JP2000063382A - 1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−5−イルアミン誘導体、およびその製造方法 - Google Patents

1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−5−イルアミン誘導体、およびその製造方法

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JP2000063382A
JP2000063382A JP10232925A JP23292598A JP2000063382A JP 2000063382 A JP2000063382 A JP 2000063382A JP 10232925 A JP10232925 A JP 10232925A JP 23292598 A JP23292598 A JP 23292598A JP 2000063382 A JP2000063382 A JP 2000063382A
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formula
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JP10232925A
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English (en)
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Kensuke Morita
健介 森田
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬、農薬等の生理活性物質またはその合成
中間体、並びに写真用カプラー、熱転写色素供与性材料
用色素または各種染料の前駆体として有用な化合物およ
びその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式(I)で表されるピロロトリ
アゾール誘導体。式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞ
れ独立に水素原子または置換基を表す。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬、農薬等の生理
活性物質またはその合成中間体、写真用カプラーや熱転
写色素供与性材料用色素や各種染料の前駆体として有用
な、1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリ
アゾール−5−イルアミン誘導体およびその製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,
2,4〕トリアゾール類は医薬、農薬、染料又は写真用
カプラーとしてあるいはこれらの合成中間体として有用
である。特に欧州特許公開第491197A1号、米国
特許第5256526号、特開平5−204107号等
に記載されているように、6位及び7位に電子吸引性基
を有する1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕
トリアゾール類は優れた吸収特性を有する写真用カプラ
ーとして有用である。
【0003】一方、1H−ピロロ−〔1,2−b〕
〔1,2,4〕トリアゾール類の合成法については現在
までにUKr.Khim.Zh.,38,1142(1
972)、同41,181(1975)、同41,25
2(1975)、同41,1053(1975)、Sy
nthesis,414(1973)、特開平5−20
2004号、特開平5−255333号等の文献や特許
に記載の方法が知られている。しかし、写真用カプラー
中間体などとして特に有用性が高い、本発明の1H−ピ
ロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−5
−イルアミン誘導体およびその製造方法については、知
られていなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は医薬、
農薬、染料又は写真用カプラー等に有用性が高い、1H
−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール
−5−イルアミン誘導体およびその製造方法を提供する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題は以下の手段
により解決された。 〈1〉下記一般式(I)で表されるピロロトリアゾール
誘導体。
【0006】
【化3】
【0007】式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ独
立に水素原子または置換基を表す。 〈2〉一般式(I)で、R2 がシアノ基であるピロロト
リアゾール誘導体。 〈3〉一般式(II)で表されるトリアゾール誘導を反応
