JP2000029001A - Plasma address display device - Google Patents

Plasma address display device

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JP2000029001A
JP2000029001A JP19846398A JP19846398A JP2000029001A JP 2000029001 A JP2000029001 A JP 2000029001A JP 19846398 A JP19846398 A JP 19846398A JP 19846398 A JP19846398 A JP 19846398A JP 2000029001 A JP2000029001 A JP 2000029001A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma address display device with which damages to an intermediate substrate does not occur. SOLUTION: This address display device is constituted by laminating and forming a plasma cell 30 and a liquid crystal cell 31 with the intermediate substrate as a common substrate. Alignment layers 18b are respectively formed on the liquid crystal cell side of a counter substrate 11 and intermediate substrate constituting the liquid crystal cell 31. At least the alignment layer formed on the intermediate substrate is subjected to an alignment treatment by irradiating the layer with light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマアドレス
表示装置に関するものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a plasma addressed display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶セルを用いたマトリクスタイ
プの電気光学装置、例えば液晶表示装置を高解像度化、
高コントラスト化するための方法としては、各画素毎に
薄膜トランジスタ等のスイッチング素子を設け、これを
線順次で駆動する方式が一般に知られている。しかしな
がら、この場合、薄膜トランジスタのような半導体素子
を基板上に多数設ける必要があり、特に大面積の大型表
示にした場合、製造歩留りが悪くなるという問題があっ
た。
2. Description of the Related Art Conventionally, a matrix type electro-optical device using a liquid crystal cell, for example, a liquid crystal display device has been improved in resolution.
As a method for increasing the contrast, a method of providing a switching element such as a thin film transistor for each pixel and driving the switching element in a line-sequential manner is generally known. However, in this case, it is necessary to provide a large number of semiconductor elements such as thin film transistors on the substrate, and there is a problem that the production yield is deteriorated particularly when a large-sized display is provided.

【0003】そこで、この問題を解決する方法として、
特開平1−217396号公報においては、薄膜トラン
ジスタ等からなるスイッチング素子に代えてプラズマス
イッチを利用するプラズマアドレス表示装置を提案して
いる。
Therefore, as a method for solving this problem,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-217396 proposes a plasma addressed display device using a plasma switch instead of a switching element formed of a thin film transistor or the like.

【0004】このプラズマアドレス表示装置の一例を図
8に示す。これは、ガラス等からなる薄い誘電体の中間
基板103と対向基板111との間に電気光学材料層で
ある液晶層101を挟持した液晶セル100と、中間基
板103とガラス基板104との間にプラズマの放電が
なされるプラズマ室102が形成されたプラズマセル1
10とが、中間基板103を共通基板として積層形成さ
れたものである。
FIG. 8 shows an example of the plasma addressed display device. This is because a liquid crystal cell 100 in which a liquid crystal layer 101 which is an electro-optical material layer is sandwiched between a thin dielectric intermediate substrate 103 made of glass or the like and an opposite substrate 111, and between the intermediate substrate 103 and the glass substrate 104 Plasma cell 1 in which plasma chamber 102 in which plasma discharge is performed is formed
Reference numeral 10 denotes a laminate formed using the intermediate substrate 103 as a common substrate.

【0005】プラズマセル110は以下のようにして形
成されている。まず、ガラス基板104上に互いにほぼ
平行な帯状の導電ペーストよりなる一対のプラズマ電極
105a、105bが複数本等間隔をもって配置され、
一対のプラズマ電極105a、105bの各一端部には
これらプラズマ電極105a、105bに電圧を印加す
るための端子(図示せず)が交互に設けられている。さ
らに、各一対のプラズマ電極105a、105b毎に隔
絶するようにガラスペーストよりなるバリアリブ106
が互いに平行に形成され、各プラズマ電極105a、1
05b毎にプラズマ室102とされている。このプラズ
マ室102内にはイオン化可能なガスが封入され、各放
電領域102内では、各プラズマ電極105a、105
bがそれぞれアノード及びカソードとして機能する。そ
して、これらバリアリブ106の上端部及びガラス基板
104の周縁部に設けられたフリットシール107によ
り中間基板103の下部が支持固定されている。
[0005] The plasma cell 110 is formed as follows. First, a plurality of plasma electrodes 105a and 105b made of a conductive paste in a band shape substantially parallel to each other are arranged on a glass substrate 104 at equal intervals.
Terminals (not shown) for applying a voltage to the plasma electrodes 105a and 105b are provided alternately at one end of each of the pair of plasma electrodes 105a and 105b. Further, the barrier ribs 106 made of glass paste are separated from each other for each pair of plasma electrodes 105a and 105b.
Are formed in parallel with each other, and each plasma electrode 105a, 1
The plasma chamber 102 is provided for every 05b. An ionizable gas is sealed in the plasma chamber 102, and each plasma electrode 105a, 105
b functions as an anode and a cathode, respectively. A lower portion of the intermediate substrate 103 is supported and fixed by a frit seal 107 provided on the upper end of the barrier rib 106 and the peripheral edge of the glass substrate 104.

