JP2000088512A - Interference measuring apparatus - Google Patents

Interference measuring apparatus

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JP2000088512A
JP2000088512A JP10263678A JP26367898A JP2000088512A JP 2000088512 A JP2000088512 A JP 2000088512A JP 10263678 A JP10263678 A JP 10263678A JP 26367898 A JP26367898 A JP 26367898A JP 2000088512 A JP2000088512 A JP 2000088512A
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JP
Japan
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chamber
temperature
test
interference measurement
measurement
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Masanori Suzuki
正則 鈴木
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Nikon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To measure the surface shape at a high precision for a short time by inserting a reference surface and test surface in a thermostatic chamber the apparatus has. SOLUTION: A Fizeau surface and sample surface are disposed in a thermostatic chamber 15. A light from an interferometer 11 is irradiated on a reference surface 12a and test surface 13a to produce an interference fringe. The interference fringe is measured and analyzed by an arithmetic unit 21 to measure the surface shape of a sample under test 13 wherein the required moving of the sample 13 in the optical axis direction and direction perpendicular thereto for this measurement and the correction of the inclination to the optical axis are all automatically made from outside the thermostatic chamber 15. A sample stand 17 chucks the sample to be measured through an axially movable chuck 101 having a rotary shaft and sets it at a measuring position. The outputs of sensors 41a-41n for measuring the temp. distribution in the chamber 15 are given to a temp. controller 42 to control so that the temp. in the chamber 15 is uniform and const. After ending the measurement, it is replaced with a sample housed in a next sample stand 18 by opening/closing a door 31.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フィゾー型干渉計
の干渉計を用いて高精度な形状測定などを行う干渉計測
装置及び干渉計測方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an interferometer and an interferometer for performing high-accuracy shape measurement using an interferometer of a Fizeau interferometer.

【0002】[0002]

【従来の技術】干渉状態(代表的には干渉縞として観察
される)は、可干渉性(時間的、及び、空間的コヒーレ
ンシー)を満足する2ケの光束の波面(位相の等しい
面)の位相差情報を表す。光学系の特性評価は等位相波
面の形状測定によって原理的に可能であり、この等位相
波面の形状測定のために干渉縞が利用されている。即
ち、2つの光束内、片方を基準となる参照面からの反射
光(参照光束という)とし、他方を被検面からの反射光
(被検光束という)として干渉させると、参照面が理想
的な面であれば、被検面の面形状誤差が、Optica
l Path Difference(OPD)に起因
する干渉縞として観察される。
2. Description of the Related Art An interference state (typically observed as an interference fringe) is defined as a wavefront (a plane having the same phase) of two light beams which satisfies coherence (temporal and spatial coherency). Indicates phase difference information. The characteristic evaluation of the optical system can be performed in principle by measuring the shape of the equiphase wavefront, and interference fringes are used for measuring the shape of the equiphase wavefront. That is, if one of the two light beams is reflected by a reference surface serving as a reference (referred to as a reference light beam) and the other is reflected by a test surface (referred to as a test light beam), the reference surface is ideal. If the surface is an irregular surface, the surface shape error of the
Observed as interference fringes due to 1 Path Difference (OPD).

【0003】代表的な干渉計としては、トワイマングリ
ーン型干渉計とフィゾー型干渉計が挙げられる。トワイ
マングリン型干渉計は、図3(a)のような配置を採
る。この場合には、被検面55と参照面51の、ビーム
スプリッタ53までの距離を完全に等しくすることがで
きるため、白色光のような可干渉距離の短い光も使用可
能となる。光源にレーザ光を使用すれば、フィゾー型干
渉計で代用可能となる。なお、λ/4板や偏光板は省略
して図示していない。
[0003] Typical interferometers include a Twyman-Green interferometer and a Fizeau interferometer. The Twyman-Gulin interferometer has an arrangement as shown in FIG. In this case, since the distance between the test surface 55 and the reference surface 51 to the beam splitter 53 can be made completely equal, light having a short coherence distance such as white light can also be used. If laser light is used as the light source, a Fizeau interferometer can be used instead. The λ / 4 plate and the polarizing plate are not shown in the figure.

