JP2000039708A - Lithographic printing master plate and production of lithographic printing plate - Google Patents

Lithographic printing master plate and production of lithographic printing plate

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JP2000039708A
JP2000039708A JP10208183A JP20818398A JP2000039708A JP 2000039708 A JP2000039708 A JP 2000039708A JP 10208183 A JP10208183 A JP 10208183A JP 20818398 A JP20818398 A JP 20818398A JP 2000039708 A JP2000039708 A JP 2000039708A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing master plate which can be made by scanning exposure in a short time, which enables production of a lithographic printing plate having excellent hydrophilicity in a non-picture part, excellent strength in a picture part, excellent contamination resistance and printing durability as printing performance, and which is suitable for plate making process by a developing method in a printing machine, and to provide a method to suppress practical problems on the printing master plate such as remaining film which is caused by shortage of thermal reaction near the supporting body. SOLUTION: This lithographic printing master plate has a layer containing (a) a hydrophobic polymer compd. having functional groups in the side chains which change from hydrophobic to hydrophilic by heat and having hydrophilic functional groups, and (b) a light-absorbing agent which absorbs laser light to convert into heat, on a supporting body having a hydrophilic surface. In the producing method of a lithographic printing plate, the master plate is exposed to laser light to form an image and then the exposed part in the recording layer is removed in a printing machine.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は親水性表面を有する
支持体上に、疎水性(以下、親油性ともいう)の層(画
像形成層)を有するポジ型の平版印刷用原版に関する。
より詳しくは、ディジタル信号に基づいた走査露光によ
る製版が可能であり、且つ水現像可能な、または現像す
ることなしにそのまま印刷機に装着し印刷することが可
能な平版印刷版用原版及びその平版印刷版用原版を用い
た平版印刷版の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positive type lithographic printing plate precursor having a hydrophobic (hereinafter also referred to as lipophilic) layer (image forming layer) on a support having a hydrophilic surface.
More specifically, a lithographic printing plate precursor capable of performing plate making by scanning exposure based on a digital signal and being water-developable, or capable of being directly mounted on a printing machine without being developed and printed, and its lithographic plate The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate using a printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、平版印刷版は、印刷過程でイン
クを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性
の非画像部とからなる。このような平版印刷版用原版と
しては、従来、親水性支持体上に、親油性の感光性樹脂
層を設けたPS版が広く用いられる。その製版方法とし
て、通常は、リスフイルムを介してマスク露光した後、
非画像部を現像液によって溶解除去する。この方法によ
り所望の印刷版を得ていた。近年、画像情報をコンピュ
ータを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、ディジタ
ル化技術が広く普及してきており、この様な、ディジタ
ル化技術に対応した、新しい画像出力方式が種々実用さ
れる様になっきた。これに伴い、レーザ光の様な指向性
の高い活性放射線をディジタル化された画像情報に応じ
て走査し、リスフィルムを介することなく、直接印刷版
を製造するコンピュータ トゥ プレート技術が切望さ
れており、これに適応した印刷版用原版を得ることが重
要な技術課題となっている。
2. Description of the Related Art In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area for receiving ink during a printing process and a hydrophilic non-image area for receiving fountain solution. Conventionally, as such a lithographic printing plate precursor, a PS plate in which a lipophilic photosensitive resin layer is provided on a hydrophilic support is widely used. As a plate making method, usually, after mask exposure through a lith film,
The non-image area is dissolved and removed with a developer. The desired printing plate was obtained by this method. In recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information using a computer have become widespread, and various new image output methods compatible with such digitization techniques have been put to practical use. It has become. Along with this, computer-to-plate technology that scans actinic radiation having a high directivity such as laser light in accordance with digitized image information and directly manufactures a printing plate without passing through a lithographic film has been desired. It is an important technical problem to obtain a printing plate precursor adapted to this.

【0003】他方、従来のPS版に於ける製版行程は、
露光の後、非画像部を溶解除去する工程が不可欠であ
り、この様な付加的な湿式の処理が不可欠であるという
点は、従来技術に対し、改善の望まれてきたもう一つの
課題である。特に近年は、地球環境への配慮が産業界全
体の大きな関心事となっている。処理の簡素化、乾式
化、無処理化は、この様な環境面と、先述のディジタル
化に伴った工程の合理化の両方の観点から、従来にも増
して、強く望まれるようになっている。
On the other hand, the plate making process in the conventional PS plate is as follows.
The fact that a step of dissolving and removing non-image areas after exposure is indispensable, and such an additional wet treatment is indispensable is another problem that has been desired to be improved over the prior art. is there. Particularly in recent years, consideration for the global environment has become a major concern of the entire industry. The simplification of processing, dry processing, and non-processing are becoming more desirable than ever, both from the viewpoint of such environmental aspects and the rationalization of processes associated with the aforementioned digitization. .

【0004】この様な観点から、従来の処理工程をなく
した方法の一つとして次のような方法が提案されてい
る。即ち、印刷版用原版の非画像部の除去を通常の印刷
過程のなかで行えるような感光層を用い、現像工程を行
うことなく、露光後、印刷機上で現像し最終的な印刷版
を得る方式である。この様な方法での平版印刷版の製版
方式は機上現像方式と呼ばれる。具体的方法としては、
例えば、湿し水やインク溶剤に可溶な感光層の使用、印
刷機中の圧胴やブランケット胴との接触による力学的除
去を行う方法等が挙げられる。しかしながら、機上現像
方式の大きな問題は、印刷用原版は露光後も、感光層が
定着されないため、例えば、印刷機に装着するまでの
間、原版を完全に遮光及び/もしくは恒温条件にて保存
する、といった非効率な方法をとる必要があった。
[0004] From such a viewpoint, the following method has been proposed as one of the methods for eliminating the conventional processing steps. That is, using a photosensitive layer capable of removing the non-image portion of the printing plate precursor in a normal printing process, without performing a developing process, after exposure, developing on a printing machine to obtain a final printing plate. It is a way to get. The method of making a lithographic printing plate by such a method is called an on-press development method. Specifically,
For example, a method of using a photosensitive layer soluble in a fountain solution or an ink solvent, a method of mechanically removing the photosensitive layer by contact with an impression cylinder or a blanket cylinder in a printing press, and the like are mentioned. However, a major problem with the on-press development method is that the printing plate is not completely fixed even after exposure, so for example, the plate is completely shielded from light and / or kept under constant temperature conditions until it is mounted on a printing machine. It was necessary to take an inefficient method of doing so.

【0005】一方、走査露光による印刷版の製造法とし
て、最近、半導体レーザ、YAGレーザ等の固体レーザ
で高出力なものが安価に入手できるようになってきたこ
とから、特に、これらのレーザを用いる方法が有望視さ
れるようになってきた。これらの高出力レーザを用いた
高パワー密度露光系では、従来の、低〜中パワー密度露
光用感光材料系に利用される光反応とは異なった、様々
な現象を利用できる。具体的には、化学変化の他、相変
化、形態変化等の構造変化を利用できる。通常、このよ
うな高パワー密度露光による記録方式はヒートモード記
録と呼ばれる。高パワー密度露光系では、多くの場合、
感光材料に吸収された光エネルギーは、熱に変換され、
生じた熱によって、所望の現象が引き起こされると信じ
られる為である。
On the other hand, as a method of manufacturing a printing plate by scanning exposure, a solid-state laser such as a semiconductor laser or a YAG laser has recently become available at a low cost. The methods used have become promising. In the high power density exposure system using these high power lasers, various phenomena different from the photoreaction used in the conventional photosensitive material system for low to medium power density exposure can be used. Specifically, structural changes such as phase changes and morphological changes can be used in addition to chemical changes. Usually, a recording method using such high power density exposure is called heat mode recording. In high power density exposure systems,
The light energy absorbed by the photosensitive material is converted into heat,
This is because it is believed that the generated heat causes a desired phenomenon.

【0006】この様なヒートモード記録方式の大きな長
所は露光後の像の定着が必須ではないことにある。即
ち、ヒートモード感材の画像記録に利用される現象は、
普通の強度の光に対する暴露や、普通の環境温度下では
実質的に生じないため、露光後の画像の定着は必須では
ない。従って、例えば、ヒートモード露光により不溶化
若しくは可溶化する感光層を用い、製版を機上現像方式
で行えば、現像(非画像部の除去)は、画像露光後、任
意の時間、たとえ環境光に暴露させてから行っても、得
られる画像に変化が生じないシステムが可能である。従
ってヒートモード記録によれば、先述の機上現像方式に
望ましい平版印刷版用原版を得ることも可能となる。
A great advantage of such a heat mode recording method is that fixing of an image after exposure is not essential. That is, the phenomenon used for image recording of the heat mode photosensitive material is as follows.
Fixation of the image after exposure is not essential, since exposure to light of normal intensity and under normal environmental temperatures do not occur substantially. Therefore, for example, if a plate is made by an on-press development method using a photosensitive layer which is insolubilized or solubilized by heat mode exposure, development (removal of non-image portions) can be performed for an arbitrary time after image exposure, even if exposed to ambient light. A system is possible in which the image obtained does not change even after exposure. Therefore, according to the heat mode recording, it is possible to obtain a lithographic printing plate precursor that is desirable for the above-described on-press development system.

【0007】ヒートモード記録に基づく平版印刷版の好
ましい製造法の一つとして、親水性の支持体上に疎水性
の画像形成層を設け、画像状にヒートモード露光し、疎
水性層の溶解性・分散性を変化させ、必要に応じ、湿式
現像により非画像部を除去する方法が提案されている。
この様な原版の例として、例えば、特公昭46ー279
19号には、親水性支持体上に、熱により溶解性が向上
しいわゆるポジ作用を示す記録層、具体的には糖類やメ
ラミンホルムアルデヒド樹脂等の特定の組成を有する記
録層を設けた原版をヒートモード記録することによっ
て、印刷版を得る方法が開示されている。
[0007] As one of the preferable methods for producing a lithographic printing plate based on heat mode recording, a hydrophobic image forming layer is provided on a hydrophilic support, and the image is subjected to heat mode exposure in the form of an image. A method has been proposed in which the dispersibility is changed and, if necessary, the non-image areas are removed by wet development.
As an example of such an original plate, for example, Japanese Patent Publication No. 46-279
No. 19 discloses an original plate in which a recording layer having improved solubility by heat and exhibiting a so-called positive action, specifically a recording layer having a specific composition such as a saccharide or a melamine formaldehyde resin, is provided on a hydrophilic support. A method for obtaining a printing plate by performing heat mode recording is disclosed.

【0008】しかしながら、開示された記録層はいずれ
も感熱性が十分でないため、ヒートモード走査露光感度
がはなはだ不十分であった。また、露光前後の疎水性/
親水性のディスクリミネーション、即ち、溶解性の変化
が小さいことも、実用上問題であった。この様な小さい
ディスクリミネーションで、機上現像方式の製版を行う
ことは実質不可能に近い。
However, none of the disclosed recording layers has sufficient heat sensitivity, so that the heat mode scanning exposure sensitivity has been extremely insufficient. In addition, hydrophobicity before and after exposure /
Practical problems also include hydrophilic discrimination, that is, a small change in solubility. With such a small discrimination, it is almost impossible to make an on-press development type plate making.

【0009】また、従来のヒートモードポジ方式原版に
は別の大きな問題として非画像部への残膜があった。即
ち、記録層中の支持体近傍での露光による溶解性変化
が、記録層表面近傍に比較して小さいという点の改良が
必要であった。該ヒートモードポジ型原版においては、
ヒートモード露光時の熱の発生は記録層中の光吸収剤の
光吸収に基くものであるため、熱の発生量は記録層表面
で大きく、支持体近傍では小さい。このため、支持体近
傍での記録層の親水化の程度が比較的低くなってしまう
ものである。結果として、しばしば、本来、親水性表面
を提供すべき露光部において、疎水性の残膜が生じるこ
とがあった。この様な、非画像部の残膜は、印刷性能上
汚れやすいという問題を生じる。特に、印刷適性上好ま
しい、Alのような熱伝導性の高い金属支持体を用いた
場合、熱拡散によって、一層、支持体近傍での温度上昇
が妨げられるため、残膜の問題は顕著である。基板付近
の十分な親水性を得るためには、極端に大きな露光エネ
ルギーを要するか、若しくは露光後の加熱といった後処
理を実施する必要があった。
Further, another problem of the conventional heat mode positive type original plate is that a residual film remains on a non-image portion. That is, it was necessary to improve the solubility change in the vicinity of the support in the recording layer due to exposure was smaller than that in the vicinity of the recording layer surface. In the heat mode positive mold,
Since the generation of heat at the time of heat mode exposure is based on the light absorption of the light absorbing agent in the recording layer, the amount of heat generation is large on the recording layer surface and small near the support. For this reason, the degree of hydrophilization of the recording layer near the support is relatively low. As a result, a hydrophobic residual film may often occur in an exposed portion where a hydrophilic surface is to be provided. Such a residual film in the non-image area causes a problem that it is easily stained in printing performance. In particular, when a metal support having high thermal conductivity such as Al, which is preferable in terms of printability, is used, the problem of a residual film is remarkable because the heat diffusion further hinders a temperature rise near the support. . In order to obtain sufficient hydrophilicity near the substrate, extremely large exposure energy was required, or post-treatment such as heating after exposure had to be performed.

【0010】この様なヒートモード刷版における露光時
の支持体への熱拡散による弊害を改善する方法として、
例えば、特開昭52−37104号や、特開昭52−1
18417号には、支持体表面に一定の厚さ以上の酸化
アルミの層を設けて熱拡散を低減する方法が提案されて
いる。この方法は、確かに効果はあるが、不十分であ
り、ヒートモードポジ刷版の残膜をなくすには至らな
い。
[0010] As a method for improving the adverse effects caused by heat diffusion to the support at the time of exposure in such a heat mode printing plate,
For example, JP-A-52-37104 and JP-A-52-1
No. 18417 proposes a method of providing a layer of aluminum oxide having a certain thickness or more on the surface of a support to reduce thermal diffusion. Although this method is effective, it is inadequate and does not eliminate the residual film of the heat mode positive printing plate.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短時
間での走査露光によって製版可能であり、非画像部の親
水性、画像部の強度に優れ、印刷性能上汚れ性、耐刷性
に優れたヒートモードポジ型平版印刷版を製造する事の
できる平版印刷版用原版を提供することにある。さらに
は機上現像方式製版に適した平版印刷版用原版を提供す
ることである。また、本発明の他の目的は、広くヒート
モードポジ型印刷版用原版に対し、残膜等の、支持体近
傍での熱反応の不足による実用上の問題を解決する方法
を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to make a plate by scanning exposure in a short time, to have excellent hydrophilicity in a non-image area, excellent strength in an image area, stain resistance in printing performance, and printing durability. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor from which a heat mode positive type lithographic printing plate excellent in quality can be manufactured. Another object is to provide a lithographic printing plate precursor suitable for on-press development type plate making. Another object of the present invention is to provide a method for solving a practical problem caused by lack of thermal reaction near a support, such as a residual film, for a heat mode positive printing plate precursor. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
した結果、下記平版印刷版用原版を用いることにより上
記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明は、親水性表面を有する支持体の
上に、(a)側鎖に熱により疎水性から親水性に変化す
る官能基と親水性官能基を有する疎水性高分子化合物と
(b)レーザー光を吸収して熱に変換しうる光吸収剤を
含有する層を有する平版印刷版用原版、および、この平
版印刷版用原版を、レーザー露光により画像様に露光し
た後、露光部記録層を印刷機上で除去することを特徴と
する平版印刷版の製造方法、である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by using the following lithographic printing plate precursor, and have completed the present invention. That is, the present invention provides (a) a hydrophobic polymer compound having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat and a hydrophilic functional group on a side chain on a support having a hydrophilic surface; A) a lithographic printing plate precursor having a layer containing a light absorber capable of absorbing laser light and converting it into heat, and exposing the lithographic printing plate precursor imagewise by laser exposure, and then recording the exposed area A method for producing a lithographic printing plate, characterized in that the layer is removed on a printing press.

【0013】本発明の平版印刷用原版によれば、露光部
では、露光後の光熱変換により発生した熱により、画像
形成層に加えられた極性変換(熱により疎水性から親水
性に変化する)高分子化合物の極性変換官能基が、疎水
性から親水性に変化し、極性変換高分子化合物も疎水性
から親水性に変化する。これにより、親水化した極性変
換高分子化合物は、湿し水等に可溶化し、支持体から除
去され、平版印刷版が形成される。
According to the lithographic printing plate precursor of the present invention, in the exposed portion, the polarity conversion applied to the image forming layer (changes from hydrophobic to hydrophilic by heat) due to heat generated by photothermal conversion after exposure. The polarity conversion functional group of the polymer compound changes from hydrophobic to hydrophilic, and the polarity conversion polymer compound also changes from hydrophobic to hydrophilic. As a result, the polarity conversion polymer compound that has been hydrophilized is solubilized in a fountain solution or the like, and is removed from the support to form a lithographic printing plate.

【0014】ここで、本発明の平版印刷用原版に用いら
れている極性変換高分子化合物は、側鎖に親水性官能基
も有するために、あらかじめ若干親水性になっている。
そのため極性変換官能基のごく一部が親水性に変化した
だけで極性変換高分子化合物も親水性に変化し、印刷版
から除去できるようになる。従って、極性変換官能基の
極性変換が比較的起こり難い画像形成層の基板近傍部分
においても、極性変換高分子化合物は充分に親水性とな
るため、感度が向上し、印刷物上に汚れが生じることが
なくなる。故に、本発明の平版印刷用原版によれば、相
対的に速い速度でレーザー露光したときでも非画像部に
汚れが生じなくなる。
Here, the polarity conversion polymer compound used in the lithographic printing plate precursor of the present invention is slightly hydrophilic in advance because it has a hydrophilic functional group in a side chain.
Therefore, even when only a small part of the polarity conversion functional group changes to hydrophilic, the polarity conversion polymer compound also changes to hydrophilic and can be removed from the printing plate. Therefore, even in the vicinity of the substrate of the image forming layer where the polarity conversion of the polarity conversion functional group is relatively unlikely to occur, the polarity conversion polymer compound is sufficiently hydrophilic, so that the sensitivity is improved and stains may be generated on printed matter. Disappears. Therefore, according to the lithographic printing plate precursor of the present invention, even when the laser exposure is performed at a relatively high speed, the non-image portion is not stained.

【0015】このような極性変換官能基としては、下記
一般式(1)〜(5)で表される官能基が、感熱性に優
れるうえ、極性変換後の親水性が高いため、非常に好適
である。
As such a polarity conversion functional group, functional groups represented by the following general formulas (1) to (5) are very suitable because they have excellent heat sensitivity and high hydrophilicity after polarity conversion. It is.

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】(式中、Lは非金属原子から成る多価の連
結基を表し、R2はアルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基又は環状イミド基を表し、R3、R4
はアルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニ
ル基を表し、R5はアルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基又は−SO2−R12を表し、R6、R
7及びR8はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、R9及びR10の内
の一方は水素、他方は水素、アルキル基、アリール基、
アルケニル基又はアルキニル基を表し、R11はアルキル
基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R12はアル
キル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を
表し、R6、R7及びR8の内の任意の2つもしくは3つ
で環を形成してもよく、R9とR11又はR10とR11で環
を形成してもよい。)
(Wherein L is a polyvalent chain composed of nonmetallic atoms)
Represents a linking group, RTwoIs an alkyl group, an aryl group, an alkenyl
A alkynyl group or a cyclic imide group;Three, RFour
Is an alkyl, aryl, alkenyl or alkynyl
RFiveIs an alkyl group, an aryl group, an alkenyl
Group, alkynyl group or -SOTwo-R12And R6, R
7And R8Each independently represents an alkyl group, an aryl group,
A alkenyl group or an alkynyl group,9And RTenWithin
Is hydrogen, the other is hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
Represents an alkenyl group or an alkynyl group,11Is alkyl
A alkenyl group or an alkynyl group;12Is al
A kill group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group
Represents, R6, R7And R8Any two or three of
May form a ring with9And R11Or RTenAnd R11In ring
May be formed. )

【0018】また、親水性官能基としては、下記一般式
(6)〜(19)の官能基が親水性や平版印刷用原版の
機上現像性を妨げないために、非常に好適である。
As the hydrophilic functional group, the functional groups represented by the following general formulas (6) to (19) are very suitable because they do not hinder the hydrophilicity and the on-press developability of the lithographic printing plate precursor.

【0019】[0019]

【化2】 Embedded image

【0020】(式中Lは非金属原子から成る多価の連結
基を表し、Mは対カチオンを表し、R 1、R2、R3、R4
はそれぞれ独立して水素、アルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を表し、Xは対アニオンを表
す。)
(Wherein L is a polyvalent linkage comprising a nonmetallic atom)
M represents a counter cation; 1, RTwo, RThree, RFour
Are each independently hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
X represents a counter anion; represents a alkenyl group or an alkynyl group;
You. )

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明による平版印刷用原版は、親水性表面を有
する支持体上に、(a)極性変換高分子化合物と(b)
光吸収剤(以下、光熱変換剤ともいう)を含有する層
(以下、画像形成層ともいう)を有するものである。 [画像形成層]本発明に用いられる「画像形成層」と
は、以下に説明する極性変換高分子化合物及び光熱変換
剤等を含有する層をいう。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. The lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises (a) a polarity-converting polymer compound and (b) a support having a hydrophilic surface.
It has a layer (hereinafter also referred to as an image forming layer) containing a light absorbing agent (hereinafter also referred to as a light-to-heat converting agent). [Image forming layer] The "image forming layer" used in the present invention refers to a layer containing a polarity conversion polymer compound, a photothermal conversion agent and the like described below.

