FI91422C - A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor - Google Patents

A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor Download PDF

Info

Publication number
FI91422C
FI91422C FI922852A FI922852A FI91422C FI 91422 C FI91422 C FI 91422C FI 922852 A FI922852 A FI 922852A FI 922852 A FI922852 A FI 922852A FI 91422 C FI91422 C FI 91422C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
reagent
working
liquid
porous material
reactor
Prior art date
Application number
FI922852A
Other languages
Finnish (fi)
Swedish (sv)
Other versions
FI922852A (en
FI91422B (en
FI922852A0 (en
Inventor
Pekka Soininen
Tuomo Suntola
Markku Tammenmaa
Sven Lindfors
Vesa Lujala
Original Assignee
Mikrokemia Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mikrokemia Oy filed Critical Mikrokemia Oy
Priority to FI922852 priority Critical
Priority to FI922852A priority patent/FI91422C/en
Publication of FI922852A0 publication Critical patent/FI922852A0/en
Publication of FI922852A publication Critical patent/FI922852A/en
Publication of FI91422B publication Critical patent/FI91422B/en
Application granted granted Critical
Publication of FI91422C publication Critical patent/FI91422C/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material

Description

91422 91422

Menetelmå ja laitteisto nestemaisten reagenssien syottauisek-si kemialliseen reaktoriin 5 Esillå oleva keksinto koskee patenttivaatimuksen 1 johdannon mukaista menetelmåå nestemaisten reagenssien syottåmiseksi kemialliseen reaktoriin, jossa reagenssit ovat kaasufaasissa. Method and apparatus for liquid reagents syottauisek-Si chemical reactor, a 5 Esillå syottåmiseksi invention relates to liquid reagents according to the preamble of claim 1. Using the method a chemical reactor, wherein the reactants are in the gas phase.

Tållaisen menetelman mukaan ainakin yhden reagenssin ennalta 10 valittu måårå (materiaalivuo) syotetåan hoyrystimeen, jossa sen annetaan hoyrystyå, minkå jalkeen hoyry johdetaan kemialliseen reaktoriin, jossa reagenssi saatetaan reagoimaan reaktor issa olevan substraatin tai muiden låhtoaineiden kanssa. Tållaisen go Elman, at least one reactant in a pre-selected måårå 10 (material flow) is fed to the evaporator, where it is allowed hoyrystyå, minkå after the steam is passed to a chemical reactor, wherein the reagent is reacted with a substrate in the reactor or other låhtoaineiden.

15 Keksinto koskee myos patenttivaatimuksen 9 johdannon mukaista laitteistoa nestemaisten reagenssien hoyryståmiseksi ja annostelemiseksi kemialliseen reaktoriin. 15 hoyryståmiseksi invention relates to apparatus for dispensing liquid reagents and chemical reactor also compliant with the preamble of claim 9.

Ohutkalvoja valmistetaan kemiallisissa reaktoreissa, joissa 20 reagenssit tuodaan kaasufaasissa reaktiotilaan ja saatetaan reagoimaan tasomaisen substraatin kanssa. Thin films prepared by chemical reactors in which the reactants brought to the gas phase 20 into the reaction chamber and reacted with a planar substrate. Usein reagensseina kaytetaan huoneenlampotilassa nestemåisia aineita, jotka hoyrystetaan erillisessa hoyrystimessa ennen kuin ne johdetaan reaktoriin. Often, a reagent is used to room temp nestemåisia substances which vaporizes the separate steam before being introduced into the reactor.

25 25

Tunnetun tekniikan mukaisista hoyrystysmenetelmistå mainitta-koon erityisesti CVD-ohutkalvoprosessien (Chemical Vapor Deposition) yhteydesså sovellettava kuplitusmenetelma. According to the prior art hoyrystysmenetelmistå kuplitusmenetelma be named, in particular the size of the CVD-thin-film process (Chemical Vapor Deposition) Connected to apply. Sano-tussa menetelroassa kaytetaan lahdetta, jossa vakiolampotilas-30 sa olevan nesteen låpi kuplitetaan kantajakaasua vakiona tilavuusvirtauksena. is used Sano out in that menetelroassa source of vakiolampotilas SA-30 to be bubbled through the liquid låpi constant volume flow of the carrier gas. Tåmån tyyppista lahdetta kåytettåesså hallitaan annostelua nesteen låmpotilalla, joka mååråå hoy-rynpaineen, sekå kantajakaasun tilavuusvirtauksella, jolla mååritetåån siirtonopeus. Tåmån kåytettåesså type of source is controlled by the outside temperature fluid administration, which mååråå VOC rynpaineen, submerged in the carrier gas at a flow rate of mååritetåån transfer rate.

35 Tåhån tunnettuun tekniikkaan liittyy kuitenkin eråitå epåkoh-tia. 35 Tåhån However, the known technique involves eråitå epåkoh-acetate. Niinpå jotta annostelu olisi esitetyn kaltaisella kupli-tuslåhteellå tarkkaa, on nesteen låmpotila kyettåvå pitåmåån vakiona halutussa låmpotilassa. Niinpå similar to the dispensing method would be bubbled in-tuslåhteellå precise, the outside temperature of the liquid at a desired constant kyettåvå pitåmåån the outside temperature. Samoin on kantajakaasun 2 tilavuusvirtaus on såadettåva tarkasti. Similarly, the carrier gas volume flow is a two såadettåva accurately. Vaikka nåmå paramet-rit olisivatkin kunnossa, jåå siirtyvåån ainemååråån keskei-sesti vaikuttavaksi, mutta vaikeasti hallittavaksi tekijaksi kuplittajasta poistuvan kantajakaasun kyllåisyysaste. Although the parameter face-esters is fine, jaaaa siirtyvåån ainemååråån a keskei-effective but difficult to control factor exiting the bubbler carrier gas kyllåisyysaste. Siihen 5 vaikuttavat mm. At that affect 5 mm. kuplakoko ja kuplan matka nesteen sisåsså, siis låhteen tåyttoaste. the bubble size and bubble liquid to travel the Interior, therefore låhteen tåyttoaste. Lisåksi låhteeseen syotetyn kantajakaasun låmpotila on pidettåvå vakiona, jotta kyllåisyysaste pysyisi vakiona. After entering the carrier gas outside temperature is låhteeseen pidettåvå Additionally the temperature is constant, so that kyllåisyysaste remains constant. Muutettaessa lahteen parametreja, ei kyllai-syysasteen muutosta pystyta tarkasti ennakolta arvioimaan, 10 joten låhteestå poistuvaa ainemååråån haluttuja muutoksia ei voi hallita tarkasti ilman låhteen laajaa ja perusteellista karakterisointia. When changing the parameters of the bay, does not kyllai Sep-degree change be accurately assess in advance, so låhteestå 10 leaving the desired changes ainemååråån can not be controlled precisely without låhteen extensive and in-depth characterization.

wo-hakemusjulkaisusta 91/19017 tunnetaan edella esitetystå 15 poikkeava ratkaisu nestemaisten reagenssien hoyrystamiseksi. WO application publication 91/19017 known from the above esitetystå 15 differs from the solution to the vaporization of liquid reactants.

Tunnetun tekniikan mukainen menetelma pitåa sisallaan sen, etta reagenssit johdetaan hallittuna ja virtausnopeudeltaan tarkkaan såadettyna nestevirtana paisuntaventtiiliin, jossa nestemainen reagenssi hoyrystyy, minka jalkeen muodostunut 20 hdyry johdetaan alipaineessa pidettyyn reaktoriin. The method according to the prior art pitåa sisallaan, that for reagents is conducted as a controlled and precise flow rate såadettyna fluid flow through the expansion valve wherein the fluid-like reagent evaporates, which formed after 20 hdyry is conducted under reduced pressure held in the reactor. Paisunta- venttiilin suuttimen koko on talloin såadettavisså nestemåi-sen reagenssin paineen mukaan nestevirtauksessa esiintyvien vaihteluiden poistamiseksi ja kaasufaasivirran yhtenåisyyden parantamiseksi. The expansion valve orifice size is then såadettavisså by nestemåi, the reagent for removing the pressure variations in the fluid flow and improving the gas phase stream yhtenåisyyden. Tåmåkåan ratkaisu ei kuitenkaan toimi hyvin 25 mikali nestesyotossa on suuria ja åkillisia vaihteluita. Tåmåkåan solution does not work well with 25 Mikali liquid feed is large and åkillisia fluctuations.

Lisaksi paisuntaventtiilin suutinaukko on tukkeutumisaltis ja liikkuvana osana herkkS toimintahairioille. In addition, the expansion valve orifice opening is tukkeutumisaltis and a moving part of the herkkS dysfunction.

