JP2000059073A - Electromagnetic shielding transparent body - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ装置
の表示面、特に電磁波漏洩防止を必要とするプラズマデ
ィスプレイ(以下PDPと略す)や内部を透視する必要
がある医療用機器が設置されている窓等の表面カバー材
料に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a window on which a display surface of a display device, in particular, a plasma display (hereinafter abbreviated as PDP) which requires prevention of electromagnetic wave leakage and a medical device which needs to see through the inside are installed. And other surface cover materials.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年エレクトロニクスの急激な発展によ
りコンピューター等の発展に伴い電子機器の誤動作を発
生する電磁波障害が大きな問題と成ってきている。この
電磁波障害を未然に防止する手段としては電式機器のハ
ウジングを導電化する事により、発生源で不要電波を封
じ込める能動的遮蔽がある。具体的な電磁波漏洩防止材
料としては金属箔、金属箔をパンチング、金属メッシ
ュ、金属繊維、有機・無機繊維にメッキ処理したものが
用いられているがPDPに代表される表示体や窓等では
透明性が絶対的な必要条件であり、いずれも光の透過性
の観点からは使用に適さない物であった。2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid development of electronics, electromagnetic interference that causes malfunctions of electronic devices has become a serious problem with the development of computers and the like. As means for preventing the electromagnetic wave interference beforehand, there is an active shield that seals unnecessary radio waves at the source by making the housing of the electronic device conductive. As specific materials for preventing electromagnetic wave leakage, metal foils, punched metal foils, metal meshes, metal fibers, and organic / inorganic fiber plated materials are used. However, transparent materials are used for display bodies and windows represented by PDPs. Properties are absolutely necessary conditions, and none of them were suitable for use from the viewpoint of light transmission.
【0003】更に、金属表面は時間の経過と共に酸化が
進行するために上記の中では透明性がある程度期待出来
る金属メッシュでも格子点で高周波接触が絶たれやす
く、長時間に渡り安定な電磁遮蔽効果を示しにくい欠点
があった。これに対し液晶用電極として広く用いられて
いる酸化劣化もない酸化インジウムと酸化錫の複合酸化
物(以下ITOと略す)を用いられる事が考えられてい
るが電磁波漏洩防止機能は少ない事が指摘されており静
電防止機能用途に限られていたのが実状であった。 可
能性として金属並の導電性例えば1Ω/□以下まで導電
性を上げる試みがなされていたが、現状、ガラス基板に
加熱しながら成膜しても4Ω/□レベルでありプラスチ
ックフィルム上に形成することは技術的に不可能であっ
た。Further, since the metal surface is oxidized with the passage of time, high-frequency contact is easily cut off at lattice points even in a metal mesh which can be expected to have a certain degree of transparency, and the electromagnetic shielding effect is stable for a long time. There was a disadvantage that it was difficult to show. On the other hand, it has been considered that a composite oxide of indium oxide and tin oxide (hereinafter abbreviated as ITO), which is widely used as an electrode for liquid crystal and has no oxidative deterioration, is considered to be used, but it is pointed out that there is little electromagnetic wave leakage prevention function. In fact, it has been limited to antistatic function applications. Attempts have been made to increase the conductivity to the same level as that of metal, for example, 1 Ω / □ or less, but at present, even if the film is formed while heating on a glass substrate, the level is 4 Ω / □, and the film is formed on a plastic film. That was technically impossible.
【0004】更に、重量の問題がある。特に今後注目さ
れているつまりPDPの目指す対角40〜50インチ以
上の様な大型サイズで重量が重いガラス基板を用いたの
ではPDP実装時には取り付け性からも問題であった。
一方軽量化の為に基板としてプラスチック基板を用いる
と透明性、導電性を上げる為の最も重要な基板加熱とい
う手段が耐熱性の点から用いることが出来ず低抵抗を得
るのは不可能であった。 更に膜厚を上げて抵抗を下げ
ようとするとITO膜とプラスチック基板との線膨張率
の差から成膜後内部応力から剥離したり、クラックが発
生し金属並の低抵抗のITOを形成する事は20〜40
Ωが限界であり、目的を達成する事は不可能であった。Further, there is a problem of weight. In particular, if a large-sized and heavy glass substrate having a diagonal of 40 to 50 inches or more is used, which is attracting attention in the future, there is a problem from the viewpoint of mountability when mounting the PDP.
