JP2000071375A - Laminate - Google Patents

Laminate

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JP2000071375A
JP2000071375A JP10246044A JP24604498A JP2000071375A JP 2000071375 A JP2000071375 A JP 2000071375A JP 10246044 A JP10246044 A JP 10246044A JP 24604498 A JP24604498 A JP 24604498A JP 2000071375 A JP2000071375 A JP 2000071375A
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JP
Japan
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transparent conductive
conductive layer
film
laminate
resin
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JP10246044A
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Japanese (ja)
Inventor
Hironobu Shinohara
弘信 篠原
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance workability and to prevent the thickness irregularity of the layers of a laminate by laminating a transparent conductive layer to one surface of a thin layer comprising a transparent resin and laminating a support material comprising a transparent resin to the other surface thereof. SOLUTION: A transparent conductive layer is laminated to one surface of a film base material made of a transparent resin and a support material composed of a transparent resin is laminated to the other surface thereof to obtain a laminate. In a method wherein transparent conductive layer is laminated to one surface of the film base material, it is pref. to laminate the transparent conductive layer while continuously supplying an optically transparent resin film. As a material of the transparent conductive layer laminated to the transparent film base material, a metal such as Sn, In, Ti, Pb, Au, Pt, Ag or the like or oxide thereof can be used. As necessary, an anchor coat may be formed between the film base material and the transparent conductive layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、透明な樹脂からな
る基板に透明導電層が形成された積層体で、特に生産性
に優れた積層体に関する。
The present invention relates to a laminate having a transparent conductive layer formed on a substrate made of a transparent resin, and more particularly to a laminate having excellent productivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、透明電極や抵抗発熱体等に使用さ
れてきた透明導電性材料は、ガラス上に金属酸化物から
なる透明導電層を形成したものであったが、ガラスから
なる基板は重く、割れやすいなど取り扱い上不都合が多
いため、近年では可撓性、加工性、軽量性、生産性にす
ぐれ、さらに大面積化も可能である長所を有する樹脂製
基板がガラスの代わりに広く用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a transparent conductive material used for a transparent electrode, a resistance heating element, or the like has a transparent conductive layer made of a metal oxide formed on glass. Since there are many inconveniences in handling such as being heavy and fragile, in recent years, resin substrates that have excellent flexibility, workability, light weight, and productivity, and have the advantage of being able to have a large area are widely used instead of glass. Have been.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来このよう
な透明導電層の樹脂製基板への積層はガラスの場合と同
様、枚葉の基板ごとにスパッタリングや真空蒸着などの
方法によって行われるいわゆるバッチ処理によって行わ
れていたため、基板によって層厚にバラツキが発生する
など積層体間の品質面で問題があり、また製造の作業効
率も悪く経済的にデメリットが大きいものであった。本
発明は前記従来技術の課題を背景になされたもので、作
業性に優れかつ積層体間の層厚にバラツキがなく均一な
品質を有する積層体を提供することを目的とする。
However, conventionally, such a transparent conductive layer is laminated on a resin substrate in the same manner as in the case of glass, in which a so-called batch process is performed for each single substrate by a method such as sputtering or vacuum deposition. Since it is performed by the treatment, there is a problem in the quality between the laminates, such as a variation in the layer thickness depending on the substrate, and the work efficiency of the production is poor, and the disadvantage is large economically. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of the related art, and has as its object to provide a laminate having excellent workability, uniform thickness without variation in layer thickness between laminates.

【0004】[0004]

【課題を解決しようとする手段】本発明は、透明な樹脂
からなる薄層の一方の面に透明導電層が積層され、該薄
層の他方の面に透明な樹脂からなる支持材が積層されて
なる積層体を提供するものである。
According to the present invention, a transparent conductive layer is laminated on one surface of a transparent resin thin layer, and a transparent resin support material is laminated on the other surface of the thin layer. The present invention provides a laminate comprising:

【0005】ここで、透明な樹脂からなる薄層は、透明
な樹脂からなるフイルムで形成することができる。かか
る透明なフィルム基材は押出成形法や溶液流延法など公
知のフィルム成形方法によって得られる。また、透明な
樹脂からなる支持材はこれら公知のフィルム成形方法の
ほかに射出成形や射出圧縮成形などの板状成形品の成形
方法を用いることもできる。
Here, the thin layer made of a transparent resin can be formed of a film made of a transparent resin. Such a transparent film substrate can be obtained by a known film forming method such as an extrusion method or a solution casting method. In addition to the known film forming methods, a support member made of a transparent resin may be formed by a plate-shaped molding method such as injection molding or injection compression molding.