Esilla olevan keksinnon tarkoituksena on poistaa tunnettuun 30 tekniikkaan liittyvSt epSkohdat ja saada aikaan aivan uuden- lainen ratkaisu nestemaisten reagenssien syottamiseksi kaasu-faasissa olevia reagensseja kayttaviin kemiallisiin reakto-reihin. of the present invention is to eliminate the prior art liittyvSt epSkohdat 30 and to provide an entirely novel solution for supplying liquid reagents to a gas-phase chemical synthesis using reagents of the reactor during-circuits.

35 Keksinnon yhteydessa on todettu, etta ohutkalvojen valmis- tuksessa tarvittavien nestekemikaalien maaråt ovat niin pienia, etta niiden pumppaaminen hoyrystimeen tasaisena 3 91422 virtauksena on pisaroita muodostavien pintajånnitysvoimien vuoksi vaikeaa. 35 invention in connection with it has been found that the liquid chemicals required for the manufacture of the volume of the thin films are so small that the droplets forming the pintajånnitysvoimien therefore difficult for the pumping of the steam generators 3 91 422 steady flow.

Tasta syysta esillå olevan keksinnon mukainen ratkaisu perus-5 tuu siihen ajatukseen, ettå kaytetaan hoyrystintå, joka kykenee toimimaan hoyrystettåvån nesteen puskurivarastona nestevirran syotosså esiintyvien virtausvaihteluiden tasoit-tamiseksi. For this reason, esillå the solution of the invention the base 5 on the idea, is used as the evaporator and working, which is capable of operating hoyrystettåvån liquid buffer reservoir syotosså occurring flow fluctuations in the fluid flow screed tamiseksi. Keksinnon mukainen hoyrystin koostuu tålloin ainakin osittain huokoisesta, kostuvasta materiaalista, joka 10 estaå pisaranmuodostumisen imemalla nesteen itseenså. Evaporator according to the invention consists of tålloin at least in part, a porous, wettable material that estaå 10 by sucking the liquid droplet formation itseenså.

Tåsmållisemmin sanottuna keksinnon mukaiselle menetelmålle on paaasiallisesti tunnusomaista se, mika on esitetty patentti-vaatimuksen 1 tunnusmerkkiosassa. Methods of the invention Tåsmållisemmin specifically, it is mainly characterized by what is stated in patent claim 1 in the characterizing part.

15 15

Keksinnon mukaiselle laitteistolle on puolestaan tunnusomaista se, mika on esitetty patenttivaatimuksen 9 tunnusmerkkiosassa. The apparatus according to the invention is characterized by what is disclosed in the characterizing part of claim 9.

20 Tamån hakemuksen puitteissa tarkoitetaan huokoisella, kostu- valla materiaalilla sellaista ainetta, jonka huokoskoko on niin pieni, etta nesteen ja huokosten valiset voimat (esim. kapillaarivoimat ja koheesiovoimat) ovat nesteen pintajånni-tysta suuremmat, jolloin neste paasee tunkeutumaan huokosten 25 sisaan ja leviamåan aineen låpi. 20 badgers within the scope of the application refers to a porous material of a wetting agent such that pore size is so small that the liquid and the pores of the interatomic forces (e.g., the capillary and cohesion forces) of the surface tension of the liquid-Tysta larger, whereby the fluid can penetrate into the pores 25 in and from spreading agent låpi. Huokosten maksimikoot vaih- televat kåytettåvån reagenssin mukaan, mutta ovat tyypilli-sesti 0,1 nm.,.100 nm, edullisesti noin 1...30 nm. Maximum pore sizes will vary according to the reagent kåytettåvån, but are typical of a 0.1-nm.,. 100 nm, preferably from about 1 ... 30 nm. Sopivimmin huokoinen materiaali on valmistettu epåorgaanisesta aineesta, joka on inertti reagenssin suhteen, kuten keraamisesta tai 30 mineraalisesta aineesta. Preferably, the porous material is made of an inorganic material which is inert to the reagents, such as ceramic or a mineral material 30. Tyypillisinå esimerkkeina mainitta- koon erilaiset silikaattipohjaiset materiaalit. Typical examples include various silicate materials the size. Huokoinen kappale voidaan myos valmistaa grafiitista, jonka kyky johtaa låmpoå on monessa suhteessa edullista keksinnon mukaan toi-mittaessa. The porous body may also be made from graphite, which results in the ability to låmpoå is advantageous in many respects According to the invention, brought mittaessa. Huokoisen materiaalin valmistusaineista mainitta-35 koon vielå erilaiset karbidit, kuten piikarbidi. The porous material making materials were mentioned in the size-35 vielå various carbides such as silicon carbide.

Huokoinen materiaali voi olla muotoiltu mihin tahansa sopi- 4 vaan geometriseen muotoon. The porous material may be formed into any suitable geometric shape, but four. Materiaalin pinta/tilavuus-suhde valitaan sen mukaan, miten suurta puskurivarastoa tarvitaan hoyrystettMvaa ainetta vårten, eli miten paljon vaihteluita nestesyotosså esiintyy. The material surface / volume ratio is chosen according to how large a buffer storage is required hoyrystettMvaa agent closets, or how much variation in nestesyotosså occurs. Tavallisesti, kuten alia låhemmin 5 esitetåån, hoyrystimeen syotettåva nestevirtaus pyritåan pitMmaan erittain tasaisena, jolloin huokoisen materiaalin pinta sopivimmin on varsin suuri. Usually, such alia låhemmin 5 esitetåån, syotettåva evaporator liquid flow pyritåan pitMmaan highly uniform, wherein the surface of the porous material is preferably relatively high. Alla esitettavåssa esimer-kisså hoyrystavå materiaali on muotoiltu sauvamaiseksi, jolloin sen poikkileikkaus nesteen syottosuunnassa on ympyran 10 muotoinen. For example the indicated below, cats vaporizing material is shaped into a rod, wherein the cross-section of the liquid syottosuunnassa 10 is in the shape of a circle. Haluttaessa huokoinen materiaali voidaan kuitenkin myos muotoilla esim. levymaiseksi, kartiomaiseksi tai pallo-maiseksi. If desired, the porous material may, however, also be designed e.g. plate-like, conical or spherical judicata. Huomautettakoon viela, ettS kasitteellS "pinta" tarkoitetaan huokoisen materiaalin muodostaman kappaleen geometrista pintaa, nk. verhopintaa. Note, ettS kasitteellS "surface" means a porous material, the geometric surface of the body, so-called. Curtain surface.

15 15

Imeytetty reagenssi hoyrystetaan huokoisesta materiaalista siirtåmållå siihen tarvittavaa hdyrystysenergiaa. The impregnated porous material to vaporize the reagent to the required siirtåmållå hdyrystysenergiaa. Tavallisesti ja edullisesti tåma tapahtuu siten, etta huokoiseen ainee-seen tuodaan sopivasta lampolahteesta lampoenergiaa. Tåma normally and preferably takes place in such a way that the porous SUBSTANCE-introduced into the thermal energy from a suitable heat source. Tasainen 20 ja tehokas lammontuonti hoyrystimeen on tårkeåå, koska rea- genssi sitoo hoyrystyessaån runsaasti lampoå, ja se voidaan saada aikaan kayttamålla vakiolampotilassa pidettåvåa lampo-lahdetta. Smooth and efficient lammontuonti 20 of the steam generator is tårkeåå, because the reagent is bound hoyrystyessaån a lot of heat, and it can be obtained by using constant-pidettåvåa heat-source.

25 Keksinnon edullisessa sovellutusmuodossa hoyrystyksen ai- kaansaamiseksi huokoisen materiaalin ymparille on jårjestetty lammityselimia, jotka kohdistavat lampoenergiaa materiaaliin, josta se siirtyy nesteeseen. 25 In the invention, a preferred embodiment of the vapor deposition of Al to obtain all around the porous material is jårjestetty heating element, the thermal energy that target the material from which it is transferred to the fluid. Lampoenergian vaikutuksesta neste hoyrystyy huokoista materiaalia ymparoivaan tilaan, 30 josta se kuljetetaan edelleen reaktoriin esim. kantajakaasun avulla. the effect of thermal energy vaporizes a liquid porous material surrounding the space 30 from which it is transported to the reactor e.g. carrier gas. Lampoenergiaa tuodaan hoyrystimeen niin paljon, etta neste saadaan hoyrystymaan oleellisesti tasaisena kaasuvirta-na huokoisesta materiaalista. Introduced into the thermal energy of the steam generator so that the liquid to evaporate substantially constant gas flow-na porous material.

35 Låmmityselimina voidaan esimerkiksi kayttåa erilaisia såtei- lylammittimia, kuten såhkovastuslåmmittimiå. 35 Låmmityselimina may be, for example, to employ such a variety of såtei- lylammittimia as såhkovastuslåmmittimiå. Låmmittimet voidaan myos jårjeståå huokoisen materiaalin sisåan muodosta- 5 91422 malla siihin aukkoja tai reikiå, joihin låmmityselimet si-joitetaan. Låmmittimet jårjeståå may also be formed by a porous material sisåan 5 91 422 siihin the openings or holes, which låmmityselimet SI are placed. Kuten yllå mainittiin, lammityselimiå pidetåån edullisesti vakiolåmpotilassa. As weari above, preferably lammityselimiå to kept vakiolåmpotilassa.

