JP2000047377A - Original plate of waterless planographic printing plate - Google Patents

Original plate of waterless planographic printing plate

Info

Publication number
JP2000047377A
JP2000047377A JP10211440A JP21144098A JP2000047377A JP 2000047377 A JP2000047377 A JP 2000047377A JP 10211440 A JP10211440 A JP 10211440A JP 21144098 A JP21144098 A JP 21144098A JP 2000047377 A JP2000047377 A JP 2000047377A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photosensitive layer
weight
silicone rubber
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10211440A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3876540B2 (en
Inventor
Keiko Sugikawa
恵子 杉川
Mitsuru Suezawa
満 末沢
Norimasa Ikeda
憲正 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP21144098A priority Critical patent/JP3876540B2/en
Publication of JP2000047377A publication Critical patent/JP2000047377A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3876540B2 publication Critical patent/JP3876540B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve image reproducibility and printing resistance even in the case of a photomechanical process including exposure at a low temp., in particular <=20 deg.C by incorporating a specified monomer, a photopolymn. initiator and a high molecular compd. having film forming ability into a photosensitive layer. SOLUTION: A photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated in this order on a substrate. The photosensitive layer contains a photopolymerizable unsatd. monomer of the formula CH2=C(R)-CO-O-(CH2CH2 O)1-(CH2CH(CH3)-O)m-(CH2CH2O)n-CO-C(R)=CH2, a photopolymn. initiator and a high molecular compd. having film forming ability. In the formula, R is H or methyl, (m) is a real number of 3-12, (l) and (n) are each a real number of 1-5, 5<(l+m+n)<16, m>l+n. The pref. contents of the unsatd. monomer, the photopolymn. initiator and the high molecular compd. are 1.0-100 pts.wt., 0.1-20 pts.wt. and 0.01-100 pts.wt., respectively.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は水なし平版印刷版原
版に関するものであり、更に詳しくは、基板上にインキ
を受容しうる感光層、インキを反撥しうるシリコーンゴ
ム層を、この順に設けてなる水なし平版印刷版原版に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate precursor without water. More specifically, the present invention relates to a water-free lithographic printing plate precursor. More specifically, a photosensitive layer capable of receiving ink and a silicone rubber layer capable of repelling ink are provided in this order on a substrate. It relates to a waterless planographic printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】湿し水を用いないで平版印刷を行うため
の水なし平版印刷用の水なし平版印刷版原版について
は、種々のものが提案されている。それらの中でも基板
上に感光層とシリコーンゴム層を順次設けたものが極め
て優れた性能を有しており、例えば特許第273939
2号では、高感度でかつ現像性に優れた水なし平版印刷
版原版が、特許第2739387号では、水または水を
主成分とする安価で危険性の少ない現像液で現像でき、
画像部の現像性が良好で、しかも調子再現性の良好な水
なし平版印刷版が提供されており、また、特許第273
9383号では、シリコーンゴム層の硬化度およびシリ
コーンゴム層と感光層との密着力が適切に制御された、
画像再現性、および耐刷性に優れた水なし平版印刷版原
版が提供されいる。
2. Description of the Related Art Various lithographic printing plate precursors for lithographic printing without water for performing lithographic printing without using dampening water have been proposed. Among them, those in which a photosensitive layer and a silicone rubber layer are sequentially provided on a substrate have extremely excellent performance, for example, Japanese Patent No. 273939.
In No. 2, a waterless lithographic printing plate precursor having high sensitivity and excellent developability can be developed with water or an inexpensive and low-risk developer containing water or water as a main component in Japanese Patent No. 2739387.
A waterless lithographic printing plate having good image part developability and good tone reproducibility has been provided.
No. 9383, the degree of cure of the silicone rubber layer and the adhesion between the silicone rubber layer and the photosensitive layer were appropriately controlled.
A waterless lithographic printing plate precursor excellent in image reproducibility and printing durability is provided.

【0003】しかし、これらは画像形成の際に低温で露
光して製版した場合、感光層とシリコーンゴム層との接
着が十分でなく、特にシャドウ再現性において満足な画
像再現性が得られない。
[0003] However, when a plate is made by exposing at a low temperature during image formation, the adhesion between the photosensitive layer and the silicone rubber layer is not sufficient, and satisfactory image reproducibility, particularly in shadow reproducibility, cannot be obtained.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低
温、特に20℃以下で露光して製版した場合にも、画像
再現性および耐刷性に優れた水なし平版印刷版原版を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a waterless planographic printing plate precursor which is excellent in image reproducibility and printing durability even when plate making is performed by exposing at a low temperature, especially at a temperature of 20 ° C. or less. That is.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は主として次の構成を有する。すなわち、「基
板、感光層、およびシリコーンゴム層をこの順に積層し
てなり、該感光層が次の(A)、(B)、(C)の3成
分を含むことを特徴とする水なし平版印刷版原版であ
る。 (A)下記一般式(I)で表される少なくとも1種のモ
ノマー、 CH2=C(R)-CO-O-(CH2CH2O)l-(CH2CH(CH3)-O)m-(CH2CH2O)n-CO-C(R)=CH2 (I) (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、同じであ
っても異なっていても良い。mは3〜12、l、nは1
〜5の実数であり、同じであっても異なっていても良
い。5<(l+m+n)<16であり、m>l+nであ
る。) (B)光重合開始剤、および、 (C)フィルム形成能を有する高分子化合物」、であ
る。
To solve the above-mentioned problems, the present invention mainly has the following constitution. That is, a "waterless lithographic plate comprising: a substrate, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer laminated in this order, and the photosensitive layer contains the following three components (A), (B), and (C). (A) at least one monomer represented by the following general formula (I): CH 2 = C (R) -CO-O- (CH 2 CH 2 O) l- (CH 2 CH) (CH 3 ) -O) m- (CH 2 CH 2 O) n-CO-C (R) = CH 2 (I) (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group and is the same or different M is 3 to 12, l and n are 1
55, which may be the same or different. 5 <(l + m + n) <16, and m> l + n. (B) a photopolymerization initiator, and (C) a polymer compound capable of forming a film.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0007】平版印刷版の基板としては、通常の平版印
刷機に取り付けられる撓み性と印刷時に加わる荷重に耐
えうるものである必要がある。代表的なものとしては、
アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステルフィルムや
ポリプロピレンフィルムなどのプラスッチックフィルム
あるいはコート紙、ゴムシートなどが挙げられる。ま
た、該基板は上記の素材が複合されたものであっても良
いし、これらの基板上には水なし平版印刷版におけるハ
レーション防止、画像の染色や印刷特性向上のためにプ
ライマー層が好ましく積層される。
[0007] The substrate of the lithographic printing plate must be flexible and can withstand the load applied during printing, which is attached to an ordinary lithographic printing press. As a typical one,
Examples include a metal plate such as aluminum, copper, and iron, a plastic film such as a polyester film and a polypropylene film, coated paper, and a rubber sheet. Further, the substrate may be a composite of the above-mentioned materials, and a primer layer is preferably laminated on these substrates to prevent halation in a waterless lithographic printing plate, dye an image and improve printing characteristics. Is done.

【0008】基板と感光層の間には接着性向上や検版性
向上などを目的としてプライマー層を設けることができ
る。プライマー層としては、例えば、特開昭60−22
903号公報にある種々の感光性ポリマーを感光層を設
ける前に露光して硬化せしめたもの、特開平4−322
181号公報にあるメタクリル系含リンモノマーを感光
層を設ける前に露光して硬化せしめたもの、特開平2−
7049号公報にあるメタクリル系エポキシ化合物を感
光層を設ける前に露光して硬化せしめたもの、特開昭6
2−50760号公報にあるエポキシ樹脂を熱硬化せし
めたもの、特開昭63−133151号公報にあるゼラ
チンを硬膜せしめたもの、特開平1−282270号公
報、特開平2−21072号公報にあるウレタン樹脂を
用いたものなどが挙げられる。
[0008] A primer layer can be provided between the substrate and the photosensitive layer for the purpose of improving the adhesion and the plate inspection. As the primer layer, for example, JP-A-60-22
JP-A-4-322, in which various photosensitive polymers disclosed in JP-A No. 903 are exposed and cured before providing a photosensitive layer.
JP-A No. 181-181, in which a methacrylic phosphorus-containing monomer is exposed and cured before providing a photosensitive layer.
No. 7049, a methacrylic epoxy compound exposed and cured before providing a photosensitive layer.
JP-A-2-50760 obtained by heat-curing an epoxy resin, JP-A-63-133151 discloses a hardened gelatin, JP-A-1-282270 and JP-A-2-21072. Those using a certain urethane resin are exemplified.

