FR2942007A1 - Installation for drying large-sized pieces in e.g. synchrotron in hadrontherapy field, has gas analyzer connected to main chamber, and power circuit for powering pumping installations and heating coils - Google Patents

Installation for drying large-sized pieces in e.g. synchrotron in hadrontherapy field, has gas analyzer connected to main chamber, and power circuit for powering pumping installations and heating coils Download PDF

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    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/08Cleaning containers, e.g. tanks

Abstract

The installation has an ultra-high vacuum pumping installation (30) connected separately to a main chamber (10). A control center (40) includes an operation management circuit with a microprocessor (41), programs (42) and a control and data input (44). The center is connected to a cold cathode gauge (13), a Pirani gauge (14) and a pressure gauge (25). Temperature sensors (18, 19) are associated with the main chamber and a vacuum pumping installation (20). A gas analyzer (16) is connected to the main chamber. A power circuit (43) powers the pumping installations and heating coils (11, 12). An independent claim is also included for a method for drying pieces to be exposed to a high vacuum or ultra-high vacuum.

Description

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Domaine de l'invention La présente invention concerne une installation d'étuvage pour la préparation de pièces destinées à être exposées à un vide poussé ou ultravide. FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a steaming plant for the preparation of parts intended to be exposed to a high or ultra-high vacuum.

L'invention concerne également un procédé d'étuvage d'une pièce exposée à ultravide. Etat de la technique Il existe de nombreux domaines de la recherche scientifique et en médecine, utilisant des installations d'ultravide. Il s'agissait jusqu'à une date récente d'un vide de l'ordre de 10-8 jusqu'à 10-9 mbar et la tendance actuelle est de pousser l'ultravide jusqu'à 10-12 mbar. Les pièces utilisées dans ces installations qui sont, en général, des enceintes en acier inox, doivent être particulièrement nettoyées de toutes traces susceptibles de polluer l'enceinte. Il s'agit de traces de pro- duits utilisés en cours de fabrication ou de traces de doigts, correspondant à des produits à base de carbone. Pour éliminer ces différents composés polluants à l'intérieur des pièces d'équipement destinées à l'ultravide, il faut pomper le volume intérieur des pièces pour éliminer toutes les molécules qui peuvent rester à l'intérieur des pièces. Ce nettoyage des pièces se fait par l'étuvage. Pour cela, il faut réaliser le vide dans le volume de la pièce en pompant de façon progressive, d'abord avec une pompe primaire puis, une pompe secondaire et enfin, une pompe ionique pour éliminer et piéger autant que faire se peut, les molécules. Ces opérations se font en général en chauffant la piè- ces à une température de l'ordre de 200°C de manière à agiter les molécules et à les décrocher de la paroi intérieure de la pièce pour pouvoir les piéger par les pompes qui éliminent ces molécules ou par une pompe ionique qui piège les molécules. De façon générale, il existe actuellement deux procédés 30 pour le nettoyage ou dégazage de pièces destinées à des installations travaillant dans l'ultravide. L'un des procédés consiste à utiliser des fours de dégazage qui sont en fait des étuves permettant d'obtenir une température de l'ordre de 200°C et une pression de 10-2 mbar. Mais ce procédé se limite à 35 un vide primaire et non pas à un vide secondaire ou à l'ultravide. Les pièces sont introduites dans l'étuve et on mesure la température obtenue en paliers sans pouvoir définir et déterminer un cycle de température et de vide. 2 The invention also relates to a method for steaming an exposed part at high vacuum. State of the art There are many areas of scientific research and medicine, using ultra-high vacuum facilities. Until recently it was a vacuum of about 10-8 up to 10-9 mbar and the current trend is to push ultra-high vacuum to 10-12 mbar. The parts used in these installations, which are generally stainless steel enclosures, must be particularly cleaned of any traces likely to pollute the enclosure. These are traces of products used during manufacturing or fingerprints, corresponding to carbon-based products. To eliminate these different pollutant compounds inside the equipment parts intended for ultra-high vacuum, it is necessary to pump the internal volume of the parts to eliminate all the molecules that can remain inside the parts. This cleaning of parts is done by steaming. For this, it is necessary to realize the vacuum in the volume of the room by pumping gradually, first with a primary pump and then a secondary pump and finally, an ion pump to eliminate and trap as much as possible, the molecules . These operations are generally done by heating the parts to a temperature of about 200 ° C so as to agitate the molecules and to unhook them from the inner wall of the room to be able to trap them by the pumps that eliminate these molecules or by an ion pump that traps the molecules. In general, there are currently two methods for cleaning or degassing parts for installations working in the ultra-high vacuum. One of the methods consists in using degassing furnaces which are in fact incubators making it possible to obtain a temperature of the order of 200 ° C. and a pressure of 10 -2 mbar. But this process is limited to a primary vacuum and not to a secondary vacuum or ultra-vacuum. The parts are introduced into the oven and the temperature obtained is measured in steps without being able to define and determine a temperature and vacuum cycle. 2

