FR2994260A1 - Dispositif de capteur pour determiner la pression d'un milieu et procede pour sa mise en oeuvre - Google Patents

Abstract

Dispositif de capteur pour déterminer la pression( P) d'un milieu comportant une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique (110) et une installation de saisie (120) couplée par induction (110) à la couche. L'installation de saisie (120) détermine par induction la distance entre la couche (110) et l'installation de saisie (120) pour en déduire la pression (P) du milieu.

Description

Domaine de l'invention La présente invention se rapporte à un dispositif de cap- teur pour déterminer la pression d'un milieu ainsi qu'un procédé pour sa mise en oeuvre.

Etat de la technique Pour saisir la pression d'un milieu, par exemple d'un gaz ou d'un liquide, on utilise souvent une membrane déformable. Habituellement, la mesure consiste à suivre la déformation de la membrane produite par la pression par un procédé utilisant la résistance, la piézo- résistance ou la capacité. But de l'invention Dans ce contexte de l'état de la technique, la présente in- vention a pour but de développer un dispositif de capteur pour déterminer la pression d'un milieu et un meilleur procédé pour réaliser un tel dispositif de capteur ainsi qu'un meilleur procédé pour déterminer la pression d'un milieu. Exposé et avantages de l'invention A cet effet, l'invention a pour objet un dispositif de cap- teur pour déterminer la pression d'un milieu caractérisé en ce qu'il comprend : une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique, et une installation de saisie couplée ou susceptible d'être couplée de manière inductive à la couche, l'installation de saisie détectant par induction la distance entre la couche et l'installation de saisie, distance qui dépend de la pres- sion du milieu à déterminer, pour obtenir la pression du milieu à partir de cette distance. Le milieu mesuré peut être un gaz, un mélange de gaz, un liquide, un mélange de liquides ou un mélange gaz-liquide. De façon générale, il s'agit d'un fluide. Le milieu peut notamment être constitué par les gaz de la conduite de gaz d'échappement d'un véhicule ou encore les gaz dans une cellule de batterie ou encore d'un accumulateur électrochimique d'énergie, par exemple celui d'un véhicule ou d'un moyen analogue ou encore contenir de tels gaz. Le dispositif de capteur comporte une matière qui résiste chimiquement au contact du milieu.

