JP2000077491A - Evaluation method for actual device by use of obic device - Google Patents

Evaluation method for actual device by use of obic device

Info

Publication number
JP2000077491A
JP2000077491A JP10243070A JP24307098A JP2000077491A JP 2000077491 A JP2000077491 A JP 2000077491A JP 10243070 A JP10243070 A JP 10243070A JP 24307098 A JP24307098 A JP 24307098A JP 2000077491 A JP2000077491 A JP 2000077491A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
obic
sample
defective
image
image data
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP10243070A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Takasu
信一 高洲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON DENSHI RAIOSONIKKU KK
Jeol Ltd
Original Assignee
NIPPON DENSHI RAIOSONIKKU KK
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON DENSHI RAIOSONIKKU KK, Jeol Ltd filed Critical NIPPON DENSHI RAIOSONIKKU KK
Priority to JP10243070A priority Critical patent/JP2000077491A/en
Publication of JP2000077491A publication Critical patent/JP2000077491A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an actual device to be evaluated and analyzed positively by a method, wherein a measurement position recipe and an OBIC image of a non-defective sample are prepared, and the OBIC images of a non-defective sample and a defective sample at the same position are compared with each other. SOLUTION: A sample 2 is fixed on a stage and aligned in position through an optical image, coordinates are set up for the sample 2, and a measurement position recipe is formed. Then, the OBIC image of a non-defective sample is introduced under a prescribed condition into a data base stored in an engineering work station 7. Then, the OBIC image of a defective sample is introduced under a prescribed condition into the data base. Similarly. Non-defective image data and defective image data are read out from the data base, and the images are compared with each other. At this point, when the image data read out are different in image state from those introduced into the data base, the images are adjusted in brightness threshold through a brightness conversion operation. With this setup, actual device can be evaluated and analyzed positively.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】発明はOBIC装置を用いた
実デバイスの評価方法に関する。
The present invention relates to a method for evaluating an actual device using an OBIC apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体素子の評価・解析を行なう手段と
して、発光箇所を検出するエミッション法とpn接合部
で発生する光起電力効果を利用したOBIC法がある。
OBIC法は、試料を照射するビーム源に電子又はイオ
ンではなく、レーザ等の光を用いて試料を評価する方法
である。異常箇所を特異点として表現されたエミッショ
ン像(以下、EM像と呼ぶ)又はOBIC像であるた
め、この像から位置情報は分からない。そこで、現在は
光学像を基本画面としてEM像又はOBIC像を重ね合
わせて故障位置の特定を行なっている。
2. Description of the Related Art As means for evaluating and analyzing a semiconductor device, there are an emission method for detecting a light emitting portion and an OBIC method utilizing a photovoltaic effect generated at a pn junction.
The OBIC method is a method for evaluating a sample by using light such as a laser instead of electrons or ions as a beam source for irradiating the sample. Since the image is an emission image (hereinafter, referred to as an EM image) or an OBIC image in which an abnormal point is expressed as a singular point, the position information cannot be determined from this image. Therefore, at present, a fault position is specified by superimposing an EM image or an OBIC image using an optical image as a basic screen.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これだけでは、観察位
置を移動させた場合、先に取り込んだ位置情報とのかみ
合わせ位置が分からなくなり、評価・解析を行なうこと
が難しくなる。
With this alone, when the observation position is moved, the position where the observation position is engaged with the previously acquired position information is not known, and it is difficult to perform evaluation and analysis.

【0004】図5は従来方法の問題点の説明図である。
(a)に示す光学像+OBIC像を観察位置を移動させ
て(b)の位置に持ってくると、先に取り込んだ位置情
報とのかみ合わせ位置が分からなくなる。図で●は故障
点である。
FIG. 5 is an explanatory view of a problem of the conventional method.
When the observation position is moved to the position of (b) by moving the optical image + OBIC image shown in (a), the position of engagement with the previously acquired position information is lost. In the figure, ● indicates a failure point.

【0005】本発明はこのような課題に鑑みてなされた
ものであって、実デバイスの確実な評価・解析を行なう
ことができるOBIC装置を用いた実デバイスの評価方
法を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a method for evaluating an actual device using an OBIC apparatus, which can perform reliable evaluation and analysis of an actual device. I have.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記した課題を解決する
本発明は、 (1)試料をステージに固定し、光学像により試料位置
のアライメントを行ない、試料に対する座標系を決定
し、測定位置のレシピを作成する工程と、前記測定条件
で良品試料のOBIC像データを取り込む工程と、不良
試料をステージに固定し、前記測定条件と同じ条件でO
BIC像データを取り込む工程と、良品OBIC像デー
タと不良品OBIC像データとを比較する工程とにより
構成されることを特徴としている。
The present invention for solving the above-mentioned problems is as follows. (1) A sample is fixed on a stage, alignment of the sample position is performed by an optical image, a coordinate system for the sample is determined, and a measurement position is determined. A step of creating a recipe, a step of taking in OBIC image data of a good sample under the measurement conditions, a step of fixing a defective sample to a stage, and the steps of
It is characterized by comprising a step of taking in BIC image data and a step of comparing non-defective OBIC image data with defective OBIC image data.

