FR2489541A1

FR2489541A1 - Developing and lacquering compsn. for lithographic printing plates - obtd. by mixing organic lithium salt and resin solns.

Info

Publication number: FR2489541A1
Application number: FR8018820A
Authority: FR
Inventors: Gregory Von Gruenberg; Eugene Golda; William Rowe
Original assignee: Polychrome Corp
Current assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1980-08-29
Filing date: 1980-08-29
Publication date: 1982-03-05

Abstract

A one-step developing and lacquering compsn. is prepd. by mixing (A) an aq. soln. of at least 1wt.% of a Li salt of a 1-36C organic cpd. having at least one acidic H; and (B) a water-miscible organic solvent soln. contg. 5-20wt.% of an ink-receptive, film-forming resin in the ratio 1:3-30:1. The use of Li benzoate as the Li salt; methyl amyl ketone, methyl 'Cellosolve' (RTM) or its acetate, cyclohexanone, DMF, DMSO, isopropanol or dioxane as the solvent of (B); and an epoxy, polyvinyl acetal, phenol-formaldehyde, polyurethane or polyester resin as the resin of (B) is claimed. The compsn. is useful for treating exposed diazo sensitised lithographic printing plates. It provides an extended pressure life (improvement of 200%, compared with the use of (A) alone).

Description

La présente invention concerne une composition pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage de revêtements photosensibles et son procédé de préparation. Plus particulièrement l'invention concerne une composItion pour développer et laquer des revêtements photosensibles appliqués à des substrats, en particulier des revêtements photosensibles sensibilisés par un composé de type diazonium tels que des plaques d'impression lithographique et notamment pour développer et laquer une plaque lithographique exposée pour éliminer les zones de fond et préparer la plaque à l'impression. The present invention relates to a composition for carrying out in a single stage the development and lacquering of photosensitive coatings and its preparation process. More particularly the invention relates to a composition for developing and lacquering photosensitive coatings applied to substrates, in particular photosensitive coatings sensitized by a diazonium type compound such as lithographic printing plates and in particular for developing and lacquering an exposed lithographic plate to eliminate background areas and prepare the plate for printing.

Dans l'impression lithographique, on utilise la nonmiscibilité mutuelle d'encres oléophiles et d'un liquide aqueux d'humidification sur la surface pratiquement plane d'une plaque d'impression. On forme sur une plaque une zone d'image oléophile correspondant à l'image à imprimer tandis que le reste de la surface de la plaque, c'est-a-dire la zone de fond, a un caractère hydrophile ou est rendu hydrophile. La zone d'image prend une encre grasse et la transfère lors de l'impression ; la zone de fond demeure humidifiée par l'eau ou un liquide aqueux d'humidification et repousse l'encre si bien qu'il ne se produit pas d'impression dans cette zone. Pour former une telle plaque d'impression, on revêt une surface de base plane d'une couche très mince d'une matière photosensible et on expose à la lumière à travers une pellicule transparente ayant des zones opaques.Pour exposer une plaque négative, on utilise un transparent négatif où l'image à reproduire est transparente tandis que pour exposer une plaque positive on utilise un transparent positif. La lumière traverse les zones claires du transparent négatif correspondant a l'image et provoque une réaction dans le revêtement photosensible de la plaque sous-jacente qui durcit le revêtement dans la zone d'image. La lumière ne traverse pas les zones opaques du transparent si bien que le revêtement photosensible de la plaque situé en dessous de ces zones demeure inaltéré. Ensuite pour développer la plaque, on enlève le revêtement de la plaque dans les zones non exposées qui sont hydrophiles ou qu'on rend ensuite hydrophiles. In lithographic printing, the mutual nonmiscibility of oleophilic inks and an aqueous humidifying liquid is used on the practically flat surface of a printing plate. An oleophilic image zone corresponding to the image to be printed is formed on a plate while the rest of the surface of the plate, that is to say the bottom zone, has a hydrophilic character or is made hydrophilic. The image area takes a fatty ink and transfers it during printing; the base area remains moistened with water or an aqueous humidifying liquid and repels the ink so that there is no printing in this area. To form such a printing plate, a flat base surface is coated with a very thin layer of photosensitive material and exposed to light through a transparent film having opaque areas. use a negative transparency where the image to be reproduced is transparent while to expose a positive plate we use a positive transparency. Light passes through the clear areas of the negative transparency corresponding to the image and causes a reaction in the photosensitive coating of the underlying plate which hardens the coating in the image area. The light does not pass through the opaque areas of the transparency so that the photosensitive coating of the plate located below these areas remains unaltered. Then to develop the plaque, remove the coating from the plaque in unexposed areas which are hydrophilic or which are then rendered hydrophilic.

Une plaque positive diffère d'une plaque négative en ce qu'avec la première la lumière qui traverse les zones claires du transparent
positif provoque dans une certaine mesure la décomposition du revê
tement photosensible de la plaque sous-jacente ce qui entraîne une
différence de solubilité entre la zone d'image et la zone de fond.A positive plate differs from a negative plate in that with the first light passing through the light areas of the transparency
positive causes the dream to decompose to some extent
of the underlying plate which results in a
difference in solubility between the image area and the background area.

On élimine les zones exposées de la plaque positive. The exposed areas of the positive plate are removed.

Dans le passé, on a généralement développé les
plaques lithographiques négatives sensibilisées par des composés
de type diazonium avec des solvants. Certains des solvants utilisés
sont l'alcool isopropylique, l'alcool propylique normal, le
Cellosolve (éther monoéthylique de I'éthylèneglycol), l'alcool
butylique, l'alcool benzylique, etc. Certains développateurs sont
constitués essentiellement de solvants organiques tandis que d'autres
contiennent de l'eau en plus des solvants organiques. On a utilisé
dans ces deux types de développateurs des acides sulfoniques aromatiques
ou leur sel de sodium. Ces développateurs présentent un ou plusieurs
inconvénients lorsqu'on les utilise pour développer des plaques litho graphiques négatives sensibilisées par des composés de type diazonium.In the past, we have generally developed
negative lithographic plates sensitized by compounds
diazonium type with solvents. Some of the solvents used
are isopropyl alcohol, normal propyl alcohol,
Cellosolve (monoethyl ether of ethylene glycol), alcohol
butyl, benzyl alcohol, etc. Some developers are
consist mainly of organic solvents while others
contain water in addition to organic solvents. We used
in these two types of developers of aromatic sulfonic acids
or their sodium salt. These developers have one or more
disadvantages when used to develop negative lithographic plates sensitized by diazonium type compounds.