【0022】[極性変換高分子化合物]本発明に用いら
れる極性変換高分子化合物とは、前述した通り、側鎖に
熱により疎水性から親水性に変化する官能基と親水性官
能基を有する疎水性高分子化合物である。この変化は、
レーザー露光時の光熱変換により熱が加えられた場合
に、常温では水に対して溶解するかまたは膨潤する等の
親和性を示さない高分子化合物が、熱によって側鎖の極
性変換官能基の一部もしく全部が変化して水に対して溶
解するかまたは膨潤する等の親和性を示すようになる程
度の変化であることを要する。
[Polarity Converting Polymer Compound] The polarity converting polymer compound used in the present invention is, as described above, a hydrophobic group having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat and a hydrophilic functional group in the side chain. Is a hydrophilic polymer compound. This change
When heat is applied by photothermal conversion at the time of laser exposure, a polymer compound that does not show affinity such as dissolving or swelling in water at room temperature becomes one of the polarity conversion functional groups of side chains due to heat. It is necessary that the degree of change is such that part or all change to show an affinity such as dissolution or swelling with water.

【0023】極性変換高分子化合物側鎖の極性変換官能
基が、熱により疎水性から親水性に変化する過程として
は、元々疎水性の側鎖官能基が熱により反応して親水性
に変化する過程と、元々疎水性の側鎖官能基が熱により
分解して疎水性官能基を失うことで親水性に変化する二
つの過程が考えられる。前者の熱により反応して親水性
に変化する過程としては、疎水性官能基がポリマー内部
の他の官能基と熱により反応して親水性に変化する過程
と、疎水性官能基がポリマー外部の他の化合物と熱によ
り反応して親水性に変化する過程とが考えられ、これら
を二種組み合わせた過程により親水性に変化しても良
い。
The process in which the polarity conversion functional group of the side chain of the polarity conversion polymer compound changes from hydrophobic to hydrophilic by heat is as follows: the originally hydrophobic side chain functional group reacts by heat to change to hydrophilic. There are two processes that can be considered as a process and a process in which the originally hydrophobic side chain functional group is decomposed by heat and loses the hydrophobic functional group to change to hydrophilicity. The former process of reacting with heat to change to hydrophilicity includes the process of changing the hydrophobic functional group to hydrophilic by reacting with other functional groups inside the polymer by heat, and the process of changing the hydrophobic functional group to the outside of the polymer. A process in which the compound is changed to hydrophilic by reacting with other compounds by heat is considered, and the process may be changed to hydrophilic by a process in which two of these compounds are combined.

【0024】上述した過程のうち、反応性の観点から、
元々疎水性の側鎖官能基が熱により分解して疎水性官能
基を失うことで親水性に変化する過程が好ましい。ま
た、本発明においては、極性変換高分子化合物の側鎖の
極性変換官能基が総て親水性に変化することがより好ま
しいが、極性変換高分子化合物が、水に対して溶解する
かまたは膨潤する等の親和性を示すようになる程度に起
これば、特に制限はなく、後述する親水性官能基の効果
を考慮すれば、その総てが親水性に変化しなくても良
い。熱により疎水性から親水性に変化する官能基の好ま
しい例としては、下記一般式(1)〜(5)で表される
官能基が挙げられる。
In the above-mentioned processes, from the viewpoint of reactivity,
A process in which the originally hydrophobic side chain functional group is decomposed by heat and loses the hydrophobic functional group to change to hydrophilicity is preferable. Further, in the present invention, it is more preferable that all the polarity conversion functional groups on the side chains of the polarity conversion polymer compound change to hydrophilic, but the polarity conversion polymer compound dissolves or swells in water. There is no particular limitation as long as the affinity is exhibited to the extent that the affinity is exhibited, and not all of them need to be changed to hydrophilic in consideration of the effects of the hydrophilic functional groups described later. Preferred examples of the functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat include functional groups represented by the following general formulas (1) to (5).

【0025】[0025]

【化3】 Embedded image

【0026】式中、Lは非金属原子から成る多価の連結
基を表し、R2はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は環状イミド基を表し、R3、R4
アルキル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル
基を表し、R5はアルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基又は−SO2−R12を表し、R6、R 7
及びR8はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基又はアルキニル基を表し、R9及びR10の内
の一方は水素、他方は水素、アルキル基、アリール基、
アルケニル基又はアルキニル基を表し、R11はアルキル
基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、R12はアル
キル基、アリール基、アルケニル基又はアルキニル基を
表し、R6、R7及びR8の内の任意の2つもしくは3つ
で環を形成してもよく、R9とR11又はR10とR11で環
を形成してもよい。
In the formula, L is a polyvalent link composed of a nonmetallic atom.
R represents a groupTwoIs an alkyl group, an aryl group, an alkenyl
A alkynyl group or a cyclic imide group;Three, RFourIs
Alkyl, aryl, alkenyl or alkynyl
R represents a groupFiveIs an alkyl group, an aryl group, an alkenyl
Group, alkynyl group or -SOTwo-R12And R6, R 7
And R8Each independently represents an alkyl group, an aryl group,
A alkenyl group or an alkynyl group,9And RTenWithin
Is hydrogen, the other is hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
Represents an alkenyl group or an alkynyl group,11Is alkyl
A alkenyl group or an alkynyl group;12Is al
A kill group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group
Represents, R6, R7And R8Any two or three of
May form a ring with9And R11Or RTenAnd R11In ring
May be formed.

【0027】R1〜R11がアルキル基を表すとき、アル
キル基としては、炭素原子数が1〜20までの直鎖状、
分岐状及び環状のアルキル基を挙げることができる。そ
の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル
基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、
エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブ
チル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル
基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル
基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基等を挙げる
ことができる。これらの中では、炭素原子数1〜12ま
での直鎖状、炭素原子数3〜12までの分岐状、並びに
炭素原子数5〜10までの環状のアルキル基がより好ま
しい。
When R 1 to R 11 represent an alkyl group, the alkyl group may be a straight-chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms,
Examples include branched and cyclic alkyl groups. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
Butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, hexadecyl, octadecyl,
Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, Examples thereof include a 2-norbornyl group. Among these, a linear alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

【0028】R1〜R11が置換アルキル基を表すとき、
その置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が
用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、
−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ
基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアル
キルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリ
ールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、
アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキル
カルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキ
シ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,
N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−
N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキ
シ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールア
シルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド
基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリー
ルウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、
N′−アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アル
キルウレイド基、N−アリールウレイド基、N′−アル
キル−N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−
アリールウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−ア
ルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリ
ールウレイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイ
ド基、N′−アリール−N−アリールウレイド基、
N′,N′−ジアリール−N−アルキルウレイド基、
N′,N′−ジアリール−N−アリールウレイド基、
N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキルウレイ
ド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキ
シカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシ
カルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル
基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、
N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキル
スルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO
3H)及びその共役塩基基(以下、スルホナト基と称
す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニ
ル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモ
イル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−
アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスル
フィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィ
ナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファ
モイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−
アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルフ
ァモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基(−PO32)及びその共役塩基基
(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォ
ノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノ基
(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ基
(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスフォノ基
(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基(以後、アル
キルホスフォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ
基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基(以後、ア
リールホスフォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基
(−OPO32)及びその共役塩基基(以後、ホスフォ
ナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基
(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスフォノオキシ
基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスフォノ
オキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホ
スフォノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役
塩基基(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称
す)、モノアリールホスフォノオキシ基(−OPO3
(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールフォスホ
ナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
When R 1 to R 11 represent a substituted alkyl group,
As the substituent, a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen is used. As a preferred example, a halogen atom (—F,
-Br, -Cl, -I), a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a mercapto group, an alkylthio group,
Arylthio, alkyldithio, aryldithio, amino, N-alkylamino, N, N-dialkylamino, N-arylamino, N, N-diarylamino, N-alkyl-N-arylamino Group,
Acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N,
N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-
N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N'-alkylureido group, N ', An N'-dialkylureido group, an N'-arylureido group, an N ', N'-diarylureido group,
N'-alkyl-N'-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N'-alkyl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N-
Arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N- Arylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-alkylureido group,
An N ′, N′-diaryl-N-arylureido group,
N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxy Carbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group,
N-alkyl-N-arylcarbamoyl, alkylsulfinyl, arylsulfinyl, alkylsulfonyl, arylsulfonyl, sulfo (-SO
3 H) and its conjugated base group (hereinafter referred to as sulfonato group), alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N- dialkyl sulfinamoyl group, N-
Arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N −
Arylsulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group, a phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonato group) , dialkyl phosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) , diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2) , alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphono Group (-PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (-PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter, arylphosphonate) Onato referred to as group), phosphonooxy group (-OPO 3 H 2) and its conjugated base group (hereinafter referred to as phosphonophenyl group), dialkyl phosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) 2), Zia Reel phosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and the like conjugated base group (hereinafter referred to as alkyl phosphonophenyl group), monoaryl phosphonooxy group (-OPO 3 H
(aryl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as arylphosphonatooxy group), cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group and the like.

【0029】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1
−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−
クロロ−1−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の
例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチ
ニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基(R12CO−)におけるR12としては、水素及
び上記のアルキル基、アリール基を挙げることができ
る。
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-mentioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, Cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, Methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group,
Examples thereof include a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, 1
-Propenyl group, 1-butenyl group, cinnamyl group, 2-
Examples thereof include a chloro-1-ethenyl group, and examples of the alkynyl group include an ethynyl group, a 1-propynyl group, a 1-butynyl group, and a trimethylsilylethynyl group.
Examples of R 12 in the acyl group (R 12 CO—) include hydrogen and the above-described alkyl and aryl groups.

【0030】これら置換基の内、更により好ましいもの
としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−
I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル
基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルス
ルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−
アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基等が挙げられる。
Of these substituents, an even more preferred one is a halogen atom (-F, -Br, -Cl,-
I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, N, N-
Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group , N, N-dialkylcarbamoyl, N-arylcarbamoyl, N-alkyl-N-arylcarbamoyl, sulfo, sulfonato, sulfamoyl,
N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N-
Alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonate group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonato group, monoarylphosphono group, arylphosphonato group, phosphono Examples thereof include an oxy group, a phosphonateoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

【0031】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数1〜20のアルキル基上の水
素原子のいずれか1つを除き、2価の有機残基としたも
のを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1〜12
までの直鎖状、炭素原子数3〜12までの分岐状、及び
炭素原子数5〜10までの環状のアルキレン基を挙げる
ことができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせる
事により得られる置換アルキル基の、好ましい具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フ
ェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメ
チル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピ
ル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N
−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフ
ェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(ス
ルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N
−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピル
スルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイル
プロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)
スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホス
フォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジ
フェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチ
ル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノ
ヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォ
ノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベ
ンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−
メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル
基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチル
プロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル
基、3−ブチニル基等を挙げることができる。
On the other hand, the alkylene group in the substituted alkyl group may be a divalent organic residue excluding any one of the above hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. , Preferably having 1 to 12 carbon atoms
, A branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms, and a cyclic alkylene group having 5 to 10 carbon atoms. Preferred specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining the substituent and an alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group,
Methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl, methylthiomethyl, tolylthiomethyl, ethylaminoethyl, diethylaminopropyl, morpholinopropyl, acetyloxymethyl, benzoyloxymethyl, N-cyclohexylcarbamoyl Oxyethyl group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group,
-Oxopropyl, carboxypropyl, methoxycarbonylethyl, allyloxycarbonylbutyl, chlorophenoxycarbonylmethyl, carbamoylmethyl, N-methylcarbamoylethyl, N, N
-Dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N
-Ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl)
Sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl Group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-
Methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- Butynyl group, 3-butynyl group and the like.

【0032】R1 〜R9 及びR11が、アリール基を表す
とき、アリール基としては、1個〜3個のベンゼン環が
縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮
合環を形成したものを挙げることができ、具体例として
は、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナン
トリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレ
ニル基等を挙げることができ、これらのなかでは、フェ
ニル基、ナフチル基がより好ましい。また、アリール基
には上記炭素環式アリール基の他、複素環式(ヘテロ)
アリール基が含まれる。複素環式アリール基としては、
ピリジル基、フリル基、その他ベンゼン環が縮環したキ
ノリル基、ベンゾフリル基、チオキサントン基、カルバ
ゾール基等の炭素数3〜20、ヘテロ原子数1〜5を含
むものが用いられる。
When R 1 to R 9 and R 11 represent an aryl group, the aryl group is one in which one to three benzene rings form a condensed ring, or a benzene ring and a five-membered unsaturated ring are condensed. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, a fluorenyl group, and the like. And a naphthyl group is more preferred. The aryl group includes a heterocyclic (hetero) as well as the carbocyclic aryl group.
Aryl groups are included. As the heterocyclic aryl group,
Those containing 3 to 20 carbon atoms and 1 to 5 heteroatoms such as a pyridyl group, a furyl group, a quinolyl group in which a benzene ring is condensed, a benzofuryl group, a thioxanthone group and a carbazole group are used.

【0033】R1〜R9及びR11が、置換アリール基を表
すとき、置換アリール基としては、前述のアリール基の
環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非
金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基
の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基及び先
に置換アルキル基における置換基として示したものを挙
げることができる。
When R 1 to R 9 and R 11 represent a substituted aryl group, the substituted aryl group may be a monovalent nonmetallic atom excluding hydrogen as a substituent on the ring-forming carbon atom of the aforementioned aryl group. Those with groups are used. Preferred examples of the substituent include the above-mentioned alkyl group, substituted alkyl group and those described above as the substituent for the substituted alkyl group.

【0034】この様な、置換アリール基の好ましい具体
例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチル
アミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホ
リノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイ
ルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイル
オキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフ
ェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベン
ゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフ
ェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カ
ルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニ
ル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N
−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−
メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルフ
ァモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニ
ル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、
N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N
−(ホスフォノフェニル)スルファモイルフェニル基、
ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエ
チルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェ
ニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォ
ナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリル
ホスフォナトフェニル基、アリル基、1−プロペニルメ
チル基、2−ブテニル基、2−メチルアリルフェニル
基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニル
フェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフ
ェニル基等を挙げることができる。
Preferred specific examples of such substituted aryl groups are biphenyl, tolyl, xylyl, mesityl, cumenyl, chlorophenyl, bromophenyl, fluorophenyl, chloromethylphenyl, trifluoromethyl Methylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group,
Methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylamino Phenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoyl Phenyl group, N
-(Methoxyphenyl) carbamoylphenyl group, N-
Methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group,
N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N
-(Phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group,
Phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl group, methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonatophenyl group, allyl group, 1 -Propenylmethyl, 2-butenyl, 2-methylallylphenyl, 2-methylpropenylphenyl, 2-propynylphenyl, 2-butynylphenyl, 3-butynylphenyl and the like.

【0035】R1 〜R11が、アルケニル基、置換アルケ
ニル基[−C(R13)=C(R14)(R15)]、アルキ
ニル基、又は置換アルキニル基[−C≡C(R16)]を
表すとき、R13〜R16としては、一価の非金属原子団を
使用することができる。好ましいR13〜R16の例として
は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基及び置換アリール基を挙げることがで
きる。これらの具体例としては、前述の例として示した
ものを挙げることができる。R1316のより好ましい置
換基としては、水素原子、ハロゲン原子及び炭素原子数
1〜10の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げる
ことができる。アルケニル基、置換アルケニル基、アル
キニル基及び置換アルキニル基の具体例としては、ビニ
ル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセ
ニル基、1−オクテニル基、1−メチル−1−プロペニ
ル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1
−ブテニル基、2−フェニル−1−エテニル基、2−ク
ロロ−1−エテニル基、エチニル基、プロピニル基、フ
ェニルエチル基等を挙げることができる。
R 1 to R 11 represent an alkenyl group, a substituted alkenyl group [—C (R 13 ) = C (R 14 ) (R 15 )], an alkynyl group, or a substituted alkynyl group [—C≡C (R 16 )], A monovalent nonmetallic atomic group can be used as R 13 to R 16 . Preferred examples of R 13 to R 16 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group. Specific examples thereof include those described above. More preferred substituents for R 13 to R 16 include a hydrogen atom, a halogen atom and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples of the alkenyl group, the substituted alkenyl group, the alkynyl group and the substituted alkynyl group include a vinyl group, a 1-butenyl group, a 1-pentenyl group, a 1-hexenyl group, a 1-octenyl group, and a 1-methyl-1-propenyl group. , 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1
-Butenyl group, 2-phenyl-1-ethenyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, ethynyl group, propynyl group, phenylethyl group and the like.

【0036】R1が環状イミド基を表すとき、環状イミ
ドとしては、コハク酸イミド、フタル酸イミド、シクロ
ヘキサンジカルボン酸イミド、ノルボルネンジカルボン
酸イミド等の炭素原子4〜20までのものを用いること
ができる。上記のうち、R1として特に好ましいもの
は、アルキル基、置換基アルキル基及び環状イミド基で
ある。また、上記のうちR2、R3、R4、及びR11とし
て特に好ましいものは、ハロゲン、シアノ、ニトロ等の
電子吸引性基で置換されたアルキル基、ハロゲン、シア
ノ、ニトロ等の電子吸引性基で置換されたアリール基及
び2級もしくは3級の分岐状アルキル基である。R5
9として好ましいものは、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基または置換アリール基であり、R10とし
て好ましいものは、アルキル基または置換アルキル基で
あって、R5、R6及びR7のうちの任意の2つ若しくは
3つで環を形成した場合並びにR8とR10又はR9とR10
で環を形成した場合である。
When R 1 represents a cyclic imide group, examples of the cyclic imide include those having up to 4 to 20 carbon atoms such as succinimide, phthalimide, cyclohexanedicarboxylic imide and norbornenedicarboxylic imide. . Among the above, particularly preferred as R 1 are an alkyl group, a substituent alkyl group and a cyclic imide group. Of the above, particularly preferred as R 2 , R 3 , R 4 , and R 11 are an alkyl group substituted with an electron-withdrawing group such as halogen, cyano, and nitro; and an electron-withdrawing group such as halogen, cyano, and nitro. An aryl group substituted with a functional group; and a secondary or tertiary branched alkyl group. R 5 ~
Preferred as R 9 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, and preferred as R 10 is an alkyl group or a substituted alkyl group, among R 5 , R 6 and R 7 A ring is formed by any two or three of the above, and R 8 and R 10 or R 9 and R 10
Is a case where a ring is formed.

【0037】Lで表される非金属原子からなる多価の連
結基とは、1から60個までの炭素原子、0個から10
個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1
個から100個までの水素原子、及び0個から20個ま
での硫黄原子から成り立つものである。より具体的な連
結基としては下記の構造単位が組み合わさって構成され
るものを挙げることができる。
The polyvalent linking group consisting of a nonmetallic atom represented by L means 1 to 60 carbon atoms, 0 to 10 carbon atoms.
Up to nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1
From 100 to 100 hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms. More specific linking groups include those constituted by combining the following structural units.

【0038】[0038]

【化4】 Embedded image

【0039】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1〜20まで
のアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜
16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、スル
ホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基
のような炭素数1〜6までのアシルオキシ基、メトキシ
基、エトキシ基のような炭素数1〜6までのアルコキシ
基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキシカルボ
ニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシ
カルボニル基のような炭素数2〜7までのアルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネートのよう
な炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon group having 6 to 6 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
Up to 16 aryloxy, hydroxyl, carboxyl, sulfonamide, N-sulfonylamido, acetoxy, acyloxy having 1 to 6 carbon atoms, methoxy, 1 to 6 carbon atoms such as ethoxy A halogen atom such as an alkoxy group, chlorine and bromine, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group and a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, and a carbonic acid such as t-butyl carbonate. An ester group or the like can be used.

【0040】次に、親水性官能基について説明する。本
発明に好適な親水性官能基は、以下の一般式(6)〜
(19)で表される官能基である。
Next, the hydrophilic functional group will be described. The hydrophilic functional groups suitable for the present invention are represented by the following general formulas (6) to (6).
It is a functional group represented by (19).

【0041】[0041]

【化5】 Embedded image

【0042】式中Lは非金属原子から成る多価の連結基
を表し、Mは対カチオンを表し、R 1、R2、R3、R4
それぞれ独立して水素、アルキル基、アリール基、アル
ケニル基、アルキニル基を表し、Xは対アニオンをす。
Lで表される非金属原子からなる多価の連結基とは、1
から60個までの炭素原子、0個から10個までの窒素
原子、0個から50個までの酸素原子、1個から100
個までの水素原子、及び0個から20個までの硫黄原子
から成り立つものである。より具体的な連結基としては
下記のような構造単位が組み合わさって構成されるもの
を挙げることができる。
In the formula, L is a polyvalent linking group comprising a nonmetallic atom
And M represents a counter cation; 1, RTwo, RThree, RFourIs
Each independently represents hydrogen, an alkyl group, an aryl group,
X represents a cation group or an alkynyl group, and X represents a counter anion.
The polyvalent linking group comprising a nonmetal atom represented by L is 1
From up to 60 carbon atoms, from 0 to 10 nitrogen
Atom, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 100
Up to hydrogen atoms and 0 to 20 sulfur atoms
It consists of More specific linking groups include
Composed of a combination of the following structural units
Can be mentioned.

