JP2000099994A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JP2000099994A
JP2000099994A JP10265277A JP26527798A JP2000099994A JP 2000099994 A JP2000099994 A JP 2000099994A JP 10265277 A JP10265277 A JP 10265277A JP 26527798 A JP26527798 A JP 26527798A JP 2000099994 A JP2000099994 A JP 2000099994A
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layer
magneto
dielectric layer
recording layer
optical
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JP10265277A
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Japanese (ja)
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Kazutomo Miyata
一智 宮田
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Sony Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable to suppress corrosion and to improve durability by forming plural layers including a signal recording layer deposited within a vacuum chamber on a substrate and forming at least one layer formed on the layer upper than the signal recording layer among the plural layers so as to cover at least the signal recording layer. SOLUTION: A magneto-optical disk 1 is so formed that the second dielectric layer 6 is formed to cover the magneto-optical recording layer 5, that the deposition area of the second dielectric layer 6 is larger than the deposition area of the magneto-optical recording layer 5 and that the outer edge of the second dielectric layer 6 overhangs to the side outer than the outer edge of the magneto-optical recording layer 5. The occurrence of the corrosion in consequence of the oxidation, etc., of the magneto-optical recording layer 5 may be suppressed and the durability improved by forming the second dielectric layer in such a manner. In addition, the second dielectric layer 6 is preferably formed so as to cover the thermal diffusion layer 3 and the first dielectric layer 4. The occurrence of the corrosion is further suppressed and the durability is improved by forming the magneto-optical disk in the manner described above.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光を使用して情報
信号の再生又は記録再生が行われる光学記録媒体に関す
る。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to an optical recording medium for reproducing or recording / reproducing an information signal using light.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、光磁気ディスクや相変化型光
ディスク等のように、基板上に信号記録層や誘電体層等
が積層された積層膜が形成されてなり、信号記録層に光
が照射されることにより情報信号の読み出しや書き込み
が行われる光学記録媒体が普及している。
2. Description of the Related Art Conventionally, a laminated film in which a signal recording layer, a dielectric layer, and the like are laminated on a substrate, such as a magneto-optical disk and a phase change optical disk, is formed. 2. Description of the Related Art Optical recording media on which information signals are read or written by irradiation are widely used.

【0003】これらの光学記録媒体においては、できる
だけ多くの情報を記録可能とすべく、記録密度の高密度
化が盛んに行われている。
[0003] In these optical recording media, recording densities have been actively increased in order to record as much information as possible.

【0004】このような光学記録媒体の高密度記録化に
伴って、光学記録媒体に対して情報信号の読み出しや書
き込みを行う光学ヘッドに対しても、信号記録層に照射
する光のスポット径を小さくすべく種々の検討が行われ
ている。
With the increase in the recording density of the optical recording medium, the spot diameter of light applied to the signal recording layer is also reduced for an optical head that reads and writes information signals from and to the optical recording medium. Various studies have been made to reduce the size.

【0005】特に、近年では、ハードディスク装置等に
おける浮上型磁気ヘッドの技術を応用し、対物レンズを
スライダに搭載して浮上型光学ヘッドを構成し、この浮
上型光学ヘッドを光学記録媒体の基板上に形成された積
層膜と対向するように浮上させて、光学記録媒体に対し
て、積層膜が形成された側から情報信号の読み出しや書
き込みを行う試みがなされている。
In particular, in recent years, the technology of a floating magnetic head in a hard disk drive or the like has been applied to form a floating optical head by mounting an objective lens on a slider, and the floating optical head is mounted on a substrate of an optical recording medium. Attempts have been made to read and write information signals from the side where the laminated film is formed on the optical recording medium by floating so as to face the laminated film formed on the optical recording medium.

【0006】このように、浮上型光学ヘッドを光学記録
媒体の基板上に形成された積層膜と対向するように浮上
させて情報信号の読み出しや書き込みを行うことによ
り、対物レンズと光学記録媒体の信号記録層との距離
を、光学ヘッドからの光を基板を介して信号記録層に照
射させる場合に比べて大幅に短くすることが可能とな
る。これにより、対物レンズの高NA化を図ることが可
能となり、信号記録層に照射される光のスポット径を小
さくすることができる。
[0006] As described above, the floating optical head is floated so as to face the laminated film formed on the substrate of the optical recording medium to read and write information signals. The distance from the signal recording layer can be significantly shortened as compared with the case where light from the optical head is applied to the signal recording layer via the substrate. Accordingly, it is possible to increase the NA of the objective lens, and it is possible to reduce the spot diameter of light applied to the signal recording layer.