Ainsi, la matière constitue au moins la surface extérieure du dispositif de capteur résistant chimiquement à ce contact avec le milieu. La matière du dispositif de capteur n'est pas attaquée par le milieu pendant la durée de vie du dispositif de capteur. La couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique se réalise par le dépôt d'une matière électro- conductrice ou par dopage avec une matière électro-conductrice. La couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique se présente sous la forme d'un élément de matière cohérent ou d'une couche de matière continue. La couche électro-conductrice et/ou ferro- magnétique se trouve au niveau d'un premier segment du dispositif de capteur. L'installation de saisie peut être une bobine électrique avec au moins un enroulement. L'installation de saisie peut être située dans un premier segment écarté d'un second segment du dispositif de capteur. Entre la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique et l'installation de saisie, on réalise un couplage inductif. La couche élec- tro-conductrice et/ou ferromagnétique et l'installation de saisie sont installées ou disposées l'une par rapport à l'autre à la pression initiale, à une distance initiale l'une par rapport à l'autre. Lorsque la pression initiale change, la distance entre la couche électro-conductrice et/ou la couche ferromagnétique et l'installation de saisie change. La distance entre la couche électro-conductrice et/ ou ferromagnétique et l'installation de saisie diminue ou augmente sous l'effet d'une variation de pression du milieu. La distance ou la variation de distance entre la couche électro-conductrice et l'installation de saisie se détecte à l'aide d'une mesure par les courants de Foucault. La base du principe des courants de Foucault est qu'une variation de l'inductance d'une installation de saisie ou d'une bobine produit par elle-même ou par une autre bobine de la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique ou d'un organe d'essai conducteur, des courants de Foucault induits. Ces cou- rants de Foucault génèrent un champ magnétique antagoniste. La sai- sie de la variation de l'inductance de l'installation de saisie ou de la bobine permet de déterminer la distance entre l'installation de saisie ou la bobine et la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique ou l'organe d'essai électro-conducteur. Une installation d'exploitation dis- tincte de l'installation de saisie permet de déterminer la pression en fonction de la distance. La présente invention a également pour objet un procédé de réalisation d'un dispositif de capteur pour déterminer la pression d'un milieu, consistant à : utiliser un premier composant ayant une couche électroconductrice et/ou ferromagnétique ainsi qu'un second composant ayant une installation de saisie qui peut être couplée par induction à la couche, et relier le premier et le second composant par une liaison d'assemblage de façon à pouvoir détecter par induction, la distance entre la couche et l'installation de saisie par cette installation de saisie pour obtenir la pression du milieu, à partir de la distance. Ainsi, ce procédé permet de réaliser une variante du dis- positif de capteur présenté ici. L'invention a également pour objet un procédé pour dé- terminer la pression d'un milieu, consistant à : appliquer un dispositif de capteur tel que défini ci-dessus, et saisir la distance entre la couche et l'installation de saisie du dis- positif de capteur de manière inductive pour obtenir la pression du milieu à partir de la distance. En liaison avec le procédé pour déterminer la pression on peut appliquer avantageusement une variante du dispositif de capteur décrit ci-dessus pour déterminer la pression d'un milieu. Le procédé peut également comporter une étape d'exploitation de la distance saisie pour obtenir la pression du milieu. L'invention porte également de façon avantageuse sur un produit programme d'ordinateur avec un code programme enregistré sur un support lisible par une machine, tel qu'une mémoire semi- conductrice, une mémoire à disque dur ou une mémoire optique et ser- vant à exécuter le procédé ci-dessus lorsque le produit programme d'ordinateur est exécuté par un ordinateur ou un dispositif. Selon un développement de l'invention, la détermination de la pression du milieu se fait avantageusement par une saisie induc- tive du débattement d'une couche électro-conductrice, produit par la pression, par exemple celle d'une membrane totalement ou partiellement électro-conductrice, notamment d'une membrane micromécanique (membrane MEMS) et d'une installation de saisie, par exemple sous la forme d'une bobine électrique, détectant le mouvement relatif par l'application du principe des courants de Foucault. Ainsi de façon avan- tageuse, on utilise le capteur de pression à courants de Foucault ou on détermine avantageusement de la pression avec un capteur à courants de Foucault constituant le capteur de pression. Un tel capteur à courants de Foucault peut notamment s'utiliser comme capteur intégré dans une batterie ou capteur analogue. De façon avantageuse, l'invention réalise une application du principe de mesure des courants de Foucault pour réaliser des capteurs de distance insensibles à l'encrassement et offrant une précision très poussée allant jusque dans le domaine du nanomètre. L'application du principe des courants de Foucault évite la mise en contact électrique de la couche électro-conductrice ou des éléments d'exploitation, ce qui permet de supprimer les contacts par ailleurs nécessaires, qui sont compliqués et coûteux à cause des moyens de protection contre la saleté ; ainsi le dispositif de capteur pour détecter la pression d'un milieu peut servir notamment dans un milieu corrosif. La construction du dis- positif de capteur est simplifiée de façon avantageuse du point de vue de l'utilisation dans un milieu corrosif. Contrairement à la saisie usuelle par résistance ou capa- cité, par exemple du débattement d'une membrane selon les formes de réalisation de l'invention, l'élément générateur qui est ici la couche n'a pas à être relié électriquement à l'installation de saisie. La suppression de telles liaisons conductrices évite les points d'attaque de milieux corrosifs et les moyens de protection complexes nécessaires. Une application avantageuse de forme de réalisation de l'invention est l'utilisation du dispositif de capteur, par exemple pour déterminer la pression ga- zeuse dans des cellules de batterie lithium-ions ou des dispositifs analogues. Le milieu est conducteur de sorte que des développements de l'invention, évitent avantageusement de court-circuiter les liaisons. On évite également l'utilisation problématique d'un gel utilisé dans un tel environnement comme moyen de protection usuel du dispositif de cap- teur qui peut se dissoudre et/ou empoisonner la cellule de batterie. De même, dans l'utilisation de forme de réalisation de l'invention, par exemple pour détecter la pression dans la conduite des gaz d'échappement d'un moteur à essence ou d'un moteur Diesel, on a des effets avantageuse sur la résistance des milieux et la protection contre la cor- rosion sera simplifiée et avantageuse. Selon un développement, le dispositif de capteur, com- porte une membrane déviée par la pression du milieu. La couche ou l'installation de saisie est prévue sur ou dans la membrane. La mem- brane peut être installée en contact avec le milieu. Le débattement de la membrane se fait par déformation élastique. La membrane peut comporter une couche électro-conductrice ou encore l'installation de saisie. Si la membrane a une couche électro-conductrice, lors d'une variation de pression, la couche électro-conductrice se déplace par rapport à l'installation de saisie. L'installation de saisie peut être une partie du dispositif de capteur avec un segment indéformable par la pression du milieu. Si la membrane comporte la couche électro-conductrice, la membrane sera au moins une membrane partiellement électroconductrice. La couche électro-conductrice dans ou sur la membrane est réalisée par dépôt d'une matière électro-conductrice, notamment sous la forme d'une couche métallique. La conductivité de la membrane en silicium est obtenue par dosage. Si la membrane comporte l'installation de saisie, en cas de variation de pression, cette installation de saisie sera déformée par rapport à la couche électro-conductrice. La couche peut faire partie d'un segment non déformable du dispositif de capteur sous l'effet de la pression du milieu. Ce mode de réalisation a l'avantage que la membrane constitue un élément déformable réalisé de manière économique et qui a un débattement défini de manière précise et bien reproductible.