【0006】本発明において、積層体を製造する方法と
しては、透明な樹脂製フィルム基材の一方の面に透明導
電層を積層した後、該フィルム基材の他方の面に透明な
樹脂からなる支持材を貼り合わせて積層体とすることが
好ましい。上記製造方法において、透明な樹脂製フィル
ム基材の一方の面に透明導電層を積層する方法として
は、光学的に透明な樹脂製フィルムを連続的に供給しな
がら透明導電層を積層することが好ましい。光学的に透
明な樹脂製フィルムを連続的に供給しながら透明導電層
を積層する方法の一例としては、供給ローラに装着され
たロール状の該樹脂製フィルムを順次展延しながらプラ
ズマ重合法、スパッタリング法、真空蒸着法、メッキ、
イオンプレーティング法、スプレー法、電気析出法、ロ
ールコーティング法、グラビアコーティング法、スクリ
ーンコーティング法、スプレーコーティング法、バーコ
ーティング法などの方法が使用できる。
In the present invention, as a method for producing a laminate, a transparent conductive layer is laminated on one surface of a transparent resin film substrate, and the other surface of the film substrate is made of a transparent resin. It is preferable that a support is attached to form a laminate. In the above manufacturing method, as a method of laminating a transparent conductive layer on one surface of a transparent resin film substrate, the transparent conductive layer may be laminated while continuously supplying an optically transparent resin film. preferable. As an example of a method of laminating a transparent conductive layer while continuously supplying an optically transparent resin film, a plasma polymerization method while sequentially spreading the roll-shaped resin film attached to a supply roller, Sputtering, vacuum deposition, plating,
Methods such as ion plating, spraying, electrodeposition, roll coating, gravure coating, screen coating, spray coating, and bar coating can be used.

【0007】上記のように透明な樹脂製フィルム基材の
一方の面に透明導電層を積層した後、透明導電層の積層
面とは反対の面と透明な樹脂からなる支持材とを貼り合
わせることができる。ここで支持材の形態としては長尺
フィルム状であってもよく、枚葉の形態であってもよ
い。長尺フィルム状の場合は、別途準備したロール状の
フィルム支持材を順次展延したものであってもよく、ま
た支持材の押出成形時に押し出されたフィルムをそのま
ま用いたものであってもよい。
After the transparent conductive layer is laminated on one surface of the transparent resin film substrate as described above, the surface opposite to the laminated surface of the transparent conductive layer is bonded to a support made of a transparent resin. be able to. Here, the form of the support material may be a long film form or a single sheet form. In the case of a long film, a roll-shaped film support prepared separately may be sequentially spread, or a film extruded during extrusion of the support may be used as it is. .

【0008】本発明において、透明なフィルム基材に積
層される透明導電層の材料は特に限定されず、Sn、I
n、Ti、Pb、Au、Pt、Ag等の金属、またはそ
れらの酸化物が一般的に使用できる。金属単体を上記の
方法で基板状に形成したときは、必要に応じてその後酸
化することもできる。当初から酸化物層として付着形成
させる方法もある。また、最初は金属単体または低級酸
化物の形態で被膜を形成し、しかる後加熱酸化、陽極酸
化あるいは液相酸化などの酸化処理を施して透明化する
こともできる。これらの透明導電層の厚さは通常、10
〜10000オングストローム、好ましくは50〜50
00オングストロームであり、透明導電膜の比抵抗は1
00オームcm以下であることが好ましい。
In the present invention, the material of the transparent conductive layer laminated on the transparent film substrate is not particularly limited.
Metals such as n, Ti, Pb, Au, Pt, and Ag, or oxides thereof can generally be used. When the metal simple substance is formed into a substrate by the above-described method, it can be oxidized thereafter if necessary. There is also a method of forming an oxide layer from the beginning. Alternatively, a coating may be formed first in the form of a simple metal or a lower oxide, and then subjected to an oxidation treatment such as heat oxidation, anodic oxidation, or liquid phase oxidation to make the film transparent. The thickness of these transparent conductive layers is usually 10
10,000 to 10,000 Angstroms, preferably 50 to 50
00 angstroms, and the specific resistance of the transparent conductive film is 1
Preferably it is less than 00 ohm cm.

【0009】本発明において、フィルム基材と透明導電
層との間に、必要に応じて接着層および透明導電膜との
密着性とフィルムの平坦化を与える目的でアンカーコー
トを形成していてもよい。この接着層としては、エポキ
シ樹脂、ポリイミド、ポリブタジエン、フェノール樹
脂、ポリエーテルエーテルケトンなどの耐熱樹脂を例示
することができる。またアンカーコート層としては、エ
ポキシジアクリレート、ウレタンジアクリレート、ポリ
エステルジアクリレートなどのいわゆるアクリルプレポ
リマーなどを成分として含むものが用いられる。硬化の
方法は公知の手法を用いることができ、例えばUV硬化
や熱硬化などが用いられる。
In the present invention, even if an anchor coat is formed between the film substrate and the transparent conductive layer for the purpose of providing adhesion between the adhesive layer and the transparent conductive film and flattening the film, if necessary. Good. Examples of the adhesive layer include heat-resistant resins such as epoxy resin, polyimide, polybutadiene, phenol resin, and polyetheretherketone. As the anchor coat layer, a layer containing a so-called acrylic prepolymer such as epoxy diacrylate, urethane diacrylate, or polyester diacrylate as a component is used. As a curing method, a known method can be used, for example, UV curing, heat curing, or the like is used.