Par exemple un mélange de 20 % d'alcool propylique normal et de 80 %
d'eau, lorsqu'on l'utilise pour développer des plaques lithographiques,
a tendance à surdévelopper les plaques en raison de la faible diffé
rence de solubilité entre la zone d'ima#e et la zone de fond.For example a mixture of 20% normal propyl alcohol and 80%
of water, when used to develop lithographic plates,
tends to overdevelop plates due to the small diffe
rence of solubility between the image zone and the background zone.

On a utilisé des acides sulfoniques dans des déve
loppateurs mais ils présentent plusieurs inconvénients. Ils sont
plus corrosifs que les sels de lithium de l'invention et, lorsqu'on
les utilise dans une machine de développement, ils tendent à corroder
les paliers, les canalisations et d'autres parties métalliques. Peut
être en raison de la nature corrosive du développateur et de son effet
sur les zones d'image, les plaques développées avec des développateurs
contenant des acides sulfoniques ne permettent pas d'imprimer autant
d'épreuves que celles développées avec les développateurs de l'inven-
tion. Dans de nombreuses compositions, on préfère des agents mouil
lents tensio-actifs.Les acides sulfoniques tels que l'acide hydroxy
2 méthoxy-4 benzophénonesulfonique-5 tendent à décomposer et à préci
piter les agents mouillants tensio-actifs dans les compositions de
développateur. Ces mêmes agents mouillants provoquent un moussage
indésirable lorsqu'on les utilise dans les machines de développement.Sulfonic acids have been used in development
but they have several drawbacks. They are
more corrosive than the lithium salts of the invention and, when
uses them in a development machine, they tend to corrode
bearings, pipes and other metal parts. Can
be due to the corrosive nature of the developer and its effect
on the image areas, the plates developed with developers
containing sulfonic acids do not print as much
of tests than those developed with the developers of the invention
tion. In many compositions, wetting agents are preferred
slow surfactants.Sulfonic acids such as hydroxy acid
2-4-methoxybenzophenonesulfonic-5 tend to break down and preci
to pite the surfactants wetting agents in the compositions of
developer. These same wetting agents cause foaming
undesirable when used in development machines.

L'acide sulfonique précité absorbe la lumière ultraviolette et cette
absorption le colore. Par c; séquent les récipients qui le contienent doivent être faits d'une matière absorbant les rayonnements actiniques.The aforementioned sulfonic acid absorbs ultraviolet light and this
absorption colors it. Park; The receptacles containing it must be made of a material that absorbs actinic radiation.

Les développateurs contenant des sels de sodium d'acides sulfoniques et des solvants tels que des glycols, au lieu des agents mouillants tensio-actifs, se sont révélés laisser un fond sale lorsqu'on les utilise pour le développement à la machine des plaques. Pour éclaircir le fond, il est nécessaire d'accroître la concentration du sel de sodium de l'acide sulfonique mais ceci provoque une baisse d'environ 2 échelons dans l'échelle de gris, c'est-à-dire que les points des parties en demi-teintes de la plaque sont plus petits que sur le transparent utilisé pour son exposition. Developers containing sodium salts of sulfonic acids and solvents such as glycols, instead of surface active wetting agents, have been found to leave a dirty background when used for machine development of plates. To lighten the background, it is necessary to increase the concentration of the sodium salt of sulfonic acid but this causes a drop of about 2 steps in the gray scale, that is to say that the points of the halftone parts of the plate are smaller than on the transparency used for its display.

La demanderesse a découvert que, lorsqu'on mélange une solution aqueuse d'un sel organique de lithium avec une solution dans un solvant organique miscible à l'eau d'une résine filmogène prenant l'encre, on obtient une composition permettant d'effectuer en un seul stage le développement et le laquage. Lorsqu'on traite avec cette composition une plaque d'impression lithographique diazotypique exposée, elle est développée et laquée de façon efficace. The Applicant has discovered that, when an aqueous solution of an organic lithium salt is mixed with a solution in an organic solvent miscible with water of a film-forming resin which takes up ink, a composition is obtained which makes it possible to carry out development and lacquering in a single course. When an exposed diazotypic lithographic printing plate is treated with this composition, it is effectively developed and lacquered.

Les zones non exposées de la plaque sont éliminées de façon efficace sans qu'il reste de laque sur ces zones tandis que les zones exposées ne sont pas éliminées et une couche de laque est déposée sur les zones d'image diazoïque. Ces dépôts résineux confèrent une durée d'impression accrue à la plaque.The unexposed areas of the plate are effectively removed without lacquer remaining on these areas while the exposed areas are not removed and a layer of lacquer is deposited on the diazo image areas. These resinous deposits give the plate increased printing time.

La demanderesse a découvert que les points des parties en demi-teintes d'une plaque exposée sont attaqués et affinés par la plupart des solvants puis par les acides sulfoniques et leurs sels de sodium dans cet ordre de décroissance. L'emploi du développateur de l'invention contenant des sels de lithium ne provoque que peu ou pas d'attaque et d'affinement des points des parties en demi-teintes. The Applicant has discovered that the points of the halftone portions of an exposed plate are attacked and refined by most solvents and then by sulfonic acids and their sodium salts in this order of decrease. The use of the developer of the invention containing lithium salts causes little or no attack and refinement of the points of the halftone parts.

Les développateurs de l'invention suppriment ou réduisent au minimum les inconvénients précités de l'art antérieur. The developers of the invention eliminate or minimize the aforementioned drawbacks of the prior art.

L'invention a pour objet
un système pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage des plaques d'impression lithographique et plus particulièrement
une composition améliorée de développement pour éliminer les zones de fond des plaques d'impression lithographique portant un revêtement dont l'agent photosensible est un composé de diazonium pratiquement insoluble dans l'eau.The subject of the invention is
a system for carrying out in one stage the development and lacquering of lithographic printing plates and more particularly
an improved developing composition for eliminating the bottom areas of lithographic printing plates coated with a photosensitive agent is a diazonium compound practically insoluble in water.