【0009】この他にもカゼインを硬膜させたものも有
効である。さらにプライマー層を柔軟化させる目的で、
前記プライマー層にガラス転移温度が室温以下であるポ
リウレタン、ポリアミド、スチレン/ブタジエンゴム、
カルボキシ変性スチレン/ブタジエンゴム、アクリロニ
トリル/ブタジエンゴム、カルボキシ変性アクリロニト
リル/ブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリレ
ートゴム、ポリエチレン、塩素化ポリプロピレンなどの
ポリマーを添加しても良い。その添加割合は任意であ
り、フィルム層を形成できる範囲であれば、添加剤だけ
でプライマー層を形成しても良い。また、これらのプラ
イマー層には前記の目的に沿って、染料、pH指示薬、
露光焼きだし剤、フォトクロ化合物、光重合開始剤、接
着助剤(例えば、重合性モノマー、ジアゾ樹脂、シラン
カップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミニ
ウムカップリング剤、ジルコニアカップリング剤、ボロ
ンカップリング剤など)、白色顔料やシリカ粒子などの
添加剤を含有させることができる。
[0009] In addition, a casein hardened material is also effective. In order to further soften the primer layer,
Polyurethane, polyamide, styrene / butadiene rubber having a glass transition temperature of room temperature or lower in the primer layer,
Polymers such as carboxy-modified styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, carboxy-modified acrylonitrile / butadiene rubber, polyisoprene rubber, acrylate rubber, polyethylene, and chlorinated polypropylene may be added. The addition ratio is arbitrary, and the primer layer may be formed only with the additives as long as the film layer can be formed. In addition, these primer layers, according to the above purpose, dye, pH indicator,
Exposure baking agent, photochromic compound, photopolymerization initiator, adhesion assistant (eg, polymerizable monomer, diazo resin, silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agent, zirconia coupling agent, boron coupling Agents, etc.), additives such as white pigments and silica particles.

【0010】本発明に用いられるプライマー層の膜厚
は、乾燥重量で0.1〜20g/m2の範囲が好まし
く、1〜10g/m2の範囲がさらに好ましい。
The thickness of the primer layer used in the present invention is preferably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 by dry weight, and more preferably in the range of 1 to 10 g / m 2 .

【0011】次に本発明に用いられる感光層について説
明する。
Next, the photosensitive layer used in the present invention will be described.

【0012】画像形成をポジ型で行う場合、ポジティブ
ワーキング用の感光層としては、主に光硬化性層が用い
られる。本発明においては、光硬化性層としては光重合
性層を用いる。
When image formation is performed in a positive type, a photocurable layer is mainly used as a photosensitive layer for positive working. In the present invention, a photopolymerizable layer is used as the photocurable layer.

【0013】各成分の含有量は特に限定されないが、画
像再現性等の点から以下に示す成分比で含まれることが
好ましい。 (A)光重合性不飽和モノマー 1.0〜100重量部 (B)光重合開始剤 0.1〜 20重量部 (C)フィルム形成能を有する高分子化合物 0.01〜100重量部 本発明の水なし平版印刷版原版の感光層には、一般式
(I)で表されるモノマーを含有することが必須であ
る。この一般式(I)で表されるモノマーを含有するこ
とによって優れた低温露光時の画像再現性等を達成する
ことが可能となる。
The content of each component is not particularly limited, but is preferably contained in the following component ratio from the viewpoint of image reproducibility and the like. (A) Photopolymerizable unsaturated monomer 1.0 to 100 parts by weight (B) Photopolymerization initiator 0.1 to 20 parts by weight (C) Polymer compound having film forming ability 0.01 to 100 parts by weight The present invention It is essential that the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor contains a monomer represented by the general formula (I). By containing the monomer represented by the general formula (I), excellent image reproducibility at low temperature exposure and the like can be achieved.

【0014】 CH2=C(R)-CO-O-(CH2CH2O)l-(CH2CH(CH3)-O)m-(CH2CH2O)n-CO-C(R)=CH2 (I) (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、同じであ
っても異なっていても良い。mは3〜12、l、nは1
〜5の実数であり、同じであっても異なっていても良
い。5<(l+m+n)<16であり、m>l+nであ
る。) なお、一般式(I)で表されるモノマーは単体であって
も混合物であってもよい。混合物の場合、l、nおよび
mはその平均値となる。
CH 2 = C (R) -CO-O- (CH 2 CH 2 O) l- (CH 2 CH (CH 3 ) -O) m- (CH 2 CH 2 O) n-CO-C ( R) = CH 2 (I) (wherein R is a hydrogen atom or a methyl group and may be the same or different; m is 3 to 12, l and n are 1
55, which may be the same or different. 5 <(l + m + n) <16, and m> l + n. In addition, the monomer represented by the general formula (I) may be a single substance or a mixture. In the case of a mixture, l, n and m are their average values.

【0015】l+m+nが5以下の場合は、乾燥時に揮
発して濃度が低下し、版内のバラツキが発生したり、オ
ーブン側壁に付着したものがゴミ欠点になり、良好な版
材が得られない。また、16以上では反応速度が遅く、
目的とする感度が得られない。
When l + m + n is 5 or less, the composition volatilizes during drying to lower the concentration, causing variations in the plate, and adhesion to the side walls of the oven becomes dust defects, and a good plate material cannot be obtained. . In addition, the reaction speed is slow at 16 or more,
The desired sensitivity cannot be obtained.

【0016】一般式(I)で表されるモノマーは、例え
ば以下の商品名で混合物として市販されている。
The monomer represented by the general formula (I) is commercially available as a mixture under the following trade names, for example.

【0017】[0017]

【化1】 また、一般式(I)のモノマーと併用して公知のモノマ
ー等を使用できる。公知のモノマーを併用する場合、一
般式(II)、(VI)のモノマーを併用することが好
ましい。
Embedded image In addition, known monomers and the like can be used in combination with the monomer of the general formula (I). When a known monomer is used in combination, it is preferable to use the monomers of general formulas (II) and (VI) in combination.

【0018】 R12N−(X1)p−(X2)q−NR34 (II) (式中X1、X2は、炭素数1〜20の置換または無置換
の環式または非環式のアルキレン、置換または無置換の
フェニレン、置換または無置換のアラルキレンから選ば
れる2価の連結基を表す。X2は、-OE1-、-S-E2-、-NH-
E3-、-CO-E4-、-SO2-NH-E5-で、E1、E2、E3、E4、E
5は、上記のX1、X2と同様の2価の連結基を表す。pは
1以上の整数、qは0または1以上の整数を表す。R1
2、R3、R4は、水素原子、炭素数1〜20の置換ま
たは無置換のフェニル基、置換または無置換のアラルキ
ル基、下式(III)、(IV)、(V)から選ばれる
官能基を意味し、同一であっても異なっていても良い。
ただし化合物(II)の1分子中に少なくとも1個以上
のエチレン性不飽和基を含む。
R 1 R 2 N- (X 1 ) p- (X 2 ) q-NR 3 R 4 (II) (wherein X 1 and X 2 are a substituted or unsubstituted ring having 1 to 20 carbon atoms) X 2 represents a divalent linking group selected from formula or acyclic alkylene, substituted or unsubstituted phenylene, and substituted or unsubstituted aralkylene, and X 2 represents —OE 1 —, —SE 2 —, —NH—
E 3 -, - CO-E 4 -, - SO 2 -NH-E 5 - a, E 1, E 2, E 3, E 4, E
5 represents the same divalent linking group as X 1 and X 2 described above. p represents an integer of 1 or more, and q represents 0 or an integer of 1 or more. R 1 ,
R 2 , R 3 , and R 4 are selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted phenyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aralkyl group, and the following formulas (III), (IV), and (V). Functional groups, which may be the same or different.
However, one molecule of compound (II) contains at least one ethylenically unsaturated group.

【0019】[0019]

【化2】 5、R6、R7は、水素原子、炭素数1〜20の置換ま
たは無置換のアルキル基、置換または無置換のフェニル
基、置換または無置換のアラルキル基、CH2=CH-基、CH2
=CCH3-基を表す。Yは-CO-O-、-CO-NH-、置換または無
置換のフェニレン基を表す。X3、X4、X5は上記X1
2と同様である。m、nは0または1を表す。以上に
おいて、置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、
ハロゲン原子、水酸基、アリール基が挙げられる。)
Embedded image R 5 , R 6 and R 7 each represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a CH 2 CHCH— group, CH 2
= CCH 3 - represents a group. Y represents -CO-O-, -CO-NH-, a substituted or unsubstituted phenylene group. X 3 , X 4 and X 5 are X 1 ,
Is the same as that of X 2. m and n represent 0 or 1. In the above, as the substituent, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms,
Examples include a halogen atom, a hydroxyl group, and an aryl group. )

【化3】 (式中、L1〜L6は水酸基、グリシジルオキシ基、アク
リロキシ基、メタクリロキシ基、2−ヒドロキシ−3−
アクリロキシプロピルオキシ基、2−ヒドロキシ−3−
メタクリロキシプロピルオキシ基の群から選ばれる少な
くとも1種であり、それぞれ同一でも異なっていても良
いが、L1〜L6の少なくとも1つは2−ヒドロキシ−3
−アクリロキシプロピルオキシ基及び/または2−ヒド
ロキシ−3−メタクリロキシプロピルオキシ基であ
る。) 具体的には、一般式(II)のモノマーにはN,N,N',N'
−テトラ(2−ヒドロキシ−3−メタクリロキシプロピ
ル)ポリオキシプロピレンジアミンが挙げられ、一般式
(VI)のモノマーには1,2,4,6−テトラ−(2
−ヒドロキシ−3−メタクリロキシプロピルオキシ)−
3,5−ジヒドロキシヘキサンなどが挙げられる。
Embedded image (Wherein L 1 to L 6 are a hydroxyl group, a glycidyloxy group, an acryloxy group, a methacryloxy group, a 2-hydroxy-3-
Acryloxypropyloxy group, 2-hydroxy-3-
At least one selected from the group of methacryloxypropyloxy groups, which may be the same or different, at least one of L 1 to L 6 is 2-hydroxy-3
An acryloxypropyloxy group and / or a 2-hydroxy-3-methacryloxypropyloxy group. Specifically, the monomers of the general formula (II) include N, N, N ', N'
-Tetra (2-hydroxy-3-methacryloxypropyl) polyoxypropylenediamine, and the monomer of the general formula (VI) includes 1,2,4,6-tetra- (2
-Hydroxy-3-methacryloxypropyloxy)-
3,5-dihydroxyhexane and the like.