5 Eråån edullisen sovellutusmuodon mukaan huokoinen inateriaali muodostetaan sylinterivaipan muotoisen keskeisen ensimmåisen esim. sauvamaisen låmmity se limen ympårille, josta låmmitys-elimestå lampo siirtyy johtumalla huokoiseen materiaaliin. According to a preferred embodiment five Eråån porous inateriaali formed in the cylindrical shell main ensimmåisen e.g. låmmity the rod-like lime ympårille which låmmitys-elimestå heat is transferred by conduction to the porous material. Sylinterivaipan ulkopuolelle jarjestetaan hoyryn virtauksen 10 tarvitsema sola ja tåmån toiselle puolelle sylinterivaipan muotoinen toinen låmmityselin, josta lampo siirtyy såteile-mållå huokoiseen materiaaliin. The cylinder is arranged outside the casing 10 required for tåmån the passageway and the flow of steam to one side of the cylinder shell-shaped second låmmityselin from which heat is transferred såteile mållå-porous material. Tåsså sovellutusmuodossa on sopivimmin huolehdittava siitå, ettå toisen låmmityselimen avulla tuodaan niin paljon lampoenergiaa hoyrystimen ulko-15 vaippaan, ettå hoyryn kondensoituminen vaipan sisåpintaan estyy. Tåsså embodiment is preferably be interline, and working through the second låmmityselimen brought as much thermal energy of the steam generator 15 of the outer sheath, the sheath and working sisåpintaan condensation of steam is prevented.

Låmmitys voidaan myos jårjeståå siten, ettå huokoista materi-aalia ympåroivåån tilaan (hoyrynvirtaussolaan) tuodaan låm-20 mintå kaasua, esim. låmmitettyå kantajakaasua, jolla hoyryt kuljetetaan reaktoriin. Låmmitys jårjeståå may also be so porous and working materi-al ympåroivåån space (hoyrynvirtaussolaan) is brought into Lam-20 activities a gas, e.g. låmmitettyå carrier gas, the vapors are transported to the reactor.

Muodostamalla hoyrystin yhtenåiseksi kappaleeksi kemiallisen reaktorin syottosuutinten kanssa lampoenergiaa siirtyy hoy-25 rystimeen suuttimesta myos johtumalla. By providing vaporized in yhtenåiseksi piece with the nozzle feed the chemical reactor thermal energy is transferred VOC nozzle MYOS 25 generators is conducted. Koska kemiallisen reaktorin syottosuuttimet usein pidetaan vakiolampotilassa, on osoittautunut edulliseksi kåyttåå suuttimesta vapautuvaa hukkalåmpoå hoyrystimen låmmittåmiseen. As the chemical reactor feed nozzle is often regarded as constant-has proved advantageous to kåyttåå released from the nozzle of the steam generator hukkalåmpoå låmmittåmiseen.

30 Edellå mainittiin, ettå hoyry viedåån keksinnon eråån edulli sen sovellutusmuodon mukaan reaktoriin kantajakaasun avulla. 30 Edellå above, and working steam viedåån the invention there eråån THE PREFERRED embodiment, the carrier gas into the reactor. Keksinnon edullisessa sovellutusmuodossa hoyrystin toimii samassa paineessa kuin kemiallinen reaktori. In the invention, a preferred embodiment of the vaporizer is the same pressure as the chemical reactor. Niinpå yhdistet-tynå alla esitettåvån esimerkin mukaiseen CVD-laitteistoon, 35 jota kåytetåan normaali-ilmanpafneessa, hoyrystin toimii ilmakehån paineessa, jolloin seka reagenssi ettå kantajakaasu tuodaan siihen samassa paineessa. Connected Niinpå-tynå below esitettåvån of Example CVD apparatus 35 which kåytetåan normal ilmanpafneessa, evaporator operates at atmospheric pressure, wherein the mixed reagent and working the carrier gas is brought to the same pressure.

6 6

Haluttaessa hoyrystetyn nesteen kuljetus voidaan myos jarjes-tåa yhdiståmållå hdyrystin suoraan kåyttokohteeseen eli kemialliseen reaktoriin ja pitåmålla tåta samassa paineessa kuin hoyrystin, jolloin reagenssihoyryt siirtyvåt vapaasti 5 reaktoriin, tai pitåmallå reaktoria hoyrystinta alemmassa paineessa, jolloin hdyrystynyt reagenssi imetåån reaktoriin. If desired, the transport of the vaporized liquid may also be jarjes-tåa yhdiståmållå hdyrystin directly kåyttokohteeseen a chemical reactor individuals instead secured to the same pressure as the evaporator, wherein the reactant flow freely between 5 reactor or reactors pitåmallå evaporator at a lower pressure, wherein the reagent hdyrystynyt imetåån reactor.

Neste voidaan syottåa mihin kohtaan huokoista ainetta tahan-sa. The liquid can then input the vital point-porous materials This sa. Edullisesti huokoinen materiaali on kuitenkin jårjestetty 10 ainakin oleellisesti pystysuoraan asentoon, jolloin neste tuodaan sen ylaosaan, josta se leviaa alaspain painovoiman vaikutuksesta ja sivuille kapillaari- ja koheesiovoimien sekå muiden sentapaisten fysikaalisten voimien vaikutuksesta. Preferably, the porous material is, however, jårjestetty 10 at least substantially vertical position, wherein the liquid is introduced to the top thereof, from where it spreads alaspain the influence of gravity and sides of the capillary and correctly with the effect of the physical forces of cohesion forces the like. Alla esitettavåsså esimerkisså huokoinen materiaali on pysty-15 suoraan jårjestetty sauva, jonka ylapaatyyn on muodostettu keskiakselin suuntainen aukko, johon neste voidaan syottaa. Esitettavåsså the Example below, the porous material 15 is a vertical straight jårjestetty rod, the upper end of which is formed parallel to the central axis of the hole into which the liquid can be fed. Syottamalla neste keskiakselin suuntaisesti saadaan aikaan nesteen tasainen leviaminen sauvan poikkileikkauksen yli, jolloin nestetta hoyrystyy tasaisesti ympåri sauvan. Supplying the liquid along the central axis there is provided a liquid to spread over the flat bar cross-section, wherein the liquid evaporates steadily ympåri rod.

20 20

Annostelun maara ja sen tarkkuus on ensisijassa riippuvainen syotetyn nesteen virtausnopeudesta. The dosing volume, and its resolution is mainly dependent on the flow rate of the fluid supplied. Hoyrystettåvaa ja hoyryna reaktoriin syotettavaa reagenssimaåråå kontrolloidaan såStå-malla pumppausnopeutta, jolla nestemåistå reagenssia annos-25 tellaan hoyrystinelementtiin. Hoyrystettåvaa and the vapor fed to the reactor is controlled reagenssimaåråå filth, the pumping rate at which the reagent nestemåistå dose of 25 tellaan hoyrystinelementtiin. Pumpun pitaa olla sellainen, etta silla saadaan tuotetuksi tasainen ja hallittu nestevir-taus, joka ei ole riippuvainen vastapaineesta. The pump must be such as to produce a uniform and controlled fluid flow circulation that is not dependent on the back pressure. Taman tyyppi-sia pumppuja ovat esim. manta- ja letkupumput, joiden kapa-siteetti muuttuu lineaarisesti pumpun kierrosluvun funktiona, 30 jolloin nestemaaran tarkka annostelu on mahdollista pumpun tehoa muuttamalla. Taman SIA-type pumps are e.g. piston pumps and tubing with a kappa capacity varies linearly as a function of pump speed, 30 to the exact dispensing volumes of liquid, it is possible by changing the pump power.