De plus, les étuves ne permettent de traiter que des pièces ayant un volume limité. Ce procédé ne permet pas d'étuver des installations de grandes dimensions. Il n'y a pas non plus de contrôle final possible puis-5 qu'aucune analyse de gaz n'est faite et aucun essai de tenue à l'ultravide n'est réalisable. Un deuxième procédé existant consiste à réaliser un en-semble d'étuvage en ligne. Ainsi, on entoure l'équipement à étuver avec des cordons chauffants et on utilise le système de pompage de 10 l'équipement. Cet étuvage est réalisé sur le site de l'installation qui peut également utiliser un spectromètre de masse branché sur un piquage de façon à analyser les gaz résiduels avant et après l'étuvage. Ce procédé permet d'obtenir de meilleurs résultats que le premier procédé mais le chauffage est relativement aléatoire et peut précis. Il n'y a ni contrôle, ni 15 programmation de la montée en température. De plus, les phases d'étuvage sont très longues car la montée en température ne peut être optimisée. Il en est de même de la mise sous vide secondaire ou ultravide. Enfin, la chambre à étuver doit être équipée d'un matériel de pompage. But de l'invention 20 La présente invention a pour but de développer une installation et un procédé d'étuvage permettant de traiter efficacement des pièces, même de grandes dimensions, destinées à travailler dans l'ultravide en contrôlant de façon précise l'étuvage et son résultat. Exposé et avantages de l'invention 25 A cet effet, la présente invention concerne une installation comprenant une chambre principale recevant la pièce ou branchée sur la pièce, - un équipement de chauffage de la chambre et de la pièce, - une installation de pompage de vide pour le vide primaire et le vide se- 30 condaire reliée à la chambre principale et munie d'une vanne de cou-pure pour couper la liaison entre l'installation de pompage et la chambre principale, - une installation de pompage d'ultravide reliée séparément à la chambre principale, 35 une centrale de commande comprenant - un circuit de gestion de fonctionnement avec un microprocesseur, des programmes et une entrée de commandes et de données, relié à un en-semble de jauges à vide et de capteurs de température associés à la In addition, the ovens can only treat parts with a limited volume. This method does not allow to steam large installations. There is also no final control possible, since no gas analysis is done and no ultrahigh hold test is feasible. A second existing method consists in producing an in-line baking process. Thus, the equipment to be steamed is surrounded by heating cords and the equipment pumping system is used. This steaming is carried out on the site of the installation which can also use a mass spectrometer connected to a quill so as to analyze the residual gases before and after the parboiling. This method provides better results than the first method but the heating is relatively random and can be precise. There is no control or programming of the rise in temperature. In addition, the baking phases are very long because the rise in temperature can not be optimized. It is the same with the secondary vacuum or ultra-high vacuum. Finally, the chamber to be steamed must be equipped with pumping equipment. OBJECT OF THE INVENTION The object of the present invention is to develop an installation and a parboiling process making it possible to efficiently treat even large parts intended to work in the ultra-high vacuum by precisely controlling the parboiling and its result. DESCRIPTION AND ADVANTAGES OF THE INVENTION To this end, the present invention relates to an installation comprising a main chamber receiving the room or connected to the room, a room and room heating equipment, a pumping installation of vacuum for the primary vacuum and the secondary vacuum connected to the main chamber and provided with a cou-pure valve to cut the connection between the pumping installation and the main chamber, - an ultra-high vacuum pumping installation connected separately to the main chamber, a control unit comprising - an operation management circuit with a microprocessor, programs and a command and data input, connected to a set of vacuum gauges and temperature sensors associated with the

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chambre principale et au système de pompage de vide, et aussi à un analyseur de gaz résiduels, relié à la chambre principale, et - un circuit de puissance alimentant les systèmes de pompage de vide et d'ultravide et les moyens de chauffage. main chamber and vacuum pumping system, and also a residual gas analyzer connected to the main chamber, and - a power circuit supplying the vacuum and ultra-high vacuum pumping systems and the heating means.

L'invention concerne également un procédé d'étuvage de pièce destinée à être exposée à un vide poussé pour mettre en oeuvre une telle installation, ce procédé étant caractérisé en ce qu' on effectue un premier cycle d'étuvage pour une lecture du vide limite à froid puis un second cycle pour un vide limite et la détermination du spectre des espèces présentes dans l'enceinte, selon lequel - au cours du premier cycle d'étuvage, à froid, on effectue un pompage primaire puis un pompage turbomoléculaire dans la pièce suivi d'un pompage avec une pompe ionique et quand l'équilibre des pressions est atteint, on sépare le circuit de pompage primaire et le circuit de pom- 15 page turbomoléculaire pour mesurer le vide à froid dans l'enceinte et on fait une analyse de gaz à froid, et - au cours du second cycle d'étuvage on arrête la pompe ionique et on ouvre la vanne pour effectuer un pompage secondaire, on chauffe l'enceinte en contrôlant la montée en température et on maintient la 20 température à une valeur donnée pour décrocher les molécules et les pomper avec la pompe secondaire qui les évacue, puis on abaisse la température et à une température de 80°C, on démarre la pompe ionique et quand l'équilibre des pressions est atteint, on ferme l'enceinte et on fait une lecture du vide limite à chaud, on analyse les gaz résiduels 25 et on arrête le pompage, puis on injecte de l'azote dans l'enceinte pour remonter en pression et on ouvre l'enceinte L'installation d'étuvage et son procédé de mise en oeuvre permettent de traiter efficacement des pièces ayant un grand volume avec analyse des gaz et essais de tenue à l'ultravide. L'installation et le procédé 30 permettent de programmer la montée en température et d'optimiser le cy- cle de montée en température pour les phases d'étuvage très longues. De façon générale, l'invention constitue un ensemble spécialement conçu pour l'étuvage et permettant de maîtriser le cycle thermique avec un équipement de mise sous vide primaire, secondaire et 35 d'ultravide jusqu'à 10-12 mbar. L'installation et le procédé permettent un contrôle final grâce à la mise sous ultravide et mesure de la pression minimale qu'il est possible d'atteindre et de mesurer la composition des gaz résiduels. Ce The invention also relates to a part steaming process intended to be exposed to a high vacuum to implement such an installation, this method being characterized in that a first baking cycle is performed for a boundary vacuum reading. cold then a second cycle for a vacuum and the determination of the spectrum of the species present in the chamber, according to which - during the first cycle of steaming, in cold, it performs a primary pumping and then a turbomolecular pumping in the room followed by pumping with an ion pump and when the pressure equilibrium is reached, the primary pumping circuit and the turbomolecular pumping circuit are separated to measure the cold vacuum in the chamber and an analysis is made. cold gas, and - during the second baking cycle the ion pump is stopped and the valve is opened to perform a secondary pumping, the enclosure is heated by controlling the rise in temperature and maintaining the temperature at a given value to unhook the molecules and pump them with the secondary pump which evacuates them, then the temperature is lowered and at a temperature of 80 ° C., the ion pump is started and when the equilibrium of the pressure is reached, the enclosure is closed and a reading is made of the hot limit vacuum, the residual gases are analyzed and the pumping stops, then the nitrogen is injected into the chamber to rise in pressure and it opens The enclosure The stoving installation and its method of implementation make it possible to efficiently treat large volume parts with gas analysis and ultrahigh strength tests. The installation and the method 30 make it possible to program the rise in temperature and optimize the temperature rise cycle for the very long baking phases. In general, the invention constitutes an assembly specially designed for steaming and for controlling the thermal cycle with primary, secondary and ultra-high vacuum equipment up to 10-12 mbar. The installation and the process allow a final control by placing under ultrahigh vacuum and measuring the minimum pressure that can be reached and measuring the composition of the residual gases. This

