JP2000030455A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JP2000030455A
JP2000030455A JP19769298A JP19769298A JP2000030455A JP 2000030455 A JP2000030455 A JP 2000030455A JP 19769298 A JP19769298 A JP 19769298A JP 19769298 A JP19769298 A JP 19769298A JP 2000030455 A JP2000030455 A JP 2000030455A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power supply
supply voltage
voltage
circuit
internal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP19769298A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiyohiro Furuya
清広 古谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP19769298A priority Critical patent/JP2000030455A/en
Publication of JP2000030455A publication Critical patent/JP2000030455A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To pre-charge accurately internal data bus lines to the same voltage level and to read out data accurately at high speed. SOLUTION: The same power source voltage as the power source Vccsa given to a sense amplifier circuit 4a is given to the internal data bus lines I/O, I/O* via (p) channel MOS transistors PQa, PQb. Thereby, pre-charge voltage of the internal data bus lines can be made to a sense power source voltage level, and the internal data bus lines can be accurately pre-charged to a sense power source voltage level via a pre-charge circuit even at the time of decreasing of the sense power source voltage.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、特に、内部データバスに結合する周辺回路の電
源電圧割当てに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to power supply voltage allocation for a peripheral circuit coupled to an internal data bus.

【0002】[0002]

【従来の技術】図14は、従来の半導体記憶装置の要部
の構成を概略的に示す図である。図14においては、メ
モリアレイおよびデータ読出に関連する周辺回路の部分
の構成が概略的に示される。
2. Description of the Related Art FIG. 14 schematically shows a structure of a main part of a conventional semiconductor memory device. FIG. 14 schematically shows a configuration of a memory array and peripheral circuits related to data reading.

【0003】図14において、メモリセルアレイMAに
おいては、メモリセルMCが行列状に配列され、メモリ
セルMCの各行に対応してワード線WLが配設され、メ
モリセルMCの各列に対応してビット線対BLPが配設
される。図14においては、1つのワード線WLおよび
1つのビット線対BLPを代表的に示す。ビット線対B
LPは、互いに相補なデータ信号を伝達するビット線B
Lおよび/BLを含む。メモリセルMCは、ワード線W
Lとビット線BLおよび/BLの一方との交差部に対応
して配置される。図14においては、ワード線WLとビ
ット線BLの交差部にメモリセルMCが配置される。メ
モリセルMCは、情報を記憶するキャパシタMQと、ワ
ード線WL上の信号電位に応答してメモリキャパシタM
Qを対応のビット線BLに接続するnチャネルMOSト
ランジスタで構成されるアクセストランジスタMTを含
む。
In FIG. 14, in a memory cell array MA, memory cells MC are arranged in a matrix, word lines WL are provided corresponding to each row of memory cells MC, and corresponding to each column of memory cells MC. Bit line pair BLP is provided. FIG. 14 representatively shows one word line WL and one bit line pair BLP. Bit line pair B
LP is a bit line B for transmitting complementary data signals.
L and / BL. The memory cell MC is connected to the word line W
It is arranged corresponding to the intersection between L and one of bit lines BL and / BL. In FIG. 14, memory cells MC are arranged at intersections of word lines WL and bit lines BL. The memory cell MC includes a capacitor MQ for storing information and a memory capacitor M in response to a signal potential on the word line WL.
Access transistor MT including an n-channel MOS transistor connecting Q to corresponding bit line BL is included.

【0004】ビット線BLPそれぞれに対応して、セン
ス駆動線101pおよび101n上の電圧に従って活性
化され、ビット線BLおよび/BLの電圧を差動増幅す
るセンスアンプ102が設けられる。センス駆動線10
1pおよび101nには、センスアンプ活性化信号/S
ENおよびSENに応答してセンス駆動線101pおよ
び101nへ内部電源電圧Vccsおよび接地電圧Vs
sを伝達するセンスアンプ活性化回路103が設けられ
る。センスアンプ活性化回路103は、センスアンプ活
性化信号/SENの活性化に応答して導通し内部電源電
圧Vccsをセンス駆動線101p上に伝達するpチャ
ネルMOSトランジスタ103aと、センスアンプ活性
化信号SENの活性化に応答して導通し、接地電圧Vs
sをセンス駆動線101nに伝達するnチャネルMOS
トランジスタ103bを含む。
For each bit line BLP, there is provided a sense amplifier 102 activated according to the voltage on sense drive lines 101p and 101n and differentially amplifying the voltages of bit lines BL and / BL. Sense drive line 10
1p and 101n have sense amplifier activation signal / S
Internal power supply voltage Vccs and ground voltage Vs are applied to sense drive lines 101p and 101n in response to EN and SEN.
A sense amplifier activating circuit 103 transmitting s is provided. Sense amplifier activating circuit 103 is turned on in response to activation of sense amplifier activating signal / SEN, and conducts to transmit internal power supply voltage Vccs onto sense drive line 101p, and sense amplifier activating signal SEN Becomes conductive in response to the activation of
n channel MOS transmitting s to sense drive line 101n
The transistor 103b is included.

【0005】さらに、データの読出を行なうための周辺
回路として、内部電源電圧Vccpを動作電源電圧とし
て動作し、内部コラムアドレス信号Adcをデコード
し、アドレス指定された列に対応する列選択線CSLを
選択状態へ駆動する列選択信号発生回路104と、ビッ
ト線対それぞれに対応して設けられ、列選択信号発生回
路104からの列選択信号の活性化時導通し、対応のビ
ット線対BLPを内部データバスIOPに接続する列選
択ゲート105と、内部電源電圧Vccpを一方動作電
源電圧として受けて動作し、プリチャージ指示信号IO
EQを発生するプリチャージ制御回路106と、プリチ
ャージ制御回路106からのIO線プリチャージ指示信
号IOEQの活性化に応答して導通し、内部データバス
IOPの内部データバス線I/OおよびI/O*を内部
電源電圧Vccpレベルにプリチャージするプリチャー
ジ回路107と、内部電源電圧Vccpを一方動作電源
電圧として動作し、かつデータ読出時活性化され、内部
データバスIOP上に読出されたメモリセルデータを増
幅して内部読出データRDを生成するプリアンプ108
が設けられる。
Further, as a peripheral circuit for reading data, it operates using internal power supply voltage Vccp as an operating power supply voltage, decodes internal column address signal Adc, and sets column select line CSL corresponding to the addressed column to a column select line CSL. A column selection signal generation circuit 104 driven to a selected state and a bit line pair are provided corresponding to each of the bit line pairs. The column selection signal generation circuit 104 is turned on when a column selection signal from column selection signal generation circuit 104 is activated, and the corresponding bit line pair BLP is internally provided. Column select gate 105 connected to data bus IOP and internal power supply voltage Vccp operate as one operation power supply voltage to operate, and precharge instruction signal IO
The precharge control circuit 106 for generating the EQ, and conducting in response to activation of the IO line precharge instruction signal IOEQ from the precharge control circuit 106, and the internal data bus lines I / O and I / O of the internal data bus IOP. A precharge circuit 107 for precharging O * to the level of internal power supply voltage Vccp, and a memory cell operating with internal power supply voltage Vccp as one operation power supply voltage, activated at the time of data reading, and read onto internal data bus IOP Preamplifier 108 for amplifying data to generate internal read data RD
Is provided.

【0006】列選択ゲート105は、ビット線BLおよ
び/BLと内部データバス線I/OおよびI/O*との
間に設けられるトランスファゲート105aおよび10
5bを含む。IO線プリチャージ回路107は、IO線
プリチャージ指示信号IOEQの活性化時導通し、内部
データバス線I/OおよびI/O*上に内部電源電圧V
ccpを伝達するnチャネルMOSトランジスタ107
aおよび107bを含む。次に、この図14に示す半導
体記憶装置の動作を図15に示す信号波形図を参照して
説明する。
Column select gate 105 includes transfer gates 105a and 105 provided between bit lines BL and / BL and internal data bus lines I / O and I / O *.
5b. IO line precharge circuit 107 is rendered conductive when IO line precharge instructing signal IOEQ is activated, and provides internal power supply voltage V on internal data bus lines I / O and I / O *.
n channel MOS transistor 107 transmitting ccp
a and 107b. Next, the operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 14 will be described with reference to a signal waveform diagram shown in FIG.

【0007】まず、メモリサイクルが始まると、内部ロ
ウアドレス信号に従って図示しないワード線選択回路に
より、アドレス指定された行に対応して配置されるワー
ド線WLが選択状態へ駆動され、その電圧レベルが上昇
する。選択ワード線WLの電圧の上昇に従って、選択ワ
ード線WLに接続するメモリセルMCに含まれるアクセ
ストランジスタMTが導通し、対応のメモリキャパシタ
MQが対応のビット線BL(または/BL)に接続され
る。このメモリキャパシタMQの格納電荷量に応じて、
選択メモリセルが接続するビット線BL(または/B
L)の電圧が変化する。図15においては、選択メモリ
セルMCがHレベルの情報を記憶する場合のビット線B
L,/BLの信号波形が一例として示される。対をなす
ビット線/BL(BL)は、選択メモリセルが接続され
ていないため、所定の中間電圧レベルのプリチャージ電
圧レベルを保持する。
First, when a memory cycle starts, a word line selecting circuit (not shown) drives a word line WL arranged corresponding to an addressed row to a selected state in accordance with an internal row address signal, and its voltage level is increased. To rise. As the voltage of selected word line WL rises, access transistor MT included in memory cell MC connected to selected word line WL is turned on, and corresponding memory capacitor MQ is connected to corresponding bit line BL (or / BL). . According to the amount of charge stored in the memory capacitor MQ,
The bit line BL (or / B) connected to the selected memory cell
The voltage of L) changes. In FIG. 15, bit line B in the case where selected memory cell MC stores H-level information
The signal waveforms of L and / BL are shown as an example. Bit line / BL (BL) forming a pair holds a precharge voltage level of a predetermined intermediate voltage level since the selected memory cell is not connected.

【0008】ビット線BLおよび/BLの電圧差が十分
に拡大されると、所定のタイミングでセンスアンプ活性
化信号SENおよび/SENが活性状態へ駆動され、セ
ンス駆動線101nおよび101pにそれぞれ接地電圧
Vssおよび内部電源電圧Vccsが伝達され、センス
アンプ102が活性化される。これにより、ビット線B
Lおよび/BLが、メモリセルの記憶情報に応じて内部
電源電圧Vccsおよび接地電圧Vssレベルに駆動さ
れる。
When the voltage difference between bit lines BL and / BL is sufficiently enlarged, sense amplifier activation signals SEN and / SEN are driven to an active state at a predetermined timing, and ground voltage is applied to sense drive lines 101n and 101p, respectively. Vss and internal power supply voltage Vccs are transmitted, and sense amplifier 102 is activated. Thereby, the bit line B
L and / BL are driven to internal power supply voltage Vccs and ground voltage Vss levels according to the storage information of the memory cell.

【0009】センス動作が完了すると、いわゆる「コラ
ムインターロック」期間が完了し、列選択動作が可能に
なる。列選択動作時においては、まずプリチャージ制御
回路106が、IO線プリチャージ指示信号IOEQを
Lレベルの非活性状態とし、IO線プリチャージ回路1
07を非活性化する。IO線プリチャージ回路107
は、nチャネルMOSトランジスタ107aおよび10
7bを含んでおり、プリチャージ制御回路106からの
IO線プリチャージ指示信号IOEQは、活性化時、内
部電源電圧Vccpレベルである。また、IO線プリチ
ャージ回路107も、内部電源電圧Vccpを受けてお
り、したがって、これらの内部データバス線I/Oおよ
びI/O*は、電圧Vccp−Vthの電圧レベルでフ
ローティング状態となる。ここで、Vthは、IO線プ
リチャージ回路107に含まれるnチャネルMOSトラ
ンジスタ107aおよび107bのしきい値電圧を示
す。
When the sensing operation is completed, a so-called "column interlock" period is completed, and a column selecting operation becomes possible. At the time of the column selection operation, first, precharge control circuit 106 sets IO line precharge instruction signal IOEQ to an inactive state of L level, and IO line precharge circuit 1
07 is deactivated. IO line precharge circuit 107
Are n channel MOS transistors 107a and 107
7b, and IO line precharge instruction signal IOEQ from precharge control circuit 106 is at the level of internal power supply voltage Vccp when activated. IO line precharge circuit 107 also receives internal power supply voltage Vccp. Therefore, internal data bus lines I / O and I / O * are in a floating state at a voltage level of voltage Vccp-Vth. Here, Vth indicates a threshold voltage of n-channel MOS transistors 107a and 107b included in IO line precharge circuit 107.

【0010】次いで、列選択信号発生回路104が活性
化され、与えられたコラムアドレス信号Adcをデコー
ドし、選択列に対応する列選択線CSLを選択状態へ駆
動する。これにより、列選択ゲート105(トランスフ
ァゲート105aおよび105b)が導通し、選択列に
対応するビット線BLおよび/BLが内部データバス線
I/OおよびI/O*にそれぞれ接続される。次いで、
プリアンプ108がプリアンプ活性化信号PAEにより
活性化され、この内部データバスIOPに読出されたメ
モリセルデータの増幅を行なって内部読出データRDを
生成する。この内部読出データRDは、図示しない出力
回路を介して外部へ出力される。
Next, column select signal generating circuit 104 is activated, decodes applied column address signal Adc, and drives column select line CSL corresponding to the selected column to a selected state. Thereby, column select gate 105 (transfer gates 105a and 105b) is turned on, and bit lines BL and / BL corresponding to the selected column are connected to internal data bus lines I / O and I / O *, respectively. Then
Preamplifier 108 is activated by preamplifier activation signal PAE, and amplifies memory cell data read onto internal data bus IOP to generate internal read data RD. This internal read data RD is output to the outside via an output circuit (not shown).

【0011】内部電源電圧Vccsは、内部電源電圧V
ccpよりも低い電圧レベルである。メモリセルキャパ
シタMQに、電源電圧Vccsが印加されるため、この
メモリセルキャパシタの絶縁膜が破壊されるのを防止す
るためである。また、選択ワード線WLは、その電圧レ
ベルが内部電源電圧Vccsの通常約1.5倍の電圧レ
ベルに駆動される。したがって、この内部電源電圧Vc
csを低くすることにより、選択メモリセルのアクセス
トランジスタのゲート絶縁膜に高電圧が印加されるのを
防止し、素子の信頼性を保証する。一方、周辺回路にお
いては、このセンスアンプへ与えられる内部電源電圧V
ccsよりも高い電圧レベルの内部電源電圧Vccpを
与え、周辺回路を高速動作させる。
The internal power supply voltage Vccs is equal to the internal power supply voltage Vcc.
The voltage level is lower than ccp. This is because the power supply voltage Vccs is applied to the memory cell capacitor MQ to prevent the insulating film of the memory cell capacitor from being broken. The selected word line WL is driven to a voltage level that is usually about 1.5 times the internal power supply voltage Vccs. Therefore, internal power supply voltage Vc
By lowering cs, a high voltage is prevented from being applied to the gate insulating film of the access transistor of the selected memory cell, and the reliability of the element is assured. On the other hand, in the peripheral circuit, internal power supply voltage V
An internal power supply voltage Vccp at a voltage level higher than ccs is applied to operate peripheral circuits at high speed.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】内部データバス線をプ
リチャージするためのプリチャージトランジスタとし
て、nチャネルMOSトランジスタを用いることによ
り、内部データバス線の電圧振幅を小さくし、高速アク
セスの実現を図る。すなわち、内部データバス線I/O
およびI/O*のプリチャージ電圧レベルを、電圧Vc
cp−Vthに設定することにより、できるだけ、デー
タ書込および読出時における内部データバス線の電圧振
幅低減を図る。また、できるだけ、メモリセルアレイ部
のnチャネルMOSトランジスタと同一基板領域に形成
することにより、PN分離などの領域を不要とすること
を図る。
SUMMARY OF THE INVENTION By using an n-channel MOS transistor as a precharge transistor for precharging an internal data bus line, the voltage amplitude of the internal data bus line is reduced and high-speed access is realized. . That is, the internal data bus line I / O
And the precharge voltage level of I / O *
By setting to cp-Vth, the voltage amplitude of the internal data bus line during data writing and reading is reduced as much as possible. In addition, by forming as much as possible in the same substrate region as the n-channel MOS transistor in the memory cell array portion, it is possible to eliminate the need for a region such as PN isolation.

