JP2000046737A - ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法 - Google Patents

ガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法

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JP2000046737A
JP2000046737A JP10213982A JP21398298A JP2000046737A JP 2000046737 A JP2000046737 A JP 2000046737A JP 10213982 A JP10213982 A JP 10213982A JP 21398298 A JP21398298 A JP 21398298A JP 2000046737 A JP2000046737 A JP 2000046737A
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chamber
light beam
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reflected light
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English (en)
Inventor
Kiyomitsu Kitana
清光 北名
Noriaki Kodama
法明 児玉
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TAIHEIYO KOUHATSU KK
TAIHEIYO SEKITAN HANBAI YUSO KK
Taiheiyo Coal Mining Co Ltd
Original Assignee
TAIHEIYO KOUHATSU KK
TAIHEIYO SEKITAN HANBAI YUSO KK
Taiheiyo Coal Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な構造で、かつ単一の装置でありなが
ら、被測定ガスが高濃度であっても、低濃度であっても
測定することができるガス濃度測定装置を提供する。 【解決手段】 本発明のガス濃度測定装置10は、平行
平面鏡13により、光源12から供給された光線を第1
反射光線a’1、第2反射光線a’2及び第3反射光線
a’3の3つに分離すると共に、このうちの一つの反射
光線a’3が標準ガス室15aのみを通過し、他の反射
光線a’1,a’2が被測定ガス室15bを通過し得る
ように設けている。従って、2つの合成光線h’1,
h’2を生成して2つの干渉縞を生じさせることがで
き、被測定ガスが高濃度の場合には一方の干渉縞から濃
度を特定し、低濃度の場合には他方の干渉縞から濃度を
特定できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は干渉計型のガス濃度
測定装置及びガス濃度測定方法に関し、特に、高濃度の
被測定ガスと低濃度の被測定ガスを一つの装置で測定す
ることができるガス濃度測定装置及びガス濃度測定方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】干渉計型のガス濃度測定装置としては、
図4に示すようなものが一般に知られている。すなわ
ち、光源100と、光源100からの光線を表面での反
射光線rと裏面での反射光線sとに分離し、入射方向に
対して略直交する方向に反射させる平行平面鏡101
と、この平行平面鏡101に対して略45度の角度で対
面するように、かつ2つの反射光線の通過経路中に配置
される測定用チャンバー102と、測定用チャンバー1
02の後方に配置され、測定用チャンバー102を通過
した光線を略180度反射させて再度測定用チャンバー
102を通過させるプリズム103とを有して構成され
ている。
【0003】より具体的には、測定用チャンバー102
は、2つの光学ガラス102a,102bに挟まれてい
ると共に、略平行に配置された3つの室を有し、両側の
室が標準ガス室102c,102dとして機能し、中央
