JP2000026457A - Production of 3-aminothiophene derivative - Google Patents

Production of 3-aminothiophene derivative

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JP2000026457A
JP2000026457A JP10193949A JP19394998A JP2000026457A JP 2000026457 A JP2000026457 A JP 2000026457A JP 10193949 A JP10193949 A JP 10193949A JP 19394998 A JP19394998 A JP 19394998A JP 2000026457 A JP2000026457 A JP 2000026457A
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Japan
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copper
derivative
lower alkyl
aminothiophene
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Takashi Yamamoto
隆 山本
Takumi Tokunaga
巧 徳永
Hiroyuki Ito
博之 伊藤
Kazuhisa Kono
和久 河野
Yasuaki Hanazaki
保彰 花崎
Kimio Katsuura
公男 勝浦
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Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a 3-aminothiophene derivative useful as a synthetic intermediate of a medicine, an agrochemical, etc., by reacting each specific thienyl halide derivative with an amine derivative in the presence of a copper catalyst, simply at a low cost in a high purity and in a high yield. SOLUTION: This new 3-aminothiophene derivative expressed by formula III is obtained by reacting a 3-thienyl halide derivative expressed by formula I (R1, R2 are each H, F, a lower alkyl, a lower alkoxy, a lower alkoxycarbonyl or a lower acyl; X is a halogen) with an amine derivative expressed by formula II (R3 is H or a lower alkyl; R4 is H, a lower alkyl or a lower alkyl substituted with hydroxyl) in the presence of a copper catalyst (amount of use is preferably 0.001-1 equivalent based on the derivative of formula I) consisting of a single substance or a mixture of two or more kinds selected from a metallic copper powder, metallic copper granules, a metallic copper wire, cuprous (I) oxide, cuprous (I) chloride, cuprous (I) bromide and cuprous (I) iodide, under a pressure of normal pressure to 1 MPa.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は3−アミノチオフェ
ン誘導体の極めて簡便かつ安価な製造方法に関するもの
である。本発明の製造方法により得られる各種アミノチ
オフェン誘導体は、医薬、農薬等の各種生理活性物質の
合成中間体として使用される等、幅広い分野で用いられ
る。
The present invention relates to a very simple and inexpensive method for producing a 3-aminothiophene derivative. Various aminothiophene derivatives obtained by the production method of the present invention are used in a wide range of fields, such as being used as synthetic intermediates for various physiologically active substances such as pharmaceuticals and agricultural chemicals.

【0002】[0002]

【従来の技術】3−アミノチオフェン誘導体のうち、N
−無置換誘導体を製造する場合については、従来以下の
二通りの方法が知られている。
2. Description of the Related Art Among 3-aminothiophene derivatives, N
-The following two methods are conventionally known for producing unsubstituted derivatives.

【0003】一つは2−チエニルハライドを液体アンモ
ニア中、カリウムアミドで処理して、3−アミノチオフ
ェンを直接製造する方法である[ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエティー(J.Am.Ch
em.Soc.)1968年,90巻,511頁、レキ
ュエイル・デス・トラボウ・シミケス・デス・パイス−
バス(Rec.Trav.Chim.Pays−Ba
s)1974年、93巻、33頁、ヘテロサイクルズ
(Heterocycles)1976年,5巻,37
7頁]。この反応は液体アンモニアまたはカリウムアミ
ドといった毒性または禁水発火性のある薬剤を利用する
ために危険性が高い上、反応系中への水分の侵入を防止
することや、反応温度を極めて低く制御すること等、極
めて複雑な作業を慎重に実施する必要性があり必ずしも
簡便な方法ではなかった。
One is a method of directly producing 3-aminothiophene by treating 2-thienyl halide with potassium amide in liquid ammonia [Journal of American Chemical Society (J. Am. Ch.).
em. Soc. 1968, Vol. 90, p. 511, Recueil des Trabow Simikes des Pais-
Bus (Rec. Trav. Chim. Pays-Ba)
s) 1974, 93, 33 pages, Heterocycles 1976, 5, 37
7 pages]. The reaction is dangerous because it uses toxic or non-water ignitable chemicals, such as liquid ammonia or potassium amide, and prevents water from entering the reaction system and controls the reaction temperature to a very low level. Therefore, it was necessary to carefully perform extremely complicated work, and it was not always a simple method.

【0004】もう一つの方法は3−ブロモチオフェンを
出発原料とし、これとフタルイミドとを反応させて3−
フタルイミドチオフェンを合成し、その後これをテトラ
エチレンペンタミン等のポリアルキレンポリアミン中で
反応させてイミドを分解し、得られた反応混合液から3
−アミノチオフェンを減圧蒸留にて回収する方法である
[特開平1−128980号公報]。しかしこの方法は
多段階の製造工程を必要とし、これも簡便な方法とはい
えない。
Another method uses 3-bromothiophene as a starting material and reacts it with phthalimide to produce 3-bromothiophene.
A phthalimidothiophene was synthesized, and then reacted in a polyalkylenepolyamine such as tetraethylenepentamine to decompose the imide.
-A method of recovering aminothiophene by distillation under reduced pressure [JP-A-1-128980]. However, this method requires a multi-step manufacturing process, which is not a simple method.

