JP2000048558A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JP2000048558A
JP2000048558A JP31215398A JP31215398A JP2000048558A JP 2000048558 A JP2000048558 A JP 2000048558A JP 31215398 A JP31215398 A JP 31215398A JP 31215398 A JP31215398 A JP 31215398A JP 2000048558 A JP2000048558 A JP 2000048558A
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JP
Japan
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column
data
block
signal
memory
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Withdrawn
Application number
JP31215398A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Tomishima
茂樹 冨嶋
Tsukasa Oishi
司 大石
Hiroshi Kato
宏 加藤
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device in which data in a desired bit width is generated without increasing an area occupied by an array and without lowering the access of a column. SOLUTION: A memory array is divided into a plurality of memory subblocks MSB's in the row direction and the column direction. A column selection line S10a and a column selection line S10b are arranged in an interblock region AR0 to an interblock region ARm+1 so as to be extened in the column direction. Block decoding circuits DEC's which generate local column selection signals are arranged so as to correspond to the memory subblocks MSB's. A main I/O line pair group MIOG0 to a main I/O line pair group MIOGm are arranged and installed on the memory subblock; MSB's, Respective columns of the memory subblocks MSB's are connected to the corresponding main I/O line pairs according to the local column selection signals.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、特に、データビット幅を容易に拡張することがで
きかつ高速データアクセスを実現することのできるメモ
リアレイの構成に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a configuration of a memory array capable of easily expanding a data bit width and realizing high-speed data access.

【0002】[0002]

【従来の技術】図52は、従来の64Mビットの記憶容
量を有する半導体記憶装置(DRAM:ダイナミック・
ランダム・アクセス・メモリ)のアレイマットの配置を
概略的に示す図である。図52において、半導体記憶装
置CHは、それぞれが16Mビットの記憶容量を有する
4つのメモリマットMTa〜MTdを含む。これらのメ
モリマットMTa〜MTdの間の中央領域に、周辺回路
PHa〜PHcが配置される。周辺回路PHaは、メモ
リマットMTa〜MTdに対するアクセス動作を制御す
る回路を含む。周辺回路PHbおよびPHcは、データ
入出力回路および外部信号入力回路を含み、周辺回路P
Haに対する内部信号を生成する。
2. Description of the Related Art FIG. 52 shows a conventional semiconductor memory device (DRAM: dynamic memory) having a storage capacity of 64 Mbits.
FIG. 2 is a diagram schematically showing an arrangement of an array mat of a random access memory. In FIG. 52, the semiconductor memory device CH includes four memory mats MTa to MTd each having a storage capacity of 16 M bits. Peripheral circuits PHa to PHc are arranged in a central area between these memory mats MTa to MTd. Peripheral circuit PHa includes a circuit that controls an access operation to memory mats MTa to MTd. Peripheral circuits PHb and PHc include a data input / output circuit and an external signal input circuit.
Generate an internal signal for Ha.

【0003】図52に示すように、メモリアレイを、4
つのメモリマットMTa〜MTdに分割して配置するこ
とにより、メモリセル行に対応して配置されるワード線
およびメモリセル列に対応して配置されるビット線の長
さを短くし、高速のメモリセル選択動作の実現を図る。
[0003] As shown in FIG.
By dividing memory mats MTa to MTd and arranging them, the lengths of word lines arranged corresponding to memory cell rows and bit lines arranged corresponding to memory cell columns are shortened, and high-speed memory A cell selection operation is realized.

【0004】図53は、図52に示すメモリマットMT
a〜MTdの構成を示す図である。図53においては、
1つのメモリマットMTを示す。図53に示すように、
メモリマットMTは、ワード線シャント領域WSにより
行方向に沿って16個のメモリサブブロックMSBに分
割され、また列方向に沿ってセンスアンプ帯SABによ
り32個のメモリサブブロックMSBに分割される。メ
モリマットMTの列方向についての一方側に配置される
コラムデコーダCDから延在して、列方向に整列して配
置されるメモリサブブロックMSBに共通にコラム選択
線CSLが配設され、このコラム選択線CSL上にコラ
ムデコーダCDからの列選択信号が伝達される。ここ
で、ワード線シャント領域は、メモリセルが接続される
比較的高抵抗のたとえばポリシリコンで構成されるゲー
ト電極層と、その上層のたとえばアルミニウムで構成さ
れる低抵抗導電層とが電気的に接続される領域を示す。
このワード線シャント領域WSにおいて、上層の低抵抗
導電体と下層のゲート電極層とを接続することにより、
ワード線の抵抗を等価的に低減する。センスアンプ帯S
ABは、メモリサブブロックMSBの各列に対応して配
置されるセンスアンプ回路を含み、活性化時対応の列の
メモリセルデータの検知、増幅およびラッチを行なう。
FIG. 53 shows a memory mat MT shown in FIG.
It is a figure showing composition of a-MTd. In FIG. 53,
One memory mat MT is shown. As shown in FIG.
The memory mat MT is divided into 16 memory sub-blocks MSB along the row direction by the word line shunt region WS, and is divided into 32 memory sub-blocks MSB by the sense amplifier band SAB along the column direction. A column selection line CSL extending from a column decoder CD arranged on one side of the memory mat MT in the column direction and shared by memory sub-blocks MSB arranged in the column direction is provided. A column select signal from column decoder CD is transmitted onto select line CSL. Here, the word line shunt region is electrically connected to a relatively high-resistance gate electrode layer made of, for example, polysilicon, to which a memory cell is connected, and a lower-resistance conductive layer made of, for example, aluminum on the gate electrode layer. Indicates the area to be connected.
In this word line shunt region WS, by connecting the upper low-resistance conductor and the lower gate electrode layer,
The resistance of the word line is reduced equivalently. Sense amplifier band S
AB includes a sense amplifier circuit arranged corresponding to each column of memory sub-block MSB, and detects, amplifies and latches memory cell data in the corresponding column when activated.

【0005】このメモリマットMTは、16・32=5
12個のメモリサブブロックMSBに分割される。メモ
リサブブロックMSBは、256行・128列に配置さ
れる32K個のメモリセルを備える。メモリマットMT
を複数のメモリサブブロックMSBに分割することによ
り、選択メモリセルを含むメモリサブブロックのみを駆
動して消費電流の低減を図り、また各選択メモリサブブ
ロックにおけるビット線(メモリセル列)に接続するメ
モリセルの数を低減し、応じてビット線容量を小さくし
て、メモリセル選択時にビット線上に現われる読出電圧
を大きくする。
[0005] This memory mat MT is 16 · 32 = 5.
It is divided into 12 memory sub-blocks MSB. The memory sub-block MSB includes 32K memory cells arranged in 256 rows and 128 columns. Memory mat MT
Is divided into a plurality of memory sub-blocks MSB, so that only the memory sub-blocks including the selected memory cell are driven to reduce current consumption, and are connected to bit lines (memory cell columns) in each selected memory sub-block. The number of memory cells is reduced, the bit line capacitance is correspondingly reduced, and the read voltage appearing on the bit lines when a memory cell is selected is increased.

【0006】図54は、図53に示すメモリマットMT
のより詳細構成を示す図である。図54においては、メ
モリマットMTに含まれる2つのメモリサブブロックM
SBaおよびMSBbを示す。これらの行方向に沿って
整列する2つのメモリサブブロックMSBaおよびMS
Bbに共通にローカルI/O線対LIOa〜LIOdが
設けられる。これらのローカルI/O線対LIOa〜L
IOdは、メモリサブブロックMSBaおよびMSBb
に沿って列方向に延在して配置され、図示しない隣接メ
モリサブブロックにおいては、別のローカルI/O線対
が配置される。
FIG. 54 shows a memory mat MT shown in FIG.
FIG. 3 is a diagram showing a more detailed configuration of FIG. In FIG. 54, two memory sub-blocks M included in memory mat MT
Shown are SBa and MSBb. Two memory sub-blocks MSBa and MS aligned along these row directions
Local I / O line pairs LIOa to LIOd are provided commonly to Bb. These local I / O line pairs LIOa-L
IOd is the memory sub-block MSBa and MSBb
, And another local I / O line pair is arranged in an adjacent memory sub-block (not shown).

【0007】メモリサブブロックMSBaおよびMSB
bの間の領域、すなわちワード線シャント領域WSが、
列方向に沿って延在して配置されており、このワード線
シャント領域WSに、メインI/O線対MIOa〜MI
Odが配置される。これらのメインI/O線対MIOa
〜MIOdは、列方向に沿って整列して配置されるメモ
リサブブロックに共通に設けられる。図示しないロウデ
コーダにより選択されたメモリサブブロックに対して設
けられたローカルI/O線対がメインI/O線対に接続
される。
Memory sub-blocks MSBa and MSB
b, that is, the word line shunt region WS
In the word line shunt region WS, main I / O line pairs MIOa-MI
Od is placed. These main I / O line pairs MIOa
To MIOd are provided commonly to memory sub-blocks arranged in line in the column direction. A local I / O line pair provided for a memory sub-block selected by a row decoder (not shown) is connected to a main I / O line pair.

【0008】コラムデコーダCDに含まれるコラムデコ
ード回路CDKからの列選択信号が、列方向に沿ってメ
モリサブブロック上にわたって延在して配置されるコラ
ム選択線CSL上に伝達される。コラム選択線CSL
は、この列方向に沿って整列して配置されるメモリサブ
ブロックに共通に設けられ、これらのメモリサブブロッ
クに対し列選択信号を伝達する。メインI/O線対MI
Oa〜MIOdそれぞれに対し、活性化時メインI/O
線対上のデータの増幅動作を行なうメインアンプMAP
a〜MAPdが設けられる。
A column select signal from a column decode circuit CDK included in column decoder CD is transmitted onto a column select line CSL extending over the memory sub-blocks in the column direction. Column select line CSL
Are commonly provided to memory sub-blocks arranged in line along the column direction, and transmit a column selection signal to these memory sub-blocks. Main I / O line pair MI
Main I / O at the time of activation for each of Oa to MIOd
Main amplifier MAP for amplifying data on line pair
a to MAPd are provided.

【0009】この図54に示す配置において、コラム選
択線CSLが選択されると、メモリサブブロックMSB
bにおいて、4列のメモリセルが選択され、各列が、そ
れぞれローカルI/O線LIOa〜LIOdに接続さ
れ、次いでメインI/O線対MIOa〜MIOdに接続
される。
In the arrangement shown in FIG. 54, when column select line CSL is selected, memory sub-block MSB
In b, four columns of memory cells are selected, and each column is connected to a local I / O line LIOa to LIOd, respectively, and then connected to a main I / O line pair MIOa to MIOd.

【0010】図54に示す配置が、行方向に沿って8個
設けられる。1つのコラム選択線CSLにより、4つの
センスアンプ(列)が選択されてローカルI/O線対に
接続される4ウェイ方式の場合、16個のメモリサブブ
ロックにおいて8個のメモリサブブロックがローカルI
/O線対を介してメインI/O線対に接続されるため、
合計4・8=32ビットのデータを同時に選択すること
ができる。この場合、行方向に沿っては、センスアンプ
が2K(=128・16)個設けられており、各センス
アンプに、メモリセルデータがラッチされている。した
がって、2Kビットのデータから、コラムアドレスによ
り指定された32ビットのデータが選択される。
Eight arrangements shown in FIG. 54 are provided along the row direction. In the case of a four-way system in which four sense amplifiers (columns) are selected by one column selection line CSL and connected to a local I / O line pair, eight memory sub-blocks out of sixteen memory sub-blocks are local I
Connected to the main I / O line pair via the / O line pair,
A total of 4.8 = 32 bits of data can be selected simultaneously. In this case, 2K (= 128 · 16) sense amplifiers are provided along the row direction, and memory cell data is latched in each sense amplifier. Therefore, 32-bit data specified by the column address is selected from the 2K-bit data.

【0011】図52に示すように、このメモリマットM
Tは、半導体記憶装置内部において4つ設けられてお
り、したがって、チップ内部においては、128ビット
ワードのデータの転送を行なうことができる。各マット
がバンクとして用いられる場合、1バンク当り32ビッ
トワード構成のデータが入出力される。
As shown in FIG. 52, this memory mat M
Four Ts are provided inside the semiconductor memory device, so that 128-bit word data can be transferred inside the chip. When each mat is used as a bank, 32-bit word data is input / output per bank.

【0012】図55は、従来の256MビットDRAM
のマットの配置を概略的に示す図である。図55におい
て、このDRAMは、行方向に整列して配置されるメモ
リマットMT0〜MT7と、これらのメモリマットMT
0〜MT7と対向して配置されるメモリマットMT8〜
MT15を含む。メモリマットMT0〜MT7とメモリ
マットMT8〜MT15の間の領域には、行方向に沿っ
て周辺回路PHが配置される。この周辺回路PHは、デ
ータ入出力回路、ならびにアドレス信号および外部制御
信号入力回路を含む。
FIG. 55 shows a conventional 256 Mbit DRAM.
It is a figure which shows schematically the arrangement | positioning of the mat of FIG. In FIG. 55, this DRAM includes memory mats MT0 to MT7 arranged in the row direction and memory mats MT0 to MT7.
0 to MT7 and memory mats MT8 to
MT15. In a region between memory mats MT0 to MT7 and memory mats MT8 to MT15, peripheral circuits PH are arranged along the row direction. Peripheral circuit PH includes a data input / output circuit, and an address signal and external control signal input circuit.

【0013】メモリマットMT0〜MT15の各々は、
16Mビットの記憶容量を備える。隣接するメモリマッ
トの間に、メインワードドライバ群MWDが配置され
る。256MビットDRAMにおいては、高速でワード
線を選択状態へ駆動するため、ワード線は、メインワー
ド線およびサブワード線の階層構造を有する。サブワー
ド線にメモリセルが接続され、メインワード線にはメモ
リセルが接続しない。メインワード線とサブワード線の
間にはサブワード線ドライバが配置される。負荷容量の
小さなメインワード線を高速で選択状態へ駆動し、応じ
て、その終端に設けられたサブワード線も高速で選択状
態へ駆動する。
Each of the memory mats MT0 to MT15 is
It has a storage capacity of 16 Mbits. Main word driver group MWD is arranged between adjacent memory mats. In a 256 Mbit DRAM, a word line has a hierarchical structure of a main word line and a sub word line in order to drive a word line to a selected state at high speed. A memory cell is connected to the sub-word line, and no memory cell is connected to the main word line. A sub word line driver is arranged between the main word line and the sub word line. The main word line having a small load capacity is driven to the selected state at high speed, and the sub word line provided at the end thereof is driven to the selected state at high speed.

【0014】この図55に示すメモリマットMT0〜M
T15各々は、それぞれ、先の図53および図54に示
すメモリマットと同様、行方向および列方向に複数のメ
モリサブブロックMSBに分割される。サブワード線ド
ライブ回路が設けられるため、メモリサブブロックのサ
イズが大きくなり、メモリサブブロックは、先の図53
および図54に示す構成に代えて2倍の128Kビット
(512行・256列)の記憶容量を備える。したがっ
て、メモリマットMT(MT0〜MT15)は、それぞ
れ、行方向に沿って8個のメモリサブブロックに分割さ
れる。ローカルI/O線対およびグローバルI/O線対
の配置は、図54に示す構成と同じである。したがっ
て、1つのマットにおいて、4・4=16ビットのメモ
リセルが選択されてデータの入出力が行なわれる。この
図55に示すDRAMが、4バンク構成の場合、1つの
バンクが、4つのメモリマットで構成されるため、1バ
ンク当り64ビットワード構成のデータを入出力するこ
とができる。
The memory mats MT0 to MT shown in FIG.
Each of T15 is divided into a plurality of memory sub-blocks MSB in the row and column directions, similarly to the memory mats shown in FIGS. 53 and 54, respectively. Since the sub-word line drive circuit is provided, the size of the memory sub-block increases, and the memory sub-block is
54, and has twice the storage capacity of 128 K bits (512 rows and 256 columns) in place of the configuration shown in FIG. Therefore, each of the memory mats MT (MT0 to MT15) is divided into eight memory sub blocks along the row direction. The arrangement of the local I / O line pairs and the global I / O line pairs is the same as the configuration shown in FIG. Therefore, in one mat, a memory cell of 4/4 = 16 bits is selected to input / output data. When the DRAM shown in FIG. 55 has a four-bank configuration, one bank is composed of four memory mats, so that data of a 64-bit word configuration can be input / output per bank.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】従来の半導体記憶装置
(DRAM)においては、ワード線シャント領域または
サブワード線ドライバ領域に配置されたメインI/O線
対を介してデータの入出力が行なわれる。DRAM外部
に設けられたプロセッサとDRAMとの間で高速でデー
タ転送を行なうためには、できるだけ、データビット幅
が広いのが望ましい。1つのデータ転送サイクルで、数
多くのデータワードを転送することができる。しかしな
がら、従来のDRAMにおいては、データワードのビッ
ト幅を十分に大きくすることができないという問題があ
る。
In a conventional semiconductor memory device (DRAM), data is input / output via a main I / O line pair arranged in a word line shunt region or a sub word line driver region. In order to perform high-speed data transfer between the DRAM and a processor provided outside the DRAM, it is desirable that the data bit width be as wide as possible. Many data words can be transferred in one data transfer cycle. However, the conventional DRAM has a problem that the bit width of a data word cannot be sufficiently increased.

【0016】通常、SDRAM(シンクロナスDRA
M)においては4バンク、RDRAM(ランバスDRA
M)においては16バンク、およびSLDRAM(シン
クリンクDRAM)においては8バンクが設けられる。
これらの多バンク構成により、ページ境界アクセス時に
おいて選択ワード線を非選択状態へ駆動した後、別のワ
ード線(行)を選択状態へ駆動するという動作によるア
クセス時間増大をなくすことを図る。すなわち、複数の
バンクをインターリーブ態様で順次活性状態へ駆動し、
ページ切換え時、別のバンクへアクセスすることによ
り、ページ切換え時におけるアクセス時間増大を伴うこ
となく連続的にアクセスする。バンクの数が多ければ、
行選択動作に複数のクロックサイクルが必要とされる場
合においても、順次バンクを選択状態へ駆動することに
より、各クロックサイクルごとにバンクアクセスを行な
うことができ、高速のクロック信号に従って、DRAM
を動作させることができる。
Normally, SDRAM (synchronous DRA)
M), 4 banks, RDRAM (Ranbus DRA)
M), 16 banks are provided, and in an SLDRAM (sync link DRAM), 8 banks are provided.
With such a multi-bank configuration, an increase in access time due to an operation of driving another word line (row) to a selected state after driving a selected word line to a non-selected state at the time of page boundary access is eliminated. That is, the plurality of banks are sequentially driven to an active state in an interleaved manner,
At the time of page switching, by accessing another bank, continuous access is performed without increasing access time at the time of page switching. If there are many banks,
Even when a plurality of clock cycles are required for the row selection operation, the banks can be accessed in each clock cycle by sequentially driving the banks to the selected state, and the DRAM can be accessed in accordance with a high-speed clock signal.
Can be operated.

【0017】したがって、近年この半導体記憶装置に設
けられるバンクの数が増加する傾向にある。バンクの数
が増加すれば、1つのバンクに割当てられるメモリセル
の数が低減され、十分なビット幅を1つのデータに割当
てるのが困難になる(ビット幅を増大すれば、1つのバ
ンクに格納されるワード数が低減される)。たとえば、
図55に示すDRAMが4バンク構成の場合、1バンク
に対して64ビットワード構成のデータのアクセスを行
なうことができる。しかしながら、8バンク構成とした
場合、2つのメモリマットからメモリセルが選択される
だけであるため、1バンク当り32ビットワード構成の
データにしか対応できなくなる。
Therefore, in recent years, the number of banks provided in the semiconductor memory device has been increasing. As the number of banks increases, the number of memory cells allocated to one bank decreases, and it becomes difficult to allocate a sufficient bit width to one data. The number of words performed is reduced). For example,
When the DRAM shown in FIG. 55 has a 4-bank configuration, data access of a 64-bit word configuration can be performed for one bank. However, in the case of an 8-bank configuration, only memory cells are selected from two memory mats, so that only data of a 32-bit word configuration per bank can be handled.

【0018】また、プロセッサとDRAMとの間での高
速データ転送を実現するために、一般に、内部で複数個
のデータがプリフェッチされる。このプリフェッチされ
たデータがクロック信号に同期して順次伝送される。
In order to realize high-speed data transfer between a processor and a DRAM, a plurality of data are generally prefetched internally. The prefetched data is sequentially transmitted in synchronization with the clock signal.

【0019】図56は、従来のクロック同期型半導体記
憶装置(シンクロナスDRAM)のデータ読出部の構成
を概略的に示す図である。図56においては、メモリバ
ンクBKから同時に読出される複数のデータがラッチ回
路LKにラッチされる。ラッチ回路LKは、選択信号φ
selに従って、このラッチしたデータを順次転送回路
TKへ与える。転送回路TKは、クロック信号CLKに
同期してラッチ回路LKから与えられたデータを転送し
て、図示しない出力回路を介して出力する。
FIG. 56 schematically shows a structure of a data reading unit of a conventional clock synchronous semiconductor memory device (synchronous DRAM). In FIG. 56, a plurality of data read simultaneously from memory bank BK are latched by latch circuit LK. The latch circuit LK outputs the selection signal φ
The latched data is sequentially applied to the transfer circuit TK according to sel. The transfer circuit TK transfers data provided from the latch circuit LK in synchronization with the clock signal CLK and outputs the data via an output circuit (not shown).

【0020】通常、メモリバンクBK(1つまたは複数
のメモリマット)においてセンスアンプからラッチ回路
LKにまでデータを転送する経路(センスアンプでラッ
チされたデータを内部のメインI/O線対を介してメイ
ンアンプに伝達する経路)が最も時間を要する。複数の
データをラッチ回路LKへ同時に転送して、クロック信
号CLKに同期して順次選択して出力することにより、
このメモリバンクBKからラッチ回路LKまでのデータ
転送における最悪遅延を見かけ上なくすことができる。
データ転送速度を高くするためには、このラッチ回路L
Kにおいて数多くのデータをラッチして順次転送するの
が望ましい。特に、近年のクロック同期型DRAMにお
いては、DDR(ダブル・データ・レート)方式でデー
タの入出力が行なわれており、クロック信号の立上がり
エッジおよび立下がりエッジ両者に同期して外部データ
の転送が行なわれる。このようなクロック信号の2倍の
速度でデータ転送を行なう場合、たとえば、ラッチ回路
LKを2つ設け、交互にラッチ回路にデータを転送して
ラッチさせ、次いで順次転送することにより、この最悪
遅延経路の影響を排除して高速でデータ転送を行なう。
このような高速データ転送において、多くのデータをプ
リフェッチするためには、メインI/O線対の数が一定
のためデータワードのビット数が制限される。したがっ
て、1回のクロックサイクルで外部に転送されるデータ
ワードのビット数が制限を受け、高速転送を実現するこ
とができなくなる。
Normally, a path for transferring data from a sense amplifier to a latch circuit LK in a memory bank BK (one or a plurality of memory mats) (data latched by a sense amplifier is transferred via an internal main I / O line pair). The path to the main amplifier) takes the most time. By simultaneously transferring a plurality of data to the latch circuit LK and sequentially selecting and outputting the data in synchronization with the clock signal CLK,
The worst delay in the data transfer from the memory bank BK to the latch circuit LK can be apparently eliminated.
In order to increase the data transfer speed, the latch circuit L
It is desirable that a large number of data be latched and sequentially transferred at K. In particular, in recent clock-synchronous DRAMs, data is input / output by a DDR (double data rate) method, and external data is transferred in synchronization with both rising and falling edges of a clock signal. Done. When data transfer is performed at twice the speed of such a clock signal, for example, two worst delays are provided by providing two latch circuits LK, transferring data to the latch circuits alternately and latching the data, and then sequentially transferring the data. Data transfer is performed at high speed by eliminating the influence of the route.
In such high-speed data transfer, to prefetch a large amount of data, the number of data word bits is limited because the number of main I / O line pairs is constant. Therefore, the number of bits of a data word transferred to the outside in one clock cycle is limited, and high-speed transfer cannot be realized.

【0021】また、プロセス技術の進歩により設計ルー
ルは微細化されているものの、記憶容量の増大に伴って
チップサイズは増加する傾向にある。チップサイズをで
きるだけ小さくし、コストを低減するために、ビット線
およびワード線の分割単位を大きくしてメモリサブブロ
ックの記憶容量を大きくし、メモリセル以外の回路の数
を低減し、周辺回路の占有面積を低減することが行なわ
れている。ビット線およびワード線の分割単位を大きく
することは、メモリサブブロックの記憶容量を大きく
し、またブロック間領域、すなわちメインI/O線対が
配置される領域を少なくすることと等価である。したが
って、メモリマットのサイズが大きくなり、一度に活性
化されるセンスアンプの数が増加し、一度にラッチされ
るデータビット数が増加しても、このメインI/O線対
の数により、メモリアレイ外部に転送することのできる
データビット数は制限される。これを解決するために、
ローカルI/O線対およびメインI/O線対の配置領
域、すなわちセンスアンプ帯およびサブワード線ドライ
バなどのレイアウト面積を増加させて、配線数を大きく
することが考えられる。しかしながら、この場合、明ら
かに、レイアウト面積増加によりチップサイズが増加す
る。
Although the design rules have been refined due to the progress of process technology, the chip size tends to increase as the storage capacity increases. In order to reduce the chip size as much as possible and reduce the cost, increase the storage capacity of the memory sub-block by increasing the division unit of the bit lines and word lines, reduce the number of circuits other than memory cells, and Reduction of the occupied area has been performed. Increasing the division unit of the bit line and the word line is equivalent to increasing the storage capacity of the memory sub-block and reducing the area between blocks, ie, the area where the main I / O line pair is arranged. Therefore, even if the size of the memory mat increases, the number of sense amplifiers activated at a time increases, and the number of data bits latched at a time increases, the number of main I / O line pairs increases the memory capacity. The number of data bits that can be transferred outside the array is limited. To solve this,
It is conceivable to increase the layout area of the local I / O line pairs and the main I / O line pairs, that is, the layout area of the sense amplifier band, the sub-word line driver, and the like to increase the number of wirings. However, in this case, the chip size obviously increases due to the increase in the layout area.

【0022】したがって、従来の半導体記憶装置のアレ
イ構成では、十分なビット幅のデータワードを生成する
ことができず、高速データ転送を実現することができな
くなるという問題が生じる。
Therefore, in the conventional array structure of the semiconductor memory device, a data word having a sufficient bit width cannot be generated, and a problem arises in that high-speed data transfer cannot be realized.

【0023】また、記憶容量が増加すると、メモリマッ
トのサイズも大きくなり、列延在方向についての長さも
長くなる。今、図57に示すように、1つのメモリマッ
トにおいて、コラムデコーダから最も遠く離れたメモリ
サブブロックMSB0とコラムデコーダに最も近いメモ
リサブブロックMSBnを考える。これらのメモリサブ
ブロックMSB0およびMSBnは、列方向に整列して
配置され、図示しないコラムデコーダからの列選択信号
を伝達するコラム選択線CSLを共有する。これらのメ
モリサブブロックMSB0およびMSBnそれぞれに対
してローカルI/O線対LIO0およびLIOnが設け
られ、またこれらのメモリサブブロックMSB0および
MSBnに共通に、メインI/O線対MIOが配置され
る。メインI/O線対MIOには、メインアンプMAP
およびライトドライバWRDが設けられる。
As the storage capacity increases, the size of the memory mat also increases, and the length in the column extending direction also increases. Now, as shown in FIG. 57, in one memory mat, a memory sub-block MSB0 farthest from the column decoder and a memory sub-block MSBn closest to the column decoder are considered. These memory sub-blocks MSB0 and MSBn are arranged aligned in the column direction and share a column selection line CSL for transmitting a column selection signal from a column decoder (not shown). Local I / O line pairs LIO0 and LIOn are provided for memory sub-blocks MSB0 and MSBn, respectively, and main I / O line pair MIO is arranged commonly to these memory sub-blocks MSB0 and MSBn. The main amplifier MAP is connected to the main I / O line pair MIO.
And a write driver WRD.

【0024】同期型半導体記憶装置においては、データ
の読出/書込は、リード/ライトコマンドと列アドレス
を同時に与えることにより行なわれる。データ書込時に
おいては、ライトドライバWRDが活性化され、書込デ
ータをメインI/O線対MIO上に伝達する。メモリサ
ブブロックMSB0にデータを書込む場合には、このラ
イトドライバWRDの伝達するデータがメモリサブブロ
ックMSB0内に設けられたセンスアンプに伝達され
る。同様、メモリサブブロックMSBnへのデータ書込
時には、メモリサブブロックMSBnに設けられたセン
スアンプへライトドライバWRDからの書込データが転
送される。このメインI/O線対MIOの配線容量およ
び配線抵抗により、信号伝搬遅延Tdが存在する。記憶
容量が増加し、メモリマットの列方向のサイズが大きく
なった場合、応じてメインI/O線対の長さも長くな
り、信号伝搬遅延Tdも長くなる。したがって、データ
書込に要する時間は、最悪ケースで決定されるため、ラ
イトドライバWRDが活性化されてから、少なくとも遅
延時間Td時間経過後でなければ、書込動作を完了する
ことはできない(実際には、センスアンプとメインI/
O線対との間の信号伝搬遅延も考慮する)。次の動作モ
ードを指示するコマンドは、このデータ書込完了後に与
える必要がある。データ読出時において、メインアンプ
MAPに読出データが伝達される場合も同様であり、遅
延時間Tdにより、読出に要する時間が決定され、いわ
ゆるCASレイテンシの長さを短くすることができなく
なるという問題が生ずる。これは、図56において、メ
モリバンクBKからラッチ回路LKへの転送経路におけ
る信号伝搬時間が長くなり、高速のデータ読出を行なう
ことができなくなることを意味する。
In a synchronous semiconductor memory device, data read / write is performed by simultaneously giving a read / write command and a column address. At the time of data writing, write driver WRD is activated to transmit write data onto main I / O line pair MIO. When writing data to memory sub-block MSB0, data transmitted by write driver WRD is transmitted to a sense amplifier provided in memory sub-block MSB0. Similarly, when writing data to memory sub-block MSBn, write data from write driver WRD is transferred to a sense amplifier provided in memory sub-block MSBn. There is a signal propagation delay Td due to the wiring capacitance and wiring resistance of this main I / O line pair MIO. When the storage capacity increases and the size of the memory mat in the column direction increases, the length of the main I / O line pair correspondingly increases, and the signal propagation delay Td also increases. Therefore, since the time required for data writing is determined in the worst case, the writing operation cannot be completed unless at least the delay time Td has elapsed since the activation of write driver WRD (actually, Has a sense amplifier and a main I /
Also consider the signal propagation delay between the O line pair). A command designating the next operation mode needs to be given after the completion of the data writing. The same applies to the case where read data is transmitted to the main amplifier MAP at the time of data reading, and the time required for reading is determined by the delay time Td, which makes it impossible to shorten the so-called CAS latency. Occurs. This means that in FIG. 56, the signal propagation time in the transfer path from the memory bank BK to the latch circuit LK becomes longer, and high-speed data reading cannot be performed.

【0025】それゆえ、この発明の目的は、高速データ
転送を実現することのできる半導体記憶装置を提供する
ことである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of realizing high-speed data transfer.

【0026】この発明の他の目的は、チップサイズを増
加させることなく同時にチップ内部で転送することので
きるデータビット数を大幅に増加することのできる半導
体記憶装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of greatly increasing the number of data bits that can be simultaneously transferred inside a chip without increasing the chip size.

【0027】この発明のさらに他の目的は、任意のビッ
ト幅のデータワードを高速で転送することのできるマル
チバンク半導体記憶装置を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a multi-bank semiconductor memory device capable of transferring a data word having an arbitrary bit width at a high speed.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、行列状に配列される複数のメモリセルを各々
が有しかつ行および列方向に整列して配置される複数の
メモリブロックを有するメモリアレイと、メモリアレイ
外部およびメモリブロック間領域それぞれに列方向に沿
って延在して配置されて列選択信号を伝達する複数の列
選択線と、メモリブロック上にわたって列方向に延在し
て配置されかつ列ブロックに対応してグループ化される
複数の内部データ線と、メモリブロックに対応して配置
され、各々が列選択線上の列選択信号に従って対応のメ
モリブロックの列を選択して対応のグループの内部デー
タ線に接続する列選択回路を含む。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a plurality of memory blocks each having a plurality of memory cells arranged in a matrix and arranged in a row and column direction. , A plurality of column selection lines extending in the column direction to extend outside the memory array and between the memory blocks, respectively, and transmitting a column selection signal, and extending in the column direction over the memory block A plurality of internal data lines arranged and grouped corresponding to a column block, and each corresponding to a memory block, each of which selects a column of a corresponding memory block according to a column selection signal on a column selection line. Column selection circuit connected to the internal data line of the corresponding group.

【0029】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1の列選択回路の各々が、メモリブロック間領域および
メモリアレイ外部領域に配置され、行方向に整列して配
置されるメモリブロックを指定する行ブロック指定信号
と対応の列選択線上の列選択信号とに従って対応のメモ
リブロックに対する列選択信号を生成するデコード回路
を含む。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, each of the column selection circuits of the first aspect is arranged in a region between memory blocks and an external region of the memory array, and designates a memory block arranged in a row direction. A decoding circuit for generating a column selection signal for a corresponding memory block according to a row block designation signal to be performed and a column selection signal on a corresponding column selection line.

【0030】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
2のデコード回路の各々が、対応の領域の行方向に沿っ
て両側に配置されるメモリブロックに設けられる列選択
回路により共有される。
In the semiconductor memory device according to the third aspect, each of the decode circuits according to the second aspect is shared by a column selection circuit provided in a memory block disposed on both sides along a row direction of a corresponding region.

【0031】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
1または2の列選択回路の各々は、対応のメモリブロッ
クの列方向に沿っての両側に分散配置される。
In the semiconductor memory device according to a fourth aspect, each of the column selection circuits according to the first or second aspect is dispersedly arranged on both sides of the corresponding memory block along the column direction.

【0032】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
1のメモリブロックは、少なくとも行方向に沿って配置
されるメモリブロックがバンクを構成し、列選択回路
は、バンクを特定するバンク指定信号の活性化時列選択
動作が能動化される。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, at least the memory block arranged along the row direction forms a bank, and the column selection circuit outputs a bank designating signal for specifying the bank. Is activated, the column selection operation is activated.

【0033】請求項6に係る半導体記憶装置は、請求項
1の記憶装置が、さらに、メモリアレイの列方向につい
ての一方側にメモリブロック間領域およびメモリアレイ
外部領域に各列選択信号グループに対応して配置され、
与えられた列アドレス信号に従って列選択信号を対応の
列選択線上に生成する複数の列デコード回路を含む。
A semiconductor memory device according to a sixth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, further comprising a column selection signal group corresponding to an inter-memory block area and a memory array external area on one side in the column direction of the memory array. And placed
A plurality of column decoding circuits for generating a column selection signal on a corresponding column selection line according to a given column address signal are included.

【0034】請求項7に係る半導体記憶装置は、請求項
6の複数の列デコード回路の各々が、各列ブロックに対
応してグループ化され、列ブロックを特定する列ブロッ
ク指定信号に従って活性化されて、与えられたアドレス
信号のデコードを行なって列選択信号を生成する。
According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, each of the plurality of column decode circuits of the sixth aspect is grouped corresponding to each column block, and is activated according to a column block designating signal for specifying the column block. Then, a given address signal is decoded to generate a column selection signal.

【0035】請求項8に係る半導体記憶装置は、請求項
2のデコード回路が、メモリブロックの行方向について
の両側に設けられ、互いに反対方向に列選択信号を伝達
する複数のデコーダを含む。
An eighth aspect of the present invention provides the semiconductor memory device, wherein the decoding circuit of the second aspect includes a plurality of decoders provided on both sides of the memory block in the row direction and transmitting column selection signals in mutually opposite directions.

【0036】請求項9に係る半導体記憶装置は、請求項
8の複数のデコーダが、共通の列選択線を駆動する。
According to a ninth aspect of the present invention, the plurality of decoders of the eighth aspect drive a common column selection line.

【0037】請求項10に係る半導体記憶装置は、請求
項8の記憶装置において、複数のメモリブロックのそれ
ぞれが、行方向について複数のグループに分割され、複
数のデコーダが、これら複数のグループそれぞれに対応
して設けられ、対応のグループに対し列選択信号を伝達
する。
According to a tenth aspect of the present invention, in the storage device of the eighth aspect, each of the plurality of memory blocks is divided into a plurality of groups in the row direction, and a plurality of decoders are provided in each of the plurality of groups. It is provided correspondingly and transmits a column selection signal to a corresponding group.

【0038】請求項11に係る半導体記憶装置は、請求
項2のデコード回路が、メモリブロック間領域およびメ
モリアレイ外部領域において列方向に沿って所定数のメ
モリブロックごとに配置されかつ隣接メモリブロック間
領域においてはブロックデコード回路の配置が異なる。
According to a eleventh aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, the decoding circuit of the second aspect is arranged for every predetermined number of memory blocks along the column direction in the inter-memory block region and the external region of the memory array. In the region, the arrangement of the block decode circuits differs.

【0039】請求項12に係る半導体記憶装置は、請求
項1の半導体記憶装置が、さらに、列ブロックに対応し
て設けられ、活性化時対応の列ブロックに対応して設け
られた内部データ線上のデータの増幅を行なう複数の読
出回路を含む。これら複数の読出回路各々は、内部デー
タ線に対応して設けられる複数の読出アンプを含む。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the first aspect of the present invention, wherein the semiconductor memory device is further provided corresponding to a column block, and provided on an internal data line provided corresponding to a column block corresponding to the activation. And a plurality of read circuits for amplifying the data. Each of the plurality of read circuits includes a plurality of read amplifiers provided corresponding to the internal data lines.

【0040】この請求項12の半導体記憶装置は、さら
に、内部データ線のグループを特定するデータグループ
特定信号に応答して、データグループ特定信号により指
定されたグループに対して設けられた読出アンプのデー
タをグローバルデータバスに読出すデータ選択回路をさ
らに備える。
The semiconductor memory device according to the twelfth aspect further includes a read amplifier provided for a group specified by the data group specifying signal in response to a data group specifying signal for specifying a group of internal data lines. A data selection circuit for reading data to the global data bus is further provided.