【0020】また上記のモノマーの他にも、その他公知
のモノマー、オリゴマーや、少量のポリジメチルシロキ
サン、シリコーンレジン、公知の各種変性ポリジメチル
シロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサ
ン、シリコーン(メタ)アクリレートなどのシリコーン
化合物を添加することも可能である。例えば、特公昭4
8−41708号公報、特公昭50−6034号公報、
特開昭51−37193号公報に記載されているウレタ
ンアクリレート、特開昭48−64183号公報、特公
昭49−43191号公報、特公昭52−30490号
公報に記載されているポリエステルアクリレート、エポ
キシ樹脂と(メタ)アクリル酸を不可反応させた多官能
エポキシ(メタ)アクリレート、米国特許第45064
9号に記載されているN−メチロールアクリルアミド誘
導体などを挙げることが出来る。さらに日本接着協会誌
Vol.20,No.7,p300〜308に紹介されているポリオールポ
リアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、エポ
キシアクリレート系、ウレタンアクリレート系等の光硬
化性モノマー、及びオリゴマーも用いることが出来る。
また、該感光層に有機シリル基を有するエチレン性不飽
和化合物を含有することが出来る。
In addition to the above-mentioned monomers, other known monomers and oligomers, a small amount of polydimethylsiloxane, silicone resin, various known modified polydimethylsiloxanes, polyether-modified polydimethylsiloxane, silicone (meth) acrylate, etc. It is also possible to add a silicone compound of For example,
JP-A-8-41708, JP-B-50-6034,
Urethane acrylates described in JP-A-51-37193, polyester acrylates and epoxy resins described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. -Functional epoxy (meth) acrylate obtained by unreacting methacrylate and (meth) acrylic acid, US Patent No. 45064
N-methylol acrylamide derivative described in No. 9 and the like. In addition, the Journal of the Japan Adhesion Association
Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308, photocurable monomers and oligomers such as polyol polyacrylates, polyester acrylates, epoxy acrylates, and urethane acrylates can also be used.
Further, the photosensitive layer may contain an ethylenically unsaturated compound having an organic silyl group.

【0021】なお、エチレン性飽和モノマー合成の原料
として遊離の酸が用いられた場合には、その反応混合物
が未反応の遊離酸を有する場合がある。
When a free acid is used as a raw material for the synthesis of an ethylenically saturated monomer, the reaction mixture may have an unreacted free acid.

【0022】次に本発明に用いられる光重合開始剤につ
いて説明する。本発明に用いられる光重合開始剤は公知
のものであれば特に限定はされず、2種以上を併用する
こともできる。具体的には、各種のベンゾフェノン系化
合物、置換チオキサントン系化合物、置換アクリドン系
化合物、米国特許第2367660号に提案されている
ビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第237
661号及び米国特許第2367670号に提案されて
いるα−カルボニル化合物、米国特許第2448828
号に提案されているアシロインエーテル、米国特許第2
722512号に提案されているα位が炭化水素で置換
され芳香族アシロイン化合物、米国特許第304612
7号及び米国特許2951758号に提案されている多
核キノン化合物、米国特許第3549367号に提案さ
れているトリアリールイミダゾールダイマー/p−アミ
ノフェニルケトンの組み合わせ、米国特許第38705
24号に提案されているベンゾチアール系化合物、米国
特許第4239850号に提案されているベンゾチアゾ
ール/トリハロメチル−s−トリアジン系化合物、米国
特許第3754259号に提案されているアクリジン及
びフェナジン化合物、米国特許第421970号に提案
されているオキサジアゾール化合物、米国特許第395
4475号、米国特許第4189323号、特開昭53
−133428号公報、特開昭60−105667号公
報、特開昭62−58241号公報、特開昭63−15
3542号公報に提案されている発色団基を有するトリ
ハロメチル−s−トリアジン系化合物、特開昭59−1
97401号公報、特開昭60−76503号公報に提
案されているベンゾフェノン基含有ペルオキシエステル
化合物等を挙げることができる。
Next, the photopolymerization initiator used in the present invention will be described. The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited as long as it is a known one, and two or more kinds can be used in combination. Specifically, various benzophenone-based compounds, substituted thioxanthone-based compounds, substituted acridone-based compounds, vicinal polyketaldonyl compounds proposed in US Pat. No. 2,367,660, US Pat.
Α-carbonyl compounds proposed in US Pat. No. 2,661,661 and U.S. Pat.
Ether proposed in U.S. Pat.
No. 724612, which discloses an aromatic acyloin compound in which the α-position is substituted with a hydrocarbon, which is proposed in US Pat.
No. 7 and U.S. Pat. No. 2,951,758, a polynuclear quinone compound, a combination of triarylimidazole dimer / p-aminophenyl ketone proposed in U.S. Pat. No. 3,549,367, U.S. Pat.
No. 24, a benzothiazole / trihalomethyl-s-triazine compound proposed in U.S. Pat. No. 4,239,850, an acridine and phenazine compound proposed in U.S. Pat. No. 3,754,259, U.S. Pat. Oxadiazole compounds proposed in U.S. Pat.
No. 4475, U.S. Pat. No. 4,189,323,
-133428, JP-A-60-105667, JP-A-62-58241, JP-A-63-15
No. 3542, a trihalomethyl-s-triazine-based compound having a chromophore group.
Benzophenone group-containing peroxyester compounds proposed in JP-A-97401 and JP-A-60-76503.

【0023】特に本発明において好ましく用いられる光
重合開始剤としては、ミヒラーケトンに代表されるベン
ゾフェノン系化合物、2,4−ジエチルチオキサントン
に代表される置換チオキサントン系化合物の組み合わせ
がある。また更にN−アルキルアクリドンに代表される
置換アクリドン系化合物を組み合わせることが感度及び
画像再現性特にハイライト再現性向上の観点から好まし
い。
In particular, as the photopolymerization initiator preferably used in the present invention, there are a combination of a benzophenone compound represented by Michler's ketone and a substituted thioxanthone compound represented by 2,4-diethylthioxanthone. Further, it is preferable to combine a substituted acridone compound represented by N-alkylacridone from the viewpoint of improving sensitivity and image reproducibility, particularly highlight reproducibility.

【0024】次に本発明に用いられるフィルム形成能を
有する高分子化合物について説明する。
Next, the polymer compound having a film forming ability used in the present invention will be described.

【0025】本発明に用いられるフィルム形成能を有す
る高分子化合物とは、フィルムを形成可能な高分子化合
物を意味し、この特性を満足する限り公知のどのような
高分子化合物でもよい。具体的には、(メタ)アクリル
酸系化合物共重合体、クロトン系酸化合物共重合体、マ
レイン酸系化合物共重合体、ロジン変性等の部分エステ
ル化マレイン酸系化合物共重合体、酸性セルロース誘導
体、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、
アルコール可溶性ナイロン、ポリエステル樹脂、不飽和
ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリスチレン、エポ
キシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアル
コール、部分アセタール化ポリビニルアルコール、水溶
性ナイロン、水溶性ウレタン、ゼラチン、水溶性セルロ
ース誘導体等が挙げられ、単体もしくは二種類以上混合
して用いることが可能である。
The polymer compound capable of forming a film used in the present invention means a polymer compound capable of forming a film, and any known polymer compound may be used as long as the properties are satisfied. Specifically, (meth) acrylic acid compound copolymer, crotonic acid compound copolymer, maleic acid compound copolymer, partially esterified maleic acid compound copolymer such as rosin modification, acidic cellulose derivative , Polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide,
Alcohol-soluble nylon, polyester resin, unsaturated polyester resin, polyurethane, polystyrene, epoxy resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, partially acetalized polyvinyl alcohol, water-soluble nylon, water-soluble urethane, gelatin , Water-soluble cellulose derivatives, etc., and these can be used alone or as a mixture of two or more.

