FR2630555A1 - METHOD AND DEVICE FOR CREATING A LATENT IMAGE ON A LIGHT-SENSITIVE COATING OF AN OFFSET PRINTING PLATE - Google Patents
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Abstract
La présente invention concerne un dispositif pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque caractérisé par : - une première unité 1 de couche de cristaux liquides; - un pinceau 2 commandé par calculateur orienté sur une première face de cette première unité de couche de cristaux liquides, envoyant des impulsions en corrélation avec l'image; - un miroir 10 qui envoie la lumière émise par la source lumineuse 4 sur une deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides opposée à la première face; et - un système de lentilles 9 créant une image de la deuxième face de la première unité 1 de couche de cristaux liquides sur la plaque d'impression offset 7.The present invention relates to a device for creating a latent image on a light-sensitive coating of an offset printing plate by means of a beam of rays emitted by a light source and modulated by means of a photomask. characterized by: - a first unit 1 of liquid crystal layer; a brush 2 controlled by a computer oriented on a first face of this first unit of liquid crystal layer, sending pulses in correlation with the image; - a mirror 10 which sends the light emitted by the light source 4 onto a second face of the first unit of liquid crystal layer opposite the first face; and - a lens system 9 creating an image of the second face of the first unit 1 of liquid crystal layer on the offset printing plate 7.
Description
À asjo uoTssaJdwTI Jnod;olduaz W aliJd sa uoTssaJduItp anbvid uIAsjo uoTssaJdwTI Jnod; olduaz W aliJd his uoTssaJduItp anbvid uI
'JnaddolaAap unp ua{Xo ni Oç sagsodxa uou seTlwd sap %uauwaA;ua siJdu la '%uaueam aaJ np juaasssTzJnp un anbTuW;tq uo;:ovJ Jd;%npoJd as sgsodxe s; uawea:ldui sal ins anbTltIIgu ainugSolvuq un Jud 9dop aJnzJia ep JnadvA adwul aunp apTv,l g aidwaxa xjd s3sodxe;uos apTA snos;%:muoz ua suamglg 6Z xnep SaD Tonb ap a-4ns -I ';ua@,.p ainugoltq g wI;J ap jT;%S;u un lJgu9 ua 'mITj unp 9n%;;suos uodAX; un gnbTiddu;sa lanbel Jns 'aJeiiun wI aIq$suas uusaw8aaJ un;uvJOdUdwo wnFuTunlw,p aI9; ue Tolduea., salaJd saguTwje% uoTsseJduwT,p sanbuld ap %uea@llInqu si 4Jas es uo %Jad aun,p-,, T 1% u 9pgoJd,, un suma ÀuoTssJdtut,p enbuld gl ap aJejuwnI vI alqTsuas amDnof m ins 9nbTIddv;uetuesaiTp sa Tnb;a anbsuwo;ooqd ap qJas Tnb mI;j un seJagJ; î aJqTmnl ap 9,4Tuvnb auuv;JoduT aun,p apj;,I * saesodxa 0[ JnaddolaAap unp ua {Xo ni Oç sagsodxa uou seTlwd sap% uauwaA; ua siJdu the '% uaueam aaJ np juaasssTzJnp a anbTuW; tq uo;: nJ Jd;% npoJd as sgsodxe s; uawea: ldui sal ins anbTltIIgu ainugSolvuq a Jud 9dop aJnzJia ep JnadvA adwul aunp apTv, lg aidwaxa xjd s3sodxe; uos apTA snos;%: muoz ua suamglg 6Z xnep SaD Tonb ap a-4ns -I '; ua @ ,. p ainugoltq g wI; J ap jT;% S; u a lJgu9 ua 'mITj ap 9n% ;; suos uodAX; a gnbTiddu, his lanbel Jns' aJiiii wi aIq $ suas uusaw8aaJ a; uvJOdUdwo wnFuTunlw, p aI9; Tolduea., salaJd saguTwje% uoTsseJduwT, p sanbuld ap% uea @ llInqu if 4Jas es uo% Jad aun, p- ,, T 1% u 9pgoJd ,, a suma AuUtssJdtut, p enbuld gl ap aJejuwnI vI alqTsuas amDnof m ins 9nbTIddv and let his Tnb; anbsuwo; ooqd ap qJas Tnb mI; j sejagJ; 9.9 Tuvnb auuv; JoduT aun, p apj;, I * saesodxa 0 [
