JP2000030940A - Thin film electronic component - Google Patents

Thin film electronic component

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JP2000030940A
JP2000030940A JP10210339A JP21033998A JP2000030940A JP 2000030940 A JP2000030940 A JP 2000030940A JP 10210339 A JP10210339 A JP 10210339A JP 21033998 A JP21033998 A JP 21033998A JP 2000030940 A JP2000030940 A JP 2000030940A
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JP
Japan
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conductor
impedance
thin
impedance element
film
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JP10210339A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsugi Kawarai
貢 川原井
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Tokin Corp
Original Assignee
Tokin Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film impedance element which can maintain high impedance characteristic from a low frequency band of several 10 MHz to a high frequency band of several GHz. SOLUTION: In a zigzag structure where inner conductors 3, 6 are three- dimensionally extended, the inner conductor 6 connected with an external electrode which is spread and formed on one side conductor leading-out part 2a is extended to an external electrode which is spread and formed on the other side conductor leading-out part 2b without returning.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜型電子部品に
関し、特に共振周波数が高く、高周波まで高い周波数特
性が得られる薄膜型インピーダンス素子およびインダク
タンス素子等に好適な電子部品に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin-film electronic component, and more particularly to an electronic component suitable for a thin-film impedance element and an inductance element having a high resonance frequency and high frequency characteristics up to high frequencies.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、小型の電子機器のノイズ対策と
して、LCフィルターやインピーダンス素子、特に、表
面実装型の積層インピーダンス素子が多く用いられてい
る。
2. Description of the Related Art Generally, an LC filter and an impedance element, particularly, a surface-mounted type multilayer impedance element are often used as noise countermeasures for a small electronic device.

【0003】従来の電子機器で問題とされているノイズ
の周波数帯域は、およそ数10から数100MHzであ
る。これに対して、ノイズ対策に用いる積層インピーダ
ンス素子の特性は、周波数が約100MHz、あるいは
それ以下にインピーダンスのピーク(共振周波数)を持
つ周波数特性となっている。
[0003] The frequency band of noise that has been a problem in conventional electronic equipment is about several tens to several hundreds of MHz. On the other hand, the characteristics of the multilayer impedance element used for noise countermeasures are frequency characteristics having a peak of the impedance (resonance frequency) at a frequency of about 100 MHz or lower.

【0004】また、使用されているインピーダンス素子
のインピーダンス値は、用いられる電子機器内の場所に
より異なるが、一般に、周波数が100MHzで、数1
0から高い方では1000Ω程度までのものが用いられ
ている。
The impedance value of the used impedance element differs depending on the place in the electronic equipment used.
From 0 to a higher one, up to about 1000Ω is used.

【0005】このような積層型インピーダンス素子で
は、内部導体は扁平状に印刷形成された導体パターン
が、磁性層をはさんで厚さ方向(積層方向)に並んで周
回し、積層コイルを形成している。このようなコイル形
状の内部導体構造の素子では、そのインピーダンスは、
共振周波数(約100MHz程度)までは、次式(1)
で表される。
[0005] In such a laminated impedance element, the conductor pattern in which the inner conductor is printed in a flat shape is wrapped around the magnetic layer in the thickness direction (lamination direction) to form a laminated coil. ing. In such a coil-shaped element having an internal conductor structure, its impedance is
Up to the resonance frequency (about 100 MHz), the following equation (1)
It is represented by

【0006】 Z2=X2+R2 ・・・・・・・・・(1) X=2π・f・L’(L’=Ae/l・N2μ0μ’) R=2π・f・L”(L”=Ae/l・N2μ0μ”) f:周波数、Ae/l:コア定数、N:コイルのターン
数、μ0:真空の透磁率、μ’μ”:用いる磁性材料の
比透磁率
Z 2 = X 2 + R 2 (1) X = 2π · f · L ′ (L ′ = Ae / 1 · N 2 μ 0 μ ′) R = 2π · f · L "(L" = Ae / l · N 2 μ 0 μ ") f: frequency, Ae / l: core constants, N: number of turns of the coil, mu 0: permeability of vacuum, μ'μ": used Relative permeability of magnetic material

【0007】従って、導体コイルのサイズで決定される
コア定数、コイルのターン数、及び用いる磁性材料の透
磁率のレベルを調整することによって、様々なインピー
ダンス値の素子を作製することが可能である。
Therefore, by adjusting the core constant determined by the size of the conductor coil, the number of turns of the coil, and the level of the magnetic permeability of the magnetic material to be used, it is possible to produce elements having various impedance values. .