【0010】本発明の積層体において、必要に応じて酸
素や水蒸気の透過による劣化をより小さくし、耐久性を
上げる等の目的のために、ポリビニリデンクロリド、ポ
リビニルアルコールなどのガスバリア性材料を使用する
ことができる。このガスバリヤ性材料としては、例えば
透明導電層を積層する前にあらかじめフィルム基材上に
積層することができる。さらにフィルムの耐傷性および
耐熱性を向上させる目的で、ガスバリア層の上にハード
コート層が積層されていてもよい。ハードコート剤とし
ては、有機シリコン系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、アクリル樹脂などの有機ハードコート材料、または
二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料を用いるこ
とができる。これらのうち、有機シリコン系樹脂、アク
リル樹脂などのハードコート材料が好ましい。有機シリ
コン系樹脂の中には、各種官能基を持ったものも使用で
き、特にエポキシ基を持ったものが好ましい。
In the laminate of the present invention, a gas barrier material such as polyvinylidene chloride or polyvinyl alcohol is used for the purpose of reducing deterioration due to permeation of oxygen or water vapor and increasing durability as required. can do. As the gas barrier material, for example, it can be laminated on a film substrate before laminating a transparent conductive layer. Further, a hard coat layer may be laminated on the gas barrier layer for the purpose of improving the scratch resistance and heat resistance of the film. As the hard coat agent, an organic hard coat material such as an organic silicon resin, a melamine resin, an epoxy resin, or an acrylic resin, or an inorganic hard coat material such as silicon dioxide can be used. Among these, a hard coat material such as an organic silicon resin or an acrylic resin is preferable. Among the organic silicon resins, those having various functional groups can be used, and those having an epoxy group are particularly preferable.

【0011】本発明において、透明な樹脂からなる薄層
の厚さは、それを製造する場合に使用するフィルム基材
がロール状で長期保存しても巻きぐせがつかない厚さが
好ましく、好ましくは0.005〜0.35mm、特に
好ましくは0.01〜0.3mmである。フィルム基材
の厚さが0.35mmを超えると、ロールの巻きぐせが
ついてしまい、後工程での加工に障害が発生するおそれ
がある。またフィルム基材の厚さが0.005mm未満
であると強度に劣り、連続的に透明導電層の積層や支持
材との貼り合わせを行うとフィルムが破損するおそれが
ある。
In the present invention, the thickness of the thin layer made of a transparent resin is preferably such that the film substrate used in the production thereof is in a roll form and cannot be rolled up even if it is stored for a long period of time. Is 0.005 to 0.35 mm, particularly preferably 0.01 to 0.3 mm. If the thickness of the film substrate exceeds 0.35 mm, the roll may be rolled up, and there is a possibility that trouble will occur in the processing in the subsequent step. When the thickness of the film substrate is less than 0.005 mm, the strength is inferior. If the transparent conductive layer is continuously laminated or bonded to the support material, the film may be damaged.

【0012】フィルム基材と貼り合わされる支持材はフ
ィルム状であっても板状のものであってもよい。支持材
の厚さは、通常本発明の積層体全体の厚さが0.2〜1
0mmであり、好ましくは0.3〜5mm、より好まし
くは0.4〜2mm、特に好ましくは0.4〜1.5m
mとなるように選択される。本発明の積層体の光線透過
率は、400〜800nmの光を用いた場合で通常80
%以上、好ましくは82%以上、特に好ましくは85%
以上である。
The support to be bonded to the film substrate may be in the form of a film or a plate. The thickness of the support material is usually 0.2 to 1 in the total thickness of the laminate of the present invention.
0 mm, preferably 0.3 to 5 mm, more preferably 0.4 to 2 mm, particularly preferably 0.4 to 1.5 m
m. The light transmittance of the laminate of the present invention is usually 80 when light of 400 to 800 nm is used.
% Or more, preferably 82% or more, particularly preferably 85%
That is all.