La membrane est une partie d'un composant microméca- nique réalisé par gravure. La membrane peut notamment être une partie de puce de silicium micromécanique. Le composant micromécanique réalisé par un procédé appelé PorSi (pour du silicium poreux) ou par un procédé de gravure à la potasse KOH. Le composant terminé comporte une cavité ou un creux délimité au moins en partie par la membrane.

La cavité se situe entre la couche et l'installation de saisie. L'installation de saisie peut faire partie de la membrane et la couche électroconductrice peut être installée par exemple de manière fixe au fond de la cavité ou encore être une partie de la membrane et l'installation de saisie est par exemple fixée au fond de la cavité. Ce mode de réalisation a l'avantage que la membrane offre une bonne caractéristique de déformabilité et une bonne caractéristique de fabrication même pour une forme géométrique complexe. De façon particulièrement avantageuse, la couche élec- tro-conductrice et/ou ferromagnétique est réalisée sur une couche d'oxyde. Ce mode de réalisation de l'invention a l'avantage de pouvoir fabriquer une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique particulièrement stable aboutissant à un capteur particulièrement robuste. En même temps, on aura une très bonne isolation entre la couche et l'installation de saisie, ce qui améliore la qualité du signal fourni par l'installation de saisie. En particulier, la couche est une partie d'un premier composant et l'installation de saisie est une partie d'un second composant. Le premier composant et le second composant sont reliés par une liaison d'assemblage. L'installation de saisie et la couche électro- conductrice peuvent également faire partie de deux composants distincts, ces composant étant reliés ou assemblés par collage, par liaison eutectique ou encore d'autres procédés d'assemblage. En variante, la couche et l'installation de saisie font partie d'un seul composant. Ce mode de réalisation a l'avantage que selon le cas particulier d'application, on pourra relier des composants appropriés, ce qui améliore le domaine d'utilisation et la souplesse du dispositif de capteur. L'installation d'exploitation peut également exploiter la distance détectée par l'installation de saisie pour obtenir la pression du milieu. L'installation d'exploitation est reliée ou peut être reliée à l'installation de saisie. L'installation d'exploitation comporte une unité électronique avec un circuit électrique, par exemple un circuit dédié tel qu'un circuit ASIC. Cette réalisation a l'avantage qu'en fonction de la distance ou de la variation de distance, elle donne la pression du milieu de manière précise et fiable.