%uos saumJnoD lasjo uossaJdmT,p senbiTd sa- % uos bruNy lasjo uossaJdmT, p senbiTd sa-
anbsumo;ooqd un,p uaKou nv 9Inpou;a asnauTmnl aDJnos aun awd sTup, xneuTunl nvasTv; un,p uaXoum nu asjjo uossaJdtuT,p anbeld aun,p aJgwtunr 1i 7 aIq;sues 4uuwe;AeaJ un ins a ua% a2uumI aun,p uoT;gJz wI Jnod i;; sodsTp un 4a p;pDoJd un auJazuoo uooTuaAuT,q úl3S4.O NOISSMIdWIQ CI nbVYd 3Nnfl aINnIfn VI 31SqISNES INEW3ú3A3 Nfl nflS 3úN31V SOVWI NflnG NOIIVS M V q ?fnOd IJlISOdSIG Li ECI3O{d N O I I N 3 A N i G A a S S g55-09 2 S fOs n Dans des plaques d'impression terminées prêtes à !emploi selon un "procédé positif" d'autre part des revêtements à liaisons hydrophobes sont par contre transformés photolytiquement en liaisons plus fortement hydrophyles et les parties exposées du revêtement sont ooqd ooqd a, p uaKou nv 9Inpou; aa nnTmnl aDJnos au awd sTup, xneuTunl nvasTv; a, p uaXum nu asjjo uossaJdtuT, p anbeld aun, p ajgwtunr 1i 7 aIq; sues 4uuwe; AeaJ a ins a ua a2aUnn, p uoT; gjz wI Jnod i ;; sodsTp a 4a p; pDoJd a auJazoooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooooo In finished printing plates ready for use in a "positive process", on the other hand, hydrophobic-bonded coatings are photolytically converted into more strongly hydrophilic bonds and the exposed parts of the coating are
dissoutes au moyen d'un développeur. dissolved by means of a developer.
Selon un autre procédé l'image originale est projetée ou réfléchie & une échelle que l'on peut choisir sur la plaque d'impression en partant & nouveau d'un film, éventuellement d'un microfilm, qui peut être tracé par un ordinateur (Voir: Druckindustrie (St. Gallen) 1987, 6 According to another method, the original image is projected or reflected on a scale that can be selected on the printing plate starting from a new film, possibly a microfilm, which can be traced by a computer ( See: Druckindustrie (St. Gallen) 1987, 6
octobre, page 116).October, page 116).
Dans tous les cas on utilise donc un film qui doit être exécuté sous forme de photomasque avant la In any case, we therefore use a film that must be executed in the form of a photomask before
fabrication de la plaque d'impression à partir du typon. manufacture of the printing plate from the artwork.
La fabrication des films exige déjà un processus long, qui de plus impose des conditions contraignantes de salles de travail sans poussières. Il s'y ajoute le montage également onéreux de films individuels sur une The production of films already requires a long process, which moreover imposes binding conditions of dust-free workrooms. There is also the expensive editing of individual films on a
feuille de montage.mounting sheet.
L'invention a donc pour but de proposer un procédé et un dispositif permettant un processus simplifié et The object of the invention is therefore to propose a method and a device allowing a simplified process and
raccourci pour la fabrication d'un photomasque. shortcut for the manufacture of a photomask.