【0004】フィゾー型干渉計は、図3(b)のような
配置を採る。この場合、参照面63と被検面65の間の
距離を完全には零に出来ないため被検光束と参照光束の
間に光路差が生じる。このために使用する光の可干渉性
(光の単色性)に注意を払わなければならない。しか
し、干渉光路長を考えてみると、参照面であるフィゾー
面63と被検面65の間隔をトワイマン型干渉計でのビ
ームスプリッタから参照面や被検面までの距離よりも短
くできる。このため、フィゾー型干渉計の方が干渉光路
中で生ずる、空気の屈折率(n)の揺らぎに強いと言う
特徴がある。従って、観測された干渉縞を基により精度
の高い面形状計測が可能になる。
[0004] The Fizeau interferometer has an arrangement as shown in FIG. In this case, since the distance between the reference surface 63 and the test surface 65 cannot be made completely zero, an optical path difference occurs between the test light beam and the reference light beam. For this purpose, attention must be paid to the coherence of the light used (monochromaticity of the light). However, considering the interference optical path length, the distance between the Fizeau surface 63, which is the reference surface, and the test surface 65 can be made shorter than the distance from the beam splitter in the Twyman interferometer to the reference surface or the test surface. For this reason, the Fizeau interferometer is characterized in that it is more resistant to fluctuations in the refractive index (n) of air that occur in the interference optical path. Accordingly, highly accurate surface shape measurement can be performed based on the observed interference fringes.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記、
フィゾー型干渉計を使用しても、例えば、図3(c)の
ような、フィゾー面73と被検面75の間隔が大きな配
置で球面の被検面測定を行わざるを得ない場合には、平
面と異なり、フィゾー面73と被検面75の間隔を自由
に変えることができないため、やはり、干渉光路中で生
じる空気の屈折率の変動、攪乱に起因する測定誤差が避
けられないという問題点があった。
SUMMARY OF THE INVENTION However,
Even if a Fizeau interferometer is used, for example, as shown in FIG. 3 (c), when the distance between the Fizeau surface 73 and the test surface 75 must be large and the measurement of the spherical test surface must be performed. Unlike the plane, the distance between the Fizeau surface 73 and the test surface 75 cannot be freely changed, so that the measurement error caused by the fluctuation of the refractive index of air and disturbance caused in the interference optical path is unavoidable. There was a point.

【0006】本発明は上記問題の解決を行い、面形状を
高精度に計測するための手段を提供することを目的にし
ている。さらに、本発明の他の目的はこの高精度計測を
より短時間に行える手段を提供することである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide means for measuring a surface shape with high accuracy. Further, another object of the present invention is to provide means for performing this high-accuracy measurement in a shorter time.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明では上記目的を達
成するために以下に記すような手段を用いている。 第1の手段として、参照面と被検面に可干渉光を当て両
面からの反射光を干渉させて少なくとも被検面の形状情
報を得る干渉計測装置に対して、 恒温チャンバーを有
し、 該参照面と被検面が該恒温チャンバーに入れらて
いることとした。これによって、温度変化による空気の
屈折率の変動の影響を抑えた、計測精度の高い干渉計測
装置が得られる。
According to the present invention, the following means are used to achieve the above object. As a first means, an interferometer that obtains at least shape information of the test surface by applying coherent light to the reference surface and the test surface to cause reflected light from both surfaces to interfere with each other, The reference surface and the test surface were placed in the constant temperature chamber. This makes it possible to obtain an interference measurement device with high measurement accuracy that suppresses the influence of the change in the refractive index of air due to a temperature change.

【0008】第2の手段として、第1の手段を用いる場
合に、恒温チャンバー内に未測定被検物を保持する機構
と、被検物をチャンバーの外から所定の位置にセットす
る機構を有するようにした。これによって、恒温チャン
バーを開閉する必要が無くなり、いつもチャンバー内の
温度を保つことが出来るようになり、測定時間に無駄の
ない干渉計測装置が得られる。
[0008] As a second means, when the first means is used, a mechanism for holding an unmeasured test object in a constant temperature chamber and a mechanism for setting the test object at a predetermined position from outside the chamber are provided. I did it. This eliminates the need to open and close the constant temperature chamber, so that the temperature inside the chamber can be maintained at all times, and an interference measurement device with no waste in measurement time can be obtained.

