明は、転写シート上に形成され
たカラーフィルタ層を、透明基板上に転写して、効率よ
くカラーフィルタを製造する方法を提供するものであ
る。また、本発明は、転写シート上に形成されたカラー
フィルタ層を透明基板上に転写してカラーフィルタを製
造する方法において、転写法によるカラーフィルタの製
造における不良としての、転写基材剥離時の剥離不良、
すなわち、透明基板側に転写されるべきカラーフィルタ
層や遮光層が転写シートに残留する不良、接着剤層が透
明基板より剥離して転写シート側に転移する不良、及び
離型層が転写基材より剥離して透明基板側に転写される
不良などを発生させず、歩留りよく製造するカラーフィ
ルタの製造方法を提供するものである。
Another object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a color filter by transferring a color filter layer formed on a transfer sheet onto a transparent substrate. Further, the present invention provides a method of manufacturing a color filter by transferring a color filter layer formed on a transfer sheet onto a transparent substrate, as a defect in the manufacture of the color filter by the transfer method, when removing the transfer substrate. Poor peeling,
That is, the color filter layer or the light-shielding layer to be transferred to the transparent substrate side remains on the transfer sheet, the adhesive layer peels off from the transparent substrate and transfers to the transfer sheet side, and the release layer transfers the transfer substrate side. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a color filter which can be manufactured with high yield without causing a defect or the like which is further peeled and transferred to a transparent substrate side.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、転写基材、離
型層、カラーフィルタ層、遮光層などで構成される転写
シートを接着剤層を介して透明基板に貼り合わせ、該接
着剤層を硬化後に該転写基材を剥離し、該カラーフィル
タ層及び該遮光層などを該透明基板に転写してカラーフ
ィルタを製造するカラーフィルタにおいて、該カラーフ
ィルタ層が、染料で染色した樹脂層、色素を含有した樹
脂層、色素を含有した印刷インク層、色素を含有した電
着塗料層、又は色素を含有したインク層であることを特
徴とするカラーフィルタである。
According to the present invention, a transfer sheet comprising a transfer substrate, a release layer, a color filter layer, a light-shielding layer, and the like is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer. After the layer is cured, the transfer substrate is peeled off, and the color filter layer and the light-shielding layer are transferred to the transparent substrate to produce a color filter. In the color filter, the color filter layer is a resin layer dyed with a dye. A colorant, a resin layer containing a pigment, a printing ink layer containing a pigment, an electrodeposition paint layer containing a pigment, or an ink layer containing a pigment.

【0011】また、本発明は、上記発明のカラーフィル
タにおいて、前記離型層の、カラーフィルタ層、遮光
層、及び接着剤層との剥離強度が15g以下で、前記接
着剤層の、カラーフィルタ層、遮光層、及び透明基板と
の剥離強度が20g以上であることを特徴とするカラー
フィルタである。また、本発明は、上記発明のカラーフ
ィルタにおいて、前記透明基板がガラス基板、スイッチ
ング素子形成基板、又はプラスチック基板であることを
特徴とするカラーフィルタである。
The present invention also provides the color filter according to the present invention, wherein the release layer has a peel strength of 15 g or less from the color filter layer, the light shielding layer, and the adhesive layer. A color filter, wherein the peel strength between the layer, the light-shielding layer, and the transparent substrate is 20 g or more. Further, the present invention is the color filter according to the above invention, wherein the transparent substrate is a glass substrate, a switching element forming substrate, or a plastic substrate.

【0012】また、本発明は、転写基材、離型層、カラ
ーフィルタ層、遮光層などで構成される転写シートを接
着剤層を介して透明基板に貼り合わせ、該接着剤層を硬
化後に該転写基材を剥離し、該カラーフィルタ層及び該
遮光層などを該透明基板に転写してカラーフィルタを製
造するカラーフィルタの製造方法において、該カラーフ
ィルタ層を、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、又
はインクジェット法で形成することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法である。
The present invention also relates to a transfer sheet comprising a transfer base material, a release layer, a color filter layer, a light-shielding layer, etc., is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer, and after the adhesive layer is cured, The method for manufacturing a color filter, in which the transfer base material is peeled off and the color filter layer and the light-shielding layer are transferred to the transparent substrate to manufacture a color filter, the color filter layer includes a dyeing method, a pigment dispersion method, A color filter manufacturing method characterized by being formed by a printing method, an electrodeposition method, or an inkjet method.

【0013】また、本発明は、上記発明のカラーフィル
タの製造方法において、前記離型層として、カラーフィ
ルタ層、遮光層、及び接着剤層との剥離強度が15g以
下の離型層を用い、前記接着剤層として、カラーフィル
タ層、遮光層、及び透明基板との剥離強度が20g以上
の接着剤層を用いることを特徴とするカラーフィルタの
製造方法である。また、本発明は、上記発明のカラーフ
ィルタの製造方法において、前記透明基板としてガラス
基板、スイッチング素子形成基板、又はプラスチック基
板を用いることを特徴とするのカラーフィルタの製造方
法である。
Further, according to the present invention, in the method for producing a color filter according to the present invention, a release layer having a peel strength of 15 g or less from the color filter layer, the light-shielding layer, and the adhesive layer is used as the release layer. A method for producing a color filter, wherein a color filter layer, a light-shielding layer, and an adhesive layer having a peel strength of 20 g or more from a transparent substrate are used as the adhesive layer. Further, the present invention is the color filter manufacturing method according to the above invention, wherein a glass substrate, a switching element forming substrate, or a plastic substrate is used as the transparent substrate.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に本発明によるカラーフィル
タ及び製造方法を、その一実施形態に基づいて詳細に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a color filter and a manufacturing method according to the present invention will be described in detail based on one embodiment.

