JP2000103166A - Image-recording material and image-recording method - Google Patents

Image-recording material and image-recording method

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JP2000103166A
JP2000103166A JP10275722A JP27572298A JP2000103166A JP 2000103166 A JP2000103166 A JP 2000103166A JP 10275722 A JP10275722 A JP 10275722A JP 27572298 A JP27572298 A JP 27572298A JP 2000103166 A JP2000103166 A JP 2000103166A
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JP
Japan
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group
image
compound
general formula
recording material
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JP10275722A
Other languages
Japanese (ja)
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Atsuhiro Okawa
敦裕 大川
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an image-recording material in which the preservability and coloring properties of a coloring agent are compatibilized with each other, and the discoloration at the preservation time of the formed color image is improved. SOLUTION: An image recording material containing a compound represented by the formula is heated into the image form to form an image. In the formula, Ar represents aryl or an aromatic heterocyclic group. D represents a group other than acyl group separated by heat or acid. L represents a group to be separated after removal of D. R1 and R2 and C together represent a coloring matter-forming coupler residue, and C represents a coupling carbon. R1 and R2 may be bonded to form a ring.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な画像形成用素
材に関するものである。さらに詳しくは新規なカラー画
像形成用素材に関するものであり、カラーハードコピ
ー、カラープルーフ、グラフィックアート用のドライフ
ィルムの視認性画像の形成等に応用できるカラー画像形
成用素材に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel image forming material. More specifically, the present invention relates to a novel color image forming material, and more particularly to a color image forming material which can be applied to formation of a visible image of a dry film for color hard copy, color proof, graphic art, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】種々のドライの画像形成法が提案されて
いるが、その多くは酸塩基の平衡系を利用した発色方式
である。これらの方法は感材が置かれる環境によって色
味が変化するという問題があり、改良が続けられてい
る。
2. Description of the Related Art Various dry image forming methods have been proposed, and most of them are color forming methods utilizing an equilibrium system of acid and base. These methods have a problem that the color varies depending on the environment in which the light-sensitive material is placed, and have been continuously improved.

【0003】一方、これを抜本的に改良する手段として
不可逆的に発色する方式がいくつか提案されている。特
開昭57−46239号には光によってスルホニル基を
切断することにより発色させる方式が提案されている。
また米国特許第3,409,457号には加熱と系中に
あるアルカリによりアシルアミノ基が解裂し、アゾメチ
ン色素が生成する方式が提案されている。また米国特許
第4,720,449号および特開平5−148426
号には分子内反応によりアシル基が切れて発色するジ−
もしくはトリアリールメタン色素、またはインドアニリ
ン色素がそれぞれ提案されている。更に米国特許第4,
602,263号および同5,243,052号には第
3アルコールから誘導されるカーボネート基が熱により
切断されることにより色素が生成する方式が提案されて
いる。しかしながらいずれの場合も発色剤の保存性と発
色性との両立が不十分であり、その改良が必要であっ
た。
On the other hand, there have been proposed some irreversible color developing methods as a means for drastically improving this. JP-A-57-46239 proposes a method in which a color is formed by cutting a sulfonyl group with light.
U.S. Pat. No. 3,409,457 proposes a method in which an acylamino group is cleaved by heating and an alkali in the system to form an azomethine dye. U.S. Pat. No. 4,720,449 and JP-A-5-148426.
The di-color, which is colored by the cleavage of the acyl group by an intramolecular reaction,
Alternatively, a triarylmethane dye or an indoaniline dye has been proposed. Further US Pat.
602,263 and 5,243,052 propose a system in which a carbonate group derived from a tertiary alcohol is cleaved by heat to produce a dye. However, in both cases, the compatibility between the preservability of the color former and the color developability was insufficient, and its improvement was required.

【0004】また特開平8−292517号には熱を利
用した分子内反応とそれに続く反応により発色する方式
が提案されているが、この場合にも発色剤の保存性と発
色性との両立が不十分であった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-292517 proposes a system in which a color is formed by an intramolecular reaction utilizing heat and a subsequent reaction. In this case, too, both the preservability of the color former and the color developability are required. It was not enough.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、形成された
色画像の保存時における色変化が大きく改良された画像
形成方法および画像形成媒体を提供するものである。ま
た本発明は、発色剤の保存性と発色性との両立が改良さ
れた画像形成方法および画像形成媒体を提供するもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an image forming method and an image forming medium in which a color change during storage of a formed color image is greatly improved. Another object of the present invention is to provide an image forming method and an image forming medium in which the balance between the preservability of the color former and the color developability is improved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下に示
す方法により解決された。 下記一般式(1) で表される化合物を含有することを特
徴とする画像記録材料。
The object of the present invention has been solved by the following method. An image recording material comprising a compound represented by the following general formula (1).

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】(式(1) 中、Arはアリール基または芳香
族ヘテロ環基を表す。Dは熱または酸により離脱するア
シル基以外の基を表す。LはDがはずれた後に離脱する
基を表す。R1 とR2 およびCは一緒になって色素形成
カプラー残基を表し、Cはカップリング炭素を表す。R
1 とR2 は結合して環を形成しても良い。) 一般式(1) において、R1 とR2 が結合して環を形成
していることを特徴とする記載の画像記録材料。
(In the formula (1), Ar represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group. D represents a group other than an acyl group which is released by heat or an acid. L represents a group which is released after D is released. R 1 and R 2 and C together represent a dye-forming coupler residue, and C represents a coupling carbon.
1 and R 2 may combine to form a ring. The image recording material as described in the general formula (1), wherein R 1 and R 2 are combined to form a ring.

【0009】一般式(1) で表される化合物を含有する
画像記録材料を像様に加熱することにより画像形成させ
ることを特徴とする画像形成方法。 レーザーの光を吸収する化合物と一般式(1) で表され
る化合物を含有し、該レーザーを照射することにより像
様に加熱することを特徴とする記載の画像形成方法。
An image forming method comprising forming an image by heating an image recording material containing the compound represented by the general formula (1) imagewise. An image forming method as described in the above item, comprising a compound absorbing a laser beam and a compound represented by the general formula (1), and irradiating with the laser to imagewise heat.

【0010】光または熱により酸を発生する化合物と
一般式(1) で表される化合物を含有することを特徴とす
る画像記録材料。 光により酸を発生する化合物と一般式(1) で表される
化合物を含有する記録材料にレーザーを照射することに
より画像形成することを特徴とする画像形成方法。
An image recording material comprising a compound which generates an acid by light or heat and a compound represented by the general formula (1). An image forming method comprising irradiating a laser to a recording material containing a compound generating an acid by light and a compound represented by the general formula (1) to form an image.

【0011】熱により酸を発生する化合物と一般式
(1) で表される化合物を含有する記録材料を加熱するこ
とにより画像形成することを特徴とする画像形成方法。 レーザーの光を吸収する化合物と熱により酸を発生す
る化合物と一般式(1)で表される化合物を含有し、該レ
ーザーを照射することにより像様に加熱することを特徴
とする記載の画像形成方法。
A compound which generates an acid by heat and a general formula
An image forming method, wherein an image is formed by heating a recording material containing the compound represented by (1). An image as described above, comprising a compound that absorbs laser light, a compound that generates an acid by heat, and a compound represented by the general formula (1), and is heated imagewise by irradiating the laser. Forming method.

【0012】[0012]

【発明の実施形態】本発明に関して詳細に説明する。一
般式(1) において、R1 とR2 およびCは一緒になって
色素形成カプラー残基を表し、Cはカップリング炭素を
表す。R1 とR2 は結合して環を形成しても良い。R1
とR2 およびCからなる色素形成カプラー残基として
は、写真業界で知られている種々の母核のものを用いる
ことができる。これらカプラー(母核)の具体例として
は、Theory of the Photographic Process(4th.Ed., T.
H.James編、Macmillan, 1977)291〜334頁および
354〜361頁、特開平58−12353号、同58
−149046号、同58−149047号、同59−
11114号、同59−124399号、同59−17
4835号、同59−231539号、同59−231
540号、同60−2951号、同60−14242
号、同60−23474号、同60−66249号等に
詳しく記載されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described in detail. In the general formula (1), R 1 , R 2 and C together represent a dye-forming coupler residue, and C represents a coupling carbon. R 1 and R 2 may combine to form a ring. R 1
As the dye-forming coupler residue consisting of R 2 and C, various base nuclei known in the photographic industry can be used. Specific examples of these couplers (mother nuclei) include Theory of the Photographic Process (4th. Ed.
H. James ed., Macmillan, 1977) pp. 291-334 and 354-361, JP-A-58-12353, 58.
No. 149046, No. 58-149047, No. 59-
Nos. 11114, 59-124399, 59-17
No. 4835, No. 59-231439, No. 59-231
No. 540, No. 60-2951, No. 60-14242
And Nos. 60-23474 and 60-66249.