【0008】また、一般に、薄膜型のインピーダンス素
子では、一層の渦巻き型パターンが用いられており、得
られるインピーダンスは、1GHzで数100Ωと低い
が、インダクタンス値が低いため、1GHz以上の高い
共振周波数が得られる。
In general, a thin-film impedance element uses a single-layer spiral pattern, and the obtained impedance is as low as several hundreds of ohms at 1 GHz. However, since the inductance value is low, a high resonance frequency of 1 GHz or more is obtained. Is obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子機器内の信
号周波数の高周波化が顕著であり、それに伴ってノイズ
対策もより高周波帯までカバーする必要が生じてきた。
従って、ノイズ対策部品となるインピーダンス素子に求
められる周波数特性も、従来、数100MHz程度まで
あったものが、GHz帯まで高インピーダンスが維持で
きるものが要求されている。
In recent years, the signal frequency in electronic equipment has been significantly increased, and accordingly, it has become necessary to take measures against noise up to a higher frequency band.
Therefore, the frequency characteristic required for the impedance element serving as a noise countermeasure component, which has been conventionally up to about several hundred MHz, is required to maintain a high impedance up to the GHz band.

【0010】また、現状の積層インピーダンス素子は、
扁平状に印刷形成された導体が厚さ方向に積層されて形
成されたコイルに対し、積層されたコイルの横方向に外
部電極を構成している。そのため、外部電極と内部導体
間の浮遊容量、特に、一方の外部電極から入り1/2タ
ーンで、もう一方の外部電極に接近した部分での浮遊容
量による結合が、インピーダンス素子の共振周波数に大
きく影響する。
[0010] The current multilayer impedance element is:
An external electrode is formed in a lateral direction of the laminated coil with respect to a coil formed by laminating flat printed conductors in the thickness direction. Therefore, the stray capacitance between the external electrode and the internal conductor, particularly the coupling due to the stray capacitance at a portion close to the other external electrode in a half turn from one external electrode, greatly increases the resonance frequency of the impedance element. Affect.

【0011】即ち、インピーダンス素子の共振周波数
は、インダクタンス値が極端に小さい場合を除いて、お
およそ数100MHzとなり、それより高い周波数で
は、インピーダンスは急激に低下してしまうのが一般的
である。
That is, the resonance frequency of the impedance element is about several hundred MHz except when the inductance value is extremely small, and the impedance generally drops sharply at higher frequencies.

【0012】また、インピーダンス素子では、数100
MHz程度の共振周波数までは、上記(1)式に示すイ
ンピーダンスが得られる。しかし、それ以上の周波数帯
では、先に述べたように、導体回路に寄生した浮遊容量
による結合により、コイル成分のインピーダンスが高い
ものの、コイル成分と並列に回路を形成する浮遊容量成
分のインピーダンスが急激に低下する。従って、素子全
体としては、低インピーダンスとなってしまうという問
題がある。
In the impedance element, several hundreds
Up to a resonance frequency of about MHz, the impedance represented by the above equation (1) is obtained. However, in the higher frequency band, as described above, the impedance of the coil component is high due to the coupling due to the stray capacitance parasitic on the conductor circuit, but the impedance of the stray capacitance component forming the circuit in parallel with the coil component is high. It drops sharply. Therefore, there is a problem that the impedance of the entire device becomes low.

【0013】また、薄膜型インピーダンス素子では、一
般に、一層の渦巻き型パターンを用いているため、高い
インダクタンスが得難い。そのため、下記(2)で表さ
れる共振周波数は高くなるが、ノイズ対策に必要なイン
ピーダンスが得られない。
In general, a thin-film impedance element uses a single spiral pattern, so that it is difficult to obtain a high inductance. Therefore, the resonance frequency expressed by the following (2) increases, but the impedance required for noise suppression cannot be obtained.

【0014】 f0=1/〔2π・(L・C)1/2〕・・・・・・・・・・・・・・(2)F 0 = 1 / [2π · (L · C) 1/2 ] (2)

【0015】一方、導体回路に寄生する浮遊容量の小さ
い導体パターンとして、ミアンダ型やジグザグ型のパタ
ーンがある。このような導体パターンでは、浮遊容量が
小さいことから、共振周波数が高く、GHz帯までイン
ピーダンスの低下が見られない。
On the other hand, as a conductor pattern having a small stray capacitance parasitic on a conductor circuit, there is a meander type or zigzag type pattern. In such a conductor pattern, since the stray capacitance is small, the resonance frequency is high, and the impedance does not decrease to the GHz band.

