JP2000054188A - Method and device for continuously coating polymer film with metal, and product produced thereby - Google Patents

Method and device for continuously coating polymer film with metal, and product produced thereby

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JP2000054188A JP11224672A JP22467299A JP2000054188A JP 2000054188 A JP2000054188 A JP 2000054188A JP 11224672 A JP11224672 A JP 11224672A JP 22467299 A JP22467299 A JP 22467299A JP 2000054188 A JP2000054188 A JP 2000054188A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To promote the flow of electric current flowing to a substrate by utilizing the current conduction capacity of a deposited metal and to provide an electrodeposition device by which the electrodepositing time is shortened. SOLUTION: This device has a tank holding an electrolyte, a drum 50 set in the tank, having a nonconductive cylindrical surface and rotatable around its horizontal axis and plural slender similar anodes 60 arranged around the outer surface of the drum 50. The anodes 60 form a continuous cylindrical surface separated from the outer surface of the drum 50 and practically following the outer surface. At least one end of each anodes 60 is projected from the tank. Plural power sources are furnished along with a connecting means for connecting the group of the projected ends of the anodes 60 to the respective power sources.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属電着に関す
る。詳しくは、柔軟なポリマーシートの金属被覆に関す
る。本発明は、特に、上面に金属のフラッシュを接着さ
せた非金属性の電気絶縁性基板上に金属層を電気メッキ
する方法および装置に適用し得る。
[0001] The present invention relates to metal electrodeposition. In particular, it relates to metallization of flexible polymer sheets. The invention is particularly applicable to a method and apparatus for electroplating a metal layer on a non-metallic, electrically insulating substrate having a metal flash adhered to its upper surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】本出願は、1994年12月1日に出願
された米国特許出願第08/347,850号の一部継
続出願(CIP)である。該出願は1993年7月27
日に出願された米国特許出願第08/098,440号
の継続出願であり、これはまた1992年7月1日に出
願された米国特許出願第07/907,066号の継続
出願である。
BACKGROUND OF THE INVENTION This application is a continuation-in-part (CIP) of U.S. patent application Ser. No. 08 / 347,850, filed Dec. 1, 1994. The application was filed on July 27, 1993
No. 08 / 098,440, filed on Jul. 1, 1992, which is also a continuation of US Patent Application No. 07 / 907,066, filed Jul. 1, 1992.

【0003】水溶液から金属を電着させることは当該分
野では既知である。簡単に述べれば、このプロセスは、
カソード、アノード(これらをまとめて「電極」と呼
ぶ)、電着される金属のイオンを含有する水溶液、およ
び外部電流源を含む。アノードに電流を供給すると、金
属イオンが還元され、水溶液から電着される。水によっ
て溶媒化され得る実質的にすべての金属(代表的には金
属塩)が上記に規定した装置によって電着され得る。
[0003] The electrodeposition of metals from aqueous solutions is known in the art. In short, this process is
It includes a cathode, an anode (collectively referred to as "electrodes"), an aqueous solution containing ions of the metal to be electrodeposited, and an external current source. When current is supplied to the anode, metal ions are reduced and electrodeposited from the aqueous solution. Virtually all metals (typically metal salts) that can be solvated by water can be electrodeposited by the equipment defined above.

【0004】電着銅は電子業界では広く用いられてい
る。従来、電着銅はロール状で得られ、これがシート状
に切断されて、ポリマーボードに接着されエッチングさ
れる。次に、個々の電子部品は回路板に取り付けられ、
回路板は装置またはデバイスに挿入される。
[0004] Electrodeposited copper is widely used in the electronics industry. Conventionally, electrodeposited copper is obtained in roll form, which is cut into sheet form, adhered to a polymer board and etched. Next, the individual electronic components are mounted on a circuit board,
The circuit board is inserted into the device or device.

【0005】非金属性の電気絶縁性基板が柔軟なポリマ
ーシートであるときは、この柔軟なポリマー基板にスパ
ッタリング、蒸着、非電着性金属堆積、または類似の方
法により接着させた金属のフラッシュの上に直接、銅な
どの金属を電着させ得る。このような方法によれば、基
板に金属箔を接着させる中間工程を行う必要がない。柔
軟なポリマーシートは、金属のフラッシュを上部に堆積
させる前に前処理され得る。ポリマーを予め金属被覆し
ておくと、金属はこの金属のフラッシュ上に電着され
得、電着金属の厚さを従来の厚さ、すなわち、約0.2
5〜約2オンス(約0.3〜約2.8ミルの厚さに対
応)まで形成し得る。
When the non-metallic electrically insulating substrate is a flexible polymer sheet, a flash of metal adhered to the flexible polymer substrate by sputtering, vapor deposition, electroless metal deposition, or similar methods. A metal such as copper can be electrodeposited directly on top. According to such a method, there is no need to perform an intermediate step of bonding the metal foil to the substrate. The flexible polymer sheet can be pre-treated before depositing a metal flash on top. If the polymer is pre-metallized, the metal can be electrodeposited on a flash of this metal, and the thickness of the electrodeposited metal is reduced to a conventional thickness, i.
It can be formed up to 5 to about 2 ounces (corresponding to a thickness of about 0.3 to about 2.8 mils).

【0006】得られる金属被覆された柔軟なポリマー膜
は、フレックス回路、テープ自動化接着、電磁妨害シー
ルド、および他の金属被覆基板が利用される分野におい
て適用される。
The resulting metallized flexible polymer films have applications in flex circuits, tape automated bonding, electromagnetic interference shielding, and other fields where metallized substrates are utilized.

【0007】以下の米国特許は、ポリマーおよび他の類
似の非金属の金属被覆に関する発明を記載している。
The following US patents describe inventions relating to polymers and other similar non-metallic metallizations.

【0008】Morrisseyらの米国特許第4,6
83,036号には、フォトレジスト、および金属触媒
の存在下で水素の還元容量のを用いて非導電性基板を電
気メッキする方法が記載されている。触媒は金属で覆わ
れた基板の上に配置される。Pianらの米国特許第
4,897,164号には、貼り合わされたプリント配
線板のスルーホールの壁を電気メッキする方法が記載さ
れている。
[0008] Morrissey et al., US Pat.
No. 83,036 describes a method for electroplating a non-conductive substrate using the reducing capacity of hydrogen in the presence of a photoresist and a metal catalyst. The catalyst is placed on a substrate covered with metal. U.S. Pat. No. 4,897,164 to Pian et al. Describes a method for electroplating the walls of through holes in a bonded printed wiring board.

【0009】Bladonの米国特許第4,919,7
68号には、製品を電気メッキする方法が記載されてい
る。
No. 4,919,7 to Bladon.
No. 68 describes a method of electroplating a product.

【0010】Pendletonの米国特許第5,01
5,339号には、非導電性材料の表面に金属層を電気
メッキする方法が記載されている。
US Patent No. 5,011 to Pendleton
No. 5,339 describes a method of electroplating a metal layer on the surface of a non-conductive material.

【0011】Bladonらの米国特許第4,952,
286号には、非導電性の製品の表面をメッキする方法
が記載されている。
No. 4,952, Bladon et al.
No. 286 describes a method of plating the surface of a non-conductive product.

【0012】Beachらの米国特許第4,673,4
69号には、先ず自触媒プロセス、次に電気メッキ工程
を包含する、商品に金属を堆積させる方法および装置が
記載されている。
[0012] Beach et al., US Patent No. 4,673,4.
No. 69 describes a method and apparatus for depositing metal on goods, comprising first an autocatalytic process and then an electroplating step.

【0013】Houskaらの米国特許第4,322,
280号には、表面に予め金属を被覆したテープの少な
くとも一方の表面に金属を電着させる電気分解装置が記
載されている。
US Patent No. 4,322, Houska et al.
No. 280 describes an electrolyzer in which metal is electrodeposited on at least one surface of a tape whose surface is previously coated with metal.

【0014】Goffredoらの米国特許第4,57
6,685号には、非電着性金属堆積プロセスによりほ
ぼ平坦な表面に金属を堆積させ、次に電着プロセスを行
う方法および装置が記載されている。
[0014] Goffredo et al., US Pat.
No. 6,685, describes a method and apparatus for depositing metal on a substantially planar surface by a non-electrodepositable metal deposition process and then performing the electrodeposition process.

【0015】Deyrupらの米国特許第3,963,
590号には、ポリオキシメチレンの表面をプリエッチ
ング、エッチング、中和、および表面処理して非電着性
金属堆積を行った後、電気メッキ工程を行う方法が記載
されている。
No. 3,963, Deyrup et al.
No. 590 describes a method in which the surface of polyoxymethylene is pre-etched, etched, neutralized, and surface-treated to deposit a non-electrodepositable metal, followed by an electroplating step.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】柔軟なポリマーシート
に銅を電着させる従来の方法では、平方フィート当たり
約25〜約50アンペアの電流密度を用いる。このよう
な電流密度では、特に1ミルを超える厚さの銅が望まれ
るときは堆積時間が長くなる。ここで、柔軟なポリマー
シートに電着される銅の典型的な量は、典型的には「オ
ンス」で表される。1平方フィートの銅シートにおける
銅の重さが1オンスである(これは、平均厚さが1.3
5ミルの銅を表す)。現在知られている従来の電着方法
では、1平方フィートの柔軟なポリマーシートに1オン
スの銅を電着するには約40〜60分の時間が必要であ
る。
Conventional methods of electrodepositing copper on flexible polymer sheets use current densities of about 25 to about 50 amps per square foot. At such current densities, deposition times are increased, especially when copper thicknesses greater than 1 mil are desired. Here, a typical amount of copper electrodeposited on a flexible polymer sheet is typically expressed in "ounces". One ounce of copper weighs 1 sq. Ft. Copper sheet, which means that the average thickness is 1.3 ounces.
5 mil copper). With currently known conventional electrodeposition methods, it takes about 40-60 minutes to electrodeposit one ounce of copper on a square foot of flexible polymer sheet.

【0017】このような電着プロセスにおける金属堆積
率は、基本的には、ポリマー基板上の金属に流され得る
電流に依存する。このポリマー基板上の金属は電流の導
電体として実質的に働く。ある面においては、ウェブへ
の電流は、基板上の金属の厚さおよび基板上の金属の電
流伝導特性によって制限される。別の面においては、金
属基板に流される電流は、アノードの設計および配置、
特にアノード表面で生成され得る電流密度、ならびに電
着プロセス中に発生する熱による電力損失によって決定
される。
The metal deposition rate in such an electrodeposition process basically depends on the current that can be passed to the metal on the polymer substrate. The metal on the polymer substrate acts substantially as a current conductor. In one aspect, the current to the web is limited by the thickness of the metal on the substrate and the current carrying properties of the metal on the substrate. In another aspect, the current flowing through the metal substrate is the design and placement of the anode,
It is determined in particular by the current density that can be generated at the anode surface, as well as the power loss due to the heat generated during the electrodeposition process.

【0018】現在知られている方法および装置は、一般
には、その設計により、ポリマー基板に流され得る電流
量において制限され、別の面では、基板に流される電流
は基板上の初期の金属のフラッシュの厚さに基づくとい
うことにおいて制約される。本発明は、現在知られてい
る装置の制約を克服し、非金属性の電気絶縁性基板に金
属を電着する方法および装置を提供する。活性アノード
表面と移動する基板との間のギャップを小さくし、これ
により電圧を減らすことで熱電力損失を減らし、かつ活
性アノード表面に流され得る電流密度を増大させること
によって、かつ堆積した金属の電流伝導容量を利用して
基板へのより大きな電流の流れを促進させることによっ
て、電着時間を飛躍的に短縮させる。
Currently known methods and apparatus are generally limited in their design by the amount of current that can be applied to the polymer substrate, and in another aspect, the current applied to the substrate is limited to the initial metal on the substrate. Limited by being based on flash thickness. The present invention overcomes the limitations of currently known devices and provides a method and apparatus for electrodepositing a metal on a non-metallic, electrically insulating substrate. By reducing the gap between the active anode surface and the moving substrate, thereby reducing the thermal power loss by reducing the voltage and increasing the current density that can be passed to the active anode surface, and reducing the deposited metal By utilizing the current carrying capacity to promote a larger current flow to the substrate, the electrodeposition time is dramatically reduced.

【0019】本発明の目的は、非金属性電気絶縁基板に
金属を電着させる方法および装置を提供することであ
る。
It is an object of the present invention to provide a method and apparatus for electrodepositing a metal on a non-metallic electrically insulating substrate.

【0020】本発明の別の目的は、従来の装置の電着時
間を実質的に短縮させる電着装置を提供することであ
る。
It is another object of the present invention to provide an electrodeposition apparatus that substantially reduces the electrodeposition time of conventional devices.

【0021】本発明のさらに別の目的は、活性アノード
表面と移動する金属被覆基板との間に精密で均一なギャ
ップを形成する電着装置を提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide an electrodeposition apparatus which forms a precise and uniform gap between the active anode surface and the moving metallized substrate.

【0022】本発明のさらに別の目的は、ほぼ連続した
アノード表面を規定するように配置された複数のアノー
ドを有する電着装置を提供することである。
It is yet another object of the present invention to provide an electrodeposition device having a plurality of anodes arranged to define a substantially continuous anode surface.

【0023】本発明のさらに別の目的は、各々が個別に
活性化され、隣接するアノードとは異なる電流密度を有
し得る複数のアノードを備えた電着装置を提供すること
である。
It is yet another object of the present invention to provide an electrodeposition apparatus having a plurality of anodes, each of which is individually activated and may have a different current density than an adjacent anode.

【0024】本発明のさらに別の目的は、電力の熱損失
が少ない電着装置を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide an electrodeposition apparatus which has a small heat loss of electric power.

【0025】本発明のさらに別の目的は、アノードが1
つ以上のアノードのグループに分けて配置され、特定の
グループのアノードに与えられる電流密度は隣接するグ
ループのアノードの電流密度より大きい電着装置を提供
することである。
It is a further object of the present invention that the anode has one
The purpose of the present invention is to provide an electrodeposition device that is arranged in groups of one or more anodes and the current density applied to a particular group of anodes is greater than that of an adjacent group of anodes.

【0026】本発明のさらに別の目的は、堆積した金属
が後に続くアノードに与えられる電流密度を増大させる
伝導体として利用される電着装置を提供することであ
る。
It is yet another object of the present invention to provide an electrodeposition apparatus wherein the deposited metal is utilized as a conductor to increase the current density applied to a subsequent anode.

【0027】本発明のさらに別の目的は、アノードとウ
ェブとの間の間隔を狭くすることによって、アノードか
らウェブに流れる電流を増大させる電着装置を提供する
ことである。
Yet another object of the present invention is to provide an electrodeposition apparatus that increases the current flowing from the anode to the web by reducing the distance between the anode and the web.

【0028】本発明のさらに別の目的は、移動する非導
電性基板上に金属を堆積させる方法を提供することであ
る。
It is yet another object of the present invention to provide a method for depositing metal on a moving non-conductive substrate.

【0029】本発明のさらに別の目的は、基板上に堆積
した金属をカソードとして使用する電着方法を提供する
ことである。
It is yet another object of the present invention to provide an electrodeposition method using metal deposited on a substrate as a cathode.

【0030】本発明のさらに別の目的は、移動する基板
に与えられる電流レベルを連続的に増大させるために、
堆積した金属の電流伝導容量を利用する電着方法を提供
することである。
It is yet another object of the present invention to continuously increase the current level applied to a moving substrate by:
It is an object of the present invention to provide an electrodeposition method utilizing the current carrying capacity of a deposited metal.

【0031】本発明のさらに別の目的は、基板の異なる
部分に異なる電流レベルを同時に与え得る電着方法を提
供することである。
Yet another object of the present invention is to provide an electrodeposition method that can simultaneously apply different current levels to different portions of the substrate.