【0009】第3の手段として、第1又は第2の手段を
用いる場合に、恒温チャンバーに隣接した被検物交換用
のサブチャンバーと、 サブチャンバーと恒温チャンバ
ーの温度を独立に制御する温度コントローラと、を有す
るようにした。これによって、測定用のチャンバーに被
測定物を入れる前に被測定物の温度を所定の値にできる
干渉計測装置が得られる。第4の手段として、第3の手
段を用いる場合に、温度コントローラーが恒温チャンバ
ー内の温度とサブチャンバーの温度分布を同一にするよ
うに制御するようにした。これによって被検物の交換の
際の温度変化の無い干渉計測装置が得られる。
As a third means, when the first or second means is used, a subchamber for exchanging an object adjacent to the constant temperature chamber, and a temperature controller for independently controlling the temperatures of the subchamber and the constant temperature chamber And. Thus, an interferometer capable of setting the temperature of the measured object to a predetermined value before putting the measured object into the measurement chamber is obtained. As a fourth means, when the third means is used, the temperature controller controls the temperature in the constant temperature chamber and the temperature distribution in the sub-chamber to be the same. As a result, an interference measurement device having no temperature change when the test object is replaced can be obtained.

【0010】第5の手段として、参照面と被検面に可干
渉光を当て両面からの反射光を干渉させて少なくとも被
検面の形状情報を得る干渉計測方法を用いる時に、該参
照面と被検面を恒温チャンバーに入れて計測するように
した。これによって、温度変化による空気の屈折率の変
動の影響を抑えた、計測精度の高い干渉計測方法が得ら
れる。
As a fifth means, when using an interference measurement method for obtaining at least shape information of a test surface by applying coherent light to the reference surface and the test surface and causing reflected light from both surfaces to interfere with each other, The test surface was placed in a constant temperature chamber for measurement. As a result, it is possible to obtain an interference measurement method with high measurement accuracy in which the influence of a change in the refractive index of air due to a temperature change is suppressed.

【0011】第6の手段として、第5の手段を用いる時
に、恒温チャンバー内に未測定被検物を保持し、 測定
被検物をチャンバーの外から所定の位置にセットして計
測するようにした。これによって、恒温チャンバーを開
閉する必要が無くなり、いつもチャンバー内の温度を保
つことが出来るようになり、測定時間に無駄がなくな
る。
As a sixth means, when the fifth means is used, an unmeasured object is held in a constant temperature chamber, and the measured object is set at a predetermined position from outside the chamber and measured. did. This eliminates the need to open and close the constant temperature chamber, so that the temperature inside the chamber can be maintained at all times, and measurement time is not wasted.

【0012】第7の手段として、第5又は6の手段を用
いる場合に、恒温チャンバーの隣に被検物交換用のサブ
チャンバーを設け、 該サブチャンバーと前記チャンバ
ーの温度を独立に制御して計測することとした。これに
よって、測定用のチャンバーに被測定物を入れる前に被
測定物の温度を所定の値に出来る。
As a seventh means, when the fifth or sixth means is used, a subchamber for exchanging a test object is provided next to the constant temperature chamber, and the temperatures of the subchamber and the chamber are independently controlled. It was decided to measure. Thus, the temperature of the object to be measured can be set to a predetermined value before the object is placed in the measurement chamber.

【0013】第8の手段として、第7の手段を実施する
場合に、恒温チャンバー内の温度と前記サブチャンバー
内の温度を同じになるように制御するようにした。これ
によって被検物の交換の際の温度変化を無くすことが出
来る。
As an eighth means, when the seventh means is implemented, the temperature in the constant temperature chamber and the temperature in the sub-chamber are controlled to be the same. As a result, a temperature change at the time of replacement of the test object can be eliminated.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明では、恒温チャンバー内に
参照レンズと被検面を入れ、チャンバー内の温度分布を
均一に保つことで空気の攪乱を減らし、従って高精度な
測定を可能とした干渉計測装置及び方法を実現してい
る。しかし、このような装置でも場合によっては被検物
の交換時に恒温チャンバー内の温度分布が変化してしま
い、攪乱のない高精度な測定を行うためには、変化して
しまったチャンバー内の温度分布が再び均一になり、被
検面の表面温度も均一なるまでの温度馴らしのための時
間が必要となることもある。そのような場合に備えて、
本発明では予備室的なサブチャンバーを隣接させ、その
温度を制御することによって対応している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a reference lens and a surface to be inspected are placed in a constant temperature chamber, and the temperature distribution in the chamber is kept uniform to reduce air disturbance, thereby enabling high-precision measurement. An interference measurement device and method are realized. However, even in such an apparatus, the temperature distribution in the constant temperature chamber changes when the specimen is replaced, and in order to perform high-precision measurement without disturbance, the temperature in the chamber that has changed is changed. In some cases, it takes time to adjust the temperature until the distribution becomes uniform again and the surface temperature of the test surface becomes uniform. In such a case,
In the present invention, this is achieved by adjoining a pre-chamber sub-chamber and controlling its temperature.