【0013】本発明の積層体に用いられるフィルム基材
および支持材としては、ジアセチルセルロース、トリア
セチルセルロースなどのセルロース;ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレートなどのポリエステル;ポリメチル(メ
タ)アクリレート、ポリエチル(メタ)アクリレートな
どのアクリル樹脂;ポリカーボネート;ポリエーテルス
ルホン;ポリスルホン;ポリイミド;熱可塑性ノルボル
ネン系樹脂などからなるフィルムまたは板を用いること
ができる。本発明において、かかるフィルム基材の材料
と支持材の材料が同一のものでも、互いに異なるもので
あってもよいが、同一であるほうがより好ましい。ま
た、これらフィルム基材や支持材は各用途にそれぞれ求
められる要求特性やコストに応じて素材を自由に選択す
ることが可能であるが、特に積層体の透明性が向上する
点でフィルム基材と支持材の少なくとも一方が熱可塑性
ノルボルネン系樹脂からなるものであることが好まし
く、さらに高い光学特性、耐熱性、耐湿性が要求される
場合は、それらの両方が熱可塑性ノルボルネン系樹脂で
あることが好ましい。
As the film base material and the support material used in the laminate of the present invention, celluloses such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate and polybutylene terephthalate; polymethyl (meth) acrylate; A film or plate made of an acrylic resin such as polyethyl (meth) acrylate; polycarbonate; polyether sulfone; polysulfone; polyimide; a thermoplastic norbornene-based resin can be used. In the present invention, the material of the film base material and the material of the support material may be the same or different from each other, but the same is more preferable. In addition, these film base materials and support materials can be freely selected according to the required properties and cost required for each application, but the film base material and the support material are particularly preferred in that the transparency of the laminate is improved. And at least one of the support material is preferably made of a thermoplastic norbornene resin, and when higher optical properties, heat resistance, and moisture resistance are required, both of them are thermoplastic norbornene resins. Is preferred.

【0014】本発明に用いられる熱可塑性ノルボルネン
系樹脂は、その繰り返し単位中にノルボルナン骨格を有
するものである。例えば、この熱可塑性樹脂としては、
一般式(1)〜(4)で表されるノルボルナン骨格を含
むものである。
The thermoplastic norbornene resin used in the present invention has a norbornane skeleton in its repeating unit. For example, as this thermoplastic resin,
It contains a norbornane skeleton represented by the general formulas (1) to (4).

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】(式中、A、B、CおよびDは、水素原子
または1価の有機基を示す。)
(Wherein, A, B, C and D represent a hydrogen atom or a monovalent organic group)

【0017】本発明において使用することのできる上記
ノルボルナン骨格を有する熱可塑性樹脂としては、例え
ば特開昭60−168708号公報、特開昭62−25
2406号公報、特開昭62−252407号公報、特
開平2−133413号公報、特開昭63−14532
4号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1
−240517号公報、特公昭57−8815号公報な
どに記載されている樹脂などを挙げることができる。
Examples of the thermoplastic resin having a norbornane skeleton which can be used in the present invention include, for example, JP-A-60-168708 and JP-A-62-25.
2406, JP-A-62-252407, JP-A-2-133413, JP-A-63-14532
4, JP-A-63-264626, JP-A-1
Resins described in JP-A-240517, JP-B-57-8815 and the like can be mentioned.

【0018】この熱可塑性樹脂の具体例としては、下記
一般式(5)で表される少なくとも1種のテトラシクロ
ドデセン誘導体または該テトラシクロドデセンと共重合
可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られ
る重合体を水素添加して得られる水添重合体を挙げるこ
とができる。
Specific examples of the thermoplastic resin include metathesis of at least one tetracyclododecene derivative represented by the following general formula (5) or an unsaturated cyclic compound copolymerizable with the tetracyclododecene. Examples include a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a polymer obtained by polymerization.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】(式中A〜Dは、前記に同じ。)(Where A to D are the same as above)

【0021】前記一般式(5)で表されるテトラシクロ
ドデセン誘導体において、A、B、CおよびDのうちに
極性基を含むことが、他材料との密着性、および耐熱性
の点から好ましい。さらに、この極性基が−(CH2
)n COOR(ここで、Rは炭素数1〜20の炭化
水素基、nは0〜10の整数を示す)で表される基であ
ることが、得られる水添重合体が高いガラス転移温度を
有するものとなるので好ましい。特に、この−(CH2
)n COORで表される基は、一般式(5)のテト
ラシクロドデセン誘導体の1分子あたりに1個含有され
ることが好ましい。前記一般式において、Rは炭素数1
〜20の炭化水素基であるが、炭素数が多くなるほど得
られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましい
が、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランス
の点から、炭素数1〜4の鎖状アルキル基または炭素数
5以上の(多)環状アルキル基であることが好ましく、
特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であること
が好ましい 。
In the tetracyclododecene derivative represented by the general formula (5), a polar group is contained in A, B, C and D, from the viewpoint of adhesion to other materials and heat resistance. preferable. Further, this polar group is-(CH2
) N COOR (where R represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and n represents an integer of 0 to 10), and the resulting hydrogenated polymer has a high glass transition temperature. Is preferable. In particular, this-(CH2
It is preferable that one group represented by nCOOR be contained per molecule of the tetracyclododecene derivative of the general formula (5). In the general formula, R represents 1 carbon atom.
Although it is preferable that the number of carbon atoms increases, the hygroscopicity of the obtained hydrogenated polymer decreases, but from the viewpoint of the balance with the glass transition temperature of the obtained hydrogenated polymer, It is preferably a chain alkyl group having 1 to 4 or a (poly) cyclic alkyl group having 5 or more carbon atoms,
Particularly, a methyl group, an ethyl group and a cyclohexyl group are preferred.

