FR2476682A1 - Procede et dispositif d'exposition d'un substrat a une source d'emission, notamment pour un depot sur le substrat par evaporation sous vide - Google Patents

Procede et dispositif d'exposition d'un substrat a une source d'emission, notamment pour un depot sur le substrat par evaporation sous vide Download PDF

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Pierre Hollier
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
    • G—PHYSICS
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0354195A3 (en) * 1988-08-03 1990-08-16 ENEA-Comitato Nazionale per la Ricerca e per lo Sviluppo dell'Energia Nucleare e delle Energie Alternative Method for producing laser mirrors with radially variable reflectance

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EP0354195A3 (en) * 1988-08-03 1990-08-16 ENEA-Comitato Nazionale per la Ricerca e per lo Sviluppo dell'Energia Nucleare e delle Energie Alternative Method for producing laser mirrors with radially variable reflectance

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