JP2000048324A - Magneto-resistive thin-film magnetic head - Google Patents

Magneto-resistive thin-film magnetic head

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JP2000048324A
JP2000048324A JP10214311A JP21431198A JP2000048324A JP 2000048324 A JP2000048324 A JP 2000048324A JP 10214311 A JP10214311 A JP 10214311A JP 21431198 A JP21431198 A JP 21431198A JP 2000048324 A JP2000048324 A JP 2000048324A
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Japan
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magnetic
film
yoke
magnetoresistive
magnetic field
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Japanese (ja)
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Yasuhiro Sugano
泰弘 菅野
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Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magneto-resistive(MR) thin-film magnetic head which is capable of detecting the signals of different track widths and improving reproduction output by lowering the magnetic reluctance over the entire part of a magnetic circuit. SOLUTION: The MR thin-film magnetic head has the structure obtd. by forming the respective upper magnetic layers 21 of plural magnetic field induction yokes 2A, 2B adjacently arranged in the track width direction to a two- layered structure branched and parallel connected with magnetic paths. Magneto- resistive elements (MR elements or GBR elements) 40A or 40B are disposed at one of the parallel connected layers and MR element 41 for analog signals are arranged on the other. The magnetic paths are branched on the film surface at the upper magnetic layer 21.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気抵抗効果型薄
膜磁気ヘッドに関し、特に磁気ギャップで検出される信
号磁界の閉磁路を構築する磁界誘導ヨークのヨークギャ
ップ部分に磁気抵抗効果素子を配設する磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドに関する。さらに詳細には、本発明は、
デジタル信号及びアナログ信号をいずれも再生可能な磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetoresistive thin-film magnetic head, and more particularly, to a magnetoresistive element provided in a yoke gap of a magnetic field induction yoke for constructing a closed magnetic path of a signal magnetic field detected by a magnetic gap. The present invention relates to a magnetoresistive thin film magnetic head. More specifically, the present invention provides
The present invention relates to a magnetoresistive thin-film magnetic head capable of reproducing both digital signals and analog signals.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開平6−215331号公報にはヨー
クタイプの複合型薄膜磁気ヘッドが開示されている。こ
の複合型薄膜磁気ヘッドはビデオテープレコーダ装置
(VTR)やオーディオ用磁気再生装置(DCC)に組み込ま
れる。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-215331 discloses a yoke type composite type thin film magnetic head. This composite thin-film magnetic head is incorporated in a video tape recorder (VTR) or an audio magnetic reproducing device (DCC).

【0003】複合型薄膜磁気ヘッドは異なるトラック幅
の信号、一般的にはデジタル信号及びアナログ信号のい
ずれの信号も再生可能な複数種類の磁気再生ヘッドによ
り構築され、複数種類の磁気再生ヘッドは同一基板上に
配設される。複合型薄膜磁気ヘッドは磁気ギャップで検
出した信号磁界の閉磁路を形成する下部ヨーク及び上部
ヨークを備え、この下部ヨーク及び上部ヨークは複数種
類の磁気再生ヘッドで兼用される。
A composite type thin film magnetic head is constructed by a plurality of types of magnetic reproducing heads capable of reproducing signals having different track widths, generally, any of digital signals and analog signals. It is provided on a substrate. The composite thin-film magnetic head includes a lower yoke and an upper yoke that form a closed magnetic path for a signal magnetic field detected by a magnetic gap. The lower yoke and the upper yoke are shared by a plurality of types of magnetic reproducing heads.

【0004】上部ヨークには信号磁界の方向に沿って2
列の隙間(2列のヨークギャップ)が配設され、この2
列の隙間には直列にデジタル信号用磁気抵抗効果素子
(MR素子)、アナログ信号用磁気抵抗効果素子(MR素
子)のそれぞれが配設される。下部ヨーク及び上部ヨー
クはトラック幅方向に複数列配設されており、複数列配
列されたそれぞれの上部ヨークには個々にデジタル信号
用磁気抵抗効果素子が配設され、それぞれの上部ヨーク
にはアナログ信号用磁気抵抗効果素子が跨って配設され
る。
[0004] The upper yoke is provided along the direction of the signal magnetic field.
A row gap (two rows of yoke gaps) is provided.
A digital signal magnetoresistive element (MR element) and an analog signal magnetoresistive element (MR element) are arranged in series in the gap between the columns. The lower yoke and the upper yoke are arranged in a plurality of rows in the track width direction. Each of the upper yokes arranged in a plurality of rows is individually provided with a magnetoresistive element for digital signal, and each upper yoke is analog. The signal magnetoresistive effect element is provided to extend over.

【0005】このように構成される複合型薄膜磁気ヘッ
ドにおいては、複数種類の磁気再生ヘッドが同一基板上
に共通工程で同時に製作できる構造を有し、実用に充分
な再生出力が得られる特徴がある。
[0005] The composite type thin film magnetic head constructed as described above has a structure in which a plurality of types of magnetic reproducing heads can be simultaneously manufactured on the same substrate in a common process, and a feature that a practically sufficient reproducing output can be obtained. is there.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
公報に開示された複合型薄膜磁気ヘッドにおいては、以
下の点について配慮がなされていない。すなわち、複合
型薄膜磁気ヘッドの磁気回路に磁気抵抗が支配的に大き
な磁気抵抗効果素子がデジタル信号用とアナログ信号用
とで直列に挿入されているので、磁気回路全体の磁気抵
抗が大きくなる。このため、デジタル信号用磁気抵抗効
果素子、アナログ信号用磁気抵抗効果素子のそれぞれに
流入する磁束量が充分に得られないので、複合型薄膜磁
気ヘッドの再生出力が充分に確保できない。さらに、再
生出力が充分に確保できないので、複合型薄膜磁気ヘッ
ドはトラック幅が小さくなる高密度記録化には対処でき
ない。
However, in the composite type thin film magnetic head disclosed in the above-mentioned publication, no consideration is given to the following points. In other words, since the magnetoresistive effect element having a predominantly large magnetoresistance is inserted in series for the digital signal and the analog signal in the magnetic circuit of the composite thin-film magnetic head, the magnetic resistance of the entire magnetic circuit increases. For this reason, the amount of magnetic flux flowing into each of the digital signal magnetoresistive effect element and the analog signal magnetoresistive effect element cannot be obtained sufficiently, so that the reproduction output of the composite type thin film magnetic head cannot be sufficiently ensured. Further, since the reproduction output cannot be sufficiently secured, the composite type thin film magnetic head cannot cope with high-density recording in which the track width is reduced.

【0007】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものである。従って、本発明の目的は、異なるトラッ
ク幅の信号が検出でき、かつ磁気回路全体の磁気抵抗を
低減することにより再生出力が向上できる磁気抵抗効果
型薄膜磁気ヘッドを提供することである。
The present invention has been made to solve the above problems. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a magnetoresistive thin film magnetic head capable of detecting signals of different track widths and improving the reproduction output by reducing the magnetic resistance of the entire magnetic circuit.

【0008】さらに、本発明の目的は、上記再生出力を
向上しつつ、装置の小型化が実現できる磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドを提供することである。
It is a further object of the present invention to provide a magnetoresistive thin-film magnetic head capable of realizing a smaller device while improving the reproduction output.

【0009】さらに、本発明の目的は、上記再生出力を
向上しつつ、磁性層数や絶縁体層数を削減して製作が容
易に行える簡易な構造の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド
を提供することである。
A further object of the present invention is to provide a magnetoresistive thin-film magnetic head having a simple structure which can be easily manufactured by reducing the number of magnetic layers and insulator layers while improving the reproduction output. That is.

【0010】さらに、本発明の目的は、デジタル信号再
生ヘッド及びアナログ信号再生ヘッドを搭載できる複合
型磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドを提供することであ
る。
It is a further object of the present invention to provide a composite magnetoresistive thin film magnetic head on which a digital signal reproducing head and an analog signal reproducing head can be mounted.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明の第1の特徴は、磁気抵抗効果型薄膜磁気
ヘッドにおいて、磁気ギャップで検出される信号磁界の
閉磁路がヨークギャップ部分で並列に分割された磁界誘
導ヨークが、トラック幅方向に複数隣接配置され、磁界
誘導ヨークの並列に分割されたそれぞれのヨークギャッ
プ部分に各々磁気抵抗効果素子が配設されたことであ
る。
According to a first aspect of the present invention, a closed magnetic path for a signal magnetic field detected by a magnetic gap is formed in a yoke gap portion. A plurality of magnetic field induction yokes divided in parallel are arranged adjacent to each other in the track width direction, and a magnetoresistive element is disposed in each of the divided yoke gap portions of the magnetic field induction yoke.

【0012】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、トラック幅方向に複数列の磁界
誘導ヨークが配設され、1つ又は複数の磁界誘導ヨーク
で磁気記録媒体に記録された情報が再生できるので、異
なるトラック幅の信号が検出できる。さらに、磁気回路
全体で支配的に磁気抵抗が大きい磁界誘導ヨークのそれ
ぞれのヨークギャップ部分(磁気抵抗効果素子の配設部
分)が分割され並列接続されることで磁気抵抗が低減で
きる。この結果、磁気抵抗効果素子に流入する磁束量が
充分に高められ、再生出力が向上できる。特に、トラッ
ク幅が減少し高密度記録化がなされると、磁気回路全体
の磁気抵抗が増大するが、このような場合でも充分に磁
気抵抗効果素子に流入する磁束量が確保できるので、磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの再生出力が向上でき、高
密度記録化に対処できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, a plurality of rows of magnetic field induction yokes are arranged in the track width direction, and the magnetic field is recorded on the magnetic recording medium by one or more magnetic field induction yokes. Since information can be reproduced, signals with different track widths can be detected. Furthermore, the magnetic resistance can be reduced by dividing the respective yoke gap portions (arranged portions of the magnetoresistive element) of the magnetic field induction yoke having a large magnetoresistance in the entire magnetic circuit and connecting them in parallel. As a result, the amount of magnetic flux flowing into the magnetoresistance effect element is sufficiently increased, and the reproduction output can be improved. In particular, when the track width is reduced and high-density recording is performed, the magnetic resistance of the entire magnetic circuit increases. However, even in such a case, the amount of magnetic flux flowing into the magnetoresistive element can be sufficiently secured. The reproduction output of the effect type thin film magnetic head can be improved, and high density recording can be dealt with.