D'autres caractéristiques et avantages de l'invention ressortiront de la description qui suit qui illustre l'emploi des compositions de développement et de laquage de l'invention contenant un sel organique de lithium fortement soluble dans l'eau et une résine prenant l'encre soluble dans les solvants organiques, qui solubilisent et éliminent facilement les zones de fond du revêtement photosensible des plaques lithographiques exposées dont le composant photosensible est un composé de diazonium et qui de plus laissent un dépit résineux de laque uniquement sur les emplacements exposés de la plaque. Other characteristics and advantages of the invention will emerge from the description which follows which illustrates the use of the developing and lacquering compositions of the invention containing an organic lithium salt highly soluble in water and a resin taking up the ink soluble in organic solvents, which easily dissolve and remove the bottom areas of the photosensitive coating of exposed lithographic plates, the photosensitive component of which is a diazonium compound and which, moreover, leave a resinous coating coating only on the exposed locations of the plate .

Le mode de réalisation préféré de l'invention va maintenant être décrit. The preferred embodiment of the invention will now be described.

De façon générale, la composition de développement et de laquage de l'invention est constituée de deux phases. La première est une phase aqueuse faite d'une solution aqueuse d'un sel organique de lithium comme défini ci-après. La seconde est une phase de laque dans laquelle une résine résistant à l'abrasion, filmogène et prenant l'encre, telle qu'un époxyde, un acétal polyvinylique, une résine phénoloformaldShyde, un polyuréthane ou un polyester, est dissous dans un solvant organique miscible à l'eau tel que la méthylpentylcétone, l'acétate de méthylcellosolve, la cyclohexanone, le diméthylformamide, le diméthylsulfoxyde, l'isopropanol, le dioxanne ou TM le Méthylcellosolve . On mélange ensuite intimement les deux solu- tions pour former la composition homogène de l'invention. In general, the development and lacquering composition of the invention consists of two phases. The first is an aqueous phase made of an aqueous solution of an organic lithium salt as defined below. The second is a lacquer phase in which an abrasion-resistant, film-forming and ink-taking resin, such as an epoxy, polyvinyl acetal, phenoloformaldShyde resin, polyurethane or polyester, is dissolved in an organic solvent miscible with water such as methylpentylketone, methylcellosolve acetate, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, isopropanol, dioxane or TM methylcellosolve. The two solutions are then intimately mixed to form the homogeneous composition of the invention.

Dans certaines compositions de développement de l'invention on peut utiliser des agents mouillants et d'autres composants pour diminuer le temps nécessaire au développement de la plaque lithographique ou pour modifier d'autres caractéristiques des compositions de développement. In certain developing compositions of the invention, wetting agents and other components can be used to decrease the time required for development of the lithographic plate or to modify other characteristics of the developing compositions.

Un des types importants des composés diazotques utilisés dans les plaques lithographiques négatives est constitué des produits de la réaction d'un composé photosensible diazotque et d'un agent de copulation, ce produits réactionnels conservant leur photosensibilité. Cependant ces produits réactionnels ont généralement une solubilité dans L'eau inférieure à celle de leurs composants et ils tendent généralement à être pratiquement insolubles dans l'eau.Donc bien que l'on puisse de façon appropriée revêtir des bases avec ces produits réactionnels en solution dans un solvant ou même en solution aqueuse diluée, leur développement avec des développateurs aqueux est difficile en raison de l'insolubilité relative dans l'eau ou de l'insuffisance de différence de solubilité dans les solvants entre les zones exposées et les zones de fond. One of the important types of diazotic compounds used in negative lithographic plates consists of the reaction products of a diazotic photosensitive compound and a coupling agent, these reaction products retaining their photosensitivity. However, these reaction products generally have a water solubility lower than that of their components and they generally tend to be practically insoluble in water, so although bases can be suitably coated with these reaction products in solution. in a solvent or even in a dilute aqueous solution, their development with aqueous developers is difficult due to the relative insolubility in water or the insufficient difference in solubility in the solvents between the exposed areas and the background areas .

Les composants diazoïques photosensibles des produits réactionnels sont des composés de diazonium de type négatif connus et couramment utilisés en lithographie. De façon générale ce sont des composés diazo-aromatiques et plus particulièrement des diazoaylamines qui peuvent être substitués sur le noyau aromatique ou sur l'azote aminé. Le plus couramment utilisé de ces composés dia osques est la p-diazo-diphénylamine et ses dérivés, en particulier ceux obtenus par réaction avec des agents de condensation organiques contenant des radicaux carbonyles réactifs tels que les aldéhydes et les acétals, en particulier avec des composés tels que le formaldéhyde et le para-formaldéhyde.La préparation de certains de ces produits de condensation remarquablement appropriés est décrite dans les brevets des Etats-Unis d'Amérique n0 2 922 715 et 2 946 683. The photosensitive diazo components of the reaction products are known negative type diazonium compounds commonly used in lithography. In general, these are diazo-aromatic compounds and more particularly diazoaylamines which can be substituted on the aromatic ring or on the amino nitrogen. The most commonly used of these compounds is p-diazo-diphenylamine and its derivatives, in particular those obtained by reaction with organic condensing agents containing reactive carbonyl radicals such as aldehydes and acetals, in particular with compounds. such as formaldehyde and para-formaldehyde. The preparation of some of these remarkably suitable condensation products is described in US Pat. Nos. 2,922,715 and 2,946,683.

Pour former les composants de revêtement de type diazonium photosensibles pratiquement insolubles dans l'eau, on fait réagir de préférence les composés diazo-aromatiques précités avec des composés aromatiques ou aliphatiques comportant un ou plusieurs radicaux hydroxy phénoliques et/ou radicaux acide sulfonique -S03-. In order to form the photosensitive diazonium coating components which are practically insoluble in water, the aforementioned diazo-aromatic compounds are preferably reacted with aromatic or aliphatic compounds comprising one or more hydroxy phenolic radicals and / or sulphonic acid radicals -S03- .

On peut citer comme exemples de composés réagissants ayant des radicaux hydroxy phénoliques les hydroxy-benzophénon#es, des acides diphénoliques tels que l'acide bis(hydroxy-4' phényl)-4,4 pentanotque, le résorcinol et le dirésorcinol qui de plus peuvent être substitués.As examples of reactants having hydroxy phenolic radicals, hydroxy-benzophenon # es, diphenolic acids such as bis (hydroxy-4 ′ phenyl) -4.4 pentanotic acid, resorcinol and diresorcinol which, moreover, may be mentioned. can be substituted.