【0015】図1は、本発明によるカラーフィルタの一
実施例を示す断面図である。図1において、カラーフィ
ルタ(1)は、透明基板(6)と透明基板上の接着剤層
(5)、遮光層(7)、カラーフィルタ層(3)などで
構成されている。そして、カラーフィルタ層(3)は、
画素状になっており図1に示すように、例えば、赤
(R)、緑(G)、青(B)の三原色のものである。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a color filter according to the present invention. In FIG. 1, the color filter (1) includes a transparent substrate (6), an adhesive layer (5) on the transparent substrate, a light-shielding layer (7), a color filter layer (3), and the like. And the color filter layer (3)
As shown in FIG. 1, for example, it has three primary colors of red (R), green (G), and blue (B).

【0016】図2(イ)〜(ニ)は、本発明によるカラ
ーフィルタの製造工程をその断面で示す説明図である。
そして、図2(イ)〜(ニ)は、カラーフィルタ(1)
の一部分を拡大して示したものである。図2(イ)は、
転写基材(8)上に、既に離型層(2)、カラーフィル
タ層(3)、遮光層(7)などが形成された転写シート
(4)示している。また、図2(ロ)は、透明基板
(6)上に接着剤層(5)が形成された状態のものであ
る。
FIGS. 2A to 2D are explanatory views showing the steps of manufacturing the color filter according to the present invention in cross section.
FIGS. 2A to 2D show a color filter (1).
Is shown in an enlarged manner. Fig. 2 (a)
A transfer sheet (4) is shown in which a release layer (2), a color filter layer (3), a light-shielding layer (7) and the like have already been formed on a transfer substrate (8). FIG. 2B shows a state in which an adhesive layer (5) is formed on a transparent substrate (6).

【0017】先ず、この転写シート(4)と、接着剤層
(5)が形成された透明基板(6)を、図2(ハ)に示
すように、貼り合わせ、上下から押圧し密着させる。次
に、例えば、接着剤が光硬化型接着剤の際には、光照射
(図示せず)を行い接着剤層(5)を硬化させる。続い
て、転写基材(8)及び離型層(2)を剥離し、図2
(ニ)に示すように、カラーフィルタ(1)を得るもの
である。
First, as shown in FIG. 2C, the transfer sheet (4) and the transparent substrate (6) on which the adhesive layer (5) has been formed are adhered to each other and pressed from above and below to bring them into close contact. Next, for example, when the adhesive is a photocurable adhesive, light irradiation (not shown) is performed to cure the adhesive layer (5). Subsequently, the transfer substrate (8) and the release layer (2) were peeled off, and FIG.
As shown in (d), a color filter (1) is obtained.

【0018】本発明において用いる透明基板(6)は、
十分な強度、平坦性、耐熱性、光透過性などを有するも
のが好ましい。例えば、通常カラーフィルタ基板として
用いられている透明な無アルカリガラスで、熱膨張係数
の小さなガラスが好ましいものである。そして、その厚
みは0.6〜1.1mm程度のものである。
The transparent substrate (6) used in the present invention comprises:
Those having sufficient strength, flatness, heat resistance, light transmittance and the like are preferable. For example, a transparent alkali-free glass usually used as a color filter substrate and having a small coefficient of thermal expansion is preferable. And its thickness is about 0.6 to 1.1 mm.

【0019】本発明においては、接着剤層(5)が形成
された透明基板(6)に、転写シート(4)を貼り合わ
せ、カラーフィルタ層(3)、遮光層(7)などを転写
するものであるが、また、本発明におけるカラーフィル
タの製造方法は、表示装置の基板として、例えば、素子
や液晶などを駆動させる配線や画素電極が形成された透
明基板に転写シート(4)を貼り合わせ、カラーフィル
タ層(3)、遮光層(7)などを転写してカラーフィル
タを製造することもできる。
In the present invention, a transfer sheet (4) is bonded to a transparent substrate (6) on which an adhesive layer (5) is formed, and a color filter layer (3), a light shielding layer (7) and the like are transferred. However, in the method for manufacturing a color filter according to the present invention, the transfer sheet (4) is attached to a transparent substrate on which, for example, a wiring for driving an element or a liquid crystal or a pixel electrode is formed as a substrate of a display device. In addition, a color filter can be manufactured by transferring the color filter layer (3), the light shielding layer (7), and the like.

【0020】このように、配線や画素電極が形成された
ガラス基板に転写シート(4)を貼り合わせ、カラーフ
ィルタ層(3)、遮光層(7)などを転写する方法によ
れば、カラーフィルタ層とガラス基板との間に配線や画
素電極が位置するカラーフィルタ(図示せず)が得られ
ることになる。
As described above, according to the method of attaching the transfer sheet (4) to the glass substrate on which the wirings and the pixel electrodes are formed, and transferring the color filter layer (3), the light shielding layer (7) and the like, A color filter (not shown) in which wirings and pixel electrodes are located between the layer and the glass substrate is obtained.