【0032】本発明のさらに別の目的は、移動する基板
の進行方向に向って電流レベルを増大させる電着方法を
提供することである。
Still another object of the present invention is to provide an electrodeposition method for increasing a current level in a moving direction of a moving substrate.

【0033】本発明のさらに別の目的は、柔軟な電子回
路の製造に用いるための、上部に金属を電着させた柔軟
なポリマーシートを提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a flexible polymer sheet having a metal electrodeposited thereon for use in the manufacture of flexible electronic circuits.

【0034】本発明のさらに別の目的は、金属層の断面
にラインが形成されない柔軟なポリマー/金属シートを
提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a flexible polymer / metal sheet in which no lines are formed in the cross section of the metal layer.

【0035】本発明のさらに別の目的は、シートの柔軟
性が増大した柔軟なポリマー/金属シートを提供するこ
とである。
Yet another object of the present invention is to provide a flexible polymer / metal sheet with increased sheet flexibility.

【0036】本発明のさらに別の目的は、高い伸長特性
を有する柔軟なポリマー/金属シートを提供することで
ある。
Still another object of the present invention is to provide a flexible polymer / metal sheet having high elongation properties.

【0037】本発明のさらに別の目的は、電着プロセス
によりプリント配線回路を連続製造する方法および装置
を提供することである。
It is yet another object of the present invention to provide a method and apparatus for continuously manufacturing printed wiring circuits by an electrodeposition process.

【0038】[0038]

【課題を解決するための手段】本発明のある面による電
解セルは、電解溶液を保持するタンクと、非導電性の円
筒状の外表面を有し、水平軸回りに回転可能である該タ
ンク内に配備されたドラムと、該ドラムの該外表面の周
りに配置される均一な横断面を有する複数の細長い類似
のアノードとを備えている。該アノードは、全体として
該ドラムの該外表面から離れた位置にあり、またこれに
従うほぼ連続した円筒状表面を形成する。各々の該アノ
ードは、該タンクから突出している少なくとも1つの端
部を有している。複数の電源と、隣接する該アノードの
1つ以上の該突出端部よりなるグループを該各々の電源
に接続させる接続手段とが供給される。以上のことより
上記目的が達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION In accordance with one aspect of the invention, an electrolytic cell includes a tank for holding an electrolytic solution and a tank having a non-conductive cylindrical outer surface and rotatable about a horizontal axis. A drum disposed therein and a plurality of elongated similar anodes having a uniform cross-section disposed about the outer surface of the drum. The anode is generally remote from the outer surface of the drum and forms a substantially continuous cylindrical surface accordingly. Each of the anodes has at least one end protruding from the tank. A plurality of power supplies and connection means for connecting a group of one or more of the protruding ends of adjacent anodes to the respective power supplies are provided. The above object is achieved from the above.

【0039】前記アノードが均一なプリズム状の横断面
を有する棒であってもよい。
The anode may be a rod having a uniform prismatic cross section.

【0040】前記アノードが整列して配置され、各々の
該アノードが、前記ドラムの軸に平行に伸びる軸に対し
て対称であるようにしてもよい。
[0040] The anodes may be arranged in alignment, each anode being symmetrical with respect to an axis extending parallel to the axis of the drum.

【0041】各々の前記アノードが長方形の断面を有
し、また2つの対向する活性アノード表面を有するよう
にしてもよい。
Each of the anodes has a rectangular cross section and may have two opposing active anode surfaces.

【0042】各々の前記アノードが前記ドラムに対して
2方向に取り付け可能であり、前記2つの対向する活性
アノード表面の一方が、該2方向の各々において該ドラ
ムに対向するようにしてもよい。
[0042] Each of the anodes may be mountable in two directions with respect to the drum, one of the two opposing active anode surfaces opposing the drum in each of the two directions.

【0043】前記アノードが、高導電性の第1金属材料
から形成される内部コアと、電解溶液に不活性の導電性
の第2金属材料から形成される外部ケーシングとを含ん
でいてもよい。
[0043] The anode may include an inner core formed of a highly conductive first metal material and an outer casing formed of a conductive second metal material that is inert to the electrolytic solution.

【0044】前記アノードが、チタニウム−銅の共有押
出し成形により形成され、銅が前記内部コアを形成し、
チタニウムが前記外部ケーシングを形成するようにして
もよい。
The anode is formed by co-extrusion of titanium-copper, the copper forming the inner core;
Titanium may form the outer casing.

【0045】前記アノードと前記ドラムとの間の間隔が
1インチより小さくてもよい。
The distance between the anode and the drum may be less than 1 inch.

【0046】前記タンクが非導電性材料から形成される
ようにしてもよい。
The tank may be formed from a non-conductive material.

【0047】本発明の別の面による金属を電着させる装
置は、電解溶液を保持するタンクと、該タンク内に取り
付けられるドラムと、該タンク内の該ドラムの周りに整
列して配置される複数の細長い類似のアノードを備え
る。各々の該アノードは、電源への接続のために該タン
クから突出する少なくとも1つの端部と該アノードの長
さに沿って伸びる少なくとも2つの個別の活性アノード
表面を有する。該アノードは該タンクに取り付けられ、
該少なくとも2つの個別の活性アノード表面の一方が該
ドラムに対向して配置される。以上のことにより上記目
的が達成される。前記アノードが均一な横断面を有する
棒であり、また高導電性の第1金属材料から形成される
内部コアと電解溶液に不活性な導電性金属材料により形
成される外部ケーシングとを含んでいてもよい。
An apparatus for electrodepositing a metal according to another aspect of the present invention includes a tank for holding an electrolytic solution, a drum mounted in the tank, and aligned in the tank around the drum. It comprises a plurality of elongated similar anodes. Each of the anodes has at least one end protruding from the tank for connection to a power source and at least two individual active anode surfaces extending along the length of the anode. The anode is attached to the tank;
One of the at least two individual active anode surfaces is located opposite the drum. The above object is achieved by the above. The anode is a rod having a uniform cross-section, and includes an inner core formed of a first metal material having high conductivity and an outer casing formed of a conductive metal material inert to an electrolytic solution. Is also good.

【0048】前記アノードが長方形の断面を有し、前記
活性アノード表面が対向する表面によって規定され、ま
た該アノードがチタニウム−銅の共有押出し成形により
形成され、銅が前記内部コアを形成し、チタニウムが前
記外部ケーシングを形成するようにしてもよい。
The anode has a rectangular cross-section, the active anode surface is defined by opposing surfaces, and the anode is formed by co-extrusion of titanium-copper, wherein copper forms the inner core, May form the outer casing.

【0049】各々の前記アノードは中心軸に対して対称
であり、前記タンクに取り付けられると前記ドラムの軸
に平行であるようにしてもよい。
Each of the anodes may be symmetrical about a central axis and parallel to the axis of the drum when mounted on the tank.

【0050】各々の前記アノードが個別の電源に接続可
能であるようにしてもよい。
[0050] Each of the anodes may be connectable to a separate power supply.

【0051】本発明の別の面によれば、上部に金属のフ
ラッシュを有する非導電性の電気絶縁性基板に金属を電
着させる装置が提供される。該装置は、堆積される金属
イオンを所定の濃度で含む電解溶液を保持するタンクを
備える。円筒状のドラムが該タンク内に取り付けられ
る。該ドラムは非導電性の外表面を有し、該基板を該タ
ンク内で通過させるために固定軸回りに回転可能であ
る。複数の細長い類似のアノードが、該タンクに取り付
けられ、該ドラムの非導電性の外表面の周りに整列して
配置される。各々の該アノードが、該ドラムの軸にほぼ
平行な軸に沿って伸び、少なくとも2つの活性アノード
表面を規定する均一な横断面を有している。該アノード
は、該タンクに取り付けられ、各アノードの該少なくと
も2つの活性アノード表面の一方が該ドラムに対向し、
また該ドラムの周りにほぼ連続した活性アノード形成表
面を規定するように隣接するアノードと整列する。該活
性アノード形成表面が該ドラムの該外表面と共にほぼ均
一な幅のギャップを規定する。少なくとも1つの電源
が、該アノードに接続される。該基板の金属部が該タン
クから退出するとき、該タンクの外側に位置するカソー
ド部材は、該金属部と係合する。以上のことによって上
記目的が達成される。
According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for electrodepositing a metal on a non-conductive, electrically insulating substrate having a metal flash thereon. The apparatus includes a tank for holding an electrolytic solution containing a predetermined concentration of metal ions to be deposited. A cylindrical drum is mounted in the tank. The drum has a non-conductive outer surface and is rotatable about a fixed axis for passing the substrate through the tank. A plurality of elongated similar anodes are attached to the tank and are arranged in alignment around the non-conductive outer surface of the drum. Each of the anodes extends along an axis substantially parallel to the axis of the drum and has a uniform cross section defining at least two active anode surfaces. The anode is attached to the tank, one of the at least two active anode surfaces of each anode facing the drum;
Also aligned with adjacent anodes to define a substantially continuous active anode forming surface around the drum. The active anode forming surface defines a substantially uniform width gap with the outer surface of the drum. At least one power supply is connected to the anode. As the metal portion of the substrate exits the tank, a cathode member located outside the tank engages the metal portion. The above object is achieved by the above.

【0052】前記アノードが長方形の断面を有する細長
い棒であってもよい。
[0052] The anode may be an elongated rod having a rectangular cross section.

【0053】前記アノードが、各アノードの一方の端部
が前記タンクから突出し、該一方の端部が電源に接続可
能であるように該タンクに個別に取り付けられるように
してもよい。
The anodes may be individually mounted to the tank such that one end of each anode protrudes from the tank and that one end is connectable to a power source.

【0054】1つ以上の隣接するアノードからなるグル
ープが同じ電源に接続されるようにしてもよい。
A group consisting of one or more adjacent anodes may be connected to the same power supply.

【0055】前記アノードが、高導電性の第1金属材料
から形成される内部コアと電解溶液に不活性の導電性の
第2金属材料から形成される外部ケーシングとを含んで
いてもよい。
[0055] The anode may include an inner core formed of a highly conductive first metal material and an outer casing formed of a conductive second metal material that is inert to the electrolyte.

【0056】前記アノードが、チタニウム−銅の共有押
出し成形により形成され、銅が前記内部コアを形成し、
チタニウムが前記外部ケーシングを形成するようにして
もよい。
The anode is formed by co-extrusion of titanium-copper, wherein copper forms the inner core;
Titanium may form the outer casing.

【0057】前記アノードと前記ドラムとの間の間隔が
1インチより小さいようにしてもよい。
The distance between the anode and the drum may be smaller than 1 inch.

【0058】本発明の別の面によると、上部に金属層を
有する基板に金属を電着させる電解セルが提供される。
該電解セルは、電解溶液を保持するタンクと、該タンク
内に配備され、該基板が移動する通路を規定する非導電
性の湾曲した平坦な表面と、均一なプリズム状の横断面
を有し、少なくとも2つの活性アノード表面を規定する
複数の細長い類似のアノードを備える。各アノードは、
該タンク内に取り付けられ、該少なくとも2つの活性ア
ノード表面の一方が該非導電性表面に対向し、該アノー
ドの一部が該タンクを貫通する。該アノードが、該非導
電性表面と該アノードの該活性アノード表面との間のほ
ぼ連続した均一のギャップを規定するように整列して配
置される。コネクタ手段は、1つ以上の隣接するアノー
ドからなるグループを個別の電源に接続する。該基板の
金属部が該タンクから退出するとき、該タンクの外側に
位置するカソード部材は、該金属部と係合する。以上の
ことにより上記目的が達成される。
According to another aspect of the present invention, there is provided an electrolytic cell for electrodepositing a metal on a substrate having a metal layer thereon.
The electrolytic cell has a tank for holding an electrolytic solution, a non-conductive curved flat surface disposed within the tank and defining a path for the substrate to move, and a uniform prismatic cross-section. , A plurality of elongated similar anodes defining at least two active anode surfaces. Each anode is
Mounted in the tank, one of the at least two active anode surfaces faces the non-conductive surface, and a portion of the anode extends through the tank. The anode is aligned to define a substantially continuous, uniform gap between the non-conductive surface and the active anode surface of the anode. Connector means connects a group of one or more adjacent anodes to a separate power source. As the metal portion of the substrate exits the tank, a cathode member located outside the tank engages the metal portion. The above object is achieved by the above.

【0059】前記湾曲した平坦な表面が固定軸の周りを
回転可能なドラムによって規定され、各々の該アノード
が該ドラムの軸に平行であるアノード軸に対して対称で
あるようにしてもよい。
[0059] The curved flat surface may be defined by a drum rotatable about a fixed axis, each of the anodes being symmetrical with respect to an anode axis parallel to the axis of the drum.

【0060】前記アノードが、高導電性の第1金属材料
から形成される内部コアと電解溶液に不活性な導電性の
第2金属材料から形成される外部ケーシングとを含んで
いてもよい。
[0060] The anode may include an inner core formed of a highly conductive first metal material and an outer casing formed of a conductive second metal material that is inert to the electrolyte.

【0061】前記アノードが、チタニウム−銅の共有押
出し成形により形成され、銅が前記内部コアを形成し、
チタニウムが前記外部ケーシングを形成するようにして
もよい。
The anode is formed by co-extrusion of titanium-copper, wherein copper forms the inner core;
Titanium may form the outer casing.

【0062】前記アノードと前記ドラムとの間の間隔が
1インチより小さいようにしてもよい。
The distance between the anode and the drum may be smaller than 1 inch.

【0063】前記アノードが長方形の断面を有し、前記
活性アノード表面が対向する表面によって規定され、ま
た該アノードがチタニウム−銅の共有押出し成形により
形成され、銅が前記内部コアを形成し、チタニウムが前
記外部ケーシングを形成するようにしてもよい。
The anode has a rectangular cross-section, the active anode surface is defined by opposing surfaces, and the anode is formed by co-extrusion of titanium-copper, wherein copper forms the inner core, May form the outer casing.

【0064】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板に金属を電着させる方法は、 a)非導電性の電気絶縁性基板の一方の面に薄い金属の
フラッシュを形成するステップと、b)非導電性表面に
よって規定される通路に沿って、該基板の該金属面を該
表面とは反対の側に向けた状態で該基板を所定の方向に
移動させるステップであって、該表面は電解溶液内に配
備され、複数のアノードが該表面に対向し、また該表面
に隣接して配置され、これらの間に均一の狭いギャップ
を規定する、基板を移動させるステップと、c)該基板
の該金属面を該電解溶液の外側に位置する導電性のカソ
ードの上を通過させるステップと、d)該移動する基板
に金属を連続して電着させるために、該基板が該電解溶
液を通過するとき、電極の各グループが異なる電流密度
レベルを有するようにするステップと、を包含してお
り、そのことにより上記目的が達成される。
According to another aspect of the present invention, a method for electrodepositing a metal on a non-conductive electrically insulating substrate comprises the steps of: a) forming a thin metal flash on one side of the non-conductive electrically insulating substrate. B) moving the substrate in a predetermined direction along the path defined by the non-conductive surface, with the metal surface of the substrate facing away from the surface; Moving the substrate, wherein the surface is disposed in an electrolyte solution and a plurality of anodes are disposed opposite and adjacent to the surface, defining a uniform, narrow gap therebetween; c. A) passing the metal surface of the substrate over a conductive cathode located outside the electrolytic solution; and d) applying the metal to the moving substrate in a continuous manner. Each group of electrodes as they pass through the electrolyte Have different current density levels, which achieves the above objectives.

【0065】前記電流密度が、連続する各々のアノード
において同じであるかあるいはより大きいようにしても
よい。
The current density may be the same or greater at each successive anode.

【0066】前記非導電性表面がほぼ円筒形状であり、
前記アノードが該ほぼ円筒形状の表面に平行に伸びる細
長い棒であってもよい。
The non-conductive surface is substantially cylindrical,
The anode may be an elongated rod extending parallel to the substantially cylindrical surface.

