ES2969268T3

ES2969268T3 - Método de fabricación de una lente para gafas

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Publication number: ES2969268T3
Application number: ES21798701T
Authority: ES
Inventors: Michel-Rene Christmann; Waiz Karim; Adan Andreu Llobera; Yujing Liu; Christian Lischer; Maximilian Kastner
Original assignee: Carl Zeiss Vision International GmbH
Current assignee: Carl Zeiss Vision International GmbH
Priority date: 2020-10-23
Filing date: 2021-10-25
Publication date: 2024-05-17
Anticipated expiration: 2041-10-25
Also published as: JP2023542245A; CN116507485B; US20230341706A1; EP4228878B1; CN116507485A; WO2022084557A1; EP3988288A1; EP4228878A1; US11899287B2; EP4228878C0; JP7438463B2

Abstract

Un método para fabricar una lente para gafas que comprende un sustrato de lente, un sustrato de lente y al menos un recubrimiento, en donde el método comprende al menos los siguientes pasos en el orden dado: proporcionar un sustrato de lente que tiene una superficie frontal sin recubrir o prerrevestida y una superficie sin recubrir o superficie posterior prerrecubierta, recubriendo al menos una superficie del sustrato de lente con al menos un recubrimiento, siendo modificable la superficie del al menos un recubrimiento cuando se pone en contacto con al menos un medio pudiendo modificar la superficie del al menos un recubrimiento, poner en contacto total o parcialmente la superficie de al menos un recubrimiento con al menos un medio, aplicar al menos un único pulso electromagnético a al menos una de las superficies de la lente para gafas que comprende el sustrato de lente, el al menos recubrimiento y el al menos un medio y obtener una lente para gafa que comprende al menos un revestimiento con una superficie total o parcialmente modificada. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

DESCRIPCIÓN

Método de fabricación de una lente para gafas

La invención se refiere a un método de fabricación de una lente para gafas.

Según Brien A. Holden et al., Global Vision Impairment Due to Uncorrected Presbyopia, Arch Ophthalmol. 2008; 126(12): 1731-1739, el error de refracción de lejos no corregido es la causa más común de discapacidad visual. En Universal eye health: a global action plan 2014-2019, Organización Mundial de la Salud 2013, la OMS estima que, en 2010, 285 millones de personas tenían discapacidad visual. C. S. Y. Lam et al., Defocus Incorporated Multiple Segments (DIMS) spectacle lenses slow myopia progression: a 2-year randomised clinical trial, Br J Ophthalmol 2019;0:1-6, realizó ensayos en un estudio con lentes de tipo Defocus Incorporated Multiple Segments (DIMS) para gafas para niños, divulgado también, por ejemplo, en los documentos US 2017/0131567 A1, US 2019/0212580 A1 o US 2020/0159044 A1, que debería imponer el desenfoque miópico. Se demostró que las lentes DIMS para gafas retrasan la progresión de la miopía y el alargamiento axial en los niños miopes.

El documento US 2017/0131567 A1 divulga una lente para gafas que comprende una primera área de refracción que tiene una primera potencia de refracción basada en una prescripción para corregir una refracción anómala de un ojo y segundas áreas de refracción que tienen la función de enfocar una imagen en una posición distinta de la retina del ojo para suprimir un progreso de la refracción anómala del ojo. Las segundas áreas de refracción se forman como múltiples áreas con forma de isla independientes.

El documento US 2019/0212580 A1 divulga una lente para gafas que comprende una primera área de refracción y segundas áreas de refracción, tal como se divulga en el documento US 2017/013167 A1. Las segundas áreas de refracción según el documento US 2019/0212580 A1 están dispuestas de manera dispersa como múltiples áreas mutuamente separadas, en el que cada una de estas segundas áreas de refracción está rodeada por la primera área de refracción.

El documento US 2020/0159044 A1 divulga una primera lente para gafas que comprende una primera área de refracción que tiene una potencia de refracción basada en una prescripción para corregir la miopía y segundas áreas de refracción que tienen una potencia de refracción diferente de la primera potencia de refracción. Cada una de las segundas áreas de refracción se forma en una forma convexa que se extiende desde una superficie lateral del objeto de la lente para gafas. Cada una de las segundas áreas de refracción tiene una curvatura mayor que la superficie lateral del objeto de la primera área de refracción. Las segundas áreas de refracción comprenden múltiples áreas de refracción que tienen múltiples potencias de refracción diferentes entre sí. El documento US 2020/0159044 A1 divulga además una segunda lente para gafas que comprende una primera área de refracción basada en una prescripción para corregir la miopía y segundas áreas de refracción que tienen una potencia de refracción diferente de la primera potencia de refracción. Las segundas áreas de refracción de la segunda lente para gafas se forman de manera no concéntrica como múltiples áreas con forma de isla, la potencia de refracción de las segundas áreas de refracción es de 2,00D a 5,00D mayor que la primera potencia de refracción de la primera área de refracción. El documento US 2020/0159044 A1 divulga además una tercera lente para gafas que comprende una primera área de refracción que tiene una primera potencia de refracción basada en una prescripción para corregir una refracción anómala de un ojo y segundas áreas de refracción que tienen una potencia de refracción diferente de la primera potencia de refracción. Las segundas áreas de refracción de la tercera lente para gafas se forman de manera no concéntrica como múltiples áreas con forma de isla dispuestas para formar un hexágono inscrito en un círculo que tiene un radio predeterminado.

El documento US 2015/0160477 A1 divulga una lente de múltiples elementos para controlar el desenfoque y la dioptría del ojo que divide la lente en un área de lente correspondiente a la región de visión central del ojo y un área de lente convexa correspondiente a la región de visión ecuatorial del ojo. La lente de múltiples elementos comprende una lente convexa unitaria grande que genera un desenfoque grande, una lente cóncava unitaria pequeña que genera un desenfoque o un enfoque pequeño mediante la combinación en la lente convexa unitaria grande, o se proporciona por separado una lente única pequeña que genera un desenfoque pequeño en la lente convexa unitaria grande. La unión entre la lente cóncava unitaria grande y la lente cóncava unitaria pequeña o la lente única pequeña es una estructura de zoom gradual o una estructura de zoom escalonado. El documento US 2015/0160477 A1 divulga también en la lente convexa unitaria grande una lente cóncava de subunidad o una lente única mediana, en el que cada combinación genera un desenfoque mediano a través de la combinación con la lente de la lente convexa unitaria grande. La lente cóncava de subunidad o la lente única mediana se dispone en el anillo exterior de la lente cóncava unitaria pequeña o la lente única pequeña y tiene forma de anillo.

El documento WO 2018/026697 A1 divulga lentes oftálmicas para el tratamiento de la miopía. Las lentes incluyen un patrón de puntos distribuido a través de cada lente, en el que el patrón de puntos incluye una matriz de puntos separados por una distancia de 1 mm o menos, en el que cada punto tiene una dimensión máxima de 0,3 mm o menos. Los puntos pueden estar dispuestos en una cuadrícula cuadrada, una cuadrícula hexagonal, otra cuadrícula o en un patrón semialeatorio o aleatorio. Los puntos pueden estar separados a intervalos regulares o la separación entre puntos puede variar dependiendo de la distancia del punto desde el centro de la lente. El patrón de puntos puede incluir una abertura transparente libre de puntos que tiene una dimensión máxima de más de 1 mm, en el que la abertura transparente está alineada con un eje de visión de un usuario del par de gafas. La abertura transparente puede ser sustancialmente circular o de una forma similar. Los puntos pueden ser protuberancias o rebajes en una superficie de la lente correspondiente. Las protuberancias pueden formarse a partir de un material transparente. Para la fabricación de las protuberancias, se depositan partes discretas de un material, por ejemplo, usando una impresora de inyección de tinta, sobre una superficie de la lente correspondiente al patrón de puntos. Las partes discretas proporcionan las protuberancias después del curado, por ejemplo, usando radiación. El patrón de puntos puede reducir un contraste de imagen de un objeto visto a través del patrón de puntos en al menos un 30% en comparación con un contraste de imagen del objeto visto a través de la abertura transparente. Según el documento WO 2018/026697 A1, el par de gafas se personaliza para un usuario, entre otras cosas, las lentes, teniendo de esta manera una potencia óptica para corregir la visión en el eje del usuario a 20/20 o mejor, en el que las lentes incluyen un patrón de puntos distribuido a través de cada lente, en el que el patrón de puntos incluye una matriz de puntos dispuestos de manera que, durante al menos una parte de la visión periférica del usuario, las lentes corrijan la visión del usuario a 20/25 o mejor y reduzcan un contraste de imagen en al menos un 30% en comparación con el contraste de imagen en el eje.

El documento WO 2006/034652 A1 divulga un método para el tratamiento de la progresión de un trastorno refractivo en un ojo humano, en particular un método para contrarrestar el desarrollo de la miopía mediante la mejora del desenfoque miópico y un método para contrarrestar el desarrollo de la hipermetropía mediante la mejora del desenfoque hipermetrópico. El método incluye producir una primera imagen sobre una retina del ojo humano y producir una segunda imagen para generar un desenfoque. La alteración del equilibrio de desenfoque del ojo debería influir en el crecimiento axial del ojo en una dirección hacia la emetropía. Este desplazamiento artificial puede ser introducido por una lente para gafas, preferiblemente junto con la corrección convencional de manera que pueda mantenerse una visión normal. La lente para gafas puede ser una lente de Fresnel o una lente multifocal central-periférica que incluye zonas ópticas concéntricas de dos o más potencias ópticas.

El documento WO 2010/075319 A2 divulga un método de tratamiento terapéutico para prevenir, mejorar o revertir los trastornos relacionados con la longitud del ojo. Por lo tanto, se induce un desenfoque artificial de la visión del paciente con el fin de disminuir una frecuencia espacial media de las imágenes introducidas a la retina del ojo más allá de una frecuencia espacial umbral para inhibir un alargamiento adicional del ojo. Para inducir un desenfoque artificial pueden usarse gafas inductoras de desenfoque. Las gafas inductoras de desenfoque inducen el desenfoque mediante pequeñas protuberancias o depresiones en una o ambas superficies de las lentes, inclusiones en el interior de las lentes de un material diferente del material de la lente, incorporación de aberraciones de nivel superior en las lentes, incluyendo aberraciones de nivel superior que tienen un efecto mayor sobre la visión periférica, proporcionando correcciones negativas progresivas en una o ambas lentes desde la parte superior de las lentes hasta la parte inferior de las lentes, revestimientos o películas aplicadas a una o ambas superficies de las lentes. La reducción, por ejemplo, de la densidad de las protuberancias o las depresiones en la región central de la lente facilita una adquisición de imágenes relativamente normal para las partes de las escenas alineadas axialmente con el eje del ojo, mientras desenfoca cada vez más las partes de las escenas que no están alineadas con el eje óptico. La cantidad de desenfoque artificial puede controlarse variando, por ejemplo, la densidad o las dimensiones de las protuberancias o las depresiones.

El documento WO 2019/166653 A1 divulga un elemento de lente que comprende un área de refracción que tiene una potencia de refracción basada en una prescripción para un ojo de una persona y una pluralidad de al menos tres elementos ópticos no contiguos con al menos un elemento óptico que tiene una función óptica no esférica. Al menos uno de los elementos ópticos no contiguos puede ser, por ejemplo, una microlente refractiva multifocal, realizada en un material birrefringente, una lente difractiva o tiene una forma configurada para crear una cáustica frente a la retina del ojo de la persona.

El documento WO 2019/16654 A1 divulga un elemento de lente que comprende un área de refracción que tiene una primera potencia de refracción basada en una prescripción para corregir una refracción anómala de un ojo de una persona, una segunda potencia de refracción diferente de la primera potencia de refracción y una pluralidad de al menos tres elementos ópticos con al menos un elemento óptico que tiene una función óptica de no enfocar una imagen en la retina del ojo con el fin de ralentizar la progresión de la refracción anómala del ojo. La diferencia entre la primera potencia de refracción y la segunda potencia de refracción puede ser mayor o igual a 0,5D.

El documento WO 2019/166655 A1 divulga un elemento de lente que comprende un área de refracción que tiene una potencia de refracción basada en una prescripción para un ojo de una persona y una pluralidad de al menos tres elementos ópticos. Los elementos ópticos están configurados de manera que, a lo largo de al menos una sección de la lente, la esfera media de elementos ópticos aumente desde un punto de dicha sección hacia la parte periférica de dicha sección. Los elementos ópticos pueden estar configurados de manera que, a lo largo de al menos una sección de la lente, el cilindro medio de los elementos ópticos aumente desde un punto de dicha sección hacia la parte periférica de dicha sección.

El documento WO 2019/166657 A1 divulga un elemento de lente que comprende una parte de prescripción configurada para proporcionar a un usuario en condiciones de uso estándar y para la visión foveal una primera potencia óptica basada en la prescripción del usuario para corregir una refracción anómala de un ojo del usuario y una pluralidad de al menos tres elementos ópticos con al menos un elemento óptico que tiene una función óptica de no enfocar una imagen en la retina del ojo en condiciones de uso estándar y para la visión periférica con el fin de ralentizar la progresión de la refracción anómala del ojo. Al menos uno de los elementos ópticos puede tener una función óptica de enfocar una imagen en una posición distinta de la retina en condiciones de uso estándar y para la visión periférica.

El documento WO 2019/166659 A1 divulga un elemento de lente que comprende un área de refracción que tiene una potencia de refracción basada en una prescripción para un ojo de un usuario y una pluralidad de al menos dos elementos ópticos contiguos con al menos un elemento óptico que tiene una función óptica de no enfocar una imagen en la retina del ojo del usuario con el fin de ralentizar la progresión de la refracción anómala del ojo. Según el documento WO 2019/166659 A1, la disposición de elementos ópticos contiguos mejora la estética del elemento de lente y limita el grado de discontinuidad de la superficie del elemento de lente. Al menos dos elementos ópticos contiguos pueden ser independientes.

