JP2000009569A - Manufacture of pressure sensor - Google Patents

Manufacture of pressure sensor

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JP2000009569A
JP2000009569A JP18075498A JP18075498A JP2000009569A JP 2000009569 A JP2000009569 A JP 2000009569A JP 18075498 A JP18075498 A JP 18075498A JP 18075498 A JP18075498 A JP 18075498A JP 2000009569 A JP2000009569 A JP 2000009569A
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glass layer
bubbles
gauge
sensing body
pressure sensor
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JP18075498A
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Ineo Toyoda
稲男 豊田
Kazuaki Hamamoto
和明 浜本
Yasutoshi Suzuki
康利 鈴木
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Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the output characteristic of a sensor from being degraded due to bubbles in a glass layer by an Si chip is bonded through the glass layer and inspecting the bubbles in the glass layer to assemble a good sensing body to a housing. SOLUTION: To a diaphragm 2a of a sensing body 2 an Si chip 4 with a diffusion gage 3 formed thereat is bonded through a glass layer 5, a step of inspecting bubbles in the glass layer 5 is provided after this bonding, the sensing body 2 is assembled to a housing, if its inspection result is good whereby a pressure sensor the output of which is never influenced by bubbles in the glass layer 5, and the effect of the bubbles in the glass layer 5 below the center gage is esp. great esp., when a diffusion gage 3 is composed of a center gage and side gage, and this part is pref. inspected. The bubble inspection can be made by an infrared microscope, ultrasonic flaw searching method, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、圧力を検出する圧
力センサの製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a pressure sensor for detecting pressure.

【0002】[0002]

【従来の技術】特公平7−11461号公報には、受圧
用の金属ダイヤフラムの表面にガラス層を介してシリコ
ンチップが接合されたセンシングボディを、ハウジング
内に組付けた構造の圧力センサが開示されている。具体
的には、図4(a)に示すように、金属製のセンシング
ボディ2のダイヤフラム2aの表面に、拡散ゲージ3を
有するシリコンチップ4がガラス層5を介して接合され
ており、圧力によるダイヤフラム2aのたわみがガラス
層5を介してシリコンチップ4に伝達され、拡散ゲージ
3の抵抗値が変化する。拡散ゲージ3は、ブリッジ回路
を構成するように結線されており、そのブリッジ回路か
ら圧力に応じた電気信号が出力される。このように構成
された圧力センサは、ダイヤフラムに金属を使ってお
り、高圧条件下でも信頼性が高く燃料圧センサ等の高圧
センサに用いることができる。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Publication No. 7-11461 discloses a pressure sensor having a structure in which a sensing body in which a silicon chip is bonded to a surface of a metal diaphragm for pressure reception via a glass layer is assembled in a housing. Have been. More specifically, as shown in FIG. 4A, a silicon chip 4 having a diffusion gauge 3 is bonded to the surface of a diaphragm 2a of a metal sensing body 2 via a glass layer 5, and is subjected to pressure. The deflection of the diaphragm 2a is transmitted to the silicon chip 4 via the glass layer 5, and the resistance of the diffusion gauge 3 changes. The diffusion gauge 3 is connected so as to form a bridge circuit, and an electric signal corresponding to the pressure is output from the bridge circuit. The pressure sensor configured as described above uses metal for the diaphragm and has high reliability even under high pressure conditions and can be used for a high pressure sensor such as a fuel pressure sensor.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記し
た圧力センサについて検討を行ったところ、ガラス層に
気泡が発生していると、その気泡によってセンサ特性に
影響が生じていることを見出した。すなわち、上記した
圧力センサを製造する場合、ダイヤフラム2aの表面に
ガラスペーストを印刷し、その上にシリコンチップ4を
載せて、その後焼成するようにしているが、例えばダイ
ヤフラム2aの平坦度が悪かったりすると、図4(b)
に示すように、ガラス層5に気泡6をかみこむことにな
る。ガラス層5の中に気泡6が発生していると、ガラス
層5はダイヤフラム2aのたわみを正確にシリコンチッ
プ4に伝達することができなかったり、気泡6が温度変
化によって膨張、収縮するため、センサの温度特性を悪
化させる要因となる。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have studied the above-mentioned pressure sensor, and found that if bubbles are generated in the glass layer, the bubbles affect the sensor characteristics. I found it. That is, when manufacturing the above-described pressure sensor, a glass paste is printed on the surface of the diaphragm 2a, the silicon chip 4 is mounted thereon, and then baked. For example, the flatness of the diaphragm 2a is poor. Then, FIG. 4 (b)
As shown in (1), bubbles 6 are trapped in the glass layer 5. If bubbles 6 are generated in the glass layer 5, the glass layer 5 cannot accurately transmit the deflection of the diaphragm 2a to the silicon chip 4, or the bubbles 6 expand and contract due to a temperature change. This is a factor that deteriorates the temperature characteristics of the sensor.