Ce but est atteint grâce à un procédé pour la création d'une image latente sur un revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset au moyen d'un faisceau de rayons émis par une source lumineuse et modulé au moyen d'un photomasque, qui se distingue en ce qu'est employé comme photomasque une matrice de relais photoélectrique et en ce que la matrice de relais photoélectrique est commandée par des signaux qui sont en corrélation avec l'image et grace & des dispositifs destinés à la mise en oeuvre de ce procédé qui se distinguent d'uen part par une première unité de couche de cristaux liquides, un pinceau commandé par calculateur orienté sur une première face de cette This object is achieved by a method for creating a latent image on a light-sensitive coating of an offset printing plate by means of a beam of rays emitted by a light source and modulated by means of a photomask, which is distinguished by the fact that a photoelectric relay matrix is used as a photomask and that the photoelectric relay matrix is controlled by signals which correlate with the image and by means of devices intended for use of this process which are distinguished on the one hand by a first liquid crystal layer unit, a computer-controlled brush oriented on a first face of this
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remière unité de couche de cristaux liquides, envoyant deF impulsions en correlation avec l'image, un miroir -ui envoie- la lumière émise par la source lumineuse sur une deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides opposée & la première face et un système de lentilles créant une image de la deuxième face de la première unité de couche de cristaux liquides sur la plaque d'impression offset, et d'autre part par une deuxième unité de couche de cristaux liquides comportant une matrice d'électrodes, la matrice d'électrodes pouvant être occupée par des signaux électriques, qui sont en corrélation avec l'image, un guidage du faisceau de rayons tel que celui-ci parvient sur une première face de la deuxième unité de couche de cristaux liquides et un système de lentilles pour former une image d'une partie du faisceau de rayons pénétrant the first liquid crystal layer unit, sending pulses in correlation with the image, a mirror, which sends the light emitted from the light source to a second face of the first liquid crystal layer unit opposite to the first face and a lens system creating an image of the second face of the first liquid crystal layer unit on the offset printing plate, and secondly a second liquid crystal layer unit having an electrode array, the an array of electrodes that can be occupied by electrical signals, which correlates with the image, a beam beam guide such as this reaches a first face of the second liquid crystal layer unit and a radiation system. lenses for forming an image of a portion of the penetrating ray beam
dans l'unité de couche de cristaux liquides. in the liquid crystal layer unit.
Des moyens de fabrication sans film de plaques d'impression adaptées & l'impression offset sont certes' décrits déjà dans la littérature (voir "Der Druckspiegel", cahier 8/81, pages 662 et suivantes, et cahier 9/81 pages 744 à 748 ainsi que "Philips technische Rundschau" N' 8 1977/78, pages 214 à 224), mais ils exigent des plaques d'impression spécialement adaptées & ce but. Avec un tel procédé la mise en page d'une page complète d'un typon peut être directement projetée sur une couche semi- conductrice d'une plaque d'impression. Dans ce but la couche semi- conductrice est chargée dans l'obscurité, et exposée pour former l'image par la projection du typon et déchargée de cette façon et elle est ensuite enduite de toner. L'exposition d'une telle plaque d'impression à l'aide d'un faisceau lumineux ou laser à impulsion, guidé par un ordinateur est décrite dans "Der Polygraph", cahier 9/82, pages 675 A 682. Ce procédé utilise la sensibilité élevée de la conductibilité lumineuse de la couche semi-conductrice, de sorte qu' il met en oeuvre des sources lumineuses tfaibles dans le domaine des grandes longueurs d'onde auxquelles ne sont guère adaptés des revêtements de claques d'impression qui sont produits selon les "procédés positifs" ou "négatifs" mentionnés, dans introduction. Des variantes d'exposition avec des faisceaux lumineux ou laser sont décrites dans Non-film production means for printing plates adapted to offset printing are certainly already described in the literature (see "Der Druckspiegel", notebook 8/81, pages 662 and following, and notebook 9/81 pages 744 to 748 and "Philips technische Rundschau" No. 1977/78, pages 214-224), but they require printing plates specially adapted for this purpose. With such a method the layout of a complete page of a print can be directly projected on a semiconductor layer of a printing plate. For this purpose the semiconductor layer is charged in the dark, and exposed to form the image by the projection of the artwork and discharged in this way and is then coated with toner. The exposure of such a printing plate by means of a computer guided light beam or laser pulse is described in "Der Polygraph", notebook 9/82, pages 675 to 682. This process uses the high sensitivity of the light conductivity of the semiconductor layer, so that it implements high light sources in the long wavelength range which are hardly suitable for the printing slab coatings that are produced according to the "positive or negative methods" mentioned in the introduction. Exposure variants with light or laser beams are described in
"Angewandte Chemie", cahier 2/80, pages 95 & 106. "Angewandte Chemie", notebook 2/80, pages 95 & 106.
