FR3051413B1 - Procede d'etalonnage d'un dispositif lumineux - Google Patents
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Abstract
L'invention concerne un procédé d'étalonnage (100) d'un dispositif d'éclairage (200) de véhicule automobile, le dispositif d'éclairage (200) comprenant (i) une pluralité de sources lumineuses (211), chaque source lumineuse (211) étant agencée pour émettre au moins un rayon lumineux (250) et (ii) une optique de mise en forme (220) des rayons lumineux (250) émis par au moins une partie des sources lumineuses (211) en un faisceau projeté (260) ; le procédé d'étalonnage (100) étant caractérisé en ce qu'il comprend au moins une itération des étapes suivantes : - une étape de sélection (101) d'un sous-ensemble de sources lumineuses (211) ; - une étape de configuration (102) des sources lumineuses (211) du sous-ensemble de manière à ce qu'elles émettent toutes au moins un rayon lumineux (250) ; - une étape de détection (103) du faisceau projeté (260) par un système de mesure (232) ; - une étape de détermination (104) d'au moins un écart entre le faisceau projeté (260) avec au moins un paramètre de référence d'un faisceau de référence. L'invention concerne aussi un dispositif d'étalonnage (230) mettant en œuvre un tel procédé (100).
Description
« PROCEDE D’ETALONNAGE D’UN DISPOSITIF LUMINEUX»
Domaine technique
La présente invention concerne un procédé d’étalonnage d’un dispositif lumineux, et plus particulièrement d’un dispositif d’éclairage pour véhicule automobile. L’invention concerne aussi le dispositif d’étalonnage d’un dispositif lumineux mettant en œuvre un tel procédé. État de la technique antérieure
On connaît des dispositifs d’éclairage pour véhicule qui réalisent la projection sur la route en avant du véhicule d’un faisceau d’éclairage qui permet au conducteur du véhicule de voir et de conduire en toute sécurité, notamment en conditions nocturnes.
De tels dispositifs d’éclairage mettent en œuvre des sources lumineuses pour générer des rayons lumineux qui sont mis en forme par un système optique afin de produire un faisceau projeté respectant un certain nombre de paramètres photométriques réglementaires prédéfinis. Ces paramètres réglementaires, dits de référence, ont trait notamment à la morphologie du faisceau projeté, à l’intensité lumineuse de certains points de référence et/ou à la longueur d’onde du faisceau projeté.
Un faisceau projeté est considéré comme réglementaire dès lors qu’il répond aux dispositions énumérées dans un règlement national ou communautaire. Plus particulièrement, un tel règlement peut fixer une grille photométrique que le faisceau projeté doit respecter. A titre d’exemple pour un dispositif d’éclairage, le faisceau projeté doit respecter les règlements européens ECE R98, ECE R112, ECE R113 ou ECE R123, dans leurs dernières modifications entrées en vigueur le 9 décembre 2015 au plus tard et/ou les règlements américains comme le « Fédéral Motor Vehicle Safety Standard 108 » (EMVSS 108) dont la dernière modification est entrée en vigueur le 15 décembre 2015-
Ces règlements fixent des paramètres photométriques pour des feux de route et pour des feux de croisement.
On connaît des dispositifs d’éclairage mettant en œuvre une pluralité de sources lumineuses individuelles organisées en une matrice bidimensionnelle, chaque source lumineuse individuelle étant contrôlable indépendamment les unes par rapport aux autres.
Dans le cas des dispositifs d’éclairage qui comportent une pluralité de de sources lumineuses individuelles organisées en une matrice bidimensionnelle, le faisceau projeté est obtenu par la combinaison des rayons lumineux émis par au moins une partie des sources lumineuses.
Plus particulièrement, un premier sous-ensemble de sources lumineuses peut être utilisé afin de « construire » un faisceau projeté correspondant à un feu de croisement, et un deuxième sous-ensemble de sources lumineuses peut être utilisé afin de « construire » un faisceau projeté correspondant à un feu de route.
Dans ce cas, il est nécessaire de déterminer les premier et/ou deuxième sous-ensembles de la matrice de sources lumineuses individuelles qui, associés au système optique, permettent d’obtenir un faisceau projeté correspondant à un feu de route et/ou à un feu de croisement.
La détermination des sous-ensembles de sources lumineuses correspondant aux différents types de faisceaux projetés dépend non seulement des caractéristiques de la matrice de sources lumineuses individuelles en tant que telle et de celles du système optique, mais aussi de la précision de l’assemblage du dispositif d’éclairage, et plus particulièrement de la position relative des sources lumineuses par rapport au foyer du système optique. Généralement, on vise à placer les sources lumineuses sensiblement au foyer de tels systèmes optiques. Toutefois, dans le cas de sources lumineuses individuelles organisées en matrices bidimensionnelles, les dimensions des matrices bidimensionnelles sont telles qu’il devient plus difficile de les placer au niveau du foyer des systèmes optiques correspondant. Par ailleurs, les jeux d’assemblage de telles sources lumineuses avec les systèmes optiques associés risquent de générer des incertitudes sur lesdits assemblages conduisant à des dispersions d’autant plus grandes de la position relative des sources lumineuses par rapport aux systèmes optiques associés.
Il existe ainsi un besoin de vérifier la position relative des sources lumineuses par rapport au foyer du système optique au regard notamment des dispositions réglementaires en matière de faisceaux projetés par des dispositifs d’éclairage pour véhicules automobiles.
Exposé de l’invention
Selon un premier aspect de l’invention, on atteint au moins l’un des objectifs précités avec un procédé d’étalonnage d’un dispositif d’éclairage de véhicule automobile, le dispositif d’éclairage comprenant (i) une pluralité de sources lumineuses, chaque source lumineuse étant agencée pour émettre au moins un rayon lumineux et (ii) une optique de mise en forme des rayons lumineux émis par au moins une partie des sources lumineuses en un faisceau projeté, le procédé d’étalonnage comprenant les étapes suivantes : 1. une étape de sélection d’un premier sous-ensemble de sources lumineuses ; 2. une étape de configuration des sources lumineuses du premier sous-ensemble de sources lumineuses de manière à ce qu elles émettent toutes au moins un rayon lumineux ; 3- une étape de détection du faisceau projeté par un système de mesure ; 4- une étape de détermination d’au moins un écart mesuré entre un premier faisceau projeté par le premier sous-ensemble au travers de l’optique de mise en forme avec au moins un paramètre de référence d’un faisceau de référence.
Comme évoqué précédemment, la présente invention vise à étalonner des dispositifs d’éclairage comprenant préférentiellement, mais non exclusivement, des sources lumineuses individuelles organisées en une matrice bidimensionnelle dans laquelle chaque source lumineuse individuelle est contrôlable indépendamment des autres.