【0013】しかしながら、周辺回路に与えられる内部
電源電圧(以下、周辺電源電圧と称す)Vccpの電圧
レベルが低下した場合、プリチャージ制御回路106
が、周辺電源電圧Vccpを動作電源電圧として動作し
ているため、プリチャージ指示信号IOEQのHレベル
の電圧レベルも応じて低下する。この場合、以下の問題
が生じる。
However, when the voltage level of the internal power supply voltage (hereinafter referred to as the peripheral power supply voltage) Vccp applied to the peripheral circuit decreases, the precharge control circuit 106
However, since the peripheral power supply voltage Vccp operates using the operation power supply voltage, the H level of the precharge instruction signal IOEQ also decreases accordingly. In this case, the following problem occurs.

【0014】図16は、この周辺電源電圧低下時におけ
る問題点を説明するための図である。IO線プリチャー
ジ指示信号IOEQがLレベルとなると、列選択動作が
行なわれ、選択ビット線対が内部データバス線I/Oお
よびI/O*に接続され、メモリセルデータが内部デー
タバス線I/OおよびI/O*に伝達される。内部デー
タバス線I/OおよびI/O*の一方は、センスアンプ
102により、このセンスアンプがビット線上に伝達し
た内部電源電圧(以下、センス電源電圧と称す)Vcc
sレベルに駆動される。一方、他方の内部データバス線
は、その電圧レベルが低下する。このデータ読出時にお
ける内部データバス線の電圧低下量は、選択ビット線対
に設けられるセンスアンプの放電能力により決定され、
センスアンプは、単に対応のビット線対の寄生容量の充
放電を行なうことが要求されるだけであり、電流駆動能
力は小さくされており、Lレベルデータが伝達される内
部データバス線の電圧レベルは緩やかに低下する。
FIG. 16 is a diagram for explaining a problem when the peripheral power supply voltage drops. When IO line precharge instructing signal IOEQ attains an L level, a column selecting operation is performed, a selected bit line pair is connected to internal data bus lines I / O and I / O *, and memory cell data is transferred to internal data bus line I / O *. / O and I / O *. One of internal data bus lines I / O and I / O * is supplied by sense amplifier 102 to an internal power supply voltage (hereinafter referred to as a sense power supply voltage) Vcc transmitted by the sense amplifier onto a bit line.
Driven to s level. On the other hand, the voltage level of the other internal data bus line decreases. The voltage drop amount of the internal data bus line at the time of data reading is determined by the discharge capability of the sense amplifier provided for the selected bit line pair,
The sense amplifier is merely required to charge and discharge the parasitic capacitance of the corresponding bit line pair, has a reduced current driving capability, and has a voltage level of an internal data bus line to which L level data is transmitted. Decreases slowly.

【0015】列選択動作が行なわれてから所定のタイミ
ングでプリアンプ活性化信号PAEが活性化される。通
常、このプリアンプ活性化信号PAEは、コラムアドレ
ス信号の変化時点をトリガとして活性化される。したが
って、通常動作時においては、この内部データバス線I
/OおよびI/O*の電圧差が電圧V1のときに、プリ
アンプ活性化信号PAEが活性化される。
Preamplifier activation signal PAE is activated at a predetermined timing after the column selection operation is performed. Normally, preamplifier activation signal PAE is activated with a change point of the column address signal as a trigger. Therefore, during normal operation, internal data bus line I
When the voltage difference between / O and I / O * is voltage V1, preamplifier activation signal PAE is activated.

【0016】この後、周辺電源電圧Vccpの電圧レベ
ルが低下した場合、IO線プリチャージ指示信号IOE
QのHレベルは、所定の電圧レベルよりも低くなる。こ
の周辺電源電圧Vccpの電圧レベルが、内部データバ
ス線I/OおよびI/O*上の電圧よりも低い場合に
は、プリチャージ指示信号IOEQの電圧レベルも、こ
の内部データバス線I/OおよびI/O*上の電圧レベ
ルよりも低くなるため、プリチャージ用トランジスタ1
07aおよび107bがオフ状態となる。これは、周辺
電源電圧Vccpを受けるノードが、プリチャージ用の
nチャネルMOSトランジスタ107aおよび107b
のソースとなり、これらのプリチャージ用のnチャネル
MOSトランジスタ107aおよび107bのゲートお
よびソース電圧が等しくなるためである。したがって、
この状態においては、内部データバス線I/OおよびI
/O*は、完全に同じ電圧レベルにプリチャージするこ
とができず、先のサイクルで読出されたメモリセルデー
タに応じた電圧レベルを保持して、その状態でフローテ
ィング状態となる。
Thereafter, when the voltage level of peripheral power supply voltage Vccp decreases, IO line precharge instructing signal IOE
The H level of Q becomes lower than a predetermined voltage level. When the voltage level of peripheral power supply voltage Vccp is lower than the voltages on internal data bus lines I / O and I / O *, the voltage level of precharge instructing signal IOEQ also changes to the level of internal data bus line I / O. And the voltage level on I / O * is lower than that on precharge transistor 1
07a and 107b are turned off. This is because the nodes receiving peripheral power supply voltage Vccp are connected to precharge n-channel MOS transistors 107a and 107b.
And the gate and source voltages of these precharging n-channel MOS transistors 107a and 107b are equal. Therefore,
In this state, internal data bus lines I / O and I
/ O * cannot be completely precharged to the same voltage level, and holds a voltage level corresponding to the memory cell data read in the previous cycle, and in that state, it becomes a floating state.

【0017】この状態においては、次にメモリセル選択
動作が読出された場合、先のメモリセルデータに応じた
内部データバス線I/OおよびI/O*の電圧レベルか
ら、新たに選択されたメモリセルのデータに応じて内部
データバス線I/OおよびI/O*の電圧レベルが変化
する。前のサイクルと逆のデータが読出された場合、内
部データバス線I/OおよびI/O*の電圧レベルは逆
方向に変化するため、新たに選択されたメモリセルのデ
ータに応じた電圧レベルに内部データバス線I/Oおよ
びI/O*が到達するのに長時間を要する。一方、プリ
アンプ活性化信号PAEは所定のタイミングで活性化さ
れる。したがって、プリアンプ活性化信号PAEが活性
化されたとき、この内部データバス線I/OおよびI/
O*上の電圧差が、電圧V2であれば、プリアンプ10
8は、正確にメモリセルデータの増幅を行なうことがで
きず、メモリセルデータを正確に読出すことができなく
なる。
In this state, when the next memory cell selection operation is performed, a new selection is made from the voltage levels of internal data bus lines I / O and I / O * corresponding to the previous memory cell data. Voltage levels of internal data bus lines I / O and I / O * change according to data of the memory cells. When data opposite to that of the previous cycle is read, the voltage levels of internal data bus lines I / O and I / O * change in the opposite direction, so that the voltage level corresponding to the data of the newly selected memory cell is obtained. , It takes a long time for internal data bus lines I / O and I / O * to arrive. On the other hand, preamplifier activation signal PAE is activated at a predetermined timing. Therefore, when preamplifier activation signal PAE is activated, internal data bus lines I / O and I / O
If the voltage difference on O * is the voltage V2, the preamplifier 10
No. 8 cannot accurately amplify the memory cell data and cannot correctly read the memory cell data.

【0018】また、列選択信号発生回路104は、周辺
電源電圧Vccpを動作電源電圧として、選択列に対応
する列選択信号をこの周辺電源電圧Vccpレベルに駆
動している。センスアンプ102の電流駆動力は、比較
的小さくされている。したがって、この周辺電源電圧V
ccpの電圧レベルがセンス電源電圧Vccsに比べて
高い場合、接地電圧レベルのビット線に接続される列選
択ゲートのコンダクタンスが急激に大きくなり、一方セ
ンス電源電圧Vccsレベルのビット線に接続される列
選択ゲートのコンダクタンスは、それほど急激には大き
くならない(ゲート−ソース間電圧がそれほど大きくな
いため)。したがって、センスアンプ102においてセ
ンスノードに急激に、大きな負荷容量を有する内部デー
タバス線が接続され、この内部データバス線のプリチャ
ージ電圧レベルに係わらず、センスアンプ102の記憶
データが逆転することも考えられる。この場合、正確な
メモリセルのデータの読出を行なうことができず、また
メモリセルデータが破壊される。
Column select signal generating circuit 104 drives a column select signal corresponding to a selected column to the level of peripheral power supply voltage Vccp using peripheral power supply voltage Vccp as an operation power supply voltage. The current driving capability of sense amplifier 102 is relatively small. Therefore, this peripheral power supply voltage V
When the voltage level of ccp is higher than sense power supply voltage Vccs, the conductance of the column select gate connected to the bit line at the ground voltage level sharply increases, while the column connected to the bit line at the level of sense power supply voltage Vccs is increased. The conductance of the select gate does not increase very rapidly (because the gate-source voltage is not so high). Therefore, an internal data bus line having a large load capacitance is suddenly connected to the sense node in sense amplifier 102, and the data stored in sense amplifier 102 may be reversed regardless of the precharge voltage level of the internal data bus line. Conceivable. In this case, accurate reading of data from the memory cell cannot be performed, and the memory cell data is destroyed.

【0019】また、従来の出荷前の最終テストにおける
ストレス加速モードにおいて、周辺電源電圧Vccpお
よびセンス電源電圧Vccsがともに外部電源電圧に従
ってその電圧レベルが変更される。したがって、列選択
信号の電圧レベルの選択列のセンスアンプの保持データ
に対する影響を測定することができず、正確なデータの
読出を十分に保証することができないという問題があっ
た。
Further, in the stress acceleration mode in the conventional final test before shipping, the peripheral power supply voltage Vccp and the sense power supply voltage Vccs are both changed in voltage level in accordance with the external power supply voltage. Therefore, the influence of the voltage level of the column selection signal on the data held in the sense amplifier of the selected column cannot be measured, and there has been a problem that accurate reading of data cannot be sufficiently ensured.

【0020】それゆえ、この発明の目的は、周辺電源電
圧の影響を受けることなく、正確にデータの読出を行な
うことのできる半導体記憶装置を提供することである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of accurately reading data without being affected by a peripheral power supply voltage.

【0021】この発明の他の目的は、選択メモリセルデ
ータの破壊を伴うことなくデータの読出を行なうことの
できる半導体記憶装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of reading data without destruction of selected memory cell data.

【0022】この発明のさらに他の目的は、周辺電源電
圧の影響を受けることなく正確に所定の電圧レベルに内
部データバスをプリチャージすることのできる半導体記
憶装置を提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of accurately precharging an internal data bus to a predetermined voltage level without being affected by a peripheral power supply voltage.

【0023】この発明のさらに他の目的は、正確に、セ
ンスアンプの安定なデータ保持を保証することのできる
半導体記憶装置を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can accurately and stably hold data in a sense amplifier.

【0024】[0024]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、行列状に配列される複数のメモリセルと、メ
モリセルの列それぞれに対応して設けられ、活性化時対
応のメモリセル列を第1の電源電圧または接地電圧レベ
ルに選択メモリセルのデータに応じて駆動する複数のセ
ンスアンプと、選択メモリセルとデータの授受を行なう
ための内部データバスと、この内部データバスを第1の
電源電圧レベルにプリチャージするプリチャージ回路
と、第1の電源電圧以上の第2の電源電圧を動作電源と
して受けて動作して、メモリセル選択に関連する動作を
少なくとも行なう周辺回路とを備える。
According to a first aspect of the present invention, a semiconductor memory device is provided corresponding to a plurality of memory cells arranged in a matrix and a column of the memory cells, and corresponds to a memory cell corresponding to an activated state. A plurality of sense amplifiers for driving a column to a first power supply voltage or ground voltage level in accordance with data of a selected memory cell; an internal data bus for transmitting / receiving data to / from the selected memory cell; A precharge circuit for precharging to a power supply voltage level of 1 and a peripheral circuit which operates by receiving a second power supply voltage equal to or higher than the first power supply voltage as an operation power supply and performs at least an operation related to memory cell selection Prepare.

【0025】請求項2に係る半導体記憶装置は、請求項
1の周辺回路が、第2の電源電圧を動作電源電圧として
受けて動作し、与えられた内部列アドレス信号をデコー
ドし、アドレス指定された列を指定する列指定信号を生
成する列デコード回路と、この列デコード回路からの列
指定信号に従って、アドレス指定された列に対し、第3
の電源電圧レベルの列選択信号を生成する列選択ドライ
ブ回路とを含む。選択列は、この列選択信号に従って列
選択ゲートを介して内部データバスに結合される。
In a semiconductor memory device according to a second aspect, the peripheral circuit of the first aspect operates by receiving the second power supply voltage as an operation power supply voltage, decodes a given internal column address signal, and specifies an address. A column decode circuit for generating a column designating signal for designating the specified column, and a third column for the addressed column in accordance with the column designating signal from the column decode circuit.
And a column selection drive circuit for generating a column selection signal at the power supply voltage level of The selected column is coupled to an internal data bus via a column selection gate according to the column selection signal.

【0026】請求項3に係る半導体記憶装置は、請求項
1の周辺回路が、第2の電源電圧を動作電源電圧として
受けて動作し、活性化時内部データバス線上のデータを
増幅する読出増幅回路を含む。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device, the peripheral circuit of the first aspect operates by receiving the second power supply voltage as an operation power supply voltage, and amplifies data on the internal data bus line when activated. Including circuits.

【0027】請求項4に係る半導体記憶装置は、請求項
2の第3の電源電圧が、第1の電源電圧と同じ電圧レベ
ルである。
In a semiconductor memory device according to a fourth aspect, the third power supply voltage of the second aspect is at the same voltage level as the first power supply voltage.

【0028】請求項5に係る半導体記憶装置は、請求項
2の第3の電源電圧が、第1および第2の電源電圧の間
の電圧レベルである。
According to a fifth aspect of the present invention, the third power supply voltage of the second aspect is at a voltage level between the first and second power supply voltages.

【0029】請求項6に係る半導体記憶装置は、請求項
1または2の第2の電源電圧が、外部から与えられる電
源電圧と同じ電圧レベルである。
In a semiconductor memory device according to a sixth aspect, the second power supply voltage of the first or second aspect is at the same voltage level as an externally applied power supply voltage.

【0030】請求項7に係る半導体記憶装置は、請求項
2の第2の電源電圧と第3の電源電圧が同一電圧レベル
である。
According to a seventh aspect of the present invention, the second power supply voltage and the third power supply voltage of the second aspect have the same voltage level.

【0031】請求項8に係る半導体記憶装置は、請求項
2の装置が、さらに、外部電源電圧を伝達する第1の電
源線と、この第1の電源線の電圧を受けて第1の電源電
圧を生成して、センスアンプおよびプリチャージ回路へ
与える第1の内部電圧発生回路と、第1の電源線に結合
され、この第1の電源線上の電圧から第1の電源電圧よ
りも高い第2の電源電圧を生成する第2の内部電圧発生
手段と、第1の電源線および第2の内部電圧発生回路の
出力電圧の一方を列デコード回路へ与える手段を備え
る。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device according to the second aspect, further comprising a first power supply line transmitting an external power supply voltage, and a first power supply receiving the voltage of the first power supply line. A first internal voltage generating circuit for generating a voltage and applying the generated voltage to the sense amplifier and the precharge circuit; and a first internal voltage generating circuit coupled to the first power supply line, and a voltage higher than the first power supply voltage based on the voltage on the first power supply line. A second internal voltage generating means for generating two power supply voltages, and a means for supplying one of the output voltages of the first power supply line and the second internal voltage generating circuit to the column decode circuit.