【0006】液晶セル100を構成する中間基板103
上には液晶の配向を整えるための配向層108aが、ま
た対向基板111上には複数のデータ電極112及び配
向層108bが形成され、これらの配向層108a,1
08b間にネマティック液晶等からなる液晶層101が
その周囲を液晶シール109に支持されて設けられてい
る。データ電極112は、各プラズマ電極105と直交
しており、各プラズマ電極105との各交差領域が各画
素に対応している。
[0006] Intermediate substrate 103 constituting liquid crystal cell 100
An alignment layer 108a for adjusting the alignment of the liquid crystal is formed thereon, and a plurality of data electrodes 112 and an alignment layer 108b are formed on the counter substrate 111. These alignment layers 108a, 1
A liquid crystal layer 101 made of a nematic liquid crystal or the like is provided between 08b while its periphery is supported by a liquid crystal seal 109. The data electrode 112 is orthogonal to each plasma electrode 105, and each intersection region with each plasma electrode 105 corresponds to each pixel.

【0007】このようなプラズマアドレス表示装置にお
いては、プラズマ電極105a、105bに電圧を印加
するための各端子により、プラズマ放電が行われるプラ
ズマ室102を順次切り替え走査するとともに、液晶層
101側のデータ電極112にこれと同期して信号電圧
を印加することによって該信号電圧が各画素に保持さ
れ、液晶層101が駆動される。したがって、各プラズ
マ室102がそれぞれ1走査ラインに相当し、走査単位
毎に放電領域が分割されている。
In such a plasma addressed display device, the terminals for applying a voltage to the plasma electrodes 105a and 105b sequentially scan the plasma chamber 102 in which the plasma discharge is performed, and scan the data on the liquid crystal layer 101 side. By applying a signal voltage to the electrode 112 in synchronization with this, the signal voltage is held in each pixel, and the liquid crystal layer 101 is driven. Therefore, each plasma chamber 102 corresponds to one scanning line, and the discharge region is divided for each scanning unit.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上記従来のプラズマア
ドレス表示装置においては、中間基板及び対向基板に設
けられた配向層の配向処理方法として、布を使用したラ
ビング法が用いられていた。1mm程度の厚みのガラス
を使用した液晶表示装置では、ラビングを行なったとし
てもほとんどガラスの破損は発生しなかったが、プラズ
マアドレス表示装置においては、中間基板として通常厚
みの薄いガラスが用いられるため、中間基板をラビング
した場合、しばしば中間基板の破損が発生していた。
In the above-mentioned conventional plasma addressed display device, a rubbing method using a cloth has been used as an alignment treatment method for an alignment layer provided on an intermediate substrate and a counter substrate. In a liquid crystal display device using a glass having a thickness of about 1 mm, even if rubbing was performed, almost no breakage of the glass occurred, but in a plasma addressed display device, a glass having a small thickness is usually used as an intermediate substrate. When the intermediate substrate was rubbed, the intermediate substrate was often damaged.

【0009】また、中間基板貼合わせ後は、プラズマ室
内部の洗浄を行なうことが困難であり、ラビングを行な
った場合、多くのダストが発生してプラズマ室内部に残
留することがあった。
Further, it is difficult to clean the inside of the plasma chamber after bonding the intermediate substrate, and when rubbing is performed, a lot of dust is generated and sometimes remains in the plasma chamber.