Les sources lumineuses individuelles sont préférentiellement du type semi-conducteur, telles que par exemple des LEDs (acronyme anglophone pour « Light-Emitting Diode », Diode Électroluminescente).
Chaque source lumineuse individuelle de la matrice est adressée par un dispositif électronique de commande qui permet de commander le courant électrique qui la traverse et, in fine, l’intensité lumineuse émise par la source lumineuse individuelle.
Le dispositif électronique de commande peut comprendre un circuit intégré permettant de reproduire une ou plusieurs fonctions électroniques en intégrant plusieurs types de composants électroniques dans un volume réduit, rendant le circuit facile à mettre en œuvre. A titre d’exemples non limitatifs, un tel circuit intégré peut prendre la forme : — d’un dispositif de pilotage permettant de convertir une alimentation électrique issue d'un réseau d'alimentation électrique en une alimentation électrique adaptée à la réalisation d'une fonction lumineuse souhaitée, et éventuellement à fournir ladite alimentation électrique adaptée à la source lumineuse pour la réalisation de ladite fonction lumineuse souhaitée ; — d’un AS1C (acronyme anglophone pour « Application-Specific integrated Circuit »), est un circuit intégré développé pour au moins une application spécifique. En général, un AS1C regroupe un grand nombre de fonctionnalités uniques ou réalisées sur mesure ; — d’un ASSP (acronyme anglophone pour « Application Spécifie Standard Product » est un circuit intégré regroupant un grand nombre de fonctionnalités pour satisfaire à une application généralement standardisée. — d’un composant de puissance analogique ou numérique.
Dans le cas où le dispositif d’éclairage comprend une matrice bidimensionnelle de sources lumineuses individuelles, il est possible au cours de la première étape de sélectionner un très grand nombre de sous-ensembles de sources lumineuses de tailles et de formes variées en fonction des besoins recherchés, et plus particulièrement en fonction du type de faisceau projeté à réaliser. Notamment, il est possible de « découper » la matrice bidimensionnelle de sources lumineuses en sous-ensembles unitaires qui sont successivement étalonnés selon le procédé conforme au premier aspect de l’invention. A titre d’exemple non limitatif, un sous-ensemble unitaire peut comprendre au moins une partie des sources lumineuses d’une ligne ou d’une colonne de la matrice bidimensionnelle.
Par défaut, un premier sous-ensemble prédéfini de sources lumineuses peut comprendre une partie des sources lumineuses de la matrice bidimensionnelle qui contribuent à l’obtention d’un faisceau projeté du type feu de croisement. La forme et les dimensions du premier sous-ensemble prédéfini dépendent notamment de la puissance des sources lumineuses, des propriétés optiques de l'optique de mise en forme et/ou de la position relative du premier sous-ensemble prédéfini par rapport à l’optique de mise en forme et/ou de son foyer. A titre d’exemple non limitatif, la forme du premier sous-ensemble prédéfini peut être rectangulaire ou comprendre une pluralité de sources lumineuses organisées en lignes, chaque ligne étant éventuellement décalée par rapport à la précédente et/ou chaque ligne comprenant un nombre éventuellement différent de sources lumineuses.
De manière analogue, un deuxième sous-ensemble prédéfini de sources lumineuses peut comprendre une partie des sources lumineuses de la matrice bidimensionnelle qui contribuent à l’obtention d’un faisceau projeté du type feu de route. Le deuxième sous-ensemble prédéfini peut comprendre au moins une partie des sources lumineuses du premier sous-ensemble prédéfini. La forme et les dimensions du deuxième sous-ensemble prédéfini dépendent notamment de la puissance des sources lumineuses, des propriétés optiques de l’optique de mise en forme et/ou de la position relative du premier sous-ensemble prédéfini par rapport à l’optique de mise en forme et/ou de son foyer. A titre d’exemple non limitatif, la forme du deuxième sous-ensemble prédéfini peut être rectangulaire ou comprendre une pluralité de sources lumineuses organisées en lignes, chaque ligne étant éventuellement décalée par rapport à la précédente et/ou chaque ligne comprenant un nombre éventuellement différent de sources lumineuses.
Au cours de la deuxième étape du procédé conforme au premier aspect de l’invention, le contrôleur commande le dispositif électronique de commande afin que ce dernier adresse toutes les sources lumineuses du premier sous-ensemble pour y faire circuler au moins un courant qui permette à chacune d’entre elles d émettre au moins un rayon lumineux. Éventuellement, chaque source lumineuse du premier sous-ensemble est commandée par le dispositif électronique de commande de manière individuelle de manière à contrôler l’émission lumineuse de chaque source lumineuse du premier sous-ensemble de manière indépendante.
Au moins une parte des rayons lumineux émis par les sources lumineuses du premier sous-ensemble traverse l’optique de mise en forme. Les rayons lumineux qui traversent l’optique de mise en forme forment collectivement le premier faisceau projeté du dispositif d’éclairage.
Au cours de la troisième étape du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention, le premier faisceau projeté est détecté par un système de mesure. Le système de mesure comprend au moins un capteur agencé pour mesurer un paramètre photométrique du premier faisceau projeté, tel que par exemple au moins une intensité lumineuse et/ou une longueur d’onde.
Au cours de la quatrième étape du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention, au moins une partie du premier faisceau projeté par le premier sous-ensemble au travers de l’optique de mise en forme est comparée avec au moins une partie correspondante du faisceau de référence afin de déterminer le ou les écarts mesurés.
Le faisceau de référence correspond à un étalon local qui sert de référence à la mesure photométrique réalisée durant la troisième étape du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention.
Tout ou partie du faisceau de référence et/ou du premier faisceau projeté peut être utilisée afin de déterminer les écarts mesurés. Plus particulièrement, des paramètres de référence peuvent être définis afin de mesurer des écarts entre le premier faisceau projeté et le faisceau de référence. Ils correspondent préférentiellement à des points de mesure particulier qui seront détaillées dans les paragraphes suivants. Les paramètres de références correspondent ainsi à des étalons locaux pour des points de mesure particuliers.
Alternativement, les paramètres de référence peuvent correspondre à des paramètres réglementaires tels qu’évoqués précédemment.
Ainsi, la présente invention permet, à l’aide d’un nouveau procédé d’étalonnage, de vérifier et d’améliorer la qualité de l’assemblage des dispositifs d’éclairage en quantifiant les écarts existants entre le faisceau projeté et le faisceau de référence. La connaissance de ces écarts permet par exemple d’apporter une correction sur le montage du dispositif d’éclairage, notamment au regard de la position relative de la matrice bidimensionnelle de sources lumineuses par rapport à l’optique de mise en forme. Cette correction peut par exemple être réalisée postérieurement à la mesure réalisée durant le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention. Néanmoins, le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention peut aussi comprendre une étape ultérieure de modification du premier sous-ensemble de sources lumineuses en fonction de l’au moins un écart mesuré afin de reconfigurer directement la matrice bidimensionnelle de sources lumineuses en correction de l’écart mesuré. Cette étape ultérieure de modification du premier sous-ensemble permet de modifier le premier sous-ensemble de sources lumineuses afin de définir un nouveau premier sous-ensemble qui permet de générer conjointement avec l’optique de mise en forme un nouveau premier faisceau projeté.