【0005】またこれらとは別に、N−アルキル化−3
−アミノチオフェン誘導体を製造する場合については、
上記した3−アミノチオフェンから製造する方法が種々
知られている。例えば3−アミノチオフェンを水素化ホ
ウ素ナトリウム存在下、ホルムアルデヒドと反応させ、
還元的アミノ化反応によってN−メチル−3−アミノチ
オフェンを製造する方法がある[ブレティン・デ・ラ・
ソシエテ・シミーク・デ・フランセ(Bull.So
c.Chim.Fr.)1986年、259頁等]。ま
た、3−アミノチオフェンのアミノ基を適当なカルボン
酸誘導体またはアルデヒド誘導体等でアシル化して相当
するアミド体またはカーバメート体へと誘導し、更にN
−アルキル化を行った後、得られた化合物を適当な還元
剤にて還元処理し、各種N,N−ジアルキル化−3−ア
ミノチオフェン誘導体を製造する方法も知られている
[ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
(J.Org.Chem.)1965年、30巻、66
2頁等]。
[0005] Apart from these, N-alkylated-3
-For producing aminothiophene derivatives,
Various methods for producing from the above-mentioned 3-aminothiophene are known. For example, 3-aminothiophene is reacted with formaldehyde in the presence of sodium borohydride,
There is a method for producing N-methyl-3-aminothiophene by a reductive amination reaction [Bretin de la.
Societe Simik de France (Bull. So
c. Chim. Fr. 1986, 259 pages). In addition, the amino group of 3-aminothiophene is acylated with a suitable carboxylic acid derivative or aldehyde derivative and the like to be converted to a corresponding amide or carbamate,
After alkylation, a method of producing various N, N-dialkylated-3-aminothiophene derivatives by subjecting the obtained compound to a reduction treatment with an appropriate reducing agent is also known [Journal of Organic Chemistry (J. Org. Chem.) 1965, Volume 30, 66
2 pages etc.].

【0006】しかし、これらの方法についてもやはり多
段階の製造工程を必要とする他、原料化合物である3−
アミノチオフェンが室温下で極めて不安定な化合物であ
るため、反応開始までの製造原料の保存および取り扱い
が難しく、必ずしも良好な方法ではなかった[ジャーナ
ル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー
(J.Am.Chem.Soc.)1954年,76
巻,2447頁、レキュエイル・デス・トラボウ・シミ
ケス・デス・パイス−バス(Rec.Trav.Chi
m.Pays−Bas)1982年、101巻、205
頁等]。
However, these methods still require a multi-step production process, and the starting compound 3-
Since aminothiophene is a compound that is extremely unstable at room temperature, it is difficult to store and handle the raw materials until the start of the reaction, and this is not always a good method [Journal of American Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.) 1954, 76
Vol. 2447, Recueil Death Trabow Simikes Des Pais-Bass (Rec. Trav. Chi)
m. Pays-Bas) 1982, 101, 205
Page etc.].

【0007】また、不安定な3−アミノチオフェンを経
由しないN,N−ジアルキル化−3−アミノチオフェン
誘導体の製造方法も幾つか知られている。例えば、3−
チオフェンカルボン酸またはそのエステル誘導体を出発
物質として、まずこれらの化合物のカルボキシル基また
はエステル基をアジド化しカルボニルアジド誘導体を合
成し、これを適当なカルボン酸またはカルボン酸無水物
を用いて分解し、N−アシル化−3−アミノチオフェン
誘導体へと導く。これを前記と同様にN−アルキル化処
理および還元処理を行って各種N,N−ジアルキル化−
3−アミノチオフェン誘導体を製造する方法である[例
えばレキュエイル・デス・トラボウ・シミケス・デス・
パイス−バス(Rec.Trav.Chim.Pays
−Bas)1982年、101巻、205頁、及びジャ
ーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.Or
g.Chem.)1979年、44巻、3292頁
等]。
[0007] Some methods for producing N, N-dialkylated-3-aminothiophene derivatives which do not involve unstable 3-aminothiophene are also known. For example, 3-
Starting from thiophene carboxylic acid or its ester derivative as a starting material, the carboxyl group or ester group of these compounds is azido-treated to synthesize a carbonyl azide derivative, which is decomposed with an appropriate carboxylic acid or carboxylic acid anhydride, Leading to an acylated-3-aminothiophene derivative. This is subjected to N-alkylation treatment and reduction treatment in the same manner as described above to obtain various N, N-dialkylated-
This is a method for producing a 3-aminothiophene derivative [for example, Recueil des Trabom Simikes des.
Pice-Bus (Rec. Trav. Chim. Pays)
-Bas), 1982, 101, 205, and Journal of Organic Chemistry (J. Or.
g. Chem. 1979, 44, 3292, etc.].

【0008】これらのN−アルキル化−3−アミノチオ
フェンの製造方法は、製造原料の不安定さという問題は
解消できるものの、反応行程の段階が更に増えることか
ら、極めて煩雑な作業を必要としていた。また、製造中
間体としてN−アシル化−3−アミノチオフェン誘導体
を経ることにより、その後の還元処理が必要となり、各
種の金属水素錯化合物等の高価な還元剤を必要とする問
題点もあった。
These methods for producing N-alkylated-3-aminothiophenes can solve the problem of instability of the raw materials, but require an extremely complicated operation because the number of steps of the reaction process is further increased. . In addition, after the N-acylated-3-aminothiophene derivative as a production intermediate, a subsequent reduction treatment is required, and there is also a problem that an expensive reducing agent such as various metal hydrogen complex compounds is required. .

