DE3032151A1

DE3032151A1 - Developing and lacquering compsn. for lithographic printing plates - obtd. by mixing organic lithium salt and resin solns.

Info

Publication number: DE3032151A1
Application number: DE19803032151
Authority: DE
Inventors: Eugene Monsey N.Y. Golda; Gregory von Mohegan Lake N.Y. Gruenberg; William Westfield N.J. Rowe
Original assignee: Polychrome Corp
Current assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1980-08-26
Filing date: 1980-08-26
Publication date: 1982-04-08

Abstract

A one-step developing and lacquering compsn. is prepd. by mixing (A) an aq. soln. of at least 1wt.% of a Li salt of a 1-36C organic cpd. having at least one acidic H; and (B) a water-miscible organic solvent soln. contg. 5-20wt.% of an ink-receptive, film-forming resin in the ratio 1:3-30:1. The use of Li benzoate as the Li salt; methyl amyl ketone, methyl 'Cellosolve' (RTM) or its acetate, cyclohexanone, DMF, DMSO, isopropanol or dioxane as the solvent of (B); and an epoxy, polyvinyl acetal, phenol-formaldehyde, polyurethane or polyester resin as the resin of (B) is claimed. The compsn. is useful for treating exposed diazo sensitised lithographic printing plates. It provides an extended pressure life (improvement of 200%, compared with the use of (A) alone).

Description

Die Erfindung betrifft ein Entwicklersgstem für licht- The invention relates to a developer device for light

empfindliche Beschichtungen auf Trägern, insbesondere diazosensibilisierte lichtempfindliche Beschichtungen auf Trägern, wie Offsetdruckplatten, und insbesondere Gemische zum Entwickeln und Lackieren von belichteten Offsetdruckplatten zur Entfernung der Nichtbildbereiche und Vorbereitung der Platte zum Druck. sensitive coatings on supports, especially diazo-sensitized photosensitive coatings on supports such as offset printing plates, and in particular Mixtures for developing and coating exposed offset printing plates for removal the non-image areas and preparing the plate for printing.

Die 0ff s#tdruck-Technik verwertet die Nichtmischbarkeit von oleophilen Druckfarben mit wäßrigen Benetzungsflüssigkeiten auf der im wesentlichen planaren Druck-Oberfläche. Es wird ein oleophiler Bildbereich, der dem zu druckenden Bild entspricht, auf der Platte erzeugt, während der Rest der Plattenoberflä che, der Nichtbildbereich, hydrophil ist oder hydrophil gemacht wird. Der Bildbereich nimmt deshalb die fetthaltige Druckfarbe an und überträgt sie während des Druckprozesses. Der Nichtbildbereich dagegen bleibt mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung benetzt und stößt deshalb die Druckfarbe ab. Diese Bereiche werden dementsprechend nicht gedruckt. Zur erste lung einer solchen Druckplatte wird eine ebene Substratoberfläche mit einer sehr dünnen Schicht eines lichtempfindlichen Stoffes beschichtet und durch eine transparente Folie mit undurchsichtigen Bereichen belichtet. Zur Belichtung einer sogenannten negativ arbeitenden Platte wird ein negatives Durchsichtsbi}d des zu reproduzierenden Bildes verwendet, während ein positives Durchsichtsbild zur Belichtung einer sogenannten positiv arbeitenden Platte benutzt wird. Das I,icht fällt durch die klaren Bereiche des negativen Durchsichtsbildes, die dem Bild entsprechen, und verursacht eine chemische Umsetzung in der lichtempfindlichen Beschichtung auf der darunter liegenden Platte, wodurch die Beschichtung in diesen Bildbereichen gehärtet wird. Dagegen dringt das Licht nicht durch die trüben Bereiche des Durhsichtsbildes, so daß die lichtempfindliche Beschichtung der Platte unter diesen Bereichen nicht verändert wird. Die Platte wird anschließend durch Entfernung der Beschichtung aus den nic#belichteten Bereichen entwickelt. Diese Bereiche sind entweder bereits hydrophil oder werden danach hydrophil gemacht. Die positiv #:beitende Platte unterscheidet sich von der negativ arbeitenden dadurch, daß bei ihr das Licht durch die klaren Bereiche des positiven Duuchsichtsblides fällt und einen gewissen Abbau der lichtempfindlichen Beschichtung auf der darunter liegenden Platte verursacht. Dies hat einen Löslichkeitsunterschied zwischen den Bild- und den Nichtbildbereichen zur Folge.The 0ff s # tdruck technology exploits the immiscibility of oleophilic Printing inks with aqueous wetting liquids on the essentially planar Print surface. It becomes an oleophilic area of the image that corresponds to the image to be printed corresponds, generated on the plate, while the rest of the plate surface, the Non-image area, is hydrophilic or is made hydrophilic. The image area takes therefore the greasy printing ink and transfers it during the printing process. The non-image area, on the other hand, remains wetted with water or an aqueous solution and therefore repels the printing ink. Accordingly, these areas are not printed. The first development of such a printing plate is a flat substrate surface coated with a very thin layer of a photosensitive substance and through exposed a transparent film with opaque areas. For exposure a so-called negative working plate is a negative see-through image of the image to be reproduced is used while a positive see-through image is used to expose a so-called positive working plate. The I, icht falls through the clear areas of the negative see-through image that correspond to the image, and causes a chemical reaction in the photosensitive coating the underlying plate, creating the coating in these Image areas is hardened. In contrast, the light does not penetrate through the cloudy areas of the transparent image, so that the photosensitive coating of the plate under these areas is not changed. The plate is then removed by removal the coating developed from the areas not exposed. These areas are either already hydrophilic or made hydrophilic afterwards. The positive #: terminating The plate differs from the negative one in that it uses light falls through the clear areas of the positive overview image and a certain Causes degradation of the photosensitive coating on the underlying plate. This has a solubility difference between the image and non-image areas result.