Kuten edellisesta on kaynyt ilmi, huokoinen materiaali toimii nestemaisen reagenssin puskurivarastona, poistaa nesteen 35 syoton epatasaisuudet ja estaa nain pisaranmuodostuksen aiheuttamasta vaihtelua hoyrystimen ulostuloon. As has been obvious from the above, the porous material acts as a buffer reagent in the liquid reservoir to remove the fluid 35 to pass the unevenness and thus prevent droplet formation caused by the variation at the evaporator outlet. Keksinnon mukaan hoyrystavaa materiaalia operoidaan jatkuvuustilassa 7 91422 (steady state -tilassa). According to the invention vaporizing material is operated in the steady state 7 91 422 (steady state). TStå kasitettå selostetaan tarkemmin seuraavassa: TStå treated, will be described in more detail in the following:

Neste muuttuu keksinnon mukaisessa hoyrystinelementissa 5 hoyryksi ja poistuu kantajakaasun mukana samalla nopeudella kuin sita pumppaamalla syotetaån. The liquid has a hoyrystinelementissa of the invention 5 to steam and exits the carrier gas at the same rate as it is fed by pumping. Jatkuvatoimisessa tilassa huokoisen materiaalin sisåån syntyy tålloin pituus- ja sa-teettåissuuntaiset "markyys"-gradientit, jotka riippuvat toisaalta pumppausnopeudesta ja toisaalta hoyrystimen lampo-10 tilasta tai oikeammin siita låmpovuosta, joka siirtyy hoyrys- timen ulkopuolisesta lammittimesta hoyrystavåan huokoiseen materiaaliin. In a continuous mode sisåån porous material generated tålloin longitudinal and sa-teettåissuuntaiset "wetness" gradients, which depend on the pumping rate on the one hand and on the other hand by the evaporator 10 heat-state, or rather from it låmpovuosta, which is transferred to the steam generators external to the heater vaporizing the porous material. Jatkuvuustilassa huokoinen materiaali sisaltaa puskurivaraston hoyrystettavaa nestetta. Continuity mode, the porous material contains a buffer stock to be vaporised liquid. Sen maara riippuu nesteen pumppausnopeudesta, lammittimen lampotilasta, seka 15 huokoisen materiaalin geometrisista mitoista. The amount will depend on the pumping rate of liquid, heater temperature, as well as 15 of the porous material of the geometric dimensions. Puskuri-varasto tasoittaa tehokkaasti lyhytaikaiset muutokset nesteen syotos-sa, joten pumppauksen tasaisuusvaatimukset lieventyvåt oleel-lisesti. The buffer-storage-effectively smooth out short-term changes in the liquid syotos-sa, so easing the pumping uniformity requirements oleel-ic spread.

20 Hoyrystimen tyoskentelyalue on maariteltåvissa seuraavasti: Μώ j = M^g jatkuvuustilassa 20 is a work area of ​​the steam generator maariteltåvissa follows: Μώ j = M ^ g steady state

Mi», < 25 Mi », <25

Mlt > 0 jossa: 30 Μ»,, = hoyrystimeen pumpatun nesteen massavirta Μαη,ί = hoyrystimesta ulostulevan hoyryn massavirta MLT> 0 where: Μ 30 »,, = the pumped liquid mass flow rate of the steam generator Μαη, ί = evaporator coming out of the vapor mass flow

Min,.max(T) = maksimi nesteen massavirta, jonka tietty hoyrystin 35 pystyy lammittimen lampotilassa T hoyrystamaan. Min, .max (T) = the maximum mass flow rate of the liquid, which is vaporized 35 is able to a certain heater temperature T evaporation.

M„ = hoyrystimen sisåltSmS nesteen maSra jatkuvuustilassa (st = steady state). M '= evaporator sisåltSmS liquid maSra steady state (st = steady state).

40 Jos Μ»,, on suurempi kuin Μ^,^ίΤ) , ei koko hoyrystimeen pum- δ If Μ 40 »,, is greater than Μ ^, ^ ίΤ), not the size of the steam generator is pumped δ

pattu nestemåårå ehdi haihtua, vaan hoyrystimeen alkaa muo-dostua nestepisaroita. pattu nestemåårå have time to evaporate by the evaporator starts, but fas-dostua liquid droplets. riippuu paitsi låmpotilasta T depends not only on the outside temperature T

myos hoyrystimen dimensioista ja rakenteesta, tarkemmin sanoen siitå låmpovuosta, joka siirtyy låmmittimestå hbyrys-5 timen huokoisen materiaalin kautta hoyrystettavaån nestee- seen. MYOS of the steam generator and the dimensions of the structure, i.e. be interline låmpovuosta, which is transferred through the låmmittimestå hbyrys 5-porous carrier material, the liquid to be vaporised.

Kuviossa 3 on esimerkkinå esitetty alla kuvattavan sovellu-tusesimerkin mukaisen rakenteen omaavan hoyrystimen kokeel-10 lisesti mååritetyt Μ^,,^ίΤ) kayråt vedelle ja etanolille ja naiden seoksille. Figure 3 is a esimerkkinå shown below having the structure in accordance with the described exemplary embodiment of the steam generator, suitable experimental 10-ic spread mååritetyt Μ ^ ,, ^ ίΤ) kayråt water and ethanol, and their mixtures.

Hoyrystimen tyoskentelyalue on kåyrån ja låmpotila-akselin rajoittama alue. Work area of ​​the steam generator and the outside temperature is kåyrån axis bounded area. Tyoskentelypistettå valittaessa tulee huo-15 lehtia siitå, ettå pysytåån kåyrån alapuolella ja riittåvalla etaisyydella siitå. Tyoskentelypistettå into the selection must be interline-15 leaves, and working under adequate to pysytåån kåyrån and a distance to be interline.

Ellei hoyrystettåvå aine sinånså termisen stabiiliutensa puolesta aseta rajoituksia låmpotilalle, voidaan hoyrystimen 20 kapasiteettia suurentaa korottamalla yksinkertaisesti låmmit- timen låmpotilaa. Unless hoyrystettåvå material sinånså behalf thermal stability, place restrictions on the outside temperature, can be the capacity of the evaporator 20 increases by increasing the outside temperature is simply låmmit- converter.

Ååritilanteessa, jossa M„ = 0, hdyrystyy neste sitå mukaan kun se pumpataan hbyrystimen ylåpååhån huokoisen materiaalin 25 pysyesså kuivana. Ååritilanteessa, wherein M '= 0, SITA hdyrystyy fluid is pumped by the hbyrystimen ylåpååhån porous material 25 pysyesså dry. Tålloin ei muodostu lainkaan hoyrystimen sisåistå puskuria, eikå hoyrystin tasoita pumppauksessa tapahtuvia lyhytaikaisia vaihteluita. Tålloin not formed at all of the steam generator sisåistå buffer eikå Evaporator smooth pumping occurring short term fluctuations. Hoyrystimen kayttopis-teeksi on tåstå syystå edullista valita låmpotila, jossa M* on sopivan suuri. EVAPORATOR kayttopis-PHASE tåstå syystå is preferable to select the outside temperature, wherein M + is a suitable high. Kun låmmittimen låmpotilaa muutetaan pump-30 pausnopeuden pysyesså vakiona, hakeutuu hoyrystin uuteen jatkuvatoimiseen tilaan, joka poikkeaa ensimmåisestå sikåli ettå M„(T2) & M„(T,), edellyttåen, ettå pysytåån hoyrystimen tyoskentelyalueella. When the outside temperature is changed låmmittimen pump 30 pausnopeuden pysyesså constant, seeks to vaporize the new continuous mode, which is different from ensimmåisestå sikåli and working M "(T2) & M '(T) edellyttåen, and working pysytåån work area of ​​the steam generator. Muutosvaiheen aikana & M*,,. During the restructuring phase, M & * ,,. Mst muuttuu myos muutettaessa pumppausnopeutta vakiolåmpotilassa, 3 5 kunnes uusi jatkuvatoiminen tila on saavutettu, eli: Μ,,ίΜ^) M,, (Myj,,) · Mst:n mukana muuttuu efektiivinen haihduttava pinta. Mst also changes with changing the pump speed vakiolåmpotilassa for 3 to 5 until a new continuous state is achieved, namely: Μ ίΜ ,, ^) M ,, (MYJ ,,) · MST becomes effective with the evaporating surface.

9 91422 9 91422

Jatkuvuustilan erityisenå etuna on se, etta koska kaikki syotettåva neste menee kaasufaasiin, tislautumista ei tapah-du. In steady state erityisenå advantage is that since all liquid goes syotettåva vapor phase distillation with event-du not. Niinpå keksinnon mukaisesti toimittaessa voidaan kaasu-faasiseoksia saada aikaan sekoittamalla vastaavat nesteet 5 keskenåån ja haihduttamalla seos. Niinpå operating in accordance with the invention may be a gas-phase mixture obtained by mixing liquids 5 keskenåån the like and evaporating the mixture. Jatkuvuustilan ansiosta hoyryn koosturnus on sama kuin nesteseoksen myos siina tapauk-sessa, etta kyseessa ei ole atseotrooppinen nesteseos. In steady state due to the vapor koosturnus is the same as that of the liquid mixture even in the cases the assay, that a non-azeotropic liquid mixture. Tama antaa tunnettua tekniikkaa huomattavasti suuremmat vaihtelu-mahdollisuudet ohutkalvojen valmistuksessa. This gives a well-known technique significantly greater variation of potential, the preparation of thin films.