【0007】この発明の構成によれば、予め測定位置の
レシピ(測定条件)と、良品試料のOBIC像を用意し
ておき、不良品試料との同じ位置同士のOBIC像を比
較することにより、実デバイスの確実な評価・解析を行
なうことが可能となる。
According to the configuration of the present invention, a recipe (measurement condition) at a measurement position and an OBIC image of a non-defective sample are prepared in advance, and the OBIC images at the same position as the defective sample are compared with each other. It is possible to reliably evaluate and analyze the actual device.

【0008】(2)この場合において、前記良品OBI
C像データと不良品OBIC像データとを比較するに際
し、各画像に対してマイナス側輝度しきい値とプラス側
輝度しきい値の調整を行ない輝度変換処理を行なうこと
を特徴としている。
(2) In this case, the non-defective OBI
In comparing the C image data with the defective OBIC image data, the luminance conversion process is performed by adjusting the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value for each image.

【0009】この発明の構成によれば、良品OBIC像
と不良品OBIC像を比較するに際し、各画像に対して
マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値の調整
を行なうことにより、双方のOBIC像の比較を正しく
行なうことができる。
According to the configuration of the present invention, when comparing the non-defective OBIC image with the defective OBIC image, the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value are adjusted for each image. Can be correctly compared.

【0010】(3)また、各データに対しての輝度変換
が終了したら、各データの光学画像を基に画像データの
位置補正を行ない、各OBIC像を重ね合わせて異常箇
所を抽出することを特徴としている。
(3) When the luminance conversion for each data is completed, the position of the image data is corrected based on the optical image of each data, and the OBIC images are superimposed to extract an abnormal part. Features.

【0011】この発明の構成によれば、各データの光学
画像を基に画像データの位置補正を行なってから各OB
IC像の重ね合わせ比較を行なうことにより、実デバイ
スの確実な評価・解析を行なうことが可能となる。
According to the configuration of the present invention, after correcting the position of the image data based on the optical image of each data,
By performing the superposition comparison of the IC images, it is possible to perform the reliable evaluation and analysis of the actual device.

【0012】(4)また、前記シーケンスにより異常箇
所が抽出されなかった場合には、レシピに従い座標位置
を移動させて前記比較処理を繰り返すことを特徴として
いる。
(4) If no abnormal part is extracted by the sequence, the coordinate position is moved according to the recipe and the comparison processing is repeated.

【0013】この発明の構成によれば、レシピに従い、
比較位置を順次移動させながら、比較処理を行なってい
くことにより、実デバイスの全面にわたる評価・解析を
行なうことが可能になる。
According to the structure of the present invention, according to the recipe,
By performing the comparison processing while sequentially moving the comparison position, it becomes possible to perform evaluation and analysis over the entire surface of the actual device.

【0014】(5)更に、前記輝度変換処理は、前記マ
イナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値を狭めて
調整する、前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度
しきい値を広めて調整する、不良試料側に対してフィル
タをかける処理を行なうものであることを特徴としてい
る。
(5) Further, in the brightness conversion processing, the minus brightness threshold and the plus brightness threshold are narrowed and adjusted, and the minus brightness threshold and the plus brightness threshold are broadened. The filter is characterized by performing a process of applying a filter to the defective sample side.

【0015】この発明の構成によれば、輝度変換処理と
して前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい
値を狭めて調整する方法や、前記マイナス側輝度しきい
値とプラス側輝度しきい値を広めて調整する方法や、不
良試料側に対してフィルタをかける処理を行なう方法を
採用することで、正確な比較処理を行なうことが可能に
なる。
According to the configuration of the present invention, as the luminance conversion processing, a method of narrowing and adjusting the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value or the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold are used. An accurate comparison process can be performed by adopting a method of adjusting the value by spreading the value or a method of filtering the defective sample.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】OBIC装置を使用して実デバイ
スを評価するためには、以下に記載した4つの要件を組
み合わせることが必要である。この要件は、大きく2つ
に分類することができ、1つは下記項の画像処理手
順、2つめは下記〜項のOBIC装置を使用する際
の測定条件・方法である。 観察したOBIC像と、先に取り込んだ良品サンプル
のOBIC像の画像化手順 サンプルに対する配線の接続方法 サンプルに対する印加電圧条件(デバイスの種類、故
障モードによって異なる) サンプル内の他電源系との電圧バランス この発明は、項の画像処理手順に係るものである。こ
の発明を実施するには、取り込んだデータにアドレスを
付け、チップ内のどの位置のデータであるかを認識する
測定方法も必要となる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In order to evaluate an actual device using an OBIC apparatus, it is necessary to combine the following four requirements. These requirements can be broadly classified into two categories. The first is the image processing procedure described in the following section, and the second is the measurement condition and method when using the OBIC apparatus in the following sections. Procedure for imaging the observed OBIC image and the OBIC image of the previously acquired non-defective sample Connection method of wiring to the sample Voltage condition applied to the sample (depending on device type and failure mode) Voltage balance with other power supply system in the sample The present invention relates to the image processing procedure described in the item. In order to carry out the present invention, it is necessary to provide a measurement method for assigning an address to the acquired data and recognizing which data in the chip is located.