Es werden die belichteten Bereiche der positiv arbeitenden Platte entfernt. Bisher wurden negativ arbeitende, diazosensibilisierte Offsetdruckplatten im allgemeinen mit Lösungsmitteln entwickelt. Spezielle Beispiele für verwendete Lösungsmittel sind Isopropanol, n-Propanol, Äthglenglykolmonomethyl äther, Butanol und Benzylalkohol. Einige der bekannten Entwickler bestehen vollständig aus organischen Lösungsmitteln, während andere zusätzlich auch Wasser enthalten. Sowohl in den rein organischen als auch in den wäßrigen Entwicklern wurden aromatische Sulfonsäuren oder ihre Natriumsalze verwendet. Diese bekannten Entwickler weisen jedoch verschiedene Nachteile bei der Entwicklung bestimmter negativ arbeitender, diazosensibilisierter Offsetdruckplatten auf. Beispielsweise neigt ein Gemisch von 20pro n-Propanol und 80% Wasser bei der Verwendung zur Entwicklung bestimmter Offsetdruckplatten zur fiber entwicklung der Platten infolge des gerin gen Löslichkeitsunterschiedes zwischen den Bild- und den Nichthildbereichen.These become the exposed areas of the positive-working plate removed. So far, negative-working, diazo-sensitized offset printing plates have been used generally developed with solvents. Specific examples of used Solvents are isopropanol, n-propanol, ether glycol monomethyl ether, butanol and benzyl alcohol. Some of the well-known developers are made entirely of organic Solvents, while others also contain water. Both in the pure In both organic and aqueous developers, aromatic sulfonic acids were used or their sodium salts are used. However, these known developers have different Disadvantages in developing certain negative-working, diazo-sensitized ones Offset printing plates. For example, a mixture of 20pro and n-propanol tends 80% water when used to develop certain offset printing plates fiber development of the plates due to the small solubility difference between the image and non-image areas.

In den Entwicklern wurden auch Sulfonsäuren verwendet, wobei aber ebenfalls verschiedene Nachteile auftreten. Solche Entwicklerlösungen sind korrodierend und neigen bei der Verwendung in Entwicklermaschinen dazu, deren Lager, Rohrleitungen und andere metallische Teile anzugreifen. #o'#glicherweise ist die korrodierende Natur solcher Entwicklerlösungen und ihre Wirkung auf die Bildbereiche Anlaß dafür, daß Platten, die mit sulfonsäurehaltigen Entwicklern entwickelt werden, eine geringere Druckleistung aufweisen. Ferner neigen Sulfonsäuren, wie die 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, dazu, die in zahlreichen Entwicklergemischen vorzugsweise verwendeten grenzflächenaktiven Benetzungsmittel zu zersetzen und auszufällen. Diese Benetzungsmittel verursachen bei der Verwendung in Efltwicklungsmaschinen ein unerwünschtes Schäumen. Schließlich absorbieren die erwähnten Sulfonsäuren ultraviolette Strahlung. Durch diese Absorption verfärben sich die Gemische. Infolgedessen müssen solche Entwicklergemische in Flaschen aufbewahrt werden, die aus einem Mate-.Sulphonic acids were also used in the developers, but various disadvantages also arise. Such developer solutions are corrosive and tend to Use in developer machines to improve their Attack bearings, pipes and other metallic parts. # o '# possibly is the corrosive nature of such developer solutions and their effect on the Image areas give rise to plates developed with sulfonic acid-containing developers will have a lower printing performance. Furthermore, sulfonic acids tend to like the 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, in addition, which is in numerous developer mixtures preferably used surfactant wetting agents to decompose and precipitate. These wetting agents cause when used in developing machines undesirable foaming. Finally, the mentioned sulfonic acids absorb ultraviolet ones Radiation. This absorption causes the mixtures to change color. As a result, have to such developer mixes are kept in bottles made of a mate- rial.

rial bestehen, das chemische Veränderungen hervorrufende Strahlung absorbiert.rial, the radiation causing chemical changes absorbed.

Bei Entwicklergemischen, die Natriumsalze von Sulfonsäuren-und Lösungsmittel, wie Glykole, anstelle von grenzfläc#heFaktj#.ven Benetzungsmitteln enthalten, wurde festgestellt, daß sie bei der Verwendung zur maschinellen Entwicklung von Druckplatten einen schmutzigen Hintergrund erzeugen. Zur Säuberung des Hintergrundes mußte die Konzentration des Natriumsalzes der Sulfonsäure erhöht werden, was jedoch eine um etwa zwei Stufen verminderte Grauskala ergab, d.h. die Punkte im Halbton auf der Druckplatte waren kleiner als in dem zur Belichtung verwendeten Durchsichtsbild.For developer mixes, the sodium salts of sulfonic acids and solvents, like glycols, instead of interface # heFaktj # .ven wetting agents was included found that they were used for machine development of printing plates create a dirty background. To clean up the background the Concentration of the sodium salt of sulfonic acid can be increased, which, however, is an order of magnitude The gray scale was reduced by about two levels, i.e. the dots in the semitone on the Printing plates were smaller than in the transparency used for exposure.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein einstufiges Entwickler- und Lackiergemisch, insbesondere für Diazo-Offsetdruckformen zur Verfügung zu stellen, das die vorstehend erläuterten Nachteile der bekannten Entwicklergemische vermeidet. Das erfindungsgemäße Gemisch soll die Nichtbildbereiche von Offsetdruckplatten, die als lichtempfindlichen Stoff in der Beschichtung eine im wesentlichen wasserunlös- liche Diazoniumverbindung enthalten, in verbesserter Weise entfernen.The invention is based on the object of providing a single-stage developer and varnishing mix, especially for diazo offset printing forms, which avoids the disadvantages of the known developer mixtures explained above. The mixture according to the invention should cover the non-image areas of offset printing plates, which, as a light-sensitive substance in the coating, has an essentially water-insoluble liche Diazonium compounds contain, remove in an improved manner.

Diese Aufgabe wird durch den überraschenden Befund gelöst, daß durch Vermischen einer wäßrigen Lösung eines Organolithiumsalzes mit einer Lösung eines für Druckfarbe aufnahmefähigen, filmbildenden Harzes in einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel ein einstufiges Entwickler- und Lackiergemisch erhalten werden kann. Eine belichtete Diazodruckform kann durch Behandlung mit diesem Gemisch wirksam entwickelt und lackiert werden. Dies bedeutet, daß die nichtbelichteten Bereiche der Platte wirksam entfernt werden, ohne daß restlicher Lack in diesen Bereichen auf der Platte verbleibt, während die belichteten Bereiche nicht entfernt werden und eine Lackschicht auf den Diazo-Bildbereichen abgeschieden ist. Diese harzartige Abscheidung verleiht der Druckform eine verlängerte Lebensdauer beim Drucken.This object is achieved by the surprising finding that by Mixing an aqueous solution of an organolithium salt with a solution of a for printing ink receptive, film-forming resin in a water-miscible organic solvents get a one-stage developer and paint mixture can be. An exposed diazo printing form can be treated with this mixture can be effectively developed and painted. This means that the unexposed Areas of the plate are effectively removed without leaving any residual paint in them Areas on the plate remains while the exposed areas are not removed and a layer of lacquer is deposited on the diazo image areas. These Resin-like deposit gives the printing form an extended service life To press.

