FI121569B - Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution - Google Patents

Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution Download PDF

Info

Publication number
FI121569B
FI121569B FI20051041A FI20051041A FI121569B FI 121569 B FI121569 B FI 121569B FI 20051041 A FI20051041 A FI 20051041A FI 20051041 A FI20051041 A FI 20051041A FI 121569 B FI121569 B FI 121569B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
tin
solution
advantageously
nitric acid
wastewater solution
Prior art date
Application number
FI20051041A
Other languages
Finnish (fi)
Swedish (sv)
Other versions
FI20051041A0 (en
FI20051041A (en
Inventor
Juha Jokinen
Daniela Oana Trambitas
Ron Penners
Geert-Jan Witkamp
Original Assignee
Yara Suomi Oy
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yara Suomi Oy filed Critical Yara Suomi Oy
Priority to FI20051041A priority Critical patent/FI121569B/en
Publication of FI20051041A0 publication Critical patent/FI20051041A0/en
Priority to PCT/FI2006/000332 priority patent/WO2007042611A1/en
Priority to TW95137642A priority patent/TWI396664B/en
Publication of FI20051041A publication Critical patent/FI20051041A/en
Application granted granted Critical
Publication of FI121569B publication Critical patent/FI121569B/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B25/00Obtaining tin
    • C22B25/06Obtaining tin from scrap, especially tin scrap
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/02Treatment of water, waste water, or sewage by heating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/04Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
    • C22B3/06Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
    • C22B3/065Nitric acids or salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/44Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B7/00Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
    • C22B7/006Wet processes
    • C22B7/007Wet processes by acid leaching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/30Acidic compositions for etching other metallic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46Regeneration of etching compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/20Heavy metals or heavy metal compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/20Heavy metals or heavy metal compounds
    • C02F2101/203Iron or iron compound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/30Organic compounds
    • C02F2101/303Complexing agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/30Organic compounds
    • C02F2101/36Organic compounds containing halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/30Organic compounds
    • C02F2101/38Organic compounds containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/34Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32
    • C02F2103/346Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from industrial activities not provided for in groups C02F2103/12 - C02F2103/32 from semiconductor processing, e.g. waste water from polishing of wafers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2209/00Controlling or monitoring parameters in water treatment
    • C02F2209/02Temperature
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/26Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by liquid-liquid extraction using organic compounds
    • C22B3/28Amines
    • C22B3/284Aromatic amines
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P10/00Technologies related to metal processing
    • Y02P10/20Recycling

Description

Menetelmä metallioksidien saostamiseksi jätevesiliuoksesta - Förfarande för att uttfälla metalloxider ur en avloppsvattenlösningMethod for precipitating metal oxides from sewage solution - Metallurgy - Metal oxide ur et avloppsvattenlösning

KEKSINNÖN ALAFIELD OF THE INVENTION

5 Esillä oleva keksintö koskee menetelmää metallioksideja sisältävien käytettyjen tinan tai tinalyijyn syövytysliuosten käsittelemiseksi. Erityisemmin esillä oleva keksintö koskee menetelmää jätevesivirtojen käsittelemiseksi, jotta liuoksesta saadaan talteen uudelleenkäytettäviä lähtöaineita ja mahdollisesti metalleja, kuten kuparia, tinaa, lyijyä ja rautaa. Tinan tai tinalyijyn syövytysliuosta käytetään elekt-10 roniikkateollisuudessa, erityisesti piirilevyjen valmistuksessa.The present invention relates to a process for treating spent metal or oxide etching solutions of tin or tin lead. More particularly, the present invention relates to a process for treating waste water streams to recover reusable starting materials and possibly metals such as copper, tin, lead and iron from the solution. The etching solution of tin or tin lead is used in the electronics industry, especially in the manufacture of circuit boards.

KEKSINNÖN TAUSTABACKGROUND OF THE INVENTION

Piirilevyjen (printed circuit board, PCB) valmistus kasvaa voimakkaasti erilaisten sähkölaitteiden yhä uusien sovellusten ja markkinoiden mukana. Tällä hetkellä tavanomainen piirilevyjä valmistava tehdas tuottaa tonneittain raskasmetalleja sisäl-15 tävää jätevettä. Tämä vaarallinen jäte kuljetetaan tavallisesti muualle käsittelyyn, jossa ei itse asiassa kierrätetä komponentteja vaan ainoastaan pienennetään tilavuutta ennen jätteen hautaamista.The production of printed circuit boards (PCBs) is growing rapidly with the increasing number of applications and markets for various types of electrical equipment. At present, a conventional PCB manufacturing plant produces tons of heavy metals containing wastewater. This hazardous waste is usually transported elsewhere for treatment, which does not actually recycle components but merely reduces the volume before burial.

Tinan tai tinalyijyn syövytysliuoksen luonneNature of the etching solution of tin or tin lead

Kaikkein suosituin piirilevyjen (PCB:iden) ulkopinnan käsittelymenetelmä Yhdys-20 valloissa ja Euroopassa on kuviopinnoitus. Tässä tavanomaisessa piirilevyjen valmistusmenetelmässä kuparikerroksen pinnalle tehdään sähköisen pinnoituksen o avulla tina- tai tinalyijykerros, joka toimii syöpymistä estävänä kerroksena. Sen jäl- oj keen kun kuparikerroksen alueet, joissa ei ole johdotusta, on poistettu syövyttä- ^ mällä, seuraavassa vaiheessa käytetään typpihappopohjaista liuosta sähköisesti .. i ,m 25 pinnoitetun tina- tai tinalyijykerroksen poistamiseksi kuparijohdotuksen tuomiseksi .x esille.The most popular method of surface treatment of printed circuit boards (PCBs) in the United States and Europe is pattern coating. In this conventional circuit board manufacturing method, a tin or tin lead layer is applied to the copper layer by an electrical coating o, which acts as an anti-corrosion layer. After the non-wiring areas of the copper layer have been removed by etching, the next step is to use a nitric acid-based solution electrically to remove the plated tin or tin lead layer to expose the copper wiring .x.

cc: - Q_ T- Typpihappopohjaisia tuoreita syövytysliuoksia ovat typpihappo ja ferrinitraatti.cc: - Q_ T- Fresh etching solutions based on nitric acid are nitric acid and ferric nitrate.

Tyypillinen koostumus on (prosenttiosuuksina, paino/paino) 10-40 % typpihappoa, § 1-10 % ferri-ionia Fe3+, < 1-2 % tummumisenestoainetta ja < 1-3 % suspendoin- ^ 30 tiainetta. Kun vapaan typpihapon pitoisuus on alle 3,6-4,2 N tai tinan pitoisuus on yli 50-100 g/l syövytyksen aikana käytettävän tinan tai tinalyijyn syövytysmodulin 2 prosessiolosuhteista riippuen, kulunut liuos on korvattava tuoreella syövytysliuok-sella.A typical composition is (by weight, w / w) 10-40% nitric acid,? 1-10% ferric ion Fe3 +, <1-2% anti-darkening agent and <1-3% suspending agent. When the free nitric acid content is less than 3.6-4.2 N or the tin content is greater than 50-100 g / l, depending on the process conditions of the tin or tin lead etching module 2 used, the spent solution must be replaced by a fresh etching solution.

Tavallisesti kulunut syövytysliuos sisältää noin 5-30 % (paino/paino) typpihappoa, 1-10% (paino/paino) ferri-ionia Fe3+tai Fe2+-ionia ja vähäisiä määriä, <1-2%, 5 (paino/paino) tummumisenestoainetta ja < 1-2,5 % suspendointiainetta, 2-20 g/l kupari-ionia Cu2+, noin 10-200 g/l Sn4+-ionia ja joissakin tapauksissa noin 0-5 g/l Pb4+-ionia. Se voi sisältää vähäisiä määriä Sn2+- tai Pb2+-ioneja, jos hapettuminen on ollut epätäydellistä, sekä vähäisiä määriä muita komponentteja.Typically, the spent etching solution contains about 5-30% (w / w) nitric acid, 1-10% (w / w) ferric ion Fe 3+ or Fe 2+ and minor amounts, <1-2%, 5 (w / w) an anti-darkening agent and <1-2.5% suspending agent, 2-20 g / l Cu2 + copper ion, about 10-200 g / l Sn4 + and in some cases about 0-5 g / l Pb4 +. It may contain minor amounts of Sn2 + or Pb2 + ions if oxidation has been incomplete, and minor amounts of other components.