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contrôle final permet, le cas échéant, de renouveler l'opération si les objectifs ne sont pas atteints. Ainsi, l'installation réalise l'étuvage et les tests contrôlant ou justifiant la qualité des résultats. final control allows, if necessary, to renew the operation if the objectives are not achieved. Thus, the installation performs the parboiling and the tests controlling or justifying the quality of the results.

Le procédé assure un traitement rapide par rapport aux procédé et installation connus et surtout un traitement plus fiable. Ces résultats sont d'ailleurs accessibles à l'utilisateur qui pourra interroger la centrale de commande pour suivre l'évolution de l'étuvage et contrôler les résultats. The method provides a fast treatment compared to the known method and installation and especially a more reliable treatment. These results are also accessible to the user who will be able to interrogate the control unit to follow the evolution of the parboiling and control the results.

La qualité des résultats sera conservée jusqu'au montage de la pièce sur l'installation à laquelle elle est destinée car l'azote pur injecté tapisse les parois et empêche une pollution extérieure de la pièce ou de son enceinte. L'azote a l'avantage de se décrocher très facilement lors du pompage suivant fait sur l'installation équipée de la pièce. Cette protec- tion, limitée dans le temps, est suffisante pour les opérations de livraison et de montage.. Suivant une autre caractéristique avantageuse, l'installation de pompage de vide comporte une pompe primaire et une pompe secondaire pour réaliser respectivement un vide primaire et un vide secondaire, ainsi qu'une jauge de pression, la pompe primaire, la pompe secondaire et la jauge de pression étant reliées à une conduite en aval de la vanne reliant la conduite à la chambre principale. Suivant une autre caractéristique avantageuse, la pompe primaire est une pompe primaire sèche et la pompe secondaire est une 25 pompe turbomoléculaire Suivant une autre caractéristique avantageuse, la chambre principale est équipée d'une jauge à cathode froide et d'une jauge Pirani. Suivant une autre caractéristique avantageuse, l'installation de pompage d'ultravide est constituée par une pompe ioni- 30 que. Suivant une autre caractéristique avantageuse, la chambre principale est reliée à une alimentation en azote. Dessins La présente invention sera décrite ci-après de manière plus 35 détaillée à l'aide d'un exemple d'installation et de procédé d'étuvage pour l'ultravide, représenté dans les dessins annexés dans lesquels ; - la figure 1 est un schéma par blocs de l'installation selon l'invention, - la figure 2 est une vue en perspective d'un exemple d'installation d'étuvage selon l'invention, - la figure 3 est schéma du procédé d'étuvage selon l'invention. Description de modes de réalisation de l'invention 5 La figure 1 montre de façon très générale une installation selon l'invention d'étuvage de pièces pour l'ultravide. Une pièce P est représentée schématiquement par un rectangle correspondant à un volume ou une enceinte qui doit être nettoyé pour en évacuer les molécules et les traces de produits polluants restant à l'intérieur du volume de la pièce et qui ne permettent pas d'atteindre un vide poussé, pour utiliser cette pièce dans une installation d'ultravide. La pièce P est placée dans l'installation ou est branchée sur celle-ci suivant les dimensions de la pièce. L'installation d'étuvage selon l'invention se compose d'une chambre principale 10, par exemple sous la forme d'un volume cylindri- que dans lequel peut se placer la pièce à étuver P si celle-ci est de petites dimensions ou sur laquelle se branche le volume de la pièce à étuver par une liaison étanche. Ce cas est schématiquement représenté à la figure 1. La chambre principale 10 est reliée d'une part, à une installation de pompage de vide primaire et de vide secondaire 20 et d'autre part, à une installation de pompage d'ultravide 30. La chambre 10 est équipée de capteurs de pression 13, 14, 15 et de température 18, 19 ainsi que d'un analyseur de gaz 16 et d'une source d'azote N2 (17). L'installation comporte une centrale de commande 40 munie d'une entrée 44 telle qu'un clavier et d'un système d'enregistrement 45 ainsi que d'une liaison 46 avec un système déporté 50, par exemple installé chez l'utilisateur de la pièce pour la transmission de données. La centrale de commande 40 est reliée aux capteurs 13, 14, 15, 18, 19 et à l'analyseur 16 dont elle reçoit les signaux pour les traiter et commander le fonctionnement de l'installation. Selon des programmes établis, elle commande les moyens de chauf- fage 11, 12 de la chambre principale 10 et, le cas échéant, de la pièce P lorsque celle-ci n'est pas placée dans la chambre principale, le fonctionnement des deux pompes 23, 24 du système de pompage de vide primaire et de vide secondaire et le système de pompage d'ultravide 30. La centrale de commande est reliée à une entrée 44 telle qu'un clavier et à un enregistreur 45, par exemple une mémoire de masse et/ou une imprimante. Par la liaison d'échange de données 46, l'utilisateur 50 peut accéder aux données relatives à l'étuvage de sa pièce P et notamment au résultat de l'étuvage. The quality of the results will be maintained until the installation of the part on the installation for which it is intended because the pure nitrogen injected lining the walls and prevents external pollution of the room or its enclosure. Nitrogen has the advantage of coming off very easily during the following pumping done on the installation equipped with the part. This protection, which is limited in time, is sufficient for delivery and assembly operations. According to another advantageous characteristic, the vacuum pumping installation comprises a primary pump and a secondary pump for respectively producing a primary vacuum and a secondary vacuum, and a pressure gauge, the primary pump, the secondary pump and the pressure gauge being connected to a pipe downstream of the valve connecting the pipe to the main chamber. According to another advantageous characteristic, the primary pump is a dry primary pump and the secondary pump is a turbomolecular pump. According to another advantageous characteristic, the main chamber is equipped with a cold cathode gauge and a Pirani gauge. According to another advantageous characteristic, the ultrahigh vacuum pumping installation is constituted by an ion pump. According to another advantageous characteristic, the main chamber is connected to a nitrogen supply. Drawings The present invention will be described in more detail below with the aid of an example of an ultrahigh vacuum oven installation and method, shown in the accompanying drawings in which: FIG. 1 is a block diagram of the installation according to the invention; FIG. 2 is a perspective view of an example of a stoving installation according to the invention; FIG. 3 is a diagram of the process; stoving according to the invention. DESCRIPTION OF EMBODIMENTS OF THE INVENTION FIG. 1 very generally shows an installation according to the invention for steaming rooms for the ultra-high vacuum. A piece P is schematically represented by a rectangle corresponding to a volume or an enclosure that must be cleaned to remove molecules and traces of pollutants remaining within the volume of the room and which do not allow to reach a vacuum pushed, to use this piece in an ultra-high vacuum installation. The piece P is placed in the installation or is connected thereto according to the dimensions of the part. The steaming plant according to the invention consists of a main chamber 10, for example in the form of a cylindrical volume in which the piece to be steamed P can be placed if it is small or on which the volume of the part to be steamed is connected by a tight connection. This case is schematically represented in FIG. 1. The main chamber 10 is connected on the one hand to a primary vacuum and secondary vacuum pump installation 20 and on the other hand to an ultrahigh vacuum pump installation 30. The chamber 10 is equipped with pressure sensors 13, 14, 15 and temperature 18, 19 as well as a gas analyzer 16 and a nitrogen source N2 (17). The installation comprises a control unit 40 provided with an input 44 such as a keyboard and a recording system 45 as well as a link 46 with a remote system 50, for example installed in the user's home. the room for data transmission. The control unit 40 is connected to the sensors 13, 14, 15, 18, 19 and to the analyzer 16 from which it receives the signals to process them and control the operation of the installation. According to established programs, it controls the heating means 11, 12 of the main chamber 10 and, if appropriate, of the piece P when it is not placed in the main chamber, the operation of the two pumps. 23, 24 of the primary vacuum pump system and secondary vacuum pump and the ultrahigh pump system 30. The control unit is connected to an input 44 such as a keyboard and a recorder 45, for example a memory of mass and / or printer. Through the data exchange link 46, the user 50 can access the data relating to the parboiling of his workpiece P and in particular to the result of the parboiling.