On the other hand, if a plastic substrate is used as a substrate for weight reduction, the most important means of heating the substrate to increase transparency and conductivity cannot be used from the viewpoint of heat resistance, and it is impossible to obtain a low resistance. Was. If the resistance is lowered by further increasing the film thickness, the film may be peeled off from internal stress after film formation due to the difference in the coefficient of linear expansion between the ITO film and the plastic substrate, or cracks may be formed to form ITO having a resistance as low as metal. Is 20-40
Ω was the limit, and it was impossible to achieve the purpose.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、透明性を有
し、電磁波遮蔽効果が高い、表示体用特にはプラズマデ
ィスプレー用や医療用機器室の窓用として最適な電磁波
遮蔽透明フィルムを安価に提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an inexpensive transparent electromagnetic wave shielding film having transparency and a high electromagnetic wave shielding effect, which is most suitable for a display, particularly for a plasma display or a window of a medical equipment room. To provide
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、透明高分子フ
ィルムの少なくとも片面に接着材層1、導電層を順次積
層してなる積層フィルムの導電層をパターン化して形成
したものを、接着材層2により、透明高分子補強体に貼
り合わせてなる電磁波遮蔽透明体において、近赤外線カ
ット材及び近赤外線カット材に対して色補正する関係に
ある色素を接着材層1および接着材層2に分割して、あ
るいは接着材層2のみに添加した電磁波遮蔽透明体であ
る。好ましい形態としては、波長550nmでの光線透
過率は50%以上であり、透明高分子補強体の厚みが1
mm〜5mmである電磁波遮蔽透明体である。更に好ま
しい形態として、積層フィルムあるいは透明高分子補強
体の少なくても一方に反射防止層及び/またはハードコ
ート層が設けられている電磁波遮蔽透明体である。According to the present invention, there is provided an adhesive material comprising a transparent polymer film formed by patterning a conductive layer of a laminated film formed by sequentially laminating an adhesive layer 1 and a conductive layer on at least one surface. In the electromagnetic wave shielding transparent body bonded to the transparent polymer reinforcing body by the layer 2, the near-infrared cut material and a dye having a color correction relationship with respect to the near-infrared cut material are applied to the adhesive layers 1 and 2. It is an electromagnetic wave shielding transparent member divided or added only to the adhesive layer 2. In a preferred embodiment, the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50% or more, and the thickness of the transparent polymer reinforcement is 1%.
It is an electromagnetic wave shielding transparent body having a size of 5 mm to 5 mm. A more preferred embodiment is an electromagnetic wave shielding transparent body in which an antireflection layer and / or a hard coat layer is provided on at least one of the laminated film and the transparent polymer reinforcement.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】本発明に最も重要な基材となる透
明導電性フィルムに於ける高分子フィルムは、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリイミ
ド、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリサルフォン、ポリエーテルイミ
ド、ポリアリレート、ノルボルネンに代表される熱可塑
性樹脂、紫外線硬化型樹脂、エポキシ樹脂に代表される
熱硬化型樹脂等からなり、550nmでの光線透過率が
80%(以下では全て550nmでの値を示す)以上の
透明性を有したフィルムか或いはこれら高分子の共重合
体が使用出来き適宜選択される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polymer film in the transparent conductive film which is the most important substrate in the present invention includes polyester such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyimide, polycarbonate, polyacrylonitrile, and the like. It is made of a thermoplastic resin represented by polyethersulfone, polysulfone, polyetherimide, polyarylate, norbornene, a thermosetting resin represented by an ultraviolet curable resin, an epoxy resin or the like, and has a light transmittance at 550 nm of 80. % (Hereinafter, all values at 550 nm) or a copolymer of these polymers can be used and is appropriately selected.
【0008】全光線透過率は出来る限り高い事が望まし
いが、最終製品としては50%以上が必要な事から最低
2枚を積層する場合でも基板としては80%を有すれば
目的に適うからであり、透過率が高ければ高いほど複数
枚を積層出来る為、好ましくは85%以上が、最も好ま
しくは90%以上でありこのため厚みを薄化するのも有
効な手段である。例えば、高分子フィルムの厚みとして
は、透明性さえ満足すれば特に制限されるものでは無い
が加工性上からは25〜300μmが好ましい。厚さ2
5μm未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、透明導電層で
ある酸化物の成膜や加工する際の張力により伸張やシワ
が発生し易くその為透明導電層の亀裂や剥離が生じやす
く適さない。又、300μmを超えるとフィルムの可撓
性が減少し、各工程中での連続巻き取りが困難で適さな
い。特に複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るため
作業性、並びに全体の厚さを考慮すれば25〜100μ
mが特に好ましい。Although it is desirable that the total light transmittance is as high as possible, the final product needs to be 50% or more. Therefore, even if at least two sheets are laminated, if the substrate has 80%, it is suitable for the purpose. Yes, since the higher the transmittance, the more layers can be laminated, the thickness is preferably 85% or more, most preferably 90% or more. Therefore, reducing the thickness is also an effective means. For example, the thickness of the polymer film is not particularly limited as long as transparency is satisfied, but is preferably 25 to 300 μm from the viewpoint of processability. Thickness 2
If the thickness is less than 5 μm, the film is too soft, and the film is easily stretched or wrinkled due to the tension at the time of forming or processing the oxide, which is a transparent conductive layer. On the other hand, if it exceeds 300 μm, the flexibility of the film decreases, and continuous winding in each step is difficult and not suitable. In particular, when laminating a plurality of sheets, the workability is significantly inferior, and the workability and 25 to 100 μm in consideration of the overall thickness.
m is particularly preferred.