10 10

Keksintoa ryhdytaan seuraavassa lahemmin tarkastelemaan oheisten piirustusten avulla, jolloin kuviossa 1 on esitetty keksinnon mukaisen annostelulaitteen periaatekaavio, 15 kuviossa 2 on sivukuvantona esitetty keksinnosså kaytettavån hoyrystimen halkileikkaus, kuviossa 3 on esitetty kuvion 1 mukaisen hoyrystimen kokeel-lisesti maaritetyt ^^„(T) kåyrat vedelle ja etanolille ja naiden seoksille, 20 kuviossa 4 on esitetty normaali-ilmanpaineessa (atmosfaåri- sessa paineessa) toimivan CVD-laitteiston kaaviokuva ja kuviossa 5 on esitetty kaavio, josta kåy ilmi, miten APCVD-laitteen suuttimiin syotetaån reagensseja keksinnon mukaisen menetelmån avulla. The invention is next examined in detail with reference to the appended drawings, wherein Figure 1 shows the dispensing device according to the invention, the principle diagram 15 in Figure keksinnosså for use at the evaporator cross-section 2 is shown in side view in Figure 3 of the steam generator of Figure 1, the experimental-ic spread as determined by ^^ '(T) kåyrat shown to water and ethanol and their mixtures, 4 are shown in Figure 20 at normal air pressure (pressure for atmosfaåri-) functioning as a CVD apparatus and a schematic diagram shown in Figure 5 is a diagram showing Kaay shows how the nozzles APCVD device reagents fed into the process of the invention.

25 25

Kuviossa 1 on esitetty keksinnon mukaiseen annostelu- ja hoyrystysjarjestelmaan kuuluvat osat: kaasunsyottojårjestelma 1 kantajakaasulle, astia 2 nestemåiselle reagenssille, tark-kaan annosteluun yltava pumppu 3 seka hoyrystin 4. In Figure 1 is shown in accordance with the invention the dispensing and vaporization include components: kaasunsyottojårjestelma one carrier gas, the vessel 2 nestemåiselle reagent am-yltava all three dosing pump 4 is vaporized mixed.

30 30

Kantajakaasuna kaytetaan samaa kaasua kuin reaktiossa, edullisesti jotain hoyrystettavan reagenssin suhteen inerttia kaasua, kuten typpea tai argonia, tai ilmaa. The carrier used for the same gas as in the reaction, preferably with respect to one vaporizable reagent of inert gas such as nitrogen or argon, or air.

Soveltuen voidaan myos kSyttaa reagenssikaasua, kuten 35 happea. It may also be appropriate for the kSyttaa reactant gas, such as oxygen-35. Kaasu johdetaan hoyrystimeen 4, johon se voidaan syottåå alipaineisena tai normaali-ilmanpaineessa. The gas is passed at the evaporator 4, where it can be syottåå negative pressure or at normal air pressure. Edullisesti kaasu syotetaan hoyrystimeen samassa paineessa, joka 10 vallitsee reaktorissa. Preferably, the gas supplied to the evaporator at the same pressure which prevails in the reactor 10. Tarvittaessa nestemaisen reagenssin astia 2 pidetåan inertin kaasun ilmakehån alla reagenssin hapettumisen estamiseksi. If necessary, the liquid reagent container below 2 pidetåan an inert gas atmosphere in order to prevent the oxidation of the reagent.

5 Annostelusysteemin kontrolli perustuu siihen, ettå jatkuvuus- tilassa hbyrystimesta 4 poistuu sama maårå ainetta hoyrynå, kuin mitå siihen nesteena pumpataan. 5 Dispensing System control based on the state of continuity and working hbyrystimesta 4 leaves the same deal of material with steam, as it makes no fluid being pumped. Pumpun 3 såådettåvyys ja tarkkuus ovat reagenssisyoton perusparametrejå. The pump 3 såådettåvyys reagenssisyoton and accuracy for the basic parameters. Pumppuna 3 kåytetaån edullisesti peristalttista pumppua tai måntåpump-10 pua, jonka pumppausnopeutta saåtamållS voidaan kontrolloida hoyrystettåvan ja hoyryna reaktoriin syotettåvån reagenssin -mååråa. Kåytetaån pump 3 is preferably a peristaltic pump or måntåpump-10 pump has a pumping speed can be controlled saåtamållS hoyrystettåvan and a vapor to the reactor -mååråa syotettåvån reagent. Syottamalla samanaikaisesti nestetta kahdesta tai useammasta nestelåhteestå ja yhdiståmållå nestevirrat ennen hoyrystinta nesteseokseksi voidaan pumppujen avulla varsin 15 tarkkaan saataa muodostuvan nesteseoksen - ja siten hoy- ryseoksen - koostumus. The liquid simultaneous supply of two or more nestelåhteestå yhdiståmållå and liquid flows from the liquid mixture prior to the evaporator by means of pumps 15 can be very precisely formed can expose the liquid mixture - and therefore the steam ryseoksen - composition.

Neste muuttuu jatkuvuustilassa (steady state) olevassa hoy-rystinelementissS 4 hoyryksi ja poistuu kantajakaasun mukana 20 samalla nopeudella kuin sita pumppaamalla syotetåån. The liquid has a steady state (steady state) the VOC vapor rystinelementissS 4 and is removed with the carrier gas 20 at the same rate as it is pumped by syotetåån. Hoyryn koostumus on sama kuin nesteen. Vapor has the same composition as the liquid. Tåssa ratkaisussa annostelun rnaara ja sen tarkkuus on riippuvainen syotetyn nesteen vir-tausnopeudesta. Rnaara sections for the solution of administration, and its accuracy is dependent on the fluid supplied vir the flow rate. Mahdolliset vaihtelut virtauksessa voidaan tasoittaa. Possible variations in the flow can be compensated.

25 25

Kuviossa 2 on esitetty hoyrystimen eras edullinen sovellutus-muoto. Figure 2 shows a preferred embodiment of the steam generator mode is shown. Hoyrystin kåsittaa putkenomaisen hoyrystystilan 5, jonka ylaosaan on muodostettu nesteen syottoyhde 6 ja eril-lisena haarana kantajakaasun syottoyhde 7. Hoyrystystilan 30 alaosaan on sovitettu hbyrystetyn reagenssin poistoyhde 8. Evaporator chaise pipe-shaped evaporation space 5, the top of which is formed from the liquid inlet 6 and the different-AS A branch of the carrier gas inlet 7. The lower part of the evaporation space 30 is adapted to hbyrystetyn reagent outlet 8.

Hoyrystystilaan 5 on samankeskisesta jårjestetty sintraamat-tomasta keraamisesta materiaalista, kuten borosilikaattila-sista, valmistettu kappale 9, joka alaosastaan on tuettu hoyrystystilan 5 sisapintaa vasten ja ylaosastaan on yhdis-35 tetty nesteen syottoyhteeseen 6 sovitettuun syottoputkeen 10. Evaporation space 5 is concentrically jårjestetty-ciated sintering of a ceramic material, such as borosilicate glass lashing, made of body 9, which is supported on the lower part 5 of the inner surface evaporation space and at the top are combined, the liquid feed inlet 35 been arranged in the supply pipe 6 to 10.

Kappale 9 on rakenteeltaan huokoinen ja sen huokosten koko on noin 10 nm. Chapter 9 has a porous structure with a pore size of about 10 nm. Syottoputki on sovitettu huokoisen sauvan yla- 11 91422 pååtyyn muodostettuun aukkoon. The feed pipe is arranged in a porous rod formed in the upper 11 91422 pååtyyn opening.

Tåsså hoyrystinmallissa hoyrystettåvå neste pumpataan huokoi-seen materiaaliin 9, johon se imeytyy. Tåsså hoyrystinmallissa hoyrystettåvå fluid is pumped into the porous-material 9 to which it is absorbed. Kantajakaasu syotetaan 5 yhteen 7 kautta hoyrystystilaan, jossa se virtaa huokoisen materiaalin ohi ja kuljettaa hoyrystetyn aineen mukanaan kåyttokohteeseen. The carrier gas is fed via conduit 7 5 evaporation space, where it flows over the porous material and carries the vaporized material kåyttokohteeseen. Jatkuvatoimisessa tilassa syntyy huokoisen materiaalin sisåan pituus- ja såteettåissuuntaiset "mårkyys" gradientit, kuten ylla selostettiin. In a continuous sisåan are generated in the porous material in the longitudinal and såteettåissuuntaiset "mårkyys" gradients, as described above.

10 10

Hoyrystystilan 5 ympårille on jårjestetty såhkovastuslåmmit-timet 12 låmpoenergian tuomiseksi jårjestelmåån. 5 ympårille evaporation space is jårjestetty såhkovastuslåmmit-introducing nozzles 12 låmpoenergian jårjestelmåån. Låmmittimet on sovitettu låmmittamaån huokoisen sauvakappaleen 9 sen koko matkalta. Låmmittimet låmmittamaån is arranged a porous body 9 of the rod over its entire length. Tavoitteena on, etta kappaleeseen siirrettåisiin 15 riiittava maåra lampoenergiaa nestemaisen reagenssin hoyrys- tamiseksi. The aim is that the body 15 was transferred to a sufficiently deal of thermal energy to the liquid vaporise the reagent.