Parmi les hydroxybenzophénones figurent la dihydroxy-2,4, l'hydroxy-2 méthoxy-4, la dihydroxy-2,2' diméthoxy-4,4' et la tétrahydroxy-2,2', 4,4' benzophénones. Les acides sulfoniques que l'on préfère sont ceux de la série aromatique et en particulier ceux dérivant du benzène, du toluène, du xylène, du naphtalène, du ph8nol, du naphtol et de la benzophénone et leurs sels solubles tels que leurs sels d'ammonium et de métaux alcalins. Généralement les composés contenant un groupe acide sulfonique peuvent être substitués par des radicaux alkyles inférieurs, nitro ou halogéno ainsi que par des groupes acide sulfonique additionnels.On peut citer comme exemples de tels composés, l'acide benzènesulfonique, l'acide toluènesulfonique, l'acide naphta- lènesulfonique, l'acide diméthyl-2 > 5 benzènesulfonique, le benzènesulfonate de sodium, le naphtalènesulfonate-2 de sodium, l'acide naphtol-l sulfonique-2 (ou -4), l'acide dinitro-2,4 naphtol-l sul fonique-7, l'acide hydroxy-2-méthoxy-4 benzophénonesulfonique-5, le m-(p'-anilino phénylazo) benzènesulfonate de sodium, l'alizarine sulfonate de sodium, l'acide o-toluidine m-sulfonique et l'acide éthanesulfonique.Hydroxybenzophenones include dihydroxy-2,4, hydroxy-2 methoxy-4, dihydroxy-2,2 'dimethoxy-4,4' and tetrahydroxy-2,2 ', 4,4' benzophenones. The preferred sulfonic acids are those of the aromatic series and in particular those derived from benzene, toluene, xylene, naphthalene, ph8nol, naphthol and benzophenone and their soluble salts such as their salts. ammonium and alkali metals. Generally, the compounds containing a sulfonic acid group may be substituted by lower alkyl, nitro or halogen radicals as well as by additional sulfonic acid groups. Examples of such compounds include benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, Naphthalenesulfonic acid, 2> 5 dimethyl benzenesulfonic acid, sodium benzenesulfonate, sodium 2 naphthalenesulfonate, naphthol-1 sulfonic-2 (or -4) acid, 2,4-dinitro acid naphthol-l sul fonique-7, hydroxy-2-methoxy-4 benzophenonesulfonic-5, sodium m- (p'-anilino phenylazo) benzenesulfonate, alizarin sodium sulfonate, o-toluidine acid m -sulfonic and ethanesulfonic acid.

On fait réagir ensemble le composé diazotque et l'autre composé réagissant de préférence en solution aqueuse a un pH inférieur à environ 7,5, en proportions approximativement équimoléculaires. On isole généralement le produit réactionnel sous forme d'un précipité et on peut l'appliquer sous forme d'un revêtement selon des techniques classiques à des feuilles de base pour lithographie pour former des plaques sensibilisées comme décrit par exemple dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 5 300 309. Des exemples de systèmes de type positif sorvt décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3 544 317. The diazo compound and the other reacting compound, preferably in aqueous solution, are reacted together at a pH below about 7.5, in approximately equimolecular proportions. The reaction product is generally isolated in the form of a precipitate and can be applied in the form of a coating according to conventional techniques to base sheets for lithography in order to form sensitized plates as described for example in the United States patent. United States of America No. 5,300,309. Examples of positive type systems are described in United States Patent No. 3,544,317.

On peut citer comme exemples de sels organiques de lithium utilisés dans les développateurs de l'invention, les sels de lithium de composés organiques ayant un hydrogène acide et contenant 1 à environ 36 atomes de carbone. On peut citer comme exemples de composés organiques ayant des hydrogènes acides ceux comportant des fonctions acide carboxylique, acide sulfonique et acide sulfurique ou des radicaux hydroxy phénoliques. On peut citer comme exemples plus particuliers des sels de lithium, ceux qui répondent aux

Il M(CH2) (CH=CH)b(CH3S03Li) C-O-S03-Li
3 3 c 3
III. Des dimères des composés de formules I ou Il ou I et Il que l'on peut préparer selon une technique utilisant la réaction de
Diels-Alder.Les sels de lithium ont des formules théoriques telles que

As examples of organic lithium salts used in the developers of the invention, mention may be made of the lithium salts of organic compounds having an acidic hydrogen and containing 1 to about 36 carbon atoms. Examples of organic compounds having acid hydrogens that may be mentioned include those comprising carboxylic acid, sulphonic acid and sulfuric acid functions or phenolic hydroxy radicals. As more specific examples, lithium salts may be mentioned, those which meet the

Il M (CH2) (CH = CH) b (CH3S03Li) CO-S03-Li
3 3 c 3
III. Dimers of the compounds of formulas I or II or I and II which can be prepared according to a technique using the reaction of
Diels-Alder. Lithium salts have theoretical formulas such as

Les acides gras dimérisés servant de précurseurs sont fournis par
Emery Industries, Inc.The dimerized fatty acids serving as precursors are provided by
Emery Industries, Inc.

Dans les formules I, Il et III, N représente -H, -OH,

-C-0-S3-Li ou -CH3 ; a est égal à zéro ou à un nombre entier de 1 a 17 ; b est égal à zéro, 1,2 ou 3 ; c est égal à zéro, 1, 2 ou 3 ; la somme de b et c est égale à zéro, 1, 2 ou 3 ; et la somme de a, b et c peut avoir une valeur maximale de 17 lorsque M représente -H ou -OH ou de 16 lorsque M a une autre signification.

In formulas I, II and III, N represents -H, -OH,

-C-O-S3-Li or -CH3; a is zero or an integer from 1 to 17; b is zero, 1.2 or 3; c is zero, 1, 2 or 3; the sum of b and c is zero, 1, 2 or 3; and the sum of a, b and c can have a maximum value of 17 when M represents -H or -OH or of 16 when M has another meaning.

Dans les formules IV à x, X ou Y et Z peuvent indépendamment représenter

où d est égal à zéro ou à un nombre entier de 1 à 17.In formulas IV to x, X or Y and Z can independently represent

where d is zero or an integer from 1 to 17.