【0004】本発明は上記問題を解決することを目的と
する。
An object of the present invention is to solve the above problems.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
気泡の影響について以下に示す検討を行った。図5に、
シリコンチップ4を上面から見た図を示す。シリコンチ
ップ4は、面方位が(110)のものであって、拡散ゲ
ージ3は、圧力によって変位する変位領域(下側にダイ
ヤフラム2aが存在する領域)の中央に配置されたセン
ターゲージ3a、3bと、周辺に配置されたサイドゲー
ジ3c、3dから構成されている。そして、ガラス層5
に発生した気泡6のうち、センターゲージの下の位置を
A、その横の位置をB、サイドゲージの下の位置をC、
さらにその横の位置をDとし、気泡径を500μmとし
たときの気泡発生位置A〜Dにおけるセンサの感度、お
よびその温度特性について、気泡6が発生していないも
のと比較した結果を図6に示す。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted the following studies on the effects of the above-mentioned bubbles. In FIG.
The figure which looked at the silicon chip 4 from the upper surface is shown. The silicon chip 4 has a plane orientation of (110), and the diffusion gauge 3 has center gauges 3a and 3b arranged at the center of a displacement area (area where the diaphragm 2a exists below) which is displaced by pressure. And side gauges 3c and 3d arranged on the periphery. And the glass layer 5
Of the bubbles 6 generated in the above, the position below the center gauge is A, the position next to it is B, the position below the side gauge is C,
FIG. 6 shows the sensitivity of the sensors at the bubble generation positions A to D when the horizontal position is D and the bubble diameter is 500 μm, and the temperature characteristics thereof, as compared with those without bubbles 6. Show.

【0006】この図6に示す結果から、感度およびその
温度特性が気泡6の存在によって影響を受けていること
がわかる。特に、センターゲージの下の気泡位置Aに気
泡6がある場合には、気泡による影響が非常に大きい。
また、サイドゲージの下の気泡位置Cに気泡がある場合
にもそれによる影響を受けているが、気泡位置Aの場合
のような大きな影響は受けていない。これは、サイドゲ
ージの形成位置ではセンターゲージの形成位置より発生
応力が小さいためである。
[0006] From the results shown in FIG. 6, it is understood that the sensitivity and the temperature characteristics thereof are affected by the presence of the bubbles 6. In particular, when the bubble 6 exists at the bubble position A below the center gauge, the influence of the bubble is very large.
In addition, even when there is a bubble at the bubble position C below the side gauge, the air bubble is affected by the bubble, but is not greatly affected as in the case of the bubble position A. This is because the generated stress is smaller at the side gauge forming position than at the center gauge forming position.

【0007】なお、上記したセンサの感度は、ダイヤフ
ラム2aに20MPaの圧力を印加したときのセンサ出
力電圧VsからVs/20で求め、感度の温度特性は、
25℃のときの感度S25と120℃のときの感度S120
から(S120 −S25)/S25/(120−25)で求め
ている。また、気泡位置Aに気泡6がある場合におい
て、その気泡サイズ( 気泡径)に対する感度およびその
温度特性について検討を行った。図7、図8にその結果
を示す。これらの図から、気泡サイズが200μm以下
であれば、感度およびその感度に対する温度特性が、気
泡の影響を実質的に受けていないことがわかる。
The sensitivity of the above-described sensor is obtained from the sensor output voltage Vs when a pressure of 20 MPa is applied to the diaphragm 2a by Vs / 20.
Sensitivity S 25 at 25 ° C. and S 120 at 120 ° C.
From seeking at (S 120 -S 25) / S 25 / (120-25). Further, in the case where the bubble 6 exists at the bubble position A, the sensitivity to the bubble size (bubble diameter) and the temperature characteristics thereof were examined. 7 and 8 show the results. From these figures, it can be seen that if the bubble size is 200 μm or less, the sensitivity and the temperature characteristics with respect to the sensitivity are not substantially affected by the bubble.