【0021】また、例えば、TFT駆動の液晶表示装置
において、TFTや画素電極が形成されたガラス基板上
にカラーフィルタ層(3)、遮光層(7)などを転写す
ると、TFTや画素電極が形成されたガラス基板上に、
液晶表示装置におけるカラーフィルタの機能をもたせた
液晶表示装置となるものである。
For example, in a TFT-driven liquid crystal display device, when a color filter layer (3), a light shielding layer (7) and the like are transferred onto a glass substrate on which TFTs and pixel electrodes are formed, TFTs and pixel electrodes are formed. On the glass substrate
This is a liquid crystal display device having a function of a color filter in the liquid crystal display device.

【0022】本発明において用いる転写基材(8)は、
金属薄板または金属箔で、厚みは0.15mm以下、望
ましくは0.06〜0.09mmであり、熱膨張係数が
ガラス基板と略等しい金属が好ましい。例えば、熱膨張
係数が40×10-7/℃程度のガラス基板である際に
は、用いる転写基材の金属薄板としては、42合金(ニ
ッケル42重量%、残部鉄)、アンバー(ニッケル36
重量%、マンガン微量、残部鉄)などの熱膨張係数が1
0〜40×10-7/℃程度のものが好ましい。鉄・ニッ
ケル合金は、空気中で錆にくく、保存性が良い点でも適
している。
The transfer substrate (8) used in the present invention comprises:
A metal sheet or metal foil having a thickness of 0.15 mm or less, preferably 0.06 to 0.09 mm, and a metal having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the glass substrate is preferable. For example, in the case of a glass substrate having a thermal expansion coefficient of about 40 × 10 −7 / ° C., as the thin metal sheet of the transfer base material to be used, 42 alloy (42% by weight of nickel, balance iron) and amber (nickel of 36%) are used.
(% By weight, trace amount of manganese, balance iron)
Those having about 0 to 40 × 10 −7 / ° C. are preferred. Iron-nickel alloys are also suitable in that they hardly rust in air and have good storage stability.

【0023】離型層(2)は、有機溶剤に耐性のある高
分子膜で、転写基材の表面に平滑性を与え、また、転写
に際して透明基板と転写基材との密着を保つための弾性
を与えるものである。そのため、層の厚みとしては10
〜100μm程度のものが好ましく、また、柔軟性を有
することが好ましいが、他方、離型層としての本来の特
性からすると、表面が不活性で硬度の高いことが望まし
い。
The release layer (2) is a polymer film resistant to an organic solvent, which imparts smoothness to the surface of the transfer substrate, and maintains the close contact between the transparent substrate and the transfer substrate during transfer. It gives elasticity. Therefore, the thickness of the layer is 10
A thickness of about 100 μm is preferable, and it is preferable that the layer has flexibility. On the other hand, in view of the inherent characteristics of the release layer, it is desirable that the surface is inert and has high hardness.

【0024】具体的には、有機溶剤に耐性のある水溶性
樹脂としてカゼイン、ポリビニルアルコール、ヒドロキ
シエチルセルロースなどが、また、弾性を与える樹脂と
してポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂などがあげられ
るが、これらの樹脂に限定されるものではない。また、
剥離性を向上させるため、シリコーン系、ふっ素系の界
面活性剤を添加してもよく、転写基材は離型層と一体化
して初めて本来の機能が発現するものである。
Specifically, water-soluble resins resistant to organic solvents include casein, polyvinyl alcohol, hydroxyethylcellulose, and the like, and resins giving elasticity include polyurethane resins and various rubber-based resins. It is not limited to resin. Also,
In order to improve the releasability, a silicone-based or fluorine-based surfactant may be added, and the original function is exhibited only when the transfer substrate is integrated with the release layer.

【0025】カラーフィルタ層(3)は、染色法、顔料
分散法、印刷法、電着法、インクジェット法などで形成
されるものである。染色法は可染性樹脂、例えば、ゼラ
チン、グリュー、カゼインなどに重クロム酸塩を添加し
て感光性をもたせ、露出・現像によるパターン形成後、
アニオン系染料で染色・防染を行うものである。また、
アミド基、アミノ基などのカチオン基を有する感光性を
もたせた可染性の合成樹脂を用いてカラーフィルタ層を
形成することもできる。すなわち、形成されたカラーフ
ィルタ層は、染料で染色した樹脂層である。
The color filter layer (3) is formed by a dyeing method, a pigment dispersion method, a printing method, an electrodeposition method, an ink-jet method, or the like. The dyeing method is a dyeable resin, for example, gelatin, glue, casein, etc., added dichromate to give photosensitivity, after pattern formation by exposure and development,
Dyeing and anti-dyeing with an anionic dye. Also,
The color filter layer can also be formed using a photosensitive synthetic resin having photosensitivity having a cationic group such as an amide group or an amino group. That is, the formed color filter layer is a resin layer dyed with a dye.

【0026】顔料分散法は、予め所望の顔料などを分散
した非感光性、或いは感光性樹脂を用いてフォトリソグ
ラフィ法によりカラーフィルタ層を形成するものであ
る。すなわち、形成されたカラーフィルタ層は、色素を
含有した樹脂層である。また、印刷法は平版オフセッ
ト、或いは、凹版オフセット法を用いてカラーフィルタ
層を形成するものである。そして、形成されたカラーフ
ィルタ層は、色素を含有した印刷インク層である。
In the pigment dispersion method, a color filter layer is formed by a photolithography method using a non-photosensitive or photosensitive resin in which a desired pigment or the like is dispersed in advance. That is, the formed color filter layer is a resin layer containing a dye. In the printing method, a color filter layer is formed by using a lithographic offset method or an intaglio offset method. Then, the formed color filter layer is a printing ink layer containing a dye.