【0043】[0043]

【化6】 Embedded image

【0044】多価の連結基が置換基を有する場合、置換
基としてはメチル基、エチル基等の炭素数1から20ま
でのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6
から16までのアリール基、水酸基、カルボキシル基、
スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキ
シ基のような炭素数1から6までのアシルオキシ基、メ
トキシ基、エトキシ基のような炭素数1から6までのア
ルコキシ基、塩素、臭素のようなハロゲン原子、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシ
ルオキシカルボニル基のような炭素数2から7までのア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネ
ートのような炭酸エステル基等を用いることができる。
When the polyvalent linking group has a substituent, examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon atom having 6 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group.
To 16 aryl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups,
C1-C6 acyloxy groups such as sulfonamide groups, N-sulfonylamido groups, and acetoxy groups; C1-C6 alkoxy groups such as methoxy groups and ethoxy groups; halogens such as chlorine and bromine. An atom, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as a cyclohexyloxycarbonyl group, a cyano group, a carbonate group such as t-butyl carbonate, or the like can be used.

【0045】Mで表される対カチオンとは、陽電荷を有
するイオンであり、親水性官能基中の負電荷とイオンペ
アを形成する。故に、Mで表される対カチオンは、極性
変換高分子化合物中の親水性官能基に存在する負電荷と
等電荷となるモル数だけ存在する。より具体的な対カチ
オンとしては、金属陽イオン、アンモニウムイオン、ホ
スホニウムイオン等が挙げられる。金属イオンの具体例
としては、Li+、Na+、K+、Mg2+、Ca2+、Ti2+、V2+、Cr
2+、Mn2+、Fe2+、Fe3+、Co2+、Co3+、Ni2+、Cu+、C
u2+、Ag+、Pb2+、Sn2+、Zn2+、Al3+等が挙げられるが、
本発明はこれらに限定されるものではない。アンモニウ
ムイオンの具体例としては以下のようなものが挙げられ
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The counter cation represented by M is an ion having a positive charge, and forms an ion pair with a negative charge in the hydrophilic functional group. Therefore, the counter cation represented by M exists in the same number as the number of moles of the negative charge existing in the hydrophilic functional group in the polarity conversion polymer compound. More specific counter cations include metal cations, ammonium ions, phosphonium ions and the like. Specific examples of metal ions include Li + , Na + , K + , Mg2 + , Ca2 + , Ti2 + , V2 + , and Cr2 + .
2+ , Mn2 + , Fe2 + , Fe3 + , Co2 + , Co3 + , Ni2 + , Cu + , C
u 2+ , Ag + , Pb 2+ , Sn 2+ , Zn 2+ , Al 3+ and the like,
The present invention is not limited to these. Specific examples of the ammonium ion include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0046】[0046]

【化7】 Embedded image

【0047】[0047]

【化8】 Embedded image

【0048】[0048]

【化9】 Embedded image

【0049】ホスホニウムイオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the phosphonium ion include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0050】[0050]

【化10】 Embedded image

【0051】[0051]

【化11】 Embedded image

【0052】[0052]

【化12】 Embedded image

【0053】R1〜R4がアルキル基、アリール基、アル
ケニル基又はアルキニル基を表すとき、これらの置換基
の具体的な例としては前述の例として示したものが挙げ
られる。Xで表される対アニオンとは、負電荷を有する
アニオンであり、親水性官能基中の正電荷とイオンペア
を形成する。故に、Xで表される対アニオンは、極性変
換高分子化合物中の親水性官能基に存在する正電荷と等
電荷となるモル数だけ存在する。
When R 1 to R 4 represent an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group or an alkynyl group, specific examples of these substituents include those described above. The counter anion represented by X is an anion having a negative charge, and forms an ion pair with a positive charge in the hydrophilic functional group. Therefore, the counter anion represented by X is present in the same number of moles as the positive charge existing in the hydrophilic functional group in the polarity conversion polymer compound.

【0054】より具体的な対アニオンとしてはF-、C
l-、Br-、I-、OH-、CN-、SO4 2-、HSO4 -、SO3 2-、HS
O3 -、NO3 -、CO3 2-、HCO3 -、PF6 -、BF4 -、ClO4 -、Cl
O3 -、ClO2 -、ClO -、BrO4 -、BrO3 -、BrO2 -、BrO-、I
O4 -、IO3 -、IO2 -、IO-、スルホン酸アニオン、カルボン
酸アニオン、ホスホン酸アニオン、リン酸アニオン等が
挙げられる。スルホン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
As a more specific counter anion, F-, C
l-, Br-, I-, OH-, CN-, SOFour 2-, HSOFour -, SOThree 2-, HS
OThree -, NOThree -, COThree 2-, HCOThree -, PF6 -, BFFour -, ClOFour -, Cl
OThree -, ClOTwo -, ClO -, BrOFour -, BrOThree -, BrOTwo -, BrO-, I
OFour -, IOThree -, IOTwo -, IO-, Sulfonate anion, carvone
Acid anions, phosphonate anions, phosphate anions, etc.
No. Specific examples of the sulfonate anion include:
The following are examples, but the present invention is not limited to these.
It is not something to be done.

【0055】[0055]

【化13】 Embedded image

【0056】[0056]

【化14】 Embedded image

【0057】カルボン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
The following are specific examples of the carboxylate anion, but the present invention is not limited thereto.

【0058】[0058]

【化15】 Embedded image

【0059】[0059]

【化16】 Embedded image

【0060】ホスホン酸アニオンの具体例としては、以
下のようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定
されるものではない。
Specific examples of the phosphonate anion include the following, but the present invention is not limited thereto.

【0061】[0061]

【化17】 Embedded image

【0062】リン酸アニオンの具体例としては、以下の
ようなものが挙げられるが、本発明はこれらに限定され
るものではない。
The following are specific examples of the phosphate anion, but the present invention is not limited thereto.

【0063】[0063]

【化18】 Embedded image

【0064】本発明の極性変換高分子化合物を合成する
ために好適に使用される、熱により疎水性から親水性に
変化する官能基を有するモノマーの具体例を以下に示
す。
Specific examples of the monomer having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by heat, which is suitably used for synthesizing the polarity conversion polymer compound of the present invention, are shown below.

【0065】[0065]

【化19】 Embedded image

【0066】[0066]

【化20】 Embedded image

【0067】[0067]

【化21】 Embedded image

【0068】[0068]

【化22】 Embedded image

【0069】[0069]

【化23】 Embedded image

【0070】[0070]

【化24】 Embedded image

【0071】[0071]

【化25】 Embedded image

【0072】[0072]

【化26】 Embedded image

【0073】また、本発明の極性変換高分子化合物を合
成するために好適に使用される、親水性官能基を備えた
モノマーの具体例を以下に示す。
Specific examples of a monomer having a hydrophilic functional group, which is suitably used for synthesizing the polarity conversion polymer compound of the present invention, are shown below.

【0074】[0074]

【化27】 Embedded image

【0075】[0075]

【化28】 Embedded image

【0076】本発明の極性変換高分子化合物は、その側
鎖の少なくとも一部に熱により疎水性から親水性に変化
する官能基を有し、且つ、その側鎖の少なくとも一部に
親水性官能基を有していれば、特に制限はなく、側鎖に
は熱により疎水性から親水性に変化する官能基や親水性
官能基以外の官能基を有していても良い。故に、熱によ
り疎水性から親水性に変化する官能基や親水性官能基以
外の官能基を有するモノマーとの共重合体であっても、
本発明の効果を妨げない限り、好適に使用することがで
きる。このような側鎖を有するモノマーとしては、以下
のようなモノマーが挙げられる。
The polarity-converting polymer compound of the present invention has a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by heat on at least a part of its side chain, and has a hydrophilic functional group on at least a part of its side chain. There is no particular limitation as long as it has a group, and the side chain may have a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat or a functional group other than a hydrophilic functional group. Therefore, even if it is a copolymer with a monomer having a functional group other than a functional group or a hydrophilic functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat,
It can be suitably used as long as the effects of the present invention are not hindered. Examples of the monomer having such a side chain include the following monomers.

【0077】共重合体に用いられる他のモノマーとして
は、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタク
リル酸エステル類、メタクリルアミド類、無水マレイン
酸、マレイン酸エステル類、マレイン酸アミド類、マレ
イン酸イミド類、イタコン酸無水物、イタコン酸エステ
ル類、イタコン酸アミド類、イタコン酸イミド類、クロ
トン酸エステル類、クロトン酸アミド類、フマル酸エス
テル類、フマル酸アミド類、メサコン酸エステル類、メ
サコン酸アミド類、α,β−不飽和ラクトン類、α,β
−不飽和ラクタム類、不飽和炭化水素類、ビニルエーテ
ル類、ビニルエステル類、α,β−不飽和ケトン類、ス
チレン類、環状エーテル類、環状スルフィド類、環状ア
ミン類、環状ジスルフィド類、アルデヒド類、環状アセ
タール類、ラクトン類、ラクタム類、環状カーボネート
類、環状ウレア類、環状ウレタン類、環状酸無水物類、
スピロオルトカーボネート類、スピロオルトエステル
類、アクリロニトリル、等の公知のモノマーが挙げられ
る。
Other monomers used in the copolymer include acrylic esters, acrylamides, methacrylic esters, methacrylamides, maleic anhydride, maleic esters, maleic amides, and maleic imides. , Itaconic anhydride, itaconic esters, itaconic amides, itaconic imides, crotonic esters, crotonic amides, fumaric esters, fumaric amides, mesaconic esters, mesaconic amides Α, β-unsaturated lactones, α, β
-Unsaturated lactams, unsaturated hydrocarbons, vinyl ethers, vinyl esters, α, β-unsaturated ketones, styrenes, cyclic ethers, cyclic sulfides, cyclic amines, cyclic disulfides, aldehydes, Cyclic acetals, lactones, lactams, cyclic carbonates, cyclic ureas, cyclic urethanes, cyclic acid anhydrides,
Known monomers such as spiro orthocarbonates, spiro orthoesters, and acrylonitrile are exemplified.

【0078】アクリル酸エステル類の具体例としては、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、(n−又は
i−)プロピルアクリレート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルアクリレート、ペンチルアクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、ヘプチルアクリレート、オ
クチルアクリレート、ノニルアクリレート、デシルアク
リレート、アミルアクリレート、2−エチルヘキシルア
クリレート、ドデシルアクリレート、クロロエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、5−ヒドロキシペンチ
ルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、アリル
アクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレー
ト、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ベンジル
アクリレート、メトキシベンジルアクリレート、クロロ
ベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレー
ト、ヒドロキシフェネチルアクリレート、ジヒドロキシ
フェネチルアクリレート、フルフリルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、フェニルアクリレ
ート、ヒドロキシフェニルアクリレート、クロロフェニ
ルアクリレート、スルファモイルフェニルアクリレー
ト、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチ
ルアクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the acrylates include:
Methyl acrylate, ethyl acrylate, (n- or i-) propyl acrylate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl acrylate, pentyl acrylate, hexyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, decyl acrylate, amyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, dodecyl acrylate, chloroethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl Acrylate, 5-hydroxypentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, allyl acrylate, trimethylolpropane monoacrylate, pentaerythritol monoacrylate, benzyl acrylate, methoxybenzyl acrylate, chlorobenzyl acrylate, hydroxybenzyl acrylate, hydroxyphenethyl acrylate, dihydroxyphenethyl acryle DOO, furfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, hydroxyphenyl acrylate, chlorophenyl acrylate, sulfamoylphenyl acrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl acrylate.

【0079】アクリルアミド類の具体例としては、アク
リルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルア
クリルアミド、N−(n−又はi−)プロピルアクリル
アミド、N−(n−、i−、sec−又はt−)アクリ
ルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ヒドロキ
シエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミ
ド、N−トリルアクリルアミド、N−(ヒドロキシフェ
ニル)アクリルアミド、N−(スルファモイルフェニ
ル)アクリルアミド、N−(フェニルスルホニル)アク
リルアミド、N−(トリルスルホニル)アクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−メチル−N
−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチル−N
−メチルアクリルアミド等が挙げられる。
Specific examples of acrylamides include acrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N- (n- or i-) propylacrylamide, N- (n-, i-, sec- or t-) Acrylamide, N-benzylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-tolylacrylamide, N- (hydroxyphenyl) acrylamide, N- (sulfamoylphenyl) acrylamide, N- (phenylsulfonyl) acrylamide, N -(Tolylsulfonyl) acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methyl-N
-Phenylacrylamide, N-hydroxyethyl-N
-Methylacrylamide and the like.

【0080】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
(n−又はi−)プロピルメタクリレート、(n−、i
−、sec−又はt−)ブチルメタクリレート、ペンチ
ルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、ヘプチル
メタクリレート、オクチルメタクリレート、ノニルメタ
クリレート、デシルメタクリレート、アミルメタクリレ
ート、2−エチルヘキシルメタクリレート、ドデシルメ
タクリレート、クロロエチルメタクリレート、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、5−ヒドロキシペンチルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、アリルメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノメタクリレート、ベンジルメタ
クリレート、メトキシベンジルメタクリレート、クロロ
ベンジルメタクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリ
レート、ヒドロキシフェネチルメタクリレート、ジヒド
ロキシフェネチルメタクリレート、フルフリルメタクリ
レート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェ
ニルメタクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、クロロフェニルメタクリレート、スルファモイルフ
ェニルメタクリレート、2−(ヒドロキシフェニルカル
ボニルオキシ)エチルメタクリレート等が挙げられる。
Specific examples of methacrylates include methyl methacrylate, ethyl methacrylate,
(N- or i-) propyl methacrylate, (n-, i
-, Sec- or t-) butyl methacrylate, pentyl methacrylate, hexyl methacrylate, heptyl methacrylate, octyl methacrylate, nonyl methacrylate, decyl methacrylate, amyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, dodecyl methacrylate, chloroethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 5-hydroxypentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, allyl methacrylate, trimethylolpropane monomethacrylate, pentaerythritol monomethacrylate, benzyl methacrylate, methoxybenzyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, hydroxybenzyl methacrylate, hydroxy Phenethyl methacrylate, dihydroxyphenethyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, hydroxyphenyl methacrylate, chlorophenyl methacrylate, sulfamoylphenyl methacrylate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl methacrylate.

【0081】メタクリルアミド類の具体例としては、メ
タクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エ
チルメタクリルアミド、N−(n−又はi−)プロピル
メタクリルアミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)メタクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミ
ド、N−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、N−フェ
ニルメタクリルアミド、N−トリルメタクリルアミド、
N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−
(スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N−
(フェニルスルホニル)メタクリルアミド、N−(トリ
ルスルホニル)メタクリルアミド、N,N−ジメチルメ
タクリルアミド、N−メチル−N−フェニルメタクリル
アミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメタクリル
アミド等が挙げられる。
Specific examples of methacrylamides include methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-ethyl methacrylamide, N- (n- or i-) propyl methacrylamide, N- (n-, i-, sec. -Or t
-) Methacrylamide, N-benzyl methacrylamide, N-hydroxyethyl methacrylamide, N-phenyl methacrylamide, N-tolyl methacrylamide,
N- (hydroxyphenyl) methacrylamide, N-
(Sulfamoylphenyl) methacrylamide, N-
(Phenylsulfonyl) methacrylamide, N- (tolylsulfonyl) methacrylamide, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methyl-N-phenylmethacrylamide, N-hydroxyethyl-N-methylmethacrylamide and the like.

【0082】クロトン酸エステル類の具体例としては、
メチルクロトネート、エチルクロトネート、(n−又は
i−)プロピルクロトネート、(n−、i−、sec−
又はt−)ブチルクロトネート、ペンチルクロトネー
ト、ヘキシルクロトネート、ヘプチルクロトネート、オ
クチルクロトネート、ノニルクロトネート、デシルクロ
トネート、アミルクロトネート、2−エチルヘキシルク
ロトネート、ドデシルクロトネート、クロロエチルクロ
トネート、2−ヒドロキシエチルクロトネート、2−ヒ
ドロキシプロピルクロトネート、5−ヒドロキシペンチ
ルクロトネート、シクロヘキシルクロトネート、アリル
クロトネート、トリメチロールプロパンモノクロトネー
ト、ペンタエリスリトールモノクロトネート、ベンジル
クロトネート、メトキシベンジルクロトネート、クロロ
ベンジルクロトネート、ヒドロキシベンジルクロトネー
ト、ヒドロキシフェネチルクロトネート、ジヒドロキシ
フェネチルクロトネー卜、フルフリルクロトネート、テ
トラヒドロフルフリルクロトネート、フェニルクロトネ
ート、ヒドロキシフェニルクロトネート、クロロフェニ
ルクロトネート、スルファモイルフェニルクロトネー
ト、2−(ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)エチ
ルクロトネート等が挙げられる。
Specific examples of crotonic esters include:
Methyl crotonate, ethyl crotonate, (n- or i-) propyl crotonate, (n-, i-, sec-
Or t-) butyl crotonate, pentyl crotonate, hexyl crotonate, heptyl crotonate, octyl crotonate, nonyl crotonate, decyl crotonate, amyl crotonate, 2-ethylhexyl crotonate, dodecyl crotonate, chloroethyl crotonate , 2-hydroxyethyl crotonate, 2-hydroxypropyl crotonate, 5-hydroxypentyl crotonate, cyclohexyl crotonate, allyl crotonate, trimethylolpropane monocrotonate, pentaerythritol monocrotonate, benzyl crotonate, methoxy benzyl crotonate , Chlorobenzylcrotonate, hydroxybenzylcrotonate, hydroxyphenethylcrotonate, dihydroxyphenethylcrotonate Bok, furfuryl crotonate, tetrahydrofurfuryl crotonate, phenyl crotonate, hydroxyphenyl crotonate, chlorophenyl crotonate, sulfamoyl phenyl crotonate, 2- (hydroxyphenyl carbonyloxy) ethyl crotonate, and the like.

【0083】クロトン酸アミド類の具体例としては、ク
ロトン酸アミド、N−メチルクロトン酸アミド、N−エ
チルクロトン酸アミド、N−(n−又はi−)プロピル
クロトン酸アミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)クロトン酸アミド、N−ベンジルクロトン酸アミ
ド、N−ヒドロキシエチルクロトン酸アミド、N−フェ
ニルクロトン酸アミド、N−トリルクロトン酸アミド、
N−(ヒドロキシフェニル)クロトン酸アミド、N−
(スルファモイルフェニル)クロトン酸アミド、N−
(フェニルスルホニル)クロトン酸アミド、N−(トリ
ルスルホニル)クロトン酸アミド、N,N−ジメチルク
ロトン酸アミド、N−メチル−N−フェニルクロトン酸
アミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルクロトン酸
アミド等が挙げられる。
Specific examples of crotonamides include crotonamide, N-methylcrotonamide, N-ethylcrotonamide, N- (n- or i-) propylcrotonamide, N- (n- , I-, sec- or t
-) Crotonic acid amide, N-benzyl crotonic acid amide, N-hydroxyethyl crotonic acid amide, N-phenyl crotonic acid amide, N-tolyl crotonic acid amide,
N- (hydroxyphenyl) crotonamide, N-
(Sulfamoylphenyl) crotonamide, N-
(Phenylsulfonyl) crotonamide, N- (tolylsulfonyl) crotonamide, N, N-dimethylcrotonamide, N-methyl-N-phenylcrotonamide, N-hydroxyethyl-N-methylcrotonamide, etc. Is mentioned.

【0084】マレイン酸エステル類の具体例としては、
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸
ジ(n−又はi−)プロピル、マレイン酸ジ(n−、i
−、sec−又はt−)ブチル、マレイン酸ジフェニ
ル、マレイン酸ジアリル、マレイン酸モノメチル、マレ
イン酸モノエチル、マレイン酸モノ(n−又はi−)プ
ロピル、マレイン酸モノ(n−、i−、sec−又はt
−)ブチル、マレイン酸ジベンジル、マレイン酸モノベ
ンジル、マレイン酸メチルエチル、マレイン酸メチルプ
ロピル、マレイン酸エチルプロピル等が挙げられる。
Specific examples of maleic esters include:
Dimethyl maleate, diethyl maleate, di (n- or i-) propyl maleate, di (n-, i-maleate)
-, Sec- or t-) butyl, diphenyl maleate, diallyl maleate, monomethyl maleate, monoethyl maleate, mono (n- or i-) propyl maleate, mono (n-, i-, sec- Or t
-) Butyl, dibenzyl maleate, monobenzyl maleate, methyl ethyl maleate, methyl propyl maleate, ethyl propyl maleate and the like.