【0013】本発明に好ましく用いられるカプラー母核
の例を以下に列挙する。本発明に好ましく使用されるカ
プラーとしては、以下の一般式(C−1)〜(C−1
2)に記載するような構造のものがある。これらは写真
業界で活性メチレン、ピラゾロン、ピラゾロアゾール、
フェノール、ナフトール、ピロロトリアゾールと総称さ
れるカプラーの残基であり、当該分野で公知のものであ
る。
Examples of the coupler nucleus preferably used in the present invention are listed below. The couplers preferably used in the present invention include the following general formulas (C-1) to (C-1).
There is a structure as described in 2). These are active methylene, pyrazolone, pyrazoloazole,
Residues of couplers collectively referred to as phenol, naphthol, and pyrrolotriazole, which are known in the art.

【0014】[0014]

【化3】 Embedded image

【0015】[0015]

【化4】 Embedded image

【0016】一般式(C−1)〜(C−4)は活性メチ
レン系カプラーと称されるカプラーの残基を表し、式中
21は置換基を有しても良い、アシル基、シアノ基、ニ
トロ基、アリール基、ヘテロ環残基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基またはア
リールスルホニル基である。
Formulas (C-1) to (C-4) each represent a residue of a coupler referred to as an active methylene coupler, wherein R 21 represents an optionally substituted acyl group, cyano group or cyano group. Group, nitro group, aryl group, heterocyclic residue, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group.

【0017】一般式(C−1)〜(C−3)において、
22は置換基を有しても良い、アルキル基、アリール基
またはヘテロ環残基である。一般式(C−4)において
23は置換基を有しても良い、アリール基またはヘテロ
環残基である。
In the general formulas (C-1) to (C-3),
R 22 is an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic residue which may have a substituent. In the general formula (C-4), R 23 is an aryl group or a heterocyclic residue which may have a substituent.

【0018】R21、R22、R23が有しても良い置換基と
しては、炭素数1〜50の直鎖または分岐、鎖状または
環状の、アルキル基(例えば、トリフルオロメチル、メ
チル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イ
ソプロピル、ブチル、t−ブチル、t−ペンチル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、2−エチルヘ
キシル、ドデシル等)、炭素数2〜50の直鎖または分
岐、鎖状または環状の、アルケニル基(例えば、ビニ
ル、1−メチルビニル、シクロヘキセン−1−イル
等)、炭素数2〜50のアルキニル基(例えば、エチニ
ル、1−プロピニル等)、炭素数6〜50のアリール基
(例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等)、炭素
数1〜50のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ、テ
トラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、
Examples of the substituent which R 21 , R 22 and R 23 may have include a linear or branched, chain or cyclic alkyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, trifluoromethyl, methyl, Ethyl, propyl, heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, etc.), linear or branched, chain or cyclic having 2 to 50 carbon atoms An alkenyl group (eg, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexen-1-yl, etc.), an alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms (eg, ethynyl, 1-propynyl, etc.), an aryl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, , Phenyl, naphthyl, anthryl, etc.), an acyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (eg, acetoxy, tetradecanoyloxy) Benzoyloxy),

【0019】炭素数1〜50のカルバモイルオキシ基
(例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ等)、
炭素数1〜50のカルボンアミド基(例えば、ホルムア
ミド、N−メチルアセトアミド、アセトアミド、N−メ
チルホルムアミド、ベンツアミド等)、炭素数1〜50
のスルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、
ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、p
−トルエンスルホンアミド等)、炭素数1〜50のカル
バモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル、N,N
−ジエチルカルバモイル、N−メシルカルバモイル
等)、炭素数0〜50のスルファモイル基(例えば、N
−ブチルスルファモイル、N,N−ジエチルスルファモ
イル、N−メチル−N−(4−メトキシフェニル)スル
ファモイル等)、炭素数1〜50のアルコキシ基(例え
ば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチル
オキシ、t−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、2−
(2,4−ジ−t−ペンチルフェノキシ)エトキシ
等)、炭素数6〜50のアリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、4−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等)、
炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル
等)、
A carbamoyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy and the like);
A carbonamide group having 1 to 50 carbon atoms (for example, formamide, N-methylacetamide, acetamido, N-methylformamide, benzamide, etc.);
Sulfonamide groups (eg, methanesulfonamide,
Dodecane sulfonamide, benzene sulfonamide, p
Carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, N-methylcarbamoyl, N, N
-Diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.) and a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms (for example, N
-Butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-N- (4-methoxyphenyl) sulfamoyl and the like, an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms (for example, methoxy, propoxy, isopropoxy, octyl) Oxy, t-octyloxy, dodecyloxy, 2-
(2,4-di-t-pentylphenoxy) ethoxy and the like), an aryloxy group having 6 to 50 carbon atoms (for example, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy and the like),
An aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl, naphthoxycarbonyl, etc.),

【0020】炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基
(例えば、メトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル等)、炭素数1〜50のN−アシルスルファモイル基
(例えば、N−テトラデカノイルスルファモイル、N−
ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜50のアル
キルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチ
ルスルホニル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘ
キシルデシルスルホニル等)、炭素数6〜50のアリー
ルスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−ト
ルエンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル等)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニル
アミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、炭
素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ基(例
えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボ
ニルアミノ等)、炭素数0〜50のアミノ基(例えばア
ミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピル
アミノ、アニリノ、モルホリノ等)、シアノ基、ニトロ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカ
プト基、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基(例
えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル
等)、炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフ
ィニル、p−トルエンスルフィニル等)、
An alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), an N-acylsulfamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, N-tetradecanoylsulfamoyl, N-
Benzoylsulfamoyl, etc.), an alkylsulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methanesulfonyl, octylsulfonyl, 2-methoxyethylsulfonyl, 2-hexyldecylsulfonyl, etc.), and an arylsulfonyl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, Benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), an alkoxycarbonylamino group having 2 to 50 carbon atoms (eg, ethoxycarbonylamino, etc.), and an aryloxycarbonylamino group having 7 to 50 carbon atoms (eg, Phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino, etc.), an amino group having 0 to 50 carbon atoms (eg, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino, morpholino, etc.), cyano group, nitro group, carboxyl A hydroxy group, a sulfo group, a mercapto group, an alkylsulfinyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methanesulfinyl, octanesulfinyl and the like), an arylsulfinyl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, benzenesulfinyl, 4-chlorophenylsulfinyl, p-toluenesulfinyl),

【0021】炭素数1〜50のアルキルチオ基(例え
ば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ
等)、炭素数6〜50のアリールチオ基(例えば、フェ
ニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素数1〜50のウレイ
ド基(例えば、3−メチルウレイド、3,3−ジメチル
ウレイド、1,3−ジフェニルウレイド等)、炭素数2
〜50のヘテロ環基(ヘテロ原子として例えば、窒素、
酸素およびイオウ等を少なくとも1個以上、好ましくは
1個から9個含む、3ないし12員環の単環または縮合
環、例えば、2−フリル、2−ピラニル、2−ピリジ
ル、2−チエニル、2−イミダゾリル、モルホリノ、2
−キノリル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベンゾチア
ゾリル、2−ベンゾオキサゾリル等)、炭素数1〜50
のアシル基(例えば、アセチル、ベンゾイル、トリフル
オロアセチル等)、炭素数0〜50のスルファモイルア
ミノ基(例えば、N−ブチルスルファモイルアミノ、N
−フェニルスルファモイルアミノ等)、炭素数3〜50
のシリル基(例えば、トリメチルシリル、ジメチル−t
−ブチルシリル、トリフェニルシリル等)、ハロゲン原
子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が挙
げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していても
よく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙
げられる。
An alkylthio group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methylthio, octylthio, cyclohexylthio, etc.), an arylthio group having 6 to 50 carbon atoms (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), a ureido group having 1 to 50 carbon atoms (eg, , 3-methylureide, 3,3-dimethylureide, 1,3-diphenylureide, etc.), having 2 carbon atoms
To 50 heterocyclic groups (for example, nitrogen,
A 3- to 12-membered monocyclic or condensed ring containing at least one or more, preferably 1 to 9, oxygen and sulfur, such as 2-furyl, 2-pyranyl, 2-pyridyl, 2-thienyl, -Imidazolyl, morpholino, 2
-Quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl, 2-benzoxazolyl, etc.), having 1 to 50 carbon atoms
(E.g., acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl, etc.) and a sulfamoylamino group having 0 to 50 carbon atoms (e.g., N-butylsulfamoylamino, N
-Phenylsulfamoylamino, etc.), having 3 to 50 carbon atoms
(E.g., trimethylsilyl, dimethyl-t
-Butylsilyl, triphenylsilyl and the like), and a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and the like). The above substituents may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents mentioned here.

【0022】一般式(C−1)〜(C−4)において、
21とR22、R21とR23は互いに結合して環を形成して
も良い。
In the general formulas (C-1) to (C-4),
R 21 and R 22 , and R 21 and R 23 may combine with each other to form a ring.