【0041】請求項13に係る半導体記憶装置は、請求
項1の半導体記憶装置が、さらに、メモリ列ブロックに
対応して設けられ、活性化時対応の列ブロックに対応し
て設けられた内部データ線とデータの授受を行なう複数
の書込/読出回路を含む。これら複数の書込/読出回路
の各々は、内部データ線それぞれに対応して設けられる
ライトドライバおよび読出アンプを含む。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor memory device according to the first aspect, further comprising an internal data provided corresponding to a memory column block and provided corresponding to a column block corresponding to the activation. Includes a plurality of write / read circuits for exchanging data with lines. Each of the plurality of write / read circuits includes a write driver and a read amplifier provided corresponding to each of the internal data lines.

【0042】この請求項13の半導体記憶装置は、さら
に、内部データ線のグループを特定するデータグループ
特定信号に従って、データグループ特定信号により指定
されたグループに対して設けられた書込/読出回路とグ
ローバルデータバスとの間のデータの授受を能動化する
ためのデータ選択回路を備える。
According to a thirteenth aspect of the present invention, the semiconductor memory device further includes a write / read circuit provided for a group specified by the data group specifying signal in accordance with a data group specifying signal for specifying a group of internal data lines. A data selection circuit is provided for activating data transfer with the global data bus.

【0043】請求項14に係る半導体記憶装置は、各々
が行列状に配列される複数のメモリセルを有しかつ互い
に独立にメモリセル行の選択/非選択を行なうことので
きる複数のバンクを備える。複数のバンクそれぞれは、
複数のサブバンクに分割される。
A semiconductor memory device according to a fourteenth aspect has a plurality of banks each having a plurality of memory cells arranged in a matrix and capable of independently selecting / deselecting a memory cell row. . Each of the multiple banks
It is divided into multiple sub-banks.

【0044】請求項14の半導体記憶装置は、さらに、
これら複数のバンク上にわたって列方向に沿って延在し
て配置される複数の内部データ線と、バンクおよびサブ
バンクを特定するバンク/サブバンクアドレス信号に従
って、アドレス指定されたバンクのサブバンクのメモリ
セルの列を複数の内部データ線に接続するサブバンク選
択回路と、複数の内部データ線それぞれに対応して設け
られ、活性化時対応の内部データ線とデータの授受を行
なう複数の書込/読出回路を含む。これら複数の書込/
読出回路は、複数のグループに分割される。
The semiconductor memory device of claim 14 further comprises:
A plurality of internal data lines arranged extending in the column direction over the plurality of banks, and a column of memory cells in a sub-bank of the bank designated according to a bank / sub-bank address signal specifying the bank and the sub-bank. And a plurality of write / read circuits provided corresponding to the plurality of internal data lines, respectively, for transmitting and receiving data to and from the corresponding internal data lines when activated. . These multiple writes /
The read circuit is divided into a plurality of groups.

【0045】請求項14に係る半導体記憶装置は、さら
に、グループアドレス信号に従って、これら複数の書込
/読出回路から指定されたグループの書込/読出回路を
選択して、グローバルデータバスに接続するデータ選択
回路を備える。
According to a fourteenth aspect of the present invention, the semiconductor memory device further selects a write / read circuit of a designated group from the plurality of write / read circuits according to the group address signal and connects the selected write / read circuit to the global data bus. A data selection circuit is provided.

【0046】請求項15に係る半導体記憶装置は、請求
項14の複数の書込/読出回路の各々が、与えられたデ
ータをラッチするラッチ回路を含む。
According to a fifteenth aspect of the present invention, each of the plurality of write / read circuits of the fourteenth aspect includes a latch circuit for latching applied data.

【0047】請求項16に係る半導体記憶装置は、請求
項14のサブバンク選択回路が、サブバンク特定信号に
応答して所定期間、指定されたサブバンクのメモリセル
の列を内部データ線に接続する。
In a semiconductor memory device according to a sixteenth aspect, the sub-bank selection circuit of the fourteenth aspect connects a column of memory cells of a specified sub-bank to an internal data line for a predetermined period in response to a sub-bank specifying signal.

【0048】請求項17に係る半導体記憶装置は、請求
項14の装置が、さらに、データグループ特定信号とと
もに与えられるデータ書込指示に応答して、書込/読出
回路に含まれる書込回路を活性化して、サブバンク特定
信号により指定されたサブバンクへサブバンク選択回路
を介してデータを書込ませる制御手段をさらに備える。
A semiconductor memory device according to a seventeenth aspect is the semiconductor memory device according to the fourteenth aspect, further comprising a write circuit included in the write / read circuit in response to a data write instruction provided together with the data group specifying signal. There is further provided control means for activating and writing data to the subbank specified by the subbank specifying signal via the subbank selection circuit.

【0049】請求項18に係る半導体記憶装置は、請求
項14の装置が、さらに、サブバンク活性化信号に応答
して、内部データ線に結合されるサブバンクが非活性状
態に復帰するまでこれらの内部データ線のプリチャージ
を停止するための制御回路を備える。
The semiconductor memory device according to the eighteenth aspect is the semiconductor memory device according to the fourteenth aspect of the present invention, further comprising, in response to the subbank activation signal, the internal bank connected to the internal data line being returned to an inactive state. A control circuit for stopping precharging of the data line is provided.

【0050】請求項19に係る半導体記憶装置は、請求
項3または4の装置が、さらに、列に対応して設けられ
かつ少なくとも列方向において隣接するメモリブロック
間に配置され該隣接メモリブロック間で共有される各々
が複数のセンスアンプを有する複数のセンスアンプ群を
備える。
According to a nineteenth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the third or fourth aspect, the device is further provided corresponding to a column and arranged at least between memory blocks adjacent in the column direction. A plurality of shared sense amplifier groups each having a plurality of sense amplifiers are provided.

【0051】メモリブロック間領域およびメモリアレイ
外部領域に列選択線を配設し、かつメモリアレイ上に内
部データ線を配設することにより、アレイ占有面積を何
ら増加させることなく内部データ線の数を増加させるこ
とができ、応じてデータビット数を増加させることがで
きる。列選択線は、メモリブロック上に配設される数多
くの内部データ線にメモリセル列を接続するため、この
数は少なくて済み、メモリブロック間領域の面積が増加
するのを抑制することができる。
By arranging column selection lines in the inter-memory block area and the memory array external area and arranging internal data lines on the memory array, the number of internal data lines can be increased without increasing the array occupation area. Can be increased, and the number of data bits can be increased accordingly. The column selection lines connect the memory cell columns to a large number of internal data lines provided on the memory block, so that the number of column selection lines can be reduced, and an increase in the area of the region between the memory blocks can be suppressed. .

【0052】また、複数バンクに構成し、内部データ線
上に予めデータを読出しておくことにより、データ書込
/読出時においては、この内部データ線に設けられた書
込/読出回路を駆動するだけでよく、メモリブロック内
部へアクセスする必要がなく、高速アクセスが実現さ
れ、また高速データ転送を実現することができる。
Further, by constituting a plurality of banks and reading data on internal data lines in advance, at the time of data writing / reading, only the write / read circuit provided on the internal data lines is driven. It is not necessary to access the inside of the memory block, and high-speed access can be realized, and high-speed data transfer can be realized.

【0053】[0053]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態1に従う半導体記憶装置のアレイ部の構
成を概略的に示す図である。図1において、メモリアレ
イMRYは、行方向および列方向に沿って整列して配置
される複数のメモリサブブロックMSBを含む。行方向
に整列して配置されるメモリサブブロックMSBは、行
ブロックR♯i(i=0〜n)を構成し、列方向に沿っ
て整列して配置されるメモリサブブロックMSBは、コ
ラムブロックC♯j(j=0〜m)を構成する。メモリ
サブブロックMSBの各々は、行列状に配列される複数
のメモリセルを有する。
[First Embodiment] FIG. 1 schematically shows a structure of an array portion of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, memory array MRY includes a plurality of memory sub-blocks MSB arranged in a row and a column. The memory sub-blocks MSB arranged in the row direction constitute a row block R # i (i = 0 to n), and the memory sub-blocks MSB arranged in the column direction are column blocks. C♯j (j = 0 to m). Each of the memory sub-blocks MSB has a plurality of memory cells arranged in a matrix.

【0054】メモリアレイ外領域AR0およびARn+
1ならびにメモリブロック間領域AR1〜ARmに、図
示しないコラムデコーダからの列選択信号を伝達するメ
インコラム選択線SGaおよびSGbが配設される。こ
れらのコラム選択線SGaおよびSGbは、列方向に沿
って延在して配置され、対応の列ブロックのメモリサブ
ブロックに共有される。
Areas AR0 and ARn + outside memory array
1 and main column selection lines SGa and SGb for transmitting a column selection signal from a column decoder (not shown) are provided in regions AR1 to ARm between memory blocks. These column selection lines SGa and SGb are arranged extending in the column direction, and are shared by the memory sub-blocks of the corresponding column block.

【0055】メモリサブブロックMSBそれぞれに対し
て、ローカルコラム選択線LSGaおよびLSGbが配
設される。これらのローカルコラム選択線LSGaおよ
びLSGbは、行方向に沿って対応のメモリサブブロッ
ク配設領域にのみ延在して配設される。ローカルコラム
選択線LSGaおよびLSGbは、アレイ外領域AR0
およびARn+1およびメモリブロック間領域AR1〜
ARmに設けられたデコーダDECを介して対応のメイ
ンコラム選択線SGaおよびSGbに接続される。
Local column select lines LSGa and LSGb are provided for each of memory sub-blocks MSB. These local column select lines LSGa and LSGb are arranged extending only in the corresponding memory sub-block arrangement region along the row direction. Local column select lines LSGa and LSGb are connected to an out-of-array area AR0.
And ARn + 1 and the inter-memory block areas AR1 to AR1
It is connected to corresponding main column selection lines SGa and SGb via a decoder DEC provided in ARm.

【0056】列ブロックC♯0〜C♯mそれぞれにおい
て、メモリサブブロックMSB上にわたって延在して列
方向に沿ってメインI/O線対群MIOG0〜MIOG
mが配設される。ローカルコラム選択線LSGaおよび
LSGbにより同時に選択される複数列(センスアン
プ)が、対応のメインI/O線対群に接続される。
In each of column blocks C # 0-C # m, main I / O line pair group MIOG0-MIOG extends over memory sub-block MSB and extends in the column direction.
m is provided. A plurality of columns (sense amplifiers) simultaneously selected by local column select lines LSGa and LSGb are connected to a corresponding main I / O line pair group.

【0057】メインコラム選択線SGaおよびSGbに
は、デコーダDECが接続されるだけであり、メモリセ
ル列選択のためのIOゲートは接続されない。したがっ
て、その負荷容量が小さいため、高速で列選択信号をメ
モリアレイMRYの最遠端にまで伝達することができ
る。
The main column selection lines SGa and SGb are connected only to the decoder DEC, and are not connected to an IO gate for selecting a memory cell column. Therefore, since the load capacity is small, the column selection signal can be transmitted to the farthest end of the memory array MRY at high speed.

【0058】また、メインI/O線対をメモリサブブロ
ック上にわたって延在して配置することにより、メモリ
アレイMRYの占有面積を増加させることなく、必要な
数のメインI/O線対を配設することができ、データビ
ット数を大きくすることができる。
By arranging the main I / O line pairs extending over the memory sub-blocks, a required number of main I / O line pairs can be arranged without increasing the area occupied by memory array MRY. And the number of data bits can be increased.

【0059】図2は、メモリブロック間領域ARの構成
を概略的に示す図である。図2においては、2つのメモ
リサブブロックMSBaおよびMSBbの間のブロック
間領域ARを代表的に示す。メモリサブブロックMSB
aおよびMSBbそれぞれにおいては、行列状にメモリ
セルMCが配置される。メモリセルの各行に対応してワ
ード線WLが配設され、メモリセルの列に対応してビッ
ト線BL(および/BL)が配設される。この図2に示
す構成においてワード線WLは、行ブロックに含まれる
メモリサブブロックに共通に配設される。メモリセルM
Cは、情報を電荷の形で記憶するキャパシタMQと、対
応のワード線WL上の信号電位に応答してキャパシタM
Qを対応のビット線BL(または/BL)に接続するア
クセストランジスタMTを含む。アクセストランジスタ
MTのゲートは、ワード線WLに接続される(通常は、
ワード線WLを構成する第1層ポリシリコン層が、この
アクセストランジスタMTの制御電極となる)。
FIG. 2 is a diagram schematically showing the configuration of the inter-memory block area AR. FIG. 2 representatively shows an inter-block area AR between two memory sub-blocks MSBa and MSBb. Memory sub-block MSB
In each of a and MSBb, memory cells MC are arranged in a matrix. Word lines WL are provided corresponding to each row of the memory cells, and bit lines BL (and / BL) are provided corresponding to the columns of the memory cells. In the configuration shown in FIG. 2, word line WL is arranged commonly to memory sub-blocks included in a row block. Memory cell M
C is a capacitor MQ for storing information in the form of electric charges, and a capacitor MQ in response to a signal potential on a corresponding word line WL.
Access transistor MT for connecting Q to corresponding bit line BL (or / BL). The gate of access transistor MT is connected to word line WL (usually,
The first polysilicon layer forming the word line WL is a control electrode of the access transistor MT.)

【0060】このワード線WLと平行にワード線WLの
上層に、低抵抗の導体配線LRLが配設される。この低
抵抗導体配線LRLは、メモリブロック間領域ARにお
いて、コンタクトCTを介してワード線WLに電気的に
接続される。これにより、ワード線WLの抵抗を等価的
に低くする。このメモリブロック間領域ARは、通常、
ワード線シャント領域と呼ばれる。このワード線シャン
ト領域は、低抵抗導体の配線LRLとワード線WLが電
気的に接続される領域であり、メモリセルMCは存在し
ない。したがって、比較的余裕をもって、メインコラム
選択線SGaおよびSGbならびにデコーダDECを配
設することができる。
In parallel with the word line WL, a low-resistance conductor line LRL is arranged above the word line WL. This low-resistance conductor wiring LRL is electrically connected to a word line WL via a contact CT in the inter-memory block area AR. Thereby, the resistance of the word line WL is reduced equivalently. This inter-memory block area AR is usually
This is called a word line shunt region. The word line shunt region is a region where the low resistance conductor wiring LRL and the word line WL are electrically connected, and the memory cell MC does not exist. Therefore, main column select lines SGa and SGb and decoder DEC can be arranged with a relatively large margin.

【0061】図3は、メモリブロック間領域の他の構成
を示す図である。図3においては、2つのメモリサブブ
ロックMSBaおよびMSBbを代表的に示す。この行
方向に整列して配置されるメモリサブブロックMSBa
およびMSBbに対し共通に、メインワード線MWLが
配設される。このメインワード線MWLは、同じ行ブロ
ックに含まれるメモリサブブロックに共通に設けられ
る。メモリサブブロックMSBaおよびMSBbそれぞ
れにおいて、メインワード線MWLに対応してサブワー
ド線SWL0〜SWL3が配設される。これらのサブワ
ード線SWL0〜SWL3それぞれには、対応のメモリ
サブブロックにおける1行のメモリセルMCが接続され
る。
FIG. 3 is a diagram showing another configuration of the area between memory blocks. FIG. 3 representatively shows two memory sub-blocks MSBa and MSBb. Memory sub-blocks MSBa aligned in the row direction
And MSBb, a main word line MWL is arranged in common. This main word line MWL is provided commonly to memory sub-blocks included in the same row block. In each of memory sub blocks MSBa and MSBb, sub word lines SWL0 to SWL3 are arranged corresponding to main word line MWL. One row of memory cells MC in the corresponding memory sub-block is connected to each of these sub-word lines SWL0 to SWL3.

【0062】これらのサブワード線SWL0〜SWL3
それぞれに対応して、メインワード線MWL上の信号と
グループ選択信号φ0〜φ3それぞれを受けるサブワー
ド線ドライバDR0〜DR3が配設される。メインワー
ド線MWLの選択時、4本のサブワード線SWL0〜S
WL3が指定され、これらの4本のサブワード線SWL
0〜SWL3のうちの1つのサブワード線が、グループ
選択信号φ0〜φ3により選択される。サブワード線ド
ライバDR0〜DR3は、メモリサブブロックMSBa
およびMSBbの外の領域ARaおよびARbに配設さ
れる。領域ARaおよびARbにおいて、メインコラム
選択線が列方向に沿って配設される。メインコラム選択
線とローカルコラム選択線とを接続するデコーダDEC
は、列方向に沿って隣接するメモリブロック間の領域
(センスアンプ帯領域)とブロック間領域ARとが交差
する部分に配設される。この領域においては、サブワー
ド線ドライバは配設されていないため、余裕をもって、
デコーダDECを配置することができる。
These sub-word lines SWL0-SWL3
Sub word line drivers DR0 to DR3 receiving signals on main word line MWL and group selection signals φ0 to φ3 are provided correspondingly. When the main word line MWL is selected, four sub word lines SWL0 to SWL
WL3 is designated, and these four sub-word lines SWL
One subword line of 0 to SWL3 is selected by group selection signals φ0 to φ3. The sub-word line drivers DR0 to DR3 are connected to the memory sub-block MSBa
And in regions ARa and ARb outside of MSBb. In regions ARa and ARb, main column selection lines are arranged along the column direction. Decoder DEC for connecting main column select line and local column select line
Is arranged at a portion where an area between memory blocks adjacent in the column direction (sense amplifier band area) and an inter-block area AR intersect. In this area, no sub-word line driver is provided, so
A decoder DEC can be arranged.

【0063】なお、図3に示すアレイ配置において、サ
ブワード線ドライバが、メモリサブブロックの両側に、
交互に配置される構成が用いられてもよい。また、1つ
のメインワード線MWLに対応して、メモリサブブロッ
クそれぞれにおいて1つのサブワード線が対応して配置
され、デコード機能を有しないサブワード線ドライバに
より、対応のサブワード線が選択状態へ駆動される構成
が用いられてもよい。
In the array arrangement shown in FIG. 3, sub word line drivers are provided on both sides of the memory sub block.
A configuration arranged alternately may be used. One sub-word line is arranged corresponding to one main word line MWL in each memory sub-block, and the corresponding sub-word line is driven to a selected state by a sub-word line driver having no decoding function. Configurations may be used.

【0064】メモリブロック間領域AR1〜ARmおよ
びアレイ外領域AR0およびARn+1は、図2に示す
ワード線シャント領域および図3に示すサブワード線ド
ライバ配置領域のいずれであってもよい。以下の説明に
おいてメモリブロック間領域(またはブロック間領域)
と称する場合は、このいずれの領域も示すものとする。
The inter-memory block regions AR1 to ARm and the out-of-array regions AR0 and ARn + 1 may be any of the word line shunt region shown in FIG. 2 and the sub word line driver arrangement region shown in FIG. In the following description, the area between memory blocks (or the area between blocks)
When it is referred to, both of these areas are indicated.

【0065】図4は、1つのメモリサブブロックに関連
する部分の構成を概略的に示す図である。図4におい
て、メモリサブブロックMSBのビット線対BLPに対
応して、センスアンプSAが配置される。センスアンプ
SAは、4つのグループに分割され、隣接するセンスア
ンプSA1〜SA4が1つの組を構成する。1組のセン
スアンプには、互いに異なるグループに属するセンスア
ンプSA1〜SA4が含まれる。センスアンプの組に対
応してメインI/O線対MI/O1,ZMI/O1〜M
I/O128,ZMI/O128が配置される。メイン
I/O線対MI/Oi,ZMI/Oiは、互いに相補な
データを伝達する。
FIG. 4 is a diagram schematically showing a configuration of a portion related to one memory sub-block. In FIG. 4, sense amplifiers SA are arranged corresponding to bit line pairs BLP of memory sub-block MSB. The sense amplifiers SA are divided into four groups, and adjacent sense amplifiers SA1 to SA4 form one set. One set of sense amplifiers includes sense amplifiers SA1 to SA4 belonging to different groups. Main I / O line pairs MI / O1, ZMI / O1-M corresponding to the sense amplifier set
I / O128 and ZMI / O128 are arranged. Main I / O line pairs MI / Oi and ZMI / Oi transmit mutually complementary data.

【0066】この図4に示す構成においては、センスア
ンプが512個設けられる。センスアンプのグループを
選択するために、ブロック間領域ARaにおいて、デコ
ード回路DECとして、メインコラム選択線SG2上の
コラム選択信号S2と行ブロック選択信号φrbを受け
てローカルコラム選択信号LS2を生成するデコード回
路1bと、行ブロック選択信号φrbとメインコラム選
択線SG4上のコラム選択信号S4とを受けてローカル
コラム選択信号LS4を生成するデコード回路1dが設
けられる。メモリブロック間領域ARbにおいては、デ
コード回路DECとして、メインコラム選択線SG1上
のコラム選択信号S1と行ブロック選択信号φrbを受
けるデコード回路1aと、メインコラム選択線SG3上
のコラム選択信号S3と行ブロック選択信号φrbを受
けてローカルコラム選択信号LS4を生成するデコード
回路1cとが設けられる。行ブロック選択信号φrb
は、行ブロックを選択する信号であり、1つの行ブロッ
クに含まれるメモリサブブロックに共通に与えられる。
In the configuration shown in FIG. 4, 512 sense amplifiers are provided. In order to select a group of sense amplifiers, in the inter-block area ARa, a decode circuit DEC receives a column select signal S2 on the main column select line SG2 and a row block select signal φrb to generate a local column select signal LS2. A circuit 1b and a decode circuit 1d receiving a row block selection signal φrb and a column selection signal S4 on a main column selection line SG4 to generate a local column selection signal LS4 are provided. In the inter-memory block area ARb, the decode circuit DEC receives the column select signal S1 on the main column select line SG1 and the row block select signal φrb as the decode circuit DEC, and the column select signal S3 on the main column select line SG3 and the row. And a decode circuit 1c that receives block select signal φrb and generates local column select signal LS4. Row block selection signal φrb
Is a signal for selecting a row block, and is commonly applied to memory sub-blocks included in one row block.

【0067】センスアンプSA1〜SA4それぞれに対
応して、ローカルコラム選択信号LS1に応答して導通
し、対応のセンスアンプSA1を対応のメインI/O線
対へ接続するI/O選択ゲートN1と、ローカルコラム
選択信号LS2に応答して導通し、対応のセンスアンプ
SA2を対応のメインI/O線対に接続するI/O選択
ゲートN2と、ローカルコラム選択信号LS3に応答し
て導通し、対応のセンスアンプSA3を対応のメインI
/O線対に接続するI/O選択ゲートN3と、ローカル
コラム選択信号LS4に応答して導通し、対応のセンス
アンプSA4をメインI/O線対に接続するI/O選択
ゲートN4が設けられる。
Each of sense amplifiers SA1 to SA4 conducts in response to local column select signal LS1, and connects I / O select gate N1 connecting corresponding sense amplifier SA1 to a corresponding main I / O line pair. Is turned on in response to a local column selection signal LS2, and turned on in response to a local column selection signal LS3 and an I / O selection gate N2 connecting the corresponding sense amplifier SA2 to the corresponding main I / O line pair. The corresponding sense amplifier SA3 is connected to the corresponding main I
An I / O select gate N3 connected to the / O line pair and an I / O select gate N4 which conducts in response to the local column select signal LS4 and connects the corresponding sense amplifier SA4 to the main I / O line pair are provided. Can be

【0068】1組のセンスアンプSA1〜SA4のうち
1つのセンスアンプが、デコード回路1a〜1dからの
ローカルコラム選択信号に従って選択されて、128個
のメインI/O線対MI/O1,ZMI/O1〜MI/
O128,ZMI/O128に接続される。1つの列ブ
ロックにおいて128ビットのメモリセルを同時に選択
してメインI/O線対に接続することができる。メイン
I/O線対MI/O1,ZMI/O1〜MI/O12
8,ZMI/O128は、列方向に延在して配置され、
アレイ外部に設けられたプリアンプおよびライトドライ
バに接続される。
One of a set of sense amplifiers SA1 to SA4 is selected according to a local column selection signal from decode circuits 1a to 1d, and 128 main I / O line pairs MI / O1, ZMI / O1-MI /
O128 and ZMI / O128. In one column block, 128-bit memory cells can be simultaneously selected and connected to the main I / O line pair. Main I / O line pair MI / O1, ZMI / O1 to MI / O12
8, ZMI / O128 is arranged extending in the column direction,
It is connected to a preamplifier and a write driver provided outside the array.

【0069】1つのメモリサブブロックは、4分割され
ており、メインコラム選択線は、1つのメモリサブブロ
ックに対し4本必要とされるだけであり、十分余裕をも
ってメモリブロック間領域にメインコラム選択線を配設
することができる。
One memory sub-block is divided into four, and only four main column selection lines are required for one memory sub-block. Lines can be arranged.

【0070】なお、この図4に示す構成においてメモリ
サブブロックMSBは4つのグループに分割され、1つ
のグループが選択されている。しかしながら、この1つ
のメモリサブブロックを分割する数は、データビット数
に応じて適当に定められればよく、8分割、16分割ま
たは2分割される構成であってもよい。
In the structure shown in FIG. 4, memory sub-block MSB is divided into four groups, and one group is selected. However, the number of divisions of this one memory sub-block may be appropriately determined according to the number of data bits, and may be divided into eight, sixteen or two.

【0071】[変更例]図5は、この発明の実施の形態
1の半導体記憶装置の変更例の構成を示す図である。図
5においては、2つのメモリサブブロックMSBaおよ
びMSBbに関連する部分の構成を示す。この図5に示
す構成においては、メインコラム選択線SG1〜SG4
は、2つのメモリサブブロックに共通に設けられる。デ
コード回路1eが、メインコラム選択線SG1上のコラ
ム選択信号と行ブロック選択信号φrbとに従ってロー
カルコラム選択信号LS1を生成し、デコード回路1f
が、メインコラム選択線SG2上のコラム選択信号と行
ブロック選択信号φrbとに従ってローカルコラム選択
信号LS2を生成する。デコード回路1gが、メインコ
ラム選択線SG3上のコラム選択信号と行ブロック選択
信号φrbとに従ってローカルコラム選択信号LS3を
生成し、デコード回路1hが、メインコラム選択線SG
4上のコラム選択信号と行ブロック選択信号φrbとに
従ってローカルコラム選択信号LS4を生成する。これ
らのローカルコラム選択信号LS1〜LS4は2つのメ
モリサブブロックMSBaおよびMSBbに共通に与え
られる。図5においては、図示しない隣接メモリサブブ
ロックに対するローカルコラム選択信号LS4を生成す
るデコード回路1iおよびローカルコラム選択信号LS
1を生成するデコード回路1jを併せて示す。
[Modification] FIG. 5 shows a structure of a modification of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 5 shows a configuration of a portion related to two memory sub-blocks MSBa and MSBb. In the configuration shown in FIG. 5, main column selection lines SG1 to SG4
Are provided commonly to two memory sub-blocks. Decode circuit 1e generates local column select signal LS1 according to a column select signal on main column select line SG1 and row block select signal φrb, and decode circuit 1f
Generates a local column selection signal LS2 according to the column selection signal on the main column selection line SG2 and the row block selection signal φrb. Decoding circuit 1g generates a local column selection signal LS3 according to a column selection signal on main column selection line SG3 and a row block selection signal φrb, and decoding circuit 1h generates a main column selection line SG3.
4 generates a local column selection signal LS4 according to a column selection signal and a row block selection signal φrb. These local column select signals LS1 to LS4 are commonly applied to two memory sub-blocks MSBa and MSBb. In FIG. 5, a decode circuit 1i for generating a local column selection signal LS4 for an adjacent memory sub-block (not shown) and a local column selection signal LS
1 is also shown.

【0072】この図5に示す構成の場合、デコード回路
1e〜1hは、2つのメモリサブブロックMSBaおよ
びMSBbに対して行方向に沿って配設されるローカル
コラム選択信号線を駆動する必要がある。しかしなが
ら、この構成に従えば、デコード回路の数を半減するこ
とができる。またメインコラム選択線の数も半減するこ
とができる。これにより、アレイ占有面積が増加するの
を抑制することができる。
In the case of the configuration shown in FIG. 5, decode circuits 1e to 1h need to drive local column select signal lines provided along the row direction for two memory sub-blocks MSBa and MSBb. . However, according to this configuration, the number of decoding circuits can be reduced by half. Also, the number of main column selection lines can be halved. This can suppress an increase in the area occupied by the array.

【0073】なお、図5に示す構成において、メインI
/O線対群およびセンスアンプおよびI/O選択ゲート
の配置は、図4に示す配置と同じである。
Incidentally, in the configuration shown in FIG.
The arrangement of the / O line pair group, the sense amplifier and the I / O select gate is the same as the arrangement shown in FIG.

【0074】以上のように、この発明の実施の形態1に
従えば、メモリサブブロック上にメインI/O線対を配
設し、かつブロック間領域にメインコラム選択線を配設
するように構成しているため、アレイ面積を増大させる
ことなく任意のビット幅のデータを生成することができ
る。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, a main I / O line pair is arranged on a memory sub-block, and a main column selection line is arranged in a region between blocks. With this configuration, data having an arbitrary bit width can be generated without increasing the array area.

【0075】また、コラム選択線と行ブロック選択信号
とのデコード結果に従ってメモリサブブロックの列選択
を行なっているため、メインコラム選択線には、I/O
選択ゲートは接続されず、負荷容量が低減され、高速で
メインコラム選択線を選択状態へ駆動することができ
る。
Since the column selection of the memory sub-block is performed in accordance with the result of decoding the column selection line and the row block selection signal, the main column selection line has an I / O
The selection gate is not connected, the load capacity is reduced, and the main column selection line can be driven to the selected state at high speed.

【0076】[実施の形態2]図6は、この発明の実施
の形態2の半導体記憶装置の要部の構成を概略的に示す
図である。図6においては、1つのメモリサブブロック
に関連する部分の構成を示す。この図6に示す構成にお
いては、センスアンプ群は、メモリサブブロックMSB
の列方向についての両側に交互に配置される。すなわ
ち、センスアンプSA1およびSA3がメモリサブブロ
ックMSBの列方向における下側に配設され、またセン
スアンプSA2およびSA4がメモリサブブロックMS
Bの列方向における上側に配置される。1つのセンスア
ンプの組は、センスアンプSA1〜SA4で構成され
る。センスアンプの各組に対応してメインI/O線対M
I/O0,ZMI/O0〜MI/O128,0MI/O
128が配設される。
[Second Embodiment] FIG. 6 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 6 shows a configuration of a portion related to one memory sub-block. In the configuration shown in FIG. 6, the sense amplifier group includes memory sub-block MSB
Are alternately arranged on both sides in the column direction. That is, sense amplifiers SA1 and SA3 are arranged below memory sub-block MSB in the column direction, and sense amplifiers SA2 and SA4 are arranged in memory sub-block MSB.
B is arranged on the upper side in the column direction. One set of sense amplifiers includes sense amplifiers SA1 to SA4. Main I / O line pair M corresponding to each set of sense amplifiers
I / O0, ZMI / O0 to MI / O128, 0MI / O
128 are provided.

【0077】このセンスアンプの交互配置に対応して、
デコード回路1a〜1dも、分散して配置される。すな
わち、ブロック間領域ARaにおいては、行ブロック選
択信号φrbとメインコラム選択線SG2上のコラム選
択信号を受けてローカルコラム選択信号LS2を生成す
るデコード回路1bがメモリサブブロックMSBの列方
向についての上側に設けられ、またこのメモリサブブロ
ックMSBの列方向についての下側に、行ブロック選択
信号φrbとメインコラム選択線SG3上のコラム選択
信号S3とを受けてローカルコラム選択信号LS3を生
成するデコード回路1cが設けられる。
In response to the alternate arrangement of the sense amplifiers,
Decoding circuits 1a to 1d are also arranged in a distributed manner. In other words, in the inter-block region ARa, the decode circuit 1b which receives the row block selection signal φrb and the column selection signal on the main column selection line SG2 and generates the local column selection signal LS2 is connected to the upper side in the column direction of the memory sub-block MSB. A decode circuit receiving local row select signal φrb and column select signal S3 on main column select line SG3 to generate local column select signal LS3 below memory sub block MSB in the column direction. 1c is provided.

【0078】ブロック間領域ARbにおいては、メモリ
サブブロックMSBの列方向についての上側において、
メインコラム選択線SG4上のコラム選択信号S4と行
ブロック選択信号φrbとを受けてローカルコラム選択
信号LS4を生成するデコード回路1dが設けられ、ま
たメモリサブブロックMSBの列方向についての下側に
おいて行ブロック選択信号φrbとメインコラム選択線
SG1上のコラム選択信号S1を受けてローカルコラム
選択信号LS1を生成するデコード回路1aが設けられ
る。
In the inter-block area ARb, on the upper side in the column direction of the memory sub-block MSB,
A decode circuit 1d is provided which receives column select signal S4 on main column select line SG4 and row block select signal φrb to generate local column select signal LS4, and provides a row at the lower side in the column direction of memory sub-block MSB. A decode circuit 1a is provided which receives block select signal φrb and column select signal S1 on main column select line SG1 to generate local column select signal LS1.

【0079】デコード回路1a〜1dを分散配置するこ
とにより、1つのメモリサブブロックMSBについて、
デコード回路の列方向についてのピッチが、1つのメモ
リサブブロックMSBの列方向のサイズとなり、余裕を
もってデコード回路をブロック間領域ARaおよびAR
bに配置することができる。
By arranging decode circuits 1a to 1d in a distributed manner, one memory sub-block MSB
The pitch of the decoding circuit in the column direction is the size of one memory sub-block MSB in the column direction, and the decoding circuit can be provided with room between the inter-block regions ARa and ARa.
b.

【0080】図7は、2行2列に配列されたメモリサブ
ブロックに関連する部分の構成を示す図である。図7に
おいて、メモリサブブロックMSBaは、その列方向に
ついての下側にセンスアンプ群SAGal、I/O選択
ゲート群(N1)NG1a、およびI/O選択ゲート群
(N3)NG3aを有し、その列方向についての上側
に、センスアンプ群SAGau、I/O選択ゲート群
(N2)NG2a、およびI/O選択ゲート群(N4)
NG4aを含む。I/O選択ゲート群NG1a〜NG4
aそれぞれに対応して、デコード回路1a〜1dが配設
される。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a portion related to memory sub-blocks arranged in two rows and two columns. In FIG. 7, memory sub-block MSBa has sense amplifier group SAGal, I / O selection gate group (N1) NG1a, and I / O selection gate group (N3) NG3a on the lower side in the column direction. On the upper side in the column direction, the sense amplifier group SAGau, the I / O selection gate group (N2) NG2a, and the I / O selection gate group (N4)
NG4a. I / O select gate group NG1a to NG4
Decoding circuits 1a to 1d are provided corresponding to the respective "a".

【0081】メモリサブブロックMSBaと列方向にお
いて隣接するメモリサブブロックMSBbに対しては、
その列方向についての下側にセンスアンプ群SAGb
l、I/O選択ゲート群(N1)NG1b、およびI/
O選択ゲート群(N3)NG3bが設けられ、その列方
向についての上側に、センスアンプ群SAGbu、I/
O選択ゲート群(N2)NG2b、およびI/O選択ゲ
ート群(N4)NG4bが設けられる。
For memory sub-block MSBb adjacent to memory sub-block MSBa in the column direction,
The sense amplifier group SAGb is provided below the column direction.
1, I / O select gate group (N1) NG1b, and I / O
An O select gate group (N3) NG3b is provided, and the sense amplifier groups SAGbu, I /
An O select gate group (N2) NG2b and an I / O select gate group (N4) NG4b are provided.

【0082】メモリサブブロックMSBaに列方向に沿
って整列するメモリサブブロックMSBcは、その列方
向についての下側に、センスアンプ群SAGc、I/O
選択ゲート群(N1)NG1c、およびI/O選択ゲー
ト群(N3)NG3cが設けられる。また、このメモリ
サブブロックMSBcと行方向に沿って整列するメモリ
サブブロックMSBdは、その列方向についての下側
に、センスアンプ群SAGd、I/O選択ゲート群(N
1)NG1d、およびI/O選択ゲート群(N3)NG
3dが設けられる。これらメモリサブブロックMSBb
〜MSBdそれぞれにおいても、I/O選択ゲート群N
G1b〜NG4dそれぞれに対応してデコード回路1a
〜1dが設けられる。
Memory sub-block MSBc aligned with memory sub-block MSBa along the column direction has sense amplifier groups SAGc, I / O
Select gate group (N1) NG1c and I / O select gate group (N3) NG3c are provided. Memory sub-block MSBd aligned with memory sub-block MSBc along the row direction has sense amplifier group SAGd and I / O selection gate group (N
1) NG1d and I / O select gate group (N3) NG
3d is provided. These memory sub-blocks MSBb
To MSBd, the I / O select gate group N
Decoding circuit 1a corresponding to each of G1b to NG4d
To 1d.

【0083】ブロック間領域ARにおいて、デコード回
路1aおよび1dが列方向に沿って交互に配置され、ま
たデコード回路1cおよび1bが列方向に沿って交互に
配置される。列方向に沿って整列するメモリサブブロッ
ク間の領域(以下、センスアンプ帯領域と称す)におい
てはセンスアンプ群およびI/O選択ゲート群が配設さ
れる。
In inter-block region AR, decode circuits 1a and 1d are alternately arranged in the column direction, and decode circuits 1c and 1b are alternately arranged in the column direction. A sense amplifier group and an I / O select gate group are provided in a region between memory sub blocks aligned in the column direction (hereinafter, referred to as a sense amplifier band region).

【0084】I/O選択ゲート群に対応して、デコード
回路が設けられるが、このI/O選択ゲート群の列方向
についての長さは、デコード回路のピッチ条件により決
定される。したがって、この図7に示すように、列方向
に沿ってデコード回路を交互に配置するとともに、メモ
リサブブロックの両側に分散して配置することにより、
デコード回路のピッチを十分大きくすることができる。
特に、メモリサブブロックMSBcおよびMSBdにお
いて、1つのI/O選択ゲート群を間において、デコー
ド回路が配設される。しかしながら、センスアンプ帯領
域において、列方向に沿って整列して配置される2つの
メモリサブブロックに対して2つずつ合計4つのデコー
ド回路を配設する場合に比べて、十分に余裕をもってデ
コード回路を配置することができる。
A decode circuit is provided corresponding to the I / O select gate group. The length of the I / O select gate group in the column direction is determined by the pitch condition of the decode circuit. Therefore, as shown in FIG. 7, by alternately arranging the decode circuits in the column direction and distributing them on both sides of the memory sub-block,
The pitch of the decoding circuit can be made sufficiently large.
Particularly, in memory sub-blocks MSBc and MSBd, a decode circuit is provided between one I / O select gate group. However, in the sense amplifier band region, the decoding circuit has a sufficient margin compared to the case where a total of four decoding circuits are arranged two by two for two memory sub-blocks arranged in the column direction. Can be arranged.

