FR1066000A - Procédé de formation électrolytique de dépôts brillants à partir de bains cuivreux cyanurés - Google Patents
Procédé de formation électrolytique de dépôts brillants à partir de bains cuivreux cyanurésInfo
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---|---|---|---|
DE1066000X | 1951-11-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=7719109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR1066000D Expired FR1066000A (fr) | 1951-11-08 | 1952-11-07 | Procédé de formation électrolytique de dépôts brillants à partir de bains cuivreux cyanurés |
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Country | Link |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1087424B (de) * | 1958-04-15 | 1960-08-18 | Schering Ag | Cyanidisches Kupferbad zur galvanischen Abscheidung gleichmaessig glaenzender UEberzuege |
EP2749670A1 (fr) * | 2012-12-26 | 2014-07-02 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Compositions et procédés de dépôt autocatalytique de cuivre exempt de formaldéhyde |
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- NL NLAANVRAGE7316146,A patent/NL173638B/xx unknown
-
1952
- 1952-11-07 FR FR1066000D patent/FR1066000A/fr not_active Expired
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1087424B (de) * | 1958-04-15 | 1960-08-18 | Schering Ag | Cyanidisches Kupferbad zur galvanischen Abscheidung gleichmaessig glaenzender UEberzuege |
EP2749670A1 (fr) * | 2012-12-26 | 2014-07-02 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Compositions et procédés de dépôt autocatalytique de cuivre exempt de formaldéhyde |
US9611550B2 (en) | 2012-12-26 | 2017-04-04 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Formaldehyde free electroless copper plating compositions and methods |
US9809883B2 (en) | 2012-12-26 | 2017-11-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Formaldehyde free electroless copper plating compositions and methods |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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