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La centrale de commande 40 comporte un microprocesseur 41, une mémoire des programmes 42 et un circuit de puissance 43 pour commander et alimenter les différents équipements. De façon plus détaillée, la chambre principale 10 comporte un équipement de chauffage 11 qui peut être dédoublé par un équipement de chauffage 12 placé sur la pièce à étuver P si celle-ci est extérieure à la chambre principale. Ces moyens de chauffage 11, 12 sont reliés au circuit de puissance 43 qui les alimente de façon commandée. L'installation de pompage de vide primaire et de vide secondaire 20 est formé par une conduite 21 reliée à travers une vanne commandée 22 à la chambre principale 10 ; la conduite 21 est reliée en amont de la vanne 22 à une pompe secondaire 24 puis à une pompe primaire 23. La pompe primaire 23 est par exemple une pompe primaire sèche travaillant jusqu'à une pression d'environ 10-2 mbar ; la pompe 15 secondaire 24 est une pompe turbomoléculaire prenant la relève pour pomper le vide jusqu'à 10-6 mbar. La conduite 21 est équipée d'une jauge de pression 25 en amont de la vanne 22. La chambre principale 10 est reliée directement à une pompe ionique 30 et à des jauge de pression telles qu'une jauge à cathode 20 froide 13 et une jauge Pirani 14. La jauge à cathode froide 13 mesure des pressions de 10-3 à 10-12 mbar et la jauge Pirani 14 permet de mesurer une plage de vide jusqu'à 10-3 mbar. Cette jauge 14 est utilisée en parallèle avec la jauge à cathode froide 13 dans le cas d'une remise à l'atmosphère de la chambre 10 25 uniquement, la vanne 22 restant fermée. La pompe ionique 30 réalise des vides compris entre 10-6 et 10-12 mbar. La chambre principale 10 est aussi reliée à un analyseur de gaz 16 et à une source d'azote 17, par exemple une bouteille d'azote. La 30 température de la chambre principale 10 et celle de la pièce P sont mesurées par des capteurs de température 18, 19. La centrale de commande 40 reçoit les signaux de la jauge de pression 25 par une ligne S25, les signaux des jauges de pression 13 et 14 par des lignes de signaux S13, S14, ceux du capteur de tempéra- 35 ture 18 de la chambre principale 10 par la ligne de signaux S18 et la température du capteur de température 19 de la pièce P par la ligne de signaux S19. The control unit 40 includes a microprocessor 41, a program memory 42 and a power circuit 43 to control and power the various equipment. In more detail, the main chamber 10 comprises a heating equipment 11 which can be split by heating equipment 12 placed on the room to be steamed P if it is external to the main chamber. These heating means 11, 12 are connected to the power circuit 43 which supplies them in a controlled manner. The primary vacuum pump and secondary vacuum pump 20 is formed by a pipe 21 connected through a controlled valve 22 to the main chamber 10; the pipe 21 is connected upstream of the valve 22 to a secondary pump 24 and then to a primary pump 23. The primary pump 23 is for example a dry primary pump working up to a pressure of about 10 -2 mbar; the secondary pump 24 is a turbomolecular pump taking over to pump the vacuum to 10-6 mbar. The pipe 21 is equipped with a pressure gauge 25 upstream of the valve 22. The main chamber 10 is connected directly to an ion pump 30 and to a pressure gauge such as a cold cathode gauge 13 and a dipstick Pirani 14. The cold cathode gauge 13 measures pressures from 10-3 to 10-12 mbar and the Pirani gauge 14 measures a vacuum range up to 10-3 mbar. This gauge 14 is used in parallel with the cold cathode gauge 13 in the case of a re-venting of the chamber 25 only, the valve 22 remaining closed. The ion pump 30 makes voids of between 10-6 and 10-12 mbar. The main chamber 10 is also connected to a gas analyzer 16 and to a nitrogen source 17, for example a nitrogen bottle. The temperature of the main chamber 10 and that of the part P are measured by temperature sensors 18, 19. The control unit 40 receives the signals from the pressure gauge 25 via a line S25, the signals from the pressure gauges 13 and 14 by signal lines S13, S14, those of the temperature sensor 18 of the main chamber 10 by the signal line S18 and the temperature of the temperature sensor 19 of the part P by the signal line S19 .