【0032】請求項9に係る半導体記憶装置は、請求項
8の選択手段が、この選択した電圧を列選択ドライブ回
路へも与える。
According to a ninth aspect of the present invention, the selection means of the eighth aspect also supplies the selected voltage to the column selection drive circuit.

【0033】請求項10に係る半導体記憶装置は、請求
項8の装置が、さらに、第1の電源線に結合され、この
外部電源電圧から第3の電源電圧を生成して列選択信号
発生回路へ印加する第3の電圧発生回路をさらに備え
る。この第3の電源電圧発生回路は、第1の内部電圧発
生回路と別に設けられる。
A semiconductor memory device according to a tenth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the eighth aspect, further comprising a third power supply voltage generated from the external power supply voltage and coupled to the first power supply line. And a third voltage generating circuit for applying the voltage to the third voltage generator. The third power supply voltage generation circuit is provided separately from the first internal voltage generation circuit.

【0034】請求項11に係る半導体記憶装置は、請求
項2の装置が、テストモード指示に応答して、列選択ド
ライブ回路の電源電圧を外部電源電圧レベルに設定する
手段をさらに含む。
The semiconductor memory device according to claim 11 is the device according to claim 2, further comprising means for setting the power supply voltage of the column selection drive circuit to the external power supply voltage level in response to the test mode instruction.

【0035】内部データバス線のプリチャージ電圧を、
センス電源電圧レベルに設定することにより、周辺電源
電圧の影響を受けることなく、所定の電圧レベルに正確
に内部データバス線をプリチャージすることができる。
The precharge voltage of the internal data bus line is
By setting the sense power supply voltage level, the internal data bus line can be accurately precharged to a predetermined voltage level without being affected by the peripheral power supply voltage.

【0036】また、テストモード時において、周辺電源
電圧を外部電源電圧レベルに設定することにより、セン
スアンプの保持データの安定性の周辺電源電圧依存性を
テストすることができる。
In the test mode, by setting the peripheral power supply voltage to the external power supply voltage level, it is possible to test the dependency of the stability of the data held by the sense amplifier on the peripheral power supply voltage.

【0037】また、列選択信号の電圧レベルを、センス
電源電圧レベルまたは周辺電源電圧よりも低い電圧レベ
ルに設定することにより、センスアンプのデータ逆転が
生じるのを防止することができる。
Further, by setting the voltage level of the column selection signal to a voltage level lower than the sense power supply voltage level or the peripheral power supply voltage, it is possible to prevent data inversion of the sense amplifier from occurring.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】[実施の形態1]図1は、この発
明の実施の形態1に従う半導体記憶装置の全体の構成を
概略的に示す図である。図1において、この半導体記憶
装置は、行列状に配列される複数のメモリセルを有する
メモリセルアレイ1と、外部からのアドレス信号ADを
取込み内部アドレス信号を生成するアドレス入力バッフ
ァ2と、アドレス入力バッファ2からの内部ロウアドレ
ス信号をデコードして、メモリセルアレイ1のアドレス
指定された行を選択状態へ駆動する行選択回路3と、メ
モリセルアレイ1の列それぞれに対応して設けられ、活
性化時対応の列上のメモリセルデータを検知し増幅する
複数のセンスアンプを含むセンスアンプ帯4と、アドレ
ス入力バッファ2からの内部コラムアドレス信号をデコ
ードし、メモリセルアレイ1のアドレス指定された列を
指定する列指定信号を生成する列デコード回路5と、列
デコード回路5からの列指定信号に従ってメモリセルア
レイ1の列を選択するための列選択線を選択状態へ駆動
する列選択線ドライブ回路6と、メモリセルアレイ1の
列それぞれに対応して設けられ、列選択線ドライブ回路
6からの列選択信号に従って選択列を内部データバス8
に結合する複数の列選択ゲートを含む列選択ゲート群7
と、内部データバス8に対し内部データの書込/読出を
行なう書込/読出回路10と、外部データDQの入出力
を行なう入出力回路11を含む。
[First Embodiment] FIG. 1 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, the semiconductor memory device includes a memory cell array 1 having a plurality of memory cells arranged in a matrix, an address input buffer 2 for receiving an external address signal AD and generating an internal address signal, and an address input buffer. A row selection circuit 3 for decoding an internal row address signal from memory cell array 2 to drive an addressed row of memory cell array 1 to a selected state, and provided for each column of memory cell array 1 for activation. , A sense amplifier band 4 including a plurality of sense amplifiers for detecting and amplifying memory cell data on a column and an internal column address signal from address input buffer 2 are decoded to specify an addressed column of memory cell array 1. A column decode circuit 5 for generating a column designating signal, and a column designating signal from the column decode circuit 5 A column selection line drive circuit 6 for driving a column selection line for selecting a column of the memory cell array 1 to a selected state, and a column selection line drive circuit 6 provided corresponding to each column of the memory cell array 1. According to the signal, the selected column is connected to the internal data bus 8
Column select gate group 7 including a plurality of column select gates coupled to
And a write / read circuit 10 for writing / reading internal data to / from internal data bus 8, and an input / output circuit 11 for inputting / outputting external data DQ.

【0039】内部データバス8には、活性化時所定の電
圧レベルに内部データバス8をプリチャージするIO線
プリチャージ回路9が設けられる。
Internal data bus 8 is provided with an IO line precharge circuit 9 for precharging internal data bus 8 to a predetermined voltage level when activated.

【0040】この半導体記憶装置は、さらに、外部信号
EXSに従って内部制御信号を生成する制御回路12
と、外部からの電源電圧extVccを電源線20を介
して受けて内部電源電圧Vccsaを生成する内部電源
回路13と、電源線20上の電源電圧から内部電源電圧
Vccpaを生成する内部電源回路14を含む。外部か
らの電源電圧extVccは、電源線20を介して、回
路内部に外部電源電圧Vexとして伝達される。
The semiconductor memory device further includes a control circuit 12 for generating an internal control signal according to external signal EXS.
And an internal power supply circuit 13 for receiving an external power supply voltage extVcc via power supply line 20 to generate internal power supply voltage Vccsa, and an internal power supply circuit 14 for generating internal power supply voltage Vccpa from the power supply voltage on power supply line 20. Including. An external power supply voltage extVcc is transmitted to the inside of the circuit via power supply line 20 as external power supply voltage Vex.

【0041】内部電源回路13からの内部電源電圧Vc
csaは、センスアンプ帯4およびIO線プリチャージ
回路9へ与えられる。内部電源回路14からの内部電源
電圧Vccpaは、列選択線ドライブ回路6へ与えられ
る。外部電源電圧Vexが、周辺回路、すなわちアドレ
ス入力バッファ2、行選択回路3、列デコード回路5、
書込/読出回路10、入出力回路11および制御回路1
2へ動作電源電圧として与えられる。
Internal power supply voltage Vc from internal power supply circuit 13
csa is applied to sense amplifier band 4 and IO line precharge circuit 9. Internal power supply voltage Vccpa from internal power supply circuit 14 is applied to column select line drive circuit 6. When the external power supply voltage Vex is applied to the peripheral circuits, that is, the address input buffer 2, the row selection circuit 3, the column decode circuit 5,
Write / read circuit 10, input / output circuit 11, and control circuit 1
2 as an operating power supply voltage.

【0042】IO線プリチャージ回路9へセンスアンプ
帯4へ与えられる電源電圧Vccsaと同じ電圧レベル
の内部電源電圧Vccsaを与えることにより、内部デ
ータバス8は、この周辺回路に与えられる電源電圧の変
動の影響を受けることなく安定に所定の電圧レベルにプ
リチャージされる。列選択線ドライブ回路6へ、列デコ
ード回路5へ与えられる外部電源電圧Vexとは異なる
内部電源電圧Vccpaを印加することにより、列選択
時(列選択ゲート導通時)センスアンプデータが変動す
るのを防止することができる。また、センスアンプ帯4
に対する内部電源電圧Vccsaを発生する内部電源回
路13と列選択線ドライブ回路6へ与えられる内部電源
電圧Vccpaを発生する内部電源回路14とを別々に
設けることにより、センス動作時に内部電源電圧Vcc
saが消費され、その電圧レベルが低下しても、正確に
かつ高速に列選択動作を行なうことができる。
By applying internal power supply voltage Vccsa having the same voltage level as power supply voltage Vccsa applied to sense amplifier band 4 to IO line precharge circuit 9, internal data bus 8 is provided with a variation in power supply voltage applied to the peripheral circuits. , And is stably precharged to a predetermined voltage level. By applying internal power supply voltage Vccpa different from external power supply voltage Vex applied to column decode circuit 5 to column select line drive circuit 6, it is possible to prevent the sense amplifier data from fluctuating when a column is selected (when the column select gate is conductive). Can be prevented. In addition, sense amplifier band 4
Internal power supply circuit 13 for generating internal power supply voltage Vccsa and internal power supply circuit 14 for generating internal power supply voltage Vccpa applied to column select line drive circuit 6 are separately provided, so that internal power supply voltage Vcc during sense operation is provided.
Even if sa is consumed and its voltage level decreases, the column selecting operation can be performed accurately and at high speed.

【0043】図2は、図1に示す内部電源回路13およ
び14の構成の一例を示す図である。図2において、内
部電源電圧Vccsaを生成する内部電源回路13およ
び内部電源電圧Vccpaを生成する内部電源回路14
はともに同じ構成を備えるため、図2においては、1つ
の内部電源回路の構成を代表的に示す。図2において、
内部電源回路は、内部電源線21上の内部電源電圧Vc
c(Vccsa,Vccpa)と基準電圧Vrefを比
較する比較器22と、比較器22の出力信号に従って電
源線20から内部電源線21へ電流を供給するpチャネ
ルMOSトランジスタで構成される電流ドライブトラン
ジスタ23を含む。内部電源電圧Vccが基準電圧Vr
efよりも高いときには、比較器22の出力信号がHレ
ベルとなり、電流ドライブトランジスタ23がオフ状態
となる。一方、内部電源電圧Vccが基準電圧Vref
よりも低い場合には、比較器22の出力信号がこの電圧
VccおよびVrefの差に応じたローレベルに低下
し、電流ドライブトランジスタ23のコンダクタンスが
増加し、電源線20から内部電源線21へ電流を供給
し、内部電源電圧Vccの電圧レベルを上昇させる。し
たがって、この図2に示す内部電源回路の構成において
は、内部電源電圧Vccが、基準電圧Vrefの電圧レ
ベルに等しくなる。なお、この図2に示す内部電源回路
の構成は単なる一例であり、内部電源電圧Vccをレベ
ルシフトして、基準電圧Vrefとこのレベルシフトさ
れた内部電源電圧とを比較する構成が用いられてもよ
い。
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of internal power supply circuits 13 and 14 shown in FIG. 2, internal power supply circuit 13 for generating internal power supply voltage Vccsa and internal power supply circuit 14 for generating internal power supply voltage Vccpa
Since both have the same configuration, FIG. 2 representatively shows the configuration of one internal power supply circuit. In FIG.
The internal power supply circuit is connected to the internal power supply voltage Vc on the internal power supply line 21.
c (Vccsa, Vccpa) and a current drive transistor 23 composed of a comparator 22 for comparing the reference voltage Vref and a p-channel MOS transistor for supplying a current from the power supply line 20 to the internal power supply line 21 in accordance with an output signal of the comparator 22 including. Internal power supply voltage Vcc is equal to reference voltage Vr
When it is higher than ef, the output signal of the comparator 22 becomes H level, and the current drive transistor 23 is turned off. On the other hand, the internal power supply voltage Vcc is equal to the reference voltage Vref.
If the voltage is lower than Vcc, the output signal of the comparator 22 drops to a low level corresponding to the difference between the voltages Vcc and Vref, the conductance of the current drive transistor 23 increases, and the current flows from the power supply line 20 to the internal power supply line 21. To increase the voltage level of internal power supply voltage Vcc. Therefore, in the configuration of the internal power supply circuit shown in FIG. 2, internal power supply voltage Vcc is equal to the voltage level of reference voltage Vref. The configuration of the internal power supply circuit shown in FIG. 2 is merely an example, and a configuration in which internal power supply voltage Vcc is level-shifted and reference voltage Vref is compared with the level-shifted internal power supply voltage may be used. Good.

【0044】図3は、図1に示す半導体記憶装置の1ビ
ットのデータ読出部に関連する構成を示す図である。図
3においては、1つのビット線対を示す。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration related to a 1-bit data read section of the semiconductor memory device shown in FIG. FIG. 3 shows one bit line pair.

【0045】センスアンプ群7は、ビット線BLおよび
/BLに対して設けられるセンスアンプ回路7aを含
む。センスアンプ回路7aは、センス駆動線101p上
にセンス電源電圧Vccsaが与えられると活性化さ
れ、ビット線BLおよび/BLのうちの高電位のビット
線をセンス電源電圧Vccsaレベルに駆動する交差結
合されたpチャネルMOSトランジスタと、センス駆動
線101n上に接地電圧が伝達されると活性化され、ビ
ット線BLおよび/BLのうち低電位のビット線を接地
電圧レベルに放電する交差結合されたnチャネルMOS
トランジスタを含む。センス駆動線101pへは、セン
スアンプ活性化信号/SENの活性化時導通し、センス
電源電圧Vccsaをセンス駆動線101pに伝達する
pチャネルMOSトランジスタ103bが設けられる。
センス駆動線101nには、センスアンプ活性化信号S
ENの活性化に応答して導通し、接地電圧をセンス駆動
線101nに伝達するnチャネルMOSトランジスタ1
03aが設けられる。センスアンプ回路7aは、センス
電源電圧Vccsaを一方動作電源電圧とするため、ビ
ット線BLおよび/BLの振幅は、Vccsaとなる。
Sense amplifier group 7 includes a sense amplifier circuit 7a provided for bit lines BL and / BL. Sense amplifier circuit 7a is activated when sense power supply voltage Vccsa is applied on sense drive line 101p, and is cross-coupled to drive the higher potential bit line of bit lines BL and / BL to the level of sense power supply voltage Vccsa. Cross-coupled p-channel MOS transistor and a cross-coupled n-channel which is activated when a ground voltage is transmitted onto sense drive line 101n, and discharges a low potential bit line of bit lines BL and / BL to the ground voltage level. MOS
Including transistors. Sense drive line 101p is provided with a p-channel MOS transistor 103b which conducts when sense amplifier activation signal / SEN is activated and transmits sense power supply voltage Vccsa to sense drive line 101p.
The sense drive line 101n includes a sense amplifier activation signal S
N channel MOS transistor 1 which conducts in response to activation of EN and transmits the ground voltage to sense drive line 101n
03a is provided. Since sense amplifier circuit 7a uses sense power supply voltage Vccsa as one operation power supply voltage, the amplitude of bit lines BL and / BL is Vccsa.

【0046】列デコード回路5は、与えられたアドレス
信号をデコードして列指定信号を生成するNAND型デ
コード回路5aを含む。このNAND型デコード回路5
aは、外部電源電圧Vexを一方動作電源電圧として動
作する。
Column decode circuit 5 includes a NAND type decode circuit 5a for decoding a given address signal to generate a column designation signal. This NAND type decoding circuit 5
a operates using the external power supply voltage Vex as one operation power supply voltage.