【0013】この発明の第2の特徴は、磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドにおいて、トラック幅方向に複数隣接配
置された磁界誘導ヨークはいずれも膜厚方向において複
数並列に分割されたことである。
A second feature of the present invention is that, in the magnetoresistive thin film magnetic head, a plurality of magnetic field induction yokes arranged adjacently in the track width direction are each divided in parallel in the film thickness direction.

【0014】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、この発明の第1の特徴で得られ
る効果に加えて、再生出力の向上が磁界誘導ヨークの膜
厚方向で行われ、磁界誘導ヨークの占有面積が縮小でき
るので、装置の小型化が実現できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, in addition to the effect obtained by the first feature of the present invention, the reproduction output is improved in the thickness direction of the magnetic field induction yoke. Since the area occupied by the magnetic field induction yoke can be reduced, the size of the device can be reduced.

【0015】この発明の第3の特徴は、磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドにおいて、トラック幅方向に複数隣接配
置された磁界誘導ヨークはいずれも膜面上において複数
並列に分割されたことである。
A third feature of the present invention is that, in the magnetoresistive thin-film magnetic head, a plurality of magnetic field induction yokes arranged adjacent to each other in the track width direction are divided in parallel on the film surface.

【0016】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、この発明の第1の特徴で得られ
る効果に加えて、再生出力の向上が磁界誘導ヨークの膜
面上で行われ、磁性層数や絶縁体層数が削減できるの
で、製作が容易な簡易な構造を有する磁気抵抗効果型薄
膜磁気ヘッドが実現できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, in addition to the effect obtained by the first feature of the present invention, the reproduction output is improved on the film surface of the magnetic field induction yoke. Since the number of magnetic layers and the number of insulator layers can be reduced, a magnetoresistive thin-film magnetic head having a simple structure that is easy to manufacture can be realized.

【0017】この発明の第4の特徴は、磁気抵抗効果型
薄膜磁気ヘッドにおいて、トラック幅方向に複数隣接配
置された磁界誘導ヨークの並列に分割された一方のヨー
クギャップ部分にはいずれもデジタル信号再生用磁気抵
抗効果素子が個別に配設され、磁界誘導ヨークの並列に
分割された他方のヨークギャップ部分には複数に跨って
アナログ信号再生用磁気抵抗効果素子が配設されたこと
である。
According to a fourth feature of the present invention, in the magnetoresistive thin film magnetic head, one of the yoke gap portions of a plurality of magnetic field induction yokes arranged adjacent to each other in the track width direction is divided into digital signals. The magnetoresistive elements for reproduction are individually arranged, and the magnetoresistive elements for analog signal reproduction are arranged over a plurality of parts of the other yoke gap divided in parallel with the magnetic field induction yoke.

【0018】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、デジタル信号用磁気再生ヘッド
及びアナログ信号用磁気再生ヘッドが組み込まれた複合
型が実現できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, a composite type in which a digital signal magnetic reproducing head and an analog signal magnetic reproducing head are incorporated can be realized.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、図面
を参照して本発明の第1の実施の形態について説明す
る。図2は本発明の第1の実施の形態に係る磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドの平面図、図1は図2に示すF1−
F1切断線で切った磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの断
面図である。さらに、図3は磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
ッドの磁界誘導ヨークの斜視図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a plan view of the magnetoresistive thin film magnetic head according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
It is sectional drawing of the magnetoresistive effect type thin film magnetic head cut | disconnected by F1 cutting line. FIG. 3 is a perspective view of a magnetic field induction yoke of the magnetoresistive thin film magnetic head.

【0020】図1乃至図3に示すように、磁気抵抗効果
型薄膜磁気ヘッドは、第1磁界誘導ヨーク2Aと、この
第1磁界誘導ヨーク2Aに対してトラック幅方向に隣接
配置された第2磁界誘導ヨーク2Bと、第1磁界誘導ヨ
ーク2A、第2磁界誘導ヨーク2Bのそれぞれのヨーク
ギャップ25G部分に配設された磁気抵抗効果素子(MR
素子)40A、40Bと、第1磁界誘導ヨーク2A、第
2磁界誘導ヨーク2Bのそれぞれのヨークギャップ26
G部分に配設された磁気抵抗効果素子(MR素子)41と
を備えて構築される。これらの第1磁界誘導ヨーク2
A、第2磁界誘導ヨーク2B、磁気抵抗効果素子40
A、40B及び41は基板1上に配設される。基板1に
は例えばAl2O3-TiC基板等の非磁性基板が実用的に使用
できる。
As shown in FIGS. 1 to 3, the magnetoresistive thin-film magnetic head includes a first magnetic field induction yoke 2A and a second magnetic field induction yoke 2A arranged adjacent to the first magnetic field induction yoke 2A in the track width direction. A magnetoresistive element (MR) disposed in the yoke gap 25G of each of the magnetic field induction yoke 2B and the first and second magnetic field induction yokes 2A and 2B.
Element) 40A, 40B and the respective yoke gaps 26 of the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B
A magnetoresistive effect element (MR element) 41 provided in the G portion is constructed. These first magnetic field induction yokes 2
A, second magnetic field induction yoke 2B, magnetoresistive element 40
A, 40B and 41 are provided on the substrate 1. As the substrate 1, for example, a non-magnetic substrate such as an Al 2 O 3 —TiC substrate can be practically used.

【0021】第1磁界誘導ヨーク2Aは基本的には基板
1上に配設された下部磁性層20及び上部磁性層21を
備える。上部磁性層21は本実施の形態において膜厚
(上下)方向に2層構造で構築され、磁気ギャップ層3
で検出される信号磁界の閉磁路において上部磁性層21
の磁路はヨークギャップ25G又は26G通過前で一旦
分岐されヨークギャップ25G又は26G通過後に再び
結合する並列接続で構成される。すなわち、上部磁性層
21は、磁気記録媒体側(図1及び図3中左側、図2中
上側)において下部磁性層20上に磁気ギャップ層3を
介して配設された下部中間磁性層21F、第1上部磁性
層22F、磁気記録媒体側とは反対側に配設された第1
上部磁性層22R、下部中間磁性層21Rで形成される
磁路(デジタル信号検出用磁路)と、磁気記録媒体側に
おいて第1上部磁性層22R上に直接配設された上部中
間磁性層23F、第2上部磁性層24F、磁気記録媒体
側とは反対側に配設された第2上部磁性層24R、上部
中間磁性層23Rで形成される磁路(アナログ信号検出
用磁路)とを備える。
The first magnetic field induction yoke 2 A basically includes a lower magnetic layer 20 and an upper magnetic layer 21 disposed on the substrate 1. In the present embodiment, the upper magnetic layer 21 has a two-layer structure in the film thickness (vertical) direction,
In the closed magnetic path of the signal magnetic field detected by
The magnetic path is constituted by a parallel connection that branches once before passing through the yoke gap 25G or 26G and is reconnected after passing through the yoke gap 25G or 26G. That is, the upper magnetic layer 21 includes a lower intermediate magnetic layer 21F disposed on the lower magnetic layer 20 via the magnetic gap layer 3 on the magnetic recording medium side (the left side in FIGS. 1 and 3 and the upper side in FIG. 2). The first upper magnetic layer 22F has a first upper magnetic layer 22F disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side.
A magnetic path (digital signal detection magnetic path) formed by the upper magnetic layer 22R and the lower intermediate magnetic layer 21R, and an upper intermediate magnetic layer 23F directly disposed on the first upper magnetic layer 22R on the magnetic recording medium side; A second upper magnetic layer 24F, a magnetic path (analog signal detection magnetic path) formed by the second upper magnetic layer 24R and the upper intermediate magnetic layer 23R disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side are provided.

【0022】第1上部磁性層22Fと22Rとの間には
ヨークギャップ25Gが配設され、このヨークギャップ
25G部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効果素子4
0Aが配設される。磁気抵抗効果素子40Aは、デジタ
ル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、第1磁
界誘導ヨーク2Aにのみ配設される。図2に示すよう
に、磁気抵抗効果素子40Aの一端側、他端側のそれぞ
れには、磁気記録媒体に記録された磁気情報を検出する
ためのセンス電流を供給し、検出された検出信号を取り
出す一対のリード配線42が電気的に接続される。
A yoke gap 25G is provided between the first upper magnetic layers 22F and 22R, and under the yoke gap 25G, the magnetoresistive element 4 has an insulator 7 interposed therebetween.
0A is provided. The magnetoresistive element 40A is used as a magnetoresistive element for digital signal detection, and is provided only on the first magnetic field induction yoke 2A. As shown in FIG. 2, a sense current for detecting magnetic information recorded on the magnetic recording medium is supplied to one end and the other end of the magnetoresistive element 40A, and the detected detection signal is output. A pair of lead wires 42 to be taken out are electrically connected.

【0023】第2上部磁性層24Fと24Rとの間には
ヨークギャップ26Gが配設され、このヨークギャップ
26G部分下には絶縁体10を介して磁気抵抗効果素子
41が配設される。磁気抵抗効果素子41は、アナログ
信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、第1磁界
誘導ヨーク2Aと第2磁界誘導ヨーク2Bとに跨って配
設される。図2に示すように、磁気抵抗効果素子41の
一端側、他端側のそれぞれには一対のリード配線43が
電気的に接続される。
A yoke gap 26G is provided between the second upper magnetic layers 24F and 24R, and a magnetoresistive element 41 is provided below the yoke gap 26G via an insulator 10. The magnetoresistive element 41 is used as a magnetoresistive element for detecting an analog signal, and is disposed across the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B. As shown in FIG. 2, a pair of lead wires 43 is electrically connected to one end and the other end of the magnetoresistive element 41, respectively.

