FI20225231A1 - Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä - Google Patents
Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä Download PDFInfo
- Publication number
- FI20225231A1 FI20225231A1 FI20225231A FI20225231A FI20225231A1 FI 20225231 A1 FI20225231 A1 FI 20225231A1 FI 20225231 A FI20225231 A FI 20225231A FI 20225231 A FI20225231 A FI 20225231A FI 20225231 A1 FI20225231 A1 FI 20225231A1
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- certain embodiments
- plasma
- inner chamber
- chamber
- lid
- Prior art date
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
Substraatin käsittelylaitteisto käsittäen sisemmän kammion (130), ulomman kammion (140), joka ainakin osittain ympäröi sisempää kammiota (130), substraattituen (110) substraatin tukemiseksi sisemmässä kammiossa (130), kansijärjestelmän (161) ja plasmageneraattorin (175) käsittäen kansijärjestelmään (161) integroidun plasma-applikaattorin, joka laitteisto on konfiguroitu vapauttamaan ei-plasmakaasua sisempään kammioon (130) kohdasta (kohdista), joka on (jotka ovat) plasmageneraattorin (175) plasmanmuodostustilavuuden alapuolella.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20225231A FI20225231A (fi) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20225231A FI20225231A (fi) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20225231A1 true FI20225231A1 (fi) | 2022-03-15 |
FI20225231A FI20225231A (fi) | 2022-03-15 |
Family
ID=81306668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20225231A FI20225231A (fi) | 2020-01-10 | 2020-01-10 | Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
FI (1) | FI20225231A (fi) |
-
2020
- 2020-01-10 FI FI20225231A patent/FI20225231A/fi unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI20225231A (fi) | 2022-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4232330B2 (ja) | 励起ガス形成装置、処理装置及び処理方法 | |
KR101272321B1 (ko) | 복수의 기체 유입구를 가지는 원자층 증착 장치의 반응기 | |
US20030153177A1 (en) | Variable flow deposition apparatus and method in semiconductor substrate processing | |
CN110582591B (zh) | 原子层沉积设备、方法和阀 | |
US20230067579A1 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
KR102182995B1 (ko) | 성막 장치 및 성막 방법 | |
US10711347B2 (en) | Micro-volume deposition chamber | |
EP3559307B1 (en) | Deposition or cleaning apparatus with movable structure and method of operation | |
KR102221562B1 (ko) | 급속 열 처리를 이용한 원자 층 증착 | |
US20200040455A1 (en) | Methods and apparatus for ald processes | |
US20210087687A1 (en) | Uniform deposition | |
FI20225231A1 (fi) | Substraatin prosessointilaitteisto ja -menetelmä | |
US20160326648A1 (en) | Apparatus for selectively sealing a gas feedthrough | |
EP3990680A1 (en) | Substrate backside protection | |
KR20220019244A (ko) | 다공성 입구 | |
JP2022077993A (ja) | 反応器および関連する方法 | |
KR20240066912A (ko) | 기판 처리 방법 |