En plus des groupes fonctionnels indiqués dans les formules ci-dessus, les sels de lithium peuvent contenir dans leurs fragments organiques d'autres groupes fonctionnels qui ne nuisent pas à leurs performances dans les compositions de développement de l'invention; tels que des radicaux hydroxy, méthoxy, éthoxy, nitro, halogéno, etc. In addition to the functional groups indicated in the above formulas, the lithium salts may contain in their organic fragments other functional groups which do not harm their performance in the development compositions of the invention; such as hydroxy, methoxy, ethoxy, nitro, halo, etc.

On peut citer comme exemples de sels de lithium solubles dans l'eau utiles dans les nouvelles compositions de développement de l'invention, le formiate de lithium, le chloroacétate de lithium, le dichloroacétate de lithium, le trichloroacétate de lithium, le benzoate de lithium, les naphténates de lithium, le dodécanoate de lithium, le ricinoléate de lithium, le laurylsulfonate de lithium, l'acétylsalicylate de lithium, le laurylsulfate de lithium, le phénolate de lithium, le phénanthrolate-l de lithium, l'o-nit.ophénolate de lithium, le pyrocatécholate de dilithium, le trinitro-2,4,6 benzoate de lithium, le phénolsulfonate de lithium, le picrate de lithium, le toluènesulfonate de lithium, le xylènesulfonate de lithium, les résorcinolates da lithium, les xylénolates de lithium, les octanoates de lithium, les sels de mono et de dilithium d'acides dicarboxyliques tels que l'acide citrique, l'acide maléique et l'acide ma#lique, le stéarate de lithium, l'oléate de lithium1 le p-nitrotoluène o-sulfonate de lithium, le butanesulfonate-l de lithium, le benzènesulfonate de lithium, le dodécylbenzènesulfonate de lithium, le dîchloro-2 > 5 benzènesulfonate de lithium, le dinitro-2,4 naphtol-l sulfonate-7 de lithium, le sel de lithium de l'huile de ricin sulfonée (Napco Oil 1408) et similaires. As examples of water-soluble lithium salts useful in the new development compositions of the invention, mention may be made of lithium formate, lithium chloroacetate, lithium dichloroacetate, lithium trichloroacetate, lithium benzoate , lithium naphthenates, lithium dodecanoate, lithium ricinoleate, lithium laurylsulfonate, lithium acetylsalicylate, lithium laurylsulfate, lithium phenolate, lithium phenanthrolate, o-nit. lithium ophenolate, dilithium pyrocatecholate, lithium 2,4,6-trinitro benzoate, lithium phenolsulfonate, lithium picrate, lithium toluenesulfonate, lithium xylenesulfonate, lithium resorcinolates, lithium xylenolates , lithium octanoates, mono and dilithium salts of dicarboxylic acids such as citric acid, maleic acid and malic acid, lithium stearate, lithium oleate1 p-nitrotoluen lithium e-sulfonate, lithium butanesulfonate-1, lithium benzenesulfonate, lithium dodecylbenzenesulfonate, 2-dichloro> 5 lithium benzenesulfonate, lithium dinitro-2,4 naphthol-l sulfonate-7, lithium salt of sulfonated castor oil (Napco Oil 1408) and the like.

De préférence les composés organiques comportent environ 2 à environ 36 atomes de carbone et mieux environ 4 à environ 36 atomes de carbone et tout particulièrement environ 7 à environ 18 atomes de carbone. Preferably, the organic compounds have about 2 to about 36 carbon atoms and better still about 4 to about 36 carbon atoms and very particularly about 7 to about 18 carbon atoms.

Les sels de lithium que l'on préfère particulière ment sont le benzoate de lithium, le phénolsulfonate de lithium, le laurylsulfate de lithium .t le dodécanoate de lithium. The lithium salts which are particularly preferred are lithium benzoate, lithium phenolsulfonate, lithium lauryl sulfate and lithium dodecanoate.

Il ne semble pas qu'il y ait de limitation particulière à la quantité des composés organiques de lithium contenus dans la phase aqueuse, autre que celle dictée par des considérations pratiques. Par exemple des raisons économiques et la solubilité du composé dans l'eau ou dans le système aqueux de développement fixent une limite supérieure pratique de la concentration tandis que la durée de développement fixe principalement la limite inférieure. Par exemple à des concentrations d'environ 1%, la durée du développement est de l'ordre de 5 minutes ou plus ce qui pour un imprimeur lithographe ayant beaucoup de travail est anormalement long par rapport à la durée de l'ordre d'une demi-minute à environ deux minutes qu'il lui semble souhaitable.On peut obtenir une durée de développement comprise dans cette gamme désirée avec les systèmes de développement de l'invention pour des concentrations de la solution en composé organique du lithium d'environ 5 % à environ 25 % en poids. La gamme préférée de la concentration est comprise entre environ 10 % et environ 20 % pour qu'on obtienne une bonne durée de développement de l'ordre d'environ 1 minute et qu'il y ait suffisamment d'eau pour permettre la dissolution et l'élimination du revêtement non exposé sans qu'un rinçage trop important soit nécessaire. There does not appear to be any particular limitation on the amount of organic lithium compounds contained in the aqueous phase, other than that dictated by practical considerations. For example economic reasons and the solubility of the compound in water or in the aqueous development system set a practical upper limit of the concentration while the development time mainly sets the lower limit. For example at concentrations of around 1%, the development time is of the order of 5 minutes or more which for a lithographer printer having a lot of work is abnormally long compared to the duration of the order of one half a minute to about two minutes as it deems desirable. A development time included in this desired range can be obtained with the development systems of the invention for concentrations of the solution of organic lithium compound of approximately 5 % to about 25% by weight. The preferred concentration range is between approximately 10% and approximately 20% so that a good development time of the order of approximately 1 minute is obtained and that there is sufficient water to allow the dissolution and elimination of unexposed coating without excessive rinsing being necessary.

La concentration de la résine de laquage dans le solvant organique miscible a l'eau peut êtrt comprise entre environ 5 % et 20 % et de préférence entre 7 % et 12 70. The concentration of the lacquering resin in the organic solvent miscible with water can be between approximately 5% and 20% and preferably between 7% and 1270.

Le rapport de la phase aqueuse à la phase de solvant dans la composition pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage de l'invention est compris entre environ 1/3 et 30/1 et de préférence entre 1/2 et 15/1 et mieux entre 1/1 et 6/1. The ratio of the aqueous phase to the solvent phase in the composition for carrying out in one stage the development and the lacquering of the invention is between approximately 1/3 and 30/1 and preferably between 1/2 and 15 / 1 and better between 1/1 and 6/1.