Syövytysreaktion aikana tina hapettuu Sn4+-ioniksi, joka muodostaa tinaoksideja 10 tai -hydroksideja. Siten tinaa on jätevirroissa lähinnä SnC^na. On tunnettua, että useimmat tina(IV)suolat eivät liukene veteen tai edes typpihappoon, oli sen pitoisuus mikä tahansa. Kun metallikuormitus kasvaa syövytysliuoksessa, metalli pyrkii saostumaan liuoksesta lietteenä. Ruiskutettavissa sovelluksissa liete voi aiheuttaa sumutussuuttimien tukkeutumisen. Tämän estämiseksi käytetään suspendointi-15 ainetta. Suspendointiaine pitää tina(IV)oksidin liuoksessa muodostamalla syövy-tysliuokseen hienojakoisen tina(IV)oksidien dispersion. Tällaiset suspendointiai-neet ovat tyypillisesti orgaanisia tai epäorgaanisia happoja, joita ovat kuvannet esim. Kawanabe et ai patentissaan “Stripping solution for tin or tin alloys” US-pa-tentti nro 4 374 744).During the etching reaction, the tin is oxidized to the Sn4 + ion which forms tin oxides or hydroxides. Thus, tin is present in waste streams mainly as SnCl2. It is known that most tin (IV) salts are insoluble in water or even nitric acid, whatever its concentration. As the metal load increases in the etching solution, the metal tends to precipitate from the solution as a slurry. In spray applications, the slurry may cause clogging of the spray nozzles. To prevent this, a suspending agent is used. The suspending agent holds tin (IV) oxide in solution by forming a fine dispersion of tin (IV) oxides in the etching solution. Such suspending agents are typically organic or inorganic acids as described, for example, in U.S. Patent No. 4,374,744 to Kawanabe et al., Entitled "Stripping solution for tin oro alloys".

20 Kun saavutetaan tietty metallikuormitus, syövytysliuoksesta tulee usein epästabiili, mikä saattaa aiheuttaa eksotermiset olosuhteet, joilla tarkoitetaan sitä, että vapautuu nopeasti suuri määrä lämpöä. Tyypillisesti eksotermisissä olosuhteissa vapautuu suuria määriä myrkyllisiä NOx-kaasuja ja syövytysliuos vaahtoaa liikaa. Nämä olosuhteet aiheuttavat tehtaalla turvallisuusriskin ja ovat erittäin ei-toivottuja. On o 5 25 selvää, että eksotermisten olosuhteiden esiintyminen voi vaurioittaa käyttölaitteis- ^ toa. Tämän ongelman ratkaisemiseen käytetään tuoreeseen syövytysliuoksen li- V sättyä komponenttia, jota kutsutaan tässä yhteydessä tummumisenestoaineeksi20 When a certain metal load is reached, the etching solution often becomes unstable, which may cause exothermic conditions, meaning that a large amount of heat is released rapidly. Typically, under exothermic conditions, large quantities of toxic NOx gases are released and the etching solution foams excessively. These conditions pose a safety risk at the factory and are highly undesirable. It is clear that the presence of exothermic conditions can damage the drive equipment. To solve this problem, a component added to a fresh etching solution, referred to herein as an anti-dark agent, is used.

LOLO

-1- tai typpihapon stabilointiaineeksi. Nämä ovat usein orgaanisia yhdisteitä, jotka ei- | vät sisällä rikkiä mutta sisältävät typpiatomin, ja niitä on esitetty esimerkiksi US- ^ 30 patenteissa 4 374 744, 5 911 907, 5 512 201 ja 5 244 539. Sen lisäksi, että nämä o orgaaniset lisäaineet toimivat typpihapon stabilointiaineina, niiden uskotaan ole- o van vuorovaikutuksessa metallioksidien ja -suolojen kanssa tai muodostavan kom- ^ plekseja niiden kanssa, mikä saa siten aikaan vaihtelevia ja erittäin monimutkaisia kemiallisia koostumuksia.-1 or nitric acid stabilizer. These are often organic compounds that do not | containing sulfur but containing a nitrogen atom, and are disclosed, for example, in U.S. Patent Nos. 4,374,744, 5,911,907, 5,512,201, and 5,244,539. In addition to acting as nitric acid stabilizers, these organic additives are believed to be interact with or form complexes with metal oxides and salts, thereby producing variable and highly complex chemical compositions.

3 Käytetyn tinan tai tinalyijyn syövytysliuoksen käsittely3 Treatment of spent tin or tin lead etching solution

Eräs tavanomainen käytetyn syövytysliuoksen käsittelymenetelmä on neutralointi, esimerkiksi lisäämällä natriumhydroksidia vapaan typpihapon neutralointia varten. Kun pH-arvo säädetään alueelle 8-13, suurin osa metallikationeista muuttuu me-5 tallioksidi- tai -hydroksidisaostumiksi. Suodatuksen jälkeen niitä voidaan prosessoida edelleen metallisen tinan, raudan, kuparin tai lyijyn talteenottamista varten. Sen jälkeen näin saatu suodos höyrystetään, jolloin muodostuu natriumnitraattiki-teitä. Vaikka metallit voidaan saada talteen tyydyttävästi, menetetään liuoksen kierrätysmahdollisuus. Menetelmä edellyttää suurten natriumhydroksidimäärien 10 käyttämistä, eikä saaduilla natriumnitraattikiteillä ole kaupallista arvoa.One conventional method of treating a spent etching solution is neutralization, for example by adding sodium hydroxide to neutralize free nitric acid. When the pH is adjusted to a range of 8-13, most of the metal cations are converted to metal oxide or hydroxide precipitates. After filtration, they can be further processed to recover metallic tin, iron, copper or lead. The filtrate thus obtained is then evaporated to form sodium nitrate crystals. Although metals can be recovered satisfactorily, the possibility of recycling the solution is lost. The process requires the use of large amounts of sodium hydroxide 10 and the resulting sodium nitrate crystals have no commercial value.

Esimerkkinä neutraloinnista taiwanilaisen patenttijulkaisun 177 911 tiivistelmässä, jonka otsikko on "A method for recovering metallic tin from spent tin stripping solutions", esitetään neutralointiaineen, saostusaineen ja pelkistimen käyttö käsitellyn jäteveden saattamiseksi ympäristövaatimusten mukaiseksi ja metallisen tinan tal-15 teenottamiseksi käytetystä syövytysliuoksesta. Koska edellä mainitun patentin prosessissa edellytetään suurten määrien neutralointiainetta ja pelkistintä käyttämistä, sillä on varmasti taloudellisia haittoja.As an example of neutralization, the use of a neutralizing agent, a precipitant and a reductant to bring the treated waste water to an environmentally compatible standard and to recover the metal tin from the recovery process is disclosed in the summary of Taiwan Patent Publication 177,911 entitled "A method for recovering metallic tin from spent tin stripping solutions". As the process of the above patent requires the use of large amounts of neutralizing agent and reducing agent, it certainly has economic disadvantages.

Toinen menettelytapa esitetään taiwanilaisen patenttijulkaisun 258 758 tiivistelmässä, jonka otsikko on "A method and an apparatus for regeneration of tin-20 electroplating solution", jossa kuvataan menetelmä Fe-, Cr- ja Sn-ionien erottamiseksi sähköisessä päällystyksessä käytetystä liuoksesta käyttämällä ioninvaihto-hartseja tinajuoksutteen regeneroimiseen ja metallisen tinan talteenottoon. Näiden keksijöiden esittämässä menetelmässä on kuitenkin monimutkaisia toimenpiteitä, joten menetelmä ei ole edullinen käytetyn tinalyijyn syövytysliuoksen käsittelyyn.Another procedure is disclosed in the summary of Taiwan Patent Publication 258,758, entitled "A method and apparatus for the regeneration of a tin-20 electroplating solution" which describes a method for separating Fe, Cr and Sn ions from a solution used in electrodeposition using ion exchange resins in tin flux. for regeneration and metal tin recovery. However, the process disclosed by these inventors involves complex operations, so that the process is not advantageous for the treatment of the spent tin lead etching solution.

0 01 25 Vielä eräässä taiwanilaisen patenttijulkaisun 553 906 tiivistelmässä, jonka otsikko on “A method for the treatment of waste tin-lead stripping solution", esitetään mo-nivaiheinen menetelmä, jossa käytetyn syövytysliuoksen tina(IV)- ja lyijy(ll)kompo-x nentit ensin hapetetaan 45-120 °C:ssa, saostuma poistetaan ja liuotetaan emäk seen tai vahvaan happoon ja pelkistetään sen jälkeen elektrolyyttisesti. Tämä me-g 30 netelmä on monimutkainen ja siinä tarvitaan monta vaihetta ja useita yksikköpro- lÖ sesseja. Lisäksi erilaisten vaiheiden aikana pitää lisätä kemikaaleja, mikä nostaa ^ kustannuksia ja heikentää kannattavuutta.0 01 25 Another summary of Taiwanese Patent Publication 553,906, entitled "A method for treating waste tin-lead stripping solution", discloses a multi-step method in which the tin (IV) and lead (II) The compounds are first oxidized at 45-120 ° C, the precipitate is removed and dissolved in a base or a strong acid and then electrolytically reduced.This method is complicated and requires many steps and several unit processes. chemicals need to be added over the course of the year, which increases costs and reduces profitability.

Kaikissa näissä menetelmissä pääpaino on metallien talteenotossa.In all these methods, the emphasis is on metal recovery.