【0027】また、電着法は、透明基板上に透明導電体
層を設け、フォトリソグラフィ技術を利用して所望のパ
ターンを形成した後、着色するパターンのみに通電しな
がら、色素を含んだ高分子樹脂を分散させた電着塗料中
で電着して着色パターンを形成するものである。すなわ
ち、形成されたカラーフィルタ層は、色素を含有した電
着塗料層である。また、インクジェット法は、インクを
ノズルより吐出させカラーフィルタ層を形成するもの
で、形成されたカラーフィルタ層は、色素を含有したイ
ンク層である。
In the electrodeposition method, a transparent conductor layer is provided on a transparent substrate, a desired pattern is formed by using a photolithography technique, and only a pattern to be colored is energized while a high density containing a pigment is applied. This is to form a colored pattern by electrodeposition in an electrodeposition coating material in which a molecular resin is dispersed. That is, the formed color filter layer is an electrodeposition paint layer containing a dye. In addition, in the ink jet method, a color filter layer is formed by discharging ink from a nozzle, and the formed color filter layer is an ink layer containing a dye.

【0028】前記のように、転写法を用いることによ
り、ガラス基板などの透明基板へのカラーフィルタ層の
製造とは別工程で、煩瑣なカラーフィルタ層の製造を行
うことができ、生産効率を向上することが可能となる
が、転写法においても解決すべき課題がある。すなわ
ち、転写法によるカラーフィルタの製造における不良と
しての、転写基材剥離時の剥離不良である。剥離不良と
は、透明基板側に転写されるべきカラーフィルタ層や遮
光層が転写シートに残留する不良、接着剤層が透明基板
より剥離して転写シート側に転移する不良、及び離型層
が転写基材より剥離して透明基板側に転写される不良な
どである。
As described above, by using the transfer method, a complicated color filter layer can be produced in a separate step from the production of a color filter layer on a transparent substrate such as a glass substrate, and the production efficiency can be reduced. Although it can be improved, there is a problem to be solved also in the transfer method. That is, this is a peeling failure at the time of peeling the transfer substrate, which is a defect in the production of the color filter by the transfer method. The peeling failure means that the color filter layer or the light-shielding layer to be transferred to the transparent substrate side remains on the transfer sheet, the adhesive layer peels off from the transparent substrate and transfers to the transfer sheet side, and the release layer has This is a defect that is peeled off from the transfer substrate and transferred to the transparent substrate side.

【0029】図2(ハ)は、転写法によるカラーフィル
タの製造工程を断面で示す説明図である。図2(ハ)
は、離型層(2)上にカラーフィルタ層(3)、遮光層
(7)などが設けられた転写シート(4)と、接着剤層
(5)を介して透明基板(6)が貼り合わされた状態を
示している。図2(ハ)において、上記剥離不良は、界
面1(51):透明基板と接着剤層、界面2(52):
接着剤層とカラーフィルタ層及び遮光層、界面3(5
3):接着剤層と離型層、界面4(54):離型層とカ
ラーフィルタ層及び遮光層、界面5(55):離型層と
転写基材という各材料界面の密着力の差に起因して発生
する。
FIG. 2C is an explanatory view showing a cross section of a color filter manufacturing process by the transfer method. Fig. 2 (c)
Is a transfer sheet (4) in which a color filter layer (3), a light shielding layer (7), etc. are provided on a release layer (2), and a transparent substrate (6) attached via an adhesive layer (5). This shows a combined state. In FIG. 2 (c), the peeling failure is caused by the interface 1 (51): the transparent substrate and the adhesive layer, and the interface 2 (52):
Adhesive layer, color filter layer and light-shielding layer, interface 3 (5
3): adhesive layer and release layer, interface 4 (54): difference in adhesion between release layer and color filter layer and light-shielding layer, interface 5 (55): interface between release layer and transfer base material It occurs due to.

【0030】すなわち、界面1(51)、界面2(5
2)、界面5(55)の各界面の密着力が、界面3(5
3)、界面4(54)の界面の密着力に比べ十分に大き
い場合には、剥離不良は起こりにくく、逆に、密着力が
十分に大きくない場合には、剥離不良が起こり易いもの
である。
That is, the interface 1 (51) and the interface 2 (5
2), the adhesion at each interface of interface 5 (55) is
3) If the adhesion is sufficiently large compared to the interface 4 (54), peeling failure is unlikely to occur. Conversely, if the adhesion is not sufficiently large, peeling is likely to occur. .