Il peut être souhaitable d'incorporer également à la phase aqueuse des ingrédients additionnels pour faciliter le dévelop- pement et effectuer le traitement de la plaque. Ces ingrédients sont par exemple des solvants, des agents mouillants ou tensio-actifs, des agents de nettoyage du métal, etc. On peut utiliser des agents tensioactifs ou mouillants pour favoriser le contact entre le développateur aqueux et le revêtement photosensible, à des concentrations pouvant atteindre environ 50 % en poids. It may be desirable to also incorporate additional ingredients into the aqueous phase to facilitate development and effect plaque treatment. These ingredients are, for example, solvents, wetting or surfactants, metal cleaners, etc. Surfactants or wetting agents can be used to promote contact between the aqueous developer and the photosensitive coating, at concentrations up to about 50% by weight.

Les agents mouillants que l'on peut utiliser dans les nouvelles compositions de développement de l'invention peuvent être non ioniques, anioniques ou cationiques. Des compositions de développement contenant des agents tensio-# ifs amphotères font l'objet du brevet des Etats-Unis dlAmérique n0 3 891 439. The wetting agents which can be used in the new development compositions of the invention can be nonionic, anionic or cationic. Developer compositions containing amphoteric surfactants are the subject of US Patent No. 3,891,439.

On peut citer comme exemples d'agents mouillants susceptibles d'être utilisés les agents
Anioniques
Parmi ces agents figurent les sels d'ammonium et de métal alcalin d'alcoolsulfates a chaine longue, par exemple le laurylsulfate de sodium, l'octylsulfate de sodium, le laurylsulfate d'ammonium, le N-métbyl oléyltaurate de sodium, le dioctylsulfosuccinate de sodium, le dodecylbenzènesulfate de sodium,
le di(éthyl-2 hexyl)phosphate de sodium [ Tergitol P-28 (Union Carbide) ] ,
la série Duponol (duPont) [ de façon générale des alkylsulfates de sodium ] ,
le Duponol Ep, sîkylolaminesulfate d'alkyle liquide (duPont),
l'Avirol 116 (Henkel, Inc.) Clauryléthersulfate de sodium en aiguillesl,
l'Avirol 111 LC (Henkel Inc.) Lalkylsulfate de sodium liquide ] etc.As examples of wetting agents which may be used, mention may be made of the agents
Anionic
Among these agents are the ammonium and alkali metal salts of long chain alcohols, for example sodium lauryl sulfate, sodium octyl sulfate, ammonium lauryl sulfate, sodium N-metbyl oleyltaurate, dioctylsulfosuccinate sodium, sodium dodecylbenzenesulfate,
di (2-ethylhexyl) sodium phosphate [Tergitol P-28 (Union Carbide)],
the Duponol (duPont) series [generally sodium alkyl sulfates],
Duponol Ep, liquid alkyl sikylolaminesulfate (duPont),
Avirol 116 (Henkel, Inc.) Sodium claurylethersulfate needles,
Avirol 111 LC (Henkel Inc.) Liquid sodium alkyl sulfate] etc.

Non ioniques
Le Tergitol 15-S-3 (Union Carbide) [ polyéthylène- glycoléther d'un alcool linéaire ayant un indice HLB (équilibre hydrophile-lipophile) de 8,0, liquide ] ,
le Tergitol NPX (Union Carbide) [ nonylphénylpolyé- thylèneglycolétber ayant un indice HLB de 13,6, liquidez,
le Tergitol NP-35 (Union Carbide) [ nonylphénylpolyé- thylèneglycoléther ayant un indice HLB de 15,0, pâteux,
le Gaftex Texol 237 (GAF Corporation) [ condensa t de diéthanolamine et d'acide lauriquel,
le monostéarate de glycérol,
le monostéarate de polyoxyéthylèneglycol.Non-ionic
Tergitol 15-S-3 (Union Carbide) [polyethylene glycol ether of a linear alcohol having an HLB index (hydrophilic-lipophilic balance) of 8.0, liquid],
Tergitol NPX (Union Carbide) [nonylphenylpolyethylene glycolétber having an HLB index of 13.6, liquidate,
Tergitol NP-35 (Union Carbide) [nonylphenylpolyethylene glycol ether having an HLB number of 15.0, pasty,
Gaftex Texol 237 (GAF Corporation) [condensa t of diethanolamine and lauriquel acid,
glycerol monostearate,
polyoxyethylene glycol monostearate.

Cationiques
le Gafstats (GAF) [ dérivé d'ammonium quaternaire ] ,
l'Aérosol C 61 (American Cyanamid Co.) [ complexe alkylguanidineamine éthanolé] etc. Cationic
Gafstats (GAF) [quaternary ammonium derivative],
Aerosol C 61 (American Cyanamid Co.) [ethanolated alkylguanidineamine complex] etc.

Les agents mouillants que l'on préfère particulièrement sont les agents anioniques, viennent ensuite les non ioniques puis les cationiques. Parmi les anioniques, on préfère les alkylolaminesulfates d'alkyle et les lauryléthersulfates de sodium. Parmi les non ioniques, on préfère les trois premiers cités. The wetting agents which are particularly preferred are the anionic agents, followed by the nonionics and then the cationics. Among the anionics, alkyl alkylolaminesulfates and sodium laurylethersulfates are preferred. Among the nonionics, the first three are preferred.

On préfère que les agents mouillants, en particulier ceux qui sont .non ioniques, aient un équilibre hydrophile-lipophile (indice HLB) d'au moins environ 8. Un agent tensio-actif particulièrement utile est le sel de sodium de 1' (#-çarboxyhepty1)-2 (#-(#-carboxyéthoxy)éthyl ] -l imidazoline. It is preferred that wetting agents, particularly those which are not ionic, have a hydrophilic-lipophilic balance (HLB index) of at least about 8. A particularly useful surfactant is the sodium salt of 1 '(# -çarboxyhepty1) -2 (# - (# - carboxyethoxy) ethyl] -1 imidazoline.

Les compositions de développement de l'invention peuvent également contenir des composés aromatiques ou aliphatiques ayant un radical acide sulfonique -S03-, que l'on utilise dans les compositions de développement décrites dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3.669.660. The development compositions of the invention may also contain aromatic or aliphatic compounds having a sulfonic acid radical -SO3-, which are used in the development compositions described in US Patent No. 3,669,660 .