【0047】列選択線ドライブ回路6は、このNAND
型デコード回路5aに対応して設けられ、内部電源電圧
Vccspを一方動作電源電圧として動作し、NAND
型デコード回路5aの出力信号を反転して列選択線CS
L上に列選択信号を伝達するCMOSインバータ回路6
aを含む。
The column selection line drive circuit 6 uses the NAND
Provided corresponding to type decode circuit 5a, operates using internal power supply voltage Vccsp as one operation power supply voltage,
Inverts the output signal of pattern decode circuit 5a to column select line CS.
CMOS inverter circuit 6 transmitting a column selection signal on L
a.

【0048】列選択ゲート群7は、ビット線BLおよび
/BLに対して設けられ、列選択線CSL上の列選択信
号の活性化時導通し、ビット線BLおよび/BLを内部
データバス線I/OおよびI/O*へ接続する列選択ゲ
ート7aを含む。列選択ゲート7aは、そのゲートが列
選択線CSLに接続されるトランスファゲートを含む。
Column select gate group 7 is provided for bit lines BL and / BL, is rendered conductive when a column select signal on column select line CSL is activated, and connects bit lines BL and / BL to internal data bus line I. Includes column select gate 7a connected to / O and I / O *. Column select gate 7a includes a transfer gate whose gate is connected to column select line CSL.

【0049】IO線プリチャージ回路9は、内部データ
バス線I/OおよびI/O*に対して設けられるプリチ
ャージ回路9aを含む。このプリチャージ回路9aは、
プリチャージ指示信号/IOEQの活性化に応答して導
通し、内部電源電圧Vccsaを内部データバス線I/
OおよびI/O*へそれぞれ伝達するpチャネルMOS
トランジスタPQaおよびPQbを含む。pチャネルM
OSトランジスタを内部データバス線プリチャージ素子
として利用することにより、たとえ、内部電源電圧Vc
csaが低下しても、このプリチャージ用のpチャネル
MOSトランジスタPQaおよびPQbがオン状態を維
持し、正確に、内部データバス線I/OおよびI/O*
を内部電源電圧Vccsaレベルにプリチャージするこ
とができる。
IO line precharge circuit 9 includes a precharge circuit 9a provided for internal data bus lines I / O and I / O *. This precharge circuit 9a
Conducting in response to activation of precharge instructing signal / IOEQ, causing internal power supply voltage Vccsa to be applied to internal data bus line I /
P-channel MOS for transmitting to O and I / O * respectively
Includes transistors PQa and PQb. p channel M
By using the OS transistor as an internal data bus line precharge element, even if the internal power supply voltage Vc
Even if csa drops, p-channel MOS transistors PQa and PQb for precharging maintain the on state, and accurately internal data bus lines I / O and I / O *
Can be precharged to the internal power supply voltage Vccsa level.

【0050】書込/読出回路10は、内部データバス線
I/OおよびI/O*上の相補データを増幅するプリア
ンプ10aを含む。プリアンプ10aは、内部データバ
ス線I/OおよびI/O*を比較する比較段を構成する
nチャネルMOSトランジスタNQaおよびNQbと、
これらの比較段へ電源線20から電流を供給するカレン
トミラー段を構成するpチャネルMOSトランジスタP
QcおよびPQdと、プリアンプ活性化信号PAEの活
性化に応答して導通し、MOSトランジスタNQaおよ
びNQbと接地ノードの間に電流の経路を形成するnチ
ャネルMOSトランジスタNQcを含む。このプリアン
プ10aへは、動作電源電圧として、外部電源電圧Ve
xが与えられ、高速の増幅動作を保証し、高速データ読
出を実現する。
Write / read circuit 10 includes a preamplifier 10a for amplifying complementary data on internal data bus lines I / O and I / O *. Preamplifier 10a includes n-channel MOS transistors NQa and NQb forming a comparison stage for comparing internal data bus lines I / O and I / O *,
A p-channel MOS transistor P forming a current mirror stage for supplying a current from power supply line 20 to these comparison stages
Qc and PQd, and an n-channel MOS transistor NQc which conducts in response to activation of preamplifier activation signal PAE and forms a current path between MOS transistors NQa and NQb and a ground node. The external power supply voltage Ve is supplied to the preamplifier 10a as an operation power supply voltage.
x is provided to guarantee a high-speed amplification operation and realize high-speed data reading.

【0051】内部データ線プリチャージ指示信号/IO
EQは、図1に示す制御回路12に含まれるドライブ回
路12aから生成される。ドライブ回路12aは、外部
電源電圧Vexを一方動作電源電圧として動作し、内部
列選択動作を活性化する内部列選択動作指示信号φCA
Sに従って内部データ線プリチャージ指示信号/IOE
Qを生成する。この列選択動作指示信号φCASは、た
とえば、標準DRAMにおけるコラムアドレスストロー
ブ信号/CASに従って生成される。
Internal data line precharge instruction signal / IO
The EQ is generated from a drive circuit 12a included in the control circuit 12 shown in FIG. Drive circuit 12a operates using external power supply voltage Vex as one operation power supply voltage, and activates an internal column selection operation.
S, internal data line precharge instructing signal / IOE
Generate Q. Column select operation instructing signal φCAS is generated, for example, in accordance with column address strobe signal / CAS in a standard DRAM.

【0052】プリアンプ活性化信号PAEは、図1に示
す制御回路12に含まれるドライバ12bから生成され
る。このドライバ12bは、外部電源電圧Vexを一方
動作電源電圧として動作し、コラムアドレス信号の変化
を検出する信号に基づいて生成される制御信号φATD
を反転してプリアンプ活性化信号PAEを生成する。次
に、この図3に示す構成の動作を図4に示す信号波形図
を参照して説明する。
Preamplifier activation signal PAE is generated from driver 12b included in control circuit 12 shown in FIG. Driver 12b operates using external power supply voltage Vex as one operation power supply voltage, and generates control signal φATD generated based on a signal for detecting a change in a column address signal.
To generate a preamplifier activation signal PAE. Next, the operation of the configuration shown in FIG. 3 will be described with reference to a signal waveform diagram shown in FIG.

【0053】内部データバス線I/OおよびI/O*
は、IO線プリチャージ回路9aにより、内部電源電圧
Vccsaの電圧レベルにプリチャージされている。こ
の場合、pチャネルMOSトランジスタPQaおよびP
Qbを用いて内部データバス線I/OおよびI/O*の
プリチャージを行なっているため、これらのMOSトラ
ンジスタPQaおよびPQbのしきい値電圧の影響を受
けることなく、内部電源電圧Vccsaの電圧レベルに
内部データバス線I/OおよびI/O*がプリチャージ
される。
Internal data bus lines I / O and I / O *
Are precharged to the voltage level of internal power supply voltage Vccsa by IO line precharge circuit 9a. In this case, p-channel MOS transistors PQa and PQa
Since internal data bus lines I / O and I / O * are precharged using Qb, the voltage of internal power supply voltage Vccsa is not affected by the threshold voltages of MOS transistors PQa and PQb. Internal data bus lines I / O and I / O * are precharged to the level.

【0054】メモリサイクルが始まり、ワード線WL
(図示せず)が選択されると、ビット線BLおよび/B
Lにメモリセルデータが読出される。図4においては、
Hレベルデータが読出された場合の信号波形が一例とし
て示される。
The memory cycle starts and the word line WL
(Not shown), the bit lines BL and / B
The memory cell data is read to L. In FIG.
A signal waveform when H level data is read is shown as an example.

【0055】このワード線が選択状態へ駆動された後、
所定のタイミングで、センスアンプ活性化信号SENお
よび/SENが活性状態へ駆動されて、センス駆動線1
01pおよび101nに内部電源電圧Vccsaおよび
接地電圧がそれぞれ伝達され、センスアンプ回路4aが
活性化される。ビット線BLおよび/BLの電圧レベル
が、メモリセルデータに応じて、内部電源電圧Vccs
aおよび接地電圧レベルにセンスアンプ回路4aにより
駆動された後、列選択動作が始まる。
After this word line is driven to the selected state,
At a predetermined timing, sense amplifier activation signals SEN and / SEN are driven to an active state, and sense drive line 1
Internal power supply voltage Vccsa and ground voltage are transmitted to 01p and 101n, respectively, and sense amplifier circuit 4a is activated. The voltage level of bit lines BL and / BL is set at internal power supply voltage Vccs according to the memory cell data.
After being driven to a and the ground voltage level by the sense amplifier circuit 4a, the column selection operation starts.

【0056】この列選択動作時においては、まず、内部
データ線プリチャージ指示信号/IOEQがLレベルか
ら、外部電源電圧Vexの電圧レベルに上昇し、プリチ
ャージ回路9aに含まれるpチャネルMOSトランジス
タPQaおよびPQbをオフ状態に駆動する。内部デー
タバス線I/OおよびI/O*が、内部電源電圧Vcc
saの電圧レベルでフローティング状態となる。
In this column selecting operation, first, internal data line precharge instructing signal / IOEQ rises from L level to the voltage level of external power supply voltage Vex, and p channel MOS transistor PQa included in precharge circuit 9a. And PQb are turned off. Internal data bus lines I / O and I / O * are connected to internal power supply voltage Vcc.
At the voltage level of sa, a floating state is set.

【0057】次いで、列デコード回路5がデコード動作
を行ない、NAND型デコード回路5aの出力信号がL
レベルとなり、列選択ドライブ回路6aの出力信号が、
内部電源電圧Vccspの電圧レベルに上昇し、列選択
ゲート7aが導通し、ビット線BLおよび/BLが内部
データバス線I/OおよびI/O*に結合される。これ
により、内部データバス線I/OおよびI/O*の電圧
が、ビット線BLおよび/BLの電圧レベルに応じて変
化する。Hレベルデータが読出される内部データバス線
の電圧レベルが、内部電源電圧Vccsaの電圧レベル
を維持し、Lレベルデータを受ける内部データバス線の
電圧レベルが徐々に低下する(センスアンプの駆動力が
比較的小さいため)。次いで、所定のタイミングで、プ
リアンプ活性化信号PAEが活性化され、内部データバ
ス線I/OおよびI/O*のデータが読出されて内部読
出データRDが生成される。
Next, the column decoding circuit 5 performs a decoding operation, and the output signal of the NAND type decoding circuit 5a becomes L
Level, and the output signal of the column selection drive circuit 6a becomes
Internal power supply voltage Vccsp rises to the voltage level, column select gate 7a conducts, and bit lines BL and / BL are coupled to internal data bus lines I / O and I / O *. Thereby, the voltages of internal data bus lines I / O and I / O * change according to the voltage levels of bit lines BL and / BL. The voltage level of the internal data bus line from which the H-level data is read out maintains the voltage level of internal power supply voltage Vccsa, and the voltage level of the internal data bus line receiving the L-level data gradually decreases (the driving power of the sense amplifier). Is relatively small). Then, at a predetermined timing, preamplifier activation signal PAE is activated, and the data on internal data bus lines I / O and I / O * are read to generate internal read data RD.

【0058】メモリセルデータの読出が完了すると、次
いで、選択ワード線WLが非選択状態へ駆動され、また
センスアンプ活性化信号SENおよび/SENも非活性
状態へ駆動され、ビット線BLおよび/BLが図示しな
いプリチャージ/イコライズ回路により、中間電圧レベ
ルにプリチャージ/イコライズされる。また列選択線C
SL上の信号もLレベルとなり、列選択ゲート7aが非
導通状態となり、ビット線BLおよび/BLが、内部デ
ータバス線I/OおよびI/O*から分離される。次い
で、プリチャージ指示信号/IOEQが外部電源電圧V
exの電圧レベルから接地電圧レベルに立下がり、プリ
チャージ回路9aに含まれるpチャネルMOSトランジ
スタPQaおよびPQbがオン状態となり、内部データ
バス線I/OおよびI/O*を、内部電源電圧Vccs
aの電圧レベルに駆動する。
When the reading of the memory cell data is completed, the selected word line WL is driven to a non-selected state, and sense amplifier activation signals SEN and / SEN are also driven to a non-activated state, and bit lines BL and / BL are driven. Are precharged / equalized to an intermediate voltage level by a precharge / equalize circuit (not shown). Column selection line C
The signal on SL is also at L level, column selection gate 7a is turned off, and bit lines BL and / BL are separated from internal data bus lines I / O and I / O *. Then, precharge instruction signal / IOEQ is applied to external power supply voltage V
ex falls to the ground voltage level, p channel MOS transistors PQa and PQb included in precharge circuit 9a are turned on, and internal data bus lines I / O and I / O * are connected to internal power supply voltage Vccs.
Drive to the voltage level a.

【0059】図5は、内部データバス線プリチャージ時
の内部データバス線の電圧変化を示す図である。図5に
おいて、内部データバス線のプリチャージ時、プリチャ
ージ指示信号/IOEQは接地電圧Vssレベルの活性
状態にあり、pチャネルMOSトランジスタPQaおよ
びPQbは、オン状態にある。内部データバス線I/O
には、選択メモリセルデータに応じ、内部電源電圧Vc
csaレベルのHレベルデータが伝達されており、一方
内部データバス線I/O*には、Lレベルのデータに応
じて電圧Vccsa−Δの電圧レベルに保持される。
FIG. 5 is a diagram showing a voltage change of the internal data bus line when the internal data bus line is precharged. In FIG. 5, when the internal data bus line is precharged, precharge instructing signal / IOEQ is in an active state at the level of ground voltage Vss, and p-channel MOS transistors PQa and PQb are on. Internal data bus line I / O
Has an internal power supply voltage Vc according to the selected memory cell data.
The csa level H level data is transmitted, while the internal data bus line I / O * is held at the voltage Vccsa-Δ according to the L level data.

【0060】今、内部電源電圧Vccsaの電圧レベル
が低下した場合を考える。内部電源電圧Vccsaの電
圧が低下した場合、プリチャージ回路9aの電源ノード
の電圧が内部データバス線I/O上の寄生容量に充電さ
れた電圧よりも低くなるため、pチャネルMOSトラン
ジスタPQaは、電源に接続されるノードがソースとな
り、内部データバス線I/Oから電源ノードへ電流が流
れ、この内部データバス線I/Oは、内部電源電圧Vc
csaの電圧レベルにプリチャージされる。一方、内部
データバス線I/O*については、その電圧Vccsa
−Δと内部電源電圧Vccsaの低下電圧レベルとの差
に応じて、その電流が流れる経路が異なる。電源ノード
の内部電源電圧Vccsaの低下した電圧が、内部デー
タバス線I/O*の電圧Vccsa−Δよりも高い場合
には、pチャネルMOSトランジスタPQbを介して電
源ノードから内部データバス線I/O*に電流が流れ、
内部データバス線I/O*は、内部電源電圧Vccsa
の電圧レベルにプリチャージされる。一方、この内部電
源電圧Vccsaの低下した電圧レベルが、内部データ
バス線I/O*の電圧Vccsa−Δよりも低い場合に
は、内部データバス線I/O*から電源ノードへ電流が
流れ、この内部データバス線I/O*の電圧レベルが低
下し、内部電源電圧Vccsaの電圧レベルに等しくな
る。したがって、いずれの場合においても、センス動作
などにより内部電源電圧Vccsaの電圧レベルが低下
しても、内部データバス線I/OおよびI/O*は、と
もに内部電源電圧Vccsaの電圧レベルにプリチャー
ジされ、同一電圧レベルを保持する。これにより、内部
電源電圧Vccsaの低下の影響を受けることなく正確
に、内部データバス線I/OおよびI/O*を同一電圧
レベルにプリチャージすることができる。
Now, consider the case where the voltage level of internal power supply voltage Vccsa has decreased. When the voltage of internal power supply voltage Vccsa decreases, the voltage of the power supply node of precharge circuit 9a becomes lower than the voltage charged to the parasitic capacitance on internal data bus line I / O, so that p-channel MOS transistor PQa A node connected to the power supply serves as a source, and a current flows from the internal data bus line I / O to the power supply node. The internal data bus line I / O has an internal power supply voltage Vc
It is precharged to the voltage level of csa. On the other hand, internal data bus line I / O * has its voltage Vccsa
The path through which the current flows differs depending on the difference between -Δ and the reduced voltage level of internal power supply voltage Vccsa. When the reduced voltage of internal power supply voltage Vccsa of the power supply node is higher than voltage Vccsa-Δ of internal data bus line I / O *, the internal data bus line I / O is supplied from the power supply node via p-channel MOS transistor PQb. A current flows through O *,
Internal data bus line I / O * is connected to internal power supply voltage Vccsa
Is precharged to a voltage level of On the other hand, when the reduced voltage level of internal power supply voltage Vccsa is lower than voltage Vccsa-Δ of internal data bus line I / O *, current flows from internal data bus line I / O * to the power supply node, The voltage level of internal data bus line I / O * lowers and becomes equal to the voltage level of internal power supply voltage Vccsa. Therefore, in any case, even if the voltage level of internal power supply voltage Vccsa decreases due to a sensing operation or the like, both internal data bus lines I / O and I / O * are precharged to the voltage level of internal power supply voltage Vccsa. And maintain the same voltage level. Thus, internal data bus lines I / O and I / O * can be accurately precharged to the same voltage level without being affected by a decrease in internal power supply voltage Vccsa.