【0007】以上のように浮上型光学ヘッドを光学記録
媒体の基板上に形成された積層膜と対向するように浮上
させて情報信号の読み出しや書き込みを行うようにした
場合、光学ヘッドからの光は積層膜側から照射されるこ
とになるので、このタイプの光学記録媒体においては、
基板上に形成される積層膜の形成順序が、基板を介して
光が照射されるタイプの光学記録媒体と逆の順序とされ
ている。
As described above, when the flying optical head is floated so as to face the laminated film formed on the substrate of the optical recording medium to read or write information signals, the light from the optical head is Is irradiated from the laminated film side, so in this type of optical recording medium,
The order of forming the laminated film formed on the substrate is reverse to that of the optical recording medium of the type irradiated with light through the substrate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、基板を介し
て光が照射されるタイプの光学記録媒体においては、基
板上に形成された信号記録層を含む積層膜は、この積層
膜上に形成された紫外線硬化樹脂膜等の保護コート膜に
より被覆されている。
By the way, in an optical recording medium of a type irradiated with light through a substrate, a laminated film including a signal recording layer formed on the substrate is formed on the laminated film. It is covered with a protective coating film such as an ultraviolet curable resin film.

【0009】しかしながら、積層膜側から光が照射され
るタイプの光学記録媒体においては、このような保護コ
ート膜の形成が困難である。すなわち、このタイプの光
学記録媒体においては、光学記録媒体に照射する光のス
ポット径を小さくすべく、浮上型光学ヘッドが積層膜の
信号記録層から非常に近い位置で信号記録層に光を照射
するようにしているので、信号記録層上に誘電体層を形
成し、さらにその上に保護コート膜を形成しようとする
と、光学記録媒体の表面と浮上型光学ヘッドとの間の距
離(ワーキングディスタンス)が狭くなりすぎて、光学
記録媒体と浮上型光学ヘッドとが衝突してしまう場合が
ある。
However, it is difficult to form such a protective coating film on an optical recording medium of the type in which light is irradiated from the side of the laminated film. In other words, in this type of optical recording medium, the floating optical head irradiates the signal recording layer with light at a position very close to the signal recording layer of the laminated film in order to reduce the spot diameter of the light applied to the optical recording medium. Therefore, if a dielectric layer is formed on the signal recording layer and a protective coating film is to be formed thereon, the distance between the surface of the optical recording medium and the floating optical head (working distance) ) Becomes too narrow, and the optical recording medium may collide with the flying optical head.

【0010】このため、このタイプの光学記録媒体にお
いては、保護コート膜の形成が困難で、基板上に形成さ
れた信号記録膜等の酸化により腐食が生じやすいという
問題がある。
For this reason, in this type of optical recording medium, it is difficult to form a protective coating film, and there is a problem that corrosion is easily caused by oxidation of a signal recording film and the like formed on a substrate.

【0011】そこで、本発明は、信号記録層に近い位置
にある光学ヘッドにより情報信号の読み出しや書き込み
が行われる光学記録媒体において、腐食の発生を抑制
し、耐久性に富む光学記録媒体を提供することを目的と
する。
Therefore, the present invention provides an optical recording medium in which information signals are read or written by an optical head located near a signal recording layer, which suppresses corrosion and has high durability. The purpose is to do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明に係る光学記録媒
体は、上記課題を解決すべく創案されたものであって、
信号記録層に光を照射して情報信号の再生又は記録再生
が行われる光学記録媒体において、基板上に真空チャン
バ内で成膜された信号記録層を含む複数の層が形成され
てなり、これら複数の層のうち信号記録層よりも上層に
形成された少なくとも一つの層が、少なくとも信号記録
層を覆うように形成されていることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An optical recording medium according to the present invention has been developed to solve the above-mentioned problems.
In an optical recording medium in which a signal recording layer is irradiated with light to reproduce or record / reproduce an information signal, a plurality of layers including a signal recording layer formed in a vacuum chamber on a substrate are formed. At least one layer formed above the signal recording layer among the plurality of layers is formed so as to cover at least the signal recording layer.

【0013】この光学記録媒体によれば、少なくとも信
号記録層が当該信号記録層よりも上層に形成された他の
層により覆われているので、信号記録層の酸化等に起因
する腐食を低減することが可能となる。
According to this optical recording medium, since at least the signal recording layer is covered by another layer formed above the signal recording layer, corrosion caused by oxidation of the signal recording layer is reduced. It becomes possible.

【0014】一般に、信号記録層は材料の選択の余地が
少なく、腐食に強い材料を用いることが困難である。こ
れに対して、例えば信号記録層上に形成される誘電体層
等は比較的材料の選択の余地が多いので、この誘電体層
等のように信号記録層よりも上層に形成された層に腐食
に強い材料を用い、これにより信号記録層を覆うように
すれば、信号記録層の酸化等に起因する腐食を低減する
ことができる。
In general, there is little room for selecting a material for the signal recording layer, and it is difficult to use a material that is resistant to corrosion. On the other hand, for example, a dielectric layer formed on the signal recording layer has a relatively large amount of room for selection of a material, so that a layer formed above the signal recording layer, such as the dielectric layer, may be used. If a material that is resistant to corrosion is used to cover the signal recording layer, corrosion due to oxidation or the like of the signal recording layer can be reduced.