【0026】更に側鎖に光重合可能または光架橋可能な
オレフィン性不飽和二重結合基を有する高分子化合物の
単体もしくは混合物でもよく、上記のポリマーと併用す
ることも可能である。具体的には、特開昭59−538
36号公報に提案されているアリル(メタ)アクリレー
ト/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマ共重合体、及びそのアルカリ金属塩ま
たはアミン塩、特公昭59−45979号公報に提案さ
れているヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/(メ
タ)アクリル酸/アルキル(メタ)アクリレート共重合
体、及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩に(メタ)
アクリル酸クロライドを反応させたもの、特開昭59−
71048号公報に提案されている無水マレイン酸共重
合体にペンタエリスリトールトリアクリレートをハーフ
エステル化で付加させたもの、及びそのアルカリ金属塩
またはアミン塩、スチレン/無水マレイン酸共重合体に
モノヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート及び/ま
たはポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート
及び/またはポリプロピレングリコールモノ(メタ)ア
クリレートをハーフエステル化で付加させたもの、及び
そのアルカリ金属塩またはアミン塩、(メタ)アクリル
酸共重合体やクロトン酸共重合体のカルボン酸の一部に
グリシジル(メタ)アクリレートを反応させたもの、お
よびそのアルカリ金属塩またはアミン塩、ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレート共重合体、ポリビニルホル
マール及び/またはポリビニルブチラールに無水マレイ
ン酸や無水イタコン酸を反応させたもの、及びそのアル
カリ金属塩またはアミノ塩、ヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体に2,
4−トリレンジイソシアネート/ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレート=1:1付加反応物を更に反応さ
せたもの、及びそのアルカリ金属塩またはアミン塩、特
開昭59−53836号公報に提案されている(メタ)
アクリル酸共重合体の一部をアリルグリシジルエーテル
で反応させたもの及びそのアルカリ金属塩またはアミン
塩、(メタ)アリルアクリレート/スチレンスルホン酸
ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル酸ビニル/スチ
レンスルホン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリレ
ート/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンスル
ホン酸ナトリウム共重合体、(メタ)アクリル酸ビニル
/アクリルアミド/1,1−ジメチルエチレンスルホン
酸ナトリウム共重合体、2−アリロキシエチル(メタ)
アクリレート/メタクリル酸共重合体、2−アリロキシ
エチル(メタ)アクリレート/2−メタクリロキシエチ
ル水素サクシネート共重合体を挙げることができる。
Further, a polymer compound having a photopolymerizable or photocrosslinkable olefinically unsaturated double bond group in a side chain may be used alone or as a mixture, and may be used in combination with the above-mentioned polymer. Specifically, JP-A-59-538
No. 36, allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / as required, other addition-polymerizable vinyl monomer copolymers, and alkali metal salts or amine salts thereof. (Meth) acrylate / (meth) acrylic acid / alkyl (meth) acrylate copolymer and its alkali metal salt or amine salt (meth)
What reacted with acrylic acid chloride,
No. 71048, in which pentaerythritol triacrylate is added by half-esterification to a maleic anhydride copolymer, and an alkali metal salt or an amine salt thereof, and a styrene / maleic anhydride copolymer containing monohydroxyalkyl. (Meth) acrylate and / or polyethylene glycol mono (meth) acrylate and / or polypropylene glycol mono (meth) acrylate added by half esterification, and alkali metal or amine salts thereof, and (meth) acrylic acid copolymer Glycidyl (meth) acrylate reacted with a part of the carboxylic acid of the union or crotonic acid copolymer, and its alkali metal salt or amine salt, hydroxyalkyl (meth) acrylate copolymer, polyvinyl formal and / or Those obtained by reacting maleic anhydride and itaconic acid polyvinyl butyral, and alkali metal salts or amino salts, hydroxyalkyl (meth) acrylate / (meth) 2 acrylic acid copolymer,
4-tolylene diisocyanate / hydroxyalkyl (meth) acrylate = 1: 1 addition reaction product, further reacted with an alkali metal salt or amine salt, which is proposed in JP-A-59-53836. )
Acrylic acid copolymer partially reacted with allyl glycidyl ether and its alkali metal salt or amine salt, (meth) allyl acrylate / sodium styrene sulfonate copolymer, (meth) vinyl acrylate / styrene sulfonic acid Sodium copolymer, (meth) acrylate / acrylamide / 1,1-dimethylethylene sodium sulfonate copolymer, vinyl (meth) acrylate / acrylamide / 1,1-dimethylethylene sodium sulfonate copolymer, 2-ali Roxyethyl (meth)
An acrylate / methacrylic acid copolymer and a 2-allyloxyethyl (meth) acrylate / 2-methacryloxyethyl hydrogen succinate copolymer can be exemplified.

【0027】このほか本発明に用いられる感光層には、
染料や顔料、pH指示薬、ロイコ染料、界面活性剤、重
合禁止剤、光酸発生剤等の各種添加剤を加えることも可
能である。また、感光層組成物の塗工性を向上させる目
的から、フッ素系界面活性剤を添加することも好まし
い。また、本発明の感光層には、有機カルボン酸等を添
加することも出来る。さらに、感光層とシリコーンゴム
層との反応を制御する点から、感光層にジブチル錫ジア
セテート、ジブチル錫ジウラレート、ジブチル錫ジオク
エート等に代表される公知の有機金属触媒等を微量添加
することも可能である。
In addition, the photosensitive layer used in the present invention includes
It is also possible to add various additives such as dyes and pigments, pH indicators, leuco dyes, surfactants, polymerization inhibitors and photoacid generators. It is also preferable to add a fluorine-based surfactant for the purpose of improving the coating properties of the photosensitive layer composition. Further, an organic carboxylic acid or the like can be added to the photosensitive layer of the present invention. Further, from the viewpoint of controlling the reaction between the photosensitive layer and the silicone rubber layer, a small amount of a known organic metal catalyst represented by dibutyltin diacetate, dibutyltin diurarate, dibutyltin dioctoate, or the like can be added to the photosensitive layer. It is.

【0028】次に本発明に用いられるシリコーンゴム層
について説明する。
Next, the silicone rubber layer used in the present invention will be described.

【0029】本発明に用いられるシリコーンゴム層とし
ては次の(1) 縮合架橋型、(2) 付加架橋型のような構成
のものが挙げられるが、これに限定されない。
Examples of the silicone rubber layer used in the present invention include those having the following constitutions (1) condensation crosslinking type and (2) addition crosslinking type, but are not limited thereto.

【0030】(1) 縮合架橋型シリコーンゴム層は線状ポ
リオルガノシロキサンを縮合することから得られるシリ
コーンゴム層であり、本発明で言うポリオルガノシロキ
サンとは、下記の一般式(VII)で表される線状ポリ
オルガノシロキサンを意味する。また、本発明に言うシ
リコーンガム組成物とは、該ポリオルガノシロキサンを
適当な溶媒に溶かして溶液とした後、架橋剤や触媒など
と共に混合した未硬化(未ゴム化)の溶液組成物を意味
し、一方、シリコーンゴムとは該シリコーンガム組成物
を適当な硬化条件の下で架橋反応させ、ゴム化した硬化
生成物を意味する。
(1) The condensation-crosslinked silicone rubber layer is a silicone rubber layer obtained by condensing a linear polyorganosiloxane. The polyorganosiloxane referred to in the present invention is represented by the following general formula (VII): Means the linear polyorganosiloxane to be obtained. Further, the silicone gum composition referred to in the present invention means an uncured (non-rubberized) solution composition obtained by dissolving the polyorganosiloxane in an appropriate solvent to form a solution, and then mixing the solution with a crosslinking agent, a catalyst, and the like. On the other hand, the silicone rubber means a cured product obtained by subjecting the silicone gum composition to a cross-linking reaction under appropriate curing conditions and rubberized.

【0031】[0031]

【化4】 (ここでnは1以上の整数、R8,R9は炭素数1〜10
のアルキル基、アルコキシ基、アミノアルキル基、ハロ
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、炭素数2〜10の
カルボキシアルキル基、シアノアルキル基または炭素数
6〜20の置換もしくは非置換のアリール基、アリロキ
シ基、アラルキル基、または水素原子、水酸基の内から
選ばれる基であり、同一であっても異なっていても良
い。また、鎖末端もしくは側鎖のかたちで分子側鎖中に
少なくとも一つ以上の水酸基を有する。) 縮合反応架橋型シリコーンガム組成物としては、上記の
一般式(VII)で表される線状ポリオルガノシロキサ
ンの有機溶剤溶液に、架橋剤及び必要に応じて触媒が添
加された、いわゆる室温(低温)湿気架橋型の形態をと
る。該シリコーンガム組成物を構成する上で用いられる
縮合反応架橋剤としては、下記の一般式(VIII)で
表されるような、アセトキシシラン、ケトオキシムシラ
ン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン等
が好ましく用いられ、通常、分子鎖中に少なくとも一つ
以上の水酸基を有する線状ポリオルガノシロキサンと反
応して、それぞれ脱オキシム、脱アルコール、脱アミ
ン、脱アミドなどの形式で縮合反応で架橋する架橋剤
が、単一または混合された形、もしくは縮合体の形で用
いられる。特に本発明においては、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン等が好ましく用
いられる。
Embedded image (Where n is an integer of 1 or more, and R 8 and R 9 each have 1 to 10 carbon atoms)
Alkyl group, alkoxy group, aminoalkyl group, haloalkyl group, hydroxyalkyl group, carboxyalkyl group having 2 to 10 carbon atoms, cyanoalkyl group or substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, aryloxy group, aralkyl Group or a group selected from a hydrogen atom and a hydroxyl group, which may be the same or different. Further, it has at least one or more hydroxyl groups in the side chain of the molecule in the form of a chain terminal or a side chain. As the condensation-crosslinkable silicone gum composition, a so-called room temperature (hereinafter referred to as room temperature) obtained by adding a crosslinking agent and, if necessary, a catalyst to an organic solvent solution of the linear polyorganosiloxane represented by the above general formula (VII). It takes the form of a (low temperature) moisture cross-linking type. As the condensation-crosslinking agent used for constituting the silicone gum composition, acetoxysilane, ketoximesilane, alkoxysilane, aminosilane, amidosilane, and the like, which are represented by the following general formula (VIII), are preferably used. Usually, a crosslinking agent that reacts with a linear polyorganosiloxane having at least one or more hydroxyl groups in a molecular chain to crosslink in a condensation reaction in the form of deoxime, dealcohol, deamine, or deamidation, respectively. , In a single or mixed form, or in the form of a condensate. In particular, in the present invention, acetoxysilane,
Ketoxime silane, alkoxysilane and the like are preferably used.