【0024】第2磁界誘導ヨーク2Bは、第1磁界誘導
ヨーク2Aと同様に、基板1上に配設された下部磁性層
20及び上部磁性層21を備える。磁気ギャップ層3で
検出される信号磁界の閉磁路において上部磁性層21の
磁路はヨークギャップ25G又は26G通過前で一旦分
岐されヨークギャップ25G又は26G通過後に再び結
合する並列接続で構成される。すなわち、上部磁性層2
1は、磁気記録媒体側において下部磁性層20上に磁気
ギャップ層3を介して配設された下部中間磁性層21
F、第1上部磁性層22F、磁気記録媒体側とは反対側
に配設された第1上部磁性層22R、下部中間磁性層2
1Rで形成される磁路(デジタル信号検出用磁路)と、
磁気記録媒体側において第1上部磁性層22R上に直接
配設された上部中間磁性層23F、第2上部磁性層24
F、磁気記録媒体側とは反対側に配設された第2上部磁
性層24R、上部中間磁性層23Rで形成される磁路
(アナログ信号検出用磁路)とを備える。
The second magnetic field induction yoke 2B includes a lower magnetic layer 20 and an upper magnetic layer 21 disposed on the substrate 1, similarly to the first magnetic field induction yoke 2A. In the closed magnetic path of the signal magnetic field detected by the magnetic gap layer 3, the magnetic path of the upper magnetic layer 21 is formed by a parallel connection in which the magnetic path is branched once before passing through the yoke gap 25G or 26G and is reconnected after passing through the yoke gap 25G or 26G. That is, the upper magnetic layer 2
1 is a lower intermediate magnetic layer 21 disposed on the lower magnetic layer 20 via the magnetic gap layer 3 on the magnetic recording medium side.
F, first upper magnetic layer 22F, first upper magnetic layer 22R, lower intermediate magnetic layer 2 disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side.
A magnetic path (magnetic path for digital signal detection) formed by 1R;
The upper intermediate magnetic layer 23F and the second upper magnetic layer 24 directly disposed on the first upper magnetic layer 22R on the magnetic recording medium side.
F, a magnetic path (analog signal detection magnetic path) formed by the second upper magnetic layer 24R and the upper intermediate magnetic layer 23R disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side.

【0025】第1上部磁性層22Fと22Rとの間には
ヨークギャップ25Gが配設され、このヨークギャップ
25G部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効果素子4
0Bが配設される。磁気抵抗効果素子40Bは、第1磁
界誘導ヨーク2Aの磁気抵抗効果素子40Aと同様にデ
ジタル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、第
1磁界誘導ヨーク2Aの磁気抵抗効果素子40Aに対し
て独立に第2磁界誘導ヨーク2Bにのみ配設される。図
2に示すように、磁気抵抗効果素子40Bの一端側、他
端側のそれぞれには、磁気記録媒体に記録された磁気情
報を検出するためのセンス電流を供給し、検出された検
出信号を取り出す一対のリード配線42が電気的に接続
される。
A yoke gap 25G is provided between the first upper magnetic layers 22F and 22R. Below the yoke gap 25G, the magnetoresistive element 4 has an insulator 7 interposed therebetween.
OB is provided. The magnetoresistive element 40B is used as a magnetoresistive element for digital signal detection similarly to the magnetoresistive element 40A of the first magnetic field induction yoke 2A, and is independent of the magnetoresistive element 40A of the first magnetic field induction yoke 2A. Is provided only in the second magnetic field induction yoke 2B. As shown in FIG. 2, a sense current for detecting magnetic information recorded on the magnetic recording medium is supplied to one end and the other end of the magnetoresistive element 40B, and the detected detection signal is output. A pair of lead wires 42 to be taken out are electrically connected.

【0026】第2上部磁性層24Fと24Rとの間には
ヨークギャップ26Gが配設され、このヨークギャップ
26G部分下には絶縁体10を介して磁気抵抗効果素子
41が配設される。磁気抵抗効果素子41は、アナログ
信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、前述のよ
うに第1磁界誘導ヨーク2Aと第2磁界誘導ヨーク2B
とに跨って配設される。図2に示すように、磁気抵抗効
果素子41の一端側、他端側のそれぞれには一対のリー
ド配線43が電気的に接続される。
A yoke gap 26G is provided between the second upper magnetic layers 24F and 24R, and a magnetoresistive element 41 is provided below the yoke gap 26G via the insulator 10. The magneto-resistance effect element 41 is used as a magneto-resistance effect element for detecting an analog signal, and as described above, the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B
It is arranged over and. As shown in FIG. 2, a pair of lead wires 43 is electrically connected to one end and the other end of the magnetoresistive element 41, respectively.

【0027】すなわち、図2及び図3に示すように、第
1磁界誘導ヨーク2Aのトラック幅L1で検出されたデ
ジタル信号の信号磁界は、磁気ギャップ層3、下部中間
磁性層21F、第1上部磁性層22F、22R、下部中
間磁性層21R及び下部磁性層20を閉磁路とする、磁
気抵抗効果素子40Aの抵抗変化として検出される。同
様に、第2磁界誘導ヨーク2Bのトラック幅L1’で検
出されたデジタル信号の信号磁界は、磁気ギャップ層
3、下部中間磁性層21F、第1上部磁性層22F、2
2R、下部中間磁性層21R及び下部磁性層20を閉磁
路とする、磁気抵抗効果素子40Bの抵抗変化として検
出される。
That is, as shown in FIGS. 2 and 3, the signal magnetic field of the digital signal detected by the track width L1 of the first magnetic field induction yoke 2A is equal to the magnetic gap layer 3, the lower intermediate magnetic layer 21F, the first upper magnetic layer. It is detected as a change in resistance of the magnetoresistive element 40A in which the magnetic layers 22F and 22R, the lower intermediate magnetic layer 21R, and the lower magnetic layer 20 are closed magnetic paths. Similarly, the signal magnetic field of the digital signal detected by the track width L1 ′ of the second magnetic field induction yoke 2B is the magnetic gap layer 3, the lower intermediate magnetic layer 21F, the first upper magnetic layer 22F,
It is detected as a resistance change of the magnetoresistive element 40B in which the 2R, the lower intermediate magnetic layer 21R, and the lower magnetic layer 20 are closed magnetic paths.

【0028】一方、第1磁界誘導ヨーク2A及び第2磁
界誘導ヨーク2Bの双方を加算したトラック幅L2で検
出されたアナログ信号の信号磁界は、第1磁界誘導ヨー
ク2A及び第2磁界誘導ヨーク2Bの双方の磁気ギャッ
プ層3、下部中間磁性層21F、第1上部磁性層22
F、上部中間磁性層23F、第2上部磁性層24F、2
4R、上部中間磁性層23R、第1上部磁性層22R、
下部中間磁性層21R及び下部磁性層20を閉磁路とす
る、2個の磁気抵抗効果素子41の抵抗変化として検出
される。
On the other hand, the signal magnetic field of the analog signal detected at the track width L2 obtained by adding both the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B is equal to the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B. Magnetic gap layer 3, lower intermediate magnetic layer 21F, first upper magnetic layer 22
F, upper intermediate magnetic layer 23F, second upper magnetic layer 24F,
4R, an upper intermediate magnetic layer 23R, a first upper magnetic layer 22R,
It is detected as a resistance change of the two magnetoresistive elements 41 having the lower intermediate magnetic layer 21R and the lower magnetic layer 20 as closed magnetic paths.

【0029】磁界誘導ヨーク2A及び2B上には保護膜
としての絶縁体12が形成される。絶縁体12にはAl2O
3膜、SiO2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用される。
An insulator 12 as a protective film is formed on the magnetic field induction yokes 2A and 2B. Al 2 O for insulator 12
One of three non-magnetic insulating films, SiO 2 film, is used.

【0030】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ層3の垂直方向に定
磁束源としての磁石を配置し、磁気抵抗効果素子40
A、40Bのそれぞれの磁路方向に垂直な断面を通過す
る磁束量φSA1、磁気抵抗効果素子41の磁路方向に垂
直な断面を通過する磁束量φSA2は、いずれも上部磁性
層21を2層構造とし並列接続したことにより増加でき
る。本発明者が行ったシュミレーションによれば、磁気
抵抗効果素子40A、40Bのそれぞれを通過する磁束
量φSA1、磁気抵抗効果素子41を通過する磁束量φSA2
は、磁界誘導ヨーク2A、2Bの各磁性層、磁気抵抗効
果素子40A、40B、41のそれぞれの比透磁率を10
00に設定すると、前述の公報に開示された直列構造の磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに比べて、いずれも9dBも
増加する。すなわち、本実施の形態に係る磁気抵抗効果
型薄膜磁気ヘッドは、磁気回路全体の磁気抵抗が減少で
き、磁気抵抗効果素子40A、40B、41のそれぞれ
に流入する磁束量を増加できるので、再生出力特性を向
上できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, a magnet as a constant magnetic flux source is arranged in the direction perpendicular to the magnetic gap layer 3 and the magnetoresistive element 40
The magnetic flux amount φ SA1 passing through the cross section perpendicular to the magnetic path direction of each of A and 40B and the magnetic flux amount φ SA2 passing through the cross section perpendicular to the magnetic path direction of the magnetoresistive effect element 41 are both of the upper magnetic layer 21. It can be increased by having a two-layer structure and connecting in parallel. According to the simulation performed by the inventor, the amount of magnetic flux φ SA1 passing through each of the magnetoresistive elements 40A and 40B, and the amount of magnetic flux φ SA2 passing through the magnetoresistive element 41
Indicates that the relative magnetic permeability of each of the magnetic layers of the magnetic field induction yokes 2A and 2B and the magnetoresistive elements 40A, 40B and 41 is 10
When set to 00, each increases 9 dB as compared with the series-structured magnetoresistive thin-film magnetic head disclosed in the above-mentioned publication. That is, in the magnetoresistive thin film magnetic head according to the present embodiment, the magnetic resistance of the entire magnetic circuit can be reduced, and the amount of magnetic flux flowing into each of the magnetoresistive elements 40A, 40B, 41 can be increased. Characteristics can be improved.

【0031】次に、前述の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を説明する。図4乃至図17は各製造工程
毎に示す磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの工程断面図で
ある。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetoresistive thin film magnetic head will be described. 4 to 17 are process cross-sectional views of the magnetoresistive thin-film magnetic head shown in each manufacturing process.