Selon une première alternative, la modification du premier sous-ensemble de sources lumineuses en un nouveau premier sous-ensemble de sources lumineuses permet de compenser pleinement le ou les écarts mesurés, de sorte que le nouveau premier faisceau projeté correspond au moins en partie au faisceau de référence.
Selon une deuxième alternative, le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention est itératif. Ainsi, à chaque itération, un nouveau premier sous-ensemble de sources lumineuses est déduit de ou des écarts mesurés avec le faisceau de référence. Consécutivement, à chaque itération du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention, l’écart mesuré entre le premier faisceau projeté construit à partir du premier sous-ensemble de sources lumineuses définies par rapport à l’écart mesuré lors de l’itération précédente et le faisceau de référence est strictement inférieur audit écart mesuré lors de l’itération précédente. Dans cette alternative itérative du procédé conforme au premier aspect de l’invention, les étapes du procédé sont répétées jusqu’à ce que le ou les écarts mesurés entre tout ou partie du premier faisceau projeté soit inférieur à une valeur seuil.
Cette valeur seuil traduit un taux d’erreur acceptable entre le premier faisceau projeté et le faisceau de référence. Ce taux d’erreur acceptable peut par exemple être fixé dans les dispositions réglementaires évoquées précédemment.
De manière avantageuse, dans un procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention, l’étape de modification du premier sous-ensemble de sources lumineuses correspond à l’une quelconque des transformations ci-dessous prises seules ou en combinaison et permettant de modifier la distribution spatiale du flux lumineux traversant l’optique de mise en forme : — une transformation homothétique du premier sous ensemble de sources lumineuses pouvant correspondre par exemple à une dilatation ou à une contraction du premier sous-ensemble ; et/ou — une translation du premier sous-ensemble de sources lumineuses dans au moins une direction, et préférentiellement dans la direction de l’écart mesuré entre le premier faisceau projeté et le faisceau de référence ; et/ou — une transformation morphologique du premier sous-ensemble de sources lumineuses, permettant de modifier la forme du premier sous-ensemble de sources lumineuses.
De préférence, dans un procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements, l’étape de détection du premier faisceau projeté comprend une mesure de sa distribution spatiale d’intensité lumineuse dans un plan, dit de référence, le paramètre de référence étant du type d’une distribution spatiale des intensités lumineuses du premier faisceau de référence, et l’étape de détermination de l’écart comporte une étape de comparaison d’au moins une partie de la distribution spatiale des intensités lumineuses du premier faisceau projeté dans le plan de référence par rapport à au moins une partie correspondante de la distribution spatiale des intensités lumineuses du faisceau de référence.
Avantageusement, le plan de référence est sensiblement perpendiculaire à une direction moyenne de propagation du faisceau projeté, et préférentiellement situé à 25 mètres du dispositif d’éclairage.
Préférentiellement, le paramètre de référence correspond au maximum d’intensité lumineuse sur le plan de référence. D’une manière générale, le ou les paramètres de référence peuvent correspondre à des mesures d’intensités lumineuses réalisées en des positions particulières sur le plan de référence. Le ou les écarts mesurés correspondant peuvent ainsi avantageusement correspondre à : — une différence entre l’intensité lumineuse du premier faisceau projeté mesurée aux positions particulières et l’intensité lumineuse du faisceau de référence auxdites positions particulières correspondantes. Dans ce cas, l’étape de configuration du premier sous-ensemble de sources lumineuses comprend une modification du courant d’alimentation des sources lumineuses de manière à corriger leur intensité lumineuse ; et/ou — un vecteur correspondant à l’écart entre la position d’un maximum — local ou global — d’intensité lumineuse du premier faisceau projeté dans le plan de référence par rapport à un maximum d’intensité lumineuse correspondant du faisceau de référence. Dans ce cas, l’étape de modification du premier sous-ensemble de sources lumineuses comprend au moins une transformation du premier sous-ensemble telle que définie précédemment ; et/ou — une différence entre la longueur d’onde du premier faisceau projeté mesurée aux positions particulières et la longueur d’onde du faisceau de référence auxdites positions particulières correspondantes.
Selon un mode de réalisation préféré de l’invention, dans un procédé d’étalonnage conforme au premier aspect ou à l’un quelconque de ses perfectionnements : — l’étape de comparaison comprend la détermination d’au moins un vecteur, dit d’étalonnage, correspondant à l’écart entre la position d’un maximum d’intensité lumineuse du premier faisceau projeté dans le plan de référence par rapport à un maximum d’intensité lumineuse du faisceau de référence ; et éventuellement — l’étape de modification du sous-ensemble de sources lumineuses correspond à un déplacement du premier sous-ensemble de sources lumineuses en fonction du vecteur d’étalonnage ; et/ou — l’étape de sélection d’un sous-ensemble de sources lumineuses comprend en outre la sélection d’un deuxième sous-ensemble de sources lumineuses au moins en partie distinct du premier sous-ensemble, et l’étape de modification du sous-ensemble lumineux comprend en outre une modification du deuxième sous ensemble lumineux en fonction de l’écart mesuré entre le premier faisceau projeté par le premier sous-ensemble au travers de l’optique de mise en forme avec le paramètre de référence du faisceau de référence. Éventuellement, dans un procédé conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements, le paramètre de référence correspond à une distribution spatiale, dite de référence, de couleurs dans un plan, dit de référence, et l’étape de détermination de l’écart entre le faisceau projeté avec le paramètre de référence comporte une étape de comparaison d’au moins une partie de la distribution spatiale de couleurs du faisceau projeté dans le plan de référence par rapport à la distribution spatiale de référence des couleurs.
Selon un second aspect de l’invention, il est proposé un dispositif d’étalonnage d’un dispositif d’éclairage, caractérisé en ce que le dispositif d’étalonnage comprend des moyens agencés pour mettre en œuvre toutes les étapes du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements.
De manière avantageuse, le dispositif d’étalonnage conforme au second aspect de l’invention comprend (i) un contrôleur agencé pour pouvoir interfacer un dispositif électronique de commande du dispositif d’éclairage afin de commander l’émission d’au moins un rayon lumineux d’une pluralité de sources lumineuses, (ii) un système de mesure agencé pour pouvoir mesurer au moins une partie des propriétés photométriques et/ou optiques du faisceau projeté et (iii) une unité de traitement configurée pour déterminer l’écart entre le faisceau projeté et le paramètre de référence et mettre en œuvre au moins une partie des étapes du procédé conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements.