【0008】本発明は上記検討を基になされたもので、
請求項1に記載の発明においては、センシングボディに
おける金属ダイヤフラムの表面にシリコンチップをガラ
ス層を介して接合し、この接合後に、ガラス層の気泡を
検査する検査工程を設け、その検査結果が良好とされた
センシングボディについてハウジングへの組付けを行う
ことを特徴としている。
[0008] The present invention has been made based on the above study,
According to the first aspect of the present invention, a silicon chip is bonded to the surface of the metal diaphragm in the sensing body via a glass layer, and after this bonding, an inspection step for inspecting bubbles in the glass layer is provided, and the inspection result is good The sensor body is assembled to the housing.

【0009】従って、ガラス層の気泡によってセンサ出
力の影響を受けない圧力センサを製造することができ
る。請求項2に記載の発明では、検査工程において拡散
ゲージの下のガラス層の気泡を検査することを特徴とし
ている。拡散ゲージの下のガラス層に気泡が存在する場
合には拡散ゲージに気泡による影響が直接でるため、そ
の部分の検査を行うことによって気泡の検査を効率よく
行うことができる。
Accordingly, it is possible to manufacture a pressure sensor which is not affected by the sensor output due to bubbles in the glass layer. The invention according to claim 2 is characterized in that, in the inspection step, bubbles in the glass layer below the diffusion gauge are inspected. When bubbles are present in the glass layer below the diffusion gauge, the effects of the bubbles are directly exerted on the diffusion gauge, so that inspection of the portion enables efficient inspection of the bubbles.

【0010】特に、請求項3に記載の発明のように、拡
散ゲージがセンターゲージとサイドゲージによって構成
されている場合には、上記したようにセンターゲージの
下のガラス層の気泡の影響が特に大きいため、その部分
の検査を行うようにするのが好ましい。また、この場
合、請求項4に記載の発明のように、気泡が200μm
以下である場合に検査結果を良好とすれば、上記したよ
うに気泡による影響をほとんど受けないようにすること
ができる。
[0010] In particular, when the diffusion gauge is constituted by the center gauge and the side gauge as in the third aspect of the present invention, the influence of bubbles in the glass layer below the center gauge is particularly affected as described above. Since it is large, it is preferable to inspect that part. Further, in this case, as in the invention described in claim 4, the bubbles are 200 μm.
If the inspection result is good in the following cases, it is possible to hardly be affected by the bubbles as described above.

【0011】なお、上記した気泡の検査は、後述するよ
うに、赤外線顕微鏡を用いて、あるいは超音波探傷法に
より行うことができる。
The above-described inspection of air bubbles can be performed using an infrared microscope or an ultrasonic flaw detection method as described later.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
について説明する。図1に、本発明の一実施形態を示す
圧力センサの断面構造を示す。この圧力センサは、車両
における燃料噴射装置の燃料圧やブレーキ装置のブレー
キオイル圧等の高圧(例えば20MPa)の流体の圧力
を測定するものである。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a pressure sensor according to an embodiment of the present invention. The pressure sensor measures the pressure of a high-pressure (for example, 20 MPa) fluid such as a fuel pressure of a fuel injection device in a vehicle or a brake oil pressure of a brake device.

【0013】図において、ハウジング1は、耐食性が良
好で溶接可能な金属(例えばSUS430)で構成され
ており、ねじ1aを有し、図示しない被検出体(例え
ば、燃料配管)にねじ締めで固定されるようになってい
る。センシングボディ2は、熱膨張率が小さい低熱膨張
率金属(例えばコバール等の線熱膨張係数がシリコンに
近い材質のもの)で構成され、内側に圧力導入孔2bを
有し、その終端に肉薄のダイヤフラム2aが形成されて
いる。このセンシングボディ2は、ハウジング1の内側
空洞部に圧入されて、ハウジング1に組付けられる。
In FIG. 1, a housing 1 is made of a weldable metal (for example, SUS430) having good corrosion resistance, has a screw 1a, and is fixed to an object to be detected (for example, a fuel pipe) by screwing. It is supposed to be. The sensing body 2 is made of a metal having a low coefficient of thermal expansion and a low coefficient of thermal expansion (for example, a material having a linear thermal expansion coefficient close to that of silicon such as Kovar), has a pressure introducing hole 2b inside, and has a thin end at its end. A diaphragm 2a is formed. The sensing body 2 is press-fitted into an inner cavity of the housing 1 and assembled to the housing 1.