【0032】(1)まず、図4に示すように、基板1の
表面上に下部磁性層20を形成する。基板1にはAl2O3-
TiC基板等の非磁性基板が実用的に使用できる。下部磁
性層20にはNi-Fe膜、CoZrNbアモルファス合金膜等の
軟磁性膜が実用的に使用できる。磁性膜はスパッタ法又
は蒸着法により1〜5μmの膜厚で形成した後、パターン
ニングされる。パターンニングにはイオンミリング、ウ
エットエッチングのいずれかが使用される。
(1) First, as shown in FIG. 4, a lower magnetic layer 20 is formed on the surface of the substrate 1. Al 2 O 3-
A non-magnetic substrate such as a TiC substrate can be used practically. As the lower magnetic layer 20, a soft magnetic film such as a Ni—Fe film or a CoZrNb amorphous alloy film can be practically used. The magnetic film is formed in a thickness of 1 to 5 μm by a sputtering method or a vapor deposition method, and then patterned. Either ion milling or wet etching is used for patterning.

【0033】(2)図5に示すように、下部磁性層20
の周囲に絶縁体5を埋設する。絶縁体5にはAl2O3膜、S
iO2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用される。この非
磁性絶縁膜は、下部磁性層20の膜厚よりも厚い膜厚で
形成した後、研磨により下部磁性層20の表面と一致す
るように平坦化される。
(2) As shown in FIG. 5, the lower magnetic layer 20
Is buried around the substrate. Al 2 O 3 film, S
Any non-magnetic insulating film of the iO 2 film is used. This nonmagnetic insulating film is formed to have a thickness greater than the thickness of the lower magnetic layer 20, and is then planarized by polishing so as to match the surface of the lower magnetic layer 20.

【0034】(3)図6に示すように、下部磁性層20
の表面上において図示しない磁気記録媒体側に磁気ギャ
ップ層3を形成する。磁気ギャップ層3にはAl2O3膜、S
iO2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用され、この非磁
性絶縁膜はスパッタ法により堆積した後にパターンニン
グされる。
(3) As shown in FIG. 6, the lower magnetic layer 20
A magnetic gap layer 3 is formed on the surface of the magnetic recording medium (not shown) on the surface. An Al 2 O 3 film, S
Any non-magnetic insulating film of an iO 2 film is used, and this non-magnetic insulating film is patterned after being deposited by a sputtering method.

【0035】(4)図7に示すように、磁気記録媒体側
において下部磁性層20の表面上に磁気ギャップ層3を
介して下部中間磁性層21Fを形成するとともに、磁気
記録媒体側と反対側において下部磁性層20の表面上に
直接下部中間磁性層21Rを形成する。下部中間磁性層
21F、21Rはいずれも下部磁性層20と同一磁性材
料でかつ同一方法により形成される。
(4) As shown in FIG. 7, a lower intermediate magnetic layer 21F is formed on the surface of the lower magnetic layer 20 via the magnetic gap layer 3 on the side of the magnetic recording medium and on the side opposite to the magnetic recording medium. , The lower intermediate magnetic layer 21R is formed directly on the surface of the lower magnetic layer 20. Each of the lower intermediate magnetic layers 21F and 21R is formed of the same magnetic material and the same method as the lower magnetic layer 20.

【0036】(5)図8に示すように、下部中間磁性層
21F、21Rのそれぞれの周囲に絶縁体6を埋設す
る。絶縁体6は前述の絶縁体5と同一非磁性絶縁材料で
かつ同一方法により形成される。
(5) As shown in FIG. 8, an insulator 6 is buried around each of the lower intermediate magnetic layers 21F and 21R. The insulator 6 is made of the same non-magnetic insulating material as the insulator 5 and is formed by the same method.

【0037】(6)図9に示すように、絶縁体6の表面
上にデジタル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用さ
れる磁気抵抗効果素子40A、40Bのそれぞれを形成
する。磁気抵抗効果素子40A、40Bは、いずれも例
えば膜厚20nmのNi-Fe膜、膜厚20nmのTa膜、膜厚20nmのC
oZrMo膜(MR膜)を順次スパッタ法で積層し、これらの
膜をイオンミリングでパターンニングすることにより形
成される。この後、磁気抵抗効果素子40A、40Bの
それぞれに接続されるリード配線42を形成する(図2
参照)。リード配線42は例えばMo膜をスパッタ法で形
成し、このMo膜にパターンニングを行うことにより形成
される。
(6) As shown in FIG. 9, the magnetoresistive elements 40A and 40B used as digital signal detecting magnetoresistive elements are formed on the surface of the insulator 6. Each of the magnetoresistive elements 40A and 40B is, for example, a Ni-Fe film having a thickness of 20 nm, a Ta film having a thickness of 20 nm, and a C film having a thickness of 20 nm.
An oZrMo film (MR film) is formed by sequentially laminating the films by a sputtering method and patterning these films by ion milling. Thereafter, the lead wiring 42 connected to each of the magnetoresistive elements 40A and 40B is formed.
reference). The lead wiring 42 is formed by, for example, forming a Mo film by a sputtering method and patterning the Mo film.

【0038】(7)図10に示すように、磁気抵抗効果
素子40A、40Bのそれぞれを覆う絶縁体7を形成す
る。この絶縁体7は磁気抵抗効果素子40A又は40B
と第1磁界誘導ヨーク2A又は2Bとの間を絶縁分離す
る絶縁ギャップ層を形成する。絶縁体7にはAl2O3膜、S
iO2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用され、この非磁
性絶縁膜はスパッタ法により堆積した後、研磨により非
磁性絶縁膜の表面は平坦化される。
(7) As shown in FIG. 10, an insulator 7 covering each of the magnetoresistive elements 40A and 40B is formed. This insulator 7 is made of a magnetoresistive element 40A or 40B.
And an insulating gap layer that insulates and separates from the first magnetic field induction yoke 2A or 2B. Al 2 O 3 film, S
Any non-magnetic insulating film of the iO 2 film is used. After the non-magnetic insulating film is deposited by a sputtering method, the surface of the non-magnetic insulating film is planarized by polishing.

【0039】(8)図11に示すように、下部中間磁性
層21F、21Rのそれぞれの表面上の絶縁体7が除去
され、下部中間磁性層21F、21Rのそれぞれの表面
を露出する。
(8) As shown in FIG. 11, the insulator 7 on each surface of the lower intermediate magnetic layers 21F and 21R is removed, exposing the respective surfaces of the lower intermediate magnetic layers 21F and 21R.

【0040】(9)図12に示すように、磁気記録媒体
側において下部中間磁性層21Fの表面上に第1上部磁
性層22Fを形成するとともに、磁気記録媒体側と反対
側において下部中間磁性層21Rの表面上に第1上部磁
性層22Rを形成する。第1上部磁性層22F、22R
はいずれも下部磁性層20と同一磁性材料でかつ同一方
法により形成される。第1上部磁性層22F、22Rの
それぞれの間は離間しヨークギャップ25Gとして形成
される。
(9) As shown in FIG. 12, the first upper magnetic layer 22F is formed on the surface of the lower intermediate magnetic layer 21F on the magnetic recording medium side, and the lower intermediate magnetic layer 22F is formed on the side opposite to the magnetic recording medium side. A first upper magnetic layer 22R is formed on the surface of 21R. First upper magnetic layers 22F, 22R
Are formed of the same magnetic material and by the same method as the lower magnetic layer 20. The first upper magnetic layers 22F and 22R are separated from each other to form a yoke gap 25G.

【0041】(10)図13に示すように、第1上部磁
性層22F、22Rのそれぞれの周囲に絶縁体8を埋設
する。絶縁体8は前述の絶縁体5と同一非磁性絶縁材料
でかつ同一方法により形成される。
(10) As shown in FIG. 13, the insulator 8 is embedded around each of the first upper magnetic layers 22F and 22R. The insulator 8 is made of the same non-magnetic insulating material as the insulator 5 and is formed by the same method.

【0042】(11)磁気記録媒体側において第1上部
磁性層22Fの表面上に上部中間磁性層23Fを形成す
るとともに、磁気記録媒体側と反対側において上部中間
磁性層22Rの表面上に上部中間磁性層23Rを形成す
る(図14参照)。上部中間磁性層23F、23Rはい
ずれも下部磁性層20と同一磁性材料でかつ同一方法に
より形成される。
(11) The upper intermediate magnetic layer 23F is formed on the surface of the first upper magnetic layer 22F on the magnetic recording medium side, and the upper intermediate magnetic layer 23F is formed on the surface of the upper intermediate magnetic layer 22R on the side opposite to the magnetic recording medium side. The magnetic layer 23R is formed (see FIG. 14). Each of the upper intermediate magnetic layers 23F and 23R is formed of the same magnetic material and the same method as the lower magnetic layer 20.

【0043】そして、図14に示すように、上部中間磁
性層23F、23Rのそれぞれの周囲に絶縁体9を埋設
する。絶縁体9は前述の絶縁体5と同一非磁性絶縁材料
でかつ同一方法により形成される。
Then, as shown in FIG. 14, an insulator 9 is embedded around each of the upper intermediate magnetic layers 23F and 23R. The insulator 9 is made of the same non-magnetic insulating material as that of the insulator 5 and is formed by the same method.

【0044】(12)図15に示すように、絶縁体9の
表面上にアナログ信号検出用磁気抵抗効果素子として使
用される磁気抵抗効果素子41を形成する。磁気抵抗効
果素子41は、前述の磁気抵抗効果素子40A、40B
のそれぞれと同様に、例えば膜厚20nmのNi-Fe膜、膜厚2
0nmのTa膜、膜厚20nmのCoZrMo膜(MR膜)を順次スパッ
タ法で積層し、これらの膜をイオンミリングでパターン
ニングすることにより形成される。この後、磁気抵抗効
果素子41に接続されるリード配線43を形成する(図
2参照)。リード配線43は例えばMo膜をスパッタ法で
形成し、このMo膜にパターンニングを行うことにより形
成される。
(12) As shown in FIG. 15, a magnetoresistive element 41 used as a magnetoresistive element for detecting an analog signal is formed on the surface of the insulator 9. The magneto-resistance effect element 41 includes the above-described magneto-resistance effect elements 40A and 40B.
As in each of the above, for example, a Ni-Fe film having a film thickness of 20 nm, a film thickness of 2
A Ta film of 0 nm and a CoZrMo film (MR film) with a thickness of 20 nm are sequentially laminated by sputtering, and these films are patterned by ion milling. Thereafter, the lead wiring 43 connected to the magnetoresistive element 41 is formed (see FIG. 2). The lead wiring 43 is formed, for example, by forming a Mo film by a sputtering method and patterning the Mo film.

