JP2000080271A - Dielectric paste and dielectric film obtained therefrom - Google Patents

Dielectric paste and dielectric film obtained therefrom

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JP2000080271A
JP2000080271A JP25093298A JP25093298A JP2000080271A JP 2000080271 A JP2000080271 A JP 2000080271A JP 25093298 A JP25093298 A JP 25093298A JP 25093298 A JP25093298 A JP 25093298A JP 2000080271 A JP2000080271 A JP 2000080271A
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JP
Japan
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dielectric
formula
polyimide precursor
weight
paste
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JP25093298A
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Soichiro Kishimoto
聡一郎 岸本
Keitaro Seto
圭太郎 瀬戸
Shigeki Imamura
茂樹 今村
Yoshiaki Echigo
良彰 越後
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Unitika Ltd
Original Assignee
Unitika Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject paste capable of being easily coated and having a low viscosity even with a high solid ratio by bringing the paste to contain dielectric powder in a specific polyimide precursor varnish. SOLUTION: The objective paste is obtained by bringing 100 pts.wt. of (A) a polyimide precursor varnish obtained by dissolving 5-80 wt.% of a mixture, which constitutes a polyimide precursor, of (i) a diamine expressed by formula I [R1 and R2 are each formula II or the like, formula III or the like; R3 and R4 are each H or a 1-5C alkyl; (m) is 0-10] with (ii) a tetracarboxylic acid (ester) expressed by formula IV (R5 to R8 are each H or a 1-5C alkyl) to contain preferably 0.5-200 pts.wt., more preferably 10-150 pts.wt. of (B) dielectric powder having preferably 0.05-10 μm. The blended amount of the ingredient (i) in 100 pts.wt. of the mixture of the ingredient (i) with the ingredient (ii) is preferably 20-99 pts.wt. As the ingredient B, barium titanate, strontium titanate, etc., are cited.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ポリイミド前駆体
ワニス中に誘電体粉末が含有している誘電体ペースト及
びそれから得られる誘電体膜に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dielectric paste containing a dielectric powder in a polyimide precursor varnish and a dielectric film obtained therefrom.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報通信機器や各種電子機器の小
型・軽量化の要求に伴って、各種基板に実装されるキャ
パシタ、インダクタ、レジスタなどの新しい部品形成技
術や、実装技術、回路設計技術の開発が進められてい
る。また、情報通信回路の大伝送容量化、高速化に伴う
高周波化には、伝送損失の小さい回路が求められてい
る。セラミック基板は従来のプリント基板に比較して高
周波域での伝送損失が小さいことが良く知られている。
またセラミック多層基板上にキャパシタやインダクタ、
レジスタを薄膜として形成することにより信号配線長の
短縮に伴う低伝送損失化と小型軽量化が可能になるとし
て注目を集めている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the demand for smaller and lighter information communication devices and various electronic devices, new component forming technologies such as capacitors, inductors, and resistors mounted on various substrates, mounting technologies, and circuit design technologies. Is being developed. Further, in order to increase the transmission capacity of information communication circuits and to increase the frequency with an increase in speed, a circuit having a small transmission loss is required. It is well known that a ceramic substrate has a smaller transmission loss in a high frequency range than a conventional printed circuit board.
In addition, capacitors, inductors,
Attention has been paid to the fact that forming a resistor as a thin film enables a reduction in transmission loss and a reduction in size and weight due to a reduction in signal wiring length.