【0014】センシングボディ2におけるダイヤフラム
2aの上面、すなわち圧力導入側と反対側の面には、シ
リコンチップ(センサチップ)4が低融点ガラスによる
ガラス層5を介して接合されている。また、センシング
ボディ2の先端部の周囲には、図1に示すように、シリ
コンチップ4からの電気信号を処理する信号処理回路基
板7が配置されている。そして、シリコンチップ4と信
号処理回路基板7の間はワイヤ8により電気的に接続さ
れている。なお、信号処理回路基板7は、積層セラミッ
ク基板7a、回路チップ7b、およびポスト7cから構
成されている。
A silicon chip (sensor chip) 4 is bonded to the upper surface of the diaphragm 2a of the sensing body 2, that is, the surface opposite to the pressure introducing side, via a glass layer 5 made of low-melting glass. Further, a signal processing circuit board 7 for processing an electric signal from the silicon chip 4 is arranged around the tip of the sensing body 2 as shown in FIG. The silicon chip 4 and the signal processing circuit board 7 are electrically connected by wires 8. The signal processing circuit board 7 includes a multilayer ceramic substrate 7a, a circuit chip 7b, and a post 7c.

【0015】信号処理回路基板7におけるポスト7c
は、ターミナルアッセンブリ10のコネクタターミナル
10aと電気溶接等で接続されており、ターミナルアッ
センブリ10とコネクタケース11は、Oリング12を
介しハウジング1のかしめ部1bによってハウジング1
にかしめ固定されている。また、センシングボディ2お
よび積層セラミック基板7の上面には、コーティング材
(例えばシリコーンゲル)9によりコーティングが施さ
れている。
Post 7c on signal processing circuit board 7
Is connected to the connector terminal 10a of the terminal assembly 10 by electric welding or the like. The terminal assembly 10 and the connector case 11 are connected to each other by the caulking portion 1b of the housing 1 via the O-ring 12.
It is fixed by swaging. Further, the upper surfaces of the sensing body 2 and the multilayer ceramic substrate 7 are coated with a coating material (for example, silicone gel) 9.

【0016】図2に、センシングボディ2の先端部分の
拡大断面斜視図を示す。図に示すように、センシングボ
ディ2におけるダイヤフラム2aの上に、拡散ゲージ3
が形成されたシリコンチップ4がガラス層5を介して接
合されている。シリコンチップ4は、面方位が(11
0)のN型単結晶のシリコン基板を用いて構成されてい
る。また、拡散ゲージ3は、図2中に明確に図示されて
いないが、図5に示すものと同様、センターゲージ3
a、3bとサイドゲージ3c、3dによって構成されて
いる。拡散ゲージ3a〜3dは、ブリッジ回路を構成す
るように図示しないアルミ配線によって結線されてお
り、さらにワイヤ8によって信号処理回路基板7と電気
接続され、ダイヤフラム2aの変位に応じた電気信号を
信号処理回路基板7に出力する。
FIG. 2 is an enlarged sectional perspective view of the tip portion of the sensing body 2. As shown in FIG. As shown in the figure, a diffusion gauge 3 is provided on a diaphragm 2 a in the sensing body 2.
The silicon chip 4 on which is formed is bonded via the glass layer 5. The silicon chip 4 has a plane orientation of (11
It is configured using an N-type single crystal silicon substrate of 0). Although the diffusion gauge 3 is not clearly shown in FIG. 2, the center gauge 3 is similar to that shown in FIG.
a, 3b and side gauges 3c, 3d. The diffusion gauges 3a to 3d are connected by an aluminum wiring (not shown) so as to form a bridge circuit, are further electrically connected to a signal processing circuit board 7 by wires 8, and process an electric signal according to the displacement of the diaphragm 2a. Output to the circuit board 7.