【0045】(13)前述の図10及び図11に示す工
程と同様に、磁気抵抗効果素子41を覆う絶縁体10を
形成し、引き続き絶縁体10の一部分を除去して上部中
間磁性層23F、23Rのそれぞれの表面を露出する
(図16参照)。そして、図16に示すように、磁気記
録媒体側において上部中間磁性層23Fの表面上に第2
上部磁性層24Fを形成するとともに、磁気記録媒体側
と反対側において上部中間磁性層23Rの表面上に第2
上部磁性層24Rを形成する。第2上部磁性層24F、
24Rはいずれも下部磁性層20と同一磁性材料でかつ
同一方法により形成される。第2上部磁性層24F、2
4Rのそれぞれの間は離間しヨークギャップ26Gとし
て形成される。
(13) As in the steps shown in FIGS. 10 and 11, the insulator 10 covering the magnetoresistance effect element 41 is formed, and a part of the insulator 10 is subsequently removed to remove the upper intermediate magnetic layer 23F, The respective surfaces of the 23R are exposed (see FIG. 16). Then, as shown in FIG. 16, a second recording medium is formed on the surface of the upper intermediate magnetic layer 23F on the magnetic recording medium side.
The upper magnetic layer 24F is formed, and a second magnetic layer is formed on the surface of the upper intermediate magnetic layer 23R on the side opposite to the magnetic recording medium.
The upper magnetic layer 24R is formed. A second upper magnetic layer 24F,
24R are made of the same magnetic material and by the same method as the lower magnetic layer 20. Second upper magnetic layer 24F, 2
4R are separated from each other to form a yoke gap 26G.

【0046】(14)図17に示すように、第2上部磁
性層24F、24Rのそれぞれの周囲に絶縁体11を埋
設する。絶縁体11は前述の絶縁体5と同一非磁性絶縁
材料でつ同一方法により形成される。
(14) As shown in FIG. 17, the insulator 11 is embedded around each of the second upper magnetic layers 24F and 24R. The insulator 11 is formed of the same non-magnetic insulating material as the insulator 5 by the same method.

【0047】(15)前述の図1に示すように、第2上
部磁性層24F、24Rのそれぞれを覆う絶縁体12を
形成する。絶縁体12にはAl2O3膜、SiO2膜のいずれか
の非磁性絶縁膜が使用され、この非磁性絶縁膜はスパッ
タ法により堆積される。図示しないが、リード配線4
2、43のそれぞれの外部接続部分には絶縁体12等に
接続孔(コンタクトホール)が形成される。接続孔は例
えばイオンミリングにより形成される。
(15) As shown in FIG. 1, the insulator 12 covering each of the second upper magnetic layers 24F and 24R is formed. Either an Al 2 O 3 film or a SiO 2 non-magnetic insulating film is used for the insulator 12, and this non-magnetic insulating film is deposited by a sputtering method. Although not shown, lead wiring 4
Connection holes (contact holes) are formed in the insulators 12 and the like at the external connection portions 2 and 43, respectively. The connection hole is formed by, for example, ion milling.

【0048】これら一連の製造工程が終了すると、本実
施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドが完成す
る。
When these series of manufacturing steps are completed, the magnetoresistive thin film magnetic head according to the present embodiment is completed.

【0049】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、トラック幅方向に少なくとも2
列の第1磁界誘導ヨーク2A及び第2磁界誘導ヨーク2
Bが配設され、第1磁界誘導ヨーク2A、第2磁界誘導
ヨーク2Bのそれぞれで磁気記録媒体に記録されたデジ
タル情報が再生でき、第1磁界誘導ヨーク2A及び第2
磁界誘導ヨーク2Bで磁気記録媒体に記録されたアナロ
グ情報が再生できるので、異なるトラック幅の信号が検
出できる。さらに、磁気回路全体で支配的に磁気抵抗が
大きい第1磁界誘導ヨーク2A、第2磁界誘導ヨーク2
Bのそれぞれのヨークギャップ部分(磁気抵抗効果素子
の配設部分)がヨークギャップ25G、26Gに分割さ
れ並列接続されることで磁気抵抗が低減できる。この結
果、磁気抵抗効果素子40A、40B、41にそれぞれ
流入する磁束量が充分に高められ、再生出力が向上でき
る。特に、トラック幅が減少し高密度記録化がなされる
と、磁気回路全体の磁気抵抗が増大するが、このような
場合でも充分に磁気抵抗効果素子40A、40B、41
にそれぞれ流入する磁束量が確保できるので、磁気抵抗
効果型薄膜磁気ヘッドの再生出力が向上でき、高記録密
度化が実現できる。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, at least two in the track width direction.
First and second magnetic field induction yokes 2A and 2
B, the digital information recorded on the magnetic recording medium can be reproduced by each of the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B.
Since the analog information recorded on the magnetic recording medium can be reproduced by the magnetic field induction yoke 2B, signals with different track widths can be detected. Further, the first magnetic field inducing yoke 2A and the second magnetic field inducing yoke 2A, which have dominantly large magnetic resistance in the entire magnetic circuit.
The magnetic resistance can be reduced by dividing each of the yoke gap portions of B (the portion where the magnetoresistive element is provided) into yoke gaps 25G and 26G and connecting them in parallel. As a result, the amount of magnetic flux flowing into each of the magnetoresistive elements 40A, 40B, 41 is sufficiently increased, and the reproduction output can be improved. In particular, when the track width is reduced and high-density recording is performed, the magnetic resistance of the entire magnetic circuit increases, but even in such a case, the magnetoresistive elements 40A, 40B, and 41 are sufficient.
Therefore, the reproduction output of the magnetoresistive thin-film magnetic head can be improved, and a higher recording density can be realized.

【0050】さらに、磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに
おいては、再生出力の向上が第1磁界誘導ヨーク2A、
第2磁界誘導ヨーク2Bのそれぞれの膜厚方向で行わ
れ、第1磁界誘導ヨーク2A及び第2磁界誘導ヨーク2
Bの占有面積が縮小できるので、装置の小型化が実現で
きる。
Further, in the magnetoresistive thin-film magnetic head, the reproduction output is improved by the first magnetic field induction yoke 2A,
The first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2A are performed in the respective film thickness directions of the second magnetic field induction yoke 2B.
Since the area occupied by B can be reduced, the size of the apparatus can be reduced.

【0051】さらに、磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに
おいて、デジタル信号用磁気再生ヘッド及びアナログ信
号用磁気再生ヘッドが組み込まれた複合型が実現でき
る。
Further, in the magnetoresistive thin-film magnetic head, a composite type in which a magnetic read head for digital signals and a magnetic read head for analog signals are incorporated can be realized.

【0052】(第2の実施の形態)本実施の形態は、磁
気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、第1磁界誘導ヨ
ーク、第2磁界誘導ヨークをいずれも膜面上で複数並列
に分割した場合を説明する。図19は本発明の第2の実
施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの平面
図、図18は図19に示すF18−F18切断線で切っ
た磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの断面図である。さら
に、図20は磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの磁界誘導
ヨークの斜視図である。
(Second Embodiment) In this embodiment, in a magnetoresistive thin-film magnetic head, each of the first magnetic field induction yoke and the second magnetic field induction yoke is divided in parallel on the film surface. Will be described. FIG. 19 is a plan view of a magnetoresistive thin-film magnetic head according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 18 is a cross-sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head taken along section line F18-F18 shown in FIG. It is. FIG. 20 is a perspective view of a magnetic field induction yoke of the magnetoresistive thin film magnetic head.

【0053】図18乃至図20に示すように、磁気抵抗
効果型薄膜磁気ヘッドは、第1磁界誘導ヨーク2Aと、
この第1磁界誘導ヨーク2Aに対してトラック幅方向に
隣接配置された第2磁界誘導ヨーク2Bと、第1磁界誘
導ヨーク2Aのヨークギャップ25G1部分に配設され
た磁気抵抗効果素子40A又は40Bと、第2磁界誘導
ヨーク2Bのヨークギャップ25G2部分に配設された
磁気抵抗効果素子40Cとを備えて構築される。これら
の第1磁界誘導ヨーク2A、第2磁界誘導ヨーク2B、
磁気抵抗効果素子40A、40B及び40Cは基板1上
に配設される。
As shown in FIGS. 18 to 20, the magnetoresistive thin-film magnetic head includes a first magnetic field induction yoke 2A,
A second magnetic field induction yoke 2B disposed adjacent to the first magnetic field induction yoke 2A in the track width direction; and a magnetoresistive effect element 40A or 40B disposed in the yoke gap 25G1 of the first magnetic field induction yoke 2A. And a magnetoresistive element 40C disposed in the yoke gap 25G2 of the second magnetic field induction yoke 2B. These first magnetic field induction yoke 2A, second magnetic field induction yoke 2B,
The magnetoresistive elements 40A, 40B and 40C are provided on the substrate 1.

【0054】第1磁界誘導ヨーク2Aは基本的には基板
1上に配設された下部磁性層20及び上部磁性層21を
備える。上部磁性層21は本実施の形態において単層構
造で構築され、磁気ギャップ層3で検出される信号磁界
の閉磁路において上部磁性層21の磁路はヨークギャッ
プ25G1及び25G2通過前で一旦分岐されヨークギ
ャップ25G1及び25G2通過後に再び結合する並列
接続で構成される。すなわち、上部磁性層21は磁気記
録媒体側(図18及び図20中左側、図19中上側)に
おいて下部磁性層20上に磁気ギャップ層3を介して配
設された中間磁性層21F、上部兼用磁性層22F、磁
気記録媒体側とは反対側に配設された上部兼用磁性層2
2R及び中間磁性層21Rで形成される磁路を備え、上
部兼用磁性層22F、22Rのそれぞれが膜面上におい
て分岐され並列接続された磁路を構築する。
The first magnetic field induction yoke 2A basically includes a lower magnetic layer 20 and an upper magnetic layer 21 disposed on the substrate 1. The upper magnetic layer 21 has a single-layer structure in the present embodiment, and in the closed magnetic path of the signal magnetic field detected by the magnetic gap layer 3, the magnetic path of the upper magnetic layer 21 is branched once before passing through the yoke gaps 25G1 and 25G2. It is configured by a parallel connection that reconnects after passing through the yoke gaps 25G1 and 25G2. That is, the upper magnetic layer 21 is an intermediate magnetic layer 21F disposed on the lower magnetic layer 20 via the magnetic gap layer 3 on the magnetic recording medium side (the left side in FIGS. 18 and 20 and the upper side in FIG. 19). Magnetic layer 22F, upper dual-purpose magnetic layer 2 disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side
A magnetic path formed by the 2R and the intermediate magnetic layer 21R is provided, and each of the upper dual-purpose magnetic layers 22F and 22R is branched on the film surface to form a magnetic path connected in parallel.