の室が被測定ガス室102eとして機能する構成であ
り、さらに、被測定ガス室102eには、被測定ガス導
出入口102fが設けられている。
【0004】また、図4の例では、平行平面鏡101の
表面で反射された一方の反射光線rは、まず一方の標準
ガス室102cを通過し、プリズム103により反射さ
れて他方の標準ガス室102dを通過する。また、平行
平面鏡101の裏面で反射された他方の反射光線sは、
被測定ガス室102eを通過してプリズム103で反射
され再度被測定ガス室102eを通過する。この2つの
通過光は、次に、平行平面鏡101で反射され合成され
る。このため、2つの通過光は、平行平面鏡101の表
面で干渉を起こし、干渉縞を作る。また、被測定ガス室
102eを通過した反射光線sは、ガス濃度に比例して
遅れて平行平面鏡101の表面に到達するため、干渉縞
はガス濃度に比例して移動する。
【0005】そして、受光素子104を用いる場合は、
この移動量を合成光線tの強度Iとして捉え、この強度
Iからガス濃度を検知している。このとき2つの通過光
の実効光路差dLは、測定用チャンバー102の2つの
光学ガラス102a,102b間の距離をL、標準ガス
及び被測定ガスの屈折率をそれぞれεp,εqとする
と、 dL=2L(εp−εq) で求められる。
【0006】そして、この光路差dLと合成光線tの強
度Iとの間には、該合成光線tの波長をλとすると、図
5のような関係にある。従って、強度Iを測定すること
により光路差dLと屈折率εqを知ることができ、これ
によって被測定ガスの濃度が求められる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5か
ら明らかなように、光路差dLが大きいと、同じ光線強
度Iに対し、2つ以上の光路差の値が対応し、光路差d
Lを特定することができない。このため、光路差dLの
範囲rは、図5においてリニアな出力が得られる範囲、
すなわち、光の波長λの約8分の1程度以下に選定する
必要がある。従って、測定濃度範囲を広くするために
は、測定用チャンバー102の2つの光学ガラス102
a,102b間の距離Lを小さくしなければならない。
その一方、測定ガス濃度が低濃度の場合には、測定用チ
ャンバー102の2つの光学ガラス102a,102b
間の距離Lが小さすぎては、上記式より、正確な濃度を
求めることができない。このため、従来、測定ガスの正
しい濃度を知るためには、高濃度用(測定濃度範囲の広
いもの)と低濃度用の測定装置の両方を必要としてい
た。また、測定用チャンバーの長さの短い高濃度用のも
のは、一般に製作が困難であると共に、コストも高い。
【0008】一方、実公昭51−38799号公報に示
されているように、1つのケーシング内に長さの異なる
2つの測定用チャンバーを配設し、高濃度、低濃度のい
ずれにも対応できるものもある。しかしながら、これ
は、測定用チャンバーのそれぞれに対応して平行平面
鏡、光源等を必要とするものであり、実質的には2つの
装置を1つケーシング内に納めただけ、すなわち、見か
け上、単一の装置という形態をとっているに過ぎないも
のである。従って、ケーシング内の構造が複雑であるば
かりか、装置も大型にならざるを得ないという問題があ
る。
【0009】本発明は上記した点に鑑みなされたもので
あり、簡易な構造で、かつ単一の装置でありながら、被
測定ガスが高濃度であっても、低濃度であっても測定す
ることができるガス濃度測定装置を提供することを課題
とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明者が鋭意検討した結果、光源からの光を平行
平面鏡により3つの反射光線に分離すれば、被測定ガス
が高濃度でも低濃度でも、1つの装置で正確に測定でき
ることを見いだし、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、請求項1記載の本発明のガス濃度測定装置は、標準
ガス室と被測定ガス室とに区分された測定用チャンバー
と、光源からの光線を分離して標準ガス室と被測定ガス
室に供給し得る第1の平行平面鏡と、標準ガス室と被測
定ガス室を通過した光線を合成し、干渉縞を生じさせる
第2の平行平面鏡とを有する干渉計型のガス濃度測定装
置において、前記第1の平行平面鏡が、光源からの光線
