ES2949092T3 - Plataforma de construcción para construir una pieza de trabajo por capas o de manera continua - Google Patents

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Abstract

La presente invención se refiere a una plataforma de construcción (100) para construir una pieza de trabajo (200) capa por capa en un proceso de estereolitografía, con un dispositivo de exposición posterior (101-1) para exponer una capa (103-n) desde un lado posterior. ; un fotosensor (105) para detectar la intensidad de una luz procedente de un dispositivo de exposición frontal (101-2) a través de la capa (103-n) y/o un material y/o mediante un espejo de desviación; y un dispositivo de control (107) para activar el dispositivo de exposición trasera (101-1) cuando la intensidad de luz detectada del dispositivo de exposición frontal (101-2) está por encima de un valor límite predeterminado. (Traducción automática con Google Translate, sin valor legal)

Description

DESCRIPCIÓN
Plataforma de construcción para construir una pieza de trabajo por capas o de manera continua
La presente invención se refiere a una plataforma de construcción para la construcción de una pieza de trabajo por capas o de manera continua en un procedimiento de estereolitografía, un dispositivo de estereolitografía con una plataforma de construcción y un procedimiento para la construcción de una pieza de trabajo por capas o de manera continua, mediante una plataforma de construcción.
Debido al comportamiento de absorción de los materiales fotopolimerizables utilizados para un proceso de estereolitografía, la potencia de luz de la proyección de la máscara a veces no es suficiente para la creación de una adhesión suficiente de la pieza de trabajo a la plataforma de construcción, que supere las fuerzas de separación en la base de la bandeja, de modo que el componente se adhiera a la base de la bandeja durante la prueba de separación. Esto se puede lograr mediante el aumento activo y temporal de la adherencia de las capas de base a la plataforma de construcción, por medio de una exposición posterior a la superficie de la plataforma de construcción.
El documento EP 2337667 B1 se refiere a un dispositivo para procesar material polimerizable por luz. Un dispositivo de exposición posterior integrado en la plataforma de construcción está conectado al controlador de la impresora y controlado por el controlador de la impresora para las primeras capas, en el proceso de construcción.
El documento US 2010/283188 A1 se refiere a un procedimiento para la producción generativa de un cuerpo moldeado, en particular un cuerpo verde para una restauración dental, a partir de material que se puede endurecer bajo la acción de radiación electromagnética, por medio de una pluralidad de pasos de exposición.
El documento US 2012/248657 A1 se refiere a un procedimiento para la construcción por capas de un cuerpo moldeado a partir de un material altamente viscoso fotopolimerizable, en el que una plataforma de construcción, en cuyo lado inferior se cura la primera capa del cuerpo moldeado que se va a construir.
El objetivo técnico de la presente invención es proporcionar una plataforma de construcción autónoma y modularmente reemplazable, que funcione independientemente del controlador de la impresora y que impida de una manera sencilla, el desprendimiento involuntario de capas construidas de la plataforma de construcción.
Este objetivo se resuelve mediante objetos de acuerdo con las reivindicaciones independientes. Las formas de realización ventajosas son el objeto de las reivindicaciones dependientes, de la descripción y de las figuras.
De acuerdo con un primer aspecto, este objetivo técnico se resuelve mediante una plataforma de construcción para la construcción por capas o de manera continua de una pieza de trabajo en un procedimiento de estereolitografía, con un dispositivo de exposición posterior para la exposición de una capa desde el lado posterior; un fotosensor para la detección de una intensidad luminosa de una luz procedente de un dispositivo de exposición frontal, a través de la capa y/o un material y/o a través de un espejo deflector; y un dispositivo de control, que es independiente de una impresora, para la activación del dispositivo de exposición posterior, cuando la intensidad de la luz detectada del dispositivo de exposición frontal está por encima de un valor límite predeterminado. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que las primeras capas construidas se exponen y se curan desde dos lados opuestos y se aumenta la adherencia a la plataforma de construcción.