El documento WO 2019/206569 A1 divulga un elemento de lente que comprende una parte de prescripción configurada para proporcionar a un usuario en condiciones de uso estándar una primera función óptica basada en la prescripción del usuario para corregir una refracción anómala de un ojo del usuario y múltiples elementos ópticos contiguos. Cada elemento óptico tiene una función óptica bifocal simultánea que proporciona, de manera simultánea, una segunda función óptica en condiciones de uso estándar y una tercera función óptica de no enfocar una imagen en la retina del ojo en dichas condiciones de uso estándar con el fin de ralentizar la progresión de la refracción anómala del ojo. El disponer de múltiples elementos ópticos contiguos que proporcionan, de manera simultánea, una segunda y una tercera función óptica, permite, según el documento WO 2019/206569 A1, tener un elemento de lente fácil de configurar que reduce la progresión de la refracción anómala del ojo, tal como la miopía o la hipermetropía, al tener parte de la luz enfocada en la retina del usuario y parte de la luz enfocada frente a la retina del usuario o detrás de la misma. Además, el elemento de lente permite seleccionar la parte de la luz que se va a enfocar en la retina y la parte de la luz que no se va a enfocar en la retina del ojo. El documento WO 2019/026569 A1 divulga también un método para proporcionar un elemento de lente que comprende proporcionar un miembro de lente configurado para proporcionar al usuario en condiciones de uso estándar una primera potencia de refracción basada en la prescripción para el usuario para corregir una refracción anómala del ojo del usuario, proporcionar un parche óptico que comprende múltiples elementos ópticos contiguos y formar un elemento de lente colocando el parche óptico sobre una de entre las superficies frontal o posterior del miembro de lente. De manera alternativa, el método comprende moldear el elemento de lente y durante el moldeo proporcionar un parche óptico que comprende múltiples elementos ópticos contiguos.

El documento EP 3 531 195 A1 divulga una lente para gafas que comprende un revestimiento nanoestructurado y/o microestructurado. Para obtener el revestimiento nanoestructurado y/o microestructurado, en una primera etapa al menos una superficie del sustrato de lente no revestido o revestido previamente se cubre con una capa de nanopartículas y/o micropartículas que enmascaran la superficie no revestida o revestida previamente respectiva del sustrato de lente. En una segunda etapa, se aplica al menos un revestimiento a la capa de nanopartículas y/o micropartículas. De esta manera, el al menos un revestimiento cubre las nanopartículas y/o las micropartículas, así como la superficie no revestida o revestida previamente respectiva del sustrato de lente en los espacios intermedios entre las nanopartículas y/o las micropartículas. En una tercera etapa, las nanopartículas y/o micropartículas se eliminan y un revestimiento nanoestructurado y/o microestructurado permanece sobre la superficie no revestida o revestida previamente respectiva del sustrato de lente.

El documento EP 2682807 A1 divulga un método para formar una marca sobre una superficie de una lente para gafas o bien aplicando un revestimiento transparente adicional en la posición deseada del revestimiento, o bien incluyendo una capa de enmascaramiento que tiene una abertura en una posición deseada, en el que tanto la capa de enmascaramiento como la abertura debe ser revestida por el revestimiento de la lente para gafas solamente o tintando el sustrato de lente en una posición deseada. En el caso en el que deba aplicarse un revestimiento transparente adicional, en una primera etapa se aplica una capa de enmascaramiento que tiene una abertura a la superficie no revestida o revestida previamente del sustrato de lente a marcar. En una segunda etapa, se aplica un revestimiento transparente a la capa de enmascaramiento, así como a la superficie no revestida o revestida previamente respectiva a través de la abertura de la capa de enmascaramiento. En una tercera etapa, se eliminan la capa de enmascaramiento y el revestimiento transparente en la parte superior de la capa de enmascaramiento, de manera que el revestimiento transparente permanezca en la parte superior de la superficie no revestida o revestida previamente respectiva. A continuación, el revestimiento transparente se reviste con el revestimiento de la lente para gafas, por ejemplo, con un revestimiento antirreflectante multicapa, partes de un revestimiento reflectante multicapa y una capa repelente al agua, resultando de esta manera en la marca visible. La marca puede constituir un patrón ornamental, un logotipo, un carácter que puede verse debido a las diferencias en la reflexión de la luz, garantizando de esta manera el campo de visión del usuario sin molestias.

El documento EP 3339 940 A1 divulga un método para aplicar un revestimiento sobre una superficie no revestida o revestida previamente de un sustrato de lente a través de una capa de enmascaramiento para garantizar que, por ejemplo, un logotipo sea visible debido a la diferencia del índice de refracción del revestimiento aplicado con y sin capa de enmascaramiento.

El documento WO 2007/066006 A2 divulga un método para transferir un patrón a microescala sobre una superficie de un artículo óptico. Por lo tanto, se deposita una capa de material transferible sobre una superficie de un sello, que tiene rebajes y protuberancias que constituyen un microrrelieve correspondiente al patrón a transferir, poniendo en contacto el sello con una capa todavía no seca de un látex que se deposita sobre la superficie de un sustrato del artículo óptico. Dependiendo de la presión aplicada al sello, la capa de material transferible aplicada solo a las protuberancias o la capa de material transferible aplicada a los rebajes y las protuberancias se transfiere a la capa de látex. Después de la transferencia, el sello se retira.

El documento US 2002/0158354 A1 divulga un método para la fabricación de lentes de plástico fotocrómicas, absorbentes de luz ultravioleta/visible y coloreadas mediante el curado de la composición formadora de lentes usando luz activadora. Como fuente de luz activadora, puede usarse una fuente de luz ultravioleta, una fuente de luz actínica, una fuente de luz visible y/o una fuente de luz infrarroja. El material formador de lente puede incluir cualquier monómero líquido adecuado y cualquier iniciador fotosensible adecuado. La unidad de curado de lentes comprende un controlador que, entre otras cosas, determina la dosis inicial de luz en aplicaciones de curado pulsado requerida para curar el material formador de lentes, aplica la luz activadora con una intensidad y una duración suficientes para igualar la dosis determinada y calcula la dosis requerida para la siguiente aplicación de luz activadora en aplicaciones de curado pulsado. En lugar de secuencias de curado con luz activada pulsada, pueden usarse secuencias de luz activadora continua. En este último caso, no se requiere un equipo para generar pulsos de luz, reduciendo de esta manera el coste del aparato de curado de lentes.

El documento WO 97/39880 A2 divulga la formación de una lente para gafas colocando una composición formadora de lentes, líquida, polimerizable, en una cavidad de molde, aplicando múltiples pulsos de luz de alta intensidad a la composición formadora de lentes y curando la composición formadora de lentes para formar una lente para gafas sustancialmente transparente en un período de tiempo de menos de 30 minutos. Los pulsos que emanan preferiblemente desde una fuente de luz de destellos, es decir, una luz de destellos, tal como una fuente de luz de xenón, tienen una intensidad lo suficientemente alta como para que la reacción se inicie en sustancialmente toda la composición formadora de lente que está expuesta a pulsos en la cavidad de molde. Según el documento WO 97/39880 A2, una ventaja de la aplicación de luz pulsada mediante luces de flash es que, aunque se aplican intensidades de luz más altas, debido a que la duración de los pulsos es tan corta, se reduce la cantidad total de energía luminosa aplicada para curar la composición formadora de lentes. Según el documento WO 97/39880 A2, una ventaja significativa adicional es que pueden producirse piezas en bruto de lentes de masa relativamente alta, semiacabadas, y lentes de tipo fundir-para-acabar de alta potencia sin liberación prematura desde la cavidad del molde y sin agrietarse. Interrumpiendo o disminuyendo la luz activadora en el momento adecuado durante el ciclo, puede controlarse la tasa de generación y liberación de calor, y puede reducirse la incidencia de liberaciones prematuras. Según el documento WO 97/39880 A2, es posible el curado de una composición formadora de lentes que comprende un fotoiniciador que absorbe luz ultravioleta que tiene una longitud de onda comprendida en el intervalo de 300 a 400 nm, así como el curado de una composición de revestimiento, cada una de ellas curable tras la exposición a la luz UV y comprendiendo cada una de ellas un fotoiniciador que forma una capa de combinación sustancialmente transparente.

El documento WO 00/18569 A2 divulga el curado de una composición formadora de lentes polimerizable que se coloca en un conjunto de molde/junta y la exposición continua de dicha composición a luz activadora pulsada. Puede usarse una lámpara de destellos, por ejemplo, una fuente de luz de xenón, para emitir los pulsos de luz activadora. Pueden formarse lentes coloreadas, lentes fotocrómicas, lentes incoloras absorbentes de luz ultravioleta/luz y lentes transparentes, estas últimas añadiendo un compuesto no fotocrómico absorbente de luz ultravioleta/visible, incoloro, a la composición formadora de lentes. Añadiendo los absorbentes de luz ultravioleta/visible a la composición formadora de lente, es posible el curado de la composición de lente transparente bajo los requisitos de dosificación más intensos a usar para el curado de una composición de lente fotocrómica. Además, la lente transparente formada puede ofrecer una mejor protección contra los rayos de luz ultravioleta/visible que una lente transparente formada sin dichos compuestos. Además, el documento WO 00/18569 A2 divulga un método en-molde para formar un revestimiento resistente al rayado o un revestimiento de tinte sobre la lente. De manera alternativa, la lente puede tintarse, o puede aplicarse un revestimiento resistente al rayado a la lente tras el desmoldeo de la lente. A continuación, el revestimiento resistente al rayado se cura aplicando rayos de luz activadora a esta cara de la lente. La composición formadora de lentes, así como el revestimiento, pueden incluir un iniciador fotosensible.

El documento WO 2006/135390 A2 divulga el curado de una composición de revestimiento de una lente para gafas y de las gafas no revestidas, cada una usando pulsos de luz activadora. Los revestimientos, tales como revestimientos duros, revestimientos antirreflectantes o revestimientos fotocrómicos, pueden curarse en un proceso en-molde o fueradel-molde. A modo de ejemplo, se describe una lente para gafas que comprende un revestimiento duro y un revestimiento antirreflectante fabricado mediante un proceso en-molde, en el que el molde con los revestimientos se expuso a destellos desde una lámpara estroboscópica.

El documento WO 01/94104 A2 divulga el uso de composiciones líquidas, curables por luz ultravioleta, para formar revestimientos antirreflectantes en lentes para gafas transmisoras de luz visible. Los revestimientos antirreflectantes pueden formarse en un proceso en-molde o en fuera-del-molde. Puede aplicarse una composición de revestimiento duro antes de la aplicación del revestimiento antirreflectante. La luz ultravioleta puede ser producida por una lámpara de destellos. Pueden usarse pulsos de luz para afectar al curado de las composiciones de revestimiento.

El documento WO 03/078145 A2 divulga un proceso en-molde para la fabricación de una lente para gafas revestida. Por lo tanto, la cara de fundición del miembro de molde frontal puede revestirse con una o más capas de revestimiento duro antes de la colocación de la composición de formación de lentes en el interior de la cavidad del molde. Si se usan dos capas de revestimiento duro, cualquier imperfección, tal como orificios en la primera capa de revestimiento duro, se cubre con la segunda capa de revestimiento duro. La lente para gafas puede revestirse adicionalmente con un revestimiento antirreflectante, bien en un proceso en-molde o bien en un proceso fuera-del-molde. Puede aplicarse luz activadora, incluyendo luz ultravioleta, luz actínica, luz visible o luz infrarroja a la composición de revestimiento para iniciar el curado de la composición de revestimiento. Como fuentes de luz activadora, pueden usarse lámparas germicidas, lámparas de vapor de mercurio, lámparas de haluro y/o lámparas estroboscópicas. Mediante el uso de una lámpara estroboscópica como fuente de luz activadora, se produce menos calor entre las ejecuciones del proceso, la dosis de luz activadora puede controlarse controlando la intensidad de la luz aplicada, la frecuencia de los destellos de la luz activadora, la duración de la luz activadora con destellos y/o el número de destellos de la luz activadora. El material formador de lentes puede incluir un fotoiniciador que interactúa con la luz activadora.

El documento WO 00/56527 A1 divulga una composición formadora de lentes para la fabricación de lentes de plástico fotocrómicas, absorbentes de luz ultravioleta/visible incoloras y coloreadas mediante el curado de la composición formadora de lentes en un proceso en-molde con pulsos de luz activadora. La luz activadora que puede afectar un cambio químico, por ejemplo, para causar que se produzca una polimerización, puede incluir luz ultravioleta, luz actínica, luz visible o luz infrarroja. Puede usarse una lámpara de destellos para emitir pulsos de luz activadora para curar el material formador de lente o para curar un revestimiento de lente. La colocación de un revestimiento líquido en el molde y su curación posterior puede resultar en una lente que tiene un revestimiento duro sobre una superficie. La lámpara de destellos puede ser una fuente de luz de xenón. La intensidad relativamente alta de la lámpara de destellos de xenón y la corta duración de los pulsos pueden permitir un curado rápido de la composición formadora de lentes sin impartir un calor radiativo significativo a la composición. La lámpara de destellos de xenón se usa para aplicar múltiples pulsos de luz activadora a la composición formadora de lentes para curar la misma para formar una lente para gafas en un período de tiempo de menos de 30 minutos. Debido a la intensidad relativamente alta que puede conseguirse con la lámpara de destellos de xenón, puede permitirse una penetración y/o saturación más profunda de la composición formadora de lentes, permitiendo de esta manera un curado uniforme de lentes más gruesas que el curado iniciado por radiación convencional.