【0009】この様に、これら全ての3−アミノチオフ
ェン誘導体の製造方法は、いずれも他段階の製造工程を
有するか、もしくは複雑な処理手順を必要とするもので
あり、簡便に製造する方法はこれまで見いだされていな
かった。また、これら複雑な製造工程や、各種の高価な
処理薬剤または危険性のある薬剤の必要性等に由来し
て、製造コスト面においても必ずしも優れた方法ではな
かった。
As described above, all of the methods for producing 3-aminothiophene derivatives have other steps or require complicated processing procedures. Not previously found. In addition, due to the complicated manufacturing process and the necessity of various expensive treatment chemicals or dangerous chemicals, the production cost is not always excellent.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の製造方法における前記した多くの問題点を解決し、簡
便で安価に所望する各種3−アミノチオフェン誘導体を
製造する方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned many problems in the conventional production method and to provide a simple and inexpensive method for producing various desired 3-aminothiophene derivatives. It is in.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる状
況に鑑み鋭意研究をおこなった結果、出発物質として安
定な3−チエニルハライド誘導体を用い、これと適当な
アミン誘導体とを銅触媒存在下で反応させることによ
り、いずれも同様の方法により一段階でN−無置換の3
−アミノチオフェン誘導体および各種N−アルキル化−
3−アミノチオフェン誘導体の双方を製造できることを
見いだし、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies in view of such a situation, and as a result, have used a stable 3-thienyl halide derivative as a starting material, and combined this with an appropriate amine derivative in the presence of a copper catalyst. The reaction is carried out in the same manner as described above, and in one step, N-unsubstituted 3
-Aminothiophene derivatives and various N-alkylations-
The inventors have found that both 3-aminothiophene derivatives can be produced, and have completed the present invention.

【0012】すなわち本発明は、一般式[1]That is, the present invention provides a compound represented by the general formula [1]:

【0013】[0013]

【化4】 Embedded image

【0014】[式中R1およびR2は同一または相異なっ
て水素原子、フッ素原子、低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、低級アルコキシカルボニル基または低級アシル
基を示す。Xはハロゲン原子を示す。]で表される3−
チエニルハライド誘導体と、一般式[2]
[Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group or a lower acyl group. X represents a halogen atom. 3- represented by
A thienyl halide derivative represented by the general formula [2]:

【0015】[0015]

【化5】 Embedded image

【0016】[式中R3は水素原子または低級アルキル
基を示し、R4は水素原子、低級アルキル基またはヒド
ロキシル基で置換された低級アルキル基を示す]で表さ
れるアミン誘導体とを、銅触媒の存在下、常圧または加
圧下で反応させることを特徴とする、下記一般式[3]
Wherein R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and R 4 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkyl group substituted with a hydroxyl group; The reaction is carried out at normal pressure or under pressure in the presence of a catalyst, characterized by the following general formula [3]:

【0017】[0017]

【化6】 Embedded image

【0018】[式中R1、R2、R3およびR4は前記と同
じ意味を有する]で表される3−アミノチオフェン誘導
体の製造方法である。以下、本発明について、詳しく説
明する。
Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0019】まず最初に本明細書中で用いられる用語の
定義並びにその具体例について説明する。本明細書中に
記述の「低級」なる用語は、特に断らない限り、この語
が付与された基において、炭素数が1個以上6個以下の
直鎖状、分枝状または環状の炭化水素基を含有するもの
であることを示す。
First, definitions of terms used in this specification and specific examples thereof will be described. Unless otherwise specified, the term “lower” as used herein refers to a straight-chain, branched or cyclic hydrocarbon having 1 to 6 carbon atoms in a group to which the term is assigned. It shows that it contains a group.

【0020】よってR1、R2、R3またはR4において用
いられる低級アルキル基としては、具体的には例えばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル(アミル)基、イソペンチル
基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチ
ルブチル基、2−メチルブチル基、1,2−ジメチルプ
ロピル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、1−メチルペ
ンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル
基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチ
ル基、1,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブ
チル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル
基、2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロ
ピル基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチ
ル−1−メチルプロピル基、1−エチル−2−メチルプ
ロピル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等が挙げられる。
Thus, as the lower alkyl group used for R 1 , R 2 , R 3 or R 4 , specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group,
n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, te
rt-butyl group, pentyl (amyl) group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, hexyl group, isohexyl group, 1-methylpentyl Group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3- Dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1,1,2-trimethylpropyl group, 1,2,2-trimethylpropyl group, 1-ethyl-1-methylpropyl group, 1-ethyl-2- Methylpropyl group, cyclopropyl group, cyclopropylmethyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.

【0021】R1基、R2基またはR3基において用いら
れるより好ましい低級アルキル基としては、同一または
異なってメチル基、エチル基、イソプロピル基、シクロ
プロピル基である。またR4基において用いられるアル
キル基としてより好ましくはメチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基またはte
rt−ブチル基である。
More preferred lower alkyl groups used for the R 1 , R 2 or R 3 groups are the same or different and are methyl, ethyl, isopropyl and cyclopropyl. Further, as the alkyl group used for the R 4 group, a methyl group, an ethyl group, and an n-
Propyl, isopropyl, cyclopropyl, n-
Butyl group, isobutyl group, sec-butyl group or te
rt-butyl group.

【0022】また、R1またはR2において用いられる低
級アルコキシ基としては、具体的には例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブ
トキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、te
rt−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、1−メチルブチ
ルオキシ基、2−メチルブチルオキシ基、3−メチルブ
チルオキシ基、1,2−ジメチルプロピルオキシ基、
1,1−ジメチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、1−メチルペンチルオキシ基、1−エチルプロピル
オキシ基、2−メチルペンチルオキシ基、3−メチルペ
ンチルオキシ基、4−メチルペンチルオキシ基、1,2
−ジメチルブチルオキシ基、1,3−ジメチルブチルオ
キシ基、2,3−ジメチルブチルオキシ基、1,1−ジ
メチルブチルオキシ基、2,2−ジメチルブチルオキシ
基、3,3−ジメチルブチルオキシ基等が挙げられる。
より好ましくは、同一または異なってメトキシ基、エト
キシ基またはプロポキシ基である。
Examples of the lower alkoxy group used for R 1 or R 2 include, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, sec-butoxy, te
rt-butoxy group, pentyloxy group, 1-methylbutyloxy group, 2-methylbutyloxy group, 3-methylbutyloxy group, 1,2-dimethylpropyloxy group,
1,1-dimethylpropyloxy group, hexyloxy group, 1-methylpentyloxy group, 1-ethylpropyloxy group, 2-methylpentyloxy group, 3-methylpentyloxy group, 4-methylpentyloxy group, 2
-Dimethylbutyloxy group, 1,3-dimethylbutyloxy group, 2,3-dimethylbutyloxy group, 1,1-dimethylbutyloxy group, 2,2-dimethylbutyloxy group, 3,3-dimethylbutyloxy group And the like.
More preferably, they are the same or different and are a methoxy group, an ethoxy group or a propoxy group.

