FR2779721A1 - 6-Substitution of 1,5-dialkyl uracil derivatives with higher yields - Google Patents
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Abstract
Description
Substitution d'une 1,5-dialkyl uracile en position 6 La présente inventionSubstitution of a 1,5-dialkyl uracil in position 6 The present invention
concerne une méthode de substitution d'une 1,5-dialkyl uracile en position 6. Une telle substitution est connue de l'homme de l'art (EP 420763; EP 449726; J. Med. Chem. 1995, 38, 2860-5): elle comprend la réaction d'un agent alkylant dans un milieu aprotique, en présence d'une base forte, à des températures relativement basses. Avec de telles conditions et en présence de sites secondairement substituables (c'est à dire qui ne sont pas les premiers sites potentiellement substituables) sur les radicaux en position 1 et 5, le rendement est relativement peu élevé, de l'ordre de à 55 %. Le problème était donc de trouver une méthode de substitution avec un rendement plus élevé et donc plus intéressant d'un point de vue industriel. L'invention a donc pour objet une méthode de substitution en position 6 d'une 1,5-dialkyluracile, caractérisée en ce qu'elle est mise en oeuvre en présence d'un agent complexant. Ceci permet d'obtenir un rendement de 15 à 30 % supérieur à ceux obtenus précédemment par relates to a method of substitution of a 1,5-dialkyl uracil in position 6. Such a substitution is known to a person skilled in the art (EP 420763; EP 449726; J. Med. Chem. 1995, 38, 2860- 5): it comprises the reaction of an alkylating agent in an aprotic medium, in the presence of a strong base, at relatively low temperatures. With such conditions and in the presence of secondarily substitutable sites (that is to say which are not the first potentially substitutable sites) on the radicals in positions 1 and 5, the yield is relatively low, of the order of to 55 %. The problem was therefore to find a substitution method with a higher yield and therefore more interesting from an industrial point of view. The subject of the invention is therefore a method of substitution in position 6 of a 1,5-dialkyluracil, characterized in that it is used in the presence of a complexing agent. This allows a yield of 15 to 30% higher than those obtained previously by
l'homme de l'art.one skilled in the art.
La présente invention a donc pour objet la préparation d'une 1,5,6trialkyl uracile de formule la O0 _aRI The present invention therefore relates to the preparation of a 1,5,6trialkyl uracil of formula la O0 _aRI
H-N A-R"1H-N A-R "1
O R'1 LO R'1 L
Ia dans laquelle RI et R'l représentent, indépendamment, un radical alkyle inférieur, alkoxyméthyle, aryle ou arylalkyle; R"1 représente un groupe alkyle de 1 à 10 atomes de carbone; aryle éventuellement substitué par un ou plusieurs substituants identiques ou différents choisis parmi halo, hydroxy, amino, alkyle inférieur ou aryle; ou arylalkyle inférieur éventuellement substitué sur le radical alkyle ou aryle par un ou plusieurs substituants identiques ou différents choisis parmi halo, hydroxy, amino, alkyle inférieur ou aryle, A représente le radical -CH(OH)-, -C(Y)(OH)- ou -C(O)-, Y représente un atome d'hydrogène, un radical halo ou alkyle inférieur, -2- caractérisé en ce que l'on fait réagir une 1,5-dialkyl uracile de formule Ib Ia in which RI and R'l independently represent a lower alkyl, alkoxymethyl, aryl or arylalkyl radical; R "1 represents an alkyl group of 1 to 10 carbon atoms; aryl optionally substituted by one or more identical or different substituents chosen from halo, hydroxy, amino, lower alkyl or aryl; or lower arylalkyl optionally substituted on the alkyl or aryl radical with one or more identical or different substituents chosen from halo, hydroxy, amino, lower alkyl or aryl, A represents the radical -CH (OH) -, -C (Y) (OH) - or -C (O) -, Y represents a hydrogen atom, a halo or lower alkyl radical, -2- characterized in that a 1,5-dialkyl uracil of formula Ib is reacted
O" RIO "RI
H -IN oN s Ib avec un agent alkylant de formule R"l-C(O)-Y dans laquelle R"l et Y ont la signification indiquée ci-dessus, dans un solvant aprotique, à une température comprise entre -100 et 0 C, en présence d'une base forte et d'un agent complexant. L'invention a plus particulièrement pour objet une préparation telle que décrite ci-dessus caractérisée en ce que Ri et R'i représentent, indépendamment, un radical alkyle ou H -IN oN s Ib with an alkylating agent of formula R "lC (O) -Y in which R" l and Y have the meaning indicated above, in an aprotic solvent, at a temperature between -100 and 0 C , in the presence of a strong base and a complexing agent. A more particular subject of the invention is a preparation as described above, characterized in that Ri and R'i represent, independently, an alkyl radical or
alkoxyméthyle; R" 1 représente un aryle éventuellement substitué. alkoxymethyl; R "1 represents an optionally substituted aryl.