を、表面で反射して測定用チャンバーに入射する第1反
射光線と裏面で反射して測定用チャンバーに入射する第
2反射光線とに分離可能であると共に、該裏面で反射し
た後表面を通過せずに該表面で再反射した光線を、再度
裏面で反射させてから測定用チャンバーに第3反射光線
として入射させることができる大きさを有し、前記第2
の平行平面鏡が、第1反射光線と第2反射光線とを合成
して第1の干渉縞を生じさせることができると共に、第
2反射光線と第3反射光線とを合成して第2の干渉縞を
生じさせることができる大きさを有し、前記第1反射光
線、第2反射光線及び第3反射光線のうちの一つの反射
光線が標準ガス室のみを通過し、他の反射光線が被測定
ガス室を通過し得るように設けられていることを特徴と
する。請求項2記載の本発明のガス濃度測定装置は、請
求項1記載のガス濃度測定装置であって、前記第1及び
第2の平行平面鏡に代えて、該第1及び第2の平行平面
鏡の機能を兼用する一の平行平面鏡が、測定用チャンバ
ーの一方側に配設され、測定用チャンバーの他方側に直
角反射プリズムが配設されていることを特徴とする。請
求項3記載の本発明のガス濃度測定装置は、請求項1又
は2記載のガス濃度測定装置であって、前記測定用チャ
ンバーが、被測定ガス室を通過する2つの光線の通過距
離に差が生じるような形状に形成されていることを特徴
とする。請求項4記載の本発明のガス濃度測定装置は、
請求項3記載のガス濃度測定装置であって、前記測定用
チャンバーにおける被測定ガス室の縦断面形状が、台形
状であることを特徴とする。請求項5記載の本発明のガ
ス濃度測定装置は、請求項4記載のガス濃度測定装置で
あって、前記測定用チャンバーの被測定ガス室と標準ガ
ス室とを合わせた縦断面形状が、台形状であることを特
徴とする。請求項6記載の本発明のガス濃度測定装置
は、請求項1又は2記載のガス濃度測定装置であって、
前記測定用チャンバーが、直列に配置される一方、それ
ぞれに被測定ガス室と標準ガス室とを有すると共に、直
列に配置しても被測定ガス室相互は直列の位置関係とな
らないように設けられた長さの異なる2つのチャンバー
から構成され、前記第1反射光線と第3反射光線のうち
のいずれか一方の反射光線が、2つのチャンバーのうち
のいずれか一方の被測定ガス室を通過し、他方の反射光
線が他方の被測定ガス室を通過すると共に、前記第2反
射光線がいずれのチャンバーにおいても標準ガス室を通
過するように設けられていることを特徴とする。請求項
7記載の本発明のガス濃度測定方法は、被測定ガスが充
填される被測定ガス室と標準ガスが充填される標準ガス
室とを備えた測定用チャンバーに対し、光源からの光線
を平行平面鏡で反射させることにより分離して入射させ
た後、分離された反射光線を再度合成して干渉縞を生じ
させることにより被測定ガスの濃度を測定するガス濃度
測定方法において、前記平行平面鏡により3つの反射光
線に分離し、2つの干渉縞を生じさせ、被測定ガスが高
濃度の場合には一方の干渉縞に基づいてガス濃度を測定
し、被測定ガスが低濃度の場合には他方の干渉縞に基づ
いてガス濃度を測定することを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面に示した実施の形態に
基づき本発明をさらに詳細に説明する。図1は、本発明
の第1の実施の形態にかかるガス濃度測定装置1を示す
概念図であり、光源2、第1の平行平面鏡3、第2の平
行平面鏡4、測定用チャンバー5、受光素子6等を有し
て構成されている。なお、これらの部材は、全て図示し
ないケーシング内に収容されていると共に、炭坑などで
用いるものの場合には、防爆対策も施されている。
【0012】光源2としては、従来用いられている発光
ダイオード等が利用されるが、必要に応じて光源2の前
面には、集光レンズ(図示せず)を配設することもでき
る。この場合、さらに、光源2と第1の平行平面鏡3と
の間の適宜位置に細いスリットを有する部材(図示せ
ず)を配置し、このスリットを通過させる構成とするこ
ともできる。
【0013】第1の平行平面鏡3は、光源2から供給さ
れた光線aを略直交する方向に反射供給するために配設
され、光源2からの光線aに対して略45度傾斜させて
配置される。その結果、第1の平行平面鏡3と、後述の
測定用チャンバー5の前面に配置される光学ガラス5d