44

Sen vuoksi on tarvetta käytettyjen tinan ja tinalyijyn syövytysliuosten käsittelymenetelmälle ja metallioksidien talteenottamiseksi ympäristöä säästävällä, yksinkertaisella ja tehokkaalla tavalla ja erityisesti aktiivisten aineosien pidättämiseksi nestefaasissa kierrätyksen mahdollistamiseksi.Therefore, there is a need for a process for treating spent tin and tin lead etching solutions and for recovering metal oxides in an environmentally friendly, simple and efficient manner, and in particular to retain the active ingredients in a liquid phase for recycling.

5 KEKSINNÖN YHTEENVETOSUMMARY OF THE INVENTION

Esillä olevan keksinnön tarkoituksena on saada aikaan jätevesivirtojen käsittelymenetelmä arvokkaiden kemikaalien talteenottamiseksi uudelleenkäyttöä varten. Erityisemmin haluttu kierrätettävä komponentti on reaktiivisen hapon vesiliuos, joka saattaa sisältää muita aineita, jotka ovat sallittuja tuoreessa liuoksessa. Tämä 10 saadaan aikaan suorittamalla jätteen sisältämälle orgaaniselle yhdisteelle konversio lämpökäsittelyn avulla, mikä saa aikaan myös raskasmetallioksidien saostumi-sen. Jäljellä oleva vesifaasi sisältää tällöin typpihappoa, Fe- ja Cu-ioneja, mutta mitättömän pieniä määriä Sn:a tai Pb:ä, ja soveltuu siten kierrätettäväksi sellaisenaan tai lisäkäsittelyn jälkeen. Täsmällisemmin keksinnön kohteena oleva mene-15 telmä on määritelty patenttivaatimuksessa 1.It is an object of the present invention to provide a process for treating wastewater streams for the recovery of valuable chemicals for reuse. More particularly, the desired recyclable component is an aqueous reactive acid solution which may contain other substances permitted in the fresh solution. This is achieved by converting the organic compound contained in the waste by heat treatment, which also results in the precipitation of heavy metal oxides. The remaining aqueous phase then contains nitric acid, Fe and Cu ions, but insignificant amounts of Sn or Pb and is thus suitable for recycling as such or after further treatment. More specifically, the process of the invention is defined in claim 1.

Keksinnön eräs toteutusmuoto on käsitellä käytettyjä tinan tai tinalyijyn syövytys-liuoksia uudelleenkäytettävän typpihapon talteenottamiseksi jätteestä. Keksinnön eräs toinen toteutusmuoto on käsitellä käytettyjä tinan tai tinalyijyn syövytysliu-oksia metallien, kuten kuparin, tinan, lyijyn tai raudan talteenottamiseksi jätteestä.One embodiment of the invention is to treat spent etching solutions of tin or lead in order to recover the reusable nitric acid from the waste. Another embodiment of the invention is to treat spent tin or tin lead etching solutions to recover metals such as copper, tin, lead or iron from waste.

20 Esillä olevan keksinnön eräänä tarkoituksena on se, että menetelmän mukaisen lämpökäsittelyn jälkeen saatu liuos voidaan kierrättää takaisin tinan tai tinalyijyn syövytysprosessiin.It is an object of the present invention that the solution obtained after the heat treatment according to the process can be recycled to the etching process of tin or tin lead.

o Vielä eräänä tarkoituksena on vähentää merkittävästi muodostuvan vaarallisen ^ jätteen tilavuutta piirilevyvalmistuksen aikana ja pienentää siten ympäristökuormi- 25 tusta.A further aim is to significantly reduce the volume of hazardous waste generated during PCB manufacturing and thereby reduce the environmental load.

LOLO

^ Merkittävä etu on myös se, että prosessin aikana ei tarvitse lisätä muita kemikaa- | leja alun perin läsnäolleiden lisäksi.It is also a significant advantage that no additional chemicals are added during the process in addition to those who were present.

§ Esillä oleva keksintö perustuu siihen yllättävään havaintoon, että arvokkaat metal- g lioksidit voidaan saostaa ja ottaa talteen jätevesiliuoksesta käsittelemällä mainittua oj 30 vesiliuosta sellaisessa lämpötilassa, jossa mainitun orgaanisen lisäaineen konversio vähintään yhdeksi sen saostuvaksi johdannaiseksi ja mainit(t)u(je)n metalliok-sidi(e)n samanaikainen saostuminen käynnistyvät.The present invention is based on the surprising discovery that valuable metal oxides can be precipitated and recovered from the effluent solution by treating said aqueous solution at a temperature at which conversion of said organic additive to at least one of its precipitating derivatives and simultaneous precipitation of the -side (s) begins.

55

KEKSINNÖN YKSITYISKOHTAINEN SELITYSDETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

Esillä oleva selitys kuvaa menetelmää metallioksidi(e)n saostamiseksi jätevesiliu-oksesta, joka sisältää lisäksi (vähintään yhtä) epäorgaanista happoa, metallisuolo-ja ja/tai -komplekseja sekä vähintään yhtä orgaanista lisäainetta, jossa menetel-5 mässä mainittua vesiliuosta käsitellään sellaisessa lämpötilassa ja sellaisen ajanjakson ajan, että saadaan aikaan mainitun orgaanisen lisäaineen konversio saostuvaksi johdannaisekseen ja mainit(t)u(je)n metallioksidi(e)n samanaikainen saostuminen.The present disclosure describes a process for precipitating metal oxide (s) from a waste water solution further comprising (at least one) inorganic acid, metal salt and / or complexes and at least one organic additive, wherein said aqueous solution is treated at such a temperature and temperature. for a period of time that provides conversion of said organic additive to a precipitating derivative and co-precipitation of said metal oxide (s).

Orgaaninen lisäaine, jonka konversio on avain jäteliuoksen puhdistumiseen, käsitit) tää orgaanista amiinia, edullisesti bentsotriatsolia. Pysyessään vesiliuoksessa orgaaninen amiini on suolanaan, edullisesti halogeeni- ja edullisemmin kloridisuola-naan. Mainitun vesiliuoksen käsitteleminen tietyssä lämpötilassa, tai valinnaisesti tehostaminen edelleen lisäämällä tietty tilavuus noin 100-prosenttista typpihappoa, käynnistää mainitun orgaanisen amiinisuolan muuttumisen yhdisteeksi, jolla on 15 pienempi liukoisuus reaktio-olosuhteissa, ja siten sen saostumisen. Samanaikaisesti myös mainitut metallioksidit, jotka käsittävät edullisesti tina(IV)- ja/tai lyi-jy(ll)oksideja, saostuvat, jolloin saadaan aikaan haluttu vaikutus.The organic additive whose conversion is the key to purification of the waste solution comprises an organic amine, preferably benzotriazole. While remaining in the aqueous solution, the organic amine is in the form of its salt, preferably the halogen and more preferably the chloride salt. Treatment of said aqueous solution at a certain temperature, or optionally further enhancement by addition of a certain volume of about 100% nitric acid, initiates the conversion of said organic amine salt to a compound having a lower solubility under the reaction conditions and thus its precipitation. At the same time, said metal oxides, which preferably comprise tin (IV) and / or lead (II) oxides, precipitate to give the desired effect.

Orgaanisen amiinin määrä on 0,2-5 % (paino/paino), edullisesti 0,5-2 % (pai-no/paino) ja kaikkein edullisimmin 0,5-1 % (paino/paino) jätevesiliuoksen koko-20 naispainosta. Halogeenin, joka on edullisesti vetyhalogenidinaan, määrä on 0,2-2 % (tilavuus/tilavuus), edullisesti 0,5-1,0 % (tilavuus/tilavuus) koko jäteliuoksesta. Metallioksidien määrä on 1-300 g/l, edullisesti 10-120 g/l ja kaikkein edullisimmin 50-120 g/l jätevesiliuoksen kokonaistilavuudesta.The organic amine is present in an amount of 0.2-5% (w / w), preferably 0.5-2% (w / w) and most preferably 0.5-1% (w / w) of the total weight of the waste water solution. The amount of halogen, preferably in the form of hydrogen halide, is from 0.2 to 2% (v / v), preferably from 0.5 to 1.0% (v / v) of the total waste solution. The amount of metal oxides is 1-300 g / l, preferably 10-120 g / l, and most preferably 50-120 g / l of the total volume of the effluent solution.

o Olosuhteet haluttujen reaktioiden aikaansaamiseksi ovat korotettu lämpötila 55- ^ 25 210 °C, edullisesti 60-150 °C ja kaikkein edullisimmin 60-80 °C. Jos valitaan va- ^ linnainen menettelytapa tehostamaan mainitun orgaanisen lisäaineen konversiota lA sen saostuvaksi johdannaiseksi lisäämällä typpihappoa, 100-prosenttista typpi- x happoa lisätään 2-20 % (tilavuus/tilavuus), edullisesti 5-10 % (tilavuus/tilavuus) jaThe conditions for achieving the desired reactions are an elevated temperature of 55 to 210 ° C, preferably 60 to 150 ° C, and most preferably 60 to 80 ° C. If an optional procedure is selected to enhance conversion of said organic additive to its precipitated derivative by addition of nitric acid, 2% to 20% (v / v), preferably 5% to 10% (v / v) of 100% nitric acid is added and