El documento WO 99/06887 A1 divulga un proceso en-molde para formar una lente para gafas mediante la aplicación de múltiples pulsos de luz activadora a la composición formadora de lentes. Los pulsos pueden emanar desde una luz de destellos, tal como una fuente de luz de xenón. La lámpara de destellos puede usarse también para curar un revestimiento de lente. El documento WO 99/06887 A1 divulga además un proceso en-molde para formar un revestimiento resistente al rayado colocando una primera composición de revestimiento en el interior de un miembro de molde, distribuyendo la primera composición de revestimiento sobre la cara de fundido del miembro de molde, dirigiendo la luz activadora en el miembro de molde para curar al menos una parte de la primera composición de revestimiento, colocando una segunda composición de revestimiento en el interior del molde, en el que cada una de entre las composiciones de revestimiento primera y segunda comprende un fotoiniciador, distribuyendo la segunda composición de revestimiento sobre la primera composición de revestimiento, dirigiendo la luz activadora en el miembro de molde para curar al menos una parte de la segunda composición de revestimiento y para formar una capa de combinación sustancialmente transparente, montando el miembro de molde con un segundo miembro de molde, colocando una composición formadora de lentes que comprende un fotoiniciador en la cavidad y dirigiendo la luz activadora en el molde para curar al menos una parte del material formador de lente para formar una lente para gafas revestida. De manera alternativa, la lente para gafas puede desmoldearse y, a continuación, puede tintarse, o puede aplicarse un revestimiento resistente al rayado a la lente. La composición formadora de lentes puede contener compuestos absorbentes de luz activadora, tales como pigmentos fotocrómicos, en el que los compuestos absorbentes de luz activadora inhiben la transmisión de luz ultravioleta al ojo de un usuario que usa la lente para gafas.

El documento EP 20182515.5 divulga un método para secar y curar, sinterizar y/o endurecer al menos un material precursor de revestimiento mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual. El al menos un material precursor de revestimiento puede comprender un material precursor de revestimiento duro que resulta en un revestimiento duro. La duración total del proceso necesaria para secar y curar, sinterizar y/o endurecer al menos un material precursor de revestimiento se reduce en comparación con un proceso de curado térmico convencional que aplica calor directo, por ejemplo, en un horno. Además, las propiedades ópticas y/o las propiedades mecánicas son ajustables cuando se varían los parámetros de proceso del al menos un pulso electromagnético individual.

En base a la teoría de que la creación de focos periféricos delante o detrás de la retina del ojo para reducir o detener el estímulo en la retina para que el ojo crezca, se han propuesto diversos diseños de lentes para gafas, tal como se ha descrito anteriormente. El estímulo proviene de un desenfoque miópico o hipermetrópico para la visión periférica, es decir, focos posicionados detrás de la retina o delante de la retina. Cuando se corrige la refracción de, por ejemplo, un ojo miope con una lente para gafas que comprende una primera área de refracción y segundas áreas de refracción según la Figura 1 del documento US 2017/013167 A1, en la visión foveal viendo a través de la primera área de refracción hexagonal que tiene una potencia de refracción basada en una potencia de refracción prescrita para corregir una refracción anómala de un ojo, un haz de luz, proveniente del infinito, es refractado por la primera área de refracción, la córnea del ojo y los otros componentes ópticos del ojo para converger en un foco situado directamente en la retina, de hecho en la fóvea del ojo. Un punto objeto en el infinito forma una imagen perfecta para el usuario de lentes para gafas. Por lo tanto, en la visión foveal, el ojo se supone que crece inalterado, sujeto a condiciones anatómicas que no permiten el crecimiento inalterado. En la visión periférica, viendo a través de una de las segundas áreas de refracción mostradas en la Figura 1 del documento US 2017/013167 A1, un haz de luz, proveniente del infinito, es refractado por esa segunda área de refracción, la córnea del ojo y los otros componentes ópticos del ojo para converger en un foco situado frente a la retina del ojo. Por lo tanto, en la visión periférica, en la que los focos están situados frente a la retina del ojo, se supone que el ojo reduce la velocidad del crecimiento del ojo o incluso lo detiene por completo. Sin embargo, la retina del ojo no está tan uniformemente curvada como para que un haz de luz, proveniente del infinito y refractado por una cualquiera de las segundas áreas de refracción, la córnea del ojo y los otros componentes ópticos del ojo, converja necesariamente en un foco situado frente a la retina del ojo. Además, la retina del ojo y la anatomía del propio ojo se forman o se curvan individualmente y, de esta manera, no son idénticas para diferentes personas. Incluso la retina del ojo izquierdo y la retina del ojo derecho de una persona no están formadas o curvadas de manera idéntica. La progresión de la miopía o la hipermetropía no es suprimible cuando se corrige la refracción de cada usuario de lentes para gafas con una lente para gafas que comprende, como por ejemplo en la Figura 1 del documento US 2017/013167 A1, la primera área de refracción definida de manera idéntica y las segundas áreas de refracción definidas de manera idéntica. El documento US 2017/013167 A1 no menciona el método de fabricación de una lente para gafas que comprende una primera área de refracción y una segunda área de refracción. Los documentos WO 2019/16653 A1, WO 2019/166654 A1, WO 2019/166655 A1, WO 2019/166657 A1 y WO 2019/166659 A1, por ejemplo, sugieren diferentes tecnologías para la fabricación de las lentes para gafas descritas en los mismos, tales como revestimiento superficial directo, moldeo, fundición o inyección, grabado en relieve, aplicación de películas o fotolitografía. El uso, por ejemplo, de un proceso de moldeo para la fabricación de una de las lentes para gafas descritas en los documentos US 2017/013167 A1, WO 2019/16653 A1, WO 2019/166654 A1, WO 2019/166655 A1, WO 2019/166657 A1 o WO 2019/166659 A1 requiere cada uno un molde maestro de robustez extremadamente alta y de muy alta calidad para poder obtener las superficies ópticas respectivas. Un molde realizado en vidrio cumpliría con los requisitos indicados anteriormente, pero es difícil y costoso de procesar. El uso de un proceso de moldeo requeriría la fabricación de un molde maestro diferente para cada superficie óptica, lo que, por ejemplo, por razones de eficiencia y de coste, no es adecuado en un proceso de fabricación de alto rendimiento.

Además de los métodos indicados anteriormente, en particular además del moldeo (por inyección) y la fotolitografía, el documento WO 2020/078964 A1 sugiere, como un método para la fabricación de un artículo óptico, el artículo óptico que comprende un sustrato de lente base, un revestimiento resistente a la abrasión y al menos un elemento óptico que sobresale desde la superficie frontal o desde la superficie posterior del revestimiento resistente a la abrasión, la fabricación aditiva del al menos un elemento óptico que sobresale desde la superficie frontal del revestimiento resistente a la abrasión.

Un método muy fiable para la fabricación de cualquier superficie óptica deseada sin la necesidad de un molde se divulga en el documento EP19204745.4, publicado como EP 3 812 142 A1. El método divulgado en el documento EP19204745.4 permite incluso la fabricación de superficies ópticas finales que no son accesibles mediante procesos de esmerilado y pulido convencionales. El método divulgado en el presente documento es independiente del material óptico a usar para el sustrato de lente. El método requiere al menos un revestimiento que cubra completamente o al menos parcialmente el sustrato de lente no revestido o revestido previamente, en el que el al menos un revestimiento es modificable cuando entra en contacto o se pone en contacto con al menos un medio. La modificación del al menos un revestimiento es preferiblemente irreversible y de estabilidad a largo plazo. En contraste con el documento EP 3531 195 A1 o con el documento WO 2020/078964 A1, por ejemplo, no se requiere ningún revestimiento adicional o material adicional para modificar o adaptar y/o crear cualquier superficie óptica final deseada. Sin embargo, tal como se describe en el documento EP19204745.4, el período de tiempo para poner en contacto el al menos un revestimiento modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento está comprendido en un intervalo de preferiblemente 25 minutos a 30 horas, más preferiblemente de 30 minutos a 20 horas, más preferiblemente de 35 minutos a 15 horas y más preferiblemente de 40 minutos a 10 horas. El al menos un revestimiento puede ponerse en contacto con el al menos un medio a temperatura ambiente, es decir, a una temperatura de 22°C ± 2°C, o a temperaturas elevadas que comprenden un intervalo de temperatura de preferiblemente 25°C a 80°C, más preferiblemente de 27°C a 55°C, más preferiblemente de 30°C a 50°C y más preferiblemente de 35°C a 45°C. El al menos un revestimiento puede ponerse en contacto con el al menos un medio mientras se irradia con luz de xenón preferiblemente de un intervalo de longitud de onda de 280 nm a 1.200 nm. Las condiciones de proceso indicadas anteriormente divulgadas en el documento EP19204745.4 pueden combinarse de cualquier manera deseada. Partiendo del documento EP19204745.4, el problema de la presente invención ha sido el de acelerar el método de fabricación divulgado en el mismo. El tiempo para obtener cualquier superficie óptica deseada debería reducirse significativamente, mientras debería mantenerse el método de fabricación, es decir, el contacto de al menos un revestimiento con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento en sí mismo. Además, no debería restringirse el material óptico del sustrato de lente.

El problema se ha resuelto mediante el método de fabricación de una lente para gafas según la reivindicación 1.

En contraste con los métodos indicados anteriormente para la fabricación de una lente para gafas con una superficie óptica específica y tal como se ha descrito ya en el documento EP19204745.4, el método para la fabricación de una lente para gafas que comprende una cualquiera de las superficies ópticas indicadas anteriormente o que comprende cualquier otra superficie óptica final objetivo se basa en una lente para gafas que comprende un sustrato de lente y al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento. Sin embargo, a diferencia del documento EP19204745.4, se ha descubierto que, para obtener cualquier superficie óptica final objetivo, el tiempo de contacto de la superficie del al menos un revestimiento con el al menos un medio se reduce significativamente no combinando todas las variantes divulgadas en el documento EP19204745.4, es decir, elevando la temperatura e irradiando con luz de xenón y rociando con agua desmineralizada, sino aplicando al menos un pulso electromagnético individual a una lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento, en el que el al menos un revestimiento está en contacto o ha estado en contacto con el al menos un medio. Además, la duración total del proceso para obtener una lente para gafas que tenga cualquier superficie óptica final objetivo se reduce significativamente no combinando la totalidad de dichas variantes divulgadas en el documento EP19204745.4, sino aplicando al menos un pulso electromagnético individual a al menos una de las superficies de una lente para gafas, la lente para gafas o el sustrato de lente para gafas que comprende

(i) sobre la superficie frontal al menos un revestimiento que puede modificarse cuando se pone en contacto con al menos un medio,

(ii) sobre la superficie posterior al menos un revestimiento que puede modificarse cuando se pone en contacto con al menos un medio, o

(iii) sobre la superficie frontal al menos un revestimiento que puede modificarse cuando se pone en contacto con al menos un medio y sobre la superficie posterior al menos un revestimiento que puede modificarse cuando se pone en contacto con al menos un medio,

en el que cada uno de dichos al menos un revestimiento está en contacto o ha estado en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar cada uno de dichos al menos un revestimiento. En el caso en el que la lente para gafas comprende solo una superficie de la lente para gafas, es decir, o bien sobre la superficie frontal o bien sobre la superficie posterior de la misma, en el que dicho al menos un revestimiento que es modificable cuando entra en contacto con dicho al menos un medio es capaz de modificar dicho al menos un revestimiento, es preferiblemente independiente para la obtención de la superficie óptica final objetivo de la lente para gafas si el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a dicha superficie frontal o a dicha superficie posterior, tal como se explica en detalle a continuación. La aplicación de al menos un pulso electromagnético individual usando un método de curado denominado de recocido con destellos de luz o fotónico no ha sido tan obvia, ya que este método implica la exposición del sustrato de lente, el al menos un revestimiento modificable y el al menos un medio a pulsos de luz de alta intensidad, ultracortos. La principal ventaja de este método de curado fotónico es su capacidad para obtener temperaturas superiores a 1.000°C, por ejemplo, durante un tiempo muy corto sin afectar al sustrato de lente, que puede basarse en un material óptico sensible a la temperatura y que no resistiría dichas temperaturas elevadas. La escala de tiempo muy corta de cada pulso electromagnético individual permite un procesamiento selectivo de al menos un revestimiento sin deteriorar un sustrato de lente basado en un material óptico sensible a la temperatura. El al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse desde al menos una fuente electromagnética seleccionada de entre el grupo que consiste en al menos una lámpara de destellos, preferiblemente desde al menos una lámpara de destellos de xenón, al menos una lámpara halógena, al menos un arco de plasma dirigido, al menos un láser, al menos un generador de microondas, al menos un calentador de inducción, al menos un haz de electrones, al menos un estroboscopio y al menos una lámpara de mercurio. El al menos un pulso electromagnético individual se aplica preferiblemente desde al menos una lámpara de destellos. Preferiblemente, la al menos una lámpara de destellos es una lámpara de destellos llena de un gas seleccionado de entre xenón, criptón y/o argón, preferiblemente xenón. El al menos un pulso electromagnético individual tiene preferiblemente una longitud de onda comprendida en el intervalo de 100 nm a 1.800 nm, más preferiblemente en el intervalo de 150 nm a 1.300 nm, más preferiblemente en el intervalo de 200 nm a 1.000 nm. El al menos un pulso electromagnético individual tiene también preferiblemente una longitud de onda comprendida en el intervalo de 350 nm a 1.000 nm, más preferiblemente en el intervalo de 400 nm a 800 nm, más preferiblemente en el intervalo de 420 nm a 700 nm. La longitud de onda del al menos un pulso electromagnético individual aplicado desde al menos una de las fuentes electromagnéticas indicadas anteriormente se encuentra preferiblemente en estos intervalos de longitud de onda. El al menos un pulso electromagnético individual se aplica a al menos una de las superficies de la lente para gafas, es decir, (i) a la superficie frontal de la lente para gafas, (i) a la superficie posterior de la lente para gafas o (iii) a la superficie frontal y la superficie posterior de la lente para gafas. En el caso (iii) cuando debe aplicarse al menos un pulso electromagnético individual a la superficie frontal y la superficie posterior de la lente para gafas, la posición de una de las fuentes electromagnéticas indicadas anteriormente puede alternarse de manera que el al menos un pulso electromagnético individual se aplique directamente a la superficie frontal o directamente a la superficie posterior de la lente para gafas. De manera alternativa, en el caso (iii) indicado anteriormente, al menos dos de las fuentes electromagnéticas indicadas anteriormente se posicionan de manera que el al menos un pulso electromagnético individual se aplique directamente a la superficie frontal de la lente para gafas y al menos un pulso electromagnético individual se aplique directamente a la superficie posterior de la lente para gafas, bien simultáneamente o bien de manera alternada. En cualquier caso, se usan al menos dos fuentes electromagnéticas, en el que estas al menos dos fuentes electromagnéticas pueden ser del mismo tipo o de un tipo diferente. En el caso en el que solo una de las superficies de la lente para gafas comprende al menos un revestimiento que es modificable cuando entra en contacto con al menos un medio, el al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse a la superficie de la lente para gafas que comprende dicho al menos un revestimiento o el al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse a la superficie de la lente para gafas que no comprende dicho al menos un revestimiento. Una vez más, se hace referencia a la explicación a continuación. En el caso en el que tanto la superficie frontal como la superficie posterior de la lente para gafas comprenden cada una al menos un revestimiento, cada uno de los cuales es modificable cuando entra en contacto con al menos un medio, el al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse a (i) la superficie frontal de la lente para gafas, (ii) la superficie posterior de la lente para gafas o (iii) la superficie frontal y la superficie posterior de la lente para gafas. En dicho caso (iii) son aplicables las posibilidades indicadas anteriormente con respecto a la fuente electromagnética.