とは、略45度の角度で対面する位置関係となる。第1
の平行平面鏡3はまた、光源2からの光線aを、表面で
反射させた第1反射光線a1と裏面で反射させた第2反
射光線a2とに分離し得るだけでなく、第2反射光線a
2となって測定用チャンバー5に入射せずに、表面で再
反射された光線を、再度裏面で反射させて、第3反射光
線a3として分離することができるだけの大きさを有し
ている。つまり、第1の平行平面鏡3は、光源2からの
光線aを従来のように2つの反射光線に分離し得るだけ
の大きさを有しているのではなく、3つの反射光線に分
離し得る大きさを有している。
【0014】一方、第2の平行平面鏡4は、後述の測定
用チャンバー5を挟んで上記第1の平行平面鏡3と平行
に配設される。第2の平行平面鏡4は、上記した第1反
射光線a1と第2反射光線a2とを合成して第1合成光
線h1とし、第1の干渉縞を生じさせ、第2反射光線a
2と第3反射光線a3とを合成して第2合成光線h2と
し、第2の干渉縞を生じさせることができる大きさを有
している。つまり、従来のように、分離した2つの反射
光線を合成して1つの合成光線を得るだけの大きさを有
しているのではなく、分離した3つの反射光線を合成し
て2つの合成光線を得ることができる大きさを有してい
る。
【0015】測定用チャンバー5は、上記した第1の平
行平面鏡3と第2の平行平面鏡4との間に配設され、標
準ガス室5aと被測定ガス室5bとが隔壁5cを隔て
て、図上、上下に形成されている。測定用チャンバー5
は、上記した3つの反射光線a1,a2,a3のうちの
いずれか1つの反射光線が、標準ガス室5aのみを通過
し、他の2つの反射光線が被測定ガス室5bを通過し得
るように設けられていればよい。本実施の形態では、図
1に示したように、測定用チャンバー5を、その縦断面
(垂直方向断面)形状が台形となるように形成し、第3
反射光線a3が標準ガス室5aを通過し、第1及び第2
反射光線a1,a2が被測定ガス室5bを通過し得るよ
うに設けている。但し、台形といっても、第1の平行平
面鏡3に対面する端面に配設される光学ガラス5dが、
第1の平行平面鏡3と略45度の角度で対面するよう
に、すなわち、標準ガス室5aの底辺及び被測定ガス室
5bの上辺に対して直角となるように設けられる一方、
標準ガス室5aの底辺より被測定ガス室5bの上辺が短
くなるように形成された形状である。従って、第2の平
行平面鏡4に対面する端面に配設される光学ガラス5e
は、被測定ガス室5bの上辺に対応する位置から標準ガ
ス室5aの底辺に対応する位置に向かうに従って広がる
ように傾斜して設けられることになる。もちろん、光学
ガラス5d,5eの傾斜が逆の関係となる台形とするこ
とも可能である。なお、図示しないが、標準ガス室5a
と被測定ガス室5bのそれぞれには、各ガスを導入する
ための導入孔が設けられている。
【0016】本実施の形態にかかるガス濃度測定装置1
によれば、光源2から供給された光線aは、上記したよ
うに、第1の平行平面鏡3で反射されてa1〜a3の3
つの反射光線に分離されると共に、第1反射光線a1と
第2反射光線a2は被測定ガス室5bを通過し、第3反
射光線a3は標準ガス室5aを通過する。そして、第2
の平行平面鏡4で反射されて、第1反射光線a1と第2
反射光線a2とにより、第1合成光線h1が生じ、第1
反射光線a1と第2反射光線a2との実効光路差dLに
より第1の干渉縞が生じる。
【0017】すなわち、第1反射光線a1の被測定ガス
室5b内の通過距離をLとすると、第2反射光線a2の
被測定ガス室5b内の通過距離はL+ΔLとなる。従っ
て、共通するL分を差し引くと、第2反射光線a2はΔ
L分長く被測定ガス室a2を通過する。一方、ケーシン
グ内における測定用チャンバー5外の雰囲気は、標準ガ
ス室5aとほぼ同じ雰囲気であるため、第1反射光線a
1はΔL分長く標準ガス雰囲気を通過するとみなせる。
従って、両者の実効光路差dLは、標準ガス雰囲気中の
光の屈折率をεp、被測定ガス雰囲気中の光の屈折率を
εqとすると、dL=ΔL(εp−εq)で示される。
【0018】第1合成光線h1の強度Iと光路差dLと
の間には、図5に示したような関係があることより、受
光素子6によって強度Iを測定すれば、dLが求まり、
かつ上記式から被測定ガスの屈折率εqが求められ、該