【0085】マレイン酸アミド類の具体例としては、マ
レイン酸アミド、N−メチルマレイン酸アミド、N−エ
チルマレイン酸アミド、N−(n−又はi−)プロピル
マレイン酸アミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)ブチルマレイン酸アミド、N−ベンジルマレイン酸
アミド、N−ヒドロキシエチルマレイン酸アミド、N−
フェニルマレイン酸アミド、N−トリルマレイン酸アミ
ド、N−(ヒドロキシフェニル)マレイン酸アミド、N
−(スルファモイルフェニル)マレイン酸アミド、N−
(フェニルスルホニル)マレイン酸アミド、N−(トリ
ルスルホニル)マレイン酸アミド、N,N−ジメチルマ
レイン酸アミド、N−メチル−N−フェニルマレイン酸
アミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルマレイン酸
アミド、N−メチルマレイン酸モノアミド、N−エチル
マレイン酸モノアミド、N,N−ジメチルマレイン酸モ
ノアミド、N−メチル−N’−エチルマレイン酸アミ
ド、N−メチル−N’−フェニルマレイン酸アミド等が
挙げられる。
Specific examples of maleic amides include maleic amide, N-methylmaleamide, N-ethylmaleamide, N- (n- or i-) propylmaleamide, N- (n- , I-, sec- or t
-) Butylmaleamide, N-benzylmaleamide, N-hydroxyethylmaleamide, N-
Phenylmaleamide, N-tolylmaleamide, N- (hydroxyphenyl) maleamide, N
-(Sulfamoylphenyl) maleamide, N-
(Phenylsulfonyl) maleamide, N- (tolylsulfonyl) maleamide, N, N-dimethylmaleamide, N-methyl-N-phenylmaleamide, N-hydroxyethyl-N-methylmaleamide, N-methylmaleic acid monoamide, N-ethylmaleic acid monoamide, N, N-dimethylmaleic acid monoamide, N-methyl-N'-ethylmaleic acid amide, N-methyl-N'-phenylmaleic acid amide and the like can be mentioned. .

【0086】マレイン酸イミド類の具体例としては、マ
レイン酸イミド、N−メチルマレイン酸イミド、N−エ
チルマレイン酸イミド、N−(n−又はi−)プロピル
マレイン酸イミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)ブチルマレイン酸イミド、N−ベンジルマレイン酸
イミド、N−ヒドロキシエチルマレイン酸イミド、N−
フェニルマレイン酸イミド、N−トリルマレイン酸イミ
ド、N−(ヒドロキシフェニル)マレイン酸イミド、N
−(スルファモイルフェニル)マレイン酸イミド、N−
(フェニルスルホニル)マレイン酸イミド、N−(トリ
ルスルホニル)マレイン酸イミド等が挙げられる。
Specific examples of maleic imides include maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N- (n- or i-) propylmaleimide, N- (n- , I-, sec- or t
-) Butylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-hydroxyethylmaleimide, N-
Phenylmaleimide, N-tolylmaleimide, N- (hydroxyphenyl) maleimide, N
-(Sulfamoylphenyl) maleimide, N-
(Phenylsulfonyl) maleimide, N- (tolylsulfonyl) maleimide and the like.

【0087】イタコン酸エステル類の具体例としては、
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸
ジ(n−又はi−)プロピル、イタコン酸ジ(n−、i
−、sec−又はt−)ブチル、イタコン酸ジフェニ
ル、イタコン酸ジアリル、イタコン酸モノメチル、イタ
コン酸モノエチル、イタコン酸モノ(n−又はi−)プ
ロピル、イタコン酸モノ(n−、i−、sec−又はt
−)ブチル、イタコン酸ジベンジル、イタコン酸モノベ
ンジル、イタコン酸メチルエチル、イタコン酸メチルプ
ロピル、イタコン酸エチルプロピル等が挙げられる。
Specific examples of itaconic esters include:
Dimethyl itaconate, diethyl itaconate, di (n- or i-) propyl itaconate, di (n-, i
-, Sec- or t-) butyl, diphenyl itaconate, diallyl itaconate, monomethyl itaconate, monoethyl itaconate, mono (n- or i-) propyl itaconate, mono (n-, i-, sec- itaconate) Or t
-) Butyl, dibenzyl itaconate, monobenzyl itaconate, methylethyl itaconate, methylpropyl itaconate, ethylpropyl itaconate and the like.

【0088】イタコン酸アミド類の具体例としては、イ
タコン酸アミド、N−メチルイタコン酸アミド、N−エ
チルイタコン酸アミド、N−(n−又はi−)ブロピル
イタコン酸アミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)ブチルイタコン酸アミド、N−ベンジルイタコン酸
アミド、N−ヒドロキシエチルイタコン酸アミド、N−
フェニルイタコン酸アミド、N−トリルイタコン酸アミ
ド、N−(ヒドロキシフェニル)イタコン酸アミド、N
−(スルファモイルフェニル)イタコン酸アミド、N−
(フェニルスルホニル)イタコン酸アミド、N−(トリ
ルスルホニル)イタコン酸アミド、N,N−ジメチルイ
タコン酸アミド、N−メチル−N−フェニルイタコン酸
アミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルイタコン酸
アミド、N−メチルイタコン酸モノアミド、N−エチル
イタコン酸モノアミド、N,N−ジメチルイタコン酸モ
ノアミド、N−メチル−N’−エチルイタコン酸アミ
ド、N−メチル−N’−フェニルイタコン酸アミド等が
挙げられる。
Specific examples of itaconamides include itaconamide, N-methylitaconamide, N-ethylitaconamide, N- (n- or i-) propylitaconamide, N- (n -, I-, sec- or t
-) Butyl itaconamide, N-benzyl itaconamide, N-hydroxyethyl itaconamide, N-
Phenylitaconamide, N-tolylitaconamide, N- (hydroxyphenyl) itaconamide, N
-(Sulfamoylphenyl) itaconamide, N-
(Phenylsulfonyl) itaconamide, N- (tolylsulfonyl) itaconamide, N, N-dimethylitaconamide, N-methyl-N-phenylitaconamide, N-hydroxyethyl-N-methylitaconamide, N-methylitaconic acid monoamide, N-ethylitaconic acid monoamide, N, N-dimethylitaconic acid monoamide, N-methyl-N'-ethylitaconic acid amide, N-methyl-N'-phenylitaconic acid amide and the like can be mentioned. .

【0089】イタコン酸イミド類の具体例としては、イ
タコン酸イミド、N−メチルイタコン酸イミド、N−エ
チルイタコン酸イミド、N−(n−又はi−)プロピル
イタコン酸イミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)ブチルイタコン酸イミド、N−ベンジルイタコン酸
イミド、N−ヒドロキシエチルイタコン酸イミド、N−
フェニルイタコン酸イミド、N−トリルイタコン酸イミ
ド、N−(ヒドロキシフェニル)イタコン酸イミド、N
−(スルファモイルフェニル)イタコン酸イミド、N−
(フェニルスルホニル)イタコン酸イミド、N−(トリ
ルスルホニル)イタコン酸イミド等が挙げられる。
Specific examples of itaconic imides include itaconimide, N-methylitaconimide, N-ethylitaconimide, N- (n- or i-) propylitaconimide, N- (n- , I-, sec- or t
-) Butyl itaconimide, N-benzyl itaconimide, N-hydroxyethyl itaconimide, N-
Phenylitaconimide, N-toluitaconimide, N- (hydroxyphenyl) itaconimide, N
-(Sulfamoylphenyl) itaconimide, N-
(Phenylsulfonyl) itaconimide, N- (tolylsulfonyl) itaconimide and the like.

【0090】フマル酸エステル類の具体例としては、フ
マル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ(n−
又はi−)プロピル、フマル酸ジ(n−、i−、sec
−又はt−)ブチル、フマル酸ジフェニル、フマル酸ジ
アリル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フ
マル酸モノ(n−又はi−)プロピル、フマル酸モノ
(n−、i−、sec−又はt−)ブチル、フマル酸ジ
ベンジル、フマル酸モノベンジル、フマル酸メチルエチ
ル、フマル酸メチルプロピル、フマル酸エチルプロピル
等が挙げられる。
Specific examples of fumaric esters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate and di (n-fumarate).
Or i-) propyl, fumarate di (n-, i-, sec)
-Or t-) butyl, diphenyl fumarate, diallyl fumarate, monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, mono (n- or i-) propyl fumarate, mono (n-, i-, sec- or t-) fumarate ) Butyl, dibenzyl fumarate, monobenzyl fumarate, methylethyl fumarate, methylpropyl fumarate, ethylpropyl fumarate and the like.

【0091】フマル酸アミド類の具体例としては、フマ
ル酸アミド、N−メチルフマル酸アミド、N−エチルフ
マル酸アミド、N−(n−又はi−)プロピルフマル酸
アミド、N−(n−、i−、sec−又はt−)ブチル
フマル酸アミド、N−ベンジルフマル酸アミド、N−ヒ
ドロキシエチルフマル酸アミド、N−フェニルフマル酸
アミド、N−トリルフマル酸アミド、N−(ヒドロキシ
フェニル)フマル酸アミド、N−(スルファモイルフェ
ニル)フマル酸アミド、N−(フェニルスルホニル)フ
マル酸アミド、N−(トリルスルホニル)フマル酸アミ
ド、N,N−ジメチルフマル酸アミド、N−メチル−N
−フェニルフマル酸アミド、N−ヒドロキシエチル−N
−メチルフマル酸アミド、N−メチルフマル酸モノアミ
ド、N−エチルフマル酸モノアミド、N,N−ジメチル
フマル酸モノアミド、N−メチル−N’−エチルフマル
酸アミド、N−メチル−N’−フェニルフマル酸アミド
等が挙げられる。
Specific examples of fumaric acid amides include fumaric acid amide, N-methyl fumaric acid amide, N-ethyl fumaric acid amide, N- (n- or i-) propyl fumaric acid amide, N- (n-, i- -, Sec- or t-) butyl fumaric acid amide, N-benzyl fumaric acid amide, N-hydroxyethyl fumaric acid amide, N-phenyl fumaric acid amide, N-tolyl fumaric acid amide, N- (hydroxyphenyl) fumaric acid amide, N- (sulfamoylphenyl) fumaric acid amide, N- (phenylsulfonyl) fumaric acid amide, N- (tolylsulfonyl) fumaric acid amide, N, N-dimethyl fumaric acid amide, N-methyl-N
-Phenyl fumaric acid amide, N-hydroxyethyl-N
-Methyl fumaric acid amide, N-methyl fumaric acid monoamide, N-ethyl fumaric acid monoamide, N, N-dimethyl fumaric acid monoamide, N-methyl-N'-ethyl fumaric acid amide, N-methyl-N'-phenyl fumaric acid amide, etc. No.

【0092】メサコン酸エステル類の具体例としては、
メサコン酸ジメチル、メサコン酸ジエチル、メサコン酸
ジ(n−、又はi−)プロピル、メサコン酸ジ(n−、
i−、sec−又はt−)ブチル、メサコン酸ジフェニ
ル、メサコン酸ジアリル、メサコン酸モノメチル、メサ
コン酸モノエチル、メサコン酸モノ(n−又はi−)プ
ロピル、メサコン酸モノ(n−、i−、sec−又はt
−)ブチル、メサコン酸ジベンジル、メサコン酸モノベ
ンジル、メサコン酸メチルエチル、メサコン酸メチルプ
ロピル、メサコン酸エチルプロピル等が挙げられる。
Specific examples of the mesaconate esters include:
Dimethyl mesaconate, diethyl mesaconate, di (n- or i-) propyl mesaconate, di (n-, mesaconate)
i-, sec- or t-) butyl, diphenyl mesaconate, diallyl mesaconate, monomethyl mesaconate, monoethyl mesaconate, mono (n- or i-) propyl mesaconate, mono (n-, i-, sec -Or t
-) Butyl, dibenzyl mesaconate, monobenzyl mesaconate, methylethyl mesaconate, methylpropyl mesaconate, ethylpropyl mesaconate and the like.

【0093】メサコン酸アミド類の具体例としては、メ
サコン酸アミド、N−メチルメサコン酸アミド、N−エ
チルメサコン酸アミド、N−(n−又はi−)プロピル
メサコン酸アミド、N−(n−、i−、sec−又はt
−)ブチルメサコン酸アミド、N−ベンジルメサコン酸
アミド、N−ヒドロキシエチルメサコン酸アミド、N−
フェニルメサコン酸アミド、N−トリルメサコン酸アミ
ド、N−(ヒドロキシフェニル)メサコン酸アミド、N
−(スルファモイルフェニル)メサコン酸アミド、N−
(フェニルスルホニル)メサコン酸アミド、N−(トリ
ルスルホニル)メサコン酸アミド、N,N−ジメチルメ
サコン酸アミド、N−メチル−N−フェニルメサコン酸
アミド、N−ヒドロキシエチル−N−メチルメサコン酸
アミド、N−メチルメサコン酸モノアミド、N−エチル
メサコン酸モノアミド、N,N−ジメチルメサコン酸モ
ノアミド、N−メチル−N’−エチルメサコン酸アミ
ド、N−メチル−N’−フェニルメサコン酸アミド等が
挙げられる。
Specific examples of mesaconic amides include mesaconic amide, N-methyl mesaconic amide, N-ethyl mesaconic amide, N- (n- or i-) propyl mesaconic amide, N- (n-, i-, sec- or t
-) Butyl mesaconamide, N-benzyl mesaconamide, N-hydroxyethyl mesaconamide, N-
Phenyl mesaconic amide, N-tolyl mesaconic amide, N- (hydroxyphenyl) mesaconic amide, N
-(Sulfamoylphenyl) mesaconic amide, N-
(Phenylsulfonyl) mesaconamide, N- (tolylsulfonyl) mesaconamide, N, N-dimethylmesaconamide, N-methyl-N-phenylmesaconamide, N-hydroxyethyl-N-methylmesaconamide , N-methyl mesaconic acid monoamide, N-ethyl mesaconic acid monoamide, N, N-dimethyl mesaconic acid monoamide, N-methyl-N'-ethyl mesaconic acid amide, N-methyl-N'-phenyl mesaconic amide and the like. .

【0094】スチレン類の具体例としては、スチレン、
メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレ
ン、エチルスチレン、プロピルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレン、メトキシスチレン、ジメトキシスチレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ヨードスチレン、フルオロスチレン、カルボキシスチレ
ン等が挙げられる。
Specific examples of styrenes include styrene,
Methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, propylstyrene, cyclohexylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, ethoxymethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, dimethoxystyrene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Examples thereof include iodostyrene, fluorostyrene, carboxystyrene, and the like.

【0095】α,β−不飽和ラクトン類の具体例として
は、以下のような化合物が挙げられる。
Specific examples of α, β-unsaturated lactones include the following compounds.

【0096】[0096]

【化29】 Embedded image

【0097】α,β−不飽和ラクタム類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the α, β-unsaturated lactams include the following compounds.

【0098】[0098]

【化30】 Embedded image

【0099】不飽和炭化水素類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the unsaturated hydrocarbons include the following compounds.

【0100】[0100]

【化31】 Embedded image

【0101】ビニルエーテル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of vinyl ethers include the following compounds.

【0102】[0102]

【化32】 Embedded image

【0103】ビニルエステル類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of vinyl esters include the following compounds.

【0104】[0104]

【化33】 Embedded image

【0105】α,β−不飽和ケトン類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the α, β-unsaturated ketones include the following compounds.

【0106】[0106]

【化34】 Embedded image

【0107】環状エーテル類の具体例としては、以下の
ような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic ethers include the following compounds.

【0108】[0108]

【化35】 Embedded image

【0109】環状スルフイド類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic sulfides include the following compounds.

【0110】[0110]

【化36】 Embedded image

【0111】環状アミン類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic amines include the following compounds.

【0112】[0112]

【化37】 Embedded image

【0113】環状ジスルフィド類の具体例としては、以
下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of cyclic disulfides include the following compounds.

【0114】[0114]

【化38】 Embedded image

【0115】アルデヒド類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。
Specific examples of aldehydes include the following compounds.

【0116】[0116]

【化39】 Embedded image

【0117】環状アセタール類の具体例としては、以下
のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic acetal include the following compounds.

【0118】[0118]

【化40】 Embedded image

【0119】ラクトン類の具体例としては、以下のよう
な化合物等が挙げられる。
Specific examples of lactones include the following compounds.

【0120】[0120]

【化41】 Embedded image

【0121】ラクタム類の具体例としては、以下のよう
な化合物等が挙げられる。
Specific examples of lactams include the following compounds.

【化42】 Embedded image

【0122】環状カーボネート類の具体例としては、以
下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic carbonates include the following compounds.

【0123】[0123]

【化43】 Embedded image

【0124】環状ウレア類の具体例としては、以下のよ
うな化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic ureas include the following compounds.

【0125】[0125]

【化44】 Embedded image

【0126】環状ウレタン類の具体例としては、以下の
ような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic urethanes include the following compounds.

【0127】[0127]

【化45】 Embedded image

【0128】環状酸無水物類の具体例としては、以下の
ような化合物等が挙げられる。
Specific examples of the cyclic acid anhydrides include the following compounds.

【0129】[0129]

【化46】 Embedded image

【0130】スピロオルトカーボネート類の具体例とし
ては、以下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of spiro orthocarbonates include the following compounds.

【0131】[0131]

【化47】 Embedded image

【0132】スピロオルトエステル類の具体例として
は、以下のような化合物等が挙げられる。
Specific examples of spiro ortho esters include the following compounds.

【0133】[0133]

【化48】 Embedded image

【0134】本発明の極性変換高分子化合物の合成に使
用される、熱により疎水性から親水性に変化する官能基
を有するモノマーの割合は、10〜95重量%が好まし
く、40〜90重量%がより好ましい。熱により疎水性
から親水性に変化する官能基を有するモノマーの割合が
10重量%より少ないと、熱による極性変換の程度が小
さ過ぎるために、画像部と非画像部の親疎水性の差が小
さく画像が不鮮明になる。また、95重量%より多い
と、画像形成層加熱部の基板近傍部分において充分な親
水性が得られなくなるために、印刷時に非画像部に汚れ
が生じる。この熱により疎水性から親水性に変化する官
能基を有するモノマーは、1種類のみを使用しても良い
し、2種類以上を混合して使用しても良い。
The proportion of the monomer having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by heat used in the synthesis of the polarity conversion polymer compound of the present invention is preferably from 10 to 95% by weight, more preferably from 40 to 90% by weight. Is more preferred. If the proportion of the monomer having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat is less than 10% by weight, the degree of polarity conversion by heat is too small, and the difference in hydrophilicity between the image area and the non-image area is small. The image becomes blurred. On the other hand, if the content is more than 95% by weight, sufficient hydrophilicity cannot be obtained in the vicinity of the substrate in the heating portion of the image forming layer, so that the non-image portion is stained during printing. The monomer having a functional group that changes from hydrophobic to hydrophilic by heat may be used alone or in combination of two or more.

【0135】本発明で使用される極性変換高分子化合物
の合成に使用される、親水性官能基を有するモノマーの
割合は、5〜50重量%が好ましく、10〜40重量%
がより好ましい。親水性官能基を有するモノマーの割合
が、5重量%より少ないと、画像形成層加熱部の基板近
傍部分において充分な親水性が得られなくなるために、
印刷時に非画像部に汚れが生じる。また、50重量%よ
り多いと、もともと親水性の高い高分子化合物となって
しまうために、未加熱部分も印刷時に除去されやすく、
画像が不鮮明になったり耐刷性が悪くなったりしてしま
う。この親水性官能基を有するモノマーは、1種類のみ
を使用しても良いし、2種類以上を混合して使用しても
良い。
The proportion of the monomer having a hydrophilic functional group used for synthesizing the polarity conversion polymer compound used in the present invention is preferably 5 to 50% by weight, and more preferably 10 to 40% by weight.
Is more preferred. If the proportion of the monomer having a hydrophilic functional group is less than 5% by weight, sufficient hydrophilicity cannot be obtained in the vicinity of the substrate in the heating section of the image forming layer.
Non-image areas are stained during printing. Also, if the content is more than 50% by weight, the polymer becomes a polymer compound having high hydrophilicity from the beginning, so that the unheated portion is easily removed at the time of printing.
The image becomes unclear or the printing durability deteriorates. As the monomer having a hydrophilic functional group, only one kind may be used, or two or more kinds may be mixed and used.

【0136】本発明で使用される極性変換高分子化合物
の合成に、第3成分である共重合可能な他のモノマーを
使用する場合、第3成分である共重合可能な他のモノマ
ーの割合は、熱により疎水性から親水性に変化する官能
基を有するモノマーと親水性官能基を有するモノマーが
好ましい割合で使用されている限り、どの様な割合でも
使用することができる。この第3成分である共重合可能
な他のモノマーは、1種類のみを使用しても良いし、2
種類以上を混合して使用しても良い。以下に、本発明で
使用される極性変換高分子化合物の具体例を示す。但
し、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the case of using another copolymerizable monomer as the third component for the synthesis of the polarity conversion polymer compound used in the present invention, the ratio of the third copolymerizable other monomer is as follows. Any ratio can be used as long as a monomer having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by heat and a monomer having a hydrophilic functional group are used in a preferable ratio. As the third component, another copolymerizable monomer, only one type may be used, or 2
More than one kind may be mixed and used. Hereinafter, specific examples of the polarity conversion polymer compound used in the present invention will be shown. However, the present invention is not limited to these.

【0137】[0137]

【化49】 Embedded image

【0138】[0138]

【化50】 Embedded image

【0139】[0139]

【化51】 Embedded image

【0140】[0140]

【化52】 Embedded image

【0141】[0141]

【化53】 Embedded image

【0142】[0142]

【化54】 Embedded image

【0143】また、本発明の平版印刷用原版で使用され
る極性変換高分子化合物のGPCで測定した重量平均分
子量は、好ましくは2000以上であり、更に好ましく
は5000〜30万の範囲であり、数平均分子量は好ま
しくは800以上であり、更に好ましくは1000〜2
5万の範囲である。多分散度(重量平均分子量/数平均
分子量)は1以上が好ましく、更に好ましくは1.1〜
10の範囲である。これらの高分子化合物は、ランダム
ポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等何れ
でもよいが、ランダムポリマーであることが好ましい。
The weight-average molecular weight of the polarity-converting polymer compound used in the lithographic printing plate precursor according to the invention, measured by GPC, is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 to 300,000. The number average molecular weight is preferably 800 or more, more preferably 1000 to 2
The range is 50,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, more preferably 1.1 to 1.1.
The range is 10. These polymer compounds may be any of a random polymer, a block polymer, a graft polymer and the like, but are preferably random polymers.