【0023】一般式(C−5)は5−ピラゾロン系カプ
ラーと称されるカプラーの残基を表し、式中、R24はア
ルキル基、アリール基、アシル基またはカルバモイル基
を表す。R25はフェニル基または1個以上のハロゲン原
子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基、アルコキシ
カルボニル基もしくはアシルアミノ基が置換したフェニ
ル基を表す。
The formula (C-5) represents a residue of a coupler called a 5-pyrazolone coupler, wherein R 24 represents an alkyl group, an aryl group, an acyl group or a carbamoyl group. R 25 represents a phenyl group or a phenyl group substituted by one or more halogen atoms, alkyl groups, cyano groups, alkoxy groups, alkoxycarbonyl groups, or acylamino groups.

【0024】一般式(C−5)で表される残基の中でも
24がアリール基またはアシル基、R25が1個以上のハ
ロゲン原子が置換したフェニル基のものが好ましい。
Among the residues represented by formula (C-5), those in which R 24 is an aryl group or an acyl group and R 25 is a phenyl group substituted by one or more halogen atoms are preferred.

【0025】これらの好ましい基について詳しく述べる
と、R24はフェニル基、2−クロロフェニル基、2−メ
トキシフェニル基、2−クロロ−5−テトラデカンアミ
ドフェニル基、2−クロロ−5−(3−オクタデセニル
−1−スクシンイミド)フェニル基、2−クロロ−5−
オクタデシルスルホンアミドフェニル基、2−クロロ−
5−〔2−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェノキ
シ)テトラデカンアミド〕フェニル基等のアリール基、
またはアセチル基、2−(2,4−ジ−t−ペンチルフ
ェノキシ)ブタノイル基、ベンゾイル基、3−(2,4
−ジ−t−アミルフェノキシアセトアミド)ベンゾイル
基等のアシル基であり、これらの基はさらに置換基を有
しても良く、それらは炭素原子、酸素原子、窒素原子ま
たはイオウ原子で連結する有機置換基またはハロゲン原
子である。
More specifically, R 24 is a phenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 2-methoxyphenyl group, a 2-chloro-5-tetradecanamidophenyl group, a 2-chloro-5- (3-octadecenyl) group. -1-succinimide) phenyl group, 2-chloro-5-
Octadecylsulfonamidophenyl group, 2-chloro-
An aryl group such as a 5- [2- (4-hydroxy-3-t-butylphenoxy) tetradecanamido] phenyl group,
Or an acetyl group, a 2- (2,4-di-t-pentylphenoxy) butanoyl group, a benzoyl group, a 3- (2,4
Acyl groups such as -di-t-amylphenoxyacetamido) benzoyl group, and these groups may further have a substituent, and these may be an organic substituent linked by a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom. Group or a halogen atom.

【0026】R25は2,4,6−トリクロロフェニル
基、2,5−ジクロロフェニル基、2−クロロフェニル
基等の置換フェニル基が好ましい。
R 25 is preferably a substituted phenyl group such as a 2,4,6-trichlorophenyl group, a 2,5-dichlorophenyl group and a 2-chlorophenyl group.

【0027】一般式(C−6)はピラゾロアゾール系カ
プラーと称されるカプラーの残基を表し、式中、R26
水素原子または置換基を表す。Q1 は窒素原子を2〜4
個含む5員のアゾール環を形成するのに必要な非金属原
子群を表し、該アゾール環は置換基(縮合環を含む)を
有しても良い。
The general formula (C-6) represents a residue of a coupler called a pyrazoloazole coupler, wherein R 26 represents a hydrogen atom or a substituent. Q 1 represents 2 to 4 nitrogen atoms.
Represents a group of non-metallic atoms necessary for forming a 5-membered azole ring, and the azole ring may have a substituent (including a condensed ring).

【0028】一般式(C−6)で表されるピラゾロアゾ
ール系カプラーの中でも、米国特許第4,500,63
0号に記載のイミダゾ〔1,2−b〕ピラゾール類、米
国特許第4,500,654号に記載のピラゾロ〔1,
5−b〕−1,2,4−トリアゾール類、米国特許第
3,725,067号に記載のピラゾロ〔5,1−c〕
−1,2,4−トリアゾール類が好ましい。
Among the pyrazoloazole couplers represented by the general formula (C-6), US Pat. No. 4,500,63
No. 0, the imidazo [1,2-b] pyrazoles described in U.S. Pat. No. 4,500,654.
5-b] -1,2,4-triazoles, pyrazolo [5,1-c] described in U.S. Pat. No. 3,725,067.
-1,2,4-Triazoles are preferred.

【0029】置換基R26、Q1 で表されるアゾール環の
置換基の詳細については、例えば、米国特許第4,54
0,654号明細書中の第2カラム第41行〜第8カラ
ム第27行に記載されている。好ましくは特開昭61−
65245号に記載されているような分岐アルキル基が
ピラゾロトリアゾール基の2、3または6位に直結した
ピラゾロアゾールカプラー、特開昭61−65245号
に記載されている分子内にスルホンアミド基を含んだピ
ラゾロアゾールカプラー、特開昭61−147254号
に記載されているアルコキシフェニルスルホンアミドバ
ラスト基を持つピラゾロアゾールカプラー、特開昭62
−209457号、または同63−307453号に記
載されている6位にアルコキシ基やアリールオキシ基を
持つピラゾロトリアゾールカプラー、および特願平1−
22279号に記載されている分子内にカルボンアミド
基を持つピラゾロトリアゾールカプラーの残基である。
For details of the substituents on the azole ring represented by the substituents R 26 and Q 1 , see, for example, US Pat.
No. 0,654, column 2, line 41 to column 8, line 27. Preferably, JP-A-61-
No. 65245, a pyrazoloazole coupler having a branched alkyl group directly bonded to the 2, 3 or 6-position of the pyrazolotriazole group, and a sulfonamide group in the molecule described in JP-A-61-65245. A pyrazoloazole coupler having an alkoxyphenylsulfonamide ballast group described in JP-A-61-147254;
Pyrazolotriazole couplers having an alkoxy or aryloxy group at the 6-position described in JP-A-209457 or JP-A-63-307453;
No. 22279, which is a residue of a pyrazolotriazole coupler having a carboxamide group in the molecule.

【0030】一般式(C−7)、(C−8)はそれぞれ
フェノール系カプラー、ナフトール系カプラーと称され
るカプラーの残基であり、式中、R27は水素原子、−C
ONR2930、−SO2NR2930、−NHCOR29
−NHCONR2930または−NHSO2NR2930
表す。ここで、R29、R30は水素原子または置換基を表
す。一般式(C−7)、(C−8)において、R28は置
換基を表し、lは0〜2から選ばれる整数、mは0〜4
から選ばれる整数を表す。l、mが2以上の時にはR28
はそれぞれ異なっていても良い。R28〜R30の置換基と
しては前記R21〜R23の置換基の例として述べたものが
挙げられる。
Formulas (C-7) and (C-8) are the residues of couplers called phenol couplers and naphthol couplers, respectively, wherein R 27 is a hydrogen atom, -C
ONR 29 R 30, -SO 2 NR 29 R 30, -NHCOR 29,
It represents a -NHCONR 29 R 30 or -NHSO 2 NR 29 R 30. Here, R 29 and R 30 represent a hydrogen atom or a substituent. In the general formulas (C-7) and (C-8), R 28 represents a substituent, l is an integer selected from 0 to 2, and m is 0 to 4
Represents an integer selected from When l and m are 2 or more, R 28
May be different from each other. Examples of the substituent of R 28 to R 30 include those described as examples of the substituent of R 21 to R 23 .

【0031】一般式(C−7)で表されるフェノール系
カプラーの残基として好ましい例としては、米国特許第
2,369,929号、同第2,801,171号、同
第2,772,162号、同第2,895,826号、
同第3,772,002号等に記載の2−アシルアミノ
−5−アルキルフェノール系、米国特許第2,772,
162号、同第3,758,308号、同第4,12
6,396号、同第4,334,011号、同第4,3
27,173号、西独特許公開第3,329,729
号、特開昭59−166956号等に記載の2,5−ジ
アシルアミノフェノール系、米国特許第3,446,6
22号、同第4,333,999号、同第4,451,
559号、同第4,427,767号等に記載の2−フ
ェニルウレイド−5−アシルアミノフェノール系カプラ
ーの残基を挙げることができる。
Preferred examples of the residue of the phenolic coupler represented by formula (C-7) include US Pat. Nos. 2,369,929, 2,801,171, and 2,772. No. 162, No. 2,895,826,
2-Acylamino-5-alkylphenols described in U.S. Pat. No. 3,772,002 and the like; U.S. Pat.
No. 162, No. 3,758,308, No. 4,12
No. 6,396, No. 4,334,011, No. 4,3
No. 27,173, West German Patent Publication No. 3,329,729
2,5-diacylaminophenols described in U.S. Pat. No. 3,446,6
No. 22, No. 4,333,999, No. 4,451,
Residues of 2-phenylureido-5-acylaminophenol-based couplers described in, for example, No. 559 and No. 4,427,767 can be exemplified.