【0055】上部兼用磁性層22Fの分岐された一方と
上部兼用磁性層22Rの分岐された一方との間にはヨー
クギャップ25G1が配設され、このヨークギャップ2
5G1部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効果素子4
0Aが配設される。磁気抵抗効果素子40Aは、デジタ
ル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、第1磁
界誘導ヨーク2Aにのみ配設される。図19に示すよう
に、磁気抵抗効果素子40Aの一端側、他端側のそれぞ
れには、磁気記録媒体に記録された磁気情報を検出する
ためのセンス電流を供給し、検出された検出信号を取り
出す一対のリード配線42が電気的に接続される。
A yoke gap 25G1 is provided between one branched upper magnetic layer 22F and one branched upper magnetic layer 22R.
Under the 5G1 portion, the magnetoresistive effect element 4
0A is provided. The magnetoresistive element 40A is used as a magnetoresistive element for digital signal detection, and is provided only on the first magnetic field induction yoke 2A. As shown in FIG. 19, a sense current for detecting magnetic information recorded on the magnetic recording medium is supplied to one end and the other end of the magnetoresistive element 40A, and the detected detection signal is output. A pair of lead wires 42 to be taken out are electrically connected.

【0056】上部兼用磁性層22Fの分岐された他の一
方と上部兼用磁性層22Rの分岐された他の一方との間
にはヨークギャップ25G2が配設され、このヨークギ
ャップ25G2部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効
果素子40Cが配設される。磁気抵抗効果素子40C
は、アナログ信号検出用磁気抵抗効果素子として使用さ
れ、第1磁界誘導ヨーク2Aと第2磁界誘導ヨーク2B
とに跨って配設される。図19に示すように、磁気抵抗
効果素子40Cの一端側、他端側のそれぞれには一対の
リード配線43が電気的に接続される。
A yoke gap 25G2 is provided between the other branched one of the upper dual-purpose magnetic layer 22F and the other branched one of the upper dual-purpose magnetic layer 22R, and an insulating material is provided below the yoke gap 25G2. A magnetoresistive element 40C is provided via body 7. Magnetoresistive element 40C
Are used as a magnetoresistive effect element for detecting an analog signal, and include a first magnetic field induction yoke 2A and a second magnetic field induction yoke 2B.
It is arranged over and. As shown in FIG. 19, a pair of lead wires 43 is electrically connected to one end and the other end of the magnetoresistive element 40C.

【0057】第2磁界誘導ヨーク2Bは、第1磁界誘導
ヨーク2Aと同様に、基板1上に配設された下部磁性層
20及び上部磁性層21を備える。磁気ギャップ層3で
検出される信号磁界の閉磁路において上部磁性層21の
磁路はヨークギャップ25G1及び25G2通過前で一
旦分岐されヨークギャップ25G1及び25G2通過後
に再び結合する並列接続で構成される。すなわち、上部
磁性層21は磁気記録媒体側において下部磁性層20上
に磁気ギャップ層3を介して配設された中間磁性層21
F、上部兼用磁性層22F、磁気記録媒体側とは反対側
に配設された上部兼用磁性層22R及び中間磁性層21
Rで形成される磁路を備え、上部兼用磁性層22F、2
2Rのそれぞれが膜面上において分岐され並列接続され
た磁路を構築する。
The second magnetic field induction yoke 2B includes a lower magnetic layer 20 and an upper magnetic layer 21 disposed on the substrate 1, similarly to the first magnetic field induction yoke 2A. In the closed magnetic path of the signal magnetic field detected by the magnetic gap layer 3, the magnetic path of the upper magnetic layer 21 is configured to be branched once before passing through the yoke gaps 25G1 and 25G2 and to be connected again after passing through the yoke gaps 25G1 and 25G2. That is, the upper magnetic layer 21 is provided on the lower magnetic layer 20 on the magnetic recording medium side with the intermediate magnetic layer 21 disposed via the magnetic gap layer 3.
F, upper dual-purpose magnetic layer 22F, upper dual-purpose magnetic layer 22R and intermediate magnetic layer 21 disposed on the side opposite to the magnetic recording medium side
R and a magnetic path formed of the upper magnetic layer 22F,
Each of the 2Rs is branched on the film surface to form a magnetic path connected in parallel.

【0058】上部兼用磁性層22Fの分岐された一方と
上部兼用磁性層22Rの分岐された一方との間にはヨー
クギャップ25G1が配設され、このヨークギャップ2
5G1部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効果素子4
0Bが配設される。磁気抵抗効果素子40Bは、デジタ
ル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用され、第1磁
界誘導ヨーク2Aの磁気抵抗効果素子40Aに対して独
立に第2磁界誘導ヨーク2Bにのみ配設される。図19
に示すように、磁気抵抗効果素子40Aの一端側、他端
側のそれぞれには一対のリード配線42が電気的に接続
される。
A yoke gap 25G1 is provided between one branch of the upper dual-purpose magnetic layer 22F and one branch of the upper dual-purpose magnetic layer 22R.
Under the 5G1 portion, the magnetoresistive effect element 4
OB is provided. The magnetoresistive element 40B is used as a magnetoresistive element for digital signal detection, and is provided only on the second magnetic field induction yoke 2B independently of the magnetoresistive element 40A of the first magnetic field induction yoke 2A. FIG.
As shown in (1), a pair of lead wires 42 is electrically connected to one end and the other end of the magnetoresistive element 40A.

【0059】上部兼用磁性層22Fの分岐された他の一
方と上部兼用磁性層22Rの分岐された他の一方との間
にはヨークギャップ25G2が配設され、このヨークギ
ャップ25G2部分下には絶縁体7を介して磁気抵抗効
果素子40Cが配設される。磁気抵抗効果素子40C
は、アナログ信号検出用磁気抵抗効果素子として使用さ
れ、第1磁界誘導ヨーク2Aと第2磁界誘導ヨーク2B
とに跨って配設される。図19に示すように、磁気抵抗
効果素子40Cの一端側、他端側のそれぞれには一対の
リード配線43が電気的に接続される。
A yoke gap 25G2 is provided between the other branched one of the upper dual-purpose magnetic layer 22F and the other branched one of the upper dual-purpose magnetic layer 22R. An insulating material is provided below the yoke gap 25G2. A magnetoresistive element 40C is provided via body 7. Magnetoresistive element 40C
Are used as a magnetoresistive effect element for detecting an analog signal, and include a first magnetic field induction yoke 2A and a second magnetic field induction yoke 2B.
It is arranged over and. As shown in FIG. 19, a pair of lead wires 43 is electrically connected to one end and the other end of the magnetoresistive element 40C.

【0060】第1磁界誘導ヨーク2A、第2磁界誘導ヨ
ーク2Bはそれぞれ線対称形状で形成される。
The first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B are each formed in a line symmetrical shape.

【0061】図19及び図20に示すように、第1磁界
誘導ヨーク2Aのトラック幅L1で検出されたデジタル
信号の信号磁界は、磁気ギャップ層3、中間磁性層21
F、上部兼用磁性層22F、22R、中間磁性層21R
及び下部磁性層20を閉磁路とする、磁気抵抗効果素子
40Aの抵抗変化として検出される。同様に、第2磁界
誘導ヨーク2Bのトラック幅L1’で検出されたデジタ
ル信号の信号磁界は、磁気ギャップ層3、中間磁性層2
1F、上部兼用磁性層22F、22R、中間磁性層21
R及び下部磁性層20を閉磁路とする、磁気抵抗効果素
子40Bの抵抗変化として検出される。
As shown in FIGS. 19 and 20, the signal magnetic field of the digital signal detected at the track width L1 of the first magnetic field induction yoke 2A is equal to the magnetic gap layer 3 and the intermediate magnetic layer 21.
F, upper dual-purpose magnetic layers 22F, 22R, intermediate magnetic layer 21R
And the lower magnetic layer 20 as a closed magnetic path is detected as a change in resistance of the magnetoresistive element 40A. Similarly, the signal magnetic field of the digital signal detected at the track width L1 'of the second magnetic field induction yoke 2B is equal to the magnetic gap layer 3, the intermediate magnetic layer 2
1F, upper dual-purpose magnetic layers 22F, 22R, intermediate magnetic layer 21
It is detected as a change in resistance of the magnetoresistive element 40B in which the R and the lower magnetic layer 20 are closed magnetic paths.

【0062】一方、第1磁界誘導ヨーク2A及び第2磁
界誘導ヨーク2Bの双方を加算したトラック幅L2で検
出されたアナログ信号の信号磁界は、第1磁界誘導ヨー
ク2A及び第2磁界誘導ヨーク2Bの双方の磁気ギャッ
プ層3、中間磁性層21F、上部兼用磁性層22F、2
2R、中間磁性層21R及び下部磁性層20を閉磁路と
する、2個の磁気抵抗効果素子40Cの抵抗変化として
検出される。
On the other hand, the signal magnetic field of the analog signal detected with the track width L2 obtained by adding both the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B is equal to the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B. , The magnetic gap layer 3, the intermediate magnetic layer 21F, the upper dual-purpose magnetic layer 22F,
It is detected as a change in resistance of two magnetoresistive elements 40C having the 2R, intermediate magnetic layer 21R and lower magnetic layer 20 as closed magnetic paths.