【0067】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板に金属を電着させる方法は、電解溶液中に互いに
接近した状態で整列して配置された複数の細長いアノー
ドを提供するステップであって、各々の該アノードが隣
接するアノードの活性アノード表面と整列する活性アノ
ード表面を有し、ほぼ連続した活性形成表面を形成す
る、ステップと、非導電性の裏張りを備えた薄い金属の
フラッシュを該電解溶液を介して該連続した活性形成表
面を通って移動させる一方で、該金属が該形成表面に沿
って移動するとき該金属と該形成表面との間に1インチ
より小さい所定の均一の間隔を維持するステップと、該
金属が該電解溶液から退出するとき、該金属を該電解溶
液の外側に位置するカソード取り出し部の上を通過させ
るステップと、1つ以上の隣接するアノードからなるグ
ループを電気的に活性化させるステップであって、該ア
ノードの連続する各々のグループは先行するグループよ
り高い活性化レベルを有する、ステップと、を包含して
おり、そのことにより上記目的が達成される。
A method of electrodepositing a metal on a non-conductive electrically insulating substrate according to another aspect of the present invention comprises providing a plurality of elongated anodes arranged in close proximity to one another in an electrolytic solution. Forming a substantially continuous active forming surface, each said anode having an active anode surface aligned with an active anode surface of an adjacent anode, and a thin metal with a non-conductive backing A flash of less than 1 inch between the metal and the forming surface as the metal moves along the forming surface while moving the flash through the electrolytic solution through the continuous active forming surface. Maintaining a uniform spacing between the two, and, when the metal exits the electrolyte, passing the metal over a cathode outlet located outside the electrolyte. Electrically activating a group of upper adjacent anodes, each successive group of anodes having a higher activation level than the preceding group. Thereby, the above object is achieved.

【0068】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板に金属を電着させる方法は、 a)上部に金属のフラッシュを有する非導電性基板を所
定の通路に沿って移動させるステップであって、該基板
は先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置された複数
のアノードを通って移動し、次に該電解溶液の外側に位
置する導電性カソード表面の上を通り、このとき、該基
板上の該金属のフラッシュは該電解溶液中の該アノード
に対向し、また該導電性カソード表面に係合する、ステ
ップと、b)1つ以上の隣接するアノードからなるグル
ープを異なるレベルで電気的に活性化するステップであ
って、連続する各々のアノードグループは先行するグル
ープより高い活性化レベルを有する、ステップと、を包
含しており、そのことにより上記目的が達成される。
According to another aspect of the present invention, a method of electrodepositing a metal on a non-conductive electrically insulating substrate comprises the steps of: a) moving the non-conductive substrate having a flash of metal on top along a predetermined path. Wherein the substrate first moves through the electrolyte through a plurality of anodes disposed in the electrolyte, and then passes over a conductive cathode surface located outside the electrolyte, and When the flash of the metal on the substrate opposes the anode in the electrolyte and engages the conductive cathode surface, b) differentiating the group consisting of one or more adjacent anodes Electrically activating at a level, wherein each successive group of anodes has a higher activation level than the preceding group; Is achieved.

【0069】特定のアノードグループの活性化レベル
が、前記基板が該特定のアノードグループを通過すると
きの該基板上の前記金属の電流伝導容量に基づくように
してもよい。
The activation level of a particular anode group may be based on the current carrying capacity of the metal on the substrate as the substrate passes through the particular anode group.

【0070】上記方法によって製造される金属コートさ
れたポリマーフィルムが提供される。
There is provided a metal-coated polymer film produced by the above method.

【0071】前記ポリマーフィルムがポリイミドであっ
てもよい。
The polymer film may be a polyimide.

【0072】前記ポリマーフィルムがポリエステルであ
ってもよい。
The polymer film may be a polyester.

【0073】前記金属が銅であってもよい。[0073] The metal may be copper.

【0074】前記銅が1オンスの箔であり、前記ポリマ
ーフィルムが少なくとも15%に等しい伸び率を有する
ようにしてもよい。
The copper may be a one ounce foil and the polymer film has an elongation equal to at least 15%.

【0075】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板にプリント配線回路を形成する方法は、a)柔軟
な非導電性材料の細長いストリップの一方の側の導電性
材料層にメッキレジストをプリントして、該ストリップ
の長さに沿って伸びる該導電性層の露出した連続バンド
と、該バンドと導通するプリント配線回路の1つ以上の
パターンとを露出させて残すステップと、b)上部にプ
リント配線回路を有する該ストリップを所定の通路に沿
って移動させるステップであって、該ストリップは先ず
電解溶液を介して該電解溶液内に配置された複数のアノ
ードを通って移動し、次に該電解溶液の外側に位置する
導電性カソード表面の上を通り、このとき、該ストリッ
プ上の導電性層の該連続バンドは該電解溶液中の該アノ
ードに対向し、また該導電性カソード表面に係合する、
ステップと、c)1つ以上の隣接するアノードよりなる
グループを異なるレベルで電気的に活性化するステップ
であって、連続する各々のアノードグループは先行する
グループより高い活性化レベルを有する、ステップと、
を包含しており、そのことにより上記目的が達成され
る。
In another aspect of the invention, a method of forming a printed circuit on a non-conductive, electrically insulating substrate includes the steps of: a) plating a layer of conductive material on one side of an elongated strip of a flexible non-conductive material. Printing resist to expose and leave exposed continuous bands of the conductive layer extending along the length of the strip, and one or more patterns of printed wiring circuits in communication with the bands; b. C.) Moving said strip having printed wiring circuitry thereon along a predetermined path, said strip first moving through the electrolyte through a plurality of anodes disposed in said electrolyte; It then passes over a conductive cathode surface located outside of the electrolyte, where the continuous band of conductive layer on the strip faces the anode in the electrolyte, and Engaging a conductive cathode surface,
C) electrically activating a group of one or more adjacent anodes at different levels, wherein each successive anode group has a higher activation level than the preceding group. ,
Which achieves the above object.

【0076】上記方法は、d)前記メッキレジストを取
り除くステップと、e)前記導電性層を前記基板のパタ
ーンが形成されていない領域からエッチングにより取り
除くステップと、をさらに包含していてもよい。
The method may further include: d) removing the plating resist; and e) etching away the conductive layer from an unpatterned region of the substrate.

【0077】上記方法は、前記プリント配線回路を前記
導電性層の前記連続バンドから切り離すステップをさら
に包含していてもよい。
[0077] The method may further include the step of disconnecting the printed circuit from the continuous band of the conductive layer.

【0078】特定のアノードグループの活性化レベル
が、前記ストリップが該特定のアノードグループを通過
するときの前記連続バンドの前記金属の電流伝導容量に
基づくくようにしてもよい。
The activation level of a particular anode group may be based on the current carrying capacity of the metal of the continuous band as the strip passes through the particular anode group.

【0079】上記方法により製造されるプリント配線回
路が提供される。
A printed wiring circuit manufactured by the above method is provided.

【0080】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板にプリント配線回路を形成する方法は、a)上部
に導電性層を被覆させた柔軟な非導電性材料の細長いス
トリップを提供するステップと、b)メッキレジストを
該導電性層にプリントして、複数のパターンと各パター
ンを互いに接続させるバンドとを露出させて残し、該ス
トリップの長さに沿って延びる該導電性層の連続した露
出領域を形成するステップと、c)上部にパターンを有
する該ストリップを所定の通路に沿って移動させるステ
ップであって、該ストリップは先ず電解溶液を介して該
電解溶液内に配置された複数のアノードを通って移動
し、次に該電解溶液の外側に位置する導電性カソード表
面の上を通り、このとき、該ストリップ上の導電性層の
該露出領域は該電解溶液中の該アノードに対向し、また
該導電性カソード表面に係合する、ステップと、d)1
つ以上の隣接するアノードからなるグループを異なるレ
ベルで電気的に活性化するステップであって、連続する
各々のアノードグループは先行するグループより高い活
性化レベルを有する、ステップと、を包含しており、そ
のことにより上記目的が達成される。
According to another aspect of the invention, a method of forming a printed circuit on a non-conductive, electrically insulating substrate comprises the steps of: a) providing an elongated strip of a flexible, non-conductive material having a conductive layer coated thereon. B) printing a plating resist on the conductive layer, exposing the conductive layer extending along the length of the strip, leaving a plurality of patterns and bands connecting the patterns together. Forming a continuous exposed area; and c) moving the strip having a pattern thereon along a predetermined path, wherein the strip is first placed in the electrolyte via the electrolyte. Moving through a plurality of anodes and then over a conductive cathode surface located outside the electrolytic solution, wherein the exposed areas of the conductive layer on the strip Opposed to the anode in the solution, also engage the conductive cathode surface, the steps, d) 1
Electrically activating a group of one or more adjacent anodes at different levels, wherein each successive anode group has a higher activation level than the preceding group. Thereby, the above object is achieved.

【0081】上記方法が、d)前記メッキレジストを取
り除くステップと、e)前記導電性層を前記基板のパタ
ーンが形成されていない領域からエッチングにより取り
除くステップと、をさらに包含していてもよい。
[0081] The method may further include: d) removing the plating resist; and e) etching away the conductive layer from an unpatterned region of the substrate.

【0082】特定のアノードグループの活性化レベル
が、前記ストリップが該特定のアノードグループを通過
するときの前記露出金属の電流伝導容量に基づくように
してもよい。
The activation level of a particular anode group may be based on the current carrying capacity of the exposed metal as the strip passes through the particular anode group.

【0083】上記方法により製造されるプリント配線回
路が提供される。
A printed wiring circuit manufactured by the above method is provided.

【0084】本発明の別の面による非導電性の電気絶縁
性基板にプリント配線回路を形成する方法は、a)柔軟
な非導電性材料の細長いストリップの一方の側の導電性
材料層にメッキレジストをプリントし、該ストリップの
長さに沿った該導電性層の、複数のプリント配線回路パ
ターンを含む連続領域を露出させて残すステップと、
b)上部にプリント配線回路を有する該ストリップを所
定の通路に沿って移動させるステップであって、該スト
リップは先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置され
た複数のアノードを通って移動し、次に該電解溶液の外
側に位置する導電性カソード表面の上を通り、このと
き、該ストリップ上の該導電性層の該連続領域は該電解
溶液中の該アノードに対向し、また該導電性カソード表
面に係合する、ステップと、c)1つ以上の隣接するア
ノードからなるグループを異なるレベルで電気的に活性
化するステップであって、連続する各々のアノードグル
ープは先行するグループより高い活性化レベルを有す
る、ステップと、を包含しており、そのことにより上記
目的が達成される。
According to another aspect of the present invention, a method of forming a printed circuit on a non-conductive electrically insulating substrate includes the steps of: a) plating a layer of conductive material on one side of an elongated strip of flexible non-conductive material; Printing a resist, exposing a continuous area of the conductive layer along the length of the strip, the continuous area including a plurality of printed circuit patterns;
b) moving the strip having a printed wiring circuit thereon along a predetermined path, the strip first moving through the electrolyte through a plurality of anodes arranged in the electrolyte. Then over the conductive cathode surface located outside of the electrolyte, wherein the continuous area of the conductive layer on the strip faces the anode in the electrolyte and And c) electrically activating different groups of one or more adjacent anodes at different levels, each successive anode group being higher than the preceding group. Having an activation level, whereby the above object is achieved.

【0085】上記方法が、前記プリント配線回路を互い
に切り離すステップをさらに包含していてもよい。
[0085] The method may further include the step of disconnecting the printed wiring circuits from each other.

【0086】特定のアノードグループの活性化レベル
が、前記ストリップが該特定のアノードグループを通過
するときの前記連続領域の前記金属の電流伝導容量に基
づくようにしてもよい。
[0086] The activation level of a particular anode group may be based on the current carrying capacity of the metal in the continuous region as the strip passes through the particular anode group.

【0087】上記方法により製造されるプリント配線回
路が提供される。
A printed wiring circuit manufactured by the above method is provided.

【0088】[0088]

【発明の実施の形態】上記のおよび他の目的および利点
は、添付の図面と共に以下の好適な実施態様の説明によ
り明らかとなり得る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The above and other objects and advantages will become apparent from the following description of the preferred embodiments, taken in conjunction with the accompanying drawings.

【0089】以下に示す図面は本発明の好適な実施態様
を示すためのものであって、本発明を制限するものでは
ない。
The drawings described below show preferred embodiments of the present invention and do not limit the present invention.

【0090】図1は、基板12に金属を電着させる電着
装置10を示す。本発明は、表面に金属のフラッシュを
接着させた非金属の電気絶縁性基板、好ましくはポリマ
ーフィルムに金属を電着させる装置および方法に関す
る。本発明は、約0.5〜約7ミルの範囲の厚さの柔軟
なポリマーシートに関連して述べられる。ポリマー膜が
本発明の装置および方法において使用するのに好適な基
板ではあるが、本明細書の以下の記述から理解され得る
ように、他の非金属性の電気絶縁材料、例えば、セラミ
ックテープまたは「グリーン」テープ、他の織物なども
また使用され得る。本明細書においては、金属の「フラ
ッシュ(flash)」とは、厚さが約500〜約30
00オングストロームの範囲の薄い金属コーティングを
意味する。代表的には、金属のフラッシュはスパッタリ
ングによって被覆されるか、非電着により堆積される
か、または従来の化学蒸着によって堆積されるが、他の
方法も考慮される。
FIG. 1 shows an electrodeposition apparatus 10 for electrodepositing a metal on a substrate 12. The present invention relates to an apparatus and method for electrodepositing a metal on a non-metallic, electrically insulating substrate, preferably a polymer film, having a metal flash adhered to the surface. The present invention is described with reference to flexible polymer sheets ranging in thickness from about 0.5 to about 7 mils. Although a polymer film is a suitable substrate for use in the devices and methods of the present invention, as can be understood from the following description, other non-metallic electrically insulating materials, such as ceramic tape or "Green" tapes, other fabrics, etc. may also be used. As used herein, a "flash" of metal refers to a metal having a thickness of about 500 to about 30.
A thin metal coating in the range of 00 Angstroms is meant. Typically, the flash of metal is coated by sputtering, deposited by electrodeposition, or deposited by conventional chemical vapor deposition, although other methods are contemplated.

【0091】本発明は、特に、非金属の電気絶縁性ポリ
マー基板に金属を電着させる場合に適用され、以下にお
いても特にこの適用について述べるが、本発明は他の連
続表面に金属を堆積させる場合にも有利に適用され得
る。
The present invention is particularly applied to the case where a metal is electrodeposited on a non-metallic electrically insulating polymer substrate, and the following description will be made with particular reference to this application. It can also be applied advantageously in some cases.

【0092】広い意味で述べると、装置10は、電解溶
液を保持するタンク20と、タンク20内の電解溶液中
に一部が配置されたドラム50と、タンク20内のドラ
ム50の周りに配置された複数の類似のアノード60と
を備えている。図示した実施態様では、タンク20は、
ほぼ円筒の形状であり、円筒状のドラム50に適合する
ような大きさである。タンク20は、図3に最良に示す
ように、ほぼ半円筒状の底壁22と2つの端壁24およ
び26によって規定される。図1および図3に最良に示
すように、弓状の補強プレート28が各端壁24および
26に取り付けられている。タンク20は、ドラム50
および電解溶液を受容する半円筒の空洞部を規定してい
る。タンク20の最下部には供給導管32が設けられ、
タンク20に電解流体を供給する。タンク20の上端に
沿ってオーバーフロー管34が設けられ、周知のよう
に、オーバーフローする電解溶液を回収しこれをポート
36を介して再循環させる。タンク20は、支柱46に
支持された複数の横向きのウェブ44よりなる支持構造
42上に支持される。
In a broad sense, the apparatus 10 comprises a tank 20 for holding an electrolytic solution, a drum 50 partially disposed in the electrolytic solution in the tank 20, and a drum 50 disposed around the drum 50 in the tank 20. A plurality of similar anodes 60. In the illustrated embodiment, tank 20 comprises
It has a substantially cylindrical shape and is sized to fit a cylindrical drum 50. The tank 20 is defined by a substantially semi-cylindrical bottom wall 22 and two end walls 24 and 26, as best shown in FIG. As best shown in FIGS. 1 and 3, an arcuate reinforcing plate 28 is attached to each end wall 24 and 26. The tank 20 includes a drum 50
And a semi-cylindrical cavity for receiving the electrolytic solution. A supply conduit 32 is provided at the bottom of the tank 20,
The electrolytic fluid is supplied to the tank 20. An overflow tube 34 is provided along the upper end of the tank 20 to collect the overflowing electrolyte and recirculate it through a port 36, as is well known. The tank 20 is supported on a support structure 42 comprising a plurality of transverse webs 44 supported on columns 46.