【0010】また、このようなプラズマアドレス表示装
置の広視野角化を図るために、特開平7−120728
号公報に示されるような軸対称の配向を行うことが考え
られているが、こういった配向を行うためには対向基板
に壁等を形成する必要があるため工程が複雑であった。
In order to increase the viewing angle of such a plasma addressed display device, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-120728 has been proposed.
It has been considered to perform an axially symmetric orientation as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-157, but such an orientation requires a wall or the like to be formed on the opposing substrate, thus complicating the process.

【0011】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、製造プロセスが簡単で、さらには広
視野角化を実現することができるプラズマアドレス表示
装置を実現するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to realize a plasma addressed display device which has a simple manufacturing process and can realize a wide viewing angle.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマアドレ
ス表示装置は、中間基板を共通基板としてプラズマセル
と液晶セルとが積層形成されてなるプラズマアドレス表
示装置であって、前記液晶セルを構成する対向基板と前
記中間基板との液晶層側にはそれぞれ配向層が形成さ
れ、少なくとも前記中間基板に形成された配向層は光を
照射することにより配向処理が行われたものであること
を特徴とする。
A plasma addressed display device according to the present invention is a plasma addressed display device in which a plasma cell and a liquid crystal cell are stacked and formed using an intermediate substrate as a common substrate. An alignment layer is formed on the liquid crystal layer side of the counter substrate and the intermediate substrate, respectively, and at least the alignment layer formed on the intermediate substrate has been subjected to an alignment treatment by irradiating light. I do.

【0013】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、前記中間基板の配向層は複数の領域を有し、該複数
の領域は隣り合う2つの領域の配向状態が異なることを
特徴とする。
Further, the plasma addressed display device according to the present invention is characterized in that the alignment layer of the intermediate substrate has a plurality of regions, and the plurality of regions have different alignment states between two adjacent regions.

【0014】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、前記複数の領域が互いに平行であることを特徴とす
る。
Further, in the plasma addressed display device according to the present invention, the plurality of regions are parallel to each other.

【0015】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、対向基板がラビング法により配向処理が行われたも
のであることを特徴とする。
Further, the plasma addressed display device of the present invention is characterized in that the opposite substrate has been subjected to an alignment treatment by a rubbing method.

【0016】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、前記中間基板の厚みが70μm以下20μm以上で
あることを特徴とする。
Further, in the plasma addressed display device according to the present invention, the thickness of the intermediate substrate is 70 μm or less and 20 μm or more.

【0017】以下、作用について説明する。本発明のプ
ラズマアドレス表示装置によれば、従来のラビング法に
よる配向処理のように薄い基板に直接力が加わることが
ないため、基板の破損が発生することがない。また、照
射する光を制御することで、10°以下のプレチルト角
の制御が容易に行えるので、所望のプレチルト角の設定
が簡単にできる。さらに、ダストがプラズマ室内部に残
留するといった問題も生じない。
Hereinafter, the operation will be described. According to the plasma addressed display device of the present invention, a force is not directly applied to a thin substrate as in the alignment treatment by the conventional rubbing method, so that the substrate is not damaged. Further, by controlling the irradiation light, the pretilt angle of 10 ° or less can be easily controlled, so that the desired pretilt angle can be easily set. Further, there is no problem that dust remains in the plasma chamber.

【0018】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、中間基板の配向層が複数の領域を有し該複数の領域
は隣り合う2つの領域の配向状態が異なるので、例え
ば、軸対称配向を行うための複雑なプロセスを必要とせ
ずに簡単に広視野角のプラズマアドレス表示装置を実現
することができる。
Further, in the plasma addressed display device according to the present invention, the alignment layer of the intermediate substrate has a plurality of regions, and the plurality of regions have different alignment states between two adjacent regions. A plasma addressed display device having a wide viewing angle can be easily realized without requiring a complicated process.

【0019】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、中間基板の配向層の複数の領域は互いに平行である
ので、マスクパターンとしてはストライプ状の開口部を
形成しておけばよくマスクの設計が容易となる。
Further, in the plasma addressed display device of the present invention, since a plurality of regions of the alignment layer of the intermediate substrate are parallel to each other, it is sufficient to form a stripe-shaped opening as a mask pattern, so that the mask can be designed. It will be easier.