De façon générale, ces composés sont les mêmes que ceux précédemment décrits comme appropriés pour préparer, avec le composé diazotque, le produit réactionnel photosensible présent dans le revêtement sensibilisé de la plaque. On peut citer comme exemples de tels composés, l'acide benzènesulfonique, l'acide toluènesulfonique, l'acide naplltalènesulfonique, l'acide diméthyl-2,5 benzènesulfonique, le benzènesulfonate de sodium, l'acide naphtalène sulfonique-2, l'acide naphtol-l sulfonique-2 (ou -4), l'acide dinitro-2,4 naphtolsulfonique-7, l'acide hydroxy-2 méthoxy-4 benzo phénonesulfonique-5, le m-(p' -anilinophénylazo)benzènesulfonate de sodium, l'alizarinesulfonate de sodium, l'acide o-toluidine m-sulfonique et l'acide éthanesulfonique. On dissout les composés contenant un groupe acide sulfonique dans de l'eau pour former les solutions de développement. In general, these compounds are the same as those previously described as suitable for preparing, with the diazotic compound, the photosensitive reaction product present in the sensitized coating of the plate. Examples of such compounds that may be mentioned include benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naplltalenesulfonic acid, 2,5-dimethyl benzenesulfonic acid, sodium benzenesulfonate, naphthalene sulfonic-2 acid, acid naphthol-1 sulfonic-2 (or -4), 2,4-dinitro-acid naphtholsulfonic-7, 2-hydroxy-4-methoxy-benzo phenonesulfonic-5, sodium m- (p '-anilinophenylazo) benzenesulfonate , sodium alizarinesulfonate, o-toluidine m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid. Compounds containing a sulfonic acid group are dissolved in water to form the developing solutions.

On peut également utiliser, dans la composition de développement de l'invention, jusqu'a environ 5 % en poids d'acide phosphorique ou d'acide oxalique pour nettoyer la feuille de base en aluminium après élimination du revêtement désensibilisé. On peut également, si on le désire, utiliser d'autres agents semblables connus dans l'art. One can also use, in the developing composition of the invention, up to about 5% by weight of phosphoric acid or oxalic acid for cleaning the aluminum base sheet after removal of the desensitized coating. One can also, if desired, use other similar agents known in the art.

Le pH du développateur de l'invention est compris de façon générale dans une gamme voisine de la neutralité, c'est à-dire compris entre environ 5 et environ 10 et pouvant dans certains cas atteindre 11, 12 ou plus. Cette gamme étendue du pH autorise une grande latitude de la composition du développateur sans qu'on observe d'effet nuisible sur l'activité ou l'efficacité du développateur. Il est bien connu qu'avec l'augmentation d'un pH alcalin, les composés diazotques ont tendance à présenter une copulation irréversible et à devenir relativement insolubles.Si un développateur alcalin provoque sans distinction un durcissement de la zone d'image et de la zone de fond d'une plaque lithographique pour diazotypie, on ne peut pas considérer qu'il est efficace. I1 est surprenant que les développateurs de l'invention,dont l'alcalinité peut atteindre un pH d'environ 11, permettent un bon développement fidèle des plaques lithographiques. En raison de la tendance à la copulation en conditions alcalines des composés diazotques, beaucoup des développateurs de l'art antérieur utilisant, par exemple > - des sels de sodium d'acides sulfoniques aromatiques contiennent un excès d'acide phosphorique, oxalique, citrique, sulfonique ou autres pour que le pH soit bas. The pH of the developer of the invention is generally in a range close to neutrality, that is to say between about 5 and about 10 and which can in certain cases reach 11, 12 or more. This wide range of pH allows a great latitude in the composition of the developer without any harmful effect being observed on the activity or the efficiency of the developer. It is well known that with increasing alkaline pH, diazo compounds tend to exhibit irreversible copulation and become relatively insoluble. If an alkaline developer indiscriminately hardens the image area and the bottom area of a lithographic plate for diazotypy, it cannot be considered to be effective. It is surprising that the developers of the invention, whose alkalinity can reach a pH of around 11, allow good faithful development of the lithographic plates. Due to the tendency to diazotize compounds in alkaline conditions, many of the developers of the prior art using, for example> - sodium salts of aromatic sulfonic acids contain an excess of phosphoric, oxalic, citric acid, sulfonic or other so that the pH is low.

On peut appliquer les développateurs de l'invention à des revêtements photosensibles exposés, en particulier des revêtements sensibilisés par un composé de type diazonium, manuellement ou mécaniquement. Bien entendu l'homme de l'art désireux d'obtenir d'excellents résultats, peut adapter la composition de développement selon les principes de l'invention pour développer un revêtement exposé particulier, qu'il soit appliqué à une plaque d'impression lithographique (soit présensibilisée, soit à enduire) ou sur n'importe quelle autre surface, par exemple un papier ou une pellicule plastique transparente comme c'est le cas d'un système de tirage pour tirer des transparents monochromes. Les compositions de développement de l'invention sont utiles pour développer les systèmes positifs, mais ils sont particulièrement utiles et efficaces pour développer les systèmes négatifs.Pour développer les systèmes positifs, on préfère que le développateur ait un pH alcalin de préférence d'au moins environ 12. Des exemples de systèmes et de plaques lithogra phiques de type positif sont décrits dans le brevet des Etats-Unis d'Amérique n0 3.544.317. The developers of the invention can be applied to exposed photosensitive coatings, in particular coatings sensitized with a compound of diazonium type, manually or mechanically. Of course, those skilled in the art wishing to obtain excellent results can adapt the development composition according to the principles of the invention to develop a particular exposed coating, whether it is applied to a lithographic printing plate. (either presensitized or coated) or on any other surface, for example a paper or a transparent plastic film as is the case with a printing system to draw monochrome transparencies. The developing compositions of the invention are useful for developing positive systems, but they are particularly useful and effective for developing negative systems. To develop positive systems, it is preferred that the developer has an alkaline pH preferably of at least approximately 12. Examples of positive type lithographic systems and plates are described in United States Patent No. 3,544,317.

L'invention est illustrée par les exemples non limitatifs suivants. The invention is illustrated by the following nonlimiting examples.