CCCC

kaikkein edullisimmin 4,5-5,5 % (tilavuus/tilavuus). Toinen tapa reaktion käynnisti 30 tämiseksi on korotettu paine suljetussa järjestelmässä käsittelyn aikana, omost preferably 4.5 to 5.5% (v / v). Another way to effect the reaction initiator 30 is by increasing the pressure in the closed system during treatment, o

LOLO

§ Tässä yhteydessä ’’suljetulla järjestelmällä” tarkoitetaan reaktoria, jonka materiaa lin ja energian vaihtoa ympäristön kanssa säädellään. Tarvittaessa keksijät käyttivät tällöin autoklaavia, josta reaktion aikana muodostuvat kaasut eivät pääse poistumaan järjestelmästä, minkä seurauksena paine kohoaa samalla kun lämpötila 6 kasvaa. Alle 100 °C:n lämpötilassa suoritetut kokeet voitiin kuitenkin suorittaa myös avoimessa järjestelmässä.§ In this context, "closed system" means a reactor whose material and energy exchange with the environment is controlled. If necessary, the inventors then used an autoclave, which prevents the gases formed during the reaction from escaping from the system, causing the pressure to rise while the temperature 6 rises. However, experiments below 100 ° C could also be performed in an open system.

Erään edullisen suoritusmuodon mukaisesti jätevesiliuos on käytettyä tinan tai ti-nalyijyn syövytysliuosta. Menetelmä voi lisäksi käsittää talteenotetun nestefaasin 5 kierrättämisen takaisin tinan tai tinalyijyn syövytysprosessiin. Valinnaisesti neste-faasin kuparipitoisuutta pienennetään uuton, ioninvaihdon, kemiallisen pelkistyksen, eutektisen kiteytyksen tai elektrolyyttisen rikastuksen avulla, tai nestefaasia voidaan vielä käsitellä typpihapon, kupariyhdisteiden tai rautayhdisteiden talteen-ottamiseksi. Edullisesti kiinteä faasi sisältää yli 80 % tinan alkuperäisestä koko-10 naismäärästä jätevesiliuoksessa ja tinaa sisältävän fraktion tilavuus pienenee alle neljännekseen alkuperäisestä tilavuudesta.According to a preferred embodiment, the effluent solution is a spent tin or tin lead etching solution. The method may further comprise recycling the recovered liquid phase 5 back to the tin or tin lead etching process. Optionally, the copper content of the liquid phase is reduced by extraction, ion exchange, chemical reduction, eutectic crystallization or electrolytic enrichment, or the liquid phase can be further treated to recover nitric acid, copper compounds or iron compounds. Preferably, the solid phase contains more than 80% of the initial total amount of tin in the effluent solution, and the volume of the tin-containing fraction is reduced to less than a quarter of the original volume.

Haluttuihin reaktioihin tarvittava aika on 1-30 tuntia, edullisesti 50 min - 4 tuntia.The time required for the desired reactions is 1 to 30 hours, preferably 50 minutes to 4 hours.

Näissä olosuhteissa, korotetussa lämpötilassa ja valinnaisesti korotetussa paineessa, jätevirtasuspensio selkeytyy. Koostumus, joka pysyy syövytysolosuhteis-15 sa liuoksenkaltaisena, erottuu kiinteäksi faasiksi ja vesifaasiksi. Autoklaavikäsitte-lyn aikaisia ilmiöitä ovat orgaanisen amiinin konversio, sen saostuminen, tina(ll)-oksidin vapautuminen saostumana liuoksesta ja näiden saostumien laskeutuminen. Lämpötilaa ja painetta voidaan korottaa vähitellen. Seoksen jäähdyttämisen jälkeen nämä kaksi faasia voidaan erottaa helposti dekantoimalla, suodattamalla, 20 sentrifugoimalla tai minkä tahansa tavanomaisen tekniikan avulla. Kiinteän faasin raskasmetallipitoisuus on suuri. Eräässä kokeessa, joka on kuvattu yksityiskohtaisesti jäljempänä, kiinteä faasi sisälsi 70 % SnC>2:a, mikä vastaa tinapitoisuutta 54,8 %.Under these conditions, at elevated temperature and optionally elevated pressure, the waste stream suspension becomes clearer. The composition, which remains solution-like under the etching conditions, separates into a solid phase and an aqueous phase. Phenomena during autoclaving include the conversion of an organic amine, its precipitation, the release of tin (II) oxide as a precipitate from solution, and the deposition of these precipitates. The temperature and pressure can be increased gradually. After cooling the mixture, the two phases can be easily separated by decantation, filtration, centrifugation or any conventional technique. The heavy metal content of the solid phase is high. In one of the experiments described in detail below, the solid phase contained 70% SnC 2, corresponding to a tin content of 54.8%.

0 Ilmaisulla ’’korottaa vähitellen” tarkoitetaan sitä, että reaktio käynnistetään jäteliu- o 25 oksen lämpötilassa suljetussa järjestelmässä, minkä jälkeen siihen tuodaan ener-± giaa ulkopuolelta liuoksen lämmittämistä varten. Paine kasvaa samassa tahdissa lämpötilan kanssa.By "gradually increasing" it is meant that the reaction is initiated at a temperature of a solution of the waste solution in a closed system, after which energy is introduced from outside to warm the solution. The pressure increases with the temperature.

| Lisävaiheiden tarkoituksena on saada syövytyskemikaalit talteen uudelleenkäyttöä varten. Kuvatun mukaisesti pääasiallisena tarkoituksena on talteenotetun neste-o 30 faasin kierrättäminen takaisin tinan tai tinalyijyn syövytysprosessiin. Valinnaisesti o tätä nestefaasia voidaan vielä käsitellä, jotta saadaan talteen typpihappoa, kupa-| The purpose of the additional steps is to recover the etching chemicals for reuse. As described above, the main purpose is to recycle the recovered liquid o 30 phase back into the etching process of tin or tin lead. Optionally, this liquid phase may be further treated to recover nitric acid,

Oo

^ riyhdisteitä tai rautayhdisteitä. Alan ammattimies pystyy keksimään useita tapoja näiden erotusten suorittamiseen. Esimerkiksi nestefaasin kuparipitoisuutta voidaan pienentää esimerkiksi, mutta näihin rajoittumatta, uuton, ioninvaihdon, kerni- 7 allisen pelkistyksen, eutektisen kiteytyksen, elektrolyyttisen rikastuksen tai näiden jonkin yhdistelmän avulla.^ compounds of iron or iron. One skilled in the art will be able to come up with several ways to make these distinctions. For example, the copper content of the liquid phase may be reduced, for example, but not limited to, extraction, ion exchange, ceramic reduction, eutectic crystallization, electrolytic enrichment, or any combination thereof.

Tässä yhteydessä käytettynä ’’jätevesiliuos, joka sisältää lisäksi (vähintään yhtä) epäorgaanista happoa, metallisuoloja ja/tai -komplekseja sekä vähintään yhtä or-5 gaanista lisäainetta” tarkoittaa käsiteltävää monimutkaista sivuvirtaa. Se voi olla peräisin esimerkiksi, mutta näihin rajoittumatta, kemianteollisuudesta, metallurgia-tai elektroniikkateollisuudesta. Elektroniikkateollisuudesta peräisin oleva esimerkki on käytetty tinan tai tinalyijyn syövytysliuos, joka sisältää typpihappoa, rauta(ll)-, kupari(l)-, tina(IV)- ja/tai lyijy(ll)oksideja ja -suoloja sekä orgaanista stabilointiainet-10 ta typpihappoa varten. Ollaksemme tarkkoja sanaa liuos käytetään yleensä tinan tai tinalyijyn syövytysliuoksesta, vaikka itse asiassa Sn02 on dispergoituneena nestefaasiin. Tätä ilmausta käytetään tässä yhteydessä, koska se on laajalti käytössä alalla.As used herein, '' wastewater solution further comprising (at least one) inorganic acid, metal salts and / or complexes, and at least one organic additive 'denotes a complex side stream to be treated. For example, it may be derived from, but not limited to, the chemical, metallurgical, or electronics industries. An example from the electronics industry is a spent tin or tin lead etching solution containing nitric acid, iron (II), copper (I), tin (IV) and / or lead (II) oxides and salts and organic stabilizer nitric acid. for. To be precise, the solution is usually used for a tin or tin lead etching solution, although in fact SnO2 is dispersed in the liquid phase. This term is used in this context because it is widely used in the art.