Enfin le DE-A 32 48 178 décrit un procédé pour revêtir, en vue d'une formation d'image, une plaque d' impression pour impression offset, dans lequel des éléments de surface recevant les couleurs sont transférés sous 1' effet de la chaleur et de la pression et forment 1' image sur une surface hydrophile d'une Finally, German Offenlegungsschrift No. 32 48 178 discloses a method for coating, for imaging purposes, a printing plate for offset printing, in which color-receiving surface elements are transferred under the effect of heat and pressure and form the image on a hydrophilic surface of a
plaque d'impression.printing plate.
L'écriture sur une surface hydrophile d'une plaque d'impression à l'aide d'éléments de surface oléophiles d'une bande thermocolorée peut être exécutée par tête d'écriture thermique ou faisceau laser (procédé LogEscan) (voir "Angewandte Chemie", 92 (1980) pages 95 à 106, Vollmann: Neue Technologien zur filmlosen Writing on a hydrophilic surface of a printing plate by means of oleophilic surface elements of a thermostained strip can be performed by thermal writing head or laser beam (LogEscan process) (see "Angewandte Chemie"). ", 92 (1980) pages 95 to 106, Vollmann: Neue Technologien zur filmlosen
Herstellung von Druckformen).Herstellung von Druckformen).
Le procédé selon 1' invention non seulement simplifie et raccourcit le processus de fabrication d'un photomasque, mais il présente, par rapport au procédé connu d'exposition "sans film" d'une plaque d'impression offset, 1' avantage complémentaire d'être utilisable aussi pour 1' exposition "sans film" de plaques d'impression dont les revêtements sont adaptés aux "procédés positif" ou "négatif" mentionnés dans The method according to the invention not only simplifies and shortens the photomask manufacturing process, but it has, compared to the known "no-film" exposure method of an offset printing plate, the advantage of the invention. can also be used for the "film-free" exposure of printing plates whose coatings are adapted to the "positive" or "negative" processes mentioned in
1' introduction.1 introduction.
Les signaux de commande de la matrice à relais photoélectrique peuvent être obtenus par exploration d'un typon d'impression. Il est de plus possible d' utiliser comme "typon d'impression" une image engendrée dans un ordinateur lui-même. On peut de cette façon & l'aide du procédé selon l'invention par exemple compléter l'image à créer de le plaque d'impression d'un typon physiquement disponible au moyen de "typons d'impression" additionnels, engendrés dans un ordinateur. L'emploi selon l'invention d'une matrice à relais photoélectrique comme photomasque permet en particulier d'éviter un processus chimique de développement de film qui exige toujours un certain temps de réaction, que l'on économise donc. On élimine de même le séchage d'un film développé, et le montage généralement nécessaire de The control signals of the photoelectric relay matrix can be obtained by scanning a print artwork. It is also possible to use as an "image print" an image generated in a computer itself. In this way, by means of the method according to the invention, it is possible, for example, to complete the image to be created of the printing plate of a physically available artwork by means of additional "printing types" generated in a computer. . The use according to the invention of a photoelectric relay matrix as a photomask makes it possible in particular to avoid a chemical film development process which always requires a certain reaction time, which is therefore saved. Similarly, the drying of a developed film is eliminated, and the generally necessary mounting of
films individuels sur une feuille de montage. individual films on an assembly sheet.