【0085】これにより、センスアンプ帯領域の占有面
積が増加するのを防止することができ、アレイ面積が増
大するのを防止することができる。
As a result, it is possible to prevent the area occupied by the sense amplifier band region from increasing, and to prevent the array area from increasing.

【0086】以上のように、この発明の実施の形態2に
従えば、メモリサブブロックに対し、コラム選択信号を
生成するデコード回路を分散して配置しているため、デ
コード回路のピッチ条件が緩和され、余裕をもってデコ
ード回路を配置することができる。特に、メモリサブブ
ロックの分割数が増加する場合、このピッチ条件緩和の
効果がより顕著となる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, since the decode circuits for generating the column select signals are dispersedly arranged in the memory sub-block, the pitch condition of the decode circuits is relaxed. Thus, the decoding circuit can be arranged with a margin. In particular, when the number of divisions of the memory sub-block increases, the effect of relaxing the pitch condition becomes more remarkable.

【0087】図7および図6に示す構成においては、デ
コード回路は、1つのメモリサブブロックに対してロー
カルコラム選択信号のみを生成している。しかしなが
ら、このデコード回路は、行方向において隣接する2つ
のメモリサブブロックで共有される構成であっても同様
の効果を得ることができる。
In the structure shown in FIGS. 7 and 6, the decode circuit generates only a local column select signal for one memory sub-block. However, this decoding circuit can obtain the same effect even in a configuration shared by two memory sub-blocks adjacent in the row direction.

【0088】図8は、この発明の実施の形態2の変更例
に従うメモリブロックMSBに対するデコード回路の配
置を概略的に示す図である。この図8に示す配置におい
ては、センスアンプSA1−SA4は、いわゆる交互配
置型シェアードセンスアンプ構成に配置される。すなわ
ち、センスアンプSA2およびSA4がメモリブロック
MSBおよび列方向においてこのメモリブロックMSB
に隣接するメモリブロックにより共有され、センスアン
プSA1およびSA3が、そのメモリブロックMSBお
よび列方向における下側の隣接メモリブロックにより共
有される。
FIG. 8 is a diagram schematically showing an arrangement of decode circuits for memory block MSB according to a modification of the second embodiment of the present invention. In the arrangement shown in FIG. 8, sense amplifiers SA1-SA4 are arranged in a so-called alternating arrangement type shared sense amplifier configuration. That is, sense amplifiers SA2 and SA4 are connected to memory block MSB and memory block MSB in the column direction.
, And the sense amplifiers SA1 and SA3 are shared by the memory block MSB and the lower adjacent memory block in the column direction.

【0089】センスアンプSA1に対して設けられるI
/O選択ゲートN1がデコード回路1aの出力信号を受
ける。このデコード回路1aは、ブロック間領域ARb
の下側に配置され、行ブロック選択信号φrb0および
メインコラム選択線SG1上の列選択信号を受ける。
I provided for sense amplifier SA1
/ O select gate N1 receives an output signal of decode circuit 1a. The decoding circuit 1a includes an inter-block area ARb
And receives row block select signal φrb0 and a column select signal on main column select line SG1.

【0090】センスアンプSA3に対して設けられるI
/O選択ゲートN3は、デコード回路1cの出力信号を
受ける。このデコード回路1cは、ブロック間領域AR
aの下側に配置され、行ブロック選択信号φrb0およ
びメインコラム選択線SG3上の列選択信号S3を受け
る。センスアンプSA2に対して設けられるI/O選択
ゲートN2は、デコード回路1bの出力信号を受ける。
デコード回路1bは、ブロック間領域ARaの上側に配
置され、行ブロック選択信号φrb1およびメインコラ
ム選択線SG2上の列選択信号S2を受ける。
I provided for sense amplifier SA3
/ O select gate N3 receives an output signal of decode circuit 1c. This decoding circuit 1c includes an inter-block area AR
a, and receives row block selection signal φrb0 and column selection signal S3 on main column selection line SG3. I / O select gate N2 provided for sense amplifier SA2 receives an output signal of decode circuit 1b.
Decode circuit 1b is arranged above inter-block region ARa, and receives row block select signal φrb1 and column select signal S2 on main column select line SG2.

【0091】センスアンプSA4に対して設けられるI
/O選択ゲートN4は、デコード回路1dの出力信号を
受ける。デコード回路1dは、ブロック間領域ARbの
上側に配置され、かつ行ブロック選択信号φrb1とメ
インコラム選択線SG4上の列選択信号S4を受ける。
I provided for sense amplifier SA4
/ O select gate N4 receives an output signal of decode circuit 1d. Decoding circuit 1d is arranged above inter-block region ARb, and receives row block selection signal φrb1 and column selection signal S4 on main column selection line SG4.

【0092】メインコラム選択線SG2およびSG3は
ブロック間領域ARaにおいて列方向に延在して配置さ
れ、メインコラム選択線SG1およびSG4がブロック
間領域ARbにおいて列方向に延在して配置される。
Main column select lines SG2 and SG3 are arranged extending in the column direction in inter-block region ARa, and main column select lines SG1 and SG4 are arranged extending in the column direction in inter-block region ARb.

【0093】行ブロック選択信号φrb0はメモリブロ
ックMSBまたは列方向において下側に隣接するメモリ
ブロックが選択されたときに活性化され、行ブロック選
択信号φrb1は、メモリブロックMSBまたは上側の
隣接メモリブロックが選択されたときに活性化される。
センスアンプSA1−SA4は列方向において隣接する
メモリブロック間で共有されるため、センスアンプの占
有面積が低減される。
Row block select signal φrb0 is activated when a memory block MSB or a memory block adjacent to the lower side in the column direction is selected, and row block select signal φrb1 is set to the state of memory block MSB or the upper adjacent memory block. Activated when selected.
Since the sense amplifiers SA1 to SA4 are shared between adjacent memory blocks in the column direction, the area occupied by the sense amplifiers is reduced.

【0094】図9は、この発明の実施の形態2の変更例
に従うアレイ配置を示す図である。図9において、メモ
リサブブロックMSBa−MSBcが列方向に整列して
配置され、メモリサブブロックMSBd−MSBfがま
た、列方向に整列して配置される。センスアンプ群SA
GabならびにI/Oゲート群NG1aおよびNG3a
がメモリサブブロックMSBaおよびMSBbの間に配
置され、センスアンプ群SAGacならびにI/Oゲー
ト群NG2aおよびNG4bがメモリサブブロックMS
BbおよびMSBcの間に配置される。メモリサブブロ
ックMSBaはまた、列方向における下側においてI/
Oゲート群NG2aおよびNG4aを介してセンスアン
プ群SAGaaに結合される。
FIG. 9 shows an array arrangement according to a modification of the second embodiment of the present invention. In FIG. 9, memory sub blocks MSBa-MSBc are arranged aligned in the column direction, and memory sub blocks MSBd-MSBf are also arranged aligned in the column direction. Sense amplifier group SA
Gab and I / O gate group NG1a and NG3a
Are arranged between memory sub blocks MSBa and MSBb, and sense amplifier group SAGac and I / O gate groups NG2a and NG4b are connected to memory sub block MSB.
It is located between Bb and MSBc. Memory sub-block MSBa also has an I / O on the lower side in the column direction.
Coupled to sense amplifier group SAGaa via O gate groups NG2a and NG4a.

【0095】デコード回路1ba、1caおよび1bb
がブロック間領域ARaにおいてI/Oゲート群NG2
a、NG3aおよびNG2bにそれぞれ対応して配置さ
れ、ブロック間領域ARbにおいては、デコード回路1
da、1aa、および1dbがそれぞれI/Oゲート群
NG4a、NG1aおよびNG4bに対応して配置され
る。
Decoding circuits 1ba, 1ca and 1bb
Is the I / O gate group NG2 in the inter-block region ARa.
a, NG3a and NG2b, and in the inter-block area ARb, the decoding circuit 1
da, 1aa, and 1db are arranged corresponding to I / O gate groups NG4a, NG1a, and NG4b, respectively.

【0096】センスアンプ群SAGbbならびにI/O
ゲート群NG3bおよびNG1bがメモリサブブロック
MSBdおよびMSBeの間に配置され、センスアンプ
群SAGbcならびにI/Oゲート群NG2dおよびN
G4dがメモリサブブロックMSBdおよびMSBeの
間に配置される。メモリサブブロックMSBbに対して
は、さらに、列方向における下側においてセンスアンプ
群SAGbaならびにI/Oゲート群NG2cおよびN
G4cが設けられる。
Sense amplifier group SAGbb and I / O
Gate groups NG3b and NG1b are arranged between memory sub-blocks MSBd and MSBe, and sense amplifier group SAGbc and I / O gate groups NG2d and N
G4d is arranged between memory sub-blocks MSBd and MSBe. For memory sub-block MSBb, sense amplifier group SAGba and I / O gate groups NG2c and N
G4c is provided.

【0097】ブロック間領域ARbにおいて、デコード
回路1bc、1cbおよび1bdがそれぞれI/Oゲー
ト群NG2c、NG3bおよびNG2dに対応して配置
され、またブロック間領域ARcにおいては、デコード
回路1dc、1abおよび1ddがI/Oゲート群NG
4c、NG1bおよびNG4dにそれぞれ対応して配置
される。
In inter-block region ARb, decode circuits 1bc, 1cb and 1bd are arranged corresponding to I / O gate groups NG2c, NG3b and NG2d, respectively. In inter-block region ARc, decode circuits 1dc, 1ab and 1dd are provided. Is I / O gate group NG
4c, NG1b, and NG4d.

【0098】デコード回路1ba、1da、1bcおよ
び1dcは行ブロック選択信号φrbAが活性化されて
メモリサブブロックMSBaおよびMSBbを選択する
かまたは下側の隣接メモリサブブロックを選択するとき
に能動化される。デコード回路1ca、1aa、1cb
および1abは、行ブロック選択信号φrbBが活性化
されてメモリサブブロックMSBaおよびMSBdまた
はメモリサブブロックMSBbおよびMSBeを選択す
るときに能動化される。デコード回路1bb、1db、
1bdおよび1ddは、行ブロック選択信号φrbCが
活性化されてメモリサブブロックMSBbおよびMSB
eまたはメモリサブブロックMSBcおよびMSBfを
選択するときに能動化される。
Decode circuits 1ba, 1da, 1bc and 1dc are activated when row block select signal φrbA is activated to select memory sub-blocks MSBa and MSBb or to select a lower adjacent memory sub-block. . Decoding circuits 1ca, 1aa, 1cb
And 1ab are activated when row block select signal φrbB is activated to select memory sub-blocks MSBa and MSBd or memory sub-blocks MSBb and MSBe. Decoding circuits 1bb, 1db,
1bd and 1dd are supplied to memory sub-blocks MSBb and MSB when row block select signal φrbC is activated.
e or activated when selecting memory sub-blocks MSBc and MSBf.

【0099】I/Oゲート群NG1aおよびNG1bは
I/O選択ゲートN1を含み、I/Oゲート群NG2
a、NG2b、NG2cおよびNG2dは、I/O選択
ゲートN2を含み、I/Oゲート群NG3aおよびNG
3bは、I/O選択ゲートN3を含み、I/Oゲート群
NG4a、NG4b、NG4cおよびNG4dは、I/
O選択ゲートN4を含む。
I / O gate groups NG1a and NG1b include I / O select gate N1, and I / O gate group NG2
a, NG2b, NG2c and NG2d include an I / O select gate N2, and I / O gate groups NG3a and NG
3b includes an I / O selection gate N3. I / O gate groups NG4a, NG4b, NG4c and NG4d
Includes O select gate N4.

【0100】図9に示す配置においては、センスアンプ
が隣接メモリブロックで共有されており、メモリアレイ
の占有面積が低減される。
In the arrangement shown in FIG. 9, the sense amplifier is shared by adjacent memory blocks, and the area occupied by the memory array is reduced.

【0101】さらに、この図9に示す配置においては、
メモリサブブロックMSBbおよびMSBeが選択ワー
ド線を含む場合には行ブロック選択信号φrbBおよび
φrbCが活性化され、デコード回路1ca、1aa、
1cb、1ab、1bb、1db、1bdおよび1dd
が能動化される。センスアンプ群SAGab、SAGa
c、SAGbbおよびSAGbcによりラッチされたデ
ータが選択されて読出される。
Further, in the arrangement shown in FIG.
When memory sub blocks MSBb and MSBe include a selected word line, row block select signals φrbB and φrbC are activated, and decode circuits 1ca, 1aa,
1cb, 1ab, 1bb, 1db, 1bd and 1dd
Is activated. Sense amplifier group SAGab, SAGa
Data latched by c, SAGbb and SAGbc are selected and read.

【0102】メモリサブブロックMSBaおよびMSB
dが選択された場合には、行ブロック選択信号φrbA
およびφrbBが活性化され、デコード回路1ba、1
da、1bc、1dc、1ca、1aa、1cbおよび
1abが能動化されてデコード動作を行なう。この場合
には、センスアンプ群SAGaa、SAGba、SAG
ba、SAGabおよびSAGbbがラッチするデータ
が選択されて読出される。
Memory sub-blocks MSBa and MSB
When d is selected, the row block selection signal φrbA
And φrbB are activated, and decode circuits 1ba, 1ba,
da, 1bc, 1dc, 1ca, 1aa, 1cb and 1ab are activated to perform the decoding operation. In this case, the sense amplifier groups SAGaa, SAGba, SAG
Data latched by ba, SAGab and SAGbb are selected and read.

【0103】図10は、図9に示す配置をより詳細に示
す図である。この図10においては、メモリサブブロッ
クMSBaおよびMSBbが代表的に示されるが、他の
メモリサブブロック間においても同様の構成が設けられ
る。
FIG. 10 is a diagram showing the arrangement shown in FIG. 9 in more detail. FIG. 10 representatively shows memory sub-blocks MSBa and MSBb, but a similar configuration is provided between other memory sub-blocks.

【0104】図10において、ビット線分離ゲートを含
むビット線分離ゲート群BILGaがI/Oゲート群N
G3aとメモリサブブロックMSBaの間に配置され、
ビット線分離ゲート群BILGbがメモリサブブロック
MSBbとセンスアンプ群SAGabの間に配置され
る。ビット線分離ゲート群BILGaに含まれるビット
線分離ゲートは、メモリサブブロックMSBaの1つお
きのビット線対に対して設けられ、ビット線分離ゲート
群BILGbのビット線分離ゲートは、メモリサブブロ
ックMSBbの1つおきのビット線対に配置される。こ
れにより、交互配置型シェアードセンスアンプが実現さ
れる。ビット線分離ゲート群BILGaおよびBILG
bに含まれるビット線分離ゲートは、センスアンプ群S
AGabに含まれるセンスアンプにそれぞれ対応して配
置される。
In FIG. 10, a bit line isolation gate group BILGa including a bit line isolation gate is replaced with an I / O gate group N
G3a and the memory sub-block MSBa,
Bit line isolation gate group BILGb is arranged between memory sub-block MSBb and sense amplifier group SAGab. Bit line isolation gates included in bit line isolation gate group BILGa are provided for every other bit line pair in memory sub-block MSBa, and bit line isolation gates in bit line isolation gate group BILGb are connected to memory sub-block MSBb. Are arranged on every other bit line pair. As a result, an alternate arrangement type shared sense amplifier is realized. Bit line isolation gate groups BILGa and BILG
b includes a sense amplifier group S
It is arranged corresponding to each of the sense amplifiers included in AGab.

【0105】ビット線分離ゲート群BILGcが、セン
スアンプ群SAGacとメモリサブブロックMSBbの
間に配置され、かつメモリサブブロックMSBbの1つ
おきのビット線対に対応して設けられかつセンスアンプ
群SAGacに含まれるセンスアンプに対応して設けら
れるビット線分離ゲートを含む。ビット線分離ゲート群
BILGdが、I/Oゲート群NG4bと隣接するメモ
リサブブロックMSBc(図10には示さず)との間に
配置されかつメモリサブブロックMSBcの1つおきの
ビット線対に対応しかつセンスアンプ群SAGacに含
まれるセンスアンプに対応して配置されるビット線分離
ゲートを含む。
Bit line isolation gate group BILGc is arranged between sense amplifier group SAGac and memory sub-block MSBb, provided corresponding to every other bit line pair of memory sub-block MSBb, and provided with sense amplifier group SAGac. And bit line isolation gates provided corresponding to the sense amplifiers included in. Bit line isolation gate group BILGd is arranged between I / O gate group NG4b and adjacent memory sub-block MSBc (not shown in FIG. 10) and corresponds to every other bit line pair of memory sub-block MSBc. And a bit line isolation gate arranged corresponding to the sense amplifier included in sense amplifier group SAGac.

【0106】スタンバイ状態においては、ビット線分離
制御信号φbiga、φbigb、φbigcおよびφ
bigdはすべて非活性状態に保持され、ビット線分離
ゲート群BILGa−BILGbは、導通状態に保持さ
れ、メモリサブブロックMSBbはセンスアンプ群SA
GacおよびSAGabに結合され、またメモリサブブ
ロックMSBaがセンスアンプ群SAGabおよび図示
しないセンスアンプ群に結合される。
In the standby state, bit line isolation control signals φbiga, φbigb, φbigc and φbit
bigd is kept inactive, bit line isolation gate group BILGa-BILGb is kept conductive, and memory sub-block MSBb is connected to sense amplifier group SA.
Gac and SAGab, and memory sub-block MSBa is coupled to sense amplifier group SAGab and a sense amplifier group (not shown).

【0107】メモリセル選択が行なわれるアクティブサ
イクルにおいて、たとえばメモリサブブロックMSBb
が選択された場合には、ビット線分離制御信号φbig
bおよびφbigcが非活性状態に保持され、一方、ビ
ット線分離制御信号φbigaおよびφbigdが活性
状態とされる。応じて、ビット線分離ゲート群BILG
aおよびBILGbが非導通状態とされ、メモリサブブ
ロックMSBaがセンスアンプ群SAGabならびにI
/Oゲート群NG1aおよびNG3aから切離され、メ
モリサブブロックMSBc(図示せず)がセンスアンプ
群SAGacならびにI/Oゲート群NG2bおよびN
G4bから切離される。メモリサブブロックMSBb
は、センスアンプ群SAGacおよびSAGabに結合
される。
In an active cycle in which memory cell selection is performed, for example, memory sub-block MSBb
Is selected, the bit line isolation control signal φbig
b and φbigc are kept inactive, while bit line isolation control signals φbiga and φbigd are activated. Accordingly, bit line isolation gate group BILG
a and BILGb are turned off, and memory sub-block MSBa is connected to sense amplifier groups SAGab and IAGab.
/ O gate groups NG1a and NG3a are separated from each other, and memory sub-block MSBc (not shown) includes sense amplifier group SAGac and I / O gate groups NG2b and N
Disconnected from G4b. Memory sub-block MSBb
Are coupled to sense amplifier groups SAGac and SAGab.

【0108】センスアンプ群SAGabおよびSAGa
cは、活性化時、メモリサブブロックMSBbの選択メ
モリセルのデータの検知、増幅およびラッチをする。次
に、行ブロック選択信号φrbBおよびφrbCならび
に列選択信号に応答してデコード回路がデコード動作を
行ない、このデコード回路の出力信号に従ってI/Oゲ
ート群NG1a、NG3a、NG2bおよびNG4bが
選択的に導通し、センスアンプ群SAGabおよびSA
Gacに含まれるセンスアンプが選択されてメインI/
O線対に結合される。したがって、選択メモリセルのデ
ータは、非選択隣接メモリサブブロックに対し悪影響を
及ぼすことなく正確に読出すことができる。
Sense amplifier groups SAGab and SAGa
When activated, c detects, amplifies, and latches data in the selected memory cell of the memory sub-block MSBb. Next, a decode circuit performs a decode operation in response to row block select signals φrbB and φrbC and a column select signal, and I / O gate groups NG1a, NG3a, NG2b and NG4b are selectively turned on according to the output signals of the decode circuit. And sense amplifier groups SAGab and SA
Gac is selected and the main I /
Coupled to the O line pair. Therefore, the data of the selected memory cell can be accurately read without adversely affecting the unselected adjacent memory sub-block.

【0109】図11は、メモリサブブロックMSB1お
よびMSB2に共有されるセンスアンプSAjに対する
配置を示す図である。図11において、センスアンプS
Ajが、メモリサブブロックMSB1に含まれるビット
線対BLP1にビット線分離ゲートBIG1を介して結
合され、またビット線分離ゲートBIG2を介してメモ
リサブブロックMSB2に含まれるビット線対BLP2
に結合される。ビット線分離ゲートBIG1およびBI
G2はそれぞれのゲートに、ビット線分離制御信号φb
ig1およびφbig2を受ける。
FIG. 11 shows an arrangement for sense amplifiers SAj shared by memory sub-blocks MSB1 and MSB2. In FIG. 11, the sense amplifier S
Aj is coupled to bit line pair BLP1 included in memory sub-block MSB1 via bit line isolation gate BIG1, and bit line pair BLP2 included in memory sub-block MSB2 via bit line isolation gate BIG2.
Is combined with Bit line isolation gates BIG1 and BI
G2 has a bit line isolation control signal φb
ig1 and φbig2.

【0110】センスアンプSAjは、さらに、I/O選
択ゲートNjを介してI/O線MI/OおよびZMI/
Oを含むメインI/O線対MIOに結合される。このI
/O選択ゲートNjは、行ブロック選択信号φrb12
および列選択信号Sjの論理積に応答して導通する。行
ブロック選択信号φrb12は、メモリサブブロックM
SB1およびMSB2の一方が選択されたときに活性化
される。
Sense amplifier SAj further receives I / O lines MI / O and ZMI / via I / O select gate Nj.
It is coupled to main I / O line pair MIO including O. This I
/ O selection gate Nj is connected to row block selection signal φrb12.
And conduct in response to the logical product of column select signal Sj. Row block selection signal φrb12 is applied to memory sub-block M
Activated when one of SB1 and MSB2 is selected.

【0111】メモリサブブロックMSB1が選択された
ときには、ビット線分離制御信号φbig2が活性化さ
れてビット線分離ゲートBIG2が非導通状態とされ、
一方、ビット線分離ゲートBIG1は導通状態を維持す
る。したがって、センスアンプSAjは、ビット線対B
LP1に結合され、かつビット線対BLP2から切離さ
れる。デコード回路から与えられる信号φrb12・S
jが活性化され、I/O選択ゲートNjが導通し、セン
スアンプSAjによりラッチされたいたデータがメイン
I/O線対MIOに読出される。
When memory sub-block MSB1 is selected, bit line isolation control signal φbig2 is activated and bit line isolation gate BIG2 is rendered non-conductive.
On the other hand, bit line isolation gate BIG1 maintains a conductive state. Therefore, sense amplifier SAj is connected to bit line pair B
LP1 and disconnected from bit line pair BLP2. Signal φrb12 · S provided from decode circuit
j is activated, the I / O select gate Nj is turned on, and the data latched by the sense amplifier SAj is read out to the main I / O line pair MIO.

【0112】図12は、この図11に示すメモリサブブ
ロックおよびセンスアンプ群の間の接続を制御するため
の制御回路の構成を示す図である。図12において、制
御回路は、メモリサブブロックMSB2を含む行ブロッ
クを指定する行ブロック指定信号φrb2を反転してビ
ット線分離制御信号φbig1を生成するインバータV
G1と、メモリサブブロックMSB1を含む行ブロック
を指定する行ブロック指定信号φrb1を反転してビッ
ト線分離制御信号φbig2を生成するインバータVG
2と、行ブロック指定信号φrb1およびφrb2を受
けて行ブロック指定信号φrb12を生成するOR回路
OGを含む。このOR回路OGからの行ブロック指定信
号φrb12により、デコード回路が能動化されて、列
選択信号に従ってI/O線の選択を行なう。
FIG. 12 shows a structure of a control circuit for controlling connection between the memory sub-block and the sense amplifier group shown in FIG. In FIG. 12, the control circuit inverts row block designating signal φrb2 designating a row block including memory sub-block MSB2 to generate bit line isolation control signal φbig1.
G1 and an inverter VG that inverts a row block designating signal φrb1 designating a row block including memory sub-block MSB1 to generate bit line isolation control signal φbig2.
2 and an OR circuit OG receiving row block designating signals φrb1 and φrb2 to generate row block designating signal φrb12. The decode circuit is activated by a row block designating signal φrb12 from OR circuit OG, and selects an I / O line according to a column select signal.

【0113】この図12に示す配置においては、行ブロ
ック指定信号φrb1が活性化される(Hレベル)と、
ビット線分離制御信号φbig2が活性化されてメモリ
サブブロックMSB2がセンスアンプSAjから切離さ
れる。また、行ブロック指定信号φrb12がまた活性
化され、デコード回路を能動化し、コラム選択信号に従
ったI/O線の選択が行なわれる。行ブロック指定信号
φrb2は非活性状態に保持されるため、ビット線分離
制御信号φbig1は非活性状態を保持し、持続的にビ
ット線対BLP1をセンスアンプSAjに結合する。メ
モリサブブロックMSB2が選択された場合には、行ブ
ロック指定信号φrb2が活性化され、行ブロック指定
信号φrb12およびビット線分離制御信号φbig1
が活性化され、一方、ビット線分離制御信号φbig2
が非活性状態に保持される。
In the arrangement shown in FIG. 12, when row block designating signal φrb1 is activated (H level),
Bit line isolation control signal φbig2 is activated, and memory sub-block MSB2 is disconnected from sense amplifier SAj. Row block designating signal φrb12 is also activated to activate the decode circuit and select an I / O line according to the column select signal. Since row block designating signal φrb2 is held in an inactive state, bit line isolation control signal φbig1 holds an inactive state and continuously couples bit line pair BLP1 to sense amplifier SAj. When memory sub block MSB2 is selected, row block designating signal φrb2 is activated, and row block designating signal φrb12 and bit line isolation control signal φbig1 are activated.
Is activated, while bit line isolation control signal φbig 2
Are kept inactive.

【0114】メモリサブブロックMSB1およびMSB
2は、図9に示すメモリサブブロックMSBc−MSB
fの隣接メモリサブブロックを代表的に示している。し
たがってこのシェアードセンスアンプを交互配置する構
成においても、デコード回路を分散配置させることによ
り、アレイ占有面積を低減することができる。
Memory sub-blocks MSB1 and MSB
2 is a memory sub-block MSBc-MSB shown in FIG.
The representative memory sub-block f is representatively shown. Therefore, even in the configuration in which the shared sense amplifiers are alternately arranged, the area occupied by the array can be reduced by distributing the decode circuits.

【0115】[実施の形態3]図13は、この発明の実
施の形態3に従う半導体記憶装置の要部の構成を概略的
に示す図である。図13においては、2行3列に配列さ
れるメモリサブブロックMSBaa〜MSBacおよび
MSBba〜MSBbcを代表的に示す。メモリサブブ
ロックの間の領域においてメインコラム選択線SG(複
数ビット)が列方向に延在するように配設される。行ブ
ロック選択信号とコラム選択線上のコラム選択信号とを
受けるデコーダは、2つのメモリサブブロックに共通に
設けられる。
[Third Embodiment] FIG. 13 schematically shows a structure of a main portion of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention. FIG. 13 representatively shows memory sub blocks MSBaa to MSBac and MSBba to MSBbc arranged in two rows and three columns. In a region between memory sub-blocks, main column select line SG (multiple bits) is arranged to extend in the column direction. A decoder receiving a row block selection signal and a column selection signal on a column selection line is provided commonly to two memory sub-blocks.

【0116】メモリサブブロックMSBaaに対して
は、デコード回路DECa0が配設され、メモリサブブ
ロックMSBabおよびMSBacに対しデコード回路
DECa1が設けられる。メモリサブブロックMSBb
aおよびMSBbbに共通に、デコード回路DECb0
が設けられる。メモリサブブロックMSBbcおよび図
示しないメモリサブブロックに対し、デコード回路DE
Cb1が設けられる。デコード回路DECa0の出力す
るローカルコラム選択信号LSaaは、メモリサブブロ
ックMSBaaと図示しないメモリサブブロックに与え
られる。デコード回路DECa1の出力するローカルコ
ラム選択信号LSabは、メモリサブブロックMSBa
bおよびMSBacに与えられる。デコード回路DEC
b0の出力するローカルコラム選択信号LSbaは、メ
モリサブブロックMSBbaおよびMSBbbに与えら
れる。デコード回路DECb1の出力するローカルコラ
ム選択信号LSbbは、メモリサブブロックMSBac
および図示しないメモリサブブロックに与えられる。
A decode circuit DECa0 is provided for memory sub-block MSBaa, and a decode circuit DECa1 is provided for memory sub-blocks MSBab and MSBac. Memory sub-block MSBb
a and the MSBbb, a decoding circuit DECb0
Is provided. Decode circuits DE for memory sub-block MSBbc and a memory sub-block (not shown)
Cb1 is provided. Local column select signal LSaa output from decode circuit DECa0 is applied to memory sub-block MSBaa and a memory sub-block (not shown). The local column selection signal LSab output from the decode circuit DECa1 is the memory sub-block MSBa
b and MSBac. Decode circuit DEC
Local column select signal LSba output from b0 is applied to memory sub-blocks MSBba and MSBbb. The local column selection signal LSbb output from the decode circuit DECb1 is output from the memory sub-block MSBac
And a memory sub-block (not shown).

【0117】デコード回路DECa0、DECa1、D
ECb0およびDECb1は、それぞれ複数ビットのコ
ラム選択信号を生成する。列延在方向においては、2つ
のメモリサブブロックごとにデコード回路が配設され
る。行ブロック選択信号φrbaおよびφrbbは、そ
れぞれ対応の行ブロックのメモリサブブロックを選択す
る。2つのメモリサブブロックに共通にデコード回路を
配設することにより、デコード回路の数を低減すること
ができ、デコード回路の占有面積を低減することができ
る。1つおきのセンスアンプ帯領域および1つおきのブ
ロック間領域にデコード回路を配置することにより、行
方向および列方向におけるデコード回路のレイアウトピ
ッチを緩和することができる(行方向および列方向につ
いて、デコード回路のデコーダを分散配置させることが
できるため)。
Decode circuits DECa0, DECa1, D
ECb0 and DECb1 each generate a column select signal of a plurality of bits. In the column extending direction, a decode circuit is provided for every two memory sub-blocks. Row block selection signals φrba and φrbb select memory sub-blocks of the corresponding row block, respectively. By arranging the decoding circuits in common for the two memory sub-blocks, the number of decoding circuits can be reduced, and the area occupied by the decoding circuits can be reduced. By arranging the decode circuits in every other sense amplifier band area and every other block area, the layout pitch of the decode circuits in the row direction and the column direction can be relaxed (in the row direction and the column direction, The decoders of the decoding circuit can be distributed).

【0118】[変更例1]図14は、この発明の実施の
形態3の変更例1の構成を概略的に示す図である。図1
4においては、行方向に整列して配置される3つのメモ
リサブブロックMSBa〜MSBbを代表的に示す。ブ
ロック間領域ARaにおいて、行ブロック選択信号φr
bとメインコラム選択線SG2上のコラム選択信号を受
けてメモリサブブロックに対するローカルコラム選択信
号LS2を生成するデコーダ1baと、行ブロック選択
信号φrbとメインコラム選択線SG3上のコラム選択
信号とを受けてローカルコラム選択信号LS3を生成し
てメモリサブブロックMSBaおよび図示しないメモリ
サブブロックへ与えるデコーダ1caが設けられる。
[First Modification] FIG. 14 schematically shows a structure of a first modification of the third embodiment of the present invention. FIG.
4 representatively shows three memory sub-blocks MSBa to MSBb arranged in a row. In the inter-block region ARa, the row block selection signal φr
b, a decoder 1ba for receiving the column selection signal on the main column selection line SG2 to generate a local column selection signal LS2 for the memory sub-block, and receiving a row block selection signal φrb and a column selection signal on the main column selection line SG3. Decoder 1ca for generating local column select signal LS3 to apply to memory sub-block MSBa and a memory sub-block (not shown).

【0119】ブロック間領域ARbにおいて、メインコ
ラム選択線SG1上のコラム選択信号と行ブロック選択
信号φrbとを受けてメモリサブブロックMSBaおよ
びMSBbに対するローカルコラム選択信号LS1を生
成するデコーダ1aaと、行ブロック選択信号φrbと
メインコラム選択線SG4上のコラム選択信号とを受け
てメモリサブブロックMSBaおよびMSBbに対する
ローカルコラム選択信号LS4を生成するデコーダ1d
aが設けられる。
In inter-block region ARb, a decoder 1aa receiving a column select signal on main column select line SG1 and a row block select signal φrb to generate local column select signal LS1 for memory sub-blocks MSBa and MSBb, and a row block Decoder 1d receiving selection signal φrb and a column selection signal on main column selection line SG4 to generate local column selection signal LS4 for memory sub-blocks MSBa and MSBb.
a is provided.

【0120】ブロック間領域ARcにおいては、メイン
コラム選択線SG2上のコラム選択信号と行ブロック選
択信号φrbとを受けてメモリサブブロックMSBbお
よびMSBcに対するローカルコラム選択信号LS2を
生成するデコーダ1bbと、行ブロック選択信号φrb
とメインコラム選択線SG3上のコラム選択信号とを受
けてメモリサブブロックMSBbおよびMSBcに対す
るローカルコラム選択信号LS3を生成するデコーダ1
cbが設けられる。メモリサブブロックMSBcに対し
ては、また、図示しないデコーダからのローカルコラム
選択信号LS1およびLS4が与えられる。
In inter-block region ARc, a decoder 1bb for receiving a column select signal on main column select line SG2 and a row block select signal φrb to generate local column select signal LS2 for memory sub-blocks MSBb and MSBc, Block selection signal φrb
And a column selection signal on main column selection line SG3 to generate a local column selection signal LS3 for memory sub-blocks MSBb and MSBc.
cb is provided. Local column select signals LS1 and LS4 from a decoder (not shown) are applied to memory sub-block MSBc.

【0121】この図14に示すように、ローカルコラム
選択信号の組に応じて、選択されるメモリサブブロック
を異ならせることにより、メモリブロック間領域AR
(ARa〜ARc)に配設されるデコーダの数を低減す
ることができ、デコーダのピッチ条件を緩和することが
でき、容易にデコーダを配置することができる。
As shown in FIG. 14, by selecting different memory sub-blocks in accordance with a set of local column selection signals, inter-memory block area AR
The number of decoders arranged in (ARa to ARc) can be reduced, the pitch condition of the decoder can be relaxed, and the decoder can be easily arranged.

【0122】行ブロック選択信号φrbが選択状態へ駆
動されたときメモリサブブロックMSBa〜MSBcに
おいて列選択動作が行なわれるため、デコーダの出力す
るローカルコラム選択信号が伝達されるメモリサブブロ
ックの組合せが異なる場合においても、各メモリサブブ
ロックにおいて指定されたセンスアンプの組が選択さ
れ、メインI/O線対への接続が正確に行なわれる。
When row block select signal φrb is driven to the selected state, a column select operation is performed in memory sub blocks MSBa to MSBc. Therefore, the combination of memory sub blocks to which the local column select signal output from the decoder is transmitted is different. Also in this case, a set of sense amplifiers specified in each memory sub-block is selected, and connection to the main I / O line pair is performed accurately.

【0123】[変更例2]図15は、この発明の実施の
形態3の変更例2の構成を概略的に示す図である。図1
0においては、メモリサブブロックMSBa〜MSBc
の列方向についての上側に、デコーダ1ba、1daお
よび1bbが配置される。この分散配置を除いて、図1
5に示す配置は図14に示す配置と同じであり、対応す
る部分には同一参照番号を付す。
[Modification 2] FIG. 15 schematically shows a structure of a modification 2 of the embodiment 3 of the invention. FIG.
0, the memory sub-blocks MSBa to MSBc
The decoders 1ba, 1da and 1bb are arranged on the upper side in the column direction. Excluding this distributed arrangement, FIG.
The arrangement shown in FIG. 5 is the same as the arrangement shown in FIG. 14, and corresponding parts are denoted by the same reference numerals.

【0124】この図15に示す配置においては、デコー
ダが、メモリサブブロックの列方向についての上側およ
び下側の両領域に分散して配置される。したがって、デ
コーダのピッチ条件をさらに緩和することができ、余裕
をもってデコーダを配置することができる。これによ
り、センスアンプ帯領域の列方向に沿ってのサイズが増
大するのを抑制することができ、アレイ面積の増大を抑
制することができる。
In the arrangement shown in FIG. 15, decoders are dispersedly arranged in both the upper and lower regions in the column direction of the memory sub-block. Therefore, the pitch condition of the decoder can be further relaxed, and the decoder can be arranged with a margin. This can suppress an increase in the size of the sense amplifier band region along the column direction, and can suppress an increase in the array area.

【0125】なお言うまでもなく、このメモリサブブロ
ックが、4分割されるのではなく、さらに2分割、8分
割または16分割の構成であってもよい。この分割数に
合わせて、デコーダの数も変化する。デコーダの数が増
大しても、図14または図15に示す配置により、十分
余裕をもってデコーダを配置することができる。
Needless to say, the memory sub-block may be divided into two, eight or sixteen divisions instead of being divided into four. The number of decoders also changes according to the number of divisions. Even if the number of decoders increases, the arrangement shown in FIG. 14 or 15 allows the decoders to be arranged with a sufficient margin.

【0126】[変更例3]図16は、この発明の実施の
形態3の変更例3に従うデコード回路の配置を概略的に
示す図である。図16において、メモリサブブロックM
SBa−MSBcが行方向に整列して配置され、メモリ
サブブロックMSBd−MSBfが行方向に整列して配
置される。メモリサブブロックMSBaおよびMSBd
の間に、これらに共有されるようにセンスアンプ群SA
Gadが配置され、メモリサブブロックMSBbおよび
MSBeの間にこれらに共有されるようにセンスアンプ
群SAGbeが配置され、メモリサブブロックMSBc
およびMSBfの間にこれらに共有されるようにセンス
アンプ群SAGcfが配置される。すなわち、センスア
ンプ群SAGab、SAGbeおよびSAGcfは、図
8から図11に示すような交互配置型シェアードセンス
アンプ構成を有する。
[Modification 3] FIG. 16 schematically shows an arrangement of a decoding circuit according to a modification 3 of the embodiment 3 of the invention. In FIG. 16, the memory sub-block M
SBa-MSBc are arranged in the row direction, and memory sub-blocks MSBd-MSBf are arranged in the row direction. Memory sub-blocks MSBa and MSBd
Between the sense amplifiers SA
Gad is arranged, and a sense amplifier group SAGbe is arranged between memory sub-blocks MSBb and MSBe so as to be shared between them.
A sense amplifier group SAGcf is arranged between and MSBf so as to be shared by them. That is, the sense amplifier groups SAGab, SAGbe and SAGcf have an alternately arranged shared sense amplifier configuration as shown in FIGS.