【0031】本発明においては、上記の界面における密
着力の関係を適正なものにして、剥離不良を発生させな
いようにしたものである。すなわち、離型層として、界
面3(53)、及び界面4(54)における剥離強度が
15g以下の離型層を用い、接着剤層として、界面1
(51)、及び界面2(52)における剥離強度が20
g以上の接着剤層を用いることにより、安定した転写性
を得るものである。また、界面1(51)、及び界面2
(52)における剥離強度と、界面3(53)、及び界
面4(54)における剥離強度との差が20g以上にお
いて、さらに安定した転写性を得るものである。また、
界面5(55)の剥離強度は他の界面1〜界面4に比較
し十分に大きなものである。
In the present invention, the relationship of the adhesion at the interface is made appropriate so as to prevent the occurrence of peeling failure. That is, a release layer having a peel strength of 15 g or less at the interface 3 (53) and the interface 4 (54) is used as the release layer, and the interface 1 is used as the adhesive layer.
(51) and the peel strength at interface 2 (52) is 20.
By using an adhesive layer of g or more, stable transferability is obtained. In addition, interface 1 (51) and interface 2
When the difference between the peel strength at (52) and the peel strength at interface 3 (53) and interface 4 (54) is 20 g or more, more stable transferability can be obtained. Also,
The peel strength of the interface 5 (55) is sufficiently higher than the other interfaces 1 to 4.

【0032】具体的には、ポリビニルアルコール(ケン
化度99)「ユニオン化学社製」、ヒタロイド3001
「日立化成社製」、ポリアミドイミド樹脂(KS600
0)「日立化成社製」を離型層として使用することによ
り15g以下の剥離強度が得られ、また、アロニクスU
V3300、UV3610「東亜合成化学工業社製」を
接着剤層として使用することにより20g以上の剥離強
度が得られ、剥離不良を防ぐことができた。
More specifically, polyvinyl alcohol (degree of saponification: 99, manufactured by Union Chemical Co., Ltd.), Hitaloid 3001
"Hitachi Chemical Co., Ltd.", polyamide-imide resin (KS600
0) A peel strength of 15 g or less can be obtained by using "Hitachi Chemical" as a release layer.
By using V3300 and UV3610 “manufactured by Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.” as the adhesive layer, a peel strength of 20 g or more was obtained, and defective peeling could be prevented.

【0033】[0033]

【実施例】以下に本発明の実施例を具体的に説明する。 <実施例1> (離型層の作製)離型層用塗工液は、ケン化度99、重
合度500のポリビニルアルコール「PV500N」
(ユニオン化学工業社製)15%水溶液100gに、重
クロム酸アンモニウム0.9gを加えて塗工液を調製し
た。厚さ約0.11mmの42合金(ニッケル42重量
%、残部鉄)板上に、離型層用塗工液をリバースコータ
にて厚さ約20μmに形成し、90℃・30分間乾燥さ
せた後、UV光を1000mJ/cm2 照射し光硬化し
た。この光硬化した膜を無水クロム酸の4%水溶液に9
0秒間浸漬し、150℃・10分間加熱乾燥し離型層を
得た。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described below. <Example 1> (Preparation of release layer) The coating liquid for the release layer was polyvinyl alcohol "PV500N" having a saponification degree of 99 and a polymerization degree of 500.
0.9 g of ammonium bichromate was added to 100 g of a 15% aqueous solution (manufactured by Union Chemical Industry Co., Ltd.) to prepare a coating solution. A coating liquid for a release layer was formed to a thickness of about 20 μm on a 42 alloy (nickel 42% by weight, balance iron) plate having a thickness of about 0.11 mm by a reverse coater, and dried at 90 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the substrate was irradiated with UV light at 1000 mJ / cm 2 and light-cured. This light-cured film is placed in a 4% aqueous solution of chromic anhydride for 9 hours.
It was immersed for 0 second and dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes to obtain a release layer.

【0034】(転写シートの作製)上記離型層を形成し
た転写基板(42合金板)上に赤色アクリル系顔料分散
感光材をリバースコータで塗布した。UV露光によるパ
ターン露光・現像後、110℃・5分間乾燥し赤色カラ
ーフィルタ層を得た。同様にして緑色、青色、黒色を所
定の位置にパターン露光・現像・乾燥してカラーフィル
タ層と遮光層を形成した。このようにして、転写基板上
にカラーフィルタ層と遮光層を形成した転写シートを得
た。
(Preparation of Transfer Sheet) A red acrylic pigment-dispersed photosensitive material was applied by a reverse coater on the transfer substrate (42 alloy plate) on which the release layer was formed. After pattern exposure and development by UV exposure, drying was performed at 110 ° C. for 5 minutes to obtain a red color filter layer. Similarly, green, blue and black were subjected to pattern exposure, development and drying at predetermined positions to form a color filter layer and a light shielding layer. Thus, a transfer sheet having the color filter layer and the light-shielding layer formed on the transfer substrate was obtained.

【0035】使用したアクリル系顔料分散感光材の組成
は以下の処方による。 A;顔料10重量部 顔料はカラーインデックス(C.I)ナンバーで示す。 赤色:C.I.赤色顔料177及びC.I.黄色顔料1
39 緑色:C.I.緑色顔料36及びC.I.黄色顔料13
9 青色:C.I.青色顔料15 黒色:C.I.黒色顔料7 B;以下の組成からなるアニオン性アクリル共重合体10
重量部 メチルメタクリレート 2重量部 メタクリル酸 1重量部 ヒドロキシメタクリレート 2重量部 ブチルメタクリレート 2重量部 シクロヘキシルアクリレート 3重量部 C;多官能アクリルモノマー 10重量部 アロニックスM−300(東亞合成化学工業(株)製) D;光重合開始剤 0.5重量部 イルガギュアー907 E;有機溶剤 120重量部
The composition of the acrylic pigment-dispersed photosensitive material used is based on the following formulation. A: 10 parts by weight of pigment The pigment is indicated by a color index (CI) number. Red: C.I. I. Red pigment 177 and C.I. I. Yellow pigment 1
39 green: C.I. I. Green pigment 36 and C.I. I. Yellow pigment 13
9 Blue: C.I. I. Blue pigment 15 Black: C.I. I. Black pigment 7B; anionic acrylic copolymer 10 having the following composition
Parts by weight Methyl methacrylate 2 parts by weight methacrylic acid 1 part by weight hydroxy methacrylate 2 parts by weight butyl methacrylate 2 parts by weight cyclohexyl acrylate 3 parts by weight C; polyfunctional acrylic monomer 10 parts by weight ARONIX M-300 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) D: Photopolymerization initiator 0.5 parts by weight Irgaguer 907 E; Organic solvent 120 parts by weight