【0063】磁界誘導ヨーク2A及び2B上には保護膜
としての絶縁体12が形成される。
An insulator 12 as a protective film is formed on the magnetic field induction yokes 2A and 2B.

【0064】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ層3の垂直方向に定
磁束源としての磁石を配置し、磁気抵抗効果素子40
A、40Bのそれぞれの磁路方向に垂直な断面を通過す
る磁束量φSA1、磁気抵抗効果素子40Cの磁路方向に
垂直な断面を通過する磁束量φSA2は、いずれも上部磁
性層21を単層構造とし並列接続したことにより増加で
きる。本発明者が行ったシュミレーションによれば、磁
界誘導ヨーク2A、2Bの各磁性層、磁気抵抗効果素子
40A、40B、40Cのそれぞれの比透磁率を1000に
設定すると、前述の公報に開示された直列構造の磁気抵
抗効果型薄膜磁気ヘッドに比べて、磁気抵抗効果素子4
0A、40Bのそれぞれを通過する磁束量φSA1は3.2d
B、磁気抵抗効果素子40Cを通過する磁束量φSA2は3.
7dBといずれも増加する。すなわち、本実施の形態に係
る磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドは、磁気回路全体の磁
気抵抗が減少でき、磁気抵抗効果素子40A、40B、
40Cのそれぞれに流入する磁束量を増加できるので、
再生出力特性を向上できる。
In the magnetoresistive thin film magnetic head thus configured, a magnet as a constant magnetic flux source is arranged in the direction perpendicular to the magnetic gap layer 3 and the magnetoresistive element 40
The magnetic flux amount φ SA1 passing through the cross section perpendicular to the direction of the magnetic path of each of A and 40B and the magnetic flux amount φ SA2 passing through the cross section perpendicular to the direction of the magnetic path of the magnetoresistive effect element 40C both pass through the upper magnetic layer 21. It can be increased by having a single layer structure and connecting in parallel. According to the simulation performed by the inventor, when the relative magnetic permeability of each magnetic layer of the magnetic field induction yokes 2A and 2B and each of the magnetoresistive elements 40A, 40B and 40C are set to 1000, the above-mentioned publication discloses the above. Compared to the series structure magnetoresistive thin film magnetic head, the magnetoresistive element 4
The amount of magnetic flux φ SA1 passing through each of 0A and 40B is 3.2d
B, the amount of magnetic flux φ SA2 passing through the magnetoresistive element 40C is 3.
Both increase to 7dB. That is, in the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the present embodiment, the magnetoresistance of the entire magnetic circuit can be reduced, and the magnetoresistive elements 40A, 40B,
Since the amount of magnetic flux flowing into each of the 40C can be increased,
The reproduction output characteristics can be improved.

【0065】次に、前述の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法を説明する。図21乃至図29は各製造工
程毎に示す磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドの工程断面図
である。
Next, a method of manufacturing the above-described magnetoresistive thin film magnetic head will be described. 21 to 29 are process sectional views of the magnetoresistive thin-film magnetic head shown in each manufacturing process.

【0066】(1)まず、図21に示すように、基板1
の表面上に下部磁性層20を形成する。基板1にはAl2O
3-TiC基板等の非磁性基板が実用的に使用できる。下部
磁性層20にはNi-Fe膜、CoZrNbアモルファス合金膜等
の軟磁性膜が実用的に使用できる。磁性膜はスパッタ法
又は蒸着法により1〜5μmの膜厚で形成した後、パター
ンニングされる。パターンニングにはイオンミリング、
ウエットエッチングのいずれかが使用される。
(1) First, as shown in FIG.
The lower magnetic layer 20 is formed on the surface of the substrate. Substrate 1 has Al 2 O
A non-magnetic substrate such as a 3- TiC substrate can be used practically. As the lower magnetic layer 20, a soft magnetic film such as a Ni—Fe film or a CoZrNb amorphous alloy film can be practically used. The magnetic film is formed in a thickness of 1 to 5 μm by a sputtering method or a vapor deposition method, and then patterned. Ion milling for patterning,
Either wet etching is used.

【0067】(2)図22に示すように、下部磁性層2
0の周囲に絶縁体5を埋設する。絶縁体5にはAl2O3、S
iO2のいずれかの非磁性絶縁膜が使用される。この非磁
性絶縁膜は、下部磁性層20の膜厚よりも厚い膜厚で形
成した後、研磨により下部磁性層20の表面と一致する
ように平坦化される。
(2) As shown in FIG. 22, the lower magnetic layer 2
The insulator 5 is buried around 0. Al 2 O 3 , S
Any non-magnetic insulating film of iO 2 is used. This nonmagnetic insulating film is formed to have a thickness greater than the thickness of the lower magnetic layer 20, and is then planarized by polishing so as to match the surface of the lower magnetic layer 20.

【0068】(3)図23に示すように、下部磁性層2
0の表面上において図示しない磁気記録媒体側に磁気ギ
ャップ層3を形成する。磁気ギャップ層3にはAl2O
3膜、SiO2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用され、こ
の非磁性絶縁膜はスパッタ法により堆積した後にパター
ンニングされる。
(3) As shown in FIG. 23, the lower magnetic layer 2
The magnetic gap layer 3 is formed on the surface of the magnetic recording medium (not shown) on the surface of the magnetic recording medium. Al 2 O for the magnetic gap layer 3
One of three non-magnetic insulating films, SiO 2 film, is used. This non-magnetic insulating film is patterned after being deposited by a sputtering method.

【0069】(4)図24に示すように、磁気記録媒体
側において下部磁性層20の表面上に磁気ギャップ層3
を介して中間磁性層21Fを形成するとともに、磁気記
録媒体側と反対側において下部磁性層20の表面上に直
接中間磁性層21Rを形成する。中間磁性層21F、2
1Rはいずれも下部磁性層20と同一磁性材料でかつ同
一方法により形成される。
(4) As shown in FIG. 24, the magnetic gap layer 3 is formed on the surface of the lower magnetic layer 20 on the magnetic recording medium side.
, And the intermediate magnetic layer 21R is formed directly on the surface of the lower magnetic layer 20 on the side opposite to the magnetic recording medium side. Intermediate magnetic layer 21F, 2
1R is formed of the same magnetic material and the same method as the lower magnetic layer 20.

【0070】(5)図25に示すように、中間磁性層2
1F、21Rのそれぞれの周囲に絶縁体6を埋設する。
絶縁体6は前述の絶縁体5と同一非磁性絶縁材料でかつ
同一方法により形成される。
(5) As shown in FIG. 25, the intermediate magnetic layer 2
An insulator 6 is buried around each of 1F and 21R.
The insulator 6 is made of the same non-magnetic insulating material as the insulator 5 and is formed by the same method.

【0071】(6)図26に示すように、絶縁体6の表
面上にデジタル信号検出用磁気抵抗効果素子として使用
される磁気抵抗効果素子40A、40B、アナログ信号
用磁気抵抗効果素子として使用される磁気抵抗効果素子
40Cのそれぞれを同一製造工程で形成する。磁気抵抗
効果素子40A、40B、40Cは、いずれも例えば膜
厚20nmのNi-Fe膜、膜厚20nmのTa膜、膜厚20nmのCoZrMo
膜(MR膜)を順次スパッタ法で積層し、これらの膜をイ
オンミリングでパターンニングすることにより形成され
る。この後、磁気抵抗効果素子40A、40Bのそれぞ
れに接続されるリード配線42、磁気抵抗効果素子40
Cに接続されるリード配線43を形成する(図19参
照)。リード配線42、43はいずれも例えばMo膜をス
パッタ法で形成し、このMo膜にパターンニングを行うこ
とにより形成される。
(6) As shown in FIG. 26, on the surface of the insulator 6, the magnetoresistive elements 40A and 40B used as digital signal detecting magnetoresistive elements and the analog signal magnetoresistive elements are used. The respective magnetoresistive effect elements 40C are formed in the same manufacturing process. Each of the magnetoresistive elements 40A, 40B, and 40C is, for example, a 20-nm-thick Ni—Fe film, a 20-nm-thick Ta film, and a 20-nm-thick CoZrMo film.
Films (MR films) are sequentially laminated by a sputtering method, and these films are formed by patterning by ion milling. Thereafter, the lead wiring 42 connected to each of the magnetoresistive elements 40A and 40B,
The lead wiring 43 connected to C is formed (see FIG. 19). Each of the lead wires 42 and 43 is formed by, for example, forming a Mo film by a sputtering method and patterning the Mo film.

【0072】(7)図27に示すように、磁気抵抗効果
素子40A、40B、40Cのそれぞれを覆う絶縁体7
を形成する。この絶縁体7は磁気抵抗効果素子40A、
40B、40Cのそれぞれと第1磁界誘導ヨーク2A又
は2Bとの間を絶縁分離する絶縁ギャップ層を形成す
る。絶縁体7にはAl2O3膜、SiO2膜のいずれかの非磁性
絶縁膜が使用され、この非磁性絶縁膜はスパッタ法によ
り堆積した後、研磨により非磁性絶縁膜の表面は平坦化
される。
(7) As shown in FIG. 27, the insulator 7 covering each of the magnetoresistive elements 40A, 40B, 40C
To form This insulator 7 includes a magnetoresistive element 40A,
An insulating gap layer that insulates and separates each of the first magnetic field induction yokes 2A and 2B from each of the first and second magnetic field induction yokes 40B and 40C is formed. Either an Al 2 O 3 film or a SiO 2 non-magnetic insulating film is used for the insulator 7. The non-magnetic insulating film is deposited by sputtering, and then the surface of the non-magnetic insulating film is planarized by polishing. Is done.

【0073】(8)図28に示すように、中間磁性層2
1F、21Rのそれぞれの表面上の絶縁体7が除去さ
れ、中間磁性層21F、21Rのそれぞれの表面を露出
する。
(8) As shown in FIG. 28, the intermediate magnetic layer 2
The insulator 7 on each surface of 1F, 21R is removed, exposing each surface of the intermediate magnetic layers 21F, 21R.

