JP2000087238A - Formation of multicolor film and wear resistant and corrosion resistant multicolor member - Google Patents

Formation of multicolor film and wear resistant and corrosion resistant multicolor member

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JP2000087238A
JP2000087238A JP25576698A JP25576698A JP2000087238A JP 2000087238 A JP2000087238 A JP 2000087238A JP 25576698 A JP25576698 A JP 25576698A JP 25576698 A JP25576698 A JP 25576698A JP 2000087238 A JP2000087238 A JP 2000087238A
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JP
Japan
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film
coating
ion plating
multicolored
coated
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JP25576698A
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Japanese (ja)
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Naoaki Kitagawa
直明 北川
Shinichi Okabe
信一 岡部
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Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide non-polluting surface treating technology imparting performance such as wear resistance, corrosion resistance equal to or above the conventional ones and the high visibility of the division in the case of being used for measuring instrument such as calipers. SOLUTION: As to this multicolor film forming method, films different in colors are piles to coat by >=2 layers by an ion plating method, and a part of the film as the upper layer is removed by an etching method or a laser marking method. Namely, from developable colors, the base color and top color are selected to form films of the upper and lower two layers, then, the upper layer film is removed by an optional pattern, and, a member having multicolor of the color in the lower layer film and the color in the upper layer film is formed. Particularly, the base material is subjected to Cr metal bombard treatment, the coated one is piled with a TiAlN film by an ion plating method with a TiAl sintered target in a gaseous N2 atmosphere, it is coated with a CrN film by an ion plating method with a Cr metallic target in a gaseous N2, atmosphere, and a part of the CrN film in the upper layer is removed by an etching or laser marking method. The film thickness of the CrN film is preferably controlled to 1 to 10 μm.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面処理技術に関
し、特に、ノギスのような測定器に使用する部材に、多
色被膜を生成し、目盛りの視認性が高い耐摩耗性・耐食
性部材を得る多色被膜生成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface treatment technique, and more particularly to a wear-resistant and corrosion-resistant member having a multicolor coating formed on a member used for a measuring instrument such as a caliper and having high visibility of a scale. The present invention relates to a method for producing a multicolored film to be obtained.

【0002】[0002]

【従来の技術】測定器として数多く使用されているノギ
スを構成する部材は、一般的にはSUS420J2を基
材として形成し、耐摩耗性と耐食性を高めるために、厚
さが10μmとなるように、湿式によるクロムメッキ処
理を施している。さらに、測定値を示すための目盛り
は、レーザーマーキング法で熱を加えて、クロムメッキ
被膜の一部を気化して除去し、該クロムメッキ被膜の一
部を酸化して酸化クロムに変化させて黒色を発色させ、
高い視認性の目盛りを有する部材に加工していた。
2. Description of the Related Art Generally, a member constituting a caliper used as a measuring instrument is formed of SUS420J2 as a base material, and has a thickness of 10 μm in order to improve abrasion resistance and corrosion resistance. And wet chrome plating. Furthermore, the scale for indicating the measured value is obtained by applying heat by a laser marking method, vaporizing and removing a part of the chromium plating film, and oxidizing a part of the chromium plating film to change it to chromium oxide. Color black,
It has been processed into a member having a high visibility scale.

【0003】しかし、最近の動向として、自然環境を配
慮した低公害の表面処理技術が望まれており、有害薬品
の使用が多い湿式のクロムメッキ処理はこれに反してい
る。
However, as a recent trend, a low-pollution surface treatment technique in consideration of the natural environment is desired, and a wet chromium plating treatment, which frequently uses harmful chemicals, is contrary thereto.

【0004】そこで、湿式のクロムメッキ処理に代わる
低公害で耐摩耗性、薬品に対する耐食性に優れ、発色し
た色の視認性が高くなる表面処理技術が望まれていた。
[0004] Therefore, there has been a demand for a surface treatment technique which can replace wet chromium plating, has low pollution, has excellent abrasion resistance, has excellent corrosion resistance to chemicals, and has high visibility of a developed color.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来広く用
いられてきた湿式のクロムメッキ処理に代わり、耐摩耗
性、耐食性などの性能において同等以上で、ノギスのよ
うな測定器に使用した場合の目盛りの視認性が高く、無
公害の表面処理技術を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention replaces the wet chromium plating, which has been widely used in the past, in the case where it is used in a measuring instrument such as a vernier caliper with the same or better performance in wear resistance and corrosion resistance. It is an object of the present invention to provide a pollution-free surface treatment technology with high visibility of the scale.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の多色被膜生成方
法は、イオンプレーティング法で色の異なる被膜を2層
以上重ねてコーティングし、エッチング法またはレーザ
ーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する。
According to the present invention, there is provided a method for forming a multicolored film, comprising coating two or more layers of different colors by ion plating, and partially etching the upper layer by etching or laser marking. Is removed.

【0007】特に、基材にCrメタルボンバード処理を
し、N2 ガス雰囲気のTiAl焼結ターゲットによるイ
オンプレーティング法でTiAlN被膜をコーティング
した上に重ねて、N2 ガス雰囲気のCr金属ターゲット
によるイオンプレーティング法でCrN被膜をコーティ
ングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で上
層のCrN被膜の一部を除去する。前記CrN被膜の膜
厚が、1〜10μmであるとよい。
[0007] In particular, the Cr metal bombardment to the substrate, on top coated with TiAlN coating by ion plating method according TiAl sintered target of N 2 gas atmosphere, ions by Cr metal target of N 2 gas atmosphere A CrN film is coated by a plating method, and a part of the upper CrN film is removed by an etching method or a laser marking method. The thickness of the CrN coating is preferably 1 to 10 μm.