【0093】ドラム50は円筒形状であり、本発明によ
れば、非導電性の外表面52を有する。このため、ドラ
ム50は全体が硬質のプラスチックまたはポリマー材料
により形成され得、または非導電性材料で外面をケーシ
ング(casing)した金属材料により形成され得
る。図示した実施態様では、ドラム50は、タンク20
の端壁24および26内のベアリング(図示せず)によ
って支持されるシャフト54の回りを回転し得る。ドラ
ム50は、好ましくは、当該分野では周知のように、適
切なモータドライブ(図示せず)によって回転される。
このとき、ドラム50は周速可変で回転され得、これに
より基板12は、所望の箔厚を得るのに十分な時間にわ
たってタンク内の電解溶液との接触を維持し得る。これ
については後に詳述する。
The drum 50 is cylindrical and has a non-conductive outer surface 52 according to the invention. To this end, the drum 50 may be formed entirely of a rigid plastic or polymer material, or may be formed of a metal material with its outer surface casingd with a non-conductive material. In the illustrated embodiment, the drum 50 is
May rotate about a shaft 54 that is supported by bearings (not shown) in the end walls 24 and 26 of the motor. Drum 50 is preferably rotated by a suitable motor drive (not shown), as is well known in the art.
At this time, the drum 50 can be rotated at a variable peripheral speed, so that the substrate 12 can maintain contact with the electrolytic solution in the tank for a time sufficient to obtain a desired foil thickness. This will be described later in detail.

【0094】タンク20内にはドラム50の周囲に複数
の類似のアノード60が配置されている。アノード60
は、好ましくは、均一なプリズム状の(prismat
ic)横断面を有する細長い棒であり、それぞれが複数
の平坦な活性アノード表面を規定している。図示した実
施態様では、図4〜図7に示すように、アノード60は
断面が均一の長方形である細い棒である。各アノード6
0は、図9に示すように、高導電性の材料から形成され
る内部コア64と、電解溶液中で寸法的に安定である導
電性金属よりなる外部ジャケットまたはケーシング66
とを有する細長い本体62からなる。図示した実施態様
では、上述のように、アノード本体62は銅合金材料か
らなるコア64とチタニウムからなる外部クラッディン
グまたはジャケット66とを有するように形成される。
アノード60のチタニウムクラッディングされた銅本体
62は、当該分野では周知の共有押出し成形(co-extru
sion)プロセスによって形成され得る。長方形のプレー
ト68は、クラッディング66を形成する材料と同様の
材料、すなわち本実施態様ではチタニウムにより形成さ
れ、好ましくは溶接によって本体62の一方の端部に取
り付けられ、コア64を包囲する。アノード60は長方
形状であるため、対向する活性アノード表面80aおよ
び80bが規定される。本明細書の後の記述から理解さ
れ得るように、正方形または三角形の断面(図示せず)
を有するアノード60もまた、本発明から逸脱すること
なく使用され得る。
In the tank 20, a plurality of similar anodes 60 are arranged around the drum 50. Anode 60
Is preferably a uniform prismatic (prismat)
ic) elongate rods having a cross-section, each defining a plurality of flat active anode surfaces. In the illustrated embodiment, as shown in FIGS. 4-7, anode 60 is a thin rod of uniform rectangular cross section. Each anode 6
0 is an inner core 64 formed of a highly conductive material and an outer jacket or casing 66 of a conductive metal that is dimensionally stable in the electrolytic solution, as shown in FIG.
And an elongated body 62 having In the illustrated embodiment, as described above, the anode body 62 is formed having a core 64 of a copper alloy material and an outer cladding or jacket 66 of titanium.
The titanium clad copper body 62 of the anode 60 may be co-extruded as is well known in the art.
sion) process. The rectangular plate 68 is formed of a material similar to the material forming the cladding 66, i.e., titanium in this embodiment, and is attached to one end of the body 62, preferably by welding, and surrounds the core 64. Since the anode 60 is rectangular, opposed active anode surfaces 80a and 80b are defined. As can be understood from the description hereinafter, a square or triangular cross section (not shown)
An anode 60 having the following may also be used without departing from the present invention.

【0095】プレート68には、本体62の長手方向の
軸と整列した位置決定ピン72が設けられ、反対側の端
部には環状カラー74が設けられている。ピン72およ
びカラー74もまたチタニウムにより形成される。本体
62の他端部に、すなわちカラー74に隣接して2つの
ネジ切りされた穴76がコア64に形成されている。ア
ノード60のこの端部ではコア64は露出している。
The plate 68 is provided with positioning pins 72 aligned with the longitudinal axis of the body 62, and at the opposite end is provided with an annular collar 74. Pin 72 and collar 74 are also formed of titanium. Two threaded holes 76 are formed in the core 64 at the other end of the body 62, i.e., adjacent to the collar 74. At this end of the anode 60, the core 64 is exposed.

【0096】アノード60はタンク20内に整列して配
置され、半円筒状の電気金属形成表面58を形成する。
この表面は、図2に最良に示すように、ドラム50の表
面52の形状に従っている。さらに詳しくは、アノード
60は整列して配置され、タンク20の長さにわたって
いる。アノード60は互いに平行にかつドラム50の軸
に平行に伸びており、互いに接近した状態で詰め込まれ
ているが、物理的に接触してはいない。アノード60
は、ドラム50の非導電性表面52に対して位置決めさ
れ、これらの間に均一なギャップ90を形成している。
このギャップ90は、本発明によれば、好ましくは1イ
ンチより小さく、さらに好ましくは、約3/4インチで
ある。本発明の別の面によれば、各アノード60は、図
3に「X」で示す固定軸に沿ってタンク20を貫通し、
タンク20の端壁22および24の少なくとも一方に取
り付けられ、またこれによって支持されている。アノー
ド60の一方の端部はタンク20より外側に伸びてい
る。図示した実施態様では、図3に示すように、アノー
ド60はタンク20内に配置されている。ここで、タン
ク20の側壁22および24の間の距離およびアノード
60の寸法は、アノード60が端壁22と24の間をタ
ンク20を貫通して伸び、アノード60の両端部が端壁
22および24によって位置決めされ、かつこれらに支
持されるような大きさとされる。詳しくは、端壁22お
よび24には間隔をおいて複数の円筒状の穴92が形成
されている。図3に示すように、各穴92はアノード6
0のピン72をぴったりと受容するような寸法である。
好ましくは、穴92の外端部にはプラグ94が挿入され
て溶接され、穴92を密封する。
The anode 60 is aligned within the tank 20 and forms a semi-cylindrical electrical metal forming surface 58.
This surface follows the shape of the surface 52 of the drum 50, as best shown in FIG. More specifically, the anodes 60 are aligned and extend the length of the tank 20. The anodes 60 extend parallel to each other and parallel to the axis of the drum 50 and are packed closer together but not in physical contact. Anode 60
Are positioned with respect to the non-conductive surface 52 of the drum 50 to form a uniform gap 90 therebetween.
This gap 90 is, according to the present invention, preferably smaller than 1 inch, and more preferably about 3/4 inch. According to another aspect of the invention, each anode 60 penetrates the tank 20 along a fixed axis indicated by "X" in FIG.
Attached to and supported by at least one of end walls 22 and 24 of tank 20. One end of the anode 60 extends outside the tank 20. In the illustrated embodiment, the anode 60 is located in the tank 20, as shown in FIG. Here, the distance between the side walls 22 and 24 of the tank 20 and the dimensions of the anode 60 are such that the anode 60 extends through the tank 20 between the end walls 22 and 24, and both ends of the anode 60 are 24 and are sized to be supported by them. Specifically, a plurality of cylindrical holes 92 are formed in the end walls 22 and 24 at intervals. As shown in FIG. 3, each hole 92 is connected to the anode 6
It is dimensioned to receive the zero pin 72 snugly.
Preferably, a plug 94 is inserted into the outer end of the hole 92 and welded to seal the hole 92.

【0097】側壁24および26には間隔をおいて複数
のより大きな開口部96が形成され、アノード60のカ
ラーを有する方の端部を受容する。各開口部96は、ア
ノード60のカラー74をびったりと受容するような寸
法とされた第1円筒部96aと、より大きな直径の第2
円筒部96bとを含む。穴92および開口部96は、そ
れらの中心がドラム50の軸「A」に沿って位置する円
形中央線に沿って配置され、これにより、上述のように
アノード60は半円形状に配置される。穴92は、開口
部96の間の各中間点で円形中心線に沿って配置され
る。各端壁22および24の円形中心線は、軸方向に互
いに整列している。図示した実施態様では、側壁22の
開口部96は側壁24内の穴92と軸方向に整列してお
り、またこの逆も成り立つ。従って、図示した実施態様
では、隣接するアノード60は互いに反対側の端部から
タンク20に挿入される。つまり、端壁22および24
の開口部96および穴92は互いにオフセットされ、こ
れにより、あるアノード60の「ピンを備えた端部」
は、隣接するアノード60の「カラーを備えた端部」の
隣に位置する。
A plurality of spaced openings 96 are formed in sidewalls 24 and 26 to receive the collared end of anode 60. Each opening 96 has a first cylindrical portion 96a sized to receive the collar 74 of the anode 60 and a second cylindrical portion 96a having a larger diameter.
And a cylindrical portion 96b. The holes 92 and openings 96 are located along a circular center line whose center is located along the axis "A" of the drum 50, thereby placing the anode 60 in a semi-circular shape as described above. . Holes 92 are located along a circular centerline at each midpoint between openings 96. The circular centerlines of each end wall 22 and 24 are axially aligned with one another. In the embodiment shown, the opening 96 in the side wall 22 is axially aligned with the hole 92 in the side wall 24 and vice versa. Thus, in the illustrated embodiment, adjacent anodes 60 are inserted into tank 20 from opposite ends. That is, the end walls 22 and 24
Openings 96 and holes 92 of the anode 60 are offset from each other, thereby providing the "pinned end" of one anode 60.
Are located next to the “end with collar” of the adjacent anode 60.

【0098】各アノード60のカラー74の周囲にはシ
ールアレンジメント102が設けられている。シールア
レンジメント102は、一対の環状シール104よりな
る。一対の環状シール104は、カラー74と第2円筒
部96bの内表面との間に配備される弾性のある圧縮可
能な材料により形成される。圧縮リング106がプレー
ト28のネジ切りされた穴108にねじ込みによって受
容される。環状シール104は圧縮リング106によっ
て圧縮され、アノード60のカラー74と穴96の第2
円筒部96bの内表面との間に防水(fluid−ti
ght)シールを形成する。重要なことは、アノード6
0が軸「X」に対して対称であることであり、これによ
り、アノードはアノード表面80aまたは80bのいず
れかがドラム50に面した状態でタンク20内に位置決
めされ得る。
A seal arrangement 102 is provided around the collar 74 of each anode 60. The seal arrangement 102 includes a pair of annular seals 104. The pair of annular seals 104 are formed of an elastic compressible material provided between the collar 74 and the inner surface of the second cylindrical portion 96b. A compression ring 106 is received by screwing into a threaded hole 108 in plate 28. The annular seal 104 is compressed by the compression ring 106 and the collar 74 of the anode 60 and the second
It is waterproof (fluid-ti) between the inner surface of the cylindrical portion 96b.
ght) Form a seal. The important thing is that the anode 6
0 is symmetric with respect to axis "X" so that the anode can be positioned in tank 20 with either anode surface 80a or 80b facing drum 50.

【0099】図3に示すように、タンク20内に取り付
けられると、アノード60の一部、すなわちカラー74
より外側の部分はタンク20より外側に伸びる。図8に
最良に示すように、アノード60の端部には電気コネク
タ82が取り付けられる。電気コネクタ82は、間隔の
開いた貫通開口部を有する平坦なプレート部84を有す
る。プレート84内の開口部は、アノード60のコア6
4の穴76と一致する寸法とされる。穴76はネジ切り
された締付具またはラグ78を受容するような寸法とさ
れる。締付具またはラグ78は電気コネクタ82のプレ
ート84をアノード60に取り付けるようにされてい
る。各コネクタ82は電源(図示せず)に接続可能であ
る。重要なことは、コネクタ82のプレート84がアノ
ード60の銅コア64と直接接触することである。
As shown in FIG. 3, when installed in the tank 20, a portion of the anode 60,
The outer portion extends outside the tank 20. An electrical connector 82 is attached to the end of the anode 60, as best shown in FIG. The electrical connector 82 has a flat plate portion 84 with spaced through openings. The opening in the plate 84 corresponds to the core 6 of the anode 60.
The size is set to be the same as the size of the hole 76 of FIG. Hole 76 is dimensioned to receive a threaded fastener or lug 78. Clamps or lugs 78 are adapted to attach plate 84 of electrical connector 82 to anode 60. Each connector 82 is connectable to a power supply (not shown). What is important is that the plate 84 of the connector 82 makes direct contact with the copper core 64 of the anode 60.

【0100】電着装置10の入口側にはガイドローラ1
12が設けられ、搬入される基板12をドラム50に対
して位置決めする。電着装置10の出口側のタンク20
およびタンク内に入れられた電解溶液より外側の上方に
はカソード取り出しローラ114が設けられている。カ
ソード取り出しローラ114は、基板12の金属側と係
合し、基板がタンク20から退出するときその金属側と
電気的に接触するように配置されている。カソード取り
出しローラ114は導電性であり、アノード60に流さ
れ得る最大電流を伝導し得るように設計されている。こ
れについては後に詳述する。
A guide roller 1 is provided at the entrance side of the electrodeposition apparatus 10.
The substrate 12 is provided to position the substrate 12 to be carried in with respect to the drum 50. Tank 20 on the outlet side of electrodeposition apparatus 10
A cathode take-out roller 114 is provided above and outside the electrolytic solution contained in the tank. Cathode take-out roller 114 is arranged to engage the metal side of substrate 12 and make electrical contact with the metal side as the substrate exits tank 20. Cathode take-off roller 114 is conductive and is designed to conduct the maximum current that can flow through anode 60. This will be described later in detail.

【0101】次に装置10の動作、および移動する基板
上に金属を電着させる方法について述べる。金属のフラ
ッシュを接着したポリマー基板12を電着装置10に挿
入する。このとき、基板12の金属のフラッシュがタン
ク20の電解槽に露出され、基板の他方の面がドラム5
0の非導電性の外表面52上に位置するように挿入され
る。柔軟なポリマーシートの表面に導電性の金属のフラ
ッシュが接着され得る限り、事実上すべての柔軟なポリ
マーシートおよび好ましくは熱可塑性シートが使用され
得る。このようなポリマーシートの例としては、ポリイ
ミドシート(Kapton(登録商標)、E.I.Du
Pont社製)、または約2,000オングストローム
のスズ、真鍮、亜鉛、銅、クロムなどの金属でスパッタ
リングされたポリエステルシートがある。
Next, the operation of the apparatus 10 and a method for electrodepositing a metal on a moving substrate will be described. The polymer substrate 12 to which the metal flash is adhered is inserted into the electrodeposition apparatus 10. At this time, the metal flash of the substrate 12 is exposed to the electrolytic cell of the tank 20, and the other surface of the substrate is
It is inserted so as to be located on the outer surface 52 of the non-conductive surface. Virtually any flexible polymer sheet and preferably a thermoplastic sheet can be used, as long as a conductive metal flash can be adhered to the surface of the flexible polymer sheet. Examples of such a polymer sheet include a polyimide sheet (Kapton (registered trademark), EI Du
(Pont) or a polyester sheet sputtered with a metal such as tin, brass, zinc, copper, chromium, etc. at about 2,000 angstroms.

