HRP20151237T1 - Pripravci reagensa s niskom ukupnom soli i sustavi za biosenzore - Google Patents

Claims (15)

1. Ispitni senzor za određivanje koncentracije analita u uzorku, koji sadrži: spremnik koji ima zapreminu spremnika; barem dva vodiča u spremniku, gdje je jedan od vodiča radna elektroda koja ima površinu radne elektrode; te pripravak reagensa smješten na radnoj elektrodi, a pripravak reagensa sadrži vezivo, pufersku sol, posrednik, enzimski sustav i ne-ionski surfaktant, te posrednik sadrži najviše 20% (w/w) neorganske soli, ne-prijelaznog metala; gdje je puferska sol prisutna u koncentraciji od najviše 9.54 nmol po mm2 površine područja pripravka reagensa, ili najviše 67 nmol po µL volumena spremnika, ili najviše 167 nmol po mm2 površine radne elektrode; i posrednik je prisutan u koncentraciji od najviše 4.76 nmol po mm2 površine područja pripravka reagensa, ili najviše 40 nmol po µL volumena spremnika, ili najviše 100 nmol po mm2 površine radne elektrode.

2. Senzor prema zahtjevu 1, naznačen time da pripravak reagensa sadrži od oko 0.14 do oko 0.43 µg veziva po mm2 površine područja pripravka reagensa, od oko 2.30 do 9.54 nmol, poželjno od oko 3.40 do oko 4.77 nmol, puferske soli po mm2 površine područja pripravka reagensa, od oko 1.70 do 4.76 nmol, poželjno od oko 2.80 do oko 4.00 nmol, posrednika po mm2 površine područja pripravka reagensa, od oko 0.07 do oko 0.3 Jedinica enzimskog sustava po mm2 površine područja pripravka reagensa, i od oko 0.04 do oko 0.24 µg ne-ionskog surfaktanta po mm2 površine područja pripravka reagensa.

3. Senzor prema zahtjevu 1, naznačen time da pripravak reagensa sadrži od oko 1 do oko 3 µg polimernog veziva po µL volumena spremnika, od oko 16 do 67 nmol, poželjno od oko 24 do oko 34 nmol, puferske soli po µL volumena spremnika, od oko 12 do 40 nmol, poželjno od oko 20 do oko 28 nmol, posrednika po µL volumena spremnika, od oko 0.5 do oko 1.8 jedinica enzimskog sustava po µL volumena spremnika, i od oko 0.3 do oko 1.7 µg ne-ionskog surfaktanta po µL volumena spremnika.

4. Senzor prema zahtjevu 1, naznačen time da pripravak reagensa sadrži od oko 1 do oko 7.5 µg veziva po mm2 površine radne elektrode, od oko 16 do 167 nmol, poželjno od oko 24 do oko 84 nmol, puferske soli po mm2 površine radne elektrode, od oko 12 do 100 nmol, poželjno od oko 20 do oko 70 nmol, posrednika po mm2 površine radne elektrode, od oko 0.5 do oko 5 jedinica enzimskog sustava po mm2 površine radne elektrode, te od oko 0.3 do oko 4.3 µg ne-ionskog surfaktanta po mm2 površine radne elektrode.

5. Senzor prema bilo kojem od zahtjeva 1-4, naznačen time da dodatno sadrži ionski surfaktant.

6. Senzor prema zahtjevu 5, naznačen time da ionski surfaktant sadrži anionski surfaktant.

7. Senzor prema zahtjevu 6, naznačen time da sadrži od oko 3 do oko 16 ng anionskog surfaktanta po mm2 površine područja pripravka reagensa, ili od oko 20 do oko 140 ng anionskog surfaktanta po µL volumena spremnika, ili od oko 10 do oko 350 ng anionskog surfaktanta po mm2 površine radne elektrode.

8. Senzor prema bilo kojem od zahtjeva 1-7, naznačen time da puferska sol sadrži Na2HPO4.

9. Senzor prema bilo kojem od zahtjeva 1-8, naznačen time da posrednik sadrži najviše 15% (w/w), najviše 10% (w/w), najviše 5% (w/w) ili najviše 4% (w/w) soli neorganskog, ne-prijelaznog metala.

10. Senzor prema bilo kojem od zahtjeva 1-9, naznačen time da ne-ionski surfaktant sadrži surfaktant na bazi šećera.

11. Biosenzorski sustav, za određivanje koncentracije analita u uzorku, naznačen time da sadrži: ispitni senzor koji ima spremnik, barem dva vodiča u spremniku gdje je jedan od vodiča radna elektroda, te pripravak reagensa smješten na ili blizu radne elektrode, pripravak reagensa sadrži vezivo, pufersku sol, enzimski sustav, ne-ionski surfaktant, i posrednik koji sadrži najviše 20% (w/w) neorganske soli, ne-prijelaznog metala; i uređaj za mjerenje u električnoj komunikaciji s ispitnim senzorom; gdje uređaj za mjerenje mjeri vrijednost izlaznog signala iz ispitnog senzora kod maksimalnog kinetičkog djelovanja unutar najviše 7 sekundi od uvođenja uzorka u ispitni senzor, gdje vrijednost izlaznog signala reagira na koncentraciju analita u uzorku, uređaj za mjerenje određuje barem jednu vrijednost ΔS koja reagira na barem jedan parametar greške, te uređaj za mjerenje nadalje određuje koncentraciju analita u uzorku iz kompenzacijske jednadžbe koja uključuje barem jednu referentnu korelaciju i barem jednu vrijednost ΔS; gdje kompenzacijska jednadžba ima vrijednost R2 od barem 0.5.

12. Sustav prema zahtjevu 11, naznačen time da pripravak reagensa ispitnog senzora sadrži: pufersku sol u koncentraciji od najviše 9.54 nmol po mm2 površine područja pripravka reagensa, posrednik u koncentraciji od najviše 4.76 nmol po mm2 površine područja pripravka reagensa.

13. Sustav prema zahtjevu 11, naznačen time da spremnik ispitnog senzora ima volumen spremnika, te pripravak reagensa sadrži: pufersku sol u koncentraciji od najviše 67 nmol po µL volumena spremnika, posrednik u koncentraciji od najviše 40 nmol po µL volumena spremnika.

14. Sustav prema zahtjevu 11, naznačen time da radna elektroda ispitnog senzora ima površinu radne elektrode, te pripravak reagensa sadrži: pufersku sol u koncentraciji od najviše 167 nmol po mm2 površine radne elektrode, posrednik u koncentraciji od najviše 100 nmol po mm2 površine radne elektrode.

15. Sustav prema bilo kojem od zahtjeva 11-14, naznačen time da mjerni uređaj mjeri vrijednost izlaznog signala iz ispitnog senzora kod maksimalnog kinetičkog djelovanja unutar najviše 5 sekundi od uvođenja uzorka u ispitni senzor, ili unutar najviše 3.5 sekundi od uvođenja uzorka u ispitni senzor.