【0008】または、基材にTiメタルボンバード処理
をし、N2 ガス雰囲気のTiAl焼結ターゲットによる
イオンプレーティング法でTiAlN被膜をコーティン
グした上に重ねて、N2 ガス雰囲気のTi金属ターゲッ
トによるイオンプレーティング法でTiN被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層のTiN被膜の一部を除去する。前記TiN被膜の
膜厚が、1〜10μmであるとよい。
[0008] Alternatively, the Ti metal bombardment to the substrate, on top coated with TiAlN coating by ion plating method according TiAl sintered target of N 2 gas atmosphere, ions by Ti metal target of N 2 gas atmosphere A TiN film is coated by a plating method, and a part of the upper TiN film is removed by an etching method or a laser marking method. The TiN film preferably has a thickness of 1 to 10 μm.

【0009】また、これらのTiAl焼結ターゲットに
よるイオンプレーティング法で、ターゲット比率が5
0:50〜30:70のTiAl焼結ターゲットを用
い、バイアス電圧を0〜50Vとし、TiAlN被膜の
膜厚が、1〜6μmであることが好ましい。
In the ion plating method using these TiAl sintered targets, the target ratio is 5%.
It is preferable that the bias voltage is 0 to 50 V and the thickness of the TiAlN film is 1 to 6 μm using a TiAl sintered target of 0:50 to 30:70.

【0010】また、上記とは異なる組成の被膜や、異な
る組み合わせの上下2層の被膜により、同様の発色を行
う多色被膜生成方法として、基材にTiCN、TiAl
N、LaN、MnNのいずれかからなる黒色セラミック
被膜をコーティングした上に重ねて、TiN、ZrN、
YC2 のいずれかからなる金色セラミック被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層の金色セラミック被膜の一部を除去する。
[0010] Further, as a method of producing a multicolored film for forming a similar color by using a film having a composition different from that described above or a film having a different combination of upper and lower layers, TiCN, TiAl
N, LaN, or MnN is coated with a black ceramic coating on top of which TiN, ZrN,
A gold ceramic coating made of any of YC 2 is coated, and a part of the upper gold ceramic coating is removed by an etching method or a laser marking method.

【0011】また、基材にTiCN、TiAlN、La
N、MnNのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコ
ーティングした上に重ねて、CrN、Cr2 N、Ti
C、ZrCのいずれかからなるクロム色セラミック被膜
をコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキ
ング法で上層のクロム色セラミック被膜の一部を除去す
る。
Further, TiCN, TiAlN, La
N, superimposed over coated with black ceramic coating consisting of either MnN, CrN, Cr 2 N, Ti
A chrome ceramic coating made of either C or ZrC is coated, and a part of the upper chrome ceramic coating is removed by etching or laser marking.

【0012】そして、これらの多色被膜生成方法によ
り、測定器である部材に目盛りを設けて、耐摩耗性・耐
食性部材とする。また、本発明の耐摩耗性・耐食性部材
は、各種の部品として広く適用できる。
A scale is provided on a member which is a measuring instrument by these multicolor coating forming methods to obtain a wear-resistant and corrosion-resistant member. Further, the wear-resistant and corrosion-resistant member of the present invention can be widely applied as various parts.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明で使用するイオンプレーテ
ィング法は、湿式クロムメッキ法に代わる性能を持ち、
自然環境を配慮し、低公害で、量産性が高い表面処理技
術(表面改質技術)として、乾式法によるセラミック硬
質被膜生成技術に属する。乾式法により生成されるセラ
ミック硬質被膜は、表面硬度、耐摩耗性、耐食性を向上
させる点で優れていて、切削工具、金型、刃物、装飾部
品、機械部品や電気部品などの各分野の部品に、幅広く
適用される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The ion plating method used in the present invention has a performance alternative to the wet chrome plating method,
As a surface treatment technology (surface modification technology) with low pollution and high mass productivity in consideration of the natural environment, it belongs to a ceramic hard coating generation technology by a dry method. Ceramic hard coatings produced by the dry method are excellent in improving surface hardness, abrasion resistance and corrosion resistance, and are used in various fields such as cutting tools, dies, cutting tools, decorative parts, mechanical parts and electric parts. Widely applied.

【0014】このセラミック硬質被膜を、比較的低い温
度(200〜500℃)で生成できる方法に、イオンプ
レーティング法がある。該イオンプレーティング法で、
例えばノギスを構成する部材の下地側第1層に、黒色系
のセラミック被膜を形成し、続いて該第1層の上に、湿
式クロムメッキにより発色するのと同色のセラミック被
膜を第2層として形成し、レーザーマーキング法または
エッチング法で、第2層のクロム色のセラミック被膜の
一部を蒸発させるか、または除去する。このようにし
て、第1層の黒色セラミック被膜が見えるようにするこ
とで、従来の湿式クロムメッキ法に代わる無公害の多色
被膜生成方法の発明に達した。
An ion plating method is one of the methods that can produce the ceramic hard coating at a relatively low temperature (200 to 500 ° C.). In the ion plating method,
For example, a black ceramic coating is formed on the first layer on the base side of a member constituting a caliper, and a ceramic coating of the same color as the color formed by wet chrome plating is formed on the first layer as a second layer. Once formed, a portion of the chrome-colored ceramic coating of the second layer is evaporated or removed by laser marking or etching. By making the black ceramic coating of the first layer visible in this way, the invention of a pollution-free multicolor coating generation method replacing the conventional wet chrome plating method has been reached.

【0015】イオンプレーティング法は、真空中で被膜
を形成させるときに蒸発粒子をイオン化して運動エネル
ギーを増加させる方法で、被膜特性、密着性、反応性を
高められる点で大変優れている。
The ion plating method is a method of increasing kinetic energy by ionizing evaporated particles when forming a film in a vacuum, and is extremely excellent in that the characteristics, adhesion and reactivity of the film can be enhanced.