【0017】次に、上記した圧力センサの製造方法につ
いて説明する。図3にその製造工程を示す。まず、圧力
導入孔2bおよびダイヤフラム2aが形成されたセンシ
ングボディを用意し、その表面の酸洗浄と脱炭処理を行
い、この後、酸化処理を行う。これらの処理は、特公平
7−11461号公報に示されるものと同じである。
Next, a method for manufacturing the above-described pressure sensor will be described. FIG. 3 shows the manufacturing process. First, a sensing body in which the pressure introducing hole 2b and the diaphragm 2a are formed is prepared, and the surface thereof is subjected to acid cleaning and decarburization treatment, and thereafter, oxidation treatment is performed. These processes are the same as those described in Japanese Patent Publication No. Hei 7-11461.

【0018】次に、ダイヤフラム2aの表面にガラスペ
ーストを印刷し、これを約400℃で仮焼してガラス層
5を形成する。そして、仮焼したガラス層5にシリコン
チップ4を載せ、約500℃で本焼成して、シリコンチ
ップ4の接合を行う。この後、ガラス層5の気泡検査を
行う。赤外線はシリコンをある程度透過するため、赤外
線顕微鏡でシリコンチップ4上から観察することによ
り、気泡を見ることができる。この実施形態において
は、センターゲージ3a、3bの下のガラス層5に20
0μmより大きい気泡があるか否かを検査する。200
μmより大きい気泡がある場合は、そのセンシングボデ
ィ2を後工程に流さないようにし、気泡があってもそれ
が200μm以下の場合はそのセンシングボディ2を後
工程に流すようにする。
Next, a glass paste is printed on the surface of the diaphragm 2a and calcined at about 400 ° C. to form a glass layer 5. Then, the silicon chip 4 is placed on the calcined glass layer 5 and is baked at about 500 ° C. to join the silicon chip 4. Thereafter, a bubble inspection of the glass layer 5 is performed. Since infrared rays pass through the silicon to some extent, bubbles can be seen by observing from above the silicon chip 4 with an infrared microscope. In this embodiment, the glass layer 5 below the center gauges 3a, 3b has 20
Inspect for air bubbles larger than 0 μm. 200
When there is an air bubble larger than μm, the sensing body 2 is prevented from flowing to the subsequent process, and when the air bubble is 200 μm or less, the sensing body 2 is caused to flow to the subsequent process.

【0019】そして、検査工程で検査結果が良好とされ
たセンシングボディ2を用いてアッセンブリ組付工程を
行う。すなわち、センシングボディ2をハウジング1に
組付け、ワイヤボンディングなどを行って、図1に示す
圧力センサを完成させる。なお、上記した実施形態にお
いては、赤外線顕微鏡を用いて気泡検査を行うものを示
したが、超音波探傷法を用いて気泡検査を行うようにし
てもよい。この超音波探傷法は、サンプルを水中にお
き、超音波を加えてその反射波から内部構造を観察する
方法である。
Then, an assembly assembling step is performed using the sensing body 2 having a good inspection result in the inspection step. That is, the sensing body 2 is mounted on the housing 1 and wire bonding is performed to complete the pressure sensor shown in FIG. In the above-described embodiment, the case where the bubble inspection is performed using the infrared microscope has been described. However, the bubble inspection may be performed using the ultrasonic flaw detection method. This ultrasonic flaw detection method is a method of placing a sample in water, applying ultrasonic waves, and observing the internal structure from reflected waves.

【0020】また、上記実施形態では、センターゲージ
3a、3bの下のガラス層5において気泡検査を行うも
のを示したが、サイドゲージ3c、3dの下のガラス層
5においても同様の気泡検査を行うようにしてもよい。
また、シリコンチップ4として面方位が(100)のも
のを用いた場合には、センターゲージ、サイドゲージと
いう配置関係ではなくなるため、この場合には各ゲージ
の下のガラス層の気泡検査を行う。
In the above-described embodiment, the bubble inspection is performed on the glass layer 5 under the center gauges 3a and 3b. However, the same bubble inspection is performed on the glass layer 5 under the side gauges 3c and 3d. It may be performed.
Further, when the silicon chip 4 having a plane orientation of (100) is used, the arrangement relationship of the center gauge and the side gauge does not exist. In this case, the bubble inspection of the glass layer below each gauge is performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る圧力センサの断面構
造を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a cross-sectional structure of a pressure sensor according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1中のセンシングボディ2の先端部分の拡大
断面斜視図を示す図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional perspective view of a tip portion of a sensing body 2 in FIG.