【0003】この中で、従来薄膜キャパシタの形成方法
としては、乾式法として蒸着法やスパッタリング法が、
湿式法としてはゾルゲル法が良く知られており、これら
の方法を用いて、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バ
リウム、酸化タンタル等の強誘電性の薄膜を形成するこ
とにより薄膜キャパシタとしていた。しかしながら従来
用いられてきた蒸着やスパッタリング法では、比誘電率
が製膜温度によって変化するため製膜温度の厳密なコン
トロールが必要であり、500℃以上の高温が必要であ
った。また、ゾルゲル法では700℃を超える高い温度
が強誘電体薄膜の結晶化を進めるのに必要であり、この
ためキャパシタを接続する電極材料の高温による劣化が
問題となっていた。さらに、これらの方法によれば薄膜
のパターニングを予めレジスト剤を用いて行うことが必
要であり、基板へのパターンニング、薄膜形成、レジス
トの除去という煩雑な工程が必要であると言う問題が有
った。この様な問題から、基板上へコーティングした
り、印刷したりして、熱処理を行うだけで誘電体薄膜の
形成が可能な誘電体ペーストが求められてきた。
Among the conventional methods for forming a thin film capacitor, a vapor deposition method and a sputtering method are used as dry methods.
As a wet method, a sol-gel method is well known, and a ferroelectric thin film such as strontium titanate, barium titanate, or tantalum oxide is formed by using these methods to form a thin film capacitor. However, in the conventionally used vapor deposition or sputtering method, the relative permittivity changes depending on the film forming temperature, so that strict control of the film forming temperature is required, and a high temperature of 500 ° C. or more is required. Further, in the sol-gel method, a high temperature exceeding 700 ° C. is required to promote crystallization of the ferroelectric thin film, and therefore, deterioration of an electrode material connecting a capacitor due to high temperature has been a problem. Furthermore, according to these methods, it is necessary to perform patterning of a thin film using a resist agent in advance, and there is a problem that complicated steps of patterning a substrate, forming a thin film, and removing a resist are required. Was. From such a problem, a dielectric paste capable of forming a dielectric thin film simply by coating or printing on a substrate and performing heat treatment has been required.

【0004】一方、従来からジメチルフォルムアミドや
N−メチルピロリドンを溶剤とし、ポリアミド酸を溶解
したポリイミド前駆体溶液が良く知られており、またこ
の様なポリイミド前駆体ワニス中に種々のフィラーを分
散させることも種々の文献により公知である。この技術
を応用すれば、ポリイミド前駆体ワニス中に誘電体粉末
を分散させた誘電体ペーストを製造することが可能であ
ると考えられる。
On the other hand, a polyimide precursor solution in which polyamic acid is dissolved using dimethylformamide or N-methylpyrrolidone as a solvent has been well known, and various fillers are dispersed in such a polyimide precursor varnish. This is also known from various documents. By applying this technique, it is considered possible to produce a dielectric paste in which a dielectric powder is dispersed in a polyimide precursor varnish.

【0005】しかしながら、ポリアミド酸をポリイミド
前駆体としたワニスは、重合度が高くその溶解度が小さ
いことに起因してワニス中の固形分比率を高くすること
が困難であり、そのようなポリイミド前駆体ワニスを用
いて作成した誘電体ペーストにおいては、所定の厚みの
薄膜を得るために繰り返し印刷・塗工するなど煩雑な作
業が必要であり、生産性に問題があった。さらに、ポリ
アミド酸を前駆体としたワニスは、固形分濃度が低くて
も粘度が高いため、誘電体の粉末を混合して誘電体ペー
ストを作成した場合にはさらに粘度が上昇し、所定の誘
電特性を有した誘電体薄膜を得るために誘電体の割合を
増加した場合には、印刷塗工が困難になるという問題を
有していた。
However, the varnish using a polyamic acid as a polyimide precursor has a high degree of polymerization and a low solubility, so that it is difficult to increase the solid content ratio in the varnish. Dielectric pastes prepared using varnishes require complicated operations such as repeated printing and coating to obtain a thin film having a predetermined thickness, and there has been a problem in productivity. Furthermore, the varnish made of polyamic acid as a precursor has a high viscosity even at a low solid content, so that when a dielectric powder is mixed to form a dielectric paste, the viscosity further increases, and a predetermined dielectric constant is obtained. When the ratio of the dielectric is increased in order to obtain a dielectric thin film having characteristics, there has been a problem that print coating becomes difficult.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】以上に鑑み、本発明
は、有機溶剤中にポリイミド前駆体と誘電体粉末が高い
固形分比率で含有していても低粘度で、塗工が容易であ
る誘電体ペーストを提供すること、及びこの誘電体ペー
ストから得られ、表面が平滑で、膜厚が均一な誘電体膜
を提供することを目的とする。
In view of the above, it is an object of the present invention to provide a dielectric material which has a low viscosity and is easy to apply even when a polyimide precursor and a dielectric powder are contained in an organic solvent at a high solid content ratio. It is an object of the present invention to provide a body paste and to provide a dielectric film obtained from this dielectric paste and having a smooth surface and a uniform film thickness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため、鋭意検討を行った結果、有機溶剤中
に特定のジアミンと特定のカルボン酸を溶解して得られ
るポリイミド前駆体ワニス中に誘電体粉末を含有させた
誘電体ペーストは、高い固形分比率を有していても低粘
度であること、さらに、この誘電体ペーストから得られ
るポリイミドをバインダーとする誘電体膜は、表面が平
滑で、膜厚が均一であることを見出し、本発明に到達し
た。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a polyimide precursor obtained by dissolving a specific diamine and a specific carboxylic acid in an organic solvent. The dielectric paste containing the dielectric powder in the body varnish has a low viscosity even if it has a high solid content ratio.Furthermore, a dielectric film using a polyimide obtained from this dielectric paste as a binder is a dielectric film. It was found that the surface was smooth and the film thickness was uniform, and the present invention was reached.