【0016】イオンプレーティング法にはイオン化の方
法により、直流放電式、高周波励起式、活性化反応性蒸
着式、ホローカソード式、カソードアーク式などがあ
る。
The ion plating method includes a DC discharge method, a high-frequency excitation method, an activated reactive vapor deposition method, a hollow cathode method, a cathode arc method, and the like, depending on the ionization method.

【0017】本発明では、中でもカソードアーク式イオ
ンプレーティング法が好ましい。この方法では、蒸発源
である金属ターゲットを陰極とし、チャンバーを陽極と
して、これらの間にアーク放電を起こさせ、金属蒸気を
イオン化し、反応ガスも該イオンとの衝突によりイオン
化され、両イオンを部材表面に積層させて被膜を形成す
る。例えば窒化膜を形成する場合は、チャンバー内に窒
素原子を含む反応ガスを導入する。カソードアーク式イ
オンプレーティング法は、金属蒸気のイオン化率が高
く、また、複数の蒸発源をチャンバー内の上下左右に設
置できるので、複合被膜形成に向き、大型な部材や複雑
な形状の部材に、均一な厚さの被膜形成、特に硬質被膜
形成に向いている。
In the present invention, the cathodic arc ion plating method is particularly preferred. In this method, a metal target, which is an evaporation source, is used as a cathode, and a chamber is used as an anode. An arc discharge is generated between the two, ionizing the metal vapor, and the reaction gas is also ionized by collision with the ions. A film is formed by laminating on the surface of the member. For example, when a nitride film is formed, a reaction gas containing nitrogen atoms is introduced into the chamber. The cathodic arc ion plating method has a high ionization rate of metal vapor and multiple evaporation sources can be installed at the top, bottom, left and right inside the chamber. Suitable for forming a film having a uniform thickness, particularly for forming a hard film.

【0018】本発明における基材は、基材の熱処理温度
が200℃以上ならほとんどの材質の基材を使用するこ
とができる。SUS420J2のように焼き戻し温度が
200℃以下と低い部材の場合は、コーティング温度が
200℃を超えないようにする必要がある。そのため、
赤外線放射温度計で部材の温度を測定しながら、成膜条
件をコントロールすることが望ましい。
As the substrate in the present invention, a substrate of almost any material can be used if the heat treatment temperature of the substrate is 200 ° C. or higher. In the case of a member whose tempering temperature is as low as 200 ° C. or less, such as SUS420J2, it is necessary to keep the coating temperature from exceeding 200 ° C. for that reason,
It is desirable to control the film forming conditions while measuring the temperature of the member with an infrared radiation thermometer.

【0019】また、例えば、ノギスに用いる部材の材質
はSUS420J2で、焼き戻し温度が200℃付近な
ので低温でコーティングする必要がある。このような低
温コーティングを行うためには、メタルボンバードを一
定時間行った上で、電流を調整し、コーティング中の部
材の温度を赤外線温度計で監視しながら行うことが好ま
しい。
Further, for example, the material of the member used for the caliper is SUS420J2 and the tempering temperature is around 200 ° C., so that it is necessary to coat at a low temperature. In order to perform such low-temperature coating, it is preferable to perform metal bombarding for a certain period of time, adjust the current, and monitor the temperature of the member being coated with an infrared thermometer.

【0020】色が異なるセラミックコーティングを形成
するのには、公知のイオンプレーティング法により、例
えば二色にするなら、二個の異なるターゲットをセット
し、作製する化合物に応じてガスを選択し、真空チャン
バーに流せばよい。
In order to form a ceramic coating having a different color, a known ion plating method is used. For example, in the case of two colors, two different targets are set, and a gas is selected according to a compound to be produced. What is necessary is just to flow into a vacuum chamber.

【0021】発色可能な色としては、例えば以下の色を
発色するのに、いくつかの組成の異なる被膜が考えら
れ、それぞれの被膜の生成は、蒸発源に使用するターゲ
ットおよび雰囲気が異なる。
As colors that can be formed, for example, films having different compositions can be considered for forming the following colors, and the formation of each film is different from the target used in the evaporation source and the atmosphere.

【0022】クロム色、灰色の発色には、ターゲットを
Crとして、雰囲気をN2 として生成するCrN被膜、
ターゲットをCrとして、雰囲気をN2 として、前記と
条件を変えて生成するCr2 N被膜、ターゲットをTi
として、雰囲気をC22+ArまたはCH4 +Arとし
て生成するTiC被膜、ターゲットをZrとして、雰囲
気をC22+ArまたはCH4 +Arとして生成するZ
rC被膜のいずれかを選択する。
For a chromium or gray color, a CrN film which forms the target as Cr and the atmosphere as N 2 ,
The target is Cr, the atmosphere is N 2 , the Cr 2 N film is formed under the same conditions as above, and the target is Ti.
TiC film generated as C 2 H 2 + Ar or CH 4 + Ar as an atmosphere, Zr as a target, and Z generated as an atmosphere as C 2 H 2 + Ar or CH 4 + Ar
Select one of the rC coatings.

【0023】紫色、黒色の発色には、ターゲットをTi
として、雰囲気をC22+N2 +ArまたはCH4 +N
2 +Arとして生成するTiCN被膜、ターゲットをT
iAlとして、雰囲気をN2 として生成するTiAlN
被膜、ターゲットをLaとして、雰囲気をN2 として生
成するLaN被膜、ターゲットをMnとして、雰囲気を
2 として生成するMnN被膜のいずれかを選択する。
For purple and black colors, the target is Ti
The atmosphere is C 2 H 2 + N 2 + Ar or CH 4 + N
TiCN film generated as 2 + Ar, target is T
TiAlN generated as iAl and atmosphere as N 2
One of a LaN film that generates a film and a target of La and an atmosphere of N 2 , and a MnN film that generates a target of Mn and an atmosphere of N 2 is selected.