【図3】図1に示す圧力センサの製造方法を示す工程図
である。
FIG. 3 is a process chart showing a method for manufacturing the pressure sensor shown in FIG.

【図4】金属ダイヤフラムを用いた圧力センサの動作を
説明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of a pressure sensor using a metal diaphragm.

【図5】本発明者らが検討を行った気泡発生位置A〜D
を説明するための図である。
FIG. 5 shows bubble generation positions A to D studied by the present inventors.
FIG.

【図6】気泡発生位置A〜Dに気泡がある場合のセンサ
感度、およびその温度特性を、気泡が発生していないも
のと比較した結果を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the results of comparing sensor sensitivity and temperature characteristics when bubbles are present at bubble generation positions A to D with those without bubbles.

【図7】気泡位置Aに気泡がある場合の気泡サイズに対
するセンサ感度の関係を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a relationship between sensor size and bubble sensitivity when bubbles are present at a bubble position A;

【図8】気泡位置Aに気泡がある場合の気泡サイズに対
するセンサ感度の温度特性の関係を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a bubble size and a temperature characteristic of a sensor sensitivity when a bubble is present at a bubble position A;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ハウジング、2…センシングボディ、2a…ダイヤ
フラム、3…拡散ゲージ、4…シリコンチップ、5…ガ
ラス層、6…気泡。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Housing, 2 ... Sensing body, 2a ... Diaphragm, 3 ... Diffusion gauge, 4 ... Silicon chip, 5 ... Glass layer, 6 ... Bubble.

フロントページの続き (72)発明者 鈴木 康利 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 2F055 AA23 BB16 CC02 DD05 EE14 FF01 FF15 GG01 GG13 HH01 4M112 AA01 BA01 CA02 CA05 CA09 DA17 DA18 EA03 EA11 EA13 FA05 GA01 Continuing from the front page (72) Inventor Yasutoshi Suzuki 1-1-1, Showa-cho, Kariya-shi, Aichi F-term in DENSO Corporation (reference) 2F055 AA23 BB16 CC02 DD05 EE14 FF01 FF15 GG01 GG13 HH01 4M112 AA01 BA01 CA02 CA05 CA09 DA17 DA18 EA03 EA11 EA13 FA05 GA01

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属ダイヤフラムを有するセンシングボ
ディの前記金属ダイヤフラムの上に、拡散ゲージが形成
されたシリコンチップをガラス層を介して接合し、この
接合後に、前記センシングボディをハウジングに組付け
てなる圧力センサの製造方法において、 前記接合後に前記ガラス層の気泡を検査する検査工程を
設け、その検査結果が良好とされたセンシングボディに
ついて前記ハウジングへの組付けを行うことを特徴とす
る圧力センサの製造方法。
1. A silicon chip having a diffusion gauge formed thereon is bonded to a metal diaphragm of a sensing body having a metal diaphragm via a glass layer. After the bonding, the sensing body is assembled to a housing. In the method of manufacturing a pressure sensor, an inspection step of inspecting bubbles in the glass layer after the bonding is provided, and the sensing body whose inspection result is determined to be good is attached to the housing. Production method.
【請求項2】 前記検査工程は、前記拡散ゲージの下の
前記ガラス層の気泡を検査するものであることを特徴と
する請求項1に記載の圧力センサの製造方法。
2. The method for manufacturing a pressure sensor according to claim 1, wherein the inspecting step inspects air bubbles in the glass layer below the diffusion gauge.
【請求項3】 前記シリコンチップは面方位が(11
0)のものであって、前記拡散ゲージはセンターゲージ
とサイドゲージで構成されており、前記検査工程は、前
記センターゲージの下の前記ガラス層の気泡を検査する
ものであることを特徴とする請求項2に記載の圧力セン
サの製造方法。
3. The silicon chip has a plane orientation of (11).
0), wherein the diffusion gauge is constituted by a center gauge and a side gauge, and the inspection step is to inspect bubbles in the glass layer below the center gauge. A method for manufacturing the pressure sensor according to claim 2.
【請求項4】 前記検査工程は、前記気泡が200μm
以下である場合に検査結果を良好とするものであること
を特徴とする請求項3に記載の圧力センサの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the air bubbles are 200 μm.
4. The method according to claim 3, wherein the inspection result is improved when the following conditions are satisfied.
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