Esimerkki 20 Seuraavassa tarkastellaan keksinnon mukaisen menetelmån soveltamista lapinåkyvan johdeohutkalvon, fluorilla seostetun tinaoksidin (Sn02;F) , kasvatukseen APCVD-prosessilla (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition). Example 20 Consider the application of the method of the invention lapinåkyvan johdeohutkalvon, fluorine-doped tin oxide (Sn02; F), amplification process, APCVD (Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition). Prosessissa kaytetyt nestemaiset reagenssit ovat tinatetrakoridi (SnCl4) , 25 metanoli (CH30H) ja vesi (H20) . Liquid reagents used in the process are tinatetrakoridi (SnCl4), 25, methanol (CH30H) and water (H20). Prosessissa kåytetaan lisaha- pettimena happea (02) ja kaasuseoksen laimentamiseen sekå kantajakaasuna typpea (N2). Used as an oxidant in the process lisaha- oxygen (02) and the gas mixture to dilute the stain and carrier gas was nitrogen (N 2). Fluoriseostukseen kåytetaan triklorobromometaanikaasua (CF3Br) . Used as Fluoriseostukseen triklorobromometaanikaasua (CF3Br).

30 Kuviossa 4 on esitetty APCVD-laitteisto kaaviomaisesti. 4 is shown in Figure 30, APCVD apparatus schematically. Lait- teen pååosat ovat kuljetinhihna 21, jonka påålle kasvatus-alustat 22 ladotaan, uunikammio 23 ja lammittimet 24 sekå reagenssisuuttimet 25, joilla kaasumaiset låhtoaineet tuodaan kontaktiin kasvatusalustojen 22 kanssa. Pååosat dimensions of the device are a conveyor belt 21, which påålle growing trays 22 are stacked, oven chamber 23 and the heater 24 correctly with reagenssisuuttimet 25, which gaseous låhtoaineet brought into contact with 22 of media. Ohutkalvon kasvu 35 tapahtuu suuttimien alla. Thin film growth takes place in the nozzles 35 below.

APCVD-laitteessa kuljetushihnalle 21 ladotut lasisubstraatit 12 22 liikkuvat hiljalleen reagenssisuuttimien 25 ohi uunissa 24, jonka låmpotila on tyypillisesti n. 500 °C. stacked APCVD apparatus 21 of glass substrate 12 on the conveyor belt 22 move slowly in the oven over 25 reagenssisuuttimien 24, in which the outside temperature is typically approx. 500 ° C. Tinaoksidin APCVD-kasvatuksessa nåitå suuttimia 25 on tavallisesti kaksi, jolloin ohutkalvon ominaisuuksien råatalointimahdollisuudet 5 lisaåntyvåt, koska suuttimissa voidaan ajaa erilaisia kasva- tusprosesseja. Tin oxide, APCVD-raising nåitå nozzles 25 is usually two to råatalointimahdollisuudet thin film properties lisaåntyvåt 5 because the nozzles can be run on a variety of growing process. Laitteen kapasiteetti on myos suurempi kahdel-la suuttimella. The capacity is also higher with t-la nozzle.

Hihnan 21 etenemisnopeus on tyypillisesti n. 25 cm/min. The forward speed of the belt 21 is typically approx. 25 cm / min.

10 Syotettyjen kemikaalien maåråt ovat esimerkin luonteisesti: 10 deal of chemicals are fed to the nature similar to Example:

Suutin 1 SnCl4 15 ml/h H20 3 0 ml/h CHjOH 25 ml/h 15 02 150 Sl/h N2 200 sl/h The nozzle SnCl 4 1 15 ml / h H20 3 0 ml / hr CHjOH 25 ml / hr February 15 150 Sl / h N 2 200 sl / h

Suutin 2 SnCl4 60 ml/h H2o 30 ml/h 2 0 02 2 0 0 sl/h CF3Br 60 sl/h N2 200 sl/h The nozzle 2 SnCl 4 to 60 mL / h H2o 30 ml / h 2 0 02 2 0 0 sl / h CF3Br 60 sl / h N 2 200 sl / h

Kantajakaasuna ja reagenssiseoksen laimentamiseen tarvittavan 25 typen maara riippuu uunin 24 geometriasta ja dimensioista. The carrier and reagent mixture to dilute the nitrogen required 25 amount will depend on the geometry of the furnace 24 and the dimensions.

Ylla olevilla reagenssisyotoilla kasvaa 500 °C:ssa 30 cm:n levyiselle alustalle 1 μιη:η paksuinen Sn02;F-kalvo n. 25 cm:n matkalle minuutissa. With the above reagenssisyotoilla increases to 500 ° C for 30 cm a width of the substrate 1 μιη: η thick Sn02; F film of about 25 cm. of trip minutes. Kalvon neliovastus on 10 - 20 Ω/nelid ja pinnan voimakkaan tekstuurin vuoksi se sirottaa tehokkaasti 30 valoa nayttåen visuaalisesti maitomaisen samealta. Neliovastus of the film is 10 to 20 Ω / nelid and due to the strong texture in the surface 30 to scatter light efficiently nayttåen visually milky turbid.

Kuviossa 5 on kaavamaisesti esitetty miten yo. Figure 5 schematically shows how the stud. prosessi on toteutettu edullisesti kayttaen hyvaksi keksinnon mukaista nestemaisten kemikaalien hoyrystys- ja annostelumenetelmåå. the process is preferably carried out by utilizing the evaporation and annostelumenetelmåå liquid chemicals according to the invention.

Ylla olevat nestekemikaalimaarat ovat niin pieniå, ettå niiden pumppaaminen hoyrystimeen tasaisena virtauksena on 35 13 91422 pisaroita muodostavien pintajånnitysvoimien vuoksi vaikeaa. The above nestekemikaalimaarat are so small and working of the pumping of constant flow to the steam generators, it is difficult 35 13 91422 due to droplets forming pintajånnitysvoimien. Edella kuvatussa hoyrystimessa 5-12, jota kuviossa 5 on merkitty viitenumerolla 26, kaytetty huokoinen materiaali 8 imee nesteen itseensa ja estaa nain pisaranmuodostuksen ja 5 nesteen låpivirtauksen aiheuttamasta vaihtelua hoyrystimen ulostuloon. In the above described 5-12 of the steam generator, which in Figure 5 are indicated by reference numeral 26, used for the porous material 8 absorbs the variation in the liquid itself, thus preventing the liquid droplet and 5 låpivirtauksen caused at the evaporator outlet.

Toteutukseen tarvitaan enimmillåan 5 annostelupumppua 27, 5 hoyrystinelementtia 26, 8 virtausmittaria 28 tai massavir-10 tasåadinta ja 3 kemikaalisailiota 29; Implementation will require maximum of 5 of a metering pump 27, 26 hoyrystinelementtia 5, 8 flow meter 28 or the mass flow rate-10 tasåadinta chemical container 3 and 29; lisåksi tietysti sopi- vat letkut kaasuille ja nestemaisille aineille. Additionally the course VAT suitable tubing for gases and liquids. Suuttimia on kaksi (31 ja 32). Are two nozzles (31 and 32). Jos suuttimeen 31 pumpataan erillisten vesi- ja metanolilShteiden sijasta niiden sopivassa suhteessa olevaa seosta, voidaan jarjestelmasta poistaa 1 hdyrystin, 1 15 typpivirtausmittari/massavirtasaadin. If the die 31 is pumped to separate the water, instead of metanolilShteiden the appropriate ratio of the mixture can be removed from the system 1 hdyrystin, January 15 under a nitrogen flow meter / massavirtasaadin. Tama on mahdollista tehdå, koska hoyrystin toimii jatkuvuustilassa, jossa tislau-tumisilmiot eivat muuta ulostulevan seoksen koostumusta verrattuna sisaansyotettyyn. This is possible done in the summer, since the vaporizer is in the steady state, wherein the distillation-tumisilmiot do not change the composition of the mixture coming out compared to the entered.

20 On edullista jårjeståå keksinnon mukainen hoyrystin CVD- laitteiston kaasunsyottosuuttimen integroiduksi osaksi, koska talloin vakiolampoisen suuttimen hukkalampoenergiaa voidaan kohdistaa huokoiseen materiaaliin nestemaisen reagenssin hoyryståmiseksi. 20 is preferred jårjeståå vaporized in the CVD apparatus of the invention is integrated into the gas supply nozzles, as this constant temperature of the nozzle hukkalampoenergiaa can be applied to the porous material hoyryståmiseksi liquid reagent. TSlla ratkaisulla voidaan korvata hoyrys-25 timen erilliset låmmityselimet. TSlla solution may be replaced by evaporators 25 separate nozzle låmmityselimet.