【0016】しかしながら、このような導体パターン
は、導体がコイル形状でないために、インダクタンス成
分(L’、L”)が小さい。従って、低周波領域では、
ノイズ対策に寄与するだけのインピーダンスが得られな
いという欠点がある。
However, such a conductor pattern has a small inductance component (L ', L ") because the conductor is not in a coil shape.
There is a drawback that an impedance that contributes to noise suppression cannot be obtained.

【0017】以上のように、インピーダンス素子には、
ノイズ対策に必要な低周波(数10MHz)から高周波
(GHz)まで、高いインピーダンス特性が要求される
のに対して、従来の積層型のインピーダンス素子では、
浮遊量が大きく、高周波のインピーダンスが得られな
い。
As described above, the impedance elements include:
While high impedance characteristics are required from low frequency (several tens of MHz) to high frequency (GHz) required for noise countermeasures, a conventional multilayer impedance element has
The floating amount is large and high frequency impedance cannot be obtained.

【0018】また、従来の薄膜型のインピーダンス素子
では、導体パターンの形状上、低周波のインピーダンス
が得られない。
In the conventional thin-film impedance element, low-frequency impedance cannot be obtained due to the shape of the conductor pattern.

【0019】また、導体パターンの形状が、ミアンダ型
やジグザグ型のインピーダンス素子では、浮遊容量は小
さいものの、低周波のインピーダンスが得られない、と
いう問題があった。
Further, in a meander-type or zig-zag-type impedance element having a conductor pattern shape, there is a problem that although a stray capacitance is small, low-frequency impedance cannot be obtained.

【0020】従って、本発明は、数10MHzの低周波
帯域から数GHzの高周波帯域まで、高いインピーダン
ス特性を維持できる薄膜型インピーダンス素子を提供す
ることにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a thin-film impedance element capable of maintaining high impedance characteristics from a low frequency band of several tens of MHz to a high frequency band of several GHz.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明は、内部
導体の構造をジグザグ構造またはミアンダ構造とし、そ
れを三次元に展開するとともに、隣接する導体の電流方
向が同一となる特殊な構造を考案し、導体周りの磁束の
共有化を図ることにより、インピーダンス素子の高イン
ピーダンス化を達成したものである。
Accordingly, the present invention provides a zigzag structure or meander structure for the internal conductor, which is developed three-dimensionally, and has a special structure in which the current directions of adjacent conductors are the same. By devising and sharing the magnetic flux around the conductor, the impedance element can achieve high impedance.

【0022】即ち、本発明は、薄膜形成法により、絶縁
層及び内部導体を形成し、前記内部導体と接続する一対
の外部電極を素子の両端に形成してなる薄膜型インピー
ダンス素子において、内部導体が三次元に展開したジグ
ザグ構造またはミアンダ構造であり、一方の外部電極に
接続した内部導体が他方の外部電極に向かって、戻るこ
となく展開する薄膜型電子部品である。
That is, the present invention provides a thin-film impedance element comprising an insulating layer and an internal conductor formed by a thin-film forming method, and a pair of external electrodes connected to the internal conductor formed at both ends of the element. Is a thin-film electronic component in which a three-dimensionally expanded zigzag structure or meander structure is developed, and an internal conductor connected to one external electrode expands toward the other external electrode without returning.

【0023】また、本発明は、前記ジグザグ構造または
ミアンダ構造の内部導体の折り返し部を除いて、前記素
子の両端の外部電極方向に隣接する内部導体の電流の方
向が、同一方向であり、上下方向に隣接する内部導体の
電流の方向が逆向きの方向である前記の薄膜型電子部品
である。
Also, according to the present invention, the direction of the current of the internal conductor adjacent to the external electrode direction at both ends of the element is the same, except for the folded part of the internal conductor having the zigzag structure or meander structure. The thin-film electronic component according to the above-described electronic component, wherein a current direction of the internal conductor adjacent to the direction is a reverse direction.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0025】本発明においては、内部導体が三次元に展
開したジグザグ構造またはミアンダ構造であり、一方の
外部電極に接続した内部導体は、他方の外部電極に向か
って、戻ることなく展開している。
In the present invention, the inner conductor has a zigzag structure or meander structure which is developed three-dimensionally, and the inner conductor connected to one external electrode is developed without returning to the other external electrode. .