【0015】具体的には、基板上に少なくとも熱拡散
層、第1の誘電体層、信号記録層、第2の誘電体層がこ
の順で形成されてなる光学記録媒体においては、信号記
録層よりも上層に形成されている第2の誘電体層によ
り、少なくとも信号記録層が覆われるようにする。
Specifically, in an optical recording medium in which at least a heat diffusion layer, a first dielectric layer, a signal recording layer, and a second dielectric layer are formed in this order on a substrate, the signal recording layer At least the signal recording layer is covered by the second dielectric layer formed above the second dielectric layer.

【0016】また、この場合、第2の誘電体層は、信号
記録層の他に熱拡散層や第1の誘電体層も覆うように形
成されていることが望ましい。このように、第2の誘電
体層が、熱拡散層や第1の誘電体層も覆うようにすれ
ば、これら熱拡散層や第1の誘電体層の酸化等に起因す
る腐食も抑制することが可能となり、耐久性をより向上
させることができる。
In this case, it is desirable that the second dielectric layer is formed so as to cover not only the signal recording layer but also the heat diffusion layer and the first dielectric layer. As described above, if the second dielectric layer covers the thermal diffusion layer and the first dielectric layer, corrosion caused by oxidation of the thermal diffusion layer and the first dielectric layer is also suppressed. And durability can be further improved.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る実施の形態を
図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0018】ここでは、樹脂材料がディスク状に成形さ
れてなるディスク基板上に、光磁気記録層を含む複数の
層が形成されてなる光磁気ディスクに本発明を適用した
例について説明する。なお、本発明は、この例に限定さ
れるものではなく、例えば、信号記録層の相変化を利用
して信号の記録再生を行う相変化型光ディスク等、記録
方式等の異なる他の光学記録媒体に適用することも可能
である。
Here, an example in which the present invention is applied to a magneto-optical disk in which a plurality of layers including a magneto-optical recording layer are formed on a disk substrate formed by molding a resin material into a disk shape will be described. Note that the present invention is not limited to this example. For example, a phase change type optical disk that performs recording and reproduction of a signal using a phase change of a signal recording layer, and other optical recording media having different recording methods and the like. It is also possible to apply to.

【0019】本発明を適用した光磁気ディスクは、例え
ば浮上型光学ヘッドのように、信号記録層に近い位置に
ある光学ヘッドにより、信号記録層側(ディスク基板と
は逆側)から光が照射されることにより情報信号の読み
出しや書き込みが行われるタイプの光磁気ディスクであ
る。
The magneto-optical disk to which the present invention is applied is irradiated with light from the signal recording layer side (the side opposite to the disk substrate) by an optical head close to the signal recording layer, for example, a floating optical head. This is a type of magneto-optical disk in which reading and writing of information signals are carried out.

【0020】この光磁気ディスク1は、図1に示すよう
に、ディスク基板2上に、熱拡散層3と、第1の誘電体
層4と、光磁気記録層5と、第2の誘電体層6とがこの
順で順次積層されてなる。
As shown in FIG. 1, the magneto-optical disk 1 includes a heat diffusion layer 3, a first dielectric layer 4, a magneto-optical recording layer 5, and a second dielectric The layers 6 are sequentially laminated in this order.

【0021】ディスク基板2は、例えばポリカーボネイ
ト(PC)等の樹脂材料が射出成形等によりディスク状
に成形されてなる。
The disk substrate 2 is formed by molding a resin material such as polycarbonate (PC) into a disk shape by injection molding or the like.

【0022】熱拡散層3は、光磁気記録層5に照射され
た光による熱を拡散するとともに、その光の反射率を向
上させて、光磁気記録層5の記録特性を良好なものとす
るためのものであり、例えば、Al膜等が40nm程度
の膜厚でディスク基板2上に成膜されてなる。なお、デ
ィスク基板2と熱拡散層3との間は、ディスク基板2上
に形成される各層の下地となる下地膜を成膜し、この下
地膜上に熱拡散層3を成膜するようにしてもよい。
The thermal diffusion layer 3 diffuses heat due to the light applied to the magneto-optical recording layer 5 and improves the reflectivity of the light to improve the recording characteristics of the magneto-optical recording layer 5. For example, an Al film or the like is formed on the disk substrate 2 with a thickness of about 40 nm. In addition, between the disk substrate 2 and the heat diffusion layer 3, a base film serving as a base of each layer formed on the disk substrate 2 is formed, and the heat diffusion layer 3 is formed on the base film. You may.

【0023】第1の誘電体層4は、光磁気ディスク1の
光学的な効率の向上を図るためのものであり、例えば、
SiN膜等が20nm程度の膜厚で熱拡散層3上に成膜
されてなる。
The first dielectric layer 4 is for improving the optical efficiency of the magneto-optical disk 1, and includes, for example,
An SiN film or the like is formed on the thermal diffusion layer 3 with a thickness of about 20 nm.

【0024】光磁気記録層5は、光磁気効果を発揮する
層であり、例えば、希土類としてTb、遷移金属として
Fe、Coを用いたTbFeCo膜等が23nm程度の
膜厚で第1の誘電体層4上に成膜されてなる。
The magneto-optical recording layer 5 is a layer that exhibits a magneto-optical effect. For example, a TbFeCo film using Tb as a rare earth element, Fe or Co as a transition metal, or the like is formed of a first dielectric material having a thickness of about 23 nm. It is formed on the layer 4.