【0009】導電層を積層する際、密着力向上を目的と
して公知の接着層を設ける。特に導電層を細線にパター
ン化する際にはこの問題は重要である。例えばパターン
化をエッチングラインで行う際には、シャワー水圧に耐
え得るために基材と導電層の密着力は最低でも0.3k
g/cm程度が必要であり、実用上問題無いレベルとし
ては1.0kg/cm以上の密着力が必要である。これ
らの密着力が得られないと、パターン化後に導電層が剥
離したり、エッチング加工時に断線が生じる原因とな
る。さらに高い光線透過率を有することが望まれるた
め、接着層の厚み、接着層に用いる物質の屈折率なども
重要な特性となる。接着材の種類は使用する基材に応じ
て適時選択することが可能であるが、合成樹脂系の接着
材としては、ユリア樹脂系、メラミン樹脂系、フェノー
ル樹脂系、エポキシ樹脂系、酢酸ビニル樹脂系、シアノ
アクリレート系、ポリウレタン系、αオレフィン−無水
マレイン酸樹脂系、水性高分子−イソシアネート系、ア
クリル樹脂系、UV硬化樹脂系があり、他にエマルショ
ン型接着材、ホットメルト型接着材、合成ゴム系接着
材、シリコーン系接着材、無機系接着材等がある。When laminating the conductive layers, a known adhesive layer is provided for the purpose of improving the adhesion. This problem is particularly important when the conductive layer is patterned into fine wires. For example, when patterning is performed on an etching line, the adhesion between the base material and the conductive layer should be at least 0.3 k in order to withstand shower water pressure.
g / cm is required, and an adhesion force of 1.0 kg / cm or more is required as a level having no practical problem. If these adhesions are not obtained, the conductive layer may be peeled off after patterning, or may be disconnected during etching. Since a higher light transmittance is desired, the thickness of the adhesive layer, the refractive index of a substance used for the adhesive layer, and the like are also important characteristics. The type of adhesive can be selected as appropriate according to the base material to be used, but examples of synthetic resin-based adhesives include urea resin, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and vinyl acetate resin. Type, cyanoacrylate type, polyurethane type, α-olefin-maleic anhydride resin type, aqueous polymer-isocyanate type, acrylic resin type, UV curable resin type, emulsion type adhesive, hot melt type adhesive, synthetic There are a rubber-based adhesive, a silicone-based adhesive, and an inorganic-based adhesive.
【0010】PDPはキセノンガス放電を利用して発光
させている。この際生じる近赤外線が外部に漏洩し広く
利用されているセンサーの誤動作に結びつく為、近赤外
線カット機能はPDPの前面シールド板には不可欠であ
る。ここで必要な遮蔽する必要がある近赤外線領域は8
00nm〜1100nm、より好ましくは800nm〜
1500nmの範囲である。また400nm〜800n
mの可視光領域では充分な光線透過率を保つ必要があ
る。ところがこの近赤外線領域で遮蔽機能を有する物質
は可視光領域においても吸収がある場合が多く、透明で
あるものの着色して見えるという問題があった。本発明
ではこの着色の問題を解決すべく、色素を添加して色補
正を行うことを見出したものである。添加する色素は、
染料、顔料、その他可視光領域に吸収を持つもので有れ
ば特に限定されるものではなく、数種の色素を添加して
も良い。用いる色素は使用する近赤外線吸収材、バイン
ダーとなる樹脂層との相溶性、溶媒への溶解性から選択
することが可能であるが、例えば合成染料系としては油
溶系染料、金属錯塩型の有機溶剤可溶性染料などの有機
溶剤溶解染料や、分散染料、塩基性染料、金属錯塩染料
などの酸性染料、反応染料、直接染料、硫化染料、建染
染料、アゾイック染料、媒染染料、複合染料があり、無
機系顔料として雲母状酸化鉄、鉛白、鉛丹、黄鉛、銀
朱、群青、紺青、酸化コバルト、ストロンチウムクロメ
ート、ジンククロメート、二酸化チタン、チタニウムイ
エロー、チタンブラック、鉄黒、モリブデン系、リサー
ジ、リトポンがあり、有機系顔料としてアゾ顔料、フタ
ロシアニンブルーなどが挙げられる。補正により作り出
される色味は無色に近いほど好ましいが、透明電磁波シ
ールド体を適用する用途により視認性、質感などを考慮
して任意に選択できる。また近赤外線カット機能を発現
させるためにはカットする波長領域の異なる数種の近赤
外線カット材を添加することも可能である。The PDP emits light by using xenon gas discharge. The near-infrared ray generated at this time leaks to the outside and leads to malfunction of widely used sensors, so that the near-infrared ray cut function is indispensable for the front shield plate of the PDP. The necessary near-infrared region that needs to be shielded is 8
00 nm to 1100 nm, more preferably 800 nm to
The range is 1500 nm. 400nm to 800n
In the visible light region of m, it is necessary to maintain a sufficient light transmittance. However, a substance having a shielding function in the near-infrared region often absorbs also in the visible light region, and there is a problem that the material is transparent but looks colored. In the present invention, it has been found that in order to solve this problem of coloring, color correction is performed by adding a dye. The dye to be added is