【0024】金色の発色には、ターゲットをTiとし
て、雰囲気をN2 として生成するTiN被膜、ターゲッ
トをZrとして、雰囲気をN2 として生成するZrN被
膜、ターゲットをYとして、雰囲気をC22+Arまた
はCH4 +Arとして生成するYC2 被膜のいずれかを
選択する。
[0024] The gold color, a target as Ti, TiN coating film that produces the atmosphere as N 2, a target as Zr, ZrN coatings to generate the atmosphere as N 2, a target as Y, the atmosphere C 2 H 2 + Ar or YC 2 coating generated as CH 4 + Ar is selected.

【0025】多色にして、視認性、装飾性を高めるため
に、前記発色可能な色から下地色、上地色を選択して上
下二層の被膜を生成してから、上層被膜を任意のパター
ンで取り去れば、下層被膜の色が浮き出て上層被膜の色
とで、多色を有する部材ができる。
In order to increase the visibility and decorativeness of a multicolor, a base color and a top ground color are selected from the colors that can be formed to form upper and lower two-layer coatings. If removed in a pattern, the color of the lower layer film becomes prominent and the color of the upper layer film becomes a multicolored member.

【0026】任意のパターンを形成する方法としては、
マスクを用いて薬品で上層被膜を溶かすエッチング法、
レーザーで最外表面を気化させて上層被膜を取り去るレ
ーザーマーキング法等が知られているが、量産性を考慮
するとレーザーマーキング法が望ましい。
As a method of forming an arbitrary pattern,
An etching method that dissolves the upper layer film with a chemical using a mask,
A laser marking method for removing the upper layer film by vaporizing the outermost surface with a laser is known, but a laser marking method is desirable in consideration of mass productivity.

【0027】下地色に黒色、上地色にクロム色を発色さ
せる場合は、黒色被膜として作成が容易で、被膜硬度が
高く、耐熱性が高いTiAlN被膜が望ましい。
When a black color is used as the base color and a chrome color is used as the top color, a TiAlN film which is easy to prepare as a black film, has high film hardness, and has high heat resistance is desirable.

【0028】すなわち、TiAlのターゲットを蒸発さ
せて、窒素ガスと反応させて、TiAlN被膜を生成す
る。TiAlのターゲット比率は50:50〜30:7
0の範囲を成膜条件として、バイアス電圧を0〜50V
にすると、視認性が高い黒色を発色させることができ
る。また、TiAlN被膜の内部応力が高いので、厚く
すると被膜が基材から剥離することがあるので、耐摩耗
性も考慮して、1〜6μmの膜厚が望ましい。
That is, the TiAl target is evaporated and reacted with nitrogen gas to form a TiAlN film. The target ratio of TiAl is 50:50 to 30: 7
The bias voltage is 0 to 50 V, with the range of 0 as the film forming condition.
In this case, black with high visibility can be developed. Further, since the internal stress of the TiAlN film is high, if the film is thickened, the film may peel off from the base material. Therefore, the film thickness is preferably 1 to 6 μm in consideration of wear resistance.

【0029】クロム色被膜としては、製造が容易で耐摩
耗、耐食性に優れるCrN被膜が望ましい。
As the chromium coating, a CrN coating which is easy to manufacture and has excellent wear resistance and corrosion resistance is desirable.

【0030】すなわち、Cr金属ターゲットを蒸発さ
せ、窒素ガスと反応させて、CrN被膜を生成する。C
rN被膜の膜厚は1〜10μmが望ましい。膜厚が1μ
mより薄いと十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、10
μmより厚いと、寸法精度が悪くなりコストが上昇す
る。
That is, the Cr metal target is evaporated and reacted with nitrogen gas to form a CrN coating. C
The thickness of the rN coating is preferably 1 to 10 μm. 1μ thickness
If the thickness is less than 10 m, sufficient abrasion resistance and corrosion resistance cannot be obtained and 10
When the thickness is more than μm, the dimensional accuracy is deteriorated and the cost is increased.

【0031】下地もしくは上地に、金色を出したいとき
には、被膜作成の容易さ、被膜性能の高さからTiN被
膜が望ましい。Ti金属ターゲットを蒸発させ、窒素ガ
スと反応させて、TiN被膜を生成する。TiN被膜の
膜厚は1〜10μmが望ましい。膜厚が1μmより薄い
と十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、10μmより厚
いと、寸法精度が悪くなりコーティング時間が長くな
り、量産性が悪くなりコストが上昇する。
When it is desired to give a gold color to the underlayer or the upper layer, a TiN film is desirable from the viewpoint of ease of film formation and high film performance. The Ti metal target is evaporated and reacted with nitrogen gas to produce a TiN coating. The thickness of the TiN film is preferably 1 to 10 μm. If the thickness is less than 1 μm, sufficient abrasion resistance and corrosion resistance cannot be obtained. If the thickness is more than 10 μm, dimensional accuracy deteriorates, coating time becomes longer, mass productivity decreases, and cost increases.

【0032】本発明においては、作製パターンの自由度
の高さや量産性を考えると、レーザー加工が適してい
る。レーザー発振器には、レーザー媒体や発振方法の違
いで各種があるが、小型、制御性、加工性の高さからレ
ーザー媒体に光学結晶を用いる固定レーザーが望まし
い。固体レーザーの中で産業界で広く使用され、製品群
も多いYAGレーザーを使用するのが望ましい。
In the present invention, laser processing is suitable in consideration of the high degree of freedom of the production pattern and mass productivity. There are various types of laser oscillators depending on the laser medium and the oscillation method, but a fixed laser using an optical crystal as the laser medium is preferable because of its small size, controllability, and workability. Among solid-state lasers, it is desirable to use a YAG laser that is widely used in the industry and has many products.