【0017】以下、図面を参照して本発明の実施の形態
例を詳細に説明する。図1は本発明を実施するシステム
の一実施の形態例を示すブロック図である。この実施の
形態例は、走査型レーザ顕微鏡(共振型、非共振型を含
む)にOBIC装置を組み込んだシステムを示してい
る。走査型レーザ顕微鏡(共振型、非共振型を含む)
は、マイクロスコープ(Microscope)1、A
/D変換器・D/A変換器ボード(A/D・D/A B
oard)5、MPU6、EWS(エンジニアリング・
ワークステーション)7、キーボード8及びマウス9、
カラーCRT10より構成されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a system for implementing the present invention. This embodiment shows a system in which an OBIC device is incorporated in a scanning laser microscope (including a resonance type and a non-resonance type). Scanning laser microscope (including resonance type and non-resonance type)
Is a microscope (Microscope) 1, A
/ D converter / D / A converter board (A / D / D / A B
old) 5, MPU6, EWS (Engineering
Workstation) 7, keyboard 8 and mouse 9,
It comprises a color CRT 10.

【0018】また、OBIC装置は、OBICアンプ
4、パワーサプライ(電源)3より構成されている。2
はマイクロスコープ1が照射される試料(サンプル)で
ある。マイクロスコープ1は、光源に632.8nmH
e−Neレーザを搭載しており、水平方向及び垂直方向
に走査し、試料2にレーザを照射する。次に、試料2よ
り反射した光を光検出器(図示せず)で取り込み、その
信号をA/D変換器・D/A変換器ボード5に送る。
The OBIC device includes an OBIC amplifier 4 and a power supply (power supply) 3. 2
Is a sample to be irradiated with the microscope 1. The microscope 1 has a light source of 632.8 nmH
An e-Ne laser is mounted, scans horizontally and vertically, and irradiates the sample 2 with a laser. Next, light reflected from the sample 2 is captured by a photodetector (not shown), and the signal is sent to an A / D converter / D / A converter board 5.

【0019】A/D変換器・D/A変換器ボード5は、
水平垂直走査に同期してその信号をA/D変換器により
ディジタル画像データに変換し、光学画像データとして
MPU6を経由させてデータ処理装置EWS(エンジニ
アリング・ワーク・ステーション)7にデータを転送す
る。MPU6はEWS7から転送されてきた制御信号に
よりマイクロスコープ1の制御(例えば光源の点灯制
御、水平方向及び垂直方向走査制御、ステージ制御、自
動焦点合わせ等)を行なうためのユニットである。
The A / D converter / D / A converter board 5 includes:
The signal is converted into digital image data by an A / D converter in synchronization with horizontal and vertical scanning, and the data is transferred as optical image data to a data processing device EWS (engineering work station) 7 via an MPU 6. The MPU 6 is a unit for controlling the microscope 1 (for example, lighting control of a light source, horizontal and vertical scanning control, stage control, automatic focusing, and the like) by a control signal transferred from the EWS 7.

【0020】EWS7はMPU6から転送されてきた画
像データをCRT10上に表示したり、画像データを画
像処理したり、キーボード8やマウス9からの操作した
入力信号を判断する。
The EWS 7 displays the image data transferred from the MPU 6 on the CRT 10, processes the image data, and judges an input signal operated from the keyboard 8 or the mouse 9.

【0021】OBICアンプ4は、レーザ照射により試
料2内に誘起されたキャリアを電流(以下OBIC電流
という)として取り込み、電流/電圧変換、増幅等を行
ない、その信号をA/D変換器・D/A変換器ボード5
に送る。A/D変換器・D/A変換器ボード5は、その
信号を水平垂直走査に同期してディジタル画像データに
変換する。これはOBIC像としてMPU6、EWS7
を経由してCRT10上に表示される。
The OBIC amplifier 4 takes in the carrier induced in the sample 2 by the laser irradiation as a current (hereinafter referred to as OBIC current), performs current / voltage conversion, amplification, etc., and converts the signal into an A / D converter / D / A converter board 5
Send to The A / D converter / D / A converter board 5 converts the signal into digital image data in synchronization with horizontal and vertical scanning. This is an OBIC image of MPU6, EWS7
Is displayed on the CRT 10 via the.

【0022】電源3は、試料2に対して電圧を与える。
試料2は、半導体デバイスであり、試料より反射した光
にて現在観察している光学像を表示させ、レーザ照射に
より発生したキャリアによりOBIC像が観察される。
この光学像とOBIC像を重ね合わせ、試料内の欠陥位
置を特定する。
The power supply 3 supplies a voltage to the sample 2.
The sample 2 is a semiconductor device, in which an optical image currently being observed is displayed by light reflected from the sample, and an OBIC image is observed by carriers generated by laser irradiation.
The optical image and the OBIC image are superimposed to specify a defect position in the sample.