【0026】更に、ジグザグ構造またはミアンダ構造の
内部導体の折り返し部を除いて、インピーダンス素子の
両端の外部電極方向(水平方向)に隣接する内部導体に
流れる電流の方向が同一であり、上下方向に隣接する内
部導体に流れる電流の方向が逆向きとすることにより、
低周波(数10MHz)から高周波(GHz)までの高
いインピーダンス特性を示す薄膜型インピーダンス素子
が得られる。
Except for the folded portion of the zigzag or meandering inner conductor, the direction of the current flowing through the inner conductor adjacent to the outer electrodes at both ends of the impedance element (in the horizontal direction) is the same, and By making the direction of the current flowing in the adjacent inner conductor reverse,
A thin-film impedance element exhibiting high impedance characteristics from low frequency (several tens of MHz) to high frequency (GHz) can be obtained.

【0027】[0027]

【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0028】図1は、本発明の実施例の薄膜型インピー
ダンス素子を作製する手順を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing a procedure for manufacturing a thin-film impedance element according to an embodiment of the present invention.

【0029】図1において、ガラス基板1[図1
(a)]の上に、スパッタ法により、パターンで導体
(Cu)を形成し、導体取出部2a,2bを含むパター
ンで導体3を銅(Cu)で作製した[図1(b)]。な
お、今回は、基板として、ガラス基板を用意したが、こ
のほかに、シリコン、ポリイミド、絶縁層を被覆したC
u/ポリイミド複合基板等でもよい。
In FIG. 1, a glass substrate 1 [FIG.
(A)], a conductor (Cu) was formed in a pattern by a sputtering method, and a conductor 3 was made of copper (Cu) in a pattern including conductor extraction portions 2a and 2b [FIG. 1 (b)]. In addition, this time, a glass substrate was prepared as a substrate.
A u / polyimide composite substrate may be used.

【0030】その上にガラス蒸着法により、前記導体3
の端部4を残すパターンで絶縁層5を成形した[図1
(c)]。
The conductor 3 is formed thereon by a glass evaporation method.
The insulating layer 5 was formed in a pattern leaving the end 4 of FIG.
(C)].

【0031】次に、スパッタ法にて内部導体6を形成し
[図1(d)]、続いて、図1(e)のパターンで絶縁
層7をガラス蒸着法で成形した。
Next, the inner conductor 6 was formed by the sputtering method (FIG. 1D), and the insulating layer 7 was formed by the glass evaporation method in the pattern of FIG. 1E.

【0032】同様にして、スパッタ法及び蒸着法で図1
(f)、図1(g)、図1(h)、図1(i)、図1
(j)、図1(k)の各パターンの導体及び絶縁層を形
成した。
Similarly, the sputtering method and the vapor deposition method shown in FIG.
(F), FIG. 1 (g), FIG. 1 (h), FIG. 1 (i), FIG.
(J) The conductor and the insulating layer of each pattern of FIG. 1 (k) were formed.

【0033】その上に、図1(l)に示す最終の導体の
パターンで導体3を形成し、導体全体が一本の導体回路
となるように形成した。また、最後に全体にガラスを蒸
着して、薄膜型インピーダンス素子を作製した。
The conductor 3 was formed thereon with the final conductor pattern shown in FIG. 1 (l), and the entire conductor was formed into a single conductor circuit. Finally, glass was vapor-deposited on the whole to produce a thin-film impedance element.

【0034】なお、図2に作製したインピーダンス素子
の断面、電流の方向、及び磁束の流れを模式的に示す。
FIG. 2 schematically shows a cross section, a current direction, and a magnetic flux flow of the manufactured impedance element.

【0035】なお、ここでは、導体の形成をスパッタ法
で行ったが、蒸着法、メッキ法、印刷法など、他の導体
形成方法でも同様の導体が形成できるものである。ま
た、絶縁層の形成を蒸着法で行ったが、スパッタ法や印
刷法など、他の絶縁層形成方法でも同様である。
Here, the conductor is formed by the sputtering method, but the same conductor can be formed by other conductor forming methods such as a vapor deposition method, a plating method, and a printing method. In addition, although the formation of the insulating layer is performed by a vapor deposition method, the same applies to other insulating layer forming methods such as a sputtering method and a printing method.