It is not particularly limited as long as it has a dye, a pigment, and other substances having absorption in the visible light region, and several kinds of dyes may be added. The dye to be used can be selected from the near-infrared absorbing material to be used, the compatibility with the resin layer serving as a binder, and the solubility in a solvent. Examples of synthetic dyes include oil-soluble dyes and metal complex salt type organic dyes. Organic solvent-soluble dyes such as solvent-soluble dyes, disperse dyes, basic dyes, acid dyes such as metal complex dyes, reactive dyes, direct dyes, sulfur dyes, vat dyes, azoic dyes, mordant dyes, and complex dyes. As inorganic pigments, mica-like iron oxide, lead white, lead red, graphite, silver vermilion, ultramarine, navy blue, cobalt oxide, strontium chromate, zinc chromate, titanium dioxide, titanium yellow, titanium black, iron black, molybdenum, litharge, There are lithopone, and azo pigments, phthalocyanine blue and the like can be mentioned as organic pigments. The color created by the correction is preferably as close to colorless as possible, but can be arbitrarily selected in consideration of visibility, texture, and the like depending on the application of the transparent electromagnetic wave shield. In order to exhibit a near-infrared cut function, it is also possible to add several kinds of near-infrared cut materials having different wavelength regions to be cut.
【0011】上記の様に近赤外線カット材と色素を添加
する場合、樹脂に対する相溶性、分散性、適切な溶剤な
どに差があると、1つのコーティング層にこれらの材料
を添加することが困難となる。従って、この様な場合に
は材料を添加する層が複数あれば、材料と樹脂層の組合
せの選択の自由度が増し、電磁波シールド透明体として
の機能を向上させることが可能となる。本発明は、電磁
波遮蔽透明体を形成する上で不可欠な2つの接着層にこ
れらの材料を添加することでこの目的を達成するもの
で、具体的には近赤外線カット材とこれに対して色補正
する関係にある色素を、導電層とフィルム間に設ける接
着層1と、導電層をパターン化して形成した積層フィル
ムを透明高分子補強体に貼り合わせるための接着材層2
に、分割して添加する事により電磁波遮蔽透明体を作成
することを見出したものである。接着層1のみに近赤外
線カット材と色補正材の両方が充分に溶解しない場合に
は、接着層1,2をそれぞれに適する樹脂組成として構
成すればよい。また用いる添加材によっては同種の接着
層に溶解するものの樹脂に対する溶解性が低いものがあ
り、1層のみで効果を得ようとすると膜厚が非常に厚く
なる問題がある。この場合、2層に分けて添加すること
で各層の厚みを必要以上に厚くする必要が無くなる。ま
た接着材層1については導電層積層時の加熱工程、パタ
ーニング加工時には酸、アルカリ水溶液に接着層表面が
曝される場合があり、この時に著しく特性が劣化する物
質は接着材層2に分割して添加するか、あるいは近赤外
線カット材と色補正材を接着層2のみに添加することが
可能である。When the near-infrared ray cut material and the dye are added as described above, it is difficult to add these materials to one coating layer if there is a difference in compatibility, dispersibility, appropriate solvent, and the like with the resin. Becomes Therefore, in such a case, if there are a plurality of layers to which the material is added, the degree of freedom in selecting the combination of the material and the resin layer is increased, and the function as the electromagnetic wave shielding transparent body can be improved. The present invention achieves this object by adding these materials to two adhesive layers indispensable for forming an electromagnetic wave shielding transparent body. Specifically, a near-infrared ray cut material and a color An adhesive layer 1 for providing a dye having a relationship to be corrected between the conductive layer and the film, and an adhesive layer 2 for bonding a laminated film formed by patterning the conductive layer to a transparent polymer reinforcement.
In addition, it was found that a transparent electromagnetic wave shielding body was prepared by dividing and adding. When both the near-infrared cut material and the color correction material are not sufficiently dissolved only in the adhesive layer 1, the adhesive layers 1 and 2 may be configured as resin compositions suitable for each. Also, some additives may dissolve in the same kind of adhesive layer but have low solubility in resin, and there is a problem that if only one layer is used to obtain the effect, the film thickness becomes extremely large. In this case, it is not necessary to increase the thickness of each layer more than necessary by adding it in two layers. The adhesive layer 1 may be exposed to an acid or alkali aqueous solution during the heating step for laminating the conductive layer and during the patterning process. At this time, the material whose properties are significantly deteriorated is divided into the adhesive layer 2. Alternatively, a near-infrared cut material and a color correction material can be added only to the adhesive layer 2.