【0023】図2は本発明の動作を示すフローチャート
である。図において、20はレシピ(測定条件)を記憶
するデータベースである。該データベース20として
は、例えはハードディスク装置が用いられる。以下の制
御の主体は、EWS7が行なう。
FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the present invention. In the figure, reference numeral 20 denotes a database for storing recipes (measurement conditions). As the database 20, for example, a hard disk device is used. The following control is performed by the EWS 7.

【0024】(ステップS1)良品試料測定 試料2をステージに固定し、光学像にて試料位置のア
ライメントを行ない、試料2に対する座標系を構築し、
測定位置のレシピ(測定条件)を作成する。この場合、
OBIC像だけでは、測定箇所の位置情報がないので、
光学像により測定する試料に対して位置合わせ(基準原
点)を行なう。
(Step S1) Measurement of non-defective sample The sample 2 is fixed on a stage, the position of the sample is aligned with an optical image, and a coordinate system for the sample 2 is constructed.
Create a recipe (measurement condition) for the measurement position. in this case,
With only the OBIC image, there is no positional information of the measurement point,
Positioning (reference origin) is performed on the sample to be measured by the optical image.

【0025】上記で構築した手順に従い、データベ
ースとなる良品試料のOBIC像を以下の条件で取り込
む。 (a)試料に対する印加電圧を試料に応じて複数ステッ
プ設定する。なお、OBIC装置との接続条件は図3に
示すものとする。電源3から試料2に対して+の電圧を
印加し、試料の一端はグランド電位に設定し、試料2か
ら流出するキャリア電流をOBICアンプ4で受ける。
但し、故障モードによっては配線の接続方法を変えて測
定を行なうものとする。
According to the procedure constructed above, an OBIC image of a non-defective sample serving as a database is taken in under the following conditions. (A) The voltage applied to the sample is set in a plurality of steps according to the sample. The connection condition with the OBIC device is as shown in FIG. A positive voltage is applied from the power supply 3 to the sample 2, one end of the sample is set to the ground potential, and the carrier current flowing out of the sample 2 is received by the OBIC amplifier 4.
However, depending on the failure mode, the measurement is performed by changing the wiring connection method.

【0026】この際、OBIC装置側では、自動ゲイン
調整が行なわれ、OBIC像が飽和しない程度のゲイン
に設定する。並びに、オフセット調整もオフセットモニ
タ出力をモニタしながら適切な値に設定する。以上の設
定を行ない、良品試料を測定し、データをデータベース
20に格納する。
At this time, on the OBIC device side, automatic gain adjustment is performed, and the gain is set to such an extent that the OBIC image is not saturated. In addition, the offset adjustment is set to an appropriate value while monitoring the offset monitor output. The above settings are performed, non-defective samples are measured, and the data is stored in the database 20.

【0027】(ステップS2)不良品試料測定 不良品試料をステージに固定し、上記で決定した座
標系レシピに従い試料位置のアライメントを行なう。
(Step S2) Defective Sample Measurement Defective sample is fixed on the stage, and the sample position is aligned according to the coordinate system recipe determined above.

【0028】上記で構築した測定手順に従って、デ
ータベースとなる不良品試料のOBIC像データを以下
の条件で取り込む。 (a)試料2に対する印加電圧を上記で設定した値に
設定する。
According to the measurement procedure constructed above, OBIC image data of a defective sample serving as a database is taken in under the following conditions. (A) Set the voltage applied to the sample 2 to the value set above.

【0029】なお、OBIC装置との配線接続は、図3
に示した電圧とグランド間とする。但し、故障モードに
よっては配線の接続方法を変えて測定を行なう。この
際、OBIC装置側では、自動ゲイン調整が行なわれ、
OBIC像が飽和しない程度のゲインに設定する。並び
に、オフセット調整もオフセットモニタ出力をモニタし
ながら適切な値に設定する。以上の設定を行なって不良
品試料を測定し、データをデータベース20に格納す
る。
The wiring connection with the OBIC device is shown in FIG.
Between the voltage and ground. However, depending on the failure mode, the measurement is performed by changing the wiring connection method. At this time, the OBIC device performs automatic gain adjustment,
The gain is set so that the OBIC image is not saturated. In addition, the offset adjustment is set to an appropriate value while monitoring the offset monitor output. The above setting is performed to measure a defective sample, and the data is stored in the database 20.

【0030】(ステップS3)画像解析処理 上記で取り込んだデータと上記で取り込んだデー
タをデータベース20から呼び出し、測定位置レシピに
従い画像比較を行なう。この際、取り込んだデータに対
して、同じ画像状態でなければ、各画像に対してマイナ
ス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値の調整を行な
い輝度変換処理を行なう。調整の目安は、任意範囲内の
平均輝度値が共に同じ値であることである。
(Step S3) Image analysis processing The data fetched above and the data fetched above are called from the database 20, and the images are compared according to the measurement position recipe. At this time, if the captured data is not in the same image state, the luminance conversion process is performed by adjusting the minus luminance threshold and the plus luminance threshold for each image. A guide for the adjustment is that the average luminance values within an arbitrary range are the same.