【0023】R1またはR2において用いられる低級アル
コキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニ
ル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル
基、イソプロポキシカルボニル基、シクロプロポキシカ
ルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカル
ボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−
ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。より好
ましくは同一または異なってメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基である。
The lower alkoxycarbonyl group used for R 1 or R 2 includes, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, cyclopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, isobutoxycarbonyl, sec-butoxycarbonyl group, tert-
Butoxycarbonyl group and the like. More preferably, they are the same or different and are a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a propoxycarbonyl group.

【0024】R1またはR2において用いられる低級アシ
ル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、
1−メチルプロピルカルボニル基、イソバレリル基、ペ
ンチルカルボニル基、1−メチルブチルカルボニル基、
2−メチルブチルカルボニル基、3−メチルブチルカル
ボニル基、1−エチルプロピルカルボニル基、2−エチ
ルプロピルカルボニル基等を挙げることができる。より
好ましくは同一または異なってホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基である。
The lower acyl group used for R 1 or R 2 includes, for example, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group,
1-methylpropylcarbonyl group, isovaleryl group, pentylcarbonyl group, 1-methylbutylcarbonyl group,
Examples thereof include a 2-methylbutylcarbonyl group, a 3-methylbutylcarbonyl group, a 1-ethylpropylcarbonyl group, and a 2-ethylpropylcarbonyl group. More preferably, they are the same or different and are a formyl group, an acetyl group, and a propionyl group.

【0025】R4において用いられるヒドロキシル基で
置換された低級アルキル基としては、ヒドロキシメチル
基、1−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、1−メチル−2−ヒドロキシエチル基、1,1−ジ
メチル−2−ヒドロキシエチル基、2−メチル−2−ヒ
ドロキシエチル基、2−メチル−2−ヒドロキシプロピ
ル基、1−メチル−2−ヒドロキシプロピル基、1−ヒ
ドロキシメチルプロピル基、1−エチル−1−ヒドロキ
シメチルプロピル基、2−エチル−2−ヒドロキシブチ
ル基、2−ヒドロキシブチル基、1−エチル−2−ヒド
ロキシブチル基、3−ヒドロキシプロピル基、2,3−
ジヒドロキシプロピル基、2−メチル−3−ヒドロキシ
プロピル基、2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピ
ル基等が挙げられる。より好ましくは2−ヒドロキシエ
チル基、1−メチル−2−ヒドロキシエチル基、1,1
−ジメチル−2−ヒドロキシエチル基、2−メチル−2
−ヒドロキシエチル基、2−メチル−2−ヒドロキシプ
ロピル基または2,3−ジヒドロキシプロピル基であ
る。
The lower alkyl group substituted by a hydroxyl group used in R 4 includes a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-methyl-2-hydroxyethyl group, a 1,1- Dimethyl-2-hydroxyethyl group, 2-methyl-2-hydroxyethyl group, 2-methyl-2-hydroxypropyl group, 1-methyl-2-hydroxypropyl group, 1-hydroxymethylpropyl group, 1-ethyl-1 -Hydroxymethylpropyl group, 2-ethyl-2-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 1-ethyl-2-hydroxybutyl group, 3-hydroxypropyl group, 2,3-
Examples include a dihydroxypropyl group, a 2-methyl-3-hydroxypropyl group, and a 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl group. More preferably, 2-hydroxyethyl group, 1-methyl-2-hydroxyethyl group, 1,1
-Dimethyl-2-hydroxyethyl group, 2-methyl-2
-Hydroxyethyl group, 2-methyl-2-hydroxypropyl group or 2,3-dihydroxypropyl group.

【0026】また、R1およびR2においては上記した低
級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルコキシカル
ボニル基および低級アシル基の他に、同一または異なっ
て水素原子またはフッ素原子が好ましく用いられる。R
3においては上記した低級アルキル基の他に水素原子が
好ましく用いられる。R4においても上記した低級アル
キル基およびヒドロキシ基で置換された低級アルキル基
の他に水素原子が好ましく用いられる次に、本発明の3
−アミノチオフェン誘導体の製造方法について説明す
る。
In R 1 and R 2 , in addition to the lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkoxycarbonyl group and lower acyl group, the same or different hydrogen atoms or fluorine atoms are preferably used. R
In 3 , a hydrogen atom is preferably used in addition to the lower alkyl group described above. In R 4 , a hydrogen atom is preferably used in addition to the above-mentioned lower alkyl group and lower alkyl group substituted by a hydroxy group.
-The method for producing the aminothiophene derivative will be described.

【0027】本発明による前記一般式[3]で表される
化合物の製造方法とは下記反応式[I]に示されるとお
り、一般式[1]で表される3−チエニルハライド誘導
体と一般式[2]で表されるアミン誘導体とを反応させ
るものである。従来のこれら3−アミノチオフェン誘導
体の製造方法の多くが、多段階の反応工程を必要とする
ものであったのに対し、一段階で簡便に製造できる特徴
を有する。
The method for producing the compound represented by the above general formula [3] according to the present invention is described in the following reaction formula [I], in which a 3-thienyl halide derivative represented by the general formula [1] It reacts with the amine derivative represented by [2]. Many of the conventional methods for producing these 3-aminothiophene derivatives require a multi-step reaction process, but have the characteristic that they can be simply produced in one step.