【0025】第2の誘電体層6は、第1の誘電体層4と
同様に、光磁気ディスク1の光学的な効率の向上を図る
ためのものであり、例えば、SiN膜等が80nm程度
の膜厚で光磁気記録層5上に成膜されてなる。
The second dielectric layer 6, like the first dielectric layer 4, is used to improve the optical efficiency of the magneto-optical disk 1. For example, the SiN film or the like has a thickness of about 80 nm. It is formed on the magneto-optical recording layer 5 with a thickness of

【0026】そして、本実施の形態の光磁気ディスク1
においては、図2に示すように、この第2の誘電体層6
が、少なくとも光磁気記録層5を覆うように形成されて
いることを特徴としている。すなわち、本実施の形態の
光磁気ディスク1においては、第2の誘電体層6の成膜
面積の方が光磁気記録層5の成膜面積よりも大きく、第
2の誘電体層6の外縁が光磁気記録層5の外縁よりも外
側に張り出すように形成されている。
The magneto-optical disk 1 of the present embodiment
In this case, as shown in FIG.
Are formed so as to cover at least the magneto-optical recording layer 5. That is, in the magneto-optical disk 1 according to the present embodiment, the film formation area of the second dielectric layer 6 is larger than the film formation area of the magneto-optical recording layer 5, and the outer edge of the second dielectric layer 6 Are formed so as to protrude outside the outer edge of the magneto-optical recording layer 5.

【0027】光磁気ディスク1は、このように第2の誘
電体層6が光磁気記録層5を覆うように形成されている
ことにより、光磁気記録層5の酸化等に起因する腐食の
発生を抑制して、耐久性を向上させることができる。
In the magneto-optical disk 1, since the second dielectric layer 6 is formed so as to cover the magneto-optical recording layer 5, corrosion of the magneto-optical recording layer 5 due to oxidation of the magneto-optical recording layer 5 occurs. And the durability can be improved.

【0028】なお、この光磁気ディスク1においては、
図2に示すように、第2の誘電体層6が熱拡散層3及び
第1の誘電体層4をも覆うように形成されていることが
望ましい。光磁気ディスク1は、このように、第2の誘
電体層6が、光磁気記録層5だけでなく熱拡散層3や第
1の誘電体層4をも覆うように形成されることにより、
腐食の発生を更に抑制して、耐久性をより向上させるこ
とができる。
Incidentally, in this magneto-optical disk 1,
As shown in FIG. 2, it is desirable that the second dielectric layer 6 be formed so as to cover the heat diffusion layer 3 and the first dielectric layer 4 as well. The magneto-optical disk 1 is thus formed such that the second dielectric layer 6 covers not only the magneto-optical recording layer 5 but also the thermal diffusion layer 3 and the first dielectric layer 4.
The occurrence of corrosion can be further suppressed, and the durability can be further improved.

【0029】以上のディスク基板2上に形成される各層
は、これらの各層を構成する材料が例えばスパッタリン
グ等の薄膜形成方法により、ディスク基板2上に順次成
膜されることにより形成される。すなわち、以上の各層
は、図3に示すように、これらの各層を構成する材料の
ターゲット10と開口部11を有するマスク12とがそ
れぞれ設けられた真空チャンバ13内にディスク基板2
を収容してスパッタリング等を行うことにより順次積層
形成される。
The respective layers formed on the disk substrate 2 are formed by sequentially forming the materials constituting these layers on the disk substrate 2 by a thin film forming method such as sputtering. That is, as shown in FIG. 3, each of the above-mentioned layers is placed in a vacuum chamber 13 provided with a target 10 of a material constituting these layers and a mask 12 having an opening 11, respectively.
Are stacked and sequentially formed by carrying out sputtering or the like.

【0030】これらの各層は、以上のように、マスク1
2を用いたスパッタリング等により形成されるので、マ
スク12の開口径に応じた面積の膜としてディスク基板
2上に順次積層形成される。
Each of these layers is, as described above, a mask 1
Since the film 12 is formed by sputtering or the like, the film is sequentially laminated on the disk substrate 2 as a film having an area corresponding to the opening diameter of the mask 12.

【0031】したがって、本実施の形態の光磁気ディス
ク1を作製する際は、光磁気記録層5を形成するときに
用いるマスク12よりも開口部11の開口径の大きなマ
スク12を用いて第2の誘電体層6を形成することによ
り、光磁気記録層5を覆うように形成された第2の誘電
体層6を得ることができる。
Therefore, when manufacturing the magneto-optical disk 1 of this embodiment, the second mask 12 having a larger opening diameter than the mask 12 used for forming the magneto-optical recording layer 5 is used. By forming the dielectric layer 6 described above, the second dielectric layer 6 formed so as to cover the magneto-optical recording layer 5 can be obtained.