L'invention a plus particulièrement pour objet une préparation telle que décrite ci-dessus caractérisée en ce que RI et R'l représentent, indépendamment, le radical isopropyle ou A more particular subject of the invention is a preparation as described above, characterized in that RI and R'l represent, independently, the isopropyl radical or
éthoxyméthyle; R" 1 représente le radical phényle et A représente le radical -CH(OH)-. ethoxymethyl; R "1 represents the phenyl radical and A represents the radical -CH (OH) -.
Dans les définitions indiquées ci-dessus, l'expression halo représente le radical fluoro, chloro, bromo ou iodo, de préférence chloro, fluoro ou bromo. L'expression alkyle inférieur représente de préférence un radical alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone, linéaire ou ramifié, et en particulier un radical alkyle ayant de 1 à 4 atomes de carbone tels que les radicaux méthyle, éthyle, propyle, isopropyle, butyle, isobutyle, sec-butyle et tert-butyle, mais peut également représenter un radical pentyle, isopentyle, hexyle ou isohexyle. Parmi les radicaux alkyle contenant de 1 à 10 atomes de carbone, on peut citer les alkyles inférieurs tels que définis ci-dessus mais également les radicaux heptyle, In the definitions indicated above, the expression halo represents the fluoro, chloro, bromo or iodo radical, preferably chloro, fluoro or bromo. The expression lower alkyl preferably represents an alkyl radical having from 1 to 6 carbon atoms, linear or branched, and in particular an alkyl radical having from 1 to 4 carbon atoms such as the methyl, ethyl, propyl, isopropyl radicals, butyl, isobutyl, sec-butyl and tert-butyl, but can also represent a pentyl, isopentyl, hexyl or isohexyl radical. Among the alkyl radicals containing from 1 to 10 carbon atoms, mention may be made of lower alkyls as defined above, but also heptyl radicals,
octyle, nonyle ou décyle.octyl, nonyl or decyl.
Les radicaux alkoxy inférieurs peuvent correspondre aux radicaux alkyle indiqués ci-dessus comme par exemple les radicaux méthoxy, éthoxy, propyloxy ou isopropyloxy The lower alkoxy radicals can correspond to the alkyl radicals indicated above, for example the methoxy, ethoxy, propyloxy or isopropyloxy radicals
mais également butoxy linéaire, secondaire ou tertiaire. but also linear, secondary or tertiary butoxy.
L'expression aryle représente un radical aromatique carboxylique, constitué d'un cycle ou de cycles condensés, comme par exemple le radical phényle ou naphtyle. Les radicaux arylalkyles inférieurs désignent les radicaux dans lesquels respectivement les radicaux aryle et alkyle inférieur sont tels que définis ci-dessus comme par exemple benzyle, The expression aryl represents an aromatic carboxylic radical, consisting of a ring or condensed rings, such as for example the phenyl or naphthyl radical. The lower arylalkyl radicals denote the radicals in which the aryl and lower alkyl radicals respectively are as defined above, for example benzyl,
phenéthyle ou naphtylméthyle.phenethyl or naphthylmethyl.