En una forma de realización técnicamente ventajosa de la plataforma de construcción, el dispositivo de exposición posterior está formado por una matriz de diodos emisores de luz. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la exposición y el curado de grandes superficies se pueden lograr con poco gasto de energía.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, la intensidad de la luz o el tiempo de exposición del dispositivo de exposición posterior se pueden ajustar por medio de un potenciómetro o se pueden controlar mediante un controlador interno. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la intensidad de la luz se puede controlar de manera manual o automática, y se puede adaptar al material utilizado.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, se puede controlar un número de capas expuestas posteriores por medio de un contador. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que las exposiciones posteriores solo se tienen que activar para la primera capa, si las otras capas absorben demasiada luz y el fotosensor ya no está activado. Incluso si hay muy poca luz, se pueden llevar a cabo exposiciones posteriores adicionales, hasta que el contador haya alcanzado un número predeterminado de capas.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, la plataforma de construcción comprende un almacenamiento de energía eléctrica, para el almacenamiento de energía para el dispositivo de exposición posterior. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la plataforma de construcción puede proporcionar la energía necesaria de manera autónoma y sin ningún cable de conexión externo.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, el almacenamiento de energía es un acumulador recargable y/o intercambiable. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que el almacenamiento de energía se puede reutilizar.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, el fotosensor es un fotodiodo, que se adapta al rango de longitud de onda de la exposición frontal. El fotodiodo es, por ejemplo, un fotodiodo de carburo de silicio o un fotodiodo de silicio. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la intensidad de la luz se puede determinar con un alto grado de precisión.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, el fotodiodo es sensible en un rango de longitud de onda del dispositivo de exposición frontal, en el rango UVA o en el rango de luz azul. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que se pueden detectar longitudes de onda adecuadas para el curado del material.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, el usuario puede ajustar el valor límite predeterminado para la activación de la exposición posterior. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que el valor límite se puede adaptar al material utilizado.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, la plataforma de construcción con un dispositivo de exposición posterior, se puede insertar de manera modular en un dispositivo de estereolitografía. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la plataforma de construcción se puede intercambiar.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, el dispositivo de exposición posterior se puede colocar o deslizar sobre la plataforma de construcción de manera modular. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que se puede usar o reemplazar opcionalmente un dispositivo de exposición, o se puede utilizar un dispositivo de exposición que es particularmente adecuado para el material.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional de la plataforma de construcción, la plataforma de construcción se puede operar de manera inalámbrica. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que se simplifica la construcción y el manejo de la plataforma de construcción.
De acuerdo con un segundo aspecto, este objetivo técnico se resuelve mediante un dispositivo de estereolitografía con una plataforma de construcción de acuerdo con el primer aspecto. El dispositivo de estereolitografía logra las mismas ventajas técnicas que la plataforma de construcción de acuerdo con el primer aspecto.
En una forma de realización técnicamente ventajosa del dispositivo de estereolitografía, el dispositivo de estereolitografía está diseñado de tal manera que una parte de la luz del dispositivo de exposición frontal, que se usa para la exposición de la primera capa se dirige hacia el fotosensor y, por lo tanto, se activa el dispositivo de exposición posterior. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que la exposición posterior se activa indirectamente por el propio proceso de construcción/proceso de exposición, y no requiere activación directa por parte de la impresora.
De acuerdo con un tercer aspecto, este objetivo técnico se resuelve mediante un procedimiento de estereolitografía para la construcción de una pieza de trabajo por capas o de manera continua, mediante una plataforma de construcción, con los pasos de una exposición de una capa desde un lado frontal mediante un dispositivo de exposición frontal; una detección de una intensidad luminosa de una luz del dispositivo de exposición frontal, a través de la capa y/o un material y/o a través de un espejo deflector mediante un fotosensor; y una activación del dispositivo de exposición posterior mediante un dispositivo de control, que es independiente de una impresora, cuando la intensidad de la luz detectada del dispositivo de exposición frontal está por encima de un valor límite predeterminado. Mediante el procedimiento se logra las mismas ventajas técnicas que la plataforma de construcción, de acuerdo con el primer aspecto.
En una forma de realización técnicamente ventajosa del procedimiento, la activación del dispositivo de exposición posterior se lleva a cabo para un número predeterminado de capas y/o por una duración de exposición adaptada por capa. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que el grado de polimerización del material curado posterior se puede controlar con un alto grado de precisión.