Teniendo en cuenta que el documento EP19204745.4 ya sugiere una irradiación con luz de xenón que tiene preferiblemente un intervalo de longitud de onda de 280 nm a 1.200 nm, ha sido todavía más sorprendente que la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, por ejemplo, y que emana preferiblemente desde al menos una lámpara de destellos llena de gas xenón, es decir, usando un método de curado fotónico, reduzca significativamente la duración total del proceso para obtener la superficie óptica final del al menos un revestimiento modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento. Además, para reducir la duración total del proceso en comparación con el método descrito en el documento EP19204745.4, aparte de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, no es necesario ningún esfuerzo adicional. En otras palabras, el contacto de al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento resulta, después de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, es decir, usando la técnica de curado fotónico, en cualquier superficie óptica final deseada u objetivo del al menos un revestimiento en comparación con el método descrito en el documento EP19204745.4, en una duración total del proceso significativamente reducida. "Pulso electromagnético individual" significa la luz que es suministrada por al menos una de las fuentes electromagnéticas indicadas anteriormente y aplicada a al menos una superficie de la lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento modificable, en el que el al menos un revestimiento modificable está de esta manera (i) completamente o al menos parcialmente en contacto con el al menos un medio o (ii) completamente o al menos parcialmente cubierto por el al menos un medio. El al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse en uno de los intervalos de longitud de onda definidos anteriormente. El al menos un pulso electromagnético individual tiene preferiblemente una duración definida, es decir, una envolvente definida. La envolvente del al menos un pulso electromagnético individual se define como el período en el que el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a la al menos una superficie de la lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento, en el que el al menos un revestimiento está completa o al menos parcialmente cubierto por el al menos un medio. La envolvente del al menos un pulso electromagnético individual se define además como el período en el que el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a la al menos una superficie de la lente para gafas que no comprende al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio o cubierto por al menos un medio, en el que el al menos un medio es capaz de modificar el al menos un revestimiento. La envolvente puede estar comprendida en un intervalo de 50 ps a 200 ms, preferiblemente en un intervalo de 100 ps a 150 ms. Cada pulso electromagnético individual puede comprender al menos dos micropulsos, en el que cada uno de los al menos dos micropulsos tiene una duración definida en el interior de la envolvente de cada pulso electromagnético individual. La duración de los al menos dos micropulsos en el interior de la envolvente de un pulso electromagnético individual puede ser idéntica o diferente entre sí. El porcentaje de la duración de todos los micropulsos en el interior de la envolvente de un pulso electromagnético individual se define como el ciclo de trabajo del pulso electromagnético individual. Además, el al menos un pulso electromagnético individual o al menos un micropulso tiene una intensidad máxima definida. La intensidad máxima se define como la tasa a la que se aplica energía luminosa por unidad de tiempo a un área unitaria del al menos un revestimiento, en el que el al menos un revestimiento está cubierto completamente o al menos parcialmente por el al menos un medio, por un pulso electromagnético individual o un micropulso en el interior de un pulso electromagnético individual. La intensidad máxima está comprendida preferiblemente en el intervalo de 0,01 W/cm2 a 200 W/cm2, más preferiblemente en el intervalo de 0,1 W/cm2 a 150 W/cm2, más preferiblemente de 0,5 W/cm2 a 100 W/cm2 y más preferiblemente de 1 W/cm2 a 60 W/cm2. La intensidad máxima de al menos dos micropulsos en el interior de la envolvente de un pulso electromagnético individual puede ser idéntica o diferente entre sí. Preferiblemente, la intensidad máxima de los al menos dos micropulsos en el interior de la envolvente de un pulso electromagnético individual es idéntica entre sí. No es necesario que la intensidad máxima entre dos micropulsos consecutivos en el interior de la envolvente de un pulso electromagnético individual sea cero o sea constante o sea igual. Si es necesario, cada pulso electromagnético individual puede repetirse para proporcionar un tren de pulsos electromagnéticos. En el interior del tren de pulsos electromagnéticos, cada pulso electromagnético individual puede repetirse al menos dos veces y hasta 1.000 veces, preferiblemente cada pulso electromagnético individual se repite entre 2 y 100 veces. En el interior de un tren de pulsos electromagnéticos, preferiblemente se repite un pulso electromagnético individual idéntico. En el interior de un tren de pulsos electromagnéticos, la envolvente de cada pulso electromagnético individual puede ser idéntica o diferente entre sí. Preferiblemente, en el interior de un tren de pulsos electromagnéticos, la envolvente de cada pulso electromagnético individual es idéntica. En el interior de un tren de pulsos electromagnéticos, cada pulso electromagnético individual puede comprender al menos dos micropulsos, en el que los al menos dos micropulsos pueden ser idénticos o diferentes entre sí con respecto a su intensidad máxima, duración y/o ciclo de trabajo. Preferiblemente, en el interior de un tren de pulsos electromagnéticos, cada pulso electromagnético individual puede comprender al menos dos micropulsos, en el que los al menos dos micropulsos son idénticos entre sí con respecto a su intensidad máxima, duración y/o ciclo de trabajo. En el interior del tren de pulsos electromagnéticos que comprende al menos dos pulsos electromagnéticos individuales, los al menos dos pulsos electromagnéticos individuales pueden repetirse con una frecuencia de repetición comprendida en un intervalo de 0,1 Hz a 5 Hz, preferiblemente de 0,2 Hz a 4 Hz, más preferiblemente de 0,3 Hz a 3,5 Hz y más preferiblemente de 0,4 a 2 Hz. La intensidad máxima de al menos un pulso electromagnético individual en el interior de la envolvente del al menos un pulso electromagnético individual puede disminuir progresivamente en el interior de la envolvente y/o con cada micropulso en el interior del al menos un pulso electromagnético individual. Por ejemplo, esta disminución puede ser debida a limitaciones de los condensadores cargados de la fuente electromagnética usada para generar el al menos un pulso electromagnético individual. La dosis aplicada por al menos un pulso electromagnético individual a la lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento, en el que el al menos un revestimiento está cubierto completa o al menos parcialmente con el al menos un medio, es la intensidad promedio suministrada con cada pulso electromagnético individual durante la duración total de la envolvente, en el que cada pulso electromagnético individual puede comprender o no al menos dos micropulsos, en el que cada uno de los cuales suministra una cantidad discreta de intensidad. La dosis aplicada por al menos un pulso electromagnético individual puede estar comprendida preferiblemente en el interior del intervalo de 0,001 J/cm2 a 50 J/cm2, más preferiblemente de 0,1 J/cm2 a 30 J/crn2, más preferiblemente de 1 J/cm2 a 20 J/cm2 y más preferiblemente de 2,0 J/cm2 a 15 J/cm2. De manera particularmente preferible, la dosis aplicada está comprendida en el interior de un intervalo de 3 J/cm2 a 8 J/cm2.

Cualquier variación de uno cualquiera de los parámetros de proceso indicados anteriormente del al menos un pulso electromagnético individual puede influir en la superficie óptica obtenida cuando el al menos un pulso electromagnético individual se aplica al por lo menos un revestimiento que es modificable con al menos un medio. Además, cualquier variación de uno cualquiera de los parámetros de proceso indicados anteriormente del al menos un pulso electromagnético individual puede influir en la superficie óptica obtenida cuando el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a la superficie de la lente para gafas que no comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio. No solo las dimensiones en términos de, por ejemplo, al menos la anchura y la altura de una modificación de superficie que es, por ejemplo, al menos una microlente, son ajustables aplicando el al menos un pulso electromagnético individual apropiado, sino que también la forma de una modificación de superficie es ajustable dependiendo del al menos un pulso electromagnético individual aplicado. De esta manera, la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual al por lo menos un revestimiento que está parcial o completamente cubierto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento no solo reduce significativamente la duración total del proceso en comparación con el tiempo de contacto divulgado en el documento EP19204745.4, sino que simultáneamente ofrece posibilidades ampliadas para modificaciones de superficie obtenibles del al menos un revestimiento. Además, la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual a la superficie de la lente para gafas o del sustrato de lente para gafas que no comprende al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento, es decir, la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual a la superficie de la lente para gafas opuesta a la superficie de la lente para gafas que comprende al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento, no solo reduce significativamente la duración total del proceso en comparación con el tiempo de contacto divulgado en el documento EP19204745.4, sino que simultáneamente ofrece posibilidades ampliadas para modificaciones de superficie obtenibles del al menos un revestimiento.

La aplicación de al menos un pulso electromagnético individual comprende la aplicación de un pulso electromagnético individual exacto, en el que el pulso electromagnético individual exacto puede subdividirse, tal como se ha descrito anteriormente, en al menos dos micropulsos. La aplicación de al menos un pulso electromagnético individual comprende también la aplicación de pulsos electromagnéticos individuales, preferiblemente al menos dos pulsos electromagnéticos individuales, más preferiblemente múltiples pulsos electromagnéticos individuales, cada uno de los cuales puede subdividirse de nuevo en al menos dos micropulsos, tal como se ha explicado anteriormente. Independientemente del número exacto de pulsos electromagnéticos individuales, se aplicarán las explicaciones proporcionadas anteriormente con respecto al por lo menos un pulso electromagnético individual.

La lente para gafas puede comprender al menos un revestimiento que es modificable cuando entra en contacto con al menos un medio que puede modificar el al menos un revestimiento en la superficie frontal, según la norma ISO 13666:2019(E), sección 3.2.13, la superficie de la lente destinada a colocarse lejos del ojo, y/o en la superficie posterior, según la norma ISO 13666:2019(E), sección 3.2.14, la superficie de la lente destinada a colocarse más cerca del ojo. La expresión superficie frontal y la expresión superficie posterior según las definiciones proporcionadas anteriormente se aplicarán también al sustrato de lente. Preferiblemente, la lente para gafas comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio, en el que el al menos un medio es capaz de modificar el al menos un revestimiento, en la superficie frontal del mismo. El al menos un pulso electromagnético individual puede aplicarse a la superficie frontal y/o a la superficie posterior de la lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento modificable. Preferiblemente, el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a la superficie frontal de la lente para gafas, en el que la superficie frontal comprende preferiblemente el al menos un revestimiento y el al menos un medio. Más preferiblemente, el al menos un revestimiento de la superficie frontal de la lente para gafas o del sustrato de lente para gafas respectivamente está cubierto completa o parcialmente con al menos un medio que es capaz de modificar la topografía de la superficie del al menos un revestimiento o está completa o parcialmente en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar la topografía de la superficie del al menos un revestimiento. Sin embargo, en el caso en el que la lente para gafas comprenda al menos un revestimiento modificable y al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento en la superficie frontal y en la superficie posterior del mismo, el al menos un pulso electromagnético individual todavía puede aplicarse solo a una superficie, por ejemplo, solo a la superficie frontal. En este caso, la superficie del al menos un revestimiento, en el que el al menos un revestimiento está cubierto completa o al menos parcialmente por el al menos un medio, en la superficie opuesta, en este caso la superficie posterior de la lente para gafas puede ser modificada simultánea y preferiblemente en el mismo tiempo por el al menos un pulso electromagnético individual aplicado solo a la superficie, en este caso la superficie frontal. Se supone que esta modificación simultánea se basa en la transferencia de energía desde el al menos un pulso electromagnético individual tanto a la superficie frontal como a la superficie posterior del sustrato de lente debido a diferencias menores en la transparencia del sustrato de lente y del al menos un revestimiento modificable. La transparencia es preferiblemente la transmitancia a una longitud de onda determinada, la transmitancia se determina preferiblemente mediante el uso de un espectrómetro UV VIS, por ejemplo, el espectrómetro UV VIS Perkin Elmer 950S de Perkin Elmer. La parte de luz del al menos un pulso electromagnético individual que no es absorbida o que solo es absorbida mínimamente por el al menos un revestimiento modificable y/o el al menos un medio y/o el sustrato de lente se refleja en todas las interfaces posibles, por ejemplo, en la interfaz entre el sustrato de lente y el revestimiento adyacente y/o en la interfaz entre la etapa en la que se coloca la lente para gafas y el revestimiento adyacente y/o en la interfaz entre la etapa en la que se coloca la lente para gafas y el al menos un medio adyacente. Se supone que la parte de la luz del al menos un pulso electromagnético individual que es absorbida, por ejemplo, por el sustrato de lente es responsable de un calentamiento instantáneo de corta duración del sustrato de lente sin deteriorar el sustrato de lente. Además, como debido al calentamiento instantáneo de corta duración del sustrato de lente, la temperatura es más alta que la temperatura del al menos un revestimiento modificable, se supone que la modificación del al menos un revestimiento en la superficie opuesta se basa en un efecto indirecto causado por el al menos un pulso electromagnético individual aplicado. Además, se supone también que la reflexión posterior del al menos un pulso electromagnético individual desde la etapa en la que se coloca la lente para gafas contribuye a la modificación del al menos un revestimiento en la superficie opuesta a la que no se aplica directamente el al menos un pulso electromagnético individual. Se supone que la combinación de al menos la transferencia de energía directa desde el al menos un pulso electromagnético individual, la transferencia de energía indirecta desde el sustrato de lente calentado y la transferencia de energía indirecta desde la etapa es una explicación razonada para una modificación simultánea del al menos un revestimiento por el al menos un medio en la superficie frontal y de la superficie posterior de una lente para gafas mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual solo a una de las superficies. Preferiblemente, la duración total del proceso no se prolonga en absoluto o al menos no se prolonga significativamente mediante la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual a una sola superficie, si no que modifica simultáneamente al menos un revestimiento en ambas superficies.