Ferner wurde festgestellt, daß Halbton-Punkte auf der belichteten Platte am meisten durch Lösungsmittel, und danach durch Sulfonsäuren und deren Natriumsalze in dieser abnehmenden Reihenfolge angegriffen und geschärft werden.It was also found that halftone dots on the exposed Plate mostly by solvents, and then by sulfonic acids and their sodium salts attacked and sharpened in this decreasing order.

Bei Verwendung der erfindungsgemäßen Lithiumsalze enthaltenden Entwickler tritt höchstens ein unbedeutender Angriff auf die oder Schärfung der Halbton-Punkte auf.When using the developers containing lithium salts according to the invention there is at most an insignificant attack on or sharpening of the semitone dots on.

Gegenstand der Erfindung sind Entwickler- und Lackiergemische, die ein im wesentlichen wasserlösliches Organolithiumsalz und ein in organischen Lösungsmitteln lösliches, für Druckfarbe aufnahmefähiges Harz enthalten, das die Nichtbildbereiche der lichtempfindlichen Beschichtung, in der die lichtempfindliche Komponente eine Diazoniumverbindung ist, leicht von belichteten Druckformen löst und entfernt, und außerdem eine harzartige Lackschicht auf den belichteten Bereichen der Platte hinterläßt.The invention relates to developer and paint mixtures that a substantially water-soluble organolithium salt and one in organic solvents contain soluble, ink-receptive resin that the non-image areas the photosensitive coating in which the photosensitive component is a Diazonium compound is easily dissolved and removed from exposed printing forms, and also leaves a resinous lacquer layer on the exposed areas of the plate.

Das erSindungsgemäBe Entwickler- und Lackiergemisch (nachstehend kurz als ~Entwicklergemisch" bezeichnet) besteht aus zwei Phasen. Die erste ist eine wäßrige Phase, die eine wäßrige Lösung eines Organolithiumsalzes enthält.The developer and paint mixture according to the invention (hereinafter briefly referred to as "developer mix") consists of two phases. The first is one aqueous phase containing an aqueous solution of an organolithium salt.

Die zweite enthält eine Lackphase, in der ein für Druckfarbe aufnahmefähiges, filmbildendes, abriebfestes Harz, beispielsweise ein #poxy-, Polgvinglacetal-, Phenolformaldeh#d-, Polgurethan- oder Polyesterharz, in einem mit Wasser-mischbaren organischen Lösungsmittel gelöst ist, beispielsweise in Methylamylketon, Xthylenglykolmonomethylätheracetat, Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Isopropanol, Dioxan oder Xthylenglykolmonomethyläther. Beide Lösungen werden dann sorgfältig vermischt und ergeben das homogene erfindungsgemäße Entwicklergemisch.The second contains a lacquer phase, in which an ink receptive, film-forming, abrasion-resistant resin, for example a #poxy-, Polgvinglacetal-, phenolformaldeh # d-, Polyurethane or polyester resin in a water-miscible organic solvent is dissolved, for example in methyl amyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether acetate, Cyclohexanone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, isopropanol, dioxane or ethylene glycol monomethyl ether. Both solutions are then carefully mixed and result in the homogeneous according to the invention Developer mix.

Das Entwicklergemisch kann gegebenenfalls Netzmittel (Benetzungsmittel) oder weitere Zusätze enthalten, die die Entwicklungsdauer der Offsetdruckplatte verkürzen oder andere Eigenschaften des Gemisches modifizieren.The developer mixture can optionally contain wetting agents (wetting agents) or contain other additives that reduce the development time of the offset printing plate shorten or modify other properties of the mixture.

Eine wichtige Art bekannter negativ arbeitender Diazoverbindungen, die für Offsetdruckplatten Verwendung findet, besteht aus den Umsetzungsprodukten von lichtempfindlichen Diazoverbindungen mit einer Kupp1ungsk#r#ponente. Diese Umsetzungsprodukte behalten ihre Lichtempfindlichkeit. Sie sind jedoch im allgemeinen weniger wasserlöslich als die beiden zur Umsetzung verwendeten Komponenten. Im allgemeinen sind sie sogar vollständig unlöslich in Wasser. Solche Umsetzungsprodukte können deshalb aus Lösungsmitteln und sogar aus verdünnten wäßrigen Lösungen günstigerweise zur Herstellung von Platten auf ein Substrat aufgebracht werden. Ihre Entwicklung mit wäßrigen Entwicklern bereitet jedoch Schwierigkeiten, da sie in Wasser schwer löslich sind oder keinen genügenden Löslichkeitsunterschied in Lösungsmitteln zwischen den belichteten und den nichtbelichteten Bereichen aufweisen.An important type of known negative-working diazo compound, which is used for offset printing plates consists of the conversion products of light-sensitive diazo compounds with a coupling component. These conversion products retain their sensitivity to light. However, they are generally less water soluble than the two components used for implementation. In general they are completely insoluble in water. Such reaction products can therefore be obtained from solvents and even from dilute aqueous solutions conveniently for the production of panels can be applied to a substrate. Prepare your development with aqueous developers however, difficulties as they are sparingly soluble in water or insufficiently soluble Difference in solubility in solvents between the exposed and the unexposed Areas.

Die lichtempfindliche Komponente des Umsetzungsprodukts, die die Diazogruppe enthält, umfaßt die in. der Offsetdrucktechnik bekannten und allgemein benutzten negativ aixdtexin Diazoverbindungen. Es sind dies allgemein ausgedrückt aromatische Diazoverbindungen, genauer Diazoarylamine, die am aromatischen Ring oder am Stickstoff der Aminogruppe substituiert sein können. Die am häufigsten verwendete Diazoverbindung ist das p-Diazodiphenglamin und dessen Derivate, insbesondere seine Umsetzungsprodukte mit organischen Kondensierungsmitteln, die reaktive Carbonylgruppen enthalten, wie Aldehyde und Acetale, insbesondere mit Verbindungen wie Formaldehyd und Paraformaldehyd. Die Herstellung einiger der besonders wichtigen Eondensationsprodukte ist in den US-PSen 2 922 715 und 2.946 683 beschrieben. The photosensitive component of the reaction product, which the Contains diazo group includes those known and generally known in offset printing technology negatively used aixdtexin diazo compounds. These are expressed in general terms aromatic diazo compounds, more precisely diazoarylamines, those on the aromatic ring or can be substituted on the nitrogen of the amino group. The most used The diazo compound is p-diazodiphenglamine and its derivatives, especially its Reaction products with organic condensing agents containing reactive carbonyl groups contain, such as aldehydes and acetals, especially with compounds such as formaldehyde and paraformaldehyde. The manufacture of some of the most important condensation products is described in U.S. Patents 2,922,715 and 2,946,683.