7 En fonction des signaux ainsi reçus et du programme d'étuvage choisi précisant notamment les paramètres de l'étuvage et les objectifs à atteindre, la centrale de commande 40 définit des signaux de commande transmis à la vanne 22 par la ligne C22, la commande de la pompe primaire 23 par la ligne de commande C23, la commande de la pompe secondaire 24 par la ligne de commande C24. L'élément de chauffage 11 est commandé par la ligne de commande C 11, l'élément de chauffage 12 de la pièce P est commandé par la ligne de commande C12 et la pompe ionique 30 est commandée par la ligne de commande C30. Depending on the signals thus received and the selected baking program specifying in particular the parameters of the parboiling and the objectives to be achieved, the control unit 40 defines control signals transmitted to the valve 22 via the line C22, the control of the primary pump 23 by the control line C23, the control of the secondary pump 24 by the control line C24. The heating element 11 is controlled by the control line C 11, the heating element 12 of the room P is controlled by the control line C12 and the ion pump 30 is controlled by the control line C30.

A la fin des cycles d'étuvage ou en cours de cycle, l'analyseur de gaz 16 transmet les résultats de l'analyse par la ligne de signaux S16 à la centrale de commande 40. La figure 2 montre un mode de réalisation de l'installation d'étuvage décrite de manière générale à l'aide de la figure 1. At the end of the baking cycles or during the cycle, the gas analyzer 16 transmits the results of the analysis by the signal line S16 to the control unit 40. FIG. 2 shows an embodiment of the invention. stoving installation described generally using FIG.

La chambre principale 10 est constituée par un cylindre muni de différents moyens de branchement sous forme de brides, par exemple une bride 101 pour le branchement de la pièce P ainsi qu'à son autre extrémité, une bride 102 pour brancher l'installation de pompage primaire et secondaire 20. The main chamber 10 is constituted by a cylinder provided with different means of connection in the form of flanges, for example a flange 101 for the connection of the piece P and at its other end, a flange 102 for connecting the pumping installation. primary and secondary 20.

La chambre cylindrique 10 est entourée de moyens de chauffage 11 en forme de serpentin. Il en est de même de la pièce P qui est munie des serpentins de chauffage 12, répartis autour de différents éléments de la pièce, par exemple des raccords. Toutes les brides de la pièce P sont scellées hermétiquement par des brides pleines. The cylindrical chamber 10 is surrounded by heating means 11 in the form of a coil. It is the same for the part P which is provided with heating coils 12, distributed around different elements of the part, for example fittings. All the flanges of part P are hermetically sealed by solid flanges.

La chambre principale 10 est reliée à l'installation de pompage primaire et secondaire 20 par la vanne 22 commandée électropneumatiquement 221. En sortie de la vanne 22, la jauge 25 est reliée à la conduite 21 constituée par un ensemble de tuyaux à brides portant également la pompe secondaire 24 qui est une pompe turbomoléculaire et la pompe primaire 23. La chambre principale 10 est également reliée à la pompe ionique 30. Elle comporte un analyseur de gaz 16. Sur un côté, elle est équipée de la jauge Pirani 14 et sur l'autre côté, elle comporte la jauge à cathode froide 13. La bouteille d'azote n'est pas représentée. L'ensemble de cet équipement est installé sur un bâti 200. 35 La liaison avec la centrale de commande 40 et les équipements attachés à cette centrale ne sont pas représentés. La figure 3 est une schéma montrant le procédé d'étuvage selon l'invention, réalisé avec une installation prise au sens général The main chamber 10 is connected to the primary and secondary pumping installation 20 by the electro-pneumatically controlled valve 221. At the outlet of the valve 22, the gauge 25 is connected to the pipe 21 constituted by a set of flanged pipes also bearing the secondary pump 24 which is a turbomolecular pump and the primary pump 23. The main chamber 10 is also connected to the ion pump 30. It comprises a gas analyzer 16. On one side, it is equipped with the gauge Pirani 14 and on on the other side, it includes the cold cathode gauge 13. The nitrogen bottle is not shown. All of this equipment is installed on a frame 200. The connection with the control unit 40 and the equipment attached to this plant are not shown. FIG. 3 is a diagram showing the parboiling process according to the invention, carried out with an installation taken in the general sense

