FR1515363A - Electrolyte acide pour le dépôt galvanique de revêtements de cuivre - Google Patents

Electrolyte acide pour le dépôt galvanique de revêtements de cuivre

Info

Publication number
FR1515363A
FR1515363A FR97930A FR97930A FR1515363A FR 1515363 A FR1515363 A FR 1515363A FR 97930 A FR97930 A FR 97930A FR 97930 A FR97930 A FR 97930A FR 1515363 A FR1515363 A FR 1515363A
Authority
FR
France
Prior art keywords
acid electrolyte
galvanic deposition
copper coatings
coatings
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
FR97930A
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer Pharma AG
Original Assignee
Schering AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Schering AG filed Critical Schering AG
Application granted granted Critical
Publication of FR1515363A publication Critical patent/FR1515363A/fr
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/38Electroplating: Baths therefor from solutions of copper

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
FR97930A 1966-03-08 1967-03-08 Electrolyte acide pour le dépôt galvanique de revêtements de cuivre Expired FR1515363A (fr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1966SC038624 DE1246347B (de) 1966-03-08 1966-03-08 Saures galvanisches Kupferbad

Publications (1)

Publication Number Publication Date
FR1515363A true FR1515363A (fr) 1968-03-01

Family

ID=7434789

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR97930A Expired FR1515363A (fr) 1966-03-08 1967-03-08 Electrolyte acide pour le dépôt galvanique de revêtements de cuivre

Country Status (4)

Country Link
DE (1) DE1246347B (fr)
FR (1) FR1515363A (fr)
GB (1) GB1181534A (fr)
SE (1) SE329309B (fr)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2079372A1 (fr) * 1970-02-12 1971-11-12 Udylite Corp
US3770598A (en) * 1972-01-21 1973-11-06 Oxy Metal Finishing Corp Electrodeposition of copper from acid baths
US4376685A (en) * 1981-06-24 1983-03-15 M&T Chemicals Inc. Acid copper electroplating baths containing brightening and leveling additives

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4032864A1 (de) * 1990-10-13 1992-04-16 Schering Ag Saures bad zur galvanischen abscheidung von kupferueberzuegen und verfahren unter verwendung dieser kombination
DE19758121C2 (de) * 1997-12-17 2000-04-06 Atotech Deutschland Gmbh Wäßriges Bad und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von Kupferschichten
DE10261852B3 (de) 2002-12-20 2004-06-03 Atotech Deutschland Gmbh Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad
DE10337669B4 (de) * 2003-08-08 2006-04-27 Atotech Deutschland Gmbh Wässrige, saure Lösung und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von Kupferüberzügen sowie Verwendung der Lösung
DE102005011708B3 (de) 2005-03-11 2007-03-01 Atotech Deutschland Gmbh Polyvinylammoniumverbindung und Verfahren zu deren Herstellung sowie diese Verbindung enthaltende saure Lösung und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages
CN112795960B (zh) * 2020-12-21 2023-03-31 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连电镀添加剂、其制备方法和应用
CN112725851B (zh) * 2020-12-21 2023-04-28 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连电镀添加剂、其制备方法和应用
CN112746292B (zh) * 2020-12-21 2023-04-28 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连电镀添加剂、其制备方法和应用
CN112725850B (zh) * 2020-12-21 2023-04-07 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连电镀添加剂、其制备方法和应用
CN112760683B (zh) * 2020-12-21 2023-03-28 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种芯片铜互连电镀添加剂、其制备方法和应用

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2079372A1 (fr) * 1970-02-12 1971-11-12 Udylite Corp
US3770598A (en) * 1972-01-21 1973-11-06 Oxy Metal Finishing Corp Electrodeposition of copper from acid baths
US4376685A (en) * 1981-06-24 1983-03-15 M&T Chemicals Inc. Acid copper electroplating baths containing brightening and leveling additives

Also Published As

Publication number Publication date
SE329309B (fr) 1970-10-05
GB1181534A (en) 1970-02-18
DE1246347B (de) 1967-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AT302764B (de) Saurer Elektrolyt zur Abscheidung glänzender Kupferüberzüge
FR1515363A (fr) Electrolyte acide pour le dépôt galvanique de revêtements de cuivre
FR1398239A (fr) Véhicules perfectionnés pour compositions de revêtement destinées surtout à la galvanoplastie
AT268807B (de) Saures Zink-Elektroplattierbad
CH457075A (de) Cyanidfreies Bad zur elektrolytischen Abscheidung glänzender Zinküberzüge
AT259965B (de) Saures galvanisches Bad zur Abscheidung von Zinn
AT272787B (de) Elektrolyt für die elektrolytische Abscheidung von schwarzen Chromüberzügen
AT278462B (de) Saures galvanisches Bad zur Abscheidung von Zinn
FR1479037A (fr) Bain galvanique acide pour le dépôt d'étain
FR1468084A (fr) Bain acide pour l'étamage électrolytique
AT286055B (de) Cyanidischer Elektrolyt zur Abscheidung glänzender Silberüberzüge
NL147194B (nl) Werkwijze ter bereiding van zure galvanische koperbaden.
FR1227239A (fr) Bains pour la réalisation de revêtements galvaniques de cuivre
FR1533925A (fr) Compositions pour revêtements
AT307844B (de) Saures galvanisches Kupferbad
FR1508768A (fr) Perfectionnements aux solutions, compositions et procédés pour le dépôt électrolytique de zinc en bain acide
CH489614A (de) Saures galvanisches Bad zur Abscheidung glänzender Zinkschichten
FR1516524A (fr) Anode pour procédé électrolytiques
AT282276B (de) Saures galvanisches Verzinnungsbad
CH453029A (de) Bad zur galvanischen Abscheidung von Silber-Antimon-Legierungen
CA681470A (en) Acid copper electroplating baths
FR1524718A (fr) Bain électrolytique acide pour la précipitation de couches de zinc brillantes
FR1535479A (fr) Procédé pour le revêtement électrolytique de surfaces conductrices
CH539687A (de) Saures galvanisches Zinkbad
CA681473A (en) Acid metal electroplating baths