Zur Herstellung der lichtempfindlichen, im wesentlichen wasserunlöslichen Diazonium-Beschichtungskomponente werden die vorstehend erwähnten aromatischen Diazoverbindungen vorzugsweise mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen umgesetzt, die mindestens eine phenolische Hydroxylgruppe oder Sulfonsäuregruppe 503 oder beides enthalten. Beispiele für Verbindungen mit phenolischen Hydroxylgruppen sind Hydroxybenzophenone, Diphenolcarbonsäuren, beispielsweise 4,4-bis-(4'-Hydroxyphenyl)-pentansäure, Resorcin und Diresorcin. Diese Verbindungen können noch weitere Substituenten tragen. Spezielle Beispiele für Hydroxybenzophenone sind das 2,4-Dihydroxy-, 2-Hydroxy-4-methoxy-, 2,2'-Dihydroxy-4,4'-dimethoxy und das 2,2' #4 ~4 ~-Tetrahydroxybenzophenon. Bevorzugte Sulfonsäuren sind die aromatischen Sulfonsäuren, insbesondere diejenigen von Benzol, Toluol, Xylol, Naphthalin, Phenol, Naphthol und Benzophenon, und deren lösliche Salze, wie die Ammonium- und die Alkalimetallsalze. Die Sulfonsäuregruppen enthaltenden Verbindungen können im-allgemeinen durch niedere Alkylreste, Nitrogruppen oder Halogenatome sowie durch weitere Sulfonsäuregruppen substituiert sein. Spezielle Bei- spiele für verwendbare Sulfonsäuren sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2, 5-Dimethylbenzolsulfonsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1-Naphthol-2-(oder 4- )-sulfonsäure, 2,4-Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-(p' -Anilinophenylazo )-benzol-natriumsulfonat, Alizarin-natriuesulfonat, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure.For the production of the light-sensitive, essentially water-insoluble Diazonium coating component becomes the above-mentioned aromatic diazo compounds preferably reacted with aromatic or aliphatic compounds, the at least contain a phenolic hydroxyl group or sulfonic acid group 503 or both. Examples of compounds with phenolic hydroxyl groups are hydroxybenzophenones, Diphenolcarboxylic acids, for example 4,4-bis (4'-hydroxyphenyl) pentanoic acid, resorcinol and diresorcin. These compounds can also carry further substituents. Specific Examples of hydroxybenzophenones are 2,4-dihydroxy, 2-hydroxy-4-methoxy, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy and the 2,2 '# 4 ~ 4 ~ tetrahydroxybenzophenone. Preferred Sulphonic acids are the aromatic sulphonic acids, especially those of benzene, Toluene, xylene, naphthalene, phenol, naphthol and benzophenone, and their soluble ones Salts such as the ammonium and alkali metal salts. Containing sulfonic acid groups Compounds can generally be formed by lower alkyl radicals, nitro groups or halogen atoms and be substituted by further sulfonic acid groups. Special accessories games for sulfonic acids that can be used are benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2, 5-dimethylbenzenesulfonic acid, sodiumbenzenesulfonate, naphthalene-2-sulfonic acid, 1-naphthol-2- (or 4-) -sulfonic acid, 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, m- (p'-anilinophenylazo) -benzene-sodium sulfonate, alizarin sodium sulfonate, o-toluidine-m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid.

Die Umsetzung der Diazoverbindung mit dem anderen Umsetzungsteilnehmer erfolgt vorzugsweise in wäßriger Lösung bei einem pH-Wert unter etwa 7,5 in etwa äquimolaren Mengen.The implementation of the diazo compound with the other reactant preferably takes place in aqueous solution at a pH below about 7.5 approximately equimolar amounts.

Die Umsetzungsprodukte werden gewöhnlich als Niederschlag isoliert und können nach bekannten Verfahren auf für den Offsetdruck geeignete Substrate aufgebracht werden. Dabei werden, wie beispielsweise in der US-PS 3 300 309 beschrieben, vorsensibilisierte Druckplatten erhalten.The reaction products are usually isolated as a precipitate and can be applied to substrates suitable for offset printing by known methods be applied. As described for example in US Pat. No. 3,300,309, Presensitized printing plates obtained.

Beispiele für positiv arbeitende Systeme sind in der US-PS 3 544 317 beschrieben.Examples of positive working systems are shown in U.S. Patent 3,544,317 described.

Als Organolithiumsalze im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch werden die Lithiumsalze von organischen Verbindungen verwendet, die ein saures Wasserstoffatom aufweisen und etwa 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatome enthalten. Beispiele für organische Verbindungen mit sauren Wasserstoffatomen sind Verbindungen mit Carbonsäure-, Sulfonsäure-, Schwefelsäure-oder phenolischen Hydroxylgruppefr. Spezielle Beispiele für verwendbare Lithiumsalze sind Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln: II. #(CH2 ) (CH=CH)b (CH3SO3 t1)c CH3-O-SO3-Li III. Dimere der Verbindungen der allgemeinen Formel I oder II oder I und II können durch Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden. Solche Lithiumsalze haben beispielsweise folgende idealisierte Strukturformel: Die dimerisierten Fettsäure-Vorläufer sind technische Verbindungen (Emery Industries Inc.).The lithium salts of organic compounds which have an acidic hydrogen atom and contain about 1 to about 36 carbon atoms are used as organolithium salts in the developer mixture according to the invention. Examples of organic compounds with acidic hydrogen atoms are compounds with carboxylic acid, sulfonic acid, sulfuric acid or phenolic hydroxyl groups. Specific examples of usable lithium salts are compounds of the following general formulas: II. # (CH2) (CH = CH) b (CH3SO3 t1) c CH3-O-SO3-Li III. Dimers of the compounds of the general formula I or II or I and II can be prepared by the Diels-Alder reaction. Such lithium salts have, for example, the following idealized structural formula: The dimerized fatty acid precursors are technical compounds (Emery Industries Inc.).

In den allgemeinen Formeln I, II und III bedeutet M ein Wasserstoffatom oder eine der Gruppen -OH, -C0OH, -OOOLi, -S03Li oder -CH3; a ist eine ganze Zahl im Wert von 0 bis 17, b eine ganze Zahl im Wert von 0 bis 3, c eine ganze Zahl im Wert von 0 bis 3; die Summe von b und c ist eine ganze Zahl im Wert von 0 bis 3 und die Summe von a, b und c beträgt höchstens 17, wenn M ein Wasserstoffatom oder eine Hwdroxylgruppe darstellt bzw. 16, wenn M eine der anderen vorstehend aufgeführten Gruppen bedeutet.In the general formulas I, II and III, M denotes a hydrogen atom or one of the groups -OH, -C0OH, -OOOLi, -S03Li or -CH3; a is an integer from 0 to 17, b is an integer from 0 to 3, c is an integer im Value from 0 to 3; the sum of b and c is an integer from 0 to 3 and the sum of a, b and c is at most 17 when M is a hydrogen atom or represents a hydroxyl group or 16 when M is one of the others listed above Groups means.