【0031】図4は本発明の画像比較の説明図である。
(a)が不良品データ、(b)が量品データである。先
ず、不良品試料を例えば512×512画素のブロック
に分割して、それぞれのブロックを読み出す。この時
の、OBIC像の分解能は深さ方向に例えば256階調
とする。このようにして読み出した不良品のOBIC像
データを画素数のヒストグラムに表わす。縦軸は画素
数、横軸は輝度である。この場合において、プラス側輝
度しきい値とマイナス側輝度しきい値を調整して輝度変
換処理を行なう。特性Aはこのようにして得られた輝度
変換データである。
FIG. 4 is an explanatory diagram of the image comparison of the present invention.
(A) is defective product data, and (b) is mass product data. First, a defective sample is divided into blocks of, for example, 512 × 512 pixels, and each block is read. At this time, the resolution of the OBIC image is, for example, 256 gradations in the depth direction. The OBIC image data of the defective product thus read out is represented in a histogram of the number of pixels. The vertical axis represents the number of pixels, and the horizontal axis represents luminance. In this case, the luminance conversion processing is performed by adjusting the plus side luminance threshold value and the minus side luminance threshold value. The characteristic A is the luminance conversion data obtained in this manner.

【0032】同様に、(b)に示す良品試料についても
同様の輝度変換処理を行なう。この結果、Bに示すよう
に良品試料の輝度変換データが得られる。そして、得ら
れた輝度変換データAとBとを相互比較(後述)するの
である。
Similarly, a similar luminance conversion process is performed on the non-defective sample shown in FIG. As a result, as shown in B, luminance conversion data of a good sample is obtained. Then, the obtained luminance conversion data A and B are compared with each other (described later).

【0033】この実施の形態例によれば、予め測定位置
のレシピ(測定条件)と、良品試料のOBIC像を用意
しておき、不良品試料との同じ位置同士のOBIC像を
比較することにより、実デバイスの確実な評価・解析を
行なうことが可能となる。
According to this embodiment, a recipe (measurement conditions) at a measurement position and an OBIC image of a non-defective sample are prepared in advance, and the OBIC images at the same position as the defective sample are compared. Thus, it is possible to reliably perform evaluation and analysis of the actual device.

【0034】また、良品OBIC像と不良品OBIC像
を比較するに際し、各画像に対してマイナス側輝度しき
い値とプラス側輝度しきい値の調整を行なうことによ
り、双方のOBIC像の比較を正しく行なうことができ
る。
Further, when comparing the non-defective OBIC image and the defective OBIC image, adjustment of the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value for each image allows comparison of both OBIC images. Can do it correctly.

【0035】各データに対しての輝度変換が終了した
ら、各データの光学像を基に画像データの位置補正を行
ない、各OBIC像を重ねて打ち消されなかったポイン
トを抽出する。打ち消されなかったポイントは、不良品
試料の欠陥箇所である。この場合におけるデータの比較
は必ず座標位置(x,y)に印加電圧0.0V時の良品
データと不良品データから比較を行ない、最後に座標位
置(x,y)の最大印加電圧時の良品データと不良品デ
ータを比較するサイクルで画像処理を行なう。
When the luminance conversion for each data is completed, the position of the image data is corrected based on the optical image of each data, and the points which are not canceled by overlapping each OBIC image are extracted. The points that were not canceled are the defective spots of the defective sample. In this case, the comparison of the data is always made from the non-defective data at the coordinate position (x, y) at the applied voltage of 0.0 V and the defective data at the applied voltage of 0.0 V, and finally the non-defective product at the coordinate position (x, y) at the maximum applied voltage. Image processing is performed in a cycle for comparing data and defective product data.

【0036】この実施の形態例によれば、各データの光
学画像を基に画像データの位置補正を行なってから各O
BIC像の重ね合わせ比較を行なうことにより、実デバ
イスの確実な評価・解析を行なうことが可能となる。
According to this embodiment, the position of image data is corrected based on the optical image of each data, and then each O is corrected.
By performing the superposition comparison of the BIC images, it is possible to reliably evaluate and analyze the actual device.

【0037】OBIC像を重ね合わせることにより、
不良ポイントが抽出されなかった場合には、レシピに従
って座標位置を移動させ、上記の処理を行ない、異常
箇所を抽出する。
By superimposing the OBIC images,
If no defective point is extracted, the coordinate position is moved according to the recipe, and the above processing is performed to extract an abnormal part.

【0038】この実施の形態例によれば、レシピに従
い、比較位置を順次移動させながら、比較処理を行なっ
ていくことにより、実デバイスの全面にわたる評価・解
析を行なうことが可能になる。
According to this embodiment, by performing the comparison process while sequentially moving the comparison position in accordance with the recipe, it is possible to perform evaluation and analysis over the entire surface of the actual device.

【0039】上記の輝度変換条件で全ての座標位置
を走査し、異常箇所を抽出できなかった場合には、良品
又は不良品のデータに対して再度輝度変換画像処理を行
ない、上記、の操作を繰り返し行なう。
If all the coordinate positions are scanned under the above-described luminance conversion conditions and an abnormal part cannot be extracted, the luminance conversion image processing is performed again on the data of good or defective products, and the above operation is performed. Repeat.