【0144】本発明で使用される極性変換高分子化合物
を合成する際に用いられる溶媒としては、テトラヒドロ
フラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテ
ー卜、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1−メ
トキシ−2−プロパノール、1−メトキシ−2−プロピ
ルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙
げられる。これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合
して用いることができる。
Solvents used for synthesizing the polarity conversion polymer compound used in the present invention include tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, and the like.
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0145】本発明で使用される極性変換高分子化合物
を合成する際に用いられるラジカル重合開始剤として
は、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等の公知の化合物が
使用できる。また、本発明で使用される極性変換高分子
化合物を合成する際に用いられるカチオン重合開始剤と
しては、過塩素酸、フルオロスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸、12−モリブドリン酸、12−タン
グストリン酸等のプロトン酸、トリフルオロメタンスル
ホン酸メチル、フルオロスルホン酸メチル等の超強酸エ
ステル、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、フルオ
ロスルホン酸無水物等の超強酸無水物、PF5、Sb
5,BF3等のルイス酸、Et3OSbF6、Et3OB
4等のオキソニウム塩、Ph3CPF6、Ph2CHCl
+AgSbF6等のカルベニウム塩、PhCOCl+A
gSbF6等のオキソカルベニウム塩、1,3−ジオキ
ソラン−2−イリウムヘキサフルオロアンチモナート等
のジオキサカルベニウム塩、ベンジル−p−シアノピリ
ジニウムヘキサフルオロアンチモナート、(p−メトキ
シベンジル)−p−シアノピリジニウムヘキサフルオロ
アンチモナート等の熱潜在性開始剤、ジフェニルヨード
ニウムヘキサフルオロアンチモネート等のヨードニウム
塩、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート等のスルホニウム塩等の公知の化合物が使用でき
る。本発明で使用される極性変換高分子化合物は一種類
のみで用いてもよいし、数種類を混合して用いてもよ
い。
As the radical polymerization initiator used when synthesizing the polarity conversion polymer compound used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used. Examples of the cationic polymerization initiator used when synthesizing the polarity conversion polymer compound used in the present invention include perchloric acid, fluorosulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, 12-molybdophosphoric acid, and 12-tungstophosphoric acid. And super-strong acid esters such as methyl trifluoromethanesulfonate and methyl fluorosulfonate; super-strong acid anhydrides such as trifluoromethanesulfonic anhydride and fluorosulfonic anhydride; PF 5 , Sb
F 5, BF 3 and the like Lewis acids, Et 3 OSbF 6, Et 3 OB
Oxonium salts such as F 4 , Ph 3 CPF 6 , Ph 2 CHCl
+ AgSbF 6 and other carbenium salts, PhCOCl + A
GSbF 6 oxocarbenium salts such as, 1,3-dioxolan-2-ylium hexafluoroantimonate and di oxacarbenium salts, benzyl-p-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, (p-methoxybenzyl)-p- Known compounds such as thermal latent initiators such as cyanopyridinium hexafluoroantimonate, iodonium salts such as diphenyliodonium hexafluoroantimonate, and sulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluoroantimonate can be used. The polarity conversion polymer compound used in the present invention may be used alone or as a mixture of several types.

【0146】本発明で使用される画像形成層は、極性変
換高分子化合物単独で構成されてもよいし、また極性変
換高分子化合物と必要に応じて本発明の効果を損なわな
い範囲で他の成分により構成されてもよい。極性変換高
分子化合物は画像形成層の全固形物分の50〜95重量
%、好ましくは70〜95重量%の割合で使用すること
ができる。添加量が50重量%未満の場合は、画像強度
が弱くなり、耐刷性が低下する。また添加量が95重量
%を超える場合は、サーマルヘッド等による加熱やレー
ザー露光による光熱変換により画像形成が十分できなく
なる。
The image-forming layer used in the present invention may be composed of the polarity-converting polymer compound alone, or may be, if necessary, combined with the polarity-converting polymer compound within a range not to impair the effects of the present invention. It may be composed of components. The polarity conversion polymer compound can be used in a proportion of 50 to 95% by weight, preferably 70 to 95% by weight of the total solids in the image forming layer. When the addition amount is less than 50% by weight, the image strength becomes weak and the printing durability is lowered. If the addition amount exceeds 95% by weight, image formation cannot be sufficiently performed due to heating by a thermal head or the like or photothermal conversion by laser exposure.

【0147】本発明に使用されるの画像形成層の極性変
換高分子化合物以外の構成成分としては以下のような化
合物が挙げられる。
The following compounds may be mentioned as constituents other than the polarity conversion polymer compound of the image forming layer used in the present invention.

【0148】(光吸収剤)本発明の平版印刷版用原版を
レーザー露光により画像を形成する平版印刷版用原版と
して用いる場合には、平版印刷版用原版の画像形成層に
光吸収剤を添加する。本発明において好ましく使用され
る光吸収剤は、波長760〜1200nmの光を有効に
吸収する染料又は顔料である。より好ましくは、波長7
60〜1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料で
ある。染料としては、市販の染料及び文献(例えば「染
料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年刊)に記載
されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ
染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アント
ラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染
料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、金
属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
(Light Absorbing Agent) When the lithographic printing plate precursor of the invention is used as a lithographic printing plate precursor for forming an image by laser exposure, a light absorbing agent is added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor. I do. The light absorber preferably used in the present invention is a dye or pigment that effectively absorbs light having a wavelength of 760 to 1200 nm. More preferably, the wavelength 7
It is a dye or pigment having an absorption maximum at 60 to 1200 nm. As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures (for example, "Dye Handbook" edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specific examples include azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, and dyes such as metal thiolate complexes.

【0149】好ましい染料としては例えば特開昭58−
125246号、特開昭59−84356号、特開昭5
9−202829号、特開昭60−78787号等の公
報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173
696号、特開昭58−181690号、特開昭58−
194595号等の公報に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号等の公報に記載されているナフトキノン染料、
特開昭58−112792号等の公報に記載されている
スクワリリウム色素、英国特許第434,875号公報
に記載のシアニン染料等を挙げることができる。
Preferred dyes are described in, for example, JP-A-58-1983.
125246, JP-A-59-84356, JP-A-5-84356
Cyanine dyes described in JP-A Nos. 9-202829 and 60-78787;
696, JP-A-58-181690, JP-A-58-181
Methine dyes described in publications such as 194595,
JP-A-58-112793, JP-A-58-22479
No. 3, JP-A-59-48187, JP-A-59-739
No. 96, JP-A-60-52940, JP-A-60-63
Naphthoquinone dyes described in publications such as 744;
Examples include squarylium dyes described in JP-A-58-112792 and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0150】また、米国特許第5,156,938号公
報に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、
米国特許第3,881,924号公報に記載の置換され
たアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−
142645号(米国特許第4,327,169号)公
報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−
181051号、同58−220143号、同59−4
1363号、同59−84248号、同59−8424
9号、同59−146063号、同59−146061
号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭5
9−216146号公報に記載のシアニン色素、米国特
許第4,283,475号公報に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−1
9702号公報に開示されているピリリウム化合物も好
ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used.
Substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924;
No. 142645 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt disclosed in
No. 181051, No. 58-220143, No. 59-4
Nos. 1363, 59-84248, 59-8424
No. 9, No. 59-146063, No. 59-146061
Pyrylium-based compounds described in Japanese Patent Application Laid-open No.
No. 9-216146, cyanine dyes described in U.S. Pat. No. 4,283,475, pentamethine thiopyrylium salts, and Japanese Patent Publication Nos. 5-135514 and 5-1.
A pyrylium compound disclosed in JP 9702 is also preferably used.

【0151】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号公報中に式(I)、(I
I)として記載されている近赤外吸収染料を挙げること
ができる。これらの染料のうち特に好ましいものとして
は、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
As another preferred example of the dye, the compounds represented by formulas (I) and (I) are described in US Pat. No. 4,756,993.
Mention may be made of near-infrared absorbing dyes described under I). Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes.

【0152】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類として
は、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、
赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、
金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。
具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合ア
ゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、ア
ントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チ
オインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン
系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔
料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニ
トロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブ
ラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいも
のはカーボンブラックである。
The pigment used in the present invention includes
Commercial Pigment and Color Index (CI) Handbook,
"Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing, 1984)
Can be used. The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment,
Red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, fluorescent pigment,
Metal powder pigments and other polymer-bound dyes can be used.
Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like. Preferred among these pigments is carbon black.

【0153】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Methods of surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate).
Can be conceived on the surface of the pigment. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo)
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0154】顔料の粒径は0.01〜10μmの範囲に
あることが好ましく、0.05〜1μmの範囲にあるこ
とが更に好ましく、特に0.1〜1μmの範囲にあるこ
とが好ましい。顔料の粒径が0.01μm未満のときは
分散物の感光性組成物の塗布液中での安定性の点で好ま
しくなく、また、10μmを越えると塗布後の画像記録
層の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法と
しては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の
分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散
器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパー
ミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 to 1 μm. When the particle size of the pigment is less than 0.01 μm, it is not preferable in terms of the stability of the dispersion in the coating solution of the photosensitive composition, and when it exceeds 10 μm, the uniformity of the image recording layer after coating is lowered. Is not preferred. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0155】これらの染料若しくは顔料は、本発明の平
版印刷版用原版の画像形成層の組成物全固形物分に対し
0.01〜50重量%、好ましくは0.1〜10重量
%、染料の場合特に好ましくは0.5〜10重量%、顔
料の場合特に好ましくは1.0〜10重量%の割合で添
加することができる。顔料若しくは染料の添加量が0.
01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量
%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生しやすい。
These dyes or pigments are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1 to 10% by weight, based on the total solid content of the composition of the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention. Is particularly preferably 0.5 to 10% by weight, and in the case of a pigment, 1.0 to 10% by weight can be particularly preferably added. When the amount of the pigment or dye added is 0.
When the amount is less than 01% by weight, the sensitivity is lowered, and when the amount exceeds 50% by weight, stains are apt to occur in the non-image area during printing.

【0156】(酸発生剤)本発明の平版印刷版用原版を
レーザー露光により画像を形成する平版印刷版用原版と
して用いる場合には、平版印刷版用原版の画像形成層中
に光若しくは熱により酸を発生させる化合物(以下、酸
発生剤と呼ぶ)を添加することが望ましい。ただし、前
記の極性変換高分子化合物はそれ自身熱により酸を発生
し、酸発生剤としての機能を発揮することもあり、かか
る場合には特に他の酸発生剤を併用しなくても画像を形
成することができるため、酸発生剤は必須ではない。
(Acid Generator) When the lithographic printing plate precursor according to the present invention is used as a lithographic printing plate precursor for forming an image by laser exposure, light or heat is applied to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor. It is desirable to add a compound that generates an acid (hereinafter, referred to as an acid generator). However, the above-mentioned polarity conversion polymer compound itself generates an acid by heat, and sometimes exhibits a function as an acid generator. In such a case, an image can be obtained without using another acid generator in particular. An acid generator is not required as it can be formed.

【0157】本発明に用いられる酸発生剤としては、以
下のような公知の化合物を選択して用いることができ
る。例えば、S.I.Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 1
8, 387(1974)、T.S.Ba1 etal., Polymer, 21, 423(198
0) 等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056号、特開平3-140,140号等の公報に記載
のアンモニウム塩、D.C.Necker etal., Macromolecule
s, 17, 2468(1984)、C.S.Wen etal., Teh, Proc.Conf.
Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct(1988)、米国特許
第4,069,055号、同4,069,056号等の公報に記載のホスホ
ニウム塩、J.V.Crivello etal., Macromorecules, 10
(6), 1307(1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31(1
988)、欧州特許第104,143号、米国特許第339,049号、同
第410,201号、特開平2-150,848 号、特開平2-296,514号
等の公報に記載のヨードニウム塩、
As the acid generator used in the present invention, the following known compounds can be selected and used. For example, SI Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., 1
8, 387 (1974), TSBa1 etal., Polymer, 21, 423 (198
0) etc., U.S. Pat.No.4,069,055
No. 4,069,056, ammonium salts described in JP-A-3-140,140 and the like, DCNecker et al., Macromolecule
s, 17, 2468 (1984), CSwen et al., Teh, Proc. Conf.
Rad.Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), U.S. Pat.Nos. 4,069,055 and 4,069,056, phosphonium salts described in publications such as JVCrivello et al., Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (1
988), European Patent No. 104,143, U.S. Patent No. 339,049, No. 410,201, JP-A-2-150,848, iodonium salts described in JP-A-2-296,514 and the like,

【0158】J.V.Crivello etal., Polymer J. 17, 73
(1985)、J.V.Crivello etal., J. Org.Chem., 43, 3055
(1978) 、W.R.Watt etal., J.Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 22, 1789(1984)、J.V.Crivello etal., Poly
mer Bull., 14, 279(1985)、J.V.Crivello etal, Macro
morecules, 14(5), 1141(1981)、J.V.Crivello etal.,
J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877(1979)
、欧州特許第370,693号、米国特許3,902,114 号、欧州
特許第233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特
許第4,933,377号、同410,201号、同339,049号、同4,76
0,013号、同4,734,444 号、同2,833,827号、独国特許第
2,904,626号、同 3,604,580号、同3,604,581 号等の公
報に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello etal., Macr
omorecules,10(6), 1307(1977)、J.V.Crivello etal.,
J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047(197
9)等に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen etal., Teh, Pr
oc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, 0ct(1988)
等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第
3,905,815号、特公昭46-4605号、特開昭48-36281号、特
開昭55-32070号、特開昭60-239736号、特開昭61-169835
号、特開昭61-169837号、特開昭62-58241号、特開昭62-
212401号、特開昭63-70243号、特開昭63-298339号等の
公報に記載の有機ハロゲン化合物、
JVCrivello et al., Polymer J. 17, 73
(1985), JVCrivello et al., J. Org.Chem., 43, 3055.
(1978), WRWatt et al., J. Polymer Sci., Polymer C
hem. Ed., 22, 1789 (1984), JVCrivello etal., Poly
mer Bull., 14, 279 (1985), JVCrivello etal, Macro
morecules, 14 (5), 1141 (1981), JVCrivello etal.,
J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979)
, EP 370,693, U.S. Patent 3,902,114, EP 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Patents 4,933,377, 410,201, 339,049, 4,76
No. 0,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent No.
2,904,626, 3,604,580, 3,604,581, and the like, and sulfonium salts described in JVCrivello et al., Macr.
omorecules, 10 (6), 1307 (1977), JVCrivello etal.,
J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (197
9) etc., selenonium salts, CSwen et al., Teh, Pr
oc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, 0ct (1988)
Onium salts such as arsonium salts described in U.S. Pat.
3,905,815, JP-B-46-4605, JP-A-48-36281, JP-A-55-32070, JP-A-60-239736, JP-A-61-169835
No., JP-A-61-169837, JP-A-62-58241, JP-A-62-58241
212401, JP-A-63-70243, organic halogen compounds described in JP-A-63-298339 and the like,

【0159】K.Meier etal., J.Rad.Curing, 13(4), 26
(1986)、T.P.Gill etal., Inorg. Chem., 19, 3007(198
0) 、D.Astruc, Acc. Chem. Res., 19(12), 377(189
6)、特開平2-161445号等の公報に記載の有機金属/有機
ハロゲン化物、S.Hayase etal.,J. Polymer Sci., 25,
753(1987)、E.Reichmanis etal., J. Po1ymer Sci., Po
1ymer Chem. Ed., 23, 1(1985) 、Q.Q.Zhu etal., J. P
hotochem., 36, 85, 39,317(1987) 、B. Amit etal., T
etrahedron Lett., (24) 2205(1973) 、D.H.R.Barton e
tal., J.Chem Soc., 3571(1965) 、P.M.Collins etal.,
J. Chem. Soc.,Perkin I,1695(1975)、M.Rudinstein e
tal, Tetrahedron Lett., (17), 1445(1975)、J.W.Walk
er etal., J. Am. Chem. Soc., 110,7170(1988)、S.C.B
usman etal., J.Imaging Technol., 11(4), 191(1985)
、H.M.Houlihan etal., Macromolecules, 21,2001(198
8)、P.M.Collins etal., J. Chem. Soc., Chem. Commu
n., 532(1972)、S.Hayase etal., Macromolecules, 1
8, 1799(1985)、E.Reichmanisetal., J. Electrochem.
Soc., So1id State Sci. Technol., 130(6)、F.M.Houli
han etal., Macromolcules, 21, 2001(1988) 、欧州特
許第0290,750号、同046,083 号、同156,535号、同271,8
51 号、同0,388,343号、米国特許第3,901,710号、同4,1
81,531号、特開昭60-198538号、特開昭53-133022号等の
公報に記載のo−ニトロベンジル型保護基を有する光酸
発生剤、
K. Meier et al., J. Rad. Curing, 13 (4), 26
(1986), TPGill et al., Inorg.Chem., 19, 3007 (198
0), D. Astruc, Acc. Chem. Res., 19 (12), 377 (189
6), organometallic / organic halides described in JP-A-2-14145 and the like, S. Hayase et al., J. Polymer Sci., 25,
753 (1987), E. Reichmanis et al., J. Po1ymer Sci., Po
1ymer Chem. Ed., 23, 1 (1985), QQZhu et al., J. P.
hotochem., 36, 85, 39,317 (1987), B. Amit et al., T
etrahedron Lett., (24) 2205 (1973), DHRBarton
tal., J. Chem Soc., 3571 (1965), PM Collins et al.,
J. Chem. Soc., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinsteine
tal, Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975), JWWalk
er etal., J. Am. Chem. Soc., 110, 7170 (1988), SCB
usman etal., J. Imaging Technol., 11 (4), 191 (1985)
, HM Houlihan et al., Macromolecules, 21, 2001 (198
8), PMCollins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commu
n., 532 (1972), S. Hayase etal., Macromolecules, 1
8, 1799 (1985), E. Reichmanisetal., J. Electrochem.
Soc., So1id State Sci. Technol., 130 (6), FMHouli
han etal., Macromolcules, 21, 2001 (1988), European Patent Nos. 0290,750, 046,083, 156,535, 271,8
No. 51, No. 0,388,343, U.S. Pat.Nos. 3,901,710, 4,1
81,531, JP-A-60-198538, a photoacid generator having an o-nitrobenzyl-type protecting group described in JP-A-53-133022 and the like,

【0160】M.TUNOOKA etal., Polymer Preprints Jap
an, 35(8) 、G.Bermer etal, J.Rad,Curing, 13(4)、W.
J.Mijs etal, Coating Technol., 55(697)., 45(198
3)、Akzo, H.Adachi etal., Polymer Preprints, Japa
n, 37(3) 、欧州特許第0199,672号、同84515号、同199,
672号、同044,115号、同0101,122 号、米国特許第4,61
8,564号、同4,371,605号、同4,431,774号、特開昭64-18
143号、特開平2-245756号、特願平3-140109号等の公報
に記載のイミノスルフォネート等に代表される光分解し
てスルホン酸を発生する化合物、特開昭61-166544号等
の公報に記載のジスルホン化合物、特開昭50-36209号
(米国特許第3969118号)公報に記載のo−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸ハライド、特開昭55-62444号
(英国特許第2038801号)公報に記載あるいは特公平1-119
35号公報に記載のo−ナフトキノンジアジド化合物を挙
げることができる。
M. TUNOOKA et al., Polymer Preprints Jap
an, 35 (8), G. Bermer et al., J. Rad, Curing, 13 (4), W.
J. Mijs etal, Coating Technol., 55 (697)., 45 (198
3), Akzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japa
n, 37 (3), EP 0199,672, EP 84515, EP 199,
Nos. 672, 044,115, 0101,122, U.S. Pat.
No. 8,564, 4,371,605, 4,431,774, JP-A-64-18
No. 143, JP-A-2-245756, compounds that generate sulfonic acid upon photodecomposition represented by iminosulfonates and the like described in JP-A-61-166544, and the like. Disulfone compounds described in the gazettes, JP-A-50-36209
(U.S. Pat.No. 3,969,118) o-Naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halide described in JP-A-55-62444
(British Patent No. 2038801)
An o-naphthoquinonediazide compound described in JP-A-35 can be mentioned.

【0161】その他の酸発生剤としては、シクロヘキシ
ルシトレート、p−アセトアミノベンゼンスルホン酸シ
クロヘキシルエステル、p−ブロモベンゼンスルホン酸
シクロヘキシルエステル等のスルホン酸アルキルエステ
ル、本発明者らが先に出願した特願平9−26878号
公報に記載の下記構造式で表されるアルキルスルホン酸
エステル等を用いることができる。
Other acid generators include cyclohexyl citrate, alkyl sulfonate such as cyclohexyl p-acetoaminobenzenesulfonate, cyclohexyl p-bromobenzenesulfonate, and the like. An alkylsulfonic acid ester represented by the following structural formula described in Japanese Patent Application No. 9-26878 can be used.