Weitere Beispiele für verwendbare Lithiumsalze sind Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln: In den allgemeinen Formeln IV bis X bedeuten X, Y und Z unabhängig voneinander Wasserstoffatome oder die Gruppen -OLi, -SO3Li, -COOLi, -OH, -NO2, -Cl, -Br, -COOH oder -(CH2)d-CH3, wobei d eine ganze Zahl mit einem Wert von 0 bis 17 darstellt.Further examples of lithium salts that can be used are compounds of the following general formulas: In the general formulas IV to X, X, Y and Z independently of one another denote hydrogen atoms or the groups -OLi, -SO3Li, -COOLi, -OH, -NO2, -Cl, -Br, -COOH or - (CH2) d-CH3 , where d is an integer with a value from 0-17.

Zusätzlich zu den in den vorstehenden Formeln enthaltenen funktionellen Gruppen können die Lithiumsalze in den organischen Resten weitere funktionelle Gruppen enthalten, die ihre -Eigenschaften im Entwicklergemisch nicht ungünstig beeinflussen, beispielsweise Hydroxgl-, Methoxy-, Äthoxy- oder Nitrogruppen oder Halogenatome.In addition to the functional ones contained in the above formulas Groups can be the lithium salts in the organic radicals further functional groups contain that do not adversely affect their properties in the developer mix, for example hydroxyl, methoxy, ethoxy or nitro groups or halogen atoms.

Spezielle Beispiele für wasserlösliche Lithiumsalze, die sich zur Verwendung in dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch eignen, sind Lithiumformiat, Lithiumchloracetat, Lithiumdic#loracetat, Lithiuntrichloracetat, Lithiumbenzoat, Lithiumnaphthenate, Lithiumdodecanoat, Lithiumricinoleat, Lithiumlaurylsulfat, Lithiumacetylsalicylat, Lithiumlaurylsulfonat, Lithiumphenolat, Lithium-1-phenanthrolat' Lithium-o-nitrophenolat, Dilithiumcatecholat, Lithlum-2,4,6-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpicrat, Lithiumtoluolsulfonat, Lithiumxylolsulfonat, Lithiumresorcinoleate, Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, Mono- und Dilithiumsalze von Dicarbonsäuren, wie Citronensäure, Maleinsäure und Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat, Lithium-p-nitrotoluol-o-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Lithium-2, 5-dichlorbenzolsulfonat, Lithium-2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonat sowie das Lithiumsalz von sulfoniertem Castoröl.Specific examples of water-soluble lithium salts that are used to Suitable use in the developer mixture according to the invention are lithium formate, Lithium chloroacetate, lithium dicloracetate, lithium trichloroacetate, lithium benzoate, Lithium naphthenate, lithium dodecanoate, lithium ricinoleate, lithium lauryl sulfate, lithium acetyl salicylate, Lithium lauryl sulfonate, lithium phenolate, lithium 1-phenanthrolate 'lithium o-nitrophenolate, Dilithium catecholate, lithlum 2,4,6-trinitrobenzoate, lithium phenol sulfonate, lithium picrate, Lithium toluene sulfonate, lithium xylene sulfonate, lithium resorcinoleate, lithium xylenolate, Lithium caprylates, mono- and dilithium salts of dicarboxylic acids, such as citric acid, Maleic and malic acid, lithium stearate, lithium oleate, lithium-p-nitrotoluene-o-sulfonate, Lithium toluenesulfonate, lithium 1-butanesulfonate, lithiumbenzenesulfonate, lithium dodecylbenzenesulfonate, Lithium 2, 5-dichlorobenzene sulfonate, lithium 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonate and the lithium salt of sulfonated castor oil.

Die organischen Reste der erfindungsgemäß verwendeten Lithium-: stärKer bevorzugt etwa 4 bis 3, salze enthalten vorzugsweise 2 bis 36/und besonders-bevorzugt etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome. Besonders bevorzugte Lithiumsalze sind das Lithiumbenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumlaurylsulfat und das Lithiumdodecanoat.The organic residues of the lithium used according to the invention: stronger preferably about 4 to 3, salts preferably contain 2 to 36 / and particularly preferably about 7 to 18 carbon atoms. Particularly preferred lithium salts are lithium benzoate, Lithium phenol sulfonate, lithium lauryl sulfate and the lithium dodecanoate.

Die Menge der Organolithiumverbindungen in der wäßrigen Phase ist nur von praktischen Vberlegungen bestimmt. Beispielsweise bilden die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder dem wäßrigen Entwicklersystem die praktische Obergrenze der Konzentration, während hauptsächlich durch die Entwicklungsdauer die Untergrenze festgelegt wird. So beträgt z.B. die Entwicklungsdauer bei Konzentrationen von etwa 1% mindestens etwa 5 Minuten, was vom wirtschaftlichen Standpunkt außerordentlich lang ist im Vergleich zu der erstrebten Zeit von etwa 1/2 bis 2 Minuten.The amount of organolithium compounds in the aqueous phase is determined only by practical considerations. For example, form the economy and the solubility of the compound in water or the aqueous developer system the practical upper limit of concentration, while mainly determined by the development time the lower limit is set. For example, the development time for concentrations is of about 1% at least about 5 minutes, which is excellent from an economic standpoint long is about 1/2 to 2 minutes in comparison to the desired time.

Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungsdauer kann mit dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch bei Konzentrationen von etwa 5 bis 25 Gewichtsprozent der Organolithiumverbindung im Gemisch erreicht werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20 Gewichtsprozent. Damit wird eine befriedigende Entwicklungsdauer, etwa in der Größenordnung von 1 Minute,erreicht und es ist außerdem genügend Wasser für die Auflösung und Entfernung der nichtbelichteten Beschichtung vorhanden, ohne daß starkes Spülen erforderlich ist.This desired range of development time can be achieved with the inventive Developer mix at concentrations of about 5 to 25 percent by weight of the organolithium compound can be achieved in the mixture. The preferred concentration range is about 10 to 20 percent by weight. This becomes a satisfactory development time, for example on the order of 1 minute, and there is also enough water for the dissolution and removal of the unexposed coating is present without heavy flushing is required.