【0040】輝度変換処理は、試料の故障モードによっ
て異なるので、(1)上記で設定したマイナス側輝度
しきい値とプラス側輝度しきい値を狭めて調整する、
(2)上記で設定したマイナス側輝度しきい値とプラ
ス側輝度しきい値を広げて調整する、(3)不良試料側
に対してメディアンフィルタ等の各種のフィルタをかけ
て処理する、等の処理を行なうものである。
Since the brightness conversion processing differs depending on the failure mode of the sample, (1) the threshold value of the minus side and the threshold value of the plus side which are set above are adjusted by narrowing them.
(2) broadening and adjusting the minus luminance threshold and the plus luminance threshold set above; (3) processing the defective sample by applying various filters such as a median filter. It performs processing.

【0041】この実施の形態例によれば、輝度変換処理
として前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度しき
い値を狭めて調整する方法や、前記マイナス側輝度しき
い値とプラス側輝度しきい値を広めて調整する方法や、
不良試料側に対してフィルタをかける処理を行なう方法
を採用することで、正確な比較処理を行なうことが可能
になる。
According to this embodiment, as the brightness conversion processing, a method of narrowing and adjusting the minus side brightness threshold value and the plus side brightness threshold value or a method of adjusting the minus side brightness threshold value and the plus side brightness value is used. How to spread and adjust the threshold,
By employing a method of performing a process of applying a filter to the defective sample side, an accurate comparison process can be performed.

【0042】(ステップS4)結果表示 上記で故障箇所の抽出ができたら、その抽出された
試料座標を画面(カラーCRT10)上に表示、又は画
像を画面上に表示させる。また、抽出された情報が多か
った場合を想定して、標準は試料座標値を画面上に表示
するだけとする。
(Step S4) Result Display After the failure location has been extracted as described above, the extracted sample coordinates are displayed on the screen (color CRT 10) or an image is displayed on the screen. In addition, assuming that the extracted information is large, the standard only displays the sample coordinate values on the screen.

【0043】(ステップS5)異常箇所の観察 抽出された情報から画像データを呼び出し、必要に応じ
て異常箇所に対して観察倍率を上げて観察し、真の故障
箇所であることを確認する。
(Step S5) Observation of Abnormal Location Image data is called up from the extracted information, and if necessary, the observation magnification is increased with respect to the abnormal location to observe it to confirm that it is a true failure location.

【0044】なお、上記操作フローは、故障モードが特
定されていない試料のものである。従って、故障モード
が予め分かっている試料に関しては、前述したOBIC
装置を使用した際の測定方法を使用することが必要とな
る。その測定方法を使用することで故障箇所の抽出が簡
単になる。
The above operation flow is for a sample whose failure mode is not specified. Therefore, for a sample whose failure mode is known in advance, the above-described OBIC
It is necessary to use the measurement method when using the device. The use of the measurement method simplifies the extraction of a fault location.

【0045】また、上述のステップ、において、一
つの位置を置き、一つの印加電圧条件を設定する際に、
良品画像データの中から対応するデータを自動的に呼び
出し、その都度画像比較を行なってもよい。
In the above steps, when one position is set and one applied voltage condition is set,
The corresponding data may be automatically called out of the good image data, and the image comparison may be performed each time.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、 (1)試料をステージに固定し、光学像により試料位置
のアライメントを行ない、試料に対する座標系を決定
し、測定位置のレシピを作成する工程と、前記測定条件
で良品試料のOBIC像データを取り込む工程と、不良
試料をステージに固定し、前記測定条件と同じ条件でO
BIC像データを取り込む工程と、良品OBIC像デー
タと不良品OBIC像データとを比較する工程とにより
構成されることにより、予め測定位置のレシピ(測定条
件)と、良品試料のOBIC像を用意しておき、不良品
試料との同じ位置同士のOBIC像を比較して、実デバ
イスの確実な評価・解析を行なうことが可能となる。
As described in detail above, according to the present invention, (1) a sample is fixed to a stage, alignment of the sample position is performed by an optical image, a coordinate system for the sample is determined, and a measurement position is determined. A step of preparing OBIC image data of a non-defective sample under the above-mentioned measurement conditions, a step of fixing a defective sample on a stage, and
By including the step of taking in BIC image data and the step of comparing non-defective OBIC image data with defective OBIC image data, a recipe (measurement condition) at a measurement position and an OBIC image of a non-defective sample are prepared in advance. In addition, it is possible to compare the OBIC images at the same position with the defective sample and perform the reliable evaluation and analysis of the actual device.