-3- Le composé Ia dans lequel A représente le radical -CH(OH)-, C(Y)(OH)- ou -C(O)-, est obtenu à partir du composé lb correspondant en faisant réagir l'agent alkylant de formule R" 1-C(O)-Y dans laquelle Y représente respectivement un atome d'hydrogène, un radical alkyle inférieur ou halo. La réaction peut être réalisée dans un solvant aprotique tel qu'un éther comme par exemple le tétrahydrofurane (THF), le méthyltertiobutyléther, le méthyltétrahydrofurane, le diéthyléther ou bien un mélange d'éthers, et de préférence le THF, pendant des temps allant de 0,1 h à 10 h, en présence d'une base forte et d'un agent complexant. La réaction peut également être réalisée dans un éther ou mélange d'éthers en mélange avec un ou plusieurs hydrocarbures aromatiques ou aliphatiques. De préférence, la réaction est mise en oeuvre à une température comprise entre -85 et -25 C. Parmi les bases fortes utilisées, on peut citer par exemple les alkyles ou aryles de métaux alkalins tels que butyllithium, hexyllithium ou encore phényllithium, et également les amidures de métaux alkalins tels que diisopropylamidure de lithium (LDA), 2,2,6,6-tétraméthylpipéridure de lithium (LTMP), diisopropylamidure de potassium (KDA), bis(triméthylsilyl)amidure de lithium (LHMDS), bis(triméthylsilyl)amidure de potassium (KHMDS). De préférence, la base forte utilisée est un alkyle ou aryle de métal -3- The compound Ia in which A represents the radical -CH (OH) -, C (Y) (OH) - or -C (O) -, is obtained from the corresponding compound lb by reacting the alkylating agent of formula R "1-C (O) -Y in which Y represents respectively a hydrogen atom, a lower alkyl or halo radical. The reaction can be carried out in an aprotic solvent such as an ether such as for example tetrahydrofuran ( THF), methyltertiobutylether, methyltetrahydrofuran, diethylether or else a mixture of ethers, and preferably THF, for times ranging from 0.1 h to 10 h, in the presence of a strong base and of an agent The reaction can also be carried out in an ether or mixture of ethers in admixture with one or more aromatic or aliphatic hydrocarbons. Preferably, the reaction is carried out at a temperature between -85 and -25 C. strong bases used, there may be mentioned for example the alkyls or aryls of alkali metals such as butyllithium, hexyllithium or even phenyllithium, and also amides of alkali metals such as lithium diisopropylamide (LDA), 2,2,6,6-lithium tetramethylpiperide (LTMP), potassium diisopropylamide (KDA), bis (trimethylsilyl) lithium amide (LHMDS), bis (trimethylsilyl) potassium amide (KHMDS). Preferably, the strong base used is a metal alkyl or aryl
alkalin et en particulier alkyle ou aryle de lithium tel que butyllithium ou hexyllithium. alkaline and in particular lithium alkyl or aryl such as butyllithium or hexyllithium.
Comme agents complexants, on peut utiliser toute molécule permettant d'introduire un métal, et en particulier un métal alcalin ou alcalinoterreux, sous forme d'ion. On peut en particulier citer les sels de métaux ou de métaux alkalins tels que LiCI, NaCl, KCI, CsCI, MgCI2, CaCl2. De préférence, l'agent complexant est un halogénure de métal alkalin et en As complexing agents, any molecule can be used which makes it possible to introduce a metal, and in particular an alkali or alkaline-earth metal, in the form of an ion. Mention may in particular be made of the salts of metals or of alkali metals such as LiCI, NaCl, KCI, CsCI, MgCI2, CaCl2. Preferably, the complexing agent is an alkali metal halide and in
particulier un halogénure de lithium tel que le chlorure de lithium. in particular a lithium halide such as lithium chloride.
Le produit de départ de formule Ib peut être obtenu par des méthodes connues de The starting material of formula Ib can be obtained by known methods of
l'homme de l'art (EP 420763; EP 449726; J. Med. Chem. 1995, 38, 2860-5). those skilled in the art (EP 420763; EP 449726; J. Med. Chem. 1995, 38, 2860-5).
Les exemples suivants sont présentés pour illustrer les procédures cidessus et ne doivent The following examples are presented to illustrate the above procedures and should not be
en aucun cas être considérés comme une limite à la portée de l'invention. in no case be considered as a limit to the scope of the invention.