Epäorgaanisilla hapoilla tarkoitetaan tässä jäteliuoksessa olevia epäorgaanisia 15 happoja. Käytetyn tinan tai tinalyijyn syövytysliuoksen tapauksessa pääasiallinen happo on typpihappo ja muut olisivat suspendointiaineita metallioksidien saostu-misen estämiseksi ja niiden pitämiseksi ennemmin vesifaasissa. Suspendointiaineita ovat tyypillisesti epäorgaaniset hapot, kuten kloorivetyhappo, typpihappo, rikkihappo, fluoriboorihappo, boorihappo tai kloorihappo.By inorganic acids is meant inorganic acids in this waste solution. In the case of the spent tin or tin lead etching solution, the main acid is nitric acid and the other would be suspending agents to prevent the precipitation of metal oxides and to keep them in the aqueous phase. Suspending agents are typically inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, fluoroboric acid, boric acid or chloric acid.

20 Kawanaben patentissa (US-patentti nro 4 374 744) esitettiin, että tähän tarkoitukseen voitiin käyttää myös orgaanisia happoja. Näitä ovat esimerkiksi oksaalihappo, etikkahappo, propionihappo, glukonihappo, viinihappo tai muurahaishappo. Tässä yhteydessä orgaaniset lisäaineyhdisteet kattavat nämä ja myös jäljempänä kuvatun mukaiset typpihapon stabilointiaineet, o ^ 25 Tässä esitettyä typpihapon stabilointiainetta käytetään Campbellin US-patentissa ζΖ 5 911 907 esittämässä merkityksessä. Mainittaessa tuoreen tai käytetyn tinan tai m tinalyijyn syövytysliuoksen koostumusta niihin viitataan ’’tummumisenestoaineina”.The Kawanabe patent (U.S. Patent No. 4,374,744) suggested that organic acids could also be used for this purpose. These include, for example, oxalic acid, acetic acid, propionic acid, gluconic acid, tartaric acid or formic acid. In this context, the organic additive compounds include these and also nitric acid stabilizers as described below. The nitric acid stabilizer disclosed herein is used within the meaning of Campbell's US Patent 5,911,907. When mentioned in the composition of the etching solution of fresh or used tin or m tin lead they are referred to as "" anti-darkening agents ".

x , Näitä yhdisteitä lisätään kriittisten ongelmien, kuten HNC>3:n liian suuren kulutuk- tr sen, ehkäisemiseksi käsittelyn aikana ja eksotermisten olosuhteiden muodostumi- 5 30 sen ehkäisemiseksi. Eksotermisiä olosuhteita ovat myrkyllinen NOx-kaasupäästö typpihaposta tina- ja kupari-ionien läsnä ollessa sekä liiallinen kuparisyövytys. Sta-o o bilointiaineen pitoisuuden tulisi olla noin 5-30 g/l. Campbell esitti yleisenä luon nehdintana "orgaanisen lisäaineen, joka sisältää typpeä mutta ei rikkiä”. Erityisemmin stabilointiaine on orgaanista amiinia, edullisesti syklistä. Sopivia typpiha-35 pon stabilointiaineita ovat amino-triatsoli (edullisesti 4-amino-1,2,4-triatsoli) ja 8 amino-isoksatsoli (edullisesti 3-amino-5-metyyli-isoksatsoli). Muita patenttikirjalli-suudessa (US-patentit 4 374 744, 5 512 201 ja 5 911 907) esitettyjä stabilointai-neita ovat 4-amino-1,2,4-triatsoli, Ι,Ι,Γ,Γ-tetrakishydroksietyleenidiamiini, 1,2,3-triatsoli, 1,4-diatsabisyklo-2,2,2-oktaani, 2,4-diamino-6-hydroksipyrimidiini, 3,5-di-5 amino-1,2,4-triatsoli, 3-amino-5-metyyli-isoksatsoli, 4-amino-antipyriini, 5-amino-3-metyyli-isoksatsoli, alaniini, bentsotriatsoli, sykloheksyyliamiini, dietanoliamiini, di-etyleenitriamiini, etyleenidiamiini, glysiini, heksametyleenitetramiini, imidatsoli, in-datsoli, indoli, indolyylietikkahappo, monoetanoliamiini, naftotriatsoli, N-etyyli-substituoitu imidatsoli, N-metyylisubstituoitu imidatsoli, propanoliamiini, propylee-10 nidiamiini, pyratsolihydrokloridi, pyratsoli, pyratsolikarboksyylihappo, pyrroli, pyrro-likarboksyylihappo, triatsolihydrokloridi, triatsoli, trietanoliamiini, trietyleenipenta-miini ja urokaanihappo. Muita lisäaineita, jotka sisältävät sekä rikkiä että typpeä, kuten 2-aminobentseenisulfonamidi, 3-sulfamoyyli-L-alaniini, 4-(aminometyyli)-bentseenisulfonamidi, 4-amino-6-kloori-1,3-bentseenidisulfonamidi, 4-karboksi-15 bentseenisulfonamidi, amino-metaanisulfonihappo, ammoniumsulfamaatti, N-(2-tiatsolyyli)sulfaniiliamidi, sulfametatsiini, sulfamidi, metaanisulfonamidi, sulfaniili-amidi, sulfisomidiini, sulfisoksatsoli ja sulfadiatsiini.x, These compounds are added to prevent critical problems such as excessive consumption of HNC> 3 during treatment and to prevent the formation of exothermic conditions. Exothermic conditions include toxic NOx gas emissions from nitric acid in the presence of tin and copper ions and excessive copper etching. The concentration of the stabilizer should be about 5-30 g / l. Campbell described the general nature of "an organic additive containing nitrogen but no sulfur". More specifically, the stabilizer is an organic amine, preferably cyclic. Suitable nitric acid stabilizing agents are amino-triazole (preferably 4-amino-1,2,4-triazole). and 8 aminoisoxazole (preferably 3-amino-5-methylisoxazole) Other stabilizers disclosed in the patent literature (U.S. Patents 4,374,744, 5,512,201 and 5,911,907) include 4-amino-1,2 , 4-triazole, Ι, Ι, Γ, Γ-tetrakishydroxyethylenediamine, 1,2,3-triazole, 1,4-diazabicyclo-2,2,2-octane, 2,4-diamino-6-hydroxypyrimidine, 3,5 -di-5 amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methylisoxazole, 4-amino antipyrin, 5-amino-3-methylisoxazole, alanine, benzotriazole, cyclohexylamine, diethanolamine, di- ethylenetriamine, ethylenediamine, glycine, hexamethylenetetramine, imidazole, indazole, indole, indolylacetic acid, monoethanolamine, naphthotriazole, N-ethyl substituted imid azole, N-methyl-substituted imidazole, propanolamine, propylene-10-diamidine, pyrazole hydrochloride, pyrazole, pyrazole carboxylic acid, pyrrole, pyrrolicarboxylic acid, triazole hydrochloride, triazole, triethanolamine, triethylenepaphenyl. Other additives containing both sulfur and nitrogen, such as 2-aminobenzenesulfonamide, 3-sulfamoyl-L-alanine, 4- (aminomethyl) benzenesulfonamide, 4-amino-6-chloro-1,3-benzenesulfonamide, 4-carboxy-15 benzenesulfonamide, amino-methanesulfonic acid, ammonium sulfamate, N- (2-thiazolyl) sulfanyl amide, sulfamethazine, sulfamide, methanesulfonamide, sulfanyl amide, sulfisomidine, sulfisoxazole and sulfadiazine.

Orgaanisen yhdisteen "konversiolla” tarkoitetaan jäteliuoksessa olevaan orgaaniseen komponenttiin kohdistuvia mitä tahansa reaktioita, jotka tapahtuvat kuumen-20 tamisen ja sitä seuraavien liukoisuuden muutosten aikana. Näitä voivat olla poly-merointi, hajotus, hapetus, suolanmuodostus tai jotkin muut yhdisteelle tyypilliset reaktiot. Reaktiotuote (reaktiotuotteet) voi(vat) joko jäädä liuokseen tai siirtyä nestefaasista saostumaan reaktiotuotte(id)en liukoisuudesta riippuen. Tässä yhteydessä saostumien laskeutuminen osoittaa sen, miten keksinnön mukaisen käsitte-25 lyn avulla sekä edellä mainittu orgaaninen saostuma että SnC>2 menettävät ne 0 ominaisuudet, jotka pitivät ne dispergoituneina tai liuenneina, ja ne vajoavat reeked torin pohjalle.By "conversion" of an organic compound is meant any reaction to an organic component in a waste solution that occurs during heating and subsequent changes in solubility, which may include polymerization, decomposition, oxidation, salt formation, or any other reaction typical of the compound. Depending on the solubility of the reaction product (s), the precipitation of the precipitates demonstrates how the above-described organic precipitate and SnC> 2 lose the 0 properties which considered them dispersed or dissolved and sink to the bottom of the reeked market.