【0036】(光硬化型接着剤層の作製)光硬化型接着
剤は、ブチルメタクリレート3重量部、アロニックスM
−305(東亞合成化学工業(株)製)2重量部、アロ
ニックスM−400(東亞合成化学工業(株)製)5重
量部、光重合開始剤イルガギュアー907(チバガイギ
ー社製)0.2重量部を混合して調製した。ガラス基板
(米国コーニング社製1737)にロールコーターを用
い、上記光硬化型接着剤を約3μm塗布し、ガラス基板
上に光硬化型接着剤層を設けた。
(Preparation of Photocurable Adhesive Layer) The photocurable adhesive was 3 parts by weight of butyl methacrylate,
-305 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) 2 parts by weight, Aronix M-400 (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) 5 parts by weight, photopolymerization initiator Irgaguer 907 (manufactured by Ciba Geigy) 0.2 parts by weight Was prepared by mixing. The above photocurable adhesive was applied to a glass substrate (1737, manufactured by Corning Incorporated, USA) using a roll coater to a thickness of about 3 μm to provide a photocurable adhesive layer on the glass substrate.

【0037】(カラーフィルタの作製)上記カラーフィ
ルタ層と遮光層を形成した転写シートを、上記光硬化型
接着剤層を設けたガラス基板の所定の位置に貼り合わ
せ、スポットUV照射により転写シート周辺部の光硬化
型接着剤層の一部を硬化させ、転写シートを仮貼りし
た。
(Preparation of Color Filter) The transfer sheet on which the color filter layer and the light-shielding layer are formed is bonded to a predetermined position on the glass substrate provided with the photocurable adhesive layer, and the transfer sheet is irradiated with spot UV light. A part of the photocurable adhesive layer was cured and a transfer sheet was temporarily attached.

【0038】転写シートを仮貼りしたガラス基板を2枚
のプラスチックフィルムではさみ上下一対のロールで加
圧した。次に、UV光を100mJ/cm2 照射し光硬
化型接着剤層を硬化させた。続いて、ガラス基板と転写
シートとの間に、高圧スプレーでアルカリ溶液を吹き込
み転写基板を剥離しカラーフィルタを得た。得られたカ
ラーフィルタは、界面1〜5における剥離不良はみられ
ず良好なものであった。
The glass substrate to which the transfer sheet was temporarily attached was sandwiched between two plastic films and pressed by a pair of upper and lower rolls. Next, UV light was irradiated at 100 mJ / cm 2 to cure the photocurable adhesive layer. Subsequently, an alkaline solution was blown between the glass substrate and the transfer sheet by high-pressure spray to peel off the transfer substrate, thereby obtaining a color filter. The obtained color filter was good without any peeling failure at the interfaces 1 to 5.

【0039】(剥離強度測定)転写シートと、接着剤層
が形成された透明基板を、貼り合わせ、上下から押圧し
密着させ、光照射を行い接着剤層を硬化させた剥離前の
状態で剥離強度の測定を行った。試験法は、「JIS−
K6854」に記載の接着剤の剥離接着強さ試験法を用
いた。界面3、4における剥離強度は8g、界面1、2
における剥離強度は40gであった。
(Measurement of Peeling Strength) The transfer sheet and the transparent substrate on which the adhesive layer is formed are adhered to each other, pressed from above and below and brought into close contact with each other, and irradiated with light to cure the adhesive layer before peeling. The strength was measured. The test method is JIS-
K6854 "was used. The peel strength at interfaces 3 and 4 was 8 g, and the interfaces 1 and 2
Was 40 g.

【0040】<比較例1> (離型層の作製)離型層用塗工液は、ヒタロイド300
0を用い、厚さ約0.11mmの42合金(ニッケル4
2重量%、残部鉄)板上に、スピンコータにて塗工を行
った。厚さ約20μmに形成し、150℃・30分間乾
燥させ離型層を得た。
<Comparative Example 1> (Preparation of Release Layer) The coating liquid for the release layer was Hitaloid 300.
0 alloy and a 42 alloy (nickel 4
(2% by weight, balance iron) plate was coated with a spin coater. It was formed to a thickness of about 20 μm and dried at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a release layer.

【0041】(転写シートの作製)、(光硬化型接着剤
層の作製)、(カラーフィルタの作製)、及び(剥離強
度測定)は、実施例1と同様に行った。界面3、4にお
ける剥離強度は15g、界面1、2における剥離強度は
20gであった。得られたカラーフィルタは剥離不良が
多数発生したものであった。
(Preparation of a transfer sheet), (Preparation of a photocurable adhesive layer), (Preparation of a color filter), and (Measurement of peel strength) were performed in the same manner as in Example 1. The peel strength at interfaces 3 and 4 was 15 g, and the peel strength at interfaces 1 and 2 was 20 g. The obtained color filter had many peeling failures.

