JP2000026366A - Intermediate carboxylic acid and its production - Google Patents

Intermediate carboxylic acid and its production

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JP2000026366A
JP2000026366A JP10191161A JP19116198A JP2000026366A JP 2000026366 A JP2000026366 A JP 2000026366A JP 10191161 A JP10191161 A JP 10191161A JP 19116198 A JP19116198 A JP 19116198A JP 2000026366 A JP2000026366 A JP 2000026366A
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Japan
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ome
group
carbon atoms
compound
opr
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JP10191161A
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Japanese (ja)
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Masayuki Murakami
正行 村上
Toyonori Takebayashi
▲とよ▼矩 竹林
Hiroshi Tomori
浩 戸森
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Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain new intermediate carboxylic acids useful as intermediates for synthesizing an ACAT inhibitor and an antilipidimic agent comprising respectively specific carboxylic acids. SOLUTION: The new carboxylic acids are compounds of formula I (R1 is a 2-12C alkyl; R2a, R2b and R2d are each H or the like; R2c and R2e are each a 1-4C alkoxy or the like; R3 is H or the like), e.g. methyl (Z)-3-(2,4- dimethoxyphenyl)oct-2-enoate. The compound of formula I is obtained by reacting a lactone compound of formula II with 3-10 equiv. (1-4C) alkyl halide (e.g. methyl iodide, or the like) in an inert solvent (e.g. N,N-dimethylformamide, or the like) in the presence of 1-10 equiv. base (e.g. barium hydroxide, etc.) pref. at 10-40 deg.C for 2-30 h. to produce an ester compound of cis form of formula III and then by reacting the compound of formula III with 1-10 equiv. base (e.g. sodium hydroxide, or the like) in the presence of a water-containing inert solvent (e.g. methanol, or the like) pref. at 30-100 deg.C for 30 min.-5 h. to hydrolyze the compound of formula III.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はACAT(アシルCo-A:
コレステロールアシルトランスフェラーゼ)阻害剤の合
成中間体として有用なカルボン酸類及びその製造法に関
する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to ACAT (acyl Co-A:
The present invention relates to carboxylic acids useful as synthetic intermediates for cholesterol acyltransferase) inhibitors and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】式2. Description of the Related Art

【0003】[0003]

【化7】 (式中、R'1は炭素数1乃至12個のアルキル基等を示
し、R'2a、R'2b、R'2c及びR'2dは水素原子等を示
す。)を有する光学活性化合物(A)は極めて優れたACA
T阻害剤の合成中間体として利用され、抗高脂血症剤の
合成中間体として有用である(例えば、特開平9-143137
号公報等)。そして、化合物(A)は下記に示されるよ
うに、イソシアネート化合物に変換され、アニリン化合
物との反応によって、極めて優れたACAT阻害作用を有す
る化合物(B)に導かれている。
Embedded image (Wherein R ′ 1 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and R ′ 2a , R ′ 2b , R ′ 2c and R ′ 2d represent a hydrogen atom and the like). A) is an excellent ACA
It is used as a synthetic intermediate of a T inhibitor, and is useful as a synthetic intermediate of an antihyperlipidemic agent (see, for example, JP-A-9-143137).
No.). Then, the compound (A) is converted into an isocyanate compound as shown below, and is led to a compound (B) having an extremely excellent ACAT inhibitory action by reaction with an aniline compound.

【0004】[0004]

【化8】 又、この化合物(A)は2、4-ジメトキシベンズアルデヒド
を出発原料としマロン酸との縮合反応やアルキルマグネ
シウムハライド試薬の共役付加反応を含む4工程にてラ
セミ体を合成し、(S)-フェニルエチルアミンを用いた光
学分割によって製造されている。
Embedded image In addition, this compound (A) was synthesized from 2,4-dimethoxybenzaldehyde as a starting material in four steps including a condensation reaction with malonic acid and a conjugate addition reaction of an alkylmagnesium halide reagent, to give (S) -phenyl It is manufactured by optical resolution using ethylamine.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法は危険性の高いアルキルマグネシウムハライドを使用
し、光学分割においては再結晶を繰り返すという操作の
煩雑さに加え、収率が低い等の問題を有し、工業的には
不向きである。
However, this method has problems such as the use of alkylmagnesium halides having a high risk, the complicated operation of repeating recrystallization in optical resolution, and the low yield. However, it is not industrially suitable.

【0006】本発明者らはこれらの問題点を解決し、工
業的な製法を確立する目的で鋭意研究を行った結果、ク
マリン誘導体より高収率で誘導される新規なシス−カル
ボン酸類を光学活性な配位子をもつ遷移金属触媒を用い
た不斉接触還元を行うことにより,化合物(A)を含む飽
和カルボン酸類を簡便かつ高収率で製造できることを見
出し、本発明を完成した。
The present inventors have made intensive studies to solve these problems and to establish an industrial production method. As a result, the present inventors have developed novel cis-carboxylic acids derived from coumarin derivatives in higher yield. The inventors have found that asymmetric carboxylic acids containing compound (A) can be produced easily and in high yield by performing asymmetric catalytic reduction using a transition metal catalyst having an active ligand, and completed the present invention.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、一般式According to the present invention, there is provided a compound of the general formula

【0008】[0008]

【化9】 (式中、R1は炭素数2乃至12個のアルキル基を示し、
2a、R2b及びR2dは、同一または異なって、水素原
子、炭素数1乃至12個のアルキル基、フッ素原子1乃
至6個で置換された炭素数1乃至4個のアルキル基、保護
されたアミノ基、水酸基、保護された水酸基又は炭素数
1乃至4個のアルコキシ基を示し、R2c及びR2eは、炭素
数1乃至4個のアルコキシ基を示すか、或はR 2bとR2c
一緒になって、炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ
基又は炭素数3乃至6個のシクロアルキレンジオキシ基
を示し、R3は、水素原子又は炭素数1乃至4個のアルキ
ル基を示す。)を有するシス−カルボン酸類及びその製
造法並びにこの化合物を用いる、一般式
Embedded image(Where R1Represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms,
R2a, R2bAnd R2dAre the same or different
, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 1 fluorine atom
Alkyl group of 1 to 4 carbon atoms substituted with up to 6 carbon atoms, protection
Protected amino group, hydroxyl group, protected hydroxyl group or carbon number
Represents 1 to 4 alkoxy groups;2cAnd R2eIs carbon
Represents an alkoxy group of 1 to 4 or R 2bAnd R2cBut
Together, alkylene dioxy having 1 to 6 carbon atoms
Group or cycloalkylenedioxy group having 3 to 6 carbon atoms
And RThreeIs a hydrogen atom or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms.
Represents a hydroxyl group. Cis-carboxylic acids having the formula
General formula using this method and this compound

【0009】[0009]

【化10】 (式中、R1、R2a、R2b、R2c、R2d及びR3は前述し
たものと同意義を示す。)を有する飽和カルボン酸類の
製造法である。
Embedded image (Wherein, R 1 , R 2a , R 2b , R 2c , R 2d and R 3 have the same meanings as described above).

【0010】化合物(I)及び化合物(III)のR1の定義に
於ける炭素数2乃至12個のアルキル基は、例えば、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、
イソペンチル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル
基、1−エチルプロピル基、n-ヘキシル基、4−メチル
ペンチル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチ
ル基、1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、2,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチ
ル基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブ
チル基、2,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル
基、ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル
基、5−メチルヘキシル基、1−プロピルブチル基、
4,4−ジメチルペンチル基、オクチル基、1−メチル
ヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、
6−メチルヘプチル基、1−プロピルペンチル基、2−
エチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、ノニ
ル基、3−メチルオクチル基、4−メチルオクチル基、
5−メチルオクチル基、6−メチルオクチル基、1−プ
ロピルヘキシル基、2−エチルヘプチル基、6,6−ジ
メチルヘプチル基、デシル基、1−メチルノニル基、3
−メチルノニル基、8−メチルノニル基、3−エチルオ
クチル基、3,7−ジメチルオクチル基、7,7−ジメ
チルオクチル基、ウンデシル基、4,8−ジメチルノニ
ル基又はドデシル基のような炭素数2乃至12個の直鎖
又は分枝鎖アルキル基であり、好適には、炭素数2乃至
12個の直鎖のアルキル基であり、更に好適には、炭素
数2乃至8個の直鎖のアルキル基であり、最も好適に
は、炭素数4乃至6個の直鎖のアルキル基である。
The alkyl group having 2 to 12 carbon atoms in the definition of R 1 in the compounds (I) and (III) is, for example, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s- Butyl group, t-butyl group, pentyl group,
Isopentyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group, 1-ethylpropyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3- Dimethylbutyl, 2,2-dimethylbutyl, 1,1-dimethylbutyl, 1,2-dimethylbutyl, 1,3-dimethylbutyl, 2,3-dimethylbutyl, 2-ethylbutyl, heptyl Group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1-propylbutyl group,
4,4-dimethylpentyl group, octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group,
6-methylheptyl group, 1-propylpentyl group, 2-
Ethylhexyl group, 5,5-dimethylhexyl group, nonyl group, 3-methyloctyl group, 4-methyloctyl group,
5-methyloctyl group, 6-methyloctyl group, 1-propylhexyl group, 2-ethylheptyl group, 6,6-dimethylheptyl group, decyl group, 1-methylnonyl group, 3
2 carbon atoms such as -methylnonyl, 8-methylnonyl, 3-ethyloctyl, 3,7-dimethyloctyl, 7,7-dimethyloctyl, undecyl, 4,8-dimethylnonyl or dodecyl; To 12 straight-chain or branched alkyl groups, preferably a straight-chain alkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and more preferably a straight-chain alkyl group having 2 to 8 carbon atoms. And most preferably a linear alkyl group having 4 to 6 carbon atoms.

【0011】R2a、R2b及びR2dの定義に於ける炭素数
1乃至12個のアルキル基は、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、イ
ソペンチル基、2−メチルブチル基、ネオペンチル基、
1−エチルプロピル基、ヘキシル基、4−メチルペンチ
ル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、
1−メチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、1,1−ジメチルブチル
基、1,2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチ
ル基、2,3−ジメチルブチル基、2−エチルブチル
基、ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル
基、5−メチルヘキシル基、1−プロピルブチル基、
4,4−ジメチルペンチル基、オクチル基、1−メチル
ヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチ
ル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、
6−メチルヘプチル基、1−プロピルペンチル基、2−
エチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、ノニ
ル基、3−メチルオクチル基、4−メチルオクチル基、
5−メチルオクチル基、6−メチルオクチル基、1−プ
ロピルヘキシル基、2−エチルヘプチル基、6,6−ジ
メチルヘプチル基、デシル基、1−メチルノニル基、3
−メチルノニル基、8−メチルノニル基、3−エチルオ
クチル基、3,7−ジメチルオクチル基、7,7−ジメ
チルオクチル基、ウンデシル基、4,8−ジメチルノニ
ル基又はドデシル基のような炭素数1乃至12個の直鎖
又は分枝鎖アルキル基であり、好適には、炭素数1乃至
12個の直鎖のアルキル基であり、更に好適には、炭素
数1乃至4個の直鎖のアルキル基であり、特に好適に
は、メチル基又はエチル基であり、最も好適には、メチ
ル基である。
The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms in the definition of R 2a , R 2b and R 2d is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl. Group, t-butyl group, pentyl group, isopentyl group, 2-methylbutyl group, neopentyl group,
1-ethylpropyl group, hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group,
1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group,
2,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, heptyl group, 1- Methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1-propylbutyl group,
4,4-dimethylpentyl group, octyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group,
6-methylheptyl group, 1-propylpentyl group, 2-
Ethylhexyl group, 5,5-dimethylhexyl group, nonyl group, 3-methyloctyl group, 4-methyloctyl group,
5-methyloctyl group, 6-methyloctyl group, 1-propylhexyl group, 2-ethylheptyl group, 6,6-dimethylheptyl group, decyl group, 1-methylnonyl group, 3
1-carbon group such as -methylnonyl group, 8-methylnonyl group, 3-ethyloctyl group, 3,7-dimethyloctyl group, 7,7-dimethyloctyl group, undecyl group, 4,8-dimethylnonyl group or dodecyl group A straight-chain or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, preferably a straight-chain alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and more preferably a straight-chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Group, particularly preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.