【0074】(9)図29に示すように、磁気記録媒体
側において中間磁性層21Fの表面上に上部兼用磁性層
22Fを形成するとともに、磁気記録媒体側と反対側に
おいて中間磁性層21Rの表面上に上部兼用磁性層22
Rを形成する。上部兼用磁性層22F、22Rはいずれ
も下部磁性層20と同一磁性材料でかつ同一方法により
形成される。上部兼用磁性層22F、22Rのそれぞれ
の間には離間しヨークギャップ25G1、25G2のそ
れぞれが形成される。
(9) As shown in FIG. 29, the upper dual-purpose magnetic layer 22F is formed on the surface of the intermediate magnetic layer 21F on the magnetic recording medium side, and the surface of the intermediate magnetic layer 21R is formed on the opposite side to the magnetic recording medium side. Upper combined magnetic layer 22 on top
Form R. Each of the upper dual-purpose magnetic layers 22F and 22R is made of the same magnetic material and the same method as the lower magnetic layer 20. The yoke gaps 25G1 and 25G2 are formed between the upper dual-purpose magnetic layers 22F and 22R.

【0075】(10)上部兼用磁性層22F、22Rの
それぞれの周囲に絶縁体8を埋設し、前述の図18に示
すように上部兼用磁性層22F、22Rのそれぞれを覆
う絶縁体12を形成する。絶縁体12にはAl2O3膜、SiO
2膜のいずれかの非磁性絶縁膜が使用され、この非磁性
絶縁膜はスパッタ法により堆積される。図示しないが、
リード配線42、43のそれぞれの外部接続部分には絶
縁体12等に接続孔が形成される。接続孔は例えばイオ
ンミリングにより形成される。
(10) The insulator 8 is buried around each of the upper dual-purpose magnetic layers 22F and 22R, and the insulator 12 covering each of the upper dual-purpose magnetic layers 22F and 22R is formed as shown in FIG. . Al 2 O 3 film, SiO 2
One of the two non-magnetic insulating films is used, and this non-magnetic insulating film is deposited by a sputtering method. Although not shown,
In each of the external connection portions of the lead wires 42 and 43, a connection hole is formed in the insulator 12 or the like. The connection hole is formed by, for example, ion milling.

【0076】これら一連の製造工程が終了すると、本実
施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドが完成す
る。
When these series of manufacturing steps are completed, the magnetoresistive thin film magnetic head according to the present embodiment is completed.

【0077】このように構成される磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドにおいては、前述の第1の実施の形態に係る
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドで得られる効果に加え
て、再生出力の向上が第1磁界誘導ヨーク2A、第2磁
界誘導ヨーク2Bのそれぞれの膜面上で行われ、磁性層
数や絶縁体層数が削減できるので、製作が容易な簡易な
構造を有する磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドが実現でき
る。
In the magnetoresistive thin-film magnetic head thus configured, in addition to the effects obtained by the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the above-described first embodiment, the improvement of the reproduction output is also important. This operation is performed on the respective film surfaces of the first magnetic field induction yoke 2A and the second magnetic field induction yoke 2B, and the number of magnetic layers and the number of insulator layers can be reduced. A head can be realized.

【0078】なお、本発明は前述の実施の形態に限定さ
れない。例えば、本発明は、磁気抵抗効果素子40A、
40B、40C、41のそれぞれにGMR素子を使用でき
る。さらに、本発明は、第1磁界誘導ヨーク2A、第2
磁界誘導ヨーク2Bのそれぞれの下部磁性層20にヨー
クギャップを配設し、このヨークギャップ部分に磁気抵
抗効果素子を配設してもよい。さらに、本発明は、トラ
ック幅方向に3以上の複数の磁界誘導ヨークを配設する
磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドに適用できる。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the present invention provides a magnetoresistive element 40A,
A GMR element can be used for each of 40B, 40C and 41. Further, the present invention provides the first magnetic field induction yoke 2A,
A yoke gap may be provided in each lower magnetic layer 20 of the magnetic field induction yoke 2B, and a magnetoresistive element may be provided in the yoke gap. Further, the present invention can be applied to a magnetoresistive thin film magnetic head having three or more magnetic field inducing yokes arranged in the track width direction.

【0079】[0079]

【発明の効果】本発明は、異なるトラック幅の信号が検
出でき、かつ磁気回路全体の磁気抵抗を低減することに
より再生出力が向上できる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッ
ドを提供できる。
According to the present invention, it is possible to provide a magnetoresistive thin film magnetic head capable of detecting signals of different track widths and improving the reproduction output by reducing the magnetic resistance of the entire magnetic circuit.

【0080】さらに、本発明は、上記再生出力を向上し
つつ、装置の小型化が実現できる磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドを提供できる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a magnetoresistive thin film magnetic head capable of realizing the miniaturization of the device while improving the reproduction output.

【0081】さらに、本発明は、上記再生出力を向上し
つつ、磁性層数や絶縁体層数を削減して製作が容易に行
える簡易な構造の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドを提供
できる。
Further, the present invention can provide a magnetoresistive thin film magnetic head having a simple structure which can be easily manufactured by reducing the number of magnetic layers and insulator layers while improving the reproduction output.

【0082】さらに、本発明は、デジタル信号再生ヘッ
ド及びアナログ信号再生ヘッドを搭載できる複合型磁気
抵抗効果型薄膜磁気ヘッドを提供できる。
Further, the present invention can provide a composite magnetoresistive thin film magnetic head on which a digital signal reproducing head and an analog signal reproducing head can be mounted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果
型薄膜磁気ヘッドの断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetoresistive thin-film magnetic head according to a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの平面図である。
FIG. 2 is a plan view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment.

【図3】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの磁界誘導ヨークの斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a magnetic field induction yoke of the magnetoresistive thin film magnetic head according to the first embodiment.

【図4】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 4 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図5】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 5 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図6】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 6 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図7】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 7 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図8】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 8 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment.

【図9】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜磁
気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 9 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment.

【図10】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 10 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図11】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 11 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図12】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 12 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図13】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 13 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment.

【図14】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 14 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図15】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 15 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図16】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 16 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図17】第1の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 17 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the first embodiment;

【図18】本発明の第2の実施の形態に係る磁気抵抗効
果型薄膜磁気ヘッドの断面図である。
FIG. 18 is a sectional view of a magnetoresistive thin film magnetic head according to a second embodiment of the present invention.

【図19】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの平面図である。
FIG. 19 is a plan view of a magnetoresistive thin-film magnetic head according to a second embodiment.

【図20】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの磁界誘導ヨークの斜視図である。
FIG. 20 is a perspective view of a magnetic field induction yoke of the magnetoresistive thin film magnetic head according to the second embodiment.

【図21】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 21 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment.

【図22】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 22 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment.

【図23】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 23 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment;

【図24】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 24 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment;

【図25】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 25 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment.

【図26】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 26 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment;

【図27】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 27 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment;

【図28】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 28 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment.

【図29】第2の実施の形態に係る磁気抵抗効果型薄膜
磁気ヘッドの工程断面図である。
FIG. 29 is a process sectional view of the magnetoresistive thin-film magnetic head according to the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2A,2B 磁界誘導ヨーク 20 下部磁性層 21 上部磁性層 21F,21R 下部中間磁性層又は中間磁性層 22F,22R 第1上部磁性層又は上部兼用磁性層 23F,23R 上部中間磁性層 24F,24R 第2上部磁性層 25G,25G1,25G2,26G ヨークギャップ 3 絶縁ギャップ層 40A,40B,40C,41 磁気抵抗効果素子 5〜12 絶縁体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2A, 2B Magnetic field induction yoke 20 Lower magnetic layer 21 Upper magnetic layer 21F, 21R Lower intermediate magnetic layer or intermediate magnetic layer 22F, 22R 1st upper magnetic layer or upper combined magnetic layer 23F, 23R Upper intermediate magnetic layer 24F, 24R Second upper magnetic layer 25G, 25G1, 25G2, 26G Yoke gap 3 Insulating gap layer 40A, 40B, 40C, 41 Magnetoresistance element 5-12 Insulator

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 磁気ギャップで検出される信号磁界の閉
磁路がヨークギャップ部分で並列に分割された磁界誘導
ヨークが、トラック幅方向に複数隣接配置され、 前記磁界誘導ヨークの並列に分割されたそれぞれのヨー
クギャップ部分に各々磁気抵抗効果素子が配設されたこ
とを特徴とする磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド。
1. A magnetic field induction yoke in which a closed magnetic path of a signal magnetic field detected by a magnetic gap is divided in parallel at a yoke gap portion, a plurality of magnetic field induction yokes are arranged adjacently in a track width direction, and the magnetic field induction yokes are divided in parallel. A magnetoresistive thin-film magnetic head, wherein a magnetoresistive element is disposed in each yoke gap.
【請求項2】 前記トラック幅方向に複数隣接配置され
た磁界誘導ヨークはいずれも膜厚方向において複数並列
に分割されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気抵
抗効果型薄膜磁気ヘッド。
2. The magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 1, wherein each of the plurality of magnetic field inducing yokes arranged adjacent to each other in the track width direction is divided in parallel in the film thickness direction.
【請求項3】 前記トラック幅方向に複数隣接配置され
た磁界誘導ヨークはいずれも膜面上において複数並列に
分割されたことを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗
効果型薄膜磁気ヘッド。
3. The magnetoresistive thin-film magnetic head according to claim 1, wherein each of the plurality of magnetic field inducing yokes arranged adjacent to each other in the track width direction is divided in parallel on the film surface.
【請求項4】 前記トラック幅方向に複数隣接配置され
た磁界誘導ヨークの並列に分割された一方のヨークギャ
ップ部分にはいずれもデジタル信号再生用磁気抵抗効果
素子が個別に配設され、 前記磁界誘導ヨークの並列に分割された他方のヨークギ
ャップ部分には複数に跨ってアナログ信号再生用磁気抵
抗効果素子が配設されたことを特徴とする請求項1乃至
請求項3のいずれかに記載の磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘ
ッド。
4. A magnetoresistive element for reproducing digital signals is individually disposed in one of the parallel yoke gap portions of a plurality of magnetic field induction yokes arranged adjacent to each other in the track width direction. 4. The analog signal reproducing magnetoresistive element is disposed over a plurality of other yoke gap portions of the induction yoke that are divided in parallel. A magnetoresistive thin-film magnetic head.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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