L'installation d'exploitation et l'installation de saisie peuvent être dans un boîtier de circuit commun et en plus ou en variante, être installées sur une même platine de circuit et être reliées électriquement. Le boîtier de circuit peut être en matière plastique, une masse coulée ou une masse moulée ou analogue et l'installation d'exploitation et l'installation de saisie seront dans le même boîtier ou coulées ou logée s dan s celui-ci. Notamment, l'installation d'exploitation et l'installation de saisie seront coulées en commun ou pourront être coulées en commun. Le boîtier du circuit est le boîtier de l'installation d'exploitation en ce que cette installation y est intégrée. L'installation de saisie peut être prévue sur une platine de circuit faisant partie de l'installation d'exploitation ou être prévue sur l'installation d'exploitation. Cette réalisation a l'avantage que l'installation de saisie sera protégée dans un boîtier contre l'influence de l'environnement ou sur une platine qui pourra être reliée de manière simple par les che- mins conducteurs de la platine à l'installation d'exploitation. La couche protectrice peut couvrir la couche et sera sur la couche ou le segment du dispositif de capteur comportant la couche. La couche protectrice est protégée par exemple contre un dépôt de par- ticules sur la couche ou sur le segment du dispositif de capteur com- portant la couche. La couche protectrice peut notamment comporter un gel. Ce mode de réalisation a l'avantage de répondre à des exigences réduites concernant la couche protectrice car la protection contre la corrosion n'a pas à être assurée par la couche protectrice.

Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus détaillée à l'aide d'un exemple de dispositif de capteur et de procédé de réalisation représenté dans les dessins annexés dans lesquels les mêmes éléments portent les mêmes références dans les différentes fi- gures dans lesquelles : les figures 1 à 5 sont des vues en coupe du dispositif de capteur selon différents exemples de réalisation de l'invention, les figures 6 et 7 sont des ordinogrammes explicitant le procédé selon des exemples de réalisation de l'invention.35 Description de modes de réalisation de l'invention La figure 1 est une vue en coupe schématique d'un dis- positif de capteur 100 correspondant à un mode de réalisation de l'invention. Le dispositif de capteur 100 comporte un composant de cap- teur 105, une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110, une installation de saisie 120 sous la forme d'une bobine électrique avec par exemple trois spires ; la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et l'installation de saisie 120 sont situées dans une plage de couplage inductif 125 représentée symboliquement à la figure 1 ; l'installation comporte également une plaque de circuit 130 ayant à titre d'exemple deux lignes électriques 135 sous la forme de fils de liaison, une installation d'exploitation 140 sous la forme d'un circuit ASIC ou analogue ainsi qu'un boîtier de circuit 150 et une masse coulée. A la figure 1, on a schématisé symboliquement la pression P d'un milieu par une flèche. Cette pression agit sur le composant de capteur 105, no- tamment sur la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110. Le dispositif de capteur 100 détermine la pression P du milieu. Pour donner à la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 une forme particulièrement stable, on a une couche d'oxyde sur la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110. Cette disposition n'est toutefois pas représentée à la figure 1 pour des raisons de clarté. Le composant de capteur 105 selon l'exemple de réalisa- tion de l'invention à la figure 1 est un silicium poreux (PorSi) développé par un procédé de gravure approprié. Ainsi le dispositif de capteur 100 sera appelé capteur de pression PorSi ou composant de capteur de pression PorSi comportant un capteur de pression ; la forme du composant de capteur 105 réalise au moins un composant du dispositif de capteur 100 en technique PorSi. Le composant de capteur 105 a une première surface principale exposée au milieu et une seconde surface principale ou surface d'assemblage, à l'opposé de la première surface principale et qui est tournée vers l'installation de saisie 120. La couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 est sur la première surface principale du composant de capteur 105. Le composant de capteur 105 est installé par collage, liaison eutectique ou procédé analogue entre la première surface principale du composant de capteur 105 et le segment d'assemblage à la surface du boîtier de circuit 150 dans la région de l'installation de saisie 120 sur le boîtier de circuit 150. Le composant de capteur 105 a une cavité complètement fermée entre la première surface principale et la seconde surface principale du compo- sant de capteur 105. Un segment du composant de capteur 105 entre la cavité et la première surface principale est réalisé par une membrane déformable sous l'effet de la pression P. La membrane et la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 du composant de capteur 105 sont réalisées pour se déformer élastiquement sous l'effet de la pression P. L'installation de saisie 120 ou la bobine électrique, le segment de la plaque de circuit 130, les lignes électriques 135 ou les fils de liaison et l'installation d'exploitation 140 ou le circuit ASIC sont logés dans le boîtier de circuit 150 ou sont fixés dans la masse coulée. Le boi- tier de circuit 150 ou la masse coulée ont une cavité dans laquelle se trouve le segment d'assemblage pour assembler le composant de capteur 105 au boîtier de circuit 150. L'installation de saisie 120 est au voisinage du segment d'assemblage auquel le composant de capteur 105 est relié au boîtier de circuit 150 par une liaison par la matière.