原料とする、一般式(I)で表される化合物の製造方
法。
【0008】
【化4】
【0009】式中、R1 、R2 よびR3 はそれぞれ独立
に水素原子または置換基を表す。 〈4〉〈3〉の製造方法において、0価、1価または2
価の銅を含む化合物を触媒として用いること特徴とす
る、一般式(I)で表される化合物の製造方法。 〈5〉〈3〉の製造方法において、触媒として塩化銅
(I)または臭化銅(I)を用いることを特徴とする一
般式(I)で表される化合物の製造方法。
【0010】本発明のアミン誘導体によって、そのアミ
ノ基を利用することにより、有用な多くの誘導体に導く
ことが可能になった。
【0011】次に一般式(I)で表される化合物につい
て詳しく説明する。本発明の一般式(I)で表される化
合物は有機の酸又は無機の酸によって塩を形成していて
もよく、これらの塩をも含む。有機の酸としてはカルボ
ン酸(例えば酢酸、プロピオン酸、マレイン酸、マロン
酸、オクタデカン酸、安息香酸、テレフタル酸、フラン
カルボン酸)、スルホン酸(例えば、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸)、有機
燐酸(例えば、ジメチルヒドロゲンホスフェート)等が
挙げられ、無機の酸としては塩酸、硫酸、燐酸等が挙げ
られる。これらの酸のうち、酢酸、塩酸、硫酸、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸が好ましい。また、
本発明においては、一般式(I)で表される化合物は有
機の酸又は無機の酸の塩であるよりも、塩を形成しない
フリーのものの方が好ましい。
【0012】R1 は水素原子又は置換基(原子を含
む。)を表わし、置換基としてはハロゲン原子、脂肪族
炭化水素基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキル・アリールもしくは複素環チ
オ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリル
オキシ基、スルホニルオキシ基、アシルアミノ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルフ
ァモイルアミノ基、アルケニルオキシ基、ホルミル基、
アルキル・アリールもしくは複素環アシル基、アルキル
・アリールもしくは複素環スルホニル基、アルキル・ア
リールもしくは複素環スルフィニル基、アルキル・アリ
ールもしくは複素環オキシカルボニル基、アルキル・ア
リールもしくは複素環オキシカルボニルアミノ基、スル
ホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、ホ
スホニル基、スルファモイルアミノ基、イミド基、ヒド
ロキシ基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、スル
ホ基、無置換のアミノ基等をあげることができる。これ
らの基に含まれるアルキル基、アリール基もしくは複素
環基はR1 で例示したような置換基で更に置換されてい
てもよい。
【0013】さらに詳しくは、R1 は水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、脂肪族炭化水
素基(例えば、炭素数1〜36の直鎖、又は分岐鎖アル
キル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
脂環式炭化水素基(シクロアルキル基、シクロアルケニ
ル基)で、詳しくは例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、t−ブチル、トリデシル、2−メタ
ンスルホニルエチル、3−(3−ペンダデシルフェノキ
シ)プロピル、3−{4−{2−〔4−(4−ヒドロキ
シフェニルスルホニル)フェノキシ〕ドデカンアミド}
フェニル}プロピル、2−エトキシトリデシル、トリフ
ルオロメチル、シクロペンチル、3−(2,4−ジ−t
−アミルフェノキシ)プロピル)、アリール基(好まし
くは炭素数6〜36、例えば、フェニル、ナフチル、4
−ヘキサデシルオキシフェニル、4−t−ブチルフェニ
ル、2,4−ジ−t−アミルフェニル、4−テトラデカ
ンアミドフェニル、3−(2,4−ジ−tert−アミ
ルフェノキシアセトアミド)フェニル)、複素環基(例
えば、3−ピリジル、2−フリル、2−チエニル、2−
ピリジル、2−ピリミジニル、2−ベンゾチアゾリ
ル)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、2
−メトキシエトキシ、2−ドデシルオキシエトキシ、2
−メタンスルホニルエトキシ)、アリールオキシ基(例
えば、フェノキシ、2−メチルフェノキシ、4−ter
t−ブチルフェノキシ、2,4−ジ−tert−アミル
フェノキシ、2−クロロフェノキシ、4−シアノフェノ
キシ、3−ニトロフェノキシ、3−t−ブチルオキシカ
ルバモイルフェノキシ、3−メトキシカルバモイルフェ
ノキシ)、アルキル・アリールもしくは複素環チオ基