Le contrôleur et/ou l’unité de traitement peuvent avantageusement prendre la forme d’au moins un microcontrôleur et/ou d’un microprocesseur. Ils peuvent aussi comprendre des moyens de mémorisation et/ou de stockage des données. Eventuellement, le microcontrôleur et l’unité de traitement sont regroupées dans un seul système, par exemple un ordinateur.
Des modes de réalisation variés de l’invention sont prévus, intégrant selon l’ensemble de leurs combinaisons possibles les différentes caractéristiques optionnelles exposées ici.
Description des figures et des modes de réalisation D’autres caractéristiques et avantages de l’invention apparaîtront encore au travers de la description qui suit d’une part, et de plusieurs exemples de réalisation donnés à titre indicatif et non limitatif en référence aux dessins schématiques annexés d’autre part, sur lesquels : — la FIGURE 1 illustre le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention au travers d’un logigramme ; — la FIGURE 2 illustre le dispositif d’étalonnage conforme au deuxième aspect de l’invention ; — les FIGURES 3a, 3b, 3c, 3d,3c et 3f illustrent l’étalonnage d’une matrice bidimensionnelle de sources lumineuses à l’aide du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention ; — les FIGURES 4a, 4b et 4c illustrent un autre étalonnage d’une matrice bidimensionnelle de sources lumineuses à l’aide du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention ; — les FIGURES 5a et 5b illustrent deux configurations d’une matrice bidimensionnelle de sources lumineuses permettant de générer à la fois un feu de croisement et un feu de route à l’aide du procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention.
Les modes de réalisation qui seront décrits dans la suite ne sont nullement limitatifs ; on pourra notamment imaginer des variantes de l'invention ne comprenant qu’une sélection de caractéristiques décrites par la suite isolées des autres caractéristiques décrites, si cette sélection de caractéristiques est suffisante pour conférer un avantage technique ou pour différencier l'invention par rapport à l’état de la technique antérieur.
En particulier toutes les variantes et tous les modes de réalisation décrits sont combinables entre eux si rien ne s’oppose à cette combinaison sur le plan technique.
Sur les figures, les éléments communs à plusieurs figures conservent la même référence.
La LIGURE 1 illustre, au travers d’un logigramme, le procédé d’étalonnage 100 d’un dispositif d’éclairage de véhicule automobile conforme au premier aspect de l'invention et dans lequel : — la première étape 101 correspond à une étape de sélection d’un premier sous-ensemble de sources lumineuses organisées selon une matrice bidimensionnelle du dispositif d’éclairage ; — la deuxième étape 102 correspond à une étape de configuration des sources lumineuses du premier sous-ensemble de sources lumineuses de manière à ce qu elles émettent toutes au moins un rayon lumineux. Plus particulièrement, un contrôleur, éventuellement piloté par une unité de traitement, commande un dispositif électronique de commande du dispositif d’éclairage afin de faire circuler dans les sources lumineuses du premier sous-ensemble au moins un courant électrique suffisant à l’émission de l’au moins un rayon lumineux. Au moins une partie des rayons lumineux générés par les sources lumineuses du premier sous-ensemble traversent une optique de mise en forme pour générer un premier faisceau projeté qui possède des propriétés photométriques et/ou une distribution spatiale particulières ; — la troisième étape 103 correspond à une étape de détection du premier faisceau projeté par un système de mesure permettant de mesurer au moins un paramètre photométrique et/ou une distribution spatiale de l’au moins un paramètre photométrique du premier faisceau projeté ; — la quatrième étape 104 correspond à une étape de détermination d’au moins un écart mesuré entre le premier faisceau projeté et au moins un paramètre de référence d’un faisceau de référence. Cette étape de comparaison du premier faisceau projeté avec un étalon local — le ou les paramètres de référence et/ou le faisceau de référence — permet de caractériser le premier faisceau projeté sur la base d’un ou plusieurs points de mesure— par exemple des points particuliers de sa distribution spatiale — et au travers d’une ou plusieurs de ses propriétés optiques, telles qu’une intensité lumineuse et/ou une longueur d’onde.
Le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention peut en outre comprendre un certain nombre d’étapes additionnelles qui vont maintenant être décrites. En particulier, il peut comprendre en outre une étape de comparaison 108 et une étape de modification 105-E’étape de comparaison 108 vise à comparer le ou les écarts déterminés à l’étape 104 par rapport à au moins un seuil associé à chaque écart. Si le ou les écarts sont inférieurs au seuil correspondant, alors le premier faisceau projeté par le dispositif d’éclairage est considéré comme conforme aux paramètres de référence et/ou au faisceau de référence. En d’autres termes, si l’écart mesuré entre le faisceau de référence et le premier faisceau projeté est inférieur à un taux d’erreur acceptable, alors le dispositif d’éclairage correspondant est considéré comme produisant un premier faisceau projeté conforme au faisceau de référence, les sources lumineuses étant correctement situées par rapport à l’optique de mise en forme. Dans le cas contraire, si le ou les écarts sont supérieurs au seuil correspondant, alors le premier faisceau projeté par le dispositif d’éclairage est considéré comme étant non conforme par rapport aux paramètres de référence et/ou au faisceau de référence. Dans ce cas, les sources lumineuses ne sont pas correctement situées par rapport à l’optique de mise en forme, et ne produisent pas ainsi un premier faisceau projeté conforme au faisceau de référence. L’étape de modification 105 est une étape additionnelle du procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention et au cours de laquelle le premier sous-ensemble de sources lumineuses produisant le premier faisceau projeté est modifié en fonction du ou des écarts mesurés durant l’étape précédente 104. Cette étape de modification 105 est avantageusement réalisée postérieurement à l’étape 108, et plus particulièrement lorsque la comparaison entre le ou les écarts mesurés sont supérieurs aux seuils correspondant et/ou aux taux d’erreurs acceptable, de sorte que le premier faisceau projeté n’est pas conforme au faisceau de référence. La modification du premier sous-ensemble permet ainsi modifier les sources lumineuses sélectionnées dans le premier sous-ensemble afin de générer un nouveau premier faisceau projeté qui corrige au moins partiellement, et préférentiellement totalement, le ou les écarts par rapport à l’étalon local. Éventuellement, tel que décrit précédemment, le procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention peut être mis en œuvre au travers une seule séquence des étapes 101-105 présentées ci-dessus lorsque les modifications du premier sous-ensemble de sources lumineuses sont telles qu elles permettent d’annuler le ou les écarts mesurés par rapport à l’étalon local, ou à tout le moins de les réduire en dessous d’un taux d’erreur acceptable.