【0008】すなわち、本発明の要旨は、第1に、ポリ
イミド前駆体を形成する式(1)に示すジアミンと式
(2)に示すテトラカルボン酸及び/又はそのエステル
とが有機溶剤中に溶解していて、これらの濃度が5〜8
0重量%であるポリイミド前駆体ワニス中に、誘電体粉
末が含有していることを特徴とする誘電体ペーストであ
る。
That is, the gist of the present invention is that, first, a diamine represented by the formula (1) and a tetracarboxylic acid and / or an ester thereof represented by the formula (2) for forming a polyimide precursor are dissolved in an organic solvent. And these concentrations are 5-8
A dielectric paste, wherein a dielectric powder is contained in a polyimide precursor varnish of 0% by weight.

【0009】[0009]

【化3】 Embedded image

【0010】(式中R1 、R2 はそれぞれ構造式群1及
び構造式群2から選ばれ、R3 〜R8はそれぞれ水素原
子又は炭素数1〜5のアルキル基を示し、mは0〜10
の整数を示す。) 第2に、この誘電体ペーストを基板に塗布し、加熱して
得られる式(3)に示す繰り返し単位よりなるポリイミ
ドをバインダーとする誘電体膜。
(Wherein R 1 and R 2 are each selected from Structural Formula Group 1 and Structural Formula Group 2; R 3 to R 8 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; -10
Indicates an integer. Second, a dielectric film using polyimide as a binder, which is obtained by applying this dielectric paste to a substrate and heating the polyimide, the polyimide being composed of a repeating unit represented by formula (3).

【0011】[0011]

【化4】 Embedded image

【0012】(式中R1 、R2 はそれぞれ構造式群1及
び構造式群2から選ばれ、nは10〜5000の整数で
ある。)
(In the formula, R 1 and R 2 are each selected from Structural Formula Group 1 and Structural Formula Group 2, and n is an integer of 10 to 5000.)

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の誘電体ペーストは、ポリ
イミド前駆体を形成する式(1)に示すジアミンと式
(2)に示すテトラカルボン酸及び/又はそのエステル
とが有機溶剤中に溶解しているポリイミド前駆体ワニス
中に、誘電体粉末が含有しているものであり、式中
1 、R2 はそれぞれ構造式群1及び構造式群2から選
ばれ、R3 〜R8 は水素原子又は炭素数1〜5のアルキ
ル基をあらわし、mは0〜10の整数を示す。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the dielectric paste of the present invention, a diamine represented by the formula (1) and a tetracarboxylic acid and / or an ester thereof represented by the formula (2) for forming a polyimide precursor are dissolved in an organic solvent. In the polyimide precursor varnish, the dielectric powder is contained, wherein R 1 and R 2 are respectively selected from Structural Formula Group 1 and Structural Formula Group 2, and R 3 to R 8 are Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 0 to 10.

【0014】ポリイミド前駆体ワニス中のポリイミド前
駆体の濃度は、5〜80重量%であり、濃度が5重量%
より低いと、塗布装置の調整だけでは、所定の誘電体膜
厚を得ることが困難となり、そのために繰り返し塗布す
る必要が生じ、生産性の点で利点が無くなってしまう。
反対に、濃度が80重量%より高いと、ポリイミド前駆
体を安定的に溶解することが困難となり、また、有機溶
剤の選択により溶解が可能となっても、ポリイミド前駆
体ワニスに誘電体粉末を含有させた誘電体ペーストの粘
度が高くなって塗工が容易でなくなり、誘電体膜の生産
性に劣ってしまう。より好ましい濃度範囲は、20〜5
5重量%であり、この範囲であれば、ファインパターン
形成に使用するスクリーン印刷の印刷適性にも優れる。
The concentration of the polyimide precursor in the polyimide precursor varnish is 5 to 80% by weight, and the concentration is 5% by weight.
If it is lower, it is difficult to obtain a predetermined dielectric film thickness only by adjusting the coating apparatus, and it is necessary to perform coating repeatedly, and the advantage in terms of productivity is lost.
Conversely, if the concentration is higher than 80% by weight, it is difficult to stably dissolve the polyimide precursor, and even if the dissolution can be achieved by selecting an organic solvent, the dielectric powder is added to the polyimide precursor varnish. The viscosity of the contained dielectric paste increases, making it difficult to apply the paste, resulting in poor productivity of the dielectric film. A more preferred concentration range is from 20 to 5
It is 5% by weight, and within this range, the printability of screen printing used for forming a fine pattern is excellent.