(例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ、テ
トラデシルチオ、2−フェノキシエチルチオ、3−フェ
ノキシプロピルチオ、3−(4−tert−ブチルフェ
ノキシ)プロピルチオ、フェニルチオ、2−ブトキシ−
5−tert−オクチルフェニルチオ、3−ペンタデシ
ルフェニルチオ、2−カルボキシフェニルチオ、4−テ
トラデカンアミドフェニルチオ、2−ベンゾチアゾリル
チオ、2,4−ジ−フェノキシ−1,3,4−トリアゾ
ール−6−チオ、2−ピリジルチオ)、アシルオキシ基
(例えば、アセトキシ、ヘキサデカノイルオキシ)、カ
ルバモイルオキシ基(例えば、N−エチルカルバモイル
オキシ、N−フェニルカルバモイルオキシ)、シリルオ
キシ基(例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメ
チルシリルオキシ)、スルホニルオキシ基(例えば、ド
デシルスルホニルオキシ)、アシルアミノ基(例えば、
アセトアミド、ベンズアミド、テトラデカンアミド、2
−(2,4−ジ−tert−アミルフェノキシ)アセト
アミド、2−〔4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ル)フェノキシ〕デカンアミド、イソペンタデカンアミ
ド、2−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブタン
アミド、4−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノ
キシ)ブタンアミド)、アルキルアミノ基(例えば、メ
チルアミノ、ブチルアミノ、ドデシルアミノ、ジメチル
アミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ)、アリ
ールアミノ基(例えば、フェニルアミノ、2−クロロア
ニリノ、2−クロロ−5−テトラデカンアミドアニリ
ノ、N−アセチルアニリノ、2−クロロ−5−〔α−2
−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)ドデ
カンアミド〕アニリノ、2−クロロ−5−ドデシルオキ
シカルボニルアニリノ)、ウレイド基(例えば、メチル
ウレイド、フェニルウレイド、N,N−ジブチルウレイ
ド、ジメチルウレイド)、スルファモイルアミノ基(例
えば、N,N−ジプロピルスルファモイルアミノ、N−
メチル−N−デシルスルファモイルアミノ)、アルケニ
ルオキシ基(例えば、2−プロペニルオキシ)、ホルミ
ル基、アルキル・アリールもしくは複素環アシル基(例
えば、アセチル、ベンゾイル、2,4−ジ−tert−
アミルフェニルアセチル、3−フェニルプロパノイル、
4−ドデシルオキシベンゾイル)、アルキル・アリール
もしくは複素環スルホニル基(例えば、メタンスルホニ
ル、オクタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエ
ンスルホニル)、アルキル・アリールもしくは複素環ス
ルフィニル基(例えば、オクタンスルフィニル、ドデカ
ンスルフィニル、フェニルスルフィニル、3−ペンタデ
シルフェニルスルフィニル、3−フェノキシプロピルス
ルフィニル)、アルキル・アリールもしくは複素環オキ
シカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、ドデシルオキシカルボニル、オクタデシ
ルオキシカルボニル、フェニルオキシカルボニル、2−
ペンタデシルオキシカルボニル)、アルキル・アリール
もしくは複素環オキシカルボニルアミノ基(例えば、メ
トキシカルボニルアミノ、テトラデシルオキシカルボニ
ルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、2,4−ジ−
tert−ブチルフェノキシカルボニルアミノ)、スル
ホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド、ヘキサ
デカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、p−
トルエンスルホンアミド、オクタデカンスルホンアミ
ド、2−メトキシ−5−tert−ブチルベンゼンスル
ホンアミド)、カルバモイル基(例えば、N−エチルカ
ルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイル、N−(2
−ドデシルオキシエチル)カルバモイル、N−メチル−
N−ドデシルカルバモイル、N−〔3−(2,4−ジ−
tert−アミルフェノキシ)プロピル〕カルバモイ
ル)、スルファモイル基(例えば、N−エチルスルファ
モイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−(2
−ドデシルオキシエチル)スルファモイル、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル、N,N−ジエチルスル
ファモイル)、ホスホニル基(例えば、フェノキシホス
ホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニ
ル)、スルファモイルアミノ基(例えば、ジプロピルス
ルファモイルアミノ)、イミド基(例えば、N−サクシ
ンイミド、ヒダントイニル、N−フタルイミド、3−オ
クタデセニルスクシンイミド)、ヒドロキシ基、シアノ
基、カルボキシル基、ニトロ基、スルホ基、無置換のア
ミノ基などが挙げられる。
【0014】R1 として好ましくは、アルキル基、アリ
ール基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、アシルアミ
ノ基、アリールアミノ基、ウレイド基、スルファモイル
アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環
チオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキ
シカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホニル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキ
シ基、カルバモイルオキシ基、イミド基、スルフィニル
基、ホスホニル基、アシル基を挙げることができる。さ
らに好ましくはアルキル基、アリール基である。
【0015】R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子又
は置換基(原子を含む。)を表す。R2 及びR3 の例と
しては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、
脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジア
リールホスホノ基、ジアルコキシホスホリル基、ジアリ
ールホスフィニル基、脂肪族スルフィニル基、アリール
スルフィニル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホ
ニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファ
モイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロ
ゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン
化アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハ
ロゲン化アルキルチオ基、アリール基、複素環基、ハロ
ゲン原子、アゾ基、又はセレノシアネート基が挙げられ
る。これらの置換基のうちさらに置換基を有することが
可能な基は、前述のR1 で挙げるような置換基をさらに
有してもよい。なお、上述の脂肪族オキシカルボニル
基、脂肪族スルフィニル基、脂肪族スルホニル基は、そ
れぞれの脂肪族部位が、直鎖状、分枝鎖状、環状のいず
れであってもよく、飽和であっても、不飽和であっても
よい。例えば、脂肪族オキシカルボニル基とは、直鎖の
アルキル鎖を有するアルコキシカルボニル基(例えば、
メトキシカルボニル)、分枝アルキル鎖を有するアルコ
キシカルボニル基(例えば、iso−プロピルオキシカ
ルボニル)、環状のアルキル鎖を有するシクロアルコキ
シカルボニル基(例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4
−メチル−シクロヘキシロキシカルボニル)、アルケニ
ルオキシカルボニル基(例えば、アリルオキシカルボニ
ル)などである。
【0016】R2 及びR3 をさらに詳しく述べると、ア
シル基(例えば、アセチル、3−フェニルプロパノイ
ル、ベンゾイル、4−ドデシルオキシベンゾイル)、ア
シルオキシ基(例えば、アセトキシ)、カルバモイル基
(例えば、カルバモイル、N−エチルカルバモイル、N
−フェニルカルバモイル、N,N−ジブチルカルバモイ
ル、N−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモイル、
N−(4−n−ペンタデカンアミド)フェニルカルバモ
イル、N−メチル−N−ドデシルカルバモイル、N−
{3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピ
ル}カルバモイル)、脂肪族オキシカルボニル基(例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、iso
−プロピルオキシカルボニル、tert−ブチルオキシ
カルボニル、iso−ブチルオキシカルボニル、ブチル
オキシカルボニル、シクロヘキシロキシカルボニル、ド
デシルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカルボニ
ル、ジエチルカルバモイルエトキシカルボニル、パーフ
ルオロヘキシルエトキシカルボニル、2−デシル−ヘキ