屈折率εqから被測定ガスの濃度が求まることは従来と
同様である。しかしながら、本実施の形態によれば、上
記式より、ΔLがきわめて小さく、dLの値も小さいこ
とから、光線強度Iに対応するdLの値が1つに特定で
きる。つまり、本実施の形態によれば、被測定ガス室5
aの実際の大きさは低濃度ガスの測定に使用するのに十
分な大きさを有しているにも拘わらず、比較対象となる
第1反射光線a1と第2反射光線a2との間において実
効光路差を生じさせる実質的な被測定ガス雰囲気の通過
距離はΔLである。従って、従来、高濃度までカバーす
る広範囲の濃度を測定するための長さの短い測定用チャ
ンバーは、上記したように、製作することが困難でまた
高コストであったが、本実施の形態によれば、低濃度ガ
スの測定に使用するのに十分な大きさでありながら、実
質的には長さの短い測定用チャンバーを提供することが
できる。しかも、第2の平行平面鏡4に対面する端面に
配設される光学ガラス5eの傾斜角度の調整により、Δ
Lの長さ調整が可能であり、0〜100%の範囲の濃度
設定が可能である。
【0019】ΔLが十分短いことより、上記のように、
合成光線h1の強度から、高濃度までカバーした濃度測
定が可能であるが、被測定ガスが低濃度の場合には、正
確な測定ができなくなる。従って、被測定ガスが低濃度
の場合には、合成光線h2によって生じた第2の干渉縞
から濃度を測定する。すなわち、合成光線h2は、被測
定ガス室5bを通過した第2反射光線a2と標準ガス室
5aを通過した第3反射光線a3が、第2の平行平面鏡
4で反射されて生じ、第2反射光線a2と第3反射光線
a3との実効光路差dLにより第2の干渉縞が生じる。
【0020】すなわち、第2反射光線a2の被測定ガス
室5b内の通過距離をL+ΔLとすると、第3反射光線
a3の標準ガス室5a内の通過距離はL+2ΔLとな
り、測定用チャンバー5内の通過距離は、第3反射光線
a3のほうがΔL分長くなる。但し、ケーシング内にお
ける測定用チャンバー5外の雰囲気は、標準ガス室5a
とほぼ同じ雰囲気であるため、実効光路差dLの算出に
当たっては、第3反射光線a3の標準ガス室5aの通過
距離からΔL分差し引いて比較することができる。従っ
て、第2反射光線a2と第3反射光線a3の実効光路差
dLは、dL=(L+ΔL)・(εp−εq)で示され
る。
【0021】そして、上記と同様にして第2合成光線h
2の強度Iを測定することにより、被測定ガスの屈折率
εqが求められ、該屈折率εqから被測定ガスの濃度が
求められるが、この際には、被測定ガス室5bの長さを
全て利用しているため、低濃度ガスの濃度を正確に測定
することができる。
【0022】次に、本発明の第2の実施の形態にかかる
ガス濃度測定装置10を図2に基づき説明する。本実施
の形態においては、第1の実施の形態における第1の平
行平面鏡3と同じ位置に、該第1の平行平面鏡3と第2
の平行平面鏡4の機能を兼用する平行平面鏡13を1つ
配設し、測定用チャンバー15を挟んで、直角反射プリ
ズム17を対峙させている。また、この平行平面鏡13
は、光源12からの光線a’を3つの反射光線に分離し
得ると共に、直角反射プリズム17に反射された3つの
反射光線を2つの合成光線として合成し得る大きさを有
している。その他の構成は、上記した第1の実施の形態
で示したものと同様である。
【0023】従って、本実施の形態にかかるガス濃度測
定装置10によれば、光源12からの光線a’は、平行
平面鏡13で反射されて、第1反射光線a’1、第2反
射光線a’2、第3反射光線a’3に分離され、測定用
チャンバー15に入射される。このうち、第1反射光線
a’1と第2反射光線a’2は、被測定ガス室15bに
入射され、第3反射光線a’3は標準ガス室15aに入
射される。各反射光線a’1〜a’3が測定用チャンバ
ー15を通過すると、直角反射プリズム17の一方の斜
面17aで直角方向に反射された後、さらに他方の斜面
17bで直角方向に反射されるため、各反射光線a’1
〜a’3は、再度測定用チャンバー15に入射する。な
お、測定用チャンバー15は、このとき、全ての反射光
線a’1〜a’3が標準ガス室15aに入射されるよう
に、すなわち、被測定ガス室15bについては、平行平
面鏡13で反射された第1反射光線a’1と第2反射光