【0061】図6は、データ書込/読出時における内部
データバス線の電圧変化を示す図である。図6におい
て、データ書込時においては、内部データバス線I/O
およびI/O*の一方は、プリチャージレベルの内部電
源電圧Vccsaから接地電圧レベルに駆動される。H
レベルデータを受ける内部データバス線は、内部電源電
圧Vccsaまたは外部電源電圧Vexの電圧レベルの
いずれであってもよい。Lレベルデータを書込む場合、
Lレベルデータを受ける内部データバス線の振幅がHレ
ベルデータを受ける内部データバス線の信号振幅よりも
大きい。これは、図示しない書込ドライバにより相補内
部データが生成されて、内部データバス線I/Oおよび
I/O*へ伝達されるためである。書込完了後、内部デ
ータバス線は、プリチャージ指示信号/IOEQの活性
化に応答して内部電源電圧Vccsaレベルにプリチャ
ージされる。したがって、この内部データバス線のデー
タ書込時の最大振幅は、Vccsaとなり、従来のVc
cp−Vthよりも振幅を小さくすることができ、高速
のプリチャージ動作を行なうことができる。また、書込
時においても、この振幅が、内部電源電圧Vccsaレ
ベルにされ、従来よりも、高速でLレベルデータを伝達
することができ(振幅が小さくなるため)、高速書込が
実現される。これにより、書込時間の短縮のみならずプ
リチャージ時間の短縮を行なうことができ、書込から読
出への移行を高速で行なうことができる。
FIG. 6 is a diagram showing a voltage change of the internal data bus line at the time of data writing / reading. In FIG. 6, at the time of data writing, internal data bus line I / O
And I / O * are driven from precharged internal power supply voltage Vccsa to the ground voltage level. H
The internal data bus line receiving the level data may be at either the internal power supply voltage Vccsa or the external power supply voltage Vex. When writing L level data,
The amplitude of the internal data bus line receiving the L level data is larger than the signal amplitude of the internal data bus line receiving the H level data. This is because complementary internal data is generated by a write driver (not shown) and transmitted to internal data bus lines I / O and I / O *. After the completion of writing, the internal data bus line is precharged to the level of internal power supply voltage Vccsa in response to activation of precharge instruction signal / IOEQ. Therefore, the maximum amplitude at the time of data writing of this internal data bus line is Vccsa, and the
The amplitude can be smaller than cp-Vth, and a high-speed precharge operation can be performed. Also, at the time of writing, the amplitude is set to the level of internal power supply voltage Vccsa, so that L-level data can be transmitted at a higher speed than before (because the amplitude is smaller), and high-speed writing is realized. . Thus, not only the writing time but also the precharge time can be shortened, and the transition from writing to reading can be performed at a high speed.

【0062】また、図3に示すように、列選択信号は、
電圧Vccspの電圧レベルであり、外部電源電圧Ve
xよりも低い電圧レベルである。これにより、列選択ゲ
ート7aがそのコンダクタンスが急激に低下するのが防
止され、センスアンプ回路4aは、その保持データがデ
ィスターバンスを受けるのを防止することができ、セン
スアンプ回路4aは、安定にデータを保持することがで
きる。なお、上述の実施の形態1において、外部電源電
圧Vexは、たとえば2.5V±0.25Vであり、内
部電源電圧Vccsaは、2.0Vであり、内部電源電
圧Vccspは、約2.2Vである。内部電源電圧Vc
cspを内部電源電圧Vccsaよりも高くすることに
より、列選択ゲート7aを十分にオン状態にして、高速
でビット線BLおよび/BLと内部データバス線I/O
およびI/O*との間でデータの転送を行なう。
As shown in FIG. 3, the column selection signal is
Voltage level of voltage Vccsp and external power supply voltage Ve
The voltage level is lower than x. As a result, the conductance of the column select gate 7a is prevented from sharply decreasing, the sense amplifier circuit 4a can prevent the held data from being disturbed, and the sense amplifier circuit 4a is Data can be stored in the In the first embodiment, external power supply voltage Vex is, for example, 2.5 V ± 0.25 V, internal power supply voltage Vccsa is 2.0 V, and internal power supply voltage Vccsp is about 2.2 V. is there. Internal power supply voltage Vc
By setting csp to be higher than internal power supply voltage Vccsa, column select gate 7a is sufficiently turned on, so that bit lines BL and / BL and internal data bus line I / O can be driven at high speed.
And data transfer to / from I / O *.

【0063】内部電源電圧Vccspと内部電源電圧V
ccsaとが同じ電圧レベルであってもよい。Hレベル
に駆動されたビット線BLに対して設けられたトランス
ファゲート(列選択ゲート7aに含まれる)は、内部デ
ータバス線の電圧レベルが、同様の内部電源電圧Vcc
saレベルであるため、オフ状態を維持し、電荷の移動
が生じない。したがって、しきい値電圧の問題を考慮す
る必要がない。単に、Lレベルに駆動されたビット線と
内部データバス線との間で電荷の授受を行ない、内部デ
ータバス線の電圧レベルを低下させればよい。データ書
込時において、列選択ゲートにおけるしきい値電圧の損
失が生じるが、センスアンプ回路4aは、書込ドライブ
回路より駆動力が小さく十分ラッチ状態を反転すること
ができるため、特に問題は生じない。したがって、内部
電源電圧Vccspは、内部電源電圧Vccsa以上の
電圧レベルであればよい。
Internal power supply voltage Vccsp and internal power supply voltage V
ccsa may be the same voltage level. The transfer gate (included in column select gate 7a) provided for bit line BL driven to the H level has the same internal power supply voltage Vcc as the voltage level of the internal data bus line.
Since it is at the sa level, the off state is maintained, and no charge transfer occurs. Therefore, there is no need to consider the problem of the threshold voltage. It suffices to simply transfer charges between the bit line driven to L level and the internal data bus line and lower the voltage level of the internal data bus line. At the time of data writing, a threshold voltage loss occurs in the column selection gate. However, since the sense amplifier circuit 4a has a smaller driving force than the write drive circuit and can sufficiently reverse the latch state, a particular problem occurs. Absent. Therefore, internal power supply voltage Vccsp may have a voltage level equal to or higher than internal power supply voltage Vccsa.

【0064】以上のように、この発明の実施の形態1に
従えば、内部データバス線のプリチャージ電圧を、セン
スアンプの電源電圧と同じ電圧レベルに設定しているた
め、内部電源電圧変動が生じても、正確に内部データバ
ス線を同一電圧レベルにプリチャージすることができ
る。
As described above, according to the first embodiment of the present invention, since the precharge voltage of the internal data bus line is set to the same voltage level as the power supply voltage of the sense amplifier, internal power supply voltage fluctuations Even if this occurs, the internal data bus lines can be accurately precharged to the same voltage level.

【0065】また、内部データバス線のプリチャージ電
圧は、この半導体記憶装置内部で発生される電源電圧の
うち最も低い電圧レベルであり、データ書込時における
振幅を最も小さくすることができ、高速のデータ書込お
よび書込完了後のプリチャージ/イコライズを高速に行
なうことができる。
The precharge voltage of the internal data bus line is the lowest voltage level of the power supply voltage generated inside the semiconductor memory device, and the amplitude at the time of data writing can be minimized. Data writing and precharge / equalization after completion of writing can be performed at high speed.

【0066】また、列選択線の活性状態の電圧レベル
を、外部電源電圧以下、かつセンス電源電圧以上として
いるため、列選択ゲートのコンダクタンスが急激に変化
し、センスアンプに大きな負荷が急激に接続されてセン
スアンプ回路の保持データが破壊されるのを防止するこ
とができる。
Further, since the voltage level of the active state of the column selection line is lower than the external power supply voltage and higher than the sense power supply voltage, the conductance of the column selection gate rapidly changes, and a large load is rapidly connected to the sense amplifier. As a result, the data held in the sense amplifier circuit can be prevented from being destroyed.

【0067】[実施の形態2]図7は、この発明の実施
の形態2に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的に
示す図である。図7においては、外部電源電圧extV
ccを電源線20を介して受けて内部電源電圧Vccs
aを生成する内部電源回路13と、この電源線20上の
外部電源電圧extVccを受けて周辺電源電圧Vcc
pを生成する内部電源回路30が設けられる。内部電源
回路30からの周辺電源電圧Vccpが、周辺回路、す
なわちアドレス入力バッファ2、行選択回路3、列選択
線ドライブ回路6、列デコード回路5、書込/読出回路
10および入出力回路11へ与えられる。内部電源回路
13からのセンス電源電圧Vccsaが、センスアンプ
帯4およびIO線プリチャージ回路9へ与えられる。し
たがって、この図7に示す構成は、先の実施の形態1の
構成と、外部電源電圧Vexに代えて周辺電源電圧Vc
cpが用いられ、また列選択線ドライブ回路6へも、周
辺電源電圧Vccpが与えられる点が異なっている。他
の構成は、図1に示す構成と同じであり、対応する部分
には同一参照番号を付しその詳細説明は省略する。
[Second Embodiment] FIG. 7 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. In FIG. 7, external power supply voltage extV
cc via power supply line 20 to receive internal power supply voltage Vccs.
a, and receives an external power supply voltage extVcc on power supply line 20 to receive peripheral power supply voltage Vcc.
An internal power supply circuit 30 for generating p is provided. Peripheral power supply voltage Vccp from internal power supply circuit 30 is supplied to peripheral circuits, that is, address input buffer 2, row selection circuit 3, column selection line drive circuit 6, column decode circuit 5, write / read circuit 10, and input / output circuit 11. Given. Sense power supply voltage Vccsa from internal power supply circuit 13 is applied to sense amplifier band 4 and IO line precharge circuit 9. Therefore, the configuration shown in FIG. 7 differs from the configuration of the first embodiment in that peripheral power supply voltage Vc is used instead of external power supply voltage Vex.
cp is used, and peripheral power supply voltage Vccp is also applied to column select line drive circuit 6. Other configurations are the same as those shown in FIG. 1. Corresponding portions have the same reference characters allotted, and detailed description thereof will not be repeated.

【0068】この図7に示す構成においても、内部デー
タバス8のプリチャージ電圧は、センスアンプ帯4へ与
えられるセンス電源電圧Vccsaと同じ電圧レベルで
ある。したがって、このセンス電源電圧Vccsa変動
時においても、先の実施の形態1と同様、正確に内部デ
ータバス線8(内部データバス線I/OおよびI/O
*)を所定電圧レベルにプリチャージすることができ
る。
In the structure shown in FIG. 7, the precharge voltage of internal data bus 8 is at the same voltage level as sense power supply voltage Vccsa applied to sense amplifier band 4. Therefore, even when sense power supply voltage Vccsa varies, internal data bus line 8 (internal data bus lines I / O and I / O
*) Can be precharged to a predetermined voltage level.

【0069】図8は、図7に示す半導体記憶装置の要部
の構成をより詳細に示す図である。この図8に示す構成
においては、列選択線ドライブ回路6aに、周辺電源電
圧Vccpが他の周辺回路、すなわちプリアンプ10
a、ドライブ回路12a、12b、およびNAND型デ
コード回路5aと同様に与えられる。他の構成は、先の
図3に示す構成と同じである。
FIG. 8 is a diagram showing in more detail the structure of the main part of the semiconductor memory device shown in FIG. In the configuration shown in FIG. 8, column select line drive circuit 6a supplies peripheral power supply voltage Vccp to another peripheral circuit, ie, preamplifier 10a.
a, drive circuits 12a and 12b, and NAND type decode circuit 5a. The other configuration is the same as the configuration shown in FIG.

【0070】この図8に示す構成により明らかなよう
に、IO線プリチャージ回路9aに含まれるpチャネル
MOSトランジスタPQaおよびPQbは、プリチャー
ジ指示信号/IOEQの活性化時、センス電源電圧Vc
csaを内部データバス線I/OおよびI/O*に伝達
している。ビット線BLおよび/BLは、センス電源電
圧Vccsaおよび接地電圧レベルへ、センスアンプ回
路4aにより駆動される。したがって、センス電源電圧
Vccsaの電圧レベルが低下しても、プリチャージ用
のpチャネルMOSトランジスタPQaおよびPQb
は、オン状態を維持するため、これらの内部データバス
線I/OおよびI/O*は確実に同一電圧レベルにプリ
チャージされる。
As is apparent from the configuration shown in FIG. 8, p channel MOS transistors PQa and PQb included in IO line precharge circuit 9a receive sense power supply voltage Vc when precharge instructing signal / IOEQ is activated.
csa is transmitted to internal data bus lines I / O and I / O *. Bit lines BL and / BL are driven to a sense power supply voltage Vccsa and a ground voltage level by sense amplifier circuit 4a. Therefore, even if the voltage level of sense power supply voltage Vccsa decreases, precharge p-channel MOS transistors PQa and PQb
, The internal data bus lines I / O and I / O * are surely precharged to the same voltage level in order to maintain the ON state.

【0071】また、実施の形態1と同様、内部データバ
ス線I/OおよびI/O*の振幅が小さくされるため、
高速のデータ書込および高速のプリチャージを実現する
ことができる。
Since the amplitudes of internal data bus lines I / O and I / O * are reduced, as in the first embodiment,
High-speed data writing and high-speed precharge can be realized.

【0072】なお、この実施の形態2においては、列選
択信号を生成する列選択線ドライブ回路6は、周辺電源
電圧Vccpを一方動作電源電圧として受けている。し
かしながら、この実施の形態2においても、さらに、別
の内部電源回路を設け、この列選択線駆動のための電源
電圧Vccpaが別に生成される構成が用いられてもよ
い。この場合においては、確実に、列選択時のセンスア
ンプのデータ破壊を防止することができる。
In the second embodiment, column select line drive circuit 6 for generating a column select signal receives peripheral power supply voltage Vccp as one operation power supply voltage. However, also in the second embodiment, a configuration in which another internal power supply circuit is provided and power supply voltage Vccpa for driving the column selection line is separately generated may be used. In this case, data destruction of the sense amplifier at the time of column selection can be reliably prevented.