【0022】さらに、−(CH2nCOORで表される
基が結合した炭素原子に、同時に炭素数1〜10の炭化
水素基が置換基として結合されている一般式(5)のテ
トラシクロドデセン誘導体は、吸湿性を低下させるので
好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基
である一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、
その合成が容易な点で好ましい。具体的には、8−メチ
ル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.
0.12,517,10]ドデカ−8−エンが好まし
い。
Further, a tetracycloalkyl group of the general formula (5) wherein a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is simultaneously bonded as a substituent to a carbon atom to which a group represented by-(CH 2 ) n COOR is bonded. Dodecene derivatives are preferred because they reduce the hygroscopicity. In particular, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which this substituent is a methyl group or an ethyl group,
It is preferable in that the synthesis is easy. Specifically, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.
0.12,517,10] dodec-8-ene is preferred.

【0023】これらのテトラシクロドデセン誘導体、あ
るいはこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物
は、例えば特開平4−77520号公報第4頁右上欄第
12行〜第6頁右下欄第6行に記載された方法によっ
て、メタセシス重合、水素添加され、本発明に使用され
る熱可塑性樹脂とすることができる。
These tetracyclododecene derivatives or a mixture of unsaturated cyclic compounds copolymerizable therewith can be used, for example, in JP-A-4-77520, page 4, upper right column, line 12 to page 6, lower right column, column 12. The thermoplastic resin used in the present invention can be obtained by metathesis polymerization and hydrogenation by the method described in line 6.

【0024】本発明において、上記水添重合体は、クロ
ロホルム中、30℃で測定される固有粘度([η]in
h)が0.3〜1.5dl/gの範囲であることが望ま
しい。[η]inhが上記範囲にあることによって、得ら
れる樹脂の成形加工性、耐熱性、機械的特性のバランス
が良好となる。また、前記水添重合体のガラス転移温度
(Tg)は100℃〜250℃の範囲であることが好ま
しく、特に120〜200℃の範囲であることが好まし
い。100℃未満では該樹脂からなる成形体の耐熱性が
劣る。また、Tgが250℃を超えるものは、成形温度
が高くなり樹脂が焼けて着色するなど良質な成形体を得
ることが難しくなる。
In the present invention, the above hydrogenated polymer has an intrinsic viscosity ([η] in) measured at 30 ° C. in chloroform.
h) is preferably in the range of 0.3 to 1.5 dl / g. When [η] inh is in the above range, the resulting resin has a good balance of moldability, heat resistance, and mechanical properties. Further, the glass transition temperature (Tg) of the hydrogenated polymer is preferably in the range of 100 ° C to 250 ° C, particularly preferably in the range of 120 to 200 ° C. When the temperature is lower than 100 ° C., the heat resistance of a molded article made of the resin is inferior. When the Tg exceeds 250 ° C., the molding temperature becomes high, and it becomes difficult to obtain a high-quality molded body such as the resin being burnt and colored.

【0025】また、水添重合体の水素添加率は、60M
Hz、1H−NMRで測定した値が50%以上、好まし
くは90%以上、さらに好ましくは98%以上である。
水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れ
る。なお、本発明において、ノルボルナン骨格を有する
熱可塑性樹脂として使用される水添重合体は、例えばフ
ィルム成形におけるシルバーストリークなどの不良発生
防止の面から該水添重合体中に含まれるゲル含有量が5
重量%以下であることが好ましく、さらに1重量%であ
ることが好ましい。
The hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is 60 M
Hz, the value measured by 1H-NMR is 50% or more, preferably 90% or more, and more preferably 98% or more.
The higher the hydrogenation rate, the better the stability to heat and light. In the present invention, the hydrogenated polymer used as the thermoplastic resin having a norbornane skeleton has a gel content contained in the hydrogenated polymer from the viewpoint of preventing defects such as silver streaks in film forming. 5
% By weight or less, more preferably 1% by weight.