【0020】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、対向基板がラビング法により配向処理が行われたも
のであるので、基板の厚みにあった配向処理により、簡
単でより安定した配向状態を得ることができる。
Further, in the plasma addressed display device of the present invention, since the opposite substrate is subjected to the alignment process by the rubbing method, a simple and more stable alignment state can be obtained by the alignment process suitable for the thickness of the substrate. be able to.

【0021】また、本発明のプラズマアドレス表示装置
は、中間基板の厚みは70μm以下であるので、データ
電極に印加する電圧が小さく、結果として、低消費電力
のプラズマアドレス表示装置を実現することができる。
Further, in the plasma addressed display device of the present invention, since the thickness of the intermediate substrate is 70 μm or less, the voltage applied to the data electrode is small, and as a result, a plasma addressed display device with low power consumption can be realized. it can.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】(実施形態1)図1乃至図3に本
実施形態に係るプラズマアドレス表示装置の製造工程の
概要を示す。以下、これらの図にしたがって具体的に説
明する。図1に示すように、まず、ガラス基板14上部
に、スクリーン印刷によりNi等の金属を用いた放電電
極15a、15bを形成し、次にスクリーン印刷により
バリアリブ16を200μmの高さで形成する。
(Embodiment 1) FIGS. 1 to 3 show an outline of a manufacturing process of a plasma addressed display device according to the present embodiment. Hereinafter, a specific description will be given with reference to these drawings. As shown in FIG. 1, first, discharge electrodes 15a and 15b using a metal such as Ni are formed on a glass substrate 14 by screen printing, and then a barrier rib 16 is formed to a height of 200 μm by screen printing.

【0023】次に、図2に示すように、ガラス基板14
の周縁部に、フリットシール17をディスペンサにより
塗布し、このフリットシール17により、厚み50μm
のガラス製の中間基板13をガラス基板14に対向する
ように接合することで、プラズマセル30が完成する。
Next, as shown in FIG.
A frit seal 17 is applied by a dispenser to a peripheral portion of the
The plasma cell 30 is completed by bonding the glass intermediate substrate 13 so as to face the glass substrate 14.

【0024】ここで、中間基板13の厚みについて説明
する。データ電極(図示せず)に印加された電圧が液晶
層の容量と中間基板13の容量により分圧されて液晶層
に電圧が印加されるため、データ電圧の低電圧化のため
には中間基板13の容量は大きいほうが望ましく、また
液晶層の容量は小さいほうが望ましい。したがって、中
間基板13の厚みは薄いほうが望ましいが、あまり薄く
してしまうと中間基板自体の取り扱いが困難となるた
め、70μm以下20μm以上、望ましくは50μm以
下20μm以上がよい。
Here, the thickness of the intermediate substrate 13 will be described. The voltage applied to the data electrodes (not shown) is divided by the capacitance of the liquid crystal layer and the capacitance of the intermediate substrate 13 and the voltage is applied to the liquid crystal layer. It is desirable that the capacity of the liquid crystal layer 13 be large and the capacity of the liquid crystal layer be small. Therefore, it is desirable that the thickness of the intermediate substrate 13 is thin. However, if the thickness is too small, it becomes difficult to handle the intermediate substrate itself.

【0025】その後、光によって配向されるポリイミド
系もしくはポリシロキサン系材料等による光配向膜18
aを中間基板13上に塗布し、光を照射することにより
配向処理を行う。このように光による配向処理を行うこ
とで、従来ラビング法を用いて配向処理を行った場合に
多数発生していた中間基板13の破損を無くすことがで
きる。また、10°以下のプレチルト角の制御を容易に
行うことができるので、好ましいプレチルト角の設定が
簡単に行える。また、配向膜18aへの配向処理は必要
に応じて垂直配向処理、水平配向処理を行ってもよい。
Thereafter, a photo-alignment film 18 made of a polyimide or polysiloxane material or the like which is aligned by light.
a is applied onto the intermediate substrate 13 and an alignment process is performed by irradiating light. By performing the alignment process using light in this manner, the damage of the intermediate substrate 13 that has occurred in many cases when the alignment process is performed by using the conventional rubbing method can be eliminated. In addition, since the control of the pretilt angle of 10 ° or less can be easily performed, the preferable pretilt angle can be easily set. In addition, as the alignment treatment on the alignment film 18a, a vertical alignment treatment or a horizontal alignment treatment may be performed as necessary.