【0032】また、第2の誘電体層6を形成する際に用
いるマスク12の開口部11の開口径を、熱拡散層3を
形成する際に用いるマスク12の開口部11の開口径や
第1の誘電体層4を形成する際に用いるマスク12の開
口部11の開口径よりも大きくしておくことにより、光
磁気記録層5だけでなく熱拡散層3や第1の誘電体層4
をも覆うように形成された第2の誘電体層6を得ること
ができる。
The opening diameter of the opening 11 of the mask 12 used when forming the second dielectric layer 6 is determined by the opening diameter of the opening 11 of the mask 12 used when forming the thermal diffusion layer 3. By making the opening diameter of the opening 11 of the mask 12 used for forming the first dielectric layer 4 larger than that of the magneto-optical recording layer 5, the thermal diffusion layer 3 and the first dielectric layer 4
The second dielectric layer 6 formed so as to cover the second dielectric layer 6 can also be obtained.

【0033】なお、以上の各層を形成する際は、一つの
真空チャンバ13を用いて、各層を形成する毎に真空チ
ャンバ13内のターゲット10及びマスク12を交換
し、その都度真空チャンバ13内の真空引きを行ってス
パッタリングを行うようにしてもよいが、各層を形成す
るための専用の真空チャンバ13を各層に応じた数だけ
用意して、それぞれの真空チャンバ13内に予めターゲ
ット10及びマスク12を配置しておき、ディスク基板
2をこれらの真空チャンバ13内に順次収容してスパッ
タリングを行い、各層を形成するようにしてもよい。こ
のように、各層を形成するための専用の真空チャンバ1
3を各層に応じた数だけ用意して順次スパッタリングを
行うことにより、光磁気ディスク1を作製する時間を大
幅に短縮することができる。
When each of the above layers is formed, the target 10 and the mask 12 in the vacuum chamber 13 are exchanged each time each layer is formed by using one vacuum chamber 13. Although vacuuming may be performed to perform sputtering, a dedicated vacuum chamber 13 for forming each layer is prepared in a number corresponding to each layer, and the target 10 and the mask 12 are previously stored in each vacuum chamber 13. May be arranged, and the disk substrate 2 may be sequentially accommodated in these vacuum chambers 13 to perform sputtering to form each layer. Thus, a dedicated vacuum chamber 1 for forming each layer
By preparing the number 3 in accordance with each layer and sequentially performing sputtering, the time for manufacturing the magneto-optical disk 1 can be greatly reduced.

【0034】なお、以上は、熱拡散層3を膜厚40nm
程度のAl膜により構成し、第1の誘電体層4を膜厚2
0nm程度のSiN膜により構成し、光磁気記録膜5を
膜厚23nm程度のTbFeCo膜により構成し、第2
の誘電体層6を膜厚80nm程度のSiN膜により構成
した光磁気ディスク1を例に説明したが、本実施の形態
の光磁気ディスク1の各層の材料及び膜厚は、この例に
限定されるものではい。
In the above description, the thermal diffusion layer 3 has a thickness of 40 nm.
And a first dielectric layer 4 having a thickness of 2
The magneto-optical recording film 5 is composed of a TbFeCo film having a thickness of about 23 nm,
Although the magneto-optical disk 1 in which the dielectric layer 6 is formed of a SiN film having a film thickness of about 80 nm has been described as an example, the material and film thickness of each layer of the magneto-optical disk 1 of the present embodiment are limited to this example. Not something.

【0035】例えば、この光磁気ディスク1の熱拡散層
3の材料としては、Alの他に、例えば、AlTiやA
lMg、AlSi等を用いるようにしてもよい。また、
熱拡散層3の膜厚は、以上の例に限定されるものではな
いが、23〜50nm程度とされていることが望まし
い。
For example, as a material of the heat diffusion layer 3 of the magneto-optical disk 1, besides Al, for example, AlTi or A
Mg, AlSi, or the like may be used. Also,
The thickness of the thermal diffusion layer 3 is not limited to the above example, but is desirably about 23 to 50 nm.

【0036】また、第1の誘電体層4の材料としては、
SiNの他に、例えば、ZnSやSiO2等を用いるよ
うにしてもよい。また、第1の誘電体層4の膜厚は、以
上の例に限定されるものではないが、15〜35nm程
度とされていることが望ましい。
The material of the first dielectric layer 4 is as follows.
In addition to SiN, for example, ZnS or SiO 2 may be used. Further, the thickness of the first dielectric layer 4 is not limited to the above example, but is desirably about 15 to 35 nm.

【0037】また、光磁気記録層5の材料としては、T
bFeCoの他に、例えば、TbFeCoにCrやNi
等の添加物を加えたものやDyFeCo、GdFeCo
等、或いはこれらの合金膜を用いるようにしてもよい。
また、光磁気記録層5の膜厚は、以上の例に限定される
ものではないが、15〜120nm程度とされているこ
とが望ましい。また、この光磁気記録層5は、合金ター
ゲットを用いたスパッタリングにより形成する以外に、
Tb、Dy、Gd、Fe、Co、FeCo等の各ターゲ
ットを用いた同時スパッタリングにより形成するように
してもよい。
The material of the magneto-optical recording layer 5 is T
In addition to bFeCo, for example, Cr or Ni is added to TbFeCo.
And additives such as DyFeCo, GdFeCo
Or an alloy film of these.
The film thickness of the magneto-optical recording layer 5 is not limited to the above example, but is desirably about 15 to 120 nm. The magneto-optical recording layer 5 is formed by sputtering using an alloy target.
It may be formed by simultaneous sputtering using targets such as Tb, Dy, Gd, Fe, Co, and FeCo.