La matrice à relais photoélectrique représente en outre un photomasque maniable de façon extrêmement The photoelectric relay matrix furthermore represents an extremely manageable photomask
flexible et toujours réutilisable.flexible and always reusable.
La commande de la matrice & relais photoélectrique par des signaux, qui sont en corrélation avec 1' image, peut The control of the matrix & photoelectric relay by signals, which correlate with the image, can
être réalisée à l'aide d'un ordinateur. be done using a computer.
On va maintenant décrire plus en détail l'invention au vu du dessin qui représente: Fig.1 une représentation schématique d'un dispositif selon l'invention employant un photomasque en forme de masque à réflexion, Fig. 2 une représentation schématique d'un dispositif selon l'invention employant un photomasque en The invention will now be described in more detail with reference to the drawing which represents: FIG. 1 a diagrammatic representation of a device according to the invention employing a photomask in the form of a reflection mask, FIG. 2 a schematic representation of a device according to the invention employing a photomask in
forme de masque à transmission.form of transmission mask.
Le procédé selon l'invention consiste essentiellement à former, au moyen des signaux, sur le revêtement sensible à la lumière d'une plaque d'impression offset, des points lumineux choisis d'un affichage correspondant The method according to the invention essentially consists in forming, by means of the signals, on the light-sensitive coating of an offset printing plate, chosen light points of a corresponding display.
à l'image.To the picture.
Dans les variantes décrites plus loin du procédé selon l'invention on fait usage du fait que des couches de cristaux liquides modifient leur comportement optique de In the variants described below of the process according to the invention, it is used that the liquid crystal layers modify their optical behavior.
façon contrôlable.controllable way.
Dans l'utilisation de ce fait selon l'invention il est ainsi prévu selon la première variante conforme à la Fig. 1 de réaliser la matrice à relais photoélectrique d'un premier type de revêtement de cristaux liquides, de la diriger sur une face d'une première unité 1 de couche de cristaux liquides constitués de cette façon & l'aide de l'impulsion à corrélation d'image d'un pinceau 2 guidé par ordinateur et d'utiliser la face opposée de l'unité l de revêtement de cristaux liquides comme masque de réflexion pour le faisceau lumineux 3, qui est émis par une source lumineuse 4. On peut utiliser ici comme source lumineuse 4 par exemple une lampe à vapeur de mercure dopée par halogénure métallique. Comme In the use of this fact according to the invention it is thus provided according to the first variant according to FIG. 1 to realize the photoelectric relay matrix of a first type of liquid crystal coating, to direct it on one side of a first liquid crystal layer unit 1 constituted in this way by means of the correlation pulse image of a computer-guided brush 2 and to use the opposite face of the liquid crystal coating unit 1 as a reflection mask for the light beam 3, which is emitted by a light source 4. It is possible to use here as a light source 4 for example a mercury vapor lamp doped with metal halide. As
pinceau 2 on peut utiliser un rayon cathcdique ou laser. brush 2 can be used a cathode ray or laser.
A la Fig. 1 un pinceau 2 est indiqué dans une position In FIG. 1 a brush 2 is indicated in a position
arbitraire, instantanée.arbitrary, instantaneous.
On peut omettre une description détaillée des unités à A detailed description of the units to be omitted can be omitted
couche? à cristaux liquides employées dans le cadre de l'invention et de leur commande car les indications correspondantes sont disponibles dans des documents techniques (voir par exemple: "SPSE-The Society for layer? used in the context of the invention and their control since the corresponding indications are available in technical documents (see for example: "SPSE-The Society for
Imaging Science and Technology" 1987, pages 108 à 115)>. Imaging Science and Technology "1987, pp. 108-115).
Des détails concernant l'emploi de pinceaux peuvent être trouvés dans "Journal of Applied Physics", American Institute of Physics, Bd. 57 (4) du 15.2. 1985, pages Details regarding the use of brushes can be found in "Journal of Applied Physics", American Institute of Physics, Bd. 57 (4) of 15.2. 1985 pages
1356 et suivantes.1356 and following.