【0036】また、第一層目の導体取出部を含むパター
ン、及び導体全体を一本の導体回路となるように形成し
た最終導体を除き、導体パターンを4列4層としたが、
必要とするインピーダンスによって、部品の長さ、厚さ
の範囲内であれば、何列何層でも、同様に高周波までの
びるインピーダンス素子が得られる。
Also, except for the pattern including the first-layer conductor take-out portion and the final conductor in which the entire conductor is formed as a single conductor circuit, the conductor pattern has four rows and four layers.
Depending on the required impedance, impedance elements that extend to high frequencies can be obtained in any number of rows and layers as long as they are within the range of the length and thickness of the component.

【0037】次に、上記実施例に対する比較例を図3に
より説明する。
Next, a comparative example of the above embodiment will be described with reference to FIG.

【0038】図3において、ガラス基板1上に導体取出
部2を有する10ターンの渦巻き型の導体9をスパッタ
法にて形成し[図3(a)]、その上に、図3(b)に
示すパターンの絶縁層15をガラス蒸着法にて形成し
た。更にその上に、図3(c)に示すパターンの導体取
出部12をスパッタ法にて形成した。最後に、その表面
全体にガラスを蒸着して、インピーダンス素子を作製し
た。
In FIG. 3, a 10-turn spiral conductor 9 having a conductor take-out portion 2 is formed on a glass substrate 1 by a sputtering method (FIG. 3A), and FIG. The insulating layer 15 having the pattern shown in FIG. Further, a conductor extraction portion 12 having a pattern shown in FIG. 3C was formed thereon by a sputtering method. Finally, glass was deposited on the entire surface to produce an impedance element.

【0039】次に、上記で作製した実施例及び比較例の
インピーダンス素子の導体取出部が露出している部分
に、Agを主成分とした導電性ペーストを塗布し、約3
00℃で焼き付けを行い、外部電極を形成し、インピー
ダンス素子を完成させた。
Next, a conductive paste containing Ag as a main component was applied to the exposed portions of the impedance elements of the examples and the comparative examples, which were manufactured as described above.
Baking was performed at 00 ° C. to form external electrodes, thereby completing an impedance element.

【0040】図4に、このインピーダンス素子10の外
観斜視図を示す。なお、外部電極8を形成後の外観は、
実施例、比較例とも同様である。
FIG. 4 shows an external perspective view of the impedance element 10. The appearance after forming the external electrodes 8 is as follows.
The same applies to the examples and comparative examples.

【0041】上記で作製した薄膜型インピーダンス素子
の、インピーダンス特性をYHP製インピーダンスアナ
ライザーHP4291Aを用いて比較した。
The impedance characteristics of the thin-film impedance elements manufactured as described above were compared using a YHP impedance analyzer HP4291A.

【0042】図5に、実施例および比較例で作製したイ
ンピーダンス素子の、インピーダンスの周波数特性を示
す。
FIG. 5 shows the frequency characteristics of the impedance of the impedance elements manufactured in the examples and comparative examples.

【0043】図5より、周波数100MHzまでは、実
施例、比較例ともに同様の変化のインピーダンス特性を
示している。しかし、周波数1GHzでは、実施例が1
00MHz時と同等の変化の高いインピーダンス(10
00Ω)以上を示しているのに対し、比較例は、100
Ω以下に大きく低下している。
FIG. 5 shows that the impedance characteristic of the same change is shown in both the embodiment and the comparative example up to the frequency of 100 MHz. However, at a frequency of 1 GHz, the embodiment
High impedance of change equivalent to 00 MHz (10
00 Ω) or more, whereas the comparative example
It is greatly reduced to Ω or less.

【0044】この結果によれば、内部導体の構造をジグ
ザグ構造またはミアンダ構造とし、それを三次元に展開
し、更に隣接する導体の電流方向が同一となる構造とし
て、導体周りの磁束の共有化を図ることによって、低周
波(数10MHz)から高周波(GHz)までの高いイ
ンピーダンス特性を示す素子が得られることが明らかと
なった。
According to this result, the structure of the internal conductor is a zigzag structure or a meander structure, which is developed three-dimensionally, and the current direction of adjacent conductors is the same, so that the magnetic flux around the conductors is shared. It has been clarified that an element exhibiting high impedance characteristics from a low frequency (several tens of MHz) to a high frequency (GHz) can be obtained.