線a’2が直角反射プリズム17方向に向かうときのみ
通過するように設けられている。
【0024】測定用チャンバー15を直角反射プリズム
17側から平行平面鏡13側に向かって通過した第1反
射光線a’1と第2反射光線a’2は、平行平面鏡13
で反射されて、第1の干渉縞を生じさせる第1合成光線
h’1となる。また、第2反射光線a’2のうち、平行
平面鏡13の裏面で反射された光線は、さらに平行平面
鏡13の表面と裏面で反射されて第3反射光線a’3と
合成され、第2の干渉縞を生じさせる第2合成光線h’
2となる。
【0025】第1合成光線h’1を生じさせる第1反射
光線a’1と第2反射光線a’2との実効光路差dL
は、標準ガスの光の屈折率をεp、被測定ガスの光の屈
折率をεq、第1反射光線a’1の被測定ガス室15b
の通過距離をL、被測定ガス室15b又は標準ガス室1
5aを通過する隣接する各反射光線間の通過距離の差を
ΔLとすると、 dL={L・εq+(L+5ΔL)εp}−{(L+Δ
L)εq+(L+4ΔL)εp}=ΔL(εp−εq) となる。従って、上記第1の実施の形態と同様に、受光
素子16によって測定される第1合成光線h’1の光線
強度Iから、高濃度も含めた広範囲にわたる濃度を求め
ることができる。
【0026】一方、第2合成光線h’2を生じさせる第
2反射光線a’2と第3反射光線a’3との実効光路差
dLは、 dL={(L+2ΔL)εp+(L+3ΔL)εp}−
{(L+ΔL)εq+(L+4ΔL)εp}=(L+Δ
L)・(εp−εq) となる。従って、上記第1の実施の形態と同様に、受光
素子16によって測定される第2合成光線h’2の光線
強度Iから、低濃度の被測定ガスを正確に測定すること
ができる。
【0027】次に、本発明の第3の実施の形態にかかる
ガス濃度測定装置20を図3に基づき説明する。本実施
の形態において、光源22、平行平面鏡23、直角反射
プリズム27の構成は上記第2の実施の形態と全く同様
である。これに対し、測定用チャンバー25は、長さの
短い第1のチャンバー251と長さの長い第2のチャン
バー252とが平行平面鏡23と直角反射プリズム27
との間に直列に配置されている。なお、各チャンバー2
51と252の形状は、上記各実施の形態と異なり、縦
断面形状が方形となるように形成されており、各チャン
バー251,252の各端面に配設される光学ガラス
は、各チャンバー251,252の上辺及び底辺に対し
て直角な位置関係となるように設けられている。
【0028】また、いずれのチャンバー251,252
も、標準ガス室251a,252aと被測定ガス室25
1b,252bを備えている一方、被測定ガス室251
b,252b相互が直列の位置関係とならないように設
けられている。具体的には、第1のチャンバー251
は、3室に分割され、その中央部を被測定ガス室251
bとし、両側の室を標準ガス室251aとしている。第
2のチャンバー252も同じく3室に分割されている
が、中央の室を標準ガス室252aとし、両側の室を被
測定ガス室252bとしている。また、第2のチャンバ
ー252の標準ガス室252aの図3における上下方向
の幅は、第1のチャンバー251の被測定ガス室251
bの上下方向の幅よりも広くなるように形成されてい
る。このような関係とすることで、第2反射光線a”2
がいずれのチャンバー251,252においても標準ガ
ス室251a,252aを通過することができる。
【0029】但し、本実施の形態においては、長さの異
なる2つのチャンバー251,252を用い、第1反射
光線a”1又は第3反射光線a”3のいずれかが、一方
のチャンバーの被測定ガス室を通過すると共に、他方が
他方のチャンバーの被測定ガス室を通過し、第2反射光
線a”2がいずれのチャンバーにおいても標準ガス室を
通過するように設けられていればよく、第1のチャンバ
ー251と第2のチャンバー252の配設位置は図3に
示したものと逆であってもよいし、標準ガス室と被測定
ガス室の区分の仕方も図3に示したものに限定されるわ
けではない。
【0030】本実施の形態によれば、光源22からの光
線a”は平行平面鏡23で3つに分離されるが、このう
ち第1反射光線a”1は、第1のチャンバー251の標
準ガス室251aを通過した後、第2のチャンバー25