Alternativement, le procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention peut être mis en œuvre au travers de plusieurs itérations des étapes 101-104 présentées ci-dessus, les modifications successives du premier sous-ensemble de sources lumineuses au cours de l’étape de modification 105 permettant de réduire à chaque itération le ou les écarts mesurés entre le premier faisceau projeté généré à chaque itération par rapport à l’étalon local. A cet effet, à l’issue de l’étape de comparaison 108, si l’écart mesuré entre le faisceau de référence et le premier faisceau projeté est supérieur au taux d’erreur acceptable, alors le procédé d’étalonnage 100 est réitéré et redémarre à l’étape 102 en configurant les sources lumineuses du premier sous-ensemble modifié au cours de l’itération précédente de manière à ce quelles émettent au moins un rayon lumineux. Ce mode de fonctionnement est dit itératif 107-
Le procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention permet ainsi d’étalonner un premier faisceau projeté émis par un dispositif d’éclairage d’un véhicule automobile. Le premier faisceau projeté correspond par exemple à un feu de croisement.
Eventuellement, le procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention permet aussi de manière astucieuse d’étalonner un deuxième faisceau projeté émis par le dispositif d’éclairage et correspondant par exemple à un faisceau complémentaire du premier faisceau projeté pour réaliser, par combinaison de ces deux faisceaux projetés, un faisceau projeté correspondant à un feu de route. De manière comparable au premier faisceau projeté, le deuxième faisceau projeté est généré par un deuxième sous-ensemble de sources lumineuses qui sont toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Au moins une partie des rayons lumineux émis par les sources lumineuses du deuxième sous-ensemble est mise en forme par l’optique de mise en forme. Eventuellement, le deuxième sous-ensemble de sources lumineuses permet à lui seul de construire un deuxième faisceau projeté correspondant par exemple à un feu de route. Dans ce cas, le deuxième sous-ensemble de sources lumineuses est distinct au moins en partie du premier sous-ensemble.
Pour ce faire, le procédé d’étalonnage 100 comprend une étape ultérieure 106 de propagation des écarts mesurés pour le premier sous-ensemble de sources lumineuses au deuxième sous-ensemble de sources lumineuses. Plus particulièrement, dans cette variante de réalisation illustrée en traits pointillés sur la FIGURE 1, l’étape 106 permet de modifier le deuxième sous ensemble lumineux en fonction de l’écart mesuré entre le premier faisceau projeté par le premier sous-ensemble et le paramètre de référence du faisceau de référence. Cette modification permet de corriger le deuxième faisceau projeté et de le rendre conforme à un deuxième faisceau de référence qui n’est pas utilisé en tant que tel durant le procédé d’étalonnage 100. A titre d’exemple non limitatif, cette modification du deuxième sous-ensemble dépendante à celle réalisée sur le premier sous-ensemble peut être du type d’une corrélation, le deuxième sous-ensemble étant modifié de la même manière que le premier sous-ensemble, à un coefficient multiplicatif prêt. Préférentiellement, la modification du deuxième sous-ensemble est identique à la modification réalisée sur le premier sous-ensemble.
Dans le cas par exemple où le procédé d’étalonnage du premier sous-ensemble conduit à une modification du premier sous-ensemble par une transformation du type d’une translation d’un vecteur donné, alors toutes les sources lumineuses du premier sous-ensemble modifié configurées pour émettre au moins un rayon lumineux se déduisent de celles du premier sous-ensemble initial par une translation du vecteur donné. De manière astucieuse, le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention permet dans cette variante de réalisation de déduire le deuxième sous-ensemble modifié du deuxième sous-ensemble initial en appliquant au deuxième sous-ensemble initial la même transformation vectorielle à chacune des sources lumineuses.
Alternativement, un point de référence peut être associé à chaque sous-ensemble, le point de référence représentant la position de tout le sous-ensemble donné sur la matrice bidimensionnelle. Dès lors, la modification du sous-ensemble durant l’étape 105 du procédé d’étalonnage peut se réduire à un déplacement du point de référence en fonction du vecteur déterminé à l’étape précédente, le point de référence initial étant transformé — déplacé — en un point de référence modifié. Le sous-ensemble modifié est ensuite « reconstruit » autour du point de référence modifié.
Dans ce cas, le deuxième sous-ensemble peut avantageusement être déduit de la transformation appliquée au premier sous-ensemble de manière à déplacer le point de référence initial du deuxième sous-ensemble en fonction de la transformation appliquée au premier sous-ensemble, et de « reconstruire » le deuxième sous-ensemble autour du point de référence modifié du deuxième sous-ensemble.
La LIGURE 2 illustre le dispositif d’étalonnage 230 conforme au deuxième aspect de l'invention et mis en œuvre pour étalonner un dispositif d’éclairage 200 pour véhicule automobile.
Le dispositif d’éclairage 200 comprend : — une matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 agencées pour émettre chacune au moins un rayon lumineux 250 ; — un dispositif électronique de commande 213 agencé pour pouvoir commander l’éclairage de la matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 du dispositif d’éclairage 200 ; — une optique de mise en forme 220 agencée pour mettre en forme au moins une partie des rayons lumineux 250 en un faisceau projeté 200. Les rayons lumineux 250 émis par les sources lumineuses 211 pénètrent dans l’optique de mise en forme 220 par une face arrière 221 faisant face à la face d’émission 212 des sources lumineuses 211. Les rayons lumineux 250 ressortent de l’optique de mise en forme 220 par une face avant 222.
De manière avantageuse, sur de tels dispositifs d’éclairage, la matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 est située au moins en partie au foyer de l’optique de mise en forme.
Le dispositif d’étalonnage 230 comprend des moyens agencés pour mettre en œuvre au moins une partie des étapes du procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements. Plus particulièrement, le dispositif d’étalonnage 230 comprend : — un contrôleur 233 agencé pour pouvoir interfacer le dispositif électronique de commande 213 du dispositif d’éclairage 200 afin de commander l’éclairage d’au moins une partie des sources lumineuses 211 de la matrice bidimensionnelle 210 ; — un système de mesure 232 agencé pour pouvoir mesurer au moins une partie des caractéristiques optiques et/ou photométriques du faisceau projeté 200. Plus particulièrement, le système de mesure 232 peut avantageusement être agencé pour pouvoir mesurer au moins une propriété photométrique du faisceau projeté en au moins un point situé sur un plan transversal à la direction moyenne de propagation du faisceau projeté 200. — une unité de traitement configurée pour déterminer notamment l’écart entre le faisceau projeté 200 et le ou les paramètres de référence et/ou le faisceau de référence, et mettre en œuvre au moins une partie des étapes du procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention ou à l’un quelconque de ses perfectionnements.