【0032】一般式(C−8)で表されるナフトールカ
プラーの残基として好ましい例としては、米国特許第
2,474,293号、同第4,052,212号、同
第4,146,396号、同第4,282,233号、
同第4,296,200号等に記載の2−カルバモイル
−1−ナフトール系および米国特許第4,690,88
9号等に記載の2−カルバモイル−5−アミド−1−ナ
フトール系カプラーの残基等を挙げることができる。
Preferred examples of the residue of the naphthol coupler represented by the formula (C-8) include US Pat. Nos. 2,474,293, 4,052,212 and 4,146. No. 396, No. 4,282,233,
2-carbamoyl-1-naphthol described in U.S. Pat. No. 4,296,200 and the like and U.S. Pat. No. 4,690,88.
Residues of 2-carbamoyl-5-amide-1-naphthol couplers described in No. 9 and the like can be mentioned.

【0033】一般式(C−9)〜(C−12)はピロロ
トリアゾールと称されるカプラーの残基であり、R31
32およびR33はそれぞれ水素原子または置換基を表
す。R 31、R32またはR33の表す置換基としては、前記
21〜R23の置換基の例として述べたものが挙げられ
る。一般式(C−9)〜(C−12)で表されるピロロ
トリアゾール系カプラー残基の好ましい例としては、欧
州特許第488,248A1号、同第491,197A
1号、同第545,300号に記載のR31およびR 32
少なくとも一方が電子吸引性基であるカプラー残基が挙
げられる。
Formulas (C-9) to (C-12) are pyrrolo.
A residue of a coupler called a triazole,31,
R32And R33Represents a hydrogen atom or a substituent, respectively.
You. R 31, R32Or R33As the substituent represented by
Rtwenty one~ Rtwenty threeExamples of the substituents include those mentioned above.
You. Pyrrolo represented by general formulas (C-9) to (C-12)
Preferred examples of triazole-based coupler residues include
State Patent Nos. 488,248A1 and 491,197A
R described in No. 1 and No. 545,30031And R 32of
Coupler residues in which at least one is an electron-withdrawing group
I can do it.

【0034】その他縮環フェノール、イミダゾール、ピ
ロール、3−ヒドロキシピリジン、活性メチレン、活性
メチン、5,5−縮環複素環、5,6−縮環複素環とい
った構造を有するカプラーの残基が使用できる。
Others include coupler residues having a structure such as fused phenol, imidazole, pyrrole, 3-hydroxypyridine, active methylene, active methine, 5,5-fused heterocycle, and 5,6-fused heterocycle. it can.

【0035】縮環フェノール系カプラーの残基としては
米国特許第4,327,173号、同第4,564,5
86号、同第4,904,575号等に記載のカプラー
の残基を使用できる。
As the residue of the fused phenol coupler, US Pat. Nos. 4,327,173 and 4,564,5
Nos. 86 and 4,904,575, and the like.

【0036】イミダゾール系カプラーの残基としては、
米国特許第4,818,672号、同第5,051,3
47号等に記載のカプラーの残基が使用できる。
As the residue of the imidazole coupler,
U.S. Pat. Nos. 4,818,672 and 5,051,3
No. 47 and the like can be used.

【0037】3−ヒドロキシピリジン系カプラーの残基
としては特開平1−315736号等に記載のカプラー
の残基が使用できる。
As the residue of the 3-hydroxypyridine-based coupler, the residue of a coupler described in JP-A-1-315736 can be used.

【0038】活性メチレン、活性メチン系カプラーの残
基としては米国特許第5,104,783号、同第5,
162,196号等に記載のカプラーの残基が使用でき
る。
The active methylene and active methine coupler residues are described in US Pat. Nos. 5,104,783 and 5,104,783.
162, 196 and the like can be used.

【0039】5,5−縮環複素環系カプラーの残基とし
ては、米国特許第5,164,289号に記載のピロロ
ピラゾール系カプラー、特開平4−174429号に記
載のピロロイミダゾール系カプラー等の残基が使用でき
る。
Examples of the residue of the 5,5-condensed heterocyclic coupler include pyrrolopyrazole couplers described in US Pat. No. 5,164,289 and pyrroleimidazole couplers described in JP-A-4-174429. Can be used.

【0040】5,6−縮環複素環系カプラーの残基とし
ては、米国特許第4,950,585号に記載のピラゾ
ロピリミジン系カプラー、特開平4−204730号に
記載のピロロトリアジン系カプラー、欧州特許第55
6,700号に記載のカプラー等の残基が使用できる。
Examples of the residue of the 5,6-fused heterocyclic coupler include pyrazolopyrimidine couplers described in US Pat. No. 4,950,585, and pyrrolotriazine couplers described in JP-A-4-204730. , European Patent No. 55
Residues such as couplers described in 6,700 can be used.

【0041】これらのカプラー残基以外に、西独特許第
3,819,051A号、同第3,823,049号、
米国特許第4,840,883号、同第5,024,9
30号、同第5,051,347号、同第4,481,
268号、欧州特許第304,856A2号、同第32
9,036号、同第354,549A2号、同第37
4,781A2号、同第379,110A2号、同第3
86,930A1号、特開昭63−141055号、同
64−32260号、同64−32261号、特開平2
−297547号、同2−44340号、同2−110
555号、同3−7938号、同3−160440号、
同3−172839号、同4−172447号、同4−
179949号、同4−182645号、同4−184
437号、同4−188138号、同4−188139
号、同4−194847号、同4−204532号、同
4−204731号、同4−204732号等に記載さ
れているカプラーの残基も使用できる。
In addition to these coupler residues, German Patent Nos. 3,819,051A and 3,823,049,
U.S. Pat. Nos. 4,840,883 and 5,024,9
No. 30, No. 5,051,347, No. 4,481,
No. 268, European Patent Nos. 304,856A2 and 32
No. 9,036, No. 354, 549A2, No. 37
No. 4,781A2, No. 379,110A2, No. 3
86,930A1, JP-A-63-141055, JP-A-64-32260, JP-A-64-32261, JP-A-2
No. -297475, No. 2-44340, No. 2-110
555, 3-7938, 3-160440,
Nos. 3-172839, 4-172247, 4-
No. 179949, No. 4-182645, No. 4-184
Nos. 437, 4-188138, 4-188139
Nos. 4,194,847, 4,204,532, 4-204731, and 4-204732 can also be used.

【0042】一般式(1) において、LはDがはずれた後
に離脱する基を表す。Lの例としては、ヘテロ環基(ヘ
テロ原子として窒素、酸素、イオウ等のうちのいずれか
を少なくとも1個含む、飽和または不飽和の5〜7員環
の単環または縮合環であり、例としては、スクシンイミ
ド、マレインイミド、フタルイミド、ジグリコールイミ
ド、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、1,2,4
−トリアゾール、テトラゾール、インドール、ベンゾピ
ラゾール、ベンツイミダゾール、ベンゾトリアゾール、
イミダゾリン−2,4−ジオン、オキサゾリジン−2,
4−ジオン、チアゾリジン−2,4−ジオン/イミダゾ
リジン−2−オン、オキサゾリン−2−オン、チアゾリ
ン−2−オン、ベンツイミダゾリン−2−オン、ベンゾ
オキサゾリン−2−オン、ベンゾチアゾリン−2−オ
ン、2−ピロリン−5−オン、2−イミダゾリン−5−
オン、インドリン−2,3−ジオン、2,6−ジオキシ
プリン、パラバン酸、1,2,4−トリアゾリジン−
3,5−ジオン、2−ピリドン、4−ピリドン、2−ピ
リミドン、6−ピリダゾン、2−ピラゾン、2−アミノ
−1,3,4−チアゾリジン、2−イミノ−1,3,4
−チアゾリジン−4−オン等が挙げられる)、
In the general formula (1), L represents a group which leaves after D is removed. Examples of L include a heterocyclic group (a saturated or unsaturated 5- to 7-membered monocyclic or condensed ring containing at least one of nitrogen, oxygen, sulfur and the like as a hetero atom. As succinimide, maleimide, phthalimide, diglycolimide, pyrrole, pyrazole, imidazole, 1,2,4
-Triazole, tetrazole, indole, benzopyrazole, benzimidazole, benzotriazole,
Imidazoline-2,4-dione, oxazolidine-2,
4-dione, thiazolidine-2,4-dione / imidazolidine-2-one, oxazolin-2-one, thiazolin-2-one, benzimidazolin-2-one, benzoxazolin-2-one, benzothiazoline-2- On, 2-pyrrolin-5-one, 2-imidazoline-5
On, indoline-2,3-dione, 2,6-dioxypurine, parabanic acid, 1,2,4-triazolidine-
3,5-dione, 2-pyridone, 4-pyridone, 2-pyrimidone, 6-pyridazone, 2-pyrazone, 2-amino-1,3,4-thiazolidine, 2-imino-1,3,4
-Thiazolidine-4-one, etc.),