Se supone que la explicación proporcionada anteriormente es válida para el caso en que solo una de las superficies de la lente para gafas, por ejemplo, la superficie frontal, comprende al menos un revestimiento que es modificable por al menos un medio y el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a la superficie opuesta de la lente para gafas, por ejemplo, solo la superficie posterior. Se supone que la modificación de la superficie del al menos un revestimiento que es modificable cuando está cubierto completa o parcialmente con al menos un medio o que es modificable cuando se pone en contacto o se ha puesto en contacto completa o parcialmente con al menos un medio, en el que el al menos un medio es capaz de modificar el al menos un revestimiento, en particular para modificar la superficie del al menos un revestimiento, es debida a la transferencia de energía desde el al menos un pulso electromagnético individual a la superficie del sustrato de lente. A su vez, se supone que esta transferencia de energía es debida a pequeñas diferencias en la transparencia del sustrato de lente y que el al menos un revestimiento es modificable cuando entra en contacto con al menos un medio. La transparencia es preferiblemente la transmitancia a una longitud de onda determinada, la transmitancia se determina preferiblemente mediante el uso de un espectrómetro UV VIS, por ejemplo, el espectrómetro UV VIS Perkin Elmer 950S de Perkin Elmer. La parte de la luz del al menos un pulso electromagnético individual que no es absorbida o solo es absorbida mínimamente por el sustrato de lente se refleja en todas las interfaces posibles, por ejemplo, en la interfaz entre el sustrato de lente y cualquier revestimiento adyacente y/o en la interfaz entre la etapa en la que se coloca la lente para gafas y cualquier revestimiento adyacente. Se supone que la parte de la luz del al menos un pulso electromagnético individual que es absorbida, por ejemplo, por el sustrato de lente es responsable de un calentamiento instantáneo de corta duración del sustrato de lente sin deteriorar el sustrato de lente. Además, como debido al calentamiento instantáneo de corta duración del sustrato de la lente, la temperatura es más alta que la temperatura del al menos un revestimiento modificable, se supone que la modificación del al menos un revestimiento, en particular la superficie del al menos un revestimiento, en la superficie opuesta de la lente para gafas, a la que no se aplica directamente un pulso electromagnético individual, se basa en un efecto indirecto causado por el al menos un pulso electromagnético individual aplicado. Además, se supone también que la reflexión posterior del al menos un pulso electromagnético individual desde la etapa en la que se coloca la lente para gafas contribuye a la modificación del al menos un revestimiento en la superficie opuesta a la que no se aplica directamente el al menos un pulso electromagnético individual. Se supone que la transferencia de energía indirecta desde el sustrato de lente calentado y la transferencia de energía indirecta desde la etapa es una explicación razonada para la modificación del al menos un revestimiento, en particular la superficie del al menos un revestimiento, mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual a esa superficie de la lente para gafas que no comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio. Preferiblemente, la duración total del proceso no se prolonga en absoluto o al menos no se prolonga significativamente mediante la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual a una sola superficie, si no que modifica al menos un revestimiento en la superficie opuesta.

Durante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual a al menos una superficie de una lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento, preferiblemente debe tenerse especial cuidado de que la dosis del al menos un pulso electromagnético individual no sea demasiado alta como para evaporar completamente el al menos un medio que cubre completa o al menos parcialmente el al menos un revestimiento o como para desplazar aleatoriamente el al menos un medio o desplazar de manera no aleatoria el al menos un medio, en el que se supone que el desplazamiento aleatorio es debido, por ejemplo, al efecto Leidenfrost. Una evaporación completa del al menos un medio resultaría en la imposibilidad de obtener la superficie óptica objetivo o de obtener por completo la superficie óptica objetivo. Un desplazamiento aleatorio incontrolado del al menos un medio resultaría en la imposibilidad de obtener la superficie óptica objetivo. De manera alternativa, puede usarse un desplazamiento controlado del al menos un medio usando, por ejemplo, el efecto Leidenfrost, para modificar el al menos un revestimiento en posiciones que antes de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual no estaban en contacto con, o no estaban cubiertas por, el al menos un medio. Para algunas aplicaciones, tales como el control de la miopía, uno de los enfoques es inducir el desenfoque. En este contexto, un desplazamiento controlado o incluso incontrolado del al menos un medio durante la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual podría usarse para ajustar o modificar los parámetros de desplazamiento, tales como la cantidad de al menos un medio desplazado o la distancia del al menos un medio desplazado.

La aplicación de al menos un pulso electromagnético individual a al menos una superficie de una lente para gafas que comprende al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento resulta en una superficie óptica objetivo que es idéntica a las superficies ópticas objetivo que pueden conseguirse mediante el método divulgado en el documento EP19204745.4, pero la duración total del proceso es mucho más corta que el tiempo de contacto o una duración total del proceso necesaria en el documento EP19204745.4. La duración total del proceso, es decir, el tiempo total necesario para modificar el al menos un revestimiento aplicado sobre al menos una superficie de un sustrato de lente no revestido o revestido previamente mediante el uso de al menos un pulso electromagnético individual, tal como se ha descrito anteriormente, está comprendido en un intervalo preferiblemente de 100 ps a 7 min, más preferiblemente de 300 ps a 5 min, más preferiblemente de 500 ps a 4 min y más preferiblemente de 1 ms a 3 min. Por ejemplo, para modificar el al menos un revestimiento poniendo en contacto el mismo con al menos un medio para obtener al menos una microlente que tenga un perfil 3D gaussiano con una altura de 800 nm y una anchura de 500 nm, la duración total del proceso cuando se aplica al menos un pulso electromagnético individual es menor de 70 segundos, mientras que para la creación de la al menos una microlente idéntica mediante el uso de las condiciones descritas en el documento EP19204745.4 se requiere un tiempo de contacto o una duración total del proceso de aproximadamente 20 horas.

La modificación de al menos un revestimiento con al menos un medio mediante el uso de al menos un pulso electromagnético individual puede realizarse en un proceso por lotes o en un proceso continuo. Puede realizarse un proceso por lotes, por ejemplo, sin desplazamiento durante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual. Puede realizarse un proceso continuo, por ejemplo, con desplazamiento durante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual. Un ejemplo del proceso continuo es un proceso que usa una cinta transportadora. Tanto en un proceso por lotes como en un proceso continuo, una lente para gafas individual que comprende al menos un revestimiento modificable cubierto completa o al menos parcialmente con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento o al menos dos de dichas lentes para gafas, puede estar en la etapa cuando se aplica al menos un pulso electromagnético individual. Una ventaja importante de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual a una lente para gafas que comprende al menos un revestimiento modificable y en contacto directo con el al menos un revestimiento modificable al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un medio es la posibilidad de tener una exposición localizada de la lente para gafas mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual. De esta manera, la dosis del al menos un pulso electromagnético individual puede adaptarse o variarse para diferentes regiones de la lente para gafas. La aplicación del al menos un pulso electromagnético individual puede resultar en al menos una modificación del al menos un revestimiento, en el que la al menos una modificación es al menos una microlente de cualquier forma o configuración arbitraria. La adaptación o variación de la dosis del al menos un pulso electromagnético individual puede resultar, por ejemplo, o puede usarse para obtener un gradiente de dioptrías de las microlentes. Además, la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual puede resultar en al menos una modificación del al menos un revestimiento, en el que la al menos una modificación resulta en la superficie óptica final o resulta en las superficies ópticas finales de la lente para gafas. Preferiblemente, se usa un proceso continuo para adaptar o variar la dosis del al menos un pulso electromagnético individual aplicado para diferentes regiones de la lente para gafas. Independientemente de una aplicación de al menos un pulso electromagnético individual en un proceso por lotes o en un proceso continuo a al menos la superficie frontal de una lente para gafas, a al menos la superficie posterior de una lente para gafas o a la superficie frontal y la superficie posterior de la lente para gafas, directa o indirectamente, tal como se ha descrito anteriormente, la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual permite una modificación selectiva de la superficie del al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio que es capaz de modificar el al menos un revestimiento. La modificación selectiva de la superficie comprende preferiblemente que al menos la al menos una posición de la al menos una superficie de la lente para gafas a la que se aplica el al menos un pulso electromagnético individual podría seleccionarse de manera específica. La al menos una posición seleccionada de manera específica de al menos una superficie de la lente para gafas podría ser la superficie a la que se aplica directamente el al menos un pulso electromagnético individual o podría ser la superficie a la que no se aplica directamente el al menos un pulso electromagnético individual. Más preferiblemente, la modificación selectiva de la superficie comprende la aplicación del al menos un pulso electromagnético individual a al menos una de las superficies de la lente para gafas, tal como se ha descrito anteriormente, con una dosis especificada. Más preferiblemente, la modificación selectiva de la superficie comprende que la al menos una posición a la que se aplica el al menos un pulso electromagnético individual se seleccione de manera específica y que la dosis con la que se aplica el al menos un pulso electromagnético individual a al menos una de las superficies de la lente para gafas se seleccione también de manera específica. Una modificación selectiva de la superficie que comprende la posición seleccionada de manera específica a la que se aplicará al menos un pulso electromagnético individual y/o la dosis seleccionada de manera específica de al menos un pulso electromagnético individual podría conseguirse sin la necesidad de ninguna medida adicional. Las medidas adicionales en este sentido podrían ser, por ejemplo, el apantallamiento de aquella parte de una superficie de una lente para gafas que no debe modificarse. El método descrito en el documento EP19204745.4 según el cual es posible una irradiación con luz de xenón no permite irradiar una posición específica en la superficie de una lente para gafas sin medidas adicionales en contraste con el método descrito en el presente documento según el cual se aplica al menos un pulso electromagnético individual.

En el caso en el que el al menos un revestimiento modificable está cubierto completamente con el al menos un medio, pero solo debería modificarse al menos una posición específica y/o al menos una región específica del al menos un revestimiento y en el caso en el que la modificación no comienza inmediatamente cuando se aplica el al menos un medio, puede usarse un proceso continuo apropiado, opcionalmente combinado con un apantallamiento del revestimiento que no se debe modificar.

El al menos un revestimiento a modificar es al menos un revestimiento que preferiblemente es, en sí mismo, modificable de manera irreversible, preferiblemente modificable de manera irreversible cuando se pone en contacto o contacta con al menos un medio que puede causar la modificación irreversible. La modificación irreversible es una modificación irreversible del al menos un revestimiento en sí mismo, es decir, en contraste, por ejemplo, con el método descrito en el documento EP 3531 195 A1, no es necesario aplicar ningún revestimiento adicional o posterior para la modificación irreversible del al menos un revestimiento. Además, el al menos un medio usado para poner en contacto el mismo con el al menos un revestimiento no debe confundirse con la capa de nanopartículas y/o micropartículas usadas, por ejemplo, en el método descrito en el documento EP 3 531 195 A1 para enmascarar una superficie a revestir. La modificación irreversible del al menos un revestimiento se genera preferiblemente poniendo en contacto el al menos un revestimiento en cada posición específica y/o cada región específica a modificar con al menos un medio capaz de causar la modificación irreversible. La modificación irreversible del al menos un revestimiento es preferiblemente un hinchamiento irreversible del al menos un revestimiento, causado por el contacto de la superficie del al menos un revestimiento con al menos un medio capaz de causar un hinchamiento irreversible. El hinchamiento irreversible del al menos un revestimiento puede observarse como una protuberancia o como una depresión. En el caso en el que el hinchamiento irreversible se observa como una protuberancia, preferiblemente la mayor parte de la superficie no se ha modificado o hinchado. En el caso en el que el hinchamiento irreversible se observa como una depresión, preferiblemente la mayor parte de la superficie se ha modificado o hinchado.

Para modificar el al menos un revestimiento en una posición específica y/o en una región específica, el al menos un revestimiento puede aplicarse a una superficie no revestida o revestida previamente del sustrato de lente bien para cubrir completamente la superficie adyacente justo debajo o bien para cubrir parcialmente la superficie adyacente justo debajo. La superficie no revestida o revestida previamente puede cubrirse parcialmente con el al menos un revestimiento en el sentido de que solo las partes de la superficie no revestida o revestida previamente estén cubiertas con el al menos un revestimiento que se va a modificar y otras partes de la superficie no revestida o revestida previamente no estén cubiertas con el mismo.

El al menos un medio se aplica al por lo menos un revestimiento preferiblemente mediante un método de impresión, más preferiblemente mediante impresión por chorro de tinta. La aplicación del al menos un medio mediante impresión por chorro de tinta tiene la ventaja de que solo la al menos una posición específica y/o la al menos una región específica del al menos un revestimiento a ser modificado está en contacto con el al menos un medio. De manera alternativa o adicional a la aplicación selectiva mediante un método de impresión, las regiones que no se van a modificar pueden enmascararse.