Selon une variante de réalisation avantageuse et représentée sur la FIGURE 2, le dispositif d’étalonnage 230 conforme au second aspect de l’invention comprend un écran 231 agencé pour pouvoir intercepter au moins une partie du faisceau projeté 200. Préférentiellement, l’écran 231 est agencé pour intercepter la totalité des rayons lumineux 250 qui composent le faisceau projeté 200. L’écran 231 est avantageusement situé dans un plan transversal à la direction moyenne de propagation du faisceau projeté. Plus particulièrement, l’écran 231 est situé dans un plan perpendiculaire à l’axe optique de l’optique de mise en forme 220, correspondant sur la P1GLIRE 2 au rayon lumineux 250 central qui n’est pas dévié par la face de sortie 222 de l’optique de mise en forme 220. L’écran 231 est agencé pour qu’au moins une mesure photométrique puisse être réalisée sur ledit écran. Éventuellement, l’écran 231 comprend des capteurs photométriques pour mesurer sur au moins une partie de sa surface au moins une propriété photométriqué et/ou optique du faisceau projeté 200.
Le système de mesure 232 peut être situé d’un côté ou de l’autre de l’écran de mesure 231 par rapport au dispositif d’éclairage 200.
Les LIGURES 3^, 3b, 3c, 3d,3e et 3f illustrent l’étalonnage d une matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 à l’aide du procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention et durant lequel plusieurs lignes de la matrice bidimensionnelle 210 ont été étalonnées afin déterminer d’une part les caractéristiques photométriques et/ou optiques du faisceau projeté par du dispositif d’éclairage 200 correspondant. Les schémas de gauche illustrent differentes configurations de la matrice bidimensionnelle 210 et les diagrammes de droite illustrent, pour chaque configuration, la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 obtenue par la matrice bidimensionnelle 210 ainsi configurée et mesurés par le dispositif d’étalonnage 230.
La figure 3a illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’un premier sous-ensemble 320 de sources lumineuses 211 et réparties selon 4 lignes de l6 sources lumineuses chacune, les sources lumineuses 211 du premier sous-ensemble 320 étant toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 31θ de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux.
Pour chaque sous-ensemble 320-324 et 33θ, le dispositif d’étalonnage 230 mesure la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 dans un plan préférentiellement perpendiculaire à la direction moyenne de propagation du faisceau projeté 200. La distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 se décompose en deux zones distinctives : — une première zone 410 dans laquelle l’intensité lumineuse mesurée par le dispositif d’étalonnage 230 est nulle ou quasi nulle et correspondant à une zone du plan qui n’est pas éclairée par le dispositif d’éclairage 200 ; — une deuxième zone 420 dans laquelle l’intensité lumineuse mesurée par le dispositif d’étalonnage 230 est non nulle et correspond à une zone du plan qui est éclairée par le dispositif d’éclairage 200.
La deuxième zone 420 comprend plusieurs sous-parties d’intensités variables et globalement concentriques.
Plus particulièrement, le dispositif d’étalonnage 230 permet de mesurer la présence de plusieurs points particuliers de la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 : — le point correspondant au maximum d’intensité lumineuse 440 ; — la position, l’étendue et l’orientation de la ligne supérieure gauche 432 ; — la position, l’étendue et l’orientation de la ligne de coupure droite 431·
Ces points particuliers correspondent à des points remarquables identifiés notamment dans les dispositions réglementaires citées précédemment et qui permettent d’étalonner le faisceau projeté 200 par le dispositif d’éclairage 200. Ainsi, au moins une partie des points particuliers 43b 432, 440 du faisceau projeté est comparée à leurs équivalents d’un faisceau de référence. Chaque écart entre un des points particuliers 43b 432, 440 du faisceau projeté et son équivalent du faisceau de référence permet de définir au moins un paramètre de correction qui permet ensuite de modifier par exemple la morphologie et/ou la position et/ou les dimensions du sous-ensemble 320 de sources lumineuses 211 générant le faisceau projeté 200, tel que décrit précédemment.
Dans sa configuration initiale, le premier sous-ensemble 320 produit un faisceau projeté 200 dont la distribution spatiale n’est pas pleinement satisfaisante en comparaison à un faisceau de référence. En effet, la ligne supérieure gauche 432 n’est pas complètement rectiligne et la ligne de coupure droite 431 n’est pas non plus correctement définie.
Tel qu’illustré au travers des LIGURES 3b à 3f le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention peut être successivement mis en œuvre sur une série de premiers sous-ensembles 321-324 résultant chacun de la décomposition d’un premier sous-ensemble 320. Les quatre sous-ensembles 321-324 sont étalonnés séparément afin de reconstruire en LIGURE 3f un sous-ensemble modifié 330 qui permet de construire un faisceau projeté correspondant davantage au faisceau de référence par comparaison avec le faisceau projeté généré par le premier sous-ensemble 320. Ainsi : — la figure 3b illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’une première ligne 321 de la matrice bidimensionnelle 210, les sources lumineuses 211 de la première ligne 321 étant toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. La première ligne 321 correspond strictement à la ligne supérieure du premier sous-ensemble 320 illustré sur la FIGURE 3æ Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 310 de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux ; — la figure 3c illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’une deuxième ligne 322 de la matrice bidimensionnelle 210. Plus particulièrement, la deuxième ligne 322 correspond à un décalage vers la gaucbe et selon une amplitude de quatre sources lumineuses 211 de la ligne correspondante du premier sous-ensemble 320. Les sources lumineuses 211 de la deuxième ligne 322 sont toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 310 de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux ; — la figure 3d illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’une troisième ligne 323 de la matrice bidimensionnelle 210. Plus particulièrement, la troisième ligne 323 correspond à un décalage vers la gaucbe et selon une amplitude de trois sources lumineuses 211 de la ligne correspondante du premier sous-ensemble 320. Les sources lumineuses 211 de la troisième ligne 323 sont toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 310 de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux ; — la figure 3c illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’une quatrième ligne de la matrice bidimensionnelle 210. Plus particulièrement, la quatrième ligne 324 correspond à un décalage vers la gaucbe et selon une amplitude d’une source lumineuse 211 de la ligne correspondante du premier sous-ensemble 320. Les sources lumineuses 211 du quatrième sous ensemble 324 sont toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 310 de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux.
On constate ainsi que pour chacune des lignes 321-324 de sources lumineuses 211 configurées pour émettre au moins un rayon lumineux et éventuellement translatées par rapport aux lignes correspondantes du premier sous-ensemble 320, les distributions spatiales d’intensités lumineuses sont sensiblement conformes à un faisceau de référence. Plus particulièrement, les distributions spatiales des deuxièmes 322, troisièmes 323 et quatrièmes 324 lignes correspondent sensiblement à une translation vers le bas de la distribution spatiale d’intensité lumineuse de la première ligne 321.