【0012】近赤外線カット機能を付与するためには、
透明高分子補強体に近赤外線カット機能を付与する方
法、コーティング層を新たに新設する方法が用いられる
が、前者は近赤外線カット材の耐熱性や、溶解性など、
基材の製造条件に起因する制約を受けることになるし、
後者は新たに工程を増すことになりコスト上の問題があ
る。そこで接着材層に近赤外線カット機能を付与するこ
とで、この問題を解決することができる。接着材は非常
に多岐にわたる材料から選定することが可能であるた
め、使用する近赤外線カット材の特性を踏まえた材料設
計が容易である。また、基材と導電層の密着性を保つ上
で不可欠である接着材にその機能を持たせるため、新た
なコーティング層を積層する必要が無い。近赤外線カッ
ト材の添加量は接着材層の膜厚にも依存するが、一般的
には接着材層の樹脂固形分に対して1wt%以下の添加
量でその機能を達成できるため、近赤外線カット材を加
えることで接着材層の特性が大きく変わることはない。
近赤外線吸収剤としては、例えばアントラキノン系、ア
ミニウム系、ポリメチン系、ジイモニウム系、シアニン
系色素や、パラジウム、ニッケル、白金、モリブデン、
タングステン等の金属錯体、有機塩が上げられる。In order to provide a near infrared cut function,
A method of adding a near-infrared cut function to the transparent polymer reinforcement and a method of newly establishing a coating layer are used, but the former is heat-resistant and solubility of the near-infrared cut material, etc.
Because of the constraints of the substrate manufacturing conditions,
In the latter case, the number of processes is newly increased, and there is a problem in cost. Therefore, this problem can be solved by providing the adhesive layer with a near-infrared cut function. Since the adhesive can be selected from a very wide variety of materials, it is easy to design the material based on the characteristics of the near infrared cut material to be used. In addition, since an adhesive material that is indispensable for maintaining the adhesion between the base material and the conductive layer has the function, there is no need to laminate a new coating layer. The amount of the near-infrared cut material added also depends on the thickness of the adhesive layer, but generally its function can be achieved with an amount of 1 wt% or less based on the resin solid content of the adhesive layer. The properties of the adhesive layer are not significantly changed by adding the cut material.
Examples of near-infrared absorbers include anthraquinone-based, aminium-based, polymethine-based, diimonium-based, cyanine-based dyes, palladium, nickel, platinum, molybdenum,
Metal complexes such as tungsten, and organic salts are included.
【0013】色補正に用いる色素は使用する近赤外線吸
収材、バインダーとなる樹脂層との相溶性、溶媒への溶
解性から選択することが可能であるが、例えば合成染料
系としては油溶系染料、金属錯塩型の有機溶剤可溶性染
料などの有機溶剤溶解染料や、分散染料、塩基性染料、
金属錯塩染料などの酸性染料、反応染料、直接染料、硫
化染料、建染染料、アゾイック染料、媒染染料、複合染
料があり、無機系顔料として雲母状酸化鉄、鉛白、鉛
丹、黄鉛、銀朱、群青、紺青、酸化コバルト、ストロン
チウムクロメート、ジンククロメート、二酸化チタン、
チタニウムイエロー、チタンブラック、鉄黒、モリブデ
ン系、リサージ、リトポンがあり、有機系顔料としてア
ゾ顔料、フタロシアニンブルーなどが挙げられる。The colorant used for color correction can be selected from the compatibility with the near-infrared absorbing material used, the resin layer serving as a binder, and the solubility in a solvent. , Organic solvent-soluble dyes such as metal complex salt-type organic solvent-soluble dyes, disperse dyes, basic dyes,
There are acid dyes such as metal complex dyes, reactive dyes, direct dyes, sulfur dyes, vat dyes, azoic dyes, mordant dyes, and complex dyes. Silver vermilion, ultramarine, navy blue, cobalt oxide, strontium chromate, zinc chromate, titanium dioxide,
There are titanium yellow, titanium black, iron black, molybdenum, litharge, and lithopone, and examples of organic pigments include azo pigments and phthalocyanine blue.