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明は、転写基材、離型層、カラーフ
ィルタ層、遮光層などで構成される転写シートを接着剤
層を介して透明基板に貼り合わせ、該接着剤層を硬化後
に該転写基材を剥離し、該カラーフィルタ層及び該遮光
層などを該透明基板に転写してカラーフィルタを製造す
るカラーフィルタにおいて、該カラーフィルタ層が、染
料で染色した樹脂層、色素を含有した樹脂層、色素を含
有した印刷インク層、色素を含有した電着塗料層、又は
色素を含有したインク層であるので、転写シート上に形
成されたカラーフィルタ層を、透明基板上に転写して効
率よく製造するカラーフィルタとなる。
According to the present invention, a transfer sheet composed of a transfer base material, a release layer, a color filter layer, a light-shielding layer, and the like is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer, and the adhesive layer is cured. The transfer base material is peeled off, and the color filter layer and the light shielding layer are transferred to the transparent substrate to produce a color filter. In the color filter, the color filter layer contains a resin layer dyed with a dye and a dye. Resin layer, dye-containing printing ink layer, dye-containing electrodeposition paint layer, or dye-containing ink layer, the color filter layer formed on the transfer sheet is transferred to a transparent substrate. It becomes a color filter that can be efficiently manufactured.

【0043】また、本発明は、前記離型層の、カラーフ
ィルタ層、遮光層、及び接着剤層との剥離強度が15g
以下で、前記接着剤層の、カラーフィルタ層、遮光層、
及び透明基板との剥離強度が20g以上であるので、転
写法によるカラーフィルタの製造における不良として
の、転写基材剥離時の剥離不良、すなわち、透明基板側
に転写されるべきカラーフィルタ層や遮光層が転写シー
トに残留する不良、接着剤層が透明基板より剥離して転
写シート側に転移する不良、及び離型層が転写基材より
剥離して透明基板側に転写される不良などを発生させ
ず、歩留りよく製造するカラーフィルタとなる。
Further, according to the present invention, the peel strength of the release layer from the color filter layer, the light shielding layer and the adhesive layer is 15 g.
Hereinafter, of the adhesive layer, a color filter layer, a light shielding layer,
And the peel strength between the transparent substrate and the transparent substrate is 20 g or more, so that the peeling failure at the time of peeling the transfer base material as a defect in the production of the color filter by the transfer method, that is, the color filter layer to be transferred to the transparent substrate side and light shielding Failure to leave the layer on the transfer sheet, failure to transfer the adhesive layer from the transparent substrate to the transfer sheet, and failure to release the release layer from the transfer substrate and transfer to the transparent substrate Without doing so, a color filter can be produced with good yield.

【0044】また、本発明は、転写基材、離型層、カラ
ーフィルタ層、遮光層などで構成される転写シートを接
着剤層を介して透明基板に貼り合わせ、該接着剤層を硬
化後に該転写基材を剥離し、該カラーフィルタ層及び該
遮光層などを該透明基板に転写してカラーフィルタを製
造するカラーフィルタの製造方法において、該カラーフ
ィルタ層を、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、又
はインクジェット法で形成するので、転写シート上に形
成されたカラーフィルタ層を、透明基板上に転写して、
効率よくカラーフィルタを製造する方法となる。
Further, according to the present invention, a transfer sheet composed of a transfer substrate, a release layer, a color filter layer, a light-shielding layer and the like is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer, and after the adhesive layer is cured, The method for manufacturing a color filter, in which the transfer base material is peeled off and the color filter layer and the light-shielding layer are transferred to the transparent substrate to manufacture a color filter, the color filter layer includes a dyeing method, a pigment dispersion method, Since the printing method, the electrodeposition method, or the ink-jet method is used, the color filter layer formed on the transfer sheet is transferred to a transparent substrate,
This is a method for efficiently manufacturing a color filter.

【0045】また、本発明は、前記離型層として、カラ
ーフィルタ層、遮光層、及び接着剤層との剥離強度が1
5g以下の離型層を用い、前記接着剤層として、カラー
フィルタ層、遮光層、及び透明基板との剥離強度が20
g以上の接着剤層を用いるので、転写法によるカラーフ
ィルタの製造における不良としての、転写基材剥離時の
剥離不良、すなわち、透明基板側に転写されるべきカラ
ーフィルタ層や遮光層が転写シートに残留する不良、接
着剤層が透明基板より剥離して転写シート側に転移する
不良、及び離型層が転写基材より剥離して透明基板側に
転写される不良などを発生させず、歩留りよく製造する
カラーフィルタの製造方法となる。
Further, according to the present invention, the release layer has a peel strength of 1 from a color filter layer, a light shielding layer, and an adhesive layer.
Using a release layer of 5 g or less, the adhesive layer has a peel strength of 20 from the color filter layer, the light shielding layer, and the transparent substrate.
g or more of the adhesive layer, the peeling failure at the time of peeling the transfer substrate as a defect in the production of the color filter by the transfer method, that is, the color filter layer or the light shielding layer to be transferred to the transparent substrate side is a transfer sheet. And the adhesive layer is peeled off from the transparent substrate and transferred to the transfer sheet side, and the release layer is peeled off from the transfer base material and transferred to the transparent substrate side. This is a well-manufactured color filter manufacturing method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるカラーフィルタの一実施例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of a color filter according to the present invention.