【0073】この外部電源電圧extVccがたとえば
3.3Vのとき、内部電源電圧として、たとえば2.5
Vの周辺電源電圧Vccpを生成することにより、低消
費電力および高速動作を保証し、またセンス電源電圧V
ccsaとして、さらに低い2.0Vの電圧を生成する
ことにより、低消費電力およびメモリセルのゲート絶縁
膜およびキャパシタ絶縁膜の破壊を防止することができ
る。
When external power supply voltage extVcc is, for example, 3.3 V, the internal power supply voltage is, for example, 2.5 V
By generating the peripheral power supply voltage Vccp of V, low power consumption and high-speed operation are ensured.
By generating an even lower voltage of 2.0 V as ccsa, low power consumption and breakage of the gate insulating film and the capacitor insulating film of the memory cell can be prevented.

【0074】以上のように、この発明の実施の形態2に
従えば、内部データバス線のプリチャージ電圧を、セン
ス電源電圧と同一電圧レベルに設定しているため、セン
ス電源電圧低下時においても、確実に、内部データバス
線を同一電圧レベルにプリチャージすることができ、正
確な内部データの読出および、高速書込およびプリチャ
ージを実現することができる。
As described above, according to the second embodiment of the present invention, the precharge voltage of the internal data bus line is set to the same voltage level as the sense power supply voltage. Thus, the internal data bus lines can be reliably precharged to the same voltage level, and accurate internal data reading, high-speed writing and precharging can be realized.

【0075】[実施の形態3]図9は、この発明の実施
の形態3に従う半導体記憶装置の全体の構成を概略的に
示す図である。この図9に示す半導体記憶装置において
は、電源線20に結合される3つの内部電源回路13、
14および30が設けられる。内部電源回路13は、電
源線20上の外部電源電圧extVccから、約2.0
Vのセンス電源電圧Vccsaを生成して、センスアン
プ帯4およびIO線プリチャージ回路9へ与える。内部
電源回路14は、この電源線20上の外部電源電圧ex
tVccから約2.2V(2.0Vでもよい)の内部電
源電圧Vccpaを生成して、列選択線ドライブ回路6
へ与える。内部電源回路30は、電源線20上の外部電
源電圧extVccから約2.5Vの内部電源電圧Vc
cpaを生成して、他の周辺回路、すなわちアドレス入
力バッファ2、行選択回路3、列デコード回路5、書込
/読出回路10、入出力回路11および制御回路12へ
与える。
[Third Embodiment] FIG. 9 schematically shows a whole structure of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention. In the semiconductor memory device shown in FIG. 9, three internal power supply circuits 13 coupled to power supply line 20;
14 and 30 are provided. From the external power supply voltage extVcc on the power supply line 20, the internal power supply circuit 13
V sense power supply voltage Vccsa is generated and applied to sense amplifier band 4 and IO line precharge circuit 9. The internal power supply circuit 14 is connected to an external power supply voltage ex on the power supply line 20.
An internal power supply voltage Vccpa of about 2.2 V (may be 2.0 V) is generated from tVcc, and column select line drive circuit 6
Give to. The internal power supply circuit 30 converts the external power supply voltage extVcc on the power supply line 20 to an internal power supply voltage Vc of about 2.5V.
The cpa is generated and provided to other peripheral circuits, that is, the address input buffer 2, the row selection circuit 3, the column decode circuit 5, the write / read circuit 10, the input / output circuit 11, and the control circuit 12.

【0076】この図9に示す構成においては、周辺回路
を、内部電源回路30からの内部電源電圧Vccpで動
作させることにより、低消費電力および高速動作を実現
する。また、内部電源回路14からの内部電源電圧Vc
cpaを列選択線ドライブ回路6へ与えることにより、
列選択線の振幅が低減され、高速の列選択、低消費電力
および列選択時におけるセンスアンプ回路の保持データ
の破壊の防止が実現できる。また、内部電源回路13か
らのセンス電源電圧Vccsaを、センスアンプ帯4お
よびIO線プリチャージ回路9へ与えることにより、ビ
ット線振幅低減による低消費電力、メモリセルのゲート
絶縁膜およびキャパシタ絶縁膜の破壊の防止、および内
部データバス線の同一電位への正確なプリチャージを実
現することができる。
In the configuration shown in FIG. 9, low power consumption and high speed operation are realized by operating the peripheral circuits with internal power supply voltage Vccp from internal power supply circuit 30. Also, the internal power supply voltage Vc from the internal power supply circuit 14 is used.
By applying cpa to column select line drive circuit 6,
The amplitude of the column selection line is reduced, and high-speed column selection, low power consumption, and prevention of destruction of data held in the sense amplifier circuit during column selection can be realized. Further, by supplying sense power supply voltage Vccsa from internal power supply circuit 13 to sense amplifier band 4 and IO line precharge circuit 9, low power consumption due to reduction of bit line amplitude, reduction of gate insulating film of memory cell and capacitor insulating film are achieved. Prevention of destruction and accurate precharge of internal data bus lines to the same potential can be realized.

【0077】他の構成は、先の実施の形態2と同じであ
り、同一部分には同一参照番号を付し、その詳細説明は
省略する。
The other structure is the same as that of the second embodiment, and the same portions are denoted by the same reference numerals and detailed description thereof will not be repeated.

【0078】なお、実施の形態1から3において、入出
力回路11には、周辺電源電圧Vccpまたは外部電源
電圧Vexを与えている。この入出力回路11におい
て、その入力段において、高電圧Vppが別に与えられ
てもよい(出力段のしきい値電圧損失を補償する)。
In the first to third embodiments, the input / output circuit 11 is supplied with the peripheral power supply voltage Vccp or the external power supply voltage Vex. In this input / output circuit 11, a high voltage Vpp may be separately applied to its input stage (to compensate for the threshold voltage loss of the output stage).

【0079】以上のように、この発明の実施の形態3に
従えば、3種類の内部電源電圧を生成し、最も低い内部
電源電圧をセンスアンプ帯および内部データバス線プリ
チャージ回路へ与え、次に低い内部電源電圧を列選択線
駆動のために用い、残りの最も高い内部電源電圧を周辺
回路駆動のために用いているため、低消費電力で高速動
作し、かつ正確に内部データバス線をプリチャージする
ことができ、かつさらに列選択時のセンスアンプの保持
データの破壊を防止することのできる半導体記憶装置が
得られる。
As described above, according to the third embodiment of the present invention, three types of internal power supply voltages are generated, the lowest internal power supply voltage is applied to the sense amplifier band and the internal data bus line precharge circuit. Since the internal power supply voltage is low to drive the column select lines and the remaining highest internal power supply voltage is used to drive the peripheral circuits, it operates at high speed with low power consumption and accurately connects the internal data bus lines. A semiconductor memory device that can be precharged and that can prevent the data held in the sense amplifier from being destroyed when a column is selected can be obtained.

【0080】[実施の形態4]図10は、この発明の実
施の形態4に従う半導体記憶装置の要部の構成を概略的
に示す図である。図10においては、内部電源電圧を発
生する部分の構成が示される。図10において、電源線
20上の外部電源電圧extVccからセンス電源電圧
Vccsaを生成する内部電源回路13と、能動化時、
電源線20上の外部電源電圧extVccから内部電源
電圧を生成する内部電源回路14と、能動化時、電源線
20上の外部電源電圧extVccから内部電源電圧V
ccpを生成する内部電源回路30と、電源線20上の
外部電源電圧extVccと内部電源回路14の出力電
圧と内部電源回路30からの内部電源電圧の1つを選択
して列選択線ドライブ回路へ与えられる周辺電源電圧V
ccpを生成するオプション電圧セレクタ35と、内部
電源回路30の出力電圧と電源線20上の外部電源電圧
extVcc(Vex)の一方を選択して周辺回路への
周辺電源電圧Vccpを生成するオプション電圧セレク
タ36とが設けられる。
[Fourth Embodiment] FIG. 10 is a diagram schematically showing a configuration of a main portion of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 10 shows a configuration of a portion for generating an internal power supply voltage. In FIG. 10, an internal power supply circuit 13 for generating a sense power supply voltage Vccsa from an external power supply voltage extVcc on a power supply line 20 is provided.
An internal power supply circuit for generating an internal power supply voltage from the external power supply voltage extVcc on the power supply line 20;
An internal power supply circuit 30 for generating ccp, an external power supply voltage extVcc on the power supply line 20, an output voltage of the internal power supply circuit 14, and one of the internal power supply voltages from the internal power supply circuit 30 are selected and supplied to the column selection line drive circuit. Given peripheral power supply voltage V
an optional voltage selector 35 for generating ccp and an optional voltage selector for selecting one of the output voltage of the internal power supply circuit 30 and the external power supply voltage extVcc (Vex) on the power supply line 20 to generate the peripheral power supply voltage Vccp for the peripheral circuit 36 are provided.

【0081】オプション電圧セレクタ35および36
は、それぞれたとえばマスク配線で構成され、外部電源
電圧extVccの電圧レベルに応じて、その選択経路
がマスク配線により決定される。たとえば、外部電源電
圧extVccが3.3Vのとき、2.0Vのセンス電
源電圧Vccsaを内部電源回路13により生成してセ
ンスアンプ帯およびIO線プリチャージ回路へ与え、ま
た約2.5Vの周辺電源電圧を内部電源回路30により
生成して、列選択線ドライブ回路および周辺回路へ共通
に与える。この場合、列選択線ドライブ回路へ、内部電
源回路14からの約2.2Vの内部電源電圧を選択し
て、列選択線ドライブ回路へ与えることもできる。
Optional voltage selectors 35 and 36
Are each formed of, for example, a mask wiring, and the selection path is determined by the mask wiring according to the voltage level of external power supply voltage extVcc. For example, when external power supply voltage extVcc is 3.3 V, 2.0 V sense power supply voltage Vccsa is generated by internal power supply circuit 13 and applied to a sense amplifier band and an IO line precharge circuit. The voltage is generated by the internal power supply circuit 30 and applied to the column selection line drive circuit and the peripheral circuits in common. In this case, the internal power supply voltage of about 2.2 V from the internal power supply circuit 14 can be selected for the column select line drive circuit and applied to the column select line drive circuit.

【0082】また、外部電源電圧extVccが2.5
Vの場合、約2.0Vのセンス電源電圧Vccsaを内
部電源回路13により生成し、また外部電源電圧ext
Vccを列選択線ドライブ回路および周辺回路へ与える
内部電源電圧として選択することができる。この場合に
おいても、また周辺回路へ外部電源電圧(約2.5V)
を与え、列選択線ドライブ回路(列選択ドライバ)へ
は、内部電源回路14からの約2.2Vの電圧を印加す
ることができる。
When the external power supply voltage extVcc is 2.5
In the case of V, a sense power supply voltage Vccsa of about 2.0 V is generated by the internal power supply circuit 13 and the external power supply voltage ext
Vcc can be selected as an internal power supply voltage applied to the column select line drive circuit and peripheral circuits. Also in this case, the external power supply voltage (about 2.5 V)
And a voltage of about 2.2 V from the internal power supply circuit 14 can be applied to the column selection line drive circuit (column selection driver).

【0083】したがって、このオプション電圧セレクタ
35および36を設けることにより、1つのチップよ
り、複数の内部電源配置を実現することができ、電源配
置の種類に応じて内部回路のレイアウトを変更する必要
がなく、設計が容易となり、また製造工程を統一するこ
とができ、製品コストが低減され、また製品管理も容易
となる。
Therefore, by providing optional voltage selectors 35 and 36, a plurality of internal power supply arrangements can be realized from one chip, and it is necessary to change the layout of the internal circuit according to the type of power supply arrangement. In addition, the design becomes easy, the manufacturing process can be unified, the product cost is reduced, and the product management is also easy.

【0084】また、オプション電圧セレクタ35および
36により内部電源回路14および/または30の出力
電圧が選択されない場合、これらの内部電源回路14お
よび30と電源線20との間の接続を切離し、内部電源
回路14および/または30が動作不能状態とされても
よい。またはこれに代えて、内部電源回路14および/
または30が、常時不動作状態となるように設定されて
もよい(これは、ボンディングオプションまたはマスク
配線により実現される)。また、オプション電圧セレク
タ35および36としてマスク配線を用いない場合、C
MOSトランスファゲートを電圧選択のための選択ゲー
トとして用いればよい(この場合、制御信号は、最も高
い外部電源電圧レベルとする必要がある)。
When the output voltages of internal power supply circuits 14 and / or 30 are not selected by option voltage selectors 35 and 36, the connection between internal power supply circuits 14 and 30 and power supply line 20 is cut off, and internal power supply Circuits 14 and / or 30 may be disabled. Alternatively, the internal power supply circuit 14 and / or
Alternatively, 30 may be set to be inactive at all times (this is realized by a bonding option or mask wiring). When mask wiring is not used as option voltage selectors 35 and 36, C
The MOS transfer gate may be used as a selection gate for voltage selection (in this case, the control signal needs to be at the highest external power supply voltage level).

【0085】以上のように、この発明の実施の形態4に
従えば、複数の内部電源回路を予め準備し、内部で実際
に使用される電源配置に応じて内部電源電圧を選択する
ように構成しているため、1つのチップで複数の電源配
置に対応することができ、製品コストを低減することが
でき、また製造工程および管理を簡略化することができ
る。
As described above, according to the fourth embodiment of the present invention, a plurality of internal power supply circuits are prepared in advance, and the internal power supply voltage is selected according to the power supply arrangement actually used internally. Therefore, one chip can cope with a plurality of power supply arrangements, the product cost can be reduced, and the manufacturing process and management can be simplified.

【0086】[実施の形態5]図11は、この発明の実
施の形態5に従う半導体記憶装置の要部の構成を示す図
である。図11においては、外部電源電圧extVcc
から、2つの内部電源電圧VccsaおよびVccpが
生成される。センス電源電圧Vccsaは、センスアン
プ帯および内部データバス線(IO線)プリチャージ回
路へ与えられ、周辺電源電圧Vccpは、列選択線ドラ
イブ回路を含む周辺回路へ共通に与えられる。
[Fifth Embodiment] FIG. 11 shows a structure of a main portion of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention. In FIG. 11, external power supply voltage extVcc
, Two internal power supply voltages Vccsa and Vccp are generated. Sense power supply voltage Vccsa is applied to a sense amplifier band and an internal data bus line (IO line) precharge circuit, and peripheral power supply voltage Vccp is commonly applied to peripheral circuits including a column select line drive circuit.

【0087】図11において、内部電源回路13は、内
部電源線13a上の電源電圧Vccsaと基準電圧Vr
efsを比較する比較器13bと、比較器13bの出力
信号に従って電源線20から内部電源線13aへ電流を
供給するpチャネルMOSトランジスタ13cを含む。
センス電源電圧Vccsaを生成する内部電源回路13
は、外部電源電圧extVcc(またはVex)に依存
しない一定の電圧レベルの内部電源電圧Vccsaを生
成する(外部電源電圧が一定電圧レベル以上のとき)。
In FIG. 11, internal power supply circuit 13 includes power supply voltage Vccsa on internal power supply line 13a and reference voltage Vr
efs, and a p-channel MOS transistor 13c for supplying a current from the power supply line 20 to the internal power supply line 13a in accordance with an output signal of the comparator 13b.
Internal power supply circuit 13 for generating sense power supply voltage Vccsa
Generates an internal power supply voltage Vccsa at a constant voltage level independent of external power supply voltage extVcc (or Vex) (when the external power supply voltage is equal to or higher than the constant voltage level).