【0026】本発明に用いる水添重合体には、必要に応
じて公知の酸化防止剤、例えば2,6−ジ−t−ブチル
−4−メチルフェノール、2,2’−ジオキシ−3,
3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルフェニルメ
タン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メ
タン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキ
シ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5ート
リメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル−ベンゼン、ステアリル−
β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート、2,2’−ジオキシ−3,3’−
ジ−t−ブチル−5,5’−ジエチルフェニルメタン、
3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−[β−(3−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロ
ピオニルオキシ]エチル]、2,4,8,10−テトラ
オキスピロ[5,5]ウンデカン、トリス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネ
オペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフ
ェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテト
ライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェ
ニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−
ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイトを添加
することができる。これらの酸化防止剤の添加量は、特
定重合体100重量部に対して、通常0.1〜3重量
部、好ましくは0.2〜2重量部である。酸化防止剤の
使用量が少なすぎる場合は耐久性の改良効果が不充分で
あり、多すぎる場合には成形表面からブリードしたり、
透明性が低下するなどの問題点が生じ好ましくない。
The hydrogenated polymer used in the present invention may contain a known antioxidant such as 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 2,2'-dioxy-3,
3'-di-t-butyl-5,5'-dimethylphenylmethane, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-
Butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl-benzene, stearyl-
β- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2′-dioxy-3,3′-
Di-t-butyl-5,5′-diethylphenylmethane,
3,9-bis [1,1-dimethyl-2- [β- (3-t
-Butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl], 2,4,8,10-tetraoxyspiro [5,5] undecane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phospho Phyte, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-
Di-t-butylphenyl) octyl phosphite can be added. The amount of these antioxidants to be added is generally 0.1 to 3 parts by weight, preferably 0.2 to 2 parts by weight, based on 100 parts by weight of the specific polymer. If the amount of the antioxidant is too small, the effect of improving durability is insufficient, and if it is too large, it bleeds from the molding surface,
Problems such as a decrease in transparency are not preferred.

【0027】また、上記の水添重合体には、上記のよう
な酸化防止剤の他に、必要に応じて紫外線吸収剤、例え
ばp―t―ブチルフェニルサリシレート、2,2'−ジ
ヒドロキシー4―メトキシベンゾフェノン、2,4−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシー4−メト
キシベンゾフェノン、2−(2'−ジヒドロキシ−4'−
m―オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール;安定
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐衝撃性改良用エラストマー
などを添加することができる。また、成形性、加工性を
向上させる目的で可塑剤、軟化剤などの添加剤を添加す
ることもできる。
In addition to the above-mentioned antioxidants, if necessary, ultraviolet absorbers such as pt-butylphenyl salicylate and 2,2'-dihydroxy-4 -Methoxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2- (2'-dihydroxy-4'-
m-octoxyphenyl) benzotriazole; a stabilizer, an antistatic agent, a flame retardant, an elastomer for improving impact resistance, and the like can be added. Further, additives such as a plasticizer and a softener can be added for the purpose of improving moldability and workability.

【0028】上記熱可塑性ノルボルネン系樹脂から溶液
流延法によりフィルム基材または支持材を成形するに
は、例えば特開平5−148413号公報記載の方法を
用いることができ、溶融押出法を用いるには、例えば特
開平4−59218号公報記載の方法を用いることがで
きる。
In order to form a film substrate or a support material from the thermoplastic norbornene-based resin by a solution casting method, for example, a method described in JP-A-5-148413 can be used. For example, a method described in JP-A-4-59218 can be used.

【0029】本発明の積層体は、携帯電話、デジタル情
報端末、ポケットベル、ナビゲーションなどの車載用液
晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器
用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイなどの各種デ
ィスプレイ用途の他に防曇ミラー用テラロスター、冷凍
ショーケース用テラロスター、面発光パネルなどの各種
用途に用いることができる。
The laminate of the present invention is used for various displays such as a liquid crystal display for a vehicle, a liquid crystal monitor, a light control panel, a display for an office automation equipment, a display for an AV equipment, etc. In addition, it can be used for various uses such as a terraroster for an anti-fog mirror, a terraroster for a frozen showcase, and a surface emitting panel.