【0102】基板12はガイドローラ112の上を通過
してドラム50に接触する。基板12はドラム50上を
通ってタンク20内の電解溶液を前進する。基板12
は、金属のフラッシュをアノード60の活性アノード表
面80に向けた状態で、ドラム50とアノード60との
間に規定されるギャップ90を通る。基板12はカソー
ド取り出しローラ114を通過して電解溶液から退出す
る。このとき基板12の金属被覆された側がローラ11
4と接触する。これにより、アノード60に電流が供給
される電着プロセスの間、基板12に接着した金属のフ
ラッシュがカソードとして作用する。
The substrate 12 passes over the guide roller 112 and contacts the drum 50. Substrate 12 advances the electrolyte in tank 20 over drum 50. Substrate 12
Passes through a gap 90 defined between the drum 50 and the anode 60 with the metal flash directed toward the active anode surface 80 of the anode 60. The substrate 12 passes through the cathode take-out roller 114 and exits the electrolytic solution. At this time, the metal-coated side of the substrate 12 is
Contact 4 This allows the metal flash adhered to the substrate 12 to act as a cathode during the electrodeposition process where current is supplied to the anode 60.

【0103】本発明によれば、アノード60は1つ以上
のアノード60よりなるグループごとに活性化される。
ここで、基板12の進行方向の一連の各々のアノード6
0グループは、先行するグループより高い活性化レベル
を有する。最初のアノード60グループによって基板1
2の最初の金属のフラッシュに金属が堆積されると、よ
り厚くなった金属の電流伝導容量は増大し、これが後に
続くアノードグループがより高い活性化レベルを有する
のを可能にするために利用される。厚い金属はカソード
取り出しローラ114に対する導電体として作用し、よ
り高い活性化レベルが可能となる。つまり、基板12の
金属のフラッシュは、最初はカソード取り出しローラ1
14への電気ダクト(electrical cond
uit)として使用され、基板12上に金属を蓄積すな
わち堆積する。基板12上の金属の厚さが次第に増し、
電流伝導容量が増大する。これは、先行するアノード6
0のグループまでに蓄積された金属の電流伝導容量に基
づいて、後に続くアノード60のグループへの電流を連
続的に促進、すなわち増加させることによって、金属の
電着を増大させるために利用される。当然ながら、ポリ
マー基板12上のオリジナルの金属のフラッシュの電流
伝導容量には制限があるため、いくつかのアノード60
のグループに異なる電流レベルを直ちにまたは同時にに
与えることはできない。最初は、基板12に与えられ得
る電流密度は金属のフラッシュの電流伝導容量、すなわ
ち金属のフラッシュがカソード取り出しローラ114に
伝導し得る電流によって制約される。アノード60に過
度の電流密度を与えても、実際、薄い金属のフラッシュ
がポリマー基板12から剥離されるだけである。従っ
て、アノード60のグループを連続して活性化させるこ
とにより、基板12に金属を徐々に堆積させることが必
要である。
According to the present invention, the anodes 60 are activated in groups of one or more anodes 60.
Here, a series of each anode 6 in the direction of travel of the substrate 12
Group 0 has a higher activation level than the preceding group. Substrate 1 by first group of anodes 60
As the metal is deposited on the second initial metal flash, the current carrying capacity of the thicker metal increases, which is utilized to enable the subsequent anode group to have a higher activation level. You. The thick metal acts as a conductor for the cathode take-off roller 114, allowing higher activation levels. That is, the flash of the metal on the substrate 12 is initially
Electrical duct to 14
uit) to accumulate or deposit metal on the substrate 12. The thickness of the metal on the substrate 12 gradually increases,
The current carrying capacity increases. This is because the preceding anode 6
Based on the current carrying capacity of the metal stored up to group 0, it is utilized to increase the electrodeposition of the metal by continually promoting or increasing the current to the subsequent group of anodes 60. . Of course, due to the limited current carrying capacity of the original metal flash on the polymer substrate 12, some anodes 60
Cannot be given different current levels immediately or simultaneously. Initially, the current density that can be provided to the substrate 12 is limited by the current carrying capacity of the metal flash, that is, the current that the metal flash can conduct to the cathode extraction roller 114. Applying an excessive current density to the anode 60 will, in effect, only strip the thin metal flash from the polymer substrate 12. Therefore, it is necessary to gradually activate the group of anodes 60 to gradually deposit metal on the substrate 12.

【0104】詳しくは、第1アノード60グループ、す
なわちタンク20に入る基板12が最初に出会うアノー
ドグループは、ポリマー基板12の金属のフラッシュに
よって扱い可能なレベルで活性化される。かくして、こ
の第1アノードグループは電解溶液から金属を金属のフ
ラッシュに堆積させ、これにより、ポリマー基板12上
の金属の厚さを増加させる。基板12は、タンク20内
の電解溶液を通って所定の速度で移動するため、蓄積さ
れた金属の連続層が最終的にカソード取り出しローラ1
14に及び、これにより、基板12に与えられ得る電流
伝導容量が増大する。このとき、第2アノード60グル
ープは第1アノードグループより高い活性化レベルで活
性化され得る。この第2アノードグループの活性化レベ
ルは、第1アノード60グループによって蓄積された金
属の電流伝導容量に基づき得る。このように、第1アノ
ード60グループによって堆積された金属は、より高い
電流レベルが基板12に与えられ、カソード取り出しロ
ーラ114に伝導されるのを可能にする導電体として用
いられる。所定の期間後、第1アノード60グループと
第2アノード60グループの両方によって堆積された蓄
積金属は、カソード取り出しローラ114に到着する。
第1アノード60グループおよび第2アノード60グル
ープによって堆積された金属は、第3アノード60グル
ープを最初の2つのアノード60グループよりさらに高
い活性化レベルで活性化するのに十分な厚さとなってい
る。この場合も、この第3アノード60グループによっ
て形成された新たな蓄積は、第1および第2アノード6
0グループによって与えられた金属の上に金属を堆積
し、最後には電流取り出しカソードに及び、第4アノー
ド60グループが最初の3つのアノードグループよりさ
らに高いレベルで活性化されるのを可能にする。ここ
で、各アノード60グループは基本的には基板12の金
属伝導能力を高め、これにより、後に続くアノード60
グループに、より高い活性化レベルを与え、この結果、
後に続くアノードグループにおいてより高い電着率を生
み出すことが可能になる。上述の連続活性化により、最
終的には、電着装置10の各アノード60グループは所
望の作動レベルで活性化され得る。
In particular, the first group of anodes 60, the group of anodes that the substrate 12 first encounters entering the tank 20, is activated to a manageable level by flashing the metal of the polymer substrate 12. Thus, this first group of anodes deposits metal from the electrolytic solution onto the metal flash, thereby increasing the thickness of the metal on the polymer substrate 12. The substrate 12 moves at a predetermined speed through the electrolytic solution in the tank 20, so that the continuous layer of the accumulated metal eventually becomes the cathode take-out roller 1
14, thereby increasing the current carrying capacity that can be provided to the substrate 12. At this time, the second anode group 60 may be activated at a higher activation level than the first anode group. The activation level of the second group of anodes may be based on the current carrying capacity of the metal stored by the first group of 60 anodes. Thus, the metal deposited by the first group of anodes 60 is used as a conductor to allow higher current levels to be applied to the substrate 12 and to be conducted to the cathode ejection roller 114. After a predetermined period of time, the accumulated metal deposited by both the first 60 and second 60 anode groups reaches the cathode take-off roller 114.
The metal deposited by the first 60 and second 60 anode groups is thick enough to activate the third 60 anode group at an even higher activation level than the first two 60 anode groups. . Also in this case, the new accumulation formed by the third anode 60 group is equivalent to the first and second anodes 6.
Depositing metal on the metal provided by group 0 and finally reaching the current extraction cathode, allowing the fourth anode 60 group to be activated at a higher level than the first three anode groups . Here, each anode 60 group basically enhances the metal conduction capacity of the substrate 12 so that the subsequent anode 60
Give the group a higher activation level,
It is possible to produce higher electrodeposition rates in subsequent anode groups. With the continuous activation described above, ultimately each group of anodes 60 of the electrodeposition apparatus 10 can be activated at a desired operating level.

【0105】本明細書において「アノード60グルー
プ」という用語は、各アノード60グループは1つ以上
のアノード60よりなり得るということを示す。ここ
で、電着装置10は、各アノード60がそれ独自の個別
の電源、すなわち整流器に接続され得るように設計され
ている。
As used herein, the term "anode 60 group" indicates that each anode 60 group can consist of one or more anodes 60. Here, the electrodeposition apparatus 10 is designed such that each anode 60 can be connected to its own individual power supply, ie, a rectifier.

【0106】以下に本発明の特定の実施例について述べ
る。これらの実施例は例示的なものであり、本発明を限
定するものではない。プロセスパラメータ、材料、方
法、操作において様々な改変が当業者によってなされ得
る。以下の実施例において特定されたすべての部品およ
びパーセンテージは断りのない限り重量に基づくもので
ある。
Hereinafter, a specific embodiment of the present invention will be described. These examples are illustrative and do not limit the invention. Various modifications in process parameters, materials, methods and operations can be made by those skilled in the art. All parts and percentages specified in the following examples are by weight unless otherwise indicated.

【0107】本発明は、銅、金、銀、ニッケル、スズ、
亜鉛、真鍮、クロム、プラチナ、およびタングステンを
含むがこれらに限定されない多くの金属の電着に適用さ
れると多くの利点を有し得るが、電子分野における適用
においては銅が代表的に用いられる。銅は導電性が高
く、はんだ付けが可能であり、また電気メッキが容易で
あるため、最も好適な金属である。
The present invention relates to copper, gold, silver, nickel, tin,
Although applied to the deposition of many metals, including but not limited to zinc, brass, chromium, platinum, and tungsten, can have many advantages, but copper is typically used in applications in the electronics field . Copper is the most preferred metal because it has high conductivity, can be soldered, and is easy to electroplate.

【0108】銅の電着を効果的に行うには、十分な量の
銅(通常は硫酸銅塩として)、塩素、および硫酸が電着
槽内に存在しなければならない。本発明によれば、電解
溶液は、約50〜約80グラム/リットルの範囲の硫酸
銅、約0〜約30ppmの範囲の塩素イオン、および約
50〜約70グラム/リットルの範囲の硫酸を含有す
る。槽の温度もまた電着プロセスの性能に影響を与え得
るパラメータである。ここで、代表的な作動温度範囲は
約20℃〜約95℃の範囲である。本発明によれば、好
適な温度範囲は約35℃〜約80℃であり、最も好適な
温度範囲は約50℃〜約70℃である。
For effective copper electrodeposition, a sufficient amount of copper (usually as copper sulfate), chlorine, and sulfuric acid must be present in the electrodeposition bath. According to the present invention, the electrolytic solution contains copper sulfate in the range of about 50 to about 80 grams / liter, chloride ions in the range of about 0 to about 30 ppm, and sulfuric acid in the range of about 50 to about 70 grams / liter. I do. Vessel temperature is also a parameter that can affect the performance of the electrodeposition process. Here, a typical operating temperature range is from about 20C to about 95C. According to the present invention, a preferred temperature range is from about 35C to about 80C, and a most preferred temperature range is from about 50C to about 70C.

【0109】以下に述べる実施例では、上述し、図面で
示した装置が使用される。図1および図2に示すよう
に、タンク20内には28個のアノード60が備えられ
ている。アノード60は整列されるかまたは7個のアノ
ード60よりなるグループに分けられている。各アノー
ドグループはそれ独自の個別の電源に接続される。詳し
くは、各グループの7個のアノード60は1つの整流器
に接続され、結果として1つのグループに属する各アノ
ードには同じ電流が供給される。4つのアノードグルー
プが、図では「A」、「B」、「C」、および「D」で
示される「処理ゾーン」を規定する。以下の実施例で
は、ドラム50はゴム製で、長さ26インチ、直径30
インチとした。約2000オングストロームの銅をスパ
ッタリングにより被覆した厚さ3ミルのKapton
(登録商標)ポリマーシートを用いた。ポリマーシート
の幅は14インチとした。電着水溶液槽には以下のもの
を含有させた。
In the embodiment described below, the apparatus described above and shown in the drawings is used. As shown in FIGS. 1 and 2, 28 anodes 60 are provided in the tank 20. The anodes 60 are aligned or divided into groups of seven anodes 60. Each anode group is connected to its own individual power supply. Specifically, the seven anodes 60 of each group are connected to one rectifier, so that the same current is supplied to each anode belonging to one group. The four anode groups define "processing zones", indicated by "A", "B", "C", and "D" in the figure. In the following example, the drum 50 is made of rubber and is 26 inches long and 30 inches in diameter.
Inches. 3 mil thick Kapton sputter coated about 2000 Angstroms of copper
(Registered trademark) polymer sheet was used. The width of the polymer sheet was 14 inches. The electrodeposition aqueous solution tank contained the following.

【0110】 1)硫酸銅五水和物 400グラム/リットル 2)硫酸 65グラム/リットル 3)塩素 25ppm 槽の温度は約55℃〜約65℃に維持した。1) Copper sulfate pentahydrate 400 g / l 2) sulfuric acid 65 g / l 3) chlorine 25 ppm The temperature of the tank was maintained at about 55 ° C to about 65 ° C.

【0111】当業者には理解され得るように、電着銅の
最終的な厚さは、装置のライン速度、すなわちゾーンA
〜Dを通る基板の速度に、およびアノード60によって
電解槽に与えられる電流密度に依存する。
As can be appreciated by those skilled in the art, the final thickness of the electrodeposited copper depends on the line speed of the equipment, ie, Zone A
Depends on the velocity of the substrate through D and the current density provided to the cell by the anode 60.

【0112】以下の実施例は、上述の装置を異なる「ラ
イン速度」および異なるアノード60活性化レベルで作
動させる場合を示している。
The following example illustrates the operation of the above-described apparatus at different "line speeds" and different anode 60 activation levels.

【0113】[0113]

【表1】 [Table 1]

【0114】[0114]

【表2】 [Table 2]

【0115】[0115]

【表3】 [Table 3]

【0116】上記の表において、「アンペア/ゾーン」
は、特定のゾーンに流される全電流を示す。「時間/ゾ
ーン」は、基板が特定のゾーンに露出される時間(秒)
を示す。「ゾーン電流密度」は、特定のゾーンの活性ア
ノード表面において測定された電流密度を示す。「銅重
さ」は、特定のゾーンの後、基板12に堆積された銅の
累積重さをオンスで示す。「銅厚さ」は、特定のゾーン
の後、基板12に堆積された銅の累積厚さをミルで示
す。「ウェブ電流密度」は、ウェブ内を流れるすなわち
基板12上の金属を流れる電流密度を示す。
In the above table, "Amps / zone"
Indicates the total current flowing in a particular zone. "Time / Zone" is the time (in seconds) that the substrate is exposed to a particular zone
Is shown. "Zone current density" indicates the current density measured at the active anode surface of a particular zone. “Copper weight” indicates the cumulative weight in ounces of copper deposited on substrate 12 after a particular zone. “Copper thickness” indicates the cumulative thickness of the copper deposited on substrate 12 after a particular zone in mils. “Web current density” refers to the current density flowing through the web, ie, through the metal on substrate 12.

【0117】上記の表を比較することにより、電着され
た銅の最終厚さに及ぼす「ライン速度」および「電流密
度」の影響、および本発明の利点が明らかとなる。
Comparison of the above tables reveals the effect of "line speed" and "current density" on the final thickness of the electrodeposited copper, and the advantages of the present invention.