【0038】また、第2の誘電体層6の材料としては、
SiNの他に、例えば、ZnSやSiO2等を用いるよ
うにしてもよい。また、第2の誘電体層6の膜厚は、以
上の例に限定されるものではないが、40〜110nm
程度とされていることが望ましい。
The material of the second dielectric layer 6 is as follows.
In addition to SiN, for example, ZnS or SiO 2 may be used. Further, the thickness of the second dielectric layer 6 is not limited to the above example, but may be 40 to 110 nm.
It is desirable that the degree is about.

【0039】また、上記各層を形成する際のスパッタリ
ングの電源は、DC、RFのどちらでもよい。
The power source for sputtering when forming the above layers may be either DC or RF.

【0040】[0040]

【実施例】本発明の効果を確認すべく、以下のような実
験を行った。すなわち、基板上に形成される信号記録層
等の複数の層の大きさをそれぞれ異ならせながら複数の
光磁気ディスクを実際に作製して、各層の大きさと腐食
の状況との関係を調べた。
EXAMPLES In order to confirm the effects of the present invention, the following experiments were conducted. That is, a plurality of magneto-optical disks were actually produced while varying the sizes of a plurality of layers such as a signal recording layer formed on a substrate, and the relationship between the size of each layer and the state of corrosion was examined.

【0041】(光磁気ディスクの作製)まず、真空チャ
ンバ内にAlターゲットと円形の開口部を有するマスク
とを設置する。そして、この真空チャンバ内にポリカー
ボネイトよりなるディスク基板を収容し、この真空チャ
ンバ内を5×10-5Pa程度にまで真空引きする。そし
て、この真空チャンバ内に0.2〜0.8Pa程度のガ
ス圧でArガスを導入し、Alターゲットによるスパッ
タリングを行って40nm程度のAl膜よりなる熱拡散
層を形成する。
(Preparation of Magneto-Optical Disk) First, an Al target and a mask having a circular opening are set in a vacuum chamber. Then, a disk substrate made of polycarbonate is accommodated in the vacuum chamber, and the inside of the vacuum chamber is evacuated to about 5 × 10 −5 Pa. Then, an Ar gas is introduced into the vacuum chamber at a gas pressure of about 0.2 to 0.8 Pa, and sputtering is performed using an Al target to form a thermal diffusion layer made of an Al film of about 40 nm.

【0042】次に、真空チャンバ内にSiターゲットと
円形の開口部を有するマスクとを設置する。そして、こ
の真空チャンバ内に熱拡散層が形成されたディスク基板
を収容して、Arガスに加えてN2ガスを真空チャンバ
内に導入し、ガス圧を0.1〜0.7Pa程度に設定す
る。そして、Siターゲットによる反応性スパッタリン
グを行って20nm程度のSiN膜よりなる第1の誘電
体層を形成する。なお、Siターゲットによる反応性ス
パッタリングでSiN膜を形成する以外にも、SiNタ
ーゲットによるスパッタリングでSiN膜を形成するよ
うにしてもよい。
Next, a Si target and a mask having a circular opening are set in a vacuum chamber. Then, the disk substrate on which the thermal diffusion layer is formed is housed in the vacuum chamber, and N 2 gas is introduced into the vacuum chamber in addition to Ar gas, and the gas pressure is set to about 0.1 to 0.7 Pa. I do. Then, a first dielectric layer made of a SiN film of about 20 nm is formed by performing reactive sputtering using a Si target. In addition to forming the SiN film by reactive sputtering using a Si target, the SiN film may be formed by sputtering using a SiN target.

【0043】次に、真空チャンバ内にTbFeCoのタ
ーゲットと円形の開口部を有するマスクとを設置する。
そして、この真空チャンバ内に熱拡散層及び第1の誘電
体層が形成されたディスク基板を収容し、この真空チャ
ンバ内を再度5×10-5Pa程度にまで真空引きする。
そして、この真空チャンバ内に0.1〜0.8Pa程度
のガス圧でArガスを導入し、TbFeCoターゲット
によるスパッタリングを行って23nm程度のTbFe
Co膜よりなる光磁気記録層を形成する。
Next, a target of TbFeCo and a mask having a circular opening are set in the vacuum chamber.
Then, the disk substrate on which the heat diffusion layer and the first dielectric layer are formed is accommodated in the vacuum chamber, and the inside of the vacuum chamber is evacuated again to about 5 × 10 −5 Pa.
Then, Ar gas is introduced into the vacuum chamber at a gas pressure of about 0.1 to 0.8 Pa, and sputtering is performed with a TbFeCo target to form a TbFe of about 23 nm.
A magneto-optical recording layer made of a Co film is formed.