【0030】[0030]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例中、部および%は、特に断らな
い限り重量基準である。なお、実施例中の各測定は、以
下の通りである。板厚(mm) ダイヤル式厚みゲージにより測定した。光透過率(%) 積層体の光透過率をASTM D1003により測定し
た。透明導電層の均一性 a)シート抵抗 装置に「ロレスタAP」(三菱油化製)を用い、四端子
四端針方式(測定印加電流10mA)により、積層板上
の適当に選択された10箇所について測定し、その値の
バラツキを評価した。 b)層厚測定 装置に「DEKTAK3030」(sloan社製)を
用い、針圧10mgで上記10箇所について測定し、そ
の値のバラツキを評価した。積層体のソリ 積層体のソリをJIS K6911に従って測定した。
The present invention will now be described in more detail with reference to Examples.
However, the present invention is limited to the following examples.
is not. In the examples, parts and% are not particularly specified.
As far as weight is concerned. Note that each measurement in the examples is as follows.
It is as follows.Plate thickness (mm) It was measured with a dial-type thickness gauge.Light transmittance (%) The light transmittance of the laminate was measured according to ASTM D1003.
Was.Uniformity of transparent conductive layer  a) Sheet resistance Using "Loresta AP" (manufactured by Mitsubishi Yuka) as a device, four terminals
Using a four-point needle method (measured applied current: 10 mA), on the laminate
Measured at 10 points selected appropriately, and
The variation was evaluated. b) "DEKTAK3030" (manufactured by sloan) as a layer thickness measurement device
The above 10 points were measured with a needle pressure of 10 mg.
Were evaluated.Stacked sled The warpage of the laminate was measured according to JIS K6911.

【0031】実施例1 熱可塑性樹脂として、固有粘度(ηinh)が0.67、
Tgが171℃のノルボルネン系樹脂(JSR(株)製
「ARTON」)を300℃に加熱溶融し、T型ダイか
ら押出成形されたフィルムを用い、該フィルム片面に酸
化インジウム/酸化スズ(重量比95:5)からなるタ
ーゲットを用いて透明導電層をスパッタリング法により
形成させたものを巻取機で巻き取り、厚さ0.2mmの
透明導電性フィルムのロール原反を得た。一方、支持材
として上述の熱可塑性樹脂を用い、300℃に加熱溶融
し、T型ダイから順次押出される厚さ0.3mmのシー
ト上にn−ブチルアクリレート90重量%、エチルアク
リレート7重量%、エチルアクリレート7重量%、アク
リル酸3重量%からなるアクリル系樹脂100部とトリ
レンジイソシアナート(3モル)のトリメチロールプロ
パン(1モル)付加物の75重量%酢酸エチル溶液2部
からなる架橋剤を混合して得られた粘着材を塗布し、そ
の後前述の透明導電性フィルムのロール原反の透明導電
層が積層されている側とは反対のフィルム基材面がシー
ト支持材の粘着材面に位置するようにして、引き取りロ
ールを介して連続的に供給し、シート支持材と接着後、
切断機に通して板厚0.5mmの積層体を連続的に得
た。この積層体について、光透過率、透明導電層の均一
性および積層板のソリを測定した。評価結果を表1に示
す。
Example 1 As a thermoplastic resin, the intrinsic viscosity (ηinh) was 0.67,
A norbornene-based resin having a Tg of 171 ° C. (“ARTON” manufactured by JSR Corporation) was heated and melted at 300 ° C., and a film extruded from a T-die was used. One surface of the film was indium oxide / tin oxide (weight ratio). A transparent conductive layer formed by a sputtering method using a target consisting of 95: 5) was wound by a winder to obtain a roll of a transparent conductive film roll having a thickness of 0.2 mm. On the other hand, the above-mentioned thermoplastic resin was used as a support material, heated and melted at 300 ° C., and 90% by weight of n-butyl acrylate and 7% by weight of ethyl acrylate were placed on a 0.3 mm-thick sheet sequentially extruded from a T-die. Crosslinking consisting of 100 parts of an acrylic resin consisting of ethyl acrylate, 7% by weight of ethyl acrylate and 3% by weight of acrylic acid, and 2 parts of a 75% by weight ethyl acetate solution of adduct of trimethylolpropane (1 mol) with tolylene diisocyanate (3 mol). The adhesive material obtained by mixing the adhesive is applied, and then the film substrate surface opposite to the side on which the transparent conductive layer of the roll of the transparent conductive film is laminated is the adhesive material of the sheet support material. So that it is located on the surface, it is continuously fed through a take-off roll and after bonding with the sheet support,
The laminate was passed through a cutting machine to continuously obtain a laminate having a thickness of 0.5 mm. For this laminate, the light transmittance, the uniformity of the transparent conductive layer, and the warpage of the laminate were measured. Table 1 shows the evaluation results.

【0032】実施例2 実施例1と同様の熱可塑性樹脂をトルエンに溶解して、
20重量%トルエン溶液をダイスに通し、均一厚みの層
にし、これを200℃で乾燥して得られたフィルムを切
断して、長さ295mm×幅210mm×厚さ0.2m
mの枚葉の支持材を得た。この支持材上に実施例1と同
様の粘着材を塗布し、搬送手段によって順次搬送をおこ
ない、この支持材と実施例1と同様に連続的に展延供給
されるロール原反の透明導電性フィルムと貼り合わせた
後に切断機にて切り出し枚葉の積層体を得た。この積層
体について、実施例1と同様の評価を行った。評価結果
を表1に示す。
Example 2 The same thermoplastic resin as in Example 1 was dissolved in toluene.
A 20% by weight toluene solution is passed through a die to form a layer having a uniform thickness, which is dried at 200 ° C. to cut a film obtained, and is 295 mm in length × 210 mm in width × 0.2 m in thickness.
m of support material were obtained. The same adhesive material as in Example 1 was applied to the support material, and the material was sequentially conveyed by a conveying means. The transparent conductive material of the support material and the roll material continuously rolled and supplied as in Example 1 were used. After laminating with a film, it was cut out with a cutting machine to obtain a laminated sheet. This laminate was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results.