【0047】(2)この場合において、前記良品OBI
C像データと不良品OBIC像データとを比較するに際
し、各画像に対してマイナス側輝度しきい値とプラス側
輝度しきい値の調整を行ない輝度変換処理を行なうこと
により、良品OBIC像と不良品OBIC像を比較する
に際し、各画像に対してマイナス側輝度しきい値とプラ
ス側輝度しきい値の調整を行なって、双方のOBIC像
の比較を正しく行なうことができる。
(2) In this case, the non-defective OBI
When comparing the C image data with the defective OBIC image data, the negative luminance threshold and the positive luminance threshold are adjusted for each image, and the luminance conversion processing is performed. When comparing non-defective OBIC images, the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value are adjusted for each image, and both OBIC images can be correctly compared.

【0048】(3)また、各データに対しての輝度変換
が終了したら、各データの光学画像を基に画像データの
位置補正を行ない、各OBIC像を重ね合わせて異常箇
所を抽出することにより、各データの光学画像を基に画
像データの位置補正を行なってから各OBIC像の重ね
合わせ比較を行なって、実デバイスの確実な評価・解析
を行なうことが可能となる。
(3) When the luminance conversion for each data is completed, the position of the image data is corrected based on the optical image of each data, and each OBIC image is superimposed to extract an abnormal portion. Then, after correcting the position of the image data based on the optical image of each data, the superposition and comparison of each OBIC image are performed, and the reliable evaluation and analysis of the actual device can be performed.

【0049】(4)また、前記シーケンスにより異常箇
所が抽出されなかった場合には、レシピに従い座標位置
を移動させて前記比較処理を繰り返すことにより、レシ
ピに従い、比較位置を順次移動させながら、比較処理を
行なっていくようにして、実デバイスの全面にわたる評
価・解析を行なうことが可能になる。
(4) If no abnormal part is extracted by the above sequence, the coordinate position is moved according to the recipe and the comparison process is repeated, so that the comparison position is sequentially moved according to the recipe. By performing the processing, it is possible to perform evaluation and analysis over the entire surface of the actual device.

【0050】(5)更に、前記輝度変換処理は、前記マ
イナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値を狭めて
調整する、前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度
しきい値を広めて調整する、不良試料側に対してフィル
タをかける処理を行なうものであることにより、輝度変
換処理として前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝
度しきい値を狭めて調整する方法や、前記マイナス側輝
度しきい値とプラス側輝度しきい値を広めて調整する方
法や、不良試料側に対してフィルタをかける処理を行な
う方法を採用することで、正確な比較処理を行なうこと
が可能になる。
(5) Further, in the luminance conversion processing, the negative side luminance threshold value and the positive side luminance threshold value are narrowed and adjusted, and the negative side luminance threshold value and the positive side luminance threshold value are widened. By performing a process of applying a filter to the defective sample side, a method of narrowing and adjusting the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value as a luminance conversion process, Accurate comparison processing can be performed by adopting a method of spreading and adjusting the side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value, or a method of performing a process of filtering a defective sample. .

【0051】このように、本発明によれば、実デバイス
の確実な評価・解析を行なうことができるOBIC装置
を用いた実デバイスの評価方法を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a method for evaluating an actual device using an OBIC apparatus capable of performing reliable evaluation and analysis of an actual device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を実施するシステムの一実施の形態例を
示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a system for implementing the present invention.

【図2】本発明の動作を示すフローチャートである。FIG. 2 is a flowchart showing the operation of the present invention.

【図3】本発明による電圧の印加状態を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a voltage application state according to the present invention.

【図4】本発明の画像比較の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of an image comparison of the present invention.

【図5】従来方法の問題点の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of a problem of the conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マイクロスコープ 2 試料 3 電源 4 OBICアンプ 5 A/D変換器・D/A変換器ボード 6 MPU 7 EWS 8 キーボード 9 マウス 10 カラーCRT DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Microscope 2 Sample 3 Power supply 4 OBIC amplifier 5 A / D converter / D / A converter board 6 MPU 7 EWS 8 Keyboard 9 Mouse 10 Color CRT

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G032 AB01 AC01 AE04 AE08 AE09 AL01 2H052 AA07 AC34 AF02 AF13 AF14 AF25 4M106 CB19 DB08 DH12 DH32 DH50 DJ18 DJ24  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2G032 AB01 AC01 AE04 AE08 AE09 AL01 2H052 AA07 AC34 AF02 AF13 AF14 AF25 4M106 CB19 DB08 DH12 DH32 DH50 DJ18 DJ24