【0026】次に、図3に示すように、シール材料19
及びスペーサ20を介して対向基板11との貼り合わせ
が行なわれ、その後液晶材料1が注入されて液晶セル3
1が出来上がり、上述したプラズマセル30と併せてプ
ラズマアドレス表示装置が完成する。対向基板11には
少なくともデータ電極10、配向膜18b、カラーフィ
ルタ(図示せず)が形成される。ここで、対向基板11
には通常よく用いられている1mm程度の厚みのガラス
が使用されているので、対向基板11の配向処理として
は光配向処理に限らず、ラビング処理等他の方法を用い
てもかまわない。
Next, as shown in FIG.
Then, bonding to the counter substrate 11 is performed via the spacer 20, and then the liquid crystal material 1 is injected into the liquid crystal cell 3.
1 is completed, and the plasma addressed display device is completed in combination with the plasma cell 30 described above. At least the data electrode 10, the alignment film 18b, and a color filter (not shown) are formed on the counter substrate 11. Here, the counter substrate 11
Since glass having a thickness of about 1 mm, which is commonly used, is used, the alignment treatment of the counter substrate 11 is not limited to the optical alignment treatment, and another method such as a rubbing treatment may be used.

【0027】(実施形態2)以下、第2の実施形態につ
いて説明を行う。図4は、本実施形態に係るプラズマア
ドレス表示装置の要部平面図であり、2個のバリアリブ
16に挟まれた1個のプラズマ室とプラズマ電極15
a、15bと3本のデータ電極10が示されている。本
実施形態においては、バリアリブ16に沿って、プラズ
マ室が領域A(点線内)と領域B(点線内)との2つの
領域に分割され、領域Aと領域Bそれぞれに異なった配
向方向の配向処理を行う。
(Embodiment 2) Hereinafter, a second embodiment will be described. FIG. 4 is a plan view of a main part of the plasma addressed display device according to the present embodiment, in which one plasma chamber and a plasma electrode 15 sandwiched between two barrier ribs 16.
a, 15b and three data electrodes 10 are shown. In this embodiment, the plasma chamber is divided along the barrier rib 16 into two regions, a region A (within a dotted line) and a region B (within a dotted line), and the regions A and B have different alignment directions. Perform processing.

【0028】次に、配向処理について説明する。図5に
示すように、中間基板13上部に光によって配向される
ポリシロキサン等の光配向膜51を形成する。次に、マ
スク50を光配向膜51の上部に配置して光54を照射
するが、このマスク50に開口部52を形成しておくこ
とにより、図4の領域Aのみに配向処理を行い、Bの領
域には配向処理を行わないようにする。
Next, the alignment process will be described. As shown in FIG. 5, a photo-alignment film 51 of polysiloxane or the like to be aligned by light is formed on the intermediate substrate 13. Next, the mask 50 is arranged above the photo-alignment film 51 and is irradiated with light 54. By forming an opening 52 in the mask 50, an alignment process is performed only on the region A in FIG. The alignment process is not performed on the region B.

【0029】次に、図6に示すように、マスク55に開
口部56を形成し、光54とは異なる方向より光57を
照射することにより、Bの領域のみに配向処理を行い、
Aの領域には配向処理を行わないようにする。このよう
にして、領域Aと領域Bとを異なる配向状態とする。
Next, as shown in FIG. 6, an opening 56 is formed in the mask 55, and light 57 is irradiated from a direction different from that of the light 54, so that only the region B is subjected to an alignment process.
The alignment treatment is not performed on the region A. Thus, the regions A and B have different alignment states.

【0030】図4においては、バリアリブ16・16間
を上下に分割し、領域A、領域Bとしているが、図7に
示すように、バリアリブ16・16間を左右に分割し
て、領域C(点線内)領域D(点線内)を形成する構成
としてもよい。このように、領域を上下もしくは左右に
分割することで、片側の領域に光を照射するためのマス
クパターンとしてはストライプ状の開口部を形成してお
けばよいので、マスクの設計が容易になる。
In FIG. 4, the area between the barrier ribs 16 and 16 is vertically divided into areas A and B, but as shown in FIG. A configuration in which a region D (within a dotted line) (in a dotted line) may be formed. In this way, by dividing the region into upper and lower or left and right, a stripe-shaped opening may be formed as a mask pattern for irradiating light to one region, so that mask design is facilitated. .