Enfin, la figure 3f illustre une distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 d’un premier sous-ensemble 330 modifié de sources lumineuses 211 obtenu par combinaison des première 321, deuxième 322, troisième 323 et quatrième 324 lignes translatées illustrés au travers des figures 3b, 3c, 3d et 3c respectivement. Les sources lumineuses 211 du premier sous ensemble modifié 33θ sont toutes configurées pour émettre au moins un rayon lumineux. Les sources lumineuses 211 situées dans la zone complémentaire 31θ de la matrice bidimensionnelle 210 sont toutes configurées pour ne pas émettre de rayons lumineux. On constate ainsi que le premier sous-ensemble modifié 33θ permet de générer un faisceau projeté qui correspond davantage au faisceau de référence, en comparaison au faisceau projeté 200 qui avait été obtenu initialement avec le premier sous-ensemble initial 320. Ainsi, le procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention permet d’étalonner une pluralité de sous-ensembles de la matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 afin de trouver un sous-ensemble particulier qui permet de générer un faisceau projeté 200 conforme à un faisceau de référence.
De manière complémentaire, le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention permet d’étalonner chaque ligne de la matrice bidimensionnelle 210 afin de connaître la forme du faisceau projeté correspondant. Ainsi, en cas de défaillance de la matrice bidimensionnelle, il est possible de compenser les sources lumineuses défaillantes à l’aide d’autres sources lumineuses pour générer malgré tout un faisceau projeté conforme au faisceau de référence.
Les LIGURES 4a, 4b et 4c illustrent un autre étalonnage d’une matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 à l’aide du procédé d’étalonnage 100 conforme au premier aspect de l’invention. Plus particulièrement : — la FIGURE 4a illustre la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 et généré par un sous-ensemble 320 initial de sources lumineuses 211 d’une matrice bidimensionnelle 210, la distribution spatiale étant mesurée dans un plan préférentiellement perpendiculaire à la direction moyenne de propagation du faisceau projeté 200. Le sous-ensemble 320 initial comprend 64 sources lumineuses 211 réparties sur quatre lignes de l6 sources lumineuses chacune, tel qu’illustré sur la LIGURE 3a ; — la LIGURE 4b illustre la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 et généré par un premier sous-ensemble 33θ modifié de sources lumineuses 211. Le premier sous-ensemble modifié 320 est obtenu en décalant chaque ligne de sources lumineuses 211 du sous-ensemble initial et tel que décrit dans la LIGURE 3f ~ la FIGURE 4c illustre la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté 200 et généré par un deuxième sous-ensemble 320 modifié de sources lumineuses 211. Le deuxième sous-ensemble modifié 320 est obtenu en pilotant chaque ligne de sources lumineuses 211 de la matrice bidimensionnelle 210 de manière indépendante, afin de contrôler l’émission lumineuse de chaque ligne, indépendamment des autres. Plus particulièrement, la quatrième ligne du deuxième sous-ensemble modifié située à son extrémité inférieure est alimentée par un quatrième courant électrique permettant d’obtenir un flux lumineux de 1000 Lumen ; la troisième ligne située directement au-dessus de la quatrième ligne du deuxième sous-ensemble modifié est alimentée par un troisième courant électrique permettant d’obtenir un flux lumineux de 73θ Lumen ; la deuxième ligne située directement au-dessus de la troisième ligne du deuxième sous-ensemble modifié est alimentée par un deuxième courant électrique permettant d’obtenir un flux lumineux de 520 Lumen ; et la première ligne située directement au-dessus de la deuxième ligne du deuxième sous-ensemble modifié est alimentée par un premier courant électrique permettant d’obtenir un flux lumineux de 460 Lumen.
Les points particuliers de la distribution spatiale de l’intensité lumineuse détaillés sur les LIGURES 3 sont représentés sur les LIGURES 43, 4b et 4c. On constate ainsi que le procédé d’étalonnage permet d’une part de modifier le sous-ensemble de sources lumineuses générant le faisceau projeté afin de déplacer la position relative de certains points particuliers dans le plan de référence, et d’autre part de modifier la valeur de l’intensité lumineuse d’au moins une partie de la distribution spatiale. Avantageusement, ces transformations du sous-ensemble de sources lumineuses générant le faisceau projeté permettent de le rendre conforme à un faisceau de référence d’une part, et d’autre part de le rendre compatible avec les dispositions réglementaires citées précédemment.
Complémentairement, tel que cela a été précisé précédemment, le procédé d’étalonnage peut permettre de déterminer le sous-ensemble de sources lumineuses nécessaires pour l’obtention d’une deuxième fonction optique, telle que par exemple la génération d’un deuxième faisceau projeté correspondant à un feu de route.
Ainsi, en référence aux LIGURES 5a et 5b, une matrice bidimensionnelle 210 de sources lumineuses 211 peut être configurée d’une part à l’aide d’un premier sous-ensemble 521, 531 pour émettre un feu de croisement, et d’autre part à l’aide d’un sous-ensemble complémentaire 522, 532 pour émettre un feu de route, en collaboration avec le premier sous-ensemble.
Plus particulièrement, la FIGURE 5a illustre une première configuration de la matrice bidimensionnelle 210, dans laquelle le premier sous-ensemble est formé par 64 sources lumineuses réparties selon 4 lignes alignées de l6 sources lumineuses chacune, tel que détaillé précédemment au travers de la LIGURE 3a et permettant de générer un faisceau projeté du type de celui détaillé à la LIGURE 4a.
Dans ce cas, le faisceau de route est obtenu à l’aide d’un sous-ensemble complémentaire 522 de sources lumineuses qui permet de compléter la distribution spatiale de l’intensité lumineuse obtenue avec le premier sous-ensemble 521 et illustrée à la LIGURE 4a en augmentant sensiblement la zone 420 dans laquelle l’intensité lumineuse mesurée par le dispositif d’étalonnage 230 est non nulle et correspond à une zone du plan qui est éclairée par le dispositif d’éclairage 200. Le sous-ensemble complémentaire 522 est avantageusement composé de sources lumineuses 211, ici situées en dessous du premier sous-ensemble 521, les sources lumineuses 211 du sous-ensemble complémentaire formant un rectangle de 64 sources lumineuses 211 réparties en 4 lignes de 16 sources lumineuses 211 chacune. Le sous-ensemble complémentaire 522 est décalé de 7 colonnes vers la droite et 2 lignes vers le bas par rapport au premier sous-ensemble 521, de sorte qu’une portion de 2x9 sources lumineuses 211 est commune au premier sous-ensemble 521et au sous-ensemble complémentaire 522.