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comme celle de la figure 1 ou au mode de réalisation de cette installation représenté à la figure 2. Le procédé d'étuvage se compose d'un premier cycle à froid et d'un second cycle à chaud. 1 er cycle d'étuvage Au cours du premier cycle, on exécute les étapes suivantes : - Tout d'abord dans l'étape El, on branche la pièce P sur la chambre principale 10 de façon à faire communiquer le volume intérieur de la pièce avec le volume intérieur de la chambre 10 et former l'enceinte dans laquelle on puisse pomper. - Dans l'étape E2, on branche l'installation de pompage primaire et secondaire 20 en ouvrant la vanne 22. - Puis dans une première étape de pompage E3, la pompe primaire 23 pompe le vide jusqu'à environ 10-2 mbar - Ensuite le pompage secondaire permet d'atteindre 10-8 mbar 15 - Une fois cette pression atteinte on démarre le pompage ionique 30 dans la chambre 10 (vanne 22 toujours ouverte) - on surveille la mesure de la pression fournie par la jauge à cathode froide 13 et la jauge 25 par les étapes de mesures E6 et E7. - On compare (étape E8) les deux pressions mesurées PR et PR'. 20 - En cas d'égalité des deux pressions, on commande la vanne 22 (étape E9) pour la fermer et isoler l'enceinte de la chambre principale 10 et de la pièce P. - On laisse la pompe ionique 30 aller au maximum du pompage - On mesure (étape E10) la pression du vide à froid et l'analyseur 16 25 (étape E 11) analyse les gaz. - On arrête la pompe ionique 30 (étape E12) et on enregistre les résultats (étape E14), c'est-à-dire le vide limite à froid et les espèces ou le spectre des espèces présentes dans l'enceinte formée par la chambre principale 10 et la pièce P. 30 2ème cycle d'étuvage Après ce premier cycle d'étuvage, on passe au second cycle d'étuvage avec pour conditions de départ, le vide limite à froid et le spectre de toutes les espèces présentes dans l'enceinte formée par la chambre principale 10 et le volume de la pièce P. Au cours de second cycle 35 d'étuvage, on effectue les opérations suivantes : - On arrête la pompe ionique 30 as the one of Figure 1 or the embodiment of this installation shown in Figure 2. The baking process consists of a first cold cycle and a second heat cycle. 1st baking cycle During the first cycle, the following steps are carried out: Firstly in stage E1, the piece P is connected to the main chamber so as to communicate the interior volume of the room with the interior volume of the chamber 10 and form the enclosure in which it can be pumped. - In step E2, the primary and secondary pumping installation 20 is connected by opening the valve 22. - Then in a first pumping step E3, the primary pump 23 pumps the vacuum to about 10 -2 mbar - Then the secondary pumping makes it possible to reach 10-8 mbar 15 - Once this pressure is reached, the ion pumping 30 is started in the chamber 10 (valve 22 always open) - the measurement of the pressure supplied by the cold cathode gauge is monitored. 13 and the gauge 25 by the measurement steps E6 and E7. - Comparing (step E8) the two measured pressures PR and PR '. 20 - In case of equality of the two pressures, it controls the valve 22 (step E9) to close and isolate the chamber of the main chamber 10 and the piece P. - Let the ion pump 30 go to the maximum of pumping - The cold vacuum pressure is measured (step E10) and the analyzer 16 (step E 11) analyzes the gases. - The ion pump 30 is stopped (step E12) and the results are recorded (step E14), that is to say the cold limit vacuum and the species or the spectrum of the species present in the enclosure formed by the chamber The main cycle 10 and the piece P. 30 2nd cycle of steaming After this first cycle of steaming, the second cycle of steaming is carried out with, for starting conditions, the cold vacuum and the spectrum of all the species present in the steam cycle. enclosure formed by the main chamber 10 and the volume of the piece P. During the second cycle of steaming, the following operations are carried out: the ion pump 30 is stopped;