【0014】上記フィルムに形成する導電層としてはA
u、Ag、Al、Pt、Cu等の金属、或いはこれらを
主成分とする合金、金属酸化膜などが用いられる。更に
上記以外に、酸化物、窒化物、ITOや導電性ポリマー
を代わりに用いる事ができ、必要に応じてこれらを積層
しても差し支えない。ここで、金属の場合、膜厚は50
Å〜50μmが好ましい。50Å未満では遮蔽効果が著
しく悪く50μmを超えるとパターン加工性が低下した
り、透過率が低下するからである。導電層の積層方法と
しては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
などの方法、電気メッキ法、金属箔のラミネート法やこ
れらを併用した方法などがある。又、ITOを含む酸化
物や窒化物の成膜方法はスパッタリング法が一般的であ
るが、更にゾル・ゲル法も可能となる。蒸着や電気メッ
キにより導電層を形成した場合には、フォトリソ法によ
り、コーティングによる場合は印刷法によりパターン形
成する事が可能である。導電層が1μm以下の厚みであ
る場合には細線加工が容易であるため、パターン設計に
おいて光線透過率を向上させるのに有利であり、導電層
が1μm以上の場合には表面抵抗値が小さくなるためシ
ールド特性を上げるのに効果がある。これらは使用する
材料の導電率、導電層の膜厚、パターンの開口率、形状
により設計することが可能であり、使用する基材の特性
や経済性も加味した上で、目的とする膜厚を得るのに適
した成膜方法を選択すればよい。As the conductive layer formed on the film, A
Metals such as u, Ag, Al, Pt, and Cu, or alloys and metal oxide films containing these as main components are used. Further, in addition to the above, oxides, nitrides, ITO and conductive polymers can be used instead, and these may be laminated as needed. Here, in the case of metal, the film thickness is 50
Å-50 μm is preferred. If it is less than 50 °, the shielding effect is extremely poor, and if it exceeds 50 μm, the pattern workability decreases and the transmittance decreases. Examples of the method for laminating the conductive layer include methods such as vapor deposition, sputtering, and ion plating, electroplating, laminating a metal foil, and a method using these in combination. In addition, as a method of forming an oxide or nitride containing ITO, a sputtering method is generally used, but a sol-gel method is also possible. When a conductive layer is formed by vapor deposition or electroplating, a pattern can be formed by a photolithography method, and when a conductive layer is formed by coating, a pattern can be formed by a printing method. When the conductive layer has a thickness of 1 μm or less, fine wire processing is easy, which is advantageous for improving light transmittance in pattern design, and when the conductive layer is 1 μm or more, the surface resistance value decreases. Therefore, it is effective in improving the shield characteristics. These can be designed according to the conductivity of the material to be used, the thickness of the conductive layer, the aperture ratio of the pattern, and the shape. What is necessary is just to select the film-forming method suitable for obtaining.
【0015】規制の対象となる電磁波の周波数は10K
Hz〜1000MHzの範囲が一般的であるので導電層
の導電性は103Ω・cm以下の固有抵抗が必要であ
る。一般に電磁波シールド効果は以下の式で表わされ
る。 S(dB)=10log(1/ρf)+1.7t√f/ρ S(dB) :電磁波遮蔽効果 ρ(Ω・cm) :導電膜の体積固有抵抗 f(MHz) :電磁波周波数 当然,遮蔽効果Sを大きくするには、固有抵抗ρを限り
なく低くする必要があり低い程、より広範囲の周波数の
電磁波を有効に遮蔽する事が可能になるからである。目
的とするシールド効果を得るために、パターン形状と導
電層の素材、導電層の膜厚を適時設計することが可能で
ある。The frequency of the electromagnetic wave to be regulated is 10K
Since the range of Hz to 1000 MHz is generally used, the conductivity of the conductive layer requires a specific resistance of 10 3 Ω · cm or less. Generally, the electromagnetic wave shielding effect is expressed by the following equation. S (dB) = 10log (1 / ρf) + 1.7t√f / ρ S (dB): Electromagnetic wave shielding effect ρ (Ω · cm): Volume resistivity of conductive film f (MHz): Electromagnetic wave frequency Naturally, shielding effect In order to increase S, it is necessary to reduce the specific resistance ρ as much as possible. The lower the specific resistance ρ, the more effectively electromagnetic waves having a wider range of frequencies can be effectively shielded. In order to obtain a desired shielding effect, it is possible to appropriately design the pattern shape, the material of the conductive layer, and the thickness of the conductive layer.
【0016】このようにして電磁波カットフィルタを形
成した事により次式で表わされる遮蔽効果を大幅に向上
させる事が出来た。 S(dB)=20Xlog10(E0/E1) E0は入射電磁波 E1は通過した電磁波 従来の電波吸収体である許容反射減衰量は電力吸収率9
9%以上に相当する20dB以上が一つの目安とされて
いるが本発明により30〜50dBが可能に成った。By forming the electromagnetic wave cut filter in this way, the shielding effect represented by the following equation can be greatly improved. S (dB) = 20 X log10 (E0 / E1) E0 is an incident electromagnetic wave E1 is a transmitted electromagnetic wave The allowable return loss, which is a conventional radio wave absorber, is a power absorption rate of 9
One guideline is 20 dB or more corresponding to 9% or more, but the present invention has enabled 30 to 50 dB.