【0015】ポリイミド前駆体ワニスにおいて、式
(1)に示すジアミンと式(2)に示すテトラカルボン
酸及び/又はそのエステルとの和100重量部に対し
て、式(1)に示すジアミンの配合量は20〜99重量
部であることが好ましく、この範囲外では製膜できない
ことがある。
[0015] In the polyimide precursor varnish, 100 parts by weight of the total of the diamine represented by the formula (1) and the tetracarboxylic acid and / or ester thereof represented by the formula (2) is mixed with the diamine represented by the formula (1). The amount is preferably from 20 to 99 parts by weight, and if it is outside this range, it may not be possible to form a film.

【0016】本発明の誘電体ペーストは前記のようなポ
リイミド前駆体ワニスに誘電体粉末を含有させて得ら
れ、誘電体粉末としては、例えば、チタン酸バリウム、
チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムとチタン酸
ストロンチウムの固溶体、チタン酸鉛などのチタン酸塩
類、窒化タンタル、酸化タンタル、窒化酸化タンタル、
酸化タンタルストロンチウムビスマス等タンタル化合物
類の他アルミナ、窒化アルミニウム、炭化珪素等比誘電
率が5以上の誘電体の粉末を挙げることはでき、中でも
チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸
バリウムとチタン酸ストロンチウムの固溶体及び酸化タ
リウムが好ましいものとして挙げられる。これらは1種
又は2種以上を混合して用いることができる。
The dielectric paste of the present invention is obtained by adding a dielectric powder to the polyimide precursor varnish as described above. Examples of the dielectric powder include barium titanate,
Strontium titanate, solid solution of barium titanate and strontium titanate, titanates such as lead titanate, tantalum nitride, tantalum oxide, tantalum nitride oxide,
In addition to tantalum compounds such as tantalum strontium bismuth oxide, alumina, aluminum nitride, silicon carbide and other dielectric powders having a relative dielectric constant of 5 or more can be mentioned. Among them, barium titanate, strontium titanate, barium titanate and titanate Preferred are a strontium solid solution and thallium oxide. These can be used alone or in combination of two or more.

【0017】ポリイミド前駆体ワニスに含有させる誘電
体粉末の配合量は、ポリイミド前駆体ワニス100重量
部に対して、0.5〜200重量部であることが好まし
い。0.5重量部未満では誘電体粉末の添加効果が少な
く、200重量部を超えると誘電体膜中のポリイミドの
バインダーとしての効果が低く膜強度が低くなってしま
うことがある。さらに誘電体粉末の配合量は10〜15
0重量部がより好ましい。また、誘電体粉末の粒径は
0.05〜10μmが好ましい。
The amount of the dielectric powder contained in the polyimide precursor varnish is preferably 0.5 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyimide precursor varnish. If the amount is less than 0.5 part by weight, the effect of adding the dielectric powder is small, and if it exceeds 200 parts by weight, the effect of the polyimide in the dielectric film as a binder is low, and the film strength may be reduced. Furthermore, the compounding amount of the dielectric powder is 10 to 15
0 parts by weight is more preferred. The particle diameter of the dielectric powder is preferably 0.05 to 10 μm.