2の被測定ガス室252bを通過して、直角反射プリズ
ム27で反射された後、再度、第2のチャンバー252
の被測定ガス室252bと第1のチャンバー251の標
準ガス室251aを通過し、平行平面鏡23に至る。一
方、第2反射光線a”2は、いずれのチャンバー25
1,252においても、標準ガス室251a,252a
のみを通過して平行平面鏡23に至り、第1反射光線
a”1と合成される。そして、この合成光線h”2が干
渉縞を生じるが、第1反射光線a”1が長さの長い第2
のチャンバー252の被測定ガス室252bを通過して
いるため、被測定ガスが低濃度の場合に、該合成光線
h”2の光線強度Iを受光素子26で測定することで正
確に濃度測定を行うことができる。
【0031】一方、第3反射光線a”3は、第1のチャ
ンバー251の被測定ガス室251bを通過した後、第
2のチャンバー252の標準ガス室252aを通過し、
直角反射プリズム27で反射された後、再び、第2のチ
ャンバー252の標準ガス室252aと第1のチャンバ
ー251の被測定ガス室251bを通過し、平行平面鏡
23で反射されることにより第2の反射光線a”2と合
成されて、合成光線h”1となり干渉縞を生じる。この
際、第3反射光線a”3は、長さの短い第1のチャンバ
ー251の被測定ガス室251bを通過しているため、
広範囲の濃度を測定することができ、被測定ガスが高濃
度の場合には、該合成光線h”1の光線強度Iを受光素
子26で測定することで濃度測定することができる。
【0032】なお、本実施の形態における第1反射光線
a”1と第2反射光線a”2との実効光路差dL及び第
2反射光線a”2と第3反射光線a”3との実効光路差
dLを算出する式は、従来の技術で説明したものと同様
であるため、ここでは割愛する。
【0033】本実施の形態によれば、高濃度用、低濃度
用と、長さの異なる2つのチャンバーを用いる必要があ
り、特に、高濃度用のチャンバーとして長さの短いもの
を作製しなければならない点で上記第1及び第2の実施
の形態と比較して不利であるが、光源や平行平面鏡が1
つでありながら、2つの干渉縞を生じさせることができ
る点において従来のものと比較すれば、簡易な構造とす
ることができる。
【0034】
【発明の効果】本発明のガス濃度測定装置は、平行平面
鏡により、光源から供給された光線を第1反射光線、第
2反射光線及び第3反射光線の3つに分離すると共に、
このうちの一つの反射光線が標準ガス室のみを通過し、
他の反射光線が被測定ガス室を通過し得るように設けて
いるため、2つの合成光線を生成して2つの干渉縞を生
じさせることができ、被測定ガスが高濃度の場合には一
方の干渉縞から濃度を特定し、低濃度の場合には他方の
干渉縞から濃度を特定できる構成である。従って、簡易
な構造で、かつ単一の装置でありながら、被測定ガスが
高濃度であっても、低濃度であっても測定することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるガス濃度測定装置の第1の実施
の形態を示す構成図である。
【図2】本発明にかかるガス濃度測定装置の第2の実施
の形態を示す構成図である。
【図3】本発明にかかるガス濃度測定装置の第3の実施
の形態を示す構成図である。
【図4】従来のガス濃度測定装置を示す構成図である。
【図5】実効光路差と光線強度との関係を示す図であ
る。
【符号の説明】
1,10,20 ガス濃度測定装置 2,12,22 光源 3 第1の平行平面鏡 4 第2の平行平面鏡 13 平行平面鏡 23 平行平面鏡 5,15,25 測定用チャンバー 6,16,26 受光素子 17,27 直角反射プリズム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 北名 清光 北海道札幌市白石区平和通り2丁目北9− 23 北海道東科計器株式会社内 (72)発明者 児玉 法明 北海道札幌市白石区平和通り2丁目北9− 23 北海道東科計器株式会社内 Fターム(参考) 2G059 AA01 BB01 DD11 EE09 FF08 GG02 JJ11 JJ12 JJ13 KK10 MM05 PP10

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 標準ガス室と被測定ガス室とに区分され