【0032】 R10m・Si・Xn (VIII) (ただし、m、nは、m≧0、n≧1でm+n=4を満
足する整数を意味する。R10は置換もしくは非置換の炭
素数1〜20のアルキル基、アミノアルキル基、アミノ
アルキレンアミノアルキル基、アミノアルキレンアミノ
メチルフェネチル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜
20のアリール基を表す。また、Xは−OR11、−OC
OR12、−O−N=CR13−R14または−O−C=CR
15Hである。R11〜R15は炭素数1〜4の置換もしくは
非置換のアルキル基を意味する。) 縮合反応架橋剤の単体もしくはその縮合物の具体例とし
ては、次のようなものがある。テトラメトキシシラン、
テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エ
チルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
ジエチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、エチルトリエトキシシラン、テトラアセトキシシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキ
シシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、N−(βアミノエチル)−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(βアミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(βアミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、N−(βアミ
ノエチル)アミノメチルフェネチルトリメトキシシラ
ン、N−(βアミノエチル)アミノメチルフェネチルト
リエトキシシラン、トリス(メチルエチルケトオキシ
ム)メチルシラン、トリス(メチルエチルケトオキシ
ム)エチルシラン、トリス(メチルエチルケトオキシ
ム)ビニルシラン、テトラキス(メチルエチルケトオキ
シム)シラン等。
R 10 m · Si · Xn (VIII) (where m and n are integers satisfying m ≧ 0 and n ≧ 1 and satisfying m + n = 4. R 10 is a substituted or unsubstituted carbon number) 1 to 20 alkyl groups, aminoalkyl groups, aminoalkyleneaminoalkyl groups, aminoalkyleneaminomethylphenethyl groups, substituted or unsubstituted carbon atoms of 6 to
Represents 20 aryl groups. X is -OR 11 , -OC
OR 12 , -ON = CR 13 -R 14 or -OC = CR
It is a 15 H. R 11 to R 15 each represent a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. The following are specific examples of the condensation reaction crosslinking agent alone or a condensate thereof. Tetramethoxysilane,
Tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane,
Diethyldiethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl)-
γ-aminopropyltrimethoxysilane, N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane,
N- (βaminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane,
γ-chloropropyltriethoxysilane, N- (βaminoethyl) aminomethylphenethyltrimethoxysilane, N- (βaminoethyl) aminomethylphenethyltriethoxysilane, tris (methylethylketoxime) methylsilane, tris (methylethylketoxime) ethylsilane, Tris (methylethylketoxime) vinylsilane, tetrakis (methylethylketoxime) silane and the like.

【0033】混合触媒としては、有機錫化合物、有機チ
タン化合物、有機アルミニウム化合物、有機鉛化合物、
有機硼素化合物、有機ジルコニウム化合物群から選ばれ
る化合物等を用いることができる。特に有機錫化合物、
有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物の群から選
ばれる化合物は縮合触媒効果を効率よく発現する上で好
ましく、更に好ましくは有機錫化合物の群から選ばれる
化合物である。シリコーンゴム層の組成としては特に限
定されないが、ポリオルガノシロキサン100重量部に
対して上記の縮合反応架橋剤を3〜20重量部、縮合触
媒を0.001〜0.05重量部加えた組成が好まし
い。
Examples of the mixed catalyst include organic tin compounds, organic titanium compounds, organic aluminum compounds, organic lead compounds,
A compound selected from the group consisting of organic boron compounds and organic zirconium compounds can be used. Especially organotin compounds,
The compound selected from the group of the organic titanium compound and the organic aluminum compound is preferable from the viewpoint of efficiently exhibiting the condensation catalyst effect, and more preferably the compound selected from the group of the organic tin compound. Although the composition of the silicone rubber layer is not particularly limited, a composition in which 3 to 20 parts by weight of the above condensation reaction crosslinking agent and 0.001 to 0.05 parts by weight of the condensation catalyst are added to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane is used. preferable.

【0034】(2) 付加架橋型シリコーンゴム層は、Si
H基と−CH=CH−基との付加反応によって架橋させ
たシリコーンゴム層である。ここで用いる付加型シリコ
ーンゴム層は多価ハイドロジェンオルガノポリシロキサ
ンと、1分子に2個以上の−CH=CH−結合を有する
ポリシロキサン化合物との反応によって得られるもの
で、望ましくは以下の成分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基(望ましくはビニル基)を少なくとも2個有するオル
ガノポリシロキサン (2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオル
ガノポリシロキサン (3)付加触媒 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
良い。アルケニル基以外の基としては、置換もしくは非
置換のアルキル基、アリール基などが挙げられるが、こ
れらに限定されない。成分(1)には水酸基を微量含有
させても良い。成分(2)は成分(1)と反応してシリ
コーンゴム層を形成するが、感光層に対する接着性の付
与の役割も果たす。成分(2)の水酸基は分子鎖末端、
中間のいずれにあっても良い。水素以外の有機基として
は成分(1)と同様のものから選ばれる。成分(1)と
成分(2)の有機基はインキ反撥性向上の点で、総じて
基数の60%以上がメチル基であることが好ましい。成
分(1)及び成分(2)の分子構造は直鎖状、環状、分
岐状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方の分子量
が1,000を越えることがゴム物性の面で好ましく、
更に成分(1)の分子量が1,000を越えることが好
ましい。
(2) The addition-crosslinking type silicone rubber layer is made of Si
It is a silicone rubber layer crosslinked by an addition reaction between an H group and a —CH = CH— group. The addition type silicone rubber layer used herein is obtained by reacting a polyvalent hydrogen organopolysiloxane with a polysiloxane compound having two or more —CH = CH— bonds in one molecule. (1) Organopolysiloxane having at least two alkenyl groups (preferably vinyl groups) directly bonded to silicon atoms in one molecule (2) Organopolysiloxane having at least two SiH bonds in one molecule (3) Addition It is obtained by crosslinking and curing a composition comprising a catalyst. Ingredient (1)
The alkenyl group of may be at the terminal of the molecular chain or in the middle. Examples of the group other than the alkenyl group include, but are not limited to, a substituted or unsubstituted alkyl group and an aryl group. Component (1) may contain a small amount of hydroxyl groups. The component (2) reacts with the component (1) to form a silicone rubber layer, and also plays a role of imparting adhesiveness to the photosensitive layer. The hydroxyl group of component (2) is a molecular chain terminal,
It may be in any of the middle. The organic group other than hydrogen is selected from those similar to the component (1). It is preferable that 60% or more of the organic groups of the components (1) and (2) are methyl groups as a whole from the viewpoint of improving ink repellency. The molecular structure of the component (1) and the component (2) may be linear, cyclic, or branched, and it is preferable that at least one of the molecular weights exceeds 1,000 in terms of rubber physical properties.
Further, the molecular weight of component (1) preferably exceeds 1,000.

【0035】成分(1)としては、α,ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが挙げら
れ、成分(2)としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の(メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサン等が挙
げられるがこれに限定されず、他のものでも良い。
Component (1) includes α, ω-divinylpolydimethylsiloxane, (methylsiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, and component (2) includes hydroxyl groups at both terminals. Polydimethylsiloxane, α, ω-dimethylpolymethylhydrogensiloxane, (methylpolymethylhydrogensiloxane) (dimethylsiloxane) copolymer having methyl groups at both terminals, cyclic polymethylhydrogensiloxane, etc. It is not limited, and may be another one.

【0036】成分(3)の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が好ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が用いられ
る。これらの組成物の効果速度を制御する目的で、テト
ラシクロ(メチルビニル)シロキサン等のビニル基含有
オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合を有する
アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロピレングリコールモノメチルエー
テル等の架橋抑制剤を適当量添加することも可能であ
る。
The addition catalyst of the component (3) is arbitrarily selected from known catalysts, and is particularly preferably a platinum compound.
Platinum alone, platinum chloride, olefin-coordinated platinum and the like are used. In order to control the effect speed of these compositions, vinyl group-containing organopolysiloxanes such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, alcohols having a carbon-carbon triple bond, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propylene glycol monomethyl ether, etc. It is also possible to add an appropriate amount of the crosslinking inhibitor.

【0037】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシラン等の公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンより成るシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキ
サン)を添加しても良い。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加しても良い。
In addition to these compositions, a known adhesion-imparting agent such as alkenyl trialkoxysilane may be added, or a hydroxyl group-containing organopolysiloxane which is a composition of a condensation type silicone rubber layer, and a terminal having a trimethylsilyl group. Silicone oil composed of dimethylpolysiloxane, dimethylpolysiloxane terminated with a trimethylsilyl group, or a hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane) may be added. Further, a known filler such as silica may be added to improve the rubber strength.