Claims (12)

14 14
1. Menetelmå nestemåisten reagenssien sydttåmiseksi kemial- 5 liseen reaktoriin, jossa reagenssit ovat hoyryfaasissa, jonka menetelraån mukaan reagenssin ennalta valittu raateriaalivuo syotetåån hdyrystimeen (4), jossa reagenssin annetaan hoyrystyå, minkå jålkeen 10. hoyry johdetaan kemialliseen reaktoriin, jossa rea genssi saatetaan reagoimaan reaktorissa olevan subst-raatin tai muiden låhtoaineiden kanssa, tunnnettu siitå, ettå hoyrystimesså reagenssin annetaan imeytyå huokoiseen 15 raateriaaliin (9), jossa siihen siirretåån tarvittava hdyrystymisenergia, hdyrystin (4) pidetåån jatkuvuustilassa (steady state -tilassa), jolloin nesteen tilavuusvirta ja huokoiseen materiaaliin tuotavan hoyrystysenergian måårå sovite-20 taan siten, ettå huokoisesta materiaalista hoyrystyy ainakin keskimåårin saman verran ainetta kuin siihen syotetåån ja hoyrystimeen (4) syotetåån ainakin kahden reagenssin muodostama nesteseos, jolloin jatkuvuustilassa toimi-25 valla hoyrystim 1. The method of chemical reagents sydttåmiseksi nestemåisten 5 pilasters to the reactor, wherein the reactants are in the vapor phase, which menetelraån by the reagent pre-selected raateriaalivuo syotetåån hdyrystimeen (4), wherein the reagent is hoyrystyå, minkå 10. Thereafter the steam supplied to a chemical reactor, wherein the rea reagent is reacted in the reactor of the noun-stearate or other låhtoaineiden, protocol known be interline, and working hoyrystimesså reagent is imeytyå absorbent 15 raateriaaliin (9), where necessary to siirretåån hdyrystymisenergia, hdyrystin (4) to kept in the steady state (steady state), the volume flow of the liquid and the porous material entering hoyrystysenergian måårå the fitting 20 in such a way and working the porous material is vaporized at least keskimåårin same material as the syotetåån and the evaporator (4) syotetåån formed by at least two reagent fluid mixture, wherein the steady state function of the steam generator 25 by a ellå tuotetaan hoyry, jonka koostumus ainakin oleellisesti vastaa nesteseoksen koostumusta. Ella steam is produced, the composition of which at least substantially corresponds to the composition of the liquid mixture.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmå, tu η net -tu siitå, ettå nestemåisen reagenssin tilavuusvirta saate- 30 taan ainakin likimain vastaamaan reaktoriin aikayksikosså syotettåvån hoyrystetyn reagenssin mååråå. 2. A method as claimed in claim 1, tu η net -Tu be interline, and working nestemåisen reagent volume flow is brought to 30 by at least approximately corresponds to the reactor aikayksikosså syotettåvån the vaporized reagent mååråå.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmå, tun-n ettu siitå, ettå huokoisen materiaalin (9) tilavuus 35 valitaan siten, ettei syotettåvån nesteen låpivirtausta pååse tapahtumaan noudatettavassa låmpotilassa. 3. A method as claimed in claim 1 or 2, c h a n e d be interline, and working the porous material (9) in a volume of 35 is selected such that the liquid syotettåvån låpivirtausta pååse event followed in the outside temperature. 15 91422 15 91422
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmå, tu η net -tu siitå, ettå huokoisen materiaalin (9) kapasiteettia kasvatetaan lisååmållå siihen kohdistettavaa låmpovuota. 4. The method of claim 3 according tu η net -Tu be interline, and working the porous material (9) lisååmållå capacities of the targeted låmpovuota.
5. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetelmå, jossa kåytetåån pitkånomaiseksi muotoiltua huokoista materi-aalia, tunnettu siitå, ettå huokoista materiaalia (9) pidetåån oleellisesti pystysuorassa asennossa, jolloin nestevirta syotetåån materiaalin ylåosaan ja annetaan levitå 10 sen låpi painovoiman ja vastaavasti nesteen ja huokoisen materiaalin vålisten fysikaalisten voimien vaikutuksesta. 5. The method according to any of the preceding claims, wherein Used when pitkånomaiseksi shaped porous material, further characterized in and working the porous material (9) to kept in a substantially vertical position, wherein the liquid stream syotetåån material bar top section and allowed to apply by 10 therethrough by gravity, and accordingly the liquid and the porous material vålisten the effect of physical forces.
6. Jonkin edellisen patenttivaatimuksen mukainen menetelmå, tunnettu siitå, ettå huokoisena materiaalina (9) 15 kåytetåån sintraamatonta keraamista materiaalia tax grafiit- tia. 6. any one of the preceding claims, further characterized in a porous material and working (9) 15 Used when sintered ceramic material, a graphite duty acetate.
7. Laitteisto nestemåisten reagenssien syottåmiseksi kemial-liseen reaktoriin, jossa reagenssit ovat hoyryfaasissa, joka 20 laitteisto kåsittåå ainakin yhden nestemåisen reagenssin låhteen (2), låhteeseen yhdistetyn pumpun (3), jolla låhteestå voidaan imeå haluttu måårå nestemåistå reagenssia, - pumpun (3) painepuolelle yhdistetyn hoyrystimen (4), 25 jolla pumpulta tuleva nestevirtaus voidaan hoyryståå ja joka on yhdistetty kemialliseen reaktoriin reagenssin johtamiseksi siihen hoyryfaasissa, tunnettu siitå, ettå hoyrystin (4) kåsittåå hoyrystystilan (5), jossa on nestemåisen reagenssin 30 tuloyhde (6), kantajakaasun tuloyhde (7) sekå hoyrys- tetyn reagenssin poistoyhde (8), hoyrystystilaan (5) sovitetun kappaleen (9), joka koostuu kostuvasta, huokoisesta materiaalista ja joka on yhteydesså nestemåisen reagenssin tuloyhteeseen 35 (6), ja hoyrystystilan (5) yhteyteen jårjestetyn låmpoenergian låhteen (12) låmmon siirtåmiseksi huokoiseen kappa- 16 leeseen 7. The apparatus syottåmiseksi nestemåisten reagents chemically-pilasters to the reactor, wherein the reactants are in the vapor phase, the apparatus 20 kåsittåå at least one reagent nestemåisen låhteen (2), låhteeseen connected to a pump (3), which can be låhteestå imeå desired måårå nestemåistå reagent, - a pump (3) the pressure side of the combined evaporator (4), 25 which comes from the pump fluid flow can be hoyryståå and which is connected to a chemical reactor of the reagent for conducting the vapor phase, further characterized in and working evaporator (4) kåsittåå evaporation space (5) having a nestemåisen reagent 30 inlet connection (6), the carrier gas an inlet conduit (7) correctly with the evaporation of the reagent tetyn outlet (8), evaporation space (5) arranged in the body (9), which is composed of a wettable, porous material and which is nestemåisen Connected to the reagent inlet 35 (6), and the evaporation space (5) for jårjestetyn låmpoenergian låhteen (12) as a heat siirtåmiseksi porous kappa 16 leeseen (9) siihen johdetun nestemåisen reagenssin hoyryståmiseksi. (9) the secondary reagent nestemåisen hoyryståmiseksi.
8. Patenttivaatimuksen 7 mukainen laitteisto, jossa hoy- 5 rystimeen (4) on yhdistetty kantajakaasulåhde (1), josta hoy- rystimeen voidaan tuoda kaasua hoyrystetyn reagenssin kuljet-taraiseksi siitå eteenpåin kemialliseen reaktoriin (21 - 25), tunnettu siitå, ettå huokoinen kappale (9) on sovi-tettu hoyrystystilaan siten, ettå kappaleen (9) ja hoyrys-10 tystilan (5) seinåmån våliin muodostuu kaasunvirtauskanava, joka on yhteydesså kaasunpoistoyhteeseen (8) ja johon kappa-leesta (9) hoyrystyvå reagenssi kulkeutuu. 8. The apparatus according to claim 7, wherein the steam generators is 5 (4) is connected to kantajakaasulåhde (1), with the steam generators can be introduced into the vaporized gas in the reagent-taraiseksi be interline traveling onwards to chemical reactor (21 to 25), further characterized in the porous body and working (9) has been agreed-evaporation space in such a way and working body (9) and the evaporators 10-leakage (5) is formed in the election seinåmån gas flow channel, which is Connected to the gas outlets (8) and in which the kappa-piece (9) migrates as a volatile reagent.
9. Patenttivaatimuksen 7 tai 8 mukainen laitteisto, 15 tunnettu siitå, ettå huokoinen kappale (9) koostuu keraamisesta tai mineraalisesta aineesta tai grafiitista, jonka huokoskoko on 0,1...100 nm, edullisesti noin 1...30 nm. 9. The apparatus according to claim 7 or 8 15 further characterized in the porous body and working (9) consists of a ceramic or a mineral material or graphite having a pore size of 0.1 ... 100 nm, preferably from about 1 ... 30 nm.
10. Jonkin patenttivaatimuksen 7-9 mukainen laitteisto, 20 tunnettu siitå, ettå huokoinen kappale on muotoiltu pitkånomaiseksi sauvaksi (9), jolla on oleellisesti ympyråke-hån muotoinen poikkileikkaus ja jonka pituusakseli on sovi-tettu ainakin likimain pystysuoraan asentoon, jolloin nestemåisen reagenssin tuloyhde (6) on yhdistetty kappaleen ylå-25 pååhån. 10. The apparatus according to any of Claims 7-9, 20 further characterized in and working the porous body is formed pitkånomaiseksi rod (9) having a substantially ympyråke-Hå shaped cross-section and having a longitudinal axis is agreed-been at least substantially vertical position, wherein the nestemåisen reagent inlet passageway ( 6) is connected to the body ylå-25 pååhån.
11. Jonkin patenttivaatimuksen 7-10 mukainen laitteisto, tunnettu siitå, ettå låmpoenergian låhde koostuu hoyrystystilan (5) ympårille jårjestetyistå låmmitysvastuk- 30 sista (12) . 11. The apparatus according to any one of claims 7-10, further characterized in låmpoenergian and working låhde consists evaporation space (5) ympårille jårjestetyistå låmmitysvastuk- 30 Sista (12).
12. Jonkin patenttivaatimuksen 7-10 mukainen laitteisto, tunnettu siitå, ettå hoyrystin (4) on integroitu CVD-laitteiston kaasunsyottosuuttimeen, jolloin suuttimen låmpo- 35 energia on kohdistettavissa huokoiseen materiaaliin. 12. The apparatus according to any one of claims 7-10, further characterized in and working evaporator (4) is integrated into the CVD apparatus gas supply nozzles, the nozzle 35 låmpo- energy can be directed to the porous material. 17 91422 17 91422
FI922852A 1992-06-18 1992-06-18 A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor FI91422C (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI922852 1992-06-18
FI922852A FI91422C (en) 1992-06-18 1992-06-18 A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI922852A FI91422C (en) 1992-06-18 1992-06-18 A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor
FR9307243A FR2692597A1 (en) 1992-06-18 1993-06-16 Introducing liq. phase reactants into reaction chamber - by passing liq. into vaporiser contg. microporous packing then transporting vapour to reactor using carrier gas