【0127】ブロック間領域ARa、ARbおよびAR
cそれぞれにおいて、メモリサブブロックMSBa、M
SBbおよびMSBcの列方向の上側にデコード回路1
ba、1daおよび1bbが配置される。デコード回路
1baは選択時、メモリサブブロックMSBaおよび図
示しない行および列方向に隣接するメモリサブブロック
に対するローカルコラム選択信号LS2を生成する。デ
コード回路1daは、選択時、メモリサブブロックMS
Ba、MSBbおよびこれらと列方向において隣接する
メモリサブブロックに対するローカルコラム選択信号L
S4を生成する。デコード回路1bbは、選択時、メモ
リサブブロックMSBb、MSBcおよびこれらと列方
向において隣接する図示しないメモリサブブロックに対
するローカルコラム選択信号LS2を生成する。
Inter-block areas ARa, ARb and AR
c, the memory sub-blocks MSBa, M
A decoding circuit 1 is provided above the SBb and MSBc in the column direction.
ba, 1da and 1bb are arranged. When selected, decode circuit 1ba generates local column select signal LS2 for memory sub-block MSBa and a memory sub-block (not shown) adjacent in the row and column directions. When selected, the decode circuit 1da activates the memory sub-block MS
Local column select signal L for Ba, MSBb and memory sub-blocks adjacent thereto in the column direction.
Generate S4. When selected, decode circuit 1bb generates a local column select signal LS2 for memory sub-blocks MSBb and MSBc and a memory sub-block (not shown) adjacent thereto in the column direction.

【0128】ブロック間領域ARa、ARbおよびAR
cそれぞれにおいて、メモリサブブロックMSBa−M
SBcとメモリサブブロックMSBd−MSBfの間に
デコード回路1ca、1aaおよび1cbが配置され
る。デコード回路1caは、選択時メモリサブブロック
MSBaおよびMSBdおよび行方向において隣接する
メモリサブブロックに対するローカルコラム選択信号L
S3を生成する。デコード回路1aaは、選択時、メモ
リサブブロックMSBa、MSBd、MSBb、および
MSBeに対するローカルコラム選択信号LS1を生成
する。デコード回路1cbは、選択時、メモリサブブロ
ックMSBb、MSBc、MSBeおよびMSBfに対
するローカルコラム選択信号LS3を生成する。センス
アンプ群SAGab、SAGbeおよびSAGcfに含
まれるセンスアンプはこれらのデコード回路1ca、1
aaおよび1cbにより選択される。
Inter-block areas ARa, ARb and AR
c, the memory sub-blocks MSBa-M
Decoding circuits 1ca, 1aa and 1cb are arranged between SBc and memory sub-blocks MSBd-MSBf. Decoding circuit 1ca provides local column select signal L for memory sub-blocks MSBa and MSBd at the time of selection and memory sub-blocks adjacent in the row direction.
Generate S3. When selected, decode circuit 1aa generates a local column select signal LS1 for memory sub-blocks MSBa, MSBd, MSBb, and MSBe. When selected, decode circuit 1cb generates local column select signal LS3 for memory sub-blocks MSBb, MSBc, MSBe and MSBf. The sense amplifiers included in sense amplifier groups SAGab, SAGbe and SAGcf are provided with decode circuits 1ca, 1ca,
aa and 1cb.

【0129】さらに、メモリサブブロックMSBd、M
SBeおよびMSBfに対して、ブロック間領域AR
a、ARbおよびARcそれぞれにおいてデコード回路
1bb、1dbおよび1bcが設けられる。デコーダ回
路1bbは、メモリサブブロックMSBdおよびこれと
行方向において隣接するメモリサブブロックに対するロ
ーカルコラム選択信号LS2を生成する。デコード回路
1dbは、選択時、メモリサブブロックMSBd、MS
Beに対するローカルコラム選択信号LS4を生成し、
デコード回路1bcが、選択時、メモリサブブロックM
SBeおよびMSBfに対するローカルコラム選択信号
LS2を生成する。デコード回路1bb、1dbおよび
1bcにより、メモリサブブロックMSBd−MSBf
と列方向において隣接するメモリサブブロックにより共
有されるセンスアンプ群からセンスアンプが選択され
る。
Further, memory sub-blocks MSBd, M
For SBe and MSBf, the inter-block area AR
a, ARb and ARc are provided with decode circuits 1bb, 1db and 1bc, respectively. Decoder circuit 1bb generates local column select signal LS2 for memory sub-block MSBd and a memory sub-block adjacent thereto in the row direction. When selected, the decode circuit 1db operates at the memory sub-blocks MSBd and MSBd.
A local column selection signal LS4 for Be is generated,
When the decode circuit 1bc is selected, the memory sub-block M
A local column select signal LS2 for SBe and MSBf is generated. Decoding circuits 1bb, 1db and 1bc provide memory sub-blocks MSBd-MSBf
A sense amplifier is selected from a sense amplifier group shared by memory sub-blocks adjacent in the column direction.

【0130】メモリサブブロックMSBa−MSBcを
含む行ブロックが選択されたときには、デコード回路1
ba、1da、1bb、1ca、1aaおよび1cbが
能動化される。メモリサブブロックMSBb−MSBf
を含む行ブロックが選択されたときには、デコード回路
1ca、1aa、1cb、1bb、1dbおよび1bc
が能動化される。
When a row block including memory sub-blocks MSBa-MSBc is selected, decode circuit 1
ba, 1da, 1bb, 1ca, 1aa and 1cb are activated. Memory sub-block MSBb-MSBf
Are selected, decode circuits 1ca, 1aa, 1cb, 1bb, 1db and 1bc
Is activated.

【0131】この図16に示す構成においてもセンスア
ンプが列方向において隣接するメモリサブブロックによ
り共有されており、センスアンプ帯の占有面積を低減す
ることができる。
In the structure shown in FIG. 16 as well, sense amplifiers are shared by memory sub-blocks adjacent in the column direction, and the area occupied by the sense amplifier band can be reduced.

【0132】以上のように、この発明の実施の形態3に
従えば、隣接するメモリサブブロックでローカルコラム
選択信号を生成するデコーダを共有するように構成して
いるため、デコード回路のピッチ条件が緩和され、余裕
をもってデコード回路に含まれるデコーダを配置するこ
とができる。
As described above, according to the third embodiment of the present invention, the decoder for generating the local column select signal is shared by the adjacent memory sub-blocks. As a result, the decoder included in the decoding circuit can be arranged with a margin.

【0133】[実施の形態4]図17は、この発明の実
施の形態4に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。図17において、この半導体記憶装置
は、各々が複数の行ブロックを含む複数のバンクB♯0
〜B♯3を含む。バンクB♯0〜B♯3に共通にロウデ
コーダ/ドライバ5およびコラムデコーダ6が設けられ
る。バンクB♯0〜B♯3は、それぞれ互いに独立にワ
ード線を選択/非選択状態へ駆動することができる。コ
ラムデコーダ6からのメインコラム選択線は、列方向に
延在して配置され、かつこれらのバンクB♯0〜B♯3
に共通に設けられる。また、メインI/O線対MIO
も、同様、列方向に延在し、かつこれらのバンクB♯0
〜B♯3に共通に配設される。したがって、複数のバン
クが選択状態に駆動されているとき、バンクを選択し、
そのバンクに含まれる行ブロックに対し、列選択動作を
行なう必要がある。
[Fourth Embodiment] FIG. 17 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 17, the semiconductor memory device includes a plurality of banks B # 0 each including a plurality of row blocks.
~ B♯3. Row decoder / driver 5 and column decoder 6 are provided commonly to banks B # 0-B # 3. Banks B # 0-B # 3 can each independently drive a word line to a selected / non-selected state. Main column select lines from column decoder 6 are arranged extending in the column direction, and are provided in banks B # 0-B # 3.
Are provided in common to Also, the main I / O line pair MIO
Also extends in the column direction, and these banks B # 0
~ B # 3. Therefore, when a plurality of banks are driven to the selected state, the bank is selected,
It is necessary to perform a column selecting operation on a row block included in the bank.

【0134】図18(A)は、行ブロック選択信号発生
部の構成を概略的に示す図である。図18(A)におい
て、行ブロック選択信号発生部は、外部から与えられる
バンクアドレスBAをデコードしてバンク指定信号φb
aを生成するバンクデコーダ10と、外部から与えられ
るブロックアドレスBCAをデコードし、ブロック指定
信号φbbを生成するブロックデコーダ11と、バンク
デコーダ10からのバンク指定信号φbaおよびブロッ
クデコーダ11からのブロック指定信号φbbとに従っ
て行ブロック選択信号φrbを発生するデコード回路1
2を含む。このデコード回路12は、AND回路でたと
えば構成される。
FIG. 18A schematically shows a structure of a row block selection signal generating portion. In FIG. 18A, a row block selection signal generating section decodes an externally applied bank address BA to output bank designation signal φb
a, a block decoder 11 that decodes an externally applied block address BCA to generate a block specifying signal φbb, a bank specifying signal φba from the bank decoder 10, and a block specifying signal from the block decoder 11. decode circuit 1 generating row block select signal φrb in accordance with φbb
2 inclusive. This decode circuit 12 is formed of, for example, an AND circuit.

【0135】図18(B)は、図18(A)に示すアド
レス印加態様を示す図である。この半導体記憶装置は、
図18(B)に示すように、クロック信号CLKに同期
して、外部から与えられる信号を取込んで内部動作を実
行する。クロック信号CLKの立上がりエッジにおい
て、外部から与えられるコマンドextCMが所定の状
態に設定され、コラムアクセスコマンド(データのリー
ドまたはライトを指定するコマンド)が与えられる。こ
のときまたバンクアドレスBA、ブロックアドレスBC
Aおよび列選択アドレスYAが与えられる。
FIG. 18 (B) is a diagram showing the address application mode shown in FIG. 18 (A). This semiconductor storage device
As shown in FIG. 18B, in synchronization with clock signal CLK, an externally applied signal is taken in to execute an internal operation. At the rising edge of clock signal CLK, externally applied command extCM is set to a predetermined state, and a column access command (command for designating data read or write) is applied. At this time, the bank address BA and the block address BC
A and a column selection address YA are provided.

【0136】クロック信号CLKの立上がりエッジでこ
れらのアドレスBA、BCAおよびYAが取込まれる。
バンクアドレスBAが、図18(A)に示すバンクデコ
ーダ10へ与えられ、ブロックアドレスBCAが、図1
8(A)に示すブロックデコーダ11へ与えられる。Y
アドレスYAが、図17に示すコラムデコーダ6へ与え
られる。したがって、メモリアレイが複数のバンクに分
割され、各バンクが複数の行ブロックを含む場合におい
ても、コラムアクセス時において、バンクおよびブロッ
クアドレスを同時に与えることにより、活性状態とされ
たバンクにおける行ブロックを選択することができる。
列は、ブロックアドレスBCAおよび列選択アドレスに
より指定される。
Addresses BA, BCA and YA are taken in at the rising edge of clock signal CLK.
Bank address BA is applied to bank decoder 10 shown in FIG. 18A, and block address BCA is
8 (A). Y
Address YA is applied to column decoder 6 shown in FIG. Therefore, even when the memory array is divided into a plurality of banks and each bank includes a plurality of row blocks, the row block in the activated bank can be provided by simultaneously providing the bank and the block address at the time of column access. You can choose.
A column is specified by a block address BCA and a column selection address.

【0137】なお、先の実施の形態1から3においては
特に説明していないが、バンク構成を有せず、通常の1
バンク構成の場合、選択ワード線を含む行ブロックに対
するアクセスが行なわれるため、この行ブロック選択信
号は、ロウアドレスとともに与えられてもよい。選択行
ブロックに対しては、列選択前に既に活性状態とされた
行ブロック選択信号が与えられており、列選択時に活性
選択状態へ駆動される列選択信号に従って高速で列選択
動作を行なうことができる。
Although not specifically described in the first to third embodiments, the first to third embodiments do not have a bank configuration and have an ordinary one.
In the case of the bank configuration, since a row block including a selected word line is accessed, the row block selection signal may be applied together with a row address. A row block selection signal already activated before column selection is applied to the selected row block, and a high-speed column selection operation is performed according to a column selection signal driven to an active selection state when a column is selected. Can be.

【0138】また、実施の形態1から3において行ブロ
ック選択信号も、また列アドレスから生成されてもよ
い。すなわち、列アドレスが、行ブロックを指定するア
ドレスと、列を指定するアドレスを含んでもよい。ま
た、ブロックアドレスが行および列アクセス時に与えら
れてもよい。
In the first to third embodiments, the row block selection signal may also be generated from the column address. That is, the column address may include an address specifying a row block and an address specifying a column. Further, a block address may be given at the time of row and column access.

【0139】以上のように、この発明の実施の形態4に
従えば、複数バンクを有する半導体記憶装置においてバ
ンクが複数の行ブロックを含む場合、このバンクアドレ
スとブロックアドレスとに基づいて行ブロック選択信号
を生成しているため、正確に必要とされる行ブロックの
みを、メインI/O線対に接続することができる。
As described above, according to the fourth embodiment of the present invention, when a bank includes a plurality of row blocks in a semiconductor memory device having a plurality of banks, row block selection is performed based on the bank address and the block address. Since the signals are generated, only the row blocks that are exactly required can be connected to the main I / O line pair.

【0140】なお、1つのバンクが1つの行ブロックで
構成される場合には、特にバンク指定信号とブロック指
定信号とに従って行ブロック選択信号を生成する必要は
ない。単に、コラムアクセスコマンドとともに与えられ
るバンク指定信号に従って行ブロック選択信号を生成す
ればよい。
When one bank is composed of one row block, it is not necessary to generate a row block selection signal according to the bank designation signal and the block designation signal. It is sufficient to simply generate the row block selection signal according to the bank designation signal provided together with the column access command.

【0141】[変更例]図19は、この発明の実施の形
態4の変更例のバンク構成を示す図である。図19にお
いて、バンクB♯は、それぞれが複数のワード線を含む
複数の行ブロック♯1−♯nを含む。メモリアレイにお
いては、図19に示すバンクB♯が複数個列方向に整列
して配置される。
[Modification] FIG. 19 shows a bank configuration of a modification of the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 19, bank B # includes a plurality of row blocks # 1- # n each including a plurality of word lines. In the memory array, a plurality of banks B # shown in FIG. 19 are arranged in the column direction.

【0142】行ブロック♯1−♯nに対応してラッチL
H1−LHnおよびゲート回路GTT1−GTTnが設
けられる。ラッチLH1−LHnは、バンクデコーダB
ADERからの行バンク選択信号φbarに応答する行
ブロックデコーダRBDECからの行ブロック指定信号
φbrf1−φbrfn(φrf)をそれぞれラッチす
る。行ブロックデコーダRBDECは、行アクセスを指
示するアクティブコマンドが与えられたとき、ブロック
アドレス信号BKADをデコードする。バンクデコーダ
BADERは、アクティブコマンドが与えられたときに
活性化される行アクセス指示信号RACCに応答して活
性化されて、バンクアドレス信号BAをデコードする。
Latch L corresponding to row block # 1- # n
H1-LHn and gate circuits GTT1-GTTn are provided. Latches LH1-LHn are connected to bank decoder B
Latches row block designating signals φbrf1-φbrfn (φrf) from row block decoder RBDEC in response to row bank selection signal φbar from ADER. Row block decoder RBDEC decodes block address signal BKAD when an active command designating row access is applied. Bank decoder BADER is activated in response to a row access instruction signal RACC activated when an active command is applied, and decodes bank address signal BA.

【0143】ゲート回路GTT1−GTTnはそれぞ
れ、対応のラッチLH(LH1−LHn)の出力信号φ
brl(φbrl1−φbrln)とバンクデコーダB
ADECからのバンク指示信号φbacとを受けて、対
応の行ブロック♯(♯1−♯n)に対する行ブロック選
択信号φbr(φbr1−φbrn)を生成する。行ブ
ロック♯は、シェアードセンスアンプ構成を有してもよ
く、また各行ブロックそれぞれに対応してセンスアンプ
が設けられてもよい。
Gate circuits GTT1-GTTn respectively output signal φ of corresponding latch LH (LH1-LHn).
brl (φbrl1-φbrln) and bank decoder B
Receiving bank instruction signal φbac from ADEC, it generates a row block selection signal φbr (φbr1-φbrn) for the corresponding row block # (# 1- # n). Row block # may have a shared sense amplifier configuration, and a sense amplifier may be provided corresponding to each row block.

【0144】バンクデコーダBADECは、列アクセス
指示信号CACCに応答して活性化され、バンクアドレ
ス信号BAをデコードしてバンク指示信号φbacを生
成する。列アクセス指示信号CACCは、データの書込
または読出を指示する書込/読出コマンド(アクセスコ
マンド)が与えられたときに活性化される。次に、この
図19に示す構成の動作を、図20に示すタイミングチ
ャートを参照して説明する。
Bank decoder BADEC is activated in response to column access designating signal CACC, and decodes bank address signal BA to generate bank designating signal φbac. Column access instruction signal CACC is activated when a write / read command (access command) for instructing data writing or reading is applied. Next, the operation of the configuration shown in FIG. 19 will be described with reference to the timing chart shown in FIG.

【0145】外部からのコマンドexpCMが所定の状
態に設定され、クロック信号の立上がりエッジにおいて
アクティブコマンドとして与えられると、そのときに同
時に与えられているバンクアドレス信号BAならびに行
ブロックアドレス信号BKADおよび行アドレス信号R
Aを含むアドレス信号ADが取込まれ、行ブロックデコ
ーダRBDECおよびバンクデコーダBADERが活性
化され、これらのアドレス信号BKADおよびRAをデ
コードする。応じて、アドレス指定された行ブロックに
対する行ブロック指示信号φbrfが活性化される。ラ
ッチLH1−LHnが、それぞれ、バンクデコーダBA
DERからのバンク指示信号φbarの活性化に応答し
て、行ブロック指示信号φbrf1−φbrfnを取込
みラッチする。バンク指示信号φbarが非活性状態と
なると、ラッチLH1−LHnが、ラッチ状態となる。
別バンクに対するアクティブコマンドが与えられても、
バンクB♯に対するバンク指示信号φbarは非活性状
態にあるため、ラッチLH1−LHnはラッチ状態に保
持され、別バンクにおいて、ラッチが行ブロック指示信
号をラッチする。
When an external command expCM is set to a predetermined state and applied as an active command at the rising edge of the clock signal, bank address signal BA, row block address signal BKAD and row address Signal R
Address signal AD including A is taken in, row block decoder RBDEC and bank decoder BADER are activated, and decode these address signals BKAD and RA. In response, row block instruction signal φbrf for the addressed row block is activated. Latches LH1-LHn are respectively connected to bank decoder BA
In response to activation of bank instruction signal φbar from DER, row block instruction signals φbrf1-φbrfn are taken in and latched. When bank instructing signal φbar is deactivated, latches LH1-LHn enter the latched state.
Even if an active command for another bank is given,
Since bank designating signal φbar for bank B # is inactive, latches LH1-LHn are held in the latched state, and the latch latches the row block designating signal in another bank.

【0146】読出または書込コマンドが与えられて、列
アクセスが指示されると、バンクアドレス信号BAおよ
びアドレス信号ADが取込まれる。ロウ系ブロックアド
レス信号BKADにより行ブロックが指定されており、
この列アクセス指示サイクルにおいては、何ら行ブロッ
クを特定するためのブロックアドレス信号は与えられな
い。バンクデコーダBADECが列アクセス指示に応答
して活性化されて、バンク指示信号φbacを生成する
(活性化する)。応じて、ゲート回路GTT1−GTT
nが能動化され、ラッチLH1−LHnにラッチされた
行ブロック指示信号に従って、行ブロック指示信号φb
r(φbr1−φbrn)を生成し、バンクB♯におけ
る行ブロックが特定される。列デコーダ(図示せず)が
列アドレス信号CAをデコードし、メインコラム選択線
上に列選択信号を生成する。これにより、特定された行
ブロックにおいてメモリサブブロック内の列が選択され
る。アクティブコマンドと同時に与えられる行系アドレ
ス信号により行ブロックが特定されていても、ラッチ回
路により行ブロック指示信号をラッチすることにより、
列アクセスサイクルにおいて正確に列選択動作を行なう
ことができる。
When a read or write command is applied and column access is instructed, bank address signal BA and address signal AD are taken in. The row block is specified by the row system block address signal BKAD,
In this column access instruction cycle, no block address signal for specifying a row block is supplied. Bank decoder BADEC is activated in response to the column access instruction to generate (activate) bank instruction signal φbac. Accordingly, gate circuits GTT1-GTT
n is activated and row block instruction signal φb is latched in accordance with the row block instruction signal latched by latches LH1-LHn.
r (φbr1−φbrn) is generated, and a row block in the bank B # is specified. A column decoder (not shown) decodes the column address signal CA and generates a column selection signal on a main column selection line. Thereby, a column in the memory sub-block is selected in the specified row block. Even if a row block is specified by a row-related address signal given at the same time as the active command, by latching the row block instruction signal by the latch circuit,
A column selecting operation can be accurately performed in a column access cycle.

【0147】図21は、図19に示すラッチLHの構成
の一例を示す図である。図21において、ラッチLH
は、バンク指示信号φbarに応答して導通し、行ブロ
ックデコーダからの出力信号φbrfを通過させる転送
ゲートTXFと、転送ゲートTXFを介して与えられた
信号をバッファ処理してラッチ行ブロック指示信号φb
rlを生成する2段の縦続接続されるインバータVG3
およびVG4と、インバータVG3とインバータラッチ
回路を形成するインバータVG5を含む。
FIG. 21 shows an example of the configuration of latch LH shown in FIG. In FIG. 21, the latch LH
Transfer buffer TXF, which conducts in response to bank designating signal φbar to pass output signal φbrf from row block decoder, and buffers a signal applied via transfer gate TXF to latch row block designating signal φb.
rl generating two stages of cascaded inverters VG3
And VG4, and an inverter VG5 forming an inverter latch circuit with the inverter VG3.

【0148】この図21に示す構成においては、ラッチ
LHは、バンク指示信号φbarが活性化されてHレベ
ルとなると、行ブロック指示信号φbrfを取込み、バ
ンク指示信号φbarがLレベルの非活性状態となると
ラッチ状態となる。ラッチLHは、対応のバンクが指定
されたとき、行ブロックデコーダからの行ブロック指示
信号を取込むため、1つのバンクにおいて複数の行ブロ
ックが同時に指定される状態は防止される。バンク指示
信号φbarの活性化時、バンク指示信号φbacは非
活性状態にあり、ゲート回路GTT1−GTTnは不能
動状態にある。
In the structure shown in FIG. 21, when bank designating signal .phi.bar is activated to attain an H level, latch LH takes in row block designating signal .phi.brf and sets bank designating signal .phi.bar to an inactive state of L level. Then, a latch state is set. Latch LH receives a row block instruction signal from a row block decoder when a corresponding bank is designated, so that a state in which a plurality of row blocks are designated simultaneously in one bank is prevented. When bank instructing signal φbar is activated, bank instructing signal φbac is inactive and gate circuits GTT1-GTTn are inactive.

【0149】図22は、行および列アクセス指示信号R
ACCおよびCACCを発生するコマンドデコーダCM
DECを示す図である。このコマンドデコーダCMDE
Cは、クロック信号CLKの立上がりエッジで与えられ
る内部コマンドCM(外部コマンドexpCMから生成
される)をデコードする。コマンドCMがアクティブコ
マンドのきには、行アクセス指示信号RACCが活性化
され、コマンドCMが読出または書込コマンドの場合に
は、列アクセス指示信号CACCが活性化される。
FIG. 22 shows a row and column access designating signal R
Command decoder CM for generating ACC and CACC
It is a figure showing DEC. This command decoder CMDE
C decodes internal command CM (generated from external command expCM) given at the rising edge of clock signal CLK. When command CM is an active command, row access instruction signal RACC is activated, and when command CM is a read or write command, column access instruction signal CACC is activated.

【0150】なお、図19に示す構成において、バンク
デコーダBADERおよびBADECは1つのバンクデ
コーダにより共有されてもよい。この場合には、バンク
指示信号φbarおよびφbacを振分けるためのセレ
クタが、この共通のバンクデコーダの出力部に設けられ
る。
In the structure shown in FIG. 19, bank decoders BADER and BADEC may be shared by one bank decoder. In this case, a selector for distributing bank designating signals φbar and φbac is provided at the output of the common bank decoder.

【0151】[実施の形態5]図23は、この発明の実
施の形態5に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。図23において、この半導体記憶装置
は、先の実施の形態1から4と同様、行方向および列方
向に整列して配置される複数のメモリサブブロックMS
Bを含む。メモリサブブロックMSBの列ブロックC♯
0、C♯1、C♯2、およびC♯3それぞれに対応し
て、メインI/O線対群MIOGaおよびMIOGb、
MIOGc、およびMIOGdが設けられる。これらの
メインI/O線対群MIOGa〜MIOGdは、それぞ
れ、対応の列ブロックC♯0〜C♯3に含まれるメモリ
サブブロックMSB上にわたって列方向に沿って延在し
て配置される。
[Fifth Embodiment] FIG. 23 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the invention. In FIG. 23, this semiconductor memory device includes a plurality of memory sub-blocks MS arranged in a row and a column in the same manner as in the first to fourth embodiments.
B. Column block C of memory sub-block MSB
0, C # 1, C # 2, and C # 3, respectively, corresponding to main I / O line pair groups MIOGa and MIOGb,
MIOGc and MIOGd are provided. These main I / O line pair groups MIOGa to MIOGd are arranged extending in the column direction over memory sub-blocks MSB included in corresponding column blocks C # 0 to C # 3.

【0152】ブロック間領域ARa〜AReにそれぞ
れ、メインコラム選択線SGが列方向に沿って延在して
配置される。これらのメインコラム選択線SGは、各列
ブロックごとに設けられる。したがって、メモリサブブ
ロックMSBそれぞれに対しては、行方向についての両
側に設けられたブロック間領域のメインコラム選択線上
の信号に従ってローカルコラム選択信号が与えられる。
In each of the inter-block regions ARa to ARe, main column selection lines SG are arranged extending in the column direction. These main column selection lines SG are provided for each column block. Therefore, a local column selection signal is applied to each of memory sub-blocks MSB in accordance with a signal on a main column selection line in an inter-block region provided on both sides in the row direction.

【0153】メモリアレイの一方側に、メインワード線
MWL(またはワード線WL)を選択状態へ駆動するた
めのロウデコーダ/ドライバ5が配設される。行ブロッ
クに共通に配設される行選択線が、メインワード線MW
Lであるか、ワード線WLであるかは、この半導体記憶
装置のアレイ構成に応じて定められる。
A row decoder / driver 5 for driving main word line MWL (or word line WL) to a selected state is provided on one side of the memory array. The row selection line commonly arranged in the row block is the main word line MW
Whether it is L or word line WL is determined according to the array configuration of the semiconductor memory device.

【0154】列ブロックC♯0〜C♯3それぞれに対応
して、対応のメインI/O線対群MIOGa〜MIOG
d上のデータの増幅を行なうメインアンプ群8a〜8d
が配設される。これらのメインアンプ群8a〜8dを挟
むように、ブロック間領域ARa〜AReそれぞれに対
応してコラムデコード回路6a〜6hが配置される。メ
インコラム選択線SGが、各メモリサブブロックに近接
して設けられたデコード回路へメインコラム選択信号を
伝達する。このメモリサブブロックMSBにおいては、
1/4、1/8および1/16などのデコード動作が行
なわれるだけであり、メインコラム選択線の数は、1、
8または16本程度である。したがって、これらのコラ
ムデコード回路6a〜6hは、その規模は小さいため、
十分余裕をもって、これらのブロック間領域ARa〜A
Reに配置することができる。
For each of column blocks C # 0-C # 3, corresponding main I / O line pair group MIOGa-MIOG
main amplifier groups 8a to 8d for amplifying the data on d.
Is arranged. Column decode circuits 6a to 6h are arranged corresponding to inter-block regions ARa to ARe so as to sandwich these main amplifier groups 8a to 8d. Main column select line SG transmits a main column select signal to a decode circuit provided in the vicinity of each memory sub-block. In this memory sub-block MSB,
Only decoding operations such as 1/4, 1/8, and 1/16 are performed.
The number is about 8 or 16. Therefore, these column decode circuits 6a to 6h are small in scale, so that
With sufficient margin, these inter-block areas ARa to A
Re.

【0155】図24は、図23に示すメインアンプ群の
構成を概略的に示す図である。図24において、メイン
アンプ群8(8a〜8d)は、メインI/O線対MIO
各々に対応して設けられるメインアンプ回路18aおよ
びライトドライバ18bを含む。メインアンプ回路18
aは、データ読出時活性化され、メインI/O線対MI
O上のデータを増幅する。ライトドライバ18bは、デ
ータ書込時に活性化され、書込データをメインI/O線
対MIO上に伝達する。
FIG. 24 is a diagram schematically showing a configuration of the main amplifier group shown in FIG. In FIG. 24, main amplifier group 8 (8a to 8d) includes a main I / O line pair MIO.
It includes a main amplifier circuit 18a and a write driver 18b provided corresponding to each. Main amplifier circuit 18
a is activated at the time of data reading, and main I / O line pair MI
Amplify the data on O. Write driver 18b is activated at the time of data writing, and transmits write data onto main I / O line pair MIO.

【0156】以上のように、この発明の実施の形態5に
従えば、ブロック間領域にコラムデコード回路を配置
し、列ブロックそれぞれに対してメインアンプ群を配置
することにより、効率的にこれらのメインアンプ群およ
びコラムデコーダを配置することができる。またメイン
コラム選択線およびメインI/O線とコラムデコーダお
よびメインアンプ群との接続経路は直線的となり、配線
長を最小とすることができる。
As described above, according to the fifth embodiment of the present invention, by arranging the column decode circuit in the inter-block region and arranging the main amplifier group for each of the column blocks, these can be efficiently performed. A main amplifier group and a column decoder can be arranged. Further, the connection path between the main column selection line and the main I / O line and the column decoder and the main amplifier group is linear, and the wiring length can be minimized.

【0157】[実施の形態6]図25は、この発明の実
施の形態6に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。図25に示す半導体記憶装置の構成に
おいては、コラムデコード回路6a〜6hおよびメイン
アンプ群8a〜8dは、列ブロック指定信号φcbに従
って選択的に活性化される。すなわち、この列ブロック
指定信号φcbが指定する列ブロックに対応して設けら
れたメインアンプ群およびコラムデコード回路のみが活
性化され、列選択動作およびデータ読出/書込動作を実
行する。図25においては、メインアンプ群8bならび
にコラムデコード回路6cおよび6dが選択された状態
が一例として示される。他の構成は、図23に示す構成
と同じである。
[Sixth Embodiment] FIG. 25 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention. In the configuration of the semiconductor memory device shown in FIG. 25, column decode circuits 6a to 6h and main amplifier groups 8a to 8d are selectively activated according to column block designating signal φcb. That is, only the main amplifier group and the column decode circuit provided corresponding to the column block designated by column block designating signal φcb are activated, and perform the column selecting operation and the data read / write operation. FIG. 25 shows an example in which main amplifier group 8b and column decode circuits 6c and 6d are selected. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG.

【0158】メモリ容量が増大するにつれ、メモリマッ
トのサイズも大きくなる。この場合、一度に動作するセ
ンスアンプの数が増加し、センスアンプによりラッチさ
れるデータのビット数が増大する。たとえば、256M
ビットDRAMにおいては、一度のロウアクセス(行選
択)で、4Kビットのデータがセンスアンプにラッチさ
れる。デコード回路により、1/4選択を行なったとし
ても、1Kビットのデータが選択される。この1Kビッ
トのデータ(128バイトワード)では、データの数が
多すぎる場合には、必要なデータビット幅に応じて、列
ブロック単位でコラムデコード回路およびメインアンプ
群の活性化を行なう。メインアンプ群8a〜8dを共通
にグローバルデータバス10に接続することにより、最
適なビット幅のデータを転送することができる。これに
より、データをプリフェッチするためのレジスタ回路の
規模の最適化および、同時に動作するメインアンプおよ
びレジスタ回路の数の最適化による消費電流の低減を実
現することができる。
As the memory capacity increases, the size of the memory mat also increases. In this case, the number of sense amplifiers operating at one time increases, and the number of bits of data latched by the sense amplifiers increases. For example, 256M
In a bit DRAM, 4K bits of data are latched by a sense amplifier in a single row access (row selection). Even if 1/4 selection is performed by the decoding circuit, 1K-bit data is selected. In the case of 1K-bit data (128-byte words), if the number of data is too large, the column decode circuit and the main amplifier group are activated in column block units according to the required data bit width. By connecting the main amplifier groups 8a to 8d to the global data bus 10 in common, data having an optimum bit width can be transferred. This makes it possible to optimize the scale of a register circuit for prefetching data and reduce current consumption by optimizing the number of main amplifiers and register circuits that operate simultaneously.

【0159】図26は、行ブロック選択信号および列ブ
ロック指定信号発生部の構成を概略的に示す図である。
図26において、ブロック指定信号発生部は、コラムア
クセス活性化信号φの活性化に応答して、与えられたア
ドレス信号Adrをデコードし行ブロック選択信号φr
bを生成する行ブロックデコーダ12と、コラムアクセ
ス活性化信号φの活性化に応答して、与えられたアドレ
ス信号Adcをデコードし列ブロック指定信号φcbを
生成する列ブロックデコーダ14を含む。コラムアクセ
ス活性化信号φは、データの書込または読出を指示する
コラムアクセスコマンドが与えられると活性化される。
FIG. 26 schematically shows a structure of a row block selection signal and column block designating signal generation unit.
In FIG. 26, a block designating signal generating section decodes a given address signal Adr in response to activation of a column access activating signal φ, and applies a row block selecting signal φr
b, and a column block decoder 14 for decoding a given address signal Adc and generating a column block designating signal φcb in response to activation of a column access activation signal φ. Column access activation signal φ is activated when a column access command instructing data writing or reading is applied.

【0160】列ブロックデコーダ14からの列ブロック
指定信号φcbが、コラムデコーダ6へ与えられる。コ
ラムデコーダ6に含まれるコラムデコード回路は、列ブ
ロック指定信号φcbが活性化されて対応の列ブロック
を指定しているときに、与えられたアドレス信号Ady
をデコードし対応のメインコラム選択線上にコラム選択
信号を生成する。
Column block designating signal φcb from column block decoder 14 is applied to column decoder 6. A column decode circuit included in column decoder 6 receives a given address signal Ady when column block designating signal φcb is activated to designate a corresponding column block.
And generates a column selection signal on the corresponding main column selection line.

【0161】列選択が列ブロック単位で行なわれてお
り、非選択列ブロックに対して設けられたメインI/O
線対群はスタンバイ状態に保持される。したがって、こ
れらには、データ読出時電流は何ら流れないため、電流
消費が低減される。
Column selection is performed in units of column blocks, and main I / Os provided for unselected column blocks are provided.
The line pairs are kept in a standby state. Therefore, no current flows during reading data, so that current consumption is reduced.

【0162】プリアンプ群8(8a〜8d)は、メイン
アンプ活性化信号PAEと列ブロック指定信号φcbを
受けるゲート回路15を介して制御信号を受ける。メイ
ンアンプ群8は、このゲート回路15の出力信号が活性
状態のとき、対応のメインI/O線対群上のデータの増
幅動作を実行する。
Preamplifier group 8 (8a-8d) receives a control signal via gate circuit 15 receiving main amplifier activation signal PAE and column block designating signal φcb. When the output signal of gate circuit 15 is in an active state, main amplifier group 8 executes an operation of amplifying data on a corresponding main I / O line pair group.

【0163】行ブロックデコーダ12からの行ブロック
選択信号φrbは、各メモリサブブロックに設けられた
デコード回路へ与えられる。この行ブロック選択信号φ
rbが指定する行ブロックとコラムブロック指定信号φ
cbが指定する列ブロックの交差部に対応して配置され
たメモリサブブロックに対してデータアクセスが行なわ
れる。
Row block select signal φrb from row block decoder 12 is applied to a decode circuit provided in each memory sub-block. This row block selection signal φ
row and column block designating signal φ designated by rb
Data access is performed to a memory sub-block arranged corresponding to the intersection of the column block designated by cb.

【0164】図25に示す構成においては、コラムデコ
ード回路6a−6bおよびメインアンプ群8a−8dが
コラムブロック単位で活性化される。これに代えて、図
27に示すように、列ブロック指示信号φcbに応答す
るセレクタSELRをメインアンプ群8a−8dとグロ
ーバルデータバス10との間に設けてもよい。メインI
/O線対群MIOGa−MIOGdはすべて、コラムデ
コード回路6a−6hの出力信号によって選択されたメ
モリセルのデータを受けてメインアンプ群8a−8dへ
伝達するが、これらのメインアンプ群8a−8dは、セ
レクタSELRにより列ブロック単位で選択されてグロ
ーバルデータバス10に結合される。したがって、グロ
ーバルデータバス10の幅は、列ブロックのサイズ単位
で修正することができる。セレクタSELRがメインア
ンプ群8a−8dとグローバルデータバス10との間の
接続経路をこのグローバルデータバス10に転送される
データビット幅に応じて変更する機能を有していれば、
グローバルデータバス10は、複数種類のデータビット
幅に対応することができる。
In the structure shown in FIG. 25, column decode circuits 6a-6b and main amplifier groups 8a-8d are activated in column block units. Alternatively, as shown in FIG. 27, a selector SELR responding to column block instruction signal φcb may be provided between main amplifier groups 8a-8d and global data bus 10. Main I
All / O line pair groups MIOGa-MIOGd receive the data of the memory cells selected by the output signals of column decode circuits 6a-6h and transmit the data to main amplifier groups 8a-8d, but these main amplifier groups 8a-8d Are selected in column block units by the selector SELR and are coupled to the global data bus 10. Therefore, the width of global data bus 10 can be modified in units of column block size. If the selector SELR has a function of changing the connection path between the main amplifier groups 8a-8d and the global data bus 10 according to the data bit width transferred to the global data bus 10,
The global data bus 10 can support a plurality of types of data bit widths.

【0165】以上のように、この発明の実施の形態6に
従えば、複数の列ブロックのうち所定数の列ブロックに
おいて列選択およびデータアクセスを行なうように構成
しているため、最適なビット幅のデータの転送を行なう
ことができ、内部回路規模の最適化および消費電流の最
適化を実現することができる。
As described above, according to the sixth embodiment of the present invention, column selection and data access are performed in a predetermined number of column blocks out of a plurality of column blocks. Data can be transferred, and the optimization of the internal circuit scale and the optimization of the current consumption can be realized.