【0028】反応式[I]Reaction formula [I]

【0029】[0029]

【化7】 Embedded image

【0030】[式中、Xはハロゲン原子を示す。R1
2、R3およびR4は前記と同じ意味を有する。]本反
応は銅触媒を用い、常圧または加圧下、無溶媒あるいは
溶媒中で反応させることにより行われる。
[Wherein, X represents a halogen atom. R 1 ,
R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above. This reaction is carried out using a copper catalyst under normal pressure or pressure under no solvent or in a solvent.

【0031】一般式[I]で表される化合物においてX
はハロゲン原子であって、具体的には塩素、臭素、ヨウ
素等が挙げられる。特に好ましくは臭素原子である。こ
の様な化合物[1]は通常室温で安定な化合物であり、
3−アミノチオフェンと比較して取り扱いが容易であ
り、また長期保存も可能である。またこの化合物[1]
は市販で購入するか、後述する様に文献記載の方法によ
って容易に入手が可能である。
In the compound represented by the general formula [I], X
Is a halogen atom, specifically, chlorine, bromine, iodine and the like. Particularly preferred is a bromine atom. Such a compound [1] is a compound which is usually stable at room temperature,
It is easier to handle than 3-aminothiophene, and can be stored for a long time. This compound [1]
Is commercially available or can be easily obtained by the method described in the literature as described later.

【0032】反応に用いられる銅触媒としては、0価の
金属銅もしくは一価の銅塩が特に好ましく用いられる。
0価の金属銅としては、具体的には例えば金属銅粉、金
属銅粒、金属銅線等が挙げられる。また、一価の銅塩と
しては、具体的には例えば酸化銅(I)、塩化銅
(I)、臭化銅(I)またはヨウ化銅(I)などが挙げ
られる。また、場合により酸化銅(II)、塩化銅(I
I)、臭化銅(II)、ヨウ化銅(II)または酢酸銅
(II)等の二価の銅塩を用いることもできる。
As the copper catalyst used in the reaction, zero-valent metal copper or monovalent copper salt is particularly preferably used.
Specific examples of the zero-valent metallic copper include metallic copper powder, metallic copper particles, metallic copper wire, and the like. Specific examples of the monovalent copper salt include, for example, copper (I) oxide, copper (I) chloride, copper (I) bromide, and copper (I) iodide. In some cases, copper (II) oxide, copper chloride (I
A divalent copper salt such as I), copper (II) bromide, copper (II) iodide or copper (II) acetate can also be used.

【0033】これらの銅触媒は単独で用いてもよく、ま
た2種類以上を混合して用いてもよい。銅触媒の使用量
は好ましくは化合物[1]に対して0.001乃至1当
量、より好ましくは0.1乃至0.5当量である。反応
時の圧力としては好ましくは常圧乃至1メガパスカル
(1MPa)であり、より好ましくは常圧乃至0.5メ
ガパスカル(0.5MPa)である。
These copper catalysts may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of the copper catalyst to be used is preferably 0.001 to 1 equivalent, more preferably 0.1 to 0.5 equivalent, relative to compound [1]. The pressure during the reaction is preferably normal pressure to 1 megapascal (1 MPa), more preferably normal pressure to 0.5 megapascal (0.5 MPa).

【0034】化合物[1]と化合物[2]とはそれぞれ
等モル、あるいは化合物[2]を過剰モル用いて反応す
るのが好ましい。反応溶媒としてはジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、n
−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等のア
ルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、
p−キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ジメチルア
セトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン性極性溶媒等を用いることができ
る。化合物[2]が常温で液体である場合などは、大過
剰量の化合物[2]を溶媒として用いてもよい。本反応
の反応温度および反応時間は、室温乃至200℃で、数
分から24時間の範囲が好ましく用いられるが、原料化
合物である化合物[1]および[2]によってその好適
な値が異なる場合があるため、この範囲に必ずしも限定
されるものではない。
The compound [1] and the compound [2] are preferably reacted with each other in an equimolar amount or in an excess molar amount of the compound [2]. Diethyl ether as a reaction solvent,
Ether solvents such as diisopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, n
-Alcohol solvents such as propyl alcohol and isopropyl alcohol, benzene, toluene, o-xylene,
Aromatic hydrocarbon solvents such as p-xylene, aprotic polar solvents such as dimethylacetamide, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like can be used. When the compound [2] is liquid at room temperature, a large excess amount of the compound [2] may be used as a solvent. The reaction temperature and reaction time of this reaction are preferably from room temperature to 200 ° C. and from several minutes to 24 hours, but the preferred values may differ depending on the starting compounds [1] and [2]. Therefore, it is not necessarily limited to this range.

【0035】また、本反応において、反応を促進する目
的で必要に応じて塩基性物質を添加してもよい。この様
な塩基性物質としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の
無機塩基、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の水素
化アルカリ金属、水素化カルシウム等の水素化アルカリ
土類金属、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウ
ム、tert−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピ
ルアミド等の有機リチウム化合物、ナトリウムエトキシ
ド、カリウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−t
ert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、或
いはピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ン、トリメチレンジアミン、1,8−ジアザ−ビシクロ
[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)等の有機塩
基を挙げることができる。
In this reaction, a basic substance may be added, if necessary, for the purpose of accelerating the reaction. Examples of such a basic substance include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate; and hydrogen such as sodium hydride and lithium hydride. Alkali metal hydrides, alkaline earth metal hydrides such as calcium hydride, n-butyllithium, sec-butyllithium, tert-butyllithium, organolithium compounds such as lithium diisopropylamide, sodium ethoxide, potassium-tert-butoxide, Sodium-t
alkali metal alkoxides such as ert-butoxide; or organic bases such as pyridine, collidine, lutidine, triethylamine, trimethylenediamine, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU). Can be.