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI922852A0 FI922852A0 (en) 1992-06-18
FI922852A FI922852A (en) 1993-12-19
FI91422B FI91422B (en) 1994-03-15
FI91422C true FI91422C (en) 1994-06-27

Family

ID=8535501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI922852A FI91422C (en) 1992-06-18 1992-06-18 A method and apparatus for supplying liquid reagents to a chemical reactor

Country Status (2)

Country Link
FI (1) FI91422C (en)
FR (1) FR2692597A1 (en)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6195504B1 (en) 1996-11-20 2001-02-27 Ebara Corporation Liquid feed vaporization system and gas injection device
US6635114B2 (en) * 1999-12-17 2003-10-21 Applied Material, Inc. High temperature filter for CVD apparatus
US6620723B1 (en) 2000-06-27 2003-09-16 Applied Materials, Inc. Formation of boride barrier layers using chemisorption techniques
US7405158B2 (en) 2000-06-28 2008-07-29 Applied Materials, Inc. Methods for depositing tungsten layers employing atomic layer deposition techniques
US7964505B2 (en) 2005-01-19 2011-06-21 Applied Materials, Inc. Atomic layer deposition of tungsten materials
US6551929B1 (en) 2000-06-28 2003-04-22 Applied Materials, Inc. Bifurcated deposition process for depositing refractory metal layers employing atomic layer deposition and chemical vapor deposition techniques
US7732327B2 (en) 2000-06-28 2010-06-08 Applied Materials, Inc. Vapor deposition of tungsten materials
US6765178B2 (en) 2000-12-29 2004-07-20 Applied Materials, Inc. Chamber for uniform substrate heating
US6825447B2 (en) 2000-12-29 2004-11-30 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for uniform substrate heating and contaminate collection
US6951804B2 (en) 2001-02-02 2005-10-04 Applied Materials, Inc. Formation of a tantalum-nitride layer
US6660126B2 (en) 2001-03-02 2003-12-09 Applied Materials, Inc. Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques
US6734020B2 (en) 2001-03-07 2004-05-11 Applied Materials, Inc. Valve control system for atomic layer deposition chamber
US7211144B2 (en) 2001-07-13 2007-05-01 Applied Materials, Inc. Pulsed nucleation deposition of tungsten layers
US6878206B2 (en) 2001-07-16 2005-04-12 Applied Materials, Inc. Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques
US6916398B2 (en) 2001-10-26 2005-07-12 Applied Materials, Inc. Gas delivery apparatus and method for atomic layer deposition
US6729824B2 (en) 2001-12-14 2004-05-04 Applied Materials, Inc. Dual robot processing system
US6620670B2 (en) 2002-01-18 2003-09-16 Applied Materials, Inc. Process conditions and precursors for atomic layer deposition (ALD) of AL2O3
US6998014B2 (en) 2002-01-26 2006-02-14 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for plasma assisted deposition
US6911391B2 (en) 2002-01-26 2005-06-28 Applied Materials, Inc. Integration of titanium and titanium nitride layers
US6827978B2 (en) 2002-02-11 2004-12-07 Applied Materials, Inc. Deposition of tungsten films
US6833161B2 (en) 2002-02-26 2004-12-21 Applied Materials, Inc. Cyclical deposition of tungsten nitride for metal oxide gate electrode
US6720027B2 (en) 2002-04-08 2004-04-13 Applied Materials, Inc. Cyclical deposition of a variable content titanium silicon nitride layer
US7279432B2 (en) 2002-04-16 2007-10-09 Applied Materials, Inc. System and method for forming an integrated barrier layer
WO2006103998A2 (en) * 2005-03-29 2006-10-05 Casio Computer Co., Ltd. Vaporizing device and liquid absorbing member

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4076866A (en) * 1975-03-30 1978-02-28 Massachusetts Institute Of Technology Method of growing films by flash vaporization
JPS58143522A (en) * 1982-02-19 1983-08-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid gasifying apparatus
DE8910733U1 (en) * 1989-09-08 1990-04-12 Hussla, Ingo, Dr., 6450 Hanau, De
US5204314A (en) * 1990-07-06 1993-04-20 Advanced Technology Materials, Inc. Method for delivering an involatile reagent in vapor form to a CVD reactor

Also Published As

Publication number Publication date
FI922852A (en) 1993-12-19
FI91422B (en) 1994-03-15
FI922852A0 (en) 1992-06-18
FI922852D0 (en)
FR2692597A1 (en) 1993-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5835677A (en) Liquid vaporizer system and method
US9132404B2 (en) Gas delivery system with constant overpressure relative to ambient to system with varying vacuum suction
US9469898B2 (en) Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material
US6607907B2 (en) Air flow regulation in microfluidic circuits for pressure control and gaseous exchange
Lawson et al. Membrane distillation. I. Module design and performance evaluation using vacuum membrane distillation
KR100269560B1 (en) Cyclone evaporator
US4947789A (en) Apparatus for vaporizing monomers that flow at room temperature
Lu et al. Wetting mechanism in mass transfer process of hydrophobic membrane gas absorption
JP5732025B2 (en) Material deposition methods and apparatus in the substrate process system
US6380081B1 (en) Method of vaporizing liquid sources and apparatus therefor
EP0950124B1 (en) Flash evaporator
TW565626B (en) Liquid feed vaporization system and gas injection device
US7556244B2 (en) Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material
EP1548813A1 (en) Gas supply system and treatment system
JP3470055B2 (en) Vaporization method Mocvd vaporizer and feed solution
JP3782166B2 (en) Method and apparatus for sterilizing the surface
FI98270C (en) Method and arrangement in connection with vaporizing an anesthetic
US20030054099A1 (en) Condensation coating process
US4861524A (en) Apparatus for producing a gas mixture by the saturation method
Ding et al. Experimental study of ammonia removal from water by membrane distillation (MD): The comparison of three configurations
CA2524909C (en) Dew point humidifier and related gas temperature control
CN100595910C (en) Carburetor, various types of devices using carburetor, and method of vaporization
US5034164A (en) Bubbleless gas transfer device and process
US20040164089A1 (en) Method and apparatus for delivering precursors to a plurality of epitaxial reactor sites
EP0808916B1 (en) Vaporizer apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
MM Patent lapsed