V Esillä olevan keksinnön tarkoitusta ja hyötyä kuvataan yksityiskohtaisemmin ei-V The object and benefit of the present invention will be described in more detail in the non-

LOLO

>- rajoittavien esimerkkien avulla samalla piirustukseen viitaten.> - with the aid of limiting examples, with reference to the drawing.

X .X.

* 30 ESIMERKIT* 30 EXAMPLES

^t- 2 Suoritettiin kaksi esimerkkisarjaa, joista ensimmäisessä sarjassa kokeet suoritet- § tiin normaalissa ilmanpaineessa ja toisessa sarjassa kokeet suoritettiin paineen C\l alaisena.Two sets of examples were performed, the first set being run under normal atmospheric pressure and the second set running under pressure C 1.

9 ESIMERKKI 1 Näissä kokeissa käytettiin käytettyä tinan syövytysliuosta, jonka analysoitiin sisältävän 4 % Sn:a, 24,4 % N03:a, 0,9 % orgaanista C:tä, 0,4 % Cu:a ja 1,6 % Fe:a.9 EXAMPLE 1 The used tin etching solution, which was analyzed to contain 4% Sn, 24.4% NO 3, 0.9% organic C, 0.4% Cu and 1.6% Fe, was used in these experiments. a.

5-prosenttisen HN03-Iisäyksen vaikutus 60 ja 85 °C:ssa 5 Tämän käytetyn tinan syövytysliuoksen näytteeseen lisättiin 5 painoprosenttia 100-prosenttista HN03:a, ja seosta sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 60 °C:ssa. Sakkakokeessa ei havaittu kirkasta kerrosta. Kun 60 °C:ssa kuumentamista jatkettiin vielä kahden tunnin ajan, suspensio saostui yhden vuorokauden aikana, jolloin saatiin 79 tilavuusprosenttia kirkasta kerrosta ja 10 21 tilavuusprosenttia saostunutta SnC>2:a.Effect of 5% HNO3 Addition at 60 and 85 ° C 5% by weight of 100% HNO3 was added to a sample of this spent tin etching solution and the mixture was stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor at 1 bar and 60 ° C. No clear layer was observed in the precipitation test. After heating at 60 ° C for a further two hours, the suspension precipitated over one day to give 79% v / v of the clear layer and 10 21% v / v of the precipitated SnCl 2.

Käytetyn tinan syövytysliuoksen näytteeseen lisättiin 5 painoprosenttia 100-pro-senttista HN03:a, ja seosta sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 85 °C:ssa. Reaktion aikana havaittiin jonkin verran NOx-kaasuja. Sakkakokeessa Sn02-suspensio saostui yhdessä vuorokaudessa, jolloin saatiin 88 15 tilavuusprosenttia kirkasta kerrosta ja 12 tilavuusprosenttia saostunutta Sn02:a.To the sample of spent tin etching solution was added 5% by weight of 100% HNO 3 and the mixture was stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor at 1 bar and 85 ° C. During the reaction, some NOx gases were observed. In the precipitation test, the SnO2 suspension precipitated overnight to give 88% by volume of the clear layer and 12% by volume of the precipitated SnO2.

ESIMERKKI 2. Suurempien typpihappolisäysten vaikutus 80 °C:ssa Käytetyn tinan syövytysliuoksen näytteeseen lisättiin a) 0, b) 10, c) 20 ja d) 30 painoprosenttia 100-prosenttista HN03:a, ja seosta sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasi-reaktorissa 1 baarin paineessa ja 80 °C:ssa. Sakkakokeessa vastaavat kirkkaat 20 kerrokset yhden vuorokauden kuluttua olivat a) 80 tilavuusprosenttia, b) 80 tilavuusprosenttia, c) 78 tilavuusprosenttia ja d) 73,5 tilavuusprosenttia. Lisättäessä 10-30 painoprosenttia 100-prosenttista HN03:a havaittiin muutos vaaleamman 2 väriseksi ja NOx-kaasuja.EXAMPLE 2. Effect of Higher Nitric Acid Additions at 80 ° C a) 0, b) 10, c) 20 and d) 30% by weight of 100% HNO3 was added to a sample of the spent tin etching solution and stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor. bar pressure and 80 ° C. In the precipitation test, the corresponding clear 20 layers after one day were a) 80% by volume, b) 80% by volume, c) 78% by volume, and d) 73.5% by volume. When 10-30% by weight of 100% HNO3 was added, a change to lighter 2 colors and NOx gases was observed.

oo

CMCM

Ά ESIMERKKI 3. 60-67 °C:n ja 75 °C:n lämpötilan vaikutus alkuperäiseen käytettä 25 tyyn tinan syövytysliuokseen | Alkuperäisen käytetyn tinan syövytysliuoksen näytettä, johon ei ollut lisätty typpi- happoa, sekoitettiin 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 60 °C:ssa 1 tunti 2 ja lisäksi 1,5 tuntia 67 °C:ssa. Sakkakokeessa Sn02 pysyi suspensiona eikä saos- o tunut.Ά EXAMPLE 3. Effect of 60-67 ° C and 75 ° C on Initially Used 25 Tin Etching Solution | A sample of the original spent tin etching solution, in which no nitric acid was added, was stirred in a 1 liter glass reactor at 1 bar pressure and 60 ° C for 1 hour 2 and an additional 1.5 hours at 67 ° C. In the precipitation test, SnO2 remained in suspension and did not precipitate.

oo

CMCM

30 Alkuperäisen käytetyn tinan syövytysliuoksen näytettä, johon ei ollut lisätty typpihappoa, sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 75 °C:ssa. Sakkakokeessa Sn02-suspensio saostui yhdessä vuorokaudessa, jolloin saatiin 10 81 tilavuusprosenttia kirkasta kerrosta ja 19 tilavuusprosenttia saostunutta Sn02:a.A sample of the original spent tin etching solution, in which no nitric acid was added, was stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor at 1 bar and 75 ° C. In the precipitation test, the SnO2 suspension precipitated overnight, yielding 10 to 81% by volume of the clear layer and 19% by volume of the precipitated SnO2.

ESIMERKKI 4. 20-50 °C:n lämpötilalla ja 2-20-prosenttisen ΗΝΟβίη lisäyksellä ei ole vaikutusta 5 Kun käytetyn tinan syövytysliuoksen näytteeseen lisättiin 2 tai 5 painoprosenttia 100-prosenttista HN03:a ja seosta sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 20 °C:ssa, sakkakokeessa ei tapahtunut saostumista. Kun lisättiin 20 % 100-prosenttista HN03:a ja sekoitettiin 1 tunti 1 litran lasireaktorissa 1 baarin paineessa ja 28 tai 50 °C:ssa, sakkakokeessa ei havaittu saostumista.EXAMPLE 4. 20-50 ° C and 2-20% ΗΝΟβίη Addition Has No Effect 5 When 2 or 5% by weight of 100% HNO3 was added to a sample of the tin etching solution and the mixture was stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor. and at 20 ° C, no precipitation occurred in the precipitate test. When 20% 100% HNO 3 was added and stirred for 1 hour in a 1 liter glass reactor at 1 bar and 28 or 50 ° C, no precipitation was observed in the pellet test.

10 Kokeita, jotka suoritettiin 1 baarin paineessa, koskevat johtopäätökset:10 Conclusions regarding tests carried out at a pressure of 1 bar:

Reaktio, joka saa aikaan Sn02:n saostumisen, alkaa noin 70 °C:ssa pelkän käytetyn tinan syövytysliuoksen osalta ja noin 60 °C:ssa, kun lisättiin 5 painoprosenttia 100-prosenttista HNC>3:a. Reaktiota ei tapahtunut 50 °C:ssa, vaikka lisättiin 20 % HN03:a. Suuremmat typpihappolisäykset saavat aikaan enemmän NOx-kaasuja 15 reaktion aikana. Näissä kokeissa laskettu nitraattipitoisuus on 24,4 painoprosenttia N03:a - 41,8 painoprosenttia NC>3:a.The reaction which causes the precipitation of SnO2 starts at about 70 ° C for the spent tin etching solution alone and at about 60 ° C when 5% by weight of 100% HNC3 is added. The reaction did not take place at 50 ° C, although 20% HNO 3 was added. Higher nitric acid additions produce more NOx gases during the reaction. In these experiments, the calculated nitrate content is 24.4% by weight of NO3 to 41.8% by weight of NC> 3.

Kaikkien kokeiden yhdistetyn nestenäytteen nitraattipitoisuus oli suurempi kuin alkuperäisessä näytteessä typpihappolisäysten johdosta, kupari-, rauta- ja orgaanisen hiilen pitoisuudet olivat samat ja tinapitoisuus oli paljon pienempi. Tina on 20 Sn02:na sekä alkuperäisessä suspensiossa että laskeutuneissa saostumissa.In all experiments, the combined liquid sample had a higher nitrate content than the original sample due to the addition of nitric acid, the same levels of copper, iron and organic carbon and much lower levels of tin. Tin is present as 20 SnO2 in both the original suspension and the precipitated sediments.