【0162】[0162]

【化55】 Embedded image

【0163】上記光、熱又は放射線の照射により分解し
て酸を発生する化合物の中で、特に有効に用いられるも
のについて以下に説明する。 (1)トリハロメチル基が置換した下記一般式(PAG
1)で表されるオキサゾール誘導体又は一般式(PAG
2)で表されるS−トリアジン誘導体、
Among the compounds which decompose upon irradiation with light, heat or radiation to generate an acid, those which are particularly effectively used will be described below. (1) The following general formula (PAG) substituted with a trihalomethyl group
The oxazole derivative represented by 1) or the general formula (PAG)
S-triazine derivative represented by 2),

【0164】[0164]

【化56】 Embedded image

【0165】式中、R1は置換若しくは未置換のアリー
ル基、アルケニル基、R2は置換若しくは未置喚のアリ
ール基、アルケニル基、アルキル基、−CY3を示す。
Yは塩素原子又は臭素原子を示す。具体的には以下の化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。
In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted aryl group or alkenyl group, and R 2 represents a substituted or unsubstituted aryl group, alkenyl group, alkyl group or —CY 3 .
Y represents a chlorine atom or a bromine atom. Specific examples include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.

【0166】[0166]

【化57】 Embedded image

【0167】[0167]

【化58】 Embedded image

【0168】(2)下記の一般式(PAG3)で表され
るヨードニウム塩、又は一般式(PAG4)で表される
スルホニウム塩、若しくはジアゾニウム塩。
(2) An iodonium salt represented by the following formula (PAG3), a sulfonium salt represented by the following formula (PAG4), or a diazonium salt.

【0169】[0169]

【化59】 Embedded image

【0170】ここで、式Ar1及びAr2は、各々独立に
置換若しくは未置換のアリール基を示す。好ましい置換
基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアル
キル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボ
キシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メ
ルカプト基及びハロゲン原子が挙げられる。
Here, the formulas Ar 1 and Ar 2 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. Preferred substituents include an alkyl group, a haloalkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a nitro group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxy group, a mercapto group, and a halogen atom.

【0171】R3、R4及びR5は各々独立に、置換若し
くは未置換のアルキル基、アリール基を示す。好ましく
は炭素数6〜14のアリール基、炭素数1〜8のアルキ
ル基及びそれらの置換誘導体である。好ましい置換基と
しては、アリール基に対しては炭素数1〜8のアルコキ
シ基、炭素数1〜8のアルキル基、ニトロ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシ基及びハロゲン原子であり、アルキ
ル基に対しては炭素数1〜8のアルコキシ基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基である。
R 3 , R 4 and R 5 each independently represent a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. Preferred are an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and substituted derivatives thereof. Preferred substituents are an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a carboxyl group, a hydroxy group, and a halogen atom for an aryl group, and an alkyl group for an alkyl group. An alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a carboxyl group, and an alkoxycarbonyl group.

【0172】Z-は対アニオンを示し、例えば、B
4 -、AsF6 -、PF6 -、SbF6 -、Si22 -、Cl
4 -、CF3SO3 -等のパーフルオロアルカンスルホン
酸アニオン;ペンタフルオロベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ナフタレン−1−スルホン酸アニオン等の結合多核
芳香族スルホン酸アニオン;アントラキノンスルホン酸
アニオン;スルホン酸基含有染料等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。また、R3、R4及びR
5のうちの2つ及びAr1、Ar2はそれぞれの単結合又
は置換基を介して結合してもよい。
Z - represents a counter anion.
F 4 , AsF 6 , PF 6 , SbF 6 , Si 2 F 2 , Cl
Perfluoroalkanesulfonic acid anions such as O 4 and CF 3 SO 3 ; bonded polynuclear aromatic sulfonic acid anions such as pentafluorobenzenesulfonic acid anion and naphthalene-1-sulfonic acid anion; anthraquinonesulfonic acid anion; sulfonic acid group Dyes and the like are included, but are not limited thereto. Also, R 3 , R 4 and R
Two and Ar 1 of 5, Ar 2 may be combined through a single bond or a substituent.

【0173】具体例としては以下に示す化合物が挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

【0174】[0174]

【化60】 Embedded image

【0175】[0175]

【化61】 Embedded image

【0176】一般式(PAG3)、(PAG4)で示さ
れる上記オニウム塩は公知であり、例えば、J. W. Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145(1969)、A. L.
Maycok etal, J. Org. Chem., 35, 2532 (1970)、B. G
oethas etal, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546 (196
4)、H. M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587(1
929) 、J. V. Crivello etal, J. Polym. Chem. Ed., 1
8, 2677(1980)、米国特許第2,807,648号及び
同4,247,473号、特開昭53−101,331
号等の公報に記載の方法により合成することができる。
The above-mentioned onium salts represented by the general formulas (PAG3) and (PAG4) are known, for example, JW Knap
czyk etal, J. Am. Chem. Soc., 91, 145 (1969), AL
Maycok et al., J. Org.Chem., 35, 2532 (1970), B. G.
oethas etal, Bull. Soc. Chem. Belg., 73, 546 (196
4), HM Leicester, J. Am. Chem. Soc., 51, 3587 (1
929), JV Crivello et al, J. Polym. Chem. Ed., 1
8, 2677 (1980), U.S. Pat. Nos. 2,807,648 and 4,247,473, JP-A-53-101,331.
Can be synthesized by the method described in Japanese Patent Publication No.

【0177】(3)下記一般式(PAG5)で表される
ジスルホン誘導体又は一般式(PAG6)で表されるイ
ミノスルホネート誘導体。
(3) Disulfone derivatives represented by the following formula (PAG5) or iminosulfonate derivatives represented by the following formula (PAG6).

【0178】[0178]

【化62】 Embedded image

【0179】式中、Ar3及びAr4は各々独立に、置換
若しくは未置換のアリール基を示す。R6は置換若しく
は未置換のアルキル基、アリール基を示す。Aは置換若
しくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリー
レン基を示す。具体例としては以下に示す化合物が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
In the formula, Ar 3 and Ar 4 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group. R 6 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. A represents a substituted or unsubstituted alkylene group, alkenylene group, or arylene group. Specific examples include the following compounds, but are not limited thereto.

【0180】[0180]

【化63】 Embedded image

【0181】[0181]

【化64】 Embedded image

【0182】これら酸発生剤の含有量は、本発明の平版
印刷版用原版の画像形成層全固形物分に対して通常0.
1〜30重量%、より好ましくは1〜15重量%であ
る。
The content of these acid generators is usually 0.1 to the total solid content of the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention.
It is 1 to 30% by weight, more preferably 1 to 15% by weight.

【0183】(増感色素)酸発生剤が紫外域から可視域
にまで感度を持たない場合、紫外域から可視域の光に対
して酸発生剤を活性にするために、種々の酸発生剤の増
感色素が用いられる。このような増感色素の例として
は、米国特許5,238,782号公報に記載のピラン
系色素、米国特許4,997,745号公報に記載のシ
アニン色素、及びスクアリリウム系色素、米国特許5,
262,276号公報に記載のメロシアニン系色素、特
公平8−20732号公報に記載のピリリュウム色素、
その他、ミヒラーズケトン、チオキサントン、ケトクマ
リン色素、9−フェニルアクリジン等を有効なものとし
て用いることができる。また、その他にも米国特許4,
987,230号公報に記載のビスベンジリデンケトン
色素、9,10−ジフェニルアントラセンのような多環
芳香族化合物等を用いることができる。
(Sensitizing dye) When the acid generator has no sensitivity from the ultraviolet region to the visible region, various acid generators are used to activate the acid generator with respect to light in the ultraviolet region to the visible region. Sensitizing dyes are used. Examples of such sensitizing dyes include pyran dyes described in US Pat. No. 5,238,782, cyanine dyes described in US Pat. No. 4,997,745, and squarylium dyes, and US Pat. ,
No. 262,276, a merocyanine dye, a pyrium dye described in JP-B-8-20732,
In addition, Michler's ketone, thioxanthone, ketocoumarin dye, 9-phenylacridine and the like can be used as effective ones. In addition, U.S. Pat.
No. 987,230, a polycyclic aromatic compound such as a bisbenzylidene ketone dye and 9,10-diphenylanthracene can be used.

【0184】その他の成分としては、例えば、可視光域
に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用する
ことができる。具体的にはオイルイエロー#101、オ
イルイエロー#103、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#6
03、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイ
ルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(C.I.42555)、メチルバイオレット(C.
I.42535)、エチルバイオレット、ローダミンB
(C.I.145170B)、マラカイトグリーン
(C.I.42000)、メチレンブルー(C.I.5
2015)等、あるいは特開昭62−293247号公
報、特願平7−335145号公報に記載されている染
料を挙げることができる。なお、添加量は、本発明の平
版印刷用原版の画像形成層全固形分に対し、0.01〜
10重量%の割合である。
As other components, for example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 6
03, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orient chemical industry)
Manufactured), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI. 42555), Methyl Violet (C.I.
I. 42535), ethyl violet, rhodamine B
(CI. 145170B), malachite green (CI. 42000), methylene blue (CI.
2015) and the like, or dyes described in JP-A-62-293247 and Japanese Patent Application No. 7-335145. The addition amount is 0.01 to 0.01% based on the total solids of the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention.
10% by weight.

【0185】(界面活性剤)本発明の平版印刷版用原版
の画像形成層中には、印刷条件に対する安定性を拡げる
ため、特開昭62−251740号公報や特開平3−2
08514号公報に記載されているような非イオン界面
活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−
13149号公報に記載されているような両性界面活性
剤を添加することができる。非イオン界面活性剤の具体
例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタン
モノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリ
ン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニ
ルエーテル等が挙げられる。両性界面活性剤の具体例と
しては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキ
ルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N
−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリ
ニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン
型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)
等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤及び両性界面
活性剤の画像形成層全固形物中に占める割合は、0.0
5〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5
重量%である。
(Surfactant) In the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, JP-A No. 62-251740 and JP-A No. 3-1740 are used in order to enhance stability under printing conditions.
Nonionic surfactants as described in JP 08514, JP-A-59-121044,
An amphoteric surfactant as described in JP-A-13149 can be added. Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearic acid, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether. Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N
-Carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
And the like. The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the total solids of the image forming layer is 0.0%.
It is preferably from 5 to 15% by weight, more preferably from 0.1 to 5% by weight.
% By weight.

【0186】(その他)更に、本発明の平版印刷版用原
版の画像形成層中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付
与するために可塑剤が加えられる。例えば、ポリエチレ
ングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フクル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリ
マー等が用いられる。
(Others) Further, a plasticizer may be added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl fuclate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate,
An oligomer or polymer of trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic acid or methacrylic acid, or the like is used.

【0187】本発明の平版印刷版用原版の画像形成層
は、通常上記各成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上
に塗布することにより製造することができる。ここで使
用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれに
限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは
混合して使用される。塗布液を調製する場合、溶媒中の
上記画像形成層構成成分(添加剤を含む全固形分)の濃
度は、好ましくは1〜50重量%である。
The image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be usually produced by dissolving each of the above-mentioned components in a solvent and coating the solution on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate,
Examples include, but are not limited to, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. . These solvents are used alone or as a mixture. When preparing a coating solution, the concentration of the above-mentioned components of the image forming layer (total solid content including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

【0188】塗布する方法としては、公知の種々の方法
を用いることができるが、例えば、バーコター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。本発明の平版印刷版用原版の画像形成
層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62−170950号公報に記載されているよう
なフッ素系界面活性剤を添加することができる。好まし
い添加量は、画像形成層全固形物分に対し、0.01〜
1重量%であり、更に好ましくは0.05〜0.5重量
%である。
As the method of coating, various known methods can be used. For example, bar coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating,
Examples include air knife application, blade application, roll application, and the like. In the image forming layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, a surfactant for improving coating properties, for example, a fluorine-based surfactant as described in JP-A-62-170950 is used. Can be added. The preferred addition amount is 0.01 to 0.01% based on the total solid content of the image forming layer.
1% by weight, and more preferably 0.05 to 0.5% by weight.

【0189】塗布、乾燥後に得られる画像形成層塗布量
(固形分)は、用途によって異なるが、一般的な平版印
刷版用原版についていえば、0.5〜5.0g/m2
好ましく、0.5〜1.5g/m2がより好ましい。
The coating amount (solid content) of the image forming layer obtained after coating and drying varies depending on the intended use, but for a general lithographic printing plate precursor, it is preferably 0.5 to 5.0 g / m 2 , 0.5-1.5 g / m < 2 > is more preferable.

【0190】[支持体]本発明の画像形成層を塗布すべ
き平版印刷版用原版に使用される支持体(基板)は、寸
法安定性の良好な板状物であり、これまで印刷版の支持
体として使用された公知のものはいずれも好適に使用す
ることができる。かかる支持体としては、紙、プラスチ
ックス(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン等)がラミネートされた紙、例えば、アルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅等のよ
うな金属の板、例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪
酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のよ
うなプラスチックスのフィルム、上記のような金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフ
ィルム等が含まれるが、特にアルミニウム板が好まし
い。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニ
ウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々
のものが使用でき、例えば、ケイ素、銅、マンガン、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル等
の金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの合
金組成物には、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他
無視し得る程度の量の不純物を含むことが容認される。
[Support] The support (substrate) used for the lithographic printing plate precursor on which the image forming layer of the present invention is to be coated is a plate-like material having good dimensional stability. Any known materials used as a support can be suitably used. As such a support, paper, paper laminated with plastics (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), for example, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, iron, copper, etc., for example, Plastic films such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Is laminated or vapor-deposited on paper or a plastic film, but an aluminum plate is particularly preferable. The aluminum plate includes a pure aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of aluminum with a metal such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, and nickel is used. It is acceptable for these alloy compositions to contain some negligible amount of impurities in addition to some iron and titanium.

【0191】支持体は、必要に応じて表面処理される。
例えば、平版印刷版用原版を作製する場合には、支持体
の表面に、画像形成層を塗布するに先立って親水化処理
が施される。また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理等の表面処理がなされてい
ることが好ましい。また、米国特許第2,714,06
6号公報に記載されているように、砂目立てしたのち珪
酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米
国特許第3,181,461号公報に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理を行った後にアルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の
単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
The support is subjected to a surface treatment as required.
For example, when preparing a lithographic printing plate precursor, the surface of the support is subjected to a hydrophilic treatment prior to applying the image forming layer. In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining, immersion in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, or anodizing is performed. Is preferred. No. 2,714,06.
No. 6, as described in U.S. Pat. No. 6,181,461, an aluminum plate immersed in an aqueous solution of sodium silicate and then anodized as described in U.S. Pat. No. 3,181,461. After immersion in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. The anodizing treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid or an aqueous solution or a non-aqueous solution of a salt thereof alone or in combination of two or more electrolytic solutions. It is carried out by passing a current through an aluminum plate as an anode.

【0192】表面処理としては、米国特許第3,65
8,662号公報に記載されているようなシリケート電
着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面
を親水性とするために施される以外に、その上に設けら
れる感光/感熱性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感
光層との密着性を向上させるために施されるものであ
る。アルミニウム板を砂目立てにより粗面化するに先立
って、必要に応じて表面の圧延油を除去するため、ある
いは清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面
に前処理を施してもよい。通常、圧延油等の除去には、
トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。
また、清浄な面の表出のためには水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等のアルカリエッチング剤を用いる方法が
広く行われてしる。
As the surface treatment, US Pat.
Electrodeposition of silicate as described in JP-A-8,662 is also effective. These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent a harmful reaction with the photosensitive / thermosensitive composition provided thereon and to adhere to the photosensitive layer. It is performed to improve the performance. Prior to roughening the aluminum plate by graining, the surface may be subjected to a pretreatment, if necessary, to remove rolling oil on the surface or to expose a clean aluminum surface. Usually, for removing rolling oil etc.
Solvents such as trichlene, surfactants and the like are used.
In order to expose a clean surface, a method using an alkali etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.

【0193】砂目立て方法としては、機械的、化学的及
び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石
のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦
りつけるブラシ研磨法等があり、化学的方法としては、
特開昭54−31187号公報に記載されているような
鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適
しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれ
らの組合せのような酸性電解液中で交流電解する方法が
好ましい。このような粗面化方法のうち、特に特開昭5
5−137993号公報に記載されているような機械的
粗面化と電気化学的粗面化を組合せた粗面化方法が、感
脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記
の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の
中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.0μmとなるよ
うな範囲で施されることが好ましい。このようにして砂
目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗及び化
学的にエッチングされる。
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and the like.
A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in JP-A-54-31187 is suitable. As the electrochemical method, an acidic electrolytic method such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof is used. A method of performing AC electrolysis in a liquid is preferable. Among such surface roughening methods, in particular,
A surface roughening method which combines mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-5-137933 is preferred because the adhesive force of the oil-sensitive image to the support is strong. The graining by the above-described method is preferably performed in a range where the center line surface roughness (Ha) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm. The aluminum plate thus grained is washed with water and chemically etched as required.

【0194】エッチング処理液は、通常アルミニウムを
溶解する塩基あるいは酸の水溶液より選ばれる。この場
合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘
導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないもの
でなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれ
ば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン
酸三カリウム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては
硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、ア
ルミニウムよりイオン化傾向の低い金属、例えば、亜
鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチン
グ表面に不必要な被膜を形成するため好ましくない。こ
れらのエッチング剤は、使用濃度、温度の設定におい
て、使用するアルミニウムあるいは合金の溶解速度が浸
漬時間1分あたり0.3〜40g/m2になるように行
なわれるのが最も好ましいが、これを上回るあるいは下
回るものであっても差支えない、
The etching solution is usually selected from aqueous solutions of bases or acids that dissolve aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etchant component must not be formed on the etched surface. Preferred examples of the etching agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, and dipotassium phosphate as basic substances; and sulfuric acid and persulfuric acid as acidic substances. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof. Metals having a lower ionization tendency than aluminum, such as salts of zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, are not preferable because they form unnecessary coatings on the etched surface. Most preferably, these etching agents are used so that the dissolution rate of the aluminum or alloy to be used is 0.3 to 40 g / m 2 per one minute of immersion time at the setting of the working concentration and temperature. It can be higher or lower,

【0195】エッチングは上記エッチング液にアルミニ
ウム板を浸漬したり、該アルミニウム板にエッチング液
を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.5
〜10g/m2の範囲となるように処理されることが好
ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速
度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが
望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デ
スマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、りん酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸等が用いられる。エッチング処理されたアルミ
ニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極
酸化は、この分野で従来より行なわれている方法で行な
うことができる。具体的には、硫酸、りん酸、クロム
酸、蓚酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等ある
いはそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶
液中でアルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、ア
ルミニウム支持体表面に陽極酸化被膜を形成させること
ができる。
The etching is performed by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution, or by applying the etching solution to the aluminum plate.
The treatment is preferably performed so as to be in the range of 10 to 10 g / m 2 . As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmutting process is performed. As the acid used for the desmut treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borofluoric acid and the like are used. The etched aluminum plate is optionally washed with water and anodized. The anodic oxidation can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is passed through aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid or the like or a combination of two or more thereof, the aluminum is supported. An anodized film can be formed on the body surface.

【0196】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70
℃、電流密度0、5〜60アンペア/dm2、電圧1〜
100V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当であ
る。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第
1,412,768号公報に記載されている硫酸中で高
電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第3,51
1,661号公報に記載されている燐酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。上記のように粗面化さ
れ、更に陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じ
て親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国
特許第2,714,066号及び同第3,181,46
1号公報に開示されているようなアルカリ金属シリケー
ト、例えば珪酸ナトリウム水溶液又は特公昭36−22
063号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリ
ウム及び米国特許第4,153,461号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法が
ある。
The anodizing treatment conditions cannot be generally determined because they vary depending on the electrolytic solution to be used. However, generally, the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by weight and the liquid temperature is 5 to 70%.
° C, current density 0, 5-60 amps / dm 2 , voltage 1 ~
A range of 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes is appropriate. Among these anodizing treatments, in particular, the method of anodizing at high current density in sulfuric acid described in British Patent No. 1,412,768 and US Pat.
The method of anodic oxidation using phosphoric acid as an electrolytic bath described in Japanese Patent No. 1,661 is preferable. The aluminum plate which has been roughened as described above and further anodized may be subjected to a hydrophilization treatment, if necessary. Preferred examples thereof include U.S. Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181. , 46
No. 1 discloses an alkali metal silicate, for example, an aqueous solution of sodium silicate or JP-B-36-22.
There is a method of treating with potassium fluoride zirconate disclosed in U.S. Pat. No. 063 and polyvinyl phosphonic acid as disclosed in U.S. Pat. No. 4,153,461.

【0197】[その他の層]支持体の裏面には、必要に
応じてバックコートが設けられる。かかるバックコート
としては特開平5−45885号公報に記載の有機高分
子化合物及び特開平6−35174号公報に記載の有機
又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られ
る金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。こ
れらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si(OC25)
4、Si(OC37)4、Si(OC49)4等のケイ素のア
ルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる
金属酸化物の被覆層が親水性に優れており特に好まし
い。
[Other Layers] A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. Such a back coat comprises an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 and Si (OC 2 H 5 )
4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , silicon alkoxy compounds such as Si (OC 4 H 9 ) 4 are easily available at a low cost, and the metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent hydrophilicity. .