【0033】YAGレーザーは、イットリウム、アルミ
ニウムおよびガーネットの頭文字をとったもので、これ
らからなる結晶に、ネオジウムをドープしてレーザー媒
質として用いられるもので、Nd:YAGレーザーと呼
ばれ、発振波長は1.064μmである。
The YAG laser is an acronym for yttrium, aluminum and garnet, and is used as a laser medium by doping neodymium into a crystal composed of these, and is called an Nd: YAG laser and has an oscillation wavelength. Is 1.064 μm.

【0034】YAGレーザーの発振形態は連続波(C
W)発振、パルス発振、超音波変調素子を使用して連続
波をパルス化する発振(Qスイッチ発振)がある。CW
発振は連続的にアークランプの光で励起して連続波を出
す。パルス発振は、キセノンガスが封入されたフラッシ
ュランプで励起される。Qスイッチ発振は、連続発振器
の中にA.O.素子(Acoustic-Optic Element)を挿入
し、CW発振のパルス化を行う。
The oscillation mode of the YAG laser is a continuous wave (C
W) Oscillation, pulse oscillation, and oscillation (Q-switch oscillation) in which a continuous wave is pulsed using an ultrasonic modulation element. CW
The oscillation is continuously excited by the light of the arc lamp to emit a continuous wave. The pulse oscillation is excited by a flash lamp filled with xenon gas. The Q-switch oscillation is the A.S. O. An element (Acoustic-Optic Element) is inserted, and CW oscillation is pulsed.

【0035】この中で、本発明に適したYAGレーザー
の発振方法として、ランプの価格、低出力、加工性の高
さ、レーザー光を任意のパターンに照射するために、ス
キャンニング性の高さから、YAG(Qスイッチ発振)
レーザーを用いることが望ましい。
Among them, as a method of oscillating a YAG laser suitable for the present invention, the price of a lamp, low output, high workability, and high scanning performance in order to irradiate a laser beam onto an arbitrary pattern are considered. From, YAG (Q switch oscillation)
It is desirable to use a laser.

【0036】二色でパターンを形成するため、最外表面
の被膜を瞬時に気化させて下層被膜にレーザーの熱で極
端な変色を起こさないようにする必要がある。レーザー
出力、発振周波数、パターンを描くスキャンニング速
度、レーザービーム径で加工条件が決定される。レーザ
ー出力が小さすぎたり、スキャンニング速度が高すぎる
と、パターンが明確に形成できなかったり、下層被膜の
色が薄れたりする。
In order to form a pattern with two colors, it is necessary to instantaneously vaporize the coating on the outermost surface so that the lower coating does not undergo extreme discoloration due to the heat of the laser. Processing conditions are determined by laser output, oscillation frequency, scanning speed for drawing a pattern, and laser beam diameter. If the laser output is too low or the scanning speed is too high, the pattern cannot be clearly formed, or the color of the underlayer film becomes faint.

【0037】レーザー条件は、被膜の融点、気化温度、
膜厚、作業速度、視認性で決定される。膜厚が10μm
以下の窒化膜では、レーザー出力を90〜150Wと
し、スキャンニング速度を120〜200nm/sec
としたパターンは、上層被膜のみを気化できて、視認性
の高いパターンが形成できる。
The laser conditions include the melting point of the coating, the vaporization temperature,
It is determined by film thickness, work speed, and visibility. 10 μm thick
In the following nitride films, the laser output is set to 90 to 150 W, and the scanning speed is set to 120 to 200 nm / sec.
In the pattern described above, only the upper layer coating can be vaporized, and a pattern with high visibility can be formed.

【0038】(実施例1)最外表面はクロム色にし、目
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてSUS
420J2で作られた全長230mmのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が200℃で、硬度がHR
C52である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、#220〜320のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Cr金属ターゲットとTiAl
(50%:50%)焼結ターゲットを備えた。
(Example 1) SUS is used as a member for forming a two-color coating in which the outermost surface is chrome and the scale is black.
A caliper made of 420J2 and having a total length of 230 mm was used. This material has a tempering temperature of 200 ° C and a hardness of HR
C52. For the surface finish, honing processing of # 220 to # 320 is applied for the purpose of preventing reflection. After this member was ultrasonically cleaned with ethanol, it was set in a chamber of a cathode arc ion plating apparatus. For the ion plating device, a Cr metal target and TiAl
(50%: 50%) A sintered target was provided.

【0039】真空チャンバーを2×10-5Torr以下
まで排気した。続いて、−800Vのバイアス電圧を印
加し、母材が200℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、N2 ガスを30mTo
rrまで導入し、バイアス電圧を−50VにしてTiA
lN被膜を膜厚4μmにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、190℃で成膜できるように電流値を
調整した。成膜終了後、再度、N2 ガスを50mTor
rまで導入し、バイアス電圧を−300VでCrN被膜
を膜厚2μmにコーティングした。このときも、成膜温
度が190℃を超えないようにした。
The vacuum chamber was evacuated to 2 × 10 −5 Torr or less. Subsequently, a -800 V bias voltage was applied, and a chromium metal bombardment treatment was performed so that the base material did not exceed 200 ° C. Next, N 2 gas is supplied for 30 mTo.
rr, a bias voltage of -50 V
The 1N film was coated to a thickness of 4 μm. The temperature of the coating was measured with an infrared radiation thermometer so that the base material would not be dull, and the current value was adjusted so that a film could be formed at 190 ° C. After the film formation, the N 2 gas is again supplied with 50 mTorr.
r, and a CrN film was coated to a thickness of 2 μm at a bias voltage of −300 V. Also at this time, the film formation temperature was set not to exceed 190 ° C.

【0040】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはYAGレーザーマーキング装置である。
The calipers on which the two-layer coating was formed in this manner were engraved by laser marking. The laser used was a YAG laser marking device.