シロキシカルボニルメトキシカルボニル、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチル−シクロヘキシロキシカルボニ
ル)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキ
シカルボニル、2,5−ジアミルフェノキシカルボニ
ル)、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基(例
えば、ジメチルホスホノ)、ジアリールホスホノ基(例
えば、ジフェニルホスホノ)、ジアルコキシホスホリル
基(例えば、ジメトキシホスホリル)、ジアリールホス
フィニル基(例えば、ジフェニルホスフィニル)、脂肪
族スルフィニル基(例えば、3−フェノキシプロピルス
ルフィニル)、アリールスルフィニル基(例えば、3−
ペンタデシルフェニルスルフィニル)、脂肪族スルホニ
ル基(例えば、メタンスルホニル、オクタンスルホニ
ル)、アリールスルホニル基(例えば、ベンゼンスルホ
ニル、トルエンスルホニル)、スルホニルオキシ基(メ
タンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ)、
アシルチオ基(例えば、アセチルチオ、ベンゾイルチ
オ)、スルファモイル基(例えば、N−エチルスルファ
モイル、N,N−ジプロピルスルファモイル、N−(2
−ドデシルオキシエチル)スルファモイル、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル、N,N−ジエチルスル
ファモイル)、チオシアネート基、チオカルボニル基
(例えば、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボ
ニル)、ハロゲン化アルキル基(例えば、トリフロロメ
チル、ヘプタフロロプロピル)、ハロゲン化アルコキシ
基(例えば、トリフロロメチルオキシ)、ハロゲン化ア
リールオキシ基(例えば、ペンタフロロフェニルオキ
シ)、ハロゲン化アルキルアミノ基(例えば、N,N−
ジ−(トリフロロメチル)アミノ)、ハロゲン化アルキ
ルチオ基(例えば、ジフロロメチルチオ、1,1,2,
2−テトラフロロエチルチオ)、アリール基(例えば、
2,4−ジニトロフェニル、2,4,6−トリクロロフ
ェニル、ペンタクロロフェニル)、複素環基(例えば、
2−ベンゾオキサゾリル、2−ベンゾチアゾリル、1−
フェニル−2−ベンズイミダゾリル、5−クロロ−1−
テトラゾリル、1−ピロリル)、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子)、アゾ基(例えばフェニルア
ゾ)又はセレノシアネート基が挙げられる。これらの置
換基のうちさらに置換基を有することが可能な基は、置
換基をさらに有してもよい。
【0017】R2 及びR3 として好ましいものとして
は、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、脂肪
族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
シアノ基、ニトロ基、脂肪族スルフィニル基、アリール
スルフィニル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホ
ニル基、スルファモイル基、ハロゲン化アルキル基、ハ
ロゲン化アルキルオキシ基、ハロゲン化アルキルチオ
基、ハロゲン化アリールオキシ基、アリール基及び複素
環基を挙げることができる。さらに好ましくは、アリー
ルオキシカルボニル基、脂肪族オキシカルボニル基、シ
アノ基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、
カルバモイル基、及びハロゲン化アルキル基である。特
に好ましくは、シアノ基、フッ素化アルキル基、、脂肪
族オキシカルボニル基である。R2 はシアノ基が最も好
ましい。以下に一般式(I)で表される化合物の具体例
を示すが、本発明はこれらによって限定されない。
【0018】
【化5】
【0019】
【化6】
【0020】
【化7】
【0021】
【化8】
【0022】
【化9】
【0023】
【化10】
【0024】
【化11】
【0025】
【化12】
【0026】次に、一般式(I)で表される化合物の製
造法について詳しく述べる。一般式(II)で表される化
合物を一般式(I)で表される化合物に変換する際に触
媒として用いることのできる化合物としては、銅、ふっ
化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅(I)、よう化銅
(I)、シアン化銅(I)、酸化銅(I)、チオシアン
酸銅(I)、塩化銅(II)、臭化銅(II)、酢酸銅(I
I)などが挙げられるが、好ましいのは塩化銅(I)、
臭化銅(I)、および塩化銅(II)であり、特に好まし
いのは塩化銅(I)および臭化銅(I)であり、最も好
ましいのは塩化銅(I)である。触媒の添加量は出発原
料とする一般式(I)で表される化合物の0.1〜50
0モル%の間から選ぶことができるが、好ましくは0.