    た測定用チャンバーと、 光源からの光線を分離して標準ガス室と被測定ガス室に
    供給し得る第1の平行平面鏡と、 標準ガス室と被測定ガス室を通過した光線を合成し、干
    渉縞を生じさせる第2の平行平面鏡とを有する干渉計型
    のガス濃度測定装置において、 前記第1の平行平面鏡が、光源からの光線を、表面で反
    射して測定用チャンバーに入射する第1反射光線と裏面
    で反射して測定用チャンバーに入射する第2反射光線と
    に分離可能であると共に、該裏面で反射した後表面を通
    過せずに該表面で再反射した光線を、再度裏面で反射さ
    せてから測定用チャンバーに第3反射光線として入射さ
    せることができる大きさを有し、 前記第2の平行平面鏡が、第1反射光線と第2反射光線
    とを合成して第1の干渉縞を生じさせることができると
    共に、第2反射光線と第3反射光線とを合成して第2の
    干渉縞を生じさせることができる大きさを有し、 前記第1反射光線、第2反射光線及び第3反射光線のう
    ちの一つの反射光線が標準ガス室のみを通過し、他の反
    射光線が被測定ガス室を通過し得るように設けられてい
    ることを特徴とするガス濃度測定装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のガス濃度測定装置であっ
    て、前記第1及び第2の平行平面鏡に代えて、該第1及
    び第2の平行平面鏡の機能を兼用する一の平行平面鏡
    が、測定用チャンバーの一方側に配設され、測定用チャ
    ンバーの他方側に直角反射プリズムが配設されているこ
    とを特徴とするガス濃度測定装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載のガス濃度測定装置
    であって、前記測定用チャンバーが、被測定ガス室を通
    過する2つの光線の通過距離に差が生じるような形状に
    形成されていることを特徴とするガス濃度測定装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載のガス濃度測定装置であっ
    て、前記測定用チャンバーにおける被測定ガス室の縦断
    面形状が、台形状であることを特徴とするガス濃度測定
    装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のガス濃度測定装置であっ
    て、前記測定用チャンバーの被測定ガス室と標準ガス室
    とを合わせた縦断面形状が、台形状であることを特徴と
    するガス濃度測定装置。
  6. 【請求項6】 請求項1又は2記載のガス濃度測定装置
    であって、前記測定用チャンバーが、直列に配置される
    一方、それぞれに被測定ガス室と標準ガス室とを有する
    と共に、直列に配置しても被測定ガス室相互は直列の位
    置関係とならないように設けられた長さの異なる2つの
    チャンバーから構成され、前記第1反射光線と第3反射
    光線のうちのいずれか一方の反射光線が、2つのチャン
    バーのうちのいずれか一方の被測定ガス室を通過し、他
    方の反射光線が他方の被測定ガス室を通過すると共に、
    前記第2反射光線がいずれのチャンバーにおいても標準
    ガス室を通過するように設けられていることを特徴とす
    るガス濃度測定装置。
  7. 【請求項7】 被測定ガスが充填される被測定ガス室と
    標準ガスが充填される標準ガス室とを備えた測定用チャ
    ンバーに対し、光源からの光線を平行平面鏡で反射させ
    ることにより分離して入射させた後、分離された反射光
    線を再度合成して干渉縞を生じさせることにより被測定
    ガスの濃度を測定するガス濃度測定方法において、 前記平行平面鏡により3つの反射光線に分離し、2つの
    干渉縞を生じさせ、被測定ガスが高濃度の場合には一方
    の干渉縞に基づいてガス濃度を測定し、被測定ガスが低
    濃度の場合には他方の干渉縞に基づいてガス濃度を測定
    することを特徴とするガス濃度測定方法。
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