【0043】ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原
子等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、1−
ナフトキシ等)、ヘテロ環オキシ基(例えば、ピリジル
オキシ、ピラゾリルオキシ等)、アシルオキシ基(例え
ば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ等)、アルコキシ基
(例えば、メトキシ、ドデシルオキシ等)、カルバモイ
ルオキシ基(例えば、N,N−ジエチルカルバモイルオ
キシ、モルホリノカルボニルオキシ等)、アリールオキ
シカルボニルオキシ基(例えば、フェノキシカルボニル
オキシ等)、アルコキシカルボニルオキシ基(例えば、
メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ
等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ、ナフチ
ルチオ等)、ヘテロ環チオ基(例えば、テトラゾリルチ
オ、1,3,4−チアジアゾリルチオ、1,3,4−オ
キサジアゾリルチオ、ベンツイミダゾリルチオ等)、ア
ルキルチオ基(例えば、メチルチオ、オクチルチオ、ヘ
キサデシルチオ等)、
A halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom, etc.), an aryloxy group (eg, phenoxy, 1-
Naphthoxy, etc.), a heterocyclic oxy group (eg, pyridyloxy, pyrazolyloxy, etc.), an acyloxy group (eg, acetoxy, benzoyloxy, etc.), an alkoxy group (eg, methoxy, dodecyloxy, etc.), a carbamoyloxy group (eg, N, N-diethylcarbamoyloxy, morpholinocarbonyloxy, etc.), aryloxycarbonyloxy group (eg, phenoxycarbonyloxy, etc.), alkoxycarbonyloxy group (eg,
Methoxycarbonyloxy, ethoxycarbonyloxy, etc.), arylthio groups (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), heterocyclic thio groups (eg, tetrazolylthio, 1,3,4-thiadiazolylthio, 1,3,4-oxadiazoli) Ruthio, benzimidazolylthio, etc.), alkylthio groups (eg, methylthio, octylthio, hexadecylthio, etc.),

【0044】アルキルスルホニルオキシ基(例えば、メ
タンスルホニルオキシ等)、アリールスルホニルオキシ
基(例えば、ベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスル
ホニルオキシ等)、カルボンアミド基(例えば、アセタ
ミド、トリフルオロアセタミド等)、スルホンアミド基
(例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド等)、アルキルスルホニル基(例えば、メタンスル
ホニル等)、アリールスルホニル基(例えば、ベンゼン
スルホニル等)、アルキルスルフィニル基(例えば、メ
タンスルフィニル等)、アリールスルフィニル基(例え
ば、ベンゼンスルフィニル等)、アリールアゾ基(例え
ば、フェニルアゾ、ナフチルアゾ等)、カルバモイルア
ミノ基(例えば、N−メチルカルバモイルアミノ等)等
である。
An alkylsulfonyloxy group (eg, methanesulfonyloxy), an arylsulfonyloxy group (eg, benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy, etc.), a carbonamide group (eg, acetamide, trifluoroacetamide, etc.), sulfonamide Groups (eg, methanesulfonamide, benzenesulfonamide, etc.), alkylsulfonyl groups (eg, methanesulfonyl, etc.), arylsulfonyl groups (eg, benzenesulfonyl, etc.), alkylsulfinyl groups (eg, methanesulfinyl, etc.), arylsulfinyl groups (Eg, benzenesulfinyl); an arylazo group (eg, phenylazo, naphthylazo); a carbamoylamino group (eg, N-methylcarbamoylamino).

【0045】Lは置換基により置換されていても良く、
Lを置換する置換基の例としてはR 21〜R23の置換基で
述べたものが挙げられる。
L may be substituted by a substituent,
Examples of the substituent that substitutes L include R twenty one~ Rtwenty threeWith a substituent of
Those mentioned are mentioned.

【0046】Lは好ましくはハロゲン原子、アリールオ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アリール
オキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基である。
L is preferably a halogen atom, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, an acyloxy group, an aryloxycarbonyloxy group, an alkoxycarbonyloxy group, or a carbamoyloxy group.

【0047】一般式(1) において、Dは熱又は酸により
切断される基であって、アシル基以外の基を表す。具体
的には−CO2-R41基、−C(R43)2−O−R42基、−
C(R43)2−S−R42基、−C(R43)2−N(R42)
2基、−Si(R43)3基、−P(=O)(R44)2基、−P
(=S)(R44)2基、−SO243基、−C(=O)N
(R4 5)2基等を表す。ここでR41基は2級または3級の
アルキル基(例えばt−ブチル、sec-ブチル、1,1,
3,3−テトラメチルブチル、2−フェニル−2−プロ
ピル等)を表す。R42基はアルキル基(例えばメチル、
オクチル、ドデシル、t−ブチル、sec-ブチル等)、ア
リール基(例えばフェニル、ナフチル等)、またはヘテ
ロ環基(例えばピリジル、ピラゾリル等)を表す。R43
はアルキル基またはアリール基を表す(各具体例はR42
で例示したものと同じ)。R44はアルキル基、アリール
基、−OR43基、−N(R43)2基または−SR43基を表
す(各具体例はR42、R43で例示したものと同じ)。R
45は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す(各
具体例はR42で例示したものと同じ)。またこれら
42、R43、R44、R45で表される基が分子内に複数存
在する場合、それらは同じであっても異なっていても良
い。更にR41〜R45で表される基は更に置換基を有して
いても良く、その具体例としてはR21〜R23の置換基と
して挙げたものが挙げられる。Dの具体例を以下に挙げ
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the general formula (1), D is a group that can be cleaved by heat or an acid, and represents a group other than an acyl group. Specifically -CO 2 -R 41 group, -C (R 43) 2 -O -R 42 group, -
C (R 43 ) 2 —S—R 42 group, —C (R 43 ) 2 —N (R 42 )
2 group, -Si (R 43) 3 group, -P (= O) (R 44) 2 group, -P
(= S) (R 44) 2 group, -SO 2 R 43 group, -C (= O) N
(R 4 5) represents a 2 group or the like. Here, the R 41 group is a secondary or tertiary alkyl group (for example, t-butyl, sec-butyl, 1,1,1,2).
3,3-tetramethylbutyl, 2-phenyl-2-propyl, etc.). The R 42 group is an alkyl group (eg, methyl,
Represents an octyl, dodecyl, t-butyl, sec-butyl, etc.), an aryl group (eg, phenyl, naphthyl, etc.), or a heterocyclic group (eg, pyridyl, pyrazolyl, etc.). R 43
Represents an alkyl group or an aryl group (specific examples include R 42
The same as those exemplified above). R 44 is an alkyl group, an aryl group, -OR 43 group, -N (R 43) represents a 2 group or -SR 43 group (the specific examples are the same as those exemplified in R 42, R 43). R
45 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group (the specific examples are the same as those exemplified in R 42). When a plurality of groups represented by R 42 , R 43 , R 44 and R 45 are present in a molecule, they may be the same or different. Further, the groups represented by R 41 to R 45 may further have a substituent, and specific examples thereof include those described as the substituents of R 21 to R 23 . Specific examples of D are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0048】[0048]

【化5】 Embedded image

【0049】[0049]

【化6】 Embedded image

【0050】一般式(1) において、Arはアリール基ま
たは芳香族ヘテロ環基を表す。これらの基は更に置換基
を有していても良く、置換基としては前述のR21〜R23
で挙げたものなどがある。Arがアリール基(例えばフ
ェニル、ナフチル)を表す場合には一般式(1) 中の−N
(D)−基のp−位にアミノ基または水酸基を有してい
ることが好ましい。また、Arが芳香族ヘテロ環基を表
す場合には環の大きさとして3ないし8員環が好まし
く、更に好ましくは5ないし6員環である。その具体例
としては、フラン、ピラン、ピリジン、チオフェン、イ
ミダゾール、キノリン、ベンズイミダゾール、ベンズチ
アゾール、ベンズオキサゾール、ピリミジン、ピラジ
ン、1,2,4−チアジアゾール、ピロール、オキサゾ
ール、チアゾール、キナゾリン、イソチアゾール、ピリ
ダジン、インドール、ピラゾール、トリアゾール、キノ
キサリン、ベンズイソチアゾール等が挙げられる。
In the general formula (1), Ar represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group. These groups may further have a substituent, and examples of the substituent include the aforementioned R 21 to R 23
There are those listed above. When Ar represents an aryl group (for example, phenyl or naphthyl), -N in the general formula (1)
The (D)-group preferably has an amino group or a hydroxyl group at the p-position. When Ar represents an aromatic heterocyclic group, the ring size is preferably a 3- to 8-membered ring, more preferably a 5- or 6-membered ring. Specific examples thereof include furan, pyran, pyridine, thiophene, imidazole, quinoline, benzimidazole, benzothiazole, benzoxazole, pyrimidine, pyrazine, 1,2,4-thiadiazole, pyrrole, oxazole, thiazole, quinazoline, isothiazole, Pyridazine, indole, pyrazole, triazole, quinoxaline, benzisothiazole and the like.