【0166】[実施の形態7]図28は、この発明の実
施の形態7に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。この図28に示す構成においては、メ
モリサブブロックそれぞれに設けられるデコード回路
(ブロックデコード回路)は、同じローカルコラム選択
信号線をその行方向についての両側から駆動する。これ
により、メモリサブブロックの分割数が少なくなるかま
たは、メモリサブブロックの容量が増加し、行方向に沿
ってのサイズが大きくなった場合においても、高速でロ
ーカルコラム選択線を選択状態へ駆動することができ
る。他の構成は図15に示す構成と同じである。
[Seventh Embodiment] FIG. 28 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention. In the configuration shown in FIG. 28, a decode circuit (block decode circuit) provided in each memory sub-block drives the same local column select signal line from both sides in the row direction. As a result, even when the number of divisions of the memory sub-block is reduced or the capacity of the memory sub-block is increased and the size in the row direction is increased, the local column selection line is driven to the selected state at high speed. can do. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG.

【0167】図29は、1つのメモリサブブロックに関
連する部分の構成を示す図である。図29において、メ
モリサブブロックMSBの行方向に沿っての両側に、メ
インコラム選択線SGaおよびSGbの組がそれぞれ配
置される。メモリサブブロックMSBの列方向について
の下側の領域において、メインコラム選択線SGa上の
コラム選択信号と行ブロック選択信号φrbを受けるデ
コード回路20aaと、ブロック間領域AR♯bに設け
られたメインコラム選択線SGa上の選択信号と行ブロ
ック選択信号φrbとを受けるデコード回路20abが
設けられる。これらのデコード回路20aaおよび20
abは、共通にローカルコラム選択信号LSaを生成す
る。
FIG. 29 shows a structure of a portion related to one memory sub-block. In FIG. 29, sets of main column select lines SGa and SGb are arranged on both sides of the memory sub-block MSB along the row direction. In a lower region of the memory sub-block MSB in the column direction, a decode circuit 20aa receiving a column selection signal and a row block selection signal φrb on a main column selection line SGa, and a main column provided in an inter-block region AR # b Decoding circuit 20ab receiving selection signal on selection line SGa and row block selection signal φrb is provided. These decoding circuits 20aa and 20aa
ab commonly generates a local column selection signal LSa.

【0168】メモリサブブロックMSBの列方向につい
ての上側領域においては、ブロック間領域AR♯aに配
設されるメインコラム選択線SGb上のコラム選択信号
と行ブロック選択信号φrbを受けるデコード回路20
baと、ブロック間領域AR♯bに配設されるメインコ
ラム選択線SGb上のコラム選択信号と行ブロック選択
信号φrbを受けるデコード回路20bbが設けられ
る。これらのデコード回路20baおよび20bbは、
共通に、ローカルコラム選択信号LSbを生成する。
In the upper region in the column direction of memory sub-block MSB, decode circuit 20 receiving a column selection signal on main column selection line SGb and a row block selection signal φrb provided in inter-block region AR # a.
decode circuit 20bb receiving ba and a column selection signal on main column selection line SGb and row block selection signal φrb provided in inter-block region AR # b. These decoding circuits 20ba and 20bb are
A local column selection signal LSb is commonly generated.

【0169】メモリサブブロックMSBの行方向につい
てのサイズが大きくなり、ローカルコラム選択信号LS
aおよびLSbを伝達するローカルコラム選択線の長さ
が長くなった場合においても、このローカルコラム選択
線を両側のデコード回路により駆動することにより、高
速でローカルコラム選択信号LSaおよびLSbを選択
状態へ駆動することができる。
The size of memory sub-block MSB in the row direction increases, and local column select signal LS
Even when the length of the local column select line transmitting a and LSb becomes long, the local column select line is driven by the decode circuits on both sides, so that local column select signals LSa and LSb are brought into the selected state at high speed. Can be driven.

【0170】なお、図29に示す構成において、メイン
コラム選択信号SGaおよびSGbは、それぞれ多ビッ
ト信号線であってもよい。
In the structure shown in FIG. 29, main column select signals SGa and SGb may each be a multi-bit signal line.

【0171】また、図28に示す構成においても、図2
7に示すようなセレクタが設けられてもよい。
In the structure shown in FIG.
A selector as shown in FIG. 7 may be provided.

【0172】以上のように、この発明の実施の形態7に
従えば、メモリサブブロックの両側から共通のローカル
コラム選択線を駆動するように構成しているため、メモ
リサブブロックのサイズが大きくなった場合において
も、高速でローカルコラム選択線を駆動することができ
る。
As described above, according to the seventh embodiment of the present invention, since the common local column select lines are driven from both sides of the memory sub-block, the size of the memory sub-block is increased. In this case, the local column selection line can be driven at high speed.

【0173】なお、この場合、各ブロック間領域におい
て、配設されるメインコラム選択線の数が2倍となる
が、隣接メモリサブブロックでメインコラム選択線を共
有する構成とすれば、信号線の増設は防止される。
In this case, the number of main column select lines provided in each inter-block area is doubled. However, if the main column select lines are shared by adjacent memory sub-blocks, the signal line Expansion is prevented.

【0174】[実施の形態8]図30は、この発明の実
施の形態8に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。図30において、メインアンプ群8a
〜8dのそれぞれが、左側メインアンプ群8al〜8d
lおよび右側メインアンプ群8ar〜8drに分割され
る。コラムデコード回路は、それぞれ、対応の列ブロッ
クの左側の列グループまたは右側の列グループを選択す
る。すなわち、コラムデコード回路6aは、列ブロック
C♯0の行方向についての左側の領域の列を選択し、コ
ラムデコード回路6bは、列ブロックC♯0の右側の列
グループを選択する。同様、残りのコラムデコード回路
6c〜6hにおいても、選択時それぞれ対応の列ブロッ
クC♯1〜C♯3において左側または右側の半分の列に
対する選択動作を行なう。
[Eighth Embodiment] FIG. 30 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the invention. In FIG. 30, the main amplifier group 8a
To 8d are the left main amplifier groups 8al to 8d
1 and the right main amplifier group 8ar to 8dr. The column decode circuit selects the left column group or the right column group of the corresponding column block, respectively. That is, column decode circuit 6a selects a column in the left area of column block C # 0 in the row direction, and column decode circuit 6b selects a right column group of column block C # 0. Similarly, in the remaining column decode circuits 6c to 6h, at the time of selection, the corresponding column blocks C # 1 to C # 3 perform the selecting operation on the left or right half column.

【0175】このメモリサブブロックにおける半分の列
の選択を行なうために、左/右選択信号φrlがこれら
のコラムデコード回路6a〜6hおよびメインアンプ群
8a〜8dに与えられる。列ブロック指定信号φcbが
指定する列ブロックにおいて、左/右指定信号φrlが
指定する領域に対して設けられたコラムデコード回路お
よびメインアンプ群が活性化される。メモリサブブロッ
クの行方向についてのサイズが大きくなった場合におい
ても、必要な数のデータビットを選択する。これによ
り、メインアンプ群8a〜8dにおいて同時に動作する
メインアンプの数を低減し、局所的に配置されメインア
ンプの動作による局所的な電流消費集中による電源ノイ
ズの発生を抑制する。
In order to select a half column in this memory sub-block, a left / right selection signal φrl is applied to column decode circuits 6a-6h and main amplifier groups 8a-8d. In a column block specified by column block specifying signal φcb, a column decode circuit and a main amplifier group provided for an area specified by left / right specifying signal φrl are activated. Even when the size of the memory sub-block in the row direction increases, a necessary number of data bits are selected. As a result, the number of main amplifiers operating simultaneously in the main amplifier groups 8a to 8d is reduced, and the occurrence of power supply noise due to local current consumption concentration caused by the operation of the main amplifiers that are locally arranged is suppressed.

【0176】図31は、1つのメモリサブブロックに対
応する部分の構成を概略的に示す図である。図31にお
いて、メモリサブブロックMSBは、左側メモリサブブ
ロックMSBlと右側メモリサブブロックMSBrに分
割される。行選択動作時においては、メモリサブブロッ
クMSBにおいて1行のメモリセルが同時に選択され、
図示しないセンスアンプにより1行分のデータがラッチ
される。
FIG. 31 schematically shows a structure of a portion corresponding to one memory sub-block. In FIG. 31, the memory sub-block MSB is divided into a left memory sub-block MSB1 and a right memory sub-block MSBr. At the time of row selection operation, memory cells in one row are simultaneously selected in memory sub-block MSB,
One row of data is latched by a sense amplifier (not shown).

【0177】メモリサブブロックMSBの行方向につい
ての左側の領域において、メインコラム選択線SGa上
のコラム選択信号と行ブロック選択信号φrbを受ける
デコード回路25aaと行ブロック選択信号φrbとメ
インコラム選択線SGb上のコラム選択信号を受けるデ
コード回路25baが設けられる。これらのデコード回
路25aaおよび25baは、メモリサブブロックMS
Bの左側領域MSBlに対するコラム選択信号LSal
およびLSblを生成する。
In the region on the left side of the memory sub-block MSB in the row direction, a decode circuit 25aa receiving a column select signal on main column select line SGa and a row block select signal φrb, a row block select signal φrb, and a main column select line SGb A decode circuit 25ba receiving the upper column select signal is provided. These decode circuits 25aa and 25ba are connected to memory sub-block MS
Column selection signal LSal for the left region MSBl of B
And LSbl.

【0178】メモリサブブロックMSBの行方向につい
ての右側のブロック間領域AR♯bにおいては、メイン
コラム選択線SGa上のコラム選択信号と行ブロック選
択信号φrbを受けるデコード回路25abと、メイン
コラム選択線SGb上のコラム選択信号と行ブロック選
択信号φrbを受けるデコード回路25bbが設けられ
る。これらのデコード回路25abおよび25bbから
のコラム選択信号LSarおよびLSbrは、メモリサ
ブブロックMSBの右側ブロックMSBbrに与えられ
る。
In the inter-block region AR # b on the right side of the memory sub-block MSB in the row direction, a decode circuit 25ab receiving a column select signal on main column select line SGa and a row block select signal φrb, and a main column select line A decode circuit 25bb for receiving a column selection signal and a row block selection signal φrb on SGb is provided. Column select signals LSa and LSbr from decode circuits 25ab and 25bb are applied to right block MSBbr of memory sub block MSB.

【0179】ブロック間領域AR♯aにおけるメインコ
ラム選択線SGaおよびSGbとブロック間領域AR♯
bにおけるメインコラム選択線SGaおよびSGbは、
図19に示す左/右指定信号φrlに従って選択的に活
性状態へ駆動される。これにより、メモリサブブロック
MSBにおけるブロックMSBlおよびMSBrの一方
の列が選択されて、図示しないメインI/O線対に接続
される。
Main column select lines SGa and SGb in inter-block region AR # a and inter-block region AR #
b, the main column selection lines SGa and SGb
It is selectively driven to an active state according to left / right designation signal φrl shown in FIG. Thereby, one column of blocks MSBl and MSBr in memory sub-block MSB is selected and connected to a main I / O line pair (not shown).

【0180】なお、この図30および図31に示す構成
においては、メモリサブブロックは、行方向に沿って2
つのブロックに分割されている。しかしながら、メモリ
サブブロックは、4分割にされてもよい。これに応じ
て、コラムデコード回路およびメインアンプ群が4つの
グループに分割されるだけである。
In the structure shown in FIGS. 30 and 31, memory sub-blocks are divided into two along the row direction.
Is divided into two blocks. However, the memory sub-block may be divided into four. Accordingly, the column decode circuit and the main amplifier group are simply divided into four groups.

【0181】また、図27に示すようなセレクタが設け
られてもよい。
Further, a selector as shown in FIG. 27 may be provided.

【0182】以上のように、この発明の実施の形態8に
従えば、メモリサブブロックを複数のグループに分割
し、各グループ単位でコラムデコーダおよびメインアン
プ群を活性化するように構成しているため、同時に動作
するメインアンプ群の数を低減し、局所的な電流消費の
集中による電源ノイズの発生を抑制し、安定なデータ読
出動作を実現することができる。また、必要最小限のデ
ータビット数に応じてメインアンプ群を動作させること
により、消費電流を低減することができ、また内部構成
に応じた必要なビット幅を有するデータを選択すること
ができる。
As described above, according to the eighth embodiment of the present invention, the memory sub-block is divided into a plurality of groups, and the column decoder and the main amplifier group are activated in each group. Therefore, it is possible to reduce the number of main amplifier groups that operate simultaneously, suppress generation of power supply noise due to local concentration of current consumption, and realize a stable data reading operation. Further, by operating the main amplifier group according to the necessary minimum number of data bits, current consumption can be reduced, and data having a required bit width according to the internal configuration can be selected.

【0183】[実施の形態9]図32は、この発明の実
施の形態9に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的
に示す図である。図32において、メインアンプ群8a
〜8dそれぞれに対応して、与えられたデータをラッチ
するラッチ群30a〜30dが設けられる。これらのラ
ッチ群30a〜30dに対し、さらに、列グループ選択
信号(データビット選択信号)YBに従って所定数のビ
ットのデータを選択してグローバルデータバス35に接
続する列グループ選択回路32が設けられる。他の構成
は図23に示す構成と同じである。
[Ninth Embodiment] FIG. 32 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the invention. In FIG. 32, the main amplifier group 8a
Latch groups 30a to 30d for latching applied data are provided corresponding to the respective. For these latch groups 30a to 30d, a column group selection circuit 32 for selecting a predetermined number of bits of data in accordance with a column group selection signal (data bit selection signal) YB and connecting to a global data bus 35 is further provided. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG.

【0184】この図32に示す構成においては、図23
に示す構成と同様、行ブロックにおけるすべてのメモリ
サブブロックからデータが読出される。したがって、こ
の場合、たとえば、1Kビットのデータが並列に読出さ
れてメインアンプ群8a〜8dに伝達されて増幅され
る。これらのメインアンプ群8a〜8dで増幅されたデ
ータが、対応のラッチ群30a〜30dに含まれるラッ
チによりラッチされる。列グループ選択回路32が、列
グループ選択信号YBに従ってグローバルデータバス3
5のビット幅に応じたデータを選択する。したがって、
1Kビットのデータを、順次内部のグローバルデータバ
ス35のバス幅に応じて転送することにより、内部でパ
イプライン的にデータ転送を行なうことが可能となり、
高速データ転送を実現することができ、また数多くのデ
ータが同時にラッチされており、センスアンプから順次
転送する必要がなく、転送速度をより速くすることがで
きる。また列選択時においては、ラッチ群にラッチされ
たデータを選択するだけであり、センスアンプからメイ
ンアンプ群を介してグローバルデータバスへデータを転
送する時間が不要となり、高速の列アクセスが実現され
る。
In the structure shown in FIG. 32, FIG.
Data is read from all the memory sub-blocks in the row block, as in the configuration shown in FIG. Therefore, in this case, for example, 1K-bit data is read out in parallel, transmitted to main amplifier groups 8a to 8d, and amplified. The data amplified by these main amplifier groups 8a to 8d are latched by the latches included in corresponding latch groups 30a to 30d. The column group selection circuit 32 controls the global data bus 3 according to the column group selection signal YB.
The data corresponding to the bit width of 5 is selected. Therefore,
By sequentially transferring 1-Kbit data in accordance with the bus width of the internal global data bus 35, it is possible to internally perform data transfer in a pipelined manner.
High-speed data transfer can be realized, and since a large number of data are latched simultaneously, there is no need to sequentially transfer data from the sense amplifier, and the transfer speed can be further increased. Also, at the time of column selection, it is only necessary to select data latched in the latch group, and there is no need to transfer data from the sense amplifier to the global data bus via the main amplifier group, thereby realizing high-speed column access. You.

【0185】図33(A)は、図32に示すメインアン
プ群およびラッチ群の1ビットの構成を概略的に示す図
である。図33(A)においては、メインアンプ18a
の出力部にラッチ37aが設けられ、またライトドライ
バ18bの入力部にラッチ37bが設けられる。これら
のラッチ37aおよび37bが、共通に列グループ選択
回路32に結合される。この図33(A)に示す構成に
おいては、ラッチ群30a〜30dに含まれるラッチ3
7aおよび37bは、データプリフェッチ用のレジスタ
回路として利用することができる。
FIG. 33A schematically shows a structure of one bit of the main amplifier group and the latch group shown in FIG. In FIG. 33A, the main amplifier 18a
Is provided with a latch 37a at an output portion thereof, and a latch 37b is provided at an input portion of the write driver 18b. These latches 37a and 37b are commonly coupled to column group selection circuit 32. In the configuration shown in FIG. 33A, latches 3 included in latch groups 30a to 30d
7a and 37b can be used as register circuits for data prefetch.

【0186】図33(B)は、メインアンプ群およびラ
ッチ群の他の構成を示す図である。図33(B)に示す
構成においては、メインアンプ18aの入力部にラッチ
38aが設けられ、またライトドライバ18bの入力部
にラッチ38bが設けられる。ラッチ38aは、メイン
I/O線対MIO上のデータをラッチし、ラッチ38b
は、データ書込時に転送される内部書込データをラッチ
する。
FIG. 33B shows another structure of the main amplifier group and the latch group. In the configuration shown in FIG. 33B, a latch 38a is provided at the input of the main amplifier 18a, and a latch 38b is provided at the input of the write driver 18b. Latch 38a latches data on main I / O line pair MIO, and latch 38b
Latch internal write data transferred at the time of data writing.

【0187】この図33(B)に示すラッチ38aおよ
び38bをラッチ状態とすることにより、データ読出/
書込時において、メモリアレイのセンスアンプとこれら
のメインアンプ群およびラッチ群とを切り離すことがで
き、データ読出/書込時に、メインI/O線対をドライ
ブしてセンスアンプとデータの授受を行なう時間を考慮
する必要がなく、高速の書込/読出を実現することがで
きる。
By setting latches 38a and 38b shown in FIG.
At the time of writing, the sense amplifier of the memory array can be separated from the main amplifier group and the latch group. At the time of data reading / writing, the main I / O line pair is driven to exchange data with the sense amplifier. High-speed writing / reading can be realized without having to consider the time for performing.

【0188】図32に示す構成において、図33(A)
および(B)に示す構成のいずれが用いられてもよい。
In the configuration shown in FIG. 32, FIG.
Any of the configurations shown in (B) and (B) may be used.

【0189】図34は、1つのメモリサブブロックに対
応する読出部の構成を概略的に示す図である。図34に
おいては、1つのメモリサブブロックMSBに対応して
設けられるメインI/O線対群MIOGに含まれるメイ
ンI/O線対MIOそれぞれに対応して図33(A)ま
たは(B)に示すメインアンプ、ライトドライバおよび
ラッチを含むアンプ・ラッチ40a〜40wが設けられ
る。これらのアンプ・ラッチ40a〜40wの両側に、
コラムデコーダ6uおよび6vがそれぞれ配置される。
アンプ・ラッチ40a〜40wとグローバルデータバス
35の間に、列グループ選択信号YB0およびYB1そ
れぞれに対応して導通するデータ選択ゲート32aおよ
び32bが設けられる。これらのデータ選択ゲート32
a〜32bの各々は、導通時対応のアンプ・ラッチにラ
ッチされたデータをグローバルデータバス35の対応の
バス線上に伝達する(データ読出時)。このメモリサブ
ブロックMSBに対して与えられる列グループ選択信号
YB0、…、YB1の数は、グローバルデータバス35
のビット幅に応じて適当に定められればよい。
FIG. 34 schematically shows a structure of a read section corresponding to one memory sub-block. In FIG. 34, a main I / O line pair MIO included in a main I / O line pair group MIOG provided corresponding to one memory sub-block MSB corresponds to FIG. 33A or FIG. There are provided amplifiers and latches 40a to 40w including a main amplifier, a write driver and a latch as shown. On both sides of these amplifier latches 40a-40w,
Column decoders 6u and 6v are arranged, respectively.
Data selection gates 32a and 32b which are turned on corresponding to column group selection signals YB0 and YB1 are provided between amplifier / latches 40a-40w and global data bus 35. These data selection gates 32
Each of a to 32b transmits the data latched by the corresponding amplifier / latch during conduction to the corresponding bus line of global data bus 35 (at the time of data reading). The number of column group selection signals YB0,..., YB1 applied to memory sub-block MSB
May be determined appropriately in accordance with the bit width of.

【0190】また、複数の列ブロックにおいて同時に、
データ選択ゲートが導通し、それぞれ並列にグローバル
データバスに対応のアンプ・ラッチを接続する構成が用
いられてもよい。
Also, simultaneously in a plurality of column blocks,
A configuration may be used in which the data selection gates are turned on and the corresponding amplifier / latch is connected to the global data bus in parallel.

【0191】また、1つの列ブロックにおいてのみ、ア
ンプ・ラッチがグローバルデータバスに接続されてもよ
い。したがって、このグローバルデータバス35に対し
て接続されるアンプ・ラッチの数は、先の実施の形態1
から8のいずれかの構成を用いることにより適当に定め
られる。1つのメモリサブブロックに対応して設けられ
るアンプ・ラッチから、さらに列グループ選択信号YB
0〜YB1に従って選択が行なわれて、グローバルデー
タバス35に接続される構成であればよい。
Further, an amplifier / latch may be connected to a global data bus only in one column block. Therefore, the number of amplifiers and latches connected to global data bus 35 is the same as in the first embodiment.
It is appropriately determined by using any one of the configurations from (1) to (8). From an amplifier / latch provided corresponding to one memory sub-block, a column group selection signal YB
Any configuration may be used as long as selection is performed according to 0 to YB1 and connected to the global data bus 35.

【0192】なお、アンプ・ラッチ40a〜40wの各
々は、図33(A)または図33(B)に示す構成を備
える。
Each of amplifier / latches 40a-40w has the structure shown in FIG. 33 (A) or FIG. 33 (B).

【0193】図35は、コラム系選択信号発生部の構成
を概略的に示す図である。図35において、行ブロック
アドレスAdrをデコードして行ブロック選択信号φr
bを生成する行ブロックデコーダ45と、グループアド
レス信号Adgをデコードしてデータグループ選択信号
YBを生成するグループデコーダ46が設けられる。こ
の図35に示す選択信号発生の構成においては、行ブロ
ックデコーダ45により1つの行ブロックが選択され、
この行ブロックに含まれる1行のメモリセルデータがメ
インアンプ群へ転送される。グループデコーダ46から
のグループ選択信号YBに従って、1行のメモリセルデ
ータからグループ選択信号YBが選択するグループのデ
ータビットが選択される。この場合、1つの列ブロック
から1塊のデータビットが選択されてもよく、また1行
のメモリセルデータから複数の列ブロックにわたって分
散してデータビットが選択される構成が用いられてもよ
い。
FIG. 35 schematically shows a structure of a column related selection signal generating portion. In FIG. 35, row block address Adr is decoded and row block selection signal φr
A row block decoder 45 for generating b and a group decoder 46 for decoding a group address signal Adg to generate a data group selection signal YB are provided. In the configuration of generating the selection signal shown in FIG. 35, one row block is selected by row block decoder 45, and
One row of memory cell data included in this row block is transferred to the main amplifier group. According to the group selection signal YB from the group decoder 46, the data bits of the group selected by the group selection signal YB are selected from the memory cell data of one row. In this case, one block of data bits may be selected from one column block, or a configuration in which data bits are selected from one row of memory cell data and distributed over a plurality of column blocks may be used.

【0194】図36は、データビット選択のための制御
信号発生部の他の構成を示す図である。図36において
は、行ブロックアドレスAdrをデコードして行ブロッ
ク選択信号φrbを生成する行ブロックデコーダ45
と、グループアドレスAdgをデコードしてグループ特
定信号を生成するグループデコーダ46と、列ブロック
指定アドレスAdcをデコードして列ブロック指定信号
φcbを生成する列ブロックデコーダ47とが設けられ
る。列ブロックデコーダ47からの列ブロック指定信号
φcbは、コラムデコーダおよびメインアンプ群へ与え
られる。列ブロック指定信号φcbとグループデコーダ
46からのグループ特定信号を受けてデコード処理する
AND回路48からグループ選択信号YBが出力され
る。
FIG. 36 shows another structure of the control signal generator for selecting data bits. In FIG. 36, row block decoder 45 decodes row block address Adr to generate row block selection signal φrb.
And a group decoder 46 for decoding a group address Adg to generate a group specifying signal, and a column block decoder 47 for decoding a column block specifying address Adc to generate a column block specifying signal φcb. Column block designating signal φcb from column block decoder 47 is applied to a column decoder and a group of main amplifiers. A group selection signal YB is output from an AND circuit 48 which receives and decodes the column block designation signal φcb and the group identification signal from the group decoder 46.

【0195】この図36に示す構成においては、列ブロ
ック指定信号φcbにより選択された列ブロックから読
出されたデータビットのうち、さらにグループデコーダ
46からのグループ特定信号が指定するグループのデー
タビットが選択される。非選択列ブロックに対して設け
られたコラムデコーダおよびメインアンプ群は、非選択
状態(非活性状態)を維持する。この図35および図3
6に示す構成のいずれが用いられてもよい。
In the structure shown in FIG. 36, among the data bits read from the column block selected by column block designating signal φcb, the data bits of the group designated by the group specifying signal from group decoder 46 are further selected. Is done. The column decoder and main amplifier group provided for the non-selected column block maintain a non-selected state (inactive state). This FIG. 35 and FIG.
6 may be used.

【0196】なお、このグローバルデータバス35から
の内部データを転送して出力バッファを介して半導体記
憶装置外部へ出力する経路の構成は、この半導体記憶装
置の内部のパイプライン構成に応じて適当に定められれ
ばよい。また、このパイプライン構成においてさらにレ
ジスタが設けられ、このレジスタに格納された複数ワー
ドのデータが順次選択される構成であってもよい。いず
れにおいても、ラッチ群によりデータがラッチされてお
り、データアクセス時、このラッチ群へアクセスするだ
けでよく、メインI/O線を駆動する必要がなく、高速
のデータ転送が実現され、また所望の幅のデータワード
を転送することができ、高速データ転送を実現すること
ができる。
The structure of a path for transferring internal data from global data bus 35 and outputting the data to the outside of the semiconductor memory device via an output buffer is appropriately determined according to the pipeline structure inside the semiconductor memory device. It only has to be determined. Further, a register may be further provided in this pipeline configuration, and a plurality of words of data stored in this register may be sequentially selected. In any case, data is latched by a latch group, and when accessing data, it is only necessary to access this latch group, and there is no need to drive a main I / O line, thereby realizing high-speed data transfer. , And a high-speed data transfer can be realized.

【0197】[実施の形態10]図37は、この発明の
実施の形態10に従う半導体記憶装置の全体の構成を概
略的に示す図である。図37において、半導体記憶装置
50は、チップの列方向に沿っての中央部に行方向に延
在して配置される中央領域52の一方側に整列して配置
されるメモリマットMTa〜MThと、この中央領域5
2の他方側に行方向に沿って整列して配置されるメモリ
マットMTi〜MTpを含む。これらのメモリマットM
Ta〜MTpは、後にその構成については説明するが、
行列状に配列される複数のメモリセルを有する。
[Tenth Embodiment] FIG. 37 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention. In FIG. 37, semiconductor memory device 50 includes memory mats MTa to MTh arranged in alignment with one side of central region 52 arranged in the row direction at the center of the chip along the column direction. , This central area 5
2 includes memory mats MTi to MTp arranged in alignment with each other in the row direction. These memory mats M
The configuration of Ta to MTp will be described later,
It has a plurality of memory cells arranged in a matrix.

【0198】中央領域52においては、その行方向につ
いての中央部に、主制御回路58が配置され、その両側
に、外部からのアドレス信号および制御信号を受ける周
辺パッド群57aおよび57bが配置される。周辺パッ
ド群57aおよび57bに与えられたアドレス信号およ
び制御信号は、主制御回路58へ与えられ、メモリマッ
トMTa〜MTpに対するアクセス動作が主制御回路5
8の制御の下に行なわれる。
In central region 52, main control circuit 58 is arranged at the center in the row direction, and peripheral pad groups 57a and 57b receiving external address signals and control signals are arranged on both sides thereof. . Address signals and control signals applied to peripheral pad groups 57a and 57b are applied to main control circuit 58, and access operation to memory mats MTa to MTp is performed by main control circuit 5
8 is performed.

【0199】中央領域52においては、さらに、周辺パ
ッド群57aおよび57bの外側に、データ入出力を行
なうためのパッド(DQパッド)およびデータ入出力を
行なうための入出力バッファ回路を含むDQパッド群5
5aおよび55bが配置される。この周辺パッド群57
aおよび57bの外側にDQパッド群55aおよび55
bを配置する構成は、「ODIC(アウターDQ・イン
ナークロック)構成」と呼ばれる。主制御回路58の近
辺に周辺パッド群57aおよび57bを配置することに
より、外部からのアドレス信号およびクロック信号(制
御信号)を受けるバッファと主制御回路58との間の距
離が短くなり、高速で、これらの外部信号を伝達するこ
とができる。また、DQパッド群55aおよび55b
は、中央領域52の外側領域に配置することにより、メ
モリマットとDQパッド群の距離を短くし、高速でデー
タ転送を行なうことを図る。ここで、DQパッド部は、
データ入出力を行なうためのDQパッドと、信号のバッ
ファ処理を行なうデータ入出力バッファを含む。
In central region 52, a pad (DQ pad) for data input / output and a DQ pad group including an input / output buffer circuit for data input / output are provided outside peripheral pad groups 57a and 57b. 5
5a and 55b are arranged. This peripheral pad group 57
DQ pad groups 55a and 55
The configuration in which b is arranged is called “ODIC (outer DQ / inner clock) configuration”. By arranging the peripheral pad groups 57a and 57b near the main control circuit 58, the distance between the buffer for receiving an external address signal and a clock signal (control signal) and the main control circuit 58 is shortened, and the speed is increased. , These external signals can be transmitted. Also, DQ pad groups 55a and 55b
By arranging them in an area outside the central area 52, the distance between the memory mat and the DQ pad group is shortened, and high-speed data transfer is achieved. Here, the DQ pad part is
It includes a DQ pad for inputting / outputting data and a data input / output buffer for buffering signals.

【0200】中央領域52において、行方向に延在し
て、メモリマットMTa〜MTdに共通にグローバルデ
ータバス60aが配設され、またメモリマットMTi〜
MTlに共通にグローバルデータバス60bが配置され
る。これらのグローバルデータバス60aおよび60b
は、DQパッド群55aに結合される。DQパッド群5
5bに対しても、メモリマットMTe〜MThに共通に
設けられかつ行方向に延在するグローバルデータバス6
0cと、メモリマットMTm〜MTpに共通に設けられ
かつ行方向に延在するグローバルデータバス60dが設
けられる。これらのグローバルデータバス60cおよび
60dは、DQパッド群55bと結合される。
In central region 52, a global data bus 60a is provided extending in the row direction and shared by memory mats MTa to MTd.
Global data bus 60b is arranged commonly to MTl. These global data buses 60a and 60b
Are coupled to a DQ pad group 55a. DQ pad group 5
5b, a global data bus 6 provided in common to memory mats MTe to MTh and extending in the row direction.
0c and a global data bus 60d provided in common to memory mats MTm to MTp and extending in the row direction. Global data buses 60c and 60d are coupled to DQ pad group 55b.

【0201】データアクセス時においては、DQパッド
群55aおよびDQパッド群55bそれぞれが並列にデ
ータ入出力動作を行なう。同時に選択状態へ駆動される
メモリマットの数は、任意である。メモリマットMTa
〜MTdおよびMTi〜MTlのうち所定数のメモリマ
ットが同時に選択されてDQパッド群55aとデータの
入出力を行なう。また、メモリマットMTe〜MThお
よびMTm〜MTpのうち所定数のメモリマットが選択
されてDQパッド群55bとデータの入出力を行なう。
In data access, DQ pad group 55a and DQ pad group 55b perform data input / output operations in parallel. The number of memory mats driven simultaneously to the selected state is arbitrary. Memory mat MTa
To MTd and MTi to MTl are simultaneously selected to input / output data to / from DQ pad group 55a. Further, a predetermined number of memory mats are selected from memory mats MTe to MTh and MTm to MTp to input / output data to / from DQ pad group 55b.

【0202】図38は、図37に示す半導体記憶装置の
1つのメモリマットに関連する部分の構成を概略的に示
す図である。図38において、メモリマットMTは、複
数のメモリ行ブロックRB♯0〜RB♯31と、メモリ
行ブロックRB♯0〜RB♯31それぞれに対応して設
けられるセンスアンプ帯SB♯0〜SB♯31を含む。
メモリ行ブロックRB♯i(i=0〜31)とセンスア
ンプ帯SB♯i(i=0〜31)が1つのバンクBK♯
iを構成する。図38に示す構成において、メモリマッ
トMTは、32個のバンクBK♯0〜BK♯31に分割
される。これらのバンクBK♯0〜BK♯31は、互い
に独立にメモリセル行(ワード線)を選択状態へ駆動す
ることができ、また非選択状態へ駆動することができ
る。
FIG. 38 schematically shows a structure of a portion related to one memory mat of the semiconductor memory device shown in FIG. 38, memory mat MT includes a plurality of memory row blocks RB # 0-RB # 31 and sense amplifier bands SB # 0-SB # 31 provided corresponding to memory row blocks RB # 0-RB # 31, respectively. including.
Memory row block RB # i (i = 0 to 31) and sense amplifier band SB # i (i = 0 to 31) are included in one bank BK #
i. In the configuration shown in FIG. 38, memory mat MT is divided into 32 banks BK # 0 to BK # 31. These banks BK # 0 to BK # 31 can independently drive a memory cell row (word line) to a selected state and can drive a memory cell row (word line) to a non-selected state.

【0203】バンクBK♯0〜BK♯31は、さらに、
複数のサブバンクに分割され、サブバンク単位でデータ
のアクセスが行なわれる。このサブバンクの構成におい
ては、先の実施の形態1から実施の形態9の構成のよう
に、センスアンプ帯SB♯0〜SB♯31それぞれが、
複数のグループに分割され、各グループがサブバンクを
構成する。
Banks BK # 0-BK # 31 further have
It is divided into a plurality of subbanks, and data access is performed in subbank units. In the configuration of this subbank, as in the configurations of the first to ninth embodiments, each of sense amplifier bands SB # 0 to SB # 31 has
It is divided into a plurality of groups, and each group forms a subbank.

【0204】センスアンプ帯SB♯0〜SB♯31およ
びメモリ行ブロックRB♯1〜RB♯31上にわたっ
て、列方向に延在して、メインI/O線対群MIOGが
配設される。
A main I / O line pair group MIOG is arranged extending in the column direction over sense amplifier bands SB # 0-SB # 31 and memory row blocks RB # 1-RB # 31.

【0205】センスアンプ帯SB♯0〜SB♯31それ
ぞれに対応して、サブバンク選択回路SBS0〜SBS
31が設けられる。これらのサブバンク選択回路SBS
0〜SBS31は、バンク/マットを特定するバンク/
マット指定信号BK/MTと、サブバンク指定信号SB
Kとに従って、対応のバンクにおいて1つのサブバンク
を選択状態へ駆動する。センスアンプ帯SB♯0〜SB
♯31の各々は、対応のサブバンク選択回路SBS0〜
SBS31により選択されたサブバンクに含まれるセン
スアンプを、メインI/O線対群MIOGに含まれるメ
インI/O線対に接続する。
Sub bank selecting circuits SBS0 to SBS corresponding to sense amplifier bands SB # 0 to SB # 31, respectively.
31 are provided. These sub-bank selection circuits SBS
0 to SBS31 are banks / mats for specifying banks / mats.
Mat designation signal BK / MT and sub-bank designation signal SB
According to K, one sub-bank is driven to the selected state in the corresponding bank. Sense amplifier band SB # 0-SB
# 31 each has a corresponding one of sub-bank selection circuits SBS0-SBS0.
The sense amplifier included in the sub-bank selected by the SBS 31 is connected to the main I / O line pair included in the main I / O line pair group MIOG.

【0206】メインI/O線対群MIOGは、メモリマ
ットの一端に設けられた書込/読出回路62に結合され
る。書込/読出回路62は、メインI/O線対群MIO
Gに含まれるメインI/O線対それぞれに対応して設け
られるメインアンプおよびライトドライバの組を含む。
Main I / O line pair group MIOG is coupled to write / read circuit 62 provided at one end of the memory mat. Write / read circuit 62 includes main I / O line pair group MIO.
G includes a set of a main amplifier and a write driver provided corresponding to each main I / O line pair included in G.

【0207】データビット選択回路64が、Yデコーダ
66からのY選択信号に従って、書込/読出回路62に
含まれるメインアンプ/ライトドライバの組を、グロー
バルデータバス60に結合する。データビット選択回路
64が、同時に選択するビットの数は、このグローバル
データバス60に接続されるメモリマットの数およびグ
ローバルデータバス60において用いられる転送回路の
ビット幅に応じて適当に定められる。
Data bit selection circuit 64 couples a main amplifier / write driver set included in write / read circuit 62 to global data bus 60 in accordance with a Y selection signal from Y decoder 66. The number of bits simultaneously selected by data bit selection circuit 64 is appropriately determined according to the number of memory mats connected to global data bus 60 and the bit width of a transfer circuit used in global data bus 60.

【0208】メモリマットMTにおいては、複数のバン
クを同時に選択状態へ駆動して、対応のセンスアンプ帯
においてデータのラッチを行なうことができる。これら
の複数のバンクのうち、サブバンク選択回路により、1
つのサブバンクを選択してメインI/O線対群MIOG
へ結合して、データアクセスを行なう。バンクを順次切
換えることにより、ページ切換え時のオーバーヘッドを
なくして、高速でデータアクセスを実行する。
In memory mat MT, a plurality of banks can be simultaneously driven to a selected state, and data can be latched in a corresponding sense amplifier band. Of the plurality of banks, the sub-bank selection circuit selects 1
Select one sub-bank and select main I / O line pair group MIOG
To perform data access. By sequentially switching banks, data access can be performed at high speed without the overhead of switching pages.