【0031】次に、実施形態1(図3)と同様に、シー
ル材料19及びスペーサ20を介して対向基板11との
貼り合わせが行なわれ、その後液晶材料が注入されるこ
とによりプラズマアドレス表示装置が完成する。対向基
板11には少なくともデータ電極10、配向膜18b、
カラーフィルタ(図示せず)が形成される。ここで、対
向基板11には通常よく用いられている1mm程度の厚
みのガラスが使用されているので、対向基板11の配向
処理としては光配向処理に限らず、ラビング処理等他の
方法を用いてもかまわない。
Next, as in the first embodiment (FIG. 3), bonding to the opposing substrate 11 is performed via the sealing material 19 and the spacer 20, and thereafter, a liquid crystal material is injected, whereby a plasma addressed display device is formed. Is completed. At least the data electrode 10, the alignment film 18b,
A color filter (not shown) is formed. Here, since a glass having a thickness of about 1 mm, which is commonly used, is usually used for the counter substrate 11, the alignment process of the counter substrate 11 is not limited to the optical alignment process, and other methods such as a rubbing process may be used. It doesn't matter.

【0032】以上説明したように、本実施形態2のプラ
ズマアドレス表示装置においては、プラズマ領域を複数
に分割し、隣り合う2つの領域が、それぞれ異なった配
向方向の配向処理を行っているので、広視野角のプラズ
マアドレス表示装置が実現できる。
As described above, in the plasma addressed display device according to the second embodiment, the plasma region is divided into a plurality of regions, and two adjacent regions are subjected to alignment processing in different alignment directions. A plasma addressed display device with a wide viewing angle can be realized.

【0033】本実施形態2では、領域を2分割した場合
について説明したが、プラズマ領域を3分割以上に分割
してもよいことは言うまでもない。さらに、分割したそ
れぞれの領域の面積を変化させてもよい。
In the second embodiment, the case where the region is divided into two is described, but it goes without saying that the plasma region may be divided into three or more. Further, the area of each divided region may be changed.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のプラズマアドレス表示装置は、
従来のラビング法による配向処理のように薄い基板に直
接力が加わることがないため、基板の破損が発生するこ
とがない。また、照射する光を制御することで、10°
以下のプレチルト角の制御が容易に行えるので、所望の
プレチルト角の設定が簡単にできる。さらに、ダストが
プラズマ室内部に残留するといった問題も生じない。
According to the present invention, there is provided a plasma addressed display device comprising:
Since no direct force is applied to a thin substrate as in the alignment treatment by the conventional rubbing method, the substrate is not damaged. In addition, by controlling the light to be irradiated, 10 °
Since the following control of the pretilt angle can be easily performed, the desired pretilt angle can be easily set. Further, there is no problem that dust remains in the plasma chamber.

【0035】本発明のプラズマアドレス表示装置は、さ
らに中間基板の配向層が複数の領域を有し該複数の領域
は配向状態が異なるので、例えば、軸対称配向を行うた
めの複雑なプロセスを必要とせず簡単に広視野角のプラ
ズマアドレス表示装置を実現することができる。
In the plasma addressed display device of the present invention, since the alignment layer of the intermediate substrate has a plurality of regions and the plurality of regions have different alignment states, for example, a complicated process for performing axially symmetric alignment is required. Thus, a plasma addressed display device having a wide viewing angle can be easily realized.

【0036】本発明のプラズマアドレス表示装置は、さ
らに中間基板の配向層の複数の領域は互いに平行である
ので、マスクパターンとしてはストライプ状の開口部を
形成しておけばよくマスクの設計が容易となる。
In the plasma addressed display device according to the present invention, since a plurality of regions of the alignment layer of the intermediate substrate are parallel to each other, a stripe-shaped opening may be formed as a mask pattern, and the mask can be easily designed. Becomes

【0037】本発明のプラズマアドレス表示装置は、対
向基板がラビング法により配向処理が行われたものであ
るので、基板の厚みにあった配向処理により、簡単でよ
り安定した配向状態を得ることができる。
In the plasma addressed display device of the present invention, since the opposite substrate has been subjected to the alignment treatment by the rubbing method, it is possible to obtain a simple and more stable alignment state by the alignment treatment suitable for the thickness of the substrate. it can.