La modificación del al menos un revestimiento puede ser local o extensa. La modificación puede ser de cualquier forma o configuración arbitraria. La modificación puede definir estructuras densamente empaquetadas o estructuras no densamente empaquetadas. La relación de aspecto, es decir, la relación de la altura o la profundidad a la extensión lateral más pequeña, de cada modificación puede ser adaptable o ajustable. La modificación puede comprender al menos una estructura que puede comportarse como una microlente o puede comprender al menos dos estructuras que actúan ópticamente de manera colectiva. La forma de una modificación individual puede tener forma 3D gaussiana, forma de cono, forma de volcán con al menos un cráter, forma de cono con la parte superior plana o puede tener una forma compleja. La modificación puede resultar en potencias dióptricas adaptables individualmente en posiciones específicas.

La modificación se observa como un hinchamiento que, a su vez, se supone que es un hinchamiento controlado por difusión. Se supone que el hinchamiento controlado por difusión depende de, o está restringido al menos por, el tiempo durante el cual el al menos un medio está en contacto con el al menos un revestimiento y la superficie de contacto entre el al menos un medio y el al menos un revestimiento. Para el hinchamiento controlado por difusión, debe considerarse preferiblemente la ley de Fick, preferiblemente la primera y la segunda ley de difusión de Fick.

El al menos un revestimiento que es modificable cuando está en contacto o contacta con al menos un medio es preferiblemente un revestimiento fotocrómico o un revestimiento basado en una composición de revestimiento que puede usarse para un revestimiento fotocrómico pero sin ningún tinte fotocrómico. El contacto de al menos un revestimiento que es modificable cuando está en contacto o ha estado en contacto con al menos un medio con el al menos un medio resulta en una modificación de dicho al menos un revestimiento en sí mismo. La modificación de dicho al menos un revestimiento en sí mismo es preferiblemente una modificación de la superficie de dicho al menos un revestimiento. La modificación de dicho al menos un revestimiento es, tal como se ha indicado anteriormente, preferiblemente un hinchamiento de dicho al menos un revestimiento, más preferiblemente un hinchamiento controlado por difusión de dicho al menos un revestimiento. De esta manera, expresado de manera diferente, no se necesitan revestimientos adicionales para modificar la topografía de la superficie de dicho al menos un revestimiento.

La lente para gafas, preferiblemente una lente correctora, puede comprender el al menos un revestimiento modificable en la superficie frontal y en la superficie posterior. En el caso en el que el al menos un revestimiento modificable es un revestimiento fotocrómico o es un revestimiento basado en una composición de revestimiento que puede usarse para un revestimiento fotocrómico pero la composición de revestimiento no comprende un tinte fotocrómico, solo la superficie frontal de la lente para gafas, preferiblemente la lente correctora, comprende el al menos un revestimiento respectivo. La modificación de la superficie óptica final es preferiblemente una modificación o adaptación de la superficie óptica final teniendo en cuenta la visión periférica y no perjudicando la visión foveal. Una modificación o una adaptación de la superficie óptica final teniendo en cuenta la visión periférica y no perjudicando la visión foveal es preferiblemente un cambio posterior de una superficie óptica final. Mediante la presente invención, la superficie óptica final es definitiva con respecto a la visión foveal. La modificación o adaptación de la superficie óptica final teniendo en cuenta la visión periférica es preferiblemente una modificación posterior de la superficie óptica final que resulta en al menos una microlente. La al menos una microlente puede tener cualquier forma o configuración arbitraria adaptada individualmente teniendo en cuenta la refracción periférica de los ojos de un usuario. En el caso en el que la modificación posterior de la superficie óptica final resulta en al menos dos microlentes de cualquier forma o configuración arbitraria, las al menos dos microlentes se distribuyen por la superficie teniendo en cuenta la refracción periférica individual. La forma o configuración arbitraria de las al menos dos microlentes puede ser idéntica o diferente entre sí, cada una considerando la refracción periférica individual. Preferiblemente, la al menos una microlente o las al menos dos microlentes no perjudican la visión foveal.

El al menos un revestimiento fotocrómico puede estar basado, por ejemplo, en una composición fotocrómica descrita en los documentos EP 1433 814 A1, EP 1602479 A1 o EP 1561 571 A1. El al menos un revestimiento basado en una composición de revestimiento que normalmente resulta en una composición fotocrómica puede comprender una composición descrita en los documentos EP 1433814 A1, EP 1602479 A1 o EP 1561 571 A1, pero sin ningún tinte fotocrómico.

El documento EP 1433814 A1, en particular el documento EP 1433814 A1, reivindicación 1, divulga una composición fotocrómica que comprende (1) 100 partes en peso de monómeros polimerizables por radicales; (2) de 0,01 a 20 partes en peso de un compuesto amina; y (3) de 0,01 a 20 partes en peso de un compuesto fotocrómico, en el que los monómeros polimerizables por radicales incluyen un monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis, y/o un monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo isocianato. Según el documento EP 1 433 814 A1, para aumentar la adhesión entre el revestimiento fotocrómico resultante de la composición fotocrómica descrita en el dicho documento y un sustrato de lente para gafas, se usa un monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis o un monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo isocianato. Los monómeros que pueden usarse se mencionan en el documento EP 1433814 A1, página 3, párrafo [0025], a la página 7, párrafo [0046]. Además, según el documento EP 1 433 814 A1, la composición fotocrómica puede incluir otros monómeros polimerizables por radicales. Como otros monómeros polimerizables, preferiblemente se usa una combinación de un monómero polimerizable por radicales que tiene una dureza Rockwell escala L para homopolímeros de al menos 60 ("monómero de alta dureza") y un monómero polimerizable por radicales que tiene una dureza Rockwell escala L para homopolímeros de 40 o menos ("monómero de baja dureza") para mejorar las propiedades características, tales como la resistencia a los disolventes, la dureza y la resistencia al calor del revestimiento fotocrómico resultante o las propiedades fotocrómicas del mismo, tales como la intensidad de desarrollo de color y la velocidad de decoloración. En el documento EP 1433814 A1, de la página 7, párrafo [0052], a la página 13, párrafo [0096] se proporcionan ejemplos y explicaciones con respecto a los monómeros de alta dureza y los monómeros de baja dureza. Para mejorar el equilibrio de las propiedades características, tales como resistencia al disolvente, dureza y resistencia al calor, o las propiedades fotocrómicas, tales como intensidad de desarrollo de color y la velocidad de decoloración del revestimiento fotocrómico resultante, la cantidad de un monómero de baja dureza es preferiblemente del 5 al 70% en peso y la cantidad de un monómero de alta dureza es preferiblemente del 5 al 95% en peso en base al total de todos los demás monómeros polimerizables por radicales, excluyendo el monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis y el monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo isocianato. Además, según el documento EP 1433814 A1, es particularmente preferible que un monómero que tiene al menos tres grupos polimerizables por radicales esté contenido como el monómero de alta dureza en una cantidad de al menos el 5% en peso en base al total de todos los demás monómeros polimerizables por radicales. Más preferiblemente, según el documento EP 1 433 814 A1, los monómeros polimerizables por radicales incluyen un monómero polimerizable por radicales que tiene al menos un grupo epoxi y al menos un grupo polimerizable por radicales en la molécula además de los monómeros mencionados clasificados por dureza. La durabilidad de un compuesto fotocrómico y la adhesión del revestimiento fotocrómico pueden mejorarse usando el monómero polimerizable por radicales que tiene al menos un grupo epoxi. En el documento EP 1433 814 A1, de la página 13, párrafo [0101], a la página 14, párrafo [0105] se divulgan monómeros polimerizables por radicales que tienen al menos un grupo epoxi y al menos un grupo polimerizable por radicales en la molécula. Según el documento EP 1433814 A1, la cantidad del monómero polimerizable por radicales que tiene al menos un grupo epoxi y al menos un grupo polimerizable por radicales en la molécula es preferiblemente del 0,01 al 30% en peso, de manera particularmente preferible del 0,1 al 20% en peso en base al total de todos los demás monómeros polimerizables por radicales. La composición fotocrómica descrita en el documento EP 1433814 A1 comprende al menos un compuesto amina en una cantidad de 0,01 a 20 partes en peso en base a 100 partes en peso del total de todos los monómeros polimerizables por radicales además de los monómeros polimerizables por radicales indicados anteriormente. En el documento EP 1 433814 A1, de la página 14, párrafo [0108], a la página 15, párrafo [0112] se proporcionan ejemplos para el al menos un compuesto amina. La composición fotocrómica divulgada en el documento EP 1433 814 A1 comprende al menos un compuesto fotocrómico en una cantidad de 0,01 a 20 partes en peso, preferiblemente de 0,05 a 15 partes en peso y más preferiblemente de 0,1 a 10 partes en peso en base a 100 partes en peso del total de todos los monómeros polimerizables por radicales. En el documento EP 1433814 A1, de la página 15, párrafo [0114] a la página 20, párrafo [0122] se proporcionan ejemplos de compuestos fotocrómicos.

El documento EP 1602479 A1, en particular el documento EP 1602479 A1, reivindicación 9, divulga una composición fotocrómica que comprende 100 partes en peso de un monómero polimerizable por radicales, de 0,001 a 5 partes en peso de un tensioactivo a base de silicona o a base de flúor y de 0,01 a 20 partes en peso de un compuesto fotocrómico. Según el documento EP 1 602 479 A1, la composición fotocrómica comprende un monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis, un compuesto amina y un compuesto fotocrómico. La cantidad de uso del monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis es, de manera adecuada, del 0,5 al 20% en peso, particularmente del 1 al 10% en peso en base al peso total de los agentes de revestimiento completos. Otros monómeros polimerizables por radicales que según el documento EP 1 602 479 A1 pueden usarse junto con el monómero polimerizable por radicales que tiene un grupo silanol o un grupo que forma un grupo silanol por hidrólisis, tales como, por ejemplo, trimetacrilato de trimetilolpropano, triacrilato de trimetilolpropano, trimetacrilato de tetrametilolmetano, triacrilato de tetrametilolmetano, triacrilato de trimetilolpropano trietilenglicol, tetrametacrilato de pentaeritritol, hexaacrilato de dipentaeritritol, tetraacrilato de oligómero de uretano, hexametacrilato de oligómero de uretano, hexaacrilato de oligómero de uretano, hexaacrilato de oligómero de poliéster, dimetacrilato de dietilenglicol, dimetacrilato de trietilenglicol, dimetacrilato de tetraetilenglicol, dimetacrilato de tripropilenglicol, dimetacrilato de bisfenol A, 2,2-bis(4-metacriloxietoxidifenil)propano, metacrilato de glicidilo, 2,2-bis(4-acriloiloxipolietilenglicol fenil)propano que tiene un peso molecular promedio de 776 o metacrilato de metiléter polietilenglicol que tiene un peso molecular promedio de 475. La cantidad de uso de los otros monómeros polimerizables por radicales es, de manera adecuada, del 20 al 90% en peso, particularmente del 40 al 80% en peso en base al peso de todos los agentes de revestimiento. La cantidad de uso del compuesto amina, tal como trietanolamina, N-metildietanolamina, triisopropanolamina, metacrilato de N,N-dimetilaminoetilo o metacrilato de N,N-dietilaminoetilo, por ejemplo, es, de manera adecuada, del 0,01 al 15% en peso, particularmente del 0,1 al 10% en peso en base al peso de todos los agentes de revestimiento. La cantidad de uso del compuesto fotocrómico, tal como un derivado de naftopirano, un derivado de cromeno, un derivado de espirooxazina, un derivado de espiropirano o un derivado de flugimida es, de manera adecuada, del 0,1 al 30% en peso, particularmente del 1 al 10% en peso en base al peso de todos los agentes de revestimiento. En el caso en el que la lente para gafas comprende al menos un revestimiento fotocrómico, preferiblemente la superficie frontal de la lente para gafas, preferiblemente una lente correctora, que comprende el al menos un revestimiento fotocrómico, la lente para gafas, preferiblemente una lente correctora, puede comprender opcionalmente al menos una imprimación fotocrómica. Preferiblemente, la superficie frontal de la lente para gafas, preferiblemente la lente correctora, comprende la al menos una imprimación fotocrómica y el al menos un revestimiento fotocrómico, en el que el revestimiento fotocrómico es el revestimiento más externo de la misma. La al menos una imprimación fotocrómica puede comprender la capa de resina de poliuretano divulgada en el documento EP 1602479 A1, en particular en el documento EP 1 602 479 A1, reivindicación 1, o la capa de imprimación divulgada en el documento WO 03/058300 A1, en particular en el documento WO 03/058300 A1, de la página 22, línea 3 a la página 23, línea 13.