【0015】[0015]

【実施例】図1は本発明の第1、第2、第5、第6の手
段を説明する実施例1であり、図3(c)のフィゾー面
と被検面が恒温チャンバー15内に配置されている。干
渉計11より射出した光は参照面12aと被検面13a
に照射され、反射された光が互いに干渉し、干渉縞を生
じさせる。この縞を計測し、演算装置21によって解析
することによって被検物13の面形状が計測される。こ
の時の計測に必要な被検物の移動、即ち光軸方向への移
動、光軸に垂直な方向への移動、光軸に対する傾き補正
は全て恒温チャンバーの外より自動的に行われる。図1
中、101は回転軸を有し、その軸方向に移動可能なチ
ャックであり、未計測被検物を収納する被検物スタンド
17より計測すべき被検物体をチャックして、測定位置
にセットする役割を有している。これによってチャンバ
の外部より被検物のセットが可能になる。尚、41a〜
41nはチャンバー内の温度及びその分布を測定する温
度センサであり、その出力はコントローラ42に与えら
れ、コントローラ42はチャンバー内温度を均一な一定
温度になるように制御する。また、被検物スタンドの被
検物が計測され終わると、次の被検物スタンド18に収
納された被検物と扉31の開閉によって取り替えられ
る。
FIG. 1 shows a first embodiment of the first, second, fifth and sixth means of the present invention. The Fizeau surface and the surface to be inspected shown in FIG. Are located. Light emitted from the interferometer 11 includes a reference surface 12a and a test surface 13a.
And reflected light interfere with each other to generate interference fringes. The surface shape of the test object 13 is measured by measuring the fringes and analyzing the fringes by the arithmetic unit 21. At this time, the movement of the test object necessary for the measurement, that is, the movement in the optical axis direction, the movement in the direction perpendicular to the optical axis, and the inclination correction with respect to the optical axis are all automatically performed from outside the constant temperature chamber. FIG.
Reference numeral 101 denotes a chuck having a rotating shaft, which is movable in the axial direction. The chuck 101 chucks an object to be measured from an object stand 17 that stores an unmeasured object and sets the object at a measurement position. Have a role to do. This enables the setting of the test object from outside the chamber. In addition, 41a ~
Reference numeral 41n denotes a temperature sensor for measuring the temperature in the chamber and its distribution, the output of which is given to the controller 42, which controls the temperature in the chamber to a uniform constant temperature. When the measurement of the test object on the test object stand is completed, the test object is replaced with the test object stored in the next test object stand 18 by opening and closing the door 31.