5〜50モル%であり、さらに好ましくは、2〜20モ
ル%である。反応に用いる溶媒としては、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニト
リル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられるが、好ま
しくは、ペンタン、ヘキサン、へプタン、オクタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒であ
る。一般式(II)で表される化合物を溶解し、かつ、生
成した一般式(I)で表される化合物の結晶が反応中に
析出するのに適した比率で、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどの芳香族炭化水素系溶媒と、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタンなど脂肪族炭化水素系溶媒を混合して用い
ることが特に好ましい。反応溶媒の使用量は、重量比
で、反応に用いられる一般式(II)で表される化合物の
0.1〜100倍であるが、1〜10倍が好ましく、2
〜6倍が特に好ましい。また、反応時に塩化銅(I)ま
たは臭化銅(I)などの触媒ともに、塩基(例えば、ピ
リジン、ジエチルアニリン)を添加してもよく、その場
合の添加量は、反応に用いられる一般式(II)で表され
る化合物の0.1〜100モル%が望ましく、1〜30
モル%がさらに望ましい。反応温度は0〜200℃であ
るが、20〜130℃が望ましく、40〜110℃がさ
らに望ましい。一般式(II)で表される化合物は、一般
式(III)で表される化合物を塩基の存在化で一般式(I
V)で表される化合物と反応させることにより製造でき
る。一般式(III)で表される化合物は、特開平7−33
0771号に記載の方法により合成することができる。
【0027】
【化13】
【0028】ここでR1 、R2 およびR3 はそれぞれ独
立に水素原子または置換基であるが、これらは前述した
一般式(I)のR1 、R2 およびR3 とそれぞれ同義で
あり、好ましい範囲もそれぞれ同じである。
【0029】
【実施例】次に一般式(I)で表される化合物の製造法
の具体例を示す。 実施例1 化合物(I−8)の合成 マロノニトリル2.64g(40ミリモル)をジメチル
アセトアミド15mlに溶解し、ナトリウムメトキシド
28%メタノール溶液7.26g(37.6ミリモル)
を加えた。これを氷冷しながら化合物(III −8)1
0.24g(18.8ミリモル)をジメチルアセトアミ
ド30mlに溶解させたものを滴下した。滴下終了後、
氷冷したまま30分間攪拌した後、酢酸エチルと1規定
塩酸で分液した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、油状物質として
化合物(II−8)を得た。これをトルエン10mlとヘ
キサン40mlの混合溶媒に溶解させ、塩化銅(I)9
3.2mg(0.942ミリモル)を加えて、3時間加
熱還流した。室温まで放冷した後、析出した結晶をろ取
した。結晶を水で洗浄した後、乾燥させることにより、
化合物(I−8)9.1g(17.1ミリモル、収率9
1%)を得た。NMR(CDCl3):δ=10.26
(br,s,1H)、δ=7.80(d,2H)7.5
5(d,2H)5.94(s,1H)4.29(br,
s,2H)1.80〜0.80(m,37H)
【0030】
【化14】
【0031】実施例2 化合物(I−10)の合成 実施例1と同様にして合成した化合物(II−10)10
g(18.7ミリモル)をトルエン10mlとヘキサン
30mlの混合溶媒に溶解させ、塩化銅(I)185m
g(1.87ミリモル)とN,N−ジエチルアニリン2
79mg(1.87ミリモル)を加えて6時間加熱還流
した。室温まで放冷した後析出した結晶をろ取し、結晶
を水で洗浄した後、乾燥させることにより、化合物(I
−10)8.2g(15.3g、収率82%)を得た。N
MR(CDCl3):δ=11.70(br,s,1
H)、8.57(s,1H)、8.05(d,1H)、
7.55(d,1H)、5.94(s,1H)4.32
(s,2H)、2.72(s,3H)、2.000.7
0(m,28H)
【0032】
【化15】
【0033】
【発明の効果】本発明によって、医薬、農薬、染料又は
写真用カプラー等に有用性が高い、1H−ピロロ−
〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−5−イル
アミン誘導体を得ることが可能になった。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(I)で表されるピロロトリ
    アゾール誘導体。 【化1】 式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素原子
    または置換基を表す。
  2. 【請求項2】 請求項1の一般式(I)のR2 がシアノ
    基であるピロロトリアゾール誘導体。
  3. 【請求項3】 一般式(II)で表されるトリアゾール誘
    導体を反応原料とする一般式(I)で表される化合物の
    製造方法。 【化2】 式中、R1 、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素原子
    または置換基を表す。
  4. 【請求項4】 請求項3の製造方法において、0価、1
    価または2価の銅を含む化合物を触媒として用いること
    を特徴とする、一般式(I)で表される化合物の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 請求項4の製造方法において、触媒とし
    て塩化銅(I)または臭化銅(I)を用いることを特徴
    とする一般式(I)で表される化合物の製造方法。
JP10232925A 1998-08-19 1998-08-19 1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール−5−イルアミン誘導体、およびその製造方法 Pending JP2000063382A (ja)

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