【0044】次に、真空チャンバ内にSiターゲットと
円形の開口部を有するマスクとを設置する。そして、こ
の真空チャンバ内に熱拡散層、第1の誘電体層及び光磁
気記録層が形成されたディスク基板を収容して、Arガ
スに加えてN2ガスを真空チャンバ内に導入し、ガス圧
を0.1〜0.7Pa程度に設定する。そして、Siタ
ーゲットによる反応性スパッタリングを行って80nm
程度のSiN膜よりなる第2の誘電体層を形成する。な
お、Siターゲットによる反応性スパッタリングでSi
N膜を形成する以外にも、SiNターゲットによるスパ
ッタリングでSiN膜を形成するようにしてもよい。
Next, an Si target and a mask having a circular opening are set in a vacuum chamber. Then, the disk substrate on which the heat diffusion layer, the first dielectric layer and the magneto-optical recording layer are formed is accommodated in the vacuum chamber, and N 2 gas is introduced into the vacuum chamber in addition to Ar gas, The pressure is set to about 0.1 to 0.7 Pa. Then, reactive sputtering using a Si target is performed to 80 nm.
A second dielectric layer made of a SiN film is formed. In addition, the reactive sputtering by the Si target
Instead of forming the N film, the SiN film may be formed by sputtering using a SiN target.

【0045】以上の方法により、18枚の光磁気ディス
クを作製した。それぞれの光磁気ディスクは、マスクの
開口部の開口径を変更することにより、ディスク基板上
に形成される各層の面積をそれぞれ異ならせている。
By the above method, 18 magneto-optical disks were manufactured. In each magneto-optical disk, the area of each layer formed on the disk substrate is made different by changing the opening diameter of the opening of the mask.

【0046】(腐食の発生状況)以上のように作製され
た18枚の光磁気ディスクを温度80℃、湿度85%の
恒温槽に入れ、腐食の発生状況を観察した。結果を表1
に示す。なお、この表1において、d1は熱拡散層の成
膜面の直径を示し、d2は第1の誘電体層の成膜面の直
径を示し、d3は光磁気記録層の成膜面の直径を示し、
d4は第2の誘電体層の成膜面の直径を示している。そ
して、30μm以上の大きさの腐食による欠陥が全くな
いものを◎、僅かに欠陥が観察されるものを○、それ以
外のものを×として示した。
(Situation of Corrosion) The 18 magneto-optical disks prepared as described above were placed in a thermostat at a temperature of 80 ° C. and a humidity of 85%, and the occurrence of corrosion was observed. Table 1 shows the results
Shown in In Table 1, d1 indicates the diameter of the film formation surface of the thermal diffusion layer, d2 indicates the diameter of the film formation surface of the first dielectric layer, and d3 indicates the diameter of the film formation surface of the magneto-optical recording layer. Indicates that
d4 indicates the diameter of the deposition surface of the second dielectric layer. Then, ◎ indicates that there was no defect due to corrosion having a size of 30 μm or more, も の indicates that a slight defect was observed, and X indicates that other defect was observed.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】この表1に示した結果から、第2の誘電体
層が光磁気記録層を覆うように形成された光磁気ディス
ク(1)〜(5),(9),(10),(13),(1
5),(17)は、腐食による欠陥の発生が抑制されて
いることが分かった。
From the results shown in Table 1, the magneto-optical disks (1) to (5), (9), (10), and (10) formed with the second dielectric layer covering the magneto-optical recording layer 13), (1
In 5) and (17), it was found that the generation of defects due to corrosion was suppressed.

【0049】また、第2の誘電体層が光磁気記録層の他
に熱拡散層及び第1の誘電体層をも覆うように形成され
た光磁気ディスク(2),(3),(5),(9),
(10),(13),(17)は腐食による欠陥の発生
が更に抑制されており、特に、熱拡散層、第1の誘電体
層、光磁気記録層、第2の誘電体層の各層がd1≦d2
≦d3<d4の関係となる光磁気ディスク(2)、
(3)、(5)は腐食による欠陥が全く観察されないこ
とが分かった。
Also, magneto-optical disks (2), (3), (5) in which the second dielectric layer covers the heat diffusion layer and the first dielectric layer in addition to the magneto-optical recording layer ), (9),
In (10), (13), and (17), the generation of defects due to corrosion is further suppressed. In particular, each layer of a heat diffusion layer, a first dielectric layer, a magneto-optical recording layer, and a second dielectric layer Is d1 ≦ d2
≦ d3 <d4, a magneto-optical disk (2),
In (3) and (5), it was found that no defect due to corrosion was observed at all.