【0041】レーザー出力120W、周波数44kH
z、走査速度200mm/secの条件で加工し、最外
表面はCrNのクロム色で、目盛りに淡い黒色のTiA
lNの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が704HVであり、湿式のクロムメッキ法
の場合の硬度の613HVを上回った。耐摩耗性は目盛
りの場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験
を行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
Laser power 120 W, frequency 44 kHz
Processed under the conditions of z and scanning speed of 200 mm / sec, the outermost surface is a chromium color of CrN, and light black TiA
1N color was obtained. The coating performance after the laser marking was 704 HV in hardness, which exceeded the hardness of 613 HV in the case of wet chrome plating. Abrasion resistance was tested by scratching the scale area with a fingernail and rubbing with a sand eraser, and was equivalent to the wet chrome plating method.

【0042】(実施例2)最外表面はクロム色にし、目
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてSUS
420J2で作られた全長230mmのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が200℃で、硬度がHR
C52である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、#220〜320のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Cr金属ターゲットとTiAl
(40%:60%)焼結ターゲットを備えた。
(Example 2) SUS is used as a member for forming a two-color film in which the outermost surface is colored chrome and the scale is black.
A caliper made of 420J2 and having a total length of 230 mm was used. This material has a tempering temperature of 200 ° C and a hardness of HR
C52. For the surface finish, honing processing of # 220 to # 320 is applied for the purpose of preventing reflection. After this member was ultrasonically cleaned with ethanol, it was set in a chamber of a cathode arc ion plating apparatus. For the ion plating device, a Cr metal target and TiAl
(40%: 60%) A sintered target was provided.

【0043】真空チャンバーを2×10-5Torr以下
まで排気した。続いて、−800Vのバイアス電圧を印
加し、母材が200℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、N2 ガスを30mTo
rrまで導入し、バイアス電圧を−50VにしてTiA
lN被膜を膜厚3μmにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、190℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、N2 ガスを50mTorr
まで導入し、バイアス電圧を−300VでCrN被膜を
膜厚8μmにコーティングした。このときも、成膜温度
が190℃を超えないようにした。
The vacuum chamber was evacuated to 2 × 10 −5 Torr or less. Subsequently, a -800 V bias voltage was applied, and a chromium metal bombardment treatment was performed so that the base material did not exceed 200 ° C. Next, N 2 gas is supplied for 30 mTo.
rr, a bias voltage of -50 V
The 1N film was coated to a thickness of 3 μm. The current value was adjusted so that the temperature of the coating did not exceed 190 ° C. while measuring with an infrared radiation thermometer so that the base material would not be dulled. After the film formation is completed, N 2 gas is again supplied at 50 mTorr.
, And a CrN film was coated to a thickness of 8 μm at a bias voltage of −300 V. Also at this time, the film formation temperature was set not to exceed 190 ° C.

【0044】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはYAGレーザーマーキング装置である。
The calipers on which the two-layer coating was formed in this manner were engraved by laser marking. The laser used was a YAG laser marking device.

【0045】レーザー出力120W、周波数44kH
z、走査速度200mm/secの条件で加工し、最外
表面はCrNのクロム色で、目盛りに淡い黒色のTiA
lNの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が693HVであり、湿式のクロムメッキ法
場合の硬度の613HVを上回った。耐摩耗性は目盛り
の場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を
行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
Laser output: 120 W, frequency: 44 kHz
Processed under the conditions of z and scanning speed of 200 mm / sec, the outermost surface is a chromium color of CrN, and light black TiA
1N color was obtained. The coating performance after the laser marking was 693 HV in hardness, which exceeded the hardness of 613 HV in the wet chrome plating method. Abrasion resistance was tested by scratching the scale area with a fingernail and rubbing with a sand eraser, and was equivalent to the wet chrome plating method.

【0046】(実施例3)最外表面は金色にし、目盛り
を黒色にする二色被膜生成を行う部材としてSUS42
0J2で作られた全長230mmのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が200℃で、硬度がHRC5
2である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
#220〜320のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ti金属ターゲットとTiAl(40
%:60%)焼結ターゲットを備えた。
(Example 3) SUS42 was used as a member for forming a two-color coating in which the outermost surface was gold and the scale was black.
A caliper made of 0J2 and having a total length of 230 mm was used.
This material has a tempering temperature of 200 ° C and a hardness of HRC5
2. Surface finish is for anti-reflection and appearance,
Honing processing of # 220 to # 320 is performed. After this member was ultrasonically cleaned with ethanol, it was set in a chamber of a cathode arc ion plating apparatus. For the ion plating apparatus, a Ti metal target and a TiAl (40
%: 60%) A sintered target was provided.

【0047】真空チャンバーを2×10-5Torr以下
まで排気した。続いて、−800Vのバイアス電圧を印
加し、母材が200℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、N2 ガスを30mTo
rrまで導入し、バイアス電圧を−50VにしてTiA
lN被膜を膜厚4μmにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、190℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、N2 ガスを50mTorr
まで導入し、バイアス電圧を−300VでCrN被膜を
膜厚2μmにコーティングした。このときも、成膜温度
が190℃を超えないようにした。
The vacuum chamber was evacuated to 2 × 10 −5 Torr or less. Subsequently, a -800 V bias voltage was applied, and a chromium metal bombardment treatment was performed so that the base material did not exceed 200 ° C. Next, N 2 gas is supplied for 30 mTo.
rr, a bias voltage of -50 V
The 1N film was coated to a thickness of 4 μm. The current value was adjusted so that the temperature of the coating did not exceed 190 ° C. while measuring with an infrared radiation thermometer so that the base material would not be dulled. After the film formation is completed, N 2 gas is again supplied at 50 mTorr.
, And a CrN film was coated to a thickness of 2 μm at a bias voltage of −300 V. Also at this time, the film formation temperature was set not to exceed 190 ° C.