【0209】図39は、図38に示すメモリマットの構
成をより詳細に示す図である。図39においては、バン
クBK♯0およびバンクBK♯31と書込/読出回路6
2の構成を示す。バンクBK♯0に含まれる行ブロック
RB♯0においては、行方向に沿ってメインワード線M
WLが配設され、列方向に複数のビット線対BLPが配
置される。メインワード線MWLは、図示しないブロッ
ク間領域において、サブワード線ドライバを介してサブ
ワード線に結合される。ビット線対BLPは、たとえば
4K個設けられる。ビット線対BLPそれぞれに対応し
て、センスアンプSAが設けられる。隣接する4つのセ
ンスアンプSAの組に対しサブバンク選択ゲートSSG
が配置される。
FIG. 39 shows the structure of the memory mat shown in FIG. 38 in more detail. 39, bank BK # 0 and bank BK # 31 and write / read circuit 6
2 is shown. In row block RB # 0 included in bank BK # 0, main word line M
WL is arranged, and a plurality of bit line pairs BLP are arranged in the column direction. Main word line MWL is connected to a sub word line via a sub word line driver in an inter-block region (not shown). For example, 4K bit line pairs BLP are provided. A sense amplifier SA is provided for each bit line pair BLP. A sub-bank selection gate SSG for a set of four adjacent sense amplifiers SA
Is arranged.

【0210】センスアンプ帯SB♯0においては、1列
に整列して配置されるセンスアンプSAおよびサブバン
ク選択ゲートSSGが設けられる。サブバンク選択ゲー
トSSGそれぞれに対応して、メインI/O線対MIO
0〜MIO1023が設けられる。サブバンク選択ゲー
トSSGは、それぞれ異なるセンスアンプに結合される
I/O選択ゲートN1、N2、N3およびN4を含む。
1つのサブバンク選択ゲートSSGに含まれるI/O選
択ゲートN1〜N4は、同じメインI/O線対MIOに
結合される。
In sense amplifier band SB # 0, a sense amplifier SA and a sub-bank selection gate SSG arranged in a line are provided. A main I / O line pair MIO corresponds to each of the subbank selection gates SSG.
0 to MIO1023 are provided. Sub bank select gate SSG includes I / O select gates N1, N2, N3 and N4 respectively coupled to different sense amplifiers.
I / O select gates N1 to N4 included in one subbank select gate SSG are coupled to the same main I / O line pair MIO.

【0211】これらのI/O選択ゲートN1〜N4を選
択的に導通状態へ駆動するために、対応のサブバンク選
択回路SBS0においては4つのデコード回路G1、G
2およびG3、およびG4が設けられる。これらのデコ
ード回路G1〜G4は、バンク/マット指定信号BK/
MTとサブバンク指定信号SBKとを受ける。バンク/
マット指定信号BK/MTが指定するバンクにおいて、
サブバンク指定信号SBKが指定するサブバンクに対応
して設けられるI/O選択ゲートが導通状態へ駆動され
る。
In order to selectively drive these I / O select gates N1 to N4 to the conductive state, four decode circuits G1 and G are provided in corresponding subbank select circuit SBS0.
2 and G3, and G4 are provided. These decode circuits G1 to G4 provide a bank / mat designation signal BK /
MT and a sub-bank designation signal SBK are received. bank/
In the bank specified by mat specifying signal BK / MT,
The I / O select gate provided corresponding to the sub-bank designated by sub-bank designation signal SBK is driven to a conductive state.

【0212】バンクBK♯31においても、同様の構成
が設けられる。列方向に沿って整列して配置されるサブ
バンク選択ゲートSSGが、共通のメインI/O線対M
IOに結合される。このバンクBK♯31に対して設け
られるサブバンク選択回路SBS31も、バンク/マッ
ト指定信号BK/MTとサブバンク指定信号SBKを受
けるサブバンクデコード回路G1、G2、G3およびG
4を含む。サブバンク選択回路SBS0〜SBS31に
おいては、それぞれ、バンク/マットアドレス信号が異
なる。4ビットのサブバンク指定信号SBKは、バンク
BK♯0〜BK♯31のサブバンク選択回路SBS0〜
SBS31それぞれに共通に与えられる。
Bank BK # 31 has a similar structure. Sub bank select gate SSG arranged in line along the column direction is formed of a common main I / O line pair M
Connected to IO. Sub-bank selection circuit SBS31 provided for bank BK # 31 also has sub-bank decode circuits G1, G2, G3 and G receiving bank / mat designation signal BK / MT and sub-bank designation signal SBK.
4 inclusive. Sub bank selection circuits SBS0 to SBS31 have different bank / mat address signals. The 4-bit sub-bank designating signal SBK is applied to sub-bank selecting circuits SBS0 to SBS0 of banks BK # 0 to BK # 31.
It is provided commonly to each of the SBSs 31.

【0213】書込/読出回路62は、メインI/O線対
MIO0〜MIO1023それぞれに対応して設けられ
るメインアンプ62pおよびライトドライバ62wの組
を含む。データの書込/読出モードに応じてメインアン
プ62pおよびライトドライバ62wの一方が活性化さ
れる。
Write / read circuit 62 includes a set of main amplifier 62p and write driver 62w provided corresponding to each of main I / O line pairs MIO0-MIO1023. One of main amplifier 62p and write driver 62w is activated according to the data write / read mode.

【0214】データビット選択回路64は、メインアン
プ/ライトドライバの所定数の組を同時に選択するデー
タ選択ゲート64a〜64xを含む。図28において
は、4つのメインI/O線対が同時に選択されてグロー
バルデータバス60に接続される。この同時に選択され
るメインI/O線対の数は、グローバルデータバス60
のビット幅および同時に選択されるメモリマットの数に
応じて、適当に定められる。
Data bit selection circuit 64 includes data selection gates 64a to 64x for simultaneously selecting a predetermined number of sets of the main amplifier / write driver. In FIG. 28, four main I / O line pairs are simultaneously selected and connected to global data bus 60. The number of main I / O line pairs selected at the same time depends on the global data bus 60.
And the number of memory mats selected at the same time.

【0215】これらのデータ選択ゲート64a〜64x
それぞれに対応して、データビット選択アドレスYS
(プリデコード信号)をデコードするYデコード回路6
6a〜66xが設けられる。データビット選択アドレス
(プリデコード信号)YSにより、所定数の組のメイン
アンプおよびライトドライバ62wが選択されてグロー
バルデータバス60に接続される。
The data selection gates 64a to 64x
Corresponding to each, the data bit selection address YS
Y decode circuit 6 for decoding (predecode signal)
6a to 66x are provided. A predetermined number of sets of main amplifiers and write drivers 62w are selected by the data bit selection address (predecode signal) YS and connected to the global data bus 60.

【0216】バンクBK♯0〜BK♯31それぞれにお
いて、センスアンプSAおよびサブバンク選択ゲートS
SGが設けられる。したがって、バンクBK♯0〜BK
♯31それぞれにおいて、互いに独立にメインワード線
MWLを介してメモリセルの行を選択状態へ駆動するこ
とができる。データアクセス時において、バンク/マッ
トアドレスおよびサブバンクアドレスにより、バンク/
マット指定信号BK/MTおよびサブバンク指定信号S
BKを生成して、選択されたバンクにおけるサブバンク
のセンスアンプSAを、メインI/O線対MIO0〜M
IO1023へ接続する。次いで、書込/読出回路62
におけるメインアンプ62pまたはライトドライバ62
wが活性化され、データの読出/書込が行なわれる。次
いで、Yデコード回路66a〜66xの出力信号に従っ
て、データビット選択ゲート64a〜64xのいずれか
が導通し、グローバルデータバス60に、メインアンプ
/ライトドライバの組が結合される。次に、この図38
および図39に示す半導体記憶装置の動作について、図
40に示すタイミングチャート図を参照して説明する。
In each of banks BK # 0-BK # 31, sense amplifier SA and sub-bank selection gate S
An SG is provided. Therefore, banks BK # 0-BK
In each of # 31, a row of memory cells can be driven to a selected state via main word line MWL independently of each other. At the time of data access, the bank / mat address and sub-bank address determine
Mat designating signal BK / MT and sub-bank designating signal S
BK to generate the sense amplifiers SA of the sub-banks in the selected bank and to the main I / O line pairs MIO0 to MIO.
Connect to IO1023. Next, the write / read circuit 62
Amplifier 62p or write driver 62
w is activated, and data read / write is performed. Then, according to the output signals of Y decode circuits 66a to 66x, one of data bit select gates 64a to 64x conducts, and a main amplifier / write driver pair is coupled to global data bus 60. Next, FIG.
The operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 39 will be described with reference to a timing chart shown in FIG.

【0217】この半導体記憶装置は、外部から与えられ
るクロック信号CLKに同期して外部からの制御信号
(コマンドCMD)を取込み、また書込データを取込
み、データを出力するクロック同期型半導体記憶装置で
ある。
This semiconductor memory device is a clock synchronous type semiconductor memory device which fetches an external control signal (command CMD) in synchronization with an externally applied clock signal CLK, fetches write data, and outputs data. is there.

【0218】図40において、まず、クロックサイクル
♯0において、バンクを選択状態へ駆動するためのバン
クアクティブコマンドBAACTが与えられる。このバ
ンクアクティブコマンドBAACTと同時に、バンクお
よびメモリマットを指定するバンク/マットアドレスB
AMDが与えられ、またバンク内のワード線を指定する
ためのロウアドレスRが与えられる。このバンクアクテ
ィブコマンドBAACTおよびアドレスBAおよびRに
従って、指定されたバンクにおいて対応のワード線が選
択され、この選択ワード線(メインワード線およびサブ
ワード線)に対応して配置されたメモリセルのデータが
センスアンプSAにより検知、増幅され、かつラッチさ
れる。このバンクアクティブコマンドに従って、バンク
/マットアドレスBAMDが指定するマットのバンクに
おいて行選択動作が行なわれる。この指定されたバンク
内におけるメモリセルの行選択動作は、他のバンクの状
態に影響を及ぼさない。
In FIG. 40, first, in clock cycle # 0, a bank active command BAACT for driving a bank to a selected state is applied. At the same time as the bank active command BAACT, a bank / mat address B for designating a bank and a memory mat is provided.
AMD is applied, and a row address R for designating a word line in the bank is applied. According to bank active command BAACT and addresses BA and R, a corresponding word line is selected in a designated bank, and data of a memory cell arranged corresponding to the selected word line (main word line and sub word line) is sensed. It is detected, amplified, and latched by the amplifier SA. According to the bank active command, a row selecting operation is performed in the bank of the mat specified by bank / mat address BAMD. The row selection operation of the memory cells in the designated bank does not affect the state of the other banks.

【0219】クロックサイクル♯1において、サブバン
クアクティブコマンドSBACTを与える。このサブバ
ンクアクティブコマンドSBACTは、バンク/マット
アドレスBAMDおよびサブバンクアドレスSBADと
同時に与えられる。このサブバンクアクティブコマンド
SBACTが与えられると、バンク/マットアドレスB
AMDとして与えられるバンク/マットアドレスBAお
よびサブバンクアドレスSBADとして与えられるサブ
バンクアドレスSBAに従って、図29に示すバンク/
マット指定信号BK/MTおよびサブバンク指定信号S
BKそれぞれの1つが選択状態へ駆動される。これによ
り、このサブバンクアクティブコマンドSBACTによ
り、指定されたバンクのサブバンクにおいてサブバンク
選択ゲートSSGが選択的に導通し、指定されたバンク
に含まれるサブバンクのセンスアンプSAが、メインI
/O線対MIO0〜MIO1023に接続される。これ
により、メインI/O線対MIO0〜MIO1023
は、それぞれ指定されたサブバンクのセンスアンプによ
り、その電圧レベルが所定のプリチャージ状態から変化
する。このメインI/O線対MIO0〜MIO1023
は、書込/読出回路62のメインアンプ62pおよびラ
イトドライバ62wに接続されている。
In clock cycle # 1, subbank active command SBACT is applied. Subbank active command SBACT is applied simultaneously with bank / mat address BAMD and subbank address SBAD. When subbank active command SBACT is applied, bank / mat address B
According to bank / mat address BA given as AMD and sub-bank address SBA given as sub-bank address SBAD, bank / mat address shown in FIG.
Mat designating signal BK / MT and sub-bank designating signal S
One of each BK is driven to a selected state. As a result, in response to the sub-bank active command SBACT, the sub-bank selection gate SSG is selectively turned on in the sub-bank of the designated bank, and the sense amplifier SA of the sub-bank included in the designated bank is connected to the main I / O.
/ O line pairs MIO0 to MIO1023. Thereby, main I / O line pairs MIO0-MIO1023
, The voltage level thereof changes from a predetermined precharged state by a sense amplifier of a designated sub-bank. This main I / O line pair MIO0-MIO1023
Are connected to a main amplifier 62p and a write driver 62w of the write / read circuit 62.

【0220】このとき、他のバンクが選択状態にあって
も、対応のサブバンク選択ゲートSSGに含まれるゲー
トN1〜N4はすべて非導通状態にあり、データの衝突
は生じない。
At this time, even if another bank is in the selected state, all of the gates N1 to N4 included in the corresponding sub-bank selection gate SSG are non-conductive, and no data collision occurs.

【0221】クロックサイクル♯2において、外部から
のコマンドCMDとして、データ書込を指示するライト
コマンドが与えられる。このライトコマンドと同時に、
アドレス信号Addとして、Yアドレスが与えられる。
このときまた同時に、外部から書込データが与えられ
る。データ書込時においては、外部クロック信号CLK
の立上がりエッジおよび立下がりエッジに同期してデー
タの取込が行なわれる。この書込データは、図39に示
すグローバルデータバス60(GIO)へ伝達される。
このデータ書込時においては、クロックサイクル♯2に
与えられたYアドレスを先頭アドレスとして、内部で自
動的にYアドレスが生成されてデータビット選択信号Y
Sが生成される。データ書込時においては、後に説明す
るレジスタに2つのデータ(クロック信号の立上がりエ
ッジおよび立下がりエッジで書込まれたデータ)が順次
格納された後、次のクロックサイクルのクロック信号C
LKの立上がりエッジでグローバルデータバス60(G
IO)へ同時に伝達される。
In clock cycle # 2, a write command instructing data writing is applied as external command CMD. At the same time as this write command,
A Y address is applied as the address signal Add.
At this time and simultaneously, write data is externally applied. At the time of data writing, external clock signal CLK
Data is taken in synchronism with the rising edge and falling edge of. This write data is transmitted to global data bus 60 (GIO) shown in FIG.
At the time of this data writing, the Y address given in clock cycle # 2 is used as the head address, and the Y address is automatically generated internally to generate data bit selection signal Y
S is generated. At the time of data writing, after two data (data written at rising and falling edges of a clock signal) are sequentially stored in a register described later, clock signal C of the next clock cycle is stored.
At the rising edge of LK, the global data bus 60 (G
IO).

【0222】クロックサイクル♯3において、データビ
ット選択信号YSが、アドレスYに従って選択状態へ駆
動され、対応のデータビット選択回路64に含まれるビ
ット選択ゲート64a〜64xのいずれかが選択状態へ
駆動される。また、データ書込時、ライトドライバ62
wが活性化され、書込データに従って対応のメインI/
O線対が駆動される。図40に示す動作においては、バ
ースト長が4であり、4つのデータD11〜D14がク
ロック信号CLKの立上がりエッジおよび立下がりエッ
ジで順次取込まれ、取込まれたクロックサイクルの次の
サイクルのクロック信号CLKの立上がりエッジでグロ
ーバルデータバスおよびデータビット選択回路を介して
メインI/O線対MIOへ伝達される。データ書込時に
おいては、単にライトドライバ62wが選択状態へ駆動
され、対応のメインI/O線対へデータが伝達されるだ
けである。
In clock cycle # 3, data bit select signal YS is driven to the selected state according to address Y, and any of bit select gates 64a to 64x included in corresponding data bit select circuit 64 is driven to the selected state. You. When writing data, the write driver 62
w is activated, and the corresponding main I /
The O line pair is driven. In the operation shown in FIG. 40, the burst length is 4, four data D11 to D14 are sequentially captured at the rising edge and the falling edge of clock signal CLK, and the clock of the next cycle of the captured clock cycle is output. At the rising edge of signal CLK, it is transmitted to main I / O line pair MIO via global data bus and data bit selection circuit. In data writing, write driver 62w is simply driven to the selected state, and data is merely transmitted to the corresponding main I / O line pair.

【0223】クロックサイクル♯3からクロックサイク
ル♯6において、メインI/O線対に書込データが伝達
された後、クロックサイクル♯7において、コマンドC
MDとして、データ読出を示すリードコマンドが、Yア
ドレスとともに与えられる。このリードコマンドが与え
られたとき、メインI/O線対MIOの電位は、書込デ
ータに応じて変化しているだけであり、対応のセンスア
ンプSAが、書込データのラッチを完了する必要はな
い。メインI/O線対MIOの電圧レベルが、書込デー
タに応じて変化していればよい。
After write data is transmitted to the main I / O line pair in clock cycle # 3 to clock cycle # 6, command C in clock cycle # 7
As MD, a read command indicating data reading is provided together with the Y address. When this read command is applied, the potential of main I / O line pair MIO only changes according to the write data, and corresponding sense amplifier SA needs to complete the latch of the write data. There is no. It is sufficient that the voltage level of main I / O line pair MIO changes in accordance with the write data.

【0224】したがって、このセンスアンプのラッチデ
ータが書込データに対応する状態に安定化するまでデー
タ読出を待つ必要がなく、ライトコマンドを与えた後、
バースト長データの書込後、即座にリードコマンドを与
えることができる。
Therefore, there is no need to wait for data reading until the latch data of the sense amplifier is stabilized at a state corresponding to the write data.
After writing the burst length data, a read command can be given immediately.

【0225】このリードコマンドが与えられた場合に
は、同時に与えられたYアドレスに従ってデータビット
選択信号YSが生成され、選択されたビット選択ゲート
(ゲート66a〜66xのいずれか)が導通し、メイン
アンプ62pがグローバルデータバス(GIO)60に
接続される。メインアンプ62pは、リードコマンドに
従って活性化されると、既に安定状態にあるメインI/
O線対上のデータを増幅して、グローバルデータバス
(GIO)60上に伝達する。このグローバルデータバ
ス(GIO)60上のデータは、図示しないラッチ回路
(またはレジスタ)に格納された後、クロック信号CL
Kの立上がりエッジおよび立下がりエッジに同期して順
次出力される。クロックサイクル♯7に与えられたリー
ドコマンドに従ってバースト長(4)のデータQ11〜
Q14が読出される。
When this read command is applied, a data bit selection signal YS is generated according to the Y address applied at the same time, the selected bit selection gate (any of gates 66a to 66x) is turned on, and the main bit is turned on. Amplifier 62p is connected to global data bus (GIO) 60. When activated in accordance with the read command, the main amplifier 62p activates the main I / O which is already in a stable state.
The data on the O line pair is amplified and transmitted on the global data bus (GIO) 60. The data on the global data bus (GIO) 60 is stored in a latch circuit (or register) (not shown), and then stored in a clock signal CL.
It is sequentially output in synchronization with the rising and falling edges of K. According to the read command applied to clock cycle # 7, data Q11-Q11 of burst length (4)
Q14 is read.

【0226】クロックサイクル♯9において再びリード
コマンドおよびYアドレスが与えられると、このYアド
レスを先頭アドレスとして、ゲート66a〜66xによ
り、データビットの選択が行なわれ、対応のメインアン
プ62pの出力が、ビット選択ゲート(64a〜64
x)を介してグローバルデータバスに伝達され、次のバ
ースト長データQ21〜Q24が選択されてクロック信
号CLKの立上がりエッジおよび立下がりエッジに同期
して出力される。
When a read command and a Y address are supplied again in clock cycle # 9, data bits are selected by gates 66a to 66x using this Y address as a start address, and the output of corresponding main amplifier 62p is Bit select gates (64a to 64
x) to the global data bus, the next burst length data Q21 to Q24 are selected and output in synchronization with the rising and falling edges of clock signal CLK.

【0227】なお、図40に示すタイムチャートにおい
て、クロックサイクル♯10において、内部でバースト
長データの読出が完了すると、破線で示すように、サブ
バンク指定信号SBKが非選択状態へ駆動され、メイン
I/O線対MIOが、所定電位にプリチャージされる構
成が用いられてもよい。
In the time chart shown in FIG. 40, when the reading of the burst length data is completed internally in clock cycle # 10, as indicated by the broken line, sub-bank designating signal SBK is driven to a non-selected state, and A structure in which / O line pair MIO is precharged to a predetermined potential may be used.

【0228】図41は、メインI/O線対のデータ伝搬
を概略的に示す図である。図41においては、書込/読
出回路62から最も遠いバンクBK♯0に配置されたセ
ンスアンプに対するデータの伝搬を示す。
FIG. 41 schematically shows data propagation of a main I / O line pair. FIG. 41 shows data propagation to the sense amplifier arranged in bank BK # 0 farthest from write / read circuit 62.

【0229】時刻t0においてサブバンクアクティブコ
マンドが与えられると、このセンスアンプにラッチされ
たデータがサブバンク選択ゲートSSGを介してメイン
I/O線対MIOに伝達される。メインI/O線対は、
センスアンプに最も近い部分(書込/読出回路から最も
遠い端部)においてセンスアンプのラッチデータに応じ
てその電位が変化し、時間Td経過後、書込/読出回路
に最も近い端部(MIO最近端部)に伝達され、時刻t
1においてライトドライブおよびプリアンプに到達する
データが確定する。この時刻t1において、データの書
込/読出を実際に行なうことができる。
When a sub-bank active command is applied at time t0, data latched by this sense amplifier is transmitted to main I / O line pair MIO via sub-bank selection gate SSG. The main I / O line pair is
The potential of the portion closest to the sense amplifier (the end farthest from the write / read circuit) changes in accordance with the latch data of the sense amplifier, and after a lapse of time Td, the end (MIO) closest to the write / read circuit. At the time t
At 1, the data reaching the write drive and the preamplifier is determined. At time t1, data writing / reading can be actually performed.

【0230】時刻t2においてライトコマンドが与えら
れると、書込データWDに従ってメインI/O線対の最
近端の電位がライトドライバにより変化し、このメイン
I/O線対のデータが、メインI/O線対を介して伝達
され、メインI/O線対の最遠端部にまで伝達される。
この時間は、遅延時間Tdである。このメインI/O線
対の最遠端部に伝達されたデータが、サブバンク選択ゲ
ートSSGを介してセンスアンプに伝達され、センスア
ンプのラッチデータが変化する。
When a write command is applied at time t2, the potential of the most recent end of the main I / O line pair is changed by the write driver in accordance with write data WD, and the data of the main I / O line pair is changed to the main I / O line. The signal is transmitted via the O line pair and is transmitted to the farthest end of the main I / O line pair.
This time is a delay time Td. The data transmitted to the farthest end of the main I / O line pair is transmitted to the sense amplifier via the sub-bank selection gate SSG, and the latch data of the sense amplifier changes.

【0231】この場合、センスアンプのラッチデータが
反転する時刻t4以前において、メインI/O線対の最
近端部の信号電位が確定した時刻t3においてデータの
読出が可能である。したがって、このセンスアンプのラ
ッチデータの確定前にデータの読出を行なうことができ
(リードコマンドを与えることができ)、高速のデータ
の読出を行なうことができる。特に、同じサブバンクに
対するデータ書込動作からデータ読出動作への移行時高
速でデータの読出を行なうことができる。単にメインI
/O線対に保持されている信号電荷を読出すだけであ
り、メモリサブブロック内におけるセンスアンプのラッ
チデータの状態が確定するまでの時間を必要としないた
めである。
In this case, before time t4 when the latch data of the sense amplifier is inverted, data can be read out at time t3 when the signal potential at the most end of the main I / O line pair is determined. Therefore, data can be read before the latch data of the sense amplifier is determined (a read command can be given), and high-speed data reading can be performed. In particular, data can be read at high speed at the time of transition from the data write operation to the data read operation for the same subbank. Simply Main I
This is because only the signal charges held in the / O line pair are read, and no time is required until the state of the latch data of the sense amplifier in the memory sub-block is determined.

【0232】図42は、データ入出力部の構成を概略的
に示す図である。図42において、グローバルデータバ
ス60に含まれる任意のビット幅のサブグローバルデー
タバスGIOaおよびGIOb上のデータを、ラッチ指
示信号φrに応答してラッチするラッチ70raおよび
70rbと、転送指示信号φrtに従ってラッチ70r
aのラッチデータを出力回路73へ転送する転送ゲート
72raと、転送指示信号zφrtに応答してラッチ7
0rbにラッチされたデータを出力回路73へ転送する
転送ゲート70rbとが設けられる。転送指示信号φr
tおよびzφrtは、互いに相補なクロック信号であ
る。転送指示信号φrtおよびzφrtは、クロック信
号CLKに同期して、データ読出時に活性化される。し
たがって、転送ゲート72raおよび72rbが、交互
に転送動作を行なうため、クロック信号CLKの立上が
りエッジおよび立下がりエッジに同期して出力回路73
を介してデータを出力することができる。
FIG. 42 schematically shows a structure of a data input / output unit. In FIG. 42, latches 70ra and 70rb for latching data on sub-global data buses GIOa and GIOb of an arbitrary bit width included in global data bus 60 in response to latch instruction signal φr, and latch in accordance with transfer instruction signal φrt 70r
a transfer gate 72ra for transferring the latch data of a to the output circuit 73, and the latch 7 in response to the transfer instruction signal zφrt.
A transfer gate 70rb for transferring data latched at 0rb to output circuit 73 is provided. Transfer instruction signal φr
t and zφrt are clock signals complementary to each other. Transfer instruction signals φrt and zφrt are activated at the time of data reading in synchronization with clock signal CLK. Therefore, transfer gates 72ra and 72rb alternately perform transfer operations, so that output circuit 73 is synchronized with the rising and falling edges of clock signal CLK.
Data can be output via the.

【0233】データ入出力部は、さらに、外部からのデ
ータを、データ書込時入力する入力回路74と、ラッチ
指示信号φwに応答して入力回路74からのデータをラ
ッチするラッチ回路70waと、ラッチ指示信号zφr
wに応答して入力回路74からのデータをラッチするラ
ッチ回路70wbと、転送指示信号φwtに応答してラ
ッチ70waおよび70wbにラッチされたデータをサ
ブグローバルデータバスGIOaおよびGIObに転送
する転送ゲート72waおよび72wbを含む。
The data input / output unit further includes an input circuit 74 for inputting external data at the time of data writing, a latch circuit 70wa for latching data from the input circuit 74 in response to a latch instruction signal φw, Latch instruction signal zφr
and a transfer gate 72wa for transferring the data latched by the latches 70wa and 70wb to the sub-global data buses GIOa and GIOb in response to the transfer instruction signal φwt. And 72wb.

【0234】この図42に示すデータ入出力部の構成の
場合、データ読出時においては、グローバルデータバス
60上に転送された2つのデータがラッチ70raおよ
び70rbにラッチされ、次いで転送ゲート72raお
よび72rbにより交互にクロック信号のエッジに同期
して転送される。一方、データ書込時においては、入力
回路74からの内部書込データが、ラッチ70waおよ
び70wbにより交互にラッチされ、次いで転送ゲート
72waおよび72wbにより、並列にグローバルデー
タバス60上に転送される。これにより、データの入出
力を、クロック信号CLKの立上がりエッジおよび立下
がりエッジに同期して行ない、内部回路動作を、クロッ
ク信号CLKの一方のエッジ(立上がりエッジ)に応答
して行なうことができる。
In the configuration of the data input / output portion shown in FIG. 42, at the time of data reading, two data transferred onto global data bus 60 are latched by latches 70ra and 70rb, and then transferred to transfer gates 72ra and 72rb. , And are alternately transferred in synchronization with the edge of the clock signal. On the other hand, at the time of data writing, internal write data from input circuit 74 is alternately latched by latches 70wa and 70wb, and then transferred onto global data bus 60 in parallel by transfer gates 72wa and 72wb. Thereby, data input / output can be performed in synchronization with the rising edge and falling edge of clock signal CLK, and the internal circuit operation can be performed in response to one edge (rising edge) of clock signal CLK.

【0235】図43は、図38および図39に示す選択
信号発生部の構成を概略的に示す図である。図43にお
いて、選択信号発生部は、クロック信号CLKに同期し
て外部からのコマンドCMDを取込みデコードし、指定
された動作モード指示信号を発生するコマンドデコーダ
80と、コマンドデコーダ80からのバンク活性化指示
信号に応答して活性化され、バンクを活性状態に駆動す
るための制御信号を発生するバンク活性制御回路81
と、コマンドデコーダ80からのバンク活性化指示信号
およびサブバンク活性化指示信号に応答して外部からの
バンク/マットアドレスBAMDをラッチするバンクア
ドレスラッチ82と、このバンクアドレスラッチ82の
出力信号をデコードしてバンク/マット指定信号BK/
MTを生成しかつラッチするバンクデコード・ラッチ8
3と、コマンドデコーダ80からのサブバンク活性化指
示信号に応答して外部からのサブバンクアドレスSBA
Dを取込みラッチするサブバンクアドレス・ラッチ84
と、サブバンクアドレス・ラッチ84にラッチされたサ
ブバンクアドレスをデコードしてサブバンク指定信号S
BKを生成するサブバンクデコード・ラッチ85と、コ
マンドデコーダ80からのサブバンク活性化指示信号ま
たはデータ書込/読出指示信号に応答して外部からのア
ドレス信号Addをラッチするアドレスラッチ86と、
コマンドデコーダ80からのリード/ライト指示信号に
応答してこのアドレスラッチ86のアドレスを先頭アド
レスとして取込み順次所定のシーケンスで取込んだアド
レスを変化させるバーストアドレスカウンタ87と、こ
のバーストアドレスカウンタ87の出力アドレスをデコ
ードして、データビット選択信号YSを生成するアドレ
スデコーダ88を含む。
FIG. 43 schematically shows a structure of the selection signal generating portion shown in FIGS. 38 and 39. Referring to FIG. Referring to FIG. 43, a selection signal generator fetches and decodes an external command CMD in synchronization with clock signal CLK, and generates a designated operation mode instruction signal, and a bank activation from command decoder 80. Bank activation control circuit 81 activated in response to an instruction signal to generate a control signal for driving a bank to an active state
And a bank address latch 82 for latching an external bank / mat address BAMD in response to a bank activation instruction signal and a sub-bank activation instruction signal from command decoder 80, and decodes an output signal of bank address latch 82. Bank / mat designation signal BK /
Bank decode latch 8 for generating and latching MT
3 and an external sub-bank address SBA in response to a sub-bank activation instruction signal from command decoder 80.
Sub-bank address latch 84 for taking in and latching D
And decodes the sub-bank address latched by the sub-bank address latch 84 to generate a sub-bank designation signal S
A subbank decode / latch 85 for generating BK, an address latch 86 for latching an external address signal Add in response to a subbank activation instruction signal or a data write / read instruction signal from the command decoder 80,
In response to a read / write instruction signal from the command decoder 80, a burst address counter 87 which takes in the address of the address latch 86 as a head address and sequentially changes the address taken in a predetermined sequence, and an output of the burst address counter 87 An address decoder 88 for decoding an address to generate a data bit selection signal YS is included.

【0236】バーストアドレスカウンタ87およびアド
レスデコーダ88は、コマンドデコーダ80からのリー
ド/ライト指示信号に応答して起動されるリード/ライ
ト制御回路89の制御のもとにクロック信号CLKに同
期して動作する。このリード/ライト制御回路89は、
クロック信号CLKに同期して、バースト長期間バース
トアドレスカウンタ87およびアドレスデコーダ88を
起動する。このリード/ライト制御回路89は、また、
データの書込/読出を行なうために、書込/読出回路に
含まれるメインアンプおよびライトドライバの活性/非
活性化の制御および図42に示す転送部の動作を制御す
る。
Burst address counter 87 and address decoder 88 operate in synchronization with clock signal CLK under the control of read / write control circuit 89 activated in response to a read / write instruction signal from command decoder 80. I do. This read / write control circuit 89
The burst address counter 87 and the address decoder 88 are activated in synchronization with the clock signal CLK. The read / write control circuit 89 also
In order to write / read data, control of activation / inactivation of a main amplifier and a write driver included in a write / read circuit and operation of a transfer unit shown in FIG. 42 are controlled.

【0237】この図43に示す構成においては、アドレ
スデコーダ88からのデータビット選択信号YSは、各
メモリマットへ与えられ、メモリマットアドレスと論理
積がとられ、選択メモリマットにおいて、データビット
選択動作が行なわれる。これは、リード/ライト制御回
路89が行なう制御動作において、選択サブバンク/バ
ンクを含むメモリマットに対してのみ、メインアンプお
よびライトドライバが活性/非活性化されるのと同様で
ある。
In the structure shown in FIG. 43, data bit select signal YS from address decoder 88 is applied to each memory mat, and is logically ANDed with the memory mat address. Is performed. This is the same as the control operation performed by read / write control circuit 89 in which the main amplifier and the write driver are activated / deactivated only for the memory mat including the selected sub-bank / bank.

【0238】なお、図43に示す構成により、サブバン
ク指定信号SBKは、図40に示す信号波形図により、
サブバンクアドレスコマンドSBACTが与えられてか
ら、活性状態を維持する。このサブバンク指定信号SB
Kは、ライトコマンドまたはリードコマンドが与えられ
たときバースト長期間経過後、リセット状態とされ、メ
インI/O線対が所定電位レベルにプリチャージされる
構成が設けられてもよい。
According to the structure shown in FIG. 43, sub-bank designating signal SBK is generated according to the signal waveform diagram shown in FIG.
After the sub-bank address command SBACT is applied, the active state is maintained. This sub-bank designation signal SB
K may be set to a reset state after a lapse of a long burst period when a write command or a read command is applied, and a configuration may be provided in which the main I / O line pair is precharged to a predetermined potential level.

【0239】なお、図40に示すタイミングチャート図
において、ライトコマンドおよびリードコマンドが、オ
ートプリチャージ機能を備えているコマンドであれば、
バースト長データの書込/読出後、メインI/O線対の
所定電位へのプリチャージおよびバンク指定信号SBK
の非選択状態への駆動が行なわれる構成が用いられても
よい。この場合、バースト長期間ごとにライトコマンド
またはリードコマンドが与えられる場合、オートプリチ
ャージがリセットされ、メインI/O線対の所定電位レ
ベルへのプリチャージが行なわれない。
In the timing chart shown in FIG. 40, if the write command and the read command are commands having an auto precharge function,
After writing / reading the burst length data, precharging main I / O line pair to a predetermined potential and bank designating signal SBK
May be used to drive to the non-selected state. In this case, when a write command or a read command is applied every burst period, the auto precharge is reset, and the precharge of the main I / O line pair to the predetermined potential level is not performed.

【0240】このリード/ライトコマンドがオートプリ
チャージ機能付きの場合のタイミングを、図40におい
て、メインI/O線対およびサブバンク指定信号SBK
において破線で示す。
The timing when this read / write command has an auto precharge function is shown in FIG. 40 by referring to the main I / O line pair and the subbank designating signal SBK.
Are indicated by broken lines.

【0241】[変更例]図44は、この発明の実施の形
態10の変更例の動作シーケンスを示す図である。図4
4において、外部からのコマンドCMDは、サブバンク
アクティブコマンドSBACTと、サブバンクプリチャ
ージコマンドSBPRGを含む。サブアクティブコマン
ドSBACTが与えられたとき、所定期間サブバンク指
定信号SBKが選択状態へ駆動され、このサブバンクア
クティブコマンドSBACTが指定するサブバンクのセ
ンスアンプによりラッチされたデータがメインI/O線
対MIOへ伝達される。この所定期間が経過し、サブバ
ンク選択信号SBKが非選択状態となると、メインI/
O線対MIOはフローティング状態となり、選択された
サブバンクから伝達されたデータを保持する。この状態
で、データの書込/読出が行なわれる。データの書込/
読出においては、メモリアレイ部は切離されるため、メ
インアンプおよびライトドライバに対するデータの書込
/読出が行なわれるだけであり、最も信号伝搬遅延の大
きなメインI/O線対およびセンスアンプを介してメモ
リセルへのデータの書込/読出を行なう経路が省略され
るため、高速でデータの書込/読出を行なうことができ
る。
[Modification] FIG. 44 shows an operation sequence of a modification of the tenth embodiment of the present invention. FIG.
In 4, the command CMD from the outside includes a sub-bank active command SBACT and a sub-bank precharge command SBPRG. When subactive command SBACT is applied, subbank designating signal SBK is driven to a selected state for a predetermined period, and data latched by the sense amplifier of the subbank designated by subbank active command SBACT is transmitted to main I / O line pair MIO. Is done. When the predetermined period elapses and the sub-bank selection signal SBK enters a non-selected state, the main I / O
O line pair MIO is in a floating state, and holds data transmitted from the selected sub-bank. In this state, data writing / reading is performed. Writing data /
In reading, since the memory array portion is cut off, only data writing / reading with respect to the main amplifier and the write driver is performed, and via the main I / O line pair and the sense amplifier having the longest signal propagation delay. Since a path for writing / reading data to / from a memory cell is omitted, data writing / reading can be performed at high speed.

【0242】データの書込/読出が完了し、このサブバ
ンクに対するアクセスが完了すると、サブバンクプリチ
ャージコマンドSBPRGが与えられる。このサブバン
クプリチャージコマンドSBPRGに従って、再びサブ
バンク指定信号SBKが所定期間Hレベルの選択状態へ
駆動され、メインI/O線対とこの指定されたサブバン
クのセンスアンプとが所定期間接続され、サブバンクの
センスアンプへのデータの書戻しが行なわれる。これ
は、データ書込時、メインI/O線対に書込データが転
送されて保持されており、センスアンプへは、この書込
データは転送されていないためである。このサブバンク
プリチャージコマンドSBPRGが与えられてサブバン
ク指定信号BSKが所定期間選択状態へ駆動された後、
メインI/O線対MIOが所定電位レベルにプリチャー
ジされる。
When data writing / reading is completed and access to the subbank is completed, subbank precharge command SBPRG is applied. In accordance with sub-bank precharge command SBPRG, sub-bank designating signal SBK is again driven to the selected state of H level for a predetermined period, the main I / O line pair and the sense amplifier of the specified sub-bank are connected for a predetermined period, and the sense of the sub-bank is Data is written back to the amplifier. This is because, at the time of data writing, write data is transferred to and held on the main I / O line pair, and this write data is not transferred to the sense amplifier. After sub-bank precharge command SBPRG is applied and sub-bank designating signal BSK is driven to the selected state for a predetermined period,
Main I / O line pair MIO is precharged to a predetermined potential level.