【0017】透明高分子補強板は外圧に耐えるものであ
り傷等による損傷ひいては透明性の低下を及ぼすもので
ハードコートは不可欠である。ハードコート層はエポキ
シアクリレート、ウレタンアクリレート等の樹脂以外
に、無機材具体的には酸化珪素、アルミナ、酸化チタ
ン、酸化ジルコニュウム等の透明酸化物等が好ましい。
更に、本来の補強板としては軽量化の為、高分子を使用
する関係上1mm以上の強度が必要になる。厚みは増せ
ば増すほど強度は得られるが、重量、透明性の点からは
不利になる為、人為的な外圧、指圧に耐え得る強度とす
れば1mm以上で目的を達成出来き実用上は5mmまで
である。The transparent polymer reinforcing plate withstands an external pressure and causes damage due to scratches and the like, and furthermore, lowers the transparency. A hard coat is indispensable. The hard coat layer is preferably made of an inorganic material, specifically a transparent oxide such as silicon oxide, alumina, titanium oxide or zirconium oxide, in addition to a resin such as epoxy acrylate or urethane acrylate.
Further, the original reinforcing plate needs to have a strength of 1 mm or more due to the use of a polymer in order to reduce the weight. As the thickness increases, the strength increases, but the weight and the transparency are disadvantageous. Therefore, if the strength can withstand artificial external pressure and finger pressure, the object can be achieved with 1 mm or more, and practically 5 mm Up to.
【0018】更に、透明高分子補強板は反射防止機能を
有する事が望ましい。これはPDPからの表示部での乱
反射を防止しコントラストを高める為に設置される。無
論ハードコート層に反射防止機能を付与してもよく、こ
れとは別に積層しても良い。Further, it is desirable that the transparent polymer reinforcing plate has an antireflection function. This is installed in order to prevent diffuse reflection from the PDP on the display unit and increase contrast. Of course, the hard coat layer may have an anti-reflection function, and may be separately laminated.
【0019】[0019]
【実施例】《実施例1》厚み75μmのポリエチエンテ
レフタレートフィルム(以下PETと略す)に、近赤外
線カット材を添加したウレタン系接着材層1を塗布した
後、両面に粗化処理を施した銅箔(銅厚み12μm)を
ラミネートして銅箔付きPETフィルムを得た。この導
電層をフォトリソ法にてパターニング加工し、ライン幅
10μm、スペース幅160μmメッシュ状フィルター
パターンを得た。2mm厚のポリカーボネート基板の片
面に反射防止機能を持つ鉛筆硬度3H以上のハードコー
トを施し、近赤カット材(日本化薬製 KAYASOR
B IRG−022)と色補正する関係にある色素(日
本化薬製 KAYASET Blue A−2R)を添
加した脂肪族ポリエステルウレタン(東洋モートン製A
D−N401)接着材層2でハードコート層の裏面にパ
ターン加工基材を積層した。尚、外縁部に於いて各透明
導電膜とフラットケーブルを銀ペースト(住友ベークラ
イト製CRM−1085)で接着し電気的に接地した。
透明電磁波遮蔽体としての550nmでの光線透過率は
74%、近赤外線領域での光線透過率は<10%(90
0〜1200nm)、電界シールド特性は200〜10
00MHzの範囲で50dB以上(アドバンテスト法)
と良好であった。ハードコート面の鉛筆硬度は3Hであ
り擦傷性に優れたものでPDP用電磁波遮蔽透明板とし
て遮蔽性だけではなく耐久性にも優れた特性を得られ
た。Example 1 A urethane-based adhesive layer 1 to which a near-infrared ray cut material was added was applied to a 75 μm-thick polyethylene terephthalate film (hereinafter abbreviated as PET), and both surfaces were roughened. A copper foil (12 μm thick) was laminated to obtain a PET film with a copper foil. This conductive layer was patterned by a photolithography method to obtain a mesh filter pattern having a line width of 10 μm and a space width of 160 μm. A hard coat with a pencil hardness of 3H or more having an anti-reflection function is applied to one surface of a 2 mm thick polycarbonate substrate, and a near red cut material (KAYASSOR manufactured by Nippon Kayaku)
B IRG-022) and an aliphatic polyester urethane (A manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.) to which a dye (KAYASET Blue A-2R manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) having a color correction relationship is added.
D-N401) A patterned substrate was laminated on the back surface of the hard coat layer with the adhesive layer 2. At the outer edge, each transparent conductive film and the flat cable were bonded with silver paste (CRM-1085 manufactured by Sumitomo Bakelite) and electrically grounded.
The light transmittance at 550 nm as a transparent electromagnetic wave shield is 74%, and the light transmittance in the near infrared region is <10% (90%).
0 to 1200 nm), and the electric field shielding property is 200 to 10
50 dB or more in the range of 00 MHz (Advantest method)
And was good. The hard coat surface had a pencil hardness of 3H and was excellent in abrasion resistance. As a transparent plate for electromagnetic wave shielding for PDP, characteristics excellent not only in shielding property but also in durability were obtained.