En una forma de realización técnicamente ventajosa adicional del procedimiento, se tiene en cuenta una altura de la plataforma de construcción para el proceso de construcción, para determinar la posición de inicio de la plataforma de construcción, y para ajustar un espesor de capa predeterminado de la capa. De este modo, se logra la ventaja técnica, por ejemplo, de que se puede mantener un espesor de capa objetivo incluso si se cambia la plataforma de construcción.
Los ejemplos de realización de la invención se representan en los dibujos y se describen con más detalle a continuación.
Se muestra en la:
Fig. 1 un estado esquemático de una plataforma de construcción en un procedimiento de estereolitografía;
Fig. 2 un estado esquemático adicional de la plataforma de construcción en un procedimiento de estereolitografía; Fig. 3 un estado esquemático adicional de la plataforma de construcción en un procedimiento de estereolitografía; y
Fig. 4 un diagrama de bloques de un procedimiento para la construcción por capas o de manera continua de la pieza de trabajo.
La Fig. 1 muestra un estado esquemático de una plataforma de construcción 100 en un procedimiento de estereolitografía en sección transversal. La plataforma de construcción 100 se usa para la construcción de una pieza de trabajo 200 por capas o de manera continua en un procedimiento de estereolitografía. Para ello, el lado inferior de la plataforma de construcción 100, se encuentra en un material viscoso 109, que se puede curar por medio de luz. Una vez que una capa se ha curada, la plataforma de construcción se aleja del nivel de exposición y se ajusta de nuevo al siguiente espesor de capa, de modo que el material viscoso pueda fluir nuevamente para que, a continuación, pueda ser curada. El material 109 es, por ejemplo, una barbotina cerámica, que se utiliza para la producción de una restauración dental. En general, sin embargo, también se pueden procesar otros materiales.
La plataforma de construcción 100 comprende un dispositivo de exposición posterior 101-1, para la exposición de una capa 103-n del material 109 desde un lado posterior. El dispositivo de exposición 101-1 comprende varios diodos emisores de luz 113, que están dispuestos detrás de una superficie transparente 117. Los diodos emisores de luz 113 pueden, por ejemplo, emitir luz con una longitud de onda en el rango de 220 a 500 nm. Los máximos en el espectro pueden estar a 365 nm, 385 nm, 405 nm o 460 nm, por ejemplo. En general, sin embargo, también se pueden usar otras longitudes de onda.
Mediante la exposición posterior el material 109 se cura directamente en la superficie transparente 117 de la plataforma de construcción 100 y forma una capa, que se adhiere firmemente a la plataforma de construcción (capa de quemado). Mediante esta medida se puede evitar que la pieza de trabajo se suelte sin querer de la plataforma de construcción 100. La intensidad de la luz y/o el tiempo de exposición del dispositivo de exposición posterior 101-1, se pueden ajustar por capa por medio de un potenciómetro, o se pueden adaptar automáticamente mediante un control interno por capas.
La plataforma de construcción 100 comprende un almacenamiento de energía eléctrica 115 para el almacenamiento de energía, para el dispositivo de exposición posterior 101-1. Este almacenamiento de energía 115 permite que el dispositivo de exposición posterior 101 - 1 se alimente con energía eléctrica de manera autónoma, sin que para ello se tenga que introducir ningún cable en la plataforma de construcción 100. El almacenamiento de energía eléctrica 115 puede ser, por ejemplo, un paquete de baterías o un paquete acumulador.
En el lado opuesto de la plataforma de construcción 100, el dispositivo de estereolitografía 300 comprende un dispositivo de exposición frontal 101-2. El dispositivo de exposición frontal 101 -2 comprende una unidad de proyección digital 113, que está dispuesta debajo de una base 111 transparente. El dispositivo de exposición frontal 101-2 se usa para curar el material por capas a través de la base transparente de la bandeja desde el lado opuesto de la plataforma de construcción. Mediante la unidad de proyección 113 se puede proyectar cualquier patrón de luz deseado sobre el material. Para este propósito, la unidad de proyección 113 puede comprender un dispositivo de micro espejo digital -DMD (Digital Micromirror Device DMD) o una pantalla de cristal líquido - LCD (Liquid Crystal Display LCD).