【0012】R2a、R2b及びR2dの定義に於けるフッ素
原子1乃至6個で置換された炭素数1乃至4個のアルキル基
は、例えば、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、
トリフルオロメチル基、1-フルオロエチル基、2-フルオ
ロエチル基、1、1-ジフルオロエチル基、1、2-ジフルオロ
エチル基、2、2-ジフルオロエチル基、1,1,1-トリフルオ
ロエチル基、1,1,2-トリフルオロエチル基、1,2,2-トリ
フルオロエチル基、1,1,2,2-テトラフルオロエチル基、
1,1,1,2,2-ペンタフルオロエチル基、1,1,2,2,3,3-ヘキ
サフルオロ-3-プロピル基、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオ
ロ-3-プロピル基、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロ
ピル基又は1,1,1-トリフルオロ-4-ブチル基であり、好
適には、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリ
フルオロメチル基、1-フルオロエチル基又は2-フルオロ
エチル基であり、最も好適には、トリフルオロメチル基
である。
In the definition of R 2a , R 2b and R 2d , an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms substituted by 1 to 6 fluorine atoms is, for example, a fluoromethyl group, a difluoromethyl group,
Trifluoromethyl group, 1-fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 1,2-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 1,1,1-trifluoroethyl Group, 1,1,2-trifluoroethyl group, 1,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group,
1,1,1,2,2-pentafluoroethyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-propyl group, 1,1,1,2,3,3-hexafluoro- 3-propyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group or 1,1,1-trifluoro-4-butyl group, preferably a fluoromethyl group, difluoro It is a methyl group, a trifluoromethyl group, a 1-fluoroethyl group or a 2-fluoroethyl group, and most preferably a trifluoromethyl group.

【0013】R2a、R2b及びR2dの定義に於ける保護さ
れたアミノ基のアミノ基の保護基は、例えば、ベンゾイ
ル基、メチルベンゾイル基、メトキシベンゾイル基、フ
ルオロベンゾイル基、クロロベンゾイル基、ナフトイル
基のような炭素数1乃至4個のアルキル、炭素数1乃至
4個のアコキシ若しくはハロゲンで置換されても良い炭
素数6乃至10個の芳香族アシル基;ホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、ピバロイル基の
ような炭素数1乃至5個の脂肪族アシル基;メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基又はt−ブトキシカルボ
ニル基のような炭素数2乃至5個のアルコキシカルボニ
ル基であり、好適には、ベンゾイル基、炭素数2乃至4
個の脂肪族アシル基又は、炭素数2乃至3個のアルコキ
シカルボニル基又はt−ブトキシカルボニル基であり、
最も好適には、アセチル基である。
The amino-protecting group of the protected amino group in the definition of R 2a , R 2b and R 2d includes, for example, benzoyl, methylbenzoyl, methoxybenzoyl, fluorobenzoyl, chlorobenzoyl, C1-C4 alkyl such as naphthoyl group, C1-C4 akoxy, or C6-C10 aromatic acyl group which may be substituted with halogen; formyl group, acetyl group, propionyl group An aliphatic acyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as butyryl group and pivaloyl group; and 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group or t-butoxycarbonyl group. Alkoxycarbonyl groups, preferably a benzoyl group, having 2 to 4 carbon atoms.
Aliphatic acyl groups or an alkoxycarbonyl group having 2 to 3 carbon atoms or a t-butoxycarbonyl group,
Most preferably, it is an acetyl group.

【0014】R2a、R2b及びR2dの定義に於ける保護さ
れた水酸基の水酸基の保護基は、例えば、前記アミノ基
の保護基における炭素数1乃至4個のアルキル、炭素数
1乃至4個のアコキシ若しくはハロゲンで置換されても
良い炭素数6乃至10個の芳香族アシル基又は炭素数1
乃至5個の脂肪族アシル基;ベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、フルオロベンジル基、クロ
ロベンジル基のような炭素数1乃至4個のアルキル、炭
素数1乃至4個のアコキシ若しくはハロゲンで置換され
ても良いベンジル基;トリチル基;トリメチルシリル
基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、
t-ブチルジメチルシリル基のようなトリ−炭素数1乃至
4個のアルキルシリル基;メトキシメチル基;メトキシ
エトキシメチル基;ベンジルオキシメチル基、メチルベ
ンジルオキシメチル基、メトキシベンジルオキシメチル
基、フルオロベンジルオキシメチル基、クロロベンジル
オキシメチル基のような炭素数1乃至4個のアルキル、
炭素数1乃至4個のアコキシ若しくはハロゲンで置換さ
れても良いベンジルオキシメチル基;テトラヒドロピラ
ニル基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシ
カルボニル基、ブトキシカルボニル基のような炭素数2
乃至5個のアルコキシカルボニル基;又はベンジルオキ
シカルボニル基、メチルベンジルオキシカルボニル基、
メトキシベンジルオキシカルボニル基、フルオロベンジ
ルオキシカルボニル基、クロロベンジルオキシカルボニ
ル基のような炭素数1乃至4個のアルキル、炭素数1乃
至4個のアコキシ若しくはハロゲンで置換されても良い
ベンジルオキシカルボニル基であり、好適には、アセチ
ル基又はベンゾイル基である。
In the definition of R 2a , R 2b and R 2d , the hydroxyl-protecting group of the protected hydroxyl group may be, for example, alkyl having 1 to 4 carbon atoms or 1 to 4 carbon atoms in the amino-protecting group. Aromatic alkoxy groups having 6 to 10 carbon atoms which may be substituted with two akoxy or halogen atoms or 1 carbon atoms
5 to 5 aliphatic acyl groups; alkyl having 1 to 4 carbons such as benzyl, methylbenzyl, methoxybenzyl, fluorobenzyl, and chlorobenzyl, akoxy or halogen having 1 to 4 carbons A benzyl group which may be substituted; a trityl group; a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, a triisopropylsilyl group,
tri-C 1-4 alkylsilyl groups such as t-butyldimethylsilyl group; methoxymethyl group; methoxyethoxymethyl group; benzyloxymethyl group, methylbenzyloxymethyl group, methoxybenzyloxymethyl group, fluorobenzyl Alkyl having 1 to 4 carbon atoms such as oxymethyl group, chlorobenzyloxymethyl group,
A benzyloxymethyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted by akoxy or halogen; tetrahydropyranyl group; such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, butoxycarbonyl group Carbon number 2
From 5 to 5 alkoxycarbonyl groups; or a benzyloxycarbonyl group, a methylbenzyloxycarbonyl group,
A benzyloxycarbonyl group which may be substituted with an alkyl having 1 to 4 carbons, an alkoxy or a halogen having 1 to 4 carbons such as a methoxybenzyloxycarbonyl group, a fluorobenzyloxycarbonyl group, a chlorobenzyloxycarbonyl group; And preferably acetyl or benzoyl.

【0015】R2a、R2b、R2c、R2d及びR2eの定義に
於ける炭素数1乃至4個のアルコキシ基は、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ基又は
t−ブトキシ基のような炭素数1乃至4個の直鎖又は分
枝鎖アルコキシ基であり、好適には、メトキシ基又はエ
トキシ基であり、最も好適には、メトキシ基である。
The alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms in the definition of R 2a , R 2b , R 2c , R 2d and R 2e is, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group. An isobutoxy group, an s-butoxy group or
It is a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a t-butoxy group, preferably a methoxy group or an ethoxy group, and most preferably a methoxy group.

【0016】R2bとR2cが一緒になって形成する炭素数
1乃至4個のアルキレンジオキシ基は、例えば、メチレ
ンジオキシ、メチルメチレンジオキシ、ジメチルメチレ
ンジオキシ、メチル(エチル)メチレンジオキシ、エチ
レンジオキシ又はトリメチレンジオキシ基であり、好適
には、メチレンジオキシ、メチルメチレンジオキシ又は
ジメチルメチレンジオキシ基であり、最も好適には、メ
チレンジオキシ基である。
An alkylenedioxy group having 1 to 4 carbon atoms formed by R 2b and R 2c together includes, for example, methylenedioxy, methylmethylenedioxy, dimethylmethylenedioxy, methyl (ethyl) methylenedioxy It is an oxy, ethylenedioxy or trimethylenedioxy group, preferably a methylenedioxy, methylmethylenedioxy or dimethylmethylenedioxy group, and most preferably a methylenedioxy group.

【0017】R2bとR2cが一緒になって形成する炭素数
3乃至6個のシクロアルキリデンジオキシ基は、例え
ば、シクロプロピリデンジオキシ、シクロブチリデンジ
オキシ、シクロペンチリデンジオキシ又はシクロヘキシ
リデンジオキシ基であり、好適には、シクロペンチリデ
ンジオキシ又はシクロヘキシリデンジオキシ基であり、
最も好適には、シクロヘキシリデンジオキシ基である。
The cycloalkylidenedioxy group having 3 to 6 carbon atoms formed by R 2b and R 2c together is, for example, cyclopropylidenedioxy, cyclobutylidenedioxy, cyclopentylidenedioxy or cyclohexylidene. A dendioxy group, preferably a cyclopentylidenedioxy or cyclohexylidenedioxy group,
Most preferably, it is a cyclohexylidenedioxy group.

【0018】R3の定義における炭素数1乃至4個のア
ルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブ
チル基又はt−ブチル基であり、好適には、メチル基又
はエチル基であり、最も好適には、メチル基である。
The alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in the definition of R 3 is, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl or t-butyl. , Preferably a methyl group or an ethyl group, and most preferably a methyl group.

【0019】一般式(I)を有する化合物は、好適には、
(1)R1が炭素数2乃至8個を有するアルキル基であ
る化合物、(2)R1が炭素数4乃至6個を有するアル
キル基である化合物、(3)R2aが水素原子又は炭素数
1乃至4個のアルコキシ基であり、R2bが水素原子又は
炭素数1乃至4個のアルコキシ基であり、R2cが炭素数
1乃至4個のアルコキシ基であり、R2dが水素原子、メ
チル基又はエチル基であり、R2eが炭素数1乃至4個の
アルコキシ基である化合物、(4)R2aが水素原子、メ
トキシ基又はエトキシ基であり、R2bが水素原子、メト
キシ基又はエトキシ基であり、R2cがメトキシ基又はエ
トキシ基であり、R2dが水素原子又はメチル基であり、
2eがメトキシ基又はエトキシ基である化合物、(5)
2aが水素原子又はメトキシ基であり、R2bが水素原子
であり、R2cがメトキシ基又はエトキシ基であり、R2d
が水素原子又はメチル基であり、R2eがメトキシ基又は
エトキシ基である化合物、(6)R3が水素原子、メチ
ル基又はエチル基である化合物又は(7)R3が水素原
子である化合物をあげることができる。
The compound having the general formula (I) is preferably
(1) Compound R 1 is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, (2) compounds wherein R 1 is an alkyl group having 4 to 6 carbon atoms, (3) R 2a is hydrogen or C R 2b is a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, R 2c is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, R 2d is a hydrogen atom, A compound in which R 2e is a methyl group or an ethyl group, R 2e is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, (4) R 2a is a hydrogen atom, a methoxy group or an ethoxy group, and R 2b is a hydrogen atom, a methoxy group or An ethoxy group, R 2c is a methoxy group or an ethoxy group, R 2d is a hydrogen atom or a methyl group,
A compound wherein R 2e is a methoxy group or an ethoxy group, (5)
R 2a is a hydrogen atom or a methoxy group, R 2b is a hydrogen atom, R 2c is a methoxy group or an ethoxy group, and R 2d
Is a hydrogen atom or a methyl group and R 2e is a methoxy group or an ethoxy group; (6) a compound wherein R 3 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group; or (7) a compound wherein R 3 is a hydrogen atom Can be given.

【0020】又、R1を(1)又は(2)から選択し、
2a乃至R2eを(3)乃至(5)から選択し、R3
(6)又は(7)から選択し、それらを任意に組合せて
得られる化合物も好適であり、例えば、(8)R1が炭
素数2乃至8個を有するアルキル基であり、R2aが水素
原子又は炭素数1乃至4個のアルコキシ基であり、R2b
が水素原子又は炭素数1乃至4個のアルコキシ基であ
り、R2cが炭素数1乃至4個のアルコキシ基であり、R
2dが水素原子、メチル基又はエチル基であり、R2eが炭
素数1乃至4個のアルコキシ基であり、R3が水素原
子、メチル基又はエチル基である化合物(9)R1が炭
素数2乃至8個を有するアルキル基であり、R2aが水素
原子、メトキシ基又はエトキシ基であり、R2bが水素原
子、メトキシ基又はエトキシ基であり、R2cがメトキシ
基又はエトキシ基であり、R2dが水素原子又はメチル基
であり、R2eがメトキシ基又はエトキシ基であり、R3
が水素原子、メチル基又はエチル基である化合物又は
(10)R1が炭素数4乃至6個を有するアルキル基で
あり、R2aが水素原子又はメトキシ基であり、R2bが水
素原子であり、R2cがメトキシ基又はエトキシ基であ
り、R2dが水素原子又はメチル基であり、R2eがメトキ
シ基又はエトキシ基であり、R3が水素原子である化合
物をあげることができる。
Further, R 1 is selected from (1) or (2),
Compounds obtained by selecting R 2a to R 2e from (3) to (5) and selecting R 3 from (6) or (7) and arbitrarily combining them are also suitable, for example, (8) R 1 is an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms, R 2a is a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and R 2b
Is a hydrogen atom or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, R 2c is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
2d is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, R 2e is the number 1 to 4 alkoxy groups carbons, R 3 is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group compound (9) R 1 carbon atoms An alkyl group having 2 to 8, R 2a is a hydrogen atom, a methoxy group or an ethoxy group, R 2b is a hydrogen atom, a methoxy group or an ethoxy group, R 2c is a methoxy group or an ethoxy group, R 2d is a hydrogen atom or a methyl group, R 2e is methoxy or ethoxy, R 3
Is a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, or (10) R 1 is an alkyl group having 4 to 6 carbon atoms, R 2a is a hydrogen atom or a methoxy group, and R 2b is a hydrogen atom. , R 2c is a methoxy group or an ethoxy group, R 2d is a hydrogen atom or a methyl group, R 2e is a methoxy group or an ethoxy group, and R 3 is a hydrogen atom.

【0021】次に、本発明の一般式(I)を有する化合
物の具体例を表1及び表2に例示する。表中の略号は以
下の基を示す。 Me:メチル基、Et:エチル基、Pr:プロピル基、Bu:ブ
チル基、Pn:ペンチル基、Hx:ヘキシル基、Hp:ヘプチ
ル基、Oc:オクチル基
Next, specific examples of the compound having the general formula (I) of the present invention are shown in Tables 1 and 2. The abbreviations in the table indicate the following groups. Me: methyl group, Et: ethyl group, Pr: propyl group, Bu: butyl group, Pn: pentyl group, Hx: hexyl group, Hp: heptyl group, Oc: octyl group

【0022】[0022]

【表1】[Table 1]

【0023】[0023]

【化11】 化合物番号 R1 R2a R2b R2c R2d R2e R3 1-1 Et H H OMe H OMe Me 1-2 Pr H H OMe H OMe Me 1-3 Bu H H OMe H OMe Me 1-4 Pn H H OMe H OMe Me 1-5 Hx H H OMe H OMe Me 1-6 Hp H H OMe H OMe Me 1-7 Oc H H OMe H OMe Me 1-8 Et H H OEt H OMe Me 1-9 Pr H H OEt H OMe Me 1-10 Bu H H OEt H OMe Me 1-11 Pn H H OEt H OMe Me 1-12 Hx H H OEt H OMe Me 1-13 Hp H H OEt H OMe Me 1-14 Oc H H OEt H OMe Me 1-15 Et H H OPr H OMe Me 1-16 Pr H H OPr H OMe Me 1-17 Bu H H OPr H OMe Me 1-18 Pn H H OPr H OMe Me 1-19 Hx H H OPr H OMe Me 1-20 Hp H H OPr H OMe Me 1-21 Oc H H OPr H OMe Me 1-22 Et H H OBu H OMe Me 1-23 Pr H H OBu H OMe Me 1-24 Bu H H OBu H OMe Me 1-25 Pn H H OBu H OMe Me 1-26 Hx H H OBu H OMe Me 1-27 Hp H H OBu H OMe Me 1-28 Oc H H OBu H OMe Me 1-29 Et H H OMe Me OMe Me 1-30 Pr H H OMe Me OMe Me 1-31 Bu H H OMe Me OMe Me 1-32 Pn H H OMe Me OMe Me 1-33 Hx H H OMe Me OMe Me 1-34 Hp H H OMe Me OMe Me 1-35 Oc H H OMe Me OMe Me 1-36 Et H H OEt Me OMe Me 1-37 Pr H H OEt Me OMe Me 1-38 Bu H H OEt Me OMe Me 1-39 Pn H H OEt Me OMe Me 1-40 Hx H H OEt Me OMe Me 1-41 Hp H H OEt Me OMe Me 1-42 Oc H H OEt Me OMe Me 1-43 Et H H OPr Me OMe Me 1-44 Pr H H OPr Me OMe Me 1-45 Bu H H OPr Me OMe Me 1-46 Pn H H OPr Me OMe Me 1-47 Hx H H OPr Me OMe Me 1-48 Hp H H OPr Me OMe Me 1-49 Oc H H OPr Me OMe Me 1-50 Et H H OBu Me OMe Me 1-51 Pr H H OMe Me OMe Me 1-52 Bu H H OMe Me OMe Me 1-53 Pn H H OMe Me OMe Me 1-54 Hx H H OMe Me OMe Me 1-55 Hp H H OMe Me OMe Me 1-56 Oc H H OMe Me OMe Me 1-57 Et OMe H OMe H OMe Me 1-58 Pr OMe H OMe H OMe Me 1-59 Bu OMe H OMe H OMe Me 1-60 Pn OMe H OMe H OMe Me 1-61 Hx OMe H OMe H OMe Me 1-62 Hp OMe H OMe H OMe Me 1-63 Oc OMe H OMe H OMe Me 1-64 Et OMe H OEt H OMe Me 1-65 Pr OMe H OEt H OMe Me 1-66 Bu OMe H OEt H OMe Me 1-67 Pn OMe H OEt H OMe Me 1-68 Hx OMe H OEt H OMe Me 1-69 Hp OMe H OEt H OMe Me 1-70 Oc OMe H OEt H OMe Me 1-71 Et OMe H OPr H OMe Me 1-72 Pr OMe H OPr H OMe Me 1-73 Bu OMe H OPr H OMe Me 1-74 Pn OMe H OPr H OMe Me 1-75 Hx OMe H OPr H OMe Me 1-76 Hp OMe H OPr H OMe Me 1-77 Oc OMe H OPr H OMe Me 1-78 Et OMe H OBu H OMe Me 1-79 Pr OMe H OBu H OMe Me 1-80 Bu OMe H OBu H OMe Me 1-81 Pn OMe H OBu H OMe Me 1-82 Hx OMe H OBu H OMe Me 1-83 Hp OMe H OBu H OMe Me 1-84 Oc OMe H OBu H OMe Me 1-85 Et OEt H OEt H OMe Me 1-86 Pr OEt H OEt H OMe Me 1-87 Bu OEt H OEt H OMe Me 1-88 Pn OEt H OEt H OMe Me 1-89 Hx OEt H OEt H OMe Me 1-90 Hp OEt H OEt H OMe Me 1-91 Oc OEt H OEt H OMe Me 1-92 Et OPr H OPr H OMe Me 1-93 Pr OPr H OPr H OMe Me 1-94 Bu OPr H OPr H OMe Me 1-95 Pn OPr H OPr H OMe Me 1-96 Hx OPr H OPr H OMe Me 1-97 Hp OPr H OPr H OMe Me 1-98 Oc OPr H OPr H OMe Me 1-99 Et OBu H OBu H OMe Me 1-100 Pr OBu H OBu H OMe Me 1-101 Bu OBu H OBu H OMe Me 1-102 Pn OBu H OBu H OMe Me 1-103 Hx OBu H OBu H OMe Me 1-104 Hp OBu H OBu H OMe Me 1-105 Oc OBu H OBu H OMe Me 1-106 Et H OMe OMe H OMe Me 1-107 Pr H OMe OMe H OMe Me 1-108 Bu H OMe OMe H OMe Me 1-109 Pn H OMe OMe H OMe Me 1-110 Hx H OMe OMe H OMe Me 1-111 Hp H OMe OMe H OMe Me 1-112 Oc H OMe OMe H OMe Me 1-113 Et H OEt OEt H OMe Me 1-114 Pr H OEt OEt H OMe Me 1-115 Bu H OEt OEt H OMe Me 1-116 Pn H OEt OEt H OMe Me 1-117 Hx H OEt OEt H OMe Me 1-118 Hp H OEt OEt H OMe Me 1-119 Oc H OEt OEt H OMe Me 1-120 Et H OPr OPr H OMe Me 1-121 Pr H OPr OPr H OMe Me 1-122 Bu H OPr OPr H OMe Me 1-123 Pn H OPr OPr H OMe Me 1-124 Hx H OPr OPr H OMe Me 1-125 Hp H OPr OPr H OMe Me 1-126 Oc H OPr OPr H OMe Me 1-127 Et H OBu OBu H OMe Me 1-128 Pr H OBu OBu H OMe Me 1-129 Bu H OBu OBu H OMe Me 1-130 Pn H OBu OBu H OMe Me 1-131 Hx H OBu OBu H OMe Me 1-132 Hp H OBu OBu H OMe Me 1-133 Oc H OBu OBu H OMe Me 1-134 Et H OCH2O H OMe Me 1-135 Pr H OCH2O H OMe Me 1-136 Bu H OCH2O H OMe Me 1-137 Pn H OCH2O H OMe Me 1-138 Hx H OCH2O H OMe Me 1-139 Hp H OCH2O H OMe Me 1-140 Oc H OCH2O H OMe Me Embedded image Compound number R 1 R 2a R 2b R 2c R 2d R 2e R 3 1-1 Et HH OMe H OMe Me 1-2 Pr HH OMe H OMe Me 1-3 Bu HH OMe H OMe Me 1-4 Pn HH OMe H OMe Me 1-5 Hx HH OMe H OMe Me 1-6 Hp HH OMe H OMe Me 1-7 Oc HH OMe H OMe Me 1-8 Et HH OEt H OMe Me 1-9 Pr HH OEt H OMe Me 1-10 Bu HH OEt H OMe Me 1-11 Pn HH OEt H OMe Me 1 -12 Hx HH OEt H OMe Me 1-13 Hp HH OEt H OMe Me 1-14 Oc HH OEt H OMe Me 1-15 Et HH OPr H OMe Me 1-16 Pr HH OPr H OMe Me 1-17 Bu HH OPr H OMe Me 1-18 Pn HH OPr H OMe Me 1-19 Hx HH OPr H OMe Me 1-20 Hp HH OPr H OMe Me 1-21 Oc HH OPr H OMe Me 1-22 Et HH OBu H OMe Me 1- 23 Pr HH OBu H OMe Me 1-24 Bu HH OBu H OMe Me 1-25 Pn HH OBu H OMe Me 1-26 Hx HH OBu H OMe Me 1-27 Hp HH OBu H OMe Me 1-28 Oc HH OBu H OMe Me 1-29 Et HH OMe Me OMe Me 1-30 Pr HH OMe Me OMe Me 1-31 Bu HH OMe Me OMe Me 1-32 Pn HH OMe Me OMe Me 1-33 Hx HH OMe Me OMe Me 1-34 Hp HH OMe Me OMe Me 1-35 Oc HH OMe Me OMe Me 1-36 Et HH OEt Me OMe Me 1-37 Pr HH OEt Me OMe Me 1-38 Bu HH OEt Me OMe Me 1-39 Pn HH OEt Me OMe Me 1-40 Hx HH OEt Me OMe Me 1-41 Hp HH OEt Me OMe Me 1-42 Oc HH O Et Me OMe Me 1-43 Et HH OPr Me OMe Me 1-44 Pr HH OPr Me OMe Me 1-45 Bu HH OPr Me OMe Me 1-46 Pn HH OPr Me OMe Me 1-47 Hx HH OPr Me OMe Me 1 -48 Hp HH OPr Me OMe Me 1-49 Oc HH OPr Me OMe Me 1-50 Et HH OBu Me OMe Me 1-51 Pr HH OMe Me OMe Me 1-52 Bu HH OMe Me OMe Me 1-53 Pn HH OMe Me OMe Me 1-54 Hx HH OMe Me OMe Me 1-55 Hp HH OMe Me OMe Me 1-56 Oc HH OMe Me OMe Me 1-57 Et OMe H OMe H OMe Me 1-58 Pr OMe H OMe H OMe Me 1-59 Bu OMe H OMe H OMe Me 1-60 Pn OMe H OMe H OMe Me 1-61 Hx OMe H OMe H OMe Me 1-62 Hp OMe H OMe H OMe Me 1-63 Oc OMe H OMe H OMe Me 1-64 Et OMe H OEt H OMe Me 1-65 Pr OMe H OEt H OMe Me 1-66 Bu OMe H OEt H OMe Me 1-67 Pn OMe H OEt H OMe Me 1-68 Hx OMe H OEt H OMe Me 1-69 Hp OMe H OEt H OMe Me 1-70 Oc OMe H OEt H OMe Me 1-71 Et OMe H OPr H OMe Me 1-72 Pr OMe H OPr H OMe Me 1-73 Bu OMe H OPr H OMe Me 1-74 Pn OMe H OPr H OMe Me 1-75 Hx OMe H OPr H OMe Me 1-76 Hp OMe H OPr H OMe Me 1-77 Oc OMe H OPr H OMe Me 1-78 Et OMe H OBu H OMe Me 1-79 Pr OMe H OBu H OMe Me 1-80 Bu OMe H OB u H OMe Me 1-81 Pn OMe H OBu H OMe Me 1-82 Hx OMe H OBu H OMe Me 1-83 Hp OMe H OBu H OMe Me 1-84 Oc OMe H OBu H OMe Me 1-85 Et OEt H OEt H OMe Me 1-86 Pr OEt H OEt H OMe Me 1-87 Bu OEt H OEt H OMe Me 1-88 Pn OEt H OEt H OMe Me 1-89 Hx OEt H OEt H OMe Me 1-90 Hp OEt H OEt H OMe Me 1-91 Oc OEt H OEt H OMe Me 1-92 Et OPr H OPr H OMe Me 1-93 Pr OPr H OPr H OMe Me 1-94 Bu OPr H OPr H OMe Me 1-95 Pn OPr H OPr H OMe Me 1-96 Hx OPr H OPr H OMe Me 1-97 Hp OPr H OPr H OMe Me 1-98 Oc OPr H OPr H OMe Me 1-99 Et OBu H OBu H OMe Me 1-100 Pr OBu H OBu H OMe Me 1-101 Bu OBu H OBu H OMe Me 1-102 Pn OBu H OBu H OMe Me 1-103 Hx OBu H OBu H OMe Me 1-104 Hp OBu H OBu H OMe Me 1-105 Oc OBu H OBu H OMe Me 1-106 Et H OMe OMe H OMe Me 1-107 Pr H OMe OMe H OMe Me 1-108 Bu H OMe OMe H OMe Me 1-109 Pn H OMe OMe H OMe Me 1-110 Hx H OMe OMe H OMe Me 1-111 Hp H OMe OMe H OMe Me 1-112 Oc H OMe OMe H OMe Me 1-113 Et H OEt OEt H OMe Me 1-114 Pr H OEt OEt H OMe Me 1-115 Bu H OEt OEt H OMe Me 1-116 Pn H OEt OEt H OMe Me 1-117 Hx H OEt OEt H OMe Me 1-118 Hp H OEt OEt H OMe Me 1-119 Oc H OEt OEt H OMe Me 1-120 Et H OPr OPr H OMe Me 1-121 Pr H OPr OPr H OMe Me 1-122 Bu H OPr OPr H OMe Me 1-123 Pn H OPr OPr H OMe Me 1-124 Hx H OPr OPr H OMe Me 1-125 Hp H OPr OPr H OMe Me 1-126 Oc H OPr OPr H OMe Me 1-127 Et H OBu OBu H OMe Me 1-128 Pr H OBu OBu H OMe Me 1-129 Bu H OBu OBu H OMe Me 1-130 Pn H OBu OBu H OMe Me 1-131 Hx H OBu OBu H OMe Me 1-132 Hp H OBu OBu H OMe Me 1-133 Oc H OBu OBu H OMe Me 1-134 Et H OCH 2 OH OMe Me 1-135 Pr H OCH 2 OH OMe Me 1-136 Bu H OCH 2 OH OMe Me 1-137 Pn H OCH 2 OH OMe Me 1-138 Hx H OCH 2 OH OMe Me 1-139 Hp H OCH 2 OH OMe Me 1-140 Oc H OCH 2 OH OMe Me

【0024】[0024]

【表2】[Table 2]

【0025】[0025]

【化12】 化合物番号 R1 R2a R2b R2c R2d R2e 2-1 Et H H OMe H OMe 2-2 Pr H H OMe H OMe 2-3 Bu H H OMe H OMe 2-4 Pn H H OMe H OMe 2-5 Hx H H OMe H OMe 2-6 Hp H H OMe H OMe 2-7 Oc H H OMe H OMe 2-8 Et H H OEt H OMe 2-9 Pr H H OEt H OMe 2-10 Bu H H OEt H OMe 2-11 Pn H H OEt H OMe 2-12 Hx H H OEt H OMe 2-13 Hp H H OEt H OMe 2-14 Oc H H OEt H OMe 2-15 Et H H OPr H OMe 2-16 Pr H H OPr H OMe 2-17 Bu H H OPr H OMe 2-18 Pn H H OPr H OMe 2-19 Hx H H OPr H OMe 2-20 Hp H H OPr H OMe 2-21 Oc H H OPr H OMe 2-22 Et H H OBu H OMe 2-23 Pr H H OBu H OMe 2-24 Bu H H OBu H OMe 2-25 Pn H H OBu H OMe 2-26 Hx H H OBu H OMe 2-27 Hp H H OBu H OMe 2-28 Oc H H OBu H OMe 2-29 Et H H OMe Me OMe 2-30 Pr H H OMe Me OMe 2-31 Bu H H OMe Me OMe 2-32 Pn H H OMe Me OMe 2-33 Hx H H OMe Me OMe 2-34 Hp H H OMe Me OMe 2-35 Oc H H OMe Me OMe 2-36 Et H H OEt Me OMe 2-37 Pr H H OEt Me OMe 2-38 Bu H H OEt Me OMe 2-39 Pn H H OEt Me OMe 2-40 Hx H H OEt Me OMe 2-41 Hp H H OEt Me OMe 2-42 Oc H H OEt Me OMe 2-43 Et H H OPr Me OMe 2-44 Pr H H OPr Me OMe 2-45 Bu H H OPr Me OMe 2-46 Pn H H OPr Me OMe 2-47 Hx H H OPr Me OMe 2-48 Hp H H OPr Me OMe 2-49 Oc H H OPr Me OMe 2-50 Et H H OBu Me OMe 2-51 Pr H H OMe Me OMe 2-52 Bu H H OMe Me OMe 2-53 Pn H H OMe Me OMe 2-54 Hx H H OMe Me OMe 2-55 Hp H H OMe Me OMe 2-56 Oc H H OMe Me OMe 2-57 Et OMe H OMe H OMe 2-58 Pr OMe H OMe H OMe 2-59 Bu OMe H OMe H OMe 2-60 Pn OMe H OMe H OMe 2-61 Hx OMe H OMe H OMe 2-62 Hp OMe H OMe H OMe 2-63 Oc OMe H OMe H OMe 2-64 Et OMe H OEt H OMe 2-65 Pr OMe H OEt H OMe 2-66 Bu OMe H OEt H OMe 2-67 Pn OMe H OEt H OMe 2-68 Hx OMe H OEt H OMe 2-69 Hp OMe H OEt H OMe 2-70 Oc OMe H OEt H OMe 2-71 Et OMe H OPr H OMe 2-72 Pr OMe H OPr H OMe 2-73 Bu OMe H OPr H OMe 2-74 Pn OMe H OPr H OMe 2-75 Hx OMe H OPr H OMe 2-76 Hp OMe H OPr H OMe 2-77 Oc OMe H OPr H OMe 2-78 Et OMe H OBu H OMe 2-79 Pr OMe H OBu H OMe 2-80 Bu OMe H OBu H OMe 2-81 Pn OMe H OBu H OMe 2-82 Hx OMe H OBu H OMe 2-83 Hp OMe H OBu H OMe 2-84 Oc OMe H OBu H OMe 2-85 Et OEt H OEt H OMe 2-86 Pr OEt H OEt H OMe 2-87 Bu OEt H OEt H OMe 2-88 Pn OEt H OEt H OMe 2-89 Hx OEt H OEt H OMe 2-90 Hp OEt H OEt H OMe 2-91 Oc OEt H OEt H OMe 2-92 Et OPr H OPr H OMe 2-93 Pr OPr H OPr H OMe 2-94 Bu OPr H OPr H OMe 2-95 Pn OPr H OPr H OMe 2-96 Hx OPr H OPr H OMe 2-97 Hp OPr H OPr H OMe 2-98 Oc OPr H OPr H OMe 2-99 Et OBu H OBu H OMe 2-100 Pr OBu H OBu H OMe 2-101 Bu OBu H OBu H OMe 2-102 Pn OBu H OBu H OMe 2-103 Hx OBu H OBu H OMe 2-104 Hp OBu H OBu H OMe 2-105 Oc OBu H OBu H OMe 2-106 Et H OMe OMe H OMe 2-107 Pr H OMe OMe H OMe 2-108 Bu H OMe OMe H OMe 2-109 Pn H OMe OMe H OMe 2-110 Hx H OMe OMe H OMe 2-111 Hp H OMe OMe H OMe 2-112 Oc H OMe OMe H OMe 2-113 Et H OEt OEt H OMe 2-114 Pr H OEt OEt H OMe 2-115 Bu H OEt OEt H OMe 2-116 Pn H OEt OEt H OMe 2-117 Hx H OEt OEt H OMe 2-118 Hp H OEt OEt H OMe 2-119 Oc H OEt OEt H OMe 2-120 Et H OPr OPr H OMe 2-121 Pr H OPr OPr H OMe 2-122 Bu H OPr OPr H OMe 2-123 Pn H OPr OPr H OMe 2-124 Hx H OPr OPr H OMe 2-125 Hp H OPr OPr H OMe 2-126 Oc H OPr OPr H OMe 2-127 Et H OBu OBu H OMe 2-128 Pr H OBu OBu H OMe 2-129 Bu H OBu OBu H OMe 2-130 Pn H OBu OBu H OMe 2-131 Hx H OBu OBu H OMe 2-132 Hp H OBu OBu H OMe 2-133 Oc H OBu OBu H OMe 2-134 Et H OCH2O H OMe 2-135 Pr H OCH2O H OMe 2-136 Bu H OCH2O H OMe 2-137 Pn H OCH2O H OMe 2-138 Hx H OCH2O H OMe 2-139 Hp H OCH2O H OMe 2-140 Oc H OCH2O H OMe 好適には、 (1) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ペンタ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−
1) (2) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ヘキサ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−
2) (3) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ヘプタ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−
3) (4) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
オクタ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−
4) (5) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ノナ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−5) (6) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
デカ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−6) (7) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ウンデカ−2−エン酸メチルエステル(化合物番号1−
7) (8) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ペンタ−2−エン酸(化合物番号2−1) (9) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニル)
ヘキサ−2−エン酸(化合物番号2−2) (10) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニ
ル)ヘプタ−2−エン酸(化合物番号2−3) (11) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニ
ル)オクタ−2−エン酸(化合物番号2−4) (12) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニ
ル)ノナ−2−エン酸(化合物番号2−5) (13) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニ
ル)デカ−2−エン酸(化合物番号2−6) (14) (Z)−3−(2,4−ジメトキシフェニ
ル)ウンデカ−2−エン酸(化合物番号2−7)であ
り、より好適には(3)、(4)、(5)、(10)、
(11)、または(12)の化合物である。
Embedded image  Compound number R1 R2a R2b R2c R2d R2e 2-1 Et HH OMe H OMe 2-2 Pr HH OMe H OMe 2-3 Bu HH OMe H OMe 2-4 Pn HH OMe H OMe 2-5 Hx HH OMe H OMe 2-6 Hp HH OMe H OMe 2- 7 Oc HH OMe H OMe 2-8 Et HH OEt H OMe 2-9 Pr HH OEt H OMe 2-10 Bu HH OEt H OMe 2-11 Pn HH OEt H OMe 2-12 Hx HH OEt H OMe 2-13 Hp HH OEt H OMe 2-14 Oc HH OEt H OMe 2-15 Et HH OPr H OMe 2-16 Pr HH OPr H OMe 2-17 Bu HH OPr H OMe 2-18 Pn HH OPr H OMe 2-19 Hx HH OPr H OMe 2-20 Hp HH OPr H OMe 2-21 Oc HH OPr H OMe 2-22 Et HH OBu H OMe 2-23 Pr HH OBu H OMe 2-24 Bu HH OBu H OMe 2-25 Pn HH OBu H OMe 2-26 Hx HH OBu H OMe 2-27 Hp HH OBu H OMe 2-28 Oc HH OBu H OMe 2-29 Et HH OMe Me OMe 2-30 Pr HH OMe Me OMe 2-31 Bu HH OMe Me OMe 2- 32 Pn HH OMe Me OMe 2-33 Hx HH OMe Me OMe 2-34 Hp HH OMe Me OMe 2-35 Oc HH OMe Me OMe 2-36 Et HH OEt Me OMe 2-37 Pr HH OEt Me OMe 2-38 Bu HH OEt Me OMe 2-39 Pn HH OEt Me OMe 2-40 Hx HH OEt Me OMe 2-41 Hp HH OEt Me OMe 2-42 Oc HH OEt Me OMe 2-43 Et HH OPr Me OMe 2-44 Pr HH OPr Me OMe 2-45 Bu HH OPr Me OMe 2- 46 Pn HH OPr Me OMe 2-47 Hx HH OPr Me OMe 2-48 Hp HH OPr Me OMe 2-49 Oc HH OPr Me OMe 2-50 Et HH OBu Me OMe 2-51 Pr HH OMe Me OMe 2-52 Bu HH OMe Me OMe 2-53 Pn HH OMe Me OMe 2-54 Hx HH OMe Me OMe 2-55 Hp HH OMe Me OMe 2-56 Oc HH OMe Me OMe 2-57 Et OMe H OMe H OMe 2-58 Pr OMe H OMe H OMe 2-59 Bu OMe H OMe H OMe 2-60 Pn OMe H OMe H OMe 2-61 Hx OMe H OMe H OMe 2-62 Hp OMe H OMe H OMe 2-63 Oc OMe H OMe H OMe 2 -64 Et OMe H OEt H OMe 2-65 Pr OMe H OEt H OMe 2-66 Bu OMe H OEt H OMe 2-67 Pn OMe H OEt H OMe 2-68 Hx OMe H OEt H OMe 2-69 Hp OMe H OEt H OMe 2-70 Oc OMe H OEt H OMe 2-71 Et OMe H OPr H OMe 2-72 Pr OMe H OPr H OMe 2-73 Bu OMe H OPr H OMe 2-74 Pn OMe H OPr H OMe 2- 75 Hx OMe H OPr H OMe 2-76 Hp OMe H OPr H OMe 2-77 Oc OMe H OPr H OMe 2-78 Et OMe H OBu H OMe 2-79 Pr OMe H OBu H OMe 2-80 Bu OMe H OBu H OMe 2-81 Pn OMe H OBu H OMe 2-82 Hx OMe H OBu H OMe 2-83 Hp OMe H OBu H OMe 2-84 Oc OMe H OBu H OMe 2-85 Et OEt H OEt H OMe 2-86 Pr OEt H OEt H OMe 2-87 Bu OEt H OEt H OMe 2-88 Pn OEt H OEt H OMe 2-89 Hx OEt H OEt H OMe 2-90 Hp OEt H OEt H OMe 2-91 Oc OEt H OEt H OMe 2-92 Et OPr H OPr H OMe 2-93 Pr OPr H OPr H OMe 2-94 Bu OPr H OPr H OMe 2-95 Pn OPr H OPr H OMe 2-96 Hx OPr H OPr H OMe 2-97 Hp OPr H OPr H OMe 2-98 Oc OPr H OPr H OMe 2-99 Et OBu H OBu H OMe 2-100 Pr OBu H OBu H OMe 2-101 Bu OBu H OBu H OMe 2-102 Pn OBu H OBu H OMe 2-103 Hx OBu H OBu H OMe 2-104 Hp OBu H OBu H OMe 2-105 Oc OBu H OBu H OMe 2-106 Et H OMe OMe H OMe 2-107 Pr H OMe OMe H OMe 2-108 Bu H OMe OMe H OMe 2-109 Pn H OMe OMe H OMe 2-110 Hx H OMe OMe H OMe 2-111 Hp H OMe OMe H OMe 2-112 Oc H OMe OMe H OMe 2-113 Et H OEt OEt H OMe 2-114 Pr H OEt OEt H OMe 2-115 Bu H OEt OEt H OMe 2 -116 Pn H OEt OEt H OMe 2-117 Hx H OEt OEt H OMe 2-118 Hp H OEt OEt H OMe 2-119 Oc H OEt OEt H OMe 2-120 Et H OPr OPr H OMe 2-121 Pr H OPr OPr H OMe 2-122 Bu H OPr OPr H OMe 2-123 Pn H OPr OPr H OMe 2-124 Hx H OPr OPr H OMe 2-125 Hp H OPr OPr H OMe 2-126 Oc H OPr OPr H OMe 2- 127 Et H OBu OBu H OMe 2-128 Pr H OBu OB u H OMe 2-129 Bu H OBu OBu H OMe 2-130 Pn H OBu OBu H OMe 2-131 Hx H OBu OBu H OMe 2-132 Hp H OBu OBu H OMe 2-133 Oc H OBu OBu H OMe 2- 134 Et H OCHTwoO H OMe 2-135 Pr H OCHTwoO H OMe 2-136 Bu H OCHTwoO H OMe 2-137 Pn H OCHTwoO H OMe 2-138 Hx H OCHTwoO H OMe 2-139 Hp H OCHTwoO H OMe 2-140 Oc H OCHTwoO H OMe Preferably, (1) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Penta-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-
1) (2) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Hex-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-
2) (3) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Hept-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-
3) (4) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Octa-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-
4) (5) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Nona-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-5) (6) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Deca-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-6) (7) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Undec-2-enoic acid methyl ester (Compound No. 1-
7) (8) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Penta-2-enoic acid (Compound No. 2-1) (9) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
Hex-2-enoic acid (Compound No. 2-2) (10) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
B) Hept-2-enoic acid (Compound No. 2-3) (11) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
B) Oct-2-enoic acid (Compound No. 2-4) (12) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
L) Nona-2-enoic acid (Compound No. 2-5) (13) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
B) Dec-2-enoic acid (Compound No. 2-6) (14) (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl)
G) undec-2-enoic acid (Compound No. 2-7)
And more preferably (3), (4), (5), (10),
The compound of (11) or (12).

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】本発明の化合物は以下の方法によ
り容易に製造される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compounds of the present invention are easily produced by the following methods.

【0027】[0027]

【化13】 上記式中、R1、R2a、R2b、R2c、R2d及びR3は前述
したものと同意義を示す。
Embedded image In the above formula, R 1 , R 2a , R 2b , R 2c , R 2d and R 3 have the same meaning as described above.

【0028】第A1工程はシス−エステル化合物(Ia)
を製造する工程で、不活性溶剤中、塩基の存在下、ラク
トン化合物(II)を炭素数1乃至4個のアルキルハライ
ドと反応させることによって行われる。
Step A1 is a cis-ester compound (Ia)
Is carried out by reacting the lactone compound (II) with an alkyl halide having 1 to 4 carbon atoms in an inert solvent in the presence of a base.

【0029】使用される炭素数1乃至4個のアルキルハ
ライドは、例えば、ヨウ化メチル、臭化メチル、ヨウ化
エチル、臭化エチル、ヨウ化プロピル、臭化プロピル、
ヨウ化ブチル、臭化ブチル又は塩化ブチルであり、好適
には、ヨウ化メチル、ヨウ化エチル又は臭化エチルであ
り、最も好適には、ヨウ化メチルである。又、使用され
るアルキルハライドの量は3〜10当量である。
The alkyl halide having 1 to 4 carbon atoms used is, for example, methyl iodide, methyl bromide, ethyl iodide, ethyl bromide, propyl iodide, propyl bromide,
It is butyl iodide, butyl bromide or butyl chloride, preferably methyl iodide, ethyl iodide or ethyl bromide, most preferably methyl iodide. The amount of the alkyl halide used is 3 to 10 equivalents.

【0030】使用される塩基は、例えば、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、
水酸化マグネシウムのようなアルカリ土類金属水酸化
物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸化物又は炭酸水素リチウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金
属炭酸水素化物であり、好適には、アルカリ金属水酸化
物又はアルカリ土類金属水酸化物であり、更に好適に
は、アルカリ土類金属水酸化物であり、最も好適には、
水酸化バリウムである。又、使用される塩基の量は1乃
至10当量である。使用される不活性溶媒は、例えば、
N,N-ジメチルホルムアミド又はN,N-ジメチルアセトアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類; N-メチル-2-ピロリドン; 1,3-ジメチ
ル-2-イミダゾリジノン; 1,3-ジメチル-3,4,5,6-テト
ラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン;ベンゼン、トルエン、
キシレン又はメシチレンのような芳香族炭化水素類;ア
セトニトリルのようなニトリル類;又はジエチルエーテ
ル、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン又は1,2-ジメ
トキシエタンのようなエーテル類であり、好適には、ア
ミド類又はスルホキシド類であり、更に好適には、N,N-
ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシドであり、特に好適にはN,N-ジメチル
ホルムアミドである。
The base used is, for example, an alkali metal hydroxide such as lithium hydroxide, sodium hydroxide or potassium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide,
Alkaline earth metal hydroxides such as magnesium hydroxide, alkali metal carbonates such as lithium carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate or alkali metal hydrogencarbonates such as lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate Yes, preferably an alkali metal hydroxide or an alkaline earth metal hydroxide, more preferably an alkaline earth metal hydroxide, most preferably
Barium hydroxide. The amount of the base used is 1 to 10 equivalents. The inert solvent used is, for example,
Amides such as N, N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide; Sulfoxides such as dimethylsulfoxide; N-methyl-2-pyrrolidone; 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone; -Dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone; benzene, toluene,
Aromatic hydrocarbons such as xylene or mesitylene; nitriles such as acetonitrile; or ethers such as diethyl ether, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxyethane, preferably an amide. Or sulfoxides, more preferably N, N-
Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and dimethylsulfoxide, particularly preferably N, N-dimethylformamide.

【0031】反応温度は、通常、0℃乃至100℃であ
り、好適には、10℃乃至40℃であり、反応時間は、
反応温度等により異なるが、1時間乃至48時間であ
り、好適には、2時間乃至30時間である。
The reaction temperature is usually from 0 ° C. to 100 ° C., preferably from 10 ° C. to 40 ° C.
Although it depends on the reaction temperature and the like, it is 1 hour to 48 hours, preferably 2 hours to 30 hours.

【0032】反応終了後、本工程の目的化合物は常法に
従って反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
から適宜、溶剤を留去し、水を加えて、酢酸エチルのよ
うな水不混和性溶剤で抽出し、抽出液を乾燥し、溶剤を
留去することによって得ることができる。更に、必要に
より、常法、例えば、カラムクロマトグラフィー等によ
り更に精製することもできる。
After completion of the reaction, the target compound of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, it can be obtained by appropriately distilling off the solvent from the reaction mixture, adding water, extracting with a water-immiscible solvent such as ethyl acetate, drying the extract, and distilling off the solvent. Further, if necessary, it can be further purified by a conventional method, for example, column chromatography or the like.

【0033】第A2工程は、所望の加水分解の工程で、
加水分解反応は、含水不活性溶剤中、化合物(Ia)を
塩基と反応させることにより達成される。
Step A2 is a desired hydrolysis step.
The hydrolysis reaction is achieved by reacting compound (Ia) with a base in a water-containing inert solvent.

【0034】使用される塩基は、例えば、前記第A1工
程で使用されるものであり、好適には、アルカリ金属水
酸化物であり、更に好適には、水酸化ナトリウムであ
る。又、使用される塩基の量は1〜10当量である。
The base used is, for example, the one used in the above-mentioned step A1, and is preferably an alkali metal hydroxide, more preferably sodium hydroxide. The amount of the base used is 1 to 10 equivalents.

【0035】反応温度は、通常0℃乃至150℃であ
り、好適には、30℃乃至100℃であり、反応時間は
試薬の種類や量、反応温度等により異なるが、15分間
乃至10時間であり、好適には、30分間乃至5時間で
ある。
The reaction temperature is usually from 0 ° C. to 150 ° C., preferably from 30 ° C. to 100 ° C. The reaction time varies depending on the type and amount of the reagent, the reaction temperature and the like. Yes, preferably for 30 minutes to 5 hours.

【0036】使用される不活性溶媒は、例えば、メタノ
ール、エタノール、2-プロパノール、1-プロパノール又
は2-メチル-2-プロパノールのようなアルコール類; N,
N-ジメチルホルムアミド又はN,N-ジメチルアセトアミド
のようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類; N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2
-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒド
ロ-2(1H)-ピリミジノン;ベンゼン、トルエン、キシレ
ン又はメシチレンのような芳香族炭化水素類;アセトニ
トリルのようなニトリル類;ジエチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、1,3-ジオキサン又は1,2-ジメトキシエタ
ンのようなエーテル類であり、好適にはアルコール類で
あり、特に好適には、メタノール又はエタノールであ
る。なお、不活性溶媒はすべて1当量以上の水を含む。
The inert solvents used are, for example, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol or 2-methyl-2-propanol;
Amides such as N-dimethylformamide or N, N-dimethylacetamide; Sulfoxides such as dimethylsulfoxide; N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2
-Imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2 (1H) -pyrimidinone; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene or mesitylene; nitriles such as acetonitrile Ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane or 1,2-dimethoxyethane, preferably alcohols, particularly preferably methanol or ethanol. In addition, all inert solvents contain one equivalent or more of water.

【0037】反応終了後、本工程の目的化合物は常法に
従って反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
を濃縮し、水を加え、酸で溶液を酸性にしてから、酢酸
エチルのような水不混和性溶剤で抽出し、抽出液を乾燥
し、溶剤を留去することによって得ることができる。更
に、必要により、常法、例えば、再結晶法、カラムクロ
マトグラフィー等により更に精製することもできる。
After completion of the reaction, the target compound of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, concentrating the reaction mixture, adding water, acidifying the solution with an acid, extracting with a water-immiscible solvent such as ethyl acetate, drying the extract, and distilling off the solvent. Can be. Further, if necessary, it can be further purified by a conventional method, for example, a recrystallization method, column chromatography or the like.

【0038】第A3工程は、化合物(III)を製造する工
程で、光学活性な配位子を持つ遷移金属触媒存在下、化
合物(I)を接触還元することにより行われ、接触還元反
応は、不活性溶剤中、水素の存在下行われる。
The step A3 is a step of producing the compound (III), which is carried out by catalytically reducing the compound (I) in the presence of a transition metal catalyst having an optically active ligand. It is carried out in an inert solvent in the presence of hydrogen.

【0039】使用される光学活性な配位子は、例えば、
(S)-及び(R)-(ジフェニルホスフィノ)-1,1'-ビナフチル
(BINAP), (S,S)-及び(R,R)-ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)ブタン(CHIRAPHOS), (R)-N,N-ジメチル-1-[(S)-1',2
-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミ
ン、(S)-及び(R)-1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロ
パン(PROPHOS)、(R)-N,N-ジメチル-1-[(S)-2-(ジフェニ
ルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミン、(2S,4S)-4-
(ジフェニルホスフィノ)-2-(ジフェニルホスフィノメチ
ル)ピロリジン、(R)-1-[(S)-2-(ジフェニルホスフィノ)
フェロセニル]エチルメチルエーテル、(S)-N,N-ジメチ
ル-1-[(R)-1',2-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセ
ニル]エチルアミン, (S,S)-及び(R,R)-2,3-O-イソプロ
ピリデン-2,3-ジヒドロキシ-4,4-ビス(ジフェニルホス
フィノ)ブタン(DIOP)又は(+)-及び(-)-ネオメンチルジ
フェニルホスフィン(NMDPP)であり、好適には、(S)-及
び(R)-BINAP, (S,S)-及び(R,R)-CHIRAPHOS, (R)-1-[(S)
-2-(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]エチルメチル
エーテル、(S)-N,N-ジメチル-1-[(R)-1',2-ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)フェロセニル]エチルアミンであり、特
に好適には、(S)-及び(R)-BINAPである。
The optically active ligand used is, for example,
(S)-and (R)-(diphenylphosphino) -1,1'-binaphthyl
(BINAP), (S, S)-and (R, R) -bis (diphenylphosphino) butane (CHIRAPHOS), (R) -N, N-dimethyl-1-[(S) -1 ', 2
-Bis (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, (S)-and (R) -1,2-bis (diphenylphosphino) propane (PROPHOS), (R) -N, N-dimethyl-1-[(S ) -2- (Diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, (2S, 4S) -4-
(Diphenylphosphino) -2- (diphenylphosphinomethyl) pyrrolidine, (R) -1-[(S) -2- (diphenylphosphino)
Ferrocenyl] ethyl methyl ether, (S) -N, N-dimethyl-1-[(R) -1 ', 2-bis (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, (S, S)-and (R, R) -2,3-O-isopropylidene-2,3-dihydroxy-4,4-bis (diphenylphosphino) butane (DIOP) or (+)-and (-)-neomenthyldiphenylphosphine (NMDPP), Preferably, (S)-and (R) -BINAP, (S, S)-and (R, R) -CHIRAPHOS, (R) -1-[(S)
2- (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethyl methyl ether, (S) -N, N-dimethyl-1-[(R) -1 ′, 2-bis (diphenylphosphino) ferrocenyl] ethylamine, which is particularly preferable. Are (S)-and (R) -BINAP.

【0040】使用される遷移金属は、例えば、0価また
は2価の、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、白金で
あり、好適には、2価のルテニウムである。
The transition metal used is, for example, rhodium, ruthenium, palladium or platinum, which is zero-valent or divalent, preferably divalent ruthenium.

【0041】使用される触媒の量は0.01乃至100mol%当
量であり、好適には0.01乃至1mol%当量である。
The amount of the catalyst used is 0.01 to 100 mol% equivalent, preferably 0.01 to 1 mol% equivalent.

【0042】使用される水素の圧力は1〜120気圧であ
り、好適には5〜100気圧であり、更に好適には5〜10気
圧である。
The pressure of the hydrogen used is 1 to 120 atm, preferably 5 to 100 atm, more preferably 5 to 10 atm.

【0043】使用される溶媒は水;メタノール、エタノ
ール、2-プロパノール、1-プロパノール、又は2-メチル
-2-プロパノールのようなアルコール類;又はアルコー
ル類との含水溶媒であり、好適にはメタノール、又は2-
プロパノールである。
The solvent used is water; methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, or 2-methyl
Alcohols such as -2-propanol; or a water-containing solvent with alcohols, preferably methanol or 2-
It is propanol.

【0044】反応温度は、通常、0℃乃至150℃であ
り、好適には、50℃乃至120℃であり、反応時間
は、触媒の量及び種類、溶媒の量及び種類、反応温度、
水素の圧力等により異なるが、30分間乃至48時間で
あり、好適には、1時間乃至10時間である。
The reaction temperature is usually from 0 ° C. to 150 ° C., preferably from 50 ° C. to 120 ° C., and the reaction time depends on the amount and type of the catalyst, the amount and type of the solvent, the reaction temperature,
Although it depends on the pressure of hydrogen and the like, it is 30 minutes to 48 hours, preferably 1 hour to 10 hours.

【0045】反応終了後、本工程の目的化合物は常法に
従って反応混合物から採取される。例えば、反応混合物
を濃縮することにより目的物を得ることができる。ま
た、必要によりアルカリ水溶液を加え、2時間加熱還流
したのち溶媒を留去し、水を加え、適宜、酸で溶液を酸
性にしてから、酢酸エチルのような水不混和性溶剤で抽
出し、抽出液を乾燥し、溶剤を留去することによって得
ることができる。更に、必要により、常法、例えば、再
結晶法、カラムクロマトグラフィー等により更に精製す
ることもできる。
After completion of the reaction, the target compound of this step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, the desired product can be obtained by concentrating the reaction mixture. Also, if necessary, an aqueous alkali solution is added, and after heating and refluxing for 2 hours, the solvent is distilled off, water is added, and the solution is appropriately acidified with an acid, followed by extraction with a water-immiscible solvent such as ethyl acetate. It can be obtained by drying the extract and distilling off the solvent. Further, if necessary, it can be further purified by a conventional method, for example, a recrystallization method, column chromatography or the like.

【0046】又、R3がアルキル基である化合物(Ia)
を本工程により接触還元した後、得られたエステル体を
前記第A2工程と同様に加水分解することによっても、
3が水素原子である化合物を製造することができる。
Compound (Ia) wherein R 3 is an alkyl group
Is subjected to catalytic reduction in this step, and then the obtained ester is hydrolyzed in the same manner as in the step A2,
Compounds in which R 3 is a hydrogen atom can be produced.

【0047】A法の原料化合物(II)は、以下の方法に
従って容易に製造される。
The starting compound (II) of Method A is easily produced according to the following method.

【0048】[0048]

【化14】 上記式中、R1、R2a、R2b、R2c及びR2dは前述した
ものと同意義を示し、R4、R5及びR6は、同一又は異
なって、炭素数1乃至4個のアルキル基を示し、Xはは
ハロゲン原子(好適には、塩素又は臭素原子)を示す。
Embedded image In the above formula, R 1 , R 2a , R 2b , R 2c and R 2d have the same meanings as described above, and R 4 , R 5 and R 6 are the same or different and have 1 to 4 carbon atoms. X represents an alkyl group, and X represents a halogen atom (preferably, a chlorine or bromine atom).

【0049】第B1工程は一般式(VI)を有する化合物
を製造する工程で、不活性溶剤中(例えば、べンゼン、
トルエン、キシレン又はメシチレンのような芳香族炭化
水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素
のようなハロゲン化炭化水素類;又はジエチルエーテ
ル、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン又は1,2-ジメ
トキシエタンのようなエーテル類、好適には、ハロゲン
化炭化水素類、特に、メチレンクロリド)、塩基の存在
下(例えば、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、
トリエチルアミン、ジメチルアニリンのような有機アミ
ン、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸化
物又は炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素化物、好適に
は、有機アミン、特に、ピリジン)、一般式(IV)を
有する化合物を一般式(V)を有する化合物と−10℃
乃至100℃(好適には、10℃乃至50℃)で、30
分間乃至20時間(好適には、1時間乃至10時間)反
応させることによって行われる。
Step B1 is a step for producing a compound having the general formula (VI) in an inert solvent (for example, benzene,
Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene or mesitylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride; or diethyl ether, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxyethane. Such ethers, preferably halogenated hydrocarbons, especially methylene chloride), in the presence of a base (e.g. pyridine, 4-dimethylaminopyridine,
Triethylamine, organic amines such as dimethylaniline, lithium hydroxide, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, alkali metal carbonates such as potassium carbonate or lithium hydrogen carbonate, Alkali metal bicarbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate, preferably organic amines, especially pyridine), a compound having general formula (IV) and a compound having general formula (V) at -10 ° C
30 to 100 ° C. (preferably 10 to 50 ° C.)
The reaction is carried out by reacting for a period of minutes to 20 hours (preferably 1 hour to 10 hours).

【0050】第B2工程は一般式(VII)を有する化合
物を製造する工程で、不活性溶剤中(例えば、べンゼ
ン、トルエン、キシレン又はメシチレンのような芳香族
炭化水素類;メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化
炭素のようなハロゲン化炭化水素類;又はジエチルエー
テル、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン又は1,2-ジ
メトキシエタンのようなエーテル類、好適には、芳香族
炭化水素類)、化合物(VI)を一般式(VII)を有
するアルコールと10℃乃至150℃(好適には、50
℃乃至100℃)で、30分間乃至20時間(好適に
は、2時間乃至15時間)反応させることによって行わ
れる。又、本反応は、アルコールを溶剤を兼ねて大過剰
使用しても、好適に行われる。
Step B2 is a step of preparing a compound having the general formula (VII) in an inert solvent (for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene or mesitylene; methylene chloride, chloroform, Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; or ethers such as diethyl ether, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxyethane, preferably aromatic hydrocarbons), compounds (VI ) With an alcohol having the general formula (VII) at 10 ° C to 150 ° C (preferably 50 ° C).
C. to 100.degree. C.) for 30 minutes to 20 hours (preferably 2 hours to 15 hours). This reaction can be suitably carried out even if a large excess of alcohol is used also as a solvent.

【0051】第B3工程は化合物(II)を製造する工
程で、不活性溶剤中(例えば、べンゼン、トルエン、キ
シレン又はメシチレンのような芳香族炭化水素類;メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類;又はジエチルエーテル、1,3-ジオキ
サン、テトラヒドロフラン又は1,2-ジメトキシエタンの
ようなエーテル類、好適には、芳香族炭化水素類、特
に、トルエン)、酸の存在下(例えば、塩酸、硝酸、硫
酸、燐酸のような鉱酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、安息
香酸のようなカルボン酸、メタンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸のようなスルホン酸、
アンバーリスト15、ダウエックス50W、アンバーライ
ト 200C、ダイヤイオン PK204のようなイオン交換樹脂
(ただし、アンバーリスト15以外は100℃にて8時間真
空乾燥したもの)、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホ
ン酸、トルエンスルホン酸のようなスルホン酸、好適に
は、トルエンスルホン酸、アンバーリスト15、特に、
アンバーリスト15)、化合物(VIII)を一般式
(IX)を有する化合物と20℃乃至200℃(好適に
は、50℃乃至150℃)で、30分間乃至20時間
(好適には、1時間乃至10時間)反応させることによ
って行われる。
Step B3 is a step of producing compound (II) in an inert solvent (for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene or mesitylene; methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride). Halogenated hydrocarbons; or ethers such as diethyl ether, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran or 1,2-dimethoxyethane, preferably aromatic hydrocarbons, especially toluene), the presence of an acid Below (e.g., mineral acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, carboxylic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, benzoic acid, sulfonic acids such as methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, and toluenesulfonic acid;
Ion exchange resin such as Amberlyst 15, Dowex 50W, Amberlite 200C, Diaion PK204
(However, those other than Amberlyst 15 are vacuum-dried at 100 ° C. for 8 hours), methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, sulfonic acid such as toluenesulfonic acid, preferably toluenesulfonic acid, Amberlyst 15, particularly ,
Amberlyst 15), compound (VIII) and compound having general formula (IX) at 20 ° C. to 200 ° C. (preferably 50 ° C. to 150 ° C.) for 30 minutes to 20 hours (preferably 1 hour to (10 hours).

【0052】各反応終了後、各工程の目的化合物は常法
に従って反応混合物から採取される。例えば、不溶物が
存在する場合は、適宜不溶物を濾別し、反応混合物を濃
縮し、水を加え、酢酸エチルのような水不混和性溶剤で
抽出し、抽出液を乾燥し、溶剤を留去することによって
得ることができる。更に、必要により、常法、例えば、
再結晶法、カラムクロマトグラフィー等により更に精製
することもできる。
After completion of each reaction, the target compound of each step is collected from the reaction mixture according to a conventional method. For example, if insolubles are present, the insolubles are appropriately filtered off, the reaction mixture is concentrated, water is added, extracted with a water-immiscible solvent such as ethyl acetate, the extract is dried, and the solvent is removed. It can be obtained by distillation. Further, if necessary, a conventional method, for example,
It can be further purified by a recrystallization method, column chromatography or the like.

【0053】本方法に使用される化合物(IV)及び化
合物(IX)は公知であるか、公知の方法に従って製造
される(例えば、Klarmann, Gatyas, Shternov, J. Am.
Chem. Soc., 53, 3397-3404(1931).J. R. Anderson,
R. L. Edwards, A. J. S. Whalley; Metabolites of Hi
gher Fungi. Part 22. 2-Butyl-3-methysuccinic Acid
and 2-Hexylidene-3-methysuccinic Acid from Xylaria
ceous Fungi; J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1995,
1481-1485.A. J. Hoefnagel, E. A. Gunnewegh, R. S.
Downing, and H. van Bekkum; Synthesis of 7-Hydroxy
coumarins catalysed by Solid Acid Catalysts; J. Ch
em.Soc., Chem. Commun., 1995, 225-226.D. G. Crosb
y; Improved Synthesis of Scopoletin; J. Org. Che
m., 1961(26),1215-1217.E. V. O. John, S. S. Israel
stam; Use of Cation Exchange Resins in Organic Rea
ctions. I. The von Peckmann Reaction; I. Org. Che
m., 1961(26), 240-242.小島康平、大澤麗子; クマリン
誘導体の合成研究(第1報)レゾルチンとアルキルアセト
酢酸エチルの硫酸による縮合; 薬学雑誌, 1952(72), 91
6-919.R. N. Lacey; Derivatives Acetoacetic Acid. P
art VIII. The Synthesis of Coumarins from Aryl Ace
toacetates.; J. Chem. Soc., 1954, 854-860.) 以下に実施例及び参考例を挙げて説明するが、本発明は
これらに限定されるものではない。
The compound (IV) and the compound (IX) used in this method are known or prepared according to known methods (for example, Klarmann, Gatyas, Shternov, J. Am.
Chem. Soc., 53, 3397-3404 (1931) .JR Anderson,
RL Edwards, AJS Whalley; Metabolites of Hi
gher Fungi. Part 22. 2-Butyl-3-methysuccinic Acid
and 2-Hexylidene-3-methysuccinic Acid from Xylaria
ceous Fungi; J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1995,
1481-1485.AJ Hoefnagel, EA Gunnewegh, RS
Downing, and H. van Bekkum; Synthesis of 7-Hydroxy
coumarins catalysed by Solid Acid Catalysts; J. Ch
em.Soc., Chem. Commun., 1995, 225-226.DG Crosb
y; Improved Synthesis of Scopoletin; J. Org. Che
m., 1961 (26), 1215-1217.EVO John, SS Israel
stam; Use of Cation Exchange Resins in Organic Rea
ctions. I. The von Peckmann Reaction; I. Org. Che
m., 1961 (26), 240-242. Kojima Kohei, Osawa Reiko; Synthetic Studies on Coumarin Derivatives. I. Condensation of Resorutin and Ethyl Alkylacetoacetate with Sulfuric Acid;
6-919.RN Lacey; Derivatives Acetoacetic Acid. P
art VIII. The Synthesis of Coumarins from Aryl Ace
Toacetates .; J. Chem. Soc., 1954, 854-860.) Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Reference Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0054】[0054]

【実施例】実施例1 (Z)-3-(2,4-ジメトキシフェニル)オクタ-2-エン酸メチ
ルエステル(例示化合物番号1-4) 水酸化バリウム8水塩(72.73g, 3.15eq)のジメチルホル
ム(255ml, x15)懸濁液に7-ヒドロキシ-4-ペンチルクマ
リン(17.0g, 73.19mmol)及びヨウ化メチル(36.4ml, 8e
q)を順次加え、攪拌した。反応熱が徐々に発生するの
で、内温が20乃至25℃になるように冷却を行った。
そのまま、室温で24時間攪拌後、トルエン(255ml)及び
水(255ml)を加え、生成するハルツをろ過した。分液
後、有機層を水(255ml)で洗浄し、減圧濃縮し、表記化
合物を油状物(22.35g, 104.45%)として得た。 1H-NMRスペクトル(CDCl3,400MHz,δppm):0.85(3H,t,J=
7.2Hz),1.20-1.50(6H,m),2.41(2H,t,J=8.0Hz),3.54(3H,
s),3.75(3H,s),3.83(3H,s),5.91(1H,s),6.47(2H,m),6.9
1(1H,m)。
EXAMPLES Example 1 Methyl (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl) oct-2-enoate (Exemplary Compound No. 1-4) Barium hydroxide octahydrate (72.73 g, 3.15 eq) 7-Hydroxy-4-pentylcoumarin (17.0 g, 73.19 mmol) and methyl iodide (36.4 ml, 8e) in a suspension of dimethylform (255 ml, x15).
q) was added in sequence and stirred. Since heat of reaction was gradually generated, cooling was performed so that the internal temperature became 20 to 25 ° C.
After stirring at room temperature for 24 hours, toluene (255 ml) and water (255 ml) were added, and the generated Harz was filtered. After liquid separation, the organic layer was washed with water (255 ml) and concentrated under reduced pressure to give the title compound as an oil (22.35 g, 104.45%). 1H-NMR spectrum (CDCl 3 , 400 MHz, δppm): 0.85 (3H, t, J =
7.2Hz), 1.20-1.50 (6H, m), 2.41 (2H, t, J = 8.0Hz), 3.54 (3H,
s), 3.75 (3H, s), 3.83 (3H, s), 5.91 (1H, s), 6.47 (2H, m), 6.9
1 (1H, m).

【0055】実施例2 (Z)-3-(2,4-ジメトキシフェニル)オクタ-2-エン酸(例示
化合物番号2-4) 水酸化ナトリウム(5.85g, 2eq)の水(29.3ml)溶液に(Z)-
3-(2,4-ジメトキシフェニル)オクタ-2-エン酸メチルエ
ステル(22.35g:実施例1の化合物)のエタノール(270m
l)溶液を加え、1時間還流した。溶媒を減圧留去後、水
(300ml)及び濃塩酸(13ml)を加え、トルエン(350ml)で抽
出した。有機層を水(300ml)で2回洗浄し、濃縮乾固し
た。ヘキサン(200ml)を加え、70℃にて溶解後、氷冷下3
0分間攪拌した。生成した結晶をろ過し、冷ヘキサン(70
ml)で洗浄後、真空で乾燥し、表記化合物を無色結晶(1
8.68g, 7-ヒドロキシ-4-ペンチルクマリンより91.70%)
として得た。 1H-NMRスペクトル(CDCl3,400MHz,δppm):0.84(3H,t,J=
6.8Hz),1.20-1.40(6H,m),2.41(2H,t,J=6.8Hz),3.71(3H,
s),3.81(3H,s),5.88(1H,s),6.46(2H,m), 6.90(1H,m)。
Example 2 (Z) -3- (2,4-dimethoxyphenyl) oct-2-enoic acid (Exemplary Compound No. 2-4) A solution of sodium hydroxide (5.85 g, 2 eq) in water (29.3 ml) To (Z)-
3- (2,4-Dimethoxyphenyl) oct-2-enoic acid methyl ester (22.35 g: the compound of Example 1) in ethanol (270 m
l) The solution was added and refluxed for 1 hour. After evaporating the solvent under reduced pressure,
(300 ml) and concentrated hydrochloric acid (13 ml) were added, and extracted with toluene (350 ml). The organic layer was washed twice with water (300 ml) and concentrated to dryness. Add hexane (200 ml), dissolve at 70 ° C, and cool under ice
Stirred for 0 minutes. The resulting crystals are filtered and cold hexane (70
ml), and dried in vacuo to give the title compound as colorless crystals (1
8.68 g, 91.70% from 7-hydroxy-4-pentyl coumarin)
As obtained. 1H-NMR spectrum (CDCl 3 , 400 MHz, δ ppm): 0.84 (3H, t, J =
6.8Hz), 1.20-1.40 (6H, m), 2.41 (2H, t, J = 6.8Hz), 3.71 (3H,
s), 3.81 (3H, s), 5.88 (1H, s), 6.46 (2H, m), 6.90 (1H, m).

【0056】実施例3 (S)-3-(2,4-ジメトキシフェニル)オクタン酸 窒素を2時間導通したメタノール(20ml,x1)に(Z)-3-(2,4
-ジメトキシフェニル)オクタ-2-エン酸(20.0g, 71.85mm
ol:実施例の化合物)、(R)-バイナップ−ルテニウムアセ
テイト[BINAP-Ru(OAc)2](25mg)を加え、窒素雰囲気下
とした。窒素雰囲気を水素雰囲気に置換後、外温100
℃、水素圧5.5kg/cm2にて3.5時間激しく攪拌した。反応
液を濃縮乾固し、粗の表記化合物(21.44g)を得た。水
酸化ナトリウム(4.37g, 1.5eq)、水(22ml, x1.1)及びエ
タノール(150ml, x7.5)を加え、2時間加熱還流した。反
応液を濃縮後、水(300ml, x15)及び濃塩酸(9.8ml)を加
えて、pHを2以下とし、トルエン(300ml, x15)で抽出し
た。有機層を水(300ml, x15)で洗浄し、濃縮乾固し、表
記化合物を結晶(20.16g, 100.0%, net 98.04%)として得
た。 1H-NMR(270MHz,CDCl3):0.78〜0.91(3H,m),1.06〜1.32(6
H,m),1.50〜1.76(2H,m),2.58〜2.69(2H,m),3.39(1H,qui
ntet,J=7.5Hz),3.77(3H,s),3.79(3H, s),6.42〜6.49(2
H,m),7.01(1H,d,J=8.5Hz) 参考例1 カプロイルメルドラム酸 メルドラム酸(39.70g, 257.446mmol)のピリジン(50ml,
x1.25)懸濁液に氷冷下(0乃至10℃)にて、カプロイルク
ロリド(40.0g, 1.08eq)の塩化メチレン(100ml,x2.5)溶
液を滴下し、室温で、4.5時間反応させた。その後、冷2
規定塩酸(300ml)を加え、有機層を分離した。水層を塩
化メチレン(50ml)で抽出し、有機層を合致し、水(100m
l)で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮
し、表記化合物を赤色油状物(67.63g, 101.34%)として
得た。
Example 3 (Z) -3- (2,4) was added to methanol (20 ml, x1) in which nitrogen (S) -3- (2,4-dimethoxyphenyl) octanoate was passed for 2 hours.
-Dimethoxyphenyl) oct-2-enoic acid (20.0 g, 71.85 mm
ol: the compound of Example), (R) -binap-ruthenium acetate [BINAP-Ru (OAc) 2 ] (25 mg), and the mixture was placed under a nitrogen atmosphere. After replacing the nitrogen atmosphere with a hydrogen atmosphere,
The mixture was vigorously stirred at a temperature of 5.5 ° C. and a hydrogen pressure of 5.5 kg / cm 2 for 3.5 hours. The reaction solution was concentrated to dryness to obtain a crude title compound (21.44 g). Sodium hydroxide (4.37 g, 1.5 eq), water (22 ml, x1.1) and ethanol (150 ml, x7.5) were added, and the mixture was heated under reflux for 2 hours. After concentrating the reaction solution, water (300 ml, x15) and concentrated hydrochloric acid (9.8 ml) were added to adjust the pH to 2 or less, and the mixture was extracted with toluene (300 ml, x15). The organic layer was washed with water (300 ml, x15) and concentrated to dryness to give the title compound as crystals (20.16 g, 100.0%, net 98.04%). 1H-NMR (270 MHz, CDCl 3 ): 0.78 to 0.91 (3H, m), 1.06 to 1.32 (6
H, m), 1.50-1.76 (2H, m), 2.58-2.69 (2H, m), 3.39 (1H, qui
ntet, J = 7.5Hz), 3.77 (3H, s), 3.79 (3H, s), 6.42-6.49 (2
H, m), 7.01 (1H, d, J = 8.5 Hz) Reference Example 1 Caproyl Meldrum's Acid Meldrum's acid (39.70 g, 257.446 mmol) in pyridine (50 ml,
Under ice-cooling (0 to 10 ° C), a solution of caproyl chloride (40.0 g, 1.08 eq) in methylene chloride (100 ml, x2.5) was added dropwise to the suspension, and the mixture was stirred at room temperature for 4.5 hours. Reacted. Then cold 2
Normal hydrochloric acid (300 ml) was added, and the organic layer was separated. The aqueous layer was extracted with methylene chloride (50 ml), the organic layers were combined, and water (100 m
Washed in l). After drying over anhydrous sodium sulfate and concentration under reduced pressure, the title compound was obtained as a red oil (67.63 g, 101.34%).

【0057】参考例2 カプロイル酢酸エチル カプロイルメルドラム酸(67.63g,メルドラム酸 39.70g
相当:参考例1の化合物)のエタノール(200ml, x3)溶液
を7時間還流させた。反応液を減圧濃縮し、。得られた
油状物を減圧下蒸留し、表記化合物を無色油状物(メル
ドラム酸より93.64%)として得た。 沸点:84-85℃/2mmHg。
Reference Example 2 Ethyl caproyl acetate Caproyl Meldrum acid (67.63 g, Meldrum acid 39.70 g
Equivalent: A solution of the compound of Reference Example 1) in ethanol (200 ml, x3) was refluxed for 7 hours. The reaction was concentrated under reduced pressure. The obtained oil was distilled under reduced pressure to give the title compound as a colorless oil (93.64% from Meldrum's acid). Boiling point: 84-85 ° C / 2mmHg.

【0058】参考例3 7-ヒドロキシ-4-ペンチルクマリン カプロイル酢酸エチル(15.0g, 80.537mmol:参考例2の
化合物))のトルエン(150ml, x10)溶液にレゾルシノール
(17.74g, 2.0eq), アンバーライト15(登録商標:7.5g,
x0.5)を加え、ジエンースターク(Dien-Stark)の装置
を用い5.5時間脱水還流した。熱時ろ過を行い、母液に
水(50ml, x3.3)を加え、氷冷下30分間攪拌した。ろ過
後、結晶を少量の水とトルエンにて洗浄し、乾燥し、表
記化合物を微黄色結晶(14.41g, 81.22%)として得た。 1H-NMRスペクトル(CD3OD,400MHz,δppm):0.91(3H,t,J=
6.6Hz),1.30-1.50(4H,m), 1.60-1.75(2H,m), 2.76(2H,
t,J=7.8Hz), 3.30(3H,s), 6.06(1H,s),6.65-6.85(2H,
m), 7.61(1H,m)。
Reference Example 3 Resorcinol was added to a solution of ethyl 7-hydroxy-4-pentylcoumarin caproyl acetate (15.0 g, 80.537 mmol: the compound of Reference Example 2) in toluene (150 ml, x10).
(17.74 g, 2.0 eq), Amberlite 15 (registered trademark: 7.5 g,
x0.5), and the mixture was dehydrated and refluxed for 5.5 hours using a Dien-Stark apparatus. After filtration while hot, water (50 ml, x3.3) was added to the mother liquor, and the mixture was stirred under ice-cooling for 30 minutes. After filtration, the crystals were washed with a small amount of water and toluene and dried to obtain the title compound as pale yellow crystals (14.41 g, 81.22%). 1H-NMR spectrum (CD 3 OD, 400 MHz, δ ppm): 0.91 (3H, t, J =
6.6Hz), 1.30-1.50 (4H, m), 1.60-1.75 (2H, m), 2.76 (2H, m
t, J = 7.8Hz), 3.30 (3H, s), 6.06 (1H, s), 6.65-6.85 (2H,
m), 7.61 (1H, m).

【0059】参考例4 (R)-バイナップ−ルテニウムアセテイト[BINAP-Ru(OA
c)2] 調製は酸素濃度を5%以下にて行い、溶媒は全て脱気した
ものを使用した。
Reference Example 4 (R) -binap-ruthenium acetate [BINAP-Ru (OA
c) 2 ] The preparation was carried out at an oxygen concentration of 5% or less, and all solvents used were degassed.

【0060】[RuCl2(benzene)]2(800mg, 1.60mmol)と
(R)-BINAP(1.89g, 3.04mmol)のDMF(30mL)溶液を100℃で
10分間加熱した。冷却後、酢酸ナトリウム(5.20g, 63.4
mmol)のメタノール(50mL)溶液を加え、5分間攪拌し、ト
ルエン(25mL)及び水(50mL)を加え、振とうし、トルエン
層を分離した。水層をトルエン(25mL)で2回抽出し、有
機層を合致後、水(10mL)洗を4回行った。減圧下溶媒を
留去し、乾固し、トルエン(20mL)を加え溶解し、ヘキサ
ン(80mL)を加え晶出させた。氷冷下2時間攪拌後、ろ過
し、乾燥して、表記化合物(1.8g, 71%)を黄色結晶とし
て得た。1H-NMRスペクトル(CDCl3,400MHz,δppm):1.80
(6H,t), 6.47-7.84(32H,m)。
[RuCl 2 (benzene)] 2 (800 mg, 1.60 mmol)
A solution of (R) -BINAP (1.89 g, 3.04 mmol) in DMF (30 mL) at 100 ° C.
Heated for 10 minutes. After cooling, sodium acetate (5.20 g, 63.4
mmol) in methanol (50 mL), stirred for 5 minutes, added toluene (25 mL) and water (50 mL), shaken, and separated the toluene layer. The aqueous layer was extracted twice with toluene (25 mL), and after matching the organic layers, washing with water (10 mL) was performed four times. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was evaporated to dryness. Toluene (20 mL) was added for dissolution, and hexane (80 mL) was added for crystallization. After stirring for 2 hours under ice cooling, the mixture was filtered and dried to obtain the title compound (1.8 g, 71%) as yellow crystals. IH-NMR spectrum (CDCl 3, 400MHz, δppm) : 1.80
(6H, t), 6.47-7.84 (32H, m).

【0061】[0061]

【発明の効果】本発明の化合物(I)は、クマリン誘導
体より高収率で誘導され、光学活性な配位子をもつ遷移
金属触媒を用いた不斉接触還元を行うことにより,AC
AT阻害剤の合成中間体として有用な化合物(III)を簡
便かつ高収率で製造できることから、ACAT阻害剤の
合成中間体として、又その工業的な製法として有効であ
る。
The compound (I) of the present invention is derived from a coumarin derivative in a higher yield, and is subjected to asymmetric catalytic reduction using a transition metal catalyst having an optically active ligand to give AC.
Since compound (III), which is useful as an intermediate for synthesizing AT inhibitors, can be produced easily and in high yield, it is effective as an intermediate for synthesizing ACAT inhibitors and as an industrial production method.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸森 浩 神奈川県平塚市中原上宿173 三共株式会 社内 Fターム(参考) 4C062 EE02 EE27 4H006 AA01 AA02 AB84 AC13 AC46 AC48 BJ50 BM10 BM71 BN30 BP30 BS10  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroshi Tomori 173 Nakahara Kamishuku, Hiratsuka-shi, Kanagawa Sankyo Stock Company In-house F-term (reference) 4C062 EE02 EE27 4H006 AA01 AA02 AB84 AC13 AC46 AC48 BJ50 BM10 BM71 BN30 BP30 BS10

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 【化1】 (式中、R1は炭素数2乃至12個のアルキル基を示し、 R2a、R2b及びR2dは、同一または異なって、水素原
子、炭素数1乃至12個のアルキル基、フッ素原子1乃
至6個で置換された炭素数1乃至4個のアルキル基、保護
されたアミノ基、水酸基、保護された水酸基又は炭素数
1乃至4個のアルコキシ基を示し、R2c及びR2eは、炭素
数1乃至4個のアルコキシ基を示すか、或はR 2bとR2c
一緒になって、炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ
基又は炭素数3乃至6個のシクロアルキレンジオキシ基
を示し、 R3は、水素原子又は炭素数1乃至4個のアルキル基を示
す。)を有するシス−カルボン酸類。
1. A compound of the general formula(Where R1Represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms;2a, R2bAnd R2dAre the same or different
, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 1 fluorine atom
Alkyl group of 1 to 4 carbon atoms substituted with up to 6 carbon atoms, protection
Protected amino group, hydroxyl group, protected hydroxyl group or carbon number
Represents 1 to 4 alkoxy groups;2cAnd R2eIs carbon
Represents an alkoxy group of 1 to 4 or R 2bAnd R2cBut
Together, alkylene dioxy having 1 to 6 carbon atoms
Group or cycloalkylenedioxy group having 3 to 6 carbon atoms
And RThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
You. ).
【請求項2】一般式 【化2】 (式中、R1は炭素数2乃至12個のアルキル基を示
し、 R2a、R2b及びR2dは、同一または異なって、水素原
子、炭素数1乃至12個のアルキル基、フッ素原子1乃
至6個で置換された炭素数1乃至4個のアルキル基、保護
されたアミノ基、水酸基、保護された水酸基又は炭素数
1乃至4個のアルコキシ基を示し、R2c及びR2eは、炭素
数1乃至4個のアルコキシ基を示すか、或はR 2bとR2c
一緒になって、炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ
基又は炭素数3乃至6個のシクロアルキレンジオキシ基
を示し、 R3は、水素原子又は炭素数1乃至4個のアルキル基を示
す。)を有するラクトン化合物を、塩基の存在下、炭素
数1乃至4個のアルキルハライドと反応させ、一般式 【化3】 (式中、R1、R2a、R2b、R2c及びR2dは前述したもの
と同意義を示し、R3aは炭素数1乃至4個のアルキルを示
す。)を有するシス−エステル化合物を製造し、次いで
所望により、加水分解をすることを特徴とする、一般式 【化4】 (式中、R1、R2a、R2b、R2c、R2d及びR3は前述し
たものと同意義を示す。)を有するシス−カルボン酸類
の製造法。
2. A compound of the general formula(Where R1Represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms.
Then R2a, R2bAnd R2dAre the same or different
, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 1 fluorine atom
Alkyl group of 1 to 4 carbon atoms substituted with up to 6 carbon atoms, protection
Protected amino group, hydroxyl group, protected hydroxyl group or carbon number
Represents 1 to 4 alkoxy groups;2cAnd R2eIs carbon
Represents an alkoxy group of 1 to 4 or R 2bAnd R2cBut
Together, alkylene dioxy having 1 to 6 carbon atoms
Group or cycloalkylenedioxy group having 3 to 6 carbon atoms
And RThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
You. ) Having a lactone compound in the presence of a base,
The compound is reacted with an alkyl halide of 1 to 4 to obtain a compound represented by the general formula:(Where R1, R2a, R2b, R2cAnd R2dIs as described above
Has the same meaning as3aRepresents alkyl having 1 to 4 carbon atoms
You. A cis-ester compound having the formula
General formula, characterized in that hydrolysis is carried out if desired.(Where R1, R2a, R2b, R2c, R2dAnd RThreeWas mentioned earlier
The meaning is the same as Cis-carboxylic acids having)
Manufacturing method.
【請求項3】一般式 【化5】 (式中、R1は炭素数2乃至12個のアルキル基を示
し、 R2a、R2b及びR2dは、同一または異なって、水素原
子、炭素数1乃至12個のアルキル基、フッ素原子1乃
至6個で置換された炭素数1乃至4個のアルキル基、保護
されたアミノ基、水酸基、保護された水酸基又は炭素数
1乃至4個のアルコキシ基を示し、R2c及びR2eは、炭素
数1乃至4個のアルコキシ基を示すか、或はR 2bとR2c
一緒になって、炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ
基又は炭素数3乃至6個のシクロアルキレンジオキシ基
を示し、 R3は、水素原子又は炭素数1乃至4個のアルキル基を示
す。)を有するシス−カルボン酸類を、光学活性な配位
子をもつ遷移金属触媒存在下、接触還元し、次いで所望
により、加水分解をすることを特徴とする、一般式 【化6】 (式中、R1、R2a、R2b、R2c、R2d及びR3は前述し
たものと同意義を示す。)を有する飽和カルボン酸類の
製造法。
3. A compound of the general formula(Where R1Represents an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms.
Then R2a, R2bAnd R2dAre the same or different
, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, 1 fluorine atom
Alkyl group of 1 to 4 carbon atoms substituted with up to 6 carbon atoms, protection
Protected amino group, hydroxyl group, protected hydroxyl group or carbon number
Represents 1 to 4 alkoxy groups;2cAnd R2eIs carbon
Represents an alkoxy group of 1 to 4 or R 2bAnd R2cBut
Together, alkylene dioxy having 1 to 6 carbon atoms
Group or cycloalkylenedioxy group having 3 to 6 carbon atoms
And RThreeRepresents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
You. ) Having an optically active coordination
Catalytic reduction in the presence of a transition metal catalyst having
Wherein the compound is hydrolyzed by the following general formula:(Where R1, R2a, R2b, R2c, R2dAnd RThreeWas mentioned earlier
The meaning is the same as ) Having saturated carboxylic acids
Manufacturing method.
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