Partie expérimentale Exemple 1: 1-éthoxyméthyl-6-(a-hydroxybenzyl)-5isopropyluracile Dans un tricol de 4 1 sous atmosphère d'azote, on charge 80 g de chlorure de lithium anhydre, puis on ajoute une solution de 100 g de 1-éthoxyméthyl-5-isopropyluracile dans 1,3 1 de THF. On homogénéise l'ensemble 10 min puis on refroidit à - 60 C. On additionnne alors sur le milieu, 450 ml d'une solution d'hexyllithium à 33 % dans -4- l'hexane en maintenant la température entre -50 et - 60 C en une heure. On agite à -55 C pendant une heure, puis on additionne 100 g de benzaldéhyde entre -50 et - 60 C en une demie heure. On agite à - 55 C pendant deux heures puis on additionne rapidement 120 ml d'acide acétique en solution dans 100 ml de THF en laissant évoluer la température. On ajoute sur le milieu, 300 ml d'eau déminéralisée, on agite 10 min puis on décante. La phase organique est lavée deux fois avec 330 ml de soude 1 N saturée en chlorure de sodium. Le milieu est concentré en éliminant sous vide à 30 C ml de THF. Le milieu est extrait par trois fois avec 440 ml de soude 1 N. Les phases organiques sont réunies et lavées deux fois avec 260 ml de toluène. On ajoute sur le milieu 660 ml de chlorure de méthylène et on acidifie par ajout de 300 ml d'acide chlorhydrique 6 N. On décante et la phase aqueuse est réextraite par deux fois avec 260 ml de chlorure de méthylène. Les phases aqueuses sont réunies et laver par 260 ml d'eau déminéralisée. On concentre sous vide le milieu jusqu'à un volume de 600 mi. On ajoute 300 ml de toluène et on poursuit la concentration jusqu'à apparition d'une cristallisation. On refroidit à 0 C, on agite deux heures et on essore. Le solide obtenu est lavé par deux fois 100 ml de toluène et on sèche en étuve ventilée 15 heures à 50 C. On Experimental part Example 1: 1-ethoxymethyl-6- (a-hydroxybenzyl) -5isopropyluracil In a 4-liter three-necked flask under nitrogen, 80 g of anhydrous lithium chloride are charged, then a solution of 100 g of 1 is added. -ethoxymethyl-5-isopropyluracil in 1.3 1 of THF. The whole is homogenized for 10 min and then cooled to -60 C. Then 450 ml of a 33% hexllithium solution in hexane are added to the medium, maintaining the temperature between -50 and - 60 C in one hour. The mixture is stirred at -55 ° C. for one hour, then 100 g of benzaldehyde is added between -50 and -60 ° C. in half an hour. The mixture is stirred at -55 ° C. for two hours and then 120 ml of acetic acid dissolved in 100 ml of THF are rapidly added, allowing the temperature to change. 300 ml of demineralized water are added to the medium, the mixture is stirred for 10 min and then decanted. The organic phase is washed twice with 330 ml of 1 N sodium hydroxide solution saturated with sodium chloride. The medium is concentrated by removing under vacuum at 30 C ml of THF. The medium is extracted three times with 440 ml of 1N sodium hydroxide. The organic phases are combined and washed twice with 260 ml of toluene. 660 ml of methylene chloride are added to the medium and acidified by adding 300 ml of 6N hydrochloric acid. The mixture is decanted and the aqueous phase is reextracted twice with 260 ml of methylene chloride. The aqueous phases are combined and washed with 260 ml of demineralized water. The medium is concentrated under vacuum to a volume of 600 ml. 300 ml of toluene are added and the concentration is continued until crystallization appears. Cool to 0 C, stir for two hours and spin. The solid obtained is washed with twice 100 ml of toluene and dried in a ventilated oven for 15 hours at 50 C.
obtient ainsi 110 g d'un solide blanc (74 %). thus obtains 110 g of a white solid (74%).
RMNIH (CH3CI, /): 2,2-2,3 (t, 6H); 1,4 (d, 3H); 3,2-3,4 (m, 1H); 3,6-3,8 (m, 2H); 4,75 et 5,42 (2d, 2H); 5,3 (d, 1H); 6,3 (d, 1H); 7,3-7,75 (m, 5H); 9,7 (s, RMNIH (CH3CI, /): 2.2-2.3 (t, 6H); 1.4 (d, 3H); 3.2-3.4 (m, 1H); 3.6-3.8 (m, 2H); 4.75 and 5.42 (2d, 2H); 5.3 (d, 1H); 6.3 (d, 1H); 7.3-7.75 (m, 5H); 9.7 (s,
1H).1H).
Example 2 1-éthoxyméthyl-6-(ac-hydroxybenzyl)-5-isopropyluracile Selon la méthode décrite dans l'exemple 1 mais en utillisant 317 g de chlorure de césium Example 2 1-Ethoxymethyl-6- (ac-hydroxybenzyl) -5-isopropyluracil According to the method described in Example 1 but using 317 g of cesium chloride
à la place de 80 g de chlorure de lithium, on obtient 87 g du produit souhaité (65 %). instead of 80 g of lithium chloride, 87 g of the desired product (65%) are obtained.
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FR9807507A FR2779721A1 (en) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 6-Substitution of 1,5-dialkyl uracil derivatives with higher yields |
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FR9807507A Withdrawn FR2779721A1 (en) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 6-Substitution of 1,5-dialkyl uracil derivatives with higher yields |
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