La plataforma de construcción 100 comprende un fotosensor 105, que es adecuado para detectar la intensidad luminosa de la luz del dispositivo de exposición frontal 101 - 2 a través del material 109. El fotosensor 105 puede estar formado, por ejemplo, por un fotodiodo. Cuantas más capas presente la pieza de trabajo construida, menor será la intensidad de la luz detectada por el fotosensor 105. El fotosensor 105 se posiciona en una esquina del campo de construcción (=campo de exposición) y puede reaccionar a la exposición de la capa 103.
Este efecto se puede utilizar para activar el dispositivo de exposición posterior 101-1 solo para las primeras capas 103-n, de modo que, por un lado, se evita una exposición innecesaria en la superficie transparente 117, de capas ya curadas y, por otro lado, no se cura un número innecesario de capas en una superficie grande y, por lo tanto, se desperdicia innecesariamente el material. Además, se ahorra energía eléctrica. Para este propósito, la plataforma de construcción 100 comprende un dispositivo de control electrónico 107, que solo activa el dispositivo de exposición posterior 101-1, cuando la intensidad de la luz del dispositivo de exposición frontal 101-2 detectada, está por encima de un valor límite predeterminado. El valor límite se puede ajustar a cualquier valor. Como resultado, el almacenamiento de energía 115 de la plataforma de construcción 100, se puede utilizar durante más tiempo. Si la intensidad de la luz detectada está por debajo del valor límite determinado, es decir, si ya hay un cierto número de capas, el dispositivo de exposición posterior 101-1 ya no se activa. Además, el número de capas a exponer posteriormente se puede controlar a través de un contador ajustable. El contador cuenta el número de capas construidas desde el principio. El dispositivo de exposición posterior 101-1 se activa hasta un número predeterminado de capas construidas.
La Fig. 2 muestra un estado esquemático adicional de la plataforma de construcción 100, en un procedimiento de estereolitografía. En este caso, se construye la primera capa de la pieza de trabajo. Una parte de la luz del dispositivo de exposición frontal 101 -2 incide en el fotosensor 105 a través del material.
El fotosensor 105 detecta una alta intensidad de la luz del dispositivo de exposición frontal 101-2. Porque solo hay una sola capa de material. La luz, que penetra a través de la capa de material, solo se absorbe en una pequeña parte. A medida que aumenta el número de capas, la intensidad de la luz disminuye en consecuencia. Dado que esta intensidad de la luz está por encima del valor límite predeterminado para un pequeño número de capas, el dispositivo de exposición posterior 101-1 se activa, como reacción. Como resultado, la capa queda expuesta en toda la superficie tanto por el lado frontal como por el lado posterior, en función del componente. De este modo, se crea una capa (capa de quemado), que se adhiere firmemente a la plataforma de construcción 100.
La Fig. 3 muestra un estado esquemático adicional de la plataforma de construcción 100, en un procedimiento de estereolitografía. La capa 103-n se ha curado y se adhiere a la superficie transparente 117 de la plataforma de construcción 100. A continuación, se eleva la plataforma de construcción 100 y se construyen las capas adicionales 103-n. A medida que aumenta el número de capas 103-n, disminuye la intensidad de la luz detectada. Tan pronto como esta cae por debajo del valor límite determinado o el contador ha expirado, el dispositivo de exposición posterior 1011 se desactiva. De este modo, el número y el grado de polimerización de las capas de quemado requeridas se pueden controlar con exactitud y la vida útil del almacenamiento de energía 115 no se reduce innecesariamente y se puede prescindir de un controlador por parte de la impresora.