【0243】サブバンク切換時において、サブバンクプ
リチャージコマンドSBPRGを与える必要があり、サ
ブバンク切換時に1つのクロックサイクルが必要とされ
る。しかしながら、メモリマットを切換えて、サブバン
ク切換を行なえば、このサブバンクプリチャージコマン
ドによるオーバーヘッドは、外部アクセスに対しては影
響を及ぼさない。また、バンクは選択状態を維持してお
り、サブバンク選択ゲートも活性/非活性が行なわれる
だけであり、通常の、ワード線を選択状態から非選択状
態へ切換える構成となるバンクプリチャージコマンドに
比べて、このプリチャージ動作に要する期間は短く、通
常のバンクプリチャージコマンドによるバンク非活性化
に要する時間よりも短くですみ、サブバンク切換時のオ
ーバーヘッドは、バンク切換時のオーバーヘッドよりも
十分少なく、高速のアクセス性は損なわれない(同じマ
ット内において連続してアクセスが行なわれる場合)。
At the time of sub-bank switching, it is necessary to apply sub-bank precharge command SBPRG, and one clock cycle is required at the time of sub-bank switching. However, if sub-bank switching is performed by switching memory mats, the overhead due to the sub-bank precharge command does not affect external access. Further, the bank maintains the selected state, and the sub-bank select gate is only activated / deactivated, which is different from the bank precharge command which normally switches the word line from the selected state to the non-selected state. Therefore, the time required for this precharge operation is short, shorter than the time required for bank deactivation by a normal bank precharge command, and the overhead at the time of sub-bank switching is sufficiently smaller than the overhead at the time of bank switching. Is not impaired (when access is performed continuously in the same mat).

【0244】なお、この図44に示すサブバンクアクテ
ィブコマンドSBACTおよびサブバンクプリチャージ
コマンドSBRPGに応答して所定期間サブバンク指定
信号SBKを活性状態へ駆動する構成は、単に図43に
示す構成においてサブバンクデコード・ラッチ85を、
コマンドデコーダ80からの出力信号に従って所定期間
活性状態にする構成が用いられればよく、このとき、メ
インI/O線対プリチャージ回路は、サブバンクアクテ
ィブコマンドが与えられると非活性状態とされ、サブバ
ンクプリチャージコマンドSBPRGが与えられると、
所定時間経過後活性状態とされる構成が用いられればよ
い。
The structure for driving subbank designating signal SBK to the active state for a predetermined period in response to subbank active command SBACT and subbank precharge command SBRPG shown in FIG. 44 is different from the structure shown in FIG. 85,
A configuration in which the main I / O line pair precharge circuit is activated for a predetermined period in accordance with an output signal from command decoder 80 may be used. When the charge command SBPRG is given,
A configuration that is activated after a predetermined time has elapsed may be used.

【0245】図45は、この発明の実施の形態10の変
更例の構成におけるデータ書込/読出時の1つのメイン
I/O線対に対する構成を概略的に示す図である。図4
5において、メインI/O線対MIOiには、寄生容量
Cpが存在する。このメインI/O線対MIOiに対
し、メインアンプ62pおよびライトドライバ62wが
設けられる。これらのメインアンプ62pおよびライト
ドライバ62wは、データビット選択回路60に含まれ
る選択ゲート64ijを介してグローバルデータバス線
60aに接続される。選択ゲート64ijは、そのゲー
トにデータビット選択信号YSをデコードして生成され
る選択信号φysを受ける。
FIG. 45 schematically shows a structure for one main I / O line pair at the time of data writing / reading in the structure of the modification of the tenth embodiment of the present invention. FIG.
5, a parasitic capacitance Cp exists in the main I / O line pair MIOi. A main amplifier 62p and a write driver 62w are provided for the main I / O line pair MIOi. The main amplifier 62p and the write driver 62w are connected to a global data bus line 60a via a selection gate 64ij included in the data bit selection circuit 60. Select gate 64ij receives select signal φys generated by decoding data bit select signal YS at its gate.

【0246】図44に示すようにサブバンクアクティブ
コマンドSBACTが与えられると、所定期間サブバン
ク選択信号SBKが活性化され、メインI/O線対MI
Oiには、データが伝達され、対応のサブバンクのセン
スアンプからのデータが寄生容量Cpに格納される。サ
ブバンク選択信号SBKが非選択状態へ駆動されると、
このメインI/O線対MIOiは、フローティング状態
となる。ライト/リードコマンドが与えられると、ライ
トドライバ62wまたはメインアンプ62pが活性化さ
れる。この状態において、データ読出時、単に寄生容量
Cpに格納されたデータが、メインアンプ62pにより
増幅されて、選択ゲート64ijを介してグローバルデ
ータバス線60aに伝達される。データ書込時、グロー
バルデータバス線60a上の書込データが、選択ゲート
64ijを介してライトドライバ62wへ与えられる。
ライトドライバ62wは、この与えられた書込データを
増幅して、寄生容量Cpに格納する。したがって、この
メインI/O線対MIOiを最遠方端部まで駆動して、
対応のセンスアンプとデータの授受をする必要がなく、
高速のデータアクセスが可能となる。
When subbank active command SBACT is applied as shown in FIG. 44, subbank selection signal SBK is activated for a predetermined period, and main I / O line pair MI
Data is transmitted to Oi, and data from the sense amplifier of the corresponding subbank is stored in the parasitic capacitance Cp. When the sub-bank selection signal SBK is driven to a non-selected state,
This main I / O line pair MIOi is in a floating state. When a write / read command is given, the write driver 62w or the main amplifier 62p is activated. In this state, at the time of data reading, data simply stored in the parasitic capacitance Cp is amplified by the main amplifier 62p and transmitted to the global data bus line 60a via the selection gate 64ij. At the time of data writing, write data on global data bus line 60a is applied to write driver 62w via select gate 64ij.
The write driver 62w amplifies the given write data and stores it in the parasitic capacitance Cp. Therefore, this main I / O line pair MIOi is driven to the farthest end,
There is no need to exchange data with the corresponding sense amplifier,
High-speed data access becomes possible.

【0247】データアクセスが完了すると、このメイン
I/O線対MIOiが、再びサブバンクに接続されてデ
ータの書込が行なわれ、その完了後、所定電位にプリチ
ャージされる。
When the data access is completed, the main I / O line pair MIOi is connected to the sub-bank again to write data, and after the completion, is precharged to a predetermined potential.

【0248】図46は、1つのメインI/O線対に対し
て設けられるプリチャージ回路およびその制御部の構成
を概略的に示す図である。図46において、メインI/
O線対プリチャージ制御回路は、サブバンク活性化指示
信号φsbactに応答してセットされかつサブバンク
プリチャージ指示信号φsbprgに応答してリセット
されるセット/リセットフリップフロップ90と、この
セット/リセットフリップフロップ90の出力Qからの
信号とサブバンク指定信号に含まれるサブバンク選択信
号SBK0〜SBK3とを受けるOR回路を含む。プリ
チャージ回路92は、pチャネルMOSトランジスタで
構成され、メインI/O線対MIOの各I/O線を電源
電圧Vccレベルにプリチャージする。
FIG. 46 schematically shows a structure of a precharge circuit provided for one main I / O line pair and a control portion thereof. In FIG. 46, the main I /
O line pair precharge control circuit is set / reset flip-flop 90 which is set in response to sub-bank activation instructing signal φsbact and reset in response to sub-bank precharge instructing signal φsbprg, and set / reset flip-flop 90 And an OR circuit for receiving a signal from output Q of sub-bank and sub-bank selection signals SBK0 to SBK3 included in the sub-bank designation signal. Precharge circuit 92 is formed of a p-channel MOS transistor, and precharges each I / O line of main I / O line pair MIO to power supply voltage Vcc level.

【0249】サブバンク活性化指示信号φsbact
は、サブバンクアクティブコマンドSBACTが与えら
れたときに所定期間活性状態へ駆動される。サブバンク
プリチャージ指示信号φsbprgは、サブバンクプリ
チャージコマンドSBPRGが与えられたときに所定時
間活性状態へ駆動される。したがって、サブバンクアク
ティブコマンドSBACTが与えられると、このセット
/リセットフリップフロップ90がセットされ、OR回
路91からのプリチャージ指示信号がHレベルとなり、
応じて、プリチャージ回路92が非活性状態となる。一
方、サブバンクプリチャージ指示信号φsbprgが活
性状態となると、セット/リセットフリップフロップ9
0がリセットされる。サブバンク選択信号SBK0−S
BK3がすべてLレベルの非活性状態となると、OR回
路91の出力信号がLレベルの活性状態となり、プリチ
ャージ回路92が活性化され、メインI/O線対MIO
の各I/O線を電源電位Vccレベルにプリチャージす
る。
Sub-bank activation instructing signal φsbact
Is driven to an active state for a predetermined period when subbank active command SBACT is applied. Subbank precharge instructing signal φsbprg is driven to an active state for a predetermined time when subbank precharge command SBPRG is applied. Therefore, when subbank active command SBACT is applied, set / reset flip-flop 90 is set, and the precharge instruction signal from OR circuit 91 attains an H level,
Accordingly, precharge circuit 92 is deactivated. On the other hand, when sub-bank precharge instructing signal φsbprg is activated, set / reset flip-flop 9
0 is reset. Subbank selection signal SBK0-S
When all BK3 are inactive at L level, the output signal of OR circuit 91 is activated at L level, precharge circuit 92 is activated, and main I / O line pair MIO is activated.
Are precharged to the power supply potential Vcc level.

【0250】したがって、このサブバンクアクティブコ
マンドが与えられてからサブバンクプリチャージコマン
ドSBPRGが与えられるまで、メインI/O線対の各
I/O線は、フローティング状態となり、寄生容量Cp
(図45参照)に対し、データアクセスが行なわれる。
Therefore, after the sub-bank active command is applied and before the sub-bank precharge command SBPRG is applied, each I / O line of the main I / O line pair is in a floating state, and the parasitic capacitance Cp
(See FIG. 45), data access is performed.

【0251】以上のように、この発明の実施の形態10
に従えば、メインI/O線対を共有する複数のバンクお
よびサブバンクにおいて、サブバンクアクティブコマン
ドを用いて、選択サブバンクのデータを、書込/読出回
路に転送した後、ライト/リードコマンドを用いてデー
タの書込/読出を行なっているため、データの書込/読
出は、メインアンプおよびライトドライバを含む書込/
読出回路に対して行なうだけでよく、メインI/O線対
およびセンスアンプを駆動する必要がなく、この間の信
号伝搬経路における遅延時間をなくすことができ、高速
でアクセスを行なうことができる。特に、同一サブバン
クアクセス時においてライト動作からリード動作への切
換は、単にメインアンプを駆動するだけでよく、書込デ
ータがセンスアンプに書込まれるまで待つ必要はなく、
高速で、ライト動作からリード動作へ切換えることがで
きる。
As described above, the tenth embodiment of the present invention is described.
According to this, in a plurality of banks and sub-banks sharing a main I / O line pair, data of a selected sub-bank is transferred to a write / read circuit by using a sub-bank active command, and thereafter, by using a write / read command. Since data writing / reading is performed, data writing / reading is performed by a write / read including a main amplifier and a write driver.
It only needs to be performed for the read circuit, and there is no need to drive the main I / O line pair and the sense amplifier. The delay time in the signal propagation path between them can be eliminated, and high-speed access can be performed. In particular, at the time of accessing the same sub-bank, switching from the write operation to the read operation only requires driving the main amplifier, and there is no need to wait until write data is written to the sense amplifier.
It is possible to switch from a write operation to a read operation at a high speed.

【0252】[実施の形態11]図47は、この発明の
実施の形態11に従う半導体記憶装置の要部の構成を概
略的に示す図である。図47においては、バンクBK♯
0〜BK♯31に対し、共通に、メインI/O線対MI
O0〜MIO1023が設けられる。これらのメインI
/O線対MIO0〜MIO1023とデータの授受を行
なう書込/読出回路においては、メインアンプ62pの
前段にラッチ回路95aが設けられ、またライトドライ
バ62wの前段にラッチ回路95bが設けられる。他の
構成は、図39に示す構成と同じであり、対応する部分
には、同一参照番号を付す。ここで、図47において、
データビット選択回路64a〜64xは、それぞれ、選
択ゲートTG0〜TG3を含むように示す。
[Eleventh Embodiment] FIG. 47 schematically shows a structure of a main portion of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention. In FIG. 47, bank BK #
0 to BK # 31, the main I / O line pair MI
O0 to MIO1023 are provided. These main I
In a write / read circuit for transmitting and receiving data to / O line pairs MIO0-MIO1023, a latch circuit 95a is provided before the main amplifier 62p, and a latch circuit 95b is provided before the write driver 62w. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG. 39, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals. Here, in FIG.
Data bit selection circuits 64a to 64x are shown to include selection gates TG0 to TG3, respectively.

【0253】ラッチ回路95aは、サブバンク活性化
時、メインI/O線対MIO0〜MIO1023上に読
出されたデータを取込みラッチする。データ読出時にお
いては、このラッチ95aにデータを取込んだ後、メイ
ンI/O線対MIO0〜MIO1023を、プリチャー
ジ状態に復帰させることができる。一方、データ書込時
においては、このメインI/O線対MIO0〜MIO1
023をプリチャージ状態に保持して、書込データをラ
ッチ回路95bにラッチさせることができる。この後サ
ブバンクを選択して、ラッチ回路95bに書込まれたデ
ータをライトドライバ62wを介して書込む。外部との
データの授受を行なう場合、ラッチ回路95aおよび9
5bと図示しないデータ入出力回路との間でデータ転送
が行なわれる(図42参照)。したがって、この外部装
置との間でのデータ転送時において、最も信号伝搬に時
間が要するメインI/O線対MIO0〜MIO1023
とセンスアンプとの間でのデータ転送を切離してデータ
転送を行なうことができ、高速データアクセスが実現さ
れる。
Latch circuit 95a takes in and latches data read onto main I / O line pairs MIO0-MIO1023 when the subbank is activated. At the time of data reading, after data is taken into latch 95a, main I / O line pairs MIO0-MIO1023 can be returned to the precharge state. On the other hand, at the time of data writing, the main I / O line pair MIO0-MIO1
023 can be held in the precharge state, and the write data can be latched by the latch circuit 95b. Thereafter, the sub-bank is selected, and the data written in the latch circuit 95b is written via the write driver 62w. When exchanging data with the outside, latch circuits 95a and 9a
Data transfer is performed between 5b and a data input / output circuit (not shown) (see FIG. 42). Therefore, at the time of data transfer with this external device, the main I / O line pair MIO0-MIO1023 requiring the longest time for signal propagation.
The data transfer can be performed by separating the data transfer between the memory and the sense amplifier, and high-speed data access is realized.

【0254】図48は、図47に示す書込/読出回路
の、1ビットのメインI/O線対MIOに対応する部分
の構成の一例を示す図である。図48において、ラッチ
回路95aは、サブバンク選択指示信号φsbkの活性
化時導通し、メインI/O線対MIO上の信号電位を伝
達するトランスファゲート95aaと、このトランスフ
ァゲート95aaを介して与えられる信号を反転するイ
ンバータ95abと、インバータ95abの出力信号を
反転してインバータ95abの入力部へ伝達するインバ
ータ95acを含む。インバータ95abおよび95a
cが、インバータラッチを構成する。このラッチ回路9
5aのラッチデータは、メインアンプ62pへ与えられ
る。
FIG. 48 shows an example of the structure of a portion corresponding to the 1-bit main I / O line pair MIO of the write / read circuit shown in FIG. In FIG. 48, latch circuit 95a is rendered conductive when sub-bank selection instructing signal φsbk is activated to transmit a signal potential on main I / O line pair MIO, and a signal applied via transfer gate 95aa. And an inverter 95ac that inverts an output signal of the inverter 95ab and transmits the inverted signal to an input portion of the inverter 95ab. Inverters 95ab and 95a
c constitutes an inverter latch. This latch circuit 9
The latch data of 5a is applied to the main amplifier 62p.

【0255】メインアンプ62pは、メインアンプ活性
化信号PAEの活性化時活性化され、このラッチ回路9
5aから与えられたデータを増幅する。
Main amplifier 62p is activated when main amplifier activation signal PAE is activated.
Amplify the data provided from 5a.

【0256】ラッチ回路95bは、データ書込時、活性
化される書込活性化指示信号φwrに応答して導通し、
選択ゲートTGを介してグローバルデータバス線60a
(GIO)から与えられたデータを転送するトランスフ
ァゲート95baと、このトランスファゲート95ba
の伝達するデータをラッチするためのインバータ95b
bおよび95bcを含む。ラッチ回路95bのラッチデ
ータは、書込ドライバイネーブル信号WDEに応答して
活性化されるライトドライバ62wへ与えられる。
Latch circuit 95b is rendered conductive in response to a write activation instruction signal φwr activated at the time of data writing.
Global data bus line 60a via select gate TG
(GIO), a transfer gate 95ba for transferring data given thereto, and the transfer gate 95ba.
Inverter 95b for latching data transmitted by
b and 95bc. The latch data of latch circuit 95b is applied to write driver 62w activated in response to write driver enable signal WDE.

【0257】したがって、グローバルデータバス60
(バス線60a)を介して外部装置とのデータアクセス
時においては、メインI/O線対MIOとグローバルデ
ータバス60(バス線60a)とを切離し、ラッチ回路
95aまたは95bとグローバルデータバス60(バス
線60a)との間でデータの授受を行なうことができ、
高速のデータアクセスが可能となる。次に、この図47
および図48に示す半導体記憶装置の動作を、図49に
示すタイミングチャート図を参照して説明する。
Therefore, global data bus 60
At the time of data access to an external device via the (bus line 60a), the main I / O line pair MIO is disconnected from the global data bus 60 (bus line 60a), and the latch circuit 95a or 95b is connected to the global data bus 60 (bus line 60a). Data can be exchanged with the bus line 60a),
High-speed data access becomes possible. Next, FIG.
The operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 48 will be described with reference to a timing chart shown in FIG.

【0258】クロックサイクル♯0において、バンクア
クティブコマンドBAACTが与えられる。このバンク
アクティブコマンドBAACTに従って、バンク/マッ
トアドレスBAMDとして与えられたアドレスBAaが
指定するバンクにおいて行選択動作が行なわれる。
In clock cycle # 0, bank active command BACT is applied. According to bank active command BAACT, a row selecting operation is performed in the bank specified by address BAa given as bank / mat address BAMD.

【0259】次いで、クロックサイクル♯1においてデ
ータ書込を示すライトコマンドが与えられる。このライ
トコマンドが与えられるとき、バンク/マットアドレス
BAMDとしてアドレスBAaが与えられ、またそのと
き与えられるアドレスYが、データビット群Yaを指定
する。ライトコマンドが与えられたときには、サブバン
クアドレスSBADは、必要とされない。単に、図47
に示すラッチ回路95bにデータの書込が行なわれるた
めである。このライトコマンドとともに、書込データD
11、D12、D13およびD14が、それぞれクロッ
ク信号CLKの立上がりエッジおよび立下がりエッジに
同期して与えられる。アドレスYaを先頭アドレスとし
て、内部で列選択動作が行なわれる。2つのデータ単位
で各クロックサイクルごとに内部グローバルデータバス
に書込データが転送される。クロックサイクル♯2にお
いて、このアドレスYaに従ってデータビット選択信号
φysが選択状態へ駆動され、グローバルデータバスG
IO(バス60)上のデータが、選択された書込ドライ
バの前段に設けられたラッチ95bに格納される。この
書込動作時においては、書込活性化指示信号φwrが活
性化され、転送ゲートTG(図48)を介して与えられ
るデータが、ラッチ回路95bに取込まれる。
Then, in clock cycle # 1, a write command indicating data writing is applied. When this write command is applied, address BAa is applied as bank / mat address BAMD, and address Y applied at that time specifies data bit group Ya. When a write command is applied, sub-bank address SBAD is not required. Figure 47
This is because data is written to latch circuit 95b shown in FIG. Along with this write command, write data D
11, D12, D13 and D14 are applied in synchronization with the rising and falling edges of clock signal CLK, respectively. A column selection operation is internally performed using address Ya as a start address. Write data is transferred to the internal global data bus every clock cycle in two data units. In clock cycle # 2, data bit select signal φys is driven to the selected state in accordance with address Ya, and global data bus G
Data on the IO (bus 60) is stored in a latch 95b provided in a stage preceding the selected write driver. In this write operation, write activation instructing signal φwr is activated, and data applied via transfer gate TG (FIG. 48) is taken into latch circuit 95b.

【0260】クロックサイクル♯3においては、バース
トアドレスに従って再びデータビット選択信号φysが
選択状態へ駆動され、このグローバルデータバス60
(GIO)上のデータが、新たに選択されたデータビッ
ト選択回路に含まれるラッチ回路95bへ転送されてラ
ッチされる。
In clock cycle # 3, data bit select signal φys is again driven to the selected state in accordance with the burst address, and global data bus 60
The data on (GIO) is transferred to and latched by latch circuit 95b included in the newly selected data bit selection circuit.

【0261】このクロックサイクル♯3において、同時
に、データ書込を示すために、コマンドCMDとして、
ライトバックコマンドWBACKが与えられる。このラ
イトバックコマンドWBACKが与えられると、そのと
き同時に与えられたバンク/マットアドレスBAaおよ
びサブバンクアドレスSBADが指定するサブバンクS
BAaが選択状態へ駆動され、この指定されたバンクに
含まれるサブバンクの各センスアンプがメインI/O線
対MIO0〜MIO1023に接続される。このとき、
また、ライトドライバ62wがライトドライバイネーブ
ル信号WDEに応答して活性化され、ラッチ回路95b
にラッチされたデータを、メインI/O線対上に伝達す
る。したがって、このライトドライバ62wからの転送
データが、メインI/O線対を介して選択されたサブバ
ンクのセンスアンプに転送されてラッチされる。
In clock cycle # 3, at the same time, as a command CMD,
Write back command WBACK is provided. When this write-back command WBACK is applied, the bank / mat address BAa and the sub-bank S specified by the sub-bank address SBAD simultaneously supplied at the time are
BAa is driven to the selected state, and the sense amplifiers of the sub-banks included in the designated bank are connected to main I / O line pairs MIO0 to MIO1023. At this time,
The write driver 62w is activated in response to the write driver enable signal WDE, and the latch circuit 95b
Is transmitted to the main I / O line pair. Therefore, the transfer data from the write driver 62w is transferred to the sense amplifier of the selected sub-bank via the main I / O line pair and latched.

【0262】このデータ転送動作が完了すると、サブバ
ンク指定信号SBKが非選択へ駆動され、メインI/O
線対が再び所定電位にプリチャージされる。図49にお
いて、メインI/O線対MI/Oが、中間電位レベルに
プリチャージされるように示されるが、図46に示すよ
うに、電源電圧Vccレベルにプリチャージされてもよ
い。
When this data transfer operation is completed, sub-bank designating signal SBK is driven to non-selection, and main I / O
The line pair is again precharged to a predetermined potential. In FIG. 49, main I / O line pair MI / O is shown to be precharged to the intermediate potential level, but may be precharged to power supply voltage Vcc level as shown in FIG.

【0263】クロックサイクル♯4において再びライト
コマンドが与えられ、そのときのバンク/マットアドレ
スBAMDとして与えられるアドレスBAaおよびYア
ドレスとして与えられるアドレスYbに従ってバンク/
マットおよび列選択動作が行なわれる。このライトコマ
ンドに従って、再び、データD21、D22、D23お
よびD24が、このアドレスYbを先頭アドレスとする
バーストアドレスに従って生成されるデータビット選択
信号φysに従ってラッチ回路95bに転送されてラッ
チされる。
In clock cycle # 4, a write command is applied again, and the bank / mat according to address BAa given as bank / mat address BAMD and address Yb given as Y address at that time.
A mat and column selection operation is performed. In accordance with this write command, data D21, D22, D23 and D24 are again transferred to latch circuit 95b and latched in accordance with data bit selection signal φys generated in accordance with a burst address starting from address Yb.

【0264】クロックサイクル♯6において、バンク/
マットアドレスBAMDとして、アドレスBAaが与え
られ、またサブバンクアドレスSBADとして、サブバ
ンクアドレスSBAbが与えられる。この場合、同じバ
ンク/マットにおいて、異なるサブバンクが選択され
る。したがって新たに書込まれたデータD21〜D24
が、このサブバンクSBAbのセンスアンプに、ライト
ドライバからメインI/O線対を介してデータが転送さ
れてラッチされる。
In clock cycle # 6, bank /
Address BAa is provided as mat address BAMD, and sub-bank address SBAb is provided as sub-bank address SBAD. In this case, different subbanks are selected in the same bank / mat. Therefore, newly written data D21 to D24
However, data is transferred from the write driver to the sense amplifier of the sub-bank SBAb via the main I / O line pair and latched.

【0265】クロックサイクル♯7において、サブバン
クアクティブコマンドSBACTが与えられる。このサ
ブバンクアクティブコマンドSBACTが与えられる
と、そのときのバンク/マットアドレスBAbおよびサ
ブバンクアドレスSBAcに従って、バンクおよびサブ
バンクが選択され、選択されたサブバンクのセンスアン
プがメインI/O線対MI/Oに接続され、メインI/
O線対のデータが、センスアンプから転送されたデータ
に応じて変化する。このとき、またサブバンク選択活性
化信号φsbkが活性化され、ラッチ回路95aが、対
応のメインI/O線対MIO上に転送されたデータを取
込みラッチする。
In clock cycle # 7, sub bank active command SBACT is applied. When subbank active command SBACT is applied, a bank and a subbank are selected according to bank / mat address BAb and subbank address SBAc at that time, and the sense amplifier of the selected subbank is connected to main I / O line pair MI / O. The main I /
The data on the O line pair changes according to the data transferred from the sense amplifier. At this time, sub bank selection activation signal φsbk is activated again, and latch circuit 95a takes in and latches the data transferred onto the corresponding main I / O line pair MIO.

【0266】次いで、クロックサイクル♯8においてデ
ータ読出を指示するリードコマンドが与えられ、そのと
きのバンク/マットアドレスBAbおよびビット群アド
レスYcに従って、データビットの選択が行なわれ、対
応のメインアンプ62pからの増幅データが、グローバ
ルデータバス線対上に伝達される。以後、このアドレス
Ycを先頭アドレスとして、順次データが選択され、ク
ロック信号CLKの立上がりエッジおよび立下がりエッ
ジに同期して、このクロックサイクル♯8および♯9に
おいて選択されたデータQ11〜Q14が順次出力され
る。
Then, in clock cycle # 8, a read command instructing data reading is applied, and data bits are selected according to bank / mat address BAb and bit group address Yc at that time, and corresponding main amplifier 62p outputs Is transmitted onto the global data bus line pair. Thereafter, data is sequentially selected with this address Yc as the leading address, and the data Q11 to Q14 selected in clock cycles # 8 and # 9 are sequentially output in synchronization with the rising and falling edges of clock signal CLK. Is done.

【0267】サブバンクアクティブコマンドSBACT
が与えられたとき所定期間の間のみ、サブバンク選択動
作活性化信号φsbkおよびサブバンク指定信号SBK
が選択状態へ駆動される。センスアンプからラッチ回路
95aにデータが転送された後は、選択サブバンクは、
メインI/O線対から切離される。したがってラッチ回
路95aによるデータのラッチ後、メインI/O線対M
I/O0〜MI/O1023は所定電圧レベルにプリチ
ャージすることができる。
Subbank active command SBACT
Is applied and only during a predetermined period, the sub-bank selecting operation activating signal φsbk and the sub-bank designating signal SBK
Is driven to the selected state. After the data is transferred from the sense amplifier to the latch circuit 95a, the selected sub-bank is
Disconnected from the main I / O line pair. Therefore, after data is latched by latch circuit 95a, main I / O line pair M
I / O0 to MI / O1023 can be precharged to a predetermined voltage level.

【0268】この図49に示す動作シーケンスのよう
に、データ書込時においては、ライトバックコマンドW
BACKにより、サブバンクへデータを書込む必要があ
る。しかしながら、データ読出時においては、サブバン
クアクティブコマンドSBACTを与えることにより、
連続してデータを読出すことができる。グローバルデー
タバス線対を介して行なわれるデータ転送は、単にラッ
チ回路95aおよび95bと入出力回路の間で行なわれ
る。最も信号伝搬に時間を有するメインI/O線対とセ
ンスアンプとは、この内部データ転送(書込/読出動
作)時において切離されている。したがって、外部から
高速のデータアクセスを行なうことができる。
As in the operation sequence shown in FIG. 49, at the time of data writing, write back command W
It is necessary to write data to the sub-bank by BACK. However, at the time of data reading, by applying subbank active command SBACT,
Data can be read continuously. Data transfer performed via the global data bus line pair is simply performed between latch circuits 95a and 95b and an input / output circuit. The main I / O line pair which has the longest time for signal propagation and the sense amplifier are separated during this internal data transfer (write / read operation). Therefore, high-speed data access can be performed from the outside.

【0269】データ書込からデータ読出に変更する場
合、ライトバックコマンドWBACKおよびサブバンク
アクティブコマンドSBACTが必要である。しかしな
がら、メインアンプへのこのモード切換時、マットを切
換えることにより、このライトバック動作およびデータ
読出動作を隠すことができる。またデータ書込時におけ
るバンク切換時においても、マットを切換えることによ
り、このライトバック動作に要する期間を隠すことがで
きる。同様に、データ読出動作時においても、サブバン
クアクティブコマンドSBACTを与える必要のあると
き、別のメモリマットへアクセスすることにより、この
サブバンクアクティブコマンドSBACTが与えられる
期間を外部アクセスから隠すことができる。これによ
り、データ転送に最も時間を要するメモリアレイとメイ
ンアンプおよびライトドライバとの間を、内部データ転
送および外部データの書込/読出時に分離する構成とし
ているため、クロックサイクルを短くすることができ、
応じて高速アクセスが可能となる。
When changing from data writing to data reading, a write-back command WBACK and a sub-bank active command SBACT are required. However, when the mode is switched to the main amplifier, by switching the mat, the write-back operation and the data read operation can be hidden. Also, at the time of bank switching at the time of data writing, the period required for this write-back operation can be hidden by switching the mat. Similarly, in the data read operation, when it is necessary to apply subbank active command SBACT, by accessing another memory mat, the period in which subbank active command SBACT is applied can be hidden from external access. With this configuration, the memory array, which requires the longest time for data transfer, and the main amplifier and the write driver are separated at the time of internal data transfer and writing / reading of external data, so that the clock cycle can be shortened. ,
High-speed access becomes possible accordingly.

【0270】図50は、書込/読出回路制御部の構成を
概略的に示す図である。図50において、コマンドデコ
ーダ100からのサブバンク活性化指示信号φ1に応答
して所定の時間幅を有するワンショットのパルス信号を
発生するワンショットパルス発生回路102と、コマン
ドデコーダ100からの書込動作モード指示信号φ2に
応答してライトコマンドが与えられてから1クロックサ
イクル経過後に、バースト長期間各クロックサイクルに
おいてワンショットのパルス信号を発生するパルス発生
回路103を含む。このパルス発生回路103は、図示
しないバースト長カウンタを含み、コマンドデコーダ1
00から書込動作モード指示信号φ2が与えられると、
次のクロックサイクルからバースト長期間クロック信号
CLKの立上がりに応答して所定の時間幅を有するパル
ス信号φwrを生成する。アドレス信号に従って各選択
信号φys、SBKを発生する部分の構成は、先の実施
の形態10において図43を参照して示した構成を利用
することができる。コマンドの種類が増加したため(ラ
イトバックコマンド)、コマンドデコーダの構成が少し
異なってくるだけである。全体の構成は同じである。
FIG. 50 schematically shows a structure of the write / read circuit control unit. 50, a one-shot pulse generating circuit 102 for generating a one-shot pulse signal having a predetermined time width in response to a subbank activation instruction signal φ1 from command decoder 100, and a write operation mode from command decoder 100 A pulse generation circuit 103 generates a one-shot pulse signal in each clock cycle for a burst long period after a lapse of one clock cycle after a write command is applied in response to instruction signal φ2. This pulse generation circuit 103 includes a burst length counter (not shown),
00, a write operation mode instruction signal φ2 is applied.
A pulse signal .phi.wr having a predetermined time width is generated in response to the rise of clock signal CLK for a long burst period from the next clock cycle. As the configuration of the portion that generates each of the selection signals φys and SBK according to the address signal, the configuration shown in the tenth embodiment with reference to FIG. 43 can be used. Since the types of commands have increased (write-back commands), the configuration of the command decoder is only slightly different. The overall configuration is the same.

【0271】図51は、この発明の実施の形態11にお
けるメインI/O線対のプリチャージ回路の構成を概略
的に示す図である。この図51に示す構成においては、
メインI/O線対が電源電圧Vccのレベルにプリチャ
ージされる構成が示される。図51において、メインI
/O線対MIOをプリチャージするプリチャージ回路1
06は、サブバンク選択信号SBK0〜SBK3を受け
るOR回路105の出力信号により制御される。OR回
路105は、サブバンク選択信号SBK0〜SBK3の
いずれかがHレベルの選択状態のときには、Hレベルの
信号を出力して、このプリチャージ回路106を非活性
状態へ駆動し、メインI/O線対MIOをフローティン
グ状態にする。一方、サブバンク選択信号SBK0〜S
BK3がすべてLレベルの非活性状態とされると、OR
回路105の出力信号がLレベルとなり、プリチャージ
回路106が活性化され、メインI/O線対MIOの各
I/O線が、電源電圧Vccレベルにプリチャージされ
る。
FIG. 51 schematically shows a structure of a precharge circuit for a main I / O line pair according to an eleventh embodiment of the present invention. In the configuration shown in FIG.
A structure in which a main I / O line pair is precharged to the level of power supply voltage Vcc is shown. In FIG. 51, the main I
Precharge circuit 1 for precharging / O line pair MIO
06 is controlled by the output signal of the OR circuit 105 receiving the sub-bank selection signals SBK0 to SBK3. OR circuit 105 outputs an H level signal to drive precharge circuit 106 to an inactive state when any of sub bank selection signals SBK0 to SBK3 is at an H level selected state, and outputs main I / O line The MIO is set to a floating state. On the other hand, sub-bank selection signals SBK0 to SBK
When all BK3s are inactive at L level, OR
The output signal of circuit 105 goes low, precharge circuit 106 is activated, and each I / O line of main I / O line pair MIO is precharged to power supply voltage Vcc level.

【0272】なお、このプリチャージ回路において、さ
らにイコライズ回路が設けられてもよく、またメインI
/O線対は、中間電圧レベルへプリチャージされてもよ
い。
In the precharge circuit, an equalizing circuit may be further provided.
The / O line pair may be precharged to an intermediate voltage level.

【0273】なお、実施の形態10および11におい
て、いわゆる「2ビットプリフェッチ」方式の同期型半
導体記憶装置の構成が示されている。すなわち、1デー
タ入出力端子あたり、2ビットのデータがプリフェッチ
され、各クロックサイクルごとに順次転送されている。
しかしながら、これは、先の実施の形態1から9に示す
ように、任意の数のデータが同時にプリフェッチされ、
順次クロック信号に同期して転送される構成が用いられ
てもよい。
In the tenth and eleventh embodiments, the structure of a so-called "2-bit prefetch" type synchronous semiconductor memory device is shown. That is, 2-bit data is prefetched for each data input / output terminal, and is sequentially transferred every clock cycle.
However, this means that an arbitrary number of data is prefetched simultaneously, as shown in the first to ninth embodiments,
A configuration in which data is sequentially transferred in synchronization with a clock signal may be used.

【0274】また、実施の形態10および11におい
て、256MビットDRAMの構成が一例として示され
ている。しかしながら、この半導体記憶装置の記憶容量
は、他の記憶容量であってもよい。1つのメモリマット
が、複数のバンクに分割され、各バンクに共通にメモリ
アレイ上にわたってメインI/O線対が延在して配置さ
れる構成であればよい。この場合、各メモリマットごと
に、バンクが異なる構成であってもよい。
In the tenth and eleventh embodiments, the configuration of a 256 Mbit DRAM is shown as an example. However, the storage capacity of the semiconductor storage device may be another storage capacity. It is sufficient that one memory mat is divided into a plurality of banks, and a main I / O line pair is arranged to extend over the memory array in common for each bank. In this case, the bank may be different for each memory mat.

【0275】また、先の図38および図39に示す構成
においては、メモリアレイの一方側外部に沿ってバンク
/マットアドレスおよびサブバンク選択信号が伝達され
ている。しかしながら、この構成において、先の実施の
形態1から9に示すように、各メモリサブブロックごと
に、デコーダが配置され、サブブロックそれぞれにおい
て、対応のデコード回路により、センスアンプが選択さ
れる構成が用いられてもよい。
In the structure shown in FIGS. 38 and 39, a bank / mat address and a sub-bank selection signal are transmitted along one side of the outside of the memory array. However, in this configuration, as shown in the first to ninth embodiments, a decoder is arranged for each memory sub-block, and in each sub-block, a sense amplifier is selected by a corresponding decoding circuit. May be used.

【0276】また、実施の形態10および11の構成
は、先の実施の形態1から9に示す構成と適当に組合せ
て用いることができる。
The structures of Embodiments 10 and 11 can be used in an appropriate combination with the structures of Embodiments 1 to 9.

【0277】[0277]

【発明の効果】以上のように、この発明に従えば、メモ
リサブブロックごとにデコード回路を設け、各メモリサ
ブブロックにおいてセンスアンプを選択してアレイを行
列方向に延在して配設されるメインI/O線対に接続す
るように構成しているため、アレイ占有面積を増加させ
ることなく任意の数のデータビットを同時に選択するこ
とができる。また、メモリサブブロックごとに、デコー
ド回路が設けられており、データビット選択信号(列選
択信号)の伝搬遅延を低減することができ、列アクセス
が遅くなるのを防止することができる。
As described above, according to the present invention, a decode circuit is provided for each memory sub-block, and a sense amplifier is selected in each memory sub-block, and an array is arranged extending in a matrix direction. Since the connection is made to the main I / O line pair, an arbitrary number of data bits can be simultaneously selected without increasing the area occupied by the array. Further, a decode circuit is provided for each memory sub-block, so that a propagation delay of a data bit selection signal (column selection signal) can be reduced, and a delay in column access can be prevented.

【0278】また、メモリアレイを複数のバンクに分割
した場合、データのアクセス時において、メモリアレイ
と内部データとの転送とを分離するように構成している
ため、高速のデータアクセスが可能となる。
Further, when the memory array is divided into a plurality of banks, the structure is such that the transfer of the memory array and the transfer of the internal data are separated at the time of data access, so that high-speed data access is possible. .

【0279】すなわち、請求項1に係る発明に従えば、
メモリアレイを行および列方向に複数のメモリサブブロ
ックに分割し、メモリアレイにわたって内部データ線を
配設し、各メモリサブブロックに対応して列選択信号に
応答して対応のメモリサブブロックの列を選択して対応
のデータ線に接続するデコード回路を設けているため、
アレイ占有面積を増加させることなく任意のビット幅の
データを列アクセスを低下させることなく選択すること
ができる。
That is, according to the invention of claim 1,
The memory array is divided into a plurality of memory sub-blocks in the row and column directions, internal data lines are arranged over the memory array, and columns of the corresponding memory sub-blocks are responded to column select signals corresponding to the respective memory sub-blocks. And a decode circuit that connects to the corresponding data line is provided.
Data having an arbitrary bit width can be selected without increasing column access without decreasing column access.