【0051】Arとして好ましくは一般式(1) 中の−N
(D)−基のp−位がアミノ基または水酸基基で置換さ
れたアリール基であり、更に好ましくは一般式(1) 中の
−N(D)−基のp−位がアミノ基または水酸基で置換
されたフェニル基である。また本発明の一般式(1) で表
される化合物は幾つかの分子が結合してオリゴマーまた
はポリマーを形成しても良い。またその際、以下に述べ
る酸発生剤またはその他のモノマーと共重合体を形成し
ても良い。
Ar is preferably —N in the general formula (1).
The p-position of the (D)-group is an aryl group substituted with an amino group or a hydroxyl group, and more preferably the p-position of the -N (D)-group in the general formula (1) is an amino group or a hydroxyl group. Is a phenyl group substituted with In the compound represented by the general formula (1) of the present invention, some molecules may be bonded to form an oligomer or a polymer. At that time, a copolymer may be formed with an acid generator or another monomer described below.

【0052】以下に本発明の一般式(1) で表される化合
物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
Hereinafter, specific examples of the compound represented by the general formula (1) of the present invention will be shown, but the present invention is not limited thereto.

【0053】[0053]

【化7】 Embedded image

【0054】[0054]

【化8】 Embedded image

【0055】[0055]

【化9】 Embedded image

【0056】[0056]

【化10】 Embedded image

【0057】[0057]

【化11】 Embedded image

【0058】[0058]

【化12】 Embedded image

【0059】[0059]

【化13】 Embedded image

【0060】[0060]

【化14】 Embedded image

【0061】[0061]

【化15】 Embedded image

【0062】[0062]

【化16】 Embedded image

【0063】本発明の化合物は種々の方法によって合成
することができる。代表的な合成ルートとしては種々の
ものが考えられるが、以下に示すように、写真業界でい
う2当量カプラーと本発明の一般式(1) 中の置換基Dを
導入した現像主薬を酸化剤の存在下反応させるルートが
多くの場合最も簡便である。
The compounds of the present invention can be synthesized by various methods. Although various synthetic routes can be considered as typical synthetic routes, as shown below, a two-equivalent coupler in the photographic industry and a developing agent having a substituent D in the general formula (1) of the present invention are used as an oxidizing agent. Is the most convenient route in many cases.

【0064】[0064]

【化17】 Embedded image

【0065】以下に本発明の例示化合物の合成例を示
す。 (合成例)例示化合物(1) の合成
The synthesis examples of the exemplified compounds of the present invention are shown below. (Synthesis Example) Synthesis of Exemplified Compound (1)

【0066】[0066]

【化18】 Embedded image

【0067】化合物(1−a)10mmolと化合物(1−
b)10mmolを塩化メチレン50ml中に溶かし、そこに
化合物(1−d)20mmolを加えた。続いて化合物(1
−d)10mmolを加え、室温で2時間攪拌した。その
後、反応液に水100mlと酢酸エチル100mlを加えて
攪拌し、水層を分離した。有機層を更に水と食塩水で洗
浄した後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィーにて精製し(溶出液;ヘキサン/酢酸エチル=1/
2)、例示化合物(1) を38%の収率で得た。
Compound (1-a) (10 mmol) and compound (1-a)
b) 10 mmol was dissolved in 50 ml of methylene chloride, and 20 mmol of the compound (1-d) was added thereto. Subsequently, compound (1)
-D) 10 mmol was added, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Thereafter, 100 ml of water and 100 ml of ethyl acetate were added to the reaction solution and stirred, and the aqueous layer was separated. The organic layer was further washed with water and brine, and then concentrated. The residue was purified by silica gel chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 1 /
2), Exemplified compound (1) was obtained in a yield of 38%.

【0068】本発明の化合物を用いた画像形成法として
は、熱を像様にかける方法がある。加熱方法としては加
熱されたブロックやプレートと接触させる方法、熱ロー
ラーや熱ドラムと接触させる方法、ハロゲンランプや赤
外ないし遠赤外ランプヒーターを照射させる方法、感熱
プリンターの熱ヘッドで画像状に加熱する方法、レーザ
ー光を照射する方法等がある。本発明の記録材料を製版
材料用途のような高い解像度が要求されるものに使用す
る場合にはレーザー光によって走査露光する方式が好ま
しい。より少ない熱エネルギーで画像を形成させるた
め、あらかじめ記録材料を適当な温度に温めておくこと
もできる。
As an image forming method using the compound of the present invention, there is a method of applying heat imagewise. Heating methods include contacting with a heated block or plate, contacting with a heat roller or heat drum, irradiating a halogen lamp or infrared or far-infrared lamp heater, or forming an image with a thermal head of a thermal printer. There are a heating method, a method of irradiating a laser beam, and the like. When the recording material of the present invention is used for a material requiring a high resolution, such as a plate making material, a method of scanning and exposing with a laser beam is preferable. In order to form an image with less heat energy, the recording material can be pre-warmed to an appropriate temperature.

【0069】レーザー光照射により画像を形成する場合
には、レーザー光を熱エネルギーに変換するために、該
レーザー光の波長の光を吸収する色素を存在させる必要
がある。レーザー光源としては、エキシマレーザー、ア
ルゴンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体レー
ザー、ガラス(YAG)レーザー、炭酸ガスレーザー、
色素レーザー等があるが、ヘリウムネオンレーザー、半
導体レーザーおよびガラスレーザーが本発明に有用なレ
ーザー光源である。その中でも装置が小型で安価なこと
から、半導体レーザーが特に有用である。半導体レーザ
ーの発振波長は通常、670〜830nmであり、該近赤
外に吸収を持つ色素が用いられる。近赤外吸収色素とし
ては、シアニン色素、スクアリリウム色素、メロシアニ
ン色素、オキソノール色素、フタロシアニン色素等が用
いられる。その具体例としては、例えば米国特許第4,
973,572号、同第4,948,777号、同第
4,950,640号、同第4,950,639号、同
第4,948,776号、4,948,778号、同第
4,942,141号、同第4,952,552号、同
第5,036,040号および同第4,912,083
号明細書に記載されている物質が挙げられる。
When an image is formed by irradiating a laser beam, a dye that absorbs light of the wavelength of the laser beam must be present in order to convert the laser beam into heat energy. Excimer laser, argon laser, helium neon laser, semiconductor laser, glass (YAG) laser, carbon dioxide laser,
Although there is a dye laser and the like, a helium neon laser, a semiconductor laser and a glass laser are laser light sources useful in the present invention. Among them, a semiconductor laser is particularly useful because the device is small and inexpensive. The oscillation wavelength of a semiconductor laser is usually 670 to 830 nm, and a dye having absorption in the near infrared is used. As the near-infrared absorbing dye, a cyanine dye, a squarylium dye, a merocyanine dye, an oxonol dye, a phthalocyanine dye, and the like are used. As a specific example, for example, US Pat.
No. 973,572, No. 4,948,777, No. 4,950,640, No. 4,950,639, No. 4,948,776, No. 4,948,778, No. No. 4,942,141, No. 4,952,552, No. 5,036,040 and No. 4,912,083
And the like.

【0070】光によって酸を発生する化合物を使用する
場合には、該光酸発生剤の吸収特性に合わせてレーザー
が選択される。この際分光増感を目的として種々の色素
を添加しても良いがその際は色素の吸収波長に合わせて
レーザーを選択する必要がある。また本発明の化合物は
酸との反応によっても発色する。その際の画像形成方法
としては酸を光または熱により像様に発生させて画像を
形成させる方法等が挙げられる。このような酸発生法な
らびに酸発生剤としては有機エレクトロニクス材料研究
会編「イメージング用有機材料」(ぶんしん出版、19
93年)や特開平4−212962号等に記載されてい
る種々のものを用いることができる。
When a compound that generates an acid by light is used, a laser is selected according to the absorption characteristics of the photoacid generator. At this time, various dyes may be added for the purpose of spectral sensitization, but in that case, it is necessary to select a laser according to the absorption wavelength of the dye. The compounds of the present invention also develop color upon reaction with an acid. Examples of the image forming method at that time include a method in which an acid is generated imagewise by light or heat to form an image. As such an acid generating method and an acid generating agent, “Organic Materials for Imaging” edited by Organic Electronics Materials Research Group (Bunshin Publishing, 19
1993) and JP-A-4-212962.