【0118】実施例1では、基板12は、速度3.15
フィート/分で電着装置10内を移動する。この速度で
は、基板12は各ゾーンに約16.7秒間露出されたこ
とになる。実施例1では、各ゾーンに150アンペアの
電流が流された。ここで、各ゾーンの各アノードは約2
1〜22アンペアの電流で活性化された。各ゾーンの電
流密度は約146.9アンペア/平方フィートであっ
た。ここで、各ゾーンに流される電流とアノード表面に
実際に流れる電流との間の差は極めて僅かである。つま
り、熱として発散または損失するエネルギーはほとんど
なかった。このような作動条件においては、銅の蓄積は
ほぼ比例していた。つまり、各ゾーンでは約0.825
グラムの銅が基板12に加えられ、厚さが0.039ミ
ルだけ増加した。カソード要素114によって検出され
る基板12に蓄積された金属を流れる実際の電流密度は
約274,793アンペア/平方インチであった。各ゾ
ーンを流れる電流が同一であることから予想されるよう
に、基板12上の銅の蓄積は各ゾーンにおいて均一であ
り類似していた。
In the first embodiment, the speed of the substrate 12 is 3.15.
It moves within the electrodeposition device 10 at feet / minute. At this speed, the substrate 12 has been exposed to each zone for about 16.7 seconds. In Example 1, a current of 150 amperes was applied to each zone. Here, each anode in each zone is about 2
Activated with a current of 1-22 amps. The current density in each zone was approximately 146.9 amps / square foot. Here, the difference between the current flowing in each zone and the current actually flowing on the anode surface is very small. That is, little energy was radiated or lost as heat. Under these operating conditions, copper accumulation was approximately proportional. In other words, about 0.825 in each zone
Grams of copper were added to substrate 12 and the thickness was increased by 0.039 mil. The actual current density flowing through the metal stored on substrate 12 as detected by cathode element 114 was approximately 274,793 amps / in 2. The copper accumulation on substrate 12 was uniform and similar in each zone, as would be expected from the same current flowing through each zone.

【0119】実施例2は、基板12の速度が約2.6フ
ィート/分であり、各ゾーンを流れる電流が後に続くゾ
ーンほど増加する作動条件を示す。ここで、ゾーンAに
は150アンペアが流され、ゾーンBには400アンペ
アが流され、ゾーンCには660アンペアが流され、ゾ
ーンDには840アンペアが流された。上記の作動速度
において、基板12は各ゾーンに約20.2秒間露出さ
れた。このような条件においては、基板12上の銅の蓄
積は飛躍的に増加した。実施例2に示すように、ゾーン
Aでは基板12に0.999グラムの銅が堆積され、ゾ
ーンBの終端部では銅の重さは3.664グラムに増加
する。ゾーンCの終端部では銅の重さは8.061グラ
ムに増加し、厚さは0.381ミルであった。基板12
がゾーンDから退出するときまでには、13.657グ
ラムの銅が堆積され、厚さ0.646ミルの銅が生成さ
れた。
Example 2 shows an operating condition in which the speed of the substrate 12 is about 2.6 feet / minute, and the current flowing through each zone increases in subsequent zones. Here, 150 amps were passed through zone A, 400 amps were passed through zone B, 660 amps were passed through zone C, and 840 amps were passed through zone D. At the above operating speed, the substrate 12 was exposed to each zone for about 20.2 seconds. Under these conditions, the accumulation of copper on the substrate 12 increased dramatically. As shown in Example 2, in zone A, 0.999 grams of copper is deposited on substrate 12, and at the end of zone B, the weight of copper increases to 3.664 grams. At the end of Zone C, the weight of the copper increased to 8.061 grams and the thickness was 0.381 mil. Substrate 12
13.657 grams of copper had been deposited by the time that the material exited Zone D, producing a 0.646 mil thick copper.

【0120】実施例3では、ライン速度を1.6フィー
ト/分に下げた。この速度では、基板12は各ゾーンに
32.813秒間露出される。本実施例では、ゾーンA
には270アンペアが流され、ゾーンBには500アン
ペアが流され、ゾーンCおよびDには900アンペアが
流された。このような高レベルの電流分布においても、
活性アノード表面における実際の電流密度は、各ゾーン
に流される電流密度に比較的近い。ここで、本発明の構
成および作動特性により、アノード60に与えられる電
力のうち熱として失われるのは2%に満たない。実施例
3では、ゾーンAにおいて2.557グラムの銅が基板
12に電着され、0.121ミルの銅を有する基板12
が形成された。ゾーンBの後、基板12には7.970
グラムの銅が電着され、銅の厚さは0.377ミルとな
った。ゾーンCの終端部では、基板12には17.71
3グラムの銅が堆積され、厚さ0.873ミルを生成し
た。基板12がゾーンDから退出するときまでには、2
7.456グラムの銅が堆積され、最終的な厚さは約
1.3ミルとなった。
In Example 3, the line speed was reduced to 1.6 feet / minute. At this rate, the substrate 12 is exposed to each zone for 32.813 seconds. In this embodiment, the zone A
At 270 amps, zone B at 500 amps, and zones C and D at 900 amps. Even in such a high level current distribution,
The actual current density at the active anode surface is relatively close to the current density flowing through each zone. Here, due to the configuration and operating characteristics of the present invention, less than 2% of the power supplied to the anode 60 is lost as heat. In Example 3, in Zone A, 2.557 grams of copper was electrodeposited onto substrate 12 and substrate 12 having 0.121 mil copper was deposited.
Was formed. After zone B, the substrate 12 has 7.970
Grams of copper were electrodeposited, resulting in a copper thickness of 0.377 mil. At the end of zone C, the substrate 12 has 17.71
Three grams of copper were deposited, producing a thickness of 0.873 mil. By the time the substrate 12 leaves zone D, 2
7.456 grams of copper were deposited, resulting in a final thickness of about 1.3 mils.

【0121】実施例3に示すように、ライン速度が低く
なると、基板12上の銅の蓄積はゾーン毎に飛躍的に増
加し、この銅の増加と共に、実質的により高い電流を基
板12に流すことが可能になり、これにより、電着プロ
セスがさらに増進する。
As shown in Example 3, as the line speed decreases, the accumulation of copper on the substrate 12 increases dramatically in each zone, and with this increase in copper, a substantially higher current flows through the substrate 12. And thereby further enhance the electrodeposition process.

【0122】本発明の結果、例えば、エッジ効果(ed
ge effect)がほとんどあるいは全くない銅コ
ーティングが得られる。すなわち、得られる銅コーティ
ングは、コーティング本体を通じておよびその縁部に沿
って厚さが均一である。本発明の方法によって電着され
た銅の別の利点は、物理特性が向上することである。こ
のような向上の1つは、1オンスの銅箔の伸び率が15
%を超えることである。これは、柔軟なポリマー基板に
従来の方法により電着した1オンスの銅箔に比べて、約
3倍大きい伸び率を示す。さらに、本発明によれば、電
着銅は延性が向上し、これにより処理または使用中に銅
にひびが入るかまたは不良になる傾向が抑制される。
As a result of the present invention, for example, the edge effect (ed
A copper coating with little or no "ge effect" is obtained. That is, the resulting copper coating is of uniform thickness throughout the coating body and along its edges. Another advantage of copper electrodeposited by the method of the present invention is that physical properties are improved. One such improvement is that the 1 oz.
%. It exhibits about three times greater elongation than a 1 oz copper foil electrodeposited on a flexible polymer substrate by conventional methods. Further, according to the present invention, the electrodeposited copper has improved ductility, thereby reducing the tendency of the copper to crack or fail during processing or use.

【0123】本発明により実現される他の利点の1つ
は、製造される最終製品の特性が優れていることであ
る。1つの利点は、本発明のプロセスおよび装置によっ
て製造される電着銅箔は、従来の方法により電着した銅
箔より延性が実質的に大きい。例えば、1オンスの銅箔
に対して、約28%の伸び率が測定されている。また、
上述のように、本発明の電着銅はエッジ効果を示さな
い。このため電着銅の厚さはメッキされた銅の全領域に
わたって実質的に均一である。
One of the other advantages realized by the present invention is that the properties of the final product produced are excellent. One advantage is that the electrodeposited copper foil produced by the process and apparatus of the present invention is substantially more ductile than copper foil electrodeposited by conventional methods. For example, an elongation of about 28% has been measured for one ounce copper foil. Also,
As mentioned above, the electrodeposited copper of the present invention does not exhibit edge effects. Thus, the thickness of the electrodeposited copper is substantially uniform over the entire area of the plated copper.

【0124】本発明の金属被覆のポリマーフィルムの伸
び率が向上し延性が大きくなるのは、電着金属の蓄積が
均一であるためと考えられている。典型的には複数の電
解槽を数回通過する必要がある従来の方法とは異なり、
本発明のプロセスでは各金属層を空気にさらすことはな
い。電着金属層は均一で連続しており、筋(stria
tion)の入った領域がない。すなわち、金属の層間
が識別され得ない。従って、本発明の電着金属には、応
力集中の高い脆化層または脆化領域となり得るような金
属酸化物または風媒汚染物を含有する領域はない。従っ
て、本発明の電着金属においては、従来の方法で電着さ
れた金属被覆ポリマーフィルムで発生するように、ひび
割れが発生することはほとんどない。
The reason why the elongation percentage and the ductility of the metal-coated polymer film of the present invention are improved is considered to be due to the uniform accumulation of the electrodeposited metal. Unlike traditional methods, which typically require several passes through multiple electrolytic cells,
The process of the present invention does not expose each metal layer to air. The electrodeposited metal layer is uniform and continuous,
area). That is, the metal layers cannot be distinguished. Therefore, the electrodeposited metal of the present invention does not have a region containing a metal oxide or airborne contaminants that can be an embrittlement layer or an embrittlement region with high stress concentration. Therefore, in the electrodeposited metal of the present invention, cracking hardly occurs as occurs in a metal-coated polymer film electrodeposited by a conventional method.

【0125】図10は、実施例1のプロセスにより製造
されたKapton(登録商標)上に電着された銅箔の
側面の光学顕微鏡写真を示す。この顕微鏡写真は、基板
12上の銅金属の単一で均一な連続した層を示す。これ
は、図11の顕微鏡写真とは対照的である。図11は、
代表的な実用上の電気メッキプロセスによって製造され
た従来の製品の側面の光学顕微鏡写真を示す。図11に
は基板上に堆積された銅金属が層をなしているのが明瞭
に示されている。それぞれの筋は、多槽装置における1
回の電着サイクルの終わりおよび次の電着サイクルの始
まりに対応する。これらの筋入り領域はほぼ確実に高応
力集中領域である。
FIG. 10 shows an optical micrograph of a side view of a copper foil electrodeposited on Kapton® manufactured by the process of Example 1. This micrograph shows a single, uniform, continuous layer of copper metal on substrate 12. This is in contrast to the micrograph of FIG. FIG.
1 shows an optical micrograph of a side view of a conventional product manufactured by a representative practical electroplating process. FIG. 11 clearly shows the layers of copper metal deposited on the substrate. Each streak is one in a multi-tank device.
Corresponds to the end of one electrodeposition cycle and the beginning of the next electrodeposition cycle. These streaked areas are almost certainly high stress concentration areas.

【0126】以上本発明を、非導電性ポリマーウェブ上
への金属の電着に関連して述べた。ウェブは後に柔軟な
電子回路を形成する際に使用される。本発明の別の面に
よれば、図12〜図14に示すように、電着装置10は
プリント配線回路パターンを、「W」で示す移動ウェブ
に直接メッキするために用いられ得る。本発明のこの面
によれば、ウェブWは、一般には、図12、図13
(a)、および図13(b)に最良に示すように、一方
の面を薄い金属層202で被覆した非導電性材料の柔軟
な薄いストリップまたはフィルム200よりなる。フィ
ルム200の金属被覆面は、従来の方法によりメッキレ
ジストマスク材料204によりマスクされ、複数の回路
パターン206が規定される。パターン206はベース
金属層202のマスクされていない露出領域によって規
定される。図12に示す実施態様では、ウェブWの中央
部がマスクされ、マスクされていない露出ベース金属2
02の連続バンド208がウェブWの両縁に沿って伸び
るようにされる。各パターン206を形成するベース金
属層202のマスクされていない露出領域は、バンド2
08を形成するベース金属202のマスクされていない
露出領域と導通する。図12に示す実施態様では、隣接
するパターン206の方向は、隣接するパターン206
がウェブWの反対側の縁に向かって伸びるように互いに
反対にされる。
The invention has been described with reference to the electrodeposition of metals on non-conductive polymer webs. The web is later used in forming a flexible electronic circuit. According to another aspect of the present invention, as shown in FIGS. 12-14, the electrodeposition apparatus 10 can be used to plate a printed circuit pattern directly onto a moving web, indicated by "W". According to this aspect of the invention, the web W generally comprises
(A) and, as best shown in FIG. 13 (b), consists of a flexible thin strip or film 200 of a non-conductive material coated on one side with a thin metal layer 202. The metallized surface of the film 200 is masked with a plating resist mask material 204 by a conventional method, and a plurality of circuit patterns 206 are defined. Pattern 206 is defined by the unmasked exposed areas of base metal layer 202. In the embodiment shown in FIG. 12, the central portion of the web W is masked and the unmasked exposed base metal 2 is unmasked.
02 continuous bands 208 are arranged to extend along both edges of the web W. The unmasked exposed area of the base metal layer 202 forming each pattern 206 is a band 2
Conduction is made with the unmasked exposed area of the base metal 202 that forms 08. In the embodiment shown in FIG. 12, the direction of the adjacent pattern 206 is
Are opposed to each other such that they extend toward opposite edges of the web W.

【0127】ストリップ200は、いかなる柔軟な非導
電性材料によっても形成され得、その上の層202はメ
ッキ可能な金属であればいかなるものでもよい。厚さが
約1700オングストローム(ナ)の金属が上面に形成
された厚さが2〜3ミルのプラスチックまたはポリマー
フィルムを用いることにより、本発明によるパターンの
メッキ形成において満足のいく結果が得られる。メッキ
可能な金属であればいかなるものでも用いられ得るが、
金属層202は好ましくは銅である。重要なことは、回
路パターン206は、一般には、すべての分岐206a
すなわちパターンのすべての部分がバンド208と導通
していることである。後に詳述するように、回路パター
ン206の小さな部分がパターン206の連続した分岐
またはレッグから完全に分離され得る。図13(a)
は、図12のウェブWの断面を一般的に示し、非導電性
ポリマーフィルムまたはストリップ200、金属層20
2、およびパターン206の分岐206aを規定するメ
ッキレジストマスク材料204を示す。
The strip 200 can be formed of any flexible, non-conductive material, and the layer 202 thereon can be any metal that can be plated. The use of a plastic or polymer film having a thickness of about 1700 angstroms of metal on top and having a thickness of 2-3 mils provides satisfactory results in plating a pattern according to the present invention. Any metal that can be plated can be used,
Metal layer 202 is preferably copper. Significantly, circuit pattern 206 generally includes all branches 206a
That is, all parts of the pattern are in conduction with the band 208. As will be described in greater detail below, a small portion of the circuit pattern 206 may be completely isolated from successive branches or legs of the pattern 206. FIG. 13 (a)
Generally shows a cross section of the web W of FIG. 12, showing a non-conductive polymer film or strip 200, a metal layer 20.
2 and a plating resist mask material 204 that defines a branch 206a of the pattern 206.

