FR850990A - Procédé et appareil pour déposer des métaux par évaporation thermique dans le vide - Google Patents

Procédé et appareil pour déposer des métaux par évaporation thermique dans le vide

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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2511709A1 (fr) * 1981-08-21 1983-02-25 Thomson Csf Procede pour obtenir un vide pousse dans l'enceinte d'un reacteur d'epitaxie par jets moleculaires et reacteur mettant en oeuvre ce procede

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2511709A1 (fr) * 1981-08-21 1983-02-25 Thomson Csf Procede pour obtenir un vide pousse dans l'enceinte d'un reacteur d'epitaxie par jets moleculaires et reacteur mettant en oeuvre ce procede

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