L'installation de saisie 120 et le composant de capteur 105 sont montés avec la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 pour que cette couche 110 se situe dans la plage de couplage 125 pour le couplage inductif de l'installation de saisie 120. L'installation de saisie 120 détecte de manière inductive la distance entre la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et l'installation de saisie 120, distance qui dépend de la pression P du milieu, que l'on veut obtenir. L'installation de saisie 120 est reliée électriquement par des lignes électriques 135 à la plaque de circuit 130. La plaque de circuit 130 selon l'exemple de réalisation de la figure 1 de l'invention se trouve en partie dans le boîtier de circuit 150 ou dans la masse coulée. Les lignes électriques 135 sont reliées électriquement par exemple par des chemins conducteurs électriques de la plaque de circuit 130 à l'installation d'exploitation 140 ou au circuit ASIC. L'installation d'exploitation 140 est portée par la plaque de circuit 130.

L'installation d'exploitation 140 détecte la distance entre la couche élec- tro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et l'installation de saisie 120 pour l'exploiter et déterminer la pression P du milieu. Selon un autre exemple de réalisation de l'invention, l'installation d'exploitation 140 est réalisée uniquement par une partie d'un composant de circuit qui peut également exécuter d'autres fonctions que la détermination de la pres- sion. La figure 2 est une vue en coupe schématique d'un dis- positif de capteur 100 selon un exemple de réalisation de l'invention. La représentation de la figure 2 correspond à celle de la figure 1, c'est-à- dire que le dispositif de capteur 100 de la figure 2 correspond au dispo- sitif de capteur 100 de la figure 1 à l'exception de ce que le boîtier de circuit 150 ou la masse coulée ont une section rectangulaire sans cavité. Le boîtier de circuit 150 a deux surfaces principales dont l'une est dans le segment d'assemblage et se trouve ainsi avec le composant 105 sur le boîtier 150. La figure 3 est une vue en coupe schématique d'un dispositif de capteur 100 selon un exemple de réalisation de l'invention. La représentation de la figure 3 correspond à la représentation de la figure 1, c'est-à-dire que le dispositif de capteur 100 de la figure 3 correspond au dispositif de capteur de la figure 1 à l'exception de ce que le compo- sant de capteur 105 a une forme différente. Le composant de capteur 105 selon l'exemple de réalisation de l'invention de la figure 3 est obtenu par un procédé de gravure approprié, par exemple par un procédé de gravure à la potasse KOH (potasse caustique ou hydroxyde de potas- sium). Le dispositif de capteur 100 peut être dans ces conditions appelé capteur de pression gravé à la potasse KOH ou composant de capteur de pression gravé à la potasse KOH et comportant un capteur de pression, la forme du composant de capteur de pression 105 étant au moins réalisée comme partie du dispositif de capteur 100 par gravure à la po- tasse KOH. Le composant de capteur 105 porte la couche électro- conductrice 110 qui a une surface supérieure électro-conductrice du composant de capteur 105, exposée au milieu. La couche électroconductrice 110 est déformée élastiquement par la pression P du milieu. Le composant de capteur 105 a également une couche électro- conductrice et/ou ferromagnétique 110 pour le segment de liaison en saillie vers l'installation de saisie 120. Le composant de capteur 105 est fixé au boîtier de circuit 150 par une liaison d'assemblage par exemple par collage, liaison eutectique ou liaison analogue entre le segment de liaison du composant de capteur 105 et le segment d'assemblage du boîtier de circuit 150 dans la région de l'installation de saisie 120. Le composant de capteur 105 et le boîtier de circuit 150 entourent ainsi une cavité délimitée par la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et le segment de liaison du composant de capteur 105 ainsi que le segment d'assemblage du boîtier de circuit 150.