【0038】また該シリコーンガム組成物には、シリコ
ーンゴム層を適度に補強する目的で、公知のフィラーや
無機粒子、ケイ酸ゾル等を添加したり、架橋性官能基を
有さない公知の変性シリコーンオイルを少量添加するこ
とも可能である。これらのシリコーンガム組成物を希
釈、溶解する溶媒としては、パラフィン系炭化水素、イ
ソパラフィン系炭化水素、シクロパラフィン系炭化水素
及び芳香族炭化水素が単一または混合された形で用いら
れる。これらの炭化水素系溶媒の代表的なものとして
は、石油の分留品及びその改良品などがある。本発明の
シリコーンゴム層の膜厚は、耐刷性及びインキ反撥性を
保ち、かつ良好な画像再現性を維持する点から、乾燥重
量で0.5〜10g/m2の範囲が好ましく、1〜3g
/m2の範囲が更に好ましい。
For the purpose of appropriately reinforcing the silicone rubber layer, the silicone gum composition may be added with known fillers, inorganic particles, silicate sol, or the like, or may be modified with known crosslinking agents having no crosslinkable functional groups. It is also possible to add a small amount of silicone oil. As a solvent for diluting and dissolving these silicone gum compositions, paraffinic hydrocarbons, isoparaffinic hydrocarbons, cycloparaffinic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons are used in a single or mixed form. Representative examples of these hydrocarbon solvents include fractionated petroleum products and improved products thereof. The thickness of the silicone rubber layer of the present invention is preferably in the range of 0.5 to 10 g / m 2 in terms of dry weight from the viewpoint of maintaining printing durability and ink repellency and maintaining good image reproducibility. ~ 3g
/ M 2 is more preferable.

【0039】以上に説明された構成の水なし平版印刷版
原版のシリコーンゴム層の表面には、該シリコーンゴム
層を保護する目的で適当な保護層をコーティングにより
該シリコーンゴム層上に形成したり、保護フィルムをラ
ミネートすることも可能である。また、該保護層中には
感光層を曝光(露光光源以外の光で、本来非照射部分に
光が照射されることを意味する)から保護する目的で、
光褪色性物質を含有させることもできる。保護フィルム
の具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ
ール、ポリエチレンテレフタレート、セロファンなどが
挙げられる。また、これらの保護フィルムは画像露光時
の焼枠における真空密着性を改良するために、表面をマ
ット処理したり、シリカ粒子等を含むプラスチック層を
上記保護フィルムの表面に塗布積層することも好ましく
行われる。
On the surface of the silicone rubber layer of the waterless planographic printing plate precursor having the structure described above, an appropriate protective layer is formed on the silicone rubber layer by coating for the purpose of protecting the silicone rubber layer. It is also possible to laminate a protective film. Further, in the protective layer, for the purpose of protecting the photosensitive layer from exposure to light (meaning that light other than the exposure light source is originally irradiated to the non-irradiated portion),
A light-fading substance can be contained. Specific examples of the protective film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. In addition, these protective films are preferably subjected to a matte treatment or a plastic layer containing silica particles or the like on the surface of the protective film, in order to improve the vacuum adhesion in a printing frame during image exposure. Done.

【0040】次に、本発明における水なし平版印刷版原
版の製造方法について説明する。基板上にリバースロー
ルコーター、エアーナイフコーター、メーヤバーコータ
ー等の通常のコーター、あるいはホエラーのような回転
塗布装置を用い、必要に応じてプライマー層組成物を塗
布し、100〜300℃数分間硬化した後、感光層組成
物を塗布、50〜150℃数分間乾燥及び必要に応じて
熱キュアし、その上にシリコーンガム組成物を塗布し、
50〜150℃で数分間熱処理してゴム硬化させて形成
する。しかる後に、必要に応じて保護フィルムをラミネ
ートする。
Next, a method for producing a waterless planographic printing plate precursor according to the present invention will be described. The primer layer composition is applied on the substrate using a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, or a Meyer bar coater, or a spin coater such as a wheyer as necessary, and cured at 100 to 300 ° C. for several minutes. After that, the photosensitive layer composition is applied, dried at 50 to 150 ° C. for several minutes and heat-cured if necessary, and the silicone gum composition is applied thereon,
Heat-treated at 50 to 150 ° C. for several minutes to cure the rubber and form. Thereafter, a protective film is laminated as necessary.

【0041】次に、本発明で言う水なし平版印刷版の露
光現像工程について説明する。本発明で言う水なし平版
印刷版は、真空密着されたポジフィルムまたはネガフィ
ルムを通じて、通常の露光光源により画像露光する。こ
の露光工程で用いられる光源としては、例えば高圧水銀
灯、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド
灯、蛍光灯などが挙げられる。このような通常の露光を
行った後、版面を下記に説明する現像液を含んだ現像パ
ットやブラシで擦ると、ポジティブワーキングの場合、
未露光部のシリコーンゴム層が除去されて感光層が露出
し、インキ受容部(画線部)が露出しポジ刷版となる。
ネガティブワーキングの場合、露光部のシリコーンゴム
層が除去されて感光層が露出し、インキ受容部(画線
部)が露出しネガ刷版となる。
Next, the step of exposing and developing a waterless planographic printing plate according to the present invention will be described. The waterless lithographic printing plate as referred to in the present invention is image-exposed through a vacuum-contacted positive film or negative film by a usual exposure light source. Examples of the light source used in the exposure step include a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, and the like. After performing such a normal exposure, when the plate surface is rubbed with a developing pad or brush containing a developing solution described below, in the case of positive working,
The unexposed portion of the silicone rubber layer is removed to expose the photosensitive layer, and the ink receiving portion (image portion) is exposed to form a positive printing plate.
In the case of negative working, the silicone rubber layer in the exposed area is removed, the photosensitive layer is exposed, and the ink receiving area (image area) is exposed to form a negative printing plate.

【0042】本発明で用いられる現像液としては、公知
のものが使用でき、感光層を適当に溶解もしくは膨潤さ
せるものが好ましい。例えば、脂肪族炭化水素類(ヘキ
サン、ヘプタン、“アイソパーE、HまたはG”(ES
SO(株)製イソパラフィン系炭化水素の商品名)、ガソ
リン、灯油等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレ
ン等)、ハロゲン化炭化水素類(トリクレン等)、アル
コール類(トリエチレングリコール、トリプロピレング
リコール、1,3−ブチレングリコール等)、エーテル
類(ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコール−2−エチルヘキシルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等)、ケトン類
(ジアセトンアルコール類等)、エステル類(ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート等)、カル
ボン酸類(2−エチルヘキサン酸等)等の少なくとも1
種類以上の混合溶媒が好ましく用いられる。
As the developer used in the present invention, a known developer can be used, and a developer which appropriately dissolves or swells the photosensitive layer is preferable. For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, “Isoper E, H or G” (ES
SO (trade name of isoparaffinic hydrocarbon), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (trichlene, etc.), alcohols (triethylene glycol, triethylene glycol, etc.) Propylene glycol, 1,3-butylene glycol, etc.), ethers (diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol-2-ethylhexyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, etc.), ketones (diacetone alcohols, etc.), esters (diethylene glycol monoethyl) Ether acetate) and carboxylic acids (such as 2-ethylhexanoic acid).
More than one kind of mixed solvent is preferably used.

【0043】また、上記の有機溶剤系現像液組成には水
を添加したり、公知の界面活性剤を添加することも自由
に行われる。また、更にアルカリ剤、例えば炭酸ナトリ
ウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等を添加するこ
ともできる。
Further, water or a known surfactant may be freely added to the above organic solvent-based developer composition. Further, an alkali agent, for example, sodium carbonate, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium borate and the like can be added.

【0044】また、これらの現像液にはクリスタルバイ
オレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッ
ド等公知の塩基性染料、酸性染料、湯溶性染料を添加し
て現像と同時に画線部の染色化を行うことができる。
To these developers, known basic dyes such as crystal violet, Victoria Pure Blue, and Astrazone Red, acid dyes, and water-soluble dyes are added, and the image area is dyed simultaneously with the development. Can be.

【0045】また、本発明に用いられる水なし平版印刷
版原版を現像する際には、例えば東レ(株)にて市販さ
れているような自動現像機を用い、上記の現像液で版面
を前処理した後に水道水などでシャワーしながら回転ブ
ラシで版面を擦ることによって、好適に現像することが
できる。また、上記の現像液に代えて、温水や水蒸気を
版面に噴霧することによっても現像が可能である。
When developing the waterless lithographic printing plate precursor used in the present invention, an automatic developing machine such as that commercially available from Toray Industries, Inc. is used, and the plate surface is foreground with the above developing solution. After the treatment, the plate surface can be suitably developed by rubbing the plate surface with a rotating brush while showering with tap water or the like. Further, development can also be performed by spraying hot water or water vapor on the plate surface instead of the above-mentioned developer.