【0016】図2は本発明の第3、第4、第7、第8の
手段を説明する実施例2である。実施例1と共通する所
の説明は省略する。図2中、16が被検物交換用のサブ
チャンバーであり、恒温チャンバー15に隣接して設け
られている。恒温チャンバー15とサブチャンバー16
は扉31で仕切られており、サブチャンバーは扉32で
外部と仕切られている。各チャンバーにはチャンバー内
の温度及びその分布を計測するための温度センサー41
a〜n、43a〜n、温度センサーの値からチャンバー
内の温度を所定の均一な温度に制御するための温度コン
トローラ42,44がある。特に、サブチャンバーの温
度を計測用の恒温チャンバーの温度と同じになるように
制御すると計測に要する時間の短縮が可能になる。1
7,18は被検物が保持されている被検物スタンドであ
る。
FIG. 2 shows a second embodiment for explaining the third, fourth, seventh and eighth means of the present invention. The description of the parts common to the first embodiment is omitted. In FIG. 2, reference numeral 16 denotes a subchamber for exchanging the test object, which is provided adjacent to the constant temperature chamber 15. Constant temperature chamber 15 and sub-chamber 16
Are partitioned by a door 31, and the sub-chamber is partitioned from the outside by a door 32. Each chamber has a temperature sensor 41 for measuring the temperature in the chamber and its distribution.
There are temperature controllers 42 and 44 for controlling the temperature in the chamber to a predetermined uniform temperature based on the values of the temperature sensors a to n and 43a to n. In particular, if the temperature of the sub-chamber is controlled to be the same as the temperature of the constant temperature chamber for measurement, the time required for measurement can be reduced. 1
Reference numerals 7 and 18 denote test object stands on which test objects are held.

【0017】本発明では、上記の様な手段によって、干
渉計測の精度劣化の要因の1つである空気の攪乱を減ら
すことを可能にした。即ち、チャンバー15内の温度分
布が均一であれば、空気の攪乱は無く高精度な干渉計測
が可能である。これによって、1つの被検面の測定であ
れば、被検面をチャンバー内にセットした後十分に温度
馴らしの時間をとれば空気の攪乱の影響のない高精度な
測定が可能である。しかし、被検面が複数個ある場合に
はこのような方法では非常に効率が悪い。このため、本
発明では、チャンバー15内とサブチャンバー16内に
被検物スタンド17,18を設けており、均一な温度分
布の中で被検物の交換が可能になり、1つの被検物を測
定中に別の被検物の温度馴らしが並行して行うことがで
きるため、効率の良い測定が可能となっている。
According to the present invention, it is possible to reduce the disturbance of the air, which is one of the causes of the deterioration of the accuracy of the interference measurement, by the means as described above. That is, if the temperature distribution in the chamber 15 is uniform, there is no air disturbance and high-precision interference measurement is possible. As a result, in the case of measurement of one surface to be measured, high-precision measurement free from the influence of air disturbance can be performed if sufficient time is taken after the surface to be measured is set in the chamber and the temperature is sufficiently adjusted. However, when there are a plurality of test surfaces, such a method is very inefficient. For this reason, in the present invention, the specimen stands 17 and 18 are provided in the chamber 15 and the sub-chamber 16, and the specimen can be exchanged in a uniform temperature distribution. During the measurement, the temperature of another test object can be adjusted at the same time, so that efficient measurement can be performed.

【0018】被検物の交換の方法を図2を参照して以下
に説明する。初期状態ではチャンバー15内の温度分布
は均一であるとし、扉31,32は閉められているもの
とする。最初にサブチャンバー16内の温度分布を制御
しチャンバー15内の温度分布と一致させる。温度が一
致したら、扉31を開け、測定の終了した被検物を被検
物スタンド17からサブチャンバー16の被検物スタン
ド18へ搬送する。次にあらかじめサブチャンバー16
の被検物スタンド18に用意しておいた新しい被測定物
をチャンバー15の被検物スタンド17へ搬送する。次
に、扉31を閉め、扉32を開け、サブチャンバー16
の被検物スタンド18にある被測定物をチャンバー外へ
搬出する。その後、新しい被測定物をサブチャンバー1
6の被検物スタンド18へ搬入し、扉32を閉める、サ
ブチャンバー16内の温度分布がチャンバー15内の温
度分布に一致するように制御を行う。
A method of exchanging the test object will be described below with reference to FIG. In the initial state, the temperature distribution in the chamber 15 is assumed to be uniform, and the doors 31 and 32 are assumed to be closed. First, the temperature distribution in the sub-chamber 16 is controlled to match the temperature distribution in the chamber 15. When the temperatures match, the door 31 is opened, and the test object whose measurement has been completed is transported from the test object stand 17 to the test object stand 18 of the sub-chamber 16. Next, the sub-chamber 16
The new test object prepared in the test object stand 18 is transferred to the test object stand 17 in the chamber 15. Next, the door 31 is closed, the door 32 is opened, and the sub-chamber 16 is opened.
The test object in the test object stand 18 is carried out of the chamber. Then, a new DUT is placed in sub-chamber 1
6 is carried into the test object stand 18, the door 32 is closed, and control is performed so that the temperature distribution in the sub-chamber 16 matches the temperature distribution in the chamber 15.