【0048】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはYAGレーザーマーキング装置である。
The calipers on which the two-layer coating was formed in this manner were engraved with a scale by a laser marking method. The laser used was a YAG laser marking device.

【0049】レーザー出力120W、周波数44kH
z、走査速度200mm/secの条件で加工し、最外
表面はTiNの金色で、目盛りに淡い黒色のTiAlN
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が704HVであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかく、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
Laser output: 120 W, frequency: 44 kHz
Processed under the conditions of z and scanning speed of 200 mm / sec, the outermost surface is gold of TiN, and the scale is pale black TiAlN
I got the color. Regarding the film performance after the completion of the laser marking, the hardness was 704 HV. Abrasion resistance was tested by scratching the scale with a fingernail and rubbing with a sand eraser, and was equivalent to the wet chrome plating method.

【0050】また、二層被膜を形成したノギスに、異な
る仕様のレーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使
用したレーザーはYAGレーザーマーキング装置であ
る。
Further, a scale was engraved on the caliper formed with the two-layer coating by a laser marking method having different specifications. The laser used was a YAG laser marking device.

【0051】レーザー出力100W、周波数44kH
z、走査速度180mm/secの条件で加工し、最外
表面はTiNの金色で、目盛りに淡い黒色のTiAlN
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が804HVであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
Laser output 100 W, frequency 44 kHz
z, the scanning speed is 180 mm / sec, the outermost surface is gold of TiN, and the scale is pale black TiAlN
I got the color. Regarding the film performance after the completion of the laser marking, the hardness was 804 HV. Abrasion resistance was tested by scratching the scale area with a fingernail and rubbing with a sand eraser, and was equivalent to the wet chrome plating method.

【0052】(実施例4)最外表面は黒色にし、目盛り
を金色にする二色被膜生成を行う部材としてSUS42
0J2で作られた全長230mmのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が200℃で、硬度がHRC5
2である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
#220〜320のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ti金属ターゲットとTiAl(40
%:60%)焼結ターゲットを備えた。
(Example 4) SUS42 was used as a member for forming a two-color film in which the outermost surface was black and the scale was gold.
A caliper made of 0J2 and having a total length of 230 mm was used.
This material has a tempering temperature of 200 ° C and a hardness of HRC5
2. Surface finish is for anti-reflection and appearance,
Honing processing of # 220 to # 320 is performed. After this member was ultrasonically cleaned with ethanol, it was set in a chamber of a cathode arc ion plating apparatus. For the ion plating apparatus, a Ti metal target and a TiAl (40
%: 60%) A sintered target was provided.

【0053】真空チャンバーを2×10-5Torr以下
まで排気した。続いて、−800Vのバイアス電圧を印
加し、母材が220℃を超えないように、チタンメタル
ボンバード処理を行った。次に、N2 ガスを30mTo
rrまで導入し、バイアス電圧を−50VにしてTiA
lN被膜を膜厚4μmにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、190℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、N2 ガスを50mTorr
まで導入し、バイアス電圧を−300VでCrN被膜を
膜厚2μmにコーティングした。このときも、成膜温度
が190℃を超えないようにした。
The vacuum chamber was evacuated to 2 × 10 −5 Torr or less. Subsequently, a bias voltage of -800 V was applied, and titanium metal bombardment was performed so that the base material did not exceed 220 ° C. Next, N 2 gas is supplied for 30 mTo.
rr, a bias voltage of -50 V
The 1N film was coated to a thickness of 4 μm. The current value was adjusted so that the temperature of the coating did not exceed 190 ° C. while measuring with an infrared radiation thermometer so that the base material would not be dulled. After the film formation is completed, N 2 gas is again supplied at 50 mTorr.
And a CrN film was coated to a thickness of 2 μm at a bias voltage of −300 V. Also at this time, the film formation temperature was set not to exceed 190 ° C.

【0054】このように、二層被膜を形成したノギスに
レーザーマーキングで目盛りを刻印した。使用したレー
ザーはYAGレーザーマーキング装置である。
In this way, the calipers formed with the two-layer coating were marked with laser markings. The laser used was a YAG laser marking device.

【0055】レーザー出力140W、周波数44kH
z、走査速度180mm/secの条件で加工し、最外
表面はTiAlNの黒色で、目盛りに金色のTiNの色
が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能は、硬
度が630HVであった。耐摩耗性は目盛りの場所を爪
で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行い、湿式
のクロムメッキ法の場合と同等であった。
Laser output 140 W, frequency 44 kHz
Processing was performed under the conditions of z and a scanning speed of 180 mm / sec, and the outermost surface was black of TiAlN, and golden TiN was able to be displayed on the scale. Regarding the film performance after the completion of the laser marking, the hardness was 630 HV. Abrasion resistance was tested by scratching the scale area with a fingernail and rubbing with a sand eraser, and was equivalent to the wet chrome plating method.

【0056】(比較例)比較例として、従来技術による
製造方法を行った。全長230mmのノギスの部材はS
US420J2で作られ、焼き戻し温度が200℃で、
硬度がHRC52である。表面仕上げは、反射防止のた
めと外観的に、#220〜320のホーニング加工が施
されている。この上に、湿式のクロムメッキ法により膜
厚10μmの被膜を施した。表面硬度は612HVと低
かった。
(Comparative Example) As a comparative example, a manufacturing method according to a conventional technique was performed. The caliper member with a total length of 230 mm is S
Made of US420J2, tempering temperature is 200 ℃,
The hardness is HRC52. For the surface finish, honing processing of # 220 to # 320 is applied for the purpose of preventing reflection. A film having a thickness of 10 μm was formed thereon by a wet chrome plating method. The surface hardness was as low as 612 HV.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明の方法によれば、従来広く用いら
れてきた湿式のクロムメッキ法に代わり、表面硬度など
の性能で同等以上で、目盛りの視認性が高い無公害の表
面処理技術を提供できる。
According to the method of the present invention, a non-polluting surface treatment technique which has the same or better performance in surface hardness and the like and high visibility of the scale is used instead of the wet chromium plating method which has been widely used in the past. Can be provided.