【0046】[0046]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【0047】実施例1〜4 厚さ0.24mmの脱脂処理されたアルミニウム板(住友
軽金属(株)製)に下記組成よりなるプライマー液を塗
布した後230℃、1分間加熱乾燥し、厚さ3g/m2
のプライマー層を設けた。 (1)エポキシ/尿素樹脂 15重量部 (2)エチルセロソルブ 20重量部 (3)エチルセロソルブアセテート 20重量部 (4)ジメチルホルムアミド 45重量部
Examples 1-4 A primer solution having the following composition was applied to a degreased aluminum plate (manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) having a thickness of 0.24 mm, and then heated and dried at 230 ° C. for 1 minute. 3 g / m 2
Was provided. (1) 15 parts by weight of epoxy / urea resin (2) 20 parts by weight of ethyl cellosolve (3) 20 parts by weight of ethyl cellosolve acetate (4) 45 parts by weight of dimethylformamide

【0048】次にこのプライマー層上に、下記の組成を
有する光重合性感光液を塗布した後100℃、1分間加
熱乾燥し、厚さ4g/m2の感光層を設けた。 (1)アジピン酸とポリエチレングリコールからなるポリエステルポリオール とイソホロンジイソシアネートとからなるポリウレタン 60重量部 (2)N,N,N’−テトラ−(2−ヒドロキシ−3−メタアクリロイルオキ シプロピル)m−キシレンジアミン 20重量部 (3)表1に示すモノマー 10重量部 (4)4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン 4重量部 (5)N−メチルアクリドン 5重量部 (6)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルホン酸塩 0.5重量部 (7)エチルセロソルブ 580重量部
Next, a photopolymerizable photosensitive solution having the following composition was applied on the primer layer, and dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer having a thickness of 4 g / m 2 . (1) Polyurethane composed of a polyester polyol composed of adipic acid and polyethylene glycol and isophorone diisocyanate 60 parts by weight (2) N, N, N'-tetra- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) m-xylene diamine 20 parts by weight (3) Monomers shown in Table 1 10 parts by weight (4) 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone 4 parts by weight (5) N-methylacridone 5 parts by weight (6) Victoria Pure Blue BOH naphthalene Sulfonate 0.5 parts by weight (7) Ethyl cellosolve 580 parts by weight

【0049】続いて、この感光層上に下記の組成を有す
るシリコーンゴム溶液を塗布した後120℃、2分間加
熱乾燥し、厚さ2g/m2のシリコーンゴム層を設け
た。 (1)両末端シラノールジメチルポリシロキサン (重量平均分子量100,000) 100重量部 (2)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (3)ジブチル錫ジアセテート 0.01重量部 (4)“アイソパーE” 750重量部 (ESSO(株)製イソパラフィン系炭化水素)
Subsequently, a silicone rubber solution having the following composition was applied on the photosensitive layer, and dried by heating at 120 ° C. for 2 minutes to form a silicone rubber layer having a thickness of 2 g / m 2 . (1) Silanol dimethyl polysiloxane at both ends (weight average molecular weight 100,000) 100 parts by weight (2) Ethyltriacetoxysilane 12 parts by weight (3) Dibutyltin diacetate 0.01 part by weight (4) "Isopar E" 750 Parts by weight (isoparaffin hydrocarbons manufactured by ESSO)

【0050】上記のように作製した版に、厚さ12μm
の片面マット化二軸延伸ポリプロピレンフィルムをマッ
ト化されてない面がシリコーンゴム層と接するようにし
てカレンダーローラーを用いてラミネートして保護フィ
ルムとし、ポジ型の水なし平版印刷版原版を得た。
The plate prepared as described above has a thickness of 12 μm.
The biaxially stretched polypropylene film having a matte surface on one side was laminated with a calender roller so that the non-matted surface was in contact with the silicone rubber layer to form a protective film, thereby obtaining a positive waterless planographic printing plate precursor.

【0051】これらの水なし平版印刷版原版を3kWの
超高圧水銀灯(オーク製作所製)を用い、焼き枠温度を
15℃または30℃で、150線/インチで2%から9
8%の網点を有するグラデーションポジフィルムと光学
濃度差0.15であるグレースケール(G/S)を90
秒間密着露光後、版から保護フィルムを剥離し、自動現
像機(TWL−1160、東レ(株)製)で搬送速度6
0cm/minで現像を行い刷版とした。このようにして得
られた刷版をオフセット印刷機(小森スプリント4色
機)に取り付け、大日本インキ化学工業(株)製“ドラ
イオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用いて上質紙(6
2.5Kg/菊)にて印刷し、印刷物の画像および15℃画
像評価版による耐刷力を評価した。結果は表2に示す。
表中のGSの評価方法としては、GS8段のところまで
シリコーンゴム層が残存していたら8.0とする。少数
点以下については、その面積、濃度を10段階で評価し
た。
These waterless planographic printing plate precursors were used at a temperature of 15 ° C. or 30 ° C. with a 3 kW ultra-high pressure mercury lamp (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) at 150 lines / inch at 2% to 9%.
A gradation positive film having an 8% halftone dot and a gray scale (G / S) having an optical density difference of 0.15 by 90
After contact exposure for 2 seconds, the protective film was peeled off from the plate, and transported at an automatic developing machine (TWL-1160, manufactured by Toray Industries, Inc.) at a transfer speed of 6
Development was performed at 0 cm / min to obtain a printing plate. The printing plate obtained in this way is mounted on an offset printing press (Komori Sprint 4-color press), and high quality paper is made using "Dryocolor" ink, indigo, red, and yellow ink manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (6
2.5 Kg / chrysanthemum), and the printing durability of the printed image and the 15 ° C. image evaluation plate was evaluated. The results are shown in Table 2.
The GS evaluation method in the table is set to 8.0 if the silicone rubber layer remains up to the GS8 stage. With respect to decimal points and below, the area and concentration were evaluated on a 10-point scale.

【0052】実施例5〜8 実施例1において、感光層組成を下記組成に変更し、感
光層を形成した他は実施例1と同様の方法で水なし平版
印刷版原版を作製し、同様の方法で露光、現像して画像
評価を行った。結果は表2に示す。
Examples 5 to 8 In Example 1, a waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the photosensitive layer was changed to the following composition, and the photosensitive layer was formed. Exposure and development were performed according to the method, and image evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

【0053】プライマー層上に、下記の組成を有する光
重合性感光液を塗布した後、100℃で1分間加熱乾燥
し、厚さ4g/m2の感光層を設けた。 (1)アジピン酸とポリエチレングリコールからなるポリエステルポリオール とイソホロンジイソシアネートとからなるポリウレタン 60重量部 (2)1,2,4,6−テトラ(ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロ ピルオキシ)−3,5−ジヒドロキシヘキサン 20重量部 (3)表1に示すモノマー 10重量部 (4)4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン 4重量部 (5)N−メチルアクリドン 5重量部 (6)ビクトリアピュアブルーBOHナフタレンスルホン酸塩 0.5重量部 (7)エチルセロソルブ 580重量部
A photopolymerizable photosensitive solution having the following composition was coated on the primer layer, and dried by heating at 100 ° C. for 1 minute to form a photosensitive layer having a thickness of 4 g / m 2 . (1) Polyurethane composed of polyester polyol composed of adipic acid and polyethylene glycol and isophorone diisocyanate 60 parts by weight (2) 1,2,4,6-tetra (hydroxy-3-methacryloyloxypropyloxy) -3,5-dihydroxy Hexane 20 parts by weight (3) Monomers shown in Table 1 10 parts by weight (4) 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone 4 parts by weight (5) N-methylacridone 5 parts by weight (6) Victoria Pure Blue BOH 0.5 parts by weight of naphthalene sulfonate (7) 580 parts by weight of ethyl cellosolve

【0054】比較例1 実施例1において、感光層組成物中の(3)のモノマー
を下記のモノマーに変更し、感光層を形成した他は実施
例1と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作製し、同
様の方法で露光、現像して耐刷力および画像評価を行っ
た。結果は表2に示す。 (3)ライトアクリレート(共栄社化学(株)製“9E
G−A”)
Comparative Example 1 A waterless lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the monomer (3) in the photosensitive layer composition was changed to the following monomer, and a photosensitive layer was formed. An original plate was prepared, exposed and developed in the same manner, and the printing durability and image evaluation were performed. The results are shown in Table 2. (3) Light acrylate (“9E” manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
GA ”)

【0055】比較例2 実施例5において、感光層組成物中の(3)のモノマー
を下記のモノマーに変更し、感光層を形成した他は実施
例5と同様の方法で水なし平版印刷版原版を作製し、同
様の方法で露光、現像して画像評価を行った。結果は表
2に示す。 (3) CH2=C(H)-CO-O-(CH2CH2O)7.5-(CH2CH(CH3)-O)17-(CH2CH
2O)7.5-CO-C(H)=CH2 (日本油脂(株)製“ブレンマー”30ADC-1700B)
Comparative Example 2 A waterless lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 5 except that the monomer (3) in the photosensitive layer composition was changed to the following monomer, and a photosensitive layer was formed. An original plate was prepared, exposed and developed by the same method, and image evaluation was performed. The results are shown in Table 2. (3) CH 2 = C ( H) -CO-O- (CH 2 CH 2 O) 7.5- (CH 2 CH (CH 3) -O) 17 - (CH 2 CH
2 O) 7.5 -CO-C (H) = CH 2 ("Blemmer" 30ADC-1700B manufactured by NOF Corporation)

【0056】実施例9 実施例1において、シリコーンガム組成を下記組成に変
更してシリコーンゴム層を形成した他は実施例1と同様
の方法で水なし平版印刷版原版を作製し、同様の方法で
露光、現像して耐刷力および画像評価を行った。結果は
表2に示す。
Example 9 A waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the silicone gum composition was changed to the following composition to form a silicone rubber layer. Exposure and development were performed to evaluate the printing durability and image quality. The results are shown in Table 2.