PAINEEN ALAISINA SUORITETUT KOKEET; ESIMERKKI 5 o Nämä kokeet suoritettiin Parrin titaaniautoklaavissa, jonka malli oli 4563 ja mak- o simitilavuus noin 1 000 ml. Reaktori on varustettu kaksinkertaisella nelilapaisella Ά roottorilla, joka on kytketty moottoriin magneettisella kytkennällä. Sekoitusnopeus ^ 25 oli 300 kierrosta minuutissa. Autoklaavin seinien suojaamiseen käytettiin lasista sisäkerrosta. Paine mitattiin painemittarilla. Autoklaavin kuumentamiseen käytettä tiin sähköistä lämpöhaudetta. Kokeen päätyttyä roottorin ympärille kytketty jäähdyit tyskierukka jäähdytti liuoksen. Lämpötilamittauksia varten kaksi K-tyypin termopa-TESTS UNDER PRESSURE; EXAMPLE 5 o These experiments were carried out in a Parr titanium autoclave of 4563 model with a maximum volume of about 1000 ml. The reactor is equipped with a double four-blade rotor Ά, which is connected to the motor by magnetic coupling. The agitation speed ^ 25 was 300 rpm. A glass inner layer was used to protect the walls of the autoclave. Pressure was measured with a pressure gauge. An electric heat bath was used to heat the autoclave. At the end of the experiment, a cooled coil connected around the rotor cooled the solution. For temperature measurements, two K-type thermo

Oo

ria asetettiin autoklaavin erityisen aukon läpi. Toinen termopari kytkettiin säätölait-o 30 teeseen (lämmitin), joka sääti sähköistä lämpöhaudetta. Asetuslämpötila voidaan ohjelmoida tähän säätölaitteeseen. Toinen termopari kytkettiin vertailun vuoksi kannettavaan digitaaliseen lukulaitteeseen. Reaktion jälkeen autoklaavia jäähdy- 11 tettiin vedellä. Loppuliuoksen happamuus ja pitoisuus määritettiin sen jälkeen kun autoklaavin sisältö oli kaadettu pois.The ria was inserted through a special opening in the autoclave. Another thermocouple was connected to a regulator 30 (heater) which controlled the electric heat bath. The setpoint temperature can be programmed into this controller. For comparison, another thermocouple was connected to a portable digital reader. After the reaction, the autoclave was cooled with water. The acidity and concentration of the final solution were determined after the contents of the autoclave had been removed.

Autoklaavin täyttöaste oli noin 70 % (tilavuus/tilavuus). Ennen kuin reaktio suoritettiin, reaktori huuhdeltiin typpikaasulla järjestelmään jääneen happikaasun pois-5 tamiseksi kokonaan.The autoclave had a fill rate of about 70% (v / v). Before the reaction was completed, the reactor was purged with nitrogen gas to completely remove any oxygen gas remaining in the system.

Käytetty tinan syövytysliuos (700 ml), joka oli saatu piirilevyvalmistajalta, lisättiin reaktoriin mainittujen esivalmistelujen jälkeen. Liuoksen koostumus oli noin 12-15 % (paino/paino) typpihappoa, 5 % (paino/paino) ferri-ionia Fe3+tai Fe2+-ionia ja vähäisiä määriä, <1 % (paino/paino), tummumisenestoainetta ja < 1 % suspen-10 dointiainetta, 2-15 g/l kupari-ionia Cu2+ja noin 10-120 g/l Sn4+-ionia. Tässä yhteydessä käytetty tummumisenestoaine oli bentsotriatsolia.The spent tin etching solution (700 mL) from a circuit board manufacturer was added to the reactor after the above preparations. The composition of the solution was about 12-15% (w / w) nitric acid, 5% (w / w) ferric ion Fe3 + or Fe2 + and trace amounts, <1% (w / w), anti-darkening agent and <1% suspension. -10 doughing agents, 2-15 g / l copper ion Cu2 + and about 10-120 g / l Sn4 + ion. The anti-darkening agent used in this context was benzotriazole.

Koe suoritettiin edellä kuvatulla tavalla. Lämpötila oli aluksi 20 °C, ja se nousi vähitellen viisituntisen reaktioajan aikana 210 °C:seen. Samanaikaisesti paine nousi 1 baarista 15,2 baariin.The experiment was performed as described above. The temperature was initially 20 ° C and gradually increased to 210 ° C over a five hour reaction time. At the same time, the pressure increased from 1 bar to 15.2 bar.

15 Autoklaavikäsittelyn jälkeen käytetty tinan syövytysliuos jakautui kahteen osaan: kirkkaaksi liuokseksi ja saostumaksi, joka laskeutui autoklaavin pohjalle. Metalli-johdannaiset jakautuivat siten, että tina saostui suurimmaksi osaksi (ICP-analyysin mukaan 98 %) ja alle 2 % jäi liuokseen, kun taas kupari- ja rautajohdannaiset jäivät liuokseen.After the autoclave treatment, the tin etching solution used was divided into two parts: a clear solution and a precipitate which settled on the bottom of the autoclave. The metal derivatives were distributed such that tin precipitated most (98% according to ICP analysis) and less than 2% remained in solution, whereas copper and iron derivatives remained in solution.

20 Tärkeä havainto korotetun paineen järjestelmässä oli se, että NOx-kaasujen päästöt olivat mitättömän pieniä. Tunnettuun tekniikkaan verrattuna tämä on merkittävä etu.An important observation in the high pressure system was that NOx emissions were negligible. This is a significant advantage over the prior art.

o δo δ

(M(M

i .mi .m

XX

enI do not

CLCL

Sj- o δ o oSj- o δ o o

(M(M

Claims (18)