【0018】本発明の誘電体ペーストで使用する有機溶
剤としては、N−メチルピロリドン、ジメチルフォルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホリルトリアミド、スルホラン、
N,N‘−ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルカプ
ロラクタムなどの分子中にN,S,P原子を含む極性溶
剤やセルソルブ、フェニルセルソルブなどのセルソルブ
類、酢酸エチルセルソルブ、酢酸ブチルセルソルブなど
の酢酸セルソルブ類、メチルカルビトール、エチルカル
ビトールなどのカルビトール類、酢酸エチルカルビトー
ル、酢酸ブチルカルビトールなどの酢酸カルビトール
類、ジメチルカルビトール(ジグライム)、ジエチルカ
ルビトールなどのカルビトールジエーテル類、シクロヘ
キサノール、ベンジルアルコールなどのアルコール類、
シクロヘキサノン、イソホロンなどのケトン類、γ―ブ
チロラクトンなどのエステル類などが挙げられ、沸点が
150℃以上の有機溶剤であることが好ましい。これ
は、連続的な生産を行う上で、沸点が150℃未満の有
機溶剤を使用すると、有機溶剤の揮発が著しく、誘電体
ペーストの粘度が安定しないためである。
The organic solvent used in the dielectric paste of the present invention includes N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoryltriamide, sulfolane,
Polar solvents containing N, S, P atoms in molecules such as N, N'-dimethylimidazolidinone and N-methylcaprolactam, cellsolves such as cellsolve, phenylcellsolve, ethyl acetate cellsolve, butyl acetate cellsolve, etc. Sorbitol acetate, carbitols such as methyl carbitol, ethyl carbitol, carbitol acetates such as ethyl carbitol, butyl carbitol acetate, carbitol diethers such as dimethyl carbitol (diglyme), diethyl carbitol , Cyclohexanol, alcohols such as benzyl alcohol,
Examples thereof include ketones such as cyclohexanone and isophorone and esters such as γ-butyrolactone, and are preferably organic solvents having a boiling point of 150 ° C. or higher. This is because, when an organic solvent having a boiling point of less than 150 ° C. is used in performing continuous production, volatilization of the organic solvent is remarkable, and the viscosity of the dielectric paste is not stabilized.

【0019】有機溶剤の種類は、所望する蒸発速度、ペ
ーストの粘度により適宜選択することが出来るが、N、
SあるいはPを分子中に含む極性の強い有機溶剤を使用
した方が、ポリイミド前駆体樹脂の溶解性は高くなるた
め、膜厚を厚くしたい場合には、より高濃度のポリイミ
ド前駆体ワニスを得るために、極性の強い有機溶剤を使
用することが好ましい。
The type of the organic solvent can be appropriately selected depending on the desired evaporation rate and the viscosity of the paste.
The use of a strong polar organic solvent containing S or P in the molecule increases the solubility of the polyimide precursor resin, so if you want to increase the film thickness, obtain a higher concentration polyimide precursor varnish. Therefore, it is preferable to use a strongly polar organic solvent.

【0020】さらに、誘電体ペーストには、静電容量
値、膜硬度、摩擦係数、粘度などを調整する目的で、他
の無機粒子を本発明の効果を損なわない範囲で加えこと
もできる。無機粒子としては、シリカ、亜鉛華、酸化
鉄、フェライト、などが用いられる。無機粒子の形状
は、真球状、針状、フレーク状などが用いられる。
Further, other inorganic particles may be added to the dielectric paste for the purpose of adjusting the capacitance value, the film hardness, the friction coefficient, the viscosity and the like, as long as the effects of the present invention are not impaired. As the inorganic particles, silica, zinc white, iron oxide, ferrite, and the like are used. The shape of the inorganic particles may be a true sphere, a needle, a flake, or the like.

【0021】上記のような誘電体ペーストを基板に塗布
し、溶剤を除去するとポリイミド前駆体と誘電粉末より
なる塗膜を得るので、これを加熱するとポリイミド前駆
体がイミド化して式(3)に示す繰り返し単位よりなる
ポリイミドをバインダーとする誘電体膜が得られる。な
お、式(3)においてR1 、R2 はそれぞれ構造式群1
及び構造式群2から選ばれ、nは10〜5000の整数
である。イミド化の条件はポリイミド前駆体の種類によ
り異なるが250〜400℃で行うことが好ましい。
When the above-mentioned dielectric paste is applied to the substrate and the solvent is removed, a coating film composed of a polyimide precursor and a dielectric powder is obtained. When this is heated, the polyimide precursor is imidized to obtain the formula (3) A dielectric film comprising a polyimide composed of the repeating units shown as a binder is obtained. In the formula (3), R 1 and R 2 are each represented by the structural formula group 1
And n is an integer of 10 to 5000. The conditions for imidization vary depending on the type of the polyimide precursor, but are preferably performed at 250 to 400 ° C.

【0022】本発明の誘電体ペーストの基板上への塗布
方法としては、スピンコート法、バーコート法、スプレ
ーコート法等公知の方法が採用されるが、ファインパタ
ーンを容易に形成することができるスクリーン印刷法が
好ましい。本発明の誘電体ペーストは、有機溶剤中に高
い固形分を含有しているにもかかわらず、低粘度である
ので、これを基板に塗布し、溶剤を除去し、加熱イミド
化して得られる誘電体膜は表面が平滑となり、均一な誘
電膜となる。
As a method of applying the dielectric paste of the present invention on a substrate, a known method such as a spin coating method, a bar coating method and a spray coating method is employed, but a fine pattern can be easily formed. Screen printing is preferred. Since the dielectric paste of the present invention has a low viscosity despite having a high solid content in the organic solvent, it is applied to a substrate, the solvent is removed, and a dielectric material obtained by heat imidization is obtained. The body film has a smooth surface and becomes a uniform dielectric film.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的説明する。 実施例1〜3 ポリイミド前駆体を形成する成分として、式(1)にお
いてR1 が下記式(4)に示し、R2 が下記式(5)に
示し、R3 、R4 =Hであり、m=3であるジアミン
と、式(2)においてR2 が下記式(5)に示し、R5
=H、R6 =H、R7 =H、R8 =Hであるテトラカル
ボン酸とを85:15の重量比で用い、これらをジメチ
ルアセトアミドに30、35、40重量%の割合となる
ように加えてポリイミド前駆体ワニスを調製し、その粘
度を測定した。その結果を、表1に示す。なお、粘度は
B型粘度計を用い、20℃で測定した。
The present invention will be described below in more detail with reference to examples. Examples 1 to 3 As components forming a polyimide precursor, R 1 in the formula (1) is shown in the following formula (4), R 2 is shown in the following formula (5), and R 3 and R 4 = H. , a diamine is m = 3, in the formula (2) R 2 represents the following formula (5), R 5
= H, R 6 = H, R 7 = H, and tetracarboxylic acid with R 8 = H are used in a weight ratio of 85:15, and these are added to dimethylacetamide in a ratio of 30, 35, and 40% by weight. In addition to the above, a polyimide precursor varnish was prepared, and its viscosity was measured. Table 1 shows the results. The viscosity was measured at 20 ° C. using a B-type viscometer.

【0024】[0024]

【化5】 Embedded image

【0025】これらのポリイミド前駆体ワニス100重
量部に対して、チタン酸ストロンチウム粉末(平均粒子
径1μm)15重量部を配合し、混練、分散して3種類
の誘電体ペーストを製造した。誘電体ペーストの粘度を
測定し、その結果を表1に示す。さらに、この誘電体ペ
ーストを350メッシュのスクリーン版を用いてセラミ
ック性の絶縁基板上に印刷し、乾燥後300℃において
2時間加熱イミド化して誘電体膜を製造した。表1に誘
電体膜の特性を示す。表1に示したように、いずれのペ
ーストを用いても平滑な表面を有し、均一な膜厚の誘電
体膜を得ることができた。
15 parts by weight of strontium titanate powder (average particle size: 1 μm) was blended with 100 parts by weight of these polyimide precursor varnishes, kneaded and dispersed to produce three types of dielectric pastes. The viscosity of the dielectric paste was measured, and the results are shown in Table 1. Further, this dielectric paste was printed on a ceramic insulating substrate using a 350-mesh screen plate, dried, and then heated and imidized at 300 ° C. for 2 hours to produce a dielectric film. Table 1 shows the characteristics of the dielectric film. As shown in Table 1, a dielectric film having a smooth surface and a uniform film thickness was obtained using any of the pastes.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】以上の実施例では、誘電体粉末としてチタ
ン酸ストロンチウムを用いたが、これ以外に、チタン酸
バリウム、酸化タンタル粉末を用いても、同様の効果を
得ることができた。また、誘電体粉末の配合比として、
ポリイミド前駆体ワニス100重量部に対して15重量
部を用いたが、これ以外に、0.5重量部及び150重
量部の配合比を用いても、同様の効果を得ることができ
た。
In the above embodiments, strontium titanate was used as the dielectric powder, but the same effect could be obtained by using barium titanate or tantalum oxide powder. Also, as the compounding ratio of the dielectric powder,
Although 15 parts by weight was used with respect to 100 parts by weight of the polyimide precursor varnish, a similar effect could be obtained by using a mixing ratio of 0.5 part by weight and 150 parts by weight.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上のように、本発明の誘電体ペースト
は、溶剤中にポリイミド前駆体と誘電体粉末が高い固形
分比率で含有していても低粘度で、塗工が容易であ。し
たがって、この誘電体ペーストからは誘電体膜を生産性
良く製造することができ、得られる誘電体膜は、平滑な
表面を有し、均一な膜厚のものであった。
As described above, the dielectric paste of the present invention has a low viscosity and can be easily applied even if the polyimide precursor and the dielectric powder are contained in the solvent at a high solid content ratio. Therefore, a dielectric film could be manufactured with high productivity from this dielectric paste, and the obtained dielectric film had a smooth surface and a uniform film thickness.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 越後 良彰 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 Fターム(参考) 4J002 CM001 DE096 DE146 DE186 DF016 DJ006 FD206 GQ00 HA08 4J038 DJ031 HA216 HA246 KA06 KA20 NA17  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiaki Echigo 23 Uji Kozakura, Uji City, Kyoto Prefecture Unitika Central Research Laboratory F-term (reference) 4J002 CM001 DE096 DE146 DE186 DF016 DJ006 FD206 GQ00 HA08 4J038 DJ031 HA216 HA246 KA06 KA06 KA20 NA17