【0057】感光層上に下記の組成を有するシリコーン
ゴム液を塗布した後135℃、2分間加熱乾燥し、厚さ
2g/m2のシリコーンゴム層を設けた。 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約800) 10重量部 (2)(CH3)3-Si-O-(Si(CH3)2-O)30-(SiH(CH3)-O)10-Si-(CH3)3 1.2重量部 (3)ポリジメチルシロキサン(重合度約8000) 0.6重量部 (4)オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 (5)抑制剤 0.3重量部 (6)“アイソパーE” 150重量部 (ESSO(株)製イソパラフィン系炭化水素)
A silicone rubber solution having the following composition was coated on the photosensitive layer, and dried by heating at 135 ° C. for 2 minutes to provide a silicone rubber layer having a thickness of 2 g / m 2 . (1) 10 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 800) (2) (CH 3 ) 3 -Si-O- (Si (CH 3 ) 2 -O) 30- (SiH (CH 3 ) -O) 10 -Si- (CH 3 ) 3 1.2 parts by weight (3) 0.6 parts by weight of polydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 8000) (4) 0.2 parts by weight of olefin-chloroplatinic acid (5 parts by weight) ) Inhibitor 0.3 parts by weight (6) "Isopar E" 150 parts by weight (isoparaffinic hydrocarbon manufactured by ESSO)

【0058】実施例10実施例5において、シリコーン
ガム組成を下記組成に変更してシリコーンゴム層を形成
した他は実施例5と同様の方法で水なし平版印刷版原版
を作製し、同様の方法で露光、現像して耐刷力および画
像評価を行った。結果は表2に示す。
Example 10 A waterless planographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 5 except that the silicone gum composition was changed to the following composition to form a silicone rubber layer. Exposure and development were performed to evaluate the printing durability and image quality. The results are shown in Table 2.

【0059】感光層上に下記の組成を有するシリコーン
ゴム液を塗布した後135℃、2分間加熱乾燥し、厚さ
2g/m2のシリコーンゴム層を設けた。 (1)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(重合度約800) 10重量部 (2)(CH3)3-Si-O-(Si(CH3)2-O)30-(SiH(CH3)-O)10-Si-(CH3)3 1.2重量部 (3)ポリジメチルシロキサン(重合度約8000) 0.6重量部 (4)オレフィン−塩化白金酸 0.2重量部 (5)抑制剤 0.3重量部 (6)“アイソパーE” 150重量部 (ESSO(株)製イソパラフィン系炭化水素)
A silicone rubber solution having the following composition was coated on the photosensitive layer, and dried by heating at 135 ° C. for 2 minutes to provide a silicone rubber layer having a thickness of 2 g / m 2 . (1) 10 parts by weight of α, ω-divinylpolydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 800) (2) (CH 3 ) 3 -Si-O- (Si (CH 3 ) 2 -O) 30- (SiH (CH 3 ) -O) 10 -Si- (CH 3 ) 3 1.2 parts by weight (3) 0.6 parts by weight of polydimethylsiloxane (degree of polymerization: about 8000) (4) 0.2 parts by weight of olefin-chloroplatinic acid (5 parts by weight) ) Inhibitor 0.3 parts by weight (6) "Isopar E" 150 parts by weight (isoparaffinic hydrocarbon manufactured by ESSO)

【表1】 [Table 1]

【化5】 Embedded image

【表2】 感光層に、実施例1〜10の本発明のモノマーを含有し
ている版は、画像再現性、特に低温(15℃)での画像
再現性が良好であることがわかる。付加架橋反応型シリ
コーンゴム層を用いても上記効果が認められた。(実施
例9、10)
[Table 2] It can be seen that the plates containing the monomers of Examples 1 to 10 of the present invention in the photosensitive layer have good image reproducibility, especially at low temperatures (15 ° C.). The above effect was observed even when the addition-crosslinking reaction type silicone rubber layer was used. (Examples 9 and 10)

【0060】[0060]

【発明の効果】本発明によると、従来の水なし平版印刷
版原版の長所を損なうことなく、低温時など、いかなる
条件のもとででも優れた画像再現性と耐刷性を有する、
水なし平版印刷版原版を提供することが出来る。
According to the present invention, excellent image reproducibility and printing durability can be obtained under any conditions, such as at low temperatures, without impairing the advantages of conventional waterless planographic printing plate precursors.
We can provide waterless planographic printing plate precursors.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA04 AA12 AB04 AC01 AD01 AD03 BC65 CA01 CB22 FA15 2H096 AA13 BA05 BA20 EA02 GA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H025 AA04 AA12 AB04 AC01 AD01 AD03 BC65 CA01 CB22 FA15 2H096 AA13 BA05 BA20 EA02 GA03

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板、感光層、およびシリコーンゴム層を
この順に積層してなり、該感光層が次の(A)、
(B)、(C)の3成分を含むことを特徴とする水なし
平版印刷版原版。 (A)下記一般式(I)で表される少なくとも1種のモ
ノマー、 CH2=C(R)-CO-O-(CH2CH2O)l-(CH2CH(CH3)-O)m-(CH2CH2O)n-CO-C(R)=CH2 (I) (式中、Rは水素原子またはメチル基であり、同じであ
っても異なっていても良い。mは3〜12、l、nは1
〜5の実数であり、同じであっても異なっていても良
い。5<(l+m+n)<16であり、m>l+nであ
る。) (B)光重合開始剤 (C)フィルム形成能を有する高分子化合物
1. A method comprising: laminating a substrate, a photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order;
A waterless planographic printing plate precursor comprising the three components (B) and (C). (A) at least one monomer represented by the following general formula (I): CH 2 CC (R) —CO—O— (CH 2 CH 2 O) l- (CH 2 CH (CH 3 ) —O ) in m- (CH 2 CH 2 O) n-CO-C (R) = CH 2 (I) ( wherein, R represents a hydrogen atom or a methyl group, may be different even in the same .m Is 3 to 12, l and n are 1
55, which may be the same or different. 5 <(l + m + n) <16, and m> l + n. (B) Photopolymerization initiator (C) Polymer compound having film forming ability
JP21144098A 1998-07-27 1998-07-27 Waterless planographic printing plate precursor Expired - Fee Related JP3876540B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21144098A JP3876540B2 (en) 1998-07-27 1998-07-27 Waterless planographic printing plate precursor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21144098A JP3876540B2 (en) 1998-07-27 1998-07-27 Waterless planographic printing plate precursor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000047377A true JP2000047377A (en) 2000-02-18
JP3876540B2 JP3876540B2 (en) 2007-01-31

Family

ID=16606001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21144098A Expired - Fee Related JP3876540B2 (en) 1998-07-27 1998-07-27 Waterless planographic printing plate precursor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3876540B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016527532A (en) * 2013-08-07 2016-09-08 コーロン インダストリーズ インク Photosensitive resin composition for dry film photoresist

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016527532A (en) * 2013-08-07 2016-09-08 コーロン インダストリーズ インク Photosensitive resin composition for dry film photoresist

Also Published As

Publication number Publication date
JP3876540B2 (en) 2007-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01237663A (en) Damping waterless photosensitive planographic printing plate
JP2577630B2 (en) No fountain solution photosensitive lithographic printing plate
JPS6154222B2 (en)
JP2739387B2 (en) Waterless lithographic printing plate and plate making method
EP0763780B1 (en) Lithographic printing plate requiring no fountain solution
JP3322493B2 (en) No fountain solution photosensitive lithographic printing plate
JPH02226249A (en) Damping waterless photosensitive planographic printing plate
JP2532302B2 (en) No dampening water required Photosensitive lithographic printing plate
JP3290313B2 (en) Photosensitive lithographic printing plate not requiring dampening solution and plate making method
JP3876540B2 (en) Waterless planographic printing plate precursor
JP2577658B2 (en) No fountain solution photosensitive lithographic printing plate
JPH0468353A (en) Dampening waterless photosensitive planographic printing plate
JP3601727B2 (en) Method for producing photosensitive lithographic printing plate requiring no dampening solution
JPH0882922A (en) Original plate of waterless planographic printing plate
JPH04338954A (en) Dampening-free photosensitive planographic printing plate
JP2516053B2 (en) No dampening water required Photosensitive lithographic printing plate
JPH01214839A (en) Photosensitive lithographic plate free from damping water
JPS62111254A (en) Dry photosensitive lithographic plate
JPH07219229A (en) Waterless planographic printing master plate
JP3414065B2 (en) Waterless lithographic printing plate precursor
JPH0565867B2 (en)
JPH02242255A (en) Planographic original plate requiring no dampening water
JPH05281714A (en) Damping waterless photosensitive planographic form plate
JPH0667411A (en) Waterless photosensitive planographic printing plate
JPH01179047A (en) Damping waterless photosensitive planographic master plate

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040308

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061010

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061023

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees