JP2000011699A - Semiconductor memory apparatus - Google Patents

Semiconductor memory apparatus

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JP2000011699A
JP2000011699A JP10182349A JP18234998A JP2000011699A JP 2000011699 A JP2000011699 A JP 2000011699A JP 10182349 A JP10182349 A JP 10182349A JP 18234998 A JP18234998 A JP 18234998A JP 2000011699 A JP2000011699 A JP 2000011699A
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JP
Japan
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memory cell
function
decoder
memory
voltage
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JP10182349A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideto Kotani
秀人 小谷
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To greatly shorten a test time of a reliability test by setting an X decoder and a Y decoder having a function of carrying out a predetermined multiple selection, and a control circuit for independently generating a word line multiple selection signal or a bit line multiple selection signal according to an external control signal. SOLUTION: A multiple selection function and an impression voltage switch function of an X decoder 2 or a Y decoder 3 are driven by a decode circuit control signal 4a, 4b, 4c, 4d generated at each independently set mode of a control circuit 4 upon receipt of various control signals CONT from the outside. In consequence of this, a voltage can be impressed only to gates of a plurality of memory cells or only to drains of the plurality of memory cells, and the impression voltage can be switched. A voltage acceleration coefficient can be evaluated easily at a reliability test for evaluating a charge retention characteristic of a floating gate at the application of a gate stress or a charge retention characteristic of the floating gate at the application of a drain stress.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、データの書き込み
と消去が可能な不揮発性半導体記憶装置に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device capable of writing and erasing data.

【0002】[0002]

【従来の技術】データの書き込みと消去が可能な不揮発
性半導体記憶装置において、X,Yアドレス入力回路に
メモリセルの多重選択を可能にする高電圧検出機能を付
加することによって、半導体記憶装置の大容量化に伴う
読み出し・書き込み機能試験時間の増大を緩和する技術
は広く用いられている。
2. Description of the Related Art In a nonvolatile semiconductor memory device in which data can be written and erased, a high voltage detecting function for enabling multiple selection of memory cells is added to an X, Y address input circuit, so that the semiconductor memory device can be programmed. Techniques for alleviating the increase in the read / write function test time accompanying the increase in capacity are widely used.

【0003】図6は、従来の読み出し・書き込みの機能
試験時間の増大を緩和することを目的として、X,Yア
ドレス入力回路にメモリセルの多重選択を可能とする高
電圧検出機能を付加した半導体記憶装置の構成を示した
ものである。
FIG. 6 shows a semiconductor in which a high voltage detection function for enabling multiple selection of memory cells is added to an X, Y address input circuit in order to alleviate an increase in a conventional read / write function test time. 2 shows a configuration of a storage device.

【0004】電荷を蓄積するための浮遊ゲートおよび制
御ゲートを有する二重ゲートトランジスタで構成され、
書き込み,消去が可能な不揮発性メモリセルがマトリッ
クス状に複数配置されてなるメモリセルアレイ1と、メ
モリセルアレイ1のワード線を選択するXデコーダ2
と、メモリセルアレイ1のビット線を選択するYデコー
ダ3と、外部からのXアドレス入力信号8およびYアド
レス入力信号9が高電圧信号であるとき、メモリセルの
多重選択を可能ならしめる高電圧検出回路5を有するX
アドレス入力回路6およびYアドレス入力回路7から構
成されており、外部からの高電圧アドレス信号を認識す
ることにより複数のメモリセルへの同時読み出し・書き
込み動作を可能としていた。
A double gate transistor having a floating gate for storing electric charge and a control gate,
A memory cell array 1 in which a plurality of writable and erasable nonvolatile memory cells are arranged in a matrix, and an X decoder 2 for selecting a word line of the memory cell array 1
And a Y decoder 3 for selecting a bit line of the memory cell array 1, and a high voltage detection for enabling multiple selection of memory cells when the external X address input signal 8 and Y address input signal 9 are high voltage signals. X with circuit 5
It is composed of an address input circuit 6 and a Y address input circuit 7, and by simultaneously recognizing a high-voltage address signal from the outside, it has been possible to simultaneously read / write to a plurality of memory cells.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
多重選択を可能にする構成には以下のような問題があっ
た。高電圧検出回路5を設けているため回路規模が増大
してしまう。またアドレス入力回路6,7には、外部か
らのアドレス信号が高電圧であるか否かのどちらかを検
出するのみの機能を設けているため、読み出し・書き込
み動作といったメモリセルのゲートおよびドレインの両
方に電圧を印加するモードにおいては複数メモリセルの
同時選択が可能であるが、複数メモリセルに対して同時
にゲートのみ、もしくはドレインのみに電圧を印加する
ことができない構成となっていた。
However, the conventional configuration for enabling multiple selection has the following problems. Since the high voltage detection circuit 5 is provided, the circuit scale increases. Further, since the address input circuits 6 and 7 have a function of only detecting whether or not the external address signal is at a high voltage, the gate and drain of the memory cell such as read / write operation are provided. In a mode in which a voltage is applied to both, a plurality of memory cells can be simultaneously selected, but a voltage cannot be simultaneously applied to only a gate or a drain only to a plurality of memory cells.

【0006】本発明の目的は、前記従来の課題を解決し
て、書き込み,消去が可能な不揮発性メモリを記憶媒体
とし、回路規模の増加を抑え、且つXデコーダ及びYデ
コーダの多重選択機能を各々独立して制御することがで
きる半導体記憶装置を提供することにあり、これによ
り、読み出し・書き込み動作のみならず複数メモリセル
のゲートのみ、または複数メモリセルのドレインのみに
電圧を印加することができるため、ゲートストレス印加
による浮遊ゲートの電荷保持特性、もしくはドレインス
トレス印加による浮遊ゲートの電荷保持特性を評価する
信頼性試験においてその試験時間を大幅に短縮すること
ができ、また検査時においても、ゲートストレス印加に
よる浮遊ゲートの電荷保持実力、もしくはドレインスト
レス印加による浮遊ゲートの電荷保持実力によるスクリ
ーニング検査時間を大幅に短縮することが可能になる。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems by using a writable and erasable non-volatile memory as a storage medium, suppressing an increase in circuit scale, and providing a multiple selection function of an X decoder and a Y decoder. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can be independently controlled, whereby a voltage can be applied not only to a read / write operation but also to only a gate of a plurality of memory cells or only a drain of a plurality of memory cells. Therefore, the test time can be greatly reduced in the reliability test for evaluating the charge retention characteristics of the floating gate due to the application of gate stress or the charge retention characteristics of the floating gate due to the application of drain stress. The ability of the floating gate to retain the charge by applying gate stress, or the floating by applying drain stress It is possible to greatly shorten the screening test time due to charge retention ability of over bets.

【0007】また、さらに前記複数メモリセルに対する
ゲートもしくはドレインのみの電圧印加機能に加え、電
圧印加時において、その印加する電圧を、複数切り換え
て制御するモードを設けることにより、ゲートストレス
印加による浮遊ゲートの電荷保持特性、もしくはドレイ
ンストレス印加による浮遊ゲートの電荷保持特性を評価
する信頼性試験における電圧加速係数評価を容易にする
ことが可能になる。
Further, in addition to the function of applying only a gate or a drain voltage to the plurality of memory cells, a mode is provided in which a plurality of applied voltages are switched and controlled when a voltage is applied. It is possible to easily evaluate the voltage acceleration coefficient in the reliability test for evaluating the charge retention characteristic of the floating gate due to the application of the drain stress or the charge retention characteristic of the floating gate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の半導体記憶装置は、電荷を蓄積するための
浮遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートトラン
ジスタで構成され、書き込み,消去が可能な不揮発性メ
モリセルがマトリックス状に複数配置してなるメモリセ
ルアレイと、前記メモリセルアレイのワード線を通常の
アドレスに応じて選択する機能に加えて、多重選択する
機能も備えたXデコーダと、前記メモリセルアレイのビ
ット線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加え
て、多重選択する機能を備えたYデコーダと、外部制御
信号によりワード線多重選択信号、又はビット線多重選
択信号を各々独立して生成する制御回路とを備えている
ことを特徴とするものである。
In order to achieve the above object, a semiconductor memory device according to the present invention comprises a double gate transistor having a floating gate for storing electric charges and a control gate, and performs writing and erasing. A memory cell array in which a plurality of possible nonvolatile memory cells are arranged in a matrix, an X decoder having a function of selecting a word line of the memory cell array in accordance with a normal address, and also having a function of performing multiple selection; In addition to the function of selecting a bit line of the memory cell array in accordance with a normal address, a Y decoder having a function of performing multiple selection, and a word line multiple selection signal or a bit line multiple selection signal that are independently controlled by an external control signal. And a control circuit for generating the data.

【0009】かかる構成により、回路規模増加を抑え、
且つXデコーダ及びYデコーダの多重選択機能を各々独
立して制御することをも可能となり、読み出し・書き込
み動作のみならず複数メモリセルのゲートのみ、または
複数メモリセルのドレインのみに電圧を印加することが
できるため、ゲートストレス印加による浮遊ゲートの電
荷保持特性、もしくはドレインストレス印加による浮遊
ゲートの電荷保持特性を評価する信頼性試験においてそ
の試験時間を大幅に短縮することができ、また検査時に
おいても、ゲートストレス印加による浮遊ゲートの電荷
保持実力、もしくはドレインストレス印加による浮遊ゲ
ートの電荷保持実力によるスクリーニング検査時間を大
幅に短縮することが可能となる。
With this configuration, the increase in circuit scale is suppressed,
In addition, it is possible to independently control the multiple selection function of the X decoder and the Y decoder, and to apply a voltage to only the gates of a plurality of memory cells or only the drains of the plurality of memory cells as well as the read / write operation. Therefore, the test time can be greatly reduced in the reliability test for evaluating the charge retention characteristics of the floating gate due to the application of gate stress, or the charge retention characteristics of the floating gate due to the application of drain stress. In addition, it is possible to drastically shorten the screening test time due to the ability to retain the charge of the floating gate by applying the gate stress or the ability to retain the charge of the floating gate due to the application of the drain stress.

【0010】さらに、本発明の半導体記憶装置は、電荷
を蓄積するための浮遊ゲートおよび制御ゲートを有する
二重ゲートトランジスタで構成され、書き込み,消去が
可能な不揮発性メモリセルがマトリックス状に複数配置
してなるメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイの
ワード線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加え
て、印加電圧を切り換えてワード線を多重選択する機能
を備えたXデコーダと、前記メモリセルアレイのビット
線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加えて、印
加電圧を切り換えてビット線を多重選択する機能を備え
たYデコーダと、外部制御信号によりワード線多重選択
信号、又はビット線多重選択信号を各々独立して生成す
る制御回路とを備えていることを特徴とする。
Further, the semiconductor memory device of the present invention comprises a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges, and a plurality of writable and erasable nonvolatile memory cells are arranged in a matrix. A memory cell array having a function of selecting a word line of the memory cell array in accordance with a normal address, an X decoder having a function of switching an applied voltage to select multiple word lines, and a memory cell array of the memory cell array. In addition to the function of selecting a bit line in accordance with a normal address, a Y decoder having a function of switching an applied voltage to multiple select a bit line, and a word line multiple selection signal or a bit line multiple selection by an external control signal And a control circuit for independently generating signals.

【0011】かかる構成により、前記複数メモリセルに
対するゲートもしくはドレインのみの電圧印加機能に加
え、電圧印加時において、その印加する電圧を複数切り
換えて制御することが可能となり、ゲートストレス印加
による浮遊ゲートの電荷保持特性、もしくはドレインス
トレス印加による浮遊ゲートの電荷保持特性を評価する
信頼性試験における電圧加速係数評価が容易となる。
With this configuration, in addition to the function of applying only the gate or drain voltage to the plurality of memory cells, it is possible to switch and control a plurality of applied voltages when applying a voltage. This makes it easy to evaluate the voltage acceleration coefficient in the reliability test for evaluating the charge retention characteristics or the charge retention characteristics of the floating gate due to the application of drain stress.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明の一実施の形態における半
導体記憶装置の回路構成を示したものである。電荷を蓄
積するための浮遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重
ゲートトランジスタで構成され、書き込み、消去が可能
な不揮発性メモリセルがマトリックス状に複数配置され
てなるメモリセルアレイ1と、メモリセルアレイ1のワ
ード線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加え
て、印加電圧を切り換えてワード線を多重選択する機能
を備えたXデコーダ2と、メモリセルアレイ1のビット
線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加えて、印
加電圧を切り換えてビット線を多重選択する機能を備え
たYデコーダ3と、外部制御信号によりワード線多重選
択信号、又はビット線多重選択信号を各々独立して生成
する制御回路4とから構成されている。
FIG. 1 shows a circuit configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. A memory cell array 1 comprising a plurality of non-volatile memory cells which are composed of a double gate transistor having a floating gate and a control gate for accumulating electric charges and which can be written and erased, and a word of the memory cell array 1 In addition to a function of selecting a line according to a normal address, an X decoder 2 having a function of switching an applied voltage to multiple select a word line and a bit line of the memory cell array 1 are selected according to a normal address. In addition to the function, a Y decoder 3 having a function of switching the applied voltage to multiple select a bit line, and a control circuit for independently generating a word line multiple select signal or a bit line multiple select signal by an external control signal And 4.

【0014】外部からの各種制御信号CONTを受け、
制御回路4において各々独立設定したモード時に生成さ
れるデコード回路制御信号4a,4b,4c,4dによ
り、Xデコーダ2又はYデコーダ3の多重選択機能およ
び印加電圧切り換え機能を駆動することによって、複数
メモリセルのゲートのみ、または複数メモリセルのドレ
インのみに電圧を印加することができ、さらにはその印
加電圧を切り換えることができる。
Upon receiving various control signals CONT from outside,
The control circuit 4 drives the multiple selection function and the applied voltage switching function of the X decoder 2 or the Y decoder 3 by the decode circuit control signals 4a, 4b, 4c, 4d generated at the time of the mode independently set, so that the plurality of memories can be controlled. A voltage can be applied only to the gate of the cell or only to the drain of a plurality of memory cells, and the applied voltage can be switched.

【0015】以下の構成は、すべてのメモリセルのゲー
トのみ、またはすべてのメモリセルのドレインのみに電
圧を印加し、さらにその印加電圧切り換えは2種類の電
圧の切り換えに限定したものであるが、本発明は目的に
応じて限定されたブロックのメモリセルに対して多重選
択を実施する場合や、またメモリセルのゲートまたはメ
モリセルのドレインを多重選択する際の印加電圧切り換
えを2種類以上実施する場合においても有効である。
In the following configuration, a voltage is applied only to the gates of all the memory cells or only the drains of all the memory cells, and the switching of the applied voltage is limited to the switching of two types of voltages. According to the present invention, two or more types of applied voltages are switched when multiple selection is performed on memory cells of a limited block according to the purpose, or when multiple selection is performed on a gate of a memory cell or a drain of a memory cell. It is also effective in some cases.

【0016】図2は、本実施の形態に係る半導体記憶装
置のモードおよび内部制御信号真理値表である。従来の
制御信号CONT0〜nによって設定されている各種書
き換え及び読み出しモードに加え、新規制御信号TST
=“H”時に新規制御信号Ta,Tbによって新規4モ
ードを設定し、各々のモードにおいて独立したデコード
回路制御信号4a,4b,4c,4dを生成している。
FIG. 2 is a truth table of modes and internal control signals of the semiconductor memory device according to the present embodiment. In addition to the various rewrite and read modes set by the conventional control signals CONT0-CONT, a new control signal TST
When "H", four new modes are set by new control signals Ta and Tb, and independent decode circuit control signals 4a, 4b, 4c and 4d are generated in each mode.

【0017】TST=“H”時において、まずTa=
“L”,Tb=“L”の場合はワード線一括選択モード
(電圧A)が設定されており、制御回路においてデコー
ド回路制御信号4a=“H”,4b=“L”,4c=
“L”,4d=“L”が生成される。Ta=“H”,T
b=“L”の場合はワード線一括選択モード(電圧B)
が設定されており、制御回路においてデコード回路制御
信号4a=“L”,4b=“H”,4c=“L”,4d
=“L”が生成される。また、Ta=“L”,Tb=
“H”の場合はビット線一括選択モード(電圧C)が設
定されており、制御回路においてデコード回路制御信号
4a=“L”,4b=“L”,4c=“H”,4d=
“L”が生成される。Ta=“H”,Tb=“H”の場
合はビット線一括選択モード(電圧D)が設定されてお
り、制御回路においてデコード回路制御信号4a=
“L”,4b=“L”,4c=“L”,4d=“H”が
生成される。
At the time of TST = “H”, first, Ta =
When “L” and Tb = “L”, the word line batch selection mode (voltage A) is set, and the control circuit decode signal control signal 4a = “H”, 4b = “L”, 4c =
“L”, 4d = “L” is generated. Ta = “H”, T
b = “L”, word line batch selection mode (voltage B)
Are set in the control circuit, and the decode circuit control signals 4a = “L”, 4b = “H”, 4c = “L”, 4d in the control circuit
= “L” is generated. Also, Ta = “L”, Tb =
In the case of "H", the bit line batch selection mode (voltage C) is set, and the decoding circuit control signals 4a = "L", 4b = "L", 4c = "H", 4d =
“L” is generated. When Ta = “H” and Tb = “H”, the bit line collective selection mode (voltage D) is set, and the decoding circuit control signal 4a =
"L", 4b = "L", 4c = "L", 4d = "H" are generated.

【0018】先にも記述したように、さらに新規制御信
号を増やして新規モードを設定し、生成するデコード回
路制御信号を増やすことにより、目的に応じて限定され
たブロックのメモリセルに対して多重選択を実施した
り、またメモリセルのゲートまたはメモリセルのドレイ
ンを多重選択する際の印加電圧切り換えを2種類以上に
設定することも可能である。
As described above, a new mode is set by further increasing the number of new control signals, and by increasing the number of decoding circuit control signals to be generated, multiplexing is performed on memory cells of a limited block according to the purpose. It is also possible to carry out selection or to set two or more types of applied voltage switching when multiple selection of the gate of the memory cell or the drain of the memory cell.

【0019】図3は、本実施の形態に係る半導体記憶装
置の制御回路図である。前記モードおよび内部制御信号
真理値表に基づき、本制御回路において、新規制御信号
TST,Ta,Tbからデコード回路制御信号4a,4
b,4c,4dを生成している。
FIG. 3 is a control circuit diagram of the semiconductor memory device according to the present embodiment. On the basis of the mode and the internal control signal truth table, the control circuit according to the present invention converts the new control signals TST, Ta, Tb from the decode circuit control signals 4a, 4b.
b, 4c and 4d are generated.

【0020】図4は、本実施の形態に係る半導体記憶装
置のXデコーダ回路図である。前記制御回路において生
成されたデコード回路制御信号4a=“H”もしくは4
b=“H”を受けることにより、アドレスデコード信号
によらず無条件に全メモリセルのゲートを一括選択する
ことができ、さらに4a=“H”,4b=“L”時にお
いてはその全メモリセルのゲートに電圧Aを供給し、ま
た4a=“L”,4b=“H”時においてはその全メモ
リセルのゲートに電圧Bを供給することができる。
FIG. 4 is an X decoder circuit diagram of the semiconductor memory device according to the present embodiment. Decode circuit control signal 4a generated in the control circuit = “H” or 4
By receiving b = "H", the gates of all memory cells can be collectively selected unconditionally regardless of the address decode signal. Further, when 4a = "H" and 4b = "L", all the memory cells are selected. The voltage A can be supplied to the gates of the cells, and the voltage B can be supplied to the gates of all the memory cells when 4a = "L" and 4b = "H".

【0021】また、さらにデコード回路制御信号を増や
すことにより目的に応じて限定されたブロックのメモリ
セルに対して多重選択を実施したり、またメモリセルの
ゲートを多重選択する際の印加電圧切り換えを2種類以
上に設定することも可能である。
Further, by further increasing the number of decoding circuit control signals, multiple selection is performed on memory cells of a limited block according to the purpose, and switching of applied voltage when multiple selection of gates of memory cells is performed. It is also possible to set two or more types.

【0022】図5は、本実施の形態に係る半導体記憶装
置のYデコーダ回路図である。前記制御回路において生
成されたデコード回路制御信号4c=“H”もしくは4
d=“H”を受けることにより、アドレスデコード信号
によらず無条件に全メモリセルのドレインを一括選択す
ることができ、さらに4c=“H”,4d=“L”時に
おいてはその全メモリセルのドレインに電圧Cを供給
し、また4c=“L”,4d=“H”時においてはその
全メモリセルのドレインに電圧Dを供給することができ
る。
FIG. 5 is a Y decoder circuit diagram of the semiconductor memory device according to the present embodiment. Decode circuit control signal 4c generated in the control circuit = “H” or 4
By receiving d = “H”, drains of all memory cells can be unconditionally selected collectively regardless of the address decode signal. Further, when 4c = “H” and 4d = “L”, all the memory cells are drained. The voltage C can be supplied to the drains of the cells, and the voltage D can be supplied to the drains of all the memory cells when 4c = "L" and 4d = "H".

【0023】また、さらにデコード回路制御信号を増や
すことにより目的に応じて限定されたブロックのメモリ
セルに対して多重選択を実施したり、またメモリセルの
ドレインを多重選択する際の印加電圧切り換えを2種類
以上に設定することも可能である。
Further, by further increasing the number of decoding circuit control signals, multiple selection can be performed on memory cells of a limited block according to the purpose, and switching of the applied voltage at the time of multiple selection of the drain of the memory cell can be performed. It is also possible to set two or more types.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上説明したように、電荷を蓄積するた
めの浮遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートト
ランジスタで構成され、書き込み,消去が可能な不揮発
性メモリセルがマトリックス状に複数配置してなるメモ
リセルアレイと、前記メモリセルアレイのワード線を通
常のアドレスに応じて選択する機能に加えて、多重選択
する機能も備えたXデコーダと、前記メモリセルアレイ
のビット線を通常のアドレスに応じて選択する機能に加
えて、多重選択する機能を備えたYデコーダと、外部制
御信号によりワード線多重選択信号、又はビット線多重
信号を各々独立して生成する制御回路とを備えているこ
とにより、回路規模増加を抑え、且つXデコーダ及びY
デコーダの多重選択機能を各々独立して制御することを
も可能となり、読み出し・書き込み動作のみならず複数
メモリセルのゲートのみ、または複数メモリセルのドレ
インのみに電圧を印加することができるため、ゲートス
トレス印加による浮遊ゲートの電荷保持特性、もしくは
ドレインストレス印加による浮遊ゲートの電荷保持特性
を評価する信頼性試験においてその試験時間を大幅に短
縮することができ、また検査時においても、ゲートスト
レス印加による浮遊ゲートの電荷保持実力、もしくはド
レインストレス印加による浮遊ゲートの電荷保持実力に
よるスクリーニング検査時間を大幅に短縮することが可
能となる。
As described above, a plurality of writable and erasable non-volatile memory cells are formed in a matrix and are constituted by a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges. A memory cell array, an X decoder having a function of selecting a word line of the memory cell array according to a normal address, and also having a function of multiple selection, and selecting a bit line of the memory cell array according to a normal address. A Y-decoder having a function of performing multiple selection in addition to a function of performing multiple selection, and a control circuit which independently generates a word line multiple selection signal or a bit line multiple signal according to an external control signal. X-decoder and Y
It is also possible to independently control the multiple selection function of the decoder, and it is possible to apply a voltage not only to the read / write operation but also to only the gates of a plurality of memory cells or only the drains of the plurality of memory cells. In a reliability test for evaluating the charge retention characteristics of a floating gate due to stress application or the charge retention characteristics of a floating gate due to application of drain stress, the test time can be significantly reduced. It is possible to greatly reduce the screening test time based on the charge retention ability of the floating gate or the charge retention ability of the floating gate due to the application of drain stress.

【0025】さらに電荷を蓄積するための浮遊ゲートお
よび制御ゲートを有する二重ゲートトランジスタで構成
され、書き込み,消去が可能な不揮発性メモリセルがマ
トリックス状に複数配置してなるメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイのワード線を通常のアドレスに応
じて選択する機能に加えて、印加電圧を切り換えてワー
ド線を多重選択する機能を備えたXデコーダと、前記メ
モリセルアレイのビット線を通常のアドレスに応じて選
択する機能に加えて、印加電圧を切り換えてビット線を
多重選択する機能を備えたYデコーダと、外部制御信号
によりワード線多重選択信号、又はビット線多重選択信
号を各々独立して生成する制御回路とを備えていること
により、前記複数メモリセルに対するゲートもしくはド
レインのみの電圧印加機能に加え、電圧印加時におい
て、その印加する電圧を複数切り換えて制御することが
可能となり、ゲートストレス印加による浮遊ゲートの電
荷保持特性、もしくはドレインストレス印加による浮遊
ゲートの電荷保持特性を評価する信頼性試験における電
圧加速係数評価を容易となる。
A memory cell array comprising a plurality of non-volatile memory cells which are composed of a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges and which can be written and erased, and which are arranged in a matrix;
In addition to the function of selecting a word line of the memory cell array according to a normal address, an X decoder having a function of switching an applied voltage to multiple select word lines, and a method of setting a bit line of the memory cell array to a normal address. In addition to the function of selecting, a Y decoder having a function of switching the applied voltage to multiple select a bit line, and independently generating a word line multiple select signal or a bit line multiple select signal by an external control signal In addition to the function of applying a voltage only to the gate or the drain to the plurality of memory cells, it is possible to switch and control a plurality of applied voltages at the time of applying a voltage, and to apply a gate stress to the plurality of memory cells. Charge retention characteristics of the floating gate due to Facilitated the voltage acceleration factor assessment in reliability test for evaluating the.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
回路構成図
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention;

【図2】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
モードおよび内部制御信号真理値表
FIG. 2 is a truth table of modes and internal control signals of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
制御回路図
FIG. 3 is a control circuit diagram of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図4】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
Xデコーダ回路図
FIG. 4 is an X decoder circuit diagram of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図5】本発明の一実施の形態に係る半導体記憶装置の
Yデコーダ回路図
FIG. 5 is a Y decoder circuit diagram of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention;

【図6】従来の書き込み・読み出し時のメモリセル多重
選択を目的とした半導体記憶装置の回路構成図
FIG. 6 is a circuit configuration diagram of a conventional semiconductor memory device for the purpose of multiple selection of memory cells at the time of writing and reading;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 Xデコーダ 3 Yデコーダ 4 制御回路 4a Xデコーダ制御信号(電圧A供給用) 4b Xデコーダ制御信号(電圧B供給用) 4c Yデコーダ制御信号(電圧C供給用) 4d Yデコーダ制御信号(電圧D供給用) CONT 外部からの制御信号 EW 書き換え・読み出し用内部制御信号 TST 新規外部からの制御信号 Ta 新規外部からの制御信号 Tb 新規外部からの制御信号 Reference Signs List 1 memory cell array 2 X decoder 3 Y decoder 4 control circuit 4a X decoder control signal (for supplying voltage A) 4b X decoder control signal (for supplying voltage B) 4c Y decoder control signal (for supplying voltage C) 4d Y decoder control signal (For supplying voltage D) CONT Control signal from outside EW Internal control signal for rewriting / reading TST Control signal from new outside Ta Control signal from outside Tb New control signal from outside

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 メモリセルを記憶媒体とし、外部制御信
号によりワード線多重選択信号、又はビット線多重信号
を各々独立して生成する制御回路を備えていることを特
徴とする半導体記憶装置。
1. A semiconductor memory device comprising a memory cell as a storage medium and a control circuit for independently generating a word line multiplex selection signal or a bit line multiplex signal by an external control signal.
【請求項2】 メモリセルを記憶媒体とし、マトリック
ス状に複数配置してなるメモリセルアレイと、前記メモ
リセルアレイのワード線を通常のアドレスに応じて選択
する機能に加えて、多重選択する機能を備えたXデコー
ダと、前記メモリセルアレイのビット線を通常のアドレ
スに応じて選択する機能に加えて、多重選択する機能を
備えたYデコーダとを備えていることを特徴とする請求
項1記載の半導体記憶装置。
2. A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix using a memory cell as a storage medium, and a function of selecting a word line of the memory cell array according to a normal address and a function of performing multiple selection. 2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising an X decoder, and a Y decoder having a function of selecting multiple bits in addition to a function of selecting a bit line of the memory cell array according to a normal address. Storage device.
【請求項3】 メモリセルは、電荷を蓄積するための浮
遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートトランジ
スタで構成され、書き込み,消去が可能な不揮発性メモ
リからなることを特徴とする請求項2記載の半導体記憶
装置。
3. The memory cell according to claim 2, wherein said memory cell comprises a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges, and comprises a writable and erasable nonvolatile memory. Semiconductor storage device.
【請求項4】 メモリセルは、電荷を蓄積するための浮
遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートトランジ
スタで構成され、電気的に書き込み,消去が可能なフラ
ッシュメモリからなることを特徴とする請求項2記載の
半導体記憶装置。
4. The memory cell according to claim 1, wherein said memory cell comprises a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges, and comprises a flash memory which can be electrically written and erased. 3. The semiconductor memory device according to 2.
【請求項5】 メモリセルを記憶媒体とし、マトリック
ス状に複数配置してなるメモリセルアレイと、前記メモ
リセルアレイのワード線を通常のアドレスに応じて選択
する機能に加えて、印加電圧を切り換えてワード線を多
重選択する機能を備えたXデコーダと、前記メモリセル
アレイのビット線を通常のアドレスに応じて選択する機
能に加えて、印加電圧を切り換えてビット線を多重選択
する機能を備えたYデコーダと、外部制御信号によりワ
ード線多重選択信号、又はビット線多重選択信号を各々
独立して生成する制御回路とを備えていることを特徴と
する半導体記憶装置。
5. A memory cell array in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix using a memory cell as a storage medium, and a function of selecting a word line of the memory cell array in accordance with a normal address, and switching an applied voltage to change a word. An X decoder having a function of multi-selecting a line, and a Y decoder having a function of multi-selecting a bit line by switching an applied voltage, in addition to a function of selecting a bit line of the memory cell array according to a normal address. And a control circuit that independently generates a word line multiple selection signal or a bit line multiple selection signal by an external control signal.
【請求項6】 メモリセルは、電荷を蓄積するための浮
遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートトランジ
スタで構成され、書き込み,消去が可能な不揮発性メモ
リからなることを特徴とする請求項5記載の半導体記憶
装置。
6. The memory cell according to claim 5, wherein said memory cell comprises a double gate transistor having a floating gate and a control gate for storing electric charges, and comprises a writable and erasable nonvolatile memory. Semiconductor storage device.
【請求項7】 メモリセルは、電荷を蓄積するための浮
遊ゲートおよび制御ゲートを有する二重ゲートトランジ
スタで構成され、電気的に書き込み,消去が可能なフラ
ッシュメモリからなることを特徴とする請求項5記載の
半導体記憶装置。
7. The memory cell according to claim 1, wherein said memory cell comprises a double gate transistor having a floating gate for storing electric charge and a control gate, and comprises a flash memory which can be electrically written and erased. 6. The semiconductor memory device according to 5.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004103161A (en) * 2002-09-11 2004-04-02 Toshiba Corp Non-volatile semiconductor memory
JP2005285289A (en) * 2004-03-31 2005-10-13 Nec Electronics Corp Test method and test device for semiconductor device

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