La plataforma de construcción 100 puede comprender un contador, que determina cuántas capas se van a exponer posteriormente. Además, puede estar previsto un espejo deflector, con el que la luz del dispositivo de exposición frontal 101-2 se pueda dirigir directamente al fotosensor 105. La plataforma de construcción 100 también puede comprender un almacenamiento digital, en el que sus dimensiones, como, por ejemplo, la altura, se almacenan como un valor digital. Este valor digital puede ser leído por el dispositivo de estereolitografía 300, de modo que la posición de inicio (posición 0) de la plataforma de construcción con la unidad de exposición posterior, con respecto a la base 111 transparente, se pueda calcular y ajustar en el valor Z deseado.
La Fig. 4 muestra un diagrama de bloques de un procedimiento para la construcción de la pieza de trabajo 200 por capas mediante una plataforma de construcción 100. En el primer paso S101, la capa 103-n se expone desde un lado frontal por el dispositivo de exposición frontal 101-2. En el paso S102, la intensidad luminosa de la luz del dispositivo de exposición frontal 101-2 es detectada por un fotosensor 105, a través de la capa 103-n y/o del material 109 y/o a través de un espejo deflector. En el paso S103, el dispositivo de exposición posterior 101-1 es activado por el dispositivo de control 107, cuando la intensidad de luz detectada del dispositivo de exposición frontal 101-2 está por encima de un valor límite predeterminado. Si está por debajo del valor límite predeterminado, el dispositivo de exposición posterior 101-1 se desactiva.
La activación del dispositivo de exposición posterior 101 -1 se puede llevar a cabo para un número predeterminado de capas 103-n. Para este propósito, puede estar previsto un contador, que cuenta el número de capas construidas. Se puede tener en cuenta una altura de la plataforma de construcción 100, para el proceso de construcción, con el fin de determinar la posición de inicio de la plataforma de construcción 100, y ajustar un espesor de capa predeterminado de la capa 103-n.
La plataforma de construcción 100 con un dispositivo de exposición posterior integrado 101-1 se puede reequipar y operar, sin estar conectada electrónicamente con el dispositivo de estereolitografía 300. El dispositivo de exposición posterior 101-1 se controla o se activa a través del fotosensor integrado, mediante una exposición de máscara estándar de las capas de quemado.
El control del dispositivo de exposición posterior 101-1 se realiza, por lo tanto, a través del fotosensor 105, que se activa a través de la exposición por el dispositivo de exposición frontal 101-1 de las capas de base. El dispositivo de exposición posterior 101-1 se puede controlar o activar, por lo tanto, en sincronización con la proyección de la máscara.
La exposición posterior se realiza temporalmente para las primeras una a cinco capas 103, en sincronización con la exposición real de las capas de quemado. El suministro de corriente se realiza independientemente del resto del dispositivo de estereolitografía 300 por el almacenamiento de energía 117, que está integrado en la plataforma de construcción 100.
Debido al control indirecto a través del fotosensor 105, el dispositivo de exposición posterior 101-1 se puede activar sin un botón mecánico y sin una conexión eléctrica con el resto del dispositivo de estereolitografía 300. El almacenamiento de energía 115 permite un suministro de energía independiente, para el que no se requiere ningún cable externo.
Por defecto, los dispositivos de estereolitografía 300, como, por ejemplo, las impresoras de estereolitografía, a menudo no están equipadas con una plataforma de construcción 100, con un dispositivo de exposición posterior 101-1, que está conectado con un controlador. La plataforma de construcción autónoma 100, permite el reequipamiento de dispositivos de estereolitografía 300, sin tener que modificarlos en términos de hardware y/o software. La plataforma de construcción reequipada 100 funciona de manera autónoma desde el controlador de la impresora y solo se controla/activa a través de la exposición del dispositivo de exposición frontal 101 -2 en el proceso de construcción.
El ámbito de protección de la presente invención viene dado por las reivindicaciones y no está limitado por las características explicadas en la descripción o mostradas en las figuras.