【図2】(イ)〜(ニ)は、本発明によるカラーフィル
タの製造工程をその断面で示す説明図である。
FIGS. 2A to 2D are explanatory views showing a process of manufacturing a color filter according to the present invention in cross section.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カラーフィルタ 2…離型層 3…カラーフィルタ層 4…転写シート 5…接着剤層 6…透明基板 7…遮光層 8…転写基材 51…界面1 52…界面2 53…界面3 54…界面4 55…界面5 R…赤色カラーフィルタ層 G…緑色カラーフィルタ層 B…青色カラーフィルタ層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Color filter 2 ... Release layer 3 ... Color filter layer 4 ... Transfer sheet 5 ... Adhesive layer 6 ... Transparent substrate 7 ... Light shielding layer 8 ... Transfer base material 51 ... Interface 1 52 ... Interface 2 53 ... Interface 3 54 ... Interface 4 55 ... Interface 5 R ... Red color filter layer G ... Green color filter layer B ... Blue color filter layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H048 BA45 BA64 BB02 BB12 BB42 2H091 FA02Y FB02 FB12 FB13 FC01 FC05 FC06 FC12 GA01 LA02 LA12  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H048 BA45 BA64 BB02 BB12 BB42 2H091 FA02Y FB02 FB12 FB13 FC01 FC05 FC06 FC12 GA01 LA02 LA12

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】転写基材、離型層、カラーフィルタ層、遮
光層などで構成される転写シートを接着剤層を介して透
明基板に貼り合わせ、該接着剤層を硬化後に該転写基材
を剥離し、該カラーフィルタ層及び該遮光層などを該透
明基板に転写してカラーフィルタを製造するカラーフィ
ルタにおいて、該カラーフィルタ層が、染料で染色した
樹脂層、色素を含有した樹脂層、色素を含有した印刷イ
ンク層、色素を含有した電着塗料層、又は色素を含有し
たインク層であることを特徴とするカラーフィルタ。
1. A transfer sheet comprising a transfer substrate, a release layer, a color filter layer, a light-shielding layer, etc., is adhered to a transparent substrate via an adhesive layer, and after the adhesive layer is cured, the transfer substrate is cured. In a color filter for producing a color filter by transferring the color filter layer and the light-shielding layer and the like to the transparent substrate, the color filter layer is a resin layer dyed with a dye, a resin layer containing a dye, A color filter, which is a printing ink layer containing a dye, an electrodeposition paint layer containing a dye, or an ink layer containing a dye.
【請求項2】前記離型層の、カラーフィルタ層、遮光
層、及び接着剤層との剥離強度が15g以下で、前記接
着剤層の、カラーフィルタ層、遮光層、及び透明基板と
の剥離強度が20g以上であることを特徴とする請求項
1記載のカラーフィルタ。
2. The peel strength of the release layer from the color filter layer, the light shielding layer, and the adhesive layer is 15 g or less, and the peeling of the adhesive layer from the color filter layer, the light shield layer, and the transparent substrate. The color filter according to claim 1, wherein the strength is 20 g or more.
【請求項3】前記透明基板がガラス基板、スイッチング
素子形成基板、又はプラスチック基板であることを特徴
とする請求項1、又は請求項2記載のカラーフィルタ。
3. The color filter according to claim 1, wherein the transparent substrate is a glass substrate, a switching element forming substrate, or a plastic substrate.
【請求項4】転写基材、離型層、カラーフィルタ層、遮
光層などで構成される転写シートを接着剤層を介して透
明基板に貼り合わせ、該接着剤層を硬化後に該転写基材
を剥離し、該カラーフィルタ層及び該遮光層などを該透
明基板に転写してカラーフィルタを製造するカラーフィ
ルタの製造方法において、該カラーフィルタ層を、染色
法、顔料分散法、印刷法、電着法、又はインクジェット
法で形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。
4. A transfer sheet comprising a transfer base material, a release layer, a color filter layer, a light shielding layer, etc., is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer, and after the adhesive layer is cured, the transfer base material is cured. The color filter layer and the light-shielding layer are transferred to the transparent substrate to produce a color filter. In the method for producing a color filter, the color filter layer is dyed, pigment-dispersed, printed, A method for producing a color filter, wherein the color filter is formed by a deposition method or an inkjet method.
【請求項5】前記離型層として、カラーフィルタ層、遮
光層、及び接着剤層との剥離強度が15g以下の離型層
を用い、前記接着剤層として、カラーフィルタ層、遮光
層、及び透明基板との剥離強度が20g以上の接着剤層
を用いることを特徴とする請求項4記載のカラーフィル
タの製造方法。
5. A color filter layer, a light-shielding layer, and a release layer having a peel strength of 15 g or less from an adhesive layer as the release layer, and a color filter layer, a light-shield layer, and The method for producing a color filter according to claim 4, wherein an adhesive layer having a peel strength of 20 g or more from the transparent substrate is used.
【請求項6】前記透明基板としてガラス基板、スイッチ
ング素子形成基板、又はプラスチック基板を用いること
を特徴とする請求項4、又は請求項5記載のカラーフィ
ルタの製造方法。
6. The method for manufacturing a color filter according to claim 4, wherein a glass substrate, a switching element forming substrate, or a plastic substrate is used as said transparent substrate.
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