9 - On ouvre la vanne 22 (étape E20) pour faire communiquer la chambre 10 et la pièce P avec l'installation de pompage de vide primaire et secondaire 20. - La pompe de vide secondaire 24, qui n'a pas été arrêtée, continue de pomper (étape E21). - En même temps, on commande le chauffage (étape E22) de la chambre principale 10 et de la pièce P ; on surveille la température (étape E23) ainsi que la durée de chauffage. Cette étape peut durer plusieurs jours. Le chauffage agite les molécules qui se détachent des surfaces auxquel- les elles sont accrochées de sorte que la pression augmente. Il s'agit du phénomène de dégazage. L'évacuation des molécules se fait par un pompage autre qu'un pompage ionique de façon à évacuer les molécules vers l'extérieur. - Puis, dans une étape suivante E24, on abaisse la température jusqu'à atteindre la limite de 80°C (étape E25) et on met en route la pompe ionique 30 (étape E26) ; le pompage ionique n'évacue pas les molécules vers l'extérieur mais il les capte simplement. On surveille le pompage en mesurant la pression de la jauge 25 et de la jauge à cathode froide 13 (pressions PR et PR') (étape E27). - En cas d'égalité des deux pression (étape E28), on commande la fermeture de la vanne 22 (étape E29). La chambre 10 et la pièce P sont de nouveau isolées - On attends que le pompage ionique 30 atteigne le maximum. - On arrête le pompage (étape E30) et on analyse les gaz (étape E31) avec l'analyseur 16. - Le cycle se termine par l'injection d'azote (étape E32) pour neutraliser provisoirement la pièce. Les cycles d'étuvage sont gérés de façon totalement automatique et les opérations peuvent être faites efficacement et rapidement. 9 - The valve 22 (step E20) is opened to communicate the chamber 10 and the part P with the primary and secondary vacuum pumping installation 20. - The secondary vacuum pump 24, which has not been stopped, continues to pump (step E21). At the same time, the heating (step E22) of the main chamber 10 and of the room P is controlled; the temperature (step E23) and the heating time are monitored. This step can last several days. The heating agitates the molecules which are detached from the surfaces to which they are hooked so that the pressure increases. This is the phenomenon of degassing. The evacuation of the molecules is by pumping other than ionic pumping so as to evacuate the molecules to the outside. - Then, in a next step E24, the temperature is lowered to reach the limit of 80 ° C (step E25) and the ion pump 30 is started (step E26); the ionic pumping does not evacuate the molecules to the outside but it simply captures them. The pumping is monitored by measuring the pressure of the gauge 25 and cold cathode gauge 13 (pressures PR and PR ') (step E27). - In case of equality of the two pressures (step E28), it controls the closing of the valve 22 (step E29). Chamber 10 and Room P are again isolated. Expect ionic pumping to reach maximum. - The pumping is stopped (step E30) and the gases are analyzed (step E31) with the analyzer 16. - The cycle ends with the nitrogen injection (step E32) to temporarily neutralize the part. The bake cycles are fully automated and operations can be done efficiently and quickly.

L'étuvage selon l'invention permet d'augmenter le vide limite, c'est-à-dire de pousser le vide limite au delà des limites actuelles et de baisser la quantité de certaines espèces qui subsistent, tel que de l'eau. En fin d'étuvage, l'injection d'azote pur, tapisse les parois de la pièce pour empêcher une pollution de l'enceinte tout en pouvant ulté- rieurement se décrocher très facilement lorsqu'un pompage est effectué une fois la pièce mise en place sur l'installation à laquelle elle est destinée. 10 15 Steaming according to the invention makes it possible to increase the limit vacuum, that is to say to push the limit vacuum beyond the present limits and to reduce the quantity of certain remaining species, such as water. At the end of steaming, the injection of pure nitrogen lined the walls of the room to prevent pollution of the enclosure while being able to easily fall out very easily when pumping is carried out once the piece has been installed. place on the installation for which it is intended. 10 15

10 10

La protection assurée par le revêtement d'azote est suffisante pour permettre le démontage de la pièce par rapport à l'installation d'étuvage, sa fermeture, le transport sur le site et sa réinstallation. Les différentes étapes des cycles d'étuvage peuvent être sui- vies par l'utilisateur de la pièce pour qu'il contrôle lui-même l'efficacité des opérations. Si l'analyse faite en fin de deuxième cycle d'étuvage montre que les résultats obtenus sont insuffisants, on recommence le cycle d'étuvage. Les pièces ainsi étuvées sont des pièces destinées principalement à des chambres à vide ou des enceintes à vide. Ces pièces s'utilisent dans des installations fonctionnant sous vide telles que les accélérateurs à particules comme par exemple les synchrotrons et les cyclotrons. Les chambres à vide s'utilisent également dans des applications médicales, par exemple pour le domaine de la hadronthérapie. Enfin, de telles installations sont utilisées en physique nucléaire dans de nombreux laboratoires de recherche. 20 The protection provided by the nitrogen coating is sufficient to allow the disassembly of the part with respect to the parboiling plant, its closure, on-site transportation and relocation. The various stages of the bake cycles can be followed by the user of the part to control the efficiency of the operations himself. If the analysis done at the end of the second baking cycle shows that the results obtained are insufficient, the baking cycle is repeated. Parts thus parboiled are parts intended mainly for vacuum chambers or vacuum enclosures. These parts are used in vacuum installations such as particle accelerators such as synchrotrons and cyclotrons. The vacuum chambers are also used in medical applications, for example for the field of hadrontherapy. Finally, such facilities are used in nuclear physics in many research laboratories. 20

Claims (1)