EXEMPLE 1
On prépare la composition suivante pour effectuer en un seul stade le développement et le laquage
Partie A : on mélange les ingrédients suivants - 100 parties d'eau - 25 parties de benzoate de lithium - 100 parties d'(w-carboxyheptyl)#2 [ ss-(ss-carboxyéthoxy)éthyl ] -l
imidazoline.EXAMPLE 1
The following composition is prepared to carry out in one stage the development and the lacquering
Part A: the following ingredients are mixed - 100 parts of water - 25 parts of lithium benzoate - 100 parts of (w-carboxyheptyl) # 2 [ss- (ss-carboxyethoxy) ethyl] -l
imidazoline.

Partie B : on mélange les ingrédients suivants - 60 parties de méthylpentylcétone - 7 parties d'Epon 1004 (résine époxyde) - 0,5 partie de Duponol EP (agent mouillant) - 16 parties de rouge de naphtol (pigment)
On mélange les parties A et B pour obtenir une composition de développement et de laquage homogène.Part B: the following ingredients are mixed - 60 parts of methylpentylketone - 7 parts of Epon 1004 (epoxy resin) - 0.5 part of Duponol EP (wetting agent) - 16 parts of naphthol red (pigment)
Parts A and B are mixed to obtain a homogeneous development and lacquering composition.

EXEMPLE 2
Pour préparer deux plaques d'impression lithographique, on revêt deux plaques d'aluminium de la composition suivante - 1 partie d'Epon 1031 (résine époxyde) - 2 parties de Formvar 12/85 (acétal polyvinylique) - 0,1 partie de Basic Blue (colorant) - 2 parties du produit d'addition de l'acide hydroxy-2 méthoxy-4
benzophénonesulfonique-5 et du condensat p-diazodiphénylamine/
paraformaldéhyde.EXAMPLE 2
To prepare two lithographic printing plates, two aluminum plates of the following composition are coated - 1 part of Epon 1031 (epoxy resin) - 2 parts of Formvar 12/85 (polyvinyl acetal) - 0.1 part of Basic Blue (dye) - 2 parts of the adduct of 2-hydroxy-4-methoxy acid
benzophenonesulfonic-5 and p-diazodiphenylamine condensate /
paraformaldehyde.

On expose les plaques d'impression selon un procédé bien connu dans l'art. On développe la première plaque avec seulement la composition de la partie A de l'exemple 1, tandis qu'on développe la seconde plaque avec le mél;Xtge des parties A et B. Le développement des deux plaques est acceptable, c'est-à-dire que les parties non exposées sont éliminées de la plaque. La laque adhère uniquement aux portions exposées de la seconde plaque. On monte les deux plaques sur une presse d'impression et on obtient des reproductions acceptables. Cependant, la première plaque ne permet d'obtenir que 40.000 tirages acceptables avant d'être endommagée tandis que la seconde plaque permet d'obtenir 120.000 tirages acceptables. Ceci correspond à une augmentation du triple. The printing plates are exposed according to a method well known in the art. The first plate is developed with only the composition of part A of Example 1, while the second plate is developed with the mel; Xtge of parts A and B. The development of the two plates is acceptable, that is that is, unexposed parts are removed from the plate. The lacquer adheres only to the exposed portions of the second plate. The two plates are mounted on a printing press and acceptable reproductions are obtained. However, the first plate allows only 40,000 acceptable prints to be obtained before being damaged, while the second plate provides 120,000 acceptable prints. This corresponds to an increase of three times.

EXEMPLE 3
On répète les exemples 1 et 2, si ce n'est qu'on remplace l'Epon 1004 par une résine phénol-formaldéhyde, l'Alnoval PN430. On obtient des résultats semblables.EXAMPLE 3
Examples 1 and 2 are repeated, except that the Epon 1004 is replaced by a phenol-formaldehyde resin, Alnoval PN430. Similar results are obtained.

EXEMPLE 4
On répète les exemples 1 et 2, si ce n'est qu'on remplace la résine Epon 1004 par des résines de polyuréthane, l'Estane 5714 et 5715 fournies par B.F. Goodrich. On obtient des résultats semblables.EXAMPLE 4
Examples 1 and 2 are repeated, except that the Epon 1004 resin is replaced by polyurethane resins, Estane 5714 and 5715 supplied by BF Goodrich. Similar results are obtained.

EXEMPLE 5
On répète les exemples 1 et 2 ci-dessus, si ce n'est qu'on remplace la méthylpentylcétone par l'acétate de méthylcellosolve et qu'on remplace l'Epon 1004 par une résine de polyvinylformal le Formvar 12/85 fournie par Monsanto. On obtient des résultats semblables.EXAMPLE 5
Examples 1 and 2 are repeated above, except that the methylpentylketone is replaced by methylcellosolve acetate and that the Epon 1004 is replaced by a polyvinylformal resin Formvar 12/85 supplied by Monsanto . Similar results are obtained.

Bien entendu diverses modifications peuvent être apportées par l'homme de l'art aux dispositifs ou procédés qui viennent d'être décrits uniquement à titre d'exemples non limitatifs sans sortir du cadre de l'invention. Of course, various modifications can be made by those skilled in the art to the devices or methods which have just been described only by way of nonlimiting examples without departing from the scope of the invention.

Claims

1. Process for preparing a composition for carrying out in a single stage Development and lacquering for treating lithographic printing plates sensitized by exposed diazonium type compounds, characterized in that it consists in:

at. forming an aqueous solution (A) at a concentration of at least 1% by weight of a salt soluble in organic solvents which is a lithium salt of an organic compound having 1 to about 36 carbon atoms and at least one acid hydrogen

b. forming a solution (B) at a concentration of 5 to 20% by weight in a water-miscible organic solvent of a film-forming resin taking up the ink; and

vs. mix parts (A) and (B) above in a ratio of about 1/3 to about 30/1.

2. Composition characterized in that it has been prepared according to claim 1.

3. Composition according to claim 2, characterized in that the lithium salt is lithium benzoate.

4. Composition according to claim 2, characterized in that the resin is chosen from epoxy, polyvinyl acetal, phenol-formaldehyde, polyurethane and polyester resins

5. Composition according to claim 2, characterized in that the organic solvent miscible with water is chosen from alcohols and ketones.

6. Composition according to claim 2, characterized in that the organic solvent miscible with water is chosen from methylpentylketone, methylcellosolve, methylcellosolve acetate, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, isopropanol and dioxane.