Die Konzentration des harzartigen Lacks in dem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel kann etwa 5 bis 20, vorzugsweise 7 bis 12% betragen.The concentration of the resinous varnish in that which is miscible with water organic solvent can be about 5 to 20, preferably 7 to 12%.

Das Verhältnis von wäßriger Phase zu Lösungsmittelphase in dem Entwicklergemisch beträgt etwa 1:3 bis 30:1, vorzugsweise 1:2 bis 15:1 und besonders bevorzugt 1:1 bis 6:1.The ratio of aqueous phase to solvent phase in the developer mixture is about 1: 3 to 30: 1, preferably 1: 2 to 15: 1 and particularly preferably 1: 1 up to 6: 1.

Gegebenenfalls können der wäßrigen Phase zur Erleichterung der Entwicklung und Behandlung der Druckplatte noch weitere Bestandteile zugesetzt werden. Als solche Bestandteile kommen Lösungsmittel, Netzmittel oder grenzflächenaktive Verbindungen sowie Reinigungsmittel für das Metall in Frage.If necessary, the aqueous phase can be used to facilitate development and treatment of the printing plate, further ingredients are added. As such Components come from solvents, wetting agents or surface-active compounds as well as detergents for the metal in question.

Grenzflächenaktive Verbindungen oder Netzmittel können zur Verstärkung des Kontaktes zwischen dem wäßrigen Entwickler und der lichtempfindlichen Beschichtung in Mengen bis zu etwa 50 Gewichtsprozent verwendet werden.Surface-active compounds or wetting agents can be used for reinforcement the contact between the aqueous developer and the photosensitive Coating can be used in amounts up to about 50 percent by weight.

Die Netzmittel, die im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch verwendet werden können sind entweder nichtionisch, anionisch oder kationisch. Entwicklergemische mit amphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen sind Gegenstand der US-PS 3 891 439.The wetting agents used in the developer mixture according to the invention are either nonionic, anionic or cationic. Developer mixes with amphoteric surface-active compounds are the subject of US Pat. No. 3,891 439.

Spezielle Beispiele für verwendbare Netzmittel sind nachstehend aufgeführt: Anionische Netzinittel: Hierzu gehören Ammonium- und Alkalimetallsalze von langkettigen Alkoholsulfaten, wie Natriumlaurylsulfat, Natriumoctylsulfat, Ammoniumlaurylsulfat, Natrium-N#methyloleyltaurat, Dioctylnatriumsulfosuccinat und Natriumdodecylbenzolsulfat. Ferner eine Anzahl von Handelsprodukt en, die Natriumdi-(2-äthylhexyl )-phosphat, Natriumalkylsulfate, flüssige Alkylalkylolaminsulfate, Natriumlauryläthersulfat in Form von Nadeln, oder flüssige Natriumalkylsulfate enthalten.Specific examples of useful wetting agents are given below: Anionic surfactants: These include ammonium and alkali metal salts of long chain Alcohol sulfates, such as sodium lauryl sulfate, sodium octyl sulfate, ammonium lauryl sulfate, Sodium N # methyloleyl taurate, dioctyl sodium sulfosuccinate, and sodium dodecyl benzene sulfate. Furthermore, a number of commercial products, the sodium di (2-ethylhexyl) phosphate, Sodium alkyl sulfates, liquid alkyl alkylolamine sulfates, sodium lauryl ether sulfate in the form of needles or liquid sodium alkyl sulfates.

Nichtionische Netzmittel: Hierzu gehören Handelsprodukte, die beispielsweise einen flüssigen Polyäthylenglykoläther eines linearen Alkohols mit einem HL3-Wert von 8,0, einen flüssigen Nonylphenylpolyäthylenglykoläther mit einem HIB-Wert von 13,6, einen pastenartigen Nonylphenylpolyäthylen glykoläther mit einem HLB-Wert von 15,0 oder ein Diäthanolaminlaurylsäure-Kondensat enthalten. Der HIB-.Jert bedeutet das Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht. Ferner gehören hierher Verbindungen wie Glycerinmonostearat und Polyoxyäthylenglykolmönostearat.Nonionic wetting agents: These include commercial products, for example a liquid polyethylene glycol ether of a linear alcohol with an HL3 value of 8.0, a liquid nonylphenyl polyethylene glycol ether with an HIB value of 13.6, a pasty nonylphenyl polyethylene glycol ether with an HLB value of 15.0 or a diethanolamine lauric acid condensate. The HIB-.Jert means the hydrophile-lipophile balance. This subheading also includes compounds such as glycerol monostearate and polyoxyethylene glycol monostearate.

Kationische Netzmittel: Hierzu gehören beispielsweise Handelsprodukte, die quarternäre Ammonium-Derivate oder einen äthanolierten Alkylguanidinamin-Komplex enthalten.Cationic wetting agents: These include, for example, commercial products, the quaternary ammonium derivatives or an ethanolated alkylguanidinamine complex contain.