【0038】本発明のプラズマアドレス表示装置は、中
間基板の厚みは70μm以下であるので、データ電極に
印加する電圧が小さく、結果として、低消費電力のプラ
ズマアドレス表示装置を実現することができる。
In the plasma addressed display device of the present invention, since the thickness of the intermediate substrate is 70 μm or less, the voltage applied to the data electrode is small, and as a result, a plasma addressed display device with low power consumption can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
1の製造工程の一部を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a part of a manufacturing process of a plasma addressed display device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
1の製造工程の一部を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a part of the manufacturing process of the first embodiment of the plasma addressed display device of the present invention.

【図3】本発明のプラズマアドレス表示装置の概略構成
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a plasma addressed display device of the present invention.

【図4】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
2の要部を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a main part of a second embodiment of the plasma addressed display device of the present invention.

【図5】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
2の製造工程の一部を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a part of a manufacturing process of a second embodiment of the plasma addressed display device of the present invention.

【図6】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
2の製造工程の一部を示す図である。
FIG. 6 is a diagram illustrating a part of a manufacturing process of the plasma addressed display device according to the second embodiment of the present invention.

【図7】本発明のプラズマアドレス表示装置の実施形態
2の変形例の要部を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a main part of a modification of the second embodiment of the plasma addressed display device of the present invention.

【図8】従来のプラズマアドレス表示装置の概略構成を
示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a schematic configuration of a conventional plasma addressed display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶層 12 プラズマ室 13 中間基板 14 ガラス基板 15a,15b 放電電極 16 バリアリブ 17 フリットシール 19 液晶シール材 11 対向基板 Reference Signs List 1 liquid crystal layer 12 plasma chamber 13 intermediate substrate 14 glass substrate 15a, 15b discharge electrode 16 barrier rib 17 frit seal 19 liquid crystal sealant 11 counter substrate

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 中間基板を共通基板としてプラズマセル
と液晶セルとが積層形成されてなるプラズマアドレス表
示装置であって、前記液晶セルを構成する対向基板と前
記中間基板との液晶層側にはそれぞれ配向層が形成さ
れ、少なくとも前記中間基板に形成された配向層は光を
照射することにより配向処理が行われたものであること
を特徴とするプラズマアドレス表示装置。
1. A plasma addressed display device comprising a plasma cell and a liquid crystal cell laminated with an intermediate substrate as a common substrate, wherein a liquid crystal layer side of the opposing substrate and the intermediate substrate constituting the liquid crystal cell is provided. A plasma addressed display device, wherein an alignment layer is formed, and at least the alignment layer formed on the intermediate substrate has been subjected to an alignment process by irradiating light.
【請求項2】 前記中間基板の配向層は複数の領域を有
し、該複数の領域は隣り合う2つの領域の配向状態が異
なることを特徴とする請求項1記載のプラズマアドレス
表示装置。
2. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the alignment layer of the intermediate substrate has a plurality of regions, and the plurality of regions have different alignment states between two adjacent regions.
【請求項3】 前記複数の領域は、互いに平行であるこ
とを特徴とする請求項2記載のプラズマアドレス表示装
置。
3. The plasma addressed display device according to claim 2, wherein the plurality of regions are parallel to each other.
【請求項4】 前記対向基板は、ラビング法により配向
処理が行われたものであることを特徴とする請求項1乃
至3に記載のプラズマアドレス表示装置。
4. The plasma addressed display device according to claim 1, wherein the counter substrate has been subjected to an alignment process by a rubbing method.
【請求項5】 前記中間基板の厚みは、70μm以下2
0μm以上であることを特徴とする請求項1乃至4に記
載のプラズマアドレス表示装置。
5. The intermediate substrate has a thickness of 70 μm or less.
The plasma addressed display device according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness is 0 µm or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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