【0128】次に回路パターン206を形成するプロセ
スについて述べる。図1および図2に一般的に示した方
法で、ウェブWが装置10に導入される。詳しくは、ウ
ェブWはガイドローラ112を通過してドラム50に接
触し、ドラム50上を通ってタンク20内の電解溶液中
を前進する。ここで、ウェブWは、回路パターン206
(すなわち、ベース金属層202のマスクされていない
露出領域)をアノード60の活性アノード表面80に向
けた状態で、ドラム50とアノード60との間に規定さ
れるギャップ90を通る。ウェブWはカソード取り出し
ローラ114を通過して電解溶液から退出する。このと
き金属層202の露出部がローラ114と接触する。こ
れにより、アノード60に電流が供給される電着プロセ
スの間、露出した金属層202がカソードとして作用す
る。
Next, a process for forming the circuit pattern 206 will be described. The web W is introduced into the apparatus 10 in the manner generally shown in FIGS. Specifically, the web W passes through the guide roller 112 and contacts the drum 50, and advances on the drum 50 into the electrolytic solution in the tank 20. Here, the web W is a circuit pattern 206
With the unmasked exposed area of the base metal layer 202 facing the active anode surface 80 of the anode 60, it passes through a gap 90 defined between the drum 50 and the anode 60. The web W passes through the cathode take-out roller 114 and exits the electrolytic solution. At this time, the exposed portion of the metal layer 202 comes into contact with the roller 114. This allows the exposed metal layer 202 to act as a cathode during the electrodeposition process where current is supplied to the anode 60.

【0129】上述の方法では、アノード60は1つ以上
のアノード60よりなるグループごとに活性化される。
ここで、ウェブWの進行方向の一連の各々のアノード6
0グループは、先のグループより高い活性化レベルを有
する。パターン206およびバンド208を形成する金
属層202の露出部に金属が堆積されると、この、より
厚い金属の電流伝導容量は増大し、これが、後に続くア
ノードグループがより高い活性化レベルを有するのを可
能とするために利用される。ここで、パターン206は
バンド208と導通する連続した分岐206aを有する
ため、ウェブの長さ方向に連続性が形成され、これによ
り、回路分岐206aおよびバンド208を通ってより
大きな電流がカソード取り出しローラ114に伝導され
得る。回路パターン206およびバンド208における
金属の連続性のため、後に続くゾーンへの電流レベルは
より高いレベルに増大され得、これにより、回路パター
ン206を形成する金属のメッキ形成が増大する。上述
のように、パターン206は、回路パターン206の分
岐206aまたはバンド208と直接に導通しない図中
に206bで示される小さな分離領域を有し得る。これ
らの領域に関しては、下地金属層202、すなわちメッ
キレジスト204の下方に位置する層202の領域は十
分な電流伝導容量を提供し得、分岐206aおよびバン
ド208により高いレベルの電流を伝導するため、これ
により、ウェブWを燃焼または破壊することなくこれら
の小さな領域に金属が蓄積されるのが可能となる。ここ
で、アノード60によってウェブWに流される電流のほ
とんどは、パターン206の分岐206aおよびバンド
208を通してカソード取り出しローラ114に伝導さ
れるため、マスク材料204の下方に位置するベース金
属層202の大きな領域は、パターン分岐206aおよ
びバンド208の蓄積領域に電流を分散させ、領域20
6bが高い電流レベルに耐えるのを可能とするのに十分
なものである。しかし、装置の後に続くゾーンに、より
高い活性化レベルが与えられるのを可能にし、また領域
206bが露出された金属層202全体のうちの比較的
小さな領域のみを構成し得るのは、分岐206aおよび
バンド208に蓄積される金属の連続性およびその増大
した電流伝導容量によるものである。
In the method described above, the anodes 60 are activated in groups of one or more anodes 60.
Here, a series of each anode 6 in the traveling direction of the web W
Group 0 has a higher activation level than the previous group. As metal is deposited on the exposed portions of the metal layer 202 forming the pattern 206 and the band 208, the current carrying capacity of this thicker metal increases, which causes the subsequent anode group to have a higher activation level. It is used to enable Here, the pattern 206 has a continuous branch 206a that is in electrical communication with the band 208, thereby creating a continuity in the length of the web, thereby allowing a larger current to flow through the circuit branch 206a and the band 208. 114 can be conducted. Due to the continuity of the metal in circuit pattern 206 and band 208, the current level to subsequent zones can be increased to higher levels, thereby increasing the plating of the metal forming circuit pattern 206. As mentioned above, the pattern 206 may have a small isolation region indicated by 206b in the figure that is not directly conductive with the branch 206a or band 208 of the circuit pattern 206. With respect to these regions, the underlying metal layer 202, that is, the region of the layer 202 underlying the plating resist 204, can provide sufficient current carrying capacity and conduct higher levels of current through the branches 206a and the band 208; This allows metal to accumulate in these small areas without burning or breaking the web W. Here, most of the current flowing through the web W by the anode 60 is conducted to the cathode take-out roller 114 through the branch 206 a of the pattern 206 and the band 208, so that a large area of the base metal layer 202 located below the mask material 204. Distributes the current to the accumulation region of the pattern branch 206a and the band 208, and
6b is sufficient to allow it to withstand high current levels. However, it is possible that the zone following the device may be provided with a higher activation level, and that the region 206b may constitute only a relatively small area of the entire exposed metal layer 202. And the continuity of the metal accumulated in band 208 and its increased current carrying capacity.

【0130】図13(b)はベース金属層202のマス
クされていない露出部に金属がどのように蓄積されるか
を概略的に示す。図13(b)では蓄積された金属は参
照符号214で示される。回路206が所望の厚さまで
蓄積されると、マスク材料204は従来の方法によって
除去され得、ベース金属層202から伸びる蓄積された
銅パターンが露出される。次にベース層202はエッチ
ングプロセスによって除去され、フィルム200上には
蓄積された銅の所望のパターン206が残される。次に
銅バンド208をパターン206から取り除き(すなわ
ち切り離し)、フィルム200上に露出されたパターン
206を残す。
FIG. 13B schematically shows how the metal is accumulated in the unmasked exposed portion of the base metal layer 202. In FIG. 13B, the accumulated metal is indicated by reference numeral 214. Once the circuit 206 has been accumulated to the desired thickness, the mask material 204 can be removed by conventional methods, exposing the accumulated copper pattern extending from the base metal layer 202. Next, base layer 202 is removed by an etching process, leaving desired pattern 206 of accumulated copper on film 200. The copper band 208 is then removed from (ie, cut off from) the pattern 206, leaving the pattern 206 exposed on the film 200.

【0131】図14は、複数の類似のパターン216が
ウェブWの中央に配置され、パターン216の連続バン
ドを形成するように互いに導通している、ウェブWの変
形実施態様を示す。各パターン216は中央部216a
を有し、ここから複数のレッグまたは分岐216bが伸
びている。パターン216はほぼ対称であり、隣接する
パターン216は、隣接するパターン216の各レッグ
216bが互いに導通するように配置されている。図1
4では、「P」で示される分離ラインが個々のパターン
216を示し、またこれらを区別する。パターン216
のこの配置により、ウェブWに沿って露出金属202よ
りなる連続経路が形成される。この連続した露出金属
は、上述の方法で、ウェブWに流される電流の増加を促
進するために利用される。詳しくは、最初のアノード6
0グループによってパターン216に堆積される金属に
より、ウェブWにさらに電流伝導容量が付加され、後に
続くアノード60グループがより高い活性化レベルを有
するのを可能にする。これまでの記述から理解され得る
ように、連続した露出金属がウェブWに沿って形成さ
れ、これによってアノード60によって流される電流が
ウェブWを通ってカソード取り出しローラ114に伝導
されることが必要である。
FIG. 14 shows an alternative embodiment of the web W in which a plurality of similar patterns 216 are located in the center of the web W and are conductive to one another to form a continuous band of the pattern 216. Each pattern 216 has a central portion 216a
From which a plurality of legs or branches 216b extend. The pattern 216 is substantially symmetrical, and the adjacent patterns 216 are arranged such that the legs 216b of the adjacent pattern 216 are conductive to each other. FIG.
In 4, the separation lines indicated by "P" indicate individual patterns 216 and distinguish them. Pattern 216
This arrangement forms a continuous path of exposed metal 202 along web W. This continuous exposed metal is used to promote an increase in the current flowing through the web W in the manner described above. For details, see the first anode 6
The metal deposited in the pattern 216 by the zero group adds additional current carrying capacity to the web W, allowing the subsequent anode 60 group to have a higher activation level. As can be appreciated from the preceding description, it is necessary that a continuous exposed metal be formed along the web W, thereby conducting the current conducted by the anode 60 through the web W to the cathode take-off roller 114. is there.

【0132】パターン216が本発明によって形成され
た後、マスク材料204およびベース金属層202は従
来の方法により取り除かれ、堆積された金属によって形
成された銅パターンが露出される。次にパターン216
はライン「P」に沿って互いに切り離され、個別の独立
した回路を形成する。
After pattern 216 has been formed according to the present invention, mask material 204 and base metal layer 202 are removed in a conventional manner, exposing the copper pattern formed by the deposited metal. Next, the pattern 216
Are separated from one another along line "P" to form separate and independent circuits.

【0133】従って、本発明は、柔軟な非導電性ポリマ
ーストリップ上に回路パターンを形成する方法を提供す
る。この方法により、形成時間が短縮されることに加え
て、伸張性および柔軟性が向上した回路が提供される。
Thus, the present invention provides a method for forming a circuit pattern on a flexible non-conductive polymer strip. This method provides a circuit with improved extensibility and flexibility in addition to reduced formation time.

【0134】以上、本発明を好適な実施態様に関連して
述べた。当業者であれば、本明細書を読み理解すること
により他の改変および変更が可能である。上述の請求項
またはこれらの同等物の範囲内に属する限り、すべての
改変および変更は本発明に包含される。
The invention has been described with reference to the preferred embodiments. Those skilled in the art can make other modifications and alterations by reading and understanding the present specification. All modifications and changes are intended to be included in the invention, provided they come within the scope of the appended claims or their equivalents.

【0135】[0135]

【発明の効果】本発明の金属を電着させる装置によれ
ば、活性アノード表面と移動する基板との間のギャップ
を小さく、かつ均一にすることができ、その結果、電圧
を減らすことで熱電力損失を減少させることができる。
また、堆積した金属の電流伝導容量を利用することによ
って、基板へのより大きな電流の流れを促進させること
ができ、電着時間を飛躍的に短縮できる効果がある。ま
た、本発明の金属を電着させる装置によって製造された
金属被覆基板は、伸張性および柔軟性が増し、優れた物
理特性を発揮する。
According to the apparatus for electrodepositing a metal of the present invention, the gap between the active anode surface and the moving substrate can be made small and uniform, and as a result, the voltage can be reduced to reduce the heat. Power loss can be reduced.
Further, by utilizing the current conduction capacity of the deposited metal, a larger current flow to the substrate can be promoted, and there is an effect that the electrodeposition time can be drastically reduced. In addition, the metal-coated substrate manufactured by the apparatus for electrodepositing a metal of the present invention has enhanced extensibility and flexibility, and exhibits excellent physical properties.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の好適な実施態様である、移動するウェ
ブ上に金属を電着させる装置の一部断面図である。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of an apparatus for electrodepositing metal on a moving web, which is a preferred embodiment of the present invention.

【図2】本発明の好適な実施態様である、移動するウェ
ブ上に金属を電着させる装置の一部断面図である。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of an apparatus for electrodepositing a metal on a moving web, which is a preferred embodiment of the present invention.

【図3】本発明の代表的なアノードの取り付けを示す、
図1の2−2線に沿った拡大断面図である。
FIG. 3 shows a representative anode mounting of the present invention.
FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line 2-2 of FIG. 1.

【図4】図3に示したアノードの第1端部の端面図であ
る。
FIG. 4 is an end view of a first end of the anode shown in FIG. 3;

【図5】図3に示したアノードの立面図である。FIG. 5 is an elevation view of the anode shown in FIG. 3;

【図6】図3に示したアノードの立面平面図である。6 is an elevational plan view of the anode shown in FIG.

【図7】図3に示したアノードの第2端部の端面図であ
る。
FIG. 7 is an end view of a second end of the anode shown in FIG. 3;

【図8】図3に示したアノードの一方の端部の拡大図で
あって、この端部に取り付けられた電気コネクタを示
す。
FIG. 8 is an enlarged view of one end of the anode shown in FIG. 3, showing the electrical connector attached to this end.

【図9】図6の8−8線に沿った断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line 8-8 in FIG. 6;

【図10】本発明によって電着された銅箔の側面の光学
顕微鏡写真である。
FIG. 10 is an optical micrograph of a side view of a copper foil electrodeposited according to the present invention.

【図11】ポリマー基板上に実用的に電着された銅箔の
側面の光学顕微鏡写真であって、従来の実用的なプロセ
スにより堆積した数層からなる銅を示す。
FIG. 11 is an optical micrograph of a side view of a copper foil practically electrodeposited on a polymer substrate, showing several layers of copper deposited by a conventional practical process.

【図12】本発明の別の面を示す、回路パターンを規定
するようにマスクされた金属層を有するウェブの平面図
である。
FIG. 12 is a plan view of a web having a metal layer masked to define a circuit pattern, illustrating another aspect of the invention.

【図13】(a)は、本発明の金属堆積プロセス前のウ
ェブの概略拡大断面図である。(b)は、本発明により
蓄積された金属を示す、図13(a)に示したウェブの
拡大断面図である。
FIG. 13 (a) is a schematic enlarged sectional view of a web before the metal deposition process of the present invention. FIG. 13 (b) is an enlarged cross-sectional view of the web shown in FIG. 13 (a) showing metal accumulated according to the present invention.

【図14】ウェブの長さ方向に延びるように接続された
複数の類似の回路パターンを規定するようにマスクされ
た金属層を有するウェブの平面図である。
FIG. 14 is a plan view of a web having a metal layer masked to define a plurality of similar circuit patterns connected to extend the length of the web.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 電着装置 12 基板 20 タンク 22 底壁 24、26 端壁 28 弓状補強プレート 32 供給導管 34 オーバーフロー管 36 ポート 44 ウェブ 46 支柱 50 ドラム 52 外表面 54 シャフト 60 アノード 62 本体 64 コア 66 ケーシング(ジャケット) 68 プレート 72 ピン 74 カラー 76 穴 78 ラグ 80a、80b アノード表面 82 電気コネクタ 84 プレート 92 穴 94 プラグ 96 開口部 96a 第1円筒部 96b 第2円筒部 102 シールアレンジメント 104 環状シール 106 圧縮リング 108 穴 112 ガイドローラ 114 カソード取り出しローラ 200 ストリップ 202 ベース金属層 204 メッキレジストマスク材料 206 パターン 206a 分岐 206b 分離領域 208 バンド 214 蓄積された金属 216 パターン 216a 中央部 216b レッグ(分岐) Reference Signs List 10 electrodeposition apparatus 12 substrate 20 tank 22 bottom wall 24, 26 end wall 28 arcuate reinforcing plate 32 supply conduit 34 overflow pipe 36 port 44 web 46 support 50 drum 52 outer surface 54 shaft 60 anode 62 main body 64 core 66 casing (jacket) ) 68 plate 72 pin 74 collar 76 hole 78 lug 80a, 80b anode surface 82 electrical connector 84 plate 92 hole 94 plug 96 opening 96a first cylindrical portion 96b second cylindrical portion 102 seal arrangement 104 annular seal 106 compression ring 108 hole 112 Guide roller 114 Cathode take-out roller 200 Strip 202 Base metal layer 204 Plating resist mask material 206 Pattern 206a Branch 206b Separation region 208 Band 2 14 accumulated metal 216 pattern 216a center 216b leg (branch)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 594064150 35129 Curtis Boulevar d,Eastlake,Ohio 44095, United States of Am erica (72)発明者 ピーター ペックハム アメリカ合衆国 オハイオ 44077, パ イネスビル,リッジバリー ドライブ 2100 (72)発明者 ロバート ディー. デヴィット アメリカ合衆国 オハイオ 44134,ハイ ランド ハイツ,メドウェイ ロード 464 (72)発明者 ロナルド ケイ. ハイネス アメリカ合衆国 オハイオ 44060, メ ンター エヌ. ウェザービー ドライブ 6699 (72)発明者 アダム ジー. ベイ アメリカ合衆国 オハイオ 44026, チ ェスターランド, ウッドクレスト レー ン 13005 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (71) Applicant 594064150 35129 Curtis Boulevard, Eastlake, Ohio 44095, United States of America (72) Inventor Peter Peckham United States of America 44077, Pinesville, Ridgebury Drive 2100 (72) Robert Dee. David United States Ohio 44134, Highland Heights, Medway Road 464 (72) Inventor Ronald Kay. Highness United States Ohio 44060, Center N. Weatherby Drive 6699 (72) Inventor Adam G. Bay United States Ohio 44026, Chesterland, Woodcrest Lane 13005