El al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento es preferiblemente al menos un ácido orgánico. El al menos un medio comprende preferiblemente al menos un ácido monocarboxílico orgánico alifático saturado o insaturado, opcionalmente sustituido. El al menos un medio comprende preferiblemente al menos un ácido monocarboxílico orgánico alifático saturado o insaturado que comprende de 2 a 22 átomos de carbono, preferiblemente de 3 a 18 átomos de carbono. Como al menos un medio, pueden usarse ácido acético, ácido propiónico, ácido acrílico, ácido láctico, ácido butírico, ácido isobutírico, ácido valérico, ácido heptanoico, ácido caproico, ácido caprílico, ácido pelargónico, ácido miristoleico, ácido palmitoleico, ácido linoleico, ácido alfa linolénico, ácido gamma linolénico, ácido oleico, ácido ricinoleico, ácido estearidónico, ácido araquidónico, ácido eicosapentaenoico, ácido docosapentaenoico y/o ácido docosahexaenoico, por ejemplo. Preferiblemente, el al menos un medio comprende al menos un ácido seleccionado de entre el grupo que consiste en ácido acético, ácido láctico, ácido butírico, ácido caproico, ácido caprílico, ácido pelargónico, ácido linoleico, ácido alfa linolénico, ácido gamma linolénico y ácido oleico. Más preferiblemente, el al menos un medio comprende al menos un ácido seleccionado de entre el grupo que consiste en ácido láctico, ácido caprílico y ácido oleico. De manera alternativa o adicional, el al menos un medio puede comprender un ácido tricarboxílico, tal como ácido cítrico, por ejemplo, o un ácido inorgánico, tal como ácido clorhídrico, por ejemplo. Como al menos un medio, puede usarse uno de los indicados anteriormente o cualquier combinación de los mismos. El al menos un medio puede usarse en una calidad comercialmente disponible o una calidad comercialmente disponible o el al menos un medio puede usarse diluido o el al menos un medio puede usarse en diferentes concentraciones. En el caso en el que el al menos un medio se aplica mediante impresión por chorro de tinta, es posible que la viscosidad del al menos un medio deba ajustarse para poder imprimirse. Además, en el caso en el que el al menos un medio se aplica mediante impresión por chorro de tinta, además de, por ejemplo, la al menos una posición específica y/o la al menos una región específica en la que debe aplicarse el al menos un medio y/o a una variación de los parámetros para el al menos un pulso electromagnético individual a aplicar y/o a una variación en la duración total del proceso, la tinta que comprende el al menos un medio puede ser también variable, por ejemplo, con respecto a la concentración del al menos un medio y/o mediante la adición de al menos un aditivo. De esta manera, es posible una gran diversidad de modificaciones de superficie alcanzables considerando todas las posibilidades para las variaciones indicadas anteriormente. Para ampliar incluso adicionalmente la diversidad de modificaciones de superficie alcanzables, la superficie del al menos un revestimiento a modificar por el al menos un medio puede activarse, por ejemplo, mediante una solución alcalina. Dicha activación puede influir al menos en la dimensión, la forma y/o el ángulo de contacto de la tinta de impresión por chorro de tinta, preferiblemente después de la coalescencia de la misma como una gota, en la superficie del al menos un revestimiento. De esta manera, a su vez, influye en al menos la dimensión y/o la forma de la modificación de superficie resultante después de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual.

El al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento preferiblemente está solo temporalmente en contacto con el al menos un revestimiento. El al menos un medio o bien (i) se elimina mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual o mediante la aplicación de pulsos electromagnéticos individuales o bien (ii) se elimina después de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual o mediante la aplicación de pulsos electromagnéticos individuales, por ejemplo, simplemente limpiando o enjuagando. De esta manera, el al menos un medio no debe permanecer como material o revestimiento adicional sobre el al menos un revestimiento.

La modificación de la superficie del al menos un revestimiento modificable cuando se pone en contacto o se ha puesto en contacto con al menos un medio capaz de modificar el al menos un revestimiento, preferiblemente un hinchamiento controlado por difusión acelerado por la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, comprende al menos una modificación que resulta en al menos una microlente o una lentilla de cualquier forma o configuración arbitraria, así como la modificación de toda la superficie del al menos un revestimiento que resulta en una superficie óptica final deseada. La modificación de toda la superficie del al menos un revestimiento para obtener al menos una de las superficies ópticas finales de la lente para gafas puede reemplazar los métodos convencionales, tales como un proceso de esmerilado y pulido. A su vez, esto significa un cambio de paradigma en la fabricación de lentes para gafas.

En el caso de una modificación de superficie local del al menos un revestimiento, la microlente o la lentilla resultante puede tener una altura comprendida en el intervalo de preferiblemente 1 nm a 10 pm, más preferiblemente de 2 nm a 9 pm, más preferiblemente de 3 nm a 8 pm, más preferiblemente en el intervalo de 4 nm a 7 pm y más preferiblemente en el intervalo de 5 nm a 6 pm. Para una modificación de superficie local que comprende una forma compleja, los intervalos indicados anteriormente se aplican preferiblemente para la altura máxima. Con respecto a la extensión lateral, la anchura, puede proporcionarse preferiblemente un intervalo de 5 pm a 20 mm, más preferiblemente de 10 pm a 10 mm, más preferiblemente de 20 pm a 5 mm, más preferiblemente de 50 pm a 4 mm y más preferiblemente de 70 pm a 3 mm. Las dimensiones se determinan preferiblemente mediante un sistema de interferómetro de luz blanca. Con respecto a la potencia de superficie alcanzable de una modificación de superficie local que resulta en una microlente o lentilla, puede ajustarse un amplio intervalo por la gran diversidad de posibilidades de modificación indicadas anteriormente. La potencia superficial puede estar comprendida en un intervalo de 0,2 dioptrías a 50 dioptrías, y preferiblemente en un intervalo de 0,25 dioptrías a 40 dioptrías, más preferiblemente en un intervalo de 0,3 dioptrías a 30 dioptrías, más preferiblemente en un intervalo de 0,4 dioptrías a 20 dioptrías y más preferiblemente en un intervalo de 0,5 dioptrías a 10 dioptrías. La potencia superficial puede calcularse tal como se explica en el documento EP19204745.4.

El al menos un revestimiento modificable con al menos un medio, en el que la modificación de superficie causada por el al menos un medio capaz de ser acelerada significativamente mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, es preferiblemente al menos un revestimiento que se cura y/o endurece y no solo se seca o se cura previamente.

La lente para gafas que comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio puede comprender además al menos un revestimiento adicional, en el que el al menos un revestimiento es el revestimiento más externo del mismo. Preferiblemente, el al menos un revestimiento adicional se aplica después de realizar la modificación de la superficie. El al menos un revestimiento adicional preferiblemente no destruye ni daña la modificación de la superficie del al menos un revestimiento. El al menos un revestimiento adicional es preferiblemente al menos un revestimiento de imprimación y/o al menos un revestimiento duro basado en una composición de revestimiento, preferiblemente capaz de secarse y curarse y/o endurecerse mediante la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual, tal como se divulga, por ejemplo, en el documento EP 20182515.5. El al menos un revestimiento duro puede estar basado en al menos una de las composiciones de revestimiento duro divulgadas en el documento US 2005/0171231 A1, en el documento US 2009/0189303 A1 o en el documento US 2002/0111390 A1. De manera alternativa, el al menos un revestimiento duro puede estar basado en la composición de revestimiento resistente a la abrasión divulgada en el documento WO 2007/070976 A1. El al menos un revestimiento duro está basado preferiblemente en al menos una composición de revestimiento duro divulgada en el documento EP 2 578 649 A1, particularmente en el documento EP 2 578 649 A1, reivindicación 1. La al menos una composición de revestimiento duro configurada para producir el al menos un revestimiento duro comprende preferiblemente

A) a) al menos un derivado de silano de la fórmula (I) Si(OR1)(OR2)(OR3)(OR4), en la que R1, R2, R3 y R4, que pueden ser iguales o diferentes, se seleccionan de entre un grupo alquilo, un grupo acilo, un grupo alquilenacilo, un grupo cicloalquilo, un grupo arilo o un grupo alquilenarilo, cada uno de los cuales puede estar opcionalmente sustituido, y/o

b) al menos un producto de hidrólisis del al menos un derivado de silano de la fórmula (I), y/o

c) al menos un producto de condensación del al menos un derivado de silano de la fórmula (I), y/o

d) cualquier mezcla de los componentes a) a c) de los mismos;

B) a) al menos un derivado de silano de la fórmula (II) R6R73-nSi(OR5)n, en la que R5 se selecciona de entre un grupo alquilo, acilo, alquilenacilo, cicloalquilo, arilo o alquilenarilo, cada uno de los cuales puede estar opcionalmente sustituido, R6 es un radical orgánico que contiene al menos un grupo epóxido, R7 se selecciona de entre un grupo alquilo, cicloalquilo, arilo o alquilenarilo, cada uno de los cuales puede estar opcionalmente sustituido, n es 2 o 3; y/o

b) al menos un producto de hidrólisis del al menos un derivado de silano de la fórmula (II), y/o

c) al menos un producto de condensación del al menos un derivado de silano de la fórmula (II), y/o cualquier mezcla de los componentes a) a c) del mismo;

C) al menos un óxido, hidróxido, óxido hidratado, fluoruro y/u oxifluoruro inorgánico coloidal;

D) al menos un compuesto epóxido que tiene al menos dos grupos epóxido; y

E) al menos un sistema catalizador que comprende al menos un ácido de Lewis y al menos un aducto ácido-base de Lewis termolatente.

De manera alternativa o adicional a la al menos una composición de revestimiento duro indicada anteriormente que resulta en al menos un revestimiento duro, el al menos un revestimiento duro está basado preferiblemente en al menos una composición de revestimiento duro que comprende

A) a) al menos un derivado de silano de la fórmula (III) R1R23-nSi(OR3)n, en la que R1 comprende un grupo alquilo, un grupo cicloalquilo, un grupo acilo, un grupo arilo o un grupo heteroarilo, cada uno de los cuales puede estar sustituido, R2 es un resto orgánico que comprende un grupo epóxido, R3 comprende un grupo alquilo, un grupo cicloalquilo, un grupo arilo o un grupo heteroarilo, cada uno de los cuales puede estar sustituido, n = 2 o 3, y/o b) al menos un producto de hidrólisis del derivado de silano de la fórmula (III), y/o

c) al menos un producto de condensación del derivado de silano de la fórmula (III), y/o

d) cualquier mezcla de los componentes a) a c);

B) al menos un óxido, hidróxido, óxido hidratado, fluoruro y/u oxifluoruro inorgánico coloidal;

C) al menos un componente epoxi que comprende al menos dos grupos epoxi; y

D) al menos un sistema catalizador que comprende al menos un ácido de Lewis y al menos un aducto de base de Lewis termolatente.

La lente para gafas puede comprender el al menos un revestimiento adicional indicado anteriormente bien i) directamente adyacente al por lo menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio o que se ha puesto en contacto con al menos un medio o ii) una superficie de la lente para gafas que no comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio o que se ha puesto en contacto con al menos un medio comprende dicho al menos un revestimiento adicional. Una superficie de la lente para gafas que no comprende el al menos un revestimiento que es modificable cuando se pone en contacto con al menos un medio o que se ha puesto en contacto con al menos un medio puede ser la superficie de borde de una lente con bordes, la superficie frontal de un sustrato de lente no revestido o revestido previamente o la superficie posterior de un sustrato de lente no revestido o revestido previamente.

Preferiblemente, el sustrato de lente está basado en un material óptico, en el que el material óptico se define según la sección 3.3.1 de la norma DIN EN ISO 13666:2019-12 como material transparente capaz de ser fabricado en componentes ópticos. El sustrato de lente para gafas puede estar realizado en vidrio mineral según la sección 3.3.1 de la norma DIN EN ISO 13666:2019-12 y/o en una resina dura orgánica, tal como una resina dura termoestable según la sección 3.3.3 de la norma DIN EN ISO 13666:2019-12; una resina dura termoplástica según la sección 3.3.4 de la norma DIN EN ISO 13666:2019-12; o un material fotocrómico según la sección 3.3.5 de la norma DIN EN ISO 13666:2019-12.

Preferiblemente, el sustrato de lente para gafas está basado en al menos uno de los materiales ópticos indicados en la siguiente tabla, de manera particularmente preferida en al menos una de las resinas duras orgánicas.

Tabla: Ejemplos de materiales ópticos

* Basado en la línea D de sodio

A continuación, la invención se describe más detalladamente por medio de los ejemplos, sin estar restringida a los ejemplos:

I Fabricación de lentes para gafas que comprenden microlentes o lentillas según los ejemplos y ejemplos comparativos

Ejemplo 1:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en tiouretano (MR8, Mitsui Resin, diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con un revestimiento fotocrómico (Photofusion, sin ningún revestimiento adicional y sin los tintes fotocrómicos, Carl Zeiss Vision), se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en un baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con una tinta compuesta de ácido oleico y 0,2% en peso de SF 1188A como tensioactivo, usando la impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 50 veces (50 gotas). Después de esto, la superficie frontal con las gotas de tinta definidas se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 160 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 107 segundos en aire ambiente. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,35 J/cm2. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos se dividió en 8 micropulsos con un ciclo de trabajo medio del 30%. La envolvente de cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos era de 225 ms. La exposición indujo el hinchamiento del revestimiento fotocrómico inferior y formó lentillas, y la tinta impresa restante se limpió de la superficie de la lente antes de enjuagar adicionalmente la superficie de la lente con disolvente de isopropanol.

Ejemplo 2:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en un baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 30 veces (30 gotas).

Ejemplo 3:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, solo se limpió manualmente con disolvente de isopropanol y se midió una energía libre superficial de 46,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con la tinta compuesta de ácido oleico y 0,2% en peso de SF 1188A como tensioactivo, usando una impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 30 veces (30 gotas).

Ejemplo 4-7:

Sustratos de lentes ópticas no revestidos basados en MR8 (diámetro: 75 mm), revestidos y curados sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, se activaron primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagaron repetidamente en un baño de agua desionizada. A continuación, las superficies frontales de estas lentes se imprimieron con tintas a base de ácido oleico, pero modificadas con diferentes tensioactivos, tal como se muestra en la Tabla 3. Las tintas se depositaron sobre las superficies de las lentes usando una impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. Las superficies frontales de los ejemplos 4-7 se imprimieron con 254 ppp y se repitieron 30 veces (30 gotas).

Ejemplo 8-10:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en un baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con una tinta compuesta de ácido oleico y 0,5% en peso de SF 1188A como surfactante, usando la impresora de inyección de tinta Siissmicrotec Pixdro, equipada con un cabezal de impresión Fujifilm Spectra clase S con un volumen de gota de 80 pl. Las superficies frontales de los ejemplos 8-10 se imprimieron con 972 ppp. Después de esto, las superficies frontales con las gotas de tinta definidas se expusieron a diferentes pulsos electromagnéticos. La lente en el Ejemplo 8 se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 160 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 80 segundos en aire ambiente a una frecuencia de repetición de 2 Hz. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,35 J/cm2. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos se dividió en 8 micropulsos con un ciclo de trabajo medio del 30%. La envolvente de cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos fue de 225 ms. La lente en el Ejemplo 9 se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 160 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 107 segundos en aire ambiente a una frecuencia de repetición de 1,5 Hz. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,35 J/cm2. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos se dividió en 8 micropulsos con un ciclo de trabajo medio del 30%. La envolvente de cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos fue de 225 ms. La lente en el Ejemplo 10 se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 100 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 320 segundos en el aire ambiente. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,35 J/cm2. Cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos se dividió en 8 micropulsos en un ciclo de trabajo medio del 30%. La envolvente de cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos fue de 225 ms. Las exposiciones en los ejemplos 8-10 indujeron el hinchamiento del revestimiento fotocrómico inferior y formaron lentillas, y la tinta impresa restante se limpió de la superficie de la lente antes de enjuagar adicionalmente la superficie de la lente con disolvente de isopropanol.