【0019】なお、搬入・搬出を上記の様に同時に行う
のではなく、別々に行うこともできる。フィゾーレンズ
12の交換もサブチャンバー内にフィゾーレンズスタン
ドを用意し、あらかじめ温度馴らしをしておくことによ
り、被測定物13の交換と同様の手順で行うことができ
る。このようにサブチャンバー16をチャンバー15の
隣に接して設け、チャンバー15内の温度分布を変化さ
せることなく、チャンバー15の外から被検物13を交
換することができる。
The loading and unloading can be performed separately instead of simultaneously as described above. The Fizeau lens 12 can be replaced by preparing a Fizeau lens stand in the sub-chamber and adjusting the temperature in advance. As described above, the sub-chamber 16 is provided adjacent to the chamber 15, and the test object 13 can be replaced from outside the chamber 15 without changing the temperature distribution in the chamber 15.

【0020】[0020]

【発明・考案の効果】以上の様に本発明に係る干渉計シ
ステムを採用すれば、特にフィゾー型干渉計を使用して
被検面の面精度測定を行う際に耐“環境攪乱”性を高
め、高精度な測定が可能となる。また、チャンバー内に
被検物スタンドを設けることで、被検物の交換が容易に
なり、測定と並行して別の被検物を温度に馴染ませるこ
とができ、測定時間が短縮され、効率の良い測定が可能
となる。
As described above, if the interferometer system according to the present invention is adopted, the "environmental disturbance" resistance is improved particularly when the surface accuracy of the test surface is measured using a Fizeau interferometer. Higher and more accurate measurement is possible. In addition, the provision of a specimen stand in the chamber facilitates replacement of the specimen, allowing another specimen to adapt to the temperature in parallel with the measurement, shortening the measurement time and improving efficiency. Good measurement is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の請求項1、2に係わる実施例1FIG. 1 is a first embodiment according to claims 1 and 2 of the present invention.

【図2】本発明の請求項3、4に係わる実施例2FIG. 2 is a second embodiment according to claims 3 and 4 of the present invention.

【図3】干渉計測装置の原理図従来例FIG. 3 is a diagram illustrating the principle of an interference measurement apparatus according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11・・・干渉計本体、 12・・・フィゾー
レンズ、12a・・・参照面、 13・・・
被検物、13a・・・被検面、 15・・・
恒温チャンバー、16・・・サブチャンバー、 1
7・・・被検物スタンド、18・・・被検物スタンド、
21・・・演算装置、31・・・扉、
32・・・扉、41a〜n・・・温度センサ
ー、 43a〜n・・・温度センサー、42・・・温度
コントローラ、 44・・・温度コントローラ 51・・・参照面 53・・・被検面 53・・・ビームスプリッタ 61・・・フィゾー
レンズ 63・・・参照面 65・・・被検面 73・・・参照面 75・・・被検面 101・・・チャック
11: Interferometer body, 12: Fizeau lens, 12a: Reference surface, 13:
Test object, 13a ... Test surface, 15 ...
Constant temperature chamber, 16 ... sub-chamber, 1
7 ... test object stand, 18 ... test object stand,
21: arithmetic unit, 31: door,
32: Door, 41a-n: Temperature sensor 43a-n: Temperature sensor, 42: Temperature controller, 44: Temperature controller 51: Reference surface 53: Test surface 53: Beam splitter 61: Fizeau lens 63: Reference surface 65: Target surface 73: Reference surface 75: Target surface 101: Chuck