【0088】内部電源回路30は、内部電源線30a上
の周辺電源電圧Vccpと基準電圧Vrefpを比較す
る比較器30bと、比較器30bの出力信号に従って電
源線20から内部電源線30aへ電流を供給するpチャ
ネルMOSトランジスタ30cと、テストモード指示信
号ZTESTの活性化時(Lレベル)導通し、電源線2
0と内部電源線30aとを電気的に接続するpチャネル
MOSトランジスタ30dと、テストモード指示信号Z
TESTの活性化時導通し、比較器30bの出力ノード
を外部電源電圧extVccレベルに設定するpチャネ
ルMOSトランジスタ30eを含む。
Internal power supply circuit 30 compares peripheral power supply voltage Vccp on internal power supply line 30a with reference voltage Vrefp, and supplies a current from power supply line 20 to internal power supply line 30a in accordance with an output signal of comparator 30b. When the test mode instruction signal ZTEST is activated (L level), the power supply line 2
0 and an internal power supply line 30a are electrically connected to each other by a p-channel MOS transistor 30d;
A p-channel MOS transistor 30e which conducts when TEST is activated and sets the output node of comparator 30b to the level of external power supply voltage extVcc is included.

【0089】この内部電源回路30の構成においては、
テストモード指示信号ZTESTの活性化時、MOSト
ランジスタ30eおよび30dがオン状態となり、内部
電源線30a上の周辺電源電圧Vccpは、外部電源電
圧extVccレベルとなる。このときには、pチャネ
ルMOSトランジスタ30cはこのゲート電圧が、外部
電源電圧extVccレベルとなり、オフ状態となる。
比較器30bが、その出力信号が外部電源電圧extV
ccレベルに固定される。このとき、比較器30bはま
たテストモード指示信号ZTESTの活性化時、非活性
状態に駆動される構成が利用されてもよい(電流源トラ
ンジスタに直列に、このテストモード指示信号ZTES
Tの活性化時非導通状態となるMOSトランジスタを接
続することにより、この構成は実現される)。
In the configuration of internal power supply circuit 30,
When test mode instruction signal ZTEST is activated, MOS transistors 30e and 30d are turned on, and peripheral power supply voltage Vccp on internal power supply line 30a attains the level of external power supply voltage extVcc. At this time, the gate voltage of p channel MOS transistor 30c attains the level of external power supply voltage extVcc, and is turned off.
Comparator 30b outputs an external power supply voltage extV
Fixed to cc level. At this time, a configuration may be used in which comparator 30b is driven to an inactive state when test mode instruction signal ZTEST is activated (this test mode instruction signal ZTES is connected in series with the current source transistor).
This configuration is realized by connecting a MOS transistor which is turned off when T is activated.)

【0090】この図11において、テストモード時にお
いて、センス電源電圧Vccsaを一定の電圧レベル
(基準電圧Vrefsレベル)とし、周辺電源電圧Vc
cpを外部電源電圧extVccに従って変化させるこ
とにより、以下に説明するように、周辺回路の電圧スト
レス加速試験のみならず各種タイミングマージンおよび
センスアンプ安定性の試験(アドレスノイズテスト)を
行なうことができる。
In FIG. 11, in the test mode, sense power supply voltage Vccsa is set to a constant voltage level (reference voltage Vrefs level), and peripheral power supply voltage Vcsa is set.
By changing cp in accordance with the external power supply voltage extVcc, not only a voltage stress acceleration test of peripheral circuits but also various timing margins and a sense amplifier stability test (address noise test) can be performed as described below.

【0091】通常動作モード時においては、テストモー
ド指示信号ZTESTは、非活性状態のHレベルであ
り、内部電源回路30は、基準電圧Vrefpに従って
周辺電源電圧Vccpを生成し、周辺回路へ与える。ま
た内部電源回路13も、基準電圧Vrefsに従ってセ
ンス電源電圧Vccsaを生成して、センスアンプ帯お
よびIO線プリチャージ回路へ与える。
In the normal operation mode, test mode instructing signal ZTEST is at the H level of an inactive state, and internal power supply circuit 30 generates peripheral power supply voltage Vccp according to reference voltage Vrefp, and applies the same to peripheral circuits. Internal power supply circuit 13 also generates sense power supply voltage Vccsa according to reference voltage Vrefs, and applies the same to sense amplifier band and IO line precharge circuit.

【0092】テストモード時においては、テストモード
指示信号ZTESTが活性状態のLレベルへ駆動され
る。これにより、内部電源回路30の出力する周辺電源
電圧Vccpは、外部電源電圧extVccに等しくな
る。一方、センス電源電圧Vccsaは、内部電源回路
13は、テストモード指示信号ZTESTと独立に動作
しているため、センス電源電圧Vccsaの電圧レベル
は一定である。
In the test mode, test mode instruction signal ZTEST is driven to an active L level. Thereby, peripheral power supply voltage Vccp output from internal power supply circuit 30 becomes equal to external power supply voltage extVcc. On the other hand, sense power supply voltage Vccsa has a constant voltage level because internal power supply circuit 13 operates independently of test mode instruction signal ZTEST.

【0093】したがって、図12に示すように、テスト
モード時において、外部電源電圧extVccの電圧レ
ベルを変化させることにより、周辺電源電圧Vccpと
センス電源電圧Vccsaの電圧レベルの差が生じる。
周辺電源電圧Vccpは周辺回路へ与えられており、メ
モリセル選択動作およびデータ書込/読出動作を行なっ
ている。したがって、この周辺電源電圧Vccpの電圧
レベルを変化させることにより、周辺回路の動作速度を
変更することができ、メモリセル選択動作に関連する回
路の動作速度を変化させることができる。一方、センス
電源電圧Vccsaは、一定の電圧レベルであるため、
センスアンプは、一定の速度で動作する。
Therefore, as shown in FIG. 12, in the test mode, by changing the voltage level of external power supply voltage extVcc, a difference occurs between the peripheral power supply voltage Vccp and the sense power supply voltage Vccsa.
Peripheral power supply voltage Vccp is applied to a peripheral circuit, and performs a memory cell selecting operation and a data write / read operation. Therefore, by changing the voltage level of peripheral power supply voltage Vccp, the operation speed of the peripheral circuit can be changed, and the operation speed of the circuit related to the memory cell selection operation can be changed. On the other hand, sense power supply voltage Vccsa is at a constant voltage level,
The sense amplifier operates at a constant speed.

【0094】したがって、図13に示すように、ワード
線WLが選択状態へ駆動されて、ビット線BLおよび/
BLにメモリセルデータが読出されてから、センスアン
プ活性化までに経過する時間を、外部電源電圧extV
ccに従って周辺電源電圧Vccpを変化させることに
より、変更することができる。これにより、センスアン
プ回路が正確なデータのセンス動作を行なうことができ
るかどうかのセンスタイミングマージンを検出すること
ができる。たとえば、センスタイミングマージンが少な
い場合、ワード線選択タイミングが遅れた場合、ビット
線BLおよび/BLには、十分な電圧差が生じていない
ため、正確なセンス動作を行なうことができなくなる。
Therefore, as shown in FIG. 13, word line WL is driven to the selected state, and bit lines BL and / or
The time elapsed from the read of the memory cell data to BL to the activation of the sense amplifier is determined by the external power supply voltage extV
By changing the peripheral power supply voltage Vccp according to cc, it can be changed. Thus, it is possible to detect a sense timing margin as to whether or not the sense amplifier circuit can perform an accurate data sensing operation. For example, when the sense timing margin is small, when the word line selection timing is delayed, since a sufficient voltage difference is not generated between bit lines BL and / BL, an accurate sensing operation cannot be performed.

【0095】また、周辺電源電圧Vccpは、列選択線
を駆動する列選択線ドライブ回路へも与えられている。
したがって、この列選択線CSL上の列選択信号の振幅
も、周辺電源電圧Vccpを介して外部電源電圧ext
Vccに従って変化させることができる。これにより、
列選択時におけるセンスアンプ回路の保持データの安定
性をテストすることができる。このアドレスノイズテス
トと呼ばれるテストにおいては、メモリセルに予め論理
のわかったデータを書込み、次いでセンス動作を行なっ
てセンスアンプ回路によりラッチした後列選択動作を行
なってメモリセルデータを読出し、この読出されたメモ
リセルデータが書込んだデータと論理が同じであるか否
かを識別する。書込および読出データの論理の一致/不
一致の判定結果により、センスアンプ回路のデータ保持
特性の安定性を試験することができる。
The peripheral power supply voltage Vccp is also supplied to a column selection line drive circuit that drives a column selection line.
Therefore, the amplitude of the column select signal on column select line CSL is also controlled by external power supply voltage ext via peripheral power supply voltage Vccp.
It can be changed according to Vcc. This allows
It is possible to test the stability of the data held in the sense amplifier circuit when selecting a column. In a test called an address noise test, data of which logic is known in advance is written into a memory cell, then a sense operation is performed, latched by a sense amplifier circuit, and then a column select operation is performed to read out the memory cell data. It is determined whether the logic of the memory cell data is the same as the logic of the written data. The stability of the data holding characteristics of the sense amplifier circuit can be tested based on the determination result of the logic match / mismatch of the write and read data.

【0096】なお、この実施の形態5においては、周辺
電源電圧Vccpが周辺回路および列選択線ドライブ回
路両者へ共通に与えられている。しかしながら、列選択
線ドライブ回路へは、残りの周辺回路と別の電源電圧
(Vccpa)が与えられている場合、テストモード指
示信号ZTESTの活性化に従って、この列選択線ドラ
イブ回路へ与えられる電源電圧(Vccpa)が外部電
源電圧extVccに応じて変化するように構成されて
もよい。この場合の構成は、単に、列選択線ドライブ回
路へ与えられる電源電圧(Vccpa)を発生する内部
電源回路の構成を、図11に示す内部電源回路30と同
一構成とすることにより容易に実現される。列選択線ド
ライブ回路の電源電圧のみが、このテストモード時変更
されてもよい。
In the fifth embodiment, peripheral power supply voltage Vccp is commonly applied to both the peripheral circuit and the column select line drive circuit. However, when a power supply voltage (Vccpa) different from that of the remaining peripheral circuits is applied to column select line drive circuit, power supply voltage applied to the column select line drive circuit in accordance with activation of test mode instruction signal ZTEST (Vccpa) may be configured to change according to external power supply voltage extVcc. The configuration in this case is easily realized simply by making the configuration of the internal power supply circuit for generating the power supply voltage (Vccpa) applied to the column selection line drive circuit the same as that of internal power supply circuit 30 shown in FIG. You. Only the power supply voltage of the column selection line drive circuit may be changed during this test mode.

【0097】以上のように、この発明の実施の形態5に
従えば、テストモード指示信号に従って、周辺回路に与
えられる内部電源電圧レベルを、外部電源電圧レベルと
同一電圧レベルとし、かつセンス電源電圧レベルの電圧
レベルを一定としているため、センスタイミングマージ
ンおよびセンスアンプ回路のデータ保持の安定性を容易
にテストすることができる。
As described above, according to the fifth embodiment of the present invention, the internal power supply voltage level applied to the peripheral circuit is set to the same voltage level as the external power supply voltage level in accordance with the test mode instruction signal, and sense power supply voltage is applied. Since the voltage level is constant, it is possible to easily test the sense timing margin and the stability of data holding of the sense amplifier circuit.

【0098】[その他の適用例]半導体記憶装置とし
て、内部電源電圧を生成しかつセンスアンプ回路を有す
る半導体記憶装置であれば、標準DRAM(ダイナミッ
ク・ランダム・アクセス・メモリ)およびクロック信号
に同期して動作する同期型ダイナミック・ランダム・ア
クセス・メモリいずれにおいても本発明は適用可能であ
る。
[Other Application Examples] If the semiconductor memory device is a semiconductor memory device that generates an internal power supply voltage and has a sense amplifier circuit, it is synchronized with a standard DRAM (Dynamic Random Access Memory) and a clock signal. The present invention is applicable to any of the synchronous dynamic random access memories that operate in the following manner.

【0099】また、内部電源電圧および外部電源電圧の
具体的な値は任意であり、実際に用いられるシステムに
おける電源電圧に応じて適当に定められればよい。
The specific values of the internal power supply voltage and the external power supply voltage are arbitrary, and may be appropriately determined according to the power supply voltage in a system actually used.

【0100】また、先の実施の形態5におけるテストモ
ード指示信号は、単に、外部からの複数の制御信号の状
態の組合せにより発生される。このテストモードは、製
品出荷前の最終テストにおいて「アドレスノイズ」テス
トと呼ばれる周辺電源電圧を加速した場合のセンスアン
プの保持データの安定性をテストするために用いられ
る。しかしながら、単に、ウエハレベルにおいて、セン
スマージンなどのAC特性が特定されるテスト工程にお
いて同様このテストが行なわれてもよい。
The test mode instruction signal in the fifth embodiment is generated simply by a combination of a plurality of external control signals. This test mode is used to test the stability of data held by the sense amplifier when the peripheral power supply voltage is accelerated, which is called an “address noise” test, in a final test before product shipment. However, this test may be performed in a test step in which AC characteristics such as a sense margin are specified at a wafer level.

【0101】[0101]

【発明の効果】以上のように、この発明に従えば、正確
かつ安定にデータの読出を行なうことのできる半導体記
憶装置を実現することができる。
As described above, according to the present invention, a semiconductor memory device capable of reading data accurately and stably can be realized.

【0102】すなわち、請求項1に係る発明に従えば、
内部データバス線を、センス電源電圧と同じ電圧レベル
にプリチャージするように構成しているため、この周辺
電源電圧およびセンス電源電圧変動時においても、正確
に内部データバス線を同じ電圧レベルにプリチャージす
ることができ、安定なデータ読出を保証することができ
る。
That is, according to the first aspect of the present invention,
Since the internal data bus line is configured to be precharged to the same voltage level as the sense power supply voltage, even when the peripheral power supply voltage and the sense power supply voltage fluctuate, the internal data bus line is accurately precharged to the same voltage level. It can be charged, and stable data reading can be guaranteed.

【0103】請求項2に係る発明に従えば、列選択線を
駆動する回路の電源電圧を、列選択線を駆動する回路と
電源電圧以下の電圧レベルに設定しているため、列選択
時において、センスアンプが急激に大きな負荷を有する
内部データバス線に接続されるのを防止することがで
き、センスアンプの保持データの破壊が生じるのを防止
することができる。
According to the second aspect of the present invention, the power supply voltage of the circuit for driving the column selection line is set to a voltage level equal to or lower than the power supply voltage of the circuit for driving the column selection line. Thus, it is possible to prevent the sense amplifier from being suddenly connected to the internal data bus line having a large load, thereby preventing the data held by the sense amplifier from being destroyed.

【0104】請求項3に係る発明に従えば、内部データ
バス線のデータを増幅するプリアンプを周辺電源電圧で
駆動するように構成しているため、高速でデータの読出
を行なうことができる。
According to the third aspect of the present invention, since the preamplifier for amplifying data on the internal data bus line is driven by the peripheral power supply voltage, data can be read at high speed.

【0105】請求項4に係る発明に従えば、列選択信号
振幅を、センス電源電圧と同じ電圧レベルとしているた
め、列選択信号の振幅を低減することができ、列選択時
におけるセンスアンプ回路の保持データの破壊が生じる
のを防止することができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the column selection signal amplitude is at the same voltage level as the sense power supply voltage, the amplitude of the column selection signal can be reduced, and the sense amplifier circuit at the time of column selection can be reduced. Destruction of retained data can be prevented.

【0106】請求項5に係る発明に従えば、列選択信号
振幅は、センスアンプの電源電圧と列デコード回路の電
源電圧の間の電圧レベルに保持しているため、センス電
源回路および周辺電源回路の影響を受けることなく安定
に一定のレベルの列選択信号を生成することができ、ま
た列選択時におけるセンスアンプ回路の保持データの破
壊を生じるのを防止することができる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the column selection signal amplitude is maintained at a voltage level between the power supply voltage of the sense amplifier and the power supply voltage of the column decode circuit, the sense power supply circuit and the peripheral power supply circuit , A column selection signal of a certain level can be stably generated without being affected by the above, and the destruction of data held in the sense amplifier circuit at the time of column selection can be prevented.