【0280】請求項2に係る発明に従えば、メモリブロ
ック間の領域に、列ブロック選択信号を生成して対応の
メモリブロックの列を選択するデコード回路を配置して
いるため、空き領域を効率的に利用して、デコード回路
を配置することができ、アレイ占有面積の増加を抑制す
ることができる。
According to the second aspect of the present invention, since a decoding circuit for generating a column block selection signal and selecting a column of a corresponding memory block is arranged in a region between memory blocks, an empty area can be efficiently used. Thus, the decoding circuit can be arranged by utilizing the data, and an increase in the area occupied by the array can be suppressed.

【0281】請求項3に係る発明に従えば、メモリブロ
ック間領域に配置されたブロックデコード回路のそれぞ
れが、対応の領域の行方向の両側に配置されたメモリブ
ロックに共有されるため、デコード回路の数を低減する
ことができ、回路占有面積を低減することができる。
According to the third aspect of the present invention, each of the block decode circuits arranged in the inter-memory block area is shared by the memory blocks arranged on both sides of the corresponding area in the row direction. Can be reduced, and the circuit occupied area can be reduced.

【0282】請求項4に係る発明に従えば、メモリブロ
ックデコード回路を、対応のメモリブロックの列方向の
両側に分散配置しているため、列方向に沿ってのデコー
ド回路のピッチ条件を緩和することができ、余裕を持っ
てブロックデコード回路を配置することができる。
According to the invention of claim 4, since the memory block decode circuits are dispersedly arranged on both sides of the corresponding memory block in the column direction, the pitch condition of the decode circuits along the column direction is relaxed. Therefore, the block decoding circuit can be arranged with a margin.

【0283】請求項5に係る発明に従えば、バンク指定
信号に従って列選択回路が列選択動作を行なうように構
成しているため、行方向に整列するブロックがバンクを
構成する場合においても、何ら内部データ線上でのデー
タ衝突を伴うことなくデータアクセスを行なうことがで
きる。
According to the fifth aspect of the present invention, the column selecting circuit is configured to perform the column selecting operation in accordance with the bank designating signal. Therefore, even when the blocks arranged in the row direction constitute a bank, there is no problem. Data access can be performed without data collision on the internal data line.

【0284】請求項6に係る発明に従えば、メモリブロ
ック間領域に対応して複数の列デコード回路を配置して
いるため、列選択線は、ブロック間領域に列方向に沿っ
て延在して配置されているだけであり、効率的に列デコ
ード回路を配置することができる。
According to the invention of claim 6, since a plurality of column decode circuits are arranged corresponding to the inter-memory block area, the column selection lines extend in the inter-block area along the column direction. Column decoding circuits can be efficiently arranged.

【0285】請求項7に係る発明に従えば、複数の列デ
コード回路各々を、対応の列ブロックを特定するブロッ
ク特定信号に従って選択的に活性化しているため、ビッ
ト幅の小さいデータ選択時において、不必要な回路の動
作を停止させることができ、消費電力を低減することが
でき、また所望のビット幅のデータを選択することがで
きる。
According to the seventh aspect of the present invention, since each of the plurality of column decode circuits is selectively activated in accordance with a block specifying signal for specifying a corresponding column block, when data having a small bit width is selected, Unnecessary circuit operation can be stopped, power consumption can be reduced, and data having a desired bit width can be selected.

【0286】請求項8に係る発明に従えば、メモリサブ
ブロックの行方向に、両側から、互いに反対方向に列選
択信号を伝達するように構成しているため、デコード回
路のレイアウトピッチを緩和することができ、余裕を持
ってデコード回路を配置することができる。
According to the invention of claim 8, since the configuration is such that the column selection signals are transmitted in opposite directions from both sides in the row direction of the memory sub-block, the layout pitch of the decode circuit is relaxed. The decoding circuit can be arranged with a margin.

【0287】請求項9に係る発明に従えば、複数のデコ
ーダが、同じ列選択線を駆動するように構成しているた
め、メモリブロックが行方向にサイズが大きくなった場
合においても、高速で列選択線を駆動することができ、
列アクセス速度が低下するのを防止することができる。
According to the ninth aspect of the present invention, since a plurality of decoders are configured to drive the same column selection line, even if the size of the memory block increases in the row direction, high speed operation is possible. Can drive the column select line,
It is possible to prevent the column access speed from decreasing.

【0288】請求項10に係る発明に従えば、メモリサ
ブブロックを、行方向に沿って複数のグループに分割し
それぞれのグループに対応してデコード回路を設けてい
るため、複数グループが存在する場合においても、デコ
ード回路を分散配置させることができ、デコード回路の
列方向についてのピッチ条件が緩和され、余裕を持って
デコード回路を配置することができる。また、データビ
ットの数を、所望の数に低減することができる。
According to the tenth aspect of the present invention, the memory sub-block is divided into a plurality of groups along the row direction and the decoding circuit is provided corresponding to each group. In this case, the decoding circuits can be dispersedly arranged, the pitch condition in the column direction of the decoding circuits is relaxed, and the decoding circuits can be arranged with a margin. Further, the number of data bits can be reduced to a desired number.

【0289】請求項11に係る発明に従えば、ブロック
デコード回路の各々が、所定数のメモリブロックごとに
列方向に沿って配置されかつ隣接メモリブロック間領域
でブロックデコード回路の配置が異なるように構成して
いるため、ブロックデコーダの列方向についてのピッチ
条件が緩和され、余裕を持ってブロックデコード回路を
配置することができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, each of the block decode circuits is arranged along the column direction for every predetermined number of memory blocks, and the arrangement of the block decode circuits differs in the region between adjacent memory blocks. With this configuration, the pitch condition in the column direction of the block decoder is relaxed, and the block decoding circuit can be arranged with a margin.

【0290】請求項12に係る発明に従えば、各列グル
ープに対応して読出回路を設け、この読出回路に含まれ
る、各内部データ線それぞれに対応して設けられる読出
回路から、さらにグループ特定信号に従って別のグロー
バルデータバスにデータを読出すように構成しているた
め、所望のビット幅のデータを内部転送することができ
る。
According to the twelfth aspect of the present invention, a read circuit is provided corresponding to each column group, and a group specified by a read circuit provided for each internal data line included in the read circuit is further specified. Since data is read to another global data bus in accordance with a signal, data having a desired bit width can be internally transferred.

【0291】請求項13に係る発明に従えば、内部デー
タ線それぞれに対応して設けられる読出アンプ/ライト
ドライバを、データグループ特定信号により、選択的に
内部データバスとしてのグローバルデータバスとデータ
を授受するように構成しているため、所望のビット幅の
データをデータ書込時および読出時に転送することがで
き、効率的な内部データの転送を実現することができ
る。
According to the thirteenth aspect, the read amplifier / write driver provided corresponding to each of the internal data lines can be selectively connected to the global data bus as the internal data bus and the data by the data group specifying signal. Since the transmission and reception are performed, data having a desired bit width can be transferred at the time of data writing and reading, and efficient transfer of internal data can be realized.

【0292】請求項14に係る発明に従えば、メモリア
レイ上にわたって内部データ線を配設し、各メモリ行ブ
ロックを複数のサブバンクに分割し、サブバンク単位で
内部データ線とセンスアンプとの接続を行ない、また内
部データ線それぞれに書込/読出回路を設け、データビ
ット選択信号に従ってこれらの書込/読出回路をグロー
バルデータバスに選択的に接続するように構成している
ため、所望のビット幅の内部データをバンク構成時にお
いても転送することができる。また、グローバルデータ
バスを介してのデータ転送を書込/読出回路と入出力回
路との間で行なうとき、メモリアレイを書込/読出回路
から切離すことにより、データ転送が、書込/読出回路
と内部入出力回路との間で行なわれるだけであり、高速
のアクセスが実現される。
According to the fourteenth aspect of the present invention, an internal data line is provided over a memory array, each memory row block is divided into a plurality of sub-banks, and the connection between the internal data line and the sense amplifier is made in sub-bank units. In addition, a write / read circuit is provided for each internal data line, and these write / read circuits are selectively connected to a global data bus in accordance with a data bit select signal. Can be transferred even in a bank configuration. When data transfer via the global data bus is performed between the write / read circuit and the input / output circuit, the data transfer is performed by separating the memory array from the write / read circuit. Only high-speed access is realized between the circuit and the internal input / output circuit.

【0293】請求項15に係る発明に従えば、書込/読
出回路それぞれに与えられたデータをラッチするラッチ
回路を設けているため、確実に、このラッチ回路と内部
入出力回路との間でデータ転送を行なうだけでよく、内
部のデータ書込/読出時において、最も伝搬遅延の大き
いセンスアンプと書込/読出回路間のデータ転送を考慮
する必要はなく、高速のアクセスが実現される。
According to the fifteenth aspect of the present invention, since the latch circuit for latching the data applied to each of the write / read circuits is provided, the connection between the latch circuit and the internal input / output circuit is ensured. It is only necessary to perform data transfer, and it is not necessary to consider data transfer between the sense amplifier and the write / read circuit having the longest propagation delay at the time of internal data write / read, and high-speed access is realized.

【0294】請求項16に係る発明に従えば、サブバン
ク特定信号に従って所定期間のみサブバンクの列を内部
データ線に接続するように構成しているため、データア
クセス時、このメモリアレイと書込/読出回路とを切離
すことができ、高速のデータアクセスが実現される。
According to the sixteenth aspect of the invention, since the columns of the sub-bank are connected to the internal data lines only for a predetermined period in accordance with the sub-bank specifying signal, the memory array can be read / written during data access. The circuit can be separated, and high-speed data access is realized.

【0295】請求項17に係る発明に従えば、データ書
込時、書込/読出回路に含まれる書込回路を活性化し
て、サブバンク特定信号により指定されたサブバンクへ
データを再書込するように構成しているため、データ書
込時、単に、ラッチ回路にデータを書込むだけでよく、
ラッチ回路にラッチされたデータは、この書込指示信号
に応答して再書込するだけでよく、この期間は、他バン
ク(他のメモリマット)アクセスにより隠すことがで
き、高速のアクセスが実現される。
According to the seventeenth aspect, at the time of data writing, a write circuit included in a write / read circuit is activated to rewrite data to a subbank designated by a subbank specifying signal. Therefore, when writing data, it is sufficient to simply write data to the latch circuit.
The data latched in the latch circuit need only be rewritten in response to the write instruction signal. During this period, the data can be hidden by accessing another bank (another memory mat), thereby realizing high-speed access. Is done.

【0296】請求項18に係る発明に従えば、サブバン
ク活性化信号に応答して、この内部データ線に結合され
るサブバンクが非活性状態に復帰するまで内部データ線
のプリチャージを停止させるように構成しているため、
選択サブバンクのデータの破壊がプリチャージにより生
じるのを防止することができる。
According to the eighteenth aspect, in response to the subbank activation signal, the precharge of the internal data line is stopped until the subbank coupled to the internal data line returns to the inactive state. Configuration,
It is possible to prevent the data in the selected sub-bank from being destroyed by the precharge.

【0297】請求項19に係る発明に従えば、センスア
ンプを列方向において隣接するメモリサブブロックで共
有するように構成しているため、センスアンプ占有面積
を低減することができ、応じてチップ面積を低減するこ
とができる。
According to the nineteenth aspect, since the sense amplifier is configured to be shared by the memory sub-blocks adjacent in the column direction, the area occupied by the sense amplifier can be reduced, and accordingly, the chip area can be reduced. Can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装
置のアレイ部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 1 schematically shows a structure of an array portion of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示すメモリブロック間領域の構成を概
略的に示す図である。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a configuration of a region between memory blocks shown in FIG. 1;

【図3】 図1に示すブロック間領域の他の構成を概略
的に示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing another configuration of the inter-block area shown in FIG. 1;

【図4】 図1に示す半導体記憶装置の1つのメモリサ
ブブロックの構成をより具体的に示す図である。
FIG. 4 is a diagram more specifically showing a configuration of one memory sub-block of the semiconductor memory device shown in FIG. 1;

【図5】 図4に示すメモリサブブロックの2つのサブ
ブロックに対する構成を概略的に示す図である。
5 is a diagram schematically showing a configuration of two sub blocks of the memory sub block shown in FIG. 4;

【図6】 この発明の実施の形態2に従う半導体記憶装
置の要部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 6 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態2に従う半導体記憶装
置の4つのメモリサブブロックに関連する部分の構成を
概略的に示す図である。
FIG. 7 schematically shows a structure of a portion related to four memory sub-blocks of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態2の変更例の構成を示
す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a modification of the second embodiment of the present invention.

【図9】 図8に示す構成に従って6個のメモリサブブ
ロックを配置した構成を示す図である。
9 is a diagram showing a configuration in which six memory sub blocks are arranged according to the configuration shown in FIG. 8;

【図10】 図9に示す構成をより詳細に示す図であ
る。
FIG. 10 is a diagram showing the configuration shown in FIG. 9 in more detail;

【図11】 図10に示す構成におけるセンスアンプに
関連する部分の構成を示す図である。
11 is a diagram showing a configuration of a portion related to a sense amplifier in the configuration shown in FIG. 10;

【図12】 図11に示す制御信号を発生する制御回路
の構成の一例を示す図である。
12 is a diagram illustrating an example of a configuration of a control circuit that generates a control signal illustrated in FIG. 11;

【図13】 この発明の実施の形態3に従う半導体記憶
装置の要部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 13 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図14】 この発明の実施の形態3に従う半導体記憶
装置の変更例の構成を概略的に示す図である。
FIG. 14 schematically shows a configuration of a modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

【図15】 この発明の実施の形態3に従う半導体記憶
装置の第2の変更例の構成を概略的に示す図である。
FIG. 15 schematically shows a configuration of a second modification of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention.

【図16】 図15に示す構成の変更例を示す図であ
る。
FIG. 16 is a diagram showing a modification of the configuration shown in FIG.

【図17】 この発明の実施の形態4に従う半導体記憶
装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 17 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図18】 (A)は、図17に示す半導体記憶装置の
行ブロック選択信号発生部の構成を概略的に示し、
(B)は、(A)に示す回路の動作を示すタイミングチ
ャート図である。
FIG. 18A schematically shows a configuration of a row block selection signal generator of the semiconductor memory device shown in FIG.
FIG. 3B is a timing chart illustrating the operation of the circuit illustrated in FIG.

【図19】 この発明の実施の形態4の変更例を示す図
である。
FIG. 19 is a diagram showing a modification of the fourth embodiment of the present invention.

【図20】 図19に示す構成の動作を示すタイミング
チャート図である。
20 is a timing chart showing the operation of the configuration shown in FIG.

【図21】 図19に示すラッチの具体的構成例を示す
図である。
21 is a diagram illustrating a specific configuration example of the latch illustrated in FIG. 19;

【図22】 行および列アクセス指示信号を生成するコ
マンドデコーダを概略的に示す図である。
FIG. 22 schematically shows a command decoder that generates a row and column access instruction signal.

【図23】 この発明の実施の形態5に従う半導体記憶
装置の要部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 23 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図24】 図23に示すメインアンプ群の1ビットに
関連する部分の構成を概略的に示す図である。
24 is a diagram schematically showing a configuration of a portion related to one bit of the main amplifier group shown in FIG. 23;

【図25】 この発明の実施の形態6に従う半導体記憶
装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 25 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図26】 図25に示す半導体記憶装置の制御信号発
生部の構成を概略的に示す図である。
26 is a diagram schematically showing a configuration of a control signal generator of the semiconductor memory device shown in FIG. 25;

【図27】 図25に示す構成の変更例を示す図であ
る。
FIG. 27 is a diagram showing a modification of the configuration shown in FIG. 25.

【図28】 この発明の実施の形態7に従う半導体記憶
装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 28 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図29】 図28に示す半導体記憶装置の1つのメモ
リサブブロックに関連する部分の構成を概略的に示す図
である。
FIG. 29 is a drawing illustrating roughly configuration of a portion related to one memory sub-block of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 28;

【図30】 この発明の実施の形態8に従う半導体記憶
装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 30 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図31】 図30に示す半導体記憶装置の1つのメモ
リサブブロックに関連する部分の構成を概略的に示す図
である。
FIG. 31 is a drawing illustrating roughly configuration of a portion related to one memory sub-block of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 30;

【図32】 この発明の実施の形態9に従う半導体記憶
装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 32 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図33】 (A)は、図32に示すメインアンプ群お
よびラッチ群の1ビットに関連する部分の構成を概略的
に示し、(B)は、図32に示すメインアンプ群および
ラッチ群の1ビットの関連する部分の他の構成を概略的
に示す図である。
33A schematically shows a configuration of a portion related to one bit of the main amplifier group and the latch group shown in FIG. 32, and FIG. 33B shows a configuration of the main amplifier group and the latch group shown in FIG. FIG. 10 is a drawing schematically showing another configuration of a related portion of one bit.

【図34】 この発明の実施の形態9の変更例の半導体
記憶装置の要部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 34 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a modification of the ninth embodiment of the present invention.

【図35】 図34に示す半導体記憶装置の行ブロック
選択信号およびデータビット選択信号発生部の構成を概
略的に示す図である。
FIG. 35 is a drawing illustrating roughly configuration of a row block selection signal and a data bit selection signal generation unit of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 34;

【図36】 図34に示す半導体記憶装置の行ブロッ
ク、列ブロックおよびデータビットブロック選択信号発
生部の他の構成を示す概略的に示す図である。
36 is a diagram schematically showing another configuration of a row block, a column block, and a data bit block selection signal generator of the semiconductor memory device shown in FIG. 34.

【図37】 この発明の実施の形態10に従う半導体記
憶装置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 37 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention.

【図38】 図37に示す半導体記憶装置の1つのメモ
リマットに関連する部分の構成を概略的に示す図であ
る。
FIG. 38 is a drawing illustrating roughly configuration of a portion related to one memory mat of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 37;

【図39】 図38に示す半導体記憶装置の要部の構成
をより具体的に示す図である。
39 is a diagram more specifically showing a configuration of a main part of the semiconductor memory device shown in FIG. 38;

【図40】 図38および図39に示す半導体記憶装置
の動作を示すタイミングチャート図である。
FIG. 40 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device shown in FIGS. 38 and 39.

【図41】 図38および図39に示す半導体記憶装置
の効果を説明するための図である。
FIG. 41 is a diagram illustrating an effect of the semiconductor memory device shown in FIGS. 38 and 39;

【図42】 図38および図39に示す半導体記憶装置
の内部データ転送部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 42 is a drawing illustrating roughly configuration of an internal data transfer unit of the semiconductor memory device illustrated in FIGS. 38 and 39;

【図43】 この発明の実施の形態10における半導体
記憶装置の内部選択信号発生部の構成を概略的に示す図
である。
FIG. 43 schematically shows a structure of an internal selection signal generator of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention.

【図44】 この発明の実施の形態10の変更例の構成
を概略的に示す図である。
FIG. 44 schematically shows a structure of a modification of the tenth embodiment of the present invention.

【図45】 この発明の実施の形態10の変更例におけ
る動作を説明するための図である。
FIG. 45 is a diagram illustrating an operation in a modification of the tenth embodiment of the present invention.

【図46】 この発明の実施の形態10の半導体記憶装
置の変更例のメインI/O線対プリチャージ部の構成を
概略的に示す図である。
FIG. 46 schematically shows a structure of a main I / O line pair precharge unit in a modification of the semiconductor memory device according to the tenth embodiment of the present invention.

【図47】 この発明の実施の形態11の半導体記憶装
置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 47 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図48】 図47に示すラッチ回路の構成の一例を示
す図である。
48 is a diagram illustrating an example of a configuration of a latch circuit illustrated in FIG. 47;

【図49】 この発明の実施の形態11の半導体記憶装
置の動作を示すタイミングチャート図である。
FIG. 49 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device according to the eleventh embodiment of the present invention.

【図50】 この発明の実施の形態11の半導体記憶装
置の内部制御信号発生部の構成を概略的に示す図であ
る。
FIG. 50 schematically shows a structure of an internal control signal generator of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図51】 この発明の実施の形態11の半導体記憶装
置のメインI/O線対プリチャージ部の構成を概略的に
示す図である。
FIG. 51 schematically shows a structure of a main I / O line pair precharge unit of a semiconductor memory device according to an eleventh embodiment of the present invention.

【図52】 従来の半導体記憶装置のアレイ配置を概略
的に示す図である。
FIG. 52 schematically shows an array arrangement of a conventional semiconductor memory device.

【図53】 図52に示す半導体記憶装置の1つのメモ
リマットのより詳細構成を概略的に示す図である。
FIG. 53 is a drawing illustrating roughly a more detailed configuration of one memory mat of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 52;

【図54】 図53に示すメモリマットの内部データ線
の配置を概略的に示す図である。
FIG. 54 schematically shows an arrangement of internal data lines of the memory mat shown in FIG. 53.

【図55】 従来の半導体記憶装置の他のアレイ配置を
概略的に示す図である。
FIG. 55 schematically shows another array arrangement of the conventional semiconductor memory device.

【図56】 図55に示す半導体記憶装置の内部データ
転送部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 56 is a drawing illustrating roughly configuration of an internal data transfer unit of the semiconductor memory device illustrated in FIG. 55;

【図57】 図56に示す半導体記憶装置の問題点を説
明するための図である。
FIG. 57 is a view illustrating a problem of the semiconductor memory device shown in FIG. 56;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

AR0〜ARm+1 ブロック間領域、MSB メモリ
サブブロック、BDCブロックデコード回路、SDa、
SDb コラム選択線、R♯0〜R♯n 行ブロック、
C♯0〜C♯m 列ブロック、1a〜1c ブロックデ
コード回路、SA1〜SA4,SA センスアンプ回
路、SG1〜SG4 コラム選択線、LS1〜LS4
ローカルコラム選択信号、MIOG メインI/O線対
群、1e〜1j 列ブロックデコード回路、N1〜N4
I/O選択ゲート、MI/O0〜MI/O1028,
ZMI/O0〜ZMI/O1028 メインI/O線、
MI/O0〜MI/O1028,ZMI/O0〜ZMI
/O1028 メインI/O線、MIO0〜MIO10
23 メインIO線対、ARa,ARb ブロック間領
域、BLP ビット線対、MSBaa〜MSBbc,M
SBa−MSBfメモリサブブロック、DECa0〜D
ECb1 ブロックデコード回路、1aa〜1dd ブ
ロックデコード回路、B♯0〜B♯3,BK♯0〜BK
♯31 バンク、SAGac−SAGbc センスアン
プ群、NG1a−NG4b I/Oゲート群、BILG
a−BILGb ビット線分離ゲート群、SAj セン
スアンプ、RBDEC 行ブロックデコーダ、BADE
R,BADEC バンクデコーダ、LH1−LHn ラ
ッチ、GTT1−GTTn ゲート回路、♯1−♯n行
ブロック、SELR セレクタ、6 コラムデコーダ、
6a〜6h コラムデコード回路、8a〜8d メイン
アンプ群、MIOGa〜MIOGd メインI/O線対
群、LSa,LSb ローカルコラム選択信号、8a
l,8ar,8bl,8br,8cl,8cr,8d
l,8dr メインアンプ群、LSal,LSar,L
Sbl,LSbr ローカルコラム選択信号、25a
a,25ab,25ba,25bb ブロックデコード
回路、30a〜30d ラッチ群、32 列グループ選
択回路、35 グローバルデータバス、37a,37
b,38a,38b ラッチ、18a メインアンプ、
18b ライトドライバ、32a,32b 列グループ
選択回路、MTa〜MTb メモリマット、SBS0〜
SBS31 サブバンク選択回路、62 書込/読出回
路、64 データビット選択回路、60 グローバルデ
ータバス、66 Yデコーダ、SB♯0〜SB♯31
センスアンプ帯、SSG サブブロック選択ゲート、6
2p メインアンプ、62w ライトドライバ、64a
〜64x データビット選択ゲート、66a〜66x
Yデコード回路、G1〜G4 サブブロック選択デコー
ド回路、SSG サブブロック選択ゲート、95a〜9
5b ラッチ回路。
AR0-ARm + 1 Inter-block area, MSB memory sub-block, BDC block decode circuit, SDa,
SDb column select line, R # 0-R # n row block,
C # 0-C # m Column block, 1a-1c block decode circuit, SA1-SA4, SA sense amplifier circuit, SG1-SG4 Column select line, LS1-LS4
Local column select signal, MIOG main I / O line pair group, 1e-1j column block decode circuit, N1-N4
I / O select gate, MI / O0 to MI / O1028,
ZMI / O0 to ZMI / O1028 main I / O line,
MI / O0 to MI / O1028, ZMI / O0 to ZMI
/ O1028 Main I / O line, MIO0-MIO10
23 Main IO line pair, ARa, ARb area between blocks, BLP bit line pair, MSBaa to MSBbc, M
SBa-MSBf memory sub block, DECa0-D
ECb1 Block decode circuit, 1aa-1dd block decode circuit, B # 0-B # 3, BK # 0-BK
# 31 banks, SAGac-SAGbc sense amplifier group, NG1a-NG4b I / O gate group, BILG
a-BILGb Bit line isolation gate group, SAj sense amplifier, RBDEC row block decoder, BADE
R, BADEC bank decoder, LH1-LHn latch, GTT1-GTTn gate circuit, # 1- # n row block, SELR selector, 6 column decoder,
6a-6h Column decode circuit, 8a-8d Main amplifier group, MIOGa-MIOGd Main I / O line pair group, LSa, LSb Local column select signal, 8a
1, 8ar, 8bl, 8br, 8cl, 8cr, 8d
l, 8dr Main amplifier group, LSal, Lsar, L
Sbl, LSbr Local column select signal, 25a
a, 25ab, 25ba, 25bb block decode circuit, 30a-30d latch group, 32 column group selection circuit, 35 global data bus, 37a, 37
b, 38a, 38b latch, 18a main amplifier,
18b write driver, 32a, 32b column group selection circuit, MTa to MTb memory mat, SBS0 to SBS0
SBS31 Sub-bank selection circuit, 62 write / read circuit, 64 data bit selection circuit, 60 global data bus, 66 Y decoder, SB # 0 to SB # 31
Sense amplifier band, SSG sub-block selection gate, 6
2p main amplifier, 62w write driver, 64a
~ 64x Data bit select gate, 66a ~ 66x
Y decode circuit, G1 to G4 sub block select decode circuit, SSG sub block select gate, 95a to 9
5b Latch circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/8242 G11C 11/34 371K H01L 27/10 681E ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/8242 G11C 11/34 371K H01L 27/10 681E

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行列状に配列される複数のメモリセルを
各々有しかつ行および列方向に整列して配置される複数
のメモリブロックを有するメモリアレイ、 前記メモリアレイの外部領域およびメモリブロック間領
域それぞれに前記列方向に沿って延在して配置され、列
選択信号を伝達する複数の列選択線、 前記メモリブロック上にわたって列方向に延在して配置
されかつ前記メモリブロックの列方向に整列して配置さ
れるメモリブロックで構成される列ブロックに対応して
グループ化される複数の内部データ線、および前記メモ
リブロックに対応して配置され、各々が前記列選択線上
の列選択信号に従って対応のメモリブロックの列を選択
して対応のグループの内部データ線に接続する列選択回
路を備える、半導体記憶装置。
1. A memory array having a plurality of memory cells each arranged in a matrix and having a plurality of memory blocks arranged in a row and column direction, an external region of the memory array and between memory blocks A plurality of column select lines arranged in each of the regions extending along the column direction and transmitting a column select signal; arranged in the column direction over the memory block, and arranged in the column direction of the memory block; A plurality of internal data lines grouped corresponding to a column block constituted by memory blocks arranged in line, and arranged according to the memory block, each according to a column selection signal on the column selection line A semiconductor memory device, comprising: a column selection circuit for selecting a column of a corresponding memory block and connecting to a corresponding group of internal data lines.
【請求項2】 前記列選択回路の各々は、前記メモリア
レイ外部領域またはメモリブロック間領域に配置され、
行方向に整列して配置されるメモリブロックを指定する
行ブロック指定信号と対応の領域に配置された列選択線
上の列選択信号とに従って対応のメモリブロックに対す
る列選択信号を生成するデコード回路を含む、請求項1
記載の半導体記憶装置。
2. Each of the column selection circuits is arranged in an area outside the memory array or an area between memory blocks,
A decoding circuit for generating a column selection signal for a corresponding memory block in accordance with a row block designating signal designating a memory block arranged in a row direction and a column selection signal on a column selection line arranged in a corresponding region , Claim 1
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 前記デコード回路の各々は、対応の領域
の行方向に沿って両側に配置されるメモリブロックに対
して設けられた列選択回路により共有される、請求項2
記載の半導体記憶装置。
3. The decoding circuit according to claim 2, wherein each of the decoding circuits is shared by a column selection circuit provided for memory blocks arranged on both sides along a row direction of a corresponding region.
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項4】 各前記列選択回路は、対応のメモリブロ
ックの列方向についての両側に分散配置される、請求項
1または2記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein each of said column selection circuits is distributed on both sides in a column direction of a corresponding memory block.
【請求項5】 少なくとも前記行方向に沿って整列して
配置されるメモリブロックはバンクを構成し、各前記バ
ンクは、互いに独立にメモリセルの行を選択状態へ駆動
することができ、 前記列選択回路は、バンクを特定するバンク指定信号の
活性化時列選択動作を行なう、請求項1記載の半導体記
憶装置。
5. The memory block arranged at least along the row direction constitutes a bank, and each bank can drive a row of memory cells to a selected state independently of each other; 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said selection circuit performs a column selection operation when an activation of a bank designation signal for specifying a bank is performed.
【請求項6】 前記メモリアレイの列方向についての一
方側に前記メモリアレイ外部領域およびメモリブロック
間領域に対応して配置され、与えられた列アドレス信号
に従って列選択信号を活性化して対応の列選択線上に生
成する複数の列デコード回路をさらに含む、請求項1記
載の半導体記憶装置。
6. A memory cell array which is arranged on one side in a column direction of the memory array so as to correspond to the external area of the memory array and the area between memory blocks, and activates a column selection signal in accordance with a given column address signal to thereby activate a corresponding column. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a plurality of column decode circuits generated on a selection line.
【請求項7】 前記複数の列デコード回路は列ブロック
に対応してグループ化されかつ前記複数の列デコード回
路の各々は、前記複数の列ブロックから列ブロックを特
定する列ブロック指定信号に従って活性化されて、与え
られたアドレス信号のデコードを行なって列選択信号を
生成する、請求項6記載の半導体記憶装置。
7. The plurality of column decode circuits are grouped corresponding to a column block, and each of the plurality of column decode circuits is activated according to a column block designating signal for specifying a column block from the plurality of column blocks. 7. The semiconductor memory device according to claim 6, wherein a given address signal is decoded to generate a column selection signal.
【請求項8】 各前記デコード回路は、対応のメモリブ
ロックの行方向に沿っての両側に設けられかつ互いに反
対方向に列選択信号を伝達する複数のデコーダを含む、
請求項2記載の半導体記憶装置。
8. Each of the decoding circuits includes a plurality of decoders provided on both sides along a row direction of a corresponding memory block and transmitting column selection signals in directions opposite to each other.
The semiconductor memory device according to claim 2.
【請求項9】 前記複数のデコーダは、対応のメモリブ
ロックに対する共通の列選択線を駆動する、請求項8記
載の半導体記憶装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein said plurality of decoders drive a common column selection line for a corresponding memory block.
【請求項10】 各前記メモリブロックは行方向につい
て複数のグループに分割され、 前記複数のデコーダは、前記複数のグループ各々に対応
して設けられて対応のグループに対し列選択信号を伝達
する、請求項8記載の半導体記憶装置。
10. The memory block is divided into a plurality of groups in a row direction, and the plurality of decoders are provided corresponding to each of the plurality of groups and transmit a column selection signal to the corresponding group. The semiconductor memory device according to claim 8.
【請求項11】 前記デコード回路は、前記列方向にお
いて前記メモリブロック間領域において所定数のメモリ
ブロックごとに配置されかつ隣接メモリブロック間領域
についてはデコード回路の配置位置が異なる、請求項2
記載の半導体記憶装置。
11. The decoding circuit is arranged for every predetermined number of memory blocks in the region between the memory blocks in the column direction, and the arrangement position of the decoding circuit is different in the region between adjacent memory blocks.
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項12】 前記列ブロックに対応して設けられ、
活性化時対応の列ブロックに対応して設けられた内部デ
ータ線上のデータの増幅を行なう複数の読出回路を備
え、各前記読出回路は、対応の内部データ線グループの
内部データ線に対応して設けられる複数の読出アンプを
含み、 前記内部データ線のグループを特定するデータグループ
特定信号に応答して、該データグループ特定信号により
指定されたグループに対して設けられた読出アンプのデ
ータを前記内部データ線と別に設けられたグローバルデ
ータバスに読出すためのデータ選択回路をさらに備え
る、請求項1記載の半導体記憶装置。
12. A device provided corresponding to the column block,
A plurality of read circuits for amplifying data on internal data lines provided corresponding to a corresponding column block at the time of activation, wherein each of the read circuits corresponds to an internal data line of a corresponding internal data line group A plurality of read amplifiers provided, and in response to a data group specifying signal specifying a group of the internal data lines, read data of the read amplifier provided for the group specified by the data group specifying signal. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a data selection circuit for reading data onto a global data bus provided separately from the data lines.
【請求項13】 前記列ブロックに対応して設けられ、
活性化時対応の列ブロックに対応して設けられた内部デ
ータ線とデータの授受を行なう複数の書込/読出回路を
備え、各前記書込/読出回路は、対応のグループの内部
データ線に対応して設けられる複数の読出アンプおよび
書込データを伝達するための書込ドライバを含み、 内部データ線のグループを特定するデータグループ特定
信号に応答して、該データグループ特定信号により指定
されたグループに対して設けられた書込/読出回路と前
記内部データ線と別に設けられたグローバルデータバス
との間のデータの授受を能動化するためのデータ選択回
路をさらに備える、請求項1記載の半導体記憶装置。
13. A device provided corresponding to the column block,
A plurality of write / read circuits for transmitting / receiving data to / from internal data lines provided corresponding to a corresponding column block at the time of activation are provided. Each of the write / read circuits is connected to an internal data line of a corresponding group. A plurality of read amplifiers provided correspondingly and a write driver for transmitting write data are provided. In response to a data group specifying signal for specifying a group of internal data lines, a data group specified by the data group specifying signal is provided. 2. A data selection circuit according to claim 1, further comprising a data selection circuit for activating data transfer between a write / read circuit provided for the group and a global data bus provided separately from said internal data line. Semiconductor storage device.
【請求項14】 行列状に配列される複数のメモリセル
を各々が有しかつ互いに独立にメモリセル行の選択およ
び非選択状態への駆動を行なうことのできる複数のバン
クを備え、各前記バンクは複数のサブバンクに分割さ
れ、 前記複数のバンク上にわたって列方向に沿って延在して
配置される複数の内部データ線、 バンクおよびサブバンクを特定するバンク/サブバンク
アドレス信号に従って、アドレス指定されたバンクのサ
ブバンクのメモリセル列を前記複数の内部データ線に並
列に接続するサブバンク選択回路、および前記複数の内
部データ線各々に対応して設けられかつ複数のグループ
に分割され、活性化時対応の内部データ線とデータの授
受を行なうための複数の書込/読出回路、およびグルー
プアドレス信号に従って、前記複数の書込/読出回路か
ら、該指定されたグループの書込/読出回路を選択して
グローバルデータバスに接続するデータ選択回路を備え
る、半導体記憶装置。
14. A plurality of banks each having a plurality of memory cells arranged in a matrix and capable of independently selecting and driving a memory cell row to a non-selected state. Is divided into a plurality of sub-banks, a plurality of internal data lines arranged extending along the column direction over the plurality of banks, a bank addressed according to a bank / sub-bank address signal specifying the bank and the sub-bank Sub-bank selection circuit for connecting the memory cell columns of the sub-banks to the plurality of internal data lines in parallel, and an internal circuit provided corresponding to each of the plurality of internal data lines and divided into a plurality of groups, A plurality of write / read circuits for exchanging data with data lines and a plurality of the plurality of write / read circuits in accordance with a group address signal; From write / read circuit includes a data selection circuit connected to the global data bus by selecting a write / read circuit of the designated group, the semiconductor memory device.
【請求項15】 前記複数の書込/読出回路の各々は、
与えられたデータをラッチするラッチ回路を含む、請求
項14記載の半導体記憶装置。
15. Each of the plurality of write / read circuits includes:
15. The semiconductor memory device according to claim 14, further comprising a latch circuit for latching applied data.
【請求項16】 前記サブバンク選択回路は、サブバン
ク特定信号に応答して、所定期間、指定されたサブバン
クの列を内部データ線に接続する、請求項14記載の半
導体記憶装置。
16. The semiconductor memory device according to claim 14, wherein said sub-bank selection circuit connects a column of a specified sub-bank to an internal data line for a predetermined period in response to a sub-bank specifying signal.
【請求項17】 サブバンク特定信号とともに与えられ
るデータ書込指示に応答して、前記書込/読出回路に含
まれる書込回路を活性化して前記サブバンク特定信号に
より指定されたサブバンクへ前記サブバンク選択回路を
介してデータを書込ませる制御手段をさらに備える、請
求項14記載の半導体記憶装置。
17. In response to a data write instruction provided together with a subbank specifying signal, a write circuit included in the write / read circuit is activated to switch to a subbank specified by the subbank specifying signal. 15. The semiconductor memory device according to claim 14, further comprising control means for writing data via the memory.
【請求項18】 サブバンク活性化信号に応答して、内
部データ線に結合されるサブバンクが非活性状態に復帰
するまで前記内部データ線のプリチャージを停止するた
めの制御手段をさらに備える、請求項14記載の半導体
記憶装置。
18. A control device for responding to a subbank activation signal, further comprising control means for stopping precharging of the internal data line until a subbank coupled to the internal data line returns to an inactive state. 15. The semiconductor memory device according to 14.
【請求項19】 各々が前記列に対応して設けられ、少
なくとも列方向において隣接するメモリブロック間に配
置されかつ該隣接メモリブロック間で共有される複数の
センスアンプを含む複数のセンスアンプ群をさらに備え
る、請求項3または4記載の半導体記憶装置。
19. A plurality of sense amplifier groups each including a plurality of sense amplifiers provided corresponding to the column and arranged at least between adjacent memory blocks in the column direction and shared between the adjacent memory blocks. The semiconductor memory device according to claim 3, further comprising:
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