La LIGURE 5b illustre une deuxième configuration de la matrice bidimensionnelle 210, dans laquelle le premier sous-ensemble 531 est formé par 64 sources lumineuses réparties selon 4 lignes décalées de 16 sources lumineuses chacune, tel que détaillé précédemment au travers de la LIGURE 3f et permettant de générer un faisceau projeté du type de celui détaillé à la LIGURE 4b. dans ce cas, et tel qu’évoqué précédemment, le procédé d’étalonnage conforme au premier aspect de l’invention a permis de modifier un premier sous-ensemble de sources lumineuses afin de modifier la distribution spatiale de l’intensité lumineuse du faisceau projeté pour le rendre davantage conforme à un faisceau de référence et/ou à des dispositions réglementaires.
Dans ce cas, le faisceau de route est obtenu à l’aide du même sous-ensemble complémentaire 532 de sources lumineuses 211 que le sous-ensemble complémentaire 522 illustré à la LIGURE 5æ De manière comparable à la LIGURE 5a, le sous-ensemble complémentaire 532 permet de compléter la distribution spatiale de l’intensité lumineuse obtenue avec le premier sous-ensemble 531 et illustrée à la LIGURE 4b en augmentant sensiblement la zone 420 dans laquelle l’intensité lumineuse mesurée par le dispositif d’étalonnage 230 est non nulle et correspond à une zone du plan qui est éclairée par le dispositif d’éclairage 200. Le sous-ensemble complémentaire 532 est avantageusement composé des mêmes sources lumineuses 211 que celles détaillées pour la FIGURE 5a.
Bien sûr, l’invention n’est pas limitée aux exemples qui viennent d’être décrits et de nombreux aménagements peuvent être apportés à ces exemples sans sortir du cadre de l’invention. Notamment, les différentes caractéristiques, formes, variantes et modes de réalisation de l’invention peuvent être associées les unes avec les autres selon diverses combinaisons dans la mesure où elles ne sont pas incompatibles ou exclusives les unes des autres. En particulier toutes les variantes et modes de réalisation décrits précédemment sont combinables entre eux.
Claims (11)
- / Revendications1. Procédé d’étalonnage (lOO) d’un dispositif d’éclairage (200) de véhicule automobile, le dispositif d’éclairage (200) comprenant : — une pluralité de sources lumineuses (21l), chaque source lumineuse (21l) étant agencée pour émettre au moins un rayon lumineux (250) ; et — une optique de mise en forme (220) des rayons lumineux (250) émis par au moins une partie des sources lumineuses (211 ) en un faisceau projeté (260) ; le procédé d’étalonnage (lOO) étant caractérisé en ce qu’il comprend les étapes suivantes : ~ une étape de sélection (lOl) d’un premier sous-ensemble de sources lumineuses (21l) ; — une étape de configuration (102) des sources lumineuses (21l) du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) de manière à ce qu’elles émettent toutes au moins un rayon lumineux (250) ; — une étape de détection (103) du faisceau projeté (260) par un système de mesure (232) ; — une étape de détermination (104) d’au moins un écart mesuré entre un premier faisceau projeté (260) par le premier sous-ensemble (320) au travers de l’optique de mise en forme (220) et au moins un paramètre de référence d’un làisceau de référence ; ~ une étape ultérieure de modification (105) du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (211) en fonction de l’au moins un écart mesuré, l’étape de modification (105) du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) étant du type d’une transformation homothétique du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l).
- 2. Procédé d’étalonnage (lOO) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l’étape de modification (105) du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) est du type d’une translation du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) dans au moins une direction.
- 3. Procédé d’étalonnage (lOO) selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l’étape de modification (105) du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) est du type d’une transformation morphologique du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (211).
- 4· Procédé d’étalonnage (lOO) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l’étape de détection (103) du làisceau projeté (260) comprend une mesure de sa distribution spatiale d’intensité lumineuse dans un plan (231), dit de référence, le paramètre de référence étant du type d’une distribution spatiale des intensités lumineuses du faisceau de référence, et en ce que l’étape de détermination (104) de l’écart comporte une étape de comparaison d’au moins une partie de la distribution spatiale des intensités lumineuses du faisceau projeté (260) dans le plan de référence par rapport à au moins une partie correspondante de la distribution spatiale des intensités lumineuses du faisceau de référence.
- 5. Procédé d’étalonnage (lOO) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que le plan de référence (23l) est sensiblement perpendiculaire à une direction de propagation moyenne du faisceau projeté (260).
- 6. Procédé d’étalonnage (lOO) selon l’une quelconque des revendications 4 ou 5, caractérisé en ce que le paramètre de référence correspond au maximum (440) d’intensité lumineuse sur le plan (231) de référence.
- 7. Procédé d’étalonnage (lOO) selon la revendication précédente, caractérisé l’étape de comparaison comprend la détermination d’au moins un vecteur, dit d'étalonnage, correspondant à l’écart entre la position d’un maximum d’intensité lumineuse du faisceau projeté (260) dans le plan de référence par rapport à un maximum d’intensité lumineuse du faisceau de référence.
- 8. Procédé selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l’étape de modification du sous-ensemble de sources lumineuses (211) correspond à un déplacement du premier sous-ensemble (320) de sources lumineuses (21l) en fonction du vecteur d’étalonnage.
- 9. Procédé d’étalonnage (lOO) selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l’étape de sélection (lOl) d’un sous-ensemble de sources lumineuses (21l) comprend en outre la sélection d’un deuxième sous-ensemble de sources lumineuses (21l) au moins en partie distinct du premier sous-ensemble (320), et en ce que l’étape de modification (105) du sous-ensemble lumineux comprend en outre une modification du deuxième sous-ensemble (320) lumineux en fonction de l’écart mesuré entre le premier faisceau projeté (260) par le premier sous-ensemble (320) au travers de l’optique de mise en forme (220) avec le paramètre de référence du faisceau de référence.
- 10. Dispositif d’étalonnage (230) d’un dispositif d’éclairage (200), caractérisé en ce que le dispositif d’étalonnage (230) comprend des moyens agencés pour mettre en œuvre toutes les étapes du procédé d’étalonnage (lOO) selon l’une quelconque des revendications 1 à 9·
- 11. Dispositif d’étalonnage selon la revendication précédente, caractérisé en ce qu’il comprend : ~ un contrôleur (233) agencé pour pouvoir interfacer un dispositif électronique de commande (213) du dispositif d’éclairage (200) afin de commander l’émission d’au moins un rayon lumineux (250) d’une pluralité de sources lumineuses (21l) du dispositif d’éclairage (200) ; ~ un système de mesure (232) agencé pour pouvoir mesurer au moins une partie des propriétés photométriques du faisceau projeté (260) ; ~ une unité de traitement configurée pour déterminer l’écart entre le faisceau projeté (260) et le paramètre de référence, et mettre en œuvre au moins une partie des étapes du procédé d’étalonnage (lOO) selon l’une quelconque des revendications 1 à 11.
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