【0045】なお、本実施例では、絶縁層としてガラス
を用いたが、それ以外の絶縁材料で絶縁層を形成して
も、薄膜形成が可能であれば同様の効果が得られる。ま
た、形成する絶縁層内部に、内部導体と絶縁して軟磁性
薄膜を形成しても、同様の高周波まで高いインピーダン
スを示す部品が得られる。
In this embodiment, glass is used as the insulating layer. However, even if the insulating layer is formed of another insulating material, the same effect can be obtained as long as a thin film can be formed. Further, even if a soft magnetic thin film is formed inside the insulating layer to be insulated from the internal conductor, a component having a similar high impedance up to a high frequency can be obtained.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
内部導体が三次元に展開したジグザグ構造またはミアン
ダ構造であり、一方の外部電極に接続した内部導体はも
う一方の外部電極に向かって、戻ることなく展開する。
更に、ジグザグ構造またはミアンダ構造の内部導体の折
り返し部を除いて、素子両端の外部電極方向(水平方
向)に隣接する内部導体の電流の方向が同一であり、上
下方向に隣接する内部導体の電流の方向が逆向きとなる
ように構成されているので、低周波(数10MHz)か
ら高周波(GHz)までの高いインピーダンス特性を示
す薄膜型のインピーダンス素子が得られる。
As described above, according to the present invention,
The inner conductor has a zigzag structure or meander structure that is developed three-dimensionally, and the inner conductor connected to one of the external electrodes expands without returning to the other external electrode.
Furthermore, except for the folded portion of the zigzag or meandering inner conductor, the current directions of the inner conductors adjacent in the external electrode direction (horizontal direction) at both ends of the element are the same, and the currents of the inner conductors vertically adjacent to each other are the same. Are arranged in the opposite directions, so that a thin-film impedance element exhibiting high impedance characteristics from low frequency (several tens of MHz) to high frequency (GHz) can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例の薄膜型インピーダンス素子を
作製する手順を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing a procedure for manufacturing a thin-film impedance element according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施例の薄膜型インピーダンス素子の
断面、電流の方向、及び磁束の流れを模式的に示す図。
FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section, a current direction, and a magnetic flux flow of the thin film impedance element according to the embodiment of the present invention.

【図3】本発明品と比較する比較例のインピーダンス素
子を作製する手順を示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing a procedure for manufacturing an impedance element of a comparative example to be compared with the product of the present invention.

【図4】インピーダンス素子の外観斜視図。FIG. 4 is an external perspective view of an impedance element.

【図5】本発明の実施例及び比較例において作製したイ
ンピーダンス素子のインピーダンスの周波数特性を示す
図。
FIG. 5 is a diagram illustrating frequency characteristics of impedance of impedance elements manufactured in Examples and Comparative Examples of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2,2a,2b,12 導体取出部 3,6,9 (内部)導体 4 端部 5,7,15 絶縁層 8 外部電極 10 インピーダンス素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2, 2a, 2b, 12 Conductor taking-out part 3, 6, 9 (Inner) conductor 4 End 5, 7, 15 Insulating layer 8 External electrode 10 Impedance element

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 薄膜形成法により、絶縁層及び内部導体
を形成し、前記内部導体と接続する一対の外部電極を素
子の両端に形成してなる薄膜型インピーダンス素子にお
いて、内部導体が三次元に展開したジグザグ構造または
ミアンダ構造であり、一方の外部電極に接続した内部導
体が他方の外部電極に向かって、戻ることなく展開する
ことを特徴とする薄膜型電子部品。
1. A thin-film impedance element in which an insulating layer and an internal conductor are formed by a thin-film forming method, and a pair of external electrodes connected to the internal conductor are formed at both ends of the element. A thin-film electronic component having an expanded zigzag structure or meander structure, wherein an inner conductor connected to one external electrode expands toward the other external electrode without returning.
【請求項2】 前記ジグザグ構造またはミアンダ構造の
内部導体の折り返し部を除いて、前記素子の両端の外部
電極方向に隣接する内部導体の電流の方向が、同一方向
であり、上下方向に隣接する内部導体の電流の方向が逆
向きの方向であることを特徴とする請求項1記載の薄膜
型電子部品。
2. Except for a folded portion of the zigzag or meandering internal conductor, current directions of the internal conductors adjacent to the external electrodes at both ends of the element are the same direction and are adjacent in the vertical direction. 2. The thin-film electronic component according to claim 1, wherein the direction of the current flowing through the inner conductor is the opposite direction.
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