【0020】《実施例2》実施例1において接着材層1
に添加する近赤外線カット材の種類をアミニウム系(日
本化薬製 KAYASORB IRG−022)とし、
この物質に起因する着色を色補正する為の色素を接着材
層2に添加したして補強板に貼り付けた。透明電磁波遮
蔽体としての900〜1200nmの近赤外線領域での
光線透過率は10%以下、550nmでの光線透過率は
68%で、かつ着色のない透明電磁波遮蔽体を形成でき
た。<< Embodiment 2 >> In Embodiment 1, the adhesive layer 1 was used.
The kind of near-infrared cut material to be added to is made of aminium (KAYASORB IRG-022 manufactured by Nippon Kayaku),
A dye for correcting the coloring caused by this substance was added to the adhesive layer 2 and attached to the reinforcing plate. The light transmittance in the near infrared region of 900 to 1200 nm as a transparent electromagnetic wave shield was 10% or less, the light transmittance at 550 nm was 68%, and a transparent electromagnetic wave shield without coloring could be formed.
【0021】《実施例3》実施例1において、導電層の
形成方法を銅をスパッタにより2000Å成膜した後、
電気メッキ処理し、銅厚みを4μmとした。透明電磁波
遮蔽体としての550nmでの光線透過率は74%、近
赤外線領域での光線透過率は<10%(900〜120
0nm)、電界シールド特性は200〜1000MHz
の範囲で45dB以上(アドバンテスト法)と良好であ
った。<< Embodiment 3 >> In Embodiment 1, a method for forming a conductive layer is as follows.
Electroplating was performed to reduce the copper thickness to 4 μm. The light transmittance at 550 nm as a transparent electromagnetic wave shield is 74%, and the light transmittance in the near infrared region is <10% (900 to 120).
0 nm), electric field shielding characteristics are 200-1000 MHz
In the range of 45 dB or more (Advantest method).
【0022】《比較例1》実施例1に於いて接着層2に
色補正するための色素を添加せずにパターン加工した積
層フィルムを補強板に貼り付けた。900〜1200n
mの近赤外線領域での光線透過率は10%以下、550
nmでの光線透過率は68%であったものの、近赤外線
カット材に起因する緑色の着色があり、PDP用の電磁
波遮蔽透明体としては使用できなかった。Comparative Example 1 A laminated film patterned in Example 1 without adding a dye for color correction to the adhesive layer 2 was attached to a reinforcing plate. 900-1200n
The light transmittance in the near infrared region of m is 10% or less and 550.
Although the light transmittance in nm was 68%, it was colored green due to the near-infrared cut material and could not be used as an electromagnetic wave shielding transparent body for PDP.
【0023】[0023]
【発明の効果】本発明により、透明性に優れた、電磁波
遮蔽板透明体を提供することが可能となった。According to the present invention, it is possible to provide a transparent electromagnetic wave shielding plate having excellent transparency.
【図1】 実施例1の層構成図FIG. 1 is a diagram illustrating a layer configuration according to a first embodiment.
Claims (5)
接着材層1、導電層を順次積層してなる積層フィルムの
導電層をパターン化して形成したものを、接着材層2に
より、透明高分子補強体に貼り合わせてなる電磁波遮蔽
透明体において、近赤外線カット材及び近赤外線カット
材に対して色補正する関係にある色素を接着材層1およ
び接着材層2に分割して、あるいは接着材層2のみに添
加する事を特徴とする電磁波遮蔽透明体。An adhesive layer and a conductive layer are sequentially laminated on at least one side of a transparent polymer film, and a conductive layer of a laminated film is patterned and formed by an adhesive layer. In an electromagnetic wave shielding transparent body bonded to a body, a near-infrared ray cut material and a dye having a color correction relationship with respect to the near-infrared ray cut material are divided into an adhesive layer 1 and an adhesive layer 2, or 2. An electromagnetic wave shielding transparent body characterized in that it is added to only 2.
以上である請求項1記載の電磁波遮蔽透明体。2. The light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50%.
The electromagnetic wave shielding transparent body according to claim 1, which is as described above.
mである請求項1または2記載の電磁波遮蔽透明体。3. The thickness of the transparent polymer reinforcement is 1 mm to 5 m.
3. The electromagnetic wave shielding transparent body according to claim 1, wherein m is m.
の少なくても一方に反射防止層が設けられている請求項
1〜3記載の電磁波遮蔽透明体。4. The electromagnetic wave shielding transparent body according to claim 1, wherein an antireflection layer is provided on at least one of the laminated film and the transparent polymer reinforcing body.
の少なくても一方にハードコート層が設けられている請
求項1〜4記載の電磁波遮蔽透明体。5. The electromagnetic wave shielding transparent body according to claim 1, wherein a hard coat layer is provided on at least one of the laminated film and the transparent polymer reinforcing body.
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1998
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