La figure 4 est une vue schématique d'un dispositif de capteur 100 selon un exemple de réalisation de l'invention. La représentation de la figure 4 correspond à celle de la figure 1, c'est-à-dire que le dispositif de capteur 100 de la figure 4 correspond au dispositif de capteur de la figure 1 à l'exception de ce que la plaque de circuit est logée dans le boîtier de circuit 150 sauf pour la zone d'installation ou est noyée dans la masse coulée de sorte que l'installation de saisie 120 de la plaque de circuit 130 est réalisée dans la région de fixation pour que le composant de capteur 105 se trouve sur la plaque de circuit 130 dans la zone de montage de la plaque de circuit 130 et que l'installation d'exploitation 140 ou le circuit ASIC se trouve à côté de l'installation de saisie 120 sur la plaque de circuit 130. Ainsi, selon l'exemple de réalisation de l'invention représenté à la figure 4, on a une liaison électrique entre l'installation de saisie 120 et l'installation d'exploitation 140 au lieu d'avoir des fils de liaison ou des moyens analogues pour être reliée selon la figure 4 par des chemins conducteurs électriques de la plaque de circuit 130. Selon une variante de l'exemple de réalisation de l'invention présentée à la figure 4, le composant de capteur 105 est réalisé par un procédé de gravure à la potasse KOH au lieu de l'être par le procédé PorSi.

La figure 5 est une vue en coupe schématique d'une par- tie d'un dispositif de capteur selon un exemple de réalisation de l'invention. La figure montre un composant de capteur 105, une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110, une installation de saisie 120 sous la forme d'une bobine électrique avec par exemple trois spires ; la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et l'installation de saisie 120 sont situées dans une région de couplage 125 pour le couplage inductif symbolisé à la figure 5 ; l'installation comporte également une membrane 510 et une cloison 555. La figure 5 montre symboliquement par une flèche, la pression P du milieu ou de l'accès au milieu qui s'applique sur le composant de capteur 105, no- tamment sur la membrane 510 avec la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110. Le dispositif de capteur est destiné à déterminer la pression du milieu. La cloison 555 est par exemple l'enveloppe d'une cellule de batterie, ou la conduite des gaz d'échappement d'un véhicule ou un élément analogue. La cloison 555 sépare la région sans le milieu ou volume propre d'une région avec le milieu ou région avec le milieu agressif. La cloison 555 comporte un orifice de passage rendu étanche ou fermé par rapport à la chambre propre avec le composant de capteur 105. Le composant de capteur 105 se trouve dans l'orifice de passage de la cloison 555 en étant sous-tendu par la chambre propre. Selon l'exemple de réalisation de l'invention selon la fi- gure 5, le composant de capteur 105 est réalisé par exemple par le procédé de gravure à la potasse KOH, par le procédé de gravure en tranchée ou en procédé analogue. Le composant de capteur 105 com- porte la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 et la membrane 510. La couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 est sur la membrane 510. La couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 constitue la surface supérieure du composant de capteur 105 tournée vers le milieu ou le volume du milieu agressif. L'installation de saisie 120 se trouve sur la surface du composant de capteur 105 non tournée vers le milieu, c'est-à-dire la surface du côté du volume propre du milieu. Le composant de capteur 105 a une cavité complètement fermée entre la membrane 510 et la surface supérieure du composant de capteur 105 tournée vers le volume propre. Le seg- ment du composant de capteur 105 entre la cavité et la couche électroconductrice et/ou ferromagnétique 110 est formé comme membrane 510 que la pression P du milieu peut déformer. La membrane 510 et la couche électro-conductrice 110 du composant de capteur 105 sont réa- lisées pour que sous l'effet de la pression P, elles se déforment élasti- quement. Le composant de capteur 105 a un segment de liaison en saillie par rapport à la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 110 en direction de la cloison 555. Le composant de capteur 105 est installé par une liaison appropriée entre le segment de liaison du com- posant de capteur 105 et la cloison 555 dans la région de l'orifice de passage de la cloison 555. En d'autres termes, les figures 1 à 5 montrent des va- riantes d'une structure de capteur micromécanique pour un dispositif de capteur selon un exemple de réalisation de la présente invention. Les exemples de réalisation de l'invention constituent, exprimés autrement, des capteurs à courants de Foucault résistant à des milieux agressifs ou des capteurs de pression absolue résistant à des milieux et fonctionnant selon le principe des courants de Foucault ; l'électronique de saisie et l'électronique d'exploitation sont protégées contre tout contact avec le milieu. La figure 6 montre un ordinogramme d'un procédé 600 de réalisation d'un dispositif de capteur pour déterminer la pression d'un milieu selon un exemple de réalisation de la présente invention. Le procédé 600 comprend l'étape d'utilisation 610 d'un premier composant ayant une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique et un se- cond composant ayant une l'installation de saisie qui peut être couplée par induction à la couche. Le procédé 600 comporte une étape consistant à relier 620 le premier composant et le second composant par une liaison d'assemblage. L'installation de saisie détecte par induction la distance entre la couche et l'installation de saisie pour obtenir à partir de là, la pression du milieu. Le procédé 600 peut avantageusement réaliser le dispositif de capteur selon l'une des figures 1 à 5. La figure 7 montre un ordinogramme d'un procédé 700 pour déterminer la pression d'un milieu d'un exemple de réalisation de l'invention. Le procédé 700 a une étape d'application 710 d'un milieu à un dispositif de capteur. Le dispositif de capteur a une couche électroconductrice et/ou ferromagnétique et une l'installation de saisie couplée ou à couplage inductif avec la couche. Le procédé 700 comporte également une étape de saisie 720 de la distance entre la couche et l'installation de saisie, par une saisie inductive par l'installation de sai- sie pour obtenir la pression du milieu à partir de la distance. Le procédé 700 peut être exécuté en liaison avec par exemple le dispositif de capteur selon les figures 1 à 5.5 15 NOMENCLATURE 100 Dispositif de capteur 105 Composant de capteur 110 Couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique 120 Installation de saisie 125 Région de couplage 130 Plaque de circuit 135 Ligne électrique 140 Installation d'exploitation 150 Boîtier de circuit 510 Membrane 555 Cloison 600 Procédé de fabrication d'un dispositif de capteur 610, 620 Etapes du procédé 600 700 Procédé de détermination de la pression d'un milieu 710, 720 Etapes du procédé 70020