【0033】比較例1 フィルム基材の厚さが0.5mmとなるように押出成形
した他は実施例1と同様の方法で透明導電性フィルムの
ロール原反を作成し、支持材と貼り合わせた後切断機に
通して枚葉の積層体を得た。この積層体について実施例
1と同様の評価を行った。評価結果を表1に示す。
Comparative Example 1 A roll of a transparent conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the film was extruded so that the thickness of the film substrate was 0.5 mm, and the roll was bonded to a support material. After that, the sheet was passed through a cutting machine to obtain a single-sheet laminated body. This laminate was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the evaluation results.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】表1から明らかなように、実施例1と実施
例2は積層体のソリがなく、しかも光透過率、透明導電
層の均一性に優れている。これに対し、比較例1は積層
体のソリが大きく、支持材からの部分的剥離と思われる
シート抵抗のバラツキが見られた。
As is clear from Table 1, Examples 1 and 2 have no warp of the laminate, and are excellent in light transmittance and uniformity of the transparent conductive layer. On the other hand, in Comparative Example 1, the laminate had a large warp, and a variation in sheet resistance which was considered to be partial peeling from the support material was observed.

【0036】比較例2 実施例1と同様の熱可塑性樹脂をトルエンに溶解して、
20重量%トルエン溶液をダイスに通し、均一厚みの層
にし、これを200℃で乾燥して厚さ0.002mmの
フィルムを得た。このフィルムをフィルム基材として実
施例1と同様の方法で透明導電層形成、フィルム巻取、
および支持材との貼付を行ったが、これら一連の工程で
フィルム破断が多発し、積層体の歩留まりが著しく低下
した。
Comparative Example 2 The same thermoplastic resin as in Example 1 was dissolved in toluene.
A 20% by weight toluene solution was passed through a die to form a layer having a uniform thickness, which was dried at 200 ° C. to obtain a film having a thickness of 0.002 mm. Using this film as a film substrate, a transparent conductive layer was formed in the same manner as in Example 1, and the film was wound.
And affixing with a support material, but the film breakage occurred frequently in these series of steps, and the yield of the laminate was significantly reduced.

【0037】[0037]

【発明の効果】本発明の積層体は透明導電層の積層や支
持材との貼付作業によって得られたもので、枚葉の基板
に直接透明導電層を積層する方法に比べて生産性が向上
しており、しかも透明導電性基板としての品質にも優れ
たものである。
The laminate of the present invention is obtained by laminating a transparent conductive layer and attaching the transparent conductive layer to a support material. The productivity is improved as compared with a method of directly laminating a transparent conductive layer on a single-wafer substrate. It is also excellent in quality as a transparent conductive substrate.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明な樹脂からなる薄層の一方の面に透
明導電層が積層され、該薄層の他方の面に透明な樹脂か
らなる支持材が積層されてなる積層体。
1. A laminate in which a transparent conductive layer is laminated on one surface of a thin layer made of a transparent resin, and a support material made of a transparent resin is laminated on the other surface of the thin layer.
【請求項2】 透明な樹脂製フィルム基材の一方の面に
透明導電層を積層した後、該フィルム基材の他方の面に
透明な樹脂からなる支持材を貼り合わせてなる請求項1
記載の積層体。
2. The method according to claim 1, wherein a transparent conductive layer is laminated on one surface of the transparent resin film substrate, and a support made of a transparent resin is bonded to the other surface of the film substrate.
The laminate according to the above.
【請求項3】 樹脂製フィルム基材が熱可塑性ノルボル
ネン系樹脂からなるものである請求項2に記載の積層
体。
3. The laminate according to claim 2, wherein the resin film base is made of a thermoplastic norbornene-based resin.
【請求項4】 支持材が熱可塑性ノルボルネン系樹脂か
らなるものである請求項2に記載の積層体。
4. The laminate according to claim 2, wherein the support material is made of a thermoplastic norbornene-based resin.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001091136A1 (en) * 2000-05-21 2001-11-29 Tdk Corporation Transparent conductive multilayer body and method for producing the same
CN111051055A (en) * 2017-08-29 2020-04-21 富士胶片株式会社 Laminated film and method for producing laminated film

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