【0107】請求項6に係る発明に従えば、列デコード
回路に外部電源電圧を印加しているため、高速で列デコ
ード動作を行なうことができる。
According to the invention of claim 6, since the external power supply voltage is applied to the column decode circuit, the column decode operation can be performed at high speed.

【0108】請求項7に係る発明に従えば、列デコード
回路および列選択線ドライブ回路の動作電源電圧を同一
電圧レベルとしているため、電源配置が簡略化される。
According to the seventh aspect of the present invention, since the operating power supply voltages of the column decode circuit and the column select line drive circuit are at the same voltage level, the power supply arrangement is simplified.

【0109】請求項8に係る発明に従えば、周辺回路へ
与えられる電源電圧を、内部電源回路の出力電圧および
外部電源電圧の一方を選択するように構成しているた
め、同一チップで複数種類の電源電圧に対応することが
でき、製品コストが低減されまた製造工程および管理が
簡略化される。
According to the eighth aspect of the present invention, the power supply voltage applied to the peripheral circuit is configured to select one of the output voltage of the internal power supply circuit and the external power supply voltage. , The product cost is reduced, and the manufacturing process and management are simplified.

【0110】請求項9に係る発明に従えば、選択電圧
を、列選択信号駆動回路へも与えるように構成している
ため、これらの列系回路を同一電源電圧において動作さ
せることができ、電源電圧の差に起因するタイミングミ
スマッチが生じるのを防止することができる。
According to the ninth aspect of the present invention, since the selection voltage is also applied to the column selection signal drive circuit, these column-related circuits can be operated at the same power supply voltage. It is possible to prevent the occurrence of timing mismatch due to the voltage difference.

【0111】請求項10に係る発明に従えば、センス電
源電圧とは別の第3の内部電源電圧発生回路を設け、こ
の第3の電源電圧発生回路からの出力電圧を列選択線駆
動用に用いているため、センス電源回路の影響を受ける
ことなく、安定に列選択信号を生成することができる。
According to the tenth aspect of the present invention, a third internal power supply voltage generating circuit different from the sense power supply voltage is provided, and an output voltage from the third power supply voltage generating circuit is used for driving a column selection line. Since it is used, a column selection signal can be generated stably without being affected by the sense power supply circuit.

【0112】請求項11に係る発明に従えば、テストモ
ード時においては、外部電源電圧を列選択線ドライブ回
路へ印加するように構成しており、一方センス電源電圧
が一定であるため、センスタイミングマージンの試験お
よび列選択動作時におけるセンスアンプ回路のデータ保
持の安定性を試験することができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, in the test mode, an external power supply voltage is applied to the column selection line drive circuit. On the other hand, since the sense power supply voltage is constant, the sense It is possible to test the margin and the stability of data holding of the sense amplifier circuit during the column selection operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1に従う半導体記憶装
置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 1 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 図1に示す内部電源回路の構成の一例を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a configuration of an internal power supply circuit illustrated in FIG. 1;

【図3】 図1に示す半導体記憶装置の要部の構成をよ
り具体的に示す図である。
FIG. 3 is a diagram more specifically showing a configuration of a main part of the semiconductor memory device shown in FIG. 1;

【図4】 図3に示す構成の動作を示す信号波形図であ
る。
FIG. 4 is a signal waveform diagram showing an operation of the configuration shown in FIG.

【図5】 図3に示すIO線プリチャージ回路の動作を
示す図である。
5 is a diagram showing an operation of the IO line precharge circuit shown in FIG.

【図6】 図5に示すIO線プリチャージ回路の動作を
示す信号波形図である。
6 is a signal waveform diagram representing an operation of the IO line precharge circuit shown in FIG.

【図7】 この発明の実施の形態2に従う半導体記憶装
置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 7 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図8】 図7に示す半導体記憶装置の要部の構成をよ
り具体的に示す図である。
8 is a diagram more specifically showing a configuration of a main part of the semiconductor memory device shown in FIG. 7;

【図9】 この発明の実施の形態3に従う半導体記憶装
置の全体の構成を概略的に示す図である。
FIG. 9 schematically shows an entire configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図10】 この発明の実施の形態4に従う半導体記憶
装置の要部の構成を概略的に示す図である。
FIG. 10 schematically shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】 この発明の実施の形態5に従う半導体記憶
装置の要部の構成を示す図である。
FIG. 11 shows a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図12】 図11に示す内部電源回路の出力電圧変化
を示す図である。
12 is a diagram showing a change in output voltage of the internal power supply circuit shown in FIG.

【図13】 この発明の実施の形態5における半導体記
憶装置の要部の動作を示す信号波形図である。
FIG. 13 is a signal waveform diagram representing an operation of a main part of a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図14】 従来の半導体記憶装置の要部の構成を概略
的に示す図である。
FIG. 14 is a diagram schematically showing a configuration of a main part of a conventional semiconductor memory device.

【図15】 図14に示す半導体記憶装置の動作を示す
信号波形図である。
15 is a signal waveform diagram representing an operation of the semiconductor memory device shown in FIG.

【図16】 従来の半導体記憶装置の問題点を説明する
ための図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a problem of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ、2 アドレス入力バッファ、3
行選択回路、4 センスアンプ帯、4a センスアン
プ回路、5 デコード回路、5a NAND型デコード
回路、6 列選択線ドライブ回路、6a 列選択線ドラ
イバ、7 列選択ゲート群、7a 列選択ゲート、8
内部データバス、I/O,I/O* 内部データバス
線、9 IO線プリチャージ回路、9a IO線プリチ
ャージ回路、10 書込/読出回路、10a プリアン
プ、13,14 内部電源回路、20 電源線、30
内部電源回路、35,36 オプション電圧セレクタ、
30e,30d pチャネルMOSトランジスタ、PQ
a,PQb pチャネルMOSトランジスタ。
1 memory cell array, 2 address input buffers, 3
Row select circuit, 4 sense amplifier band, 4a sense amplifier circuit, 5 decode circuit, 5a NAND type decode circuit, 6 column select line drive circuit, 6a column select line driver, 7 column select gate group, 7a column select gate, 8
Internal data bus, I / O, I / O * Internal data bus line, 9 IO line precharge circuit, 9a IO line precharge circuit, 10 write / read circuit, 10a preamplifier, 13, 14 Internal power supply circuit, 20 power supplies Line, 30
Internal power supply circuit, 35, 36 Optional voltage selector,
30e, 30d p-channel MOS transistor, PQ
a, PQb p-channel MOS transistor.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行列状に配列される複数のメモリセル、 各列に対応して配列され、活性化時対応の列上のメモリ
セルデータに応じて、第1の電源電圧または接地電圧レ
ベルに対応の列を駆動する複数のセンスアンプ、 前記複数のメモリセルの選択メモリセルとデータの授受
を行なうための内部データバス、 前記内部データバスに結合され、前記内部データバスを
前記第1の電源電圧レベルにプリチャージするためのプ
リチャージ回路、および少なくとも第2の電源電圧を動
作電源電圧として受けて、少なくとも前記複数のメモリ
セルからのメモリセルの選択を行なう動作を行なう周辺
回路を備える、半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells arranged in a matrix, arranged corresponding to each column, and set to a first power supply voltage or a ground voltage level according to memory cell data on a corresponding column when activated. A plurality of sense amplifiers for driving corresponding columns; an internal data bus for transmitting and receiving data to and from a selected memory cell of the plurality of memory cells; a first power supply coupled to the internal data bus for connecting the internal data bus to the first power supply A semiconductor comprising: a precharge circuit for precharging to a voltage level; and a peripheral circuit receiving at least a second power supply voltage as an operation power supply voltage and performing at least an operation of selecting a memory cell from the plurality of memory cells Storage device.
【請求項2】 前記周辺回路は、前記第2の電源電圧を
動作電源電圧として受けて動作し、与えられたアドレス
信号をデコードして、アドレス指定された列を指定する
列指定信号を生成する列デコード回路と、 第3の電源電圧を動作電源電圧として受けて前記列指定
信号に従って前記メモリセルの列からアドレス指定され
た列を選択する列選択信号を発生する列選択ドライブ回
路とを備え、アドレス指定された列は、前記列選択ドラ
イブ回路からの列選択信号に応答する列選択ゲートを介
して前記内部データバスに結合される、請求項1記載の
半導体記憶装置。
2. The peripheral circuit operates by receiving the second power supply voltage as an operation power supply voltage, decodes a given address signal, and generates a column designation signal designating an addressed column. A column decode circuit, and a column selection drive circuit receiving a third power supply voltage as an operation power supply voltage and generating a column selection signal for selecting an addressed column from the columns of the memory cells according to the column specification signal, 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the addressed column is coupled to said internal data bus via a column selection gate responsive to a column selection signal from said column selection drive circuit.
【請求項3】 前記周辺回路は、前記第2の電源電圧を
動作電源電圧として受けて、前記内部データバス上のデ
ータを増幅する読出増幅回路をさらに備える、請求項1
記載の半導体記憶装置。
3. The peripheral circuit further includes a read amplifier circuit that receives the second power supply voltage as an operation power supply voltage and amplifies data on the internal data bus.
13. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項4】 前記第3の電源電圧は、前記第1の電源
電圧と同一の電圧レベルである、請求項2記載の半導体
記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said third power supply voltage is at the same voltage level as said first power supply voltage.
【請求項5】 前記第3の電源電圧は、前記第1および
第2の電源電圧の間の電圧レベルである、請求項2記載
の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said third power supply voltage is at a voltage level between said first and second power supply voltages.
【請求項6】 前記第2の電源電圧は、外部から与えら
れる電源電圧と同じ電圧レベルである、請求項1または
2記載の半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said second power supply voltage has the same voltage level as an externally applied power supply voltage.
【請求項7】 前記第3の電源電圧は、前記第2の電源
電圧と同じ電圧レベルである、請求項2記載の半導体記
憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein said third power supply voltage is at the same voltage level as said second power supply voltage.
【請求項8】 外部電源電圧を受けて伝達する第1の電
源線と、 前記第1の電源線に結合され、前記外部電源電圧から前
記第1の電源電圧を生成して前記センスアンプおよびプ
リチャージ回路へ与える第1の内部電圧発生回路と、 活性化時前記第1の電源線上の電圧から前記第1の電源
電圧よりも電圧レベルの高い第2の電圧を生成する第2
の内部電圧発生回路と、 前記第1の電源線上の電圧および前記第2の内部電圧発
生回路の出力電圧の一方を前記列デコード回路へ与える
選択手段を備える、請求項2記載の半導体記憶装置。
8. A first power supply line for receiving and transmitting an external power supply voltage, coupled to the first power supply line, generating the first power supply voltage from the external power supply voltage to generate the first power supply voltage, A first internal voltage generation circuit applied to a charge circuit; and a second circuit for generating a second voltage higher in voltage level than the first power supply voltage from a voltage on the first power supply line when activated.
3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: an internal voltage generation circuit, and a selection unit that supplies one of a voltage on the first power supply line and an output voltage of the second internal voltage generation circuit to the column decode circuit.
【請求項9】 前記選択手段は、該選択した電源電圧を
前記列選択ドライブ回路へも与える、請求項8記載の半
導体記憶装置。
9. The semiconductor memory device according to claim 8, wherein said selecting means also applies said selected power supply voltage to said column selection drive circuit.
【請求項10】 前記第1の電源線に結合され、前記外
部電源電圧から前記第3の電源電圧を生成して前記列選
択ドライブ回路へ与える、前記第1の内部電圧発生回路
とは別に設けられる第3の内部電圧発生回路をさらに備
える、請求項8記載の半導体記憶装置。
10. A circuit separate from the first internal voltage generating circuit, coupled to the first power supply line, for generating the third power supply voltage from the external power supply voltage and applying the third power supply voltage to the column selection drive circuit 9. The semiconductor memory device according to claim 8, further comprising a third internal voltage generation circuit provided.
【請求項11】 テストモード指示に応答して、前記列
選択ドライブ回路の電源電圧を外部電源電圧レベルに設
定する手段をさらに含む、請求項2記載の半導体記憶装
置。
11. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: means for setting a power supply voltage of said column select drive circuit to an external power supply voltage level in response to a test mode instruction.
JP19769298A 1998-07-13 1998-07-13 Semiconductor memory Withdrawn JP2000030455A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19769298A JP2000030455A (en) 1998-07-13 1998-07-13 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19769298A JP2000030455A (en) 1998-07-13 1998-07-13 Semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000030455A true JP2000030455A (en) 2000-01-28

Family

ID=16378774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19769298A Withdrawn JP2000030455A (en) 1998-07-13 1998-07-13 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000030455A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7254072B2 (en) 2004-04-28 2007-08-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor memory device having hierarchically structured data lines and precharging means
JP2008203890A (en) * 2003-09-12 2008-09-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device and electronic equipment
JP2011100508A (en) * 2009-11-05 2011-05-19 Toppan Printing Co Ltd Semiconductor memory
WO2012141161A1 (en) * 2011-04-12 2012-10-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor memory circuit, method for operating semiconductor memory circuit, and method for designing semiconductor memory circuit

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008203890A (en) * 2003-09-12 2008-09-04 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device and electronic equipment
JP2011118404A (en) * 2003-09-12 2011-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device
US8350785B2 (en) 2003-09-12 2013-01-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method of the same
US9385704B2 (en) 2003-09-12 2016-07-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method of the same
US9825624B2 (en) 2003-09-12 2017-11-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method of the same
US7254072B2 (en) 2004-04-28 2007-08-07 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor memory device having hierarchically structured data lines and precharging means
US7417911B2 (en) 2004-04-28 2008-08-26 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Semiconductor memory device having hierarchically structured data lines and precharging means
JP2011100508A (en) * 2009-11-05 2011-05-19 Toppan Printing Co Ltd Semiconductor memory
WO2012141161A1 (en) * 2011-04-12 2012-10-18 ルネサスエレクトロニクス株式会社 Semiconductor memory circuit, method for operating semiconductor memory circuit, and method for designing semiconductor memory circuit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100408615B1 (en) Semiconductor device with reduced current consumption in standby state
US6418075B2 (en) Semiconductor merged logic and memory capable of preventing an increase in an abnormal current during power-up
JP4184104B2 (en) Semiconductor device
JP4046382B2 (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100621554B1 (en) Semiconductor memory device
US5859799A (en) Semiconductor memory device including internal power supply circuit generating a plurality of internal power supply voltages at different levels
US20020011883A1 (en) Multi-power semiconductor integrated circuit device
US6172928B1 (en) Semiconductor memory device with normal mode and power down mode
US6081468A (en) Semiconductor device
US20120120751A1 (en) Semiconductor device having equalizing circuit equalizing pair of bit lines
JPH1173767A (en) Dram device provided with self-refresh mode
JPH1186548A (en) Semiconductor memory device
JPH1021699A (en) Semiconductor integrated circuit device
US8149633B2 (en) Semiconductor memory device
US6894942B2 (en) Refresh control circuit and method for semiconductor memory device
US20190115055A1 (en) Input buffer circuit
KR100438237B1 (en) Semiconductor integrated circuit having test circuit
JP2004152363A (en) Semiconductor memory
US5420869A (en) Semiconductor integrated circuit device
KR100294450B1 (en) Internal voltage generation circuit of array of semiconductor memory device
JP2000030455A (en) Semiconductor memory
JP2004199778A (en) Semiconductor memory device
US6519193B2 (en) Semiconductor integrated circuit device having spare word lines
US6781894B2 (en) Semiconductor memory device achieving fast random access
KR20040014155A (en) Semiconductor memory device having time reduced in testing of memory cell data reading or writing, or testing of sense amplifier performance

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20051004