LISTA DE REFERENCIA
100 plataforma de construcción
101 dispositivo de exposición
103 capa
105 fotosensor
107 dispositivo de control
109 material
111 base
113 diodo emisor de luz
115 almacenamiento de energía
117 superficie transparente
300 dispositivo de estereolitografía

Claims (13)

REIVINDICACIONES
1. Una plataforma de construcción (100) para la construcción de una pieza de trabajo (200) por capas o de manera continua en un procedimiento de estereolitografía, con:
un dispositivo de exposición posterior (101-1) para la exposición de una capa (103-n) desde un lado posterior;
un fotosensor (105) para la detección de una intensidad luminosa de una luz de un dispositivo de exposición frontal (101 -2) a través de la capa (103-n) y/o un material y/o a través de un espejo deflector;
y con un
dispositivo de control (107), que es independiente de la impresora, para la activación del dispositivo de exposición posterior (101-1), cuando la intensidad de la luz detectada del dispositivo de exposición frontal (101 -2) está por encima de un valor límite predeterminado.
2. La plataforma de construcción (100) según la reivindicación 1, en la que el dispositivo de exposición posterior (101­ 1), está formado por una matriz de diodos emisores de luz.
3. La plataforma de construcción (100) según una de las reivindicaciones anteriores, en la que la intensidad de la luz o el tiempo de exposición del dispositivo de exposición posterior (101-1) se puede ajustar, por medio de un potenciómetro o se puede controlar mediante un controlador interno, y/o un número de las capas (103-n) expuestas posteriormente se puede controlar por medio de un contador.
4. La plataforma de construcción (100) según una de las reivindicaciones anteriores, en la que la plataforma de construcción (100) comprende un almacenamiento de energía eléctrica (115) para el almacenamiento de energía para el dispositivo de exposición posterior (101 -1).
5. La plataforma de construcción según una de las reivindicaciones anteriores, en la que el fotosensor (105) es un fotodiodo, que se adapta al rango de longitud de onda de la exposición frontal.
6. La plataforma de construcción (100) según la reivindicación 5, en la que el fotodiodo es sensible en un rango de longitud de onda del dispositivo de exposición frontal, en el rango UVA o en el rango de luz azul.
7. La plataforma de construcción (100) según una de las reivindicaciones anteriores, en la que el usuario puede ajustar el valor límite predeterminado para la activación de la exposición posterior.
8. La plataforma de construcción (100) según una de las reivindicaciones anteriores, en la que la plataforma de construcción (100) con el dispositivo de exposición posterior (101 -1), se puede insertar modularmente en un dispositivo de estereolitografía (300), o el dispositivo de exposición posterior (101-1), se puede colocar o deslizar modularmente sobre la plataforma de construcción (100).
9. Un dispositivo de estereolitografía (300) con una plataforma de construcción, según una de las reivindicaciones 1 a 8.
10. El dispositivo de estereolitografía (300) según la reivindicación 9, caracterizado por que el dispositivo de estereolitografía (300) está diseñado de tal manera que una parte de la luz del dispositivo de exposición frontal, que se utiliza para la exposición de la primera capa, se dirige al fotosensor, y, por lo tanto, se activa el dispositivo de exposición posterior.
11. Un procedimiento de estereolitografía para la construcción de una pieza de trabajo (200) por capas o de manera continua en un procedimiento de estereolitografía mediante una plataforma de construcción (100), con los pasos de:
exposición (S101) de una capa (103-n) desde un lado frontal, mediante un dispositivo de exposición frontal (101-1);
detección (S102) de una intensidad luminosa de una luz desde el dispositivo de exposición frontal (101-2), a través de la capa (103-n) y/o un material y/o a través de un espejo deflector mediante un fotosensor (105);
activación (S103) de un dispositivo de exposición posterior (101-1) de la plataforma de construcción mediante un dispositivo de control (107), que es independiente de una impresora, cuando la intensidad de la luz detectada del dispositivo de exposición frontal (101-2) está por encima de un valor límite predeterminado.
12. El procedimiento según la reivindicación 11, en el que la activación del dispositivo de exposición posterior (101 -1), se lleva a cabo para un número predeterminado de capas y/o por una duración de exposición adaptada por capa.
13. El procedimiento según una de las reivindicaciones 11 o 12, en el que se tiene en cuenta una altura de la plataforma de construcción (100), para el proceso de construcción, para determinar la posición de inicio de la plataforma de construcción (100) y ajustar un espesor de capa predeterminado de la capa (103-n).
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