【0036】また本反応は、酸化反応および重合反応な
どの不都合な副反応を防止する目的で、不活性ガス雰囲
気中でおこなうことが望ましい。この様な不活性ガスと
しては窒素、ヘリウム、アルゴン等が挙げられる。
This reaction is desirably carried out in an inert gas atmosphere for the purpose of preventing undesired side reactions such as an oxidation reaction and a polymerization reaction. Examples of such an inert gas include nitrogen, helium, and argon.

【0037】上記反応で用いられる原料化合物のうち、
化合物[1]は市販品として購入するか、または文献記
載の方法[ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミスト
リー(J.Org.Chem)1971年,36巻,1
8号,2690頁、同1971年,36巻,24号,3
820頁、シンセシス(Synthesis)1972
年,10号,545頁、シンセティック・コミュニケー
ションズ(Synth.Commun)1981年,1
1巻,1号,25頁、アクタ・ファルマシューティカ・
スエシカ(Acta Pharm.Suec)1978
年,15巻,5号,368頁、ケミカ・スクリプタ(C
kem.Scr.)1980年,16巻,1−2号,3
8頁、アルシーフ・デル・ファルマツィー(Arch.
Pharm.)1991年,324巻,9号,563
頁、およびジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケ
ミストリー(J.Heterocycl.Chem.)
1983年,20巻,1号、113頁等]、およびこれ
らに準ずる方法によって容易に入手が可能である。
Of the starting compounds used in the above reaction,
Compound [1] may be purchased as a commercial product or may be prepared according to the method described in the literature [Journal of Organic Chemistry (J. Org. Chem) 1971, 36, 1].
8, 2690, 1971, 36, 24, 3
820 pages, Synthesis 1972
Year 10, No. 545, Synthetic Communications (Synth. Commun) 1981, 1
Volume 1, Issue 1, Page 25, Acta Pharmaceuticals
Suesika (Ata Pharm. Suec) 1978
Year, Volume 15, Issue 5, p. 368, Chemica Scripta (C
kem. Scr. 1980, Vol. 16, No. 1-2, 3
8, Archif del Falmatzy (Arch.
Pharm. 1991, Vol. 324, No. 9, 563
Pages and the Journal of Heterocyclic Chemistry (J. Heterocycll. Chem.)
1983, Vol. 20, No. 1, p. 113, etc.], and a method analogous thereto.

【0038】また化合物[2]については、その一部は
市販品として購入が可能であり、それ以外のもの(一般
式[2’]で表す。[2’]は全て[2]に含まれ
る。)については例えば下記反応式[II]で示される
ような合成反応により製造が可能である。
A part of the compound [2] can be purchased as a commercial product, and the others (represented by the general formula [2 ']. All [2'] are included in [2]. ) Can be produced, for example, by a synthesis reaction represented by the following reaction formula [II].

【0039】反応式[II]Reaction formula [II]

【0040】[0040]

【化8】 Embedded image

【0041】[式中Yは脱離基である。R3'は前記した
3から水素原子の場合を除いたもの、即ち低級アルキ
ル基を示す。R4は前記と同じ意味を有する。] 上記反応は一般的によく知られたアミンのアルキル化反
応であり、例えば塩基性物質存在下あるいは非存在下、
無溶媒または溶媒中で−80℃ないし100℃で数分か
ら24時間反応させることにより製造できる。一般式
[4]式中Yは脱離基であり、具体的には塩素、臭素、
ヨウ素などのハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ
基、p−トルエンスルホニルオキシ基などのスルホニル
オキシ基等が挙げられる。また、上記反応で用いられる
塩基性物質は、反応式[I]で示された反応において必
要に応じて用いられる塩基性物質と同じものを用いるこ
とができる。
Wherein Y is a leaving group. R 3 ′ is the same as R 3 except for the case of a hydrogen atom, that is, a lower alkyl group. R 4 has the same meaning as described above. The above reaction is a generally well-known alkylation reaction of an amine, for example, in the presence or absence of a basic substance,
It can be produced by reacting at -80 ° C to 100 ° C for several minutes to 24 hours in a solvent-free or solvent. In the general formula [4], Y is a leaving group, specifically, chlorine, bromine,
Examples thereof include a halogen atom such as iodine, and a sulfonyloxy group such as a methanesulfonyloxy group and a p-toluenesulfonyloxy group. As the basic substance used in the above reaction, the same basic substance used as necessary in the reaction represented by the reaction formula [I] can be used.

【0042】また化合物[2]は保存安定性や取り扱い
性の面から、水溶液、メタノール溶液、エタノール溶液
またはエーテル溶液等の各種溶液や、塩酸塩または硫酸
塩等の各種酸付加塩で供給されることがある。このうち
溶液で供給される場合については、溶媒を必ずしも除去
する必要はなくそのまま用いることができる。また、溶
媒を蒸留、減圧留去、抽出等の処理によって除去するこ
とが可能な場合は、溶媒除去後使用することもできる。
各種酸付加塩の状態で供給される場合には、水またはメ
タノール等のアルコールに溶解または分散させた後、前
記した塩基性物質を添加することにより、遊離のアミン
誘導体へ変換した後使用することができる。
The compound [2] is supplied as various solutions such as aqueous solution, methanol solution, ethanol solution or ether solution, or various acid addition salts such as hydrochloride or sulfate from the viewpoint of storage stability and handleability. Sometimes. Among them, when supplied as a solution, the solvent does not necessarily need to be removed and can be used as it is. When the solvent can be removed by a treatment such as distillation, distillation under reduced pressure, or extraction, the solvent can be used after removing the solvent.
When supplied in the form of various acid addition salts, after dissolving or dispersing in water or an alcohol such as methanol, the above-mentioned basic substance is added to convert the compound into a free amine derivative before use. Can be.