Pour la première variante du procédé selon l'invention il est essentiel d'employer un premier type de couches de cristaux liquides, o, par application locale d'un pinceau à une première face, sont réalisées des zones localement réfléchissantes et non réfléchissantes pour For the first variant of the method according to the invention it is essential to use a first type of liquid crystal layers, where, by local application of a brush to a first face, locally reflective and non-reflective zones are produced for
la lumière parvenant sur la face opposée. the light coming on the opposite side.
Dans une deuxième variante la' matrice de relais photoélectrique est réalisée dans un deuxième type de couches de cristaux liquides, une matrice d'électrodes est créée sur une deuxième unité 1' de couche de In a second variant, the photoelectric relay matrix is made in a second type of liquid crystal layer, an electrode matrix is created on a second unit 1 'of
26S055526S0555
Cristaux liquides constitués de cette façon, des signaux 4lectriques 5, en corrélation avec l'image, sont appliqués à la matrice d'électrodes et la deuxième unité 1' de couches de cristaux liquides sert de masque de transmission pour le faisceau lumineux 3 (Fig.2). Il est essentiel ici pour cette deuxième variante contrairement & la première variante mentionnée plus haut, d'employer un deuxième type de couches de cristaux liquides dans lequel & la suite de l'application locale de signaux électriques se constituent des zones de la couche de cristaux liquides localement transparentes à Liquid crystal formed in this way, electrical signals 5, correlated with the image, are applied to the electrode array and the second liquid crystal layer unit 1 'serves as a transmission mask for the light beam 3 (FIG. .2). It is essential here for this second variant, unlike the first variant mentioned above, to employ a second type of liquid crystal layer in which, as a result of the local application of electrical signals, zones of the crystal layer are formed. locally transparent liquids to
la lumière et non transparentse A la lumière. light and not transparent to light.
L'application locale de signaux électriques 5 est représentée à la Fig.2 schématiquement par la flèche The local application of electrical signals 5 is shown in FIG. 2 schematically by the arrow
indiquant les signaux.indicating the signals.
Dans les deux procédés mentionnés on réalise sur l'unité 1, 1' de couche de cristaux liquides respective un affichage de l'image souhaitée sous forme de points lumineux et cet affichage forme une image sur le revêtement 6 sensible A la lumière de la plaque In the two mentioned processes, a respective display of the desired image in the form of light spots is produced on the respective unit 1, 1 'of liquid crystal layer, and this display forms an image on the light-sensitive coating 6 of the plate.
d'impression d'offset 7.offset printing 7.
Pour cette création d'image un-système de lentilles est prévu dans une structure complémentaire. Ce système de lentilles présente-selon un développement de l'invention une lentille de projection 9 mobile dans le sens de la projection 8 et en sens opposé. On peut de cette façon projeter sur le revêtement 6 une image de For this imaging a lens system is provided in a complementary structure. This lens system has, according to a development of the invention, a projection lens 9 movable in the direction of the projection 8 and in the opposite direction. In this way, it is possible to project on the coating 6 an image of
l'affichage de dimension au choix.the dimension display to choose from.
Un dispositif destiné à la réalisation du procédé selon l'invention en employant le premier type mentionné de couche de cristaux liquides est schématiquement représenté A la Fig. 1. Avec ce dispositif le faisceau lumineux 3 émis par la source lumineuse 4 et mis en convergence A l'aide d'une lentille 11 vient au moyen d'un miroir 10 frapper une face opposée au faisceau 2 de A device for carrying out the method according to the invention employing the first mentioned type of liquid crystal layer is schematically shown in FIG. 1. With this device the light beam 3 emitted by the light source 4 and brought into convergence With the aid of a lens 11 comes, by means of a mirror 10, striking a face opposite to the beam 2 of
la première unité 1 de couche de cristaux liquides. the first unit 1 of liquid crystal layer.