Claims (24)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非導電性の電気絶縁性基板に金属を電着
させる方法であって、該方法は、 a)非導電性の電気絶縁性基板の一方の面に薄い金属の
フラッシュを形成するステップと、 b)非導電性表面によって規定される通路に沿って、該
基板の該金属面を該表面とは反対の側に向けた状態で該
基板を所定の方向に移動させるステップであって、該表
面は電解溶液内に配備され、複数のアノードが該表面に
対向し、また該表面に隣接して配置され、これらの間に
均一の狭いギャップを規定する、基板を移動させるステ
ップと、 c)該基板の該金属面を該電解溶液の外側に位置する導
電性のカソードの上を通過させるステップと、 d)該移動する基板に金属を連続して電着させるため
に、該基板が該電解溶液を通過するとき、電極の各グル
ープが異なる電流密度レベルを有するようにするステッ
プと、を包含する、金属を電着させる方法。
1. A method for electrodepositing a metal on a non-conductive electrically insulating substrate, the method comprising: a) forming a thin metal flash on one side of the non-conductive electrically insulating substrate. B) moving the substrate in a predetermined direction along the path defined by the non-conductive surface with the metal surface of the substrate facing away from the surface; Moving the substrate, wherein the surface is disposed in an electrolytic solution and a plurality of anodes are disposed opposite and adjacent to the surface, defining a uniform, narrow gap therebetween. c) passing the metal surface of the substrate over a conductive cathode located outside the electrolyte solution; and d) continuously depositing metal on the moving substrate. Each group of electrodes as they pass through the electrolyte Comprising the steps of: to have a different current densities levels, a method for electrodeposition of metal.
【請求項2】 前記電流密度が、連続する各々のアノー
ドにおいて同じであるかあるいはより大きい、請求項1
に記載の金属を電着させる方法。
2. The method of claim 1, wherein the current density is the same or greater at each successive anode.
The method for electrodepositing a metal according to item 1.
【請求項3】 前記非導電性表面がほぼ円筒形状であ
り、前記アノードが該ほぼ円筒形状の表面に平行に伸び
る細長い棒である、請求項1に記載の金属を電着させる
方法。
3. The method of claim 1 wherein said non-conductive surface is substantially cylindrical and said anode is an elongated rod extending parallel to said substantially cylindrical surface.
【請求項4】 非導電性の電気絶縁性基板に金属を電着
させる方法であって、該方法は、 電解溶液中に互いに接近した状態で整列して配置された
複数の細長いアノードを提供するステップであって、各
々の該アノードが隣接するアノードの活性アノード表面
と整列する活性アノード表面を有し、ほぼ連続した活性
形成表面を形成する、ステップと、 非導電性の裏張りを備えた薄い金属のフラッシュを該電
解溶液を介して該連続した活性形成表面を通って移動さ
せる一方で、該金属が該形成表面に沿って移動するとき
該金属と該形成表面との間に1インチより小さい所定の
均一の間隔を維持するステップと、 該金属が該電解溶液から退出するとき、該金属を該電解
溶液の外側に位置するカソード取り出し部の上を通過さ
せるステップと、 1つ以上の隣接するアノードからなるグループを電気的
に活性化させるステップであって、該アノードの連続す
る各々のグループは先行するグループより高い活性化レ
ベルを有する、ステップと、を包含する、金属を電着さ
せる方法。
4. A method for electrodepositing a metal on a non-conductive, electrically insulating substrate, the method comprising providing a plurality of elongated anodes arranged in close proximity to one another in an electrolyte solution. Forming a substantially continuous active forming surface, each said anode having an active anode surface aligned with an active anode surface of an adjacent anode; and a thin layer with a non-conductive backing. While moving a flash of metal through the continuous active forming surface through the electrolytic solution, less than 1 inch between the metal and the forming surface as the metal moves along the forming surface Maintaining a predetermined uniform spacing; and as the metal exits the electrolyte, passing the metal over a cathode outlet located outside the electrolyte. Electrically activating a group of upper adjacent anodes, wherein each successive group of anodes has a higher activation level than the preceding group. How to wear.
【請求項5】 非導電性の電気絶縁性基板に金属を電着
させる方法であって、 a)上部に金属のフラッシュを有する非導電性基板を所
定の通路に沿って移動させるステップであって、該基板
は先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置された複数
のアノードを通って移動し、次に該電解溶液の外側に位
置する導電性カソード表面の上を通り、このとき、該基
板上の該金属のフラッシュは該電解溶液中の該アノード
に対向し、また該導電性カソード表面に係合する、ステ
ップと、 b)1つ以上の隣接するアノードからなるグループを異
なるレベルで電気的に活性化するステップであって、連
続する各々のアノードグループは先行するグループより
高い活性化レベルを有する、ステップと、を包含する、
金属を電着させる方法。
5. A method for electrodepositing a metal on a non-conductive electrically insulating substrate, comprising: a) moving a non-conductive substrate having a flash of metal on top along a predetermined path. The substrate first moves through the electrolyte through a plurality of anodes disposed in the electrolyte, and then passes over a conductive cathode surface located outside the electrolyte, where the Flashing the metal on the substrate opposite the anode in the electrolyte and engaging the conductive cathode surface; b) electrically connecting the group of one or more adjacent anodes to different levels Activating, wherein each successive anode group has a higher activation level than the preceding group.
A method of electrodepositing metal.
【請求項6】 特定のアノードグループの活性化レベル
が、前記基板が該特定のアノードグループを通過すると
きの該基板上の前記金属の電流伝導容量に基づく、請求
項5に記載の金属を電着させる方法。
6. The method of claim 5, wherein the activation level of a particular anode group is based on the current carrying capacity of the metal on the substrate as the substrate passes through the particular anode group. How to wear.
【請求項7】 請求項1に記載の方法によって製造され
る金属コートされたポリマーフィルム。
7. A metal-coated polymer film produced by the method of claim 1.
【請求項8】 前記ポリマーフィルムがポリイミドであ
る、請求項7に記載の金属コートされたポリマーフィル
ム。
8. The metal-coated polymer film according to claim 7, wherein said polymer film is a polyimide.
【請求項9】 前記ポリマーフィルムがポリエステルで
ある、請求項8に記載の金属コートされたポリマーフィ
ルム。
9. The metal-coated polymer film of claim 8, wherein said polymer film is a polyester.
【請求項10】 前記金属が銅である、請求項8に記載
の金属コートされたポリマーフィルム。
10. The metal-coated polymer film according to claim 8, wherein said metal is copper.
【請求項11】 前記銅が1オンスの箔であり、前記ポ
リマーフィルムが少なくとも15%に等しい伸び率を有
する、請求項10に記載の金属コートされたポリマーフ
ィルム。
11. The metal-coated polymer film of claim 10, wherein said copper is a one ounce foil and said polymer film has an elongation equal to at least 15%.
【請求項12】 非導電性の電気絶縁性基板にプリント
配線回路を形成する方法であって、 a)柔軟な非導電性材料の細長いストリップの一方の側
の導電性材料層にメッキレジストをプリントして、該ス
トリップの長さに沿って伸びる該導電性層の露出した連
続バンドと、該バンドと導通するプリント配線回路の1
つ以上のパターンとを露出させて残すステップと、 b)上部にプリント配線回路を有する該ストリップを所
定の通路に沿って移動させるステップであって、該スト
リップは先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置され
た複数のアノードを通って移動し、次に該電解溶液の外
側に位置する導電性カソード表面の上を通り、このと
き、該ストリップ上の導電性層の該連続バンドは該電解
溶液中の該アノードに対向し、また該導電性カソード表
面に係合する、ステップと、 c)1つ以上の隣接するアノードよりなるグループを異
なるレベルで電気的に活性化するステップであって、連
続する各々のアノードグループは先行するグループより
高い活性化レベルを有する、ステップと、を包含する、
プリント配線回路を形成する方法。
12. A method of forming a printed wiring circuit on a non-conductive electrically insulating substrate, comprising: a) printing a plating resist on a layer of conductive material on one side of an elongated strip of flexible non-conductive material. And an exposed continuous band of the conductive layer extending along the length of the strip, and one of the printed wiring circuits conducting with the band.
Exposing one or more patterns, and b) moving the strip having printed wiring circuits thereon along a predetermined path, wherein the strip is first passed through the electrolytic solution. Moving through a plurality of anodes disposed within and then over a conductive cathode surface located outside the electrolyte solution, wherein the continuous band of conductive layer on the strip is Opposing the anode in a solution and engaging the conductive cathode surface; c) electrically activating different groups of one or more adjacent anodes at different levels, Wherein each successive anode group has a higher activation level than the preceding group, comprising:
A method for forming a printed wiring circuit.
【請求項13】 d)前記メッキレジストを取り除くス
テップと、 e)前記導電性層を前記基板のパターンが形成されてい
ない領域からエッチングにより取り除くステップと、を
さらに包含する、請求項12に記載のプリント配線回路
を形成する方法。
13. The method of claim 12, further comprising: d) removing the plating resist; and e) etching away the conductive layer from an unpatterned region of the substrate. A method for forming a printed wiring circuit.
【請求項14】 前記プリント配線回路を前記導電性層
の前記連続バンドから切り離すステップをさらに包含す
る、請求項13に記載のプリント配線回路を形成する方
法。
14. The method of claim 13, further comprising the step of disconnecting the printed circuit from the continuous band of the conductive layer.
【請求項15】 特定のアノードグループの活性化レベ
ルが、前記ストリップが該特定のアノードグループを通
過するときの前記連続バンドの前記金属の電流伝導容量
に基づく、請求項12に記載のプリント配線回路を形成
する方法。
15. The printed circuit of claim 12, wherein the activation level of a particular anode group is based on the current carrying capacity of the metal of the continuous band as the strip passes through the particular anode group. How to form.
【請求項16】 請求項12の方法により製造されるプ
リント配線回路。
16. A printed wiring circuit manufactured by the method of claim 12.
【請求項17】 非導電性の電気絶縁性基板にプリント
配線回路を形成する方法であって、該方法は、 a)上部に導電性層を被覆させた柔軟な非導電性材料の
細長いストリップを提供するステップと、 b)メッキレジストを該導電性層にプリントして、複数
のパターンと各パターンを互いに接続させるバンドとを
露出させて残し、該ストリップの長さに沿って延びる該
導電性層の連続した露出領域を形成するステップと、 c)上部にパターンを有する該ストリップを所定の通路
に沿って移動させるステップであって、該ストリップは
先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置された複数の
アノードを通って移動し、次に該電解溶液の外側に位置
する導電性カソード表面の上を通り、このとき、該スト
リップ上の導電性層の該露出領域は該電解溶液中の該ア
ノードに対向し、また該導電性カソード表面に係合す
る、ステップと、 d)1つ以上の隣接するアノードからなるグループを異
なるレベルで電気的に活性化するステップであって、連
続する各々のアノードグループは先行するグループより
高い活性化レベルを有する、ステップと、を包含する、
プリント配線回路を形成する方法。
17. A method of forming a printed circuit on a non-conductive, electrically insulating substrate, comprising: a) forming an elongate strip of a flexible, non-conductive material having a conductive layer coated thereon. B) printing a plating resist on the conductive layer, exposing the conductive layer extending along the length of the strip, leaving exposed a plurality of patterns and bands connecting each pattern to each other. C) moving the strip having a pattern on top along a predetermined path, wherein the strip is first placed in the electrolytic solution via the electrolytic solution. Through the plurality of anodes, and then over the conductive cathode surface located outside the electrolytic solution, where the exposed areas of the conductive layer on the strip are exposed to the electrolyte. Opposing the anode in solution and engaging the conductive cathode surface; and d) electrically activating different groups of one or more adjacent anodes at different levels, Wherein each successive anode group has a higher activation level than the preceding group, comprising:
A method for forming a printed wiring circuit.
【請求項18】 d)前記メッキレジストを取り除くス
テップと、 e)前記導電性層を前記基板のパターンが形成されてい
ない領域からエッチングにより取り除くステップと、を
さらに包含する、請求項17に記載のプリント配線回路
を形成する方法。
18. The method of claim 17, further comprising: d) removing the plating resist; and e) etching away the conductive layer from an unpatterned region of the substrate. A method for forming a printed wiring circuit.
【請求項19】 特定のアノードグループの活性化レベ
ルが、前記ストリップが該特定のアノードグループを通
過するときの前記露出金属の電流伝導容量に基づく、請
求項17に記載のプリント配線回路を形成する方法。
19. The printed circuit of claim 17, wherein the activation level of a particular anode group is based on the current carrying capacity of the exposed metal as the strip passes through the particular anode group. Method.
【請求項20】 請求項17の方法により製造されるプ
リント配線回路。
20. A printed wiring circuit manufactured by the method according to claim 17.
【請求項21】 非導電性の電気絶縁性基板にプリント
配線回路を形成する方法であって、該方法は、 a)柔軟な非導電性材料の細長いストリップの一方の側
の導電性材料層にメッキレジストをプリントし、該スト
リップの長さに沿った該導電性層の連続領域を露出させ
て残すステップであって、該領域は、複数のプリント配
線回路パターンを含む、ステップと、 b)上部にプリント配線回路を有する該ストリップを所
定の通路に沿って移動させるステップであって、該スト
リップは先ず電解溶液を介して該電解溶液内に配置され
た複数のアノードを通って移動し、次に該電解溶液の外
側に位置する導電性カソード表面の上を通り、このと
き、該ストリップ上の該導電性層の該連続領域は該電解
溶液中の該アノードに対向し、また該導電性カソード表
面に係合する、ステップと、 c)1つ以上の隣接するアノードからなるグループを異
なるレベルで電気的に活性化するステップであって、連
続する各々のアノードグループは先行するグループより
高い活性化レベルを有する、ステップと、を包含するプ
リント配線回路を形成する方法。
21. A method of forming a printed circuit on a non-conductive, electrically insulating substrate, comprising: a) forming a layer of conductive material on one side of an elongated strip of flexible non-conductive material; Printing a plating resist to expose and leave a continuous area of the conductive layer along the length of the strip, the area including a plurality of printed wiring circuit patterns; Moving the strip having printed wiring circuits along a predetermined path, the strip first moving through the electrolyte through a plurality of anodes disposed in the electrolyte, and then Passing over a conductive cathode surface located outside the electrolyte, wherein the continuous region of the conductive layer on the strip faces the anode in the electrolyte and the conductive cathode C) electrically activating a group of one or more adjacent anodes at different levels, each successive anode group being higher than the preceding group. Having an activation level.
【請求項22】 前記プリント配線回路を互いに切り離
すステップをさらに包含する請求項21に記載のプリン
ト配線回路を形成する方法。
22. The method of claim 21, further comprising the step of disconnecting the printed circuit from each other.
【請求項23】 特定のアノードグループの活性化レベ
ルが、前記ストリップが該特定のアノードグループを通
過するときの前記連続領域の前記金属の電流伝導容量に
基づく、請求項21に記載のプリント配線回路を形成す
る方法。
23. The printed circuit of claim 21, wherein the activation level of a particular anode group is based on the current carrying capacity of the metal in the continuous region as the strip passes through the particular anode group. How to form.
【請求項24】 請求項21の方法により製造されるプ
リント配線回路。
24. A printed circuit manufactured by the method of claim 21.
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