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリイミド前駆体を形成する式(1)に
示すジアミンと式(2)に示すテトラカルボン酸及び/
又はそのエステルとが有機溶剤中に溶解していて、これ
らの濃度が5〜80重量%であるポリイミド前駆体ワニ
ス中に、誘電体粉末が含有していることを特徴とする誘
電体ペースト。 【化1】 (式中R1 、R2 はそれぞれ構造式群1及び構造式群2
から選ばれ、R3 〜R8はそれぞれ水素原子又は炭素数
1〜5のアルキル基を示し、mは0〜10の整数を示
す。)
1. A diamine represented by the formula (1) for forming a polyimide precursor and a tetracarboxylic acid represented by the formula (2) and / or
Alternatively, a dielectric paste is characterized in that a dielectric powder is contained in a polyimide precursor varnish in which an ester thereof is dissolved in an organic solvent and the concentration thereof is 5 to 80% by weight. Embedded image (Wherein R 1 and R 2 represent structural formula group 1 and structural formula group 2 respectively.
R 3 to R 8 each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and m represents an integer of 0 to 10. )
【請求項2】 式(1)に示すジアミンと式(2)に示
すテトラカルボン酸及び/又はそのエステルとの和10
0重量部に対して、式(1)に示すジアミンの配合量が
20〜99重量部であることを特徴とする請求項1記載
の誘電体ペースト。
2. A sum of a diamine represented by the formula (1) and a tetracarboxylic acid and / or an ester thereof represented by the formula (2):
2. The dielectric paste according to claim 1, wherein the compounding amount of the diamine represented by the formula (1) is 20 to 99 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
【請求項3】 ポリイミド前駆体ワニス100重量部に
対して、誘電体粉末の配合量が0.5〜200重量部で
あることを特徴とする請求項1記載の誘電体ペースト。
3. The dielectric paste according to claim 1, wherein the amount of the dielectric powder is 0.5 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyimide varnish.
【請求項4】 誘電体粉末が、チタン酸バリウム、チタ
ン酸ストロンチウム、チタン酸バリウムとチタン酸スト
ロンチウムの固溶体及び酸化タンタルのうちから選ばれ
る1種以上の粉末であることを特徴とする請求項1記載
の誘電体ペースト。
4. The dielectric powder according to claim 1, wherein the dielectric powder is at least one powder selected from barium titanate, strontium titanate, a solid solution of barium titanate and strontium titanate, and tantalum oxide. The dielectric paste as described.
【請求項5】 請求項1記載の誘電体ペーストを基板に
塗布し、加熱して得られる式(3)に示す繰り返し単位
よりなるポリイミドをバインダーとする誘電体膜。 【化2】 (式中R1 、R2 はそれぞれ構造式群1及び構造式群2
から選ばれ、nは10〜5000の整数である。)
5. A dielectric film comprising a polyimide having a repeating unit represented by the formula (3) obtained by applying the dielectric paste according to claim 1 to a substrate and heating the dielectric paste. Embedded image (Wherein R 1 and R 2 represent structural formula group 1 and structural formula group 2 respectively.
And n is an integer of 10 to 5000. )
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