【0050】なお、光磁気ディスク(4),(15)に
ついては、若干の欠陥が観察されたが、この欠陥はゴミ
の混入に起因するものであり、またその程度も非常に小
さいことが分かった。このゴミの混入に起因する小さな
欠陥は、成膜条件の調整等を行うことにより発生を抑制
することが可能である。
Although a slight defect was observed in the magneto-optical disks (4) and (15), it was found that the defect was caused by dust and was very small. Was. It is possible to suppress the occurrence of the small defect caused by the inclusion of dust by adjusting the film forming conditions and the like.

【0051】これに対して、第2の誘電体層が光磁気記
録層を覆うように形成されていない光磁気ディスク
(1),(6),(7),(8),(11),(1
2),(14),(16),(18)は、腐食による欠
陥の発生が抑制されていないことが分かった。
On the other hand, magneto-optical disks (1), (6), (7), (8), (11), and (2) are not formed so that the second dielectric layer covers the magneto-optical recording layer. (1
In 2), (14), (16) and (18), it was found that the generation of defects due to corrosion was not suppressed.

【0052】以上の結果から、本発明に係る光磁気ディ
スクは、第2の誘電体層が光磁気記録層を覆うように形
成されていることにより、腐食の発生が抑制され、耐久
性の向上が図られることが分かった。
From the above results, in the magneto-optical disk according to the present invention, since the second dielectric layer is formed so as to cover the magneto-optical recording layer, the occurrence of corrosion is suppressed and the durability is improved. Was found to be achieved.

【0053】なお、以上は、信号記録層に光磁気記録膜
を用いた光磁気ディスクによる実験について説明した
が、信号記録層に相変化記録膜を用いた相変化型の光デ
ィスクにおいても、光磁気ディスクと同様の結果が生じ
ることが確認された。
Although the experiment using the magneto-optical disk using the magneto-optical recording film for the signal recording layer has been described above, the magneto-optical disk using the phase-change recording film for the signal recording layer also has a magneto-optical disk. It was confirmed that the same result as that of the disk was obtained.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明に係る光学記録媒体は、真空チャ
ンバ内で基板上に成膜された複数の層のうち信号記録層
よりも上層に形成された少なくとも一つの層が、少なく
とも信号記録層を覆うように形成されているので、腐食
が抑制されて耐久性の向上が図られる。
According to the optical recording medium of the present invention, at least one of a plurality of layers formed on a substrate in a vacuum chamber, which is formed above a signal recording layer, has at least a signal recording layer. , Corrosion is suppressed and durability is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】光磁気ディスクの要部断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a main part of a magneto-optical disk.

【図2】光磁気ディスクの外縁部を示す要部断面図であ
る。
FIG. 2 is a sectional view of an essential part showing an outer edge of the magneto-optical disk.

【図3】スパッタリングに用いる真空チャンバの模式図
である。
FIG. 3 is a schematic view of a vacuum chamber used for sputtering.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光磁気ディスク、2 ディスク基板、3 熱拡散
層、4 第1の誘電体層、5 光磁気記録層、6 第2
の誘電体層、10 ターゲット、11 開口部、12
マスク、13 真空チャンバ
REFERENCE SIGNS LIST 1 magneto-optical disk, 2 disk substrate, 3 thermal diffusion layer, 4 first dielectric layer, 5 magneto-optical recording layer, 6 second
Dielectric layer, 10 targets, 11 openings, 12
Mask, 13 vacuum chamber

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 信号記録層に光を照射して情報信号の再
生又は記録再生が行われる光学記録媒体において、 基板上に真空チャンバ内で成膜された上記信号記録層を
含む複数の層が形成されてなり、 上記複数の層のうち上記信号記録層よりも上層に形成さ
れた少なくとも一つの層が、少なくとも上記信号記録層
を覆うように形成されていることを特徴とする光学記録
媒体。
1. An optical recording medium in which a signal recording layer is irradiated with light to reproduce or record / reproduce an information signal, wherein a plurality of layers including the signal recording layer formed on a substrate in a vacuum chamber are provided. An optical recording medium comprising: a plurality of layers, wherein at least one layer formed above the signal recording layer is formed so as to cover at least the signal recording layer.
【請求項2】 上記基板上に少なくとも熱拡散層、第1
の誘電体層、上記信号記録層、第2の誘電体層がこの順
で形成されてなり、 上記第2の誘電体層が少なくとも上記信号記録層を覆う
ように形成されていることを特徴とする請求項1記載の
光学記録媒体。
2. The method according to claim 1, wherein at least a heat diffusion layer is provided on the substrate.
Wherein the dielectric layer, the signal recording layer, and the second dielectric layer are formed in this order, and the second dielectric layer is formed so as to cover at least the signal recording layer. The optical recording medium according to claim 1, wherein
【請求項3】 上記第2の誘電体層が少なくとも上記熱
拡散層及び上記第1の誘電体層及び上記信号記録層を覆
うように形成されていることを特徴とする請求項1記載
の光学記録媒体。
3. The optical device according to claim 1, wherein the second dielectric layer is formed so as to cover at least the heat diffusion layer, the first dielectric layer, and the signal recording layer. recoding media.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009163859A (en) * 2007-12-12 2009-07-23 Taiyo Yuden Co Ltd Optical information recording medium and manufacturing method thereof

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