Pour obtenir un rendement lumineux aussi important que possible à partir du faisceau lumineux 3 le miroir 10 est un séparateur de faisceau et il est disposé de telle façon que la lumière du faisceau 3 qu'il réfléchit sur l'unité 1 de couche de cristaux liquides frappe sensiblement perpendiculairement l'unité 1 de couche de In order to obtain a luminous efficiency as large as possible from the light beam 3, the mirror 10 is a beam splitter and is arranged in such a way that the light of the beam 3 reflects on the unit 1 of the liquid crystal layer. striking substantially perpendicularly the unit 1 of layer of
cristaux liquides.liquid crystal.
Un dispositif de mise en oeuvre du procédé selon l'invention employant le deuxième type mentionné de couche de cristaux liquides est schématiquement représenté à la Fig. 2. Le faisceau lumineux 3 est ici guidé de telle façon qu'il traverse sur son chemin vers la plaque d'impression offset 7 la deuxième unité 1' de couche de cristaux liquides en fonction de l'application A device for implementing the method according to the invention employing the second mentioned type of liquid crystal layer is schematically shown in FIG. 2. The light beam 3 is here guided so that it passes on its way to the offset printing plate 7 the second unit 1 'of liquid crystal layer depending on the application
locale à cette dernière des signaux électriques 5. local to the latter electrical signals 5.
Le procédé selon l'invention, comme mentionné, est utilisable pour l'exposition de plaques d'offset courantes, par exemple comportant un revêtement à émulsion diazo ou à halogénure d'argent. Il suffit simplement dans ce but de créer le faisceau lumineux 3 à l'aide d'une source lumineuse 4 riche en énergie pour créer ainsi la puissance lumineuse nécessaire ici sur la The process according to the invention, as mentioned, can be used for the exposure of common offset plates, for example having a diazo emulsion or silver halide coating. Simply for this purpose to create the light beam 3 with a light source 4 rich in energy to create the necessary light output here on the
plaque d'impression offset correspondante. corresponding offset printing plate.
Mais le procédé selon l'invention est aussi utilisable pour l'exposition de revêtements semi-conducteurs de plaques d'impression offset chargées électriquement. Il suffit simplement d'employer un faisceau lumineux 3, qui possède la puissance d'éclairage nécessaire, qui de façon correspondante est plus faible sur la plaque d'impression offset concernée. Cette puissance d'éclairage relativement plus faible peut aussi être obtenue à l'aide d'un dispositif selon l'invention équipé pour l'exposition de plaques d'impression offset courantes, en introduisant un filtre - non représenté However, the method according to the invention can also be used for exposing semiconductor coatings of electrically charged offset printing plates. It suffices simply to employ a light beam 3, which has the necessary lighting power, which correspondingly is lower on the offset printing plate concerned. This relatively lower lighting power can also be obtained by means of a device according to the invention equipped for the exposure of current offset printing plates, by introducing a filter - not shown.
dans le dessin - dans le faisceau lumineux. in the drawing - in the light beam.
Claims (11)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3813398A DE3813398A1 (en) | 1988-04-21 | 1988-04-21 | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A LATENT IMAGE ON A LIGHT-SENSITIVE COATING OF AN OFFSET PRINTING PLATE |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2630555A1 true FR2630555A1 (en) | 1989-10-27 |
Family
ID=6352543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR8905258A Withdrawn FR2630555A1 (en) | 1988-04-21 | 1989-04-20 | METHOD AND DEVICE FOR CREATING A LATENT IMAGE ON A LIGHT-SENSITIVE COATING OF AN OFFSET PRINTING PLATE |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0212253A (en) |
DE (1) | DE3813398A1 (en) |
FR (1) | FR2630555A1 (en) |
GB (1) | GB2217862B (en) |
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- 1989-04-20 FR FR8905258A patent/FR2630555A1/en not_active Withdrawn
- 1989-04-21 JP JP1100348A patent/JPH0212253A/en active Pending
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DE3813398A1 (en) | 1989-11-02 |
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GB2217862B (en) | 1992-05-13 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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