Besonders bevorzugt sind die anionischen Netzmittel, gefolgt von den nichtionischen und dann den kationischen. Unter den anionischen Netzmitteln sind die Alkylalkylolaminsulfate und Natriumlauryläthersulfate besonders bevorzugt. Von den nichtionischen Netzmitteln sind die vorstehend zuerst aufgezählten drei bevorzugt. Vorzugsweise besitzen die Netzmittel, insbesondere die nichtionischen, ein Hgdrophil-Lipophil-Gleichgewicht von mindestens etwa 8. Eine besonders bevorzugte grenzflächenaktive Verbindung ist das Natriumsalz von 2-Capryl-1- (äthyl-ß-oxypropionsäure )-imidazolin.The anionic wetting agents are particularly preferred, followed by the nonionic and then the cationic. Among the anionic wetting agents are the alkylalkylolamine sulfates and sodium lauryl ether sulfates are particularly preferred. from Of the nonionic wetting agents, the three first listed above are preferred. The wetting agents, in particular the nonionic ones, preferably have a hydrophil-lipophile balance of at least about 8. A particularly preferred surfactant compound is the sodium salt of 2-capryl-1- (ethyl-ß-oxypropionic acid) imidazoline.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann außerdem aromatische oder aliphatische Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe enthalten. Die Verwendung solcher Verbindungen in Entwicklergemischen ist beispielsweise in der US-PS 3 669 660 beschrieben. Diese Verbindungen sind im allgemeinen die gleichen wie die vorstehend als geeignet für die Herstellung, zusammen mit der Diazoverbindung, des lichtempfindlichen Umsetzungsproduktes, das sich in der sensibilisierten Beschichtung auf der Platte befindet, beschriebenen. Spezielle Beispiele für diese Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2, 5-Dimethylbenzolsulfonsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphthalin-2-sulfon säure, 1-Naphthol-2- (oder -4-) -sulfonsäure, 2,#-Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hy droxy -4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-(p ~-Anilinophenylazo )-natriumbenzolsulfonat, Natriumalizarinsulfonat, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure. Die sulfonsäuregruppenhaltigen Verbindungen werden in Wasser zu Entwicklerlösungen gelöst.The developer mixture according to the invention can also be aromatic or contain aliphatic compounds with a sulfonic acid group. The usage such compounds in developer mixtures is described, for example, in US Pat. No. 3,669 660. These compounds are generally the same as those above as suitable for the production, together with the diazo compound, of the photosensitive Reaction product, which is in the sensitized coating on the plate located, described. Specific examples of these compounds are benzenesulfonic acid, Toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, sodium benzene sulfonate, Naphthalene-2-sulfonic acid, 1-naphthol-2- (or -4-) -sulfonic acid, 2, # - dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-Hydroxy -4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, m- (p ~ -anilinophenylazo) -sodium benzene sulfonate, Sodium alizarin sulfonate, o-toluidine-m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid. The ones containing sulfonic acid groups Compounds are dissolved in water to form developer solutions.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann ferner bis etwa 5 Gewichtsprozent Phosphorsäure oder Oxalsäure als Reinigungsmittel für das Aluminiumsubstrat nach der Entfernung der desensibilisierten Beschichtung enthalten. Für diesen Zweck können im allgemeinen auch andere bekannte Mittel verwendet werden.The developer mixture according to the invention can also contain up to about 5 percent by weight Phosphoric acid or oxalic acid as a cleaning agent for the aluminum substrate the removal of the desensitized coating. For this purpose you can other known means can generally be used.

Der pH-Wert des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches kann im allgemeinen von etwa neutral, d.h. von etwa 5, bis etwa 10, in einigen Fällen mindestens bis etwa 11 oder 12 reichen. Aus diesem weiten pH-Bereich ergibt sich eine große Breite für die Entwicklergemische, ohne daß ein ungünstiger Einfluß auf die Aktivität oder Wirksamkeit des Entwicklers auftritt. Bekanntlich besitzen Diazoverbindungen bei steigendem alkalischen pH-Wert die Neigung zur irreversiblen Kupplung, wobei sie verhältnismäßig unlöslich werden. Wenn demnach ein alkalischer Entwickler unterschiedslos sowohl die Bild- als auch die Nichtbildbereiche einer diazosensibilisierten Offsetdruckplatte härten wUrde, dann könnte er nicht als wirksamer Entwickler bezeichnet werden. Überraschenderweise ist aber das erfindungsgemäße Entwicklergemisch, dessen pH-Wert in den alkalischen Bereich bis etwa 11 reichen kann, gut für die Entwicklung von Offsetdruckplatten geeignet. Im Hinblick auf die Neigung von Diazoverbindungen, im alkalischen Bereich zu kuppeln, enthalten viele der bekannten Entwickler, die beispielsweise Natriumsalze von aromatischen Sulfonsäuren verwenden, überschlüssige Phosphor-, Oxal-, Citronen-, Sulfon- oder eine andere Säure, um einen niederen pH-Wert des Entwicklers zu erhalten.The pH of the developer mixture according to the invention can in general from about neutral, i.e. from about 5, to about 10, in some cases at least up to about 11 or 12 are enough. This wide pH range results in a great breadth for the developer mixes without an adverse effect on the activity or Effectiveness of the developer occurs. It is known that diazo compounds have increasing alkaline pH the tendency to irreversible coupling, whereby they become relatively insoluble. If, therefore, an alkaline developer indifferent both the image and non-image areas of a diazo sensitized offset printing plate would harden, then he could not be called an effective developer. Surprisingly but is the developer mixture according to the invention, its pH value in the alkaline Can range up to about 11, good for offset printing plate development suitable. With regard to the tendency of diazo compounds to be in the alkaline range To couple, many of the well-known developers contain, for example, sodium salts use of aromatic sulfonic acids, excess phosphorus, oxalic, citric, Sulphonic or other acid to keep the developer at a low pH.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann zur Entwicklung von belichteten lichtempfindlichen Beschichtungen, insbesondere von diazosensibilisierten Beschichtungen sowohl im manuellen als auch im Maschinenbetrieb verwendet werden.The developer mixture according to the invention can be used to develop exposed photosensitive coatings, especially of diazo-sensitized coatings can be used in both manual and machine operation.

Der Fachmann wird natürlich im Rahmen der Lehre der Erfindung dasjenige Entwicklergemisch herstellen und verwenden, das zur Entwicklung einer bestimmten belichteten Beschichtung geeignet ist. Dabei kann es sich um Beschichtungen auf Offsetdruckplatten, entweder vorsensibilisierte oder selbstaufgebrachte, oder auf jeder anderen möglichen Oberfläche, wie Papier oder einer sauberen Kunststoffolie, wie beim Widerstandsfähigmachen von Farbauszugs-Durchsichtsbildun handeln. Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch eignet sich -zur Entwicklung von positiv arbeitenden Systemen, besonders gut und wirkungsvoll aber zur Entwicklung von negativ arbeitenden Beschichtungen. Zur Entwicklung von positiv arbeitenden Systemen weist das Entwicklergemisch vorzugsweise einen alkalischen pH-Wert auf, besonders bevorzugt einen Wert von mindestens etwa 12. Spezielle Beispiele für positiv arbeitende Systeme und Offsetdruckplatten sind in der US-PS 3 544 317 beschrieben.The person skilled in the art will of course be that within the scope of the teaching of the invention Prepare and use developer mix to develop a specific exposed coating is suitable. These can be coatings on Offset printing plates, either presensitized or self-applied, or on any other possible surface, such as paper or a clean plastic film, act like in resilient color separation transparencies. The inventive Developer mixture is suitable for the development of positive working systems, especially good and effective but for the development of negative working coatings. For the development of positive-working systems, the developer mixture preferably has an alkaline pH, particularly preferably a value of at least about 12. Specific examples of positive working systems and offset printing plates are in U.S. Patent 3,544,317.

Die Beispiele erläutern die Erfindung.The examples illustrate the invention.

Beispiel 1 Es wird ein einstufiges Entwickler- und Lackiergemisch hergestellt. Example 1 A one-stage developer and paint mixture is used manufactured.