【0198】[製版方法]次に、この平版印刷版用原版
の製版方法について説明する。この平版印刷版用原版
は、例えば、熱記録ヘッド等により直接画像様に感熱記
録を施されたり、波長760〜1200nmの赤外線を
放射する固体レーザー又は半導体レーザーにより画像露
光されたり、波長400〜760nmの可視光線を放射
する可視光レーザーにより画像露光されたり、紫外線や
可視光線を放射する光源により画像露光される。画像露
光された平版印刷版用原版は、露光後に水現像し、更に
必要であればガム引きを行ったのち、印刷機に版を装着
し印刷を行うこともできる。また、露光後ただちに(現
像工程を経ずに)印刷機に版を装着し印刷を行うことも
できる。この場合は、湿し水等により、加熱部あるいは
露光部が膨潤し、印刷初期に膨潤部が除去され、平版印
刷版が形成される。即ち、本発明の平版印刷版用原版を
使用する製版方法では、特に現像処理を経ることなく平
版印刷版を製版し得る。本発明における水現像とは、水
或いは水を主成分とするpH2以上の現像液により現像
することを指す。水現像を行う場合も、現像処理を行わ
ない場合も、露光後に加熱処理を行うことが記録時の感
度向上の観点から好ましい。加熱処理の条件は、80〜
150℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好まし
い。即ち、この加熱処理を施すことにより、レーザー照
射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減少させるこ
とができる。
[Plate making method] Next, a plate making method of the lithographic printing plate precursor will be described. The lithographic printing plate precursor is, for example, directly subjected to image-wise thermal recording by a thermal recording head or the like, or image-exposed by a solid-state laser or semiconductor laser emitting infrared light having a wavelength of 760 to 1200 nm, or a wavelength of 400 to 760 nm. Image exposure with a visible light laser that emits visible light, or image exposure with a light source that emits ultraviolet light or visible light. The lithographic printing plate precursor that has been image-exposed may be subjected to water development after exposure and, if necessary, gumming, and then the plate may be mounted on a printing machine for printing. Immediately after exposure (without passing through the developing step), printing can be performed by mounting the plate on a printing press. In this case, the heated portion or the exposed portion swells due to dampening water or the like, and the swelled portion is removed at the initial stage of printing to form a lithographic printing plate. That is, in the plate making method using the lithographic printing plate precursor of the present invention, the lithographic printing plate can be made without any particular development processing. The water development in the present invention refers to developing with water or a developer containing water as a main component and having a pH of 2 or more. In both the case where water development is performed and the case where development processing is not performed, it is preferable to perform heat treatment after exposure from the viewpoint of improving sensitivity during recording. The conditions of the heat treatment are 80 to
It is preferable that the heating is performed within a range of 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. That is, by performing this heat treatment, the laser energy required for recording at the time of laser irradiation can be reduced.

【0199】この様な処理によって得られた本発明の平
版印刷版用原版は水現像されるかあるいは現像工程を経
ずにそのままオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の
印刷に用いられる。
The lithographic printing plate precursor of the present invention obtained by such a process is subjected to water development or directly applied to an offset printing machine or the like without going through a development step, and is used for printing a large number of sheets.

【0200】[0200]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [モノマー(1)の合成]1-メトキシ-2-プロパノー
ル:121.2g、ピリジン:141.6gを1000mlの三口フラ
スコに入れて、氷冷下30分攪拌した。この溶液にp−
ビニルベンゼンスルホン酸クロライド:181.7gを氷冷
下滴下して、滴下終了後そのまま6時間攪拌した。反応
混合物を500mlの氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、
飽和食塩水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去して油状物が得られた。この油状
物をシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィにより
精製すると、モノマー(1)が無色油状物として得られ
た。元素分析の計算値はC:56.23%、H:6.29%であ
り、実測値はC:56.35%、H:6.33%であった。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. [Synthesis of Monomer (1)] 1-Methoxy-2-propanol: 121.2 g and pyridine: 141.6 g were placed in a 1000 ml three-necked flask and stirred for 30 minutes under ice-cooling. P-
Vinyl benzene sulfonic acid chloride: 181.7 g was added dropwise under ice cooling, and the mixture was stirred for 6 hours after completion of the addition. Pour the reaction mixture into 500 ml of ice water, extract with ethyl acetate,
Washed with saturated saline. After the organic layer was dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain an oil. The oil was purified by column chromatography using silica gel to obtain the monomer (1) as a colorless oil. The calculated values of the elemental analysis were C: 56.23% and H: 6.29%, and the actually measured values were C: 56.35% and H: 6.33%.

【0201】[モノマー(7)の合成]p−ビニルベン
ゼンスルホン酸クロライドの代わりに3-メタクリロイル
オキシプロパンスルホン酸クロライドを用いたほかはモ
ノマー(1)と同様の方法でモノマー(7)を合成し
た。モノマー(7)の1H−NMR測定の結果、6.12 pp
m、5.60 ppmにメタクリロイル基の二重結合炭素に結合
した水素に帰属されるシグナルが観測され、3.39 ppmに
スルホン酸エステル部のメトキシ基に帰属されるシグナ
ルが観測された。
[Synthesis of Monomer (7)] Monomer (7) was synthesized in the same manner as monomer (1) except that 3-methacryloyloxypropanesulfonic acid chloride was used instead of p-vinylbenzenesulfonic acid chloride. . As a result of 1 H-NMR measurement of the monomer (7), 6.12 pp
At m and 5.60 ppm, a signal attributed to hydrogen bonded to the double bond carbon of the methacryloyl group was observed, and at 3.39 ppm, a signal attributed to the methoxy group in the sulfonic ester portion was observed.

【0202】[モノマー(3)の合成]1-メトキシ-2-
プロパノールの代わりにシクロヘキサノールを用いたほ
かはモノマー(1)と同様の方法でモノマー(3)を合
成した。元素分析の計算値はC:63.13%、H:6.81%
であり、実測値はC:63.21%、H:6.90%であった。 [モノマー(10)の合成]p-ビニルベンゼンスルホ
ン酸クロライドの代わりにクロロ[(4-ビニルフェニ
ル)メチル]スルホンを用いたほかはモノマー(1)と
同様の方法でモノマー(10)を合成した。モノマー
(10)の1H−NMR測定の結果、6.72ppm、5.79pp
m、5.30ppmにビニル基の二重結合炭素に結合した水素に
帰属されるシグナルが観測され、4.39ppmに(4-ビニル
フェニル)メチル基のメチル炭素に結合した水素に帰属
されるシグナルが観測され、3.39ppmにスルホン酸エス
テル部のメトキシ基に帰属されるシグナルが観測され
た。
[Synthesis of Monomer (3)] 1-methoxy-2-
Monomer (3) was synthesized in the same manner as monomer (1) except that cyclohexanol was used instead of propanol. Elemental analysis: C: 63.13%, H: 6.81%
The actual measured values were C: 63.21% and H: 6.90%. [Synthesis of Monomer (10)] Monomer (10) was synthesized in the same manner as monomer (1) except that chloro [(4-vinylphenyl) methyl] sulfone was used instead of p-vinylbenzenesulfonic acid chloride. . As a result of 1 H-NMR measurement of the monomer (10), 6.72 ppm, 5.79 pp
m, at 5.30 ppm, a signal attributed to hydrogen bonded to the double bond carbon of the vinyl group was observed, and at 4.39 ppm, a signal attributed to hydrogen bonded to the methyl carbon of the (4-vinylphenyl) methyl group was observed. As a result, a signal attributed to the methoxy group in the sulfonic acid ester portion was observed at 3.39 ppm.

【0203】[モノマー(87)の合成]5リットル容
の三口フラスコに、2,4-ジニトロトルエン:1.06
g、アクリル酸:500g、ジヒドロピラン:488gを入れ
た。氷冷下攪拌しながらこの混合物に濃塩酸を滴下した
後、反応混合物を約60℃に加熱して2時間30分攪拌
した。室温まで放冷した後、水酸化ナトリウムにより反
応混合物をアルカリ性にし酢酸エチルで抽出した。有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥後減圧濃縮し、モノマー
(87)を得た。 [モノマー(83)の合成]アクリル酸の代わりにp-ビ
ニル安息香酸を用いたほかはモノマー(87)と同様の
方法でモノマー(83)を合成した。
[Synthesis of Monomer (87)] 2,4-Dinitrotoluene: 1.06 was placed in a 5-liter three-necked flask.
g, acrylic acid: 500 g, and dihydropyran: 488 g. Concentrated hydrochloric acid was added dropwise to this mixture while stirring under ice cooling, and the reaction mixture was heated to about 60 ° C. and stirred for 2 hours and 30 minutes. After allowing to cool to room temperature, the reaction mixture was made alkaline with sodium hydroxide and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain a monomer (87). [Synthesis of Monomer (83)] Monomer (83) was synthesized in the same manner as for monomer (87) except that p-vinylbenzoic acid was used instead of acrylic acid.

【0204】[極性変換高分子化合物(1)の合成]20
0mlの三口フラスコにモノマー(1):23g、p-ビニ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム:2.1gを秤取り、ジ
メチルスルホキシド:50gに溶かした。この溶液に65
℃、窒素気流下にて攪拌しながらアゾビスジメチルバレ
ロニトリル:0.32gを加えた。同温度で攪拌を続けなが
ら、2時間おきにアゾビスジメチルバレロニトリル:0.
16gと0.08gを加え、都合6時間攪拌し続けて反応を終
了した。反応混合物をアセトン:40gで希釈した後、5
リットル容のホーロービーカーに2リットルのヘキサン
を入れ、ここにメカニカルスターラーにより良く攪拌し
ながら先ほど調整した希釈液を滴下した。析出した固体
を濾別し、減圧下3日間乾燥した。こうして得られた固
体は、GPCにより重量平均分子量1.52万のポリマーで
あることが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (1)]
In a 0 ml three-necked flask, 23 g of the monomer (1) and 2.1 g of sodium p-vinylbenzenesulfonate were weighed and dissolved in 50 g of dimethyl sulfoxide. 65
Azobisdimethyl valeronitrile: 0.32 g was added while stirring under a nitrogen stream at ℃. While stirring at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.2 every 2 hours.
16 g and 0.08 g were added, and stirring was continued for convenient 6 hours to complete the reaction. The reaction mixture was diluted with 40 g of acetone, and then diluted with 5 g of acetone.
2 liters of hexane was put into a 1 liter hollow beaker, and the diluent prepared above was added dropwise thereto with good stirring by a mechanical stirrer. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was determined by GPC to be a polymer having a weight average molecular weight of 152,000.

【0205】[極性変換高分子化合物(2)の合成]モ
ノマー(1)の代わりにモノマー(7)を、p-ビニルベ
ンゼンスルホン酸ナトリウムの代わりに3-メタクリロイ
ルオキシプロパンスルホン酸カリウムを用いた以外は極
性変換高分子化合物(1)と同様の方法で極性変換高分
子化合物(2)を合成した。得られたポリマーの重量平
均分子量は1.98万であった。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (2)] A monomer (7) was used instead of the monomer (1), and potassium 3-methacryloyloxypropanesulfonate was used instead of sodium p-vinylbenzenesulfonate. Synthesized a polarity conversion polymer compound (2) in the same manner as the polarity conversion polymer compound (1). The weight average molecular weight of the obtained polymer was 19,980.

【0206】[極性変換高分子化合物(3)の合成]10
0mlの三口フラスコにモノマー(7):14g、メタク
リル酸:4.3gを秤取り、メチルエチルケトン:36gに
溶かした。この溶液に65℃、窒素気流下にて攪拌しな
がらアゾビスジメチルバレロニトリル:0.16gを加え
た。同温度で攪拌を続けながら、2時間おきにアゾビス
ジメチルバレロニトリル:0.08gと0.04gを加え、都合
6時間攪拌し続けて反応を終了した。反応混合物をアセ
トン:36gで希釈した後、5リットル容のホーロービー
カーに2リットルの蒸留水を入れ、ここにアジターによ
り良く攪拌しながら先ほど調整した希釈液を滴下した。
析出した固体を濾別し、減圧下3日間乾燥した。こうし
て得られた固体は、GPCにより重量平均分子量12万の
ポリマーであることが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (3)]
In a 0 ml three-necked flask, 14 g of the monomer (7) and 4.3 g of methacrylic acid were weighed and dissolved in 36 g of methyl ethyl ketone. To this solution was added 0.16 g of azobisdimethylvaleronitrile while stirring under a nitrogen stream at 65 ° C. While stirring at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.08 g and 0.04 g were added every two hours, and the reaction was terminated by continuously stirring for six hours. After diluting the reaction mixture with 36 g of acetone, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator.
The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was found to be a polymer having a weight average molecular weight of 120,000 by GPC.

【0207】[極性変換高分子化合物(4)の合成]20
0mlの三口フラスコにモノマー(3):18.6gとp-ビ
ニル安息香酸:4.4gを秤取り、メチルエチルケトン:4
0gに溶かした。この溶液に65℃、窒素気流下にて攪
拌しながらアゾビスジメチルバレロニトリル:0.32gを
加えた。同温度で攪拌を続けながら、2時間おきにアゾ
ビスジメチルバレロニトリル:0.16gと0.08gを加え、
都合6時間攪拌し続けて反応を終了した。反応混合物を
アセトン:40gで希釈した後、5リットル容のホーロー
ビーカーに2リットルの蒸留水を入れ、ここにアジター
により良く攪拌しながら先ほど調整した希釈液を滴下し
た。析出した固体を濾別し、減圧下3日間乾燥した。こ
うして得られた固体は、GPCにより重量平均分子量2.
5万のポリマーであることが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (4)]
In a 0 ml three-necked flask, 18.6 g of the monomer (3) and 4.4 g of p-vinylbenzoic acid were weighed, and methyl ethyl ketone: 4 g was added.
Dissolved in 0 g. To this solution, 0.32 g of azobisdimethylvaleronitrile was added while stirring under a nitrogen stream at 65 ° C. While stirring at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.16 g and 0.08 g were added every two hours,
The reaction was terminated by continuously stirring for 6 hours. After diluting the reaction mixture with acetone: 40 g, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was analyzed by GPC for a weight average molecular weight of 2.
It turned out to be 50,000 polymers.

【0208】[極性変換高分子化合物(5)の合成]20
0mlの三口フラスコにモノマー(10):15.3gとp-
ビニルフェノール:4.8gを秤取り、メチルエチルケト
ン:40gに溶かした。この溶液に65℃、窒素気流下に
て攪拌しながらアゾビスジメチルバレロニトリル:0.32
gを加えた。同温度で攪拌を続けながら、2時間おきに
アゾビスジメチルバレロニトリル:0.16gと0.08gを加
え、都合6時間攪拌し続けて反応を終了した。反応混合
物をアセトン:40gで希釈した後、5リットル容のホー
ロービーカーに2リットルの蒸留水を入れ、ここにアジ
ターにより良く攪拌しながら先ほど調整した希釈液を滴
下した。析出した固体を濾別し、減圧下3日間乾燥し
た。こうして得られた固体は、GPCにより重量平均分
子量2.1万のポリマーであることが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (5)]
In a 0 ml three-necked flask, 15.3 g of monomer (10) and p-
Vinyl phenol: 4.8 g was weighed and dissolved in methyl ethyl ketone: 40 g. While stirring this solution at 65 ° C. under a nitrogen stream, azobisdimethyl valeronitrile: 0.32
g was added. While stirring was continued at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.16 g and 0.08 g were added every two hours, and the reaction was terminated by continuously stirring for six hours. After diluting the reaction mixture with acetone: 40 g, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was found by GPC to be a polymer having a weight average molecular weight of 21,000.

【0209】[極性変換高分子化合物(7)の合成]20
0mlの三口フラスコにモノマー(10):15.3g、モ
ノマー(3):8.0gとp-ビニルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム:2.1gを秤取り、ジメチルスルホキシド:50
gに溶かした。この溶液に65℃、窒素気流下にて攪拌
しながらアゾビスジメチルバレロニトリル:0.16gを加
えた。同温度で攪拌を続けながら、2時間おきにアゾビ
スジメチルバレロニトリル:0.08gと0.04gを加え、都
合6時間攪拌し続けて反応を終了した。反応混合物をア
セトン:50gで希釈した後、5リットル容のホーロービ
ーカーに2リットルの蒸留水を入れ、ここにアジターに
より良く攪拌しながら先ほど調整した希釈液を滴下し
た。析出した固体を濾別し、減圧下3日間乾燥した。こ
うして得られた固体は、GPCにより重量平均分子量3.
5万のポリマーであることが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (7)] 20
In a 0 ml three-necked flask, 15.3 g of the monomer (10), 8.0 g of the monomer (3) and 2.1 g of sodium p-vinylbenzenesulfonate were weighed, and dimethylsulfoxide: 50 g was measured.
g. To this solution was added 0.16 g of azobisdimethylvaleronitrile while stirring under a nitrogen stream at 65 ° C. While stirring at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.08 g and 0.04 g were added every two hours, and the reaction was terminated by continuously stirring for six hours. After diluting the reaction mixture with 50 g of acetone: 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was analyzed by GPC for a weight average molecular weight of 3.
It turned out to be 50,000 polymers.

【0210】[極性変換高分子化合物(8)の合成]20
0mlの三口フラスコにモノマー(7):8.4g、モノマ
ー(87):4.7gとアクリル酸:2.9gを秤取り、メチ
ルエチルケトン:30gに溶かした。この溶液に65℃、
窒素気流下にて攪拌しながらアゾビスジメチルバレロニ
トリル:0.16gを加えた。同温度で攪拌を続けながら、
2時間おきにアゾビスジメチルバレロニトリル:0.08g
と0.04gを加え、都合6時間攪拌し続けて反応を終了し
た。反応混合物をアセトン:30gで希釈した後、5リッ
トル容のホーロービーカーに2リットルの蒸留水を入
れ、ここにアジターにより良く攪拌しながら先ほど調整
した希釈液を滴下した。析出した固体を濾別し、減圧下
3日間乾燥した。こうして得られた固体は、GPCによ
り重量平均分子量4.0万のポリマーであることが判明し
た。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (8)]
In a 0 ml three-necked flask, 8.4 g of the monomer (7), 4.7 g of the monomer (87) and 2.9 g of acrylic acid were weighed and dissolved in 30 g of methyl ethyl ketone. 65 ° C,
0.16 g of azobisdimethylvaleronitrile was added while stirring under a nitrogen stream. While continuing stirring at the same temperature,
Azobisdimethyl valeronitrile every 2 hours: 0.08 g
And 0.04 g were added, and stirring was continued for 6 hours to complete the reaction. After diluting the reaction mixture with 30 g of acetone, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained was determined by GPC to be a polymer having a weight average molecular weight of 40,000.

【0211】[極性変換高分子化合物(9)の合成]モ
ノマー(1)の代わりにモノマー(83)を、p-ビニル
ベンゼンスルホン酸ナトリウムの代わりにp-ビニル安息
香酸ナトリウムを用いた以外は極性変換高分子化合物
(1)と同様の方法で極性変換高分子化合物(9)を合
成した。得られたポリマーの重量平均分子量は2.05万で
あった。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (9)] The polarity was changed except that the monomer (83) was used instead of the monomer (1), and sodium p-vinylbenzoate was used instead of sodium p-vinylbenzenesulfonate. Polar conversion polymer compound (9) was synthesized in the same manner as conversion polymer compound (1). The weight average molecular weight of the obtained polymer was 2.050,000.

【0212】[極性変換高分子化合物(10)の合成]
200mlの三口フラスコにモノマー(10):15.3g、p
-ビニル安息香酸:4.4gとアクリル酸メチル:0.9gを
秤取り、メチルエチルケトン:40gに溶かした。この溶
液に65℃、窒素気流下にて攪拌しながらアゾビスジメ
チルバレロニトリル:0.16gを加えた。同温度で攪拌を
続けながら、2時間おきにアゾビスジメチルバレロニト
リル:0.08gと0.04gを加え、都合6時間攪拌し続けて
反応を終了した。反応混合物をアセトン:40gで希釈し
た後、5リットル容のホーロービーカーに2リットルの
蒸留水を入れ、ここにアジターにより良く攪拌しながら
先ほど調整した希釈液を滴下した。析出した固体を濾別
し、減圧下3日間乾燥した。こうして得られた固体は、
GPCにより重量平均分子量3.78万のポリマーであるこ
とが判明した。
[Synthesis of Polarity Converting Polymer Compound (10)]
In a 200 ml three-necked flask, monomer (10): 15.3 g, p
-4.4 g of vinyl benzoic acid and 0.9 g of methyl acrylate were weighed and dissolved in 40 g of methyl ethyl ketone. To this solution was added 0.16 g of azobisdimethylvaleronitrile while stirring under a nitrogen stream at 65 ° C. While stirring at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.08 g and 0.04 g were added every two hours, and the reaction was terminated by continuously stirring for six hours. After diluting the reaction mixture with acetone: 40 g, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained is
GPC revealed that the polymer had a weight average molecular weight of 37,800.