REVENDICATIONS1 °) Installation d'étuvage pour la préparation de pièces destinées à être exposées à un vide poussé ou à l'ultravide, caractérisée en ce qu' elle comprend A- une chambre principale (10) recevant la pièce (P) ou branchée sur la pièce (P), - un équipement de chauffage (11, 12) de la chambre (10) et de la pièce (P), lo - une installation de pompage de vide (20) pour le vide primaire et le vide secondaire reliée à la chambre principale (10) et munie d'une vanne de coupure (22) pour couper la liaison entre l'installation de pompage (20) et la chambre principale (10), - une installation de pompage d'ultravide (30) reliée séparément à la 15 chambre principale (10) , B- une centrale de commande (40) comprenant un circuit de gestion de fonctionnement avec un microprocesseur (41), des programmes (42) et une entrée de commande et de données (44), relié à un ensemble de jauges à vide (13, 14, 25) et de capteurs de tem- 20 pérature (18, 19) associées à la chambre principale (10) et au système de pompage de vide (20), et aussi à un analyseur (16) de gaz résiduels, relié à la chambre principale (10), et - un circuit de puissance (43) alimentant les systèmes de pompage de vide (20, 30) et d'ultravide (30) et les moyens de chauffage (11, 12). 25 2°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'installation de pompage de vide (20) comporte une pompe primaire (23) et une pompe secondaire (24) pour réaliser respectivement un vide primaire 30 et un vide secondaire, ainsi qu'une jauge de pression (25), la pompe primaire (23), la pompe secondaire (24) et la jauge de pression (25) étant reliées à une conduite (21) en aval de la vanne (22) reliant la conduite (21) à la chambre principale (10). 35 3°) Installation d'étuvage selon la revendication 2, caractérisée en ce que la pompe primaire (23) est une pompe primaire sèche et la pompe secondaire (24) est une pompe turbomoléculaire. 51012 4°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que la chambre principale (10) est équipée d'une jauge à cathode froide (13) et d'une jauge Pirani (14). 5°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que l'installation de pompage d'ultravide (30) est constituée par une pompe ionique. 6°) Installation d'étuvage selon la revendication 1, caractérisée en ce que la chambre principale (10) est reliée à une alimentation en azote (17). 15 7°) Procédé d'étuvage d'une pièce destinée à être exposée à un vide poussé pour mettre en oeuvre l'installation selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu' on effectue un premier cycle d'étuvage pour une lecture du vide limite, à 20 froid, puis un second cycle pour un vide limite et la détermination du spectre des espèces présentes dans l'enceinte de la pièce, au cours du premier cycle d'étuvage, à froid, on effectue un pompage primaire puis un pompage secondaire dans l'enceinte forme par la chambre principale (10) et la pièce (P), suivi d'un pompage avec la pompe ioni- 25 que (30) et quand l'équilibre des pressions est atteint, on sépare le circuit de pompage primaire et secondaire (20) pour mesurer le vide limite à froid dans l'enceinte (10, P) et on fait une analyse des gaz à froid puis, on effectue le second cycle d'étuvage selon lequel on arrête la pompe ionique (30) et on ouvre la vanne (22) pour effectuer un 30 pompage secondaire (24) et on chauffe (11, 12) l'enceinte (10) ou la pièce (P) en contrôlant la montée en température et on maintient la température à une valeur donnée pour décrocher les molécules et les pomper avec la pompe secondaire (24) qui les évacue, puis on abaisse la température et à une température de 80°C, on démarre la pompe ionique (30) et 35 quand l'équilibre des pressions est atteint, on ferme l'enceinte (10) et on fait une lecture du vide limite à chaud, on analyse (16) les gaz résiduels et on arrête le pompage, puis on injecte de l'azote (17) dans l'enceinte (10) pour remonter en pression et on ouvre l'enceinte (10, P). CLAIMS 1 °) Stoving installation for the preparation of parts to be exposed to a high vacuum or ultra-high vacuum, characterized in that it comprises A- a main chamber (10) receiving the piece (P) or connected to the piece (P), - a heating equipment (11, 12) of the chamber (10) and the part (P), lo - a vacuum pumping installation (20) for the primary vacuum and the connected secondary vacuum to the main chamber (10) and provided with a shut-off valve (22) for cutting the connection between the pumping installation (20) and the main chamber (10), - an ultra-high vacuum pumping installation (30) separately connected to the main chamber (10), B- a control unit (40) comprising an operation management circuit with a microprocessor (41), programs (42) and a control and data input (44) connected to a set of vacuum gauges (13,14,25) and temperature sensors (18,19) associated with the main chamber (10) and the vacuum pumping system (20), and also a residual gas analyzer (16) connected to the main chamber (10), and - a power circuit (43) supplying the systems vacuum pump (20, 30) and ultrahigh vacuum (30) and the heating means (11, 12). 2 °) stoving installation according to claim 1, characterized in that the vacuum pumping installation (20) comprises a primary pump (23) and a secondary pump (24) for respectively producing a primary vacuum 30 and a secondary vacuum, and a pressure gauge (25), the primary pump (23), the secondary pump (24) and the pressure gauge (25) being connected to a pipe (21) downstream of the valve (22). ) connecting the pipe (21) to the main chamber (10). 3 °) parboiling installation according to claim 2, characterized in that the primary pump (23) is a dry primary pump and the secondary pump (24) is a turbomolecular pump. 51012 4 °) Stoving installation according to claim 1, characterized in that the main chamber (10) is equipped with a cold cathode gauge (13) and a Pirani gauge (14). 5 °) parboiling installation according to claim 1, characterized in that the ultra-vacuum pumping installation (30) is constituted by an ion pump. 6 °) steaming installation according to claim 1, characterized in that the main chamber (10) is connected to a nitrogen supply (17). 7 °) Process for steaming a part intended to be exposed to a high vacuum to implement the installation according to any one of Claims 1 to 6, characterized in that a first cycle of baking for a reading of the limit vacuum, cold, then a second cycle for a limit vacuum and the determination of the spectrum of the species present in the chamber of the room, during the first cycle of steaming, cold, is carried out primary pumping and then secondary pumping in the enclosure formed by the main chamber (10) and the workpiece (P), followed by pumping with the ion pump (30) and when the pressure equilibrium is reached the primary and secondary pumping circuit (20) is separated to measure the cold boundary vacuum in the enclosure (10, P) and the gases are analyzed cold and then the second baking cycle is carried out. the ion pump (30) is stopped and the valve (22) is opened for pumping. econdaire (24) and heated (11, 12) the chamber (10) or the piece (P) by controlling the rise in temperature and the temperature is maintained at a given value to unhook the molecules and pump them with the secondary pump (24) which evacuates them, then the temperature is lowered and at a temperature of 80 ° C., the ion pump (30) is started and when the pressure equilibrium is reached, the chamber (10) is closed and makes a reading of the hot limit vacuum, the residual gases are analyzed (16) and the pumping stops, then nitrogen (17) is injected into the chamber (10) to rise in pressure and the chamber is opened (10, P).
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