Ejemplo 11:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en un baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con una tinta compuesta de ácido oleico y el 0,2% en peso de SF 1188A como tensioactivo, usando la impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 50 veces (50 gotas). Después de esto, la superficie frontal con las gotas de tinta definidas se expuso a trenes de pulsos electromagnéticos variables de arriba a abajo. En la parte superior, el tren de pulsos electromagnéticos consistía en 80 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 53 segundos en el aire ambiente. En el centro, el tren de pulsos electromagnéticos consistía en 60 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 40 segundos en el aire ambiente. En la parte inferior, el tren de pulsos electromagnéticos consistía en 40 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 27 segundos en el aire ambiente. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de estos pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,35 J/cm2. Cada uno de estos pulsos electromagnéticos se dividió en 8 micropulsos a un ciclo de trabajo medio del 30%. La envolvente de cada uno de los 160 pulsos electromagnéticos fue de 225 ms. La exposición indujo el hinchamiento del revestimiento fotocrómico inferior y formó lentillas, y la tinta impresa restante se limpió de la superficie de la lente antes de enjuagar adicionalmente la superficie de la lente con disolvente de isopropanol.

Ejemplo 12:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el revestimiento fotocrómico (Photofusion Grey, sin ningún revestimiento adicional, Carl Zeiss Vision), se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto por NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con una tinta compuesta de ácido oleico y el 0,2% en peso de SF 1188A como tensioactivo, usando la impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 50 veces (50 gotas). Después de esto, la superficie frontal con las gotas de tinta definidas se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 120 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 90 segundos en el aire ambiente. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 120 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 8,45 J/cm2. Cada uno de los 120 pulsos electromagnéticos se dividió en 12 micropulsos a un ciclo de trabajo medio del 14%. La envolvente de cada uno de los 120 pulsos electromagnéticos fue de 125 ms. La exposición indujo el hinchamiento del revestimiento fotocrómico inferior y formó lentillas, y la tinta impresa restante se limpió de la superficie de la lente antes de enjuagar adicionalmente la superficie de la lente con disolvente de isopropanol.

Ejemplo 13:

La lente revestida del Ejemplo 1 se revistió adicionalmente en ambas superficies con la composición de imprimación según el Ejemplo 1 del documento US 5.316.791 y, a continuación, con la composición de revestimiento duro según el Ejemplo 2 del documento EP 2 578 649 A1. La lente revestida obtenida de esta manera se secó primero con una lámpara de IR durante 5 minutos a 70°C en aire ambiente. Posteriormente, la superficie frontal se expuso a un tren de pulsos electromagnéticos que consistía en 60 pulsos electromagnéticos en una duración total del proceso de 42 segundos en el aire ambiente. La longitud de onda de cada pulso electromagnético individual estaba comprendida entre 200 nm y 1.000 nm. Cada uno de los 60 pulsos electromagnéticos suministró una dosis de 5,8 J/cm2. Cada uno de los 60 pulsos electromagnéticos se dividió en 12 micropulsos a un ciclo de trabajo medio del 14%. La envolvente de cada uno de los 60 pulsos electromagnéticos fue de 126 ms.

Ejemplo Comparativo 1:

Un sustrato de lente óptica no revestido basado en MR8 (diámetro: 75 mm), revestido y curado sobre una superficie (superficie frontal) con el mismo revestimiento fotocrómico que en el Ejemplo 1, se activó primero en un baño de solución alcalina (compuesto de NaOH al 10%) y se enjuagó repetidamente en un baño de agua desionizada. Después del secado, se midió una energía libre superficial del sustrato de 55,4 mN/m. A continuación, la superficie frontal se imprimió con una tinta compuesta de ácido oleico y el 0,2% en peso de SF 1188A como tensioactivo, usando la impresora de inyección de tinta Fujifilm Dimatrix 2850, equipada con un cabezal de impresión DMC con un volumen de gota de 10 pl. La superficie frontal se imprimió con 254 ppp y se repitió 50 veces (50 gotas). Después de esto, la lente se mantuvo en el suntester Suntest XLS+ (Atlas Material Testing Technology GmbH) equipado con una lámpara de xenón con una densidad de energía de 765 mW/cm2 durante 20 horas que induce el hinchamiento para formar lentillas de las dimensiones requeridas.

II Caracterización y resultados de las lentes para gafas que comprenden las microlentes o lentillas según los ejemplos y los ejemplos comparativos

• Ila: determinación de la forma y las dimensiones de la tinta impresa y las lentillas

La forma y las dimensiones de la tinta impresa y las lentillas se determinaron mediante el sistema de interferómetro de luz blanca denominado 3D Optical Surface Profiler NewView 7100 de la empresa Zygo.

• Ilb: reducción de la duración total del proceso

Al comparar la forma y las dimensiones de las lentillas formadas en el Ejemplo 1 con las lentillas formadas en el Ejemplo comparativo 1, en particular con la anchura y la altura, podrían obtenerse lentillas similares que poseen un perfil gaussiano 3D ya en 106 segundos cuando se hinchan con un tren de pulsos electromagnéticos (Ejemplo 1), en lugar de 20 horas cuando se hinchan usando un suntester equipado con una lámpara de xenón (Ejemplo comparativo 1, Tabla 1). Esta es una reducción del 99,85% en la duración total del proceso para el hinchamiento.

Tabla 1: Comparación de las dimensiones de las lentillas y la duración del proceso entre el Ejemplo 1 y el Ejemplo comparativo 1.

• IIc: Efecto de la variación de la energía libre superficial de los sustratos sobre el comportamiento de humectación de las gotas impresas de ácido oleico (Ejemplo 2 y 3)

Los ejemplos 2 y 3 demuestran el efecto de la activación del sustrato para conseguir gotitas que permiten un perfil gaussiano más 3D de las eventuales lentillas después del hinchamiento (Tabla 2). La forma de activación de la lente, que influye en la energía libre superficial del revestimiento fotocrómico, permite ajustar las dimensiones y el comportamiento de humectación sobre las gotas impresas. Esto tiene consecuencias sobre las dimensiones de las lentillas formadas después del hinchamiento.

Tabla 2: Comparación de los ejemplos 2 y 3.

• Ild: Influencia de la formulación de tinta sobre la impresión de lentillas (Ejemplo de 4-7)

Los ejemplos 4, 5, 6, 7 demuestran el efecto de los tensioactivos en la formulación de tinta en la modificación del comportamiento de dispersión de gotitas sobre sustratos de lente activados de MR8 revestidos con revestimiento fotocrómico sin tintes fotocrómicos. Claramente, en comparación con el ácido oleico puro, una cierta cantidad de tensioactivo puede ser útil para conseguir un diámetro mayor de gotas impresas, lo que conduciría además a una lentilla más grande después del hinchamiento.

Tabla 3: Comparación de gotas impresas de los ejemplos 4, 5, 6 y 7.

• Ile: Influencia del pulso electromagnético sobre la forma de las lentillas

El Ejemplo 8-10 demuestra la influencia del tren de pulsos electromagnéticos sobre el resultado de la forma de las lentillas. La energía global total recibida por la lente en los Ejemplos 8, 9 y 10 y la arquitectura de los pulsos electromagnéticos individuales en el tren de pulsos electromagnéticos son las mismas. Existe una variación en la frecuencia de repetición de los pulsos electromagnéticos individuales en el interior del tren de pulsos electromagnéticos. Esto afecta a la duración total de la exposición sin aumentar la energía total suministrada a cada lente. La altura y la anchura resultantes, por lo tanto, en los Ejemplos 8-10 están bastante cerca unas de otras, pero la forma de la lentilla resultante es muy diferente. Las lentillas con forma de volcán (parte superior plana con cráter) se obtienen en el Ejemplo 8 con una duración de exposición total de 80 segundos, las lentillas con forma gaussiana 3D requeridas se obtienen en el Ejemplo 9 con una duración de exposición total de 107 segundos y las lentillas con la forma de la parte superior plana redondeada se obtienen en el Ejemplo 10 con una duración de exposición total de 320 segundos. Una frecuencia de repetición más elevada de 2 Hz en el Ejemplo 8 corresponde a una exposición más rápida que suministra el mismo número de pulsos electromagnéticos individuales en comparación con el Ejemplo 9 con una frecuencia de repetición de 1,5 Hz y el Ejemplo 10 con una frecuencia de repetición de 0,5 Hz. Una condición de exposición óptima se obtiene en el Ejemplo 9 que resulta en unas lentillas con forma gaussiana 3D.

Tabla 4:

Las formas de las lentillas y los perfiles de superficie respectivos se muestran en la Figura 1.

• Ile: Influencia del pulso electromagnético sobre la altura de las lentillas

El Ejemplo 11 demuestra la influencia del tren de pulsos electromagnéticos sobre el resultado de la altura de las lentillas. Esto demuestra también que puede conseguirse una variación de altura en la misma lente. La altura de las lentillas en la parte superior de la lente que recibió la mayor energía total es de 200 nm, en la parte media que recibió la energía total intermedia es de 130 nm y en la parte inferior que recibió la menor energía total es de 80 nm. El hinchamiento con pulso electromagnético con dosis variables en diferentes regiones de las mismas lentes crea un gradiente de altura de hinchamiento con anchura constante y, de esta manera, un gradiente de potencia óptica.

• Ilf: Influencia del pulso electromagnético sobre la posición de las lentillas

Las lentillas en el Ejemplo 12 muestran un desplazamiento aleatorio incontrolado de las tintas impresas que resulta con la aplicación de un tren de pulsos electromagnéticos de alta energía.

• Ilg: Sobre-revestimiento de las lentillas con revestimiento duro

Las lentillas en el Ejemplo 13 no sufren daños ni se colapsan después del revestimiento duro y del curado posterior con el tren de pulsos electromagnéticos.

Claims

REIVINDICACIONES

1. Método de fabricación de una lente para gafas, en el que la lente para gafas comprende un sustrato de lente y al menos un revestimiento, comprendiendo el método al menos las siguientes etapas:

- Proporcionar un sustrato de lente que tiene una superficie frontal no revestida o revestida previamente y una superficie posterior no revestida o revestida previamente,

- Revestir al menos una superficie del sustrato de lente con al menos un revestimiento,

- Poner en contacto completa o parcialmente la superficie del al menos un revestimiento con al menos un medio, caracterizado porque el método comprende además al menos

- Aplicar un pulso electromagnético individual a al menos una de las superficies de la lente para gafas que comprende el sustrato de lente, el al menos un revestimiento y el al menos un medio,

- Eliminar el al menos un medio,

- Obtener una lente para gafas que comprende al menos un revestimiento con una superficie completa o parcialmente modificada, en el que la superficie del al menos un revestimiento es modificable cuando está en contacto o ha estado en contacto con el al menos un medio, en el que el al menos un medio es capaz de modificar la superficie de dicho al menos un revestimiento.

2. Método de fabricación de una lente para gafas según la reivindicación 1 anterior, caracterizado porque la modificación de la superficie del al menos un revestimiento es una modificación de la topografía de la superficie del al menos un revestimiento.

3. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la modificación de la superficie del al menos un revestimiento es un hinchamiento controlado por difusión del al menos un revestimiento.

4. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el contacto total o parcial de la superficie del al menos un revestimiento con el al menos un medio se realiza imprimiendo el al menos un medio sobre la superficie del al menos un revestimiento.

5. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un pulso electromagnético individual se aplica a una superficie de la lente para gafas que comprende el sustrato de lente, el al menos un revestimiento y el al menos un medio.

6. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un revestimiento se selecciona de entre al menos uno de entre el grupo que consiste en al menos un revestimiento fotocrómico y al menos un revestimiento basado en una composición de revestimiento para un revestimiento fotocrómico pero sin los tintes fotocrómicos.

7. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la superficie del al menos un revestimiento se activa o no se activa antes del contacto con el al menos un medio.

8. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un medio comprende al menos un ácido monocarboxílico alifático orgánico, saturado o insaturado, opcionalmente sustituido.

9. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la modificación completa de la superficie del al menos un revestimiento resulta en la superficie óptica final de la lente para gafas.

10. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la modificación parcial de la superficie del al menos un revestimiento resulta en al menos una microlente.

11. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque al menos un revestimiento adicional, seleccionado de entre al menos uno de entre el grupo que consiste en al menos un revestimiento duro, al menos un revestimiento antirreflectante y al menos un revestimiento limpio, se aplica a la superficie modificada del al menos un revestimiento.

12. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la modificación de la superficie del al menos un revestimiento es ajustable o adaptable mediante al menos el al menos un pulso electromagnético individual aplicado.

13. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la duración total del proceso necesaria para modificar el al menos un revestimiento está comprendida en un intervalo de 100 ps a 7 min.

14. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un pulso electromagnético individual tiene una envolvente comprendida en un intervalo de 50 ps a 200 ms.

15. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un pulso electromagnético individual comprende luz suministrada por al menos una fuente electromagnética seleccionada de entre el grupo que consiste en al menos una lámpara de destellos, al menos una lámpara halógena, al menos un arco de plasma dirigido, al menos un láser, al menos un generador de microondas, al menos un calentador de inducción, al menos un haz de electrones, al menos un estroboscopio y al menos una lámpara de mercurio.

16. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un pulso electromagnético individual tiene una longitud de onda comprendida en el intervalo de 100 nm a 1.800 nm.

17. Método de fabricación de una lente para gafas según una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque el al menos un medio se elimina (i) mediante o (ii) después de la aplicación de al menos un pulso electromagnético individual.