【0213】[比較用高分子化合物(1)の合成]200
mlの三口フラスコにモノマー(1):25.6gを秤取
り、メチルエチルケトン:30gに溶かした。この溶液に
65℃、窒素気流下にて攪拌しながらアゾビスジメチル
バレロニトリル:0.32gを加えた。同温度で攪拌を続け
ながら、2時間おきにアゾビスジメチルバレロニトリ
ル:0.16gと0.08gを加え、都合6時間攪拌し続けて反
応を終了した。反応混合物をアセトン:30gで希釈した
後、5リットル容のホーロービーカーに2リットルの蒸
留水を入れ、ここにアジターにより良く攪拌しながら先
ほど調整した希釈液を滴下した。析出した固体を濾別
し、減圧下3日間乾燥した。こうして得られた固体は、
GPCにより重量平均分子量1.52万のポリマーであるこ
とが判明した。
[Synthesis of Comparative Polymer Compound (1)] 200
25.6 g of the monomer (1) was weighed and dissolved in 30 ml of methyl ethyl ketone. To this solution, 0.32 g of azobisdimethylvaleronitrile was added while stirring under a nitrogen stream at 65 ° C. While stirring was continued at the same temperature, azobisdimethyl valeronitrile: 0.16 g and 0.08 g were added every two hours, and the reaction was terminated by continuously stirring for six hours. After diluting the reaction mixture with 30 g of acetone, 2 liters of distilled water was put into a 5 liter enamel beaker, and the diluted solution prepared above was added dropwise thereto with good stirring by an agitator. The precipitated solid was separated by filtration and dried under reduced pressure for 3 days. The solid thus obtained is
GPC revealed that the polymer had a weight average molecular weight of 152,000.

【0214】[比較用高分子化合物(2)の合成]モノ
マー(1)の代わりにモノマー(7)を用いた以外は比
較用高分子化合物(1)と同様の方法で比較用高分子化
合物(2)を合成した。得られたポリマーの重量平均分
子量は1.61万であった。
[Synthesis of Comparative Polymer Compound (2)] The comparative polymer compound (2) was prepared in the same manner as the comparative polymer compound (1) except that the monomer (7) was used instead of the monomer (1). 2) was synthesized. The weight average molecular weight of the obtained polymer was 161,000.

【0215】[実施例1]厚さ0.30mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して
脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス
トン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、水でよく
洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に
2%硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥
した。更に上記の処理済みのアルミニウム板に、下記の
ように調製した溶液[1]を回転数:150rpmで回転
塗布し、80℃で3分間乾燥して平版印刷版用原版
[1]を得た。乾燥後の重量は1.2g/m2であっ
た。
Example 1 An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then its surface was grained using a nylon brush and a 400 mesh pumicetone-water suspension. Washed well with water. This plate was etched by immersing it in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, and further immersed in 2% nitric acid for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was subjected to a current density of 15 A / dm using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
After providing a 3 g / m 2 direct current anodic oxide film at 2 , the sample was washed with water and dried. Further, the solution [1] prepared as described below was spin-coated at 150 rpm on the treated aluminum plate, and dried at 80 ° C. for 3 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor [1]. The weight after drying was 1.2 g / m 2 .

【0216】 溶液[1] ・極性変換高分子化合物(1) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [1]-Polarity-converting polymer compound (1) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Methyl ethyl ketone 30 g-Acetonitrile 30 g

【0217】[比較例1]下記のように調製した溶液
[2]を使用した以外は、実施例1と同様の方法により
平版印刷版用原版[2]を得た。乾燥後の重量は1.2
g/m2であった。
Comparative Example 1 A lithographic printing plate precursor [2] was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution [2] prepared as described below was used. Weight after drying is 1.2
g / m 2 .

【0218】 溶液[2] ・比較用高分子化合物(1) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [2]-Comparative polymer compound (1) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Methyl ethyl ketone 30 g-Acetonitrile 30 g

【0219】[実施例2]下記のように調製した溶液
[3]を使用した以外は、実施例1と同様の方法により
平版印刷版用原版[3]を得た。乾燥後の重量は1.3
g/m2であった。
[Example 2] A lithographic printing plate precursor [3] was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution [3] prepared as described below was used. Weight after drying is 1.3
g / m 2 .

【0220】 溶液[3] ・極性変換高分子化合物(2) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [3]-Polarity-converting polymer compound (2) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Counter ion of Victoria Pure Blue BOH 0.1 g 05g Dye converted to 1-naphthalene-sulfonic acid-Megafac F-177 0.06g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 30g-Acetonitrile 30g

【0221】[比較例2]下記のように調製した溶液
[4]を使用した以外は、実施例1と同様の方法により
平版印刷版用原版[4]を得た。乾燥後の重量は1.3
g/m2であった。
Comparative Example 2 A lithographic printing plate precursor [4] was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution [4] prepared as described below was used. Weight after drying is 1.3
g / m 2 .

【0222】 溶液[4] ・比較用高分子化合物(2) 4.0 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.15g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [4] • Comparative polymer compound (2) 4.0 g • Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.15 g • Counter ion of Victoria Pure Blue BOH 05g Dye converted to 1-naphthalene-sulfonic acid-Megafac F-177 0.06g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 30g-Acetonitrile 30g

【0223】[実施例3]表面をコロナ帯電処理したP
ETに、下記のように調製した溶液[5]を回転数:1
50rpmで回転塗布し、80℃で3分間乾燥して平版印
刷版用原版[5]を得た。乾燥後の重量は1.1g/m
2であった。
Example 3 P whose surface was corona-charged
In ET, the solution [5] prepared as described below was rotated at a rotation speed of 1
It was spin-coated at 50 rpm and dried at 80 ° C. for 3 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor [5]. Weight after drying is 1.1 g / m
Was 2 .

【0224】 溶液[5] ・極性変換高分子化合物(3) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [5]-Polarity-converting polymer compound (3) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Counter ion of Victoria Pure Blue BOH 05g Dye converted to 1-naphthalene-sulfonic acid-Megafac F-177 0.06g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 30g-Acetonitrile 30g

【0225】[実施例4]厚さ0.30mmのアルミニ
ウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して
脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス
トン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、水でよく
洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水
溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、更に
2%硝酸に20秒間浸漬して水洗した。このときの砂目
立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。次に
この板を7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥
した。更に上記の処理済みのアルミニウム板に、下記の
ように調製した溶液[6]をバー塗布し、80℃で3分
間乾燥して平版印刷版用原版[6]を得た。乾燥後の重
量は1.0g/m2であった。
Example 4 An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.30 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then its surface was grained with a nylon brush and a 400-mesh pumistone-water suspension. Washed well with water. This plate was etched by immersing it in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, and further immersed in 2% nitric acid for 20 seconds and washed with water. At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was subjected to a current density of 15 A / dm using 7% sulfuric acid as an electrolyte.
After providing a 3 g / m 2 direct current anodic oxide film at 2 , the sample was washed with water and dried. Further, a solution [6] prepared as described below was coated on the treated aluminum plate with a bar, and dried at 80 ° C. for 3 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor [6]. The weight after drying was 1.0 g / m 2 .

【0226】 溶液[6] ・極性変換高分子化合物(4) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [6]-Polarity-converting polymer compound (4) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Megafax F-177 0.06 g (Large) (Nippon Ink Chemical Industry Co., Ltd., fluorine surfactant) ・ Methyl ethyl ketone 30 g ・ Acetonitrile 30 g

【0227】[実施例5]表面をコロナ帯電処理したP
ETに、下記のように調製した溶液[7]を回転数:1
50rpmで回転塗布し、80℃で3分間乾燥して平版印
刷版用原版[7]を得た。乾燥後の重量は1.5g/m
2であった。
Example 5 P whose surface was corona-charged
In ET, the solution [7] prepared as described below was rotated at a rotation speed of 1
It was spin-coated at 50 rpm and dried at 80 ° C. for 3 minutes to obtain a lithographic printing plate precursor [7]. Weight after drying is 1.5 g / m
Was 2 .

【0228】 溶液[7] ・極性変換高分子化合物(5) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・酸発生剤 0.15g (ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩) ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 28 g ・水 2 gSolution [7]-Polarity-converting polymer compound (5) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Acid generator 0.15 g (diphenyliodonium anthraquinone) Sulfonate) • Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) • Methyl ethyl ketone 30 g • Acetonitrile 28 g • Water 2 g

【0229】[実施例6]下記のように調製した溶液
[8]を使用した以外は、実施例1と同様の方法により
平版印刷版用原版[8]を得た。乾燥後の重量は1.6
g/m2であった。
Example 6 A lithographic printing plate precursor [8] was obtained in the same manner as in Example 1, except that the solution [8] prepared as described below was used. Weight after drying is 1.6
g / m 2 .

【0230】 溶液[8] ・極性変換高分子化合物(7) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・酸発生剤 0.15g (ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩) ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 25 g ・水 5 gSolution [8]-Polarity-converting polymer compound (7) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Acid generator 0.15 g (diphenyliodonium anthraquinone) (Sulfonate) ・ Dye in which counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1 g of 1-naphthalene-sulfonic acid ・ Megafax F-177 0.06 g・ Methyl ethyl ketone 30 g ・ Acetonitrile 25 g ・ Water 5 g

【0231】[実施例7]溶液[1]の代わりに、下記
のように調製した溶液[9]を使用した以外は、実施例
1と同様の方法により平版印刷版用原版[9]を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2であった。
Example 7 A lithographic printing plate precursor [9] was obtained in the same manner as in Example 1, except that the solution [9] prepared as described below was used instead of the solution [1]. Was.
The weight after drying was 1.5 g / m 2 .

【0232】 溶液[9] ・極性変換高分子化合物(8) 4.5 g ・カーボンブラック 0.4 g ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [9]-Polarity-converting polymer compound (8) 4.5 g-Carbon black 0.4 g-Megafac F-177 0.06 g (Fluorine-based interface manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) (Activator) ・ Methyl ethyl ketone 30 g ・ Acetonitrile 30 g

【0233】[実施例8]下記のように調製した溶液
[10]を使用した以外は、実施例1と同様の方法によ
り平版印刷版用原版[10]を得た。乾燥後の重量は
1.3g/m2であった。
Example 8 A lithographic printing plate precursor [10] was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution [10] prepared as described below was used. The weight after drying was 1.3 g / m 2 .

【0234】 溶液[10] ・極性変換高分子化合物(9) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・酸発生剤 0.15g (ジフェニルヨードニウムアントラキノンスルホン酸塩) ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [10]-Polarity-converting polymer compound (9) 4.5 g-Infrared absorber IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Acid generator 0.15 g (diphenyliodonium anthraquinone) (Sulfonate) ・ Dye in which counter ion of Victoria Pure Blue BOH is converted to 1 g of 1-naphthalene-sulfonic acid ・ Megafax F-177 0.06 g 30 g of methyl ethyl ketone 30 g of acetonitrile

【0235】[実施例9]下記のように調製した溶液
[11]を使用した以外は、実施例4と同様の方法によ
り平版印刷版用原版[10]を得た。乾燥後の重量は
1.3g/m2であった。
Example 9 A lithographic printing plate precursor [10] was obtained in the same manner as in Example 4 except that the solution [11] prepared as described below was used. The weight after drying was 1.3 g / m 2 .

【0236】 溶液[10] ・極性変換高分子化合物(9) 4.5 g ・赤外線吸収剤IR−125(和光純薬(株)製) 0.30g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対イオンを 0.05g 1−ナフタレン−スルホン酸にした染料 ・メガファックF−177 0.06g (大日本インキ化学工業(株)製、フッ素系界面活性剤) ・メチルエチルケトン 30 g ・アセトニトリル 30 gSolution [10]-Polarity-converting polymer compound (9) 4.5 g-Infrared absorbing agent IR-125 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.30 g-Counter ion of Victoria Pure Blue BOH 0.1 g 05g Dye converted to 1-naphthalene-sulfonic acid-Megafac F-177 0.06g (Fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)-Methyl ethyl ketone 30g-Acetonitrile 30g

【0237】[実施例1及び比較例1の原版の評価方
法]得られた平版印刷版用原版[1]及び[2]を、波
長1064nmの赤外線を発するYAGレーザーにより
レーザーパワー:360mW、走査速度:3.0m/s
及び2.0m/sで露光した。露光後、ハイデルKOR
−D機で通常通り印刷した。この際、印刷物の非画像部
に汚れが発生しているかどうかを観察した。結果を表1
に示す。親水性基を有する極性変換高分子化合物を用い
た平版印刷版用原版[1]においては何れの走査速度に
おいても非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られ
た。一方、比較用高分子化合物を用いた平版印刷版用原
版[2]においては走査速度2.0m/sのときは非画
像部に汚れのない良好な印刷物が得られたが、走査速度
が3.0m/sの時は若干汚れが存在した。
[Evaluation Method of Original Plates of Example 1 and Comparative Example 1] The obtained lithographic printing plate precursors [1] and [2] were scanned with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 mW and a scanning speed. : 3.0 m / s
And exposure at 2.0 m / s. After exposure, Heidel KOR
-Printed as usual on a D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 1 shows the results
Shown in In the lithographic printing plate precursor [1] using the polarity-converting polymer compound having a hydrophilic group, a good printed matter having no stain on the non-image area was obtained at any scanning speed. On the other hand, in the case of the lithographic printing plate precursor [2] using the comparative polymer compound, when the scanning speed was 2.0 m / s, a good printed matter with no stain on the non-image area was obtained. At a speed of 0.0 m / s, there was slight contamination.

【0238】[0238]

【表1】 [Table 1]

【0239】[実施例2及び比較例2の原版の評価方
法]得られた平版印刷版用原版[3]及び[4]を、波
長1064nmの赤外線を発するYAGレーザーにより
レーザーパワー:360mW、走査速度:3.0m/s
及び2.0m/sで露光した。露光後、ハイデルKOR
−D機にて始めの30枚は湿し水のみで印刷し、その後
通常通り印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが
発生しているかどうかを観察した。結果を表2に示す。
親水性基を有する極性変換高分子化合物を用いた平版印
刷版用原版[3]においては何れの走査速度においても
非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた。一方、
平版印刷版原版[4]においては走査速度2.0m/s
のときは非画像部に汚れのない良好な印刷物が得られた
が、走査速度が3.0m/sの時は若干汚れが存在し
た。
[Evaluation Method of Original Plates of Example 2 and Comparative Example 2] The obtained lithographic printing plate precursors [3] and [4] were scanned with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 mW and a scanning speed. : 3.0 m / s
And exposure at 2.0 m / s. After exposure, Heidel KOR
The first 30 sheets were printed with only fountain solution on a -D machine, and then printed as usual. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 2 shows the results.
In the lithographic printing plate precursor [3] using the polarity-converting polymer compound having a hydrophilic group, a good printed matter having no stain on the non-image area was obtained at any scanning speed. on the other hand,
The scanning speed of the lithographic printing plate precursor [4] is 2.0 m / s
When the scanning speed was 3.0 m / s, some stains were present, but good prints without stains on the non-image area were obtained.

【0240】[0240]

【表2】 [Table 2]

【0241】[実施例3の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[5]を、波長1064nmの赤外線を
発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360m
W、走査速度:3.0m/sで露光した。露光後、11
0℃で1分間加熱処理した後、ハイデルKOR−D機で
通常通り印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが
発生しているかどうかを観察した。結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Original Plate of Example 3] The obtained lithographic printing plate precursor [5] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 m.
Exposure was performed at W and a scanning speed of 3.0 m / s. After exposure, 11
After heat treatment at 0 ° C. for 1 minute, printing was carried out as usual on a Heidel KOR-D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0242】[実施例4の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[6]を、波長1064nmの赤外線を
発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360m
W、走査速度:3.0m/sで露光した。露光後、11
0℃で1分間加熱処理した後、ハイデルKOR−D機に
て始めの30枚は湿し水のみで印刷し、その後通常通り
印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生して
いるかどうかを観察した。結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Original Plate of Example 4] The obtained lithographic printing plate precursor [6] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 m.
Exposure was performed at W and a scanning speed of 3.0 m / s. After exposure, 11
After a heat treatment at 0 ° C. for 1 minute, the first 30 sheets were printed only with dampening water on a Heidel KOR-D machine, and then printed as usual. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0243】[実施例5の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[7]を、波長1064nmの赤外線を
発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360m
W、走査速度:4.0m/sで露光した。露光後、11
0℃で1分間加熱処理した後、ハイデルKOR−D機で
常通り印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発
生しているかどうかを観察した。結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Original Plate of Example 5] The obtained lithographic printing plate precursor [7] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 m.
Exposure was performed at W and a scanning speed of 4.0 m / s. After exposure, 11
After heat treatment at 0 ° C. for 1 minute, printing was carried out as usual with a Heidel KOR-D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0244】[実施例6の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[8]を、波長1064nmの赤外線を
発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360m
W、走査速度:4.0m/sで露光した。露光後、11
0℃で1分間加熱処理した後、ハイデルKOR−D機に
て始めの30枚は湿し水のみで印刷し、その後通常通り
印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生して
いるかどうかを観察した。結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Original Plate of Example 6] The obtained lithographic printing plate precursor [8] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm at a laser power of 360 m.
Exposure was performed at W and a scanning speed of 4.0 m / s. After exposure, 11
After a heat treatment at 0 ° C. for 1 minute, the first 30 sheets were printed only with dampening water on a Heidel KOR-D machine, and then printed as usual. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0245】[実施例7の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[9]を、波長840nmの赤外線を発
する半導体レーザーによりレーザーパワー:360m
W、走査速度:3.0m/sで露光した。露光後、ハイ
デルKOR−D機で通常通り印刷した。この際、印刷物
の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察した。
結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Master Plate of Example 7] The obtained lithographic printing plate precursor [9] was irradiated with a semiconductor laser emitting infrared rays having a wavelength of 840 nm at a laser power of 360 m.
Exposure was performed at W and a scanning speed of 3.0 m / s. After exposure, printing was performed as usual on a Heidel KOR-D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter.
Table 3 shows the results.

【0246】[実施例8の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[10]を、波長1064nmの赤外線
を発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360
mW、走査速度:2.0m/sで露光した。露光後、ハ
イデルKOR−D機で通常通り印刷した。この際、印刷
物の非画像部に汚れが発生しているかどうかを観察し
た。結果を表3に示す。
[Evaluation Method of Original Plate of Example 8] The obtained lithographic printing plate precursor [10] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm to have a laser power of 360.
Exposure was performed at mW and a scanning speed of 2.0 m / s. After exposure, printing was performed as usual on a Heidel KOR-D machine. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0247】[実施例9の原版の評価方法]得られた平
版印刷版用原版[11]を、波長1064nmの赤外線
を発するYAGレーザーによりレーザーパワー:360
mW、走査速度:3.0m/sで露光した。露光後、ハ
イデルKOR−D機にて始めの30枚は湿し水のみで印
刷し、その後通常通り印刷した。この際、印刷物の非画
像部に汚れが発生しているかどうかを観察した。結果を
表3に示す。
[Evaluation Method of Master Plate of Example 9] The obtained lithographic printing plate precursor [11] was irradiated with a YAG laser emitting infrared light having a wavelength of 1064 nm to have a laser power of 360.
Exposure was performed at mW and a scanning speed of 3.0 m / s. After the exposure, the first 30 sheets were printed only with dampening solution on a Heidel KOR-D machine, and then printed as usual. At this time, it was observed whether or not stains occurred on the non-image portion of the printed matter. Table 3 shows the results.

【0248】[0248]

【表3】 [Table 3]

【0249】[0249]

【発明の効果】本発明によれば、水現像可能な、あるい
は画像書き込み後、湿式現像処理やこすり等の特別な処
理を必要としない平版印刷版用原版であって、より高感
度であり、且つ、残色、汚れのない印刷物を与えること
ができる平版印刷版用原版を提供することができる。ま
た、本発明によれば、特に赤外線を放射する固体レーザ
ー又は半導体レーザー等を用いて記録することにより、
ディジタルデータから直接製版可能な平版印刷版用原版
を提供することができる。
According to the present invention, a lithographic printing plate precursor that can be developed with water or does not require special processing such as wet development or rubbing after image writing, and has higher sensitivity, In addition, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor capable of providing a printed matter free of residual colors and stains. According to the present invention, in particular, by recording using a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared rays,
It is possible to provide a lithographic printing plate precursor that can be directly made from digital data.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA02 AA04 AA12 AB03 AC08 AD03 BH03 CB41 CB51 CC11 DA36 FA10 FA17 FA19 2H084 AA14 AA32 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA09 BA20 EA04 GA08 GA60 2H114 AA04 AA14 AA22 AA24 BA01 DA24 DA26 DA64 EA01 EA04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 2H025 AA02 AA04 AA12 AB03 AC08 AD03 BH03 CB41 CB51 CC11 DA36 FA10 FA17 FA19 2H084 AA14 AA32 BB02 BB13 CC05 2H096 AA06 BA09 BA20 EA04 GA08 GA60 2H114 AA04 AA24 DA01 EA04

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性表面を有する支持体の上に、
(a)側鎖に熱により疎水性から親水性に変化する官能
基と親水性官能基を有する疎水性高分子化合物と(b)
レーザー光を吸収して熱に変換しうる光吸収剤を含有す
る層を有する平版印刷版用原版。
1. On a support having a hydrophilic surface,
(A) a hydrophobic polymer compound having a functional group which changes from hydrophobic to hydrophilic by heat and a hydrophilic functional group in a side chain; and (b)
A lithographic printing plate precursor having a layer containing a light absorber capable of absorbing laser light and converting it into heat.
【請求項2】 請求項1に記載の平版印刷版用原版を、
レーザー露光により画像様に露光した後、露光部記録層
を印刷機上で除去することを特徴とする平版印刷版の製
造方法。
2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1,
A method for producing a lithographic printing plate, comprising exposing an exposed portion recording layer on a printing machine after imagewise exposing by laser exposure.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1235105A2 (en) * 2001-02-15 2002-08-28 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP1235105A3 (en) * 2001-02-15 2004-02-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate precursor
EP2301750A1 (en) 2009-09-25 2011-03-30 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, relief printing starting plate for laser engraving and process for producing the same

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