【0071】オニウム塩型として具体的には、ホスホニ
ウム塩、スルホニウム塩(例えば、トリフェニルスルホ
ニウムクロライド、トリフェニルスルホニウムブロマイ
ド、トリフェニルスルホニウムアイオダイド、トリフェ
ニルスルホニウムテトラフルオロボレート、ジフェニル
(4−クロロフェニル)スルホニウムテトラフルオロボ
レート、ジフェニルトリルスルホニウムテトラフルオロ
ボレート、トリス(4−メトキシフェニル)ヘキサフル
オロアンチモネート)、ヨードニウム塩(例えば、ジフ
ェニルヨードニウムテトラフルオロボレート、(4−オ
クチルオキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフ
ルオロホスフェート、(4−オクチルオキシフェニル)
フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス(N−ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサフル
オロアンチモネート)、等が挙げられる。オニウム塩以
外の具体例については上記参考文献に記載されているも
の等が挙げられる。
Specific examples of the onium salt type include phosphonium salts and sulfonium salts (for example, triphenylsulfonium chloride, triphenylsulfonium bromide, triphenylsulfonium iodide, triphenylsulfonium tetrafluoroborate, diphenyl (4-chlorophenyl) sulfonium Tetrafluoroborate, diphenyltolylsulfonium tetrafluoroborate, tris (4-methoxyphenyl) hexafluoroantimonate, iodonium salt (for example, diphenyliodonium tetrafluoroborate, (4-octyloxyphenyl) phenyliodonium hexafluorophosphate, (4 -Octyloxyphenyl)
Phenyliodonium hexafluoroantimonate,
Bis (N-dodecylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate), and the like. Specific examples other than the onium salts include those described in the above-mentioned references.

【0072】またその他の酸発生剤としては、Journal
of American Chemical Society、120 巻、37頁(1998
年) に記載の化合物や、WO94-10607号に記載の方法等も
用いることができる。これらに属する化合物の具体例を
以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
Other acid generators include Journal
of American Chemical Society, Volume 120, p. 37 (1998
), The method described in WO94-10607, and the like. Specific examples of the compounds belonging to these are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0073】[0073]

【化19】 Embedded image

【0074】[0074]

【化20】 Embedded image

【0075】[0075]

【化21】 Embedded image

【0076】[0076]

【化22】 Embedded image

【0077】[0077]

【化23】 Embedded image

【0078】[0078]

【化24】 Embedded image

【0079】また光酸発生剤の場合、感光域を広げる目
的で種々の増感剤(J.Polymer,Sci.,16, 2441(1978 年)
を用いることができる。
In the case of a photoacid generator, various sensitizers (J. Polymer, Sci., 16, 2441 (1978)
Can be used.

【0080】本発明では、該画像記録媒体の保存安定性
を高める目的で少量の塩基を添加したり、感度を高める
目的で光または熱の作用によって酸を発生する化合物を
別途添加したり、必要に応じて顔料、酸化防止剤、ステ
ィッキング防止剤等種々の添加剤を添加することもでき
る。また、画像記録層を保護するためにオーバーコート
層を設けたり、支持体の裏面にバックコート層を設けて
も良い。なお、画像記録層と支持体との間に単層あるい
は複数層の顔料あるいは樹脂からなるアンダーコート層
を設けるなど、感熱記録材料における種々の公知技術を
用いることもできる。
In the present invention, a small amount of a base is added for the purpose of enhancing the storage stability of the image recording medium, and a compound capable of generating an acid by the action of light or heat is separately added for the purpose of enhancing the sensitivity. Various additives such as a pigment, an antioxidant, and an anti-sticking agent can be added according to the requirements. Further, an overcoat layer may be provided to protect the image recording layer, or a backcoat layer may be provided on the back surface of the support. Various known techniques for heat-sensitive recording materials can be used, such as providing a single layer or a plurality of undercoat layers made of pigment or resin between the image recording layer and the support.

【0081】塩基を添加する場合には有機塩基が好まし
く、例えばグアニジン誘導体(例えば1,3−ジフェニ
ルグアニジン、1,3−ジメチルグアニジン、1,3−
ジブチルグアニジン、1−ベンジルグアニジン、1,
1,3,3−テトラメチルグアニジン等)、アニリン誘
導体(例えばアニリン、p−t−ブチルアニリン、N,
N′−ジメチルアニリン、N,N′−ジブチルアニリ
ン、トリフェニルアミン等)、アルキルアミン誘導体
(例えばトリブチルアミン、オクチルアミン、ラウリル
アミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミン等)、およ
びヘテロ環化合物(例えばN,N′−ジメチルアミノピ
リジン、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕−7−
ウンデセン、トリフェニルイミダゾール、ルチジン、2
−ピコリン等)が好ましい例として挙げられる。これら
の塩基は一般式(1) のAで表される組成に対して1〜5
0mol%添加することが好ましく、特に好ましくは5〜2
0mol%添加する場合である。
When a base is added, an organic base is preferable. For example, guanidine derivatives (for example, 1,3-diphenylguanidine, 1,3-dimethylguanidine, 1,3-
Dibutylguanidine, 1-benzylguanidine, 1,
1,3,3-tetramethylguanidine, etc.), aniline derivatives (eg, aniline, pt-butylaniline, N,
N′-dimethylaniline, N, N′-dibutylaniline, triphenylamine, etc.), alkylamine derivatives (eg, tributylamine, octylamine, laurylamine, benzylamine, dibenzylamine, etc.), and heterocyclic compounds (eg, N , N'-dimethylaminopyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-
Undecene, triphenylimidazole, lutidine, 2
-Picoline and the like) are preferred examples. These bases are 1 to 5 based on the composition represented by A in the general formula (1).
It is preferable to add 0 mol%, particularly preferably 5 to 2
This is the case where 0 mol% is added.

【0082】顔料を添加する場合には、ケイソウ土、タ
ルク、カオリン、焼成カオリン、酸化チタン、酸化ケイ
素、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミ
ニウム、尿素−ホルマリン樹脂等が例として挙げられ
る。
When a pigment is added, examples include diatomaceous earth, talc, kaolin, calcined kaolin, titanium oxide, silicon oxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and urea-formalin resin.

【0083】その他の添加剤としては、ベンゾフェノン
系、ベンゾトリアゾール系等の紫外線吸収剤、ステアリ
ン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属
塩からなるヘッド摩耗およびスティッキング防止剤、パ
ラフィン、酸化パラフィン、ポリエチレン、酸化ポリエ
チレン、カスターワックス等のワックス類等が挙げられ
必要に応じて添加することができる。
Other additives include UV absorbers such as benzophenone type and benzotriazole type, head wear and sticking preventives comprising higher fatty acid metal salts such as zinc stearate and calcium stearate, paraffin, paraffin oxide, polyethylene, Waxes, such as polyethylene oxide and caster wax, are mentioned, and can be added as needed.

【0084】本発明の画像記録媒体に用いられる支持体
としては、上質紙、バライタ紙、コート紙、キャストコ
ート紙、合成紙等の紙類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,
6−ナフチレンジカルボキシレート、ポリアリーレン、
ポリイミド、ポリカーボネート、トリアセチルセルロー
ス等のポリマーフィルム、ガラス、金属箔、不織布等を
挙げることができる。本発明の画像記録媒体を利用して
透過型の画像、例えばOHP用フィルムや製版用フィル
ム等の用途に供する場合には、透明な支持体が用いられ
る。また、製版フィルム用には、熱膨張率が小さく寸度
安定性が良好で、かつ、PS版の感光域に吸収を持たな
い支持体が選ばれる。
As the support used in the image recording medium of the present invention, papers such as high quality paper, baryta paper, coated paper, cast coated paper, synthetic paper, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,
6-naphthylene dicarboxylate, polyarylene,
Examples thereof include polymer films such as polyimide, polycarbonate, and triacetyl cellulose, glass, metal foil, and nonwoven fabric. In the case where the image recording medium of the present invention is used for a transmission type image such as an OHP film or a plate making film, a transparent support is used. For a plate making film, a support having a small coefficient of thermal expansion and good dimensional stability and having no absorption in the photosensitive region of the PS plate is selected.

【0085】[0085]

【実施例】以下に実施例を掲げ、本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto.

【0086】実施例1 〈試料の作成〉本発明の化合物2mmolとポリスチレン
(和光純薬製ポリスチレンビーズ、直径約3.2mm、平
均3000量体)0.85gをクロロホルムに溶解し、
厚み100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に2mmol/m2になるように塗布、乾燥して透明な記録
シート(試料101)を作成した。同様にして試料10
2〜105を作成した。また比較サンプルとして参考試
料106を同様に塗布したフィルムを作成した。
Example 1 <Preparation of Sample> 2 mmol of the compound of the present invention and 0.85 g of polystyrene (polystyrene beads manufactured by Wako Pure Chemical Industries, diameter: about 3.2 mm, average 3000-mer) were dissolved in chloroform.
A transparent recording sheet (sample 101) was prepared by applying the composition on a 100 μm-thick polyethylene terephthalate film at a rate of 2 mmol / m 2 and drying. Similarly, sample 10
2-105 were created. As a comparative sample, a film coated with Reference Sample 106 in the same manner was prepared.

【0087】[0087]

【化25】 Embedded image

【0088】〈熱現像〉上記フィルムをガラス板にはさ
み、ヒートブロック上、200℃で15秒加熱すること
により行った。発色率は、別途同じ塗布量を塗布した色
素濃度から算出した。
<Heat Development> The film was sandwiched between glass plates and heated on a heat block at 200 ° C. for 15 seconds. The color development rate was calculated from the dye concentration when the same coating amount was separately applied.