【0043】以上述べた各反応工程において、原料とし
て使用される化合物中にヒドロキシル基で置換された低
級アルキル基が存在する場合に、望ましくない副反応が
引き起こされる恐れのある場合は、必要に応じてこのヒ
ドロキシル基を予め保護基によって保護することもでき
る。用いられる保護基としては、一般的な脂肪族水酸基
の保護基であれば特に限定されるものではないが、例え
ばメトキシメチル基、2−メトキシエトキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、t−ブチルジメチルシリル
基、アセチル基、ホルミル基、メトキシカルボニル基な
どが挙げられる。これらの保護基を用いた場合は、前記
の反応後に脱保護される。保護および脱保護の反応条件
としては、一般的によく知られた方法でおこなうことが
できる以上の各工程で得られる本発明の目的化合物また
は原料化合物は、溶媒抽出、蒸留、再結晶、またはカラ
ムクロマトグラフィー等の通常の方法にて単離精製する
ことができる。
In each of the reaction steps described above, if a compound used as a raw material contains a lower alkyl group substituted with a hydroxyl group, an undesirable side reaction may be caused. The lever hydroxyl group can be protected in advance by a protecting group. The protecting group to be used is not particularly limited as long as it is a protecting group for a general aliphatic hydroxyl group. For example, a methoxymethyl group, a 2-methoxyethoxymethyl group,
Examples include a tetrahydropyranyl group, a t-butyldimethylsilyl group, an acetyl group, a formyl group, and a methoxycarbonyl group. When these protecting groups are used, they are deprotected after the above reaction. As the reaction conditions for protection and deprotection, the target compound or the starting compound of the present invention obtained in each of the above steps which can be carried out by a generally well-known method may be subjected to solvent extraction, distillation, recrystallization, or column chromatography. It can be isolated and purified by a usual method such as chromatography.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明の3−アミノチオフェン誘導体の
製造方法によれば、従来の製造方法でしばしば用いられ
ていた複雑な製造工程が必要なく、安定な原料から一段
階で製造できるため、各種3−アミノチオフェン誘導体
の製造が極めて容易になる他、高価な処理薬剤や危険な
薬剤を用いる必要がないため、より安価に製造すること
が可能となる。このため本発明の3−アミノチオフェン
誘導体の製造方法は、これらの誘導体を製造する際の少
量スケールの製造のみならず、工業的な規模の製造に至
るまで幅広く利用が可能である。
According to the method for producing a 3-aminothiophene derivative of the present invention, a complicated production step often used in the conventional production method is not required, and it can be produced in one step from a stable raw material. The production of the 3-aminothiophene derivative becomes extremely easy, and it is not necessary to use an expensive treatment agent or a dangerous agent, so that the production can be performed at lower cost. Therefore, the method for producing a 3-aminothiophene derivative of the present invention can be widely used not only for production on a small scale when producing these derivatives but also for production on an industrial scale.

【0045】[0045]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は本実施例に制限されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0046】実施例1 N−メチル−3−アミノチオフェンの合成 3−ブロモチオフェン75g、メチルアミン40%メタ
ノール溶液280mlおよび酸化銅(I)16.6gを
1リットル容の金属製オートクレーブ容器に入れ、容器
内部を窒素ガスで満たした後、容器を密閉して50℃で
6時間攪拌した。この時の内部の圧力は0.23MPa
であった。反応終了後、得られた反応液をジエチルエー
テル750mlで希釈すると、反応液は2層に分離し
た。このうち上層のみをデカンテーションで静かに取り
出し、酸化銅等からなる若干の不溶物をセライトを用い
たろ過でろ別して除いた。得られたろ液を1N塩酸水溶
液450mlを加えて酸性化した後、ジエチルエーテル
で洗浄した。水層を集め、pH10付近になるまで5N
苛性ソーダ水溶液を加えて中和した。これにエーテルを
加えて繰り替えし抽出した後、有機層を集めて飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧下で留去し、目的とするN−メチル−3−アミノチ
オフェン35gを得た。
Example 1 Synthesis of N-methyl-3-aminothiophene 75 g of 3-bromothiophene, 280 ml of a 40% methanol solution of methylamine and 16.6 g of copper (I) oxide were placed in a 1-liter autoclave made of metal. After filling the inside of the container with nitrogen gas, the container was closed and stirred at 50 ° C. for 6 hours. The internal pressure at this time is 0.23 MPa
Met. After completion of the reaction, the obtained reaction solution was diluted with 750 ml of diethyl ether, and the reaction solution was separated into two layers. Of these, only the upper layer was gently taken out by decantation, and some insolubles composed of copper oxide and the like were removed by filtration using celite. The obtained filtrate was acidified by adding 450 ml of a 1N aqueous hydrochloric acid solution, and then washed with diethyl ether. Collect the aqueous layer, 5N until pH is around 10
Caustic soda aqueous solution was added for neutralization. After ether was added to the mixture and the mixture was repeatedly extracted, the organic layer was collected, washed with saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 35 g of the desired N-methyl-3-aminothiophene.

【0047】1H−NMR(500MHz,CDCl3
δppm)2.83(s,3H),3.65(brs,
1H),5.96(dd,J=1.5,3.0,1
H),6.63(dd,J=1.5,5.0,1H),
7.17(dd,J=3.0,5.0,1H)。
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) 2.83 (s, 3H), 3.65 (brs,
1H), 5.96 (dd, J = 1.5, 3.0, 1
H), 6.63 (dd, J = 1.5, 5.0, 1H),
7.17 (dd, J = 3.0, 5.0, 1H).