Teil A Es werden folgende Bestandteile vermischt: Wasser 100 Teile Lithiumbenzoat 25 Teile 2-Capryl-1-(äthyl-B-oxypropionsäure)-imidazolin 100 Teile Teil B Es werden folgende Bestandteile vermischt: Nethylamylketon 60 Teile Epoxyharz (Epon 1004) 7 Teile Netzmittel (flüssiges Alkylalkglolaminsulfat Duponal Ep) 0,5 Teile Pigment (Naphthol-red) 16 Teile Durch Vermischen der Teile A und B wird ein homogenes Entwickler-. und Lackiergemisch erhalten.Part A The following ingredients are mixed: Water 100 parts Lithium benzoate 25 parts 2-capryl-1- (ethyl-B-oxypropionic acid) imidazoline 100 parts Part B The following ingredients are mixed: Nethyl amyl ketone 60 parts of epoxy resin (Epon 1004) 7 parts of wetting agent (liquid alkylalkglolamine sulfate Duponal Ep) 0.5 Parts pigment (naphthol-red) 16 parts By mixing the parts A and B becomes a homogeneous developer. and paint mixture obtained.

Beispiel 2 Durch Beschichten von zwei Aluminiumplatten mit folgenden Gemischen werden zwei Offsetdruckplatten hergestellt: Epoxyharz (Epon 1031) 1 Teil Polgvinglacetal (BORMVAR 12/85) 2 Teile Farbstoff (Basic Blue) 0,1 Teil Additionsprodukt von 2-H>droxy-4-methoxyb enzophenon-5-sulfonsäure und Paradiazodiphenylamin-Paraformaldehyd-Kondensat 2 Teile Die Druckplatten werden nach einem üblichen Verfahren belichtet. Sodann wird die erste Platte nur unter Verwendung des Gemisches von Teil A gemäß Beispiel 1 entwickelt, während zur Entwicklung der zweiten Platte das Gemisch der Teile A und B verwendet wird. Dabei werden beide Platten in befriedigender Weise entwickelt, d.h. die nichtbelichteten Bereiche werden von der Platte entfernt. Die zweite Platte weist jedoch zusätzlich eine Lackschicht nur auf den belichteten Bereichen der Platte auf. Beide Platten werden auf einer Druckpresse befestigt und geben befriedigende Reproduktionen. Mit der ersten Platte können bis zum Bruch jedoch nur 40 000 befriedigende Kopien hergestellt werden, während die zweite Platte 120 000 Kopien ergibt. Example 2 By coating two aluminum plates with the following Two offset printing plates are produced by mixing: Epoxy resin (Epon 1031) 1 part Polgving acetal (BORMVAR 12/85) 2 parts dye (Basic Blue) 0.1 part addition product of 2-H> droxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid and paradiazodiphenylamine-paraformaldehyde condensate 2 parts The printing plates are exposed by a conventional method. Then the first plate is only made using the mixture from Part A according to the example 1 developed, while the mixture of parts A and B is used. Both plates are developed in a satisfactory manner, i.e. the unexposed areas are removed from the plate. The second plate however, additionally has a layer of lacquer only on the exposed areas of the plate on. Both plates are attached to a printing press and give satisfactory Reproductions. With the first plate, however, only 40,000 satisfactory ones can be obtained before it breaks Copies are made while the second plate makes 120,000 copies.

Dies bedeutet eine dreifache Erhöhung der Kopienzahl.This means a three-fold increase in the number of copies.

Bei spiel 3 Die Beispiele 1 und 2 werden mit der Änderung wiederholt, daß anstelle des Epoxyharzes Epon 1004 ein Phenolformaldehydharz (Alnoval Po430) verwendet wird. Es werden ähnliche -Ergebnisse erhalten. Example 3 Examples 1 and 2 are repeated with the change, that instead of the epoxy resin Epon 1004 a phenol formaldehyde resin (Alnoval Po430) is used. Similar results are obtained.

Beispiel 4 Die Beispiele 1 und 2 werden mit der Änderung wiederholt, daß anstelle des Epoxyharzes (Epon 1004) Polyurethanharze (Estane 5714 und 5715) verwendet werden. Es werden ähnliche Ergebnisse erhalten. Example 4 Examples 1 and 2 are repeated with the change, that instead of the epoxy resin (Epon 1004) polyurethane resins (Estane 5714 and 5715) be used. Similar results are obtained.

Beispiel 5 Beispiele 1 und 2 werden mit der Änderung wiederholt, daß anstelle von Nethylamylketon Äthylenglykolmonomethylätheracetat und anstelle des Epoxyharzes (Epon 1004) ein Polyvinylformalharz (Formvar 12/85) verwendet wird. Es werden ähnliche Ergebnisse erhalten. Example 5 Examples 1 and 2 are repeated with the change, that instead of ethyl amyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether acetate instead of the epoxy resin (Epon 1004), a polyvinyl formal resin (Formvar 12/85) is used. Similar results are obtained.

Beispiel 6 Beispiele 1 und 2 werden mit der Änderung wiederholt, daß anstelle des Epoxyharzes (Epon 1004) ein Polyesterharz (DV521 von Polychrome Corporation) verwendet wird. Es werden ähnliche Ergebnisse erhalten. Example 6 Examples 1 and 2 are repeated with the change, that instead of the epoxy resin (Epon 1004) a polyester resin (DV521 from Polychrome Corporation) is used. Similar results are obtained.

Claims

t'One-stage developer and coating mixture, especially for diazo printing plates " Patent applications One-stage developer and coating mixture, especially for diazo printing plates, d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t that it is achieved by mixing an aqueous Solution of the soluble lithium salt of an organic compound with 1 to 36 carbon atoms and at least one acidic hydrogen atom with a concentration of at least 1 percent by weight and a solution of a film-forming resin in one with water miscible organic solvents at a concentration of 5 to 20 percent by weight in a ratio of about 1: 3 to about 30: 1.

2. Process for the preparation of the mixture according to claim 1, characterized characterized in that a) an aqueous solution of the soluble lithium salt of a organic compound with 1 to 36 carbon atoms and at least one acidic hydrogen atom produces with a concentration of at least 1 percent by weight, b) a solution of a film-forming resin in a water-miscible organic Solvents at a concentration of 5 to 20 percent by weight produces, and c) the two solutions according to a) and b) in a ratio of about 1: 3 to about 30: 1 mixed.

3. The method according to claim 2, characterized in that as Lithium salt lithium benzoate used.

4. The method according to claim 2, characterized in that as film-forming resin an epoxy, polyvinyl acetal, phenol formaldehyde, polyurethane or polyester resin is used.

5. The method according to claim 2, characterized in that as water-miscible organic solvent uses an alcohol or a ketone.

6. The method according to claim 2, characterized in that as water-miscible organic solvent methyl amglketone, ethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, Isopropanol or dioxane used.