【0089】〈保存性の評価〉未現像のフィルムを60
℃/湿度70%の条件で7日間強制サーモを行い、発色
した濃度から分解率を算出することで保存性の評価を行
った。結果を表1に示した。表1より明らかなように、
本発明の化合物は発色性と保存性の点で両立が図れてお
り、本発明の有用性は明らかであった。
<Evaluation of Storage Property>
The storage stability was evaluated by performing forced thermolysis for 7 days at 70 ° C./humidity and calculating the decomposition rate from the color density. The results are shown in Table 1. As is clear from Table 1,
The compounds of the present invention are compatible with each other in terms of color development and storage stability, and the usefulness of the present invention was apparent.

【0090】[0090]

【表1】 [Table 1]

【0091】実施例2 〈試料の作成〉本発明の化合物2mmolとポリスチレン
(和光純薬製ポリスチレンビーズ、直径約3.2mm、平
均3000量体)0.85g、赤外線吸収色素(IR−
1)35mgをクロロホルムに溶解し、厚み100μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に2mmol/m2
なるように塗布、乾燥して透明な記録シート(試料20
1)を作成した。同様にして試料202〜203を作成
した。
Example 2 <Preparation of Sample> 2 mmol of the compound of the present invention, 0.85 g of polystyrene (polystyrene beads manufactured by Wako Pure Chemical Industries, diameter: about 3.2 mm, average 3000-mer), infrared absorbing dye (IR-
1) 35 mg was dissolved in chloroform, coated on a 100 μm-thick polyethylene terephthalate film at 2 mmol / m 2 , dried and dried to form a transparent recording sheet (sample 20).
1) was created. Samples 202 to 203 were prepared in the same manner.

【0092】[0092]

【化26】 Embedded image

【0093】〈レーザーによる画像形成〉 (画像記録のためのレーザー露光条件)Spectra Diode
Labs No.SDL-2430(波長範囲:800〜830nm)を8
本合波して、400mWの出力にして、画像書き込み用レ
ーザーとした。このレーザーを用いて、ビーム系160
μm、レーザー走査スピードを0.5m/秒(走査中央
部)、試料送りスピードを15mm/秒、走査ピッチ8本
/mmに設定し、あらかじめ120℃に加熱した試料に2
2mm×9mmの画像となるような露光を行った。この時の
試料上のレーザーエネルギー密度は5mJ/mm2 であっ
た。発色率は別途同じ塗布量を塗布したフィルムの色素
濃度から算出した。結果表2に示す。
<Image formation by laser> (Laser exposure conditions for image recording) Spectra Diode
Labs No.SDL-2430 (wavelength range: 800-830nm)
This multiplexing was performed to obtain an output of 400 mW to obtain an image writing laser. Using this laser, beam system 160
μm, laser scanning speed 0.5 m / sec (center of scanning), sample feed speed 15 mm / sec, scanning pitch 8 lines / mm.
Exposure was performed so that an image of 2 mm × 9 mm was obtained. At this time, the laser energy density on the sample was 5 mJ / mm 2 . The color development rate was calculated from the dye concentration of a film separately coated with the same coating amount. The results are shown in Table 2.

【0094】[0094]

【表2】 [Table 2]

【0095】表2より明らかなように、本発明の化合物
はレーザーを用いた発色系においても良好な発色性を示
すことが分かる。
As is evident from Table 2, the compounds of the present invention show good coloring properties even in a coloring system using a laser.

【0096】実施例3 〈試料の作成〉本発明の化合物2mmolとポリスチレン
(和光純薬製ポリスチレンビーズ、直径約3.2mm、平
均3000量体)0.85g、例示化合物A−(4) 4mm
olをクロロホルムに溶解し、厚み100μmのポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に2mmol/m2になるよう
に塗布、乾燥して、透明な記録シート(試料301)を
作成した。同様にして試料302〜303を作成した。 〈熱現像〉上記フィルムをガラス板にはさみ、ヒートブ
ロック上、180℃で15秒加熱することにより行っ
た。発色率は、フィルムから内容物を抽出し、生成色素
量を定量することにより行った。結果を表3に示す。
Example 3 <Preparation of sample> 2 mmol of the compound of the present invention, 0.85 g of polystyrene (polystyrene beads, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, diameter: about 3.2 mm, average 3000-mer), 4 mm of exemplified compound A- (4)
ol was dissolved in chloroform, applied to a 100 μm-thick polyethylene terephthalate film at a concentration of 2 mmol / m 2 , and dried to prepare a transparent recording sheet (sample 301). Samples 302 to 303 were prepared in the same manner. <Heat development> The film was sandwiched between glass plates and heated on a heat block at 180 ° C for 15 seconds. The color development rate was determined by extracting the contents from the film and quantifying the amount of the formed pigment. Table 3 shows the results.

【0097】[0097]

【表3】 [Table 3]

【0098】表3より明らかなように、酸発生剤を共存
させることにより実施例1に比べて低い温度でも同等の
発色が可能となっていることがわかる。
As is evident from Table 3, the presence of the acid generator makes it possible to produce the same color even at a lower temperature than in Example 1.

【0099】[0099]

【発明の効果】本発明の画像記録材料によれば、形成さ
れた色画像の保存時における色変化が大きく改良され
る。また、本発明によれば、発色剤の保存性と発色性と
の両立が改良される。
According to the image recording material of the present invention, the color change during storage of the formed color image is greatly improved. Further, according to the present invention, compatibility between the storage stability of the color former and the color developability is improved.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1) で表される化合物を含有
することを特徴とする画像記録材料。 【化1】 (式(1) 中、Arはアリール基または芳香族ヘテロ環基
を表す。Dは熱または酸により離脱するアシル基以外の
基を表す。LはDがはずれた後に離脱する基を表す。R
1 とR2 およびCは一緒になって色素形成カプラー残基
を表し、Cはカップリング炭素を表す。R1 とR2 は結
合して環を形成しても良い。)
1. An image recording material comprising a compound represented by the following general formula (1). Embedded image (In the formula (1), Ar represents an aryl group or an aromatic heterocyclic group. D represents a group other than an acyl group which is released by heat or an acid. L represents a group which is released after D is removed. R
1 and R 2 and C together represent a dye-forming coupler residue, and C represents a coupling carbon. R 1 and R 2 may combine to form a ring. )
【請求項2】 一般式(1) において、R1 とR2 が結合
して環を形成していることを特徴とする請求項1記載の
画像記録材料。
2. The image recording material according to claim 1 , wherein, in the general formula (1), R 1 and R 2 are combined to form a ring.
【請求項3】 請求項1記載の一般式(1) で表される化
合物を含有する画像記録材料を像様に加熱することによ
り画像形成させることを特徴とする画像形成方法。
3. An image forming method, wherein an image is formed by heating an image recording material containing the compound represented by the general formula (1) according to claim 1 in an imagewise manner.
【請求項4】 レーザーの光を吸収する化合物と一般式
(1) で表される化合物を含有し、該レーザーを照射する
ことにより像様に加熱することを特徴とする請求項3記
載の画像形成方法。
4. A compound absorbing a laser beam and a compound represented by the general formula:
4. The image forming method according to claim 3, wherein the image is heated by irradiating the laser with the compound represented by the formula (1).
【請求項5】 光または熱により酸を発生する化合物と
請求項1記載の一般式(1) で表される化合物を含有する
ことを特徴とする画像記録材料。
5. An image recording material comprising a compound capable of generating an acid by light or heat and a compound represented by the general formula (1) according to claim 1.
【請求項6】 光により酸を発生する化合物と請求項1
記載の一般式(1) で表される化合物を含有する記録材料
にレーザーを照射することにより画像形成することを特
徴とする画像形成方法。
6. A compound capable of generating an acid by light and a compound according to claim 1.
An image forming method, comprising irradiating a recording material containing the compound represented by the above general formula (1) with a laser to form an image.
【請求項7】 熱により酸を発生する化合物と請求項1
記載の一般式(1) で表される化合物を含有する記録材料
を加熱することにより画像形成することを特徴とする画
像形成方法。
7. A compound capable of generating an acid by heat and a compound according to claim 1.
An image forming method, wherein an image is formed by heating a recording material containing the compound represented by the general formula (1) described above.
【請求項8】 レーザーの光を吸収する化合物と熱によ
り酸を発生する化合物と一般式(1) で表される化合物を
含有し、該レーザーを照射することにより像様に加熱す
ることを特徴とする請求項7記載の画像形成方法。
8. A composition comprising a compound that absorbs laser light, a compound that generates an acid by heat, and a compound represented by the general formula (1), and is heated imagewise by irradiating the laser. The image forming method according to claim 7, wherein
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075002A (en) * 2006-09-22 2008-04-03 Fujifilm Corp Near infrared absorbing material and near infrared absorption filter
JP2008075016A (en) * 2006-09-22 2008-04-03 Fujifilm Corp Near infrared absorbing material and near infrared absorption filter

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