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 試料をステージに固定し、光学像により
試料位置のアライメントを行ない、試料に対する座標系
を決定し、測定位置のレシピを作成する工程と、 前記測定条件で良品試料のOBIC像データを取り込む
工程と、 不良試料をステージに固定し、前記測定条件と同じ条件
でOBIC像データを取り込む工程と、 良品OBIC像データと不良品OBIC像データとを比
較する工程とにより構成されるOBIC装置を用いた実
デバイスの評価方法。
1. A step of fixing a sample on a stage, performing alignment of the sample position with an optical image, determining a coordinate system for the sample, and creating a recipe of a measurement position, and OBIC image data of a good sample under the measurement conditions. OBIC apparatus comprising: a step of capturing defective data; a step of fixing a defective sample to a stage; and capturing OBIC image data under the same conditions as the measurement conditions; and a step of comparing non-defective OBIC image data with defective OBIC image data. Evaluation method of real device using.
【請求項2】 前記良品OBIC像データと不良品OB
IC像データとを比較するに際し、各画像に対してマイ
ナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値の調整を行
ない輝度変換処理を行なうことを特徴とする請求項1記
載のOBIC装置を用いた実デバイスの評価方法。
2. The good OBIC image data and the defective OB.
2. The OBIC device according to claim 1, wherein, when comparing with the IC image data, a luminance conversion process is performed by adjusting a minus luminance threshold value and a plus luminance threshold value for each image. How to evaluate the actual device.
【請求項3】 各データに対しての輝度変換が終了した
ら、各データの光学画像を基に画像データの位置補正を
行ない、各OBIC像を重ね合わせて異常箇所を抽出す
ることを特徴とする請求項2記載のOBIC装置を用い
た実デバイスの評価方法。
3. When the luminance conversion for each data is completed, the position of the image data is corrected based on the optical image of each data, and each OBIC image is superimposed to extract an abnormal portion. A method for evaluating an actual device using the OBIC apparatus according to claim 2.
【請求項4】 前記シーケンスにより異常箇所が抽出さ
れなかった場合には、レシピに従い座標位置を移動させ
て前記比較処理を繰り返すことを特徴とする請求項2又
は3記載のOBIC装置を用いた実デバイスの評価方
法。
4. The realization using an OBIC device according to claim 2, wherein, if no abnormal portion is extracted by the sequence, the coordinate position is moved according to a recipe and the comparison process is repeated. Device evaluation method.
【請求項5】 前記輝度変換処理は、前記マイナス側輝
度しきい値とプラス側輝度しきい値を狭めて調整する、
前記マイナス側輝度しきい値とプラス側輝度しきい値を
広めて調整する、不良試料側に対してフィルタをかける
処理を行なうものであることを特徴とする請求項2又は
4記載のOBIC装置を用いた実デバイスの評価方法。
5. The luminance conversion processing includes adjusting the negative luminance threshold and the positive luminance threshold by narrowing the luminance threshold.
5. The OBIC device according to claim 2, wherein a process of applying a filter to a defective sample side is performed to widen and adjust the minus side luminance threshold value and the plus side luminance threshold value. Evaluation method of the actual device used.
JP10243070A 1998-08-28 1998-08-28 Evaluation method for actual device by use of obic device Withdrawn JP2000077491A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10243070A JP2000077491A (en) 1998-08-28 1998-08-28 Evaluation method for actual device by use of obic device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10243070A JP2000077491A (en) 1998-08-28 1998-08-28 Evaluation method for actual device by use of obic device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000077491A true JP2000077491A (en) 2000-03-14

Family

ID=17098349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10243070A Withdrawn JP2000077491A (en) 1998-08-28 1998-08-28 Evaluation method for actual device by use of obic device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000077491A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021043156A (en) * 2019-09-13 2021-03-18 浜松ホトニクス株式会社 Inspection device and inspection method for semiconductor specimen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021043156A (en) * 2019-09-13 2021-03-18 浜松ホトニクス株式会社 Inspection device and inspection method for semiconductor specimen
WO2021049313A1 (en) * 2019-09-13 2021-03-18 浜松ホトニクス株式会社 Semiconductor sample inspection device and inspection method
US11927626B2 (en) 2019-09-13 2024-03-12 Hamamatsu Photonics K.K. Semiconductor sample inspection device and inspection method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7657078B2 (en) Method and apparatus for reviewing defects
US8111902B2 (en) Method and apparatus for inspecting defects of circuit patterns
US6756589B1 (en) Method for observing specimen and device therefor
JP4866141B2 (en) Defect review method using SEM review device and SEM defect review device
JP4695239B2 (en) Defect detection method and apparatus based on shape feature
WO2016038982A1 (en) Defect quantification method, defect quantification device, and defect evaluation value display device
US7071468B2 (en) Circuit pattern inspection method and its apparatus
WO2010013612A1 (en) Circuit pattern examining apparatus and circuit pattern examining method
JP2006284433A (en) Device and method for visual examination
CN109827970B (en) Semiconductor chip test system and method
US20030156750A1 (en) PICA system detector calibration
JP2006138708A (en) Image flaw inspection method, image flaw inspecting device and visual inspection device
US6031985A (en) Method, apparatus and system for analyzing failure of measured device
JP2000077491A (en) Evaluation method for actual device by use of obic device
JPH09264856A (en) Article appearance inspection device
JP3665194B2 (en) Circuit pattern inspection method and inspection apparatus
EP0667535A2 (en) Electron beam tester and testing method using the same
JPH09139406A (en) Electron microscope system
JP2000207562A (en) Device and method for macro-inspection of wafer
JP2003133379A (en) Inspection apparatus and manufacturing method of semiconductor device
JP2008204775A (en) Charged particle beam device
JPH11352073A (en) Foreign matter inspection method and apparatus thereof
US6839646B2 (en) Electron beam test system and electron beam test method
JP2002014062A (en) Method and apparatus for checking pattern
JPH10197399A (en) Defect locator for thin display

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20051101