1. Förfarande för att utfälla metalloxid(er) ur en avloppsvattenlösning, som är en förbrukad etslösning av tenn eller tennbly och vilken avloppsvattenlösning 5 dessutom innehäller atminstone en oorganisk syra, metallsalter och/eller -komplex samt atminstone ett organiskt tillsatsmedel, av vilka atminstone ett tillsatsmedel innefattar organisk amin, vid vilket förfarande nämnda vattenlösning behandlas vid en förhöjd temperatur av 55-210 °C i 1-30 timmar, varvid man ästadkommer en konversion av nämnda organiska tillsatsmedel tili sitt utfällande derivat och en 10 samtidig utfällning av nämnda metalloxid(er), varvid behandlingen för att omvandla nämnda organiska tillsatsmedel tili sitt utfällda derivat effektiveras genom att tillsätta kvävesyra.A process for precipitating metal oxide (s) from a wastewater solution which is a spent etching solution of tin or tin lead and which wastewater solution additionally contains at least one inorganic acid, metal salts and / or complexes, and at least one organic additive, of which at least one additives comprise organic amine, in which process said aqueous solution is treated at an elevated temperature of 55-210 ° C for 1-30 hours, thereby providing a conversion of said organic additives to its precipitating derivative and a simultaneous precipitation of said metal oxide (s) ), wherein the treatment for converting said organic additive into its precipitated derivative is enhanced by the addition of nitric acid. 2. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid den organiska aminen i 15 avloppsvattenlösningen är i form av sitt sait.The process of claim 1, wherein the organic amine in the wastewater solution is in the form of its site. 3. Förfarande enligt patentkrav 2, varvid anjonen av den organiska aminens sait i avloppsvattenlösningen är i form av halogen, fördelaktigt i form av klorid. 20The process of claim 2, wherein the anion of the organic amine site in the wastewater solution is in the form of halogen, advantageously in the form of chloride. 20 4. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-3, varvid den organiska aminen är bensotriazol.The process according to any of claims 1-3, wherein the organic amine is benzotriazole. 5. Förfarande enligt nagot av patentkraven 1-4, varvid mängden organisk amin är 0,2- 5 % (vikt/vikt), fördelaktigt 0,5-2 % (vikt/vikt) och allra fördelaktigast 25 0,5-1 % (vikt/vikt) av avloppsvattenlösningens totala vikt. 2The process according to any of claims 1-4, wherein the amount of organic amine is 0.2-5% (w / w), advantageously 0.5-2% (w / w) and most advantageously 0.5-1% (w / w) of the total weight of the wastewater solution. 2 6. Förfarande enligt patentkrav 3, varvid mängden halogen, som fördelaktigt är i O, ^ form av sin vätehalogenid, är 0,2-2 % (volym/volym), fördelaktigt 0,5-2,0 % 77 (volym/volym) av hela avloppsvattenlösningen. £ 30The process of claim 3, wherein the amount of halogen which is advantageously in the form of its hydrogen halide is 0.2-2% (v / v), advantageously 0.5-2.0% 77 (v / v). ) of the entire wastewater solution. £ 30 £ 7. Förfarande enligt nägot av patentkraven 1-3, varvid metalloxiderna innefattar CL tenn(IV)- och/eller bly(ll)oxider. o gA process according to any of claims 1-3, wherein the metal oxides comprise CL tin (IV) and / or lead (II) oxides. o g 8. Förfarande enligt patentkrav 1-7, varvid mängden metalloxider är 1-300 g/l, ° 35 fördelaktigt 10-200 g/l och alla fördelaktigast 50-180 g/l av avloppsvattenlösningens totala volym.A process according to claims 1-7, wherein the amount of metal oxides is 1-300 g / l, advantageously 10-200 g / l and all most advantageously 50-180 g / l of the total volume of the wastewater solution. 9. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid den upphöjda temperaturen vid atmosfärtryck är 68-100 °C, fördelaktigt 70-90 °C och allra fördelaktigast 70-85 °C. 5The method of claim 1, wherein the elevated temperature at atmospheric pressure is 68-100 ° C, advantageously 70-90 ° C and most preferably 70-85 ° C. 5 10. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid behandlingen för att omvandla nämnda organiska tillsatsmedel tili sitt utfällande derivat effektiveras med hjälp av tryck.The method of claim 1, wherein the treatment for converting said organic additive into its precipitating derivative is effected by means of pressure. 11. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid trycket höjs och det är 1-6 bar i ett slutet system under behandlingen. 10The method of claim 1, wherein the pressure is raised and it is 1-6 bar in a closed system during treatment. 10 12. Förfarande enligt patentkrav 11, varvid den förhöjda temperaturen är 70-210 °C och fördelaktigt 100-160 X.The method of claim 11, wherein the elevated temperature is 70-210 ° C and advantageously 100-160 X. 13. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid nämnda effektivering utförs genom att 15 tillsätta kvävesyra före behandlingen vid förhöjd temperatur.The method of claim 1, wherein said efficacy is performed by adding nitric acid prior to the treatment at elevated temperature. 14. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 13, varvid mängden tillsatt kvävesyra är 2-20 % (volym/volym), fördelaktigt 5-10 % (volym/volym) och allra fördelaktigast 4,5-5,5 % (volym/volym). 20The process of claim 1 or 13, wherein the amount of nitric acid added is 2-20% (v / v), advantageously 5-10% (v / v) and most preferably 4.5-5.5% (v / v). . 20 15. Förfarande enligt patentkrav 1, innefattande dessutom atervinning av den tillvaratagna vätskefasen ätminstone delvis tillbaka tili en etsningsprocess av tenn eller tennbly. 25The method of claim 1, further comprising recovering the recovered liquid phase at least partially back into an etching process of tin or tin lead. 25 16. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 14, innefattande ett ytterligare skede för att vidarebehandla en vätskefas för att ta tillvara kvävesyra, kopparföreningar eller ° järnföreningar. o oy I ;The method of claim 1 or 14, comprising a further stage of further processing a liquid phase to utilize nitric acid, copper compounds, or iron compounds. o oy I; 17. Förfarande enligt patentkrav 15, varvid vätskefasens kopparhalt minskas i !£> 30 med hjälp av extraktion, jonutväxling, kemisk reduktion, eutektisk kristallisering i; eller elektrolytisk anrikning. CL gA process according to claim 15, wherein the copper content of the liquid phase is reduced to 30 by extraction, ion exchange, chemical reduction, eutectic crystallization in; or electrolytic enrichment. CL g 18. Förfarande enligt patentkrav 1, varvid den fasta fasen innehäller över 70 % £ tenn av den ursprungliga totalmängden i avloppsvattenlösningen. O c\l ooThe method of claim 1, wherein the solid phase contains over 70% tin of the initial total amount in the wastewater solution. O c \ l oo
FI20051041A 2005-10-14 2005-10-14 Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution FI121569B (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20051041A FI121569B (en) 2005-10-14 2005-10-14 Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution
PCT/FI2006/000332 WO2007042611A1 (en) 2005-10-14 2006-10-13 A method for precipitating metal oxides from an aqueous waste solution
TW95137642A TWI396664B (en) 2005-10-14 2006-10-13 A method for precipitating metal oxides from an aqueous waste solution

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20051041A FI121569B (en) 2005-10-14 2005-10-14 Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution
FI20051041 2005-10-14

Publications (3)

Publication Number Publication Date
FI20051041A0 FI20051041A0 (en) 2005-10-14
FI20051041A FI20051041A (en) 2007-04-15
FI121569B true FI121569B (en) 2011-01-14

Family

ID=35185181

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI20051041A FI121569B (en) 2005-10-14 2005-10-14 Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution

Country Status (3)

Country Link
FI (1) FI121569B (en)
TW (1) TWI396664B (en)
WO (1) WO2007042611A1 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI120052B (en) 2007-04-13 2009-06-15 Yara Suomi Oy A method for treating and reusing an etching solution
TWI381056B (en) * 2009-05-08 2013-01-01 A powder form chemical compound to purify molten solders with its application tools and utilization methods.
KR101143216B1 (en) 2010-03-19 2012-05-18 김경선 Method for separating solid tin compound from waste lead and recovering high purity tin (SN) from it
EP3019635B1 (en) * 2013-07-08 2020-07-01 Alpha Assembly Solutions Inc. Methods for recovering or removing tin and/or tin alloy
GB2518223A (en) * 2013-09-16 2015-03-18 Itri Innovation Ltd Recovery of metals
CN105886766A (en) * 2014-12-12 2016-08-24 中国人民解放军63971部队 Method for preparing high-purity PbO on basis of ion exchange method
CN105330080B (en) * 2015-11-27 2018-06-26 昆山市千灯三废净化有限公司 A kind of integrated conduct method of nitric acid spent solder stripper and corresponding processing unit
CN105948316A (en) * 2016-05-30 2016-09-21 无锡昊瑜节能环保设备有限公司 Sewage treatment system for circuit board production plant
CN111924999A (en) * 2020-07-03 2020-11-13 昆山中环实业有限公司 Wet tin stripping waste liquid treatment method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57164984A (en) * 1981-04-06 1982-10-09 Metsuku Kk Exfoliating solution for tin or tin alloy
US5006262A (en) * 1989-11-21 1991-04-09 Met. Rev. Inc. Process for recovering copper from copper ion containing aqueous solutions
US5160631A (en) * 1991-08-05 1992-11-03 Halliburton Company Method for treating chelant solutions to remove metals in solution
TW553906B (en) * 2002-03-21 2003-09-21 Amia Co Ltd A method for the treatment of waste tin-lead stripping solution
US6685820B2 (en) * 2002-04-26 2004-02-03 Amia Co., Ltd. Method for treating spent tin/lead stripping solution

Also Published As

Publication number Publication date
TWI396664B (en) 2013-05-21
TW200716493A (en) 2007-05-01
FI20051041A0 (en) 2005-10-14
WO2007042611A1 (en) 2007-04-19
FI20051041A (en) 2007-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI121569B (en) Process for precipitating metal oxides from a wastewater solution
US9745193B2 (en) Method for removing iron in the manufacture of phosphoric acid
FI120052B (en) A method for treating and reusing an etching solution
KR102119234B1 (en) How to treat cyanide-containing wastewater
RU2568225C1 (en) Method of extracting copper (+2) from spent solutions
JPS60103028A (en) Treatment of iron or zinc-containing waste hydrochloric acid
US5380441A (en) Removal of chromium from solution using mechanically agitated iron particles
EP0308175B1 (en) Stripping and recovery of dichromate in electrolytic chlorate systems
US20160222487A1 (en) Recovery of metals
KR101950632B1 (en) Method for producing elemental rhodium
US4698162A (en) Method for prevention of metallic precipitate reoxidation/redissolution in aqueous systems
US6685820B2 (en) Method for treating spent tin/lead stripping solution
KR19980702743A (en) Ammonia Metal Solution Recirculation Method
US5524780A (en) Control of regeneration of ammoniacal copper etchant
JP3466801B2 (en) Method of treating wastewater containing an azole-based silane coupling agent together with metal-containing wastewater
JP3325288B2 (en) Aluminum electroplating wastewater treatment method
JP5985925B2 (en) Method and apparatus for treating waste liquid containing heavy metal
RU2213064C1 (en) Method of recovering ethylenediaminetetraacetic acid from spent washing solution in power station steam generators
EP0429044A1 (en) Process for recovering metals from aqueous solutions
TW498112B (en) Method for removing copper, stannous and zinc ions from peeled-tin or peeled-tin lead waste solution
JP2003175391A (en) Method for separation removal of arsenic
KR100563299B1 (en) Manufacturing of inorganic chloride compound as well as inorganic copper compound from the simultaneous treatment of cupric chloride, cupric sulphate and cupric ammonium chloride spent etching solution in a single process, and the inorganic chloride compound and the inorganic copper compound using the same
JPS59228992A (en) Treatment of pickling waste liquid

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: YARA SUOMI OY

Free format text: YARA SUOMI OY

FG Patent granted

Ref document number: 121569

Country of ref document: FI

MM Patent lapsed