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 参照面と被検面に可干渉光を当て両面か
らの反射光を干渉させて少なくとも被検面の形状情報を
得る干渉計測装置であって、 恒温チャンバーを有し、 該参照面と被検面が該恒温チ
ャンバーに入れらていることを特徴とする干渉計測装
置。
1. An interferometer that obtains at least shape information of a test surface by applying coherent light to a reference surface and a test surface to cause reflected light from both surfaces to interfere with each other, comprising: a constant temperature chamber; An interferometer, wherein a surface and a surface to be inspected are placed in the constant temperature chamber.
【請求項2】 請求項1記載の干渉計測装置であって、
前記恒温チャンバー内に未測定被検物を保持する機構
と、 該被検物をチャンバーの外から所定の位置にセッ
トする機構を有することを特徴とする干渉計測装置。
2. The interference measurement apparatus according to claim 1, wherein
An interference measurement apparatus comprising: a mechanism for holding an unmeasured test object in the constant temperature chamber; and a mechanism for setting the test object at a predetermined position from outside the chamber.
【請求項3】 請求項1又は2記載の干渉計測装置であ
って、 前記恒温チャンバーに隣接した被検物交換用の
サブチャンバーと、 該サブチャンバー内と前記チャ
ンバー内の温度を独立に制御する温度コントローラとを
有することを特徴とする干渉計測装置。
3. The interference measurement apparatus according to claim 1, wherein a sub-chamber for exchanging a test object adjacent to the constant temperature chamber, and a temperature in the sub-chamber and the temperature in the chamber are independently controlled. An interferometer having a temperature controller.
【請求項4】 請求項3記載の干渉計測装置であって、
前記温度コントローラーが前記恒温チャンバー内の温
度と該サブチャンバー内の温度を同一にするように制御
することを特徴とする干渉計測装置。
4. The interference measurement apparatus according to claim 3, wherein
An interference measurement apparatus, wherein the temperature controller controls the temperature in the constant temperature chamber and the temperature in the sub-chamber to be the same.
【請求項5】 参照面と被検面に可干渉光を当て両面か
らの反射光を干渉させて少なくとも被検面の形状情報を
得る干渉計測方法であって、 該参照面と被検面を恒温チャンバーに入れて計測するこ
とを特徴とする干渉計測方法。
5. An interference measurement method in which coherent light is applied to a reference surface and a test surface to cause reflected light from both surfaces to interfere with each other to obtain at least shape information of the test surface. An interference measurement method characterized in that the measurement is carried out in a constant temperature chamber.
【請求項6】 請求項5記載の干渉計測方法であって、
前記恒温チャンバー内に未測定被検物を保持し、 測定
被検物をチャンバーの外から所定の位置にセットして計
測することを特徴とする干渉計測方法。
6. The interference measurement method according to claim 5, wherein
An interference measurement method, comprising: holding an unmeasured test object in the constant temperature chamber; setting the measurement test object at a predetermined position from outside the chamber;
【請求項7】 請求項5又は6記載の干渉計測方法であ
って、 前記恒温チャンバーの隣に被検物交換用のサブ
チャンバーを設け、 該サブチャンバー内と前記チャン
バー内の温度を独立に制御して計測することを特徴とす
る干渉計測方法
7. The interference measurement method according to claim 5, wherein a sub-chamber for exchanging a test object is provided next to the constant temperature chamber, and the temperature in the sub-chamber and the temperature in the chamber are independently controlled. Interferometric measurement method characterized in that the measurement is performed
【請求項8】 請求項7記載の干渉計測方法であって、
前記恒温チャンバー内の温度と前記サブチャンバー内の
温度を同じになるように制御するして計測することを特
徴とする干渉計測方法。
8. The interference measurement method according to claim 7, wherein:
An interference measurement method, wherein the temperature in the constant temperature chamber and the temperature in the sub-chamber are controlled so as to be the same and measured.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004031686A1 (en) * 2002-10-04 2004-04-15 Renishaw Plc Laser interferometer for repeatable mounting on the wall of a vacuum chamber
JP2008064694A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Canon Inc Interference measuring instrument

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004031686A1 (en) * 2002-10-04 2004-04-15 Renishaw Plc Laser interferometer for repeatable mounting on the wall of a vacuum chamber
US7315380B2 (en) 2002-10-04 2008-01-01 Renishaw, Plc Laser interferometer for repeatable mounting on the wall of a vacuum chamber
CN100360894C (en) * 2002-10-04 2008-01-09 瑞尼斯豪公司 Laser interferometer for repeatable mounting on the wall of a vacuum chamber
JP2008064694A (en) * 2006-09-11 2008-03-21 Canon Inc Interference measuring instrument

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