【0048】実施例2 N−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−3−アミ
ノチオフェンの合成 3−ブロモチオフェン15g、N−メチルエタノールア
ミン41.5gおよび酸化銅(I)3.3gを窒素雰囲
気下、大気圧、70℃で18時間加熱攪拌した。反応終
了後、反応混合物をセライトでろ過して酸化銅および不
溶物をろ別した後、水300mlを加え、ジエチルエー
テルで抽出した。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去
後、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(展開
溶媒;ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製し、目的
とするN−(2−ヒドロキシエチル)−N−メチル−3
−アミノチオフェン13.2gを得た。
Example 2 Synthesis of N- (2-hydroxyethyl) -N-methyl-3-aminothiophene 15 g of 3-bromothiophene, 41.5 g of N-methylethanolamine and 3.3 g of copper (I) oxide were replaced with nitrogen. Under an atmosphere, the mixture was heated and stirred at atmospheric pressure and 70 ° C. for 18 hours. After completion of the reaction, the reaction mixture was filtered through celite to remove copper oxide and insolubles, and then 300 ml of water was added, followed by extraction with diethyl ether. The collected organic layer was washed with saturated saline and then dried over anhydrous magnesium sulfate. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was purified by silica gel column chromatography (eluent; hexane: ethyl acetate = 6: 1) to obtain the desired N- (2-hydroxyethyl) -N-methyl-3.
-13.2 g of aminothiophene were obtained.

【0049】1H−NMR(500MHz,CDCl3
δppm)(s,1H),2.88(s,3H),3.
33(t,J=5.5Hz,2H),3.75−3.8
1(m,2H),6.02−6.07(m,1H),
6.82−6.86(m,1H),6.05(dd,J
=1.5Hz,1H),6.83(dd,J=1.5H
z,1H),7.22−7.26(m,1H) IR(neat,cm-1) 3360,2940,28
60,1550,1415,1045,745
1 H-NMR (500 MHz, CDCl 3 ,
δ ppm) (s, 1H), 2.88 (s, 3H), 3.
33 (t, J = 5.5 Hz, 2H), 3.75-3.8
1 (m, 2H), 6.02-6.07 (m, 1H),
6.82-6.86 (m, 1H), 6.05 (dd, J
= 1.5 Hz, 1H), 6.83 (dd, J = 1.5H)
z, 1H), 7.22-7.26 (m, 1H) IR (neat, cm -1 ) 3360, 2940, 28
60, 1550, 1415, 1045, 745

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 花崎 保彰 神奈川県藤沢市湘南台四丁目40−9−203 (72)発明者 勝浦 公男 東京都新宿区西落合二丁目23−3 Fターム(参考) 4C023 GA01 4H039 CA42 CA71 CD10 CD20  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Yasuaki Hanasaki 4-40-9-203 Shonandai, Fujisawa-shi, Kanagawa (72) Inventor Kimio Katsuura 2-23-3 Nishi-Ochiai, Shinjuku-ku, Tokyo F-term (reference) 4C023 GA01 4H039 CA42 CA71 CD10 CD20

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式[1] 【化1】 [式中R1およびR2は同一または相異なって水素原子、
フッ素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級
アルコキシカルボニル基または低級アシル基を示す。X
はハロゲン原子を示す。]で表される3−チエニルハラ
イド誘導体と、一般式[2] 【化2】 [式中R3は水素原子または低級アルキル基を示し、R4
は水素原子、低級アルキル基またはヒドロキシル基で置
換された低級アルキル基を示す]で表されるアミン誘導
体とを、銅触媒の存在下、常圧または加圧下で反応させ
ることを特徴とする、下記一般式[3] 【化3】 [式中R1、R2、R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る]で表される3−アミノチオフェン誘導体の製造方
法。
1. A compound of the general formula [1] [Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each represent a hydrogen atom,
It represents a fluorine atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkoxycarbonyl group or a lower acyl group. X
Represents a halogen atom. A 3-thienyl halide derivative represented by the general formula [2]: [Wherein R 3 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, R 4
Represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a lower alkyl group substituted with a hydroxyl group] with an amine derivative represented by the following formula: General formula [3] [Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meanings as described above].
【請求項2】銅触媒が金属銅粉、金属銅粒、金属銅線、
酸化銅(I)、塩化銅(I)、臭化銅(I)、およびヨ
ウ化銅(I)から選ばれた単独物質または二種類以上の
混合物であることを特徴とする請求項1に記載の3−ア
ミノチオフェン誘導体の製造方法。
2. A copper catalyst comprising metallic copper powder, metallic copper particles, metallic copper wire,
The single substance selected from copper oxide (I), copper chloride (I), copper bromide (I), and copper (I) iodide, or a mixture of two or more kinds thereof. A method for producing a 3-aminothiophene derivative of the above.
【請求項3】銅触媒の添加量が一般式[1]で表される
3−チエニルハライド誘導体に対して0.001乃至1
当量であることを特徴とする請求項1又は2に記載の3
−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
3. The amount of the copper catalyst added is 0.001 to 1 with respect to the 3-thienyl halide derivative represented by the general formula [1].
3. The method according to claim 1, wherein the amount is equivalent.
-A method for producing an aminothiophene derivative.
【請求項4】反応時の圧力が常圧乃至1メガパスカルで
あることを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の3
−アミノチオフェン誘導体の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the pressure during the reaction is from normal pressure to 1 megapascal.
-A method for producing an aminothiophene derivative.
【請求項5】Xで表されるハロゲン原子が臭素原子であ
ることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の3−
アミノチオフェン誘導体の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the halogen atom represented by X is a bromine atom.
Method for producing aminothiophene derivative.
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