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 イオンプレーティング法で色の異なる被
膜を2層以上重ねてコーティングし、エッチング法また
はレーザーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する
多色被膜生成方法。
1. A method for producing a multicolored film, comprising coating two or more layers of different colors by ion plating, and removing part of the upper layer by etching or laser marking.
【請求項2】 基材にCrメタルボンバード処理をし、
2 ガス雰囲気のTiAl焼結ターゲットによるイオン
プレーティング法でTiAlN被膜をコーティングした
上に重ねて、N2 ガス雰囲気のCr金属ターゲットによ
るイオンプレーティング法でCrN被膜をコーティング
し、エッチング法またはレーザーマーキング法で上層の
CrN被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。
2. The substrate is subjected to a Cr metal bombardment treatment,
On top coated with TiAlN coating by ion plating method according TiAl sintered target of N 2 gas atmosphere, coating the CrN film by ion plating method using Cr metal target of N 2 gas atmosphere, etching or laser marking A method for forming a multicolored film by removing a part of the upper CrN film by a method.
【請求項3】 前記CrN被膜の膜厚が、1〜10μm
であることを特徴とする請求項2に記載の多色被膜生成
方法。
3. The film thickness of the CrN film is 1 to 10 μm.
The method according to claim 2, wherein:
【請求項4】 基材にTiメタルボンバード処理をし、
2 ガス雰囲気のTiAl焼結ターゲットによるイオン
プレーティング法でTiAlN被膜をコーティングした
上に重ねて、N2 ガス雰囲気のTi金属ターゲットによ
るイオンプレーティング法でTiN被膜をコーティング
し、エッチング法またはレーザーマーキング法で上層の
TiN被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。
4. The substrate is subjected to Ti metal bombardment treatment,
On top coated with TiAlN coating by ion plating method according TiAl sintered target of N 2 gas atmosphere, coated with TiN coating in an ion plating method using Ti metal target of N 2 gas atmosphere, etching or laser marking A method of forming a multicolored film by removing a part of an upper TiN film by a method.
【請求項5】 前記TiN被膜の膜厚が、1〜10μm
であることを特徴とする請求項4に記載の多色被膜生成
方法。
5. The TiN film has a thickness of 1 to 10 μm.
The method according to claim 4, wherein:
【請求項6】 前記TiAl焼結ターゲットによるイオ
ンプレーティング法は、ターゲット比率が50:50〜
30:70のTiAl焼結ターゲットを用いることを特
徴とする請求項2から5のいずれかに記載の多色被膜生
成方法。
6. An ion plating method using the TiAl sintered target, wherein the target ratio is 50:50 to
The method for producing a multicolor coating according to any one of claims 2 to 5, wherein a 30:70 TiAl sintered target is used.
【請求項7】 前記TiAl焼結ターゲットによるイオ
ンプレーティング法は、バイアス電圧を0〜50Vにし
たことを特徴とする請求項2から6のいずれかに記載の
多色被膜生成方法。
7. The method for producing a multicolor film according to claim 2, wherein the ion plating method using the TiAl sintered target has a bias voltage of 0 to 50 V.
【請求項8】 前記TiAlN被膜の膜厚が、1〜6μ
mであることを特徴とする請求項2から7のいずれかに
記載の多色被膜生成方法。
8. The TiAlN film has a thickness of 1 to 6 μm.
The method for producing a multicolored film according to any one of claims 2 to 7, wherein m is m.
【請求項9】 基材にTiCN、TiAlN、LaN、
MnNのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコーテ
ィングした上に重ねて、TiN、ZrN、YC2 のいず
れかからなる金色セラミック被膜をコーティングし、エ
ッチング法またはレーザーマーキング法で上層の金色セ
ラミック被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。
9. The method according to claim 1, wherein the base material is TiCN, TiAlN, LaN,
On top coated a black ceramic coating consisting of either MnN, TiN, ZrN, coated gold ceramic coating consisting of either YC 2, part of the upper gold ceramic coating by etching or laser marking method A method for producing a multicolored film that removes carbon.
【請求項10】 基材にTiCN、TiAlN、La
N、MnNのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコ
ーティングした上に重ねて、CrN、Cr2 N、Ti
C、ZrCのいずれかからなるクロム色セラミック被膜
をコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキ
ング法で上層のクロム色セラミック被膜の一部を除去す
る多色被膜生成方法。
10. A substrate comprising TiCN, TiAlN, La
N, superimposed over coated with black ceramic coating consisting of either MnN, CrN, Cr 2 N, Ti
A method of forming a multicolor film, in which a chromium ceramic film made of either C or ZrC is coated and a part of the upper chromium ceramic film is removed by an etching method or a laser marking method.
【請求項11】 請求項1から10のいずれかに記載の
多色被膜生成方法により、表面に多色被膜が生成された
ことを特徴とする耐摩耗性・耐食性多色部材。
11. An abrasion-resistant and corrosion-resistant multicolored member, wherein a multicolored film is formed on a surface by the method for producing a multicolored film according to any one of claims 1 to 10.
【請求項12】 請求項1から10のいずれかに記載の
多色被膜生成方法により、測定器である基材に目盛りを
設けたことを特徴とする耐摩耗性・耐食性多色部材。
12. A wear-resistant and corrosion-resistant multicolored member, wherein a scale is provided on a base material as a measuring device by the method for producing a multicolored film according to any one of claims 1 to 10.
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