Claims (5)

1. REVENDICATIONS1°) Dispositif de capteur (100) pour déterminer la pression (P) d'un milieu caractérisé en ce qu'il comprend : une couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique (110), et une installation de saisie couplée ou susceptible d'être couplée de manière inductive à la couche (110), l'installation de saisie (120) détectant par induction la distance entre la couche (110) et l'installation de saisie (120), distance qui dépend de la pression (P) du milieu à déterminer, pour obtenir la pression (P) du milieu à partir de cette distance.
2. 2°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 1, caractérisé par une membrane (510) déviée par la pression (P) du milieu et la couche (110) ou l'installation de saisie (120) sont dans ou sur la membrane (510).
3. 3°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 2, caractérisé en ce que la membrane (510) fait partie d'un composant (105) micromécanique réalisé par gravure.
4. 4°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche électro-conductrice et/ou ferromagnétique (110) est installée sur une couche d'oxyde.
5. 5°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 1, caractérisé en ce que la couche (110) fait partie d'un premier composant et l'installation de saisie (120) fait partie d'un second composant, le premier composant et le second composant étant reliés ou susceptibles d'être reliés par une liaison d'assemblage.356°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 1, caractérisé par une installation d'exploitation (140) pour exploiter la distance détectée par l'installation de saisie (120) pour obtenir la pression (P) du milieu. 7°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 6, caractérisé en ce que l'installation d'exploitation (140) et l'installation de saisie (120) sont logées dans un boîtier de circuit commun (150) et/ou sur une platine de circuit (130) commune et elles sont reliées électriquement. 8°) Dispositif de capteur (100) selon la revendication 1, caractérisé par une couche de protection couvrant la couche (110). 9°) Procédé (600) de réalisation d'un dispositif de capteur (100) pour déterminer la pression (P) d'un milieu, procédé caractérisé par les étapes suivantes consistant à : utiliser (610) un premier composant ayant une couche électro- conductrice et/ou ferromagnétique (110) ainsi qu'un second com- posant ayant une installation de saisie (120) qui peut être couplée par induction à la couche (110), et relier (620) le premier et le second composant par une liaison d'assemblage de façon à pouvoir détecter par induction la distance entre la couche (110) et l'installation de saisie (120) par cette ins- tallation de saisie (120) pour obtenir à partir de la distance, la pression (P) du milieu. 10°) Procédé (700) pour déterminer la pression (P) d'un milieu, compre- nant les étapes suivantes consistant à : appliquer (710) un dispositif de capteur (100) selon l'une des revendications 1 à 8 avec le milieu, et saisir (720) la distance entre la couche (110) et l'installation de saisie (120) du dispositif de